JP2007045725A - 芳香族アミン誘導体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
Description
また、特許文献5には下記一般式(C)で表される芳香族トリアミン化合物を用いた有機EL素子が開示されている。さらに特許文献6には下記一般式(D)で表される芳香族テトラアミン化合物が開示されている。
本発明の有機EL用材料は正孔注入材料又は正孔輸送材料あるいはドーピング材料として利用できる。
本発明の有機EL素子は、正孔注入帯域及び/又は正孔輸送帯域に該有機EL素子用材料が用いられている。
本発明の有機EL素子は、正孔注入層及び/又は正孔輸送層に該有機EL素子用材料が用いられている。
本発明の有機EL素子は、発光層に該有機EL素子用材料が用いられている。
本発明の有機EL素子は、発光層中に該有機EL素子用材料を0.1〜20重量%含有している。
本発明の有機EL素子は青色系発光である。
特に好ましくは本発明の有機EL素子用材料を正孔輸送帯域に用いた場合であり、さらに好ましくは正孔輸送層に用いた場合に優れた有機EL素子が得られる。
好ましくはフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントラニル基、フェナンスリル基、ピレニル基、クリセニル基、フルオレニル基である。特に好ましくはフェニル基、ナフチル基である。
置換もしくは無置換の核炭素数6〜30のアリーレン基として、例えば、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、クォーターフェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、フェナントリレン基、クリセニレン基、ピレニレン基、フルオレニレン基、2,-6-ジフェニルナフタレン-4',4''-エン基、2-フェニルナフタレン-2,4'-エン基、等が挙げられる。好ましくは、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、フルオレニレン基、ナフチレン基である。
本発明の有機EL素子用材料は、正孔注入帯域及び/又は正孔輸送帯域あるいは発光帯域に、好ましくは正孔注入層及び/又は正孔輸送層又は発光層に用いられ、さらに好ましくは正孔輸送層又は発光層に用いた場合に優れた有機EL素子が得られる。
前記正孔輸送層又は発光層は、(1)〜(3)及び(5)で表される有機EL素子用材料を0.1〜20質量%含有していることが好ましい。
本発明の有機EL素子は青色系発光である。
(1)有機EL素子の構成
以下に本発明に用いられる有機EL素子の代表的な構成例を示す。もちろん、本発明はこれに 限定されるものではない。
(1) 陽極/発光層/陰極
(2) 陽極/正孔注入層/発光層/陰極
(3) 陽極/発光層/電子注入層/陰極
(4) 陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
(5) 陽極/有機半導体層/発光層/陰極
(6) 陽極/有機半導体層/電子障壁層/発光層/陰極
(7) 陽極/有機半導体層/発光層/付着改善層/陰極
(8) 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
(9) 陽極/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(10) 陽極/無機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(11) 陽極/有機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(12) 陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/絶縁層/陰極
(13) 陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
などの構造を挙げることができる。
これらの中で通常(4)、(8)の構成が好ましく用いられる。
本発明の有機EL素子は透光性の基板上に作製する。ここでいう透光性基板は有機EL素子を支持する基板であり、400〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上で、平滑な基板が好ましい。
具体的には、ガラス板、ポリマー板等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等が挙げられる。またポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。
有機薄膜EL素子の陽極は、正孔を正孔輸送層または発光層に注入する役割を担うものであり、4.5eV以上の仕事関数を有することが効果的である。本発明に用いられる陽極材料の具体例としては、酸化インジウム錫合金(ITO)、酸化インジウム亜鉛合金(IZO)、酸化錫(NESA)、金、銀、白金、銅、ランタノイド等が適用できる。またこれらの合金や、積層体を用いてもよい。
陽極はこれらの電極物質を蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。
このように発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きくすることが好ましい。また陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好ましい。陽極の膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選択される。
有機EL素子の発光層は以下の機能を併せ持つものである。すなわち、
(1) 注入機能;電界印加時に陽極または正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極または電子注 入層より電子を注入することができる機能
(2) 輸送機能;注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる機能
(3) 発光機能;電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
がある。但し、正孔の注入されやすさと電子の注入されやすさに違いがあってもよく、また正孔と電子の移動度で表される輸送能に大小があってもよいが、どちらか一方の電荷を移動することが好ましい。
この発光層を形成する方法としては、例えば蒸着法、スピンコート法、LB法等の公知の方法を適用することができる。発光層は、特に分子堆積膜であることが好ましい。
