JP2007511890A - エレクトロルミネセントデバイス、および色変換要素を備えるエレクトロルミネセントデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

１つ以上の色変換要素を備えるエレクトロルミネセントデバイス、およびエレクトロルミネセントデバイスの製造方法が開示される。１つの実施形態において、前記方法は、狭帯域で発光することができるエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程を含む。前記方法は、複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程をさらに含む。別の実施形態において、前記方法は、紫外線を放射することができるエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程を含む。前記方法は、複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程をさらに含む。

Description

概して、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスに関する。特に、本開示は、エレクトロルミネセントデバイス、エレクトロルミネセント素子と少なくとも１つの色変換要素とを備えるエレクトロルミネセントデバイスの形成方法に関する。

有機または無機エレクトロルミネセントデバイスなどの発光デバイスは、様々なディスプレイ、照明、および他の適用において有用である。概して、これらの発光デバイスは、２つの電極（アノードおよびカソード）の間に配置された、少なくとも１つの発光層などの１つ以上のデバイス層を備える。電圧降下または電流が２つの電極間に提供され、それによって、発光層中の有機または無機系であってもよい発光材料を発光させる。典型的に、光が電極を透過して、視認者または他の受光体に達することができるように、電極の一方または両方が透明である。

エレクトロルミネセントデバイスを、上面発光デバイスまたは下面発光デバイスのどちらかであるように構成してもよい。上面発光エレクトロルミネセントデバイスにおいて、発光層は、基板と視認者との間に位置決めされる。下面発光エレクトロルミネセントデバイスにおいて、透明なまたは半透明基板は、発光層と視認者との間に位置決めされる。

代表的なカラーエレクトロルミネセントディスプレイにおいて、１つ以上のエレクトロルミネセントデバイスを単一基板上に形成し、グループまたはアレイに配列することができる。カラーエレクトロルミネセントディスプレイを製造するためのいくつかの方法が存在する。例えば、１つの方法は、互いに隣に配置された赤色、緑色、および青色エレクトロルミネセントデバイスサブピクセルを有するアレイを利用する。別の方法は、例えば、色変換を用いてカラーエレクトロルミネセントディスプレイを製造する。色変換を利用するディスプレイは、狭帯域で、例えば、青色光を発光するエレクトロルミネセントデバイスを備えることができる。各々の色変換エレクトロルミネセントデバイスはまた、放射された光（例えば、青色光）が、例えば、赤色色変換要素によって赤色光に、および緑色色変換要素によって緑色光に変換されるように、前記エレクトロルミネセントデバイスと光学結合状態の１つ以上の色変換要素を備える。

本開示は、エレクトロルミネセント素子と光学結合状態の色変換要素を備えるエレクトロルミネセントデバイスの製造方法を提供する。特に、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスに使用するための色変換要素の選択的な熱転写（例えば、レーザー誘起熱画像化（ＬＩＴＩ））を包含する技術を提供する。

フルカラーデバイスのための赤色、緑色、および青色放射一次有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）材料のパターン化は難しいことがわかっている。レーザー熱パターン化、インクジェットパターン化、シャドウマスクパターン化、およびフォトリソグラフィパターン化などのパターン化のための多くの技術が記載されている。

放射材料をパターン化せずにフルカラーディスプレイを提供する別の技術には、本願明細書に記載されるような色変換の使用が挙げられる。しかしながら、従来の下面発光エレクトロルミネセントデバイス構成によるこれらの代替技術の使用は、物理的および光学的因子によって限定される。実際的な理由のために、色変換要素は、別個のガラス上または基板上のいずれかにパターン化されなければならない。この場合、発光層とフィルター層との間の距離の影響は、視差問題につながる。換言すれば、エレクトロルミネセントデバイスからのランバートの放射は、光が、相応する色変換要素ならびに多数の隣接した色変換要素に達することを可能にする。結果として、エレクトロルミネセントディスプレイの彩度レベルが低減される。

他方、上面発光エレクトロルミネセントデバイスはより複雑なピクセル制御回路、ならびに半導体および基板の選択において、より融通性を可能にする場合がある。代表的な上面発光デバイスにおいて、エレクトロルミネセントデバイス層を基板上に堆積することができ、その後に、薄い、透明な金属電極、および保護層を形成することができる。

いくつかの実施形態において、本開示は、エレクトロルミネセント素子の上部電極上または前記エレクトロルミネセント素子の上に形成された保護層上に形成されている色変換要素を備える上面発光エレクトロルミネセントデバイスを形成するための選択的な熱転写（例えば、ＬＩＴＩ）技術を提供する。本開示はまた、エレクトロルミネセント素子の反対側の基板表面に形成された色変換要素を備える下面発光エレクトロルミネセントデバイスを形成するための選択的な熱転写（例えば、ＬＩＴＩ）技術を提供する。色変換要素を直接に上部電極上にまたは保護層上に形成することによって、位置合わせの難しさおよび視差問題を除くのに役立つ場合がある。

さらに、選択的な熱転写パターン化（例えば、乾燥デジタル方法である、ＬＩＴＩパターン化）は、例えば、有機エレクトロルミネセントデバイスについて、使用された材料とより適合性である場合がある。選択的な熱転写はまた、乾燥技術であるので、各層の相対溶解度についての問題を伴わずに単一基板上に多数の層をパターン化することを可能にする場合がある。

さらに加えて、色変換要素の選択的な熱転写パターン化は、より容易に可逆的である技術を提供することができる。例えば、色変換要素のパターンが品質管理検査に合格しない場合、前記要素を洗浄除去することができ、エレクトロルミネセント素子に過度の損傷を与えずに再び形成することができる。

１つの面において、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法を提供する。この方法は、放射することができる、好ましくは狭帯域で発光するエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程を含む。この方法は、複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程をさらに含む。

別の面において、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法を提供する。この方法は、放射することができる、好ましくは狭帯域で発光するエレクトロルミネセント素子を基板の第１の主面上に形成する工程を含む。この方法は、複数の色変換要素を前記基板の第２の主面に選択的に熱転写する工程をさらに含む。

別の面において、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法を提供する。この方法は、放射することができる、好ましくは狭帯域で発光するエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程を含む。この方法は、保護層を前記エレクトロルミネセント素子の少なくとも一部の上に形成する工程と、複数の色変換要素を前記保護層に選択的に熱転写する工程と、をさらに含む。

別の面において、本開示は、少なくとも１つのエレクトロルミネセントデバイスを備えるエレクトロルミネセントカラーディスプレイの製造方法を提供する。この方法は、前記少なくとも１つのエレクトロルミネセントデバイスを基板上に形成する工程を含む。少なくとも１つのエレクトロルミネセントデバイスを形成する工程は、放射することができる、好ましくは狭帯域で発光するエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程と、複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程と、を含む。

別の面において、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法を提供する。この方法は、放射することができる、好ましくは紫外線を放射するエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程を含む。この方法は、複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程をさらに含む。

別の面において、本開示は、エレクトロルミネセントデバイスを提供する。このデバイスは、基板と、前記基板上の、放射することができる、好ましくは狭帯域で発光するエレクトロルミネセント素子と、前記エレクトロルミネセント素子上の複数の色変換要素と、前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素上の、少なくとも１つのカラーフィルターと、を備える。

本明細書中で用いられるとき、「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」、「その（ｔｈｅ）」、「少なくとも１つの」、および「１つ以上の」は交換可能に用いられる。

本発明の上記の要旨は、本発明の各々の開示された実施形態または全ての実装例について記載することを意図するものではない。以下の図面および詳細な説明はより詳しく具体的な実施形態を例示する。

具体的な実施形態の以下の詳細な説明において、その一部を成す、本発明を実施することができる特定の実施形態が実例として示される添付した図面が参照される。他の実施形態を利用してもよく、本発明の範囲から逸脱せずに構造の変更を行なってもよいことは理解されるはずである。

本開示は、エレクトロルミネセントデバイスおよびエレクトロルミネセントデバイスの製造方法に適用できると考えられる。エレクトロルミネセントデバイスは、有機もしくは無機発光体、または両方のタイプの発光体の組合せを備えることができる。有機エレクトロルミネセント（ＯＥＬ）ディスプレイまたはデバイスは、少なくとも１つの有機発光材料を備えるエレクトロルミネセントディスプレイまたはデバイスを指し、その発光材料は小分子（ＳＭ）放射体（例えば、非ポリマー放射体）、ＳＭドープポリマー、ＳＭ混合ポリマー、発光ポリマー（ＬＥＰ）、ドープＬＥＰ、混合ＬＥＰ、または別の有機発光材料であってもよく、単独で提供されるか、またはＯＥＬディスプレイまたはデバイスにおいて、機能性または非機能性であるいずれかの他の有機または無機材料と組合わせて提供されてもよい。無機発光材料には、燐光物質、半導体ナノ結晶などがある。

概して、エレクトロルミネセントデバイスは、２つの電極（アノードおよびカソード）の間に配置された、少なくとも１つの発光層などの１つ以上のデバイス層を有する。電圧降下または電流が２つの電極の間に与えられ、それによって発光体を発光させる。

