JP2007145806A - Oxazole derivative, production method thereof and method for introducing oxazolyl group using them - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、オキサゾール誘導体、それらの製造方法及びそれらを用いたオキサゾリル基導入方法に関する。 The present invention relates to oxazole derivatives, a method for producing them, and a method for introducing an oxazolyl group using them.
多置換オキサゾール誘導体は、医薬品や有機材料に広く用いられている共通構造であり、その需要は非常に高い化合物類である。多置換オキサゾール誘導体の合成方法として、オキサゾリル基導入試薬と有機ハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルなどとの金属触媒を利用したクロスカップリング反応が挙げられる。従来、そのオキサゾリル基導入試薬としては、例えば、オキサゾールの亜鉛試薬(非特許文献1)やスズ試薬(非特許文献2)等が知られている。しかしながら、その製造方法が煩雑である、試薬自体の毒性が高い、反応の収率が悪いという問題点があった。一方、アリールホウ素試薬は金属触媒を用いて、有機ハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルなどとクロスカップリング反応が進行することが報告されており(非特許文献3)、安全かつ容易に扱えるアリール基導入試薬として医薬品合成や材料分野で幅広く利用されている。しかしながら、オキサゾールのホウ素試薬はオキサゾール−2−イルボロン酸誘導体が一例開示されているのみであり(特許文献1)、本発明に関するオキサゾール−4−イルボロン酸誘導体に関しては一切記載されていない。特許文献1において、オキサゾール−2−イルボロン酸を対応するオキサゾールの2位の水素原子の塩基によるメタル化、続くホウ酸トリイソプロピルエステルとの反応で調製する例が、一例記載されている。しかしながら、その合成方法は基質特異性が高く他のオキサゾール−2−イルボロン酸誘導体が調製できない場合があり(比較実施例参照)、一般的な方法とは言い難い。またオキサゾール−2−イルボロン酸誘導体は安定性が低く、容易に加水素分解されてしまうことが報告されている(非特許文献4)。本発明に関するオキサゾール−4−イルボロン酸誘導体、その製造方法およびそれを用いた金属触媒による有機ハロゲン化物あるいはスルホン酸エステル等とのクロスカップリング反応は全く報告されていない。 Multi-substituted oxazole derivatives have a common structure widely used in pharmaceuticals and organic materials, and are highly demanded compounds. As a method for synthesizing a polysubstituted oxazole derivative, a cross-coupling reaction using a metal catalyst between an oxazolyl group-introducing reagent and an organic halide or a sulfonic acid ester can be mentioned. Conventionally, as the oxazolyl group introduction reagent, for example, an oxazole zinc reagent (Non-Patent Document 1), a tin reagent (Non-Patent Document 2), and the like are known. However, the production method is complicated, the toxicity of the reagent itself is high, and the yield of the reaction is poor. On the other hand, it has been reported that an aryl boron reagent proceeds with a cross-coupling reaction with an organic halide or a sulfonic acid ester using a metal catalyst (Non-patent Document 3), and an aryl group introduction reagent that can be handled safely and easily. It is widely used in pharmaceutical synthesis and materials fields. However, only one example of the oxazole boron reagent is disclosed as an oxazol-2-ylboronic acid derivative (Patent Document 1), and there is no description regarding the oxazol-4-ylboronic acid derivative related to the present invention. In Patent Document 1, an example is described in which oxazol-2-ylboronic acid is prepared by metalation of the hydrogen atom at the 2-position of the corresponding oxazole with a base and subsequent reaction with boric acid triisopropyl ester. However, the synthesis method has a high substrate specificity, and other oxazol-2-ylboronic acid derivatives may not be prepared (see Comparative Examples), which is not a general method. In addition, it has been reported that oxazol-2-ylboronic acid derivatives have low stability and are easily hydrogenolyzed (Non-Patent Document 4). No cross-coupling reaction with an organic halide or sulfonic acid ester by a metal catalyst using the oxazol-4-ylboronic acid derivative relating to the present invention and its production method has been reported at all.
本発明の目的は、医薬、有機材料として幅広く利用されている多置換オキサゾールの種々の類縁化合物の合成が可能であり、簡便に調製でき、かつ安定に取り扱うことができるオキサゾリル基導入試薬を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an oxazolyl group-introducing reagent that can synthesize various analogs of polysubstituted oxazoles widely used as pharmaceuticals and organic materials, can be easily prepared, and can be handled stably. There is.
本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、本発明のオキサゾール誘導体(1)が、オキサゾリル基導入試薬として有用であることを見い出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the oxazole derivative (1) of the present invention is useful as a reagent for introducing an oxazolyl group, and completed the present invention.
