JP2007031363A - ジベンズ[b,e]オキセピン誘導体の製造方法及びその中間体 - Google Patents
ジベンズ[b,e]オキセピン誘導体の製造方法及びその中間体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007031363A JP2007031363A JP2005218011A JP2005218011A JP2007031363A JP 2007031363 A JP2007031363 A JP 2007031363A JP 2005218011 A JP2005218011 A JP 2005218011A JP 2005218011 A JP2005218011 A JP 2005218011A JP 2007031363 A JP2007031363 A JP 2007031363A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- compound represented
- dibenz
- iii
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 C[C@@](C*)c1ccccc1C#N Chemical compound C[C@@](C*)c1ccccc1C#N 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N c1ccccc1 Chemical compound c1ccccc1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
化合物(VII)の製造方法は多数開示されているが、化合物(III)を合成中間体として使用する方法は知られていない。
ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー(J.Med.Chem.)19(7),941(1976)
ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー(J.Med.Chem.)20(11),1499(1977)
特公昭51−95085号公報
特公昭60−9510号公報
特公平5−86925号公報
前記の化合物(VII)を従来の方法により製造する場合、途中の工程に危険を伴う酸化反応が必要であったり、精製困難な類縁化合物を副生するなどの理由により、精製工程が増え、収率が低下するなどの問題があった。
したがって本発明の課題は、市販の化合物を出発原料として使用し、高純度の化合物(VII)を工業的有利に製造する方法を提供するとともに、その製造の新規中間体を提供することにある。
したがって本発明の課題は、市販の化合物を出発原料として使用し、高純度の化合物(VII)を工業的有利に製造する方法を提供するとともに、その製造の新規中間体を提供することにある。
本発明者らは、市販の2−ブロモメチルベンゾニトリルを出発原料として使用することにより、所期の目的を達成することができることを見出し、さらに検討を加え本発明を完成することができた。
すなわち本発明によれば、
[1]式(I)
(式中、Xは脱離基を示す。)で表される化合物と、式(II)
(式中、Rは低級アルキル基を示す。)で表される化合物とを反応させて式(III)
(式中、Rは前記と同じ。)で表される化合物とし、これを加水分解して式(IV)
で表される化合物を得、これを溶媒に溶解し、酸無水物と強酸性物質を加え、反応させて式(V)
で表される化合物とし、これに式(VI)
(式中、Yはハロゲン原子を示す。)で表される化合物を反応させて式(VII)
で表される化合物又はその薬理上許容される塩を製造する方法、
[1]式(I)
前記[1]の発明によれば、抗アレルギー剤として有用なジベンズ[b,e]オキセピン誘導体(VII)(一般名:オロパタジン)を高純度かつ高収率で製造することができる。また、前記[2]の発明によれば、そのジベンズ[b,e]オキセピン誘導体(VII)の中間体(III)を提供することができ、さらに前記[3]の発明によれば、中間体(III)の工業的に有利な製造方法を提供することができる。
本発明において、化合物(I)のXとしては、例えば塩素原子、臭素原子、沃素原子、メシル基、トシル基等を挙げることができ、好ましくは臭素原子である。化合物(I)と化合物(II)との反応は、化合物(I)に対し化合物(II)を通常1倍〜1.5倍モル使用し、溶媒中、塩基の存在下で行われる。その溶媒としては、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、2−プロパノール、t−ブタノール、酢酸エチル、アセトン、塩化メチレン等を挙げることができ、好ましくはトルエン、N,N−ジメチルホルムアミドである。ここで用いる塩基としては、有機塩基、無機塩基ともに使用でき、トリエチルアミン、ピリジン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が好ましく、中でも炭酸カリウムが好ましい。この反応は前記溶媒中で塩基の存在下0℃〜120℃で行うことができ、好ましくは80℃〜90℃で1時間〜3時間行うとよい。
