JP2007309703A - Inspection method of pixel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、画像処理によって検査対象物を検査するための検査方法に関し、より詳しくは、あらかじめ生成された基準データと検査データとを比較することによって検査対象物の形成状態を検査するようにしたピクセルの検査方法に関する。 The present invention relates to an inspection method for inspecting an inspection object by image processing, and more specifically, an inspection object formation state is inspected by comparing reference data generated in advance with inspection data. The present invention relates to a pixel inspection method.
一般に、プリント基板の表面に形成されたパッドや配線パターン、レジストなどは、検査装置によって自動的に検査される。このプリント基板の形成状態を検査する検査装置に関しては、例えば、下記の特許文献1に記載されるような装置が存在する。
In general, pads, wiring patterns, resists and the like formed on the surface of a printed circuit board are automatically inspected by an inspection apparatus. As an inspection apparatus for inspecting the formation state of the printed circuit board, for example, there is an apparatus described in
例えば、下記の特許文献1に記載される検査装置について説明すると、この検査装置は、複数の基準パターンをそれぞれ撮像し、基準データ記憶部に基準パターンにおける各ピクセル毎に輝度上限基準値及び輝度下限基準値から構成される基準データを格納する。そして、検査対象物を検査する場合は、検査パターンの画像を撮像し、基準パターンの画像と位置合わせをした後、一次判定部にて、検査画像データの各ピクセルの輝度値が基準データの輝度上限基準値と輝度下限基準値の範囲内にあるかどうかを判定し、そのピクセルが基準範囲を越える場合に欠陥候補のピクセルであると判定し、一方、基準範囲内に含まれている場合には良ピクセルであると判定するものである。
しかしながら、このような検査装置を用いて検査する場合、次のような問題を生ずる。例えば、上述のような基準パターンと検査パターンのピクセルを対応させて検査する方法では、基準パターンの画像と検査対象物のパターンの画像をピクセル単位まで位置合わせなければならず、光学的なずれや機械的なずれが存在する場合は、虚報が増えてしまう。また、精密な検査を行うために分解能を上げようとすると、さらにピクセル単位までの位置合わせが困難となり、分解能を上げても検査の精度を向上しないばかりでなく、許容輝度の上限値や下限値を決定する場合は、個々のピクセル毎に上限値や下限値を設定するのに手間が掛かってしまうという問題も生ずる。 However, when inspecting using such an inspection apparatus, the following problems occur. For example, in the method of inspecting the reference pattern and the inspection pattern pixel in correspondence with each other as described above, the image of the reference pattern and the image of the pattern of the inspection object must be aligned to the pixel unit. If there is a mechanical shift, the false alarm will increase. Also, if you try to increase the resolution to perform a precise inspection, it will be difficult to align to the pixel unit, and increasing the resolution will not improve the accuracy of the inspection, but will also increase the upper and lower limits of allowable luminance. Is determined, it takes time to set an upper limit value and a lower limit value for each pixel.
そこで、本発明は、かかる課題に着目してなされたもので、ピクセル単位の位置合わせが不要であり、また、光学的なずれや機械的なずれが存在していても虚報を生じさせないようにするとともに、ピクセル毎の輝度の上限値や下限値を容易に設定できるようにした検査方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made paying attention to such a problem, and does not require alignment in units of pixels, and does not generate false information even if there is an optical shift or a mechanical shift. In addition, an object is to provide an inspection method in which an upper limit value and a lower limit value of luminance for each pixel can be easily set.