すなわち本発明は、一般式(1)
さらに、本発明は、一般式(2)
さらに、本発明は、一般式(1a)
さらに、本発明は、一般式(2)
さらに、本発明は、一般式(6)
さらに、本発明は、一般式(1)
さらに、本発明は、一般式(1)
本発明の一般式(1)で示されるオキサゾール誘導体は、オキサゾール−2−イルボロン酸誘導体や他のオキサゾールの金属試薬に比べて、簡単かつ安全な操作で調製かつ利用できるオキサゾリル基導入試薬である。また、オキサゾール誘導体(1)を有機ハロゲン化物または有機スルホン酸エステルと金属触媒存在下反応させて、オキサゾール誘導体(9)が合成でき、これはテロメラーゼ阻害活性を有するテロメスタチン(非特許文献5)や抗癌剤ウラプアリド類(非特許文献6)などの有用生理活性物質や機能性材料の製造に利用する点で極めて有用である。
本発明において、R1、R2、R3、R4、R5及びR6で表される炭素数1〜8のアルキル基としては、直鎖状もしくは分岐状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、1−エチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、オクチル基等を例示することができる。これらのアルキル基は、ハロゲン原子、シクロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、シロキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等で一個以上置換されていてもよく、さらに具体的には2−クロロエチル基、3−クロロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、ニトロメチル基、2−メチルチオエチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、tert−ブチルジメチルシロキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、1−アセチルエチル基、3−アセチルプロピル基等を例示することができる。R1及びR2は、収率が良い点でメチル基、tert-ブチル基を用いることが好ましい。R3、R4、R5及びR6は、収率が良い点で、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を用いることが好ましい。 In the present invention, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 may be either linear or branched, Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isoamyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2- Examples thereof include a methylbutyl group, a hexyl group, an isohexyl group, a heptyl group, a 1-methylhexyl group, and an octyl group. One or more of these alkyl groups may be substituted with a halogen atom, a cycloalkyl group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, an alkoxy group, a siloxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, and the like. 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, cyclopropylmethyl group, cyclohexylmethyl group, cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, nitromethyl group, 2-methylthioethyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group Ethoxymethyl group, methoxyethyl group, tert-butyldimethylsiloxymethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, 1-acetylethyl group, 3-acetylpropyl group and the like. R 1 and R 2 are preferably a methyl group or a tert-butyl group in terms of a good yield. R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group in terms of a good yield.
R1、R2、R3、R4、R5及びR6で表される炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等を例示することができる。また、これらのシクロアルキル基は炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよく、さらに具体的に1−メチルシクロプロピル基、2−メチルシクロプロピル基、3−メチルシクロペンチル基等を例示することができる。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Can be illustrated. In addition, these cycloalkyl groups may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more specifically, 1-methylcyclopropyl group, 2-methylcyclopropyl group, 3-methylcyclopentyl group and the like are exemplified. can do.
R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7で表される炭素数7〜11のアラルキル基としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル基等を例示することができる。これらのアラルキル基の芳香族環上は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。R1及びR2は、収率が良い点でベンジル基を用いることが好ましい。 Examples of the aralkyl group having 7 to 11 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 include a benzyl group, 1-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group and the like. Can be illustrated. One or more of these aralkyl groups may be substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, a cyano group, or the like. . R 1 and R 2 are preferably benzyl groups in terms of good yield.
R1、R2及びR7で表される炭素数2〜8のアルケニル基としては、直鎖状もしくは分岐状あるいは環状のいずれであってもよく、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、2−メチルー2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2−ペンテニル基、1−シクロペンテニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、1−シクロヘキセニル基、2−ヘプテニル基、1−シクロオクテニル基を例示することができる。これらのアルケニル基は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。R1及びR2は、収率が良い点でビニル基、アリル基、2−メチルー2−プロペニル基を用いることが好ましい。 The alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by R 1 , R 2 and R 7 may be linear, branched or cyclic, and is a vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 2-pentenyl group, 1-cyclopentenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 1-cyclohexenyl group, 2-heptenyl group, A 1-cyclooctenyl group can be exemplified. One or more of these alkenyl groups may be substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, a cyano group, or the like. R 1 and R 2 are preferably a vinyl group, an allyl group, or a 2-methyl-2-propenyl group in terms of a good yield.
R1、R2及びR7で表される炭素数2〜8のアルキニル基としては、直鎖状もしくは分岐状のいずれであってもよく、エチニル基、プロパルギル基、1−ブチン−3−イル基、3−メチル−1−ブテン−3−イル基、2−ブチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基等を例示することができる。これらのアルキニル基は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。R1及びR2は、収率が良い点でエチニル基、プロパルギル基を用いることが好ましい。 The alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by R 1 , R 2 and R 7 may be linear or branched, and is an ethynyl group, propargyl group, 1-butyn-3-yl. Examples thereof include a group, 3-methyl-1-buten-3-yl group, 2-butynyl group, 2-pentynyl group, and 3-pentynyl group. One or more of these alkynyl groups may be substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, a cyano group, or the like. R 1 and R 2 are preferably an ethynyl group or a propargyl group in terms of a good yield.