前記反応で得られた化合物(III)は、溶媒を留去した状態で特に精製することなく次の反応に使用することができる。
前記反応で得られた化合物(III)は、溶媒を留去した状態で特に精製することなく次の反応に使用することができる。
化合物(III)の加水分解は、特に困難はなく、常法により化合物(IV)を高収率で得ることができる。
次に、化合物(IV)を溶媒中、酸無水物及び強酸性物質の存在下で反応させることにより、化合物(V)を得る。ここで用いる溶媒としては、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、アセトン等を挙げることができ、好ましくはトルエンである。酸無水物は、化合物(IV)に対して通常1倍〜3倍モル使用し、例えば無水酢酸、無水桂皮酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等が好適に使用できる。強酸性物質としては、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、ナフィオン等の強酸性樹脂、ポリリン酸、硫酸等の鉱酸を挙げることができ、好ましくはトリフルオロメタンスルホン酸やナフィオンである。その使用量は、例えばナフィオンの場合、化合物(IV)に対し重量比で0.1倍〜0.5倍、好ましくは0.25倍〜0.3倍であり、トリフルオロメタンスルホン酸の場合、触媒量程度でよい。反応温度は、0℃〜150℃が好ましく、より好ましくは100℃〜110℃である。反応は通常0.5時間〜3時間で終了する。
化合物(V)と化合物(VI)の反応は、化合物(V)に対し化合物(VI)を1倍〜3倍モル使用し、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ヘキサン、塩化メチレン等の溶媒中で行ない、−20℃〜20℃、好ましくは−10℃〜10℃で1時間〜5時間程度行えばよい。
(1)2−(4−カルボキシメチルフェノキシ)メチル安息香酸
アセトニトリル50mlに2−ブロモメチルベンゾニトリル10g(0.051モル)、p−ヒドロキシフェニル酢酸メチル8.0g(0.048モル)および
炭酸カリウム8.6g(0.062モル)を加えて混合し、80〜90℃で2時間撹拌した。この反応混合物に40%水酸化ナトリウム水溶液60mlを加え、溶媒の約半分を減圧留去し、100℃前後で2時間撹拌した後、氷水と濃塩酸を加えてpH1とした。析出した結晶を濾取し2−(4−カルボキシメチルフェノキシ)メチル安息香酸の白色結晶13.5g(収率93%)を得た。
アセトニトリル50mlに2−ブロモメチルベンゾニトリル10g(0.051モル)、p−ヒドロキシフェニル酢酸メチル8.0g(0.048モル)および
炭酸カリウム8.6g(0.062モル)を加えて混合し、80〜90℃で2時間撹拌した。この反応混合物に40%水酸化ナトリウム水溶液60mlを加え、溶媒の約半分を減圧留去し、100℃前後で2時間撹拌した後、氷水と濃塩酸を加えてpH1とした。析出した結晶を濾取し2−(4−カルボキシメチルフェノキシ)メチル安息香酸の白色結晶13.5g(収率93%)を得た。
(2)6,11−ジヒドロ−11−オキソジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸
2−(4−カルボキシメチルフェノキシ)メチル安息香酸5g(17.5ミリモル)及び無水酢酸3.46mlをトルエン25mlに溶解し、この溶液を100〜110℃に保って1時間撹拌後、放冷しナフィオン樹脂1.25gを加え、反応溶液を再び100〜110℃に保って9時間撹拌した。室温まで放冷後、ナフィオン樹脂を濾去して溶媒を減圧留去した。残渣をトルエンとヘプタンの混合液から再結晶して6,11−ジヒドロ−11−オキソジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸の結晶4.2g(収率89%)を得た。
2−(4−カルボキシメチルフェノキシ)メチル安息香酸5g(17.5ミリモル)及び無水酢酸3.46mlをトルエン25mlに溶解し、この溶液を100〜110℃に保って1時間撹拌後、放冷しナフィオン樹脂1.25gを加え、反応溶液を再び100〜110℃に保って9時間撹拌した。室温まで放冷後、ナフィオン樹脂を濾去して溶媒を減圧留去した。残渣をトルエンとヘプタンの混合液から再結晶して6,11−ジヒドロ−11−オキソジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸の結晶4.2g(収率89%)を得た。
(3)(11Z)−11−[3−(ジメチルアミノ)プロピリデン]−6,11−ジヒドロジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸
(3−ジメチルアミノプロピル)トリフェニルホスホニウムブロミド臭化水素酸塩19.2g(0.0377モル)をテトラヒドロフラン25mlに懸濁し、氷水浴にて冷却、撹拌下、1.6規定のn−ブチルリチウムヘキサン溶液36mlを加えた。この混合液を、テトラヒドロフラン25mlに6,11−ジヒドロ−11−オキソジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸5g(0.0187モル)を溶かした溶液に滴下し、室温にて2時間撹拌した。次いで溶媒を減圧留去し、残渣に水25mlを加え、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、水層に塩酸を加えてpHを1〜2とし、減圧濃縮した。得られた残渣に2−プロパノールを加え、かき混ぜることにより析出した白色結晶を濾取し、(11Z)−11−[3−(ジメチルアミノ)プロピリデン]−6,11−ジヒドロジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸の塩酸塩4.2g(HPLC純度:99%、換算収率65.8%)を得た。
融点:250℃(分解)
元素分析:理論値(%):C 67.46 H 6.47 N 3.75
実測値(%):C 67.36 H 6.42 N 3.77
1H−NMR(DMSO−d6)δ(ppm):7.38−7.28(4H,m),7.10−7.07(2H,m),6.78(1H,d),5.64(1H,t),
3.56(2H,s),3.25(2H,t),2.80(2H,m),2.71(1H,t)
(3−ジメチルアミノプロピル)トリフェニルホスホニウムブロミド臭化水素酸塩19.2g(0.0377モル)をテトラヒドロフラン25mlに懸濁し、氷水浴にて冷却、撹拌下、1.6規定のn−ブチルリチウムヘキサン溶液36mlを加えた。この混合液を、テトラヒドロフラン25mlに6,11−ジヒドロ−11−オキソジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸5g(0.0187モル)を溶かした溶液に滴下し、室温にて2時間撹拌した。次いで溶媒を減圧留去し、残渣に水25mlを加え、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、水層に塩酸を加えてpHを1〜2とし、減圧濃縮した。得られた残渣に2−プロパノールを加え、かき混ぜることにより析出した白色結晶を濾取し、(11Z)−11−[3−(ジメチルアミノ)プロピリデン]−6,11−ジヒドロジベンズ[b,e]オキセピン−2−酢酸の塩酸塩4.2g(HPLC純度:99%、換算収率65.8%)を得た。
融点:250℃(分解)
元素分析:理論値(%):C 67.46 H 6.47 N 3.75
実測値(%):C 67.36 H 6.42 N 3.77
1H−NMR(DMSO−d6)δ(ppm):7.38−7.28(4H,m),7.10−7.07(2H,m),6.78(1H,d),5.64(1H,t),
3.56(2H,s),3.25(2H,t),2.80(2H,m),2.71(1H,t)
本発明により、抗アレルギーとして有用なジベンズ[b,e]オキセピン誘導体
(一般名:オロパタジン)を工業的に有利に製造することができる。
(一般名:オロパタジン)を工業的に有利に製造することができる。
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005218011A JP2007031363A (ja) | 2005-07-27 | 2005-07-27 | ジベンズ[b,e]オキセピン誘導体の製造方法及びその中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005218011A JP2007031363A (ja) | 2005-07-27 | 2005-07-27 | ジベンズ[b,e]オキセピン誘導体の製造方法及びその中間体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007031363A true JP2007031363A (ja) | 2007-02-08 |
Family
ID=37791035
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005218011A Pending JP2007031363A (ja) | 2005-07-27 | 2005-07-27 | ジベンズ[b,e]オキセピン誘導体の製造方法及びその中間体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007031363A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008099900A1 (ja) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 |
JP2009114166A (ja) * | 2007-02-16 | 2009-05-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 |
WO2011033532A1 (en) | 2009-09-17 | 2011-03-24 | Indoco Remedies Limited | Process for preparation of olopatadine hydrochloride |
