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JP2007033558A - Grid polarizer and its manufacturing method - Google Patents

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JP2007033558A
JP2007033558A JP2005213100A JP2005213100A JP2007033558A JP 2007033558 A JP2007033558 A JP 2007033558A JP 2005213100 A JP2005213100 A JP 2005213100A JP 2005213100 A JP2005213100 A JP 2005213100A JP 2007033558 A JP2007033558 A JP 2007033558A
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grid polarizer
elongated
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polarizer
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JP2005213100A
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Inventor
Toshihide Murakami
俊秀 村上
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grid polarizer which has an anti-scratch property and an anti-fouling property, and has a sufficient flexibility and strength. <P>SOLUTION: The grid polarizer comprises: a first layer made of transparent material; second layers which are plurally formed in parallel to each other so as to be extended as long and narrow lines apart from each other on the main surface of the first layer, and include a material having at least 1.0 for the absolute value of the difference between a real part (n) and an imaginary part (κ) of complex refractive index (N=n-iκ); and a third layer formed so as to block separate parts between top parts of the second layers adjoining away from each other by depositing an inorganic oxide or an inorganic nitride obliquely with respect to the main surface of the first layer, wherein air or an inactive gas is included in a space surrounded by the first layer, the second layer and the third layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光通信、光記録、センサー、画像表示装置等に使用されるグリッド偏光子及びその製法に関し、詳細には、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子及びその製法に関する。   The present invention relates to a grid polarizer used for optical communication, optical recording, a sensor, an image display device, and the like, and a method for producing the same, and in particular, has scratch resistance, antifouling property, and sufficient flexibility. The present invention relates to a grid polarizer having strength and a method for manufacturing the same.

偏光面を自由に設定することができる偏光子としてグリッド偏光子が知られている。これは、多数の線状金属(ワイヤ)を一定の周期で平行に配列したグリッド構造をもつ光学部材である。このような金属のグリッド構造を形成すると、グリッドの周期が入射光の波長より短い場合に、グリッド構造を形成している線状金属に対して平行な偏光成分は反射し、垂直な偏光成分は透過するため、単一偏光を作りだす偏光子として機能する。このグリッド偏光子は、光通信ではアイソレーターの光部品として、液晶表示装置では光の利用率を高め輝度を向上させるための部品として、利用することが提案されている。   A grid polarizer is known as a polarizer whose polarization plane can be freely set. This is an optical member having a grid structure in which a large number of linear metals (wires) are arranged in parallel at a constant period. When such a metal grid structure is formed, when the period of the grid is shorter than the wavelength of the incident light, the polarization component parallel to the linear metal forming the grid structure is reflected and the vertical polarization component is Since it transmits, it functions as a polarizer that produces a single polarized light. It has been proposed that this grid polarizer is used as an optical component of an isolator in optical communication, and as a component for increasing light utilization and improving luminance in a liquid crystal display device.

特許文献1には、図17に示すような、 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子であって、ある屈折率を有する第1の層410と、第1の層から分離した、ある屈折率を有する第2の層413と、第1の層と第2の層の間に挟まれ、要素間に複数のギャップ412を形成した、平行に離間した細長い要素のアレイ411であって、ギャップが第1の層の屈折率より低い屈折率を提供する、アレイと、を含む偏光子が提案されている。特許文献1ではこのギャップ412には空気、真空、水、フッ化マグネシウム、油、炭化水素を含むことができると開示している。特許文献1のグリッド偏光子は、第1の層411及び第2の層413と、アレイ411とが、フッ化マグネシウムなどの低屈折率物質を介して、結合している。   Patent Document 1 discloses an embedded wire grid polarizer for a visible spectrum as shown in FIG. 17, which includes a first layer 410 having a certain refractive index and a certain refraction separated from the first layer. A second layer 413 having a rate and an array 411 of elongated elements spaced in parallel and sandwiched between the first and second layers to form a plurality of gaps 412 between the elements, A polarizer is proposed that includes an array that provides a refractive index lower than that of the first layer. Patent Document 1 discloses that the gap 412 can contain air, vacuum, water, magnesium fluoride, oil, and hydrocarbon. In the grid polarizer of Patent Document 1, the first layer 411 and the second layer 413 and the array 411 are coupled via a low refractive index material such as magnesium fluoride.

特許文献2には、図18に示すような、入射された光ビームを偏光する埋込み式ワイヤグリッド偏光子であって、一表面を有する基材414と、上記表面上に配置された上記入射光の波長よりも小さいグリッド間隔で隔てられる複合ワイヤ418の列と、を有しており、複合ワイヤ418間の溝部415の各々が、光学的な誘電材料で充填され、上記複合ワイヤの各々が、交互になった細長い金属層416及び細長い誘電層417からなるワイヤ内下部構造を有し、また、交互になった細長い金属ワイヤ416と細長い誘電層417とからなる上記ワイヤ内下部構造が、少なくとも2つの上記細長い金属ワイヤ416を有していることを特徴とする埋込み式ワイヤグリッド偏光子が開示されている。特許文献2には、溝部415に充填される光学的誘電材料として空気、光学的に透明な液体、接着剤又はゲルが挙げられている。そして、複合ワイヤの上に誘電部材419が積層されている。   Patent Document 2 discloses an embedded wire grid polarizer that polarizes an incident light beam as shown in FIG. 18, and includes a base material 414 having one surface, and the incident light disposed on the surface. Each of the grooves 415 between the composite wires 418 are filled with an optical dielectric material, each of the composite wires being It has an in-wire lower structure composed of alternating elongated metal layers 416 and elongated dielectric layers 417, and the above-described inner wire structure composed of alternating elongated metal wires 416 and elongated dielectric layers 417 is at least two. An embedded wire grid polarizer is disclosed that has two elongated metal wires 416 described above. Patent Document 2 includes air, an optically transparent liquid, an adhesive, or a gel as an optical dielectric material filled in the groove 415. A dielectric member 419 is laminated on the composite wire.

特許文献3には、図19に示すような、偏光子を有する偏光デバイスであって、前記偏光子は、光透過基板420、前記基板上に配置される周囲環境に敏感なグリッドワイヤ421、及び前記偏光子を包囲する密封包囲部材423を有し、前記包囲部材は前記偏光素子を周囲環境から保護するために不活性雰囲気を有することを特徴とする偏光デバイスが開示されている。この不活性雰囲気として、真空、不活性ガスが開示されている。この密封包囲部材は偏光子の側部に取り付けられたスペーサー424を介して、グリッドワイヤに接しないように設けられている。   Patent Document 3 discloses a polarizing device having a polarizer as shown in FIG. 19, which includes a light transmitting substrate 420, a grid wire 421 that is sensitive to the surrounding environment disposed on the substrate, and There is disclosed a polarizing device including a sealing enclosing member 423 surrounding the polarizer, and the enclosing member has an inert atmosphere to protect the polarizing element from the surrounding environment. As this inert atmosphere, vacuum and inert gas are disclosed. This hermetic enclosing member is provided so as not to contact the grid wire via a spacer 424 attached to the side of the polarizer.

特開2003−519818号公報JP2003-51818A 特開2004−280050号公報JP 2004-280050 A 特開2005−513547号公報JP 2005-513547 A

本発明の目的は、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a grid polarizer having scratch resistance and antifouling properties and sufficient flexibility and strength.

本発明者らは、前記目的を達成するために検討した結果、透明材料からなる第一層の主面に、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層を、細長く線状に延び且つ離間して複数並べて形成し、次いで第一層の主面に対し斜めから蒸着することによって、第二層の頂部双方を橋渡し且つ第二層間にある溝部の口を塞ぐ第三層を形成することによって、第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれ、且つ耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子が得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至ったものである。   As a result of investigations to achieve the above object, the present inventors have found that the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is present on the main surface of the first layer made of a transparent material. A second layer containing a material having an absolute value of 1.0 or more is formed by arranging a plurality of elongated and linearly spaced apart layers, and then vapor-depositing obliquely with respect to the main surface of the first layer. By forming a third layer that bridges the top and closes the mouth of the groove between the second layers, air or an inert gas is contained in the space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer. In addition, the inventors have found that a grid polarizer having scratch resistance and antifouling properties and sufficient flexibility and strength can be obtained, and the present invention has been completed based on this finding.

かくして本発明によれば、
(1)透明材料からなる第一層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層と、
無機酸化物又は無機窒化物からなる第三層とを有し、
第二層は、
細長く線状に延び且つ離間して複数並んでおり、そして
第一層と第三層とに挟まれており、
且つ
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれている、
グリッド偏光子が提供される。
Thus, according to the present invention,
(1) a first layer made of a transparent material;
A second layer containing a material having an absolute value of a difference between a real part n and an imaginary part κ of a complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more;
A third layer made of an inorganic oxide or an inorganic nitride,
The second layer is
A plurality of elongated and linearly spaced lines, and sandwiched between a first layer and a third layer,
And the space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer contains air or inert gas,
A grid polarizer is provided.

また本発明によれば、
(2)透明材料からなる第一層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層と、
無機酸化物又は無機窒化物からなる第三層とを有し、
第一層は、
その表面に細長く線状に延びた凸部が複数並んで離間した状態で形成されており、
第二層は、
前記第一層の凸部の頂面上に、その凸部に沿って細長く線状に延びて設けられ、そして
該凸部の頂面と第三層とに挟まれており、
且つ
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれている、
グリッド偏光子、
及び/又は
(3)さらに、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第四層が、第一層の凸部間に形成された溝部の底面上に、その溝部に沿って細長く線状に延びて設けられている前記グリッド偏光子が提供される。
Also according to the invention,
(2) a first layer made of a transparent material;
A second layer containing a material having an absolute value of a difference between a real part n and an imaginary part κ of a complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more;
A third layer made of an inorganic oxide or an inorganic nitride,
The first layer is
The surface is formed in a state where a plurality of elongated and linearly extending convex portions are spaced apart from each other,
The second layer is
On the top surface of the convex portion of the first layer, it is elongated and linearly provided along the convex portion, and is sandwiched between the top surface of the convex portion and the third layer,
And the space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer contains air or inert gas,
Grid polarizer,
And / or (3) Furthermore, the fourth layer containing a material having an absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more is a convexity of the first layer. The grid polarizer is provided on the bottom surface of the groove formed between the sections, extending in a line shape along the groove.

