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JP2007060485A - Cmos定電流回路および差動増幅器 - Google Patents

Cmos定電流回路および差動増幅器 Download PDF

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Abstract


【課題】高温度でも安定に動作させることのできるCMOS定電流回路の提供。
【解決手段】CMOS定電流回路の出力端に、ゲート・ソース間を短絡したMOSトランジスタMP10を接続し、高温時にMOSトランジスタに発生したリーク電流を利用して安定動作させる構成とした。 MOSトランジスタMP1,MP2,MN1,MN2と抵抗R2からなる定電流回路と、MOSトランジスタMP3からなる定電流出力部と、S1からなるスタート・アップ部とからなる。
【選択図】図1

Description

本発明は、高温で安定に動作するCMOS定電流回路および差動増幅器に関する。
従来のCMOS定電流回路としては、図7に示されるような回路が知られていた(例えば、特許文献1参照。)。
電源電圧は、VDD端子とGND間に印加される。
定電流回路は、MOSトランジスタMP1、MP2、MN1、MN2、と抵抗R1からなる定電流発生回路と、MOSトランジスタMP3からなる定電流出力部と、S1からなるスタート・アップ回路と、MOSトランジスタMP4からなる温度補償回路とからなる。
OLE_LINK1 定電流発生回路は、MP1とMP2のカレントミラー回路によって、MOSトランジスタMP1、MP2、MN1、MN2には同じ電流が流れる。
MOSトランジスタの飽和領域での電流Iは、一般に式(1)のように扱うことが出来る。
I=β/2×(Vgs−Vth)2 (1)
ここで、βはW/Lに比例するパラメータであり、Vgsはゲート・ソース間電圧、Vthはしきい値電圧である。
MOSトランジスタMN1とMN2のVgs及びβをそれぞれ、Vgs1、Vgs2及びβ1、β2とすれば、
I=β1/2×(Vgs1−Vth)2=β2/2×(Vgs2−Vth−I×R)2 (2)
となる。ここで、Rは抵抗R1の抵抗値である。
これより、MOSトランジスタMN1とMN2のサイズ比及び、抵抗R1の値を適当に設定することで、MOSトランジスタMP1、MP2、MN1、MN2に所望の電流を流すことが出来る。
定電流出力部のMOSトランジスタMP3は、定電流発生回路のMOSトランジスタMP1、MP2とカレントミラー回路を構成し、MP1、MP2とのサイズ比に応じた定電流をIout端子に出力することができる。
スタート・アップ回路のS1は、定電流発生回路が、電流ゼロでも安定動作点をもつため、正常に動作するように、スタート・アップ時に電流を流す回路で、通常動作時の電流は無視することができる。
温度補償回路のMOSトランジスタMP4は、温度が変化しても、定電流回路の出力電流、すなわち、MP3のドレイン電流が、一定になるように接続されている。これによって、温度に対して、一定となる電流を供給している。
公開特許公報 特開2001−216038号(第2図)
しかしながら、従来のCMOS定電流回路では、高温時にMOSトランジスタのリーク電流が増大することで、回路動作が安定しなくなるという課題があった。
そこで、本発明の目的は従来のこのような課題を解決して、高温時でも安定して動作するCMOS定電流回路を提供することを目的としている。
本発明は、CMOS定電流回路の定電流出力端に、ゲートとソースを接続したMOSトランジスタを接続し、高温時にMOSトランジスタのリーク電流分を定電流回路に加えることで、上記課題を解決したものである。
以上のような本発明のCMOS定電流回路によれば、定電流出力端にMOSトランジスタのリーク電流分を加えることで、高温時でも安定して動作することが出来る。
図1は、本発明のCMOS定電流回路の第一の実施例を示す回路図である。
MOSトランジスタMP1、MP2、MN1、MN2、と抵抗R1からなる定電流発生回路と、MOSトランジスタMP3からなる定電流出力部と、S1からなるスタート・アップ回路とからなる。図7のpチャネル型MOSトランジスタMP4は、あってもなくても構わない。第一の実施例のCMOS定電流回路は、定電流出力部にソースとゲートを接続したpチャネル型MOSトランジスタMP10を設けている。pチャネル型MOSトランジスタMP10は、ゲートとソースがVDDに接続され、ドレインが定電流回路の出力端Ioutに接続されている。
