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JP2007294886A - Method of manufacturing stacked electronic component - Google Patents

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JP2007294886A
JP2007294886A JP2007053403A JP2007053403A JP2007294886A JP 2007294886 A JP2007294886 A JP 2007294886A JP 2007053403 A JP2007053403 A JP 2007053403A JP 2007053403 A JP2007053403 A JP 2007053403A JP 2007294886 A JP2007294886 A JP 2007294886A
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Tomohisa Fukuoka
智久 福岡
Shinko Karatsu
真弘 唐津
Shigeki Sato
佐藤  茂樹
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stacked electronic component such as a stacked ceramic capacitor in which the occurrence of structural defects such as cracks is suppressed even when a dielectric layer is reduced in thickness or has an increasing number of layers. <P>SOLUTION: A plurality of ceramic green sheets and a plurality of electrode layers of a predetermined pattern are alternately stacked to obtain spare laminates Un. Next, the spare laminates Un are dried as a unit such that the spare laminate Un is reduced in weight by 0.1 to 1.0 wt.% from the undried spare laminate Un. After that, a final laminate Uf is cut which has been obtained by stacking the spare laminates Un after the spare laminates Un are dried as a unit, so that a green chip is formed. Next, the green chip is solidified and dried and an amount of a solvent residue in the green chip is adjusted to 1 to 2 wt.%. Thereafter, the solidified and dried green chip is debindered and the debindered green chip is baked. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor.

近年の電子機器の小型化に伴い、積層セラミックコンデンサの小型化および大容量化が求められてきている。積層セラミックコンデンサの小型化および大容量化を実現するには、1層あたりの誘電体層の厚みをできるだけ薄くし(薄層化)、所定サイズにおける誘電体層の積層数をできるだけ増やす(多層化)ことが必要である。   With recent miniaturization of electronic devices, there has been a demand for miniaturization and large capacity of multilayer ceramic capacitors. In order to reduce the size and increase the capacity of a multilayer ceramic capacitor, the thickness of each dielectric layer is made as thin as possible (thinning), and the number of dielectric layers in a given size is increased as much as possible (multilayering) )It is necessary.

しかしながら、誘電体層の薄層化および多層化が進むに連れ、得られるコンデンサにクラック(特に内部クラック)が発生しやくなってきている。   However, as the dielectric layer becomes thinner and multilayered, cracks (particularly internal cracks) are likely to occur in the obtained capacitor.

誘電体層の薄層化および多層化によるクラックの発生を防止するために、下記の特許文献1から特許文献5などに示すように、所定パターンの内部電極のパターン間に生ずる段差隙間部分を余白パターン層により埋める方法が提案されている。これらの方法によれば、内部電極層を含む面を平坦化することができる。   In order to prevent the occurrence of cracks due to the thinning and multilayering of the dielectric layer, as shown in the following Patent Document 1 to Patent Document 5, etc., a step gap portion generated between the internal electrode patterns of a predetermined pattern is blanked. A method of filling with a pattern layer has been proposed. According to these methods, the surface including the internal electrode layer can be planarized.

ところが、近年では、静電容量の高容量化および高集積化に伴い、グリーンシートの積層数が多くなってきており、余白パターン層を形成したとしても、グリーンシート間のデラミネーションが問題になってきている。また、グリーンシート間の積層ズレも問題になってきている。
特開昭56−94719号公報 特開平3−74820号公報 特開平9−106925号公報 特開2001−126951号公報 特開昭2001−358036号公報。
However, in recent years, with the increase in capacitance and integration, the number of stacked green sheets has increased, and even if a blank pattern layer is formed, delamination between green sheets becomes a problem. It is coming. In addition, stacking misalignment between green sheets has become a problem.
JP 56-94719 A JP-A-3-74820 JP-A-9-106925 JP 2001-126951 A JP-A-2001-358036.

本発明の目的は、誘電体層の薄層化や多層化が進んでも、クラックなどの構造欠陥の発生が抑制された積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor in which the occurrence of structural defects such as cracks is suppressed even when the dielectric layer is thinned or multilayered.

上記目的を達成するために、本発明に係る積層型電子部品の製造方法は、
セラミックグリーンシートと所定パターンの電極層とを交互に複数重ね合わせ、予備積層体を得る工程と、
前記予備積層体をユニット乾燥させる第1乾燥工程と、
ユニット乾燥後の予備積層体を積み重ねて得られた最終積層体を切断し、グリーンチップを形成する工程と、
前記グリーンチップを固化乾燥させる第2乾燥工程と、
固化乾燥後のグリーンチップを脱バインダ処理する工程と、
前記脱バインダ処理後のグリーンチップを焼成する工程と、を有する。
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a multilayer electronic component according to the present invention includes:
Steps of alternately stacking ceramic green sheets and electrode layers of a predetermined pattern to obtain a pre-laminated body,
A first drying step of unit drying the preliminary laminate,
Cutting the final laminate obtained by stacking the preliminary laminate after the unit is dried, and forming a green chip;
A second drying step for solidifying and drying the green chip;
A step of removing the binder from the solidified and dried green chip,
And firing the green chip after the binder removal treatment.

好ましくは、前記予備積層体をユニット乾燥させる際に、ユニット乾燥させる前の前記予備積層体の重量に対して0.1〜1.0wt%、さらに好ましくは0.2〜1.0wt%、さらに好ましくは0.3〜0.9wt%の重量減少が生じるように、前記予備積層体をユニット乾燥させる。このような重量減少が生じるようにユニット乾燥させることで、クラックの発生率を低減することができる。   Preferably, when the preliminary laminate is unit dried, 0.1 to 1.0 wt%, more preferably 0.2 to 1.0 wt%, more preferably 0.2 to 1.0 wt%, based on the weight of the preliminary laminate before unit drying Preferably, the preliminary laminate is unit-dried so that a weight loss of 0.3 to 0.9 wt% occurs. By drying the unit so that such weight reduction occurs, the rate of occurrence of cracks can be reduced.

好ましくは、前記グリーンチップを固化乾燥させる際に、固化乾燥後のグリーンチップの残留溶剤量が、1〜2wt%、さらに好ましくは1.1〜1.5%となるように、前記グリーンチップを固化乾燥させる。このような条件で固化乾燥を行うことで、クラックの発生率を低減することができる。   Preferably, when the green chip is solidified and dried, the green chip is adjusted so that a residual solvent amount of the green chip after solidification and drying is 1 to 2 wt%, more preferably 1.1 to 1.5%. Solidify and dry. By performing solidification drying under such conditions, the occurrence rate of cracks can be reduced.

前記固化乾燥処理を、好ましくは、昇温速度S1:10〜300℃/時間、さらに好ましくは20〜200℃/時間、好ましくは、保持温度T1:80〜200℃、さらに好ましくは120〜170℃、および前記保持温度T1の保持時間t1:4〜12時間、さらに好ましくは4〜8時間の条件で行う。   The solidification drying treatment is preferably performed at a temperature rising rate S1: 10 to 300 ° C / hour, more preferably 20 to 200 ° C / hour, preferably a holding temperature T1: 80 to 200 ° C, more preferably 120 to 170 ° C. And holding time t1 of the holding temperature T1: 4 to 12 hours, more preferably 4 to 8 hours.

前記固化乾燥処理は、大気圧中で行っても、減圧雰囲気下で行っても良い。
前記固化乾燥は、無加圧状態で行っても良いし、加圧しながら行っても良い。
The solidification drying treatment may be performed in an atmospheric pressure or a reduced pressure atmosphere.
The solidification drying may be performed without applying pressure or may be performed while applying pressure.

好ましくは、前記脱バインダ処理に際して、前記グリーンチップ中の残留炭素量が0.1〜0.4wt%となるように、前記グリーンチップを脱バインダ処理する。   Preferably, at the time of the binder removal treatment, the green chip is subjected to the binder removal treatment so that the residual carbon amount in the green chip is 0.1 to 0.4 wt%.

前記脱バインダ処理を、好ましくは昇温速度S2:1〜15℃/時間(但し1℃/時間を除く)、さらに好ましくは5〜15℃/時間、好ましくは保持温度T2:400〜800℃、さらに好ましくは400〜700℃、好ましくは前記保持温度T2の保持時間t2:1〜8時間、さらに好ましくは2〜8時間、特に好ましくは2〜6時間の条件で行う。   The binder removal treatment is preferably performed at a heating rate S2 of 1 to 15 ° C./hour (excluding 1 ° C./hour), more preferably 5 to 15 ° C./hour, preferably a holding temperature T2 of 400 to 800 ° C. More preferably, it is carried out under conditions of 400 to 700 ° C., preferably a holding time t2 of the holding temperature T2 of 1 to 8 hours, more preferably 2 to 8 hours, particularly preferably 2 to 6 hours.

本発明の方法は、厚みが3μm以下のセラミックグリーンシートを用い、特に500以上の積層数の場合に特に有効である。   The method of the present invention is particularly effective when a ceramic green sheet having a thickness of 3 μm or less is used and the number of laminated layers is 500 or more.

本発明者らは、クラックの原因について鋭意検討した結果、グリーンチップが固形化・乾燥工程および脱バインダ工程を経ることにより、グリーンチップの内部に残留している残留溶剤および残留可塑剤などが揮発することによってデラミネーションを生じさせると考えた。すなわち、グリーンシートの積層数が多くなるにつれて、グリーンチップの内部における残留溶剤、残留可塑剤が揮発しにくくなり、これらの溶剤または可塑剤が固形化・乾燥工程および脱バインダ工程において、一度に揮発するために、デラミネーションが生じやすくなると考えた。   As a result of intensive studies on the cause of cracks, the present inventors have volatilized residual solvent and residual plasticizer remaining in the green chip through the solidification / drying process and binder removal process. I thought it would cause delamination. That is, as the number of stacked green sheets increases, the residual solvent and residual plasticizer inside the green chip are less likely to volatilize, and these solvents or plasticizers volatilize at a time in the solidification / drying process and binder removal process. Therefore, we thought that delamination is likely to occur.

そこで、本発明者らは、所定枚数のグリーンシートを積み重ねて予備積層体を形成し、その後に、予備積層体を乾燥させ、乾燥後の予備積層体を積み重ねて最終積層体を得ることを考えた。そうすることで、残留溶剤または可塑剤などが、最終積層体の固形化・乾燥工程および脱バインダ工程において、一度に揮発することが少なくなり、デラミネーションを抑制できることが実験により確認された。   Accordingly, the present inventors considered that a predetermined number of green sheets are stacked to form a preliminary laminate, and then the preliminary laminate is dried, and the dried preliminary laminate is stacked to obtain a final laminate. It was. By doing so, it was confirmed by experiments that residual solvents, plasticizers, and the like are less likely to volatilize at a time in the solidification / drying step and the binder removal step of the final laminate, and delamination can be suppressed.

また、本発明者らは、グリーンシートのスタック性を持たせるために、積層体にある程度の溶剤を残留させることが有効であるとの知見を得た。その反面、残留させる溶剤量が多すぎると、グリーンチップ形成後の工程(脱バインダ工程、焼成工程など)において、チップ中にクラックを誘発させる要因になる、との知見を得た。   In addition, the present inventors have found that it is effective to leave a certain amount of solvent in the laminate in order to give the green sheet stackability. On the other hand, it has been found that if the amount of the remaining solvent is too large, it may cause cracks in the chip in the steps after green chip formation (such as a binder removal step and a firing step).

本発明者らは、このような知見に基づいて研究を進めた。その結果、積層、切断後に形成されたグリーンチップに対して、直ちに、脱バインダ処理を施すのではなく、脱バインダ処理前のグリーンチップに対して、残留溶剤量を調整する工程(固化乾燥処理)を施すことが、クラックの発生抑制に有効であることを突き止めた。具体的には、脱バインダ処理前のグリーンチップの残留溶剤量を適正範囲に調整することにより、脱バインダ以降の工程で、グリーンチップから溶剤成分が急激に揮発することが無くなり、結果として、焼成後のチップ焼結体中にクラックを生じることが無くなることを見出した。   The present inventors proceeded with research based on such findings. As a result, the process of adjusting the amount of residual solvent to the green chip before the binder removal treatment (solidification drying treatment) is not performed immediately on the green chip formed after the lamination and cutting. It has been found that the application of is effective in suppressing the occurrence of cracks. Specifically, by adjusting the residual solvent amount of the green chip before the binder removal process to an appropriate range, the solvent component does not volatilize rapidly from the green chip in the process after the binder removal, and as a result, firing It has been found that cracks are not generated in the later chip sintered body.

本発明の方法により製造される積層型電子部品としては、特に限定されないが、積層セラミックコンデンサ、圧電素子、チップバリスタ、チップサーミスタ、チップインダクタ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型電子部品などが例示される。   The multilayer electronic component manufactured by the method of the present invention is not particularly limited, but includes a multilayer ceramic capacitor, a piezoelectric element, a chip varistor, a chip thermistor, a chip inductor, a chip resistor, and other surface mount (SMD) chip electronic components. Etc. are exemplified.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミック電子部品の製造方法により製造される積層セラミックコンデンサの概略断面図、
図2(A)〜図2(C)はグリーンシートと電極層との積層工程の一例を示す要部断面図、
図3(A)〜図3(C)は図2(C)の続きの工程を示す要部断面図、
図4(A)〜図4(C)は図3(C)の続きの工程を示す要部断面図、
図5(A)〜図5(C)は図4(C)の続きの工程を示す要部断面図、
図6(A)〜図6(C)は図5(C)の続きの工程を示す要部断面図、
図7は図6(C)の続きの工程を示す要部断面図、
図8(A)および図8(B)は図7の続きの工程を示す概略図、
図9は積層ズレを示す概略図である。
積層セラミックコンデンサの全体構成
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor manufactured by a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention.
2 (A) to 2 (C) are main part cross-sectional views showing an example of a lamination process of a green sheet and an electrode layer,
3 (A) to 3 (C) are main part cross-sectional views showing a continuation process of FIG. 2 (C),
4 (A) to 4 (C) are main part cross-sectional views showing a continuation process of FIG. 3 (C),
5 (A) to 5 (C) are main part cross-sectional views showing a continuation process of FIG. 4 (C),
6 (A) to 6 (C) are main part cross-sectional views showing a continuation process of FIG. 5 (C),
FIG. 7 is a cross-sectional view of an essential part showing a step subsequent to FIG.
8 (A) and 8 (B) are schematic views showing a continuation process of FIG.
FIG. 9 is a schematic view showing stacking deviation.
Overall configuration of multilayer ceramic capacitor

まず、本発明に係る電子部品の一実施形態として、積層セラミックコンデンサの全体構成について説明する。   First, an overall configuration of a multilayer ceramic capacitor will be described as an embodiment of an electronic component according to the present invention.

図1に示すように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2は、コンデンサ素体4と、第1端子電極6と第2端子電極8とを有する。コンデンサ素体4は、誘電体層10と、内部電極層12とを有し、誘電体層10の間に、これらの内部電極層12が交互に積層してある。交互に積層される一方の内部電極層12は、コンデンサ素体4の一方の端部の外側に形成してある第1端子電極6の内側に対して電気的に接続してある。また、交互に積層される他方の内部電極層12は、コンデンサ素体4の他方の端部の外側に形成してある第2端子電極8の内側に対して電気的に接続してある。   As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 2 according to this embodiment includes a capacitor body 4, a first terminal electrode 6, and a second terminal electrode 8. The capacitor body 4 includes dielectric layers 10 and internal electrode layers 12, and the internal electrode layers 12 are alternately stacked between the dielectric layers 10. One internal electrode layer 12 that is alternately stacked is electrically connected to the inside of the first terminal electrode 6 that is formed outside one end of the capacitor body 4. The other internal electrode layers 12 stacked alternately are electrically connected to the inside of the second terminal electrode 8 formed outside the other end of the capacitor body 4.