また、本発明によれば、
(4)前記のグリッド偏光子と、他の偏光光学部材とを重ね合わせた偏光素子が提供され、好適な態様として(5)他の偏光光学部材が、吸収型偏光子であり、グリッド偏光子の偏光透過軸と吸収型偏光子の偏光透過軸とが略平行である前記偏光素子が提供され、さらに(6)前記グリッド偏光子又は偏光素子を備える液晶表示装置が提供される。
Moreover, according to the present invention,
(4) A polarizing element obtained by superimposing the grid polarizer and another polarizing optical member is provided, and (5) as another preferred embodiment, the other polarizing optical member is an absorptive polarizer, and the grid polarizer is provided. The polarizing element in which the polarization transmission axis of the absorbing polarizer and the polarizing transmission axis of the absorptive polarizer are substantially parallel is provided, and (6) a liquid crystal display device including the grid polarizer or the polarizing element is provided.

本発明のグリッド偏光子を構成する第一層は、透明材料からなるものであれば特に制限されない。
透明材料としては、ガラス、透明樹脂などが挙げられ、フレキシビリティーを考慮すると透明樹脂が好ましい。透明樹脂は、加工性の観点から樹脂のガラス転移温度が60〜200℃であることが好ましく、100〜180℃であることがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。
The first layer constituting the grid polarizer of the present invention is not particularly limited as long as it is made of a transparent material.
Examples of the transparent material include glass and transparent resin, and transparent resin is preferable in consideration of flexibility. The transparent resin preferably has a glass transition temperature of 60 to 200 ° C., more preferably 100 to 180 ° C., from the viewpoint of processability. The glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

透明樹脂の具体例としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、脂環式オレフィンポリマーなどが挙げられる。これらのうち、透明性、低吸湿性、寸法安定性、加工性の観点から脂環式オレフィンポリマーが好適である。脂環式オレフィンポリマーとしては、特開平05−310845号公報に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平05−97978号公報に記載されている水素添加重合体、特開平11−124429号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。   Specific examples of the transparent resin include polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyimide resin, polymethyl methacrylate resin, polysulfone resin, polyarylate resin, polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, cellulose diacetate, and cellulose triacetate. And alicyclic olefin polymers. Of these, alicyclic olefin polymers are preferred from the viewpoints of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, and processability. Examples of the alicyclic olefin polymer include a cyclic olefin random multi-component copolymer described in JP-A No. 05-310845, a hydrogenated polymer described in JP-A No. 05-97978, and JP-A No. 11-124429. And thermoplastic dicyclopentadiene-based ring-opening polymers and hydrogenated products thereof.

本発明に用いる透明樹脂は、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、耐電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。
透明樹脂からなる第一層は、前記透明樹脂を公知の方法で成形することによって得られる。成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。
The transparent resin used in the present invention contains coloring agents such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. An agent may be appropriately blended.
The first layer made of a transparent resin can be obtained by molding the transparent resin by a known method. Examples of the molding method include a cast molding method, an extrusion molding method, and an inflation molding method.

第一層は、通常、シート又はフィルム状を成しており、400〜700nmの可視領域の光の透過率が80%以上で、平滑な面を有するものが好ましい。また第一層の平均厚みは、取り扱い性の観点から通常5μm〜1mm、好ましくは20〜200μmである。
また、第一層は、その波長550nmで測定したレターデーションRe(Re=d×(n−n)で定義される値、n、nは第一層の面内主屈折率;dは第一層の平均厚みである)によって特に制限されない。面内の任意2点のレターデーションReの差(レターデーションむら)は、好ましくは10nm以下であり、より好ましくは5nm以下である。レターデーションむらが大きいと、液晶表示装置に用いた場合に表示面の明るさにバラツキが生じやすくなる。
The first layer is usually in the form of a sheet or film, and preferably has a smooth surface with a light transmittance in the visible region of 400 to 700 nm of 80% or more. Moreover, the average thickness of a 1st layer is 5 micrometers-1 mm normally from a viewpoint of handleability, Preferably it is 20-200 micrometers.
Further, the first layer, the retardation Re (Re = d × (n x -n y) defined in the value, n x, n y in-plane principal refractive index of the first layer measured at the wavelength of 550 nm; d is an average thickness of the first layer) and is not particularly limited. The difference between the retardation Re at any two points in the plane (retardation unevenness) is preferably 10 nm or less, and more preferably 5 nm or less. When the retardation unevenness is large, the brightness of the display surface tends to vary when used in a liquid crystal display device.

本発明のグリッド偏光子を構成する第二層は、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含むものである。   The second layer constituting the grid polarizer of the present invention includes a material having an absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more.

複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料は複素屈折率の実部と虚部のいずれかが大きく、その差の絶対値が1.0以上の材料の中から適宜選択することができる。複素屈折率の実部と虚部の差の絶対値が1.0以上の材料の具体例としては、金属;シリコン、ゲルマニウム等の無機半導体;ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ−p−フェニレン等の導電性ポリマー、及びこれら導電性樹脂をヨウ素、三フッ化ホウ素、五フッ化ヒ素、過塩素酸等のドーパントを用いてドーピングした有機系導電性材料;絶縁性樹脂に金、銀などの導電性金属微粒子を分散した溶液を乾燥して得られる有機−無機複合系導電性材料、などが挙げられる。これらの中でも、グリッド偏光子の生産性、耐久性の観点からは金属材料が好ましい。可視域の光を効率よく偏光分離するためには、温度25℃、波長550nmにおける複素屈折率の実部n及び虚部κのそれぞれは、好ましくはnが4.0以下で、κが3.0以上で且つその差の絶対値|n−κ|が1.0以上のものであり、より好ましくはnが2.0以下で、κが4.5以上で且つ|n−κ|が3.0以上のものである。前記好ましい範囲にあるものとしては、銀、アルミニウム、クロム、インジウム、イリジウム、マグネシウム、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、スズ等が挙げられ、前記より好ましい範囲にあるものとしては、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、ロジウム、スズ等が挙げられる。また上記以外に、nが3.0以上で且つκが2.0以下の範囲にある材料、好ましくはnが4.0以上で且つκが1.0以下の範囲にある材料も好適に用いることができる。このような材料としてはシリコンなどが挙げられる。複素屈折率Nは、電磁波の理論的関係式であり、実部の屈折率nと虚部の消衰係数κを用いて、N=n−iκで表現されるものである。   A material whose absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) is 1.0 or more has either a real part or an imaginary part of the complex refractive index that is large. The material can be appropriately selected from materials having a value of 1.0 or more. Specific examples of materials whose absolute value of the difference between the real part and the imaginary part of the complex refractive index is 1.0 or more include metals; inorganic semiconductors such as silicon and germanium; polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, poly-p-phenylene, etc. Conductive polymers, and organic conductive materials obtained by doping these conductive resins with dopants such as iodine, boron trifluoride, arsenic pentafluoride, and perchloric acid; conductive resins such as gold and silver on insulating resins Examples thereof include organic-inorganic composite conductive materials obtained by drying a solution in which metal fine particles are dispersed. Among these, a metal material is preferable from the viewpoint of productivity and durability of the grid polarizer. In order to efficiently separate polarized light in the visible range, each of the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 550 nm is preferably such that n is 4.0 or less and κ is 3. 0 or more and the absolute value of the difference | n−κ | is 1.0 or more, more preferably n is 2.0 or less, κ is 4.5 or more, and | n−κ | .0 or more. Examples of the preferable range include silver, aluminum, chromium, indium, iridium, magnesium, palladium, platinum, rhodium, ruthenium, antimony, and tin. Examples of the more preferable range include aluminum, indium. , Magnesium, rhodium, tin and the like. In addition to the above, a material in which n is 3.0 or more and κ is 2.0 or less, preferably a material in which n is 4.0 or more and κ is 1.0 or less is also preferably used. be able to. Examples of such a material include silicon. The complex refractive index N is a theoretical relational expression of electromagnetic waves, and is expressed by N = n−iκ using the refractive index n of the real part and the extinction coefficient κ of the imaginary part.

詳細は不明であるが|n−κ|の値は次のような意義を持つ。まず、n<κの場合においては、κがより大きく、nがより小さいものほど好ましいということ示している。κが大きいものほど導電性が大きく、第二層の長手方向に振動できる自由電子が多くなるため、偏光(第二層の長手方向に(電場が)平行な方向の偏光)の入射により発生する電界が強くなり、前記偏光に対する反射率が高まる。第二層の幅が小さいので、第二層の長手方向と直交する方向には電子は動けず、第二層の長手方向と直交する方向の偏光に対しては上記の効果は生じず、前記偏光は透過する。またnが小さい方が入射した光の媒質中での波長が大きくなるため、相対的に微細凹凸構造のサイズ(線幅、ピッチ等)が小さくなり、散乱、回折等の影響を受け難くなり、光の透過率(第二層に直交する方向の偏光)、反射率(第二層に平行な方向の偏光)が高まる。
一方n>κの場合においては、nがより大きく、κがより小さいものほど好ましいということを示している。nが大きいものほど、第二層とそれに隣接する部分(図1では空気)との屈折率nの差が大きくなり、構造複屈折が発現しやすくなる。一方κが大きいと光の吸収が大きくなるため、光の損失を防ぐ意味でκは小さいほど好ましい。ここで|n−κ|が1.0以上というのは、nがより大きく、κがより小さいものほど好ましいということを示している。
Although the details are unknown, the value of | n−κ | has the following significance. First, in the case of n <κ, it is shown that κ is larger and n is smaller. The larger κ is, the higher the conductivity and the more free electrons that can vibrate in the longitudinal direction of the second layer. Therefore, it is generated by the incidence of polarized light (polarized light in a direction parallel to the longitudinal direction of the second layer). The electric field becomes stronger and the reflectance for the polarized light increases. Since the width of the second layer is small, electrons do not move in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the second layer, and the above effect does not occur for polarized light in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the second layer. Polarized light is transmitted. In addition, since the wavelength in the medium of incident light is smaller when n is smaller, the size (line width, pitch, etc.) of the fine concavo-convex structure is relatively small, and is less susceptible to the effects of scattering, diffraction, Light transmittance (polarized light in a direction perpendicular to the second layer) and reflectance (polarized light in a direction parallel to the second layer) are increased.
On the other hand, in the case of n> κ, it is shown that n is larger and κ is smaller. As n increases, the difference in the refractive index n between the second layer and the adjacent portion (air in FIG. 1) increases, and structural birefringence is more likely to occur. On the other hand, if κ is large, light absorption increases, so it is preferable that κ is small in order to prevent light loss. Here, | n−κ | being 1.0 or more indicates that n is larger and κ is smaller.