次に、本発明のCMOS定電流回路の動作について説明する。定電流発生回路は、MP1とMP2のカレントミラー回路によって、MOSトランジスタMP1、MP2、MN1、MN2には同じ電流が流れる。MOSトランジスタMN1とMN2のサイズ比及び、抵抗R1の値を適当に設定することで、MOSトランジスタMP1、MP2、MN1、MN2に所望の電流を流すことが出来る。
pチャネル型MOSトランジスタMP10は、ゲートとソースが接続されているのでOFFしている。従って常温では、pチャネル型MOSトランジスタMP10にはほとんど電流が流れない。しかしながら高温度になると、pチャネル型MOSトランジスタMP10にリーク電流が発生し、CMOS定電流回路の出力端Ioutの電流には、pチャネル型MOSトランジスタMP10のリーク電流が加えられる。
図2は、CMOS定電流回路の出力電流の温度特性を示す図である。図2のaは、図7の従来のCMOS定電流回路の温度特性であり、温度に対して一定の電流を出力端Ioutから出力することを示している。
図2の破線bは、本発明のCMOS定電流回路の温度特性を示している。pチャネル型MOSトランジスタMP10は、常温ではほとんど電流が流れないが、高温度になるとリーク電流が発生し、指数関数的に電流が増大することになる。
一般に、MOSトランジスタは高温度においてリーク電流が増大する。図1において、CMOS定電流回路の出力端Ioutに、MOSトランジスタで構成された負荷が接続される場合、高温度において負荷となるMOSトランジスタのリーク電流以上の電流を、定電流回路で負荷に供給する必要がある。本発明のCMOS定電流回路によれば、常温では低消費電流を保持しながら、高温度ではMOSトランジスタのリーク電流分を増加して負荷を駆動することが出来るため、低消費電流で、かつ、高温度でも安定に負荷を動作させることが可能である。
図3に、本発明のCMOS定電流回路の第二の実施例を示す回路図である。
第一の実施例との違いは、定電流出力部のMOSトランジスタMP3と出力端Ioutの間にnチャネル型MOSトランジスタMN3およびMN4からなるカレントミラー回路と、pチャネル型MOSトランジスタMP20とが設けられている点である。
pチャネル型MOSトランジスタMP20は、ゲートとソースが接続され、ゲートとソースが定電流回路の出力端Ioutに接続されている。
次に、本発明の定電流回路の動作について説明する。
MOSトランジスタMP1、MP2、MP3、MN1、MN2、抵抗R1、スタート・アップ回路S1の動作は、第一の実施例と同様である。nチャネル型MOSトランジスタMN3およびMN4で構成されるカレントミラー回路は、MOSトランジスタMP3の電流をミラーする役割を果たす。
図1に示す第一の実施例のCMOS定電流回路が出力端Ioutから電流を出力するのに対して、図3に示す第一の実施例のCMOS定電流回路は、出力端Ioutから電流を吸い込む。このような構成のCMOS定電流回路においても、出力端IoutとGND間にpチャネル型MOSトランジスタMP20を設けることによって、常温ではほとんど電流が流れないが、高温度になるとリーク電流が発生し、出力端Ioutの吸い込み電流は指数関数的に増大することになり、同様の効果がある。
図4に、本発明のCMOS定電流回路の第三の実施例を示す回路図である。
pチャネル型MOSトランジスタMP5とMP6は差動増幅回路の能動負荷、nチャネル型MOSトランジスタMN5とMN6は差動増幅回路の差動入力段である。nチャネル型MOSトランジスタMN1とMN2のソースには、定電流回路T30が接続されている。定電流回路T30は従来と同様に、温度に対して依存しない一定電流を吸い込む回路となっている。
pチャネル型MOSトランジスタMP30は、ソースとドレインが定電流回路T30に並列に接続されている。pチャネル型MOSトランジスタMP30は、ゲートとソースが接続されているので、MOSトランジスタとしてはOFF状態にある。従って、常温ではほとんど電流が流れないが、高温度になるとリーク電流が指数関数的に増大する。
仮に、pチャネル型MOSトランジスタMP5とMP6が、同じサイズ(W/L)の場合、それぞれのpチャネル型MOSトランジスタMP5とMP6で同じリーク電流Ileakが発生する。即ち、2×Ileakの電流が発生することになる。
定電流回路T30の電流値IT30が、IT30<2×Ileakとなるとpチャネル型MOSトランジスタMP5とMP6は飽和で動作しなくなり、差動増幅回路の電圧ゲインは大幅に低下する。