R1、R2及びR7で表される芳香族基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チアゾリル基、4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、5−インドリル基、2−フリル基及び3−フリル基等を例示することができる。これらの芳香族環上は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜12の芳香族基、炭素数3〜14のシリル基、炭素数1〜8のアルキルスルホナート基等で一個以上置換されていてもよく、4−メトキシフェニル基、4−エトキシカルボニルオキサゾール−2−イル基、2−tert−ブチルジメチルシリルオキサゾール−2−イル基、4−(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシオキサゾール−2−イル)オキサゾール−2−イル基等を例示することができる。R1及びR2は、収率が良い点でフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チアゾリル基、4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基を用いることが好ましい。 Examples of the aromatic group represented by R 1 , R 2 and R 7 include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 2-pyridyl group, a 3-pyridyl group, a 4-pyridyl group, and a 2-thiazolyl group. 4-thiazolyl group, 5-thiazolyl group, 2-oxazolyl group, 4-oxazolyl group, 5-oxazolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 5-indolyl group , 2-furyl group, 3-furyl group and the like. On these aromatic rings, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, and 3 to 12 carbon atoms. One or more groups may be substituted with an aromatic group, a silyl group having 3 to 14 carbon atoms, an alkyl sulfonate group having 1 to 8 carbon atoms, and the like. 4-methoxyphenyl group, 4-ethoxycarbonyloxazol-2-yl group , 2-tert-butyldimethylsilyloxazol-2-yl group, 4- (4-trifluoromethanesulfonyloxyoxazol-2-yl) oxazol-2-yl group, and the like. R 1 and R 2 are phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, 2-thiazolyl, 4-thiazolyl in terms of good yield. , 5-thiazolyl group, 2-oxazolyl group, 4-oxazolyl group, and 5-oxazolyl group are preferably used.
R3、R4及びR5で表される置換していてもよいフェニル基のベンゼン環上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。 Examples of the substituent on the benzene ring of the optionally substituted phenyl group represented by R 3 , R 4 and R 5 include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. And an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, a carboxyl group, a cyano group, a nitro group, and the like.
R1及びR2で表される水酸基の保護基としては、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等のエステル系保護基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基等のシリル系保護基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等のカーボネート系保護基等を例示することができる。収率が良い点で、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基を用いることが好ましい。 Examples of the hydroxyl protecting group represented by R 1 and R 2 include ester protecting groups such as formyl group, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, triisopropyl group. Examples include silyl protecting groups such as silyl group and tert-butyldiphenylsilyl group, carbonate protecting groups such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, and benzyloxycarbonyl group. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, or a tert-butyldimethylsilyl group.
R1及びR2で表される炭素数1〜8のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロプロピルメチルオキシ、ベンジルオキシ基等を例示することができる。これらのアルコキシ基は1〜8のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基等で一個以上置換されていてもよくメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、p-メトキシベンジルオキシ基等を例示することができる。収率が良い点で、メトキシ基を用いることが好ましい。 Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a cyclopropyloxy group, a butoxy group, an isobutyloxy group, and a sec-butyloxy group. Tert-butyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopropylmethyloxy, benzyloxy group and the like. One or more of these alkoxy groups may be substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the like. A methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, or p-methoxy group. A benzyloxy group etc. can be illustrated. It is preferable to use a methoxy group in terms of good yield.
R1、R2及びR7で表される炭素数2〜8のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等を例示することができる。R1及びR2は、収率が良い点でアセチル基を用いることが好ましい。 Examples of the acyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by R 1 , R 2 and R 7 include an acetyl group, a propionyl group, a pivaloyl group and a benzoyl group. R 1 and R 2 are preferably acetyl groups in terms of good yield.
R1及びR2で表される置換していてもよいC2〜C8アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等を例示することができる。収率が良い点で、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基を用いることが好ましい。 Examples of the optionally substituted C 2 -C 8 alkoxycarbonyl group represented by R 1 and R 2 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, and sec-butoxy. Examples thereof include a carbonyl group and a tert-butoxycarbonyl group. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group.
R1及びR2で表される置換していてもよいカルバモイル基としては、カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−イソプロピルカルバモイル基、N−ブチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、N,N−ジプロピルカルバモイル基、N,N−ジイソプロピルカルバモイル基またはN,N−ジブチルカルバモイル基等が例示できる。 Examples of the optionally substituted carbamoyl group represented by R 1 and R 2 include a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, an N-propylcarbamoyl group, an N-isopropylcarbamoyl group, and an N-butyryl group. Examples thereof include a rucarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N, N-dipropylcarbamoyl group, N, N-diisopropylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group and the like.
R1及びR2で表される置換していてもよいアミノ基の置換基としては、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数7〜11のアラルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数2〜8のアルキニル基、炭素数2〜8のアシル基、炭素数2〜15のアルコキシカルボニル基等を例示することができ、それらの置換基がアミノ基に一置換あるいは、同一又は相異なって二置換していてもよい。さらに具体的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、アリルアミノ基、プロパルギルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、9−フルオレニルメトキシカルボニルアミノ基またはトリクロロエトキシカルボニルアミノ基等が例示できる。 Examples of the substituent of the amino group which may be substituted represented by R 1 and R 2 include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 11 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, Examples thereof include an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms, an acyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 15 carbon atoms, and the like. It may be differently disubstituted. More specifically, methylamino group, ethylamino group, allylamino group, propargylamino group, tert-butylamino group, N, N-dimethylamino group, benzylamino group, acetylamino group, propionylamino group, pivaloylamino group, benzoyl Examples include an amino group, a methoxycarbonylamino group, a benzyloxycarbonylamino group, a tert-butoxycarbonylamino group, a 9-fluorenylmethoxycarbonylamino group, and a trichloroethoxycarbonylamino group.