第二層は、細長く線状に延びており、且つ離間して複数並んで設けられている。例えば、図5及び図6に示すように、細長く線状に伸びた凸部が複数離間した状態で並んでいる表面形状を有する透明材料からなる第一層310の凸部の頂面上に、第二層311が積層された構造を成している。第二層のピッチは使用する光の波長の1/2以下になっている。第二層の幅及び高さは細いほど透過方向の偏光成分の吸収が小さくなり、特性上好ましい。可視光線に用いるグリッド偏光子では、第二層のピッチが通常50〜600nmであり、第二層の幅が通常25〜300nm、第二層の高さは10〜500nmである。第二層は、通常光の波長より長く延びており、好ましくは800nm以上延びている。   The second layer is elongated and extends linearly, and a plurality of the second layers are provided side by side. For example, as shown in FIGS. 5 and 6, on the top surface of the convex portion of the first layer 310 made of a transparent material having a surface shape in which a plurality of elongated linearly extending convex portions are arranged in a separated state, The second layer 311 has a stacked structure. The pitch of the second layer is ½ or less of the wavelength of light used. The narrower the width and height of the second layer, the smaller the absorption of the polarization component in the transmission direction, which is preferable in terms of characteristics. In the grid polarizer used for visible light, the pitch of the second layer is usually 50 to 600 nm, the width of the second layer is usually 25 to 300 nm, and the height of the second layer is 10 to 500 nm. The second layer extends longer than the wavelength of normal light, and preferably extends 800 nm or more.

本発明のグリッド偏光子は、第三層が無機酸化物又は無機窒化物からなるものである。無機酸化物又は無機窒化物は低屈折率のものが好ましい。
無機酸化物又は無機窒化物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。
第三層は、その厚さによって特に限定されないが、好ましくは5〜500nm、より好ましくは10〜300nmである。
In the grid polarizer of the present invention, the third layer is made of an inorganic oxide or an inorganic nitride. The inorganic oxide or inorganic nitride preferably has a low refractive index.
Specific examples of the inorganic oxide or inorganic nitride include silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, silicon nitride, and aluminum nitride.
Although a 3rd layer is not specifically limited by the thickness, Preferably it is 5-500 nm, More preferably, it is 10-300 nm.

本発明のグリッド偏光子は、第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれている。空気又は不活性ガスを、空間に含ませると、グリッド偏光子の偏光率が高くなる。不活性ガスとしては、窒素、アルゴンなどが挙げられる。   In the grid polarizer of the present invention, air or an inert gas is contained in a space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer. When air or an inert gas is included in the space, the polarization rate of the grid polarizer increases. Examples of the inert gas include nitrogen and argon.

また、本発明によれば、
(7)透明材料からなる第一層の主面に、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層を、細長く線状に延ばし且つ離間して複数並べて形成し、
第一層の主面に対し斜めから無機酸化物又は無機窒化物を蒸着することによって、離間した状態で隣接する第二層の頂部間に亘って当該離間部分を塞ぐ第三層を形成し、
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれているグリッド偏光子の製法、及び/又は
(8)細長く線状に伸びた凸部が複数並んで離間した状態で表面に形成された透明材料からなる第一層の凸部の頂面上に、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層を該凸部に沿って細長く線状に延ばして形成し、
第一層の主面に対し斜めから無機酸化物又は無機窒化物を蒸着することによって、離間した状態で隣接する第二層の頂部間に亘って当該離間部分を塞ぐ第三層を形成し、
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれているグリッド偏光子の製法、
なお、これら(7)〜(8)に記載の製法は、前記(1)〜(6)に記載のグリッド偏光子を得るために好適な製法である。
Moreover, according to the present invention,
(7) The second layer containing a material having an absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more on the main surface of the first layer made of a transparent material. Are elongated and linearly formed, and are arranged side by side at a distance,
By vapor-depositing an inorganic oxide or an inorganic nitride obliquely with respect to the main surface of the first layer, a third layer is formed that closes the separated portion between the tops of the adjacent second layers in a separated state,
Manufacturing method of grid polarizer in which air or inert gas is contained in space surrounded by first layer, second layer and third layer, and / or (8) a plurality of elongated and linearly extending convex portions The absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) on the top surface of the convex portion of the first layer made of a transparent material formed on the surface in a state of being spaced apart side by side Is formed by extending the second layer containing a material of 1.0 or more into a long and narrow line along the convex portion,
By vapor-depositing an inorganic oxide or an inorganic nitride obliquely with respect to the main surface of the first layer, a third layer is formed that closes the separated portion between the tops of the adjacent second layers in a separated state,
A method for producing a grid polarizer, in which air or an inert gas is contained in a space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer;
In addition, the manufacturing method as described in these (7)-(8) is a manufacturing method suitable in order to obtain the grid polarizer as described in said (1)-(6).

本発明のグリッド偏光子の製法は、第一層の主面に対し斜めから無機酸化物又は無機窒化物を蒸着することによって、離間して並んだ第二層の頂部双方を橋渡し、第二層間にある溝部の口を塞ぐ第三層を形成することを特徴の一つとして含むものである。   The method of manufacturing the grid polarizer of the present invention is to deposit both inorganic oxides or inorganic nitrides obliquely with respect to the main surface of the first layer, thereby bridging both the tops of the second layers that are spaced apart from each other. It is included as one of the features to form a third layer that closes the mouth of the groove portion.

蒸着は、第一層の主面に対して斜めから蒸着する。図1〜図3は、第三層を形成する工程の一例を示した図である。
先ず、離間して並んだ第二層311に対して、図中の紙面右上からの角度で斜め蒸着を行うと、無機酸化物又は無機窒化物が、第二層の頂部右上側に堆積し、図1に示すように蒸着膜316−1が右上に向って成長していく。次に、紙面左上からの角度で斜め蒸着を行うと、無機酸化物又は無機窒化物が第二層の頂部左上側に堆積し、図2に示すように蒸着膜316−2が左上に向って成長していく。そして、右上からの蒸着で成長した蒸着膜316−1と左上からの蒸着で成長した蒸着膜316−2とが接近し、離間した状態で隣接する第二層の頂部間に亘って当該離間部分を塞ぐようになる。そして、離間部分が塞がれると、図3に示すように、蒸着膜316−1及び蒸着膜316−2の上に蒸着膜316−3を成長させることができる。この斜め蒸着工程によって、第三層が形成され、第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれているグリッド偏光子が容易に得られる。
The vapor deposition is performed obliquely with respect to the main surface of the first layer. 1-3 is a figure which showed an example of the process of forming a 3rd layer.
First, for the second layer 311 arranged in a spaced manner, when performing oblique vapor deposition at an angle from the upper right side of the drawing in the drawing, inorganic oxide or inorganic nitride is deposited on the upper right side of the top of the second layer, As shown in FIG. 1, the vapor deposition film 316-1 grows toward the upper right. Next, when oblique vapor deposition is performed at an angle from the upper left of the page, an inorganic oxide or inorganic nitride is deposited on the upper left side of the top of the second layer, and the vapor deposition film 316-2 is directed toward the upper left as shown in FIG. Growing up. And the vapor deposition film 316-1 grown by vapor deposition from the upper right and the vapor deposition film 316-2 grown by vapor deposition from the upper left approach each other, and the separation portion extends between the tops of the adjacent second layers in a separated state. Will be blocked. When the separated portion is blocked, as shown in FIG. 3, a vapor deposition film 316-3 can be grown on the vapor deposition film 316-1 and the vapor deposition film 316-2. By this oblique deposition process, a third layer is formed, and a grid polarizer in which air or an inert gas is contained in a space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer can be easily obtained.

本発明のグリッド偏光子は、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するので、グリッド偏光子を液晶表示装置等に取り付ける際の取り扱いが楽になる。また、本発明のグリッド偏光子を液晶表示装置の液晶パネルとバックライト装置との間に配置すると、バックライトからの出光を有効利用でき、表示画面の輝度を向上させることができる。   Since the grid polarizer of the present invention has scratch resistance and antifouling properties, and has sufficient flexibility and strength, the grid polarizer can be handled easily when it is attached to a liquid crystal display device or the like. Further, when the grid polarizer of the present invention is disposed between the liquid crystal panel of the liquid crystal display device and the backlight device, the light emitted from the backlight can be used effectively and the luminance of the display screen can be improved.

次に本発明の実施態様を図面を参照しながら、詳細に説明する。
図7は、本発明のグリッド偏光子の第一実施態様を示す断面図である。図5及び図6は、図7に示すグリッド偏光子の第三層316を積層する前の状態の斜視図及び断面図である。
図7に示すグリッド偏光子は、第一層の表面に細長く線状に延びる凸部が複数並んで形成されている。この凸部頂面上に、細長く線状に延びた第二層311が該凸部に沿って設けられている。また、凸部間の溝部の底面に細長く線状に延びた第四層311’が該溝部に沿って設けられており、さらにその第二層の頂面上に第三層316が設けられている。
第一層の表面に形成された細長く線状に延びた凸部は、図5及び図6に示すような構造をなしている。第一層の表面に並んでいる凸部のピッチは、好ましくは50〜600nmであり、凸部の巾は、通常光の波長よりも短く、好ましくは25〜300nmであり、凸部の高さは、好ましくは50〜500nmである。凸部は線状に延びており、その長さは、通常光の波長より長く、通常800nm以上である。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the grid polarizer of the present invention. 5 and 6 are a perspective view and a cross-sectional view showing a state before the third layer 316 of the grid polarizer shown in FIG. 7 is laminated.
The grid polarizer shown in FIG. 7 has a plurality of elongated protrusions extending in a line on the surface of the first layer. A second layer 311 that is elongated and linearly formed on the top surface of the convex portion is provided along the convex portion. Further, a fourth layer 311 ′ that is elongated and linearly formed on the bottom surface of the groove between the convex portions is provided along the groove, and a third layer 316 is provided on the top surface of the second layer. Yes.
The elongated linearly formed convex portion formed on the surface of the first layer has a structure as shown in FIGS. The pitch of the convex portions arranged on the surface of the first layer is preferably 50 to 600 nm, and the width of the convex portion is shorter than the wavelength of normal light, preferably 25 to 300 nm, and the height of the convex portion. Is preferably 50 to 500 nm. The convex portion extends linearly, and its length is longer than the wavelength of normal light and is usually 800 nm or more.

細長く線状に延びた凸部を有する第一層は、その製法によって特に制限されない。該第一層の好適な製法は、線状に延びた凹部を有する転写用の型、好適には転写ロールを用いて長尺の樹脂フィルム表面に線状に延びた凸部を転写することを含むものである。   The first layer having a long and linearly extending convex portion is not particularly limited by the manufacturing method. A preferred method for producing the first layer is to transfer a linearly extending convex portion onto the surface of a long resin film using a transfer mold having a linearly extending concave portion, preferably a transfer roll. Is included.

