JP2008064503A - Method and device for optical reflectometry - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、光回路などの被測定回路における、反射率の伝播方向に対する分布を測定するリフレクトメトリ測定方法と、この方法を実施する装置に関する。 The present invention relates to a reflectometry measurement method for measuring a distribution of reflectance with respect to a propagation direction in a circuit to be measured such as an optical circuit, and an apparatus for implementing the method.
光回路などの伝送損失の測定や故障箇所の診断に用いられる光反射測定方法の一つとして、コヒーレント光周波数領域リフレクトメトリ測定方法(C−OFDR)が知られている(例えば非特許文献1を参照)。この方法は、周波数掃引コヒーレント光源からの出力光を2分岐し、測定対象からの反射光と一方の分岐光との干渉により生じる干渉ビート信号を解析することにより、測定対象における後方散乱光強度の光伝播方向に対する分布を測定するものである。 A coherent optical frequency domain reflectometry measurement method (C-OFDR) is known as one of the light reflection measurement methods used for measuring transmission loss of optical circuits and the like and diagnosing faults (for example, see Non-Patent Document 1). reference). In this method, the output light from the frequency-swept coherent light source is split into two, and the interference beat signal generated by the interference between the reflected light from the measurement target and one of the split lights is analyzed, whereby the backscattered light intensity of the measurement target is measured. The distribution with respect to the light propagation direction is measured.
すなわちC−OFDRは、光周波数を掃引されたコヒーレント光源からの出力光を2分岐し、そのうちの一方を測定光として被測定光回路に入射し、他方を局発光として後方散乱光(測定光が被測定光回路の伝搬距離に応じた各位置で反射されて発生する反射光)と合波させる。これにより生じる干渉ビート信号を検出し、そのスペクトラムを分析して、被測定光回路の伝搬距離に応じた各位置の反射率をスペクトラムの周波数成分の強度として測定するものである。
しかしながら既存の技術においては、周波数掃引コヒーレント光源の出力光の光周波数を、良好な直線性で掃引することが困難である。この周波数掃引速度の非直線性により干渉ビート信号のスペクトル幅が広がることから、既知のC−OFDRにおいては高い距離分解能による測定が難しいという課題がある。
この発明は上記事情によりなされたもので、その目的は、C−OFDRによる測定を高い距離分解能で実施することの可能な光リフレクトメトリ測定方法および光リフレクトメトリ測定装置を提供することにある。
However, in the existing technology, it is difficult to sweep the optical frequency of the output light of the frequency sweep coherent light source with good linearity. Since the spectrum width of the interference beat signal widens due to the nonlinearity of the frequency sweep speed, there is a problem that measurement with high distance resolution is difficult in the known C-OFDR.
This invention is made | formed by the said situation, The objective is to provide the optical reflectometry measuring method and optical reflectometry measuring apparatus which can implement the measurement by C-OFDR with high distance resolution.
上記目的を達成するためにこの発明の一態様によれば、測定対象における反射率の伝播方向に対する分布をコヒーレント光周波数領域リフレクトメトリ測定方法(C−OFDR)により測定する光リフレクトメトリ測定装置において、光周波数を掃引されるコヒーレント光源と、このコヒーレント光源の出力光の特性をモニタするモニタ部と、前記出力光と前記測定対象からの後方散乱光との干渉ビート信号を検出する測定部と、前記光周波数掃引の非直線性を前記モニタした特性に基づき補正して前記干渉ビート信号に基づく測定結果を得る解析部とを具備することを特徴とする光リフレクトメトリ測定装置が提供される。
このような手段を講じることにより、コヒーレント光源の光周波数掃引の非直線性を補正した測定結果が得られる。従ってC−OFDRによる測定を高い距離分解能で実施することが可能になる。
In order to achieve the above object, according to one aspect of the present invention, in an optical reflectometry measurement apparatus that measures a distribution of reflectance in a measurement object with respect to a propagation direction by a coherent optical frequency domain reflectometry measurement method (C-OFDR), A coherent light source whose optical frequency is swept, a monitor unit that monitors the characteristics of the output light of the coherent light source, a measurement unit that detects an interference beat signal between the output light and backscattered light from the measurement object, and An optical reflectometry measuring apparatus is provided, comprising: an analysis unit that corrects the nonlinearity of the optical frequency sweep based on the monitored characteristic and obtains a measurement result based on the interference beat signal.