ここで分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態または液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。
また、特開昭57−51781号公報に開示されているように、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化することによっても、発光層を形成することができる。
公知の発光材料としては、特にアントラセンやピレンのような縮合芳香族環を分子内に有する材料が好適である。その具体例を以下に示す。
Ar’は置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族基である。
Xは、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の芳香族複素環基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシ基、置換もしくは無置換の炭素数6〜50のアラルキル基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50のアリールチオ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基である。
a、b及びcは、それぞれ0〜4の整数である。
nは1〜3の整数である。また、nが2以上の場合は、[ ]内は、同じでも異なっていてもよい。)
R1〜R10は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の芳香族複素環基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシ基、置換もしくは無置換の炭素数6〜50のアラルキル基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50のアリールチオ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のシリル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基である。)
L及びL’は、それぞれ置換もしくは無置換のフェニレン基、置換もしくは無置換のナフタレニレン基、置換もしくは無置換のフルオレニレン基又は置換もしくは無置換のジベンゾシロリレン基である。
mは0〜2の整数、nは1〜4の整数、sは0〜2の整数、tは0〜4の整数である。
また、L又はArは、ピレンの1〜5位のいずれかに結合し、L’又はAr’は、ピレンの6〜10位のいずれかに結合する。
ただし、n+tが偶数の時、Ar,Ar’,L,L’は下記(1) 又は(2) を満たす。
(1) Ar≠Ar’及び/又はL≠L’(ここで≠は、異なる構造の基であることを示す。)
(2) Ar=Ar’かつL=L’の時
(2-1) m≠s及び/又はn≠t、又は
(2-2) m=sかつn=tの時、
(2-2-1) L及びL’、又はピレンが、それぞれAr及びAr’上の異なる結合位置に結合しているか、(2-2-2) L及びL’、又はピレンが、Ar及びAr’上の同じ結合位置で結合している場合、L及びL’又はAr及びAr’のピレンにおける置換位置が1位と6位、又は2位と7位である場合はない。]
Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族環基である。
R1〜R10は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の芳香族複素環基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシ基、置換もしくは無置換の炭素数6〜50のアラルキル基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50のアリールチオ基、置換もしくは無置換の炭素数1〜50のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のシリル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基又はヒドロキシル基である。
Ar1、Ar2、R9及びR10は、それぞれ複数であってもよく、隣接するもの同士で飽和もしくは不飽和の環状構造を形成していてもよい。
ただし、一般式(1)において、中心のアントラセンの9位及び10位に、該アントラセン上に示すX−Y軸に対して対称型となる基が結合する場合はない。)
また、ドーパントの発光材料としては、りん光発光性の化合物を用いることもできる。りん光発光性の化合物としては、ホスト材料にカルバゾール環を含む化合物が好ましい。ドーパントとしては三重項励起子から発光することのできる化合物であり、三重項励起子から発光する限り特に限定されないが、Ir、Ru、Pd、Pt、Os及びReからなる群から選択される少なくとも一つの金属を含む金属錯体であることが好ましい。
カルバゾール環を含む化合物からなるりん光発光に好適なホストは、その励起状態からりん光発光性化合物へエネルギー移動が起こる結果、りん光発光性化合物を発光させる機能を有する化合物である。ホスト化合物としては励起子エネルギーをりん光発光性化合物にエネルギー移動できる化合物ならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。カルバゾール環以外に任意の複素環などを有していても良い。
具体例としては、以下のような化合物が挙げられる。
りん光発光性のドーパントの発光層における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、0.1〜70質量%であり、1〜30質量%が好ましい。りん光発光性化合物の含有量が0.1質量%未満では発光が微弱であり、その含有効果が十分に発揮されず、70質量%を超える場合は、濃度消光と言われる現象が顕著になり素子性能が低下する。
さらに、発光層の膜厚は、好ましくは5〜50nm、より好ましくは7〜50nm、最も好ましくは10〜50nmである。5nm未満では発光層形成が困難となり、色度の調整が困難となる恐れがあり、50nmを超えると駆動電圧が上昇する恐れがある。
正孔注入、輸送層は発光層への正孔注入を助け、発光領域まで輸送する層であって、正孔移動度が大きく、イオン化エネルギーが通常5.5eV以下と小さい。このような正孔注入、輸送層としてはより低い電界強度で正孔を発光層に輸送する材料が好ましく、さらに正孔の移動度が、例えば104〜106V/cmの電界印加時に、少なくとも10-4cm2/V・秒であれば好ましい。