この好適な製法に用いられる転写用の型又は転写ロールは、転写面に細長く線状に延びた凹部を有するものであればその製法によって特に限定されない。例えば、モース硬度9以上の材料を高エネルギー線を用いて加工し、先端に巾600nm以下の突起を形成してなる工具を作製し、該工具を用いて型部材又はロール部材の表面にピッチが好ましくは50〜600nmで、凹部の巾が好ましくは25〜300nmで、凹部の深さが好ましくは50〜500nmである、細長く線状に延びた凹部を形成する方法が挙げられる。   The transfer mold or transfer roll used in this preferred manufacturing method is not particularly limited by the manufacturing method as long as the transfer surface has a long and elongated recess on the transfer surface. For example, a material having a Mohs hardness of 9 or more is processed using a high energy beam, and a tool is formed by forming a protrusion having a width of 600 nm or less at the tip, and the pitch is formed on the surface of the mold member or roll member using the tool. A method of forming an elongated, linearly extending recess, preferably 50 to 600 nm, a recess width of preferably 25 to 300 nm, and a recess depth of preferably 50 to 500 nm.

図12は工具10の一例を示す図である。モース硬度9以上の直方体を高エネルギー線で加工し、先端の面に溝を彫り込み、先端に巾300nm以下、好ましくは200nm以下の直線状の突起11を形成している。図12では直線状突起が一定のピッチで複数本平行に並んでいる。   FIG. 12 is a diagram illustrating an example of the tool 10. A rectangular parallelepiped with a Mohs hardness of 9 or more is processed with a high energy beam, a groove is carved into the tip surface, and a linear protrusion 11 having a width of 300 nm or less, preferably 200 nm or less is formed at the tip. In FIG. 12, a plurality of linear protrusions are arranged in parallel at a constant pitch.

先端に形成される突起の形状は特に制限されず、例えば、直線状突起の長手に垂直な面で切断した断面が、長方形、三角形、半円形、台形、又はこれらの形状を若干変形させたような形状などを挙げることができる。これらの中で断面が長方形のものが、複素屈折率の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料の第二層を容易に形成できるので好適である。
工具の先端に形成される突起の算術平均粗さ(Ra)は好ましくは10nm以下、より好ましくは3nm以下である。
The shape of the protrusion formed at the tip is not particularly limited, and for example, the cross section cut by a surface perpendicular to the length of the linear protrusion is rectangular, triangular, semicircular, trapezoidal, or these shapes are slightly deformed Can be mentioned. Among these, the one having a rectangular cross section is preferable because the second layer of the material having the absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index can be easily formed.
The arithmetic average roughness (Ra) of the protrusion formed at the tip of the tool is preferably 10 nm or less, more preferably 3 nm or less.

工具の突起(凸部)が型部材又はロール部材の表面では凹部となり、工具の凹部が型部材又はロール部材の表面では凸部となって形成される。突起断面形状が長方形である切削工具10(図16;巾W1、ピッチP1、高さH1)を用いた場合、型部材又はロール部材の表面の突起11の巾W2はP1−W1、突起11のピッチP2はP1、突起11の高さH2はH1以下となる。この関係と転写時の熱膨張などを考慮して、型部材又はロール部材の表面に形成したい凹部形状に対応する工具形状を決めることができる。工具の両側端の突起の巾eは、W1−25<e<W1+25(単位nm)又はe=0であることが、加工継ぎ目部分のピッチを設定どおりの値にすることができることから好ましい。   The protrusion (convex portion) of the tool is formed as a concave portion on the surface of the mold member or roll member, and the concave portion of the tool is formed as a convex portion on the surface of the mold member or roll member. When the cutting tool 10 (FIG. 16; width W1, pitch P1, height H1) is used, the width W2 of the protrusion 11 on the surface of the mold member or roll member is P1-W1, The pitch P2 is P1, and the height H2 of the protrusion 11 is H1 or less. In consideration of this relationship and thermal expansion during transfer, the tool shape corresponding to the concave shape to be formed on the surface of the mold member or roll member can be determined. The width e of the protrusions on both side ends of the tool is preferably W1-25 <e <W1 + 25 (unit: nm) or e = 0 because the pitch of the processed seam portion can be set to a set value.

工具に用いられるモース硬度9以上の材料としては、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、コランダムなどが挙げられる。これらの材料は単結晶又は焼結体であることが好ましい。単結晶であれば、加工精度と工具寿命の面で好ましく、単結晶ダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素が硬度が高いためにより好ましく、単結晶ダイヤモンドが特に好ましい。焼結体としては、例えば、コバルト、スチール、タングステン、ニッケル、ブロンズなどを焼結材とするメタルボンド;長石、可溶性粘土、耐火粘土、フリットなどを焼結材とするビトリファイドボンドなどを挙げることができる。これらの中でダイヤモンドメタルボンドが好適である。   Examples of the material having a Mohs hardness of 9 or more used for the tool include diamond, cubic boron nitride, and corundum. These materials are preferably single crystals or sintered bodies. A single crystal is preferable in terms of processing accuracy and tool life, and single crystal diamond or cubic boron nitride is more preferable because of its high hardness, and single crystal diamond is particularly preferable. Examples of the sintered body include metal bonds that use cobalt, steel, tungsten, nickel, bronze, and the like as sintered materials; vitrified bonds that use feldspar, soluble clay, refractory clay, frit, and the like as sintered materials. it can. Of these, diamond metal bonds are preferred.

工具の作製に用いられる高エネルギー線としては、例えば、レーザービーム、イオンビーム、電子ビームなどが挙げられる。これらの中でイオンビームと電子ビームが好適である。イオンビームによる加工では材料の表面にフロン、塩素などの活性ガスを吹き付けながらイオンビームを照射する方法(イオンビーム援用化学加工という。)が好ましい。電子ビーム加工では、材料の表面に酸素ガスなどの活性ガスを吹き付けながら電子ビームを照射する方法(電子ビーム援用化学加工という。)が好ましい。これらビーム援用化学加工によって、エッチング速度を速め、スパッタされた物質の再付着を防ぎ、且つナノオーダーの高精度で微細加工を効率よく行うことができる。   Examples of the high energy beam used for manufacturing the tool include a laser beam, an ion beam, and an electron beam. Among these, an ion beam and an electron beam are preferable. In processing using an ion beam, a method of irradiating an ion beam while spraying an active gas such as chlorofluorocarbon or chlorine on the surface of the material (referred to as ion beam assisted chemical processing) is preferable. In electron beam processing, a method of irradiating an electron beam while spraying an active gas such as oxygen gas on the surface of the material (referred to as electron beam assisted chemical processing) is preferable. By these beam-assisted chemical processing, the etching rate can be increased, the reattachment of the sputtered substance can be prevented, and the fine processing can be efficiently performed with high accuracy on the nano order.

図13は、前記で得られた工具を用いてロール部材20の周面に細長く線状に延びた凹部21を形成する方法の一例を示す図である。図13では、工具10の直線状突起11をロール部材20周面に圧しあて、ロール部材を回転させて、ロール部材周面を切削又は研削している。   FIG. 13 is a diagram showing an example of a method of forming the recess 21 that is elongated and linearly formed on the peripheral surface of the roll member 20 using the tool obtained above. In FIG. 13, the linear protrusion 11 of the tool 10 is pressed against the circumferential surface of the roll member 20, and the roll member is rotated to cut or grind the roll member circumferential surface.

型部材又はロール部材の切削又は研削は、精密微細加工機を用いて行うことが好ましい。精密微細加工機は、X,Y,Z軸の移動精度が、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下、特に好ましくは10nm以下のものである。精密微細加工機は、好ましくは0.5Hz以上の振動の変位が50μm以下に管理された室内、より好ましくは0.5Hz以上の振動の変位が10μm以下に管理された室内に設置して、上記加工を行う。また、型部材又はロール部材の切削又は研削は、好ましくは温度が±0.5℃以内に管理された恒温室、より好ましくは±0.3℃以内に管理された恒温室で行う。   The cutting or grinding of the mold member or roll member is preferably performed using a precision fine processing machine. The precision micromachining machine has an X, Y, and Z axis movement accuracy of preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The precision micro-machining machine is preferably installed in a room where the vibration displacement of 0.5 Hz or more is controlled to 50 μm or less, more preferably in a room where the vibration displacement of 0.5 Hz or more is controlled to 10 μm or less. Processing. Further, the cutting or grinding of the mold member or the roll member is preferably performed in a temperature-controlled room whose temperature is controlled within ± 0.5 ° C., more preferably a temperature-controlled room where the temperature is controlled within ± 0.3 ° C.

微細加工に用いられる型部材又はロール部材は特に制限はないが型部材又はロール部材の表面は適度な硬度のある材料で形成されていることが好ましく、例えば、電着又は無電解めっきにより形成された金属膜で形成される。金属膜を構成する材料としてはビッカース硬度が好ましくは40〜350、より好ましくは200〜300の金属膜を得ることができるものがよく、具体的には、銅、ニッケル、ニッケル−リン合金、パラジウムなどが挙げられ、これらのうち、銅、ニッケル、ニッケル−リン合金が好ましい。   The mold member or roll member used for microfabrication is not particularly limited, but the surface of the mold member or roll member is preferably formed of a material having an appropriate hardness, for example, formed by electrodeposition or electroless plating. It is formed of a metal film. The material constituting the metal film is preferably a material that can obtain a metal film having a Vickers hardness of preferably 40 to 350, more preferably 200 to 300, specifically copper, nickel, nickel-phosphorus alloy, palladium. Of these, copper, nickel, and nickel-phosphorus alloys are preferable.

図13では、ロール部材に直接工具を圧し付けて、細長く線状に延びた凹部を形成させているが、金型に細長く線状に延びた凸部を形成させ、その金型の上に電鋳などで金属版を作製し、金属版を金型から引き剥がし、その金属版をロール部材周面に貼り付ける方法で、転写ロールを作製してもよい。   In FIG. 13, the tool is directly pressed against the roll member to form an elongated, linearly extending recess, but an elongated, linearly extending convex is formed on the mold, and the electric power is formed on the mold. A transfer roll may be produced by a method in which a metal plate is produced by casting or the like, the metal plate is peeled off from the mold, and the metal plate is attached to the peripheral surface of the roll member.

上記の方法などで得られた転写用型又は転写ロールを用いて樹脂フィルム表面に細長く線状に延びた凸部を形成する。図14は、転写ロールで樹脂フィルム30表面に細長く線状に延びた凸部を形成する工程の一例を示す図である。図14では、転写ロール20と、樹脂フィルムを挟んで反対側にあるロール21とで、樹脂フィルム30を圧し挟み、転写ロール周面の細長く線状に延びた凹部形状を樹脂フィルムに転写している。転写ロールとその反対側にあるロールによる挟み圧力は、好ましくは数MPa〜数十MPaである。また転写時の温度は、樹脂フィルムを構成している透明樹脂のガラス転移温度をTgとすると、好ましくはTg〜(Tg+100)℃である。樹脂フィルムと転写ロールとの接触時間は樹脂フィルムの送り速度、すなわちロール回転速度によって調整でき、好ましくは5〜600秒である。   Using the transfer mold or transfer roll obtained by the above method or the like, a long and elongated protrusion is formed on the surface of the resin film. FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a process of forming a long and elongated protrusion on the surface of the resin film 30 with a transfer roll. In FIG. 14, the transfer roll 20 and the roll 21 on the opposite side across the resin film are pressed against the resin film 30, and the shape of the recess extending in the shape of a long line on the peripheral surface of the transfer roll is transferred to the resin film. Yes. The pinching pressure between the transfer roll and the roll on the opposite side is preferably several MPa to several tens of MPa. The temperature during transfer is preferably Tg to (Tg + 100) ° C., where Tg is the glass transition temperature of the transparent resin constituting the resin film. The contact time between the resin film and the transfer roll can be adjusted by the feed speed of the resin film, that is, the roll rotation speed, and is preferably 5 to 600 seconds.