本実施形態では、内部電極層12は、後で詳細に説明するように、転写法により形成される。   In the present embodiment, the internal electrode layer 12 is formed by a transfer method, as will be described in detail later.

誘電体層10の材質は、特に限定されず、たとえばチタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウムおよび/またはチタン酸バリウムなどの誘電体材料で構成される。各誘電体層10の厚みは、特に限定されないが、数μm〜数百μmのものが一般的である。特に本実施形態では、好ましくは5μm以下、より好ましくは3μm以下、特に好ましくは1.5μm以下に薄層化されている。   The material of the dielectric layer 10 is not particularly limited, and is made of a dielectric material such as calcium titanate, strontium titanate and / or barium titanate. The thickness of each dielectric layer 10 is not particularly limited, but is generally several μm to several hundred μm. In particular, in this embodiment, the thickness is preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, and particularly preferably 1.5 μm or less.

端子電極6および8の材質も特に限定されないが、通常、銅や銅合金、ニッケルやニッケル合金などが用いられるが、銀や銀とパラジウムの合金なども使用することができる。端子電極6および8の厚みも特に限定されないが、通常10〜50μm程度である。   Although the material of the terminal electrodes 6 and 8 is not particularly limited, copper, a copper alloy, nickel, a nickel alloy, or the like is usually used, but silver, an alloy of silver and palladium, or the like can also be used. The thickness of the terminal electrodes 6 and 8 is not particularly limited, but is usually about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサ2の形状やサイズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよい。積層セラミックコンデンサ2が直方体形状の場合は、通常、縦(0.6〜5.6mm、好ましくは0.6〜3.2mm)×横(0.3〜5.0mm、好ましくは0.3〜1.6mm)×厚み(0.1〜1.9mm、好ましくは0.3〜1.6mm)程度である。
積層セラミックコンデンサの製造方法
The shape and size of the multilayer ceramic capacitor 2 may be appropriately determined according to the purpose and application. When the multilayer ceramic capacitor 2 has a rectangular parallelepiped shape, it is usually vertical (0.6 to 5.6 mm, preferably 0.6 to 3.2 mm) × horizontal (0.3 to 5.0 mm, preferably 0.3 to 1.6 mm) × thickness (0.1 to 1.9 mm, preferably 0.3 to 1.6 mm).
Manufacturing method of multilayer ceramic capacitor

次に、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2の製造方法の一例を説明する。   Next, an example of a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 according to the present embodiment will be described.

まず、焼成後に図1に示す誘電体層10を構成することになるセラミックグリーンシートを製造するために、誘電体ペースト(グリーンシート用ペースト)を準備する。   First, a dielectric paste (green sheet paste) is prepared in order to manufacture a ceramic green sheet that will form the dielectric layer 10 shown in FIG. 1 after firing.

誘電体ペーストは、誘電体原料(セラミック粉体)と有機ビヒクルとを混練して得られる有機溶剤系ペーストで構成される。   The dielectric paste is composed of an organic solvent-based paste obtained by kneading a dielectric material (ceramic powder) and an organic vehicle.

誘電体原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。誘電体原料は、通常、平均粒子径が0.4μm以下、好ましくは0.1〜3.0μm程度の粉体として用いられる。なお、きわめて薄いグリーンシートを形成するためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉体を使用することが望ましい。   As the dielectric material, various compounds to be complex oxides and oxides, for example, carbonates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like are appropriately selected and used by mixing. The dielectric material is usually used as a powder having an average particle size of 0.4 μm or less, preferably about 0.1 to 3.0 μm. In order to form a very thin green sheet, it is desirable to use a powder finer than the thickness of the green sheet.

有機ビヒクルとは、バインダ樹脂を有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いられるバインダ樹脂としては、本実施形態では、ポリビニルブチラール樹脂が用いられる。そのポリビニルブチラール樹脂の重合度は、1000以上1700以下であり、好ましくは1400〜1700である。また、樹脂のブチラール化度が64%より大きく78%より小さく、好ましくは64%より大きく70%以下であり、その残留アセチル基量が6%未満、好ましくは3%以下である。   An organic vehicle is obtained by dissolving a binder resin in an organic solvent. In this embodiment, polyvinyl butyral resin is used as the binder resin used in the organic vehicle. The polymerization degree of the polyvinyl butyral resin is 1000 or more and 1700 or less, preferably 1400 to 1700. The degree of butyralization of the resin is greater than 64% and less than 78%, preferably greater than 64% and 70% or less, and the residual acetyl group content is less than 6%, preferably 3% or less.

ポリビニルブチラール樹脂の重合度は、たとえば原料であるポリビニルアセタール樹脂の重合度で測定されることができる。また、ブチラール化度は、たとえばJISK6728に準拠して測定されることができる。さらに、残留アセチル基量は、JISK6728に準拠して測定されることができる。   The degree of polymerization of the polyvinyl butyral resin can be measured by, for example, the degree of polymerization of the raw material polyvinyl acetal resin. Further, the degree of butyralization can be measured in accordance with, for example, JISK6728. Furthermore, the amount of residual acetyl groups can be measured according to JISK6728.

有機ビヒクルに用いられる有機溶剤は、特に限定されず、たとえばテルピネオール、アルコール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエンなどの有機溶剤が用いられる。本実施形態では、有機溶剤としては、好ましくは、アルコール系溶剤と芳香族系溶剤とを含み、アルコール系溶剤と芳香族系溶剤との合計質量を100質量部として、芳香族系溶剤が、10質量部以上20質量部以下含まれる。芳香族系溶剤の含有量が少なすぎると、シート表面粗さが増大する傾向にあり、多すぎると、ペースト濾過特性が悪化し、シート表面粗さも増大して悪化する。   The organic solvent used for the organic vehicle is not particularly limited, and for example, organic solvents such as terpineol, alcohol, butyl carbitol, acetone, and toluene are used. In the present embodiment, the organic solvent preferably includes an alcohol solvent and an aromatic solvent, and the total mass of the alcohol solvent and the aromatic solvent is 100 parts by mass. More than 20 parts by mass. When the content of the aromatic solvent is too small, the sheet surface roughness tends to increase. When the content is too large, paste filtration characteristics deteriorate, and the sheet surface roughness also increases and deteriorates.

アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどが例示される。芳香族系溶剤としては、トルエン、キシレン、酢酸ベンジルなどが例示される。   Examples of alcohol solvents include methanol, ethanol, propanol, butanol and the like. Examples of the aromatic solvent include toluene, xylene, benzyl acetate and the like.

バインダ樹脂は、予め、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールの内の少なくとも一種類以上のアルコール系溶剤に溶解濾過させて溶液にしておき、その溶液に、誘電体粉体およびその他の成分を添加することが好ましい。高重合度のバインダ樹脂は溶剤に溶け難く、通常の方法では、ペーストの分散性が悪化する傾向にある。本実施形態の方法では、高重合度のバインダ樹脂を上述の良溶媒に溶解してから、その溶液にセラミック粉体およびその他の成分を添加するために、ペースト分散性を改善することができ、未溶解樹脂の発生を抑制することができる。なお、上述の溶剤以外の溶剤では、固形分濃度を上げられないと共に、ラッカー粘度の経時変化が増大する傾向にある。   Binder resin should be dissolved and filtered in advance in at least one alcohol solvent of methanol, ethanol, propanol, or butanol, and a dielectric powder and other components should be added to the solution. Is preferred. A binder resin having a high degree of polymerization is difficult to dissolve in a solvent, and the dispersibility of the paste tends to be deteriorated by an ordinary method. In the method of the present embodiment, the paste dispersibility can be improved in order to add the ceramic powder and other components to the solution after dissolving the binder resin having a high degree of polymerization in the above-mentioned good solvent, Generation | occurrence | production of undissolved resin can be suppressed. In addition, in solvents other than the above-mentioned solvents, the solid content concentration cannot be increased, and the change in lacquer viscosity with time tends to increase.

誘電体ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、帯電除剤、誘電体、ガラスフリット、絶縁体などから選択される添加物が含有されても良い。   The dielectric paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, antistatic agents, dielectrics, glass frit, insulators, and the like as necessary.

この誘電体ペーストを用いて、ドクターブレード法などにより、たとえば図3(A)に示すように、第2支持シートとしてのキャリアシート30上に、好ましくは0.5〜30μm、より好ましくは0.5〜10μm程度の厚みで、グリーンシート10aを形成する。グリーンシート10aは、キャリアシート30に形成された後に乾燥される。グリーンシート10aの乾燥温度は、好ましくは50〜100°Cであり、乾燥時間は、好ましくは1〜20分である。乾燥後のグリーンシート10aの厚みは、乾燥前に比較して、5〜25%の厚みに収縮する。乾燥後のグリーンシートの厚みは、3μm以下が好ましい。   Using this dielectric paste, by a doctor blade method or the like, for example, as shown in FIG. 3 (A), the carrier sheet 30 as the second support sheet is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 0.00. The green sheet 10a is formed with a thickness of about 5 to 10 μm. The green sheet 10 a is dried after being formed on the carrier sheet 30. The drying temperature of the green sheet 10a is preferably 50 to 100 ° C., and the drying time is preferably 1 to 20 minutes. The thickness of the green sheet 10a after drying shrinks to a thickness of 5 to 25% as compared with that before drying. The thickness of the green sheet after drying is preferably 3 μm or less.

上記のキャリアシート30とは別に、図2(A)に示すように、第1支持シートとしてのキャリアシート20を準備し、その上に、剥離層22を形成し、その上に、所定パターンの電極層12aを形成し、その前後に、その電極層12aが形成されていない剥離層22の表面に、電極層12aと実質的に同じ厚みの余白パターン層24を形成する。なお、電極層12aのパターンによる段差が悪影響を及ぼさない場合には、余白パターン層24は、必ずしも形成しなくても良い。   Separately from the carrier sheet 30, as shown in FIG. 2A, a carrier sheet 20 as a first support sheet is prepared, a release layer 22 is formed thereon, and a predetermined pattern is formed thereon. An electrode layer 12a is formed, and before and after that, a blank pattern layer 24 having substantially the same thickness as the electrode layer 12a is formed on the surface of the release layer 22 where the electrode layer 12a is not formed. Note that the blank pattern layer 24 is not necessarily formed when the step due to the pattern of the electrode layer 12a does not have an adverse effect.

キャリアシート20および30としては、たとえばPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムなどが用いられ、剥離性を改善するために、シリコンなどがコーティングしてあるものが好ましい。これらのキャリアシート20および30の厚みは、特に限定されないが、好ましくは、5〜100μmである。これらのキャリアシート20および30の厚みは、同じでも異なっていても良い。   As the carrier sheets 20 and 30, for example, a PET (polyethylene terephthalate) film or the like is used, and a film coated with silicon or the like is preferable in order to improve peelability. Although the thickness of these carrier sheets 20 and 30 is not specifically limited, Preferably, it is 5-100 micrometers. The thicknesses of these carrier sheets 20 and 30 may be the same or different.

剥離層22は、好ましくは図3(A)に示すグリーンシート10aを構成する誘電体と同じ誘電体粒子を含む。また、この剥離層22は、誘電体粒子以外に、バインダと、可塑剤と、離型剤とを含む。誘電体粒子の粒径は、グリーンシートに含まれる誘電体粒子の粒径と同じでも良いが、より小さいことが好ましい。   The release layer 22 preferably includes the same dielectric particles as the dielectric that constitutes the green sheet 10a shown in FIG. In addition to the dielectric particles, the release layer 22 includes a binder, a plasticizer, and a release agent. The particle size of the dielectric particles may be the same as the particle size of the dielectric particles contained in the green sheet, but is preferably smaller.

剥離層22の塗布方法としては、特に限定されないが、きわめて薄く形成する必要があるために、たとえばワイヤーバーコーターまたはダイコーターを用いる塗布方法が好ましい。   The method for applying the release layer 22 is not particularly limited. However, since it is necessary to form the release layer 22 very thinly, for example, an application method using a wire bar coater or a die coater is preferable.

剥離層22のためのバインダとしては、たとえば、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体からなる有機質、またはエマルジョンで構成される。剥離層22に含まれるバインダは、グリーンシート10aに含まれるバインダと同じでも異なっていても良いが同じであることが好ましい。   The binder for the release layer 22 is made of, for example, an organic material or an emulsion made of acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, polyolefin, polyurethane, polystyrene, or a copolymer thereof. The binder contained in the release layer 22 may be the same as or different from the binder contained in the green sheet 10a, but is preferably the same.

剥離層22のための可塑剤としては、特に限定されないが、たとえばフタル酸エステル、フタル酸ジオクチル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。剥離層22に含まれる可塑剤は、グリーンシート10aに含まれる可塑剤と同じでも異なっていても良い。   Although it does not specifically limit as a plasticizer for the peeling layer 22, For example, a phthalate ester, dioctyl phthalate, adipic acid, phosphate ester, glycols etc. are illustrated. The plasticizer contained in the release layer 22 may be the same as or different from the plasticizer contained in the green sheet 10a.

剥離層22のための剥離剤としては、特に限定されないが、たとえばパラフィン、ワックス、シリコーン油などが例示される。剥離層22に含まれる剥離剤は、グリーンシート10aに含まれる剥離剤と同じでも異なっていても良い。   The release agent for the release layer 22 is not particularly limited, and examples thereof include paraffin, wax, silicone oil, and the like. The release agent contained in the release layer 22 may be the same as or different from the release agent contained in the green sheet 10a.

バインダは、剥離層22中に、誘電体粒子100質量部に対して、好ましくは2.5〜200質量部、さらに好ましくは5〜30質量部、特に好ましくは8〜30質量部程度で含まれる。   The binder is contained in the release layer 22 in an amount of preferably 2.5 to 200 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, and particularly preferably about 8 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dielectric particles. .

可塑剤は、剥離層22中に、バインダ100質量部に対して、0〜200質量部、好ましくは20〜200質量部、さらに好ましくは50〜100質量部で含まれることが好ましい。   The plasticizer is preferably contained in the release layer 22 in an amount of 0 to 200 parts by mass, preferably 20 to 200 parts by mass, and more preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder.

剥離剤は、剥離層22中に、バインダ100質量部に対して、0〜100質量部、好ましくは2〜50質量部、さらに好ましくは5〜20質量部で含まれることが好ましい。   The release agent is preferably contained in the release layer 22 at 0 to 100 parts by mass, preferably 2 to 50 parts by mass, and more preferably 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder.