エレクトロルミネセントデバイスはまた、薄膜エレクトロルミネセントディスプレイまたはデバイスを備えることができる。薄膜エレクトロルミネセントデバイスは、透明な誘電体層の間に挟まれた発光材料と、行および列電極のマトリクスと、を備える。このような薄膜エレクトロルミネセントディスプレイには、例えば、米国特許第４，８９７，３１９号明細書（サン（Ｓｕｎ））および米国特許第５，６５２，６００号明細書（コルマエイ（Ｋｈｏｒｍａｅｉ）ら）に記載されたディスプレイが挙げられる。

図１は、エレクトロルミネセントデバイス１０の１つの実施形態の略図である。エレクトロルミネセントデバイス１０は、基板１２と、基板１２の主面１４上に形成されたエレクトロルミネセント素子２０と、エレクトロルミネセント素子２０上に形成された色変換要素３０ａおよび３０ｂ（以降、一括して色変換要素３０と称される）と、を備える。エレクトロルミネセント素子２０は、第１の電極２２と、第２の電極２６と、第１の電極２２と第２の電極２６との間に位置決めされた１つ以上のデバイス層２４と、を備える。

デバイス１０の基板１２は、エレクトロルミネセントデバイスまたはディスプレイ用途に適したいずれの基板であってもよい。例えば、基板１２は、ガラス、透明プラスチック、または可視光線に対して実質的に透明である他の適した材料から作製されてもよい。基板１２はまた、可視光線に対して不透明であってもよく、例えばステンレス鋼、結晶シリコン、ポリシリコン等であってもよい。いくつかの場合、第１の電極２２は基板１２であってもよい。少なくともいくつかのエレクトロルミネセントデバイスにおいて用いられる材料は特に、酸素または水への暴露による損傷をうけやすい場合があるので、適した基板は、適切な環境バリアを提供するように選択することができ、あるいは適切な環境バリアを提供する１つ以上の層、コーティング、または積層体を与えられる。

基板１２はまた、トランジスタアレイおよび他の電子デバイス、カラーフィルター、偏光子、波長板、拡散体、および他の光デバイス、絶縁体、バリアリブ、ブラックマトリクス、マスクワーク、および他のこのような構成要素等、エレクトロルミネセントデバイスおよびディスプレイに適した任意の数のデバイスまたは構成要素を備えることができる。基板１２はまた、例えば、欧州特許出願第１，２２０，１９１号明細書（クウォン（Ｋｗｏｎ））に記載されたような複数の独立にアドレス可能な能動デバイスを備えてもよい。

エレクトロルミネセントデバイス１０はまた、基板１２の主面１４上に形成されたエレクトロルミネセント素子２０を備える。図１は基板１２の主面１４上に、かつ接触して形成されるようにエレクトロルミネセント素子２０を示すが、１つ以上の層またはデバイスが、エレクトロルミネセント素子２０と基板１２の主面１４との間に含有されてもよい。エレクトロルミネセント素子２０は、第１の電極２２、第２の電極２６、および第１の電極２２と第２の電極２６との間に位置決めされた１つ以上のデバイス層２４を備える。第１の電極２２がアノードであってもよく、第２の電極２６がカソードであってもよく、あるいは第１の電極２２がカソードであってもよく、第２の電極２６がアノードであってもよい。

第１の電極２２および第２の電極２６は典型的に、金属、合金、金属化合物、金属酸化物、導電性セラミックス、導電性分散体、および導電性ポリマーなどの電気導電性材料を用いて形成される。適した材料の例には、例えば、金、白金、パラジウム、アルミニウム、カルシウム、チタン、窒化チタン、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素スズ酸化物（ＦＴＯ）、およびポリアニリンなどがある。第１および第２の電極２２および２６は導電性材料の単一層であってもよく、またはそれらは多数の層を含有することができる。例えば、第１の電極２２および第２の電極２６の一方または両方のいずれかが、アルミニウムの層および金の層、カルシウムの層およびアルミニウムの層、アルミニウムの層およびフッ化リチウムの層、または金属層および導電性有機層を備えることができる。

第１の電極２２と第２の電極２６との間に１つ以上のデバイス層２４が形成される。１つ以上のデバイス層２４が発光層を備える。場合により、１つ以上のデバイス層２４が、例えば、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層、正孔ブロッキング層、電子ブロッキング層、バッファ層、またはそれらのいずれかの組合せなどの１つ以上の付加的な層を備えることができる。

発光層は発光材料を含有する。任意の適した発光材料が発光層に用いられてもよい。ＬＥＰおよびＳＭ発光体などの様々な発光材料を用いることができる。発光体には、例えば、螢光および燐光材料がある。適したＬＥＰ材料のクラスの例には、ポリ（フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ−パラ−フェニレン（ＰＰＰ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、現在公知であるかまたは後に開発される他のＬＥＰ材料、およびコポリマーまたはそれらのブレンドなどがある。適したＬＥＰはまた、分子ドープされ、螢光染料または他の材料を分散され、活性または非活性材料をブレンドされ、活性または非活性材料を分散されてもよい、等々。適したＬＥＰ材料の例は、クラフト（Ｋｒａｆｔ）ら、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．、３７、４０２〜４２８ページ（１９９８年）、米国特許第５，６２１，１３１号明細書（クロイダー（Ｋｒｅｕｄｅｒ）ら）、米国特許第５，７０８，１３０号明細書（ウー（Ｗｏｏ）ら）、米国特許第５，７２８，８０１号明細書（ウー（Ｗｕ）ら）、米国特許第５，８４０，２１７号明細書（ルーポ（Ｌｕｐｏ）ら）、米国特許第５，８６９，３５０号明細書（ヒーガー（Ｈｅｅｇｅｒ）ら）、米国特許第５，９００，３２７号明細書（ペイ（Ｐｅｉ）ら）、米国特許第５，９２９，１９４号明細書（ウー（Ｗｏｏ）ら）、米国特許第６，１３２，６４１号明細書（リッツ（Ｒｉｅｔｚ）ら）、および米国特許第６，１６９，１６３号明細書（ウー（Ｗｏｏ）ら）、および国際公開第９９／４０６５５号パンフレット（クロイダー（Ｋｒｅｕｄｅｒ）ら）に記載されている。

ＳＭ材料は概して、ＯＥＬディスプレイおよびデバイスにおいて放射体材料、電荷輸送材料として、（例えば、発光色を制御するための）放射体層のドーパントまたは電荷輸送層等として用いることができる非ポリマー有機または有機金属分子材料である。一般に用いられるＳＭ材料には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（ＡｌＱ）、およびＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（ＴＰＤ）などの金属キレート化合物がある。他のＳＭ材料は、例えば、Ｃ．Ｈ．チェン（Ｃ．Ｈ．Ｃｈｅｎ）ら著、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．、１２５：１（１９９７年）、特開２０００−１９５６７３号公報（フジイ）、米国特許第６，０３０，７１５号明細書（トンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）ら）、米国特許第６，１５０，０４３号明細書（トンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）ら）、および米国特許第６，２４２，１１５号明細書（トンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）ら）、およびＰＣＴ国際公開第００／１８８５１号パンフレット（シプリー（Ｓｈｉｐｌｅｙ）ら）（二価ランタニド金属錯体）、国際公開第００／７０６５５号パンフレット（フォーレスト（Ｆｏｒｒｅｓｔ）ら）（環金属化イリジウム化合物等）、および国際公開第９８／５５５６１号パンフレット（クリストウ（Ｃｈｒｉｓｔｏｕ））に開示されている。

１つ以上のデバイス層２４はまた、正孔輸送層を備えてもよい。正孔輸送層は、アノードからエレクトロルミネセント素子２０への正孔の注入、および再結合領域に向かってのそれらの移動を容易にする。正孔輸送層はさらに、アノードへの電子の移行のバリアとして作用することができる。いずれかの適した材料、例えば、ナルワ（Ｎａｌｗａ）ら著、ルミネセンスのハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、「ディスプレイ材料およびデバイス（Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｄｅｖｉｃｅｓ）」、スティーブンス・ランチ（Ｓｔｅｖｅｎｓ Ｒａｎｃｈ）、ＣＡ、アメリカン・サイエンティフィック・パブリッシャー（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）、２００３年、１３２−１９５ページ、チェン（Ｃｈｅｎ）ら著、分子有機エレクトロルミネセント材料の最近の展開（Ｒｅｃｅｎｔ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ ｉｎ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．、１：１２５（１９９７年）、およびシャイナー・ジョセフ（Ｓｈｉｎａｒ,Ｊｏｓｅｐｈ）編、有機発光デバイス（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅｓ）、ベルリン、スプリンガー出版（Ｂｅｒｌｉｎ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｖｅｒｌａｇ）、２００３年、４３〜６９ページに記載されたそれらの材料を正孔輸送層のために使用してもよい。