R1及びR2で表される置換していてもよい複素環基としては、アジリジニル基、2−ピロリジニル基、3−ピロリジニル基、2−ピペリジル基、3−ピペリジル基、4−ピペリジル基、ピペリジノ基、テトラヒドロフラン−2−イル基、テトラヒドロフラン−3−イル基、2−ジオキサニル基、2−オキサゾリジニル基、4−オキサゾリジニル基等が例示できる。複素環基の複素環上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。 Examples of the optionally substituted heterocyclic group represented by R 1 and R 2 include aziridinyl group, 2-pyrrolidinyl group, 3-pyrrolidinyl group, 2-piperidyl group, 3-piperidyl group, 4-piperidyl group, piperidino Group, tetrahydrofuran-2-yl group, tetrahydrofuran-3-yl group, 2-dioxanyl group, 2-oxazolidinyl group, 4-oxazolidinyl group and the like. As the substituent on the heterocyclic ring of the heterocyclic group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, a carboxyl group, a cyano group, A nitro group etc. can be illustrated.
R1及びR2で表される置換していてもよいシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基等を例示することができる。収率が良い点で、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基を用いることが好ましい。 Examples of the optionally substituted silyl group represented by R 1 and R 2 include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a tert-butyldiphenylsilyl group. Can do. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, or a tert-butyldimethylsilyl group.
R3及びR4が結合して形成する環としては下記式a,b,c又はd
X1で表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を例示することができる。収率が良い点で、臭素原子、ヨウ素原子を用いることが好ましい。 Examples of the halogen atom represented by X 1 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use a bromine atom or an iodine atom.
X2及びX3で表される脱離基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、またはメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニルオキシ基等のアルキルあるいはアリールスルホニルオキシ基等を例示することができる。X2は、収率が良い点で、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニル基を用いることが好ましい。X3は、収率が良い点で、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニル基を用いることが好ましい。 Examples of the leaving group represented by X 2 and X 3 include halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and iodine atom, or alkyl or aryl such as methanesulfonyloxy group, trifluoromethanesulfonyl group and p-toluenesulfonyloxy group. A sulfonyloxy group etc. can be illustrated. X 2 is preferably a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyl group in terms of a good yield. X 3 is preferably a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a trifluoromethanesulfonyl group in terms of a good yield.
Qで表される置換していてもよいエチレン基としては、エチレン基、1,1,2,2−テトラメチルエチレン基、プロピレン基、1,2−ジメチルエチレン基等を例示することができる。収率が良い点で、エチレン基、1,1,2,2−テトラメチルエチレン基を用いることが好ましい。 Examples of the optionally substituted ethylene group represented by Q include an ethylene group, a 1,1,2,2-tetramethylethylene group, a propylene group, and a 1,2-dimethylethylene group. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use an ethylene group or a 1,1,2,2-tetramethylethylene group.
Qで表される置換していてもよいトリメチレン基としては、トリメチレン基、2,2−ジメチルトリメチレン基、1,1,3,3−テトラメチルトリメチレン基、1,1,3−トリメチルトリメチレン基等を例示することができる。 Examples of the trimethylene group which may be substituted represented by Q include trimethylene group, 2,2-dimethyltrimethylene group, 1,1,3,3-tetramethyltrimethylene group, 1,1,3-trimethyltrimethylene group. A methylene group etc. can be illustrated.
Qで表される置換していてもよいo−フェニレン基としては、o−フェニレン基、3,6−ジメチル−o−フェニレン基、2,3−ナフチレン基等を例示することができる。収率が良い点で、o−フェニレン基を用いることが好ましい。 Examples of the optionally substituted o-phenylene group represented by Q include an o-phenylene group, a 3,6-dimethyl-o-phenylene group, and a 2,3-naphthylene group. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use an o-phenylene group.
以下、本発明に属するオキサゾール誘導体の製造方法及びそれを用いた金属触媒による有機ハロゲン化物あるいは有機スルホン酸エステル等との反応について詳細に説明する。
工程―1は、オキサゾール誘導体(2)の4位のハロゲン原子を塩基で処理することでハロゲン−金属交換反応を行い、ホウ酸エステル(3)と反応させることにより、本発明のオキサゾール誘導体(1a)を製造する工程である。 In the step-1, the halogen atom at the 4-position of the oxazole derivative (2) is treated with a base to perform a halogen-metal exchange reaction and react with the boric acid ester (3), whereby the oxazole derivative (1a ).
本工程の原料であるオキサゾール誘導体(2)は、対応するオキサゾールの4位ハロゲン化あるいはオキサゾール−4(5H)−オン誘導体のハロゲン化などの常法に従い製造することができる。これらハロゲン化前駆体となるオキサゾール誘導体及びオキサゾール−4(5H)−オン誘導体は、文献記載の方法またはそれに準じた方法により調製することができる。(非特許文献―7)。ホウ酸エステル(3)は一部市販されているが、ボロンオキシドと対応するアルコールとの反応、市販されているトリイソプロピルボレートと対応するアルコールとのエステル交換反応により容易に調製することができる。 The oxazole derivative (2) which is the raw material of this step can be produced according to a conventional method such as 4-position halogenation of the corresponding oxazole or halogenation of the oxazol-4 (5H) -one derivative. These oxazol derivatives and oxazol-4 (5H) -one derivatives serving as halogenated precursors can be prepared by a method described in the literature or a method analogous thereto. (Non-patent document-7). The borate ester (3) is partially commercially available, but can be easily prepared by reaction of boron oxide with the corresponding alcohol, or transesterification of commercially available triisopropyl borate with the corresponding alcohol.