剥離層22をキャリアシート20の表面に形成した後、図2(A)に示すように、剥離層22の表面に、焼成後に内部電極層12を構成することになる電極層12aを所定パターンで形成する。電極層12aの厚さは、好ましくは0.1〜2μm、より好ましくは0.1〜1.0μm程度である。電極層12aは、単一の層で構成してあってもよく、あるいは2以上の組成の異なる複数の層で構成してあってもよい。   After the release layer 22 is formed on the surface of the carrier sheet 20, as shown in FIG. 2A, an electrode layer 12a that will constitute the internal electrode layer 12 after firing is formed on the surface of the release layer 22 in a predetermined pattern. Form. The thickness of the electrode layer 12a is preferably about 0.1 to 2 μm, more preferably about 0.1 to 1.0 μm. The electrode layer 12a may be composed of a single layer, or may be composed of a plurality of layers having two or more different compositions.

電極層12aは、電極ペーストを用いる厚膜形成方法により、剥離層22の表面に形成する。厚膜法の1種であるスクリーン印刷法あるいはグラビア印刷法により、剥離層22の表面に電極層12aを形成するには、以下のようにして行う。   The electrode layer 12a is formed on the surface of the release layer 22 by a thick film forming method using an electrode paste. In order to form the electrode layer 12a on the surface of the release layer 22 by a screen printing method or a gravure printing method which is a kind of thick film method, the following is performed.

まず、電極ペーストを準備する。電極ペーストは、各種導電性金属や合金からなる導電体材料、あるいは焼成後に上記した導電体材料となる各種酸化物、有機金属化合物、またはレジネート等と、有機ビヒクルとを混練して調製する。   First, an electrode paste is prepared. The electrode paste is prepared by kneading a conductive material made of various conductive metals or alloys, or various oxides, organometallic compounds, resinates, or the like, which become the conductive material described above after firing, and an organic vehicle.

電極ペーストを製造する際に用いる導体材料としては、NiやNi合金さらにはこれらの混合物を用いる。このような導体材料は、球状、リン片状等、その形状に特に制限はなく、また、これらの形状のものが混合したものであってもよい。また、導体材料の平均粒子径は、通常、0.1〜2μm、好ましくは0.2〜1μm程度のものを用いればよい。   As a conductive material used when manufacturing the electrode paste, Ni, Ni alloy, or a mixture thereof is used. There are no particular restrictions on the shape of such a conductive material, such as a spherical shape or a flake shape, or a mixture of these shapes may be used. The average particle diameter of the conductor material is usually 0.1 to 2 μm, preferably about 0.2 to 1 μm.

有機ビヒクルは、バインダおよび溶剤を含有するものである。バインダとしては、例えばエチルセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体などが例示されるが、特にポリビニルブチラールなどのブチラール系が好ましい。   The organic vehicle contains a binder and a solvent. Examples of the binder include ethyl cellulose, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, polyolefin, polyurethane, polystyrene, and copolymers thereof, but a butyral system such as polyvinyl butyral is particularly preferable.

バインダは、電極ペースト中に、導体材料(金属粉体)100質量部に対して、好ましくは8〜20質量部含まれる。溶剤としては、例えばテルピネオール、ブチルカルビトール、ケロシン等公知のものはいずれも使用可能である。溶剤含有量は、ペースト全体に対して、好ましくは20〜55質量%程度とする。   The binder is preferably included in the electrode paste in an amount of 8 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive material (metal powder). As the solvent, any known solvents such as terpineol, butyl carbitol, and kerosene can be used. The solvent content is preferably about 20 to 55% by mass with respect to the entire paste.

接着性の改善のために、電極ペーストには、可塑剤が含まれることが好ましい。可塑剤としては、フタル酸ベンジルブチル(BBP)などのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。可塑剤は、電極ペースト中に、バインダ100質量部に対して、好ましくは10〜300質量部、さらに好ましくは10〜200質量部である。なお、可塑剤または粘着剤の添加量が多すぎると、電極層12aの強度が著しく低下する傾向にある。また、電極層12aの転写性を向上させるために、電極ペースト中に、可塑剤および/または粘着剤を添加して、電極ペーストの接着性および/または粘着性を向上させることが好ましい。   In order to improve adhesion, the electrode paste preferably contains a plasticizer. Examples of the plasticizer include phthalic acid esters such as benzylbutyl phthalate (BBP), adipic acid, phosphoric acid esters, glycols, and the like. The plasticizer is preferably 10 to 300 parts by mass, more preferably 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder in the electrode paste. In addition, when there is too much addition amount of a plasticizer or an adhesive, there exists a tendency for the intensity | strength of the electrode layer 12a to fall remarkably. In order to improve the transferability of the electrode layer 12a, it is preferable to add a plasticizer and / or a pressure-sensitive adhesive to the electrode paste to improve the adhesion and / or the pressure-sensitive adhesiveness of the electrode paste.

剥離層22の表面に、所定パターンの電極ペースト層を印刷法で形成した後、またはその前に、電極層12aが形成されていない剥離層22の表面に、電極層12aと実質的に同じ厚みの余白パターン層24を形成する。   After or before the electrode paste layer having a predetermined pattern is formed on the surface of the release layer 22 by the printing method, the surface of the release layer 22 on which the electrode layer 12a is not formed is substantially the same thickness as the electrode layer 12a. The blank pattern layer 24 is formed.

図2(A)に示す余白パターン層24は、電極段差吸収用印刷ペーストを用いる印刷法などの厚膜形成方法により、剥離層22の表面に形成する事ができる。厚膜法の1種であるスクリーン印刷法により、剥離層22の表面に余白パターン層(図2(A))を形成する場合には、以下のようにして行う。   The blank pattern layer 24 shown in FIG. 2A can be formed on the surface of the release layer 22 by a thick film forming method such as a printing method using an electrode level difference absorbing printing paste. When a blank pattern layer (FIG. 2 (A)) is formed on the surface of the release layer 22 by screen printing, which is one type of thick film method, it is performed as follows.

まず、電極段差吸収用印刷ペーストを準備する。電極段差吸収用印刷ペーストは、誘電体原料(セラミック粉末)と有機ビヒクルとを混練して得られる有機溶剤系ペーストで構成される。   First, an electrode level difference absorbing printing paste is prepared. The electrode level difference absorbing printing paste is composed of an organic solvent-based paste obtained by kneading a dielectric material (ceramic powder) and an organic vehicle.

電極段差吸収用印刷ペーストを製造する際に用いる誘電体材料としては、グリーンシート10aを構成する誘電体と同じ誘電体粒子、かつ同じ平均粒径を有す誘電体を用いて作製される。電極段差吸収用印刷ペーストには、誘電体粒子(セラミック粉末)が、ペースト全体に対して30〜50質量部、さらに好ましくは、40〜50質量部の割合で含まれる。セラミック粉末の含有割合が少なすぎるとペースト粘度が小さくなり印刷が困難にある。また、セラミック粉末の含有割合が多すぎると、印刷厚みを薄くすることが困難になる傾向にある。   As the dielectric material used when manufacturing the electrode level difference absorbing printing paste, the dielectric material having the same average particle diameter as the dielectric material constituting the green sheet 10a is used. In the electrode level difference absorbing printing paste, dielectric particles (ceramic powder) are contained in an amount of 30 to 50 parts by mass, more preferably 40 to 50 parts by mass with respect to the entire paste. If the content of the ceramic powder is too small, the paste viscosity becomes small and printing is difficult. Moreover, when there is too much content rate of ceramic powder, it exists in the tendency for it to become difficult to make printing thickness thin.

有機ビヒクルは、バインダおよび溶剤を含有するものである。バインダとしては、例えばエチルセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、またはこれらの共重合体などが例示されるが、特にポリビニルブチラールなどのブチラール系が好ましい。   The organic vehicle contains a binder and a solvent. Examples of the binder include ethyl cellulose, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, polyolefin, and copolymers thereof, but a butyral system such as polyvinyl butyral is particularly preferable.

この電極段差吸収用印刷ペーストに含まれるブチラール系バインダの重合度は、グリーンシート10aを形成するためのペーストに含まれるバインダの重合度と同等以上、好ましくは高く設定してある。例えば、グリーンシート用ペーストに含まれるバインダとしてのポリビニルブチラールの重合度が1000〜1700である場合に、電極段差吸収用印刷ペーストに含まれるバインダは、1400以上、さらに好ましくは1700以上、特に好ましくは2400以上の重合度を持つポリビニルブチラールまたはポリビニルアセタールである。なかでも、重合度2000以上の重合度をもつポリビニルアセタールが好ましい。   The degree of polymerization of the butyral binder contained in the electrode level difference absorbing printing paste is set to be equal to or higher than the degree of polymerization of the binder contained in the paste for forming the green sheet 10a, preferably high. For example, when the polymerization degree of polyvinyl butyral as a binder contained in the green sheet paste is 1000 to 1700, the binder contained in the electrode level difference absorbing print paste is 1400 or more, more preferably 1700 or more, particularly preferably Polyvinyl butyral or polyvinyl acetal having a degree of polymerization of 2400 or more. Of these, polyvinyl acetal having a polymerization degree of 2000 or more is preferable.

電極段差吸収用印刷ペーストのバインダが、ポリビニルブチラールである場合、そのブチラール化度が64〜74モル%の範囲にあるものが好ましい。また、ポリビニルアセタールである場合には、そのアセタール化度が66〜74モル%であることが好ましい。   When the binder of the electrode level difference absorbing printing paste is polyvinyl butyral, it is preferable that the degree of butyral is in the range of 64 to 74 mol%. Moreover, when it is a polyvinyl acetal, it is preferable that the acetalization degree is 66-74 mol%.

バインダは、電極段差吸収用印刷ペースト中に、誘電体材料100質量部に対して、好ましくは3〜10質量部含まれる。さらに好ましくは、4〜8質量部含まれる事が好ましい。   The binder is preferably contained in the electrode paste absorbing print paste in an amount of 3 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the dielectric material. More preferably, 4 to 8 parts by mass are included.

溶剤には、例えばテルピネオール、ブチルカルビトール、ケロシン等の公知のものは、いずれも使用可能である。その溶剤含有量は、ペースト全体に対して50〜70質量部程度が好ましい。   Any known solvent such as terpineol, butyl carbitol, or kerosene can be used as the solvent. As for the solvent content, about 50-70 mass parts is preferable with respect to the whole paste.

また、電極段差吸収用印刷ペーストには、分散剤、可塑剤および、または粘着剤、帯電除剤、といった各種添加剤が含有されても良い。   In addition, the electrode level difference absorbing printing paste may contain various additives such as a dispersant, a plasticizer and / or an adhesive and an antistatic agent.

分散剤としては、特に限定はないが、たとえば、エステル系重合体、カルボン酸といった高分子材料が用いられ、その含有量は、セラミック粉末100質量部に対して、好ましくは0.25〜1.5質量部、さらに好ましくは0.5〜1.0質量部含有される事が好ましい。   Although there is no limitation in particular as a dispersing agent, For example, polymeric materials, such as ester polymer and carboxylic acid, are used, Preferably the content is 0.25-1. 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 1.0 parts by mass is preferably contained.

可塑剤としては、特に限定はないが、例えば、フタル酸ベンジルブチル(BBP)などのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが用いられる。その含有量は、バインダ100質量部に対して、10〜200質量部、さらに好ましくは50〜100質量部で含有される事が好ましい。   The plasticizer is not particularly limited, and for example, phthalic acid esters such as benzylbutyl phthalate (BBP), adipic acid, phosphoric acid esters, glycols, and the like are used. The content thereof is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder.

帯電除剤としては、特に限定はないが、例えば、イミダゾリン系帯電除剤などが用いられ、その含有量は、セラミック粉末100質量部に対して0.1〜0.75質量部、さらに好ましくは0.25〜0.5質量部で含有されることが好ましい。   The antistatic agent is not particularly limited. For example, an imidazoline-based antistatic agent is used, and the content thereof is 0.1 to 0.75 parts by mass, more preferably 100 parts by mass of the ceramic powder. It is preferable to contain by 0.25-0.5 mass part.

この電極段差吸収用印刷ペーストは、図2(A)に示すように、電極層12a間の余白パターン部に印刷される。その後、電極層12aおよび余白パターン層24は、必要に応じて乾燥される。乾燥温度は、特に限定されないが、好ましくは70〜120°Cであり、乾燥時間は、好ましくは5〜15分である。   As shown in FIG. 2A, this electrode level difference absorbing print paste is printed on the blank pattern portion between the electrode layers 12a. Thereafter, the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 are dried as necessary. The drying temperature is not particularly limited, but is preferably 70 to 120 ° C, and the drying time is preferably 5 to 15 minutes.

上記のキャリアシート20および30とは別に、図2(A)に示すように、第3支持シートとしてのキャリアシート26の表面に接着層28が形成してある接着層転写用シートを準備する。キャリアシート26は、キャリアシート20および30と同様なシートで構成される。   Apart from the carrier sheets 20 and 30, as shown in FIG. 2A, an adhesive layer transfer sheet in which an adhesive layer 28 is formed on the surface of the carrier sheet 26 as a third support sheet is prepared. The carrier sheet 26 is composed of a sheet similar to the carrier sheets 20 and 30.

接着層28の組成は、離型剤を含まない以外は、剥離層22と同様である。すなわち、接着層28は、バインダと、可塑剤と、離型剤とを含む。接着層28には、グリーンシート10aを構成する誘電体と同じ誘電体粒子を含ませても良いが、誘電体粒子の粒径よりも厚みが薄い接着層を形成する場合には、誘電体粒子を含ませない方がよい。また、接着層28に誘電体粒子を含ませる場合には、その誘電体粒子の粒径は、グリーンシートに含まれる誘電体粒子の粒径より小さいことが好ましい。   The composition of the adhesive layer 28 is the same as that of the release layer 22 except that it does not contain a release agent. That is, the adhesive layer 28 includes a binder, a plasticizer, and a release agent. The adhesive layer 28 may contain the same dielectric particles as the dielectric constituting the green sheet 10a. However, when forming an adhesive layer having a thickness smaller than the particle diameter of the dielectric particles, the dielectric particles It is better not to include. In addition, when dielectric particles are included in the adhesive layer 28, the particle size of the dielectric particles is preferably smaller than the particle size of the dielectric particles included in the green sheet.

可塑剤は、接着層28中に、バインダ100質量部に対して、0〜200質量部、好ましくは20〜200質量部、さらに好ましくは50〜100質量部で含まれることが好ましい。   The plasticizer is preferably contained in the adhesive layer 28 in an amount of 0 to 200 parts by mass, preferably 20 to 200 parts by mass, and more preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder.

接着層28は、さらに帯電除剤を含み、当該帯電除剤は、イミダゾリン系界面活性剤の中の1つを含み、帯電除剤の重量基準添加量は、バインダ(有機高分子材料)の重量基準添加量以下であることが好ましい。すなわち、帯電除剤は、接着層28中に、バインダ100質量部に対して、0〜200質量部、好ましくは20〜200質量部、さらに好ましくは50〜100質量部で含まれることが好ましい。   The adhesive layer 28 further contains an antistatic agent, and the antistatic agent contains one of the imidazoline-based surfactants, and the weight-based addition amount of the antistatic agent is the weight of the binder (organic polymer material). It is preferable that it is below the reference addition amount. That is, it is preferable that the antistatic agent is contained in the adhesive layer 28 in an amount of 0 to 200 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight, and more preferably 50 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder.