１つ以上のデバイス層２４はまた、電子輸送層を備えてもよい。電子輸送層は、電子の注入、および再結合領域に向かってのそれらの移動を容易にする。電子輸送層はさらに、必要ならばカソードへの正孔の移行のバリアとして作用することができる。いずれかの適した材料、例えば、ナルワ（Ｎａｌｗａ）ら著、ルミネセンスのハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、「ディスプレイ 材料およびデバイス（Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｄｅｖｉｃｅｓ）」、スティーブンス・ランチ（Ｓｔｅｖｅｎｓ Ｒａｎｃｈ）、ＣＡ、アメリカン・サイエンティフィック・パブリッシャー（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）、２００３年、１３２〜１９５ページ、チェン（Ｃｈｅｎ）ら著、「分子有機エレクトロルミネセント材料の最近の展開（Ｒｅｃｅｎｔ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ ｉｎ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．、１：１２５（１９９７年）、およびシャイナー・ジョセフ（Ｓｈｉｎａｒ,Ｊｏｓｅｐｈ）編、「有機発光デバイス（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅｓ）」、ベルリン、スプリンガー出版（Ｂｅｒｌｉｎ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｖｅｒｌａｇ）、２００３年、４３〜６９ページに記載されたそれらの材料を電子輸送層のために使用してもよい。

エレクトロルミネセント素子２０が狭帯域で発光することができるのが好ましい場合がある。本明細書中で用いられるとき、用語「狭帯域の光」は、（スペクトルの半値点で測定された）約１００ｎｍ以下のスペクトル幅を有する光スペクトルを指す。従って、狭帯域放射体は、１００ｎｍ以下のスペクトル幅を有する光を放射する光源である。例えば、エレクトロルミネセント素子２０が青色光を発光することができることが好ましい場合がある。エレクトロルミネセント素子２０の発光層の材料は、エレクトロルミネセント素子２０が狭帯域で発光、例えば、青色光を放射することができるように選択されてもよいことを当業者は理解するであろう。

さもなければ、いくつかの実施形態において、エレクトロルミネセント素子２０が紫外（ＵＶ）光を放射することができるのが好ましい場合がある。低周波数変換燐光物質によって、紫外線と青色光との両方をより低い周波数の光に「低周波数変換」することができる。紫外線放射エレクトロルミネセント素子については、本明細書にさらに記載されるように、少なくとも３つの色変換要素３０がエレクトロルミネセント素子２０上に形成されることが好ましい場合がある。

１つ以上のデバイス層２４は、様々な方法によって、例えば、コーティング（例えば、スピンコーティング）、印刷（例えば、スクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理的または化学蒸着、フォトリソグラフィ、および熱転写方法（例えば、米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載された方法）によって第１の電極２２と第２の電極２６との間に形成されてもよい。１つ以上のデバイス層２４を連続的に形成することができ、あるいは層の２つ以上を同時に配置することができる。１つ以上のデバイス層２４を形成した後またはデバイス層２４の堆積と同時に、第２の電極２６を１つ以上のデバイス層２４上に形成するかあるいは他の方法で配置する。あるいは、エレクトロルミネセント素子２０は、例えば、米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載されたような多層ドナーシートを利用するＬＩＴＩ技術を用いて形成されてもよい。

エレクトロルミネセント素子２０はまた、本明細書にさらに記載されるようにエレクトロルミネセント素子２０の上に形成された保護層（図示せず）を備えてもよい。

エレクトロルミネセントデバイス１０はまた、エレクトロルミネセント素子２０上に形成された色変換要素３０を備える。色変換要素３０は第２の電極２６上に形成されているように示されるが、１つ以上の層またはデバイスが色変換要素３０と第２の電極２６との間に含有されてもよい。エレクトロルミネセント素子２０から放射された光の少なくとも一部が１つ以上の色変換要素３０に入射するように、１つ、２つ、またはそれ以上の色変換要素３０がエレクトロルミネセント素子２０上に形成されてもよい。換言すれば、色変換要素３０はエレクトロルミネセント素子２０と光学結合状態である。色変換要素３０はその上に入射した光を吸収し、選択された狭帯域の光を再放射する。例えば、色変換要素３０ａは入射光を赤色光に変換することができ、色変換要素３０ｂは入射光を緑色光に変換することができる。本明細書中で用いられるとき、用語「赤色光」は、可視スペクトルの主に上側部分のスペクトルを有する光を指す。さらに本明細書で用いられるとき、用語「緑色光」は、可視スペクトルの主に中間部分のスペクトルを有する光を指す。そして「青色光」は、可視スペクトルの主に下側部分のスペクトルを有する光を指す。いくつかの実施形態において、色変換要素３０は、入射光を青色光に変換する色変換要素を備えてもよい。色変換要素と対照的に、（本明細書にさらに記載されるような）カラーフィルターは、波長に比較的変化を生じずに他の波長または周波数を通過させながら特定の波長または周波数を減衰させる。

図１に示されていないが、１つ以上の色変換要素が１つ以上の他の色変換要素上に形成されてもよい。例えば、赤色色変換要素が緑色色変換要素から放射された緑色光を吸収し、赤色光を再放射するように、赤色色変換要素が緑色色変換要素上に形成されてもよい。

色変換要素３０はいずれの適した材料を含有してもよい。例えば、色変換要素３０は、いずれの適した色変換材料、例えば、螢光染料、螢光顔料、燐光物質、半導性ナノ結晶等を含有してもよい。これらの色変換材料は、いずれの適したバインダー材料、例えば、モノマー、オリゴマー、ポリマー材料等に分散されてもよい。

色変換要素３０は、いずれの適した技術、例えば、コーティング（例えば、スピンコーティング）、印刷（例えば、スクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理的または化学蒸着、フォトリソグラフィ、および熱転写方法（例えば、米国特許第６，１１４，０８８（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載された方法）を用いてエレクトロルミネセント素子２０上に形成されてもよい。本明細書にさらに記載されるようにＬＩＴＩ技術を用いて色変換要素３０がエレクトロルミネセント素子２０上に形成されるのが好ましい場合がある。

本開示の方法において、ドナー要素の転写層を受容体（例えば、エレクトロルミネセント素子２０）に隣接して配置し、ドナー要素を選択的に加熱することによって、発光ポリマー（ＬＥＰ）または他の材料を含有する発光材料、色変換要素、およびカラーフィルターをドナーシートの転写層から受容基板に選択的に転写することができる。例えばカラーフィルターの選択的な転写について、例えば、係属中の米国特許出願第＿＿＿＿＿（「カラーフィルターを備えるエレクトロルミネセントデバイスの作製方法（Ａ ＭＥＴＨＯＤ ＯＦ ＭＡＫＩＮＧ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＯＬＵＭＩＮＥＳＣＥＮＴ ＤＥＶＩＣＥ ＩＮＣＬＵＤＩＮＧ Ａ ＣＯＬＯＲ ＦＩＬＴＥＲ）」と題され、これと同日に出願された代理人整理番号５９０２５ＵＳ００７号）を参照のこと。実例として、ドナー中に、しばしば別個の光−熱変換（ＬＴＨＣ）層に配置されたＬＴＨＣ材料によって吸収されて熱に変換され得る画像化放射線でドナー要素を照射することによってドナー要素を選択的に加熱することができる。あるいは、光−熱変換は、ドナー要素または受容基板のどちらかの層のいずれか１つ以上において行なわれてもよい。ドナーはドナー基板を通して、受容体を通して、または両方を通して画像化放射線に露光されてもよい。放射線は、例えばレーザー、ランプ、または他のこのような放射線源からの可視光線、赤外線、または紫外線などの１つ以上の波長を含めることができる。サーマルプリントヘッドを使用するかまたはサーマルホットスタンプ（例えば、ドナーを選択的に加熱するために使用できるレリーフパターンを有する加熱シリコーンスタンプなどのパターン化サーマルホットスタンプ）を使用するなど、他の選択的な加熱技術もまた使用することができる。熱転写層からの材料をこのようにして受容体に選択的に転写して、転写された材料のパターンを受容体上に画像の通り形成することができる。多くの場合、例えばランプまたはレーザーからの光を用いてパターンの通りドナーを露光する熱転写は、しばしば達成することができる精度および正確さのために有利である場合がある。転写されたパターン（例えば、線、円、四角形、または他の形状）のサイズおよび形状は、例えば、光線のサイズ、光線の露光パターン、ドナーシートと有向ビームの接触時間、またはドナーシートの材料を選択することによって制御されてもよい。転写されたパターンはまた、ドナー要素をマスクを通して照射することによって制御されてもよい。

上記したように、ドナー要素を直接に選択的に加熱し、それによって転写層の一部をパターンの通り転写するために（パターン化されるかあるいは他の方法で）サーマルプリントヘッドまたは他の加熱要素を使用することができる。このような場合、ドナーシート中の光−熱変換材料は任意選択である。材料により低解像度のパターンを作製するかまたは配置が精密に制御される必要がない要素をパターン化するためにサーマルプリントヘッドまたは他の加熱要素が特に適していることがある。

また、転写層をそれらの全部でドナーシートから転写することができる。例えば、転写層が受容基板に接触された後に、典型的に熱または圧力を適用して剥離することができる仮ライナーとして本質的に作用するドナー基板上に転写層を形成することができる。積層転写と称されるこのような方法を用いて全転写層、またはその大部分を受容体に転写することができる。