樹脂フィルム表面に細長く線状に延びた凸部を形成する別の方法としては、転写用型又は転写ロールに感光性透明樹脂を圧しあて、露光して、細長く線状に延びた凸部を転写する方法が挙げられる。具体的には感光性透明樹脂溶液を流延して、溶媒を除去し、次いで前記転写ロールを圧しあてると同時に光を照射して、感光性透明樹脂を硬化させて、細長く線状に延びた凸部を形成する方法である。   Another method for forming elongated and linearly protruding parts on the surface of the resin film is to apply a photosensitive transparent resin to a transfer mold or transfer roll and expose it to transfer the elongated and linearly protruding parts. The method of doing is mentioned. Specifically, the photosensitive transparent resin solution was cast, the solvent was removed, and then the transfer roll was pressed and irradiated with light at the same time to cure the photosensitive transparent resin, and elongated in a linear shape. This is a method of forming a convex portion.

次に、樹脂フィルム表面に形成された細長く線状に延びた凸部の頂面にアルミニウムやシリコンなどの複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層311を形成する。図6に示すように凸部の頂面に第二層及び凸部間の溝部の底面に第四層を形成させてもよいし、凸部頂面に第二層だけを形成させてもよい。   Next, the absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) such as aluminum or silicon on the top surface of the elongated linearly formed convex portion formed on the resin film surface The second layer 311 containing a material having a thickness of 1.0 or more is formed. As shown in FIG. 6, the fourth layer may be formed on the bottom surface of the groove between the second layer and the convex portion on the top surface of the convex portion, or only the second layer may be formed on the top surface of the convex portion. .

この第二層及び第四層を形成させる方法は特に制限されない。用いる材料に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリーンコート法、ディップコート法、無電解めっき、電解めっき等のウェットプロセスによる各種コーティング法を用いることができる。これらのうちグリッド構造の均一性の観点から、真空蒸着法、スパッタリング法が好ましい。   The method for forming the second layer and the fourth layer is not particularly limited. Depending on the materials used, various coatings by vacuum deposition processes such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, and wet processes such as microgravure, screen coating, dip coating, electroless plating, and electrolytic plating Can be used. Of these, vacuum vapor deposition and sputtering are preferred from the viewpoint of the uniformity of the grid structure.

以下、第二層又は第四層をスパッタリング法で形成する場合を例示する。図15は連続スパッタリング装置の一例を示す図である。図15の装置500は、巻き出しロール501に前記細長く線状に延びた凸部を形成させた樹脂フィルムを装填でき、ターゲット506に蒸着しようとする金属を装填できるようになった直流マグネトロンスパッタリング装置である。真空室を真空にして、巻き出しロール501からフィルムを巻き出し、清浄な成膜ロ−ル503にフィルムを巻きつけ、ターゲット506からのスパッタリングにより、フィルム表面に金属膜を形成させる。金属膜を形成させたフィルムは巻き取りロ−ル504に巻き取る。   Hereinafter, the case where a 2nd layer or a 4th layer is formed by sputtering method is illustrated. FIG. 15 is a diagram illustrating an example of a continuous sputtering apparatus. An apparatus 500 shown in FIG. 15 is a DC magnetron sputtering apparatus in which the unwinding roll 501 can be loaded with the resin film formed with the elongated linearly extending projections, and the target 506 can be loaded with the metal to be deposited. It is. The vacuum chamber is evacuated, the film is unwound from the unwinding roll 501, the film is wound around a clean film forming roll 503, and a metal film is formed on the film surface by sputtering from the target 506. The film on which the metal film is formed is wound on a winding roll 504.

金属をスパッタリングや蒸着するときの方向をフィルムに形成された細長く線状に延びた凸部に対して傾けることによって、金属膜が形成される部分と金属膜が形成されない部分とができる。例えば、細長く線状に延びた凸部が形成された樹脂フィルムにおいて、樹脂フィルム法線方向からスパッタリング等を行うと凸部の頂面と凸部間の溝部の底面に金属膜が形成されるが、凸部側面には金属膜が形成されない。また同じ樹脂フィルムで、凸部が延びる方向に略直角な方向でフィルム面に対し斜めからスパッタリング等を行うと、凸部頂面と凸部の片側面の上半分の面に金属膜が形成されるが、凸部間の溝部の底面、凸部の片側面の下半分及びもう一方の片側面には金属膜が形成されない。このようなスパッタリングにより飛来する金属の直線性と、凸部及び凸部間の溝部とを利用して、第二層及び第四層を容易に得ることができる。   By tilting the direction when sputtering or vapor-depositing the metal with respect to the elongated linearly formed convex portion formed in the film, a portion where the metal film is formed and a portion where the metal film is not formed can be formed. For example, in a resin film in which a convex part extending in a thin and linear shape is formed, if sputtering or the like is performed from the normal direction of the resin film, a metal film is formed on the top surface of the convex part and the bottom surface of the groove part between the convex parts. The metal film is not formed on the side surface of the convex portion. Also, if the same resin film is sputtered obliquely with respect to the film surface in a direction substantially perpendicular to the direction in which the convex portion extends, a metal film is formed on the top half surface of the convex portion and the upper half of one side of the convex portion. However, a metal film is not formed on the bottom surface of the groove between the convex portions, the lower half of one side surface of the convex portion, and the other one side surface. The second layer and the fourth layer can be easily obtained by utilizing the linearity of the metal flying by such sputtering and the grooves between the protrusions and the protrusions.

次に、第二層311の上に第三層を形成する。第三層は、図1〜図3に示す工程を経て得ることができる。
なお、第三層を形成する工程については、前述した通りである。
Next, a third layer is formed on the second layer 311. The third layer can be obtained through the steps shown in FIGS.
The process for forming the third layer is as described above.

図8は本発明のグリッド偏光子の第二実施態様を示す断面図である。第二実施態様のグリッド偏光子は、第一実施態様のグリッド偏光子の第三層の上に第五層317が積層されているものである。図4は斜め蒸着によって得られた第三層の上に第五層が積層された状態を示す図である。
第五層317は、シートまたはフィルム状を成しているものが好ましい。第五層317は、図8の構造に限定されず、透明な材料からなる層であればよい。
第五層は光を透過できる層であることが好ましく、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等からなる透明樹脂からなる層;オルガノアルコキシシラン、無機微粒子分散アクリル等からなる有機・無機複合層;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ケイ素等からなる無機層等が挙げられる。第四層は、フレキシビリティーの観点から樹脂からなるものであることが好ましい。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the grid polarizer of the present invention. In the grid polarizer of the second embodiment, a fifth layer 317 is laminated on the third layer of the grid polarizer of the first embodiment. FIG. 4 is a view showing a state in which the fifth layer is laminated on the third layer obtained by the oblique vapor deposition.
The fifth layer 317 is preferably a sheet or film. The fifth layer 317 is not limited to the structure of FIG. 8 and may be a layer made of a transparent material.
The fifth layer is preferably a layer capable of transmitting light, for example, a layer made of a transparent resin composed of cellulose esters such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, polycarbonate, polyolefin, polystyrene, polyester, etc. Organic / inorganic composite layer composed of organoalkoxysilane, inorganic fine particle-dispersed acrylic, etc .; inorganic layer composed of silicon nitride, aluminum nitride, silicon oxide, etc. The fourth layer is preferably made of a resin from the viewpoint of flexibility.

第五層を積層する手法としては特に限定は無いが、フィルム状の第五層を貼り合わせて積層する方法、第五層を形成する組成物を含有するコーティング剤を塗布し、乾燥する又は熱若しくは光により硬化する方法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等が挙げられる。第五層の厚さは、特に制限されない。具体的には50nm〜500μmである。   The method of laminating the fifth layer is not particularly limited, but a method of laminating the film-like fifth layer, applying a coating agent containing the composition forming the fifth layer, and drying or heat Alternatively, a method of curing by light, a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, and the like can be given. The thickness of the fifth layer is not particularly limited. Specifically, it is 50 nm to 500 μm.

図10は、本発明のグリッド偏光子の第三実施態様を示す図である。図9は図10に示すグリッド偏光子に第三層を積層する前の状態を示す図である。
図9に示すように、グリッド偏光子は、透明樹脂などの透明な材料からなるフィルム状の第一層310の上に、第二層311が積層されている。第二層311は、第一層310の面上に細長く線状に延びている。第二層を第一層310の上に形成する方法は特に限定されないが、例えば、フォトリソグラフ法によって得ることができる。フォトリソグラフ法の例として、(1)第一層上に金属膜を蒸着、めっきなどの方法で積層し、その金属膜の上に感光性レジスト膜を形成し、線状パターンの光を照射しレジスト膜をパターンに合わせて硬化させ、未硬化部分を取り除き、さらにレジストが取り除かれた金属膜部分をエッチングし、最後に硬化したレジストを取り除く方法や、(2)第一層上に感光性レジスト膜を形成し、線状パターンの光を照射しレジスト膜をパターンに合わせて硬化させ、未硬化部分を取り除き、そのパターンを形成されたレジスト上に蒸着、スパッタなどの方法で金属膜を形成し、最後に硬化したレジストを取り除く方法などが挙げられる。なお、第一層上に無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物の層を形成し、その層の上に第二層を形成してもよい。
FIG. 10 is a diagram showing a third embodiment of the grid polarizer of the present invention. FIG. 9 is a diagram showing a state before the third layer is laminated on the grid polarizer shown in FIG.
As shown in FIG. 9, the grid polarizer has a second layer 311 laminated on a film-like first layer 310 made of a transparent material such as a transparent resin. The second layer 311 is elongated and linearly extends on the surface of the first layer 310. The method for forming the second layer on the first layer 310 is not particularly limited, but can be obtained by, for example, a photolithographic method. As an example of the photolithographic method, (1) a metal film is deposited on the first layer by a method such as vapor deposition or plating, a photosensitive resist film is formed on the metal film, and light of a linear pattern is irradiated. The resist film is cured in accordance with the pattern, the uncured part is removed, the metal film part from which the resist has been removed is etched, and finally the cured resist is removed, or (2) a photosensitive resist on the first layer Form a film, irradiate light with a linear pattern, cure the resist film according to the pattern, remove the uncured part, and form a metal film on the resist with the pattern formed by vapor deposition, sputtering, etc. And a method of removing the last cured resist. Note that a layer of a compound having a reactive group bonded to the inorganic material and a reactive group bonded to the organic material may be formed on the first layer, and the second layer may be formed on the layer.