By taking such means, a measurement result in which the nonlinearity of the optical frequency sweep of the coherent light source is corrected can be obtained. Therefore, the measurement by C-OFDR can be performed with high distance resolution.
この発明によれば、C−OFDRによる測定を高い距離分解能で実施することの可能な光リフレクトメトリ測定方法および光リフレクトメトリ測定装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical reflectometry measuring method and an optical reflectometry measuring apparatus capable of performing measurement by C-OFDR with high distance resolution.
以下、図面を参照して詳しい説明を行う。まず、この発明の実施の形態の説明の前に、既存の技術につき詳しく述べる。
図1は、C−OFDRによる光リフレクトメトリ測定装置の基本構成の一例を示す図である。図1において、周波数掃引コヒーレント光源1からの出力光は光方向性結合器Aにより分岐され、一方は参照光3として用いられ、他方は光被測定光回路4に入射される。被測定光回路4の内部で後方散乱された信号光5は光方向性結合器Aにより取り出され、光方向性結合器Bにより参照光3と合波されたのち受信器6により検波される。このとき、2光波の干渉により生じる干渉ビート信号をサンプリング装置7によりサンプリングし、測定したデータを周波数解析装置8にて解析することにより、被測定光回路4内の各位置からの後方散乱光強度分布が測定される。
Hereinafter, detailed description will be given with reference to the drawings. First, the existing technology will be described in detail before the description of the embodiment of the present invention.
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a basic configuration of an optical reflectometry measuring apparatus using C-OFDR. In FIG. 1, the output light from the frequency swept
ここで、周波数掃引コヒーレント光源1からの出力光2の周波数を時間T、最大光周波数掃引幅ΔFで時間に対して直線的に掃引するとき、被測定光回路4内のある点Xで後方散乱された信号光により生じるビート信号の周波数Fbは、参照光と点Xで後方散乱された信号光との光路長差ΔL、光周波数掃引速度γ、光の屈折率n、および光速Cを用いて次式(1)により与えられる。
ただし、γ=ΔF/Tである。また、距離分解能Δzは受信ビート信号のスペクトル幅ΔAを用いて式(2)により与えられる。
ただし以上の条件は理想的な場合であり、現状のC−OFDRにおいては光周波数を良好な直線性で掃引することが困難である。 However, the above conditions are ideal cases, and in the current C-OFDR, it is difficult to sweep the optical frequency with good linearity.
図2は、周波数掃引コヒーレント光源1の光周波数の非直線性を示す図である。一定値F[Hz]を基準変調周波数として、光周波数は時間TのときにF+γT[Hz]なる値に掃引される。ここで、非直線性のある周波数掃引速度はγで表される。この周波数掃引速度の非直線性により干渉ビート信号のスペクトル幅は広がり、距離分解能の精度が低下する。
FIG. 2 is a diagram showing the nonlinearity of the optical frequency of the frequency swept
図3は、この発明に係わる光リフレクトメトリ測定装置の実施の形態を示す機能ブロック図である。この光リフレクトメトリ測定装置は、被測定回路における反射率の伝播方向に対する分布をC−OFDR測定する。図3において、光周波数掃引されたコヒーレント光源1からの出力光9は光方向性結合器Cにより分岐され、一方は測定光2として測定部11に入射し、他方はモニタリング光10としてモニタリング部12に入射する。測定部11による測定の結果とモニタリング部12によるモニタの結果とを解析部13に入力し、演算処理により被測定回路(測定手段11内)における後方散乱光強度分布を得る。
FIG. 3 is a functional block diagram showing an embodiment of the optical reflectometry measuring apparatus according to the present invention. This optical reflectometry measuring device measures C-OFDR of the distribution of the reflectance in the circuit under measurement with respect to the propagation direction. In FIG. 3, the output light 9 from the
測定部11はコヒーレント光源1の出力光と被測定回路からの後方散乱光との干渉ビート信号を検出する。モニタリング部12は例えば自己遅延ホモダイン検波により出力光の特性をモニタする。そのモニタ結果に基づいて解析部13は、コヒーレント光源1の光周波数掃引の非直線性を補正して干渉ビート信号に基づく測定結果を得る。
The
図4は、図3の光リフレクトメトリ測定装置をより詳細に示す機能ブロック図である。モニタリング部12に入射されたモニタリング光は方向性結合器Dにより2分岐され、一方の光のみが遅延部14により遅延されたのち互いに方向性結合器Eで合波される。合波された光は受信器15により検波され、モニタリングビート信号が生成されてサンプリング装置16に入力される。サンプリング装置16は、解析部13に備わるクロック17のクロックに同期するタイミングでモニタリングビート信号の波形をサンプリングし、サンプリングデータを解析部13の周波数解析装置8に入力する。