すなわち、本発明は上記課題を解決するために、あらかじめ基準対象物となるピクセルの位置毎に、輝度と、許容輝度幅と、検査対象物の対応したピクセルを探索するための探索距離を記憶しておき、検査対象物における前記位置を基準とした探索距離内に許容輝度幅内のピクセルが存在している場合に、対応するピクセルが存在すると判定するようにしたピクセルの検査方法であって、あらかじめ各輝度毎に許容輝度幅を設定した許容輝度幅テーブルを作成しておき、基準対象物のピクセルの位置における輝度から許容輝度幅テーブルを参照して許容輝度幅を抽出し、検査対象物における当該位置を基準とする探索距離内に許容輝度幅内の輝度のピクセルが存在している場合に、基準対象物となるピクセルの位置に対応するピクセルが存在すると判定するようにしたものである。 That is, in order to solve the above-mentioned problem, the present invention stores in advance a luminance, an allowable luminance width, and a search distance for searching for a pixel corresponding to the inspection target for each position of the pixel serving as the reference target. A pixel inspection method for determining that a corresponding pixel exists when a pixel within an allowable luminance width exists within a search distance based on the position in the inspection object, An allowable luminance width table in which an allowable luminance width is set for each luminance is created in advance, and the allowable luminance width is extracted from the luminance at the pixel position of the reference object with reference to the allowable luminance width table. If a pixel with a luminance within the allowable luminance width exists within the search distance with the position as a reference, there is a pixel corresponding to the position of the pixel that is the reference object It is obtained so as to determine that that.
また、このような発明において、あらかじめ各輝度毎に探索距離を設定した探索距離テーブルを作成しておき、基準対象物のピクセル位置における輝度から探索距離テーブルを参照して探索距離を抽出し、検査対象物における当該位置を基準とする探索距離内に対応する輝度のピクセルが存在した場合に、基準対象物のピクセル位置に対応するピクセルが存在すると判定する。 In such an invention, a search distance table in which a search distance is set for each luminance is created in advance, and the search distance is extracted by referring to the search distance table from the luminance at the pixel position of the reference object, When there is a pixel having a luminance corresponding to the search distance with respect to the position in the object, it is determined that a pixel corresponding to the pixel position of the reference object exists.
また、この許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルを用いる場合、例えば、プリント基板のスルーホール、基板上のレジスト、パターン上のレジスト、シルク、パッドなどのように輝度の異なる検査領域毎に許容輝度幅や探索距離を変える。 In addition, when this allowable luminance width table or search distance table is used, for example, the allowable luminance width for each inspection area having different luminance such as a printed circuit board through-hole, a resist on the substrate, a resist on a pattern, silk, and a pad. And change the search distance.