第三実施態様のグリッド偏光子では、第二層311の頂面に第三層が設けられている。第三層316は、第一実施態様で説明した方法と同じ方法で形成することができ。第一層、第二層及び第三層の間に空間312が形成されている。空間312には、空気又は不活性ガスが含まれている。   In the grid polarizer of the third embodiment, the third layer is provided on the top surface of the second layer 311. The third layer 316 can be formed by the same method as described in the first embodiment. A space 312 is formed between the first layer, the second layer, and the third layer. The space 312 contains air or inert gas.

図11は、本発明グリッド偏光子の第四実施態様を示す断面図である。第四実施態様のグリッド偏光子は、第三実施態様のグリッド偏光子の第三層の上に第五層317が積層されているものである。第五層は第二実施態様の説明で示したものと同じものである。   FIG. 11 is a cross-sectional view showing a fourth embodiment of the grid polarizer of the present invention. In the grid polarizer of the fourth embodiment, a fifth layer 317 is laminated on the third layer of the grid polarizer of the third embodiment. The fifth layer is the same as that shown in the description of the second embodiment.

本発明の偏光素子は、前記グリッド偏光子と、他の偏光光学部材とを重ね合わせてなるものである。他の偏光光学部材としては、吸収型偏光子、位相差素子、偏光回折素子などが挙げられる。特に、本発明の偏光素子を液晶表示装置の輝度向上素子として用いる場合には、他の偏光光学部材が吸収型偏光子であることが好ましい。   The polarizing element of the present invention is formed by superimposing the grid polarizer and another polarizing optical member. Examples of other polarizing optical members include an absorption polarizer, a retardation element, and a polarization diffraction element. In particular, when the polarizing element of the present invention is used as a brightness enhancement element of a liquid crystal display device, the other polarizing optical member is preferably an absorptive polarizer.

本発明に用いられる吸収型偏光子は、直角に交わる二つの直線偏光の一方を透過し、他方を吸収するものである。例えば、ポリビニルアルコールフィルムやエチレン酢酸ビニル部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムにヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたもの、前記親水性高分子フィルムを一軸延伸して二色性物質を吸着させたもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルムなどが挙げられる。吸収型偏光子の厚さは、通常5〜80μmである。   The absorptive polarizer used in the present invention transmits one of two linearly polarized light intersecting at right angles and absorbs the other. For example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol film or an ethylene vinyl acetate partially saponified film adsorbed a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye and uniaxially stretched, the hydrophilic polymer film Examples include uniaxially stretched and dichroic substances adsorbed, and polyene oriented films such as polyvinyl alcohol dehydrated products and polyvinyl chloride dehydrochlorinated products. The thickness of the absorbing polarizer is usually 5 to 80 μm.

グリッド偏光子と吸収型偏光子は、グリッド偏光子の偏光透過軸と吸収型偏光子の偏光透過軸とが略平行になるように重ね合わせることが好ましい。このような配置にすることによって、自然光を効率的に直線偏光に変換することができる。   The grid polarizer and the absorption polarizer are preferably overlapped so that the polarization transmission axis of the grid polarizer and the polarization transmission axis of the absorption polarizer are substantially parallel. With such an arrangement, natural light can be efficiently converted into linearly polarized light.

本発明の偏光素子はその製法によって、特に限定されない。例えば、ロール状に巻かれた前記の長尺のグリッド偏光子及びロール状に巻かれた他の長尺の偏光光学部材を同時にロールから巻き出しながら、該グリッド偏光子と該他の偏光光学部材とを密着させることを含む方法が挙げられる。グリッド偏光子と他の偏光光学部材との密着面には接着剤を介在させることができる。グリッド偏光子と他の偏光光学部材とを密着させる方法としては、二本の平行に並べられたロールのニップにグリッド偏光子と他の偏光光学部材を一緒に通し圧し挟む方法が挙げられる。   The polarizing element of this invention is not specifically limited by the manufacturing method. For example, the grid polarizer and the other polarizing optical member while simultaneously unwinding the long grid polarizer wound in a roll shape and another long polarizing optical member wound in a roll shape from the roll. And a method including adhering to each other. An adhesive agent can be interposed between the grid polarizer and another polarizing optical member. As a method for bringing the grid polarizer and the other polarizing optical member into close contact with each other, there is a method in which the grid polarizer and the other polarizing optical member are pressed together and sandwiched between nips of two parallelly arranged rolls.

本発明の液晶表示装置は、前記のグリッド偏光子又は偏光素子を備えるものである。液晶表示装置は、偏光透過軸を電圧の調整で変化させることができる液晶パネルと、それを挟むように配置される二枚の吸収型偏光子とで構成される。そして、この液晶パネルに光を送りこむために、表示面の裏側に、透過型液晶表示装置ではバックライト装置が、反射型液晶表示装置では反射板が備えられる。   The liquid crystal display device of the present invention includes the grid polarizer or the polarizing element. The liquid crystal display device includes a liquid crystal panel whose polarization transmission axis can be changed by adjusting a voltage, and two absorption polarizers arranged so as to sandwich the liquid crystal panel. In order to send light to the liquid crystal panel, a backlight device is provided in the transmissive liquid crystal display device and a reflector is provided in the reflective liquid crystal display device on the back side of the display surface.

本発明のグリッド偏光子は、直交する直線偏光のうちの一方を透過し、他方を反射する性質を持っている。また本発明の偏光素子は、グリッド偏光子側から光を照射させた場合に、直交する直線偏光のうちの一方を透過し、他方を反射する性質を持っている。本発明の透過型液晶表示装置において、本発明のグリッド偏光子及び偏光素子(偏光素子のグリッド偏光子がバックライト側になるように配置する)を、バックライト装置と液晶パネルとの間に配置すると、バックライト装置で発光した光がグリッド偏光子によって、二つの直線偏光に分離され、一方の直線偏光は液晶パネルの方向へ進み、他方の直線偏光はバックライト装置の方向へ戻る。バックライト装置には反射板が通常備わっており、バックライト装置の方向へ戻った直線偏光は、その反射板により反射され、再びグリッド偏光子に戻ってくる。戻ってきた光はグリッド偏光子で再度二つの偏光に分離される。これを繰り返すことでバックライト装置で発光した光が有効に利用されることになる。その結果、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。反射型液晶表示装置においても同様の原理で画面を明るくすることができる。   The grid polarizer of the present invention has a property of transmitting one of orthogonal linearly polarized light and reflecting the other. Further, the polarizing element of the present invention has a property of transmitting one of orthogonal linearly polarized light and reflecting the other when irradiated with light from the grid polarizer side. In the transmissive liquid crystal display device of the present invention, the grid polarizer and the polarizing element of the present invention (arranged so that the grid polarizer of the polarizing element is on the backlight side) are disposed between the backlight device and the liquid crystal panel. Then, the light emitted from the backlight device is separated into two linearly polarized light by the grid polarizer, one linearly polarized light travels in the direction of the liquid crystal panel, and the other linearly polarized light returns in the direction of the backlight device. The backlight device is usually provided with a reflecting plate, and the linearly polarized light returning to the backlight device is reflected by the reflecting plate and returns to the grid polarizer again. The returned light is again separated into two polarized light by the grid polarizer. By repeating this, the light emitted from the backlight device is effectively used. As a result, light such as a backlight can be efficiently used for displaying an image on the liquid crystal display device, and the screen can be brightened. In the reflective liquid crystal display device, the screen can be brightened by the same principle.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。また、部および%は、特に記載のない限り重量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.

(切削工具)
8mm×8mm×60mmのSUS製シャンクにろう付けされた寸法0.2mm×1mm×1mmの直方体単結晶ダイヤモンドの0.2mm×1mmの面に、アルゴンイオンビームを照射して切削加工を行って、長さ1mmの辺に平行な幅70nm、深さ130nmの溝をピッチ150nmで彫り込み、幅80nm、高さ130nmの直線状の突起約1300本をピッチ150nmで形成して、切削工具を得た。
(Cutting tools)
A 0.2 mm × 1 mm surface of a cuboid single crystal diamond having a size of 0.2 mm × 1 mm × 1 mm brazed to a SUS shank of 8 mm × 8 mm × 60 mm is irradiated with an argon ion beam to perform cutting. A groove having a width of 70 nm and a depth of 130 nm parallel to a side having a length of 1 mm was carved at a pitch of 150 nm, and approximately 1300 linear protrusions having a width of 80 nm and a height of 130 nm were formed at a pitch of 150 nm to obtain a cutting tool.

(転写ロール)
直径200mmで長さ150mmのステンレス鋼SUS430製ロールの周面に、厚さ100μmのニッケル−リン無電解メッキを施した。次いで、先に作製した直線状突起を形成した切削工具を精密円筒研削盤に取付けて、該研削盤で、前記ロールのニッケル−リン無電解メッキ面に、ロール周方向に延びる、幅70nm、高さ130nm、ピッチ150nmの直線状の凸部を形成して、転写ロールを得た。
なお、集束イオンビーム加工による切削工具の作製と、ニッケル−リン無電解メッキ面の切削加工は、温度20.0±0.2℃、振動制御システムにより0.5Hz以上の振動の変位が10μm以下に管理された恒温低振動室内で行った。
(Transfer roll)
Nickel-phosphorus electroless plating with a thickness of 100 μm was applied to the peripheral surface of a stainless steel SUS430 roll having a diameter of 200 mm and a length of 150 mm. Next, the cutting tool formed previously with the linear protrusions is attached to a precision cylindrical grinding machine, and the grinding machine extends to the nickel-phosphorous electroless plating surface of the roll in the circumferential direction of the roll. A linear protrusion having a thickness of 130 nm and a pitch of 150 nm was formed to obtain a transfer roll.
In addition, the fabrication of the cutting tool by focused ion beam machining and the cutting of the nickel-phosphorus electroless plating surface are performed at a temperature of 20.0 ± 0.2 ° C., and the vibration displacement of 0.5 Hz or more by the vibration control system is 10 μm or less In a constant temperature and low vibration room controlled by

比較例1(グリッド偏光子0)
直径70mmのゴム製ロールからなるニップロール及び上記転写ロールを備えた転写装置を用いて、転写ロールの表面温度170℃、ニップロールの表面温度100℃、フィルムの搬送テンション1MPa、及びニップ圧15MPaの条件で、厚さ100μmのシクロオレフィンポリマーフィルム(商品名:ZF−14、日本ゼオン社製)表面上に転写ロール表面の凹凸形状を転写することにより、フィルムの流れ方向と平行に幅75nm、高さ120nm及びピッチ150nmの直線状に延びた凸部を有するフィルムを作製した。
Comparative Example 1 (Grid polarizer 0)
Using a nip roll composed of a rubber roll having a diameter of 70 mm and a transfer apparatus equipped with the transfer roll, the surface temperature of the transfer roll is 170 ° C., the surface temperature of the nip roll is 100 ° C., the film transport tension is 1 MPa, and the nip pressure is 15 MPa. By transferring the irregular shape of the transfer roll surface onto the surface of a cycloolefin polymer film (trade name: ZF-14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm, the width is 75 nm and the height is 120 nm in parallel with the film flow direction. And the film which has the convex part extended linearly with a pitch of 150 nm was produced.