FIG. 4 is a functional block diagram showing the optical reflectometry measuring device of FIG. 3 in more detail. The monitoring light incident on the
測定部11に入射された測定光11は図1と同様の処理を施され、干渉ビート信号がサンプリング装置7に入力される。サンプリング装置7はクロック17のクロックに同期するタイミングで、すなわちサンプリング装置16と互いに同期する間隔で干渉ビート信号の波形をサンプリングする。これにより得られたサンプリングデータは周波数解析装置8に入力される。
The
次に数式を用いて定量的に説明する。コヒーレント光源1の出力光の光周波数を、一定値F[Hz]を基準変調周波数として時間TのときにF+γT[Hz]に掃引されるとする。周波数掃引速度の非直線性はγをパラメータとして表される。図4の遅延部14を長さ2Lの光ファイバとすると、方向性結合器Eにて合波された両光波の周波数差は2nLγ/cとなる。よって受信器15により検波されるモニタリングビート信号は次式(3)で与えられる。
このモニタリングビート信号の最大周波数Wは、W=2nLγmax/cとなる。ただしγmaxは、コヒーレント光源1の最大周波数掃引速度である。
The maximum frequency W of the monitoring beat signal is W = 2nLγmax / c. Where γmax is the maximum frequency sweep speed of the
標本化定理によれば、R(t)を時間tの関数であるとし、これが0〜Wの範囲の周波数成分を持ち、W以上の周波数成分を含まないとすると、関数全体が一つに決まる。すなわちR(t)は次式(4)で与えられる。
ただし、Rnは1/(2W)秒間隔でサンプリングしたデータである。 However, Rn is data sampled at intervals of 1 / (2W) seconds.
図5は、受信器15からの出力R(t)を1/(2W)秒間隔でサンプリングしたデータRnと、そのゼロクロス点ZNとを示す図である。図5(a)に示されるようには、
離散的なデータRnに式(4)を用いて連続関数R(t)を決める。図5(b)に示すR(t)のゼロクロス点ZNは次式(5)で与えられる。
The continuous function R (t) is determined using the equation (4) for the discrete data Rn. The zero cross point ZN of R (t) shown in FIG. 5B is given by the following equation (5).
ただしNは整数である。 N is an integer.
次に、図4においてコヒーレント光源1から反射点までの距離をl1、l2、…、lm(l1、l2、…、lm≦L)とし、各点での反射率をr1、r2、…、rmとする。ここで被測定光回路4の長さはLより短くなくてはならない。そうすると受信器6で検波される信号は次式(6)で与えられる。
すなわち、受信器15からのモニタリングビート信号と同じように最大周波数WはW=2nLγmax/Cとなる。
That is, like the monitoring beat signal from the
図6は、受信器6からの出力(干渉ビート信号)X(t)を1/(2W)秒間隔でサンプリングしたデータXnと、t=ZNにおけるX(t)の値とを示す図である。干渉ビート信号X(t)はW以上の周波数成分を含まないので、連続関数X(t)は図6(a)のXnを用いて次式(7)で与えられる。
図6(b)はt=ZN(ゼロクロス点)におけるX(t)の値を示す図である。t=ZNでのX(t)は、式(6)のtを式(5)のZNで置き換えて次式(8)となる。
式(8)から明らかなようにSinの引数からγが消え、この式は正弦波を等間隔にサンプリングしたデータと同じ格好になる。従って、距離lmからのビート信号が周波数lm/Lのスペクトル成分に対応することになり、このことを用いてコヒーレント光源1のレーザ光周波数掃引の非直線性を補正することができる。
As is clear from equation (8), γ disappears from the argument of Sin, and this equation looks the same as data obtained by sampling sine waves at equal intervals. Therefore, the beat signal from the distance lm corresponds to the spectral component of the frequency lm / L, and this can be used to correct the nonlinearity of the laser light frequency sweep of the coherent
式(8)の離散点(数列)を用いて高速フーリエ変換(FFT)を行うことで、伝搬距離lmとこの伝搬距離に応じた各位置の反射率rmを簡単に算出できる。上述のように式(8)の離散点は正弦波を等間隔にサンプリングしたデータと同じであるので、FFTのスペクトルの広がりを避けることができ、これにより掃引非直線性の影響なく高い距離分解能を実現できる。 By performing Fast Fourier Transform (FFT) using the discrete points (sequence) of Expression (8), the propagation distance lm and the reflectance rm at each position according to the propagation distance can be easily calculated. As described above, since the discrete points of the equation (8) are the same as the data obtained by sampling the sine wave at equal intervals, it is possible to avoid the spread of the FFT spectrum, and thereby high distance resolution without the influence of sweep nonlinearity. Can be realized.