接着層28の厚みは、0.02〜0.3μm程度が好ましく、しかもグリーンシートに含まれる誘電体粒子の平均粒径よりも薄いことが好ましい。また、接着層28の厚みが、グリーンシート10aの厚みの1/10以下であることが好ましい。   The thickness of the adhesive layer 28 is preferably about 0.02 to 0.3 μm, and is preferably thinner than the average particle size of the dielectric particles contained in the green sheet. Moreover, it is preferable that the thickness of the contact bonding layer 28 is 1/10 or less of the thickness of the green sheet 10a.

接着層28の厚みが薄すぎると、接着力が低下し、厚すぎると、その接着層の厚みに依存して焼結後の素子本体の内部に隙間ができやすく、その体積分の静電容量が著しく低下する傾向にある。   If the thickness of the adhesive layer 28 is too thin, the adhesive strength is reduced, and if it is too thick, a gap is easily formed inside the element body after sintering depending on the thickness of the adhesive layer, and the electrostatic capacity corresponding to the volume. Tends to decrease significantly.

接着層28は、第3支持シートとしてのキャリアシート26の表面に、たとえばバーコーター法、ダイコータ法、リバースコーター法、ディップコーター法、キスコーター法などの方法により形成され、必要に応じて乾燥される。乾燥温度は、特に限定されないが、好ましくは室温〜80°Cであり、乾燥時間は、好ましくは1〜5分である。   The adhesive layer 28 is formed on the surface of the carrier sheet 26 as the third support sheet by a method such as a bar coater method, a die coater method, a reverse coater method, a dip coater method, or a kiss coater method, and is dried as necessary. . The drying temperature is not particularly limited, but is preferably room temperature to 80 ° C., and the drying time is preferably 1 to 5 minutes.

図2(A)に示す電極層12aおよび余白パターン層24の表面に、接着層を形成するために、本実施形態では、転写法を採用している。すなわち、図2(B)に示すように、キャリアシート26の接着層28を、図2(B)に示すように、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に押し付け、加熱加圧して、その後キャリアシート26を剥がすことにより、図2(C)に示すように、接着層28を、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に転写する。なお、接着層28の転写は、図3(A)に示すグリーンシート10aの表面に対して行っても良い。   In this embodiment, a transfer method is employed to form an adhesive layer on the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 shown in FIG. That is, as shown in FIG. 2B, the adhesive layer 28 of the carrier sheet 26 is pressed against the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 as shown in FIG. By peeling off the carrier sheet 26, the adhesive layer 28 is transferred to the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 as shown in FIG. The transfer of the adhesive layer 28 may be performed on the surface of the green sheet 10a shown in FIG.

転写時の加熱温度は、40〜100°Cが好ましく、また、加圧力は、0.2〜15MPaが好ましい。加圧は、プレスによる加圧でも、カレンダロールによる加圧でも良いが、一対のロールにより行うことが好ましい。   The heating temperature during transfer is preferably 40 to 100 ° C., and the applied pressure is preferably 0.2 to 15 MPa. The pressurization may be a pressurization or a calender roll, but is preferably performed by a pair of rolls.

その後に、電極層12aを、図3(A)に示すキャリアシート30の表面に形成してあるグリーンシート10aの表面に接着する。そのために、図3(B)に示すように、キャリアシート20の電極層12aおよび余白パターン層24を、接着層28を介して、グリーンシート10aの表面にキャリアシート20と共に押し付け、加熱加圧して、図3(C)に示すように、電極層12aおよび余白パターン層24を、グリーンシート10aの表面に転写する。ただし、グリーンシート側のキャリアシート30が引き剥がされることから、グリーンシート10a側から見れば、グリーンシート10aが電極層12aおよび余白パターン層24に接着層28を介して転写される。   Thereafter, the electrode layer 12a is bonded to the surface of the green sheet 10a formed on the surface of the carrier sheet 30 shown in FIG. For that purpose, as shown in FIG. 3B, the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 of the carrier sheet 20 are pressed together with the carrier sheet 20 onto the surface of the green sheet 10a via the adhesive layer 28, and heated and pressurized. As shown in FIG. 3C, the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 are transferred to the surface of the green sheet 10a. However, since the carrier sheet 30 on the green sheet side is peeled off, when viewed from the green sheet 10 a side, the green sheet 10 a is transferred to the electrode layer 12 a and the blank pattern layer 24 via the adhesive layer 28.

この転写時の加熱および加圧は、プレスによる加圧・加熱でも、カレンダロールによる加圧・加熱でも良いが、一対のロールにより行うことが好ましい。その加熱温度および加圧力は、接着層28を転写するときと同様である。   The heating and pressurization at the time of transfer may be pressurization / heating with a press or pressurization / heating with a calender roll, but is preferably performed with a pair of rolls. The heating temperature and pressure are the same as when the adhesive layer 28 is transferred.

図2(A)〜図3(C)に示す工程により、単一のグリーンシート10a上に、単一層の所定パターンの電極層12aが形成される。電極層12aが形成されたグリーンシート10aを積層させるには、たとえば図4(A)〜図6(C)に示す工程を繰り返せばよい。なお、図4(A)〜図6(C)において、図3(A)〜図4(C)に示す部材と共通する部材には、同一の符号を付し、その説明を一部省略する。   2A to 3C, a single layer of electrode layer 12a having a predetermined pattern is formed on a single green sheet 10a. In order to laminate the green sheet 10a on which the electrode layer 12a is formed, for example, the steps shown in FIGS. 4A to 6C may be repeated. 4 (A) to 6 (C), members that are the same as those shown in FIGS. 3 (A) to 4 (C) are denoted by the same reference numerals, and description thereof is partially omitted. .

まず、図4(A)〜図4(C)に示すように、グリーンシート10aにおける反電極層側表面(裏面)に、接着層28を転写する。その後に、図5(A)〜図5(C)に示すように、接着層28を介して、グリーンシート10aの裏面に電極層12aおよび余白パターン層24を転写する。   First, as shown in FIGS. 4A to 4C, the adhesive layer 28 is transferred to the counter electrode layer side surface (back surface) of the green sheet 10a. Thereafter, as shown in FIGS. 5A to 5C, the electrode layer 12 a and the blank pattern layer 24 are transferred to the back surface of the green sheet 10 a through the adhesive layer 28.

次に、図6(A)〜図6(C)に示すように、接着層28を介して、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に、グリーンシート10aを転写する。その後は、これらの転写を繰り返せば、図7に示すように、電極層12aおよびグリーンシート10aが交互に積層された予備積層体Unが得られる。   Next, as shown in FIGS. 6A to 6C, the green sheet 10 a is transferred to the surfaces of the electrode layer 12 a and the blank pattern layer 24 via the adhesive layer 28. Thereafter, by repeating these transfers, as shown in FIG. 7, a preliminary laminated body Un in which the electrode layers 12a and the green sheets 10a are alternately laminated is obtained.

なお、図5(C)〜図6(C)に示す工程を採用することなく、図5(B)に示す工程から、下側のキャリアシート20を剥がすのではなく、上側のキャリアシートを剥がし、その上に、図4(C)に示す積層体ユニットU1を積層しても良い。その後に、再度、上側のキャリアシート20を剥がし、その上に、図4(C)に示す積層体ユニットU1を積層して、再度、上側のキャリアシート20を剥がす動作を繰り返しても、図7に示すように、電極層12aおよびグリーンシート10aが交互に積層された予備積層体Unが得られる。図4(C)に示す積層体ユニットU1を積層(積み重ね)して予備積層体Unを得る方法の方が、積層作業効率に優れている。   Note that without adopting the steps shown in FIGS. 5C to 6C, the lower carrier sheet 20 is not peeled off from the step shown in FIG. 5B, but the upper carrier sheet is peeled off. On top of that, a laminate unit U1 shown in FIG. 4C may be laminated. Thereafter, the upper carrier sheet 20 is peeled off again, and the laminate unit U1 shown in FIG. 4C is laminated thereon, and the operation of peeling the upper carrier sheet 20 again is repeated. As shown in FIG. 4, a pre-laminated body Un in which the electrode layers 12a and the green sheets 10a are alternately laminated is obtained. The method of stacking (stacking) the stacked unit U1 shown in FIG. 4C to obtain the preliminary stacked body Un is superior in stacking work efficiency.

本実施形態では、図7に示す予備積層体Unにおけるグリーンシート10aの積層数は、特に限定されないが、好ましくは、10〜100である。   In the present embodiment, the number of green sheets 10a stacked in the preliminary stacked body Un shown in FIG. 7 is not particularly limited, but is preferably 10 to 100.

本実施形態では、次に、図7に示す予備積層体Unにおける上側のキャリアシート20または下側のキャリアシート30のいずれかを引き剥がし、その状態で、予備積層体Unの乾燥処理(ユニット乾燥)を行う。ユニット乾燥処理時の乾燥温度は、好ましくは80〜120°Cである。乾燥時間は、たとえば15分〜3時間である。   In this embodiment, next, either the upper carrier sheet 20 or the lower carrier sheet 30 in the preliminary laminate Un shown in FIG. 7 is peeled off, and in this state, the preliminary laminate Un is dried (unit drying). )I do. The drying temperature during the unit drying process is preferably 80 to 120 ° C. The drying time is, for example, 15 minutes to 3 hours.

ユニット乾燥に際しては、ユニット乾燥させる前の予備積層体Unの重量に対して0.1〜1.0wt%、さらに好ましくは0.2〜1.0wt%、さらに好ましくは0.3〜0.9wt%の重量減少が生じるように、予備積層体Unをユニット乾燥させる。このような重量減少が生じるようにユニット乾燥させることで、クラックの発生率を低減することができる。   At the time of unit drying, 0.1 to 1.0 wt%, more preferably 0.2 to 1.0 wt%, more preferably 0.3 to 0.9 wt%, based on the weight of the preliminary laminate Un before the unit is dried. The pre-laminate Un is unit dried so that a weight loss of% occurs. By drying the unit so that such weight reduction occurs, the rate of occurrence of cracks can be reduced.

乾燥処理された予備積層体Unは、図8(A)および図8(B)に示すように、キャリアシート20または30と共に、搬送板50により仮プレス装置の下金型の上に搬送され、そこで、プレス機構52により、既に仮置きされた予備積層体Unの上に押しつけられる。搬送板50による予備積層体Unの仮置き時の圧力は、0.1MPa以上、好ましくは0.5MPa以上の圧力である。   As shown in FIG. 8 (A) and FIG. 8 (B), the dried pre-laminated body Un is transported onto the lower mold of the temporary press device by the transport plate 50 together with the carrier sheet 20 or 30. Therefore, the pressing mechanism 52 presses the preliminary laminated body Un that has been temporarily placed. The pressure at the time of temporary placement of the preliminary laminated body Un by the transport plate 50 is a pressure of 0.1 MPa or more, preferably 0.5 MPa or more.

搬送板50による予備積層体Unの仮置き時には、搬送板50を加熱しておき、予備積層体Unを所定温度に加熱する。加熱温度は、好ましくは50〜85°Cである。仮置き時の加圧時間は、特に限定されないが、通常、1〜60秒、好ましくは1〜30秒程度である。   At the time of temporary placement of the preliminary laminate Un by the transport plate 50, the transport plate 50 is heated and the preliminary stack Un is heated to a predetermined temperature. The heating temperature is preferably 50 to 85 ° C. Although the pressurization time at the time of temporary placement is not particularly limited, it is usually 1 to 60 seconds, preferably about 1 to 30 seconds.

積み重ねられる予備積層体Unは、仮置きされる前に、必ずユニット乾燥処理される。予備積層体Unの積み重ね総数は、特に限定されないが、好ましくは10〜100程度である。予備積層体Unの積み重ね総数が多くなるほど、最終積層体Ufの積層総数が多くなる。   The pre-laminated body Un to be stacked is always subjected to a unit drying process before being temporarily placed. Although the total number of stacks of the preliminary laminate Un is not particularly limited, it is preferably about 10 to 100. As the total number of the stacked stacks of the preliminary stacked bodies Un increases, the total number of stacked final stacked bodies Uf increases.

最終積層体Ufとなるまで、予備積層体Unが積層されると、図8(B)に示す搬送板が最終積層体Ufの上から水平方向に移動し、その代わりに、図示省略してある上金型が下金型40に向けて引き下ろされ、仮プレスが行われる。   When the preliminary laminated body Un is laminated until the final laminated body Uf is reached, the transport plate shown in FIG. 8B moves in the horizontal direction from above the final laminated body Uf, and is not shown in the figure. The upper die is pulled down toward the lower die 40, and a temporary press is performed.

仮プレス時の圧力は、5MPa以上の圧力であり、好ましくは5〜10MPaである。仮プレスの圧力が低すぎると、その後の工程(たとえば切断工程)において、積層体としての形状を保持することが困難になる傾向にある。また、仮プレスの圧力が大きすぎると、積層体の変形が大きくなる傾向にあり好ましくない。   The pressure at the time of temporary pressing is a pressure of 5 MPa or more, preferably 5 to 10 MPa. If the pressure of the temporary press is too low, it tends to be difficult to maintain the shape as a laminate in subsequent steps (for example, a cutting step). Moreover, when the pressure of a temporary press is too large, there exists a tendency for the deformation | transformation of a laminated body to become large, and it is not preferable.

また、仮プレス時には、下金型40および上金型を所定温度に加熱しておくことが好ましい。仮プレス時の加熱温度は、特に限定されないが、好ましくは50〜90°Cである。仮プレス時の加圧時間は、好ましくは1〜60秒である。   Further, it is preferable that the lower mold 40 and the upper mold are heated to a predetermined temperature during the temporary pressing. Although the heating temperature at the time of temporary press is not specifically limited, Preferably it is 50-90 degreeC. The pressurization time during temporary pressing is preferably 1 to 60 seconds.

なお、搬送板50のプレス圧能力が高い場合には、仮プレス装置を用いることなく、搬送板50を用いて、最終積層体Ufを、仮プレスしても良い。   In addition, when the press pressure capability of the conveyance board 50 is high, you may temporarily press the final laminated body Uf using the conveyance board 50, without using a temporary press apparatus.

その後、積層体を所定サイズに切断し、グリーンチップを形成する。このグリーンチップは、固化乾燥処理、脱バインダ処理、焼成処理が行われ、そして、誘電体層を再酸化させるため、熱処理が行われる。   Thereafter, the laminate is cut into a predetermined size to form a green chip. The green chip is subjected to a solidification drying process, a binder removal process, and a baking process, and a heat treatment is performed to reoxidize the dielectric layer.

グリーンチップを固化乾燥させる際に、固化乾燥後のグリーンチップの残留溶剤量が、1〜2wt%、さらに好ましくは1.1〜1.5%となるように、グリーンチップを固化乾燥させる。このような条件で固化乾燥を行うことで、クラックの発生率を低減することができる。   When the green chip is solidified and dried, the green chip is solidified and dried so that the residual solvent amount of the green chip after solidification and drying is 1 to 2 wt%, more preferably 1.1 to 1.5%. By performing solidification drying under such conditions, the occurrence rate of cracks can be reduced.