熱転写の方式は、使用される選択的な加熱のタイプ、ドナーを露光するために用いられる場合の照射のタイプ、任意選択のＬＴＨＣ層の材料および性質のタイプ、転写層の材料のタイプ、ドナーの全構成、受容基板のタイプ等に応じて変わることができる。いずれの理論にも縛られることを望まないが、転写は概して、１つ以上の機構によって行なわれ、その１つ以上が画像化条件、ドナー構成等に応じて選択的な転写の間に強調されるかまたは脱強調されてもよい。熱転写の１つの機構には熱溶融粘着転写があり、それによって熱転写層とドナー要素の残り部分との間の境界面において加熱することにより、受容体に対する付着性がドナーに対する付着性よりも強くなり、ドナー要素が除去される時に転写層の選択された部分が受容体上に残る。熱転写の別の機構には融蝕性転写があり、それによって、局部加熱を用いて転写層の一部をドナー要素から融蝕除去し、それによって、融蝕された材料を受容体の方へ向けることができる。熱転写のさらに別の機構には昇華があり、それによって、転写層に分散された材料をドナー要素に生じた熱によって昇華することができる。昇華された材料の一部が受容体上に凝縮することができる。本発明は、これらのおよび他の機構の１つ以上を有する転写方式を考察し、それによってドナーシートの選択的な加熱を用いて転写層から受容体表面への材料の転写をもたらすことができる。

様々な放射線−放射源を用いてドナーシートを加熱することができる。アナログ技術（例えば、マスクを通しての露光）については、強力光源（例えば、キセノンフラッシュランプおよびレーザー）が有用である。デジタル画像化技術については、赤外線、可視線、および紫外レーザーが特に有用である。適したレーザーには、例えば、強力（≧１００ｍＷ）シングルモードレーザーダイオード、ファイバー結合レーザーダイオード、およびダイオード励起固体レーザ（例えば、Ｎｄ：ＹＡＧおよびＮｄ：ＹＬＦ）などがある。レーザー露光停止時間は、広範囲に、例えば、１００分の数マイクロ秒から数十マイクロ秒までまたはそれ以上変化することができ、レーザーフルエンスは、例えば、約０．０１〜約５Ｊ／ｃｍ²以上の範囲であってもよい。他の放射線源および照射条件が、とりわけ、ドナー要素構成、転写層材料、熱物質移動のモード、および他のこのような因子に基づいて適している場合がある。

大きな基板領域について高スポット配置精度が望ましいとき（例えば、高情報量ディスプレイおよび他のこのような適用のための要素をパターン化するとき）、レーザーは、放射線源として特に有用である場合がある。レーザー源はまた、大きな硬質基板（例えば、１ｍ×１ｍ×１．１ｍｍのガラス）および連続したまたはシート状フィルム基板（例えば、厚さ１００μｍのポリイミドシート）の両方と適合性である。

画像化する間、ドナーシートを受容体と密着させることができ（典型的に熱溶融粘着転写機構の場合である）、またはドナーシートを受容体から特定の距離離隔することができる（融蝕性転写機構または材料昇華転写機構の場合でありうる）。少なくともいくつかの場合、圧力または真空を用いてドナーシートを受容体と密着して保持することができる。いくつかの場合、マスクをドナーシートと受容体との間に配置することができる。このようなマスクは取り外し可能であるか、または転写した後に受容体上に残ってもよい。光−熱変換材料がドナー中に存在する場合、放射線源を用いて画像の通り（例えば、デジタルにまたはマスクを通してアナログに露光することによって）ＬＴＨＣ層（または放射線吸収剤を含有する他の層）を加熱して転写層をドナーシートから受容体に画像の通り転写またはパターン化することができる。

典型的に、本明細書にさらに記載されるように任意選択の中間層またはＬＴＨＣ層などのドナーシートの他の層のかなりの部分を転写せずに転写層の選択された部分を受容体に転写する。任意選択の中間層の存在によって、ＬＴＨＣ層または他の近接した層（例えば、他の中間層）から受容体への材料の転写を除くかまたは低減することができ、あるいは転写層の転写された部分の歪みを低減することができる。好ましくは、画像化条件下で、ＬＴＨＣ層に対する任意選択の中間層の接着性が転写層に対する中間層の接着性より大きい。中間層は、画像化放射線に対して透過性、反射性、または吸収性であってもよく、ドナーを通して透過された画像化放射線のレベルを減衰させるかあるいは他の方法で制御するためにまたはドナーの温度を管理するために、例えば、画像化する間に転写層に対する熱または放射線による損傷を低減するために用いられてもよい。多数の中間層が存在してもよい。

１メートル以上の長さおよび幅寸法を有するドナーシートなどの大きなドナーシートを用いることができる。操作において、レーザーを大きなドナーシートにわたってラスターするかあるいは他の方法で移動させることができ、レーザーは、所望のパターンによってドナーシートの一部を照明するように選択的に操作される。あるいは、レーザーが固定されてもよく、ドナーシートまたは受容基板がレーザー下で移動されてもよい。

いくつかの場合、２つ以上の異なったドナーシートを連続的に用いて電子デバイスを受容体上に形成することが必要で、望ましいか、または便利である場合がある。例えば、別個の層または層の別個のスタックを異なったドナーシートから転写することによって多数層デバイスを形成することができる。また、例えば、米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載されているように多層スタックを単一転写単位として単一ドナー要素から転写することができる。例えば、正孔輸送層とＬＥＰ層とを単一ドナーから同時に転写することができる。別の例として、半導性ポリマーと発光層とを単一ドナーから同時に転写することができる。また、多数のドナーシートを用いて別個の構成要素を同じ層の受容体上に形成することができる。例えば、異なった色（例えば、赤色、緑色、および青色）を放射することができる色変換要素を備える転写層を各々有する３つの異なったドナーを用いてフルカラー偏光発光電子ディスプレイのためのＲＧＢ色変換エレクトロルミネセントデバイスを形成することができる。別の例として、導電性または半導性ポリマーを１つのドナーから熱転写によってパターン化することができ、その後に、発光層を１つ以上の他のドナーから選択的に熱転写してディスプレイに複数のＯＥＬデバイスを形成することができる。さらに別の例として、有機トランジスタのための層を（方向付けされるかまたはされていない）電気的活性有機材料の選択的な熱転写によってパターン化することができ、その後に、色変換要素、カラーフィルター、発光層、電荷輸送層、電極層等などの１つ以上のピクセルまたはサブピクセル要素の選択的な熱転写パターン化を行なうことができる。

別個のドナーシートからの材料を受容体上に他の材料に隣接して転写して、隣接したデバイス、隣接したデバイスの一部、または同じデバイスの異なった部分を形成することができる。あるいは、別個のドナーシートからの材料を、熱転写または特定の他の方法（例えば、フォトリソグラフィ、シャドウマスクを通しての堆積等）によって受容体上に予めパターン化された他の層または材料の上に直接に、または部分的に重ね合わせて転写することができる。２つ以上のドナーシートの様々な他の組合せを用いてデバイスを形成することができ、各ドナーシートは、デバイスの１つ以上の部分を形成するために用いられる。通常に使用されるかまたは新規に開発された、フォトリソグラフィ方法、インクジェット方法、および様々な他の印刷またはマスクによる方法などのいずれかの適した方法によってこれらのデバイスの他の部分、または受容体上の他のデバイスを全部あるいは部分的に形成してもよいことは理解されるであろう。

ドナー基板はポリマーフィルムであってもよい。１つの適したタイプのポリマーフィルムは、ポリエステルフィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムである。しかしながら、特定の適用に応じて、特定の波長においての光の高透過率や、十分な機械的および熱安定性性質など、十分な光学性質を有する他のフィルムを用いることができる。少なくともいくつかの場合、ドナー基板は、平らであり、均一なコーティングをその上に形成することができる。また、ドナー基板は典型的に、ドナーの１つ以上の層の加熱にもかかわらず安定なままである材料から選択される。しかしながら、本明細書に記載されたように、基板とＬＴＨＣ層との間に下層を含有することによって、画像化する間にＬＴＨＣ層に発生された熱から基板を絶縁することができる。ドナー基板の代表的な厚さは０．０２５〜０．１５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．１ｍｍの範囲であるが、より厚いかまたはより薄いドナー基板を用いてもよい。

ドナー基板および任意選択の隣接した下層を形成するために用いられた材料は、ドナー基板と下層との間の接着性を改良し、基板と下層との間の熱輸送を制御し、ＬＴＨＣ層への画像化放射線の移動を制御し、画像化欠陥などを低減するように選択することができる。任意選択の下塗り層を用いて基板上に後続層をコーティングする間、均一性を増加させ、そしてまた、ドナー基板と隣接した層との間の結合強さを増加させることができる。