このように、本発明によれば、探索距離内で対応するピクセルを探すので、検査対象物をピクセル単位までの位置合わせする必要がなくなる。また、輝度の異なる検査領域毎に適正な検査を行うことができるようになる。しかも、許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルを生成するだけで輝度の異なる検査領域毎に異なる基準で検査を行うことができるようになる。 As described above, according to the present invention, since the corresponding pixel is searched for within the search distance, it is not necessary to align the inspection object up to the pixel unit. In addition, an appropriate inspection can be performed for each inspection region having a different luminance. In addition, it is possible to perform inspection based on different standards for each inspection region having different luminance by simply generating an allowable luminance width table and a search distance table.
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は、本実施の形態におけるピクセルの良否判定の概要を示したものであり、基準対象物10の画像を基準として検査対象物11の対応するピクセルの有無を検査する例を示したものである。また、図2は、本実施の形態における検査装置1の機能ブロック図を示したものであり、図3は、各ピクセルの輝度毎の許容輝度幅や探索距離を設定するテーブルを示したものである。また、図4および図5は補正処理手段6によって検査対象物11の全体画像や矩形領域画像を補正処理する例を示したものであり、図6はこの検査方法における基準データの生成フローチャート、図7は検査処理のフローチャートを示したものである。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an outline of the pixel pass / fail judgment in the present embodiment, and shows an example in which the presence or absence of a corresponding pixel of the
この実施の形態における検査装置1は、プリント基板などの検査対象物11の表面画像を撮像する撮像手段2と、基準対象物10の基準データや許容輝度幅テーブル、探索距離テーブルを記憶する記憶手段5とを備えてなる。ここで、「基準対象物」とは、検査対象物11を検査するに際して基準となるデータ(基準データ)を生成するためのもので、目視もしくは他の検査装置などによって既に良品であると判定されたものである。検査対象物11の各ピクセルの良否を判定するに際しては、まず最初に、撮像された検査対象物11の画像を基準対象物10の画像にほぼ一致させるための補正処理を行う。そして、次に、基準対象物10に対応するピクセルの有無を判定する場合は、基準対象物10の各ピクセル位置に対応する補正処理された後の検査対象物11の位置(x,y)を特定し、その位置(x,y)を基準とする第一の探索距離d1内に基準対象物10の輝度a1に対する許容輝度幅α1内のピクセルが存在するか否かを判定する。また、今度は逆に、その検査対象物11の位置(x,y)に対応する基準対象物10の位置(x,y)を基準とする探索距離d2内に、その検査対象物11の輝度a2に対する許容輝度幅α2内のピクセルが存在するか否かを判定する。そして、それぞれの探索距離内に許容輝度幅に含まれるピクセルが存在している場合に、その基準対象物の位置(x,y)のピクセルが良ピクセル(すなわち、対応するピクセルが存在するピクセル)であると判定するようにしたものである。以下、この検査装置1の具体的構成について詳細に説明する。
The
この検査装置1は、図2に示すように撮像手段2、前処理手段3、画像メモリ30、基準データ生成手段4、記憶手段5、補正処理手段6、ピクセル判定手段7、クラスタ判定手段8、出力手段9を備えてなる。
As shown in FIG. 2, the
撮像手段2は、検査に際して基準対象物10や検査対象物11の表面画像を撮像するもので、この実施の形態では、256階調のグレースケールによりその表面画像を取得する。この撮像手段2は、斜め方向から光を照射する照射装置と、その反射光を真上から取得するCCDカメラなどによって構成される。
The imaging means 2 captures the surface images of the
前処理手段3は、この撮像手段2によって撮像された基準対象物10もしくは検査対象物11の画像をA/D変換し、画像メモリ30に格納する。
The preprocessing unit 3 performs A / D conversion on the image of the
基準データ生成手段4は、撮像手段2によって撮像された基準対象物10の画像から基準データを生成する。この基準データは、基準対象物10の全体形状に関するデータや、その内側の複数の矩形領域に関するデータ、各ピクセルに関するデータなどから構成される。ここで「全体形状に関するデータ」とは、プリント基板の縦横長などのデータであり、また「矩形領域に関するデータ」とは、矩形領域内のパターン画像などのデータであり、「各ピクセルに関するデータ」とは、輝度や許容輝度幅及び探索距離などのデータなどである。このピクセルに関するデータのうち許容輝度幅は、ピクセルの輝度の上限値と下限値との差(α)を示しており、また、探索距離は、所定のピクセル位置を基準として、許容輝度幅内のピクセルを探索するための距離を示している。この許容輝度幅や探索距離は、図3に示すような許容輝度幅テーブル(図3(a))や探索距離テーブル(図3(b))を参照して、スルーホール、基板上のレジスト、パターン上のレジスト、シルク、パッドなど輝度毎に設定される。図3(a)の許容輝度幅テーブルについて説明すると、例えば、高輝度領域に属するシルク内においては、あまり輝度が変化しないため、相対的に輝度変化の大きいパッドよりも許容輝度幅を小さく設定しておき、また、シルクの位置(図3(b))についてはパッドの位置よりも相対的に大きく変化するため、探索距離を大きく設定している。また、最高輝度領域に属するパッドについては、酸化の状態によって輝度が大きく変化するため、許容輝度幅を大きく設定しており、また、その位置については、あまり大きく変化しないため、探索距離を小さく設定している。