反応は塩基存在下に行うことが必須であり、用いることのできる塩基としては、ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミド、フェニルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムクロリド等のアルカリ金属有機塩基を例示することができる。収率が良い点で、ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムを用いることが好ましい。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して等量以上用いて実施することが収率が良い点で好ましい。 It is essential to carry out the reaction in the presence of a base. Examples of bases that can be used include butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, sodium bis (trimethylsilyl). Examples include alkali metal organic bases such as amide, potassium bis (trimethylsilyl) amide, phenylmagnesium bromide, isopropylmagnesium bromide, isopropylmagnesium chloride. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use butyl lithium, sec-butyl lithium, or tert-butyl lithium. The amount of the base used is not particularly limited, but it is preferable from the viewpoint of good yield that the base is used in an equal amount or more with respect to the reaction substrate.
反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、上記の溶媒のうち2種類以上を混合しても差し支えない。 The reaction is preferably carried out in an organic solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used. For example, ether solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, hydrocarbon solvents such as hexane, pentane, cyclohexane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, N, N Examples include amide solvents such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and two or more of the above solvents may be mixed.
反応は、―78゜C〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、―78゜C〜室温付近で実施することが収率が良い点で好ましい。後処理の方法として、反応液に水を加えることで反応を停止することができるが、酢酸等の酸性水溶液で後処理することが収率が良い点で好ましい。反応後の混合溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。また、オキサゾール誘導体(1a)は単離することなく、そのまま工程―2に供することもできる。 The reaction proceeds smoothly at a temperature appropriately selected from −78 ° C. to the solvent reflux temperature, but it is preferable to carry out the reaction at −78 ° C. to around room temperature in terms of a good yield. As a post-treatment method, the reaction can be stopped by adding water to the reaction solution, but post-treatment with an acidic aqueous solution such as acetic acid is preferable in terms of a good yield. The method for isolating the target product from the mixed solution after the reaction is not particularly limited, but the target product can be obtained by a general method such as solvent extraction, column chromatography, recrystallization or sublimation. Further, the oxazole derivative (1a) can be directly used in Step-2 without isolation.
工程―2は、工程―1の方法で製造することのできるオキサゾール誘導体(1a)と水、アルコール類(4)、またはジオール類(5)と酸触媒存在下に加水分解またはアセタール交換を行い本発明のオキサゾール誘導体(1)を製造する工程である。 In Step-2, hydrolysis or acetal exchange is carried out in the presence of an oxazole derivative (1a) and water, alcohols (4), or diols (5), which can be produced by the method of Step-1, in the presence of an acid catalyst. This is a process for producing the oxazole derivative (1) of the invention.
本工程の原料であるアルコール類(4)、またはジオール類は(5)は一部市販されているが、常法により調製することができる。 Alcohols (4) or diols which are raw materials for this step are partially commercially available (5), but can be prepared by conventional methods.
反応は酸触媒存在下にて速やかに進行する。用いることのできる酸としては、塩酸、臭酸、硫酸、硝酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等のスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホナート等のスルホン酸塩などを例示することができる。酸の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して触媒量から等量用いて実施することが収率が良い点で好ましい。 The reaction proceeds rapidly in the presence of an acid catalyst. Examples of acids that can be used include inorganic acids such as hydrochloric acid, odorous acid, sulfuric acid and nitric acid, carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid and propionic acid, sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and camphorsulfonic acid, Examples thereof include sulfonates such as pyridinium p-toluenesulfonate. Although there are no particular limitations on the amount of acid used, it is preferable to carry out using an equivalent amount of the catalyst to the reaction substrate in terms of a good yield.
反応に用いる水、アルコール類(4)、またはジオール類(5)の量は特に制限なく、いずれも溶媒としても用いることができる。反応基質に対して等量以上用いて実施することが収率が良い点で好ましい。 The amount of water, alcohols (4), or diols (5) used in the reaction is not particularly limited, and any of them can be used as a solvent. It is preferable from the viewpoint of good yield that the reaction substrate is used in an equal amount or more.
さらに本工程においては、反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を挙げることができ、これらの溶媒のうち2種類以上を混合しても差し支えない。 Furthermore, in this step, any organic solvent that does not harm the reaction can be used. For example, ether solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile, hexane, pentane, cyclohexane And hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and two of these solvents The above can be mixed.
反応は、―78゜C〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。 The reaction smoothly proceeds at a temperature appropriately selected from −78 ° C. to the solvent reflux temperature, but it is preferable to carry out the reaction at around room temperature in terms of a good yield. The method for isolating the target product from the solution after the reaction is not particularly limited, but the target product can be obtained by a general-purpose method such as solvent extraction, column chromatography, recrystallization or sublimation.
工程―3は、オキサゾール誘導体(6)を金属触媒存在下、ジボロン誘導体(7)とクロスカップリング反応させることにより、本発明のオキサゾール誘導体(1)を製造する工程である。 Step-3 is a step of producing the oxazole derivative (1) of the present invention by causing the oxazole derivative (6) to undergo a cross-coupling reaction with the diboron derivative (7) in the presence of a metal catalyst.