pチャネル型MOSトランジスタMP30のサイズ(W/L)を、pチャネル型MOSトランジスタMP5およびMP6のサイズ(W/L)の2倍以上のサイズとすることで、pチャネル型MOSトランジスタMP5とMP6で発生したリーク電流を、pチャネル型MOSトランジスタMP30が吸い込むため、高温度でも正常に動作させることができる。
尚、図4の回路構成の場合は、pチャネル型MOSトランジスタMP30の基板(well)は、ソースに接続されている必要がある。pチャネル型MOSトランジスタMP30の基板がVDDに接続されている場合、バックゲート・バイアスがかかり、pチャネル型MOSトランジスタMP1、MP2とMP30のトランジスタのしきい値電圧が異なり、リーク電流が異なってしまう。従って、pチャネル型MOSトランジスタMP30はp型基板である必要がある。
n型基板であって、電気的に独立なn−wellを作製できない場合は、図5に示すような回路構成とする必要がある。ゲートとソースを接続したpチャネル型MOSトランジスタMP40のドレイン電流を、nチャネル型MOSトランジスタMN7とMN8で構成するカレントミラー回路によってミラーすることで、pチャネル型MOSトランジスタMP5とMP6で発生するリーク電流をnチャネル型MOSトランジスタMN7で吸い込むことができる。この場合、前述のように、pチャネル型MOSトランジスタMP40のサイズ(W/L)を、pチャネル型MOSトランジスタMP5およびMP6のサイズ(W/L)の2倍以上のサイズとするのが良い。
超低消費電流のCMOS回路においては、差動増幅回路の電流値IT30を0.1μA以下に設定することはめずらしくない。高温において、MOSトランジスタのリーク電流が、しきい値電圧によっては、0.1μAを超えることも珍しくない。本発明の回路によって、リーク電流分を加算することで、常温では低消費電流を保持しながら、高温でのみ電流を増加させて、高温での動作の安定性を確保することが出来る。
図6に、本発明のCMOS定電流回路の第四の実施例を示す回路図である。
nチャネル型MOSトランジスタMN9とMN10は差動増幅回路の能動負荷、pチャネル型MOSトランジスタMP7とMP8は差動増幅回路の差動入力段である。pチャネル型MOSトランジスタMP7とMP8のソースには、定電流回路T40が接続されている。定電流回路T40は従来と同様に、温度に対して依存しない一定電流を出力する回路となっている。
pチャネル型MOSトランジスタMP50は、ソースとドレインが定電流回路T40に並列に接続されている。P50はゲートとソースが接続されているので、MOSトランジスタとしてはOFF状態にある。従って、常温ではほとんど電流が流れないが、高温度になるとリーク電流が指数関数的に増大することになる。
仮に、pチャネル型MOSトランジスタMP7とMP8が、同じサイズ(W/L)の場合、それぞれのpチャネル型MOSトランジスタMP7とMP8で同じリーク電流Ileakが発生する。即ち、2×Ileakの電流が発生することになる。
定電流回路T40の電流値IT40がIT40<2×Ileakの時、pチャネル型MOSトランジスタMP7とMP8は飽和で動作しなくなり、差動増幅回路の電圧ゲインは大幅に低下する。
pチャネル型MOSトランジスタMP50のサイズ(W/L)を、pチャネル型MOSトランジスタMP7およびMP8のサイズ(W/L)の2倍以上のサイズとすることで、pチャネル型MOSトランジスタMP7とMP8で発生したリーク電流を、pチャネル型MOSトランジスタMP50が出力するため、高温度でpチャネル型MOSトランジスタMP1およびMP2にリーク電流が発生しても、正常に動作することができる。
以上の実施例では、pチャネル型トランジスタのリーク電流を加えるCMOS定電流回路について述べたが、nチャネル型トランジスタのリーク電流を加えても構わないし、pチャネル型トランジスタとnチャネル型トランジスタの両方のリーク電流をCMOS定電流回路に加える構成としても同様の効果を得ることが出来る。
本発明のCMOS定電流回路の第一の実施例を示す回路図である。 CMOS定電流回路の出力電流の温度特性を示す図である。 本発明のCMOS定電流回路の第二の実施例を示す回路図である。 本発明のCMOS定電流回路の第三の実施例を示す回路図である。 本発明のCMOS定電流回路の第三の実施例を示す回路図である。 本発明のCMOS定電流回路の第四の実施例を示す回路図である。 従来のCMOS定電流回路の回路図である。
符号の説明
T30、T40 定電流回路
S1 スタート・アップ回路