これらの許容輝度幅と探索距離を設定する場合、あらかじめ基準対象物10である基準のプリント基板を複数枚用意しておき、これらのプリント基板の画像を取得して各プリント基板の対応するピクセルの距離と輝度を取得することによって行う。この距離と輝度の取得は自動で行うようにしてもよく、あるいは目視によって行うようにしてもよい。そして、この取得された距離や輝度から最も外れた値を除く距離や輝度を抽出し、これらの距離や輝度から探索距離や許容輝度幅を設定する。より具体的には、輝度や位置のほとんど変化しない部分については、許容輝度幅を±10、探索距離を1ピクセルと設定し、輝度や位置が大きく変化する部分については、許容輝度幅を±30、探索距離を3ピクセルなどと設定する。そして、このように複数枚の基準対象物10の画像を取得することによって、図3(a)に示すように、横軸を輝度とし、縦軸を許容輝度幅とした許容輝度幅テーブルを設定し、また、同様に、図3(b)に示すように、横軸を輝度、縦軸を探索距離とする探索距離テーブルを生成する。なお、図3(a)(b)においては、横軸の輝度の小さい領域から順に、「スルーホール」「基板上のレジスト」「パターン上のレジスト」「シルク」「パッド」の領域となっており、これらの領域毎にそれぞれ許容輝度幅や探索距離が設定される。
The reference data generation unit 4 generates reference data from the image of the
記憶手段5は、この基準データ生成手段4によって生成された許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルなどを含む基準データを格納する。
The
補正処理手段6は、撮像手段2によって撮像された検査対象物11の画像を、基準対象物10にほぼ一致させるための補正処理を行う。この補正処理における全体画像の補正の例を図4に示す。図4において、斜線で網掛けされた実線部分は基準対象物10を示し、破線は検査対象物11を示している。図4(a)に示すように、検査対象物11が基準対象物10よりも小さい場合は、全体形状をδx、δyだけ拡大させる補正処理を行い、また、検査対象物11が基準対象物10よりもδθだけ回転している場合は、その角度だけ回転させる補正処理を行う(図4(b))。また、検査対象物11が基準対象物10に対して平行にずれている場合は、そのずれ量だけ平行移動させる補正処理を行う(図4(c))。これらの補正処理は、例えば、検査対象物11がステージ上の正規の位置に固定されていない場合や、検査対象物11の寸法上に誤差が存在する場合などに有効となる。
The correction processing unit 6 performs correction processing for making the image of the
次に、この補正処理の別の態様を図5に示す。図5(a)は、基準対象物10のある矩形領域の画像を示したものであり、図5(b)は、検査対象物11の同じ位置における矩形領域を示したものである。図5(b)においては、図5(a)の配線パターンよりも右側に配線パターンがずれている。実際の製品では、図5(b)に示すように、検査対象物11のパッドや配線パターンなどが、基準対象物10のパッドや配線パターンなどよりも所定方向にずれている場合がある。このような場合に、検査対象物11の矩形領域内の画像を基準対象物10にほぼ一致させるような平行移動処理を行う。これらの補正処理を行うことにより、検査対象物11のパッドや配線パターンなどと基準対象物10のパッドや配線パターンなどとをほぼ一致させることにより、あまり探索距離を大きくしなくても許容輝度幅内のピクセルを見つけることができる。すなわち、本来ならば、補正前のずれた画像の対応する位置まで探索距離を広げてピクセルを見つけ出さなければならないところを、狭い探索距離で対応するピクセルを見つけ出すことができ、これによって、無関係なピクセルでたまたま輝度が一致するものを「対応するピクセル」であると判定してしまうことを防止させる。
Next, another aspect of this correction processing is shown in FIG. FIG. 5A shows an image of a rectangular area where the
ピクセル判定手段7は、基準対象物10の各ピクセルに対応するピクセルが検査対象物11に存在するか否かを判定するもので、次に示すような第一のピクセル判定手段70と第二のピクセル判定手段71を備える。
The pixel determination means 7 determines whether or not a pixel corresponding to each pixel of the
まず、第一のピクセル判定手段70は、基準対象物10を基準として、その基準対象物10の各ピクセル位置(x,y)に対応する検査対象物11の位置(x,y)を特定するとともに、基準対象物10における位置(x,y)の輝度a1を読み出す。そして、その輝度a1をもとに、許容輝度幅テーブルと探索距離テーブルを参照し、その読み出された探索距離d1内に、基準対象物10のピクセルの輝度a1に対する許容輝度幅α1内のピクセルが存在するか否かを判定する。この判定に際しては、探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが一つでも存在する場合は、「良ピクセル」(すなわち、「対応ピクセルが存在する」)と判定し、逆に、探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが全く存在しない場合は「不良ピクセル」(すなわち、「対応ピクセルが存在しない」)と判定する。通常、補正処理手段6によって基準対象物10と検査対象物11を完全に一致させることができれば、基準対象物10のピクセル位置(x,y)に対応する検査対象物11の位置(x,y)のピクセルを検査すれば良いが、実際には、光学的なずれや機械的なずれが存在することから、完全に一致させることが困難で、また、分解能を上げた場合は数ピクセル程度ずれる可能性がある。このため、探索距離d1内においてほぼ輝度の一致するものが存在すれば、一次的判断として「良ピクセル」と判定する。この第一のピクセル判定手段70による判定結果は、ディスプレイ装置などに可視的に表示され、例えば、「不良ピクセル」と判定された部分には、基準対象物10の画像上に「×」印などを示す。
First, the first