本工程の原料であるX2がハロゲン原子であるオキサゾール誘導体(6)は工程―1で記載した方法で製造することができ、X2がスルホニルオキシ基であるオキシオキサゾール誘導体(6)は、対応するオキサゾール−4(5H)−オン誘導体より文献記載の方法(非特許文献―2)またはそれに準じた方法により製造することができる。前駆体となるオキサゾール−4(5H)−オン誘導体は前記の方法で製造することができる。ジボロン(7)は一部市販されているが、テトラキス(ジメチルアミド)ジボロンと対応するアルコールより文献記載の方法またはそれに準じた方法により調製することができる(非特許文献―8)。 The oxazole derivative (6) in which X 2 as a raw material in this step is a halogen atom can be produced by the method described in Step-1, and the oxyoxazole derivative (6) in which X 2 is a sulfonyloxy group The oxazol-4 (5H) -one derivative can be produced by a method described in the literature (Non-patent document-2) or a method analogous thereto. The precursor oxazol-4 (5H) -one derivative can be produced by the method described above. Although diboron (7) is partly commercially available, it can be prepared from tetrakis (dimethylamido) diboron and the corresponding alcohol by a method described in the literature or a method analogous thereto (Non-patent Document-8).
反応は金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、白金触媒等を挙げることができる。これらの金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」や「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、担持金属、金属塩および錯化合物と三級ホスフィン配位子を組合わせて用いることもできる。収率が良い点でパラジウム触媒を用いることが好ましい。
パラジウム触媒としては、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム/アルミナ、パラジウム/炭素、パラジウム/シリカ、パラジウム/Y型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム等の金属塩を例示できる。さらに、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(クロロホルム付加物)、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロ[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム、ジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム、ジクロロ[1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウムおよびジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム等の錯化合物を例示できる。収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(クロロホルム付加物)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムを用いることが好ましい。
これらのパラジウム触媒は単独で用いても良いが、さらに三級ホスフィンと組合わせて用いても良い。用いることのできる三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリo−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン、2−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、(R)−(+)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、(S)−(−)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルおよび(±)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル等が例示できる。収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリo−トリルホスフィンを用いることが好ましい。
また、工程―3では、収率向上のため塩基を添加しても良い。添加する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン等の無機塩基または有機塩基が例示できる。収率が良い点で、炭酸カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウムを用いることが好ましい。
金属触媒、三級ホスフィンの使用量は特に制限はないが、反応基質に対していわゆる触媒量を用いて実施することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して1〜50等量用いることが収率が良い点で好ましい。
The reaction must be performed in the presence of a metal catalyst, and examples of the metal catalyst that can be used include a palladium catalyst, a nickel catalyst, and a platinum catalyst. These metal catalysts include “metal”, “supported metal”, “metal salts such as chloride, bromide, iodide, nitrate, sulfate, carbonate, oxalate, acetate or oxide of metal” and “ A complex compound such as an olefin complex, a phosphine complex, an amine complex, an ammine complex, or an acetylacetonate complex ”can be used. Further, these metals, supported metals, metal salts and complex compounds and tertiary phosphine ligands can be used in combination. It is preferable to use a palladium catalyst in terms of a good yield.
Examples of the palladium catalyst include palladium metals such as palladium black and palladium sponge, and supported palladium metals such as palladium / alumina, palladium / carbon, palladium / silica, palladium / Y-type zeolite. Moreover, metal salts, such as palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, palladium acetate, can be illustrated. Furthermore, π-allyl palladium chloride dimer, palladium acetylacetonate, dichlorobis (acetonitrile) palladium, dichlorobis (benzonitrile) palladium, bis (dibenzylideneacetone) palladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tris (dibenzylideneacetone) Dipalladium (chloroform adduct), dichlorodiammine palladium, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (tricyclohexylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, dichloro [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] Palladium, dichloro [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] palladium, dichloro [1,4-bis (diphenyl) Complex compounds such as phosphino) butane] palladium and dichloro [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium can be exemplified. Palladium acetate, palladium acetylacetonate, bis (dibenzylideneacetone) palladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (chloroform adduct), tetrakis (triphenyl) Phosphine) palladium is preferably used.
These palladium catalysts may be used alone or in combination with a tertiary phosphine. The tertiary phosphine that can be used is triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, trio-tolylphosphine, trioctylphosphine, 9,9-dimethyl. -4,5-bis (diphenylphosphino) xanthene, 2- (di-tert-butylphosphino) biphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) biphenyl, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3 -Bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, (R)-(+)-2,2'-bis (diphenyl) Phosphino) -1,1'-binaphthyl (S)-(−)-2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl and (±) -2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl, etc. Can be illustrated. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use triphenylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, or tri-o-tolylphosphine.
In Step-3, a base may be added to improve the yield. Bases to be added include lithium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, potassium fluoride, cesium fluoride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium phosphate, potassium acetate, triethylamine, butylamine, diisopropyl Examples thereof include inorganic bases and organic bases such as amine and ethyldiisopropylamine. It is preferable to use potassium carbonate, potassium phosphate, or potassium acetate in terms of good yield.
The amount of the metal catalyst and tertiary phosphine used is not particularly limited, but the so-called catalyst amount can be used for the reaction substrate. The amount of the base used is not particularly limited but is preferably 1 to 50 equivalents based on the reaction substrate in terms of a good yield.