任意選択の下層をドナー基板とＬＴＨＣ層との間にコーティングするかあるいは他の方法で配置して、例えば画像化する間、基板とＬＴＨＣ層との間の熱流を制御するか、または貯蔵、取扱、ドナー加工、または画像化のためにドナー要素に対する機械的安定性を提供することができる。適した下層および下層を提供する技術の例は、米国特許第６，２８４，４２５号明細書（スタラルら）に開示されている。

下層は、所望の機械的または熱的性質をドナー要素に与える材料を含有することができる。例えば、下層は、ドナー基板に対して低い比熱×密度または低い熱伝導率を示す材料を含有することができる。このような下層を用いて転写層への熱流を増加させ、例えばドナーの画像化感度を改良してもよい。

下層はまた、それらの機械的性質のための、または基板とＬＴＨＣとの間の接着性のための材料を含有してもよい。基板とＬＴＨＣ層との間の接着性を改良する下層を用いることによって、転写された画像の歪みを低減することができる。例として、いくつかの場合、例えば、ドナー媒体の画像化の間に他の場合なら生じることがあるＬＴＨＣ層の離層または分離を低減するかまたは除く下層を用いることができる。これは、転写層の転写された部分によって示される物理的歪みの量を低減することができる。しかしながら、他の場合、画像化する間、層間の少なくとも或る程度の分離を促進する下層を使用し、例えば、画像化する間、熱絶縁機能をもたらすことができる層間の空隙を生じさせることが望ましい場合がある。画像化する間の分離はまた、画像化する間、ＬＴＨＣ層の加熱によって生じることがあるガスを放出するための溝を設けることができる。このような溝を設けることによって、画像化欠陥を少なくすることができる場合がある。

下層は画像化波長においてほとんど透明であってもよく、あるいはまた、画像化放射線を少なくとも部分的に吸収または反射してもよい。下層による画像化放射線の減衰または反射を用いて、画像化する間の熱の発生を制御してもよい。

本発明のドナーシートにＬＴＨＣ層を含有させて照射エネルギーをドナーシートに結合することができる。ＬＴＨＣ層は好ましくは、ドナーシートから受容体への転写層の転写を可能にするために、入射放射線（例えば、レーザー光）を吸収して入射放射線の少なくとも一部を熱に変換する放射線吸収剤を含有する。

概して、ＬＴＨＣ層中の放射線吸収剤は、電磁スペクトルの赤外線、可視線、または紫外線領域の光を吸収し、吸収された放射線を熱に変換する。放射線吸収剤は典型的に、選択された画像化放射線を高度に吸収し、画像化放射線の波長において約０．２〜３またはそれ以上の範囲の光学濃度を有するＬＴＨＣ層を提供する。層の光学濃度は、層を通して透過された光の強度の、層に入射する光の強度に対する比の対数（底１０）の絶対値である。

放射線吸収材料をＬＴＨＣ層の全体にわたって均一に配置することができ、または不均質に分散させることができる。例えば、米国特許第６，２２８，５５５号明細書（ホフェンド・ジュニア（Ｈｏｆｆｅｎｄ，Ｊｒ．）ら）に記載されているように、不均質なＬＴＨＣ層を用いてドナー要素の温度分布を制御することができる。これは、改良された転写性質（例えば、所期の転写パターンと実際の転写パターンとの間のより良好な忠実度）を有するドナーシートをもたらすことができる。

適した放射線吸収材料には、例えば、染料（例えば、可視染料、紫外染料、赤外染料、螢光染料、および放射線偏光染料）、顔料、金属、金属化合物、金属フィルム、黒体吸収剤、および他の適した吸収材料などが挙げられる。適した放射線吸収剤の例には、カーボンブラック、金属酸化物、および金属硫化物などがある。適したＬＴＨＣ層の１つの例は、カーボンブラックなどの顔料、および有機ポリマーなどのバインダーを含有することができる。別の適したＬＴＨＣ層は、薄膜として形成された金属または金属／金属酸化物、例えば、ブラックアルミニウム（すなわち、黒色の視覚的な外観を有する部分的に酸化されたアルミニウム）を含有する。金属および金属化合物フィルムは、例えば、スパッタリングおよび蒸着などの技術によって形成されてもよい。粒状コーティングはバインダーおよびいずれかの適した乾燥または湿潤コーティング技術を用いて形成されてもよい。また、同様なまたは異なった材料を含有する２つ以上のＬＴＨＣ層を組合わせることによって、ＬＴＨＣ層を形成することができる。例えば、ブラックアルミニウムの薄い層を、バインダー中に置かれたカーボンブラックを含有するコーティングの上に蒸着することによって、ＬＴＨＣ層を形成することができる。

ＬＴＨＣ層において放射線吸収剤として使用するために適した染料は、バインダー材料に溶解されるかまたはバインダー材料に少なくとも部分的に分散された、粒状の形状で存在してもよい。分散された粒状放射線吸収剤が用いられるとき、粒度は少なくともいくつかの場合、約１０μｍ以下であることがあるが、約１μｍ以下であってもよい。適した染料には、スペクトルのＩＲ領域において吸収するそれらの染料がある。特定のバインダーまたはコーティング溶剤への溶解度、および相溶性、ならびに吸収の波長範囲などの因子に基づいて特定の染料を選択してもよい。

顔料材料もまた、ＬＴＨＣ層において放射線吸収剤として用いられてもよい。適した顔料の例には、カーボンブラックおよび黒鉛、ならびにフタロシアニン、ニッケルジチオレン、および米国特許第５，１６６，０２４号明細書（バグナー（Ｂｕｇｎｅｒ）ら）および米国特許第５，３５１，６１７号明細書（ウィリアムズ（Ｗｉｌｌｉａｍｓ）ら）に記載された他の顔料がある。さらに、例えば、ピラゾロンイエロー、ジアニシジンレッド、およびニッケルアゾイエローの銅またはクロム錯体をベースとした黒色アゾ顔料が有用である場合がある。例えば、アルミニウム、ビスマス、スズ、インジウム、亜鉛、チタン、クロム、モリブデン、タングステン、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、ジルコニウム、鉄、鉛、およびテルルなどの金属の酸化物および硫化物など、無機顔料もまた用いることができる。金属ホウ化物、炭化物、窒化物、炭窒化物、青銅構造化酸化物、および青銅族に構造的に関連する酸化物（例えば、ＷＯ_2.9）もまた用いてもよい。

金属放射線吸収剤を例えば米国特許第４，２５２，６７１号明細書（スミス（Ｓｍｉｔｈ））に記載されているように粒子の形状で、または米国特許第５，２５６，５０６号明細書（エリス（Ｅｌｌｉｓ）ら）に開示されているようにフィルムとしてのいずれかで用いてもよい。適した金属には、例えば、アルミニウム、ビスマス、スズ、インジウム、テルルおよび亜鉛などがある。

ＬＴＨＣ層に使用するための適したバインダーには、例えば、フェノール樹脂（例えば、ノボラックおよびレゾール樹脂）、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、セルロースエーテルおよびエステル、ニトロセルロース、およびポリカーボネートなどのフィルム形成ポリマーがある。適したバインダーには、重合または架橋されているかまたはされうるモノマー、オリゴマー、またはポリマーが挙げられる。光開始剤などの添加剤もまた、ＬＴＨＣバインダーの架橋を容易にするために含有されてもよい。いくつかの実施形態において、バインダーは主に、架橋可能なモノマーまたはオリゴマーのコーティングを任意選択のポリマーと共に用いて形成される。

熱可塑性樹脂（例えば、ポリマー）を含有することによって、少なくともいくつかの場合、ＬＴＨＣ層の性能（例えば、転写性質または被覆性）を改良することができる。熱可塑性樹脂は、ＬＴＨＣ層の、ドナー基板への接着性を改良することができると考えられる。１つの実施形態において、バインダーは、２５〜５０重量％（重量パーセントを計算する時に溶媒を除外する）の熱可塑性樹脂、好ましくは、３０〜４５重量％の熱可塑性樹脂を含有するが、より低量の熱可塑性樹脂を用いてもよい（例えば、１〜１５重量％）。熱可塑性樹脂は典型的に、バインダーの他の材料と相溶性（すなわち、１相の配合剤を形成する）であるように選択される。少なくともいくつかの実施形態において、９〜１３（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2、好ましくは、９．５〜１２（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2の範囲の溶解度パラメーターを有する熱可塑性樹脂が、バインダーのために選択される。適した熱可塑性樹脂の例には、ポリアクリル、スチレン−アクリルポリマーおよび樹脂、およびポリビニルブチラールなどがある。

界面活性剤および分散剤などの通常のコーティング助剤を添加してコーティングプロセスを容易にしてもよい。本技術分野に公知の様々なコーティング方法を用いてＬＴＨＣ層をドナー基板上にコーティングしてもよい。ポリマーまたは有機ＬＴＨＣ層を少なくともいくつかの場合、０．０５μｍ〜２０μｍ、好ましくは、０．５μｍ〜１０μｍ、より好ましくは、１μｍ〜７μｍの厚さにコーティングすることができる。無機ＬＴＨＣ層を少なくともいくつかの場合、０．０００５〜１０μｍ、好ましくは、０．００１〜１μｍの範囲の厚さにコーティングすることができる。