第二のピクセル判定手段71は、今度は逆に、検査対象物11を基準として、基準対象物10のピクセルの位置(x,y)の輝度a2を抽出し、記憶手段5に記憶されている許容輝度幅テーブルと探索距離テーブルを参照して、その探索距離d2内に、検査対象物11のピクセルの輝度a2に対する許容輝度幅α2内のピクセルが一つでも存在するか否かを判定する。この判定に際しても、探索距離d2内に許容輝度幅α2内のピクセルが一つでも存在する場合は、「良ピクセル」と判定し、逆に、探索距離d2内に許容輝度幅α2内のピクセルが全く存在しない場合は「不良ピクセル」と判定する。この検査対象物11を基準として比較処理を行う場合、前述の補正処理された後の検査対象物11の画像を用いる。そして、補正処理された後の検査対象物11の位置(x,y)の輝度a2から許容輝度幅α2と探索距離d2を記憶手段5から読み出し、基準対象物10における位置(x,y)の探索距離d2内に輝度a2の許容輝度幅α2内のピクセルが存在するか否かを判定する。この第二の判定結果は、先の第一の判定結果と同様に、ディスプレイ装置に可視的に表示され、第一のピクセル判定手段70による判定画像に上書きして、「不良ピクセル」と判定された部分に「×」印などを示していく。
On the contrary, the second pixel determination means 71 extracts the luminance a 2 of the pixel position (x, y) of the
そして、最後に、ピクセル判定手段7は、検査対象物11の探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが一つでも存在すること、及び、基準対象物10の探索距離d2内に許容輝度幅α2内のピクセルが一つでも存在することを条件に、その基準対象物10の位置(x,y)に存在するピクセルを良ピクセルと判定する。また、逆に、検査対象物11の探索距離d2内に許容輝度幅α2内のピクセルが全く存在しない場合、もしくは、基準対象物10の探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが全く存在しない場合は、その基準対象物10の位置に存在するピクセルを不良ピクセルと判定する。
Finally, the pixel determination means 7 determines that there is at least one pixel within the allowable luminance width α 1 within the search distance d 1 of the
クラスタ判定手段8は、このピクセル判定手段7によって「不良ピクセル」と判定された基準対象物10のピクセル群の大きさに基づいて、その検査対象物11が全体として不良品であるか否かを判定する。この良否の判定は、「不良ピクセル」と判定されたピクセルが隣接して所定数以上存在する場合に、不良品であると判定する。
Based on the size of the pixel group of the
出力手段9は、このクラスタ判定手段8による判定結果を報知可能に出力する。その際、どの部分が不良のクラスタであるかをユーザに知らせる必要があるため、クラスタ判定手段8によって不良クラスタと判定されたクラスタの位置をディスプレイ装置に可視的に出力する。 The output means 9 outputs the determination result by the cluster determination means 8 so that it can be notified. At this time, since it is necessary to inform the user which part is a defective cluster, the position of the cluster determined to be a defective cluster by the cluster determination means 8 is visually output to the display device.
次に、このように構成された検査装置1を用いて検査対象物11を検査する方法について説明する。
Next, a method for inspecting the
<基準データの生成フロー> <Standard data generation flow>
まず、検査対象物11を検査するに際して基準データを生成する場合のフローチャートを図6に示す。基準データを生成する場合、まず、あらかじめ用意された複数の基準対象物10を検査装置1の図示しないステージ上にセットし、撮像手段2を用いて複数枚の画像を取得する(ステップS1)。そして、所定枚以上の基準対象物10の画像が取り込まれた場合、基準対象物10毎に、それぞれ全体領域に関するデータ、矩形領域に関するデータ、ピクセルに関するデータを生成し(ステップS2)、複数の基準対象物10について、全体領域に関するデータの平均値や、矩形領域に関するデータの平均値を演算する(ステップS3)。また、各ピクセルについては、複数の基準対象物10の対応するピクセルの輝度や位置から許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルを生成する(ステップS4)。
First, FIG. 6 shows a flowchart for generating reference data when inspecting the
そして、ステップ4で生成された許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルに基づいて、各ピクセル毎に輝度に対応した許容輝度幅や探索距離を設定し(ステップS5)、記憶手段5に格納する(ステップS6)。 Then, based on the allowable luminance width table and search distance table generated in step 4, an allowable luminance width and search distance corresponding to the luminance are set for each pixel (step S5) and stored in the storage means 5 (step S5). S6).