図7は、図4の光リフレクトメトリ測定装置における処理手順を示すフローチャートである。ステップS20でコヒーレント光源1の光周波数は掃引される。モニタリング部12は、受信器15から出力されるモニタリングビート信号を1/(2W)秒間隔でサンプリングし、サンプリングデータRnを内部メモリ(図示せず)などに記録する(ステップS23)。周波数解析装置8はこのサンプリングデータRnに式(4)を用いることにより連続関数R(t)を求め(ステップS25)、その値に0を代入してR(t)のゼロクロス点t=ZNを求める(ステップS27)。
FIG. 7 is a flowchart showing a processing procedure in the optical reflectometry measuring apparatus of FIG. In step S20, the optical frequency of the coherent
一方、測定部11は、受信器6から出力される干渉ビート信号を1/(2W)秒間隔でサンプリングし、サンプリングデータXnを内部メモリ(図示せず)などに記録する(ステップS24)。周波数解析装置8はこのサンプリングデータXnに式(7)を用いることにより連続関数X(t)を求める(ステップS25)。
On the other hand, the
さらに周波数解析装置8は、モニタリング部12から受け取ったゼロクロス点のtの値を連続関数X(t)に代入し、X(ZN)を数列として求める(ステップS28)。そして周波数解析装置8は、X(ZN)に対して高速フーリエ変換(FFT)処理を行って、伝播距離に応じた各位置(反射点)の反射率rmを算出する(ステップS29)。
Further, the
以上説明したようにこの実施形態では、コヒーレント光源1の周波数掃引の非直線性をモニタするモニタリング部12を設け、そのモニタの結果に基づいて測定部11における測定結果を補正するようにしている。すなわち、モニタリング部12において自己遅延ホモダイン検波により光源出力光のモニタリングビート信号を生じさせ、サンプリング部16によりその波形をサンプリングする。その波形を示す連続関数R(t)を解析し、ゼロクロス点を求める。また測定部11における干渉ビート信号をサンプリングして得た連続関数にR(t)のゼロクロス点を代入し、得られた数列にFFT処理を施して測定結果を得るようにしている。
As described above, in this embodiment, the
このようにすることで、コヒーレント光源1の光周波数掃引に非直線性がある場合でもFFTのスペクトルの広がりを防ぐことができる。従って光周波数掃引の非直線性に制限されることなく、C−OFDRによる測定を高い距離分解能で実施することの可能な光リフレクトメトリ測定方法および光リフレクトメトリ測定装置を提供することが可能となる。
By doing so, even if the optical frequency sweep of the coherent
なお、この発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment.
1…周波数掃引コヒーレント光源、2…測定光、3…参照光、4…被測定光回路、5…信号光、6…受信器、7…サンプリング装置、8…周波数解析装置、9…光源からの出力光、10…モニタリング光、11…測定部、12…モニタリング部、13…解析部、14…遅延部、15…受信器、16…サンプリング装置、17…クロック、A,B,C,D,E…光方向性結合器
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記出力光の特性をモニタし、
前記出力光と前記測定対象からの後方散乱光との干渉ビート信号を検出し、
前記光周波数掃引の非直線性を前記モニタした特性に基づき補正して前記干渉ビート信号に基づく測定結果を得ることを特徴とする光リフレクトメトリ測定方法。 Optical reflect, which is a coherent optical frequency domain reflectometry measurement method (C-OFDR), in which output light from a coherent light source whose optical frequency is swept is incident on a measurement object and the distribution of reflectance in the measurement object is measured with respect to the propagation direction. In the measurement method,
Monitor the characteristics of the output light,
Detecting an interference beat signal between the output light and backscattered light from the measurement object;
An optical reflectometry measurement method, wherein the measurement result based on the interference beat signal is obtained by correcting the nonlinearity of the optical frequency sweep based on the monitored characteristic.