後述の脱バインダ工程前のグリーンチップの残留溶剤量を1〜2wt%に調整するのは、1wt%未満だと、グリーンチップの強度が低くなり、後工程においてクラックを発生しやすくなるためである。一方、2wt%を超えると、強度的には問題はないが、後工程において、揮発する溶剤量が多くなり、脱バインダ処理や焼成処理中で、チップ中にクラックの発生を誘発しやすくなるからである。   The reason why the residual solvent amount of the green chip before the binder removal process described later is adjusted to 1 to 2 wt% is that if it is less than 1 wt%, the strength of the green chip is lowered and cracks are likely to occur in the subsequent process. . On the other hand, if it exceeds 2 wt%, there is no problem in strength, but the amount of solvent that volatilizes in the subsequent process increases, and it is easy to induce cracks in the chip during binder removal and firing. It is.

具体的には、固化乾燥処理は、下記の条件で行うことが好ましい。
昇温速度S1:10〜300℃/時間、特に20〜200℃/時間、
保持温度T1:80〜200℃、特に120〜170℃、
T1の保持時間t1:4〜12時間、特に4〜8時間。
Specifically, the solidification drying treatment is preferably performed under the following conditions.
Temperature rising rate S1: 10 to 300 ° C./hour, especially 20 to 200 ° C./hour,
Holding temperature T1: 80 to 200 ° C, particularly 120 to 170 ° C,
T1 holding time t1: 4-12 hours, especially 4-8 hours.

昇温速度が速すぎる(=急激に昇温を行う)と、溶剤および樹脂が気化(昇華)する時に急激な膨張を伴い、グリーンチップ本来の形状を保持できなくなるおそれがある。逆に、昇温速度が遅すぎると、チップ中から溶剤成分が多く抜けすぎ、クラックが発生してしまう。   If the rate of temperature increase is too fast (= the temperature is rapidly increased), the solvent and the resin vaporize (sublimate) and there is a possibility that the original shape of the green chip cannot be maintained due to rapid expansion. On the other hand, if the rate of temperature rise is too slow, too much solvent component will escape from the chip and cracks will occur.

保持温度が低すぎると、チップ中から溶剤成分が抜けにくく、結果的に残留溶剤量が増え、結果的に焼成後のチップ中にクラックが発生してしまう。逆に、保持温度が高すぎると、チップ中から溶剤成分が多く抜けすぎることに加えて、樹脂の分解も起こり、グリーンチップの強度が大幅に低下し、形状を保持できなくなるおそれがある。   If the holding temperature is too low, it is difficult for the solvent component to escape from the chip, resulting in an increase in the amount of residual solvent, and as a result, cracking occurs in the chip after firing. On the other hand, if the holding temperature is too high, a large amount of the solvent component is removed from the chip, and the resin is also decomposed, so that the strength of the green chip is greatly reduced and the shape may not be held.

該保持温度の保持時間が低すぎても高すぎても、チップ中の溶剤成分が適正範囲とならず、チップの強度が不足したり、焼成後のチップ中にクラックが発生してしまう。   If the holding time of the holding temperature is too low or too high, the solvent component in the chip does not fall within the proper range, the chip strength is insufficient, or cracks occur in the chip after firing.

なお、固化乾燥を行う際に雰囲気は、特に限定されない。例えば、空気中で行っても良いし、減圧下(真空状態含む)で行ってもよい。減圧下で固化乾燥を行うことにより、固化乾燥時の保持温度を低くすることができると共に、保持時間を短くすることができる。   In addition, the atmosphere when solidifying and drying is not particularly limited. For example, it may be performed in air or under reduced pressure (including a vacuum state). By performing solidification drying under reduced pressure, the retention temperature during solidification drying can be lowered and the retention time can be shortened.

次に、固化乾燥後のグリーンチップを脱バインダ処理し、チップ中の残留炭素量を、0.1〜0.4wt%、好ましくは0.1〜0.2wt%に調整する。脱バイ後のグリーンチップの残留炭素量が0.4wt%を超えると、焼成後の焼結体中にクラックを生じやすくなるので、好ましくない。   Next, the green chip after solidification drying is subjected to binder removal processing, and the residual carbon amount in the chip is adjusted to 0.1 to 0.4 wt%, preferably 0.1 to 0.2 wt%. If the amount of residual carbon in the green chip after debuy exceeds 0.4 wt%, cracks are likely to occur in the sintered body after firing, which is not preferable.

本発明では、脱バインダ処理は、下記の条件で行うことが好ましい。
昇温速度S2:1〜15℃/時間(但し、1℃/時間を除く)、好ましくは5〜15℃/時間、
保持温度T2:400〜800℃、好ましくは400〜700℃、
保持温度T2の保持時間t2:1〜8時間、さらに好ましくは2〜8時間、特に好ましくは2〜6時間
雰囲気 :加湿したNとHとの混合ガス。
In the present invention, the binder removal treatment is preferably performed under the following conditions.
Temperature rising rate S2: 1 to 15 ° C./hour (excluding 1 ° C./hour), preferably 5 to 15 ° C./hour,
Holding temperature T2: 400 to 800 ° C., preferably 400 to 700 ° C.
Holding time t2 of holding temperature T2: 1 to 8 hours, more preferably 2 to 8 hours, particularly preferably 2 to 6 hours. Atmosphere: Mixed gas of humidified N 2 and H 2 .

昇温速度が速すぎる(=急激に昇温を行う)と、溶剤および樹脂が気化(昇華)する時に急激な膨張を伴い、グリーンチップ本来の形状を保持できなくなるおそれがある。逆に、昇温速度が遅すぎると、チップ本来の形状を保持するために最低限必要な炭素までもなくなり、チップ本来の形状を保持できなくなるおそれがある。   If the rate of temperature increase is too fast (= the temperature is rapidly increased), the solvent and the resin vaporize (sublimate) and there is a possibility that the original shape of the green chip cannot be maintained due to rapid expansion. On the other hand, if the rate of temperature rise is too slow, there is a possibility that the minimum carbon necessary for maintaining the original shape of the chip will be lost and the original shape of the chip cannot be maintained.

保持温度が低すぎると、チップ中の残留炭素量が増加し、結果的に焼成後のチップ中にクラックが発生してしまう。逆に、保持温度が高すぎると、チップ中の残留炭素量が減少しすぎるため、グリーンチップの強度が大幅に低下し、形状を保持できなくなるおそれがある。   If the holding temperature is too low, the amount of residual carbon in the chip increases, and as a result, cracks occur in the chip after firing. On the other hand, if the holding temperature is too high, the amount of carbon remaining in the chip is excessively reduced, so that the strength of the green chip is significantly reduced and the shape may not be held.

該保持温度の保持時間が低すぎても高すぎても、チップ中の残留炭素量が適正範囲とならず、チップの強度が不足したり、焼成後のチップ中にクラックが発生してしまう。   If the holding time of the holding temperature is too low or too high, the amount of residual carbon in the chip does not fall within the proper range, the chip strength is insufficient, or cracks occur in the chip after firing.

脱バイ後のグリーンチップは、その後、焼成処理が行われ、そして、誘電体層を再酸化させるため、熱処理が行われる。   The green chip after the debuying is then subjected to a firing process, and then a heat treatment is performed to reoxidize the dielectric layer.

焼成条件は、下記の条件が好ましい。
昇温速度:50〜500℃/時間、
保持温度:1100〜1300℃、
保持時間:0.5〜8時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス等。
The firing conditions are preferably the following conditions.
Temperature increase rate: 50 to 500 ° C./hour,
Holding temperature: 1100-1300 ° C.
Retention time: 0.5-8 hours,
Cooling rate: 50 to 500 ° C./hour,
Atmospheric gas: A mixed gas of humidified N 2 and H 2 or the like.

ただし、焼成時の空気雰囲気中の酸素分圧は、10−2Pa以下、特に10−2〜10−8Paにて行うことが好ましい。前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にあり、また、酸素分圧があまり低すぎると、内部電極層の電極材料が異常焼結を起こし、途切れてしまう傾向にある。 However, the oxygen partial pressure in the air atmosphere during firing is preferably 10 −2 Pa or less, particularly 10 −2 to 10 −8 Pa. If the above range is exceeded, the internal electrode layer tends to oxidize, and if the oxygen partial pressure is too low, the electrode material of the internal electrode layer tends to abnormally sinter and tend to break.

このような焼成を行った後の熱処理は、保持温度または最高温度を、好ましくは1000℃以上、さらに好ましくは1000〜1100℃として行うことが好ましい。熱処理時の保持温度または最高温度が、前記範囲未満では誘電体材料の酸化が不十分なために絶縁抵抗寿命が短くなる傾向にあり、前記範囲をこえると内部電極のNiが酸化し、容量が低下するだけでなく、誘電体素地と反応してしまい、寿命も短くなる傾向にある。熱処理の際の酸素分圧は、焼成時の還元雰囲気よりも高い酸素分圧であり、好ましくは10−3Pa〜1Pa、より好ましくは10−2Pa〜1Paである。前記範囲未満では、誘電体層10の再酸化が困難であり、前記範囲をこえると内部電極層12が酸化する傾向にある。 The heat treatment after such firing is preferably carried out at a holding temperature or maximum temperature of preferably 1000 ° C. or higher, more preferably 1000 to 1100 ° C. If the holding temperature or maximum temperature during heat treatment is less than the above range, the dielectric material is insufficiently oxidized and the insulation resistance life tends to be shortened. In addition to a decrease, it tends to react with the dielectric substrate and shorten its lifetime. The oxygen partial pressure during the heat treatment is higher than the reducing atmosphere during firing, and is preferably 10 −3 Pa to 1 Pa, more preferably 10 −2 Pa to 1 Pa. Below the range, it is difficult to re-oxidize the dielectric layer 10, and when the range is exceeded, the internal electrode layer 12 tends to oxidize.

このようにして得られた焼結体(素子本体4)には、例えばバレル研磨、サンドプラスト等にて端面研磨を施し、端子電極用ペーストを焼きつけて端子電極6,8が形成される。端子電極用ペーストの焼成条件は、例えば、加湿したNとHとの混合ガス中で600〜800℃にて10分間〜1時間程度とすることが好ましい。そして、必要に応じ、端子電極6,8上にめっき等を行うことによりパッド層を形成する。なお、端子電極用ペーストは、上記した電極ペーストと同様にして調製すればよい。 The sintered body (element body 4) thus obtained is subjected to end surface polishing by, for example, barrel polishing, sand plast, etc., and terminal electrode paste 6 is baked to form terminal electrodes 6 and 8. The firing conditions for the terminal electrode paste are preferably, for example, about 10 minutes to 1 hour at 600 to 800 ° C. in a humidified mixed gas of N 2 and H 2 . Then, if necessary, a pad layer is formed on the terminal electrodes 6 and 8 by plating or the like. In addition, what is necessary is just to prepare the paste for terminal electrodes like the above-mentioned electrode paste.

このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。   The multilayer ceramic capacitor of the present invention thus manufactured is mounted on a printed circuit board by soldering or the like and used for various electronic devices.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、所定枚数のグリーンシート10aを積み重ねて予備積層体Unを形成し、その後に、予備積層体Unを乾燥させ、乾燥後の予備積層体Unを積み重ねて最終積層体Ufを得る。そうすることで、残留溶剤または可塑剤などが、最終積層体Unの固化乾燥工程および脱バインダ工程において、一度に揮発することが少なくなり、デラミネーションを抑制できる。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment, a predetermined number of green sheets 10a are stacked to form a preliminary stacked body Un, and then the preliminary stacked body Un is dried, and the dried preliminary stacked body Un is stacked. Thus, the final laminate Uf is obtained. By doing so, the residual solvent or plasticizer is less likely to volatilize at a time in the solidification drying process and the binder removal process of the final laminate Un, and delamination can be suppressed.

また、本実施形態では、予備積層体Unのユニット乾燥後の残留溶剤量を所定の範囲にしているために、乾燥しすぎることはなく、スタック性が十分であり、プレスにより最終積層体を得る際に、図9に示すように、予備積層体Unの相互間での積層ズレΔDも抑制することができる。   Moreover, in this embodiment, since the residual solvent amount after the unit drying of the preliminary laminated body Un is in a predetermined range, it is not excessively dried, the stacking property is sufficient, and the final laminated body is obtained by pressing. In this case, as shown in FIG. 9, the stacking deviation ΔD between the preliminary stacks Un can also be suppressed.

さらに、本実施形態では、積層、切断後に形成されたグリーンチップに対して、直ちに、脱バインダ処理を施すのではなく、脱バインダ処理前のグリーンチップに対して、残留溶剤量を調整するので、クラックの発生が抑制される。具体的には、脱バインダ処理前のグリーンチップの残留溶剤量を適正範囲に調整することにより、脱バインダ以降の工程で、グリーンチップから溶剤成分が急激に揮発することが無くなり、結果として、焼成後のチップ焼結体中にクラックを生じることが無くなる。   Further, in the present embodiment, the green chip formed after lamination and cutting is not immediately subjected to the binder removal process, but the residual solvent amount is adjusted with respect to the green chip before the binder removal process. Generation of cracks is suppressed. Specifically, by adjusting the residual solvent amount of the green chip before the binder removal process to an appropriate range, the solvent component does not volatilize rapidly from the green chip in the process after the binder removal, and as a result, firing Cracks are not generated in the later chip sintered body.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば本発明の方法は、積層セラミックコンデンサの製造方法に限らず、その他の積層型電子部品の製造方法としても適用することが可能である。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
For example, the method of the present invention is not limited to a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor, but can also be applied as a method for manufacturing other multilayer electronic components.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
実施例1
グリーンシート用ペーストの作製
Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.
Example 1
Preparation of green sheet paste

セラミック粉体の出発原料としてBaTiO粉体(BT−02/堺化学工業(株))を用いた。このBaTiO粉体100質量部に対して、(Ba0.6Ca0.4)SiO:1.48質量部、Y:1.01質量部、MgCO:0.72質量%、Cr:0.13質量%、およびV:0.045質量%になるようにセラミック粉体副成分添加物を用意した。 BaTiO 3 powder (BT-02 / Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was used as a starting material for the ceramic powder. (Ba 0.6 Ca 0.4 ) SiO 3 : 1.48 parts by mass, Y 2 O 3 : 1.01 parts by mass, MgCO 3 : 0.72% by mass with respect to 100 parts by mass of this BaTiO 3 powder. , Cr 2 O 3 : 0.13 mass%, and V 2 O 5 : 0.045 mass% were prepared ceramic powder subcomponent additives.