<検査対象物11の検査フロー>
<Inspection flow of
次に、検査対象物11を検査する場合のフローチャートを図7に示す。まず、検査対象物11を検査する場合、その検査対象物11を検査装置1のステージ上にセットし、撮像手段2を用いてその表面の画像を取得する(ステップT1)。この撮像された画像は、ステージ上へのセットの仕方によっては、ずれている可能性があるため、基準対象物10と検査対象物11の画像をほぼ一致させるための補正処理を行う(ステップT2)。この補正処理を行うに際しては、まず、全体領域における形状の補正処理を行う。具体的には、検査対象物11上のコーナーの3点を抽出し、その3点から検査対象物11の縦横の長さ、回転角度、平行移動距離などを演算する。そして、これらの縦横長さや回転角度、平行移動距離などに基づいて、検査対象物11の全体領域を基準データの全体画像にほぼ一致させるための補正処理を行う。
Next, a flowchart for inspecting the
次の補正処理として、図5に示すように、矩形領域の補正処理を行う。この矩形領域の補正処理を行う場合、基準対象物10の所定の矩形領域の画像と検査対象物11の対応する矩形領域の画像とがほぼ一致するように検査対象物11の画像を平行移動させる。
As the next correction process, as shown in FIG. 5, a rectangular area correction process is performed. When this rectangular area correction processing is performed, the image of the
そして、これらの補正処理が終了した後、基準対象物10の各ピクセルの位置に対応するピクセルが存在するか否かの検査を行う。この検査に際しては、まず、基準対象物10の各ピクセル位置(x,y)の輝度a1から許容輝度幅テーブルと探索距離テーブルを参照して許容輝度幅α1と探索距離d1を読み出す(ステップT3)。そして、そのピクセル位置(x,y)を基準として、その読み出された探索距離d1内に、基準対象物10のピクセルの輝度a1に対する許容輝度幅α1内の輝度のピクセルが存在するか否かを判定する(ステップT4)。この判定は第一のピクセル判定手段70によって行われる。ここで、探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが一つも存在しない場合は、その基準対象物10の位置のピクセルを「不良ピクセル」であると判定する(ステップT8)。
And after these correction processes are complete | finished, it is test | inspected whether the pixel corresponding to the position of each pixel of the reference |
一方、探索距離d1内に許容輝度幅α1内のピクセルが存在する場合は、その基準対象物10の位置のピクセルを「良ピクセル」であると判定し、次に、今度は逆に、補正処理された後の検査対象物11の画像を基準として、その検査対象物11の位置(x,y)に対応する基準対象物10の輝度a2を抽出し、許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルを参照して探索距離d2と許容輝度幅α2を抽出する(ステップT5)。そして、基準対象物10における位置(x,y)を基準とする探索距離d2内に許容輝度幅α2内のピクセルが存在するか否かを判定する(ステップT6)。この判定は第二のピクセル判定手段71によって行われ、その探索距離d2内に許容輝度幅α2内の輝度のピクセルが一つも存在しない場合、その基準対象物10の位置のピクセルを「不良ピクセル」と判定する(ステップT8)。
On the other hand, if there is a pixel within the allowable luminance width α 1 within the search distance d 1 , it is determined that the pixel at the position of the
一方、ステップT4で、探索距離d2内に許容輝度幅α2内の輝度のピクセルが存在していると判定され、かつ、ステップT6で「良ピクセル」と判定された場合には、その基準対象物10の位置に対するピクセルを「良ピクセル」と判定する(ステップT7)。
On the other hand, if it is determined in step T4 that a pixel having a luminance within the allowable luminance width α 2 exists within the search distance d 2 and it is determined that the pixel is “good pixel” in step T6, the reference The pixel for the position of the
このような処理を繰り返すことにより、基準対象物10における全位置でのピクセル検査が終了すると(ステップT9:Yes)、次の処理として、「不良ピクセル」と判定された基準対象物10のピクセルのうち、隣接する不良ピクセルの数をカウントする。として、所定数以上の不良ピクセルの存在する場合は(ステップT10)、この検査対象物11は不良品である旨の出力を行い(ステップT11)、一方、全ての隣接する不良ピクセルの数が所定数よりも少ない場合は良品である旨の出力を行う(ステップT12)。
By repeating such processing, when the pixel inspection at all positions in the
このように上記実施の形態によれば、あらかじめ基準対象物10におけるピクセルの位置毎に、輝度と、許容輝度幅と、探索距離を記憶しておき、検査対象物11を検査する場合に、基準対象物10の各ピクセル位置に対応する検査対象物11の位置を基準とする第一の探索距離d1内に第一の許容輝度幅α1内のピクセルが存在するか否かを判定するようにしたので、従来のように基準対象物と検査対象物をピクセル単位まで正確に位置合わせする必要がなく、分解能を上げても光学的なずれや機械的なずれなどを吸収して精度良い検査を行うことができるようになる。