本発明の有機EL素子用材料を正孔輸送帯域に用いる場合、本発明の化合物単独で正孔注入、輸送層を形成しても良いし、他の材料と混合して用いても良い。
本発明の有機EL素子用材料と混合して正孔注入、輸送層を形成する材料としては、前記の好ましい性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光導伝材料において正孔の電荷輸送材料として慣用されているものや、EL素子の正孔注入層に使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。芳香族アミン誘導体として下記一般式で表される化合物が考えられる。
また米国特許第5,061,569号に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有する、例えば4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(以下NPDと略記する)、また特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下MTDATAと略記する)等を挙げることができる。
さらに、US−20040113547で記載されている下記一般式の化合物も用いることができる。
正孔注入、輸送層は上述した化合物を、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の公知の方法により薄膜化することにより形成することができる。正孔注入、輸送層としての膜厚は特に制限はないが、通常は5nm〜5μmである。この正孔注入、輸送層は正孔輸送帯域に本発明の化合物を含有していれば、上述した材料の一種または二種以上からなる一層で構成されてもよいし、または前記正孔注入、輸送層とは別種の化合物からなる正孔注入、輸送層を積層したものであってもよい。
電子注入層は発光層への電子の注入を助ける層であって、電子移動度が大きく、また付着改善層は、この電子注入層の中で特に陰極との付着が良い材料からなる層である。電子注入層に用いられる材料としては、8−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯体が好適である。
上記8−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯体の具体例としては、オキシン(一般に8−キノリノールまたは8−ヒドロキシキノリン)のキレートを含む金属キレートオキシノイド化合物が挙げられる。
例えば発光材料の項で記載したAlqを電子注入層として用いることができる。
ここでアリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、アントラニル基、ペリレニル基、ピレニル基が挙げられる。またアリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントラニレン基、ペリレニレン基、ピレニレン基などが挙げられる。また置換基としては炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基またはシアノ基等が挙げられる。この電子伝達化合物は薄膜形成性のものが好ましい。
Ar1は、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリール基、又は置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリール基であり、Ar2は、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリール基、置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、あるいはこれらの2価の基である。ただし、Ar1及びAr2のいずれか一方は、置換もしくは無置換の核炭素数10〜60の縮合環基、又は置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のモノヘテロ縮合環基である。
L1、L2及びLは、それぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリーレン基、置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリーレン基、又は置換もしくは無置換のフルオレニレン基である。
Rは、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリール基、置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基であり、nは0〜5の整数であり、nが2以上の場合、複数のRは同一でも異なっていてもよく、また、隣接する複数のR基同士で結合して、炭素環式脂肪族環又は炭素環式芳香族環を形成していてもよい。)で表される含窒素複素環誘導体。
(式中、HArは、置換基を有していてもよい炭素数3〜40の含窒素複素環であり、Lは、単結合、置換基を有していてもよい炭素数6〜60のアリーレン基、置換基を有していてもよい炭素数3〜60のヘテロアリーレン基又は置換基を有していてもよいフルオレニレン基であり、Ar1は、置換基を有していてもよい炭素数6〜60の2価の芳香族炭化水素基であり、Ar2は、置換基を有していてもよい炭素数6〜60のアリール基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜60のヘテロアリール基である。)で表される含窒素複素環誘導体。
一般式(K)の配位子を形成する環A1及びA2の置換基の具体的な例を挙げると、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基等の置換もしくは無置換のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、3−メチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、3−フルオロフェニル基、3−トリクロロメチルフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、3−ニトロフェニル基等の置換もしくは無置換のアリール基、メトキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロポキシ基、6−(パーフルオロエチル)ヘキシルオキシ基等の置換もしくは無置換のアルコキシ基、フェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