初めに、副成分添加物のみをボールミルで混合し、スラリー化した。すなわち、副成分添加物(合計量8.8g)と、エタノール/n−プロパノールが1:1の溶剤(16g)とを、ボールミルにより、20時間予備粉砕を行った。次に、BaTiO:191.2gに対して、副成分添加物の予備粉砕スラリーと、エタノール:38gと、n−プロパノール:38gと、キシレン:28gと、ミネラルスピリット:14gと、可塑剤成分としてのDOP(フタル酸ジオクチル):6gと、分散剤としてのポリエチレングリコール系のノニオン性分散剤(HLB=5〜6):1.4gとを添加した。この分散ペーストに、バインダ樹脂として、積水化学社製BH6(ポリビニルブチラール樹脂/PVB)の15%ラッカー(積水化学社製BH6を、エタノール/n−プロパノール=1:1で溶解)を固形分として6質量%添加した(ラッカー添加量として、80g)。その後20時間、ボールミルすることによって、セラミックペースト(グリーンシート用ペースト)とした。なお、分散剤としてのポリエチレングリコール系のノニオン性分散剤(HLB=5〜6)としては、ポリエチレングリコールと脂肪酸エステルのブロックポリマーを用いた。 First, only the minor component additive was mixed with a ball mill to form a slurry. That is, auxiliary components (total amount 8.8 g) and ethanol / n-propanol 1: 1 solvent (16 g) were preliminarily pulverized with a ball mill for 20 hours. Next, with respect to BaTiO 3 : 191.2 g, as a plasticizer component, a preliminary pulverized slurry of additive additives, ethanol: 38 g, n-propanol: 38 g, xylene: 28 g, mineral spirit: 14 g DOP (dioctyl phthalate): 6 g and polyethylene glycol-based nonionic dispersant (HLB = 5-6): 1.4 g as a dispersant were added. As a binder resin, BH6 (polyvinyl butyral resin / PVB) 15% lacquer (Sekisui Chemical BH6 is dissolved in ethanol / n-propanol = 1: 1) as a solid content is used as a binder resin. A mass% was added (80 g as a lacquer addition amount). Then, a ceramic paste (green sheet paste) was obtained by ball milling for 20 hours. In addition, as the polyethylene glycol-based nonionic dispersant (HLB = 5 to 6) as a dispersant, a block polymer of polyethylene glycol and a fatty acid ester was used.

バインダ樹脂としてのポリビニルブチラール樹脂の重合度は、1400であり、そのブチラール化度は、69%±3%であり、残留アセチル基量は、3±2%であった。このバインダ樹脂は、セラミックス粉体(セラミック粉体副成分添加物を含む)100質量部に対して6質量部でセラミックペースト中に含まれていた。また、セラミックペーストにおけるセラミックス粉体とバインダ樹脂と可塑剤との合計の体積を100体積%とした場合に、セラミックス粉体が占める体積割合は、67.31体積%であった。また、そのペースト全体におけるセラミック粉体の質量割合は、49質量%であった。   The degree of polymerization of the polyvinyl butyral resin as the binder resin was 1400, the degree of butyralization was 69% ± 3%, and the amount of residual acetyl groups was 3 ± 2%. This binder resin was contained in the ceramic paste at 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of ceramic powder (including ceramic powder subcomponent additives). Further, when the total volume of the ceramic powder, the binder resin, and the plasticizer in the ceramic paste was 100% by volume, the volume ratio occupied by the ceramic powder was 67.31% by volume. Moreover, the mass ratio of the ceramic powder in the whole paste was 49 mass%.

また、可塑剤としてのDOPは、バインダ樹脂100質量部に対して、50質量部でセラミックペースト中に含まれていた。水は、セラミック粉体100質量部に対して、2質量部含まれていた。分散剤としてのポリエチレングリコール系のノニオン性分散剤は、セラミック粉体100質量部に対して、0.7質量部含まれていた。   Moreover, DOP as a plasticizer was contained in the ceramic paste at 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. The water was contained in an amount of 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ceramic powder. The polyethylene glycol-based nonionic dispersant as the dispersant was contained in an amount of 0.7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ceramic powder.

また、ペースト中には、セラミックス粉体100質量部に対して、炭化水素系溶剤、工業用ガソリン、ケロシン、ソルベントナフサの内の少なくとも何れか1つであるミネラルスピリットが、5質量部添加されていた。さらに、ペースト中には、溶剤として、アルコール系溶剤と芳香族系溶剤とを含み、アルコール系溶剤と芳香族系溶剤との合計質量を100質量部として、芳香族系溶剤としてのトルエンが15質量部含まれていた。
グリーンシートの作製
Further, in the paste, 5 parts by mass of mineral spirit, which is at least one of hydrocarbon solvents, industrial gasoline, kerosene, and solvent naphtha, is added to 100 parts by mass of the ceramic powder. It was. Further, the paste contains an alcohol solvent and an aromatic solvent as a solvent, the total mass of the alcohol solvent and the aromatic solvent is 100 parts by mass, and toluene as an aromatic solvent is 15 masses. Department was included.
Green sheet production

上記のようにして得られたペーストをワイヤーバーコーターによって、図3(A)に示す支持フィルムとしてのPETフィルム上に1.2μmの厚みで塗布し、乾燥することでグリーンシート10aを作製した。塗布速度は50m/min、乾燥条件は、乾燥炉内の温度が60℃〜70℃、乾燥時間が2分であった。
剥離層用ペースト
The paste obtained as described above was applied by a wire bar coater to a thickness of 1.2 μm on a PET film as a support film shown in FIG. 3 (A) and dried to produce a green sheet 10a. The coating speed was 50 m / min, and the drying conditions were a temperature in the drying furnace of 60 ° C. to 70 ° C. and a drying time of 2 minutes.
Release layer paste

前記のグリーンシート用ペーストにおけるBaTiOをBT−01にした以外は、グリーンシート用ペーストと同様にしてペーストを作製し、そのペーストを、エタノール:プロパノール:キシレン(42.5:42.5:15)の混合溶剤によって5倍に希釈したものを、剥離用ペーストとした。
接着層用ペースト
A paste was prepared in the same manner as the green sheet paste except that BaTiO 3 in the green sheet paste was changed to BT-01. The paste was ethanol: propanol: xylene (42.5: 42.5: 15). 1) diluted with a mixed solvent of 5) was used as a peeling paste.
Adhesive layer paste

接着層用ペーストとしては、有機ビヒクルを用いた。具体的には、ポリビニルブチラール樹脂を100質量部に対して、可塑剤としてフタル酸ビス(2ヘチルヘキシル)DOP:50質量部、MEK:900重量部の混合溶液を、MEKで更に10倍に希釈し、接着層用ペーストとした。
内部電極用ペースト(転写される電極層用ペースト)
An organic vehicle was used as the adhesive layer paste. Specifically, a mixed solution of 50 parts by mass of bis (2-hexylhexyl) phthalate DOP as a plasticizer and 900 parts by mass of MEK as a plasticizer is further diluted 10 times with MEK with respect to 100 parts by mass of polyvinyl butyral resin. Thus, an adhesive layer paste was obtained.
Internal electrode paste (transferred electrode layer paste)

平均粒径が0.2μmのNi粒子100質量部に対して、
BaTiO粉末(BT−01/堺化学工業(株)):20重量部、
有機ビヒクル:58質量部(ポリビニルブチラール樹脂8質量部をターピネオール92質量部に溶解したもの)、
可塑剤としてフタル酸ビス(2ヘチルヘキシル)DOP:50質量部、
ターピネオール:5質量部、
分散剤 :1重量部、
アセトン :45重量部、
を添加して、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極用ペーストとした。
電極段差吸収用印刷ペーストの作製
For 100 parts by mass of Ni particles having an average particle size of 0.2 μm,
BaTiO 3 powder (BT-01 / Sakai Chemical Industry Co.): 20 parts by weight,
Organic vehicle: 58 parts by mass (8 parts by mass of polyvinyl butyral resin dissolved in 92 parts by mass of terpineol),
Bis (2-hexylhexyl) phthalate DOP as a plasticizer: 50 parts by mass
Terpineol: 5 parts by mass,
Dispersant: 1 part by weight,
Acetone: 45 parts by weight
Was added and kneaded with three rolls to form a slurry for internal electrodes.
Production of electrode paste absorbing paste

セラミック粉末および副成分添加物として、グリーンシート用ペースト用に用いたものと同じものを、同じ配合比となるように用意した。   The same ceramic powder and subcomponent additives used for the green sheet paste were prepared so as to have the same blending ratio.

セラミック粉末および副成分添加物(150g)に、エステル系重合体の分散剤(1.5g)と、テルピネオール(5g)と、アセトン(60g)と、可塑剤としてフタル酸ジオクチル(5g)とを加えて、4時間混合した。次に、この混合液に、積水化学社製のBH6(重合度:1450、ブチラール化度:69モル%±3%のポリビニルブチラール樹脂)の8%ラッカー(ラッカー全量に対して、ポリビニルブチラールが8質量%、テルピネオールが92質量%)を、120gの量で加えて16時間混合した。その後、余剰溶剤のアセトンを除去し、粘度調整としてテルピネオールを40〜100g加えることでペーストを作製した。
グリーンシートの形成、接着層および電極層の転写
To the ceramic powder and auxiliary component additive (150 g), an ester polymer dispersant (1.5 g), terpineol (5 g), acetone (60 g), and dioctyl phthalate (5 g) as a plasticizer are added. And mixed for 4 hours. Next, 8% lacquer of 8% lacquer (polyvinyl butyral resin having a polymerization degree of 1450 and a butyralization degree of 69 mol% ± 3%) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. was added to this mixed solution. Mass% and terpineol 92 mass%) was added in an amount of 120 g and mixed for 16 hours. Then, the excess solvent acetone was removed, and paste was produced by adding 40-100g of terpineol as viscosity adjustment.
Green sheet formation, adhesive layer and electrode layer transfer

まず、上記の誘電体グリーンシート用ペーストを用いて、PETフィルム(第2支持シート)上に、ワイヤーバーコーターを用いて、厚み1.2μmのグリーンシートを形成した。次に、それとは別のPETフィルム(第1支持シート)上に、剥離層を形成するために、上記の剥離層用ペーストを、ワイヤーバーコーターにより塗布乾燥させて0.2μmの剥離層を形成した。   First, using the dielectric green sheet paste, a green sheet having a thickness of 1.2 μm was formed on a PET film (second support sheet) using a wire bar coater. Next, in order to form a release layer on another PET film (first support sheet), the above release layer paste is applied and dried with a wire bar coater to form a 0.2 μm release layer. did.

剥離層の表面に、電極層12aおよび余白パターン層24を形成した。電極層12aは、上記の内部電極用ペーストを用いた印刷法により、1μmの厚みで形成した。余白パターン層24は、上記の電極段差吸収用印刷ペーストを用いた印刷法により、1μmの厚みで形成した。電極段差吸収用印刷ペーストを用いた印刷に際しては、そのペーストが印刷製版のメッシュから流れ出すなどの不都合は観察されなかった。   Electrode layer 12a and blank pattern layer 24 were formed on the surface of the release layer. The electrode layer 12a was formed with a thickness of 1 μm by a printing method using the internal electrode paste. The blank pattern layer 24 was formed with a thickness of 1 μm by a printing method using the above electrode level difference absorbing printing paste. In printing using the electrode level difference absorbing printing paste, no inconvenience such as the paste flowing out of the mesh of the printing plate making was observed.

また、別のPETフィルム(第3支持シート)の上に、接着層28を形成した。接着層28は、上記の接着層用ペーストを用いワイヤーバーコーターにより、0.1μmの厚みで形成した。   Further, an adhesive layer 28 was formed on another PET film (third support sheet). The adhesive layer 28 was formed with a thickness of 0.1 μm by the wire bar coater using the above adhesive layer paste.

まず、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に、図2に示す方法で接着層28を転写した。転写時には、一対のロールを用い、その加圧力は、1MPa、温度は、80°Cであり、転写は、良好に行えることが確認できた。   First, the adhesive layer 28 was transferred to the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 by the method shown in FIG. At the time of transfer, a pair of rolls were used, the pressure was 1 MPa, the temperature was 80 ° C., and it was confirmed that transfer could be performed satisfactorily.

次に、図3に示す方法で、接着層28を介してグリーンシート10aの表面に内部電極層12aおよび余白パターン層24を接着(転写)した。転写時には、一対のロールを用い、その加圧力は、1MPa、温度は、80°Cであり、転写は、良好に行えることが確認できた。
ユニット乾燥
Next, the internal electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 were adhered (transferred) to the surface of the green sheet 10a through the adhesive layer 28 by the method shown in FIG. At the time of transfer, a pair of rolls were used, the pressure was 1 MPa, the temperature was 80 ° C., and it was confirmed that transfer could be performed satisfactorily.
Unit drying

次に、図4〜図7に示す方法で、次々に、内部電極層12aおよびグリーンシート10aを積層し、複数の予備積層体Unを形成した。各予備積層体Unにおけるグリーンシート10aの積層数は、30層であった。次に、各予備積層体をユニット乾燥処理した。   Next, the internal electrode layer 12a and the green sheet 10a were successively laminated by the method shown in FIGS. 4 to 7 to form a plurality of preliminary laminated bodies Un. The number of laminated green sheets 10a in each preliminary laminated body Un was 30 layers. Next, each preliminary laminate was subjected to unit drying treatment.

ユニット乾燥処理条件は、100°Cおよび120分であった。ユニット乾燥前の予備積層体の残留溶剤量と、ユニット乾燥後の予備積層体の残留溶剤量とをそれぞれ計測した。ユニット乾燥後の予備積層体の残留溶剤量は、3.8wt%であった。   Unit drying treatment conditions were 100 ° C. and 120 minutes. The residual solvent amount of the pre-lamination body before unit drying and the residual solvent amount of the pre-lamination body after unit drying were measured, respectively. The residual solvent amount in the pre-laminated body after the unit was dried was 3.8 wt%.

残留溶剤量の測定は、220℃−8時間の加熱による重量減少量とガスクロマトグラフ質量分析を行い、溶剤成分の比率を特定したのち、それを100%とした。これに対し、各条件に対し重量減少と分析を行い、そこから残留溶剤量を算出した。   The amount of residual solvent was measured by performing weight reduction with heating at 220 ° C. for 8 hours and gas chromatograph mass spectrometry, specifying the ratio of solvent components, and setting it to 100%. On the other hand, weight reduction and analysis were performed for each condition, and the residual solvent amount was calculated therefrom.

次に、ユニット乾燥後の予備成形体Unを、図8に示す搬送板50を用いて、下金型40の上に仮置きした。仮置き時の圧力は、0.15Mpaであり、加熱温度は60°Cであり、加圧時間は30秒であった。この予備積層体Unを総積層数が900となるように積層し、仮プレスを行い、最終積層体Ufを得た。仮プレス時の加圧力は、5.9MPaであり、加熱温度は50°Cであり、加圧時間は30秒であった。   Next, the preformed body Un after the unit was dried was temporarily placed on the lower mold 40 using the transport plate 50 shown in FIG. The pressure at the time of temporary placement was 0.15 MPa, the heating temperature was 60 ° C., and the pressurization time was 30 seconds. This preliminary laminated body Un was laminated so that the total number of laminated layers was 900, and temporary pressing was performed to obtain a final laminated body Uf. The applied pressure at the time of temporary pressing was 5.9 MPa, the heating temperature was 50 ° C., and the pressing time was 30 seconds.

次に、最終積層体Ufを、所定サイズに切断し、固化乾燥処理、脱バインダ処理、焼成およびアニール(熱処理)を行って、チップ形状の焼結体を作製した。なお、各チップの焼成後のサイズは、3.2mm×1.6mm×1.6mmであった。
固化乾燥、溶剤量の測定
Next, the final laminated body Uf was cut into a predetermined size and subjected to solidification drying treatment, binder removal treatment, firing and annealing (heat treatment) to produce a chip-shaped sintered body. The size of each chip after firing was 3.2 mm × 1.6 mm × 1.6 mm.
Solidification drying, solvent amount measurement

次に、得られたグリーンチップに対して、固化乾燥を行った。
固化乾燥は、
昇温速度S1:10〜300℃/時間(表参照)、
保持温度T1:80〜200℃(表参照)、
保持時間t1:4〜12時間(表参照)、
雰囲気ガス:空気中または真空中(表参照)、で行った。
Next, the obtained green chip was solidified and dried.
Solidification drying is
Temperature increase rate S1: 10 to 300 ° C./hour (see table),
Holding temperature T1: 80-200 ° C. (see table),
Holding time t1: 4 to 12 hours (see table),
Atmospheric gas: performed in air or in vacuum (see table).