次いで、フィルムの凸部を形成した面に法線方向からアルミニウムを真空蒸着することにより、凸部の頂面及び凸部間の溝部の底面に厚さ50nmのアルミニウムからなる第二層及び第四層を形成した。このグリッド偏光子を所定の形状に裁断して、図9に示すような枚葉のグリッド偏光子0を3枚得た。   Next, by vacuum-depositing aluminum from the normal direction on the surface on which the convex portions of the film are formed, the second layer and the fourth layer made of aluminum having a thickness of 50 nm are formed on the top surfaces of the convex portions and the bottom surfaces of the grooves between the convex portions. A layer was formed. The grid polarizer was cut into a predetermined shape to obtain three sheet grid polarizers 0 as shown in FIG.

次いで、導光板、光拡散シート、及びグリッド偏光子を順次積層し、線状光源を偏光板の端面に設置して偏光光源装置を得た。この偏光光源装置の上に吸収型偏光板をその偏光透過軸がグリッド偏光子の偏光透過軸と平行になるように載置し、さらに透過型のTN液晶パネルを載せ、その上に別の吸収型偏光板を(偏光透過軸が前記吸収型偏光板のものと直交するように)載せて、液晶表示装置を得た。得られた液晶表示装置の初期正面輝度を輝度計(商品名:BM−7、トプコン社製)を用いて測定した。結果を表1に示した。   Next, a light guide plate, a light diffusion sheet, and a grid polarizer were sequentially laminated, and a linear light source was installed on the end face of the polarizing plate to obtain a polarized light source device. An absorptive polarizing plate is placed on this polarized light source device so that its polarization transmission axis is parallel to the polarization transmission axis of the grid polarizer, and further a transmissive TN liquid crystal panel is placed thereon, on which another absorption is made. A liquid crystal display device was obtained by placing a polarizing plate (so that the polarization transmission axis was orthogonal to that of the absorption polarizing plate). The initial front luminance of the obtained liquid crystal display device was measured using a luminance meter (trade name: BM-7, manufactured by Topcon Corporation). The results are shown in Table 1.

また、二枚目のグリッド偏光子の一方の端を固定冶具に、もう一方の端を可動冶具にセットし、グリッド偏光子を±150度(グリッド偏光子が真っ直ぐな状態を0度)の角度に折り曲がるように可動冶具を動かし、−150度折り曲げ及び+150度折り曲げの動作1回を1サイクル(動作速度は2秒/サイクル)とし、200サイクル行った。200サイクルの折り曲げ後でもグリッド偏光子に剥がれなどの異常は目視では認められなかった。この200サイクルの折り曲げを行った後のグリッド偏光子を用いて前記同様にして液晶表示装置を組み立て、屈曲後正面輝度を測定した。結果を表1に示した。   Also, set one end of the second grid polarizer to the fixed jig and the other end to the movable jig, and the grid polarizer is set to ± 150 degrees (0 degrees when the grid polarizer is straight) The movable jig was moved so as to be bent, and one cycle of −150 degree bending and +150 degree bending was performed as one cycle (operation speed was 2 seconds / cycle), and 200 cycles were performed. Even after 200 cycles of bending, abnormalities such as peeling on the grid polarizer were not visually observed. A liquid crystal display device was assembled in the same manner as described above using the grid polarizer after bending for 200 cycles, and the front luminance after bending was measured. The results are shown in Table 1.

次に三枚目のグリッド偏光子の第二層を形成した面にスチールウール#0000を荷重0.02MPaで接触させ20往復させグリッド偏光子の全面を擦った。スチールウールで擦った後のグリッド偏光子には細かい傷などの異常が目視で認められ、反射率又は透過率が面内でばらついていた。スチールウールで擦った後のグリッド偏光子を用いて前記同様にして液晶表示装置を組み立て、摩擦後正面輝度を測定した。結果を表1に示した。   Next, steel wool # 0000 was brought into contact with the surface on which the second layer of the grid polarizer was formed at a load of 0.02 MPa, and was reciprocated 20 times to rub the entire surface of the grid polarizer. The grid polarizer after rubbing with steel wool showed anomalies such as fine scratches visually, and the reflectance or transmittance varied in the plane. A liquid crystal display device was assembled in the same manner as described above using the grid polarizer after rubbing with steel wool, and the front luminance after rubbing was measured. The results are shown in Table 1.

(ハードコート剤)
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(商品名:NK オリゴ U−6HA、新中村化学社製)30部、ブチルアクリレート40部、イソボルニルメタクリレート30部、及び2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン10部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性のハードコート剤を得た。
(Hard coat agent)
Hexafunctional urethane acrylate oligomer (trade name: NK Oligo U-6HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts, butyl acrylate 40 parts, isobornyl methacrylate 30 parts, and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane 10 parts of 1-one was mixed with a homogenizer to obtain an ultraviolet curable hard coat agent.

実施例1
比較例1と同様にしてグリッド偏光子0を得た。グリッド偏光子0の第二層を形成した面に、第二層が延びる方向に直角で且つグリッド偏光子0の法線に対して+75°傾けた方向(図9の紙面右上方向)からSiOを蒸着した。SiOの蒸着膜は第二層の側面及び頂面に堆積し図9の紙面右上方向に成長していた。
次に第二層が延びる方向に直角で且つグリッド偏光子0の法線に対して−60°傾けた方向(図9の紙面左上方向)からSiOを蒸着した。SiOの蒸着膜は第二層の側面及び頂面に堆積し図9の紙面左上方向に成長していた。最後にグリッド偏光子0の法線方向(図9の紙面真上方向)からSiOを蒸着した。SiOの蒸着膜が、第二層頂面から60nmの平均厚さで堆積し、第二層頂部双方を橋渡し且つ第二層間にある溝部の口を塞いでいることを透過型電子顕微鏡で確認した。SiOの蒸着膜は第二層の側面にも堆積しており、その量はグリッド偏光子0の第二層間にあった溝部容積の15%を占めていた。SiOの蒸着膜によって閉ざされた空間(溝部容積の85%)は空気で占められていた。
Example 1
In the same manner as in Comparative Example 1, a grid polarizer 0 was obtained. The surface of the grid polarizer 0 on which the second layer is formed is SiO 2 perpendicular to the direction in which the second layer extends and tilted by + 75 ° with respect to the normal of the grid polarizer 0 (upper right direction in FIG. 9). Was deposited. The deposited film of SiO 2 was deposited on the side surface and the top surface of the second layer and grew in the upper right direction on the paper surface of FIG.
Next, SiO 2 was vapor-deposited from a direction perpendicular to the extending direction of the second layer and inclined by −60 ° with respect to the normal line of the grid polarizer 0 (upper left direction in FIG. 9). The deposited film of SiO 2 was deposited on the side surface and the top surface of the second layer, and grew in the upper left direction on the paper surface of FIG. Finally, SiO 2 was vapor-deposited from the normal direction of the grid polarizer 0 (directly above the paper surface of FIG. 9). A transmission electron microscope confirms that the SiO 2 vapor-deposited film is deposited with an average thickness of 60 nm from the top surface of the second layer, bridges both the top portions of the second layer, and closes the mouth of the groove between the second layers. did. The deposited film of SiO 2 was also deposited on the side surface of the second layer, and the amount thereof occupied 15% of the groove portion volume existing between the second layers of the grid polarizer 0. The space (85% of the groove volume) closed by the deposited film of SiO 2 was occupied by air.

次に、SiO蒸着膜を形成した側の表面に、前記ハードコート剤を、硬化後の膜厚が5μmになるようにバーコーターを用いて塗布した。次いで80℃で5分間乾燥させ、紫外線を照射(積算光量300mJ/cm)して、ハードコート剤を硬化させ、グリッド偏光子1を得た。 Next, the hard coat agent was applied to the surface on which the SiO 2 vapor deposition film was formed, using a bar coater so that the film thickness after curing was 5 μm. Subsequently, it dried at 80 degreeC for 5 minute (s), irradiated with the ultraviolet-ray (integrated light quantity 300mJ / cm < 2 >), the hard-coat agent was hardened, and the grid polarizer 1 was obtained.

200サイクルの折り曲げ後及びスチールウールで擦った後のグリッド偏光子1には剥離や傷などの異常が目視では認められなかった。これらのグリッド偏光子1を用いて比較例1と同様にして液晶表示装置を組み立てて輝度を測定した。結果を表1に示した。   Abnormalities such as peeling and scratches were not visually observed in the grid polarizer 1 after being bent for 200 cycles and rubbed with steel wool. A liquid crystal display device was assembled using these grid polarizers 1 in the same manner as in Comparative Example 1, and the luminance was measured. The results are shown in Table 1.

比較例2
比較例1と同様にしてグリッド偏光子0を得た。ウレタンアクリレート系接着剤(屈折率1.48)が塗布されている、厚さ80μmの脂環式オレフィン重合体からなる透明熱可塑性樹脂フィルム(日本ゼオン社製、ゼオノアフィルム)を、グリッド偏光子0の第二層を形成した面に、真空引き15秒、熱圧着温度80℃、圧着圧力1MPa、保持時間300秒間の条件で、加熱圧着して、3枚のグリッド偏光子2を作成した。
グリッド偏光子0表面の凹部にはウレタンアクリレート系接着剤が満たされていた。200サイクルの折り曲げ後のグリッド偏光子2には実施例1と同様に剥離などの異常が目視では認められなかった。スチールウールで擦った後のグリッド偏光子2には細かい傷がついていることが目視で認められた。これらのグリッド偏光子2を用いて実施例1と同様にして液晶表示装置を組み立てて輝度を測定した。結果を表1に示した。
Comparative Example 2
In the same manner as in Comparative Example 1, a grid polarizer 0 was obtained. A transparent thermoplastic resin film (Zeonor film, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) made of an alicyclic olefin polymer having a thickness of 80 μm and coated with a urethane acrylate adhesive (refractive index: 1.48) is applied to a grid polarizer 0. On the surface on which the second layer was formed, three grid polarizers 2 were formed by thermocompression bonding under the conditions of vacuuming for 15 seconds, thermocompression bonding temperature of 80 ° C., pressure bonding pressure of 1 MPa, and holding time of 300 seconds.
The concave portion on the surface of the grid polarizer 0 was filled with a urethane acrylate adhesive. As in Example 1, no abnormalities such as peeling were visually observed in the grid polarizer 2 after being bent for 200 cycles. It was visually observed that the grid polarizer 2 after being rubbed with steel wool had fine scratches. A liquid crystal display device was assembled using these grid polarizers 2 in the same manner as in Example 1, and the luminance was measured. The results are shown in Table 1.