Claims (11)

  1. ドレイン・ソース間に所望の電流が流れるように、ゲート・ソース間に所定の電圧が印加され、定電流回路として動作する第一の導電チャネル型の第一のMOSトランジスタと、ドレインとソースを前記第一のMOSトランジスタのドレインとソースに接続した、第一の導電チャネル型の第二のMOSトランジスタを有し、
    前記第二のMOSトランジスタのゲートは、前記第二のMOSトランジスタのソースに接続することを特徴とするCMOS定電流回路。
  2. ドレイン・ソース間に所望の電流が流れるように、ゲート・ソース間に所定の電圧が印加され、定電流回路として動作する第一の導電チャネル型の第一のMOSトランジスタと、ドレインとソースを前記第一のMOSトランジスタのソースとドレインに接続した、第二の導電チャネル型の第二のMOSトランジスタを有し、
    前記第二のMOSトランジスタのゲートは、前記第二のMOSトランジスタのソースに接続することを特徴とするCMOS定電流回路。
  3. 前記第一のMOSトランジスタが差動増幅回路の定電流回路として機能し、かつ前記第二のMOSトランジスタのサイズ(W/L)が、前記差動増幅回路の能動負荷となるMOSトランジスタのサイズ(W/L)の2倍以上であることを特徴とする請求項1から2のいずれかに記載のCMOS定電流回路。
  4. 前記第一のMOSトランジスタが差動増幅回路の定電流回路として機能し、かつ前記第二のMOSトランジスタのサイズ(W/L)が、前記差動増幅回路の差動入力段となるMOSトランジスタのサイズ(W/L)の2倍以上であることを特徴とする請求項1から2のいずれかに記載のCMOS定電流回路。
  5. 温度変化に対して一定の電流を出力するCMOS定電流回路において、
    前記CMOS定電流回路の出力MOSトランジスタと並列に、ゲートとソースを接続した第二のMOSトランジスタを設け、
    高温になった時に前記第二のMOSトランジスタのリーク電流が増大して安定に動作することを特徴とするCMOS定電流回路。
  6. 前記出力MOSトランジスタは、VDDと出力端子の間に接続したpチャネル型MOSトランジスタであり、
    前記第二のMOSトランジスタは、pチャネル型MOSトランジスタである請求項5記載のCMOS定電流回路。
  7. 前記出力MOSトランジスタは、VDDに接続したpチャネル型MOSトランジスタであり、
    前記出力MOSトランジスタとGNDの間にカレントミラー回路を設け、前記出力端子は前記カレントミラー回路の出力nチャネル型MOSトランジスタのドレインと接続されており、
    前記第二のMOSトランジスタは、前記出力nチャネル型MOSトランジスタと並列に接続したpチャネル型MOSトランジスタである請求項5記載のCMOS定電流回路。
  8. 二つの入力端子の電圧の差を増幅する差動増幅器において、前記差動増幅器を構成する定電流回路と並列にゲートとソースを接続したMOSトランジスタを設け、高温になった時に前記MOSトランジスタのリーク電流が増大して安定に動作することを特徴とする差動増幅器。
  9. 二つの入力端子の電圧の差を増幅する差動増幅器において、VDDに接続されたゲートとソースを接続したMOSトランジスタと、前記MOSトランジスタの電流を前記差動増幅器を構成する定電流回路の両端にミラーするように接続されたカレントミラー回路とを設け、高温になった時に前記MOSトランジスタのリーク電流が増大して安定に動作することを特徴とする差動増幅器。
  10. 前記MOSトランジスタのサイズ(W/L)が、前記差動増幅回路の能動負荷となるMOSトランジスタのサイズ(W/L)の2倍以上であることを特徴とする請求項8から9のいずれかに記載の差動増幅器。
  11. 前記MOSトランジスタのサイズ(W/L)が、前記差動増幅回路の差動入力段となるMOSトランジスタのサイズ(W/L)の2倍以上であることを特徴とする請求項8から9のいずれかに記載の差動増幅器。
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