前記モニタリングビート信号の波形のサンプリングデータからこのモニタリングビート信号の波形のゼロクロス点を求め、
前記干渉ビート信号の波形のサンプリングデータからこの干渉ビート信号の前記ゼロクロス点における値を数列として求め、
前記数列に対するフーリエ変換処理により前記測定結果を得ることを特徴とする請求項2に記載の光リフレクトメトリ測定方法。 The monitoring beat signal waveform and the interference beat signal waveform are sampled at an interval synchronized with each other,
From the sampling data of the monitoring beat signal waveform, the zero cross point of the monitoring beat signal waveform is obtained,
From the sampling data of the waveform of the interference beat signal, obtain the value at the zero cross point of the interference beat signal as a sequence of numbers,
The optical reflectometry measurement method according to claim 2, wherein the measurement result is obtained by Fourier transform processing on the sequence.
光周波数を掃引されるコヒーレント光源と、
このコヒーレント光源の出力光の特性をモニタするモニタ部と、
前記出力光と前記測定対象からの後方散乱光との干渉ビート信号を検出する測定部と、
前記光周波数掃引の非直線性を前記モニタした特性に基づき補正して前記干渉ビート信号に基づく測定結果を得る解析部とを具備することを特徴とする光リフレクトメトリ測定装置。 In an optical reflectometry measuring apparatus that measures a distribution of a reflectance in a measurement object with respect to a propagation direction by a coherent optical frequency domain reflectometry measuring method (C-OFDR),
A coherent light source that sweeps the optical frequency;
A monitor unit for monitoring the characteristics of the output light of the coherent light source;
A measurement unit for detecting an interference beat signal between the output light and the backscattered light from the measurement target;
An optical reflectometry measurement apparatus comprising: an analysis unit that corrects the nonlinearity of the optical frequency sweep based on the monitored characteristic and obtains a measurement result based on the interference beat signal.
前記モニタ部は、
前記モニタリング光を2分岐する分配部と、
この分配手段により分岐された一方の光を遅延する遅延部と、
前記分配手段により分岐された他方の光と前記遅延手段により遅延された光とを合波してモニタリングビート信号を生成する方向性結合器と、
前記モニタリングビート信号の波形をサンプリングしたサンプリングデータを前記解析部に入力するサンプリング手段とを備えることを特徴とする請求項4に記載の光リフレクトメトリ測定装置。 Branching means for splitting the output light into two and entering one of them as monitoring light into the monitor unit;
The monitor unit is
A distribution unit for bifurcating the monitoring light;
A delay unit for delaying one light branched by the distribution means;
A directional coupler for generating a monitoring beat signal by combining the other light branched by the distributing means and the light delayed by the delay means;
The optical reflectometry measuring apparatus according to claim 4, further comprising sampling means for inputting sampling data obtained by sampling the waveform of the monitoring beat signal to the analysis unit.
前記干渉ビート信号の波形を前記サンプリング手段と互いに同期する間隔でサンプリングするサンプル手段を備え、
前記解析部は、
前記モニタリングビート信号の波形のサンプリングデータからこのモニタリングビート信号の波形のゼロクロス点を求め、
前記干渉ビート信号の波形のサンプリングデータからこの干渉ビート信号の前記ゼロクロス点における値を数列として求め、
前記数列に対するフーリエ変換処理により前記測定結果を得ることを特徴とする請求項5に記載の光リフレクトメトリ測定装置。 The measuring unit is
Sample means for sampling the waveform of the interference beat signal at an interval synchronized with the sampling means,
The analysis unit
From the sampling data of the monitoring beat signal waveform, the zero cross point of the monitoring beat signal waveform is obtained,
From the sampling data of the waveform of the interference beat signal, obtain the value at the zero cross point of the interference beat signal as a sequence of numbers,
The optical reflectometry measuring apparatus according to claim 5, wherein the measurement result is obtained by Fourier transform processing on the sequence.
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