少なくとも１つの任意選択の中間層がＬＴＨＣ層と転写層との間に配置されてもよい。中間層を用いて、例えば、転写層の転写された部分の損傷および汚染を最小にすることができ、また、転写層の転写された部分の歪みまたは機械的損傷を低減する場合がある。中間層はまた、ドナーシートの残り部分への転写層の接着性に影響を与える場合がある。典型的に、中間層は、高い耐熱性を有する。中間層は、画像化条件下で、特に、転写された画像を非機能的にする程度まで、変形または化学分解しないのが好ましい。中間層は典型的に、転写プロセスの間、ＬＴＨＣ層と接触したままであり、転写層をほとんど転写されない。

適した中間層には、例えば、ポリマーフィルム、金属層（例えば、蒸着金属層）、無機層（例えば、無機酸化物（例えば、シリカ、チタニア、および他の金属酸化物）のゾル−ゲル堆積層および蒸着層）、および有機／無機複合層などがある。中間層材料として適した有機材料には、熱硬化性材料と熱可塑性材料との両方がある。適した熱硬化性材料には、架橋したまたは架橋可能なポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、エポキシ、およびポリウレタンなどがあるがそれらに限定されない、熱、放射線、または化学処理によって架橋してもよい樹脂がある。熱硬化性材料をＬＴＨＣ層上に例えば、熱可塑性樹脂前駆物質としてコーティングし、次いで架橋して、架橋された中間層を形成してもよい。

適した熱可塑性材料には、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリエステル、およびポリイミドなどがある。これらの熱可塑性有機材料は、通常のコーティング技術（例えば、溶剤コーティング、噴霧コーティング、または押出コーティング）によって適用されてもよい。典型的に、中間層に使用するために適した熱可塑性材料のガラス転移温度（Ｔ_g）は２５℃以上、好ましくは５０℃以上である。いくつかの実施形態において、中間層は、画像化する間に転写層において達せられる一切の温度よりも高いＴ_gを有する熱可塑性材料を含有する。中間層は、画像化放射線波長において透過性、吸収性、反射性、またはそれらの特定の組合せのどれかであってもよい。

中間層材料として適した無機材料には例えば、画像化光波長において高透過性または高反射性であるそれらの材料を含めて、金属、金属酸化物、金属硫化物、および無機炭素コーティングなどがある。これらの材料を通常の技術（例えば、真空スパッタリング、真空蒸発、またはプラズマジェット堆積）によって光−熱変換層に適用してもよい。

中間層は多数の利点を提供することができる。中間層は、光−熱変換層からの材料の転写に対するバリアとなりうる。中間層はまた、それに近接した層への、またはそれからの一切の材料または汚染物の交換を防ぐバリアとして作用することができる。それはまた、熱的に不安定な材料を転写するために転写層において達した温度を変えることができる。例えば、中間層は、ＬＴＨＣ層において達した温度に対して中間層と転写層との間の境界面の温度を制御するための熱拡散体として作用することができる。これは、転写された層の質（すなわち、表面粗さ、エッジ粗さ等）を改良することができる。中間層の存在はまた、転写された材料の改良された塑性復元をもたらす場合がある。

中間層は、例えば、光開始剤、界面活性剤、顔料、可塑剤、およびコーティング助剤などの添加剤を含有してもよい。中間層の厚さは、例えば、中間層の材料、ＬＴＨＣ層の材料および性質、転写層の材料および性質、画像化放射線の波長、および画像化放射線へのドナーシートの暴露時間などの因子に依存する場合がある。ポリマー中間層については、中間層の厚さは典型的に、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲である。無機中間層（例えば、金属または金属化合物中間層）については、中間層の厚さは典型的に０．００５μｍ〜１０μｍの範囲である。多数の中間層もまた使用できる。例えば、有機系中間層を無機系中間層によって覆い、熱転写プロセスの間、転写層に付加的な保護を与えることができる。

熱転写層がドナーシートに含有される。前記転写層は、単独でまたはまたは他の材料と組み合わせて、１つ以上の層に配置されたいずれかの適した材料を含有することができる。ドナー要素が直接加熱されるか、または光−熱変換材料によって吸収されて熱に変換され得る画像化放射線に露光されるとき、転写層をいずれかの適した転写機構によって単体としてまたは部分に分けて選択的に転写することができる。

熱転写層を用いて、例えば、色変換要素、カラーフィルター、電子回路部品、抵抗体、キャパシタ、ダイオード、整流器、エレクトロルミネセントランプ、記憶素子、電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタ、単接合トランジスタ、ＭＯＳトランジスタ、金属絶縁体半導体トランジスタ、電荷結合デバイス、絶縁体−金属−絶縁体スタック、有機導体−金属−有機導体スタック、集積回路、光検出器、レーザー、レンズ、導波路、格子、ホログラフィック素子、フィルター（例えば、アド−ドロップフィルター、利得等化フィルター、カットオフフィルター等）、鏡、スプリッタ、カップラー、コンバイン、変調器、センサー（例えば、エバネッセントセンサー、位相変調センサー、干渉応用センサー等）、光共振器、ピエゾデバイス、強誘電デバイス、薄膜電池、またはそれらの組合せ、例えば、光ディスプレイのための能動マトリクスアレイとしての電界効果トランジスタと有機エレクトロルミネセントランプとの組合せを形成することができる。多成分転写ユニットおよび／または単一層を転写することによって他の品目を形成してもよい。

転写層をドナー要素から、近接して配置された受容基板に選択的に熱転写することができる。多層構成が単一ドナーシートを用いて転写されるように、必要ならば、２つ以上の転写層があってもよい。受容基板は、ガラス、透明なフィルム、反射フィルム、金属、半導体、およびプラスチックなどがあるがそれらに限定されない特定の用途に適したいずれの品目であってもよい。例えば、受容基板は、ディスプレイ用途、例えば、発光型ディスプレイ、透過ディスプレイ、半透過ディスプレイ、エレクトロフェレティックディスプレイ等に適した基板またはディスプレイ要素のいずれのタイプであってもよい。液晶ディスプレイまたは発光型ディスプレイなどのディスプレイに使用するために適した受容基板には、可視光線に対してほとんど透過性である硬質または可撓性の基板がある。適した硬質受容体の例には、インジウムスズ酸化物でコーティングまたはパターン化されるかまたは低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）または有機トランジスタなどの他のトランジスタ構造物で回路形成されているガラスおよび硬質プラスチックがある。

適した可撓性の基板には、ほとんど透明なおよび透過ポリマーフィルム、反射フィルム、半透過フィルム、偏光フィルム、多層光学フィルム、金属フィルム、金属シート、金属箔などがある。可撓性の基板はまた、電極材料またはトランジスタ、例えば、可撓性の基板上に直接に形成されるかまたは仮キャリア基板上に形成された後に可撓性の基板に転写されたトランジスタアレイでコーティングまたはパターン化されてもよい。適したポリマー基板には、ポリエステル塩基（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニル樹脂（例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタールなど）、セルロースエステル塩基（例えば、セルローストリアセテート、セルロースアセテート）、および支持体として用いられる他の通常のポリマーフィルムがある。有機エレクトロルミネセントデバイスをプラスチック基板上に作製するために、バリアフィルムまたはコーティングをプラスチック基板の一方または両方の表面に含有して有機発光デバイスおよびそれらの電極を望ましくないレベルの水、酸素等への暴露から保護することがしばしば望ましい。

受容基板を電極、トランジスタ、キャパシタ、絶縁リブ、スペーサー、カラーフィルター、ブラックマトリクス、正孔輸送層、電子輸送層の他、電子ディスプレイまたは他のデバイスのために有用な他の要素のいずれか１つ以上で予備パターン化することができる。

エレクトロルミネセントデバイスの製造方法は、図１のエレクトロルミネセントデバイス１０を参照して記載される。デバイス１０のエレクトロルミネセント素子２０は、任意の適した技術、例えば、本明細書に記載されたようなＬＩＴＩパターン化を用いて基板１２の主面１４上に形成される。本明細書に同様に記載されるように色変換要素３０はエレクトロルミネセント素子２０に選択的に熱転写される。色変換要素３０は、色変換要素３０が第２の電極２６上にあるようにエレクトロルミネセント素子２０に転写されてもよい。あるいは、本明細書にさらに記載されるように色変換要素３０は、エレクトロルミネセント素子２０の少なくとも一部の上に形成される保護層（図示せず）に転写されてもよい。いくつかの実施形態において、ブラックマトリクスがエレクトロルミネセント素子２０上に形成されてもよく、次いで、本明細書にさらに記載されるように色変換要素３０がブラックマトリクスの開口に転写されてもよい。