反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち2種類以上を混合して用いても差し支えない。 The reaction is preferably carried out in an organic solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used. Ether solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, hydrocarbon solvents such as hexane, pentane and cyclohexane, aroma such as benzene, toluene and xylene Amide solvents such as group hydrocarbon solvents, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like can be exemplified, and two or more of these solvents may be mixed and used.
反応は、―78゜C〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温から溶媒還流温度付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。 The reaction proceeds smoothly at a temperature appropriately selected from −78 ° C. to the solvent reflux temperature, but it is preferable to carry out the reaction from room temperature to around the solvent reflux temperature in terms of a good yield. The method for isolating the target product from the solution after the reaction is not particularly limited, but the target product can be obtained by a general-purpose method such as solvent extraction, column chromatography, recrystallization or sublimation.
本発明のオキサゾール誘導体(1)は、有用なオキサゾリル基導入試薬として利用することができ、化合物(8)と金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体を製造することができる。 The oxazole derivative (1) of the present invention can be used as a useful oxazolyl group-introducing reagent, and can react with the compound (8) in the presence of a metal catalyst to produce an oxazole derivative.
工程―4は、本発明のオキサゾール誘導体(1)と化合物(8)とを金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体(9)を製造する工程である。 Step-4 is a step of producing the oxazole derivative (9) by reacting the oxazole derivative (1) of the present invention with the compound (8) in the presence of a metal catalyst.
反応は金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、鉄触媒、ルテニウム触媒、白金触媒、ロジウム触媒、イリジウム触媒等を列挙することができる。これらの金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」、「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、金属塩および錯化合物と三級ホスフィン配位子を組合わせて用いることもできる。収率が良い点で、パラジウム触媒を用いることが好ましい。
パラジウム触媒としては、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム/アルミナ、パラジウム/炭素、パラジウム/シリカ、パラジウム/Y型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム等の金属塩を例示できる。さらに、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(クロロホルム付加物)、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロ[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム、ジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム、ジクロロ[1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウムおよびジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム等の錯化合物を例示できる。収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(クロロホルム付加物)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムを用いるのが好ましい。
これらのパラジウム触媒は単独で用いても良いが、さらに三級ホスフィンと組合わせて用いても良い。用いることのできる三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン、2−(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、(R)−(+)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、(S)−(−)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルおよび(±)−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル等が例示できる。収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリo−トリルホスフィンを用いることが好ましい。
また、工程―4では、収率向上のため塩基を添加しても良い。添加する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン等の無機塩基または有機塩基が例示できる。収率が良い点で、炭酸カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウムを用いることが好ましい。
金属触媒、三級ホスフィンの使用量は特に制限はないが、反応基質に対していわゆる触媒量を用いて実施することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して1〜50等量用いることが収率が良い点で好ましい。
The reaction must be carried out in the presence of a metal catalyst, and examples of the metal catalyst that can be used include palladium catalyst, nickel catalyst, iron catalyst, ruthenium catalyst, platinum catalyst, rhodium catalyst, iridium catalyst, and the like. it can. These metal catalysts include “metals”, “supported metals”, “metal salts such as chlorides, bromides, iodides, nitrates, sulfates, carbonates, oxalates, acetates or oxides”, “ A complex compound such as an olefin complex, a phosphine complex, an amine complex, an ammine complex, or an acetylacetonate complex ”can be used. Further, these metals, metal salts and complex compounds and tertiary phosphine ligands can be used in combination. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use a palladium catalyst.
Examples of the palladium catalyst include palladium metals such as palladium black and palladium sponge, and supported palladium metals such as palladium / alumina, palladium / carbon, palladium / silica, palladium / Y-type zeolite. Moreover, metal salts, such as palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, and palladium acetate, can be illustrated. Furthermore, π-allyl palladium chloride dimer, palladium acetylacetonate, dichlorobis (acetonitrile) palladium, dichlorobis (benzonitrile) palladium, bis (dibenzylideneacetone) palladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tris (dibenzylideneacetone) Dipalladium (chloroform adduct), dichlorodiammine palladium, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (tricyclohexylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, dichloro [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] Palladium, dichloro [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] palladium, dichloro [1,4-bis (diphenyl) Complex compounds such as phosphino) butane] palladium and dichloro [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium can be exemplified. Palladium acetate, palladium acetylacetonate, bis (dibenzylideneacetone) palladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (chloroform adduct), tetrakis (triphenyl) Phosphine) palladium is preferably used.
These palladium catalysts may be used alone or in combination with a tertiary phosphine. As the tertiary phosphine that can be used, triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, tri-o-tolylphosphine, trioctylphosphine, 9,9- Dimethyl-4,5-bis (diphenylphosphino) xanthene, 2- (di-tert-butylphosphino) biphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) biphenyl, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1, 3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene, (R)-(+)-2,2′-bis ( Diphenylphosphino) -1,1'-binaphthi , (S)-(−)-2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl and (±) -2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl Etc. can be exemplified. From the viewpoint of good yield, it is preferable to use triphenylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, or tri-o-tolylphosphine.
In Step-4, a base may be added to improve the yield. The base to be added is lithium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, potassium fluoride, cesium fluoride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium phosphate, potassium acetate, triethylamine, butylamine, diisopropyl Examples thereof include inorganic bases and organic bases such as amine and ethyldiisopropylamine. It is preferable to use potassium carbonate, potassium phosphate, or potassium acetate in terms of good yield.