その後、チップの残留溶剤量(固化乾燥後)を測定した。残留溶剤量の測定は、固化乾燥前と同様に行った。結果を表1に示す。   Then, the residual solvent amount (after solidification drying) of the chip was measured. The amount of residual solvent was measured in the same manner as before solidification drying. The results are shown in Table 1.

また、固化乾燥後のグリーンチップの固着強度を測定した。固着強度はチップ端部両側を支持し、上面に刃をあてて、圧力を加えて測定した。本実施例では、固着強度が65N以上のものを良品とした。結果を表1に示す。
脱バインダ、炭素量の測定
Further, the fixing strength of the green chip after solidification drying was measured. The fixing strength was measured by supporting both sides of the tip end, applying a blade to the upper surface, and applying pressure. In this example, a non-defective product having a fixing strength of 65 N or more was determined. The results are shown in Table 1.
Binder removal and carbon content measurement

次に、固化乾燥後のグリーンチップに対して、脱バインダ処理を行った。
脱バインダは、
昇温速度S2:15℃/時間、
保持温度T2:600℃、
保持時間t2:2時間、
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス、
で行った。
Next, binder removal processing was performed on the green chip after solidification drying.
Binder removal
Temperature rising rate S2: 15 ° C./hour,
Holding temperature T2: 600 ° C.
Holding time t2: 2 hours
Atmospheric gas: A mixed gas of humidified N 2 and H 2 ,
I went there.

その後、チップの残留炭素量(脱バインダ後)を測定した。残留炭素量は、炭素・硫黄分析装置(堀場製作所製EMIA520)を用いて測定した。この分析装置は、高周波加熱による酸素気流で原試料(チップ)を燃焼させ、赤外線吸収により炭素量を測定するものである。結果を表1に示す。
焼結体の作製
Thereafter, the residual carbon amount of the chip (after debinding) was measured. The amount of residual carbon was measured using a carbon / sulfur analyzer (EMIA520 manufactured by Horiba, Ltd.). This analyzer burns an original sample (chip) with an oxygen stream generated by high-frequency heating, and measures the amount of carbon by infrared absorption. The results are shown in Table 1.
Production of sintered body

次に、脱バインダ処理後のグリーンチップに対して、焼成およびアニール(熱処理)を行って、チップ形状の焼結体を作製した。
焼成は、
昇温速度:300℃/時間、
保持温度:1200℃、
保持時間:2時間、
冷却速度:200℃/時間、
雰囲気ガス:露点20℃に制御されたNガスとH(5%)との混合ガス、で行った。
Next, the green chip after the binder removal treatment was fired and annealed (heat treatment) to produce a chip-shaped sintered body.
Firing is
Temperature increase rate: 300 ° C / hour,
Holding temperature: 1200 ° C,
Retention time: 2 hours
Cooling rate: 200 ° C./hour,
Atmosphere gas: mixed gas of N 2 gas and H 2 controlled to a dew point of 20 ℃ (5%), with was conducted.

アニール(再酸化)は、
昇温速度:300℃/時間、
保持温度:1050℃、
保持時間:2時間、
冷却速度:300℃/時間、
雰囲気用ガス:露点20℃に制御されたNガス、で行った。
雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを用い、水温0〜75℃にて行った。
Annealing (reoxidation)
Temperature increase rate: 300 ° C / hour,
Holding temperature: 1050 ° C.
Retention time: 2 hours
Cooling rate: 300 ° C./hour,
Atmosphere gas was carried out in N 2 gas, controlled to a dew point 20 ° C..
The humidification of the atmospheric gas was performed using a wetter at a water temperature of 0 to 75 ° C.

次に、チップ形状の焼結体の端面をサンドブラストにて研磨したのち、In−Ga合金ペーストを端部に塗布し、その後、焼成を行うことにより外部電極を形成し、図1に示す積層セラミックコンデンサのサンプルを得た。
クラック発生率
Next, after polishing the end face of the chip-shaped sintered body by sand blasting, an In—Ga alloy paste is applied to the end, and then firing is performed to form an external electrode, and the multilayer ceramic shown in FIG. A capacitor sample was obtained.
Crack generation rate

得られた積層セラミックコンデンサのサンプルについて、クラックの発生率を評価した。クラックの発生率(%)は、以下のようにして算出した。まず、1000個のコンデンサ試料の外観を、光学顕微鏡(Nikon社製、UFX−II)により、それぞれ観察してクラックの有無を確認し、クラックの発生していないコンデンサ試料を30個、選び出した。次に、これら30個のコンデンサ試料に対し、樹脂埋めし、4.5mm方向に2mm研磨した後、光学顕微鏡により内部クラックの有無を調べ、内部クラックの発生したコンデンサ試料の個数を、全体個数(30個)で割って、パーセンテージで示した。本実施例では、クラック発生率が10%以下のものを良品としてカウントをした。結果を表1に示す。   The crack generation rate was evaluated for the obtained multilayer ceramic capacitor samples. The crack generation rate (%) was calculated as follows. First, the appearance of 1000 capacitor samples was observed with an optical microscope (manufactured by Nikon, UFX-II) to confirm the presence or absence of cracks, and 30 capacitor samples with no cracks were selected. Next, after filling these 30 capacitor samples with resin and polishing 2 mm in the 4.5 mm direction, the presence or absence of internal cracks was examined with an optical microscope, and the number of capacitor samples with internal cracks was determined as the total number ( Divided by 30) and expressed as a percentage. In this example, those having a crack occurrence rate of 10% or less were counted as non-defective products. The results are shown in Table 1.

Figure 2007294886
Figure 2007294886
評価1Evaluation 1

表1から以下のことが理解される。
まず、固化乾燥時のT1、t1および雰囲気を固定して、S1を変化させた場合に着目すると、S1が遅すぎると、固化乾燥後のチップの溶剤量が少なくなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料1)。逆に、S1が早すぎると、固化乾燥後のチップの溶剤量が多くなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料9,10)。これに対し、S1が適正範囲であると、固化乾燥後のチップの溶剤量が1〜2wt%に制御され、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率を小さくすることができる(試料2〜8)。
From Table 1, the following can be understood.
First, when T1 and t1 during solidification drying and the atmosphere are fixed and S1 is changed, if S1 is too slow, the amount of solvent in the chip after solidification drying becomes too small. As a result, after firing The crack generation rate of the chip sintered body becomes larger (Sample 1). On the other hand, if S1 is too early, the amount of solvent in the chip after solidification and drying becomes too large, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip after firing becomes large (samples 9 and 10). On the other hand, when S1 is in an appropriate range, the solvent amount of the chip after solidification and drying is controlled to 1 to 2 wt%, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip body after firing can be reduced ( Samples 2-8).

次に、固化乾燥時のS1、t1および雰囲気を固定して、T1を変化させた場合に着目すると、T1が低すぎると、固化乾燥後のチップの溶剤量が多くなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料11,12)。逆に、T1が高すぎると、固化乾燥後のチップの溶剤量が少なくなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料17)。これに対し、T1が適正範囲であると、固化乾燥後のチップの溶剤量が1〜2wt%に制御され、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率を小さくすることができる(試料4,13〜16)。   Next, when S1 and t1 and the atmosphere at the time of solidification drying are fixed and T1 is changed, if T1 is too low, the amount of solvent in the chip after solidification drying becomes too large. The crack generation rate of the later chip sintered body increases (samples 11 and 12). Conversely, if T1 is too high, the amount of solvent in the chip after solidification and drying is too small, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip after firing is increased (sample 17). On the other hand, when T1 is in the proper range, the solvent amount of the chip after solidification and drying is controlled to 1 to 2 wt%, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip body after firing can be reduced ( Samples 4, 13-16).

次に、固化乾燥時のS1、T1および雰囲気を固定して、t1を変化させた場合に着目すると、t1が短すぎると、固化乾燥後のチップの溶剤量が多くなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料21)。逆に、t1が長すぎると、固化乾燥後のチップの溶剤量が少なくなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料23)。これに対し、t1が適正範囲であると、固化乾燥後のチップの溶剤量が1〜2wt%に制御され、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率を小さくすることができる(試料4,22)。   Next, when S1 and T1 and the atmosphere at the time of solidification drying are fixed and t1 is changed, if t1 is too short, the amount of solvent in the chip after solidification drying becomes too large, and as a result, firing is performed. The crack generation rate of the later chip sintered body is increased (sample 21). Conversely, if t1 is too long, the amount of solvent in the chip after solidification and drying is too small, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip after firing is increased (sample 23). On the other hand, when t1 is in the proper range, the solvent amount of the chip after solidification and drying is controlled to 1 to 2 wt%, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip body after firing can be reduced ( Sample 4,22).

試料24では、固化乾燥処理を減圧雰囲気下で行った。減圧雰囲気下で行っても、同様な効果が得られることが確認できた。   Sample 24 was solidified and dried in a reduced-pressure atmosphere. It has been confirmed that the same effect can be obtained even when performed in a reduced pressure atmosphere.

また、固化乾燥を行わないと(試料25)、クラック発生率が100%になってしまう。また、ユニット乾燥を行わないと(試料26)、固化乾燥を行っても、クラック発生率が10%以下にならない。
実施例2
If solidification drying is not performed (sample 25), the crack generation rate becomes 100%. Further, if unit drying is not performed (sample 26), even if solidification drying is performed, the crack generation rate does not become 10% or less.
Example 2

固化乾燥後のグリーンチップの脱バインダ処理条件を下記のように変更した以外は、実施例1と同様に焼結体を得て、クラック量を調査した。得られたチップコンデンサのクラック発生率が10%以下のものを良品としてカウントをした。結果を表2に示す。   A sintered body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the binder removal conditions for the green chip after solidification drying were changed as follows, and the crack amount was investigated. A chip capacitor having a crack occurrence rate of 10% or less was counted as a non-defective product. The results are shown in Table 2.

脱バイ条件
・昇温速度:5〜15℃/時間、
・脱バイ保持温度:400〜800℃、
・保持時間:2〜8時間。
De-buy condition / temperature increase rate: 5 to 15 ° C./hour,
-Detension holding temperature: 400-800 ° C
-Retention time: 2-8 hours.

Figure 2007294886
Figure 2007294886
評価2Evaluation 2

表2から以下のことが理解される。
まず、脱バインダ時のT2およびt2を固定して、昇温速度S2を変化させた場合に着目すると、S2が遅すぎると、脱バインダ後のチップの炭素量が少なくなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料31)。逆に、昇温速度S2が速すぎると脱バインダのためのガスが急激に発生し、クラックの原因となる(試料34)。これに対し、S2が適正範囲であると、脱バインダ後のチップの炭素量が0.1〜0.4wt%に制御され、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率を小さくすることができる(試料4,32,33)。
From Table 2, the following can be understood.
First, focusing on the case where T2 and t2 at the time of binder removal are fixed and the temperature increase rate S2 is changed, if S2 is too slow, the carbon amount of the chip after binder removal becomes too small, resulting in firing. The crack generation rate of the later chip sintered body is increased (sample 31). On the other hand, if the heating rate S2 is too high, a gas for removing the binder is generated abruptly and causes cracking (sample 34). On the other hand, if S2 is in the proper range, the carbon content of the chip after debinding is controlled to 0.1 to 0.4 wt%, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip body after firing is reduced. (Samples 4, 32, 33).

次に、脱バインダ時のS2およびt2を固定して、T2を変化させた場合に着目すると、T2が低すぎると、脱バインダ後のチップの炭素量が多くなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料41)。逆に、T2が高すぎると、脱バインダ後のチップの溶剤量が少なくなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料44)。これに対し、T2が適正範囲であると、脱バインダ後のチップの炭素量が0.1〜0.4wt%に制御され、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率を小さくすることができる(試料4,42,43)。   Next, when S2 and t2 at the time of binder removal are fixed and T2 is changed, if T2 is too low, the amount of carbon in the chip after binder removal becomes too large. As a result, after firing, The crack generation rate of the chip sintered body is increased (sample 41). On the other hand, if T2 is too high, the amount of solvent in the chip after debinding is too small, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip after firing is increased (sample 44). On the other hand, if T2 is in the proper range, the carbon content of the chip after binder removal is controlled to 0.1 to 0.4 wt%, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip after firing is reduced. (Samples 4, 42, 43).

次に、脱バインダ時のS2およびT2を固定して、t2を変化させた場合に着目すると、t2が短すぎると、脱バインダ後のチップの炭素量が多くなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料51)。逆に、t2が長すぎると、脱バインダ後のチップの炭素量が少なくなり過ぎ、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率が大きくなる(試料55)。これに対し、t2が適正範囲であると、脱バインダ後のチップの炭素量が0.1〜0.4wt%に制御され、結果として、焼成後のチップ焼結体のクラック発生率を小さくすることができる(試料4,52〜54)。
実施例3
Next, when S2 and T2 at the time of binder removal are fixed and t2 is changed, if t2 is too short, the carbon amount of the chip after binder removal becomes too large, and as a result, after firing The crack generation rate of the chip sintered body increases (sample 51). Conversely, if t2 is too long, the carbon content of the chip after debinding is too small, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip after firing is increased (sample 55). On the other hand, if t2 is in the proper range, the carbon content of the chip after binder removal is controlled to 0.1 to 0.4 wt%, and as a result, the crack generation rate of the sintered chip body after firing is reduced. (Samples 4, 52-54).
Example 3

固化乾燥後のグリーンチップの固化乾燥時に、表3に示すように、圧力を加えて行った以外は、実施例1と同様に焼結体を得て、クラック量を調査した。得られたチップコンデンサのクラック発生率が10%以下のものを良品としてカウントをした。結果を表3に示す。   A sintered body was obtained in the same manner as in Example 1 except that pressure was applied as shown in Table 3 when the green chip was solidified and dried, and the amount of cracks was examined. A chip capacitor having a crack occurrence rate of 10% or less was counted as a non-defective product. The results are shown in Table 3.

なお、表3において、固化乾燥後のチップ変形量(%)とは、固化乾燥前のチップ寸法に対して、固化乾燥後のチップ寸法が何%変形するかを測定した結果である。この変形量は、1%以下が好ましい。チップ変形量が1%を超えると、チップサイズの均一化が困難になり、チップサイズにバラツキが生じる。   In Table 3, the chip deformation amount (%) after solidification drying is a result of measuring how much the chip dimension after solidification drying is deformed with respect to the chip dimension before solidification drying. This deformation is preferably 1% or less. When the amount of chip deformation exceeds 1%, it is difficult to make the chip size uniform, and the chip size varies.

Figure 2007294886
Figure 2007294886
評価3Evaluation 3

表3に示すように、固化乾燥時に圧力を印加することで、クラックの発生率を低減できることが確認された。ただし、あまりに強い圧力であると、チップ変形量が大きくなり、好ましくないことから、圧力は、好ましくは3MPa未満、さらに好ましくは、2MPa以下である。
実施例4
As shown in Table 3, it was confirmed that the rate of occurrence of cracks can be reduced by applying pressure during solidification drying. However, if the pressure is too strong, the amount of deformation of the chip increases, which is not preferable. Therefore, the pressure is preferably less than 3 MPa, more preferably 2 MPa or less.
Example 4

以下に示す以外は、実施例1と同様にして焼結体を作製し、クラック発生率を求めた。   Except for the following, a sintered body was produced in the same manner as in Example 1, and the crack generation rate was determined.