図２は、エレクトロルミネセントデバイス１００の別の実施形態の略図である。エレクトロルミネセントデバイス１００は、図１のエレクトロルミネセントデバイス１０に多くの点において似ている。図２に示された実施形態において、エレクトロルミネセントデバイス１００は、基板１１２と、基板１１２の主面１１４上に形成されたエレクトロルミネセント素子１２０と、保護層１４０上に形成された色変換要素１３０ａおよび１３０ｂ（以降、一括して色変換要素１３０と称される）とを備える。エレクトロルミネセント素子１２０は、第１の電極１２２と、第２の電極１２６と、第１の電極１２２と第２の電極１２６との間に位置決めされた１つ以上のデバイス層１２４とを備える。図１に示された実施形態の基板１２、エレクトロルミネセント素子２０、および色変換要素３０に対して本明細書に記載された設計の問題および可能性の全てが、図２に示された実施形態の基板１１２、前記エレクトロルミネセント素子１２０、および色変換要素１３０に等しく当てはまる。

エレクトロルミネセントデバイス１００はまた、エレクトロルミネセント素子１２０の少なくとも一部の上に形成された保護層１４０を備える。保護層１４０は、エレクトロルミネセント素子１２０上に、かつ接触して形成されてもよい。あるいは、任意選択の層がエレクトロルミネセント素子１２０と保護層１４０との間に含有されてもよい。

保護層１４０は、エレクトロルミネセント素子１２０、例えば、バリア層、封入剤層等を保護するいずれの適したタイプの層であってもよい。保護層１４０は、例えば、米国特許出願公開第２００４／０１９５９６７号明細書（パディヤス（Ｐａｄｉｙａｔｈ）ら）および米国特許第６，５２２，０６７号明細書（グラフ（Ｇｒａｆｆ）ら）に記載されているように、いずれの適した材料を用いて形成されてもよい。

色変換要素１３０は、保護層１４０の主面１４２に転写される。図１のエレクトロルミネセントデバイス１０の色変換要素３０に関して本明細書に記載されたように、エレクトロルミネセントデバイス１００の色変換要素１３０は、いずれかの適した技術、例えば、コーティング（例えば、スピンコーティング）、印刷（例えば、スクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理的または化学蒸着、フォトリソグラフィ、および熱転写方法（例えば、米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載された方法）を用いて形成されてもよい。本明細書に記載されたようなＬＩＴＩ技術を用いて色変換要素１３０が保護層１４０に転写されるのが好ましい場合がある。

例えば、ブラックマトリクス、カラーフィルター要素等の他の要素がエレクトロルミネセント素子または保護層上に形成されてもよい。例えば、図３は、エレクトロルミネセントデバイス２００の別の実施形態の略図である。エレクトロルミネセントデバイス２００は、図１のエレクトロルミネセントデバイス１０および図２のエレクトロルミネセントデバイス１００に多くの点において似ている。エレクトロルミネセントデバイス２００は、基板２１２と、基板２１２の主面２１４上に形成されたエレクトロルミネセント素子２２０と、エレクトロルミネセント素子２２０上に形成された色変換要素２３０ａおよび２３０ｂ（以降、一括して色変換要素２３０と称される）と、を備える。エレクトロルミネセント素子２２０は、第１の電極２２２と、第２の電極２２６と、第１の電極２２２と第２の電極２２６との間に位置決めされた１つ以上のデバイス層２２４とを備える。図１に示された実施形態の基板１２、エレクトロルミネセント素子２０、および色変換要素３０に対して本明細書に記載された設計の問題および可能性の全てが、図３に示された実施形態の基板２１２、エレクトロルミネセント素子２２０、および色変換要素２３０に等しく当てはまる。

エレクトロルミネセントデバイス２００は、エレクトロルミネセント素子２２０上に形成された任意選択のブラックマトリクス２６０をさらに備える。ブラックマトリクス２６０は、複数の開口２６２ａ、２６２ｂ、および２６２ｃ（以降、一括して開口２６２と称される）を備える。図３に示された実施形態は３つの開口２６２ａ、２６２ｂ、および２６２ｃを備えるが、ブラックマトリクス２６０は任意の適した数の開口２６２を備えることができる。各開口２６２はいずれの適した形状、例えば、楕円、矩形、多角形等をとってもよい。

概して、ブラックマトリクスコーティングは、周辺光を吸収し、コントラストを改良し、そしてＴＦＴを保護するために多くのディスプレイ用途において用いられる。ブラックマトリクス２６０（典型的に吸収性または非反射性金属、金属酸化物、金属硫化物、染料または顔料など）は、ディスプレイの単独ピクセル、色変換要素、またはカラーフィルターの周りに形成される。多くのディスプレイにおいて、ブラックマトリクス２６０は、ディスプレイ基板上の黒色酸化クロムの０．１〜０．２μｍコーティングである。樹脂ブラックマトリクス（樹脂マトリクス中の顔料）は、黒色酸化クロムに代わる選択肢である。樹脂ブラックマトリクスをディスプレイ基板またはエレクトロルミネセントデバイス上にコーティングすることができ、次いでフォトリソグラフィを用いてパターン化することができる。薄い樹脂ブラックマトリクスコーティングの高い光学濃度を達成するために、フォトリソグラフィを用いてパターン化することが難しいことがある、比較的高い顔料添加量を使用することが典型的に必要である。あるいは、米国特許第６，４６１，７７５号明細書（ポコーニィ（Ｐｏｋｏｒｎｙ）ら）に記載されたような熱転写方法を用いてブラックマトリクス２６０をドナーシートからデバイスに転写することができる。

いくつかの実施形態において、本明細書に記載されたようないずれかの適した技術を用いて各色変換要素２３０を任意選択のブラックマトリクス２６０の開口２６２に転写するように、色変換要素２３０をエレクトロルミネセント素子２２０に転写してもよい。例えば、色変換要素２３０ａをブラックマトリクス２６０の開口２６２ａに転写することができる。

エレクトロルミネセントデバイス２００は、カラーフィルター２５０ａ、２５０ｂ、および２５０ｃ（以降、一括してカラーフィルター２５０と称される）をさらに備える。カラーフィルター２５０は、１つ以上の色変換要素２３０上に形成されてもよい。例えば、カラーフィルター２５０ａは、カラーフィルター２５０ａが色変換要素２３０ａと光学結合状態であるように色変換要素２３０ａ上に形成される。１つ以上のカラーフィルター２５０が１つ以上の色変換要素２３０上に形成されているように示されるが、１つ以上の層またはデバイスがこのようなカラーフィルター２５０と色変換要素２３０との間に含有されてもよい。色変換要素２３０ａによって放射された光の少なくとも一部がカラーフィルター２５０ａ上に入射し、光がカラーフィルター２３０ａを通してフィルターされる。同様に、カラーフィルター２５０ｂは色変換要素２３０ｂ上に形成される。いくつかの実施形態において、色変換要素と共にカラーフィルターを提供することによって、より飽和されている放射光を提供することができる。

さらに、１つ以上のカラーフィルター２５０がエレクトロルミネセントデバイス２２０上に形成されてもよい。例えば、カラーフィルター２５０ｃは、エレクトロルミネセント素子２２０と光学結合状態であるように、任意選択のブラックマトリクス２６０の開口２６２ｃにエレクトロルミネセント素子２２０の第２の電極２２６上に形成される。いくつかの実施形態において、エレクトロルミネセントデバイスによって放射された青色光がより飽和されるように、フィルターされた青色光を提供することができるカラーフィルター要素が、青色光を放射するエレクトロルミネセント素子上に形成されてもよい。さらに、色変換要素とカラーフィルターとの両方を使用することによって、周辺青色光からの蛍光を低減または除くことができ、従って、ディスプレイのコントラストを増加させることができる。

任意の適した材料、例えば、米国特許第５，５２１，０３５号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載された材料を用いてカラーフィルター２５０を形成してもよい。いくつかの実施形態において、エレクトロルミネセント素子２２０が、紫外線を放射することができるように形成される場合、カラーフィルター２５０は、紫外線がエレクトロルミネセントデバイス２００によって放射されないようにするのを助ける１つ以上の紫外線吸収剤を含有することが好ましい場合がある。さらに、カラーフィルター２５０は、いずれの適した技術、例えば、コーティング（例えば、スピンコーティング）、印刷（例えば、スクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理的または化学蒸着、フォトリソグラフィ、および熱転写方法（例えば、米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載された方法）を用いて形成されてもよい。本明細書にさらに記載されるようなＬＩＴＩ技術を用いてカラーフィルター２５０が形成されることが好ましい場合がある。

いくつかの実施形態において、例えば、米国特許第６，４８５，８８４号明細書（ウルク（Ｗｏｌｋ）ら）および米国特許第５，６９３，４４６号明細書（スタラル（Ｓｔａｒａｌ）ら）にさらに記載されているように、１つ以上の基板２１２、１つ以上のデバイス層２２４、色変換要素２３０、およびカラーフィルター２５０を構成して偏光を生じさせてもよい。

本明細書に記載されているように、エレクトロルミネセントデバイスは、上面発光（例えば、図１のエレクトロルミネセントデバイス１０）または下面発光のどちらであってもよい。下面発光デバイスの１つのこのような実施形態が図４に示されるが、それはエレクトロルミネセントデバイス３００の別の実施形態の略図である。エレクトロルミネセントデバイス３００は図１のエレクトロルミネセントデバイス１０に多くの点において似ている。エレクトロルミネセントデバイス３００は、基板３１２と、基板３１２の第１の主面３１４上に形成されたエレクトロルミネセント素子３２０とを備える。エレクトロルミネセント素子３２０は、第１の電極３２２と、第２の電極３２６と、第１の電極３２２と第２の電極３２６との間に位置決めされた１つ以上のデバイス層３２４とを備える。