比較例3
実施例1において、グリッド偏光子1を配置しない状態で液晶表示装置の正面輝度を測定した。結果を第1表に示す。
Comparative Example 3
In Example 1, the front luminance of the liquid crystal display device was measured in a state where the grid polarizer 1 was not disposed. The results are shown in Table 1.

Figure 2007033558
Figure 2007033558

表中の略号は、Al=アルミニウム、HD=ハードコート層、UA=ウレタンアクリレート系接着剤、Air=空気、SiO=蒸着膜、である。 The abbreviations in the table are Al = aluminum, HD = hard coat layer, UA = urethane acrylate adhesive, Air = air, SiO 2 = deposited film.

以上の結果から、
1)基材が樹脂フィルムなので、何れの場合も(比較例含め)屈曲耐性があり、加工における「曲げ」の工程で性能が劣化しないことがわかる。
2)実施例では、第一層、第二層及び第三層に囲まれた空間が保持され、その空間が空気で満たされている。グリッド偏光子を使わない場合(比較例3)の正面輝度と比べ、輝度が高くなっている。またスチールウールで擦った後でも正面輝度がほとんど低下しない。液晶表示装置への組み込み作業時などに不用意に生じる摩擦等で性能が劣化したりすることが無くなることがわかる。
3)比較例1は、初期の輝度が一番大きい。しかし、摩擦後に正面輝度が大幅に低下することがわかる。
4)比較例2では、微細構造の凹部が屈折率の大きい物質で満たされている。初期の輝度が低い。またスチールウールで摩擦した後の輝度低下が大きいことがわかる。
From the above results,
1) Since the base material is a resin film, it has bending resistance in any case (including the comparative example), and it is understood that the performance does not deteriorate in the “bending” process.
2) In the embodiment, a space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer is maintained, and the space is filled with air. The brightness is higher than the front brightness when no grid polarizer is used (Comparative Example 3). Also, the front brightness is hardly lowered even after rubbing with steel wool. It can be seen that the performance does not deteriorate due to the friction generated inadvertently during the work of assembling into the liquid crystal display device.
3) Comparative Example 1 has the largest initial luminance. However, it can be seen that the front brightness is greatly reduced after friction.
4) In Comparative Example 2, the concave portion of the fine structure is filled with a substance having a large refractive index. Initial brightness is low. Moreover, it turns out that the brightness | luminance fall after rubbing with steel wool is large.

本発明のグリッド偏光子の第三層が斜め蒸着によって堆積した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the 3rd layer of the grid polarizer of this invention deposited by diagonal vapor deposition. 本発明のグリッド偏光子の第三層が斜め蒸着によって堆積した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the 3rd layer of the grid polarizer of this invention deposited by diagonal vapor deposition. 本発明のグリッド偏光子の第三層が斜め蒸着によって堆積した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the 3rd layer of the grid polarizer of this invention deposited by diagonal vapor deposition. 本発明のグリッド偏光子の第三層の上に第五層を積層した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which laminated | stacked the 5th layer on the 3rd layer of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第一実施態様に第三層を積層する前の状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state before laminating | stacking a 3rd layer on the 1st embodiment of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第一実施態様に第三層を積層する前の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state before laminating | stacking a 3rd layer on the 1st embodiment of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第一実施態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st embodiment of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第二実施態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 2nd embodiment of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第三実施態様に第三層を積層する前の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state before laminating | stacking a 3rd layer on the 3rd embodiment of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第三実施態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 3rd embodiment of the grid polarizer of this invention. 本発明のグリッド偏光子の第四実施態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 4th embodiment of the grid polarizer of this invention. グリッド偏光層の製法に用いる転写ロールを製造するために用いられる研削工具の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the grinding tool used in order to manufacture the transfer roll used for the manufacturing method of a grid polarizing layer. 研削工具を用いてロールの周面にナノオーダーの凹凸形状を形成する方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the method of forming a nano-order uneven | corrugated shape in the surrounding surface of a roll using a grinding tool. 転写ロールで樹脂フィルム表面に凹凸形状を形成する工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of forming uneven | corrugated shape on the resin film surface with a transfer roll. 連続スパッタリング装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a continuous sputtering apparatus. 切削工具の先端構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the front-end | tip structure of a cutting tool. 従来の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を示す図である。It is a figure which shows the conventional embedded type | mold wire grid polarizer. 従来の埋込み式ワイヤグリッド偏光子を示す図である。It is a figure which shows the conventional embedded wire grid polarizer. 従来のグリッド偏光子を示す図である。It is a figure which shows the conventional grid polarizer.

符号の説明Explanation of symbols

310:第一層
311:第二層
311’:第四層
316:第三層
316−1、316−2、316−3:蒸着膜
327:第五層
310: first layer 311: second layer 311 ′: fourth layer 316: third layer 316-1, 316-2, 316-3: vapor deposition film 327: fifth layer

Claims (8)

透明材料からなる第一層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層と、
無機酸化物又は無機窒化物からなる第三層とを有し、
第二層は、
細長く線状に延び且つ離間して複数並んでおり、そして
第一層と第三層とに挟まれており、
且つ
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれている、
グリッド偏光子。
A first layer of transparent material;
A second layer containing a material having an absolute value of a difference between a real part n and an imaginary part κ of a complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more;
A third layer made of an inorganic oxide or an inorganic nitride,
The second layer is
A plurality of elongated and linearly spaced lines, and sandwiched between a first layer and a third layer,
And the space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer contains air or inert gas,
Grid polarizer.
透明材料からなる第一層と、
複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層と、
無機酸化物又は無機窒化物からなる第三層とを有し、
第一層は、
その表面に細長く線状に延びた凸部が複数並んで離間した状態で形成されており、
第二層は、
前記第一層の凸部の頂面上に、その凸部に沿って細長く線状に延びて設けられ、そして
該凸部の頂面と第三層とに挟まれており、
且つ
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれている、
グリッド偏光子。
A first layer of transparent material;
A second layer containing a material having an absolute value of a difference between a real part n and an imaginary part κ of a complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more;
A third layer made of an inorganic oxide or an inorganic nitride,
The first layer is
The surface is formed in a state where a plurality of elongated and linearly extending convex portions are spaced apart from each other,
The second layer is
On the top surface of the convex portion of the first layer, it is elongated and linearly provided along the convex portion, and is sandwiched between the top surface of the convex portion and the third layer,
And the space surrounded by the first layer, the second layer, and the third layer contains air or inert gas,
Grid polarizer.
さらに複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第四層が、第一層の凸部間に形成された溝部の底面上に、その溝部に沿って細長く線状に延びて設けられている請求項2記載のグリッド偏光子。   Further, a fourth layer containing a material having an absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more is formed between the convex portions of the first layer. The grid polarizer according to claim 2, wherein the grid polarizer is provided on the bottom surface of the substrate so as to be elongated and linear along the groove. 請求項1〜3のいずれかに記載のグリッド偏光子と、他の偏光光学部材とを重ね合わせた偏光素子。   A polarizing element obtained by superimposing the grid polarizer according to claim 1 and another polarizing optical member. 他の偏光光学部材が吸収型偏光子であり、グリッド偏光子の偏光透過軸と吸収型偏光子の偏光透過軸とが略平行である、請求項4記載の偏光素子。   The polarizing element according to claim 4, wherein the other polarizing optical member is an absorptive polarizer, and a polarization transmission axis of the grid polarizer and a polarization transmission axis of the absorption polarizer are substantially parallel. 請求項1〜3のいずれかに記載のグリッド偏光子又は請求項4〜5のいずれかに記載の偏光素子を備える液晶表示装置。   A liquid crystal display device provided with the grid polarizer in any one of Claims 1-3, or the polarizing element in any one of Claims 4-5. 透明材料からなる第一層の主面に、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層を、細長く線状に延ばし且つ離間して複数並べて形成し、
第一層の主面に対し斜めから無機酸化物又は無機窒化物を蒸着することによって、離間した状態で隣接する第二層の頂部間に亘って当該離間部分を塞ぐ第三層を形成し、
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれているグリッド偏光子の製法。
A second layer containing a material having an absolute value of the difference between the real part n and the imaginary part κ of the complex refractive index (N = n−iκ) of 1.0 or more is elongated on the main surface of the first layer made of a transparent material. Extending in a line and spaced apart to form a plurality,
By vapor-depositing an inorganic oxide or an inorganic nitride obliquely with respect to the main surface of the first layer, a third layer is formed that closes the separated portion between the tops of the adjacent second layers in a separated state,
A method for producing a grid polarizer, wherein air or an inert gas is contained in a space surrounded by a first layer, a second layer, and a third layer.
細長く線状に伸びた凸部が複数並んで離間した状態で表面に形成された透明材料からなる第一層の凸部の頂面上に、複素屈折率(N=n−iκ)の実部nと虚部κの差の絶対値が1.0以上の材料を含む第二層を該凸部に沿って細長く線状に延ばして形成し、
第一層の主面に対し斜めから無機酸化物又は無機窒化物を蒸着することによって、離間した状態で隣接する第二層の頂部間に亘って当該離間部分を塞ぐ第三層を形成し、
第一層と第二層と第三層とに囲まれた空間に空気または不活性ガスが含まれているグリッド偏光子の製法。
The real part of the complex refractive index (N = n−iκ) is formed on the top surface of the convex part of the first layer made of a transparent material formed on the surface in a state where a plurality of elongated linearly extending convex parts are arranged side by side. forming a second layer containing a material having an absolute value of a difference between n and the imaginary part κ of 1.0 or more and extending along the convex portion in a linear shape;
By vapor-depositing an inorganic oxide or an inorganic nitride obliquely with respect to the main surface of the first layer, a third layer is formed that closes the separated portion between the tops of the adjacent second layers in a separated state,
A method for producing a grid polarizer, wherein air or an inert gas is contained in a space surrounded by a first layer, a second layer, and a third layer.
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