CN102757339A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-10-31 | 北京联本医药化学技术有限公司 | 一种改进的4-(2-羧基苄氧基)苯乙酸制备方法 |
CN105693685A (zh) * | 2016-02-01 | 2016-06-22 | 山东罗欣药业集团股份有限公司 | 盐酸奥洛他定的制备工艺 |
-
2005
- 2005-07-27 JP JP2005218011A patent/JP2007031363A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008099900A1 (ja) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 |
JP2009114166A (ja) * | 2007-02-16 | 2009-05-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 |
WO2011033532A1 (en) | 2009-09-17 | 2011-03-24 | Indoco Remedies Limited | Process for preparation of olopatadine hydrochloride |
CN102757339A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-10-31 | 北京联本医药化学技术有限公司 | 一种改进的4-(2-羧基苄氧基)苯乙酸制备方法 |
CN105693685A (zh) * | 2016-02-01 | 2016-06-22 | 山东罗欣药业集团股份有限公司 | 盐酸奥洛他定的制备工艺 |
CN105693685B (zh) * | 2016-02-01 | 2018-05-22 | 山东罗欣药业集团股份有限公司 | 盐酸奥洛他定的制备工艺 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5696043B2 (ja) | オロパタジンの製造方法および中間体 | |
JP2008174547A (ja) | アセナピン合成中間体の製造方法 | |
CN110818661B (zh) | 5-ht4受体激动剂的关键中间体4-氨基-5-卤苯并呋喃-7-羧酸的制备方法 | |
JP2007031363A (ja) | ジベンズ[b,e]オキセピン誘導体の製造方法及びその中間体 | |
JP5139104B2 (ja) | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 | |
JP5248078B2 (ja) | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 | |
WO2007049813A1 (ja) | ベンゾ[b]チオフェン誘導体およびその製造方法 | |
JP5564060B2 (ja) | オロパタジン及び/又はその薬学的に許容され得る塩の製造方法 | |
KR930010500B1 (ko) | 코타르닌의 제조방법 | |
JPH0841029A (ja) | 3−置換キノリン−5−カルボン酸誘導体およびその製造法 | |
JP5027477B2 (ja) | ジベンゾオキセピノピロール化合物およびその中間体の製造方法ならびに新規中間体 | |
KR100699457B1 (ko) | 디벤조티에핀 유도체 및 그 중간체의 제조방법 | |
JP5503877B2 (ja) | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 | |
JP2001302658A (ja) | 3−イソクロマノン類の製造方法 | |
KR100424341B1 (ko) | 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법 | |
KR20090112067A (ko) | 올로파타딘 및 그의 제조를 위한 중간체의 제조방법 | |
JP5424272B2 (ja) | 9−ヒドロキシメチル−シクロヘプタ[b]ピリジン−3−カルボン酸エステル誘導体の製造方法 | |
KR100769084B1 (ko) | 디벤조티에핀 유도체의 제조 방법 | |
JP3953141B2 (ja) | 5−メチル−1,4−ベンゾジオキサン−6−カルボン酸類及びその新規中間体の製法 | |
JP5139016B2 (ja) | オキソジベンゾオキセピン酢酸第3級アルキルエステルの製造方法 | |
JP5322672B2 (ja) | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 | |
JP2005145833A (ja) | Syn−1,3−ジオール化合物の製造方法 | |
JP2006515322A (ja) | ベンゾ[d]イソキサゾール−3−イル−メタンスルホン酸およびその中間体の製造方法 | |
JPH11302216A (ja) | ジアルコキシ置換インダノン誘導体の製造方法 | |
JPH11322668A (ja) | 1,1’―ビナフチル―2,2’―ジカルボン酸の光学分割方法 |