The amount of the metal catalyst and tertiary phosphine used is not particularly limited, but the so-called catalyst amount can be used for the reaction substrate. The amount of the base used is not particularly limited but is preferably 1 to 50 equivalents based on the reaction substrate in terms of a good yield.
反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。たとえば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち2種類以上を混合して用いても差し支えない。 The reaction is preferably carried out in an organic solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used. For example, ether solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile, hydrocarbon solvents such as hexane, pentane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, etc. And amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and two or more of these solvents may be used in combination.
反応は、―78゜C〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温から溶媒還流温度付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。 The reaction proceeds smoothly at a temperature appropriately selected from −78 ° C. to the solvent reflux temperature, but it is preferable to carry out the reaction from room temperature to around the solvent reflux temperature in terms of a good yield. The method for isolating the target product from the solution after the reaction is not particularly limited, but the target product can be obtained by a general-purpose method such as solvent extraction, column chromatography, recrystallization or sublimation.
以下、実施例及び参考例によりにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a reference example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to these.
図中で使用されている略語は以下の意味である。TBS:tert−ブチルジメチルシリル基、Boc:tert−ブトキシカルボニル基、Tf:トリフルオロメタンスルホニル基、TMS:トリメチルシリル基。 Abbreviations used in the figure have the following meanings. TBS: tert-butyldimethylsilyl group, Boc: tert-butoxycarbonyl group, Tf: trifluoromethanesulfonyl group, TMS: trimethylsilyl group.
実施例−1
実施例−2
実施例−3
実施例−4
実施例−5
実施例−6
実施例−7
実施例−8
実施例−9
実施例−10
実施例−11
実施例−12
実施例−13
実施例−14
実施例−15
実施例−16
実施例−17
実施例−18
実施例−19
実施例−20
参考例−1
参考例−2
参考例−3
参考例−4
参考例−5
参考例−8
参考例−9
参考例−10
参考例−11
参考例−12
比較実施例−1
オキサゾール(100mg, 1.45mmol)のテトラヒドロフラン(4ml)溶液に、アルゴン雰囲気下−78゜Cでリチウムジイソプロピルアミド(1Mテトラヒドロフラン溶液、1.6ml, 1.60mmol)を加え2時間間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリメチル(312mg, 3.0mmol)のテトラヒドロフラン溶液(2ml)を加えて、更に2時間撹拌し、室温で2時間撹拌した。反応混合液に農塩酸(2ml)を加えて反応を停止させ、ジエチルエーテル(10ml)で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮したが目的のオキサゾール−2−イルボロン酸は生成していなかった。
Comparative Example-1
Lithium diisopropylamide (1M tetrahydrofuran solution, 1.6 ml, 1.60 mmol) was added to a solution of oxazole (100 mg, 1.45 mmol) in tetrahydrofuran (4 ml) at −78 ° C. under an argon atmosphere, and the mixture was stirred for 2 hours. To the reaction solution was added a tetrahydrofuran solution (2 ml) of trimethyl borate (312 mg, 3.0 mmol), and the mixture was further stirred for 2 hours and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was quenched with agricultural hydrochloric acid (2 ml), extracted with diethyl ether (10 ml), and dried over anhydrous sodium sulfate. After the desiccant was filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, but the desired oxazol-2-ylboronic acid was not produced.
比較実施例−2
オキサゾール−4−イルカルボン酸エチル(100mg, 0.71mmol)のテトラヒドロフラン(4ml)溶液に、アルゴン雰囲気下−78゜Cでリチウムジイソプロピルアミド(1Mテトラヒドロフラン溶液、0.78ml, 0.78mmol)を加え2時間間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリメチル(156mg, 1.5mmol)のテトラヒドロフラン溶液(2ml)を加えて、更に2時間撹拌し、室温で2時間撹拌した。反応混合液に農塩酸(1ml)を加えて反応を停止させ、ジエチルエーテル(10ml)で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し得たが目的の4−エトキシカルボニルオキサゾール−2−イルボロン酸は生成していなかった。
Comparative Example-2
To a solution of ethyl oxazol-4-ylcarboxylate (100 mg, 0.71 mmol) in tetrahydrofuran (4 ml) was added lithium diisopropylamide (1M tetrahydrofuran solution, 0.78 ml, 0.78 mmol) at −78 ° C. under an argon atmosphere for 2 hours. Stir for a while. To the reaction solution was added a tetrahydrofuran solution (2 ml) of trimethyl borate (156 mg, 1.5 mmol), and the mixture was further stirred for 2 hours and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was quenched with agricultural hydrochloric acid (1 ml), extracted with diethyl ether (10 ml), and dried over anhydrous sodium sulfate. After the desiccant was filtered off, the filtrate could be concentrated under reduced pressure, but the desired 4-ethoxycarbonyloxazol-2-ylboronic acid was not produced.
Claims (13)
The production method according to claim 11 or 12, wherein R 7 is an optionally substituted aromatic group.
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WO2014067962A1 (en) | 2012-10-31 | 2014-05-08 | Bayer Cropscience Ag | Novel heterocyclic compounds as pest control agents |
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