As described above, according to the above embodiment, the luminance, the allowable luminance width, and the search distance are stored in advance for each pixel position in the
しかも、各ピクセルでの許容輝度幅や探索距離を設定する場合、あらかじめ輝度毎に許容輝度幅や探索距離を設定した許容輝度幅テーブルと探索距離テーブルを生成しておき、基準対象物のピクセル位置における輝度から許容輝度幅テーブルや探索距離テーブルを参照して許容輝度幅と探索距離を抽出するようにしたので、プリント基板のスルーホール、基板上のレジスト、パターン上のレジスト、シルク、パッドなどのように輝度の異なる部位毎に適正な検査を行うことができるようになる。しかも、テーブルによって許容輝度幅や探索距離を一括して変更することができるため、個々のピクセル毎に都度許容輝度幅や探索距離を設定する必要がなくなり、簡単に許容輝度幅や探索距離の設定を行うことができる。 In addition, when setting the allowable luminance width and the search distance for each pixel, an allowable luminance width table and a search distance table in which the allowable luminance width and the search distance are set in advance for each luminance are generated, and the pixel position of the reference target object is generated. The allowable luminance width and the search distance are extracted from the luminance at the reference with reference to the allowable luminance width table and the search distance table, so that the through hole of the printed circuit board, the resist on the substrate, the resist on the pattern, silk, pad, etc. Thus, an appropriate inspection can be performed for each part having different luminance. In addition, the allowable luminance width and search distance can be changed in a batch using a table, so it is not necessary to set the allowable luminance width and search distance for each individual pixel, and it is easy to set the allowable luminance width and search distance. It can be performed.
なお、本発明は上記実施の形態に限定されることなく、種々の態様で実施することができる。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can implement in a various aspect.
例えば、上記実施の形態では、検査対象物11としてプリント基板を例に挙げて説明したが、これに限らず、液晶パネル、物品の表面に付された文字、図形、記号などを検査対象物としても良い。
For example, in the above-described embodiment, the printed circuit board has been described as an example of the
また、上記実施の形態では、補正処理手段6によって全体形状の補正処理と矩形領域毎の補正処理を行うようにしているが、これに限らず、検査対象物11と基準対象物10との位置をほぼ一致させるようにすれば、どのような補正処理方法を行ってもよい。また、上記では、領域毎の補正処理として矩形領域の補正処理を例に挙げているが、必ずしも矩形領域に限定されるものではなく、種々の領域の補正処理を行うようにしてもよい。
In the above embodiment, the correction processing means 6 performs the correction process for the entire shape and the correction process for each rectangular area. However, the present invention is not limited to this, and the positions of the
また、上記実施の形態では、最初に基準対象物を基準として検査対象物内の探索距離内に許容輝度幅内のピクセルがあるか否かを検査し、今度は逆に検査対象物を基準としてその検査対象物の位置のピクセルの許容輝度幅内のピクセルが基準対象物内に存在するか否かを検査するようにしているが、前者のみの検査を行うようにしてもよい。 In the above embodiment, first, it is inspected whether there is a pixel within the allowable luminance width within the search distance in the inspection object with reference to the reference object. Although it is inspected whether the pixel within the allowable luminance width of the pixel at the position of the inspection object exists in the reference object, the former inspection may be performed.