図4〜図7に示す方法で、次々に、内部電極層12aおよびグリーンシート10aを積層し、複数の予備積層体Unを形成した。各予備積層体Unにおけるグリーンシート10aの積層数は10とした。次に、各予備積層体をユニット乾燥処理した。   4 to 7, the internal electrode layer 12a and the green sheet 10a were sequentially stacked to form a plurality of preliminary stacked bodies Un. The number of stacked green sheets 10a in each preliminary laminate Un was 10. Next, each preliminary laminate was subjected to unit drying treatment.

ユニット乾燥処理条件は、乾燥温度を100°Cとし、乾燥時間は表4に従い、0時間、2時間、4時間、6時間、8時間、10時間と変化させた。   Unit drying treatment conditions were such that the drying temperature was 100 ° C., and the drying time was changed according to Table 4 to 0 hours, 2 hours, 4 hours, 6 hours, 8 hours, and 10 hours.

次に、ユニット乾燥後の予備成形体Unを、図8に示す搬送板50を用いて、下金型40の上に仮置きした。仮置きの条件は、
圧力 :0.15MPa、
加熱温度:60°C、
加圧時間:30秒、
であった。この予備積層体Unを、総積層数が500となるよう積層し、仮プレスを行い、最終積層体Ufを得た。仮プレス時の条件は、
加圧力 :5.9MPa、
加熱温度 :50℃、
加圧時間 :1秒、
であった。
Next, the preformed body Un after the unit was dried was temporarily placed on the lower mold 40 using the transport plate 50 shown in FIG. Temporary placement conditions are
Pressure: 0.15 MPa,
Heating temperature: 60 ° C
Pressurization time: 30 seconds,
Met. This preliminary laminated body Un was laminated so that the total number of laminated layers was 500, and temporary pressing was performed to obtain a final laminated body Uf. Temporary press conditions are
Applied pressure: 5.9 MPa
Heating temperature: 50 ° C
Pressurization time: 1 second
Met.

次に、最終積層体Ufを、所定サイズに切断し、固化乾燥処理、脱バインダ処理、焼成およびアニール(熱処理)を行って、チップ形状の焼結体を作製した。なお、各チップの焼成後のサイズは1.6x3.2x1.6mmとした。   Next, the final laminated body Uf was cut into a predetermined size and subjected to solidification drying treatment, binder removal treatment, firing and annealing (heat treatment) to produce a chip-shaped sintered body. The size of each chip after firing was set to 1.6 × 3.2 × 1.6 mm.

次に、得られたグリーンチップに対して、固化乾燥処理を行った。固化乾燥処理は、
昇温速度S1:50℃/h、
保持温度T1:160℃、
保持時間t1:4hr 、
雰囲気ガス :空気中、
の条件で行なった。
Next, the obtained green chip was solidified and dried. The solidification drying process
Temperature rising rate S1: 50 ° C./h,
Holding temperature T1: 160 ° C.
Holding time t1: 4 hr,
Atmospheric gas: In air,
It performed on condition of this.

その後、固化乾燥後のグリーンチップについてチップの残留溶剤量を測定した。結果を表4に示す。   Then, the residual solvent amount of the chip | tip was measured about the green chip | tip after solidification drying. The results are shown in Table 4.

次に、固化乾燥後のグリーンチップに対して、脱バインダ処理を行った。
脱バインダは、
昇温速度S1:15℃/h、
保持温度T1:600℃、
保持時間t1:2hr、
雰囲気ガス :露点20℃に制御されたNガスとH(5%)との混合ガス、
の条件で行なった。
Next, binder removal processing was performed on the green chip after solidification drying.
Binder removal
Temperature rising rate S1: 15 ° C./h,
Holding temperature T1: 600 ° C.
Holding time t1: 2 hr,
Atmospheric gas: A mixed gas of N 2 gas and H 2 (5%) controlled at a dew point of 20 ° C.
It performed on condition of this.

脱バインダ処理したグリーンチップを実施例1と同様に焼成し、得られた焼結体についてクラック発生率を測定した。結果を表4に示す。   The green chip subjected to the binder removal treatment was fired in the same manner as in Example 1, and the crack generation rate of the obtained sintered body was measured. The results are shown in Table 4.

Figure 2007294886
Figure 2007294886
評価4Evaluation 4

表4から以下のことが確認できた。
ユニット乾燥に際しては、ユニット乾燥させる前の予備積層体Unの重量に対して0.1〜1.0wt%、さらに好ましくは0.2〜1.0wt%、さらに好ましくは0.3〜0.9wt%の重量減少が生じるように、予備積層体Unをユニット乾燥させることで、クラックの発生率を低減することができた(試料111〜113)。
From Table 4, the following could be confirmed.
At the time of unit drying, 0.1 to 1.0 wt%, more preferably 0.2 to 1.0 wt%, more preferably 0.3 to 0.9 wt%, based on the weight of the preliminary laminate Un before the unit is dried. %, It was possible to reduce the occurrence rate of cracks by subjecting the pre-laminated body Un to unit drying (Samples 111 to 113).

また、グリーンチップを固化乾燥させる際に、固化乾燥後のグリーンチップの残留溶剤量が、1〜2wt%、さらに好ましくは1.1〜1.5%となるように、グリーンチップを固化乾燥させることで、クラックの発生率を低減することができることが確認された。
実施例5
Further, when the green chip is solidified and dried, the green chip is solidified and dried so that the residual solvent amount of the green chip after solidification and drying is 1 to 2 wt%, more preferably 1.1 to 1.5%. Thus, it was confirmed that the occurrence rate of cracks can be reduced.
Example 5

試料120〜試料124については、ユニット乾燥温度を100℃、乾燥時間を2時間とし、総積層数を表5に示すように300,500,700,900,1000と変化させた以外は、実施例4と同様にしてクラック発生率の測定を行った。試料130〜試料134については、ユニット乾燥を行わず、総積層数を表5に示すよう変化させた。   For Sample 120 to Sample 124, the unit drying temperature was set to 100 ° C., the drying time was set to 2 hours, and the total number of layers was changed to 300, 500, 700, 900, and 1000 as shown in Table 5. The crack occurrence rate was measured in the same manner as in No. 4. Samples 130 to 134 were not subjected to unit drying, and the total number of layers was changed as shown in Table 5.

Figure 2007294886
Figure 2007294886
評価5Evaluation 5

表5から以下のことが確認できた。
ユニット乾燥条件について、行った場合と全くしなかった場合で比較すると、総積層数が同じ場合でクラック発生率を比較すると、すべての場合においてユニット乾燥を行った場合の方がクラック発生率を小さくできることが確認できた(試料120〜124)。また総積層数が多くなるほど、クラック発生率の減少効果が大きいことが確認された。特に総積層数が1000層とした場合においてもクラック発生率を抑制できることが確認された。
実施例6
From Table 5, the following could be confirmed.
Comparing the unit drying conditions with and without the case, comparing the crack generation rate when the total number of layers is the same, the crack generation rate is smaller when unit drying is performed in all cases. It was confirmed that it was possible (samples 120 to 124). It was also confirmed that the greater the total number of layers, the greater the effect of reducing the crack generation rate. In particular, it was confirmed that the crack generation rate can be suppressed even when the total number of laminated layers is 1000.
Example 6

試料180については、チップのサイズを0.8x1.6x0.8mmに変え、ユニット乾燥を100℃、2時間で行い、総積層数を250とした以外は実施例4と同様にしてクラック発生率を調べた。試料181については、ユニット乾燥を行わない以外は試料180と同様にしてクラック発生率を調べた。結果を表6に示す。   For sample 180, the crack generation rate was set in the same manner as in Example 4 except that the chip size was changed to 0.8 × 1.6 × 0.8 mm, unit drying was performed at 100 ° C. for 2 hours, and the total number of layers was 250. Examined. For the sample 181, the crack occurrence rate was examined in the same manner as the sample 180 except that unit drying was not performed. The results are shown in Table 6.

Figure 2007294886
Figure 2007294886
評価6Evaluation 6

表6から以下のことが確認できた。
チップサイズがさらに小さくなった場合においても、ユニット乾燥を行った場合と全くしなかった場合で比較すると、ユニット乾燥を行った場合の方がクラック発生率が少ないことが確認できた(試料180,181)。
From Table 6, the following could be confirmed.
Even when the chip size was further reduced, it was confirmed that the rate of occurrence of cracks was smaller when the unit was dried compared to when the unit was dried and when the unit was not dried (Sample 180, 181).

図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミック電子部品の製造方法により製造される積層セラミックコンデンサの概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor manufactured by a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention. 図2(A)〜図2(C)はグリーンシートと電極層との積層工程の一例を示す要部断面図である。FIG. 2A to FIG. 2C are cross-sectional views of a main part showing an example of a lamination process of a green sheet and an electrode layer. 図3(A)〜図3(C)は図2(C)の続きの工程を示す要部断面図である。FIG. 3A to FIG. 3C are cross-sectional views of relevant parts showing a step subsequent to FIG. 図4(A)〜図4(C)は図3(C)の続きの工程を示す要部断面図である。FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views of relevant parts showing steps subsequent to FIG. 図5(A)〜図5(C)は図4(C)の続きの工程を示す要部断面図である。FIG. 5A to FIG. 5C are cross-sectional views of relevant parts showing a step subsequent to FIG. 図6(A)〜図6(C)は図5(C)の続きの工程を示す要部断面図である。6 (A) to 6 (C) are cross-sectional views of relevant parts showing a step subsequent to FIG. 5 (C). 図7は図6(C)の続きの工程を示す要部断面図である。FIG. 7 is a fragmentary cross-sectional view showing a step continued from FIG. 図8(A)および図8(B)は図7の続きの工程を示す概略図である。FIG. 8A and FIG. 8B are schematic views showing a continuation process of FIG. 図9は積層ズレを示す概略図である。FIG. 9 is a schematic view showing stacking deviation.

符号の説明Explanation of symbols

2… 積層セラミックコンデンサ
4… コンデンサ素体
6,8… 端子電極
10… 誘電体層
10a… グリーンシート
12… 内部電極層
12a… 電極層
20… キャリアシート(第1支持シート)
22… 剥離層
24… 余白パターン層
26… キャリアシート(第3支持シート)
28… 接着層
30… キャリアシート(第2支持シート)
40… 下金型
50… 搬送板
Un… 予備積層体
Uf… 最終積層体
2 ... Multilayer ceramic capacitor 4 ... Capacitor body 6, 8 ... Terminal electrode 10 ... Dielectric layer 10a ... Green sheet 12 ... Internal electrode layer 12a ... Electrode layer 20 ... Carrier sheet (first support sheet)
22 ... Release layer 24 ... Blank pattern layer 26 ... Carrier sheet (third support sheet)
28 ... Adhesive layer 30 ... Carrier sheet (second support sheet)
40 ... Lower mold 50 ... Conveying plate Un ... Preliminary laminate Uf ... Final laminate

Claims (10)

セラミックグリーンシートと所定パターンの電極層とを交互に複数重ね合わせ、予備積層体を得る工程と、
前記予備積層体をユニット乾燥させる第1乾燥工程と、
ユニット乾燥後の予備積層体を積み重ねて得られた最終積層体を切断し、グリーンチップを形成する工程と、
前記グリーンチップを固化乾燥させる第2乾燥工程と、
固化乾燥後のグリーンチップを脱バインダ処理する工程と、
前記脱バインダ処理後のグリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法。
Steps of alternately stacking ceramic green sheets and electrode layers of a predetermined pattern to obtain a pre-laminated body,
A first drying step of unit drying the preliminary laminate,
Cutting the final laminate obtained by stacking the preliminary laminate after the unit is dried, and forming a green chip;
A second drying step for solidifying and drying the green chip;
A step of removing the binder from the solidified and dried green chip,
And a step of firing the green chip after the binder removal process.
前記予備積層体をユニット乾燥させる際に、ユニット乾燥させる前の前記予備積層体の重量に対して0.1〜1.0wt%の重量減少が生じるように、前記予備積層体をユニット乾燥させる請求項1に記載の積層型電子部品の製造方法。   Claims: When the preliminary laminate is unit dried, the preliminary laminate is unit-dried so that a weight reduction of 0.1 to 1.0 wt% with respect to the weight of the preliminary laminate before unit drying occurs. Item 2. A method for manufacturing a multilayer electronic component according to Item 1. 前記グリーンチップを固化乾燥させる際に、固化乾燥後のグリーンチップの残留溶剤量が、1〜2wt%となるように、前記グリーンチップを固化乾燥させる請求項1または2に記載の積層型電子部品の製造方法。   3. The multilayer electronic component according to claim 1, wherein when the green chip is solidified and dried, the green chip is solidified and dried so that a residual solvent amount of the green chip after solidification and drying is 1 to 2 wt%. Manufacturing method. 前記固化乾燥処理を、昇温速度S1:10〜300℃/時間、保持温度T1:80〜200℃および前記保持温度T1の保持時間t1:4〜12時間の条件で行う請求項1〜3のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。   The solidification drying treatment is performed under conditions of a temperature rising rate S1: 10 to 300 ° C / hour, a holding temperature T1: 80 to 200 ° C, and a holding time t1: 4 to 12 hours of the holding temperature T1. The manufacturing method of the multilayer electronic component in any one. 前記固化乾燥処理を、大気圧中で行う請求項4に記載の積層型電子部品の製造方法。   The manufacturing method of the multilayer electronic component according to claim 4, wherein the solidification drying process is performed in an atmospheric pressure. 前記固化乾燥処理を、減圧雰囲気下で行う請求項4に記載の積層型電子部品の製造方法。   The manufacturing method of the multilayer electronic component according to claim 4, wherein the solidification drying process is performed in a reduced pressure atmosphere. 前記固化乾燥処理を、加圧しながら行う請求項1〜6のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein the solidification drying process is performed while applying pressure. 前記脱バインダ処理に際して、前記グリーンチップ中の残留炭素量が0.1〜0.4wt%となるように、前記グリーンチップを脱バインダ処理する請求項1〜7のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。   The stacked electron according to any one of claims 1 to 7, wherein the green chip is subjected to a binder removal process so that a residual carbon amount in the green chip is 0.1 to 0.4 wt% in the binder removal process. A manufacturing method for parts. 前記脱バインダ処理を、昇温速度S2:1〜15℃/時間(但し1℃/時間を除く)、保持温度T2:400〜800℃および前記保持温度T2の保持時間t2:1〜8時間の条件で行う請求項1〜8のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。   The binder removal treatment is performed at a heating rate S2: 1 to 15 ° C./hour (excluding 1 ° C./hour), a holding temperature T2: 400 to 800 ° C., and a holding time t2 of the holding temperature T2: 1 to 8 hours. The manufacturing method of the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 8, which is performed under conditions. 厚みが3μm以下のセラミックグリーンシートを用いる請求項1〜9の何れかに記載の積層型電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein a ceramic green sheet having a thickness of 3 μm or less is used.
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