エレクトロルミネセントデバイス３００と図１のエレクトロルミネセントデバイス１０との間の１つの相違は、デバイス３００が下面発光エレクトロルミネセントデバイスであるということである。この実施形態において、色変換要素３３０ａおよび３３０ｂ（以降、一括して色変換要素３３０と称される）は、色変換要素３３０がエレクトロルミネセント素子３２０と光学結合状態であるように基板３１２の第２の主面３１６上に形成される。換言すれば、エレクトロルミネセント素子３２０によって放射された光の少なくとも一部が基板３１２を通過し、少なくとも１つの色変換要素３３０に入射する。２つだけの色変換要素３３０が示されているが、エレクトロルミネセントデバイス３００は、任意の適した数の色変換要素、例えば、赤色および緑色、赤色、緑色、青色等を備えてもよい。さらに、エレクトロルミネセントデバイス３００は、例えば、図３のエレクトロルミネセントデバイス２００を参照して本明細書に記載されているように、１つ以上の色変換要素と光学結合状態の、またはエレクトロルミネセント素子と光学結合状態の少なくとも１つのカラーフィルターを備えてもよい。さらに、エレクトロルミネセントデバイス３００は、本明細書にさらに記載されるような基板３１２の第２の主面３１６上に形成されたブラックマトリクスを備えてもよい。

図１の基板１２、エレクトロルミネセント素子２０、および色変換要素３０に対して本明細書に記載された設計の問題および可能性の全てが、図４に示された実施形態の同様な要素に等しく当てはまる。

本発明の具体的な実施形態が記載され、本発明の範囲内で可能な変型に対して参照がなされている。本発明のこれらおよび他の変型および変更が本発明の範囲から逸脱することなく実施できることは、当業者には明白であろう。本発明は、ここに示した具体的な実施形態に限定されるものではないことは理解されるはずである。したがって、本発明は、以下に提供される特許請求の範囲によってのみ限定されるものとする。

エレクトロルミネセント素子上に形成された色変換要素を備える上面発光エレクトロルミネセントデバイスの１つの実施形態の略図である。 保護層上に形成された色変換要素を備える上面発光エレクトロルミネセントデバイスの別の実施形態の略図である。 エレクトロルミネセント素子上に形成された色変換要素と前記色変換要素の１つ以上の上に形成されたカラーフィルターとを備える上面発光エレクトロルミネセントデバイスの別の実施形態の略図である。 基板上に形成された色変換要素を備える下面発光エレクトロルミネセントデバイスの実施形態の略図である。

Claims (42)

1. 狭帯域で発光することができるエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程と、
   複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程と、
   を含む、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法。
2. 前記複数の色変換要素を選択的に熱転写する工程が、
   基層と、光−熱変換層と、転写層とを含むドナーシートを提供する工程と、
   前記転写層が前記エレクトロルミネセント素子に近接しているように、前記ドナーシートを位置決めする工程と、
   前記ドナーシートの一部を選択的に照射して、前記転写層の一部を前記ドナーシートから前記エレクトロルミネセント素子に熱転写する工程と、
   を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記転写層が、少なくとも１つの色変換材料を含む、請求項２に記載の方法。
4. 前記少なくとも１つの色変換材料が燐光物質を含む、請求項３に記載の方法。
5. ブラックマトリクスを前記エレクトロルミネセント素子上に形成する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
6. 前記ブラックマトリクスを形成する工程が、前記ブラックマトリクスを前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程を含む、請求項５に記載の方法。
7. 前記ブラックマトリクスが複数の開口を含む、請求項５に記載の方法。
8. 複数の色変換要素を選択的に熱転写する工程が、前記複数の色変換要素の各色変換要素が前記ブラックマトリクスの前記複数の開口の１つの開口に転写されるように、複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程を含む、請求項７に記載の方法。
9. 前記基板が複数の独立にアドレス可能な能動デバイスを含む、請求項１に記載の方法。
10. 前記エレクトロルミネセント素子が有機発光材料を含む、請求項１に記載の方法。
11. 前記有機発光材料が発光ポリマーを含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記エレクトロルミネセント素子が青色光を放射することができる、請求項１に記載の方法。
13. 少なくとも１つのカラーフィルターを前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素に選択的に熱転写する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
14. 前記少なくとも１つのカラーフィルターが顔料または染料を含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が燐光物質を含む、請求項１に記載の方法。
16. 前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が、前記エレクトロルミネセント素子から放射された光を赤色光に変換することができ、さらに、前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が、前記エレクトロルミネセント素子から放射された光を緑色光に変換することができる、請求項１に記載の方法。
17. 狭帯域で発光することができるエレクトロルミネセント素子を基板の第１の主面上に形成する工程と、
    複数の色変換要素を前記基板の第２の主面に選択的に熱転写する工程と、
    を含む、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法。
18. 複数の色変換要素を選択的に熱転写する工程が、
    基層と、光−熱変換層と、転写層とを含むドナーシートを提供する工程と、
    前記転写層が前記基板の前記第２の主面に近接しているように、前記ドナーシートを位置決めする工程と、
    前記ドナーシートの一部を選択的に照射して、前記転写層の一部を前記ドナーシートから前記基板の前記第２の主面に熱転写する工程と、
    を含む、請求項１７に記載の方法。
19. ブラックマトリクスを前記基板の前記第２の主面上に形成する工程をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
20. 前記ブラックマトリクスが複数の開口を含む、請求項１９に記載の方法。
21. 複数の色変換要素を選択的に熱転写する工程が、前記複数の色変換要素の各色変換要素が前記ブラックマトリクスの前記複数の開口の１つの開口に転写されるように、複数の色変換要素を前記基板の前記第２の主面に選択的に熱転写する工程を含む、請求項２０に記載の方法。
22. 前記基板が、複数の独立にアドレス可能な能動デバイスを含む、請求項１７に記載の方法。
23. 前記エレクトロルミネセント素子が有機発光材料を含む、請求項１７に記載の方法。
24. 前記有機発光材料が発光ポリマーを含む、請求項２３に記載の方法。
25. 前記エレクトロルミネセント素子が青色光を放射することができる、請求項１７に記載の方法。
26. 少なくとも１つのカラーフィルターを前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素に選択的に熱転写する工程をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
27. 前記少なくとも１つのカラーフィルターが顔料または染料を含む、請求項２６に記載の方法。
28. 前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が燐光物質を含む、請求項１７に記載の方法。
29. 前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が、前記エレクトロルミネセント素子から放射された光を赤色光に変換することができ、さらに、前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が、前記エレクトロルミネセント素子から放射された光を緑色光に変換することができる、請求項１７に記載の方法。
30. 狭帯域で発光することができるエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程と、
    保護層を前記エレクトロルミネセント素子の少なくとも一部の上に形成する工程と、
    複数の色変換要素を前記保護層に選択的に熱転写する工程と、
    を含む、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法。
31. 前記保護層が誘電体材料を含む、請求項３０に記載の方法。
32. 前記少なくとも１つのエレクトロルミネセントデバイスを基板上に形成する工程を含み、前記少なくとも１つのエレクトロルミネセントデバイスを形成する工程が、
    狭帯域で発光することができるエレクトロルミネセント素子を前記基板上に形成する工程と、
    複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程と、
    を含む、少なくとも１つのエレクトロルミネセントデバイスを含むエレクトロルミネセントカラーディスプレイの製造方法。
33. 紫外線を放射することができるエレクトロルミネセント素子を基板上に形成する工程と、
    複数の色変換要素を前記エレクトロルミネセント素子に選択的に熱転写する工程と、
    を含む、エレクトロルミネセントデバイスの製造方法。
34. 基板と、
    前記基板上にあって、狭帯域で発光することができるエレクトロルミネセント素子と、
    前記エレクトロルミネセント素子上の複数の色変換要素と、
    前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素上の少なくとも１つのカラーフィルターと、
    を含むエレクトロルミネセントデバイス。
35. 前記複数の色変換要素の少なくとも１つの色変換要素が燐光物質を含む、請求項３４に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
36. 前記エレクトロルミネセント素子上にブラックマトリクスをさらに含む、請求項３４に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
37. 前記ブラックマトリクスが複数の開口を含む、請求項３６に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
38. 前記基板が、複数の独立にアドレス可能な能動デバイスを含む、請求項３４に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
39. 前記エレクトロルミネセント素子が有機発光材料を含む、請求項３４に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
40. 前記有機発光材料が発光ポリマーを含む、請求項３９に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
41. 前記エレクトロルミネセント素子が青色光を放射することができる、請求項３４に記載のエレクトロルミネセントデバイス。
42. 前記少なくとも１つのカラーフィルターが顔料または染料を含む、請求項３４に記載のエレクトロルミネセントデバイス。

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