1・・・検査装置
2・・・撮像手段
3・・・前処理手段
4・・・基準データ生成手段
5・・・記憶手段
6・・・補正処理手段
7・・・ピクセル判定手段
70・・・第一のピクセル判定手段
71・・・第二のピクセル判定手段
8・・・クラスタ判定手段
9・・・出力手段
10・・・基準対象物
11・・・検査対象物
DESCRIPTION OF
Claims (4)
The pixel inspection method according to claim 2, wherein the search distance table is a table in which a search distance is set for each inspection region having a different luminance in the inspection object.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010029932A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-18 | 株式会社メガトレード | Visual examination apparatus |
WO2012144025A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | 株式会社メガトレード | Automatic inspection device and alignment method for automatic inspection device |
CN104362111A (en) * | 2014-11-27 | 2015-02-18 | 阳光硅峰电子科技有限公司 | Silicon wafer edge breakage automatic detection method |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08323963A (en) * | 1995-06-05 | 1996-12-10 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and device for forming threshold value image in printed matter-inspection device |
JPH10318950A (en) * | 1997-05-21 | 1998-12-04 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for inspection of pattern |
JPH1173513A (en) * | 1997-06-25 | 1999-03-16 | Matsushita Electric Works Ltd | Device and method for pattern inspection |
JPH11135583A (en) * | 1997-10-27 | 1999-05-21 | Hitachi Ltd | Apparatus and method for inspecting pattern on chip |
JP2924859B2 (en) * | 1997-05-26 | 1999-07-26 | 日本電気株式会社 | Appearance inspection method and device |
JP2001183119A (en) * | 1999-12-28 | 2001-07-06 | Sun Tec Kk | Pattern inspecting device |
JP2002008029A (en) * | 2000-06-20 | 2002-01-11 | Tokimec Inc | Image inspection device |
JP2003083907A (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Hitachi Ltd | Defect inspecting method and its apparatus |
-
2006
- 2006-05-16 JP JP2006136987A patent/JP2007309703A/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08323963A (en) * | 1995-06-05 | 1996-12-10 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and device for forming threshold value image in printed matter-inspection device |
JPH10318950A (en) * | 1997-05-21 | 1998-12-04 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for inspection of pattern |
JP2924859B2 (en) * | 1997-05-26 | 1999-07-26 | 日本電気株式会社 | Appearance inspection method and device |
JPH1173513A (en) * | 1997-06-25 | 1999-03-16 | Matsushita Electric Works Ltd | Device and method for pattern inspection |
JPH11135583A (en) * | 1997-10-27 | 1999-05-21 | Hitachi Ltd | Apparatus and method for inspecting pattern on chip |
JP2001183119A (en) * | 1999-12-28 | 2001-07-06 | Sun Tec Kk | Pattern inspecting device |
JP2002008029A (en) * | 2000-06-20 | 2002-01-11 | Tokimec Inc | Image inspection device |
JP2003083907A (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Hitachi Ltd | Defect inspecting method and its apparatus |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010029932A1 (en) * | 2008-09-09 | 2010-03-18 | 株式会社メガトレード | Visual examination apparatus |
JP5084911B2 (en) * | 2008-09-09 | 2012-11-28 | 株式会社メガトレード | Appearance inspection device |
WO2012144025A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | 株式会社メガトレード | Automatic inspection device and alignment method for automatic inspection device |
JP5852641B2 (en) * | 2011-04-20 | 2016-02-03 | 株式会社メガトレード | Automatic inspection device and alignment method in automatic inspection device |
CN104362111A (en) * | 2014-11-27 | 2015-02-18 | 阳光硅峰电子科技有限公司 | Silicon wafer edge breakage automatic detection method |
CN104362111B (en) * | 2014-11-27 | 2017-02-01 | 阳光硅峰电子科技有限公司 | Silicon wafer edge breakage automatic detection method |
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