、3−フルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェニル基、3−トリフルオロメチルフェノキシ基等の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、t−ブチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、フェニルチオ基、p−ニトロフェニルチオ基、p−t−ブチルフェニルチオ基、3−フルオロフェニルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基、3−トリフルオロメチルフェニルチオ基等の置換もしくは無置換のアリールチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等のモノ又はジ置換アミノ基、ビス(アセトキシメチル)アミノ基、ビス(アセトキシエチル)アミノ基、ビスアセトキシプロピル)アミノ基、ビス(アセトキシブチル)アミノ基等のアシルアミノ基、水酸基、シロキシ基、アシル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、プロイピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等のカルバモイル基、カルボン酸基、スルフォン酸基、イミド基、シクロペンタン基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントラニル基、フェナントリル基、フルオレニル基、ピレニル基等のアリール基、ピリジニル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、インドリニル基、キノリニル基、アクリジニル基、ピロリジニル基、ジオキサニル基、ピペリジニル基、モルフォリジニル基、ピペラジニル基、トリアチニル基、カルバゾリル基、フラニル基、チオフェニル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、トリアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、プラニル基等の複素環基等がある。また、以上の置換基同士が結合してさらなる6員アリール環もしくは複素環を形成しても良い。
陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アルミニウム/酸化アルミニウム、アルミニウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属などが挙げられる。
この陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。
ここで発光層からの発光を陰極から取り出す場合、陰極の発光に対する透過率は10%より大きくすることが好ましい。
また陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmである。
有機ELは超薄膜に電界を印可するために、リークやショートによる画素欠陥が生じやすい。これを防止するために、一対の電極間に絶縁性の薄膜層を挿入することが好ましい。
絶縁層に用いられる材料としては例えば酸化アルミニウム、弗化リチウム、酸化リチウム、弗化セシウム、酸化セシウム、酸化マグネシウム、弗化マグネシウム、酸化カルシウム、弗化カルシウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化ゲルマニウム、窒化珪素、窒化ホウ素、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化バナジウム等が挙げられる。
これらの混合物や積層物を用いてもよい。
以上例示した材料および方法により陽極、発光層、必要に応じて正孔注入層、および必要に応じて電子注入層を形成し、さらに陰極を形成することにより有機EL素子を作製することができる。また陰極から陽極へ、前記と逆の順序で有機EL素子を作製することもできる。
以下、透光性基板上に陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極が順次設けられた構成の有機EL素子の作製例を記載する。
まず適当な透光性基板上に陽極材料からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲の膜厚になるように蒸着やスパッタリング等の方法により形成して陽極を作製する。次にこの陽極上に正孔注入層を設ける。正孔注入層の形成は、前述したように真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の方法により行うことができるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが発生しにくい等の点から真空蒸着法により形成することが好ましい。真空蒸着法により正孔注入層を形成する場合、その蒸着条件は使用する化合物(正孔注入層の材料)、目的とする正孔注入層の結晶構造や再結合構造等により異なるが、一般に蒸着源温度50〜450℃、真空度10-7〜10-3torr、蒸着速度0.01〜50nm/秒、基板温度−50〜300℃、膜厚5nm〜5μmの範囲で適宜選択することが好ましい。
次に正孔注入層上に発光層を設ける発光層の形成も、所望の有機発光材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング、スピンコート法、キャスト法等の方法により有機発光材料を薄膜化することにより形成できるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが発生しにくい等の点から真空蒸着法により形成することが好ましい。真空蒸着法により発光層を形成する場合、その蒸着条件は使用する化合物により異なるが、一般的に正孔注入層と同じような条件範囲の中から選択することができる。
本発明の化合物は、発光帯域や正孔輸送帯域のいずれの層に含有させるかによって異なるが、真空蒸着法を用いる場合は他の材料との共蒸着をすることができる。またスピンコート法を用いる場合は、他の材料と混合することによって含有させることができる。
最後に陰極を積層して有機EL素子を得ることができる。
陰極は金属から構成されるもので、蒸着法、スパッタリングを用いることができる。しかし下地の有機物層を製膜時の損傷から守るためには真空蒸着法が好ましい。
これまで記載してきた有機EL素子の作製は一回の真空引きで一貫して陽極から陰極まで作製することが好ましい。
本発明の有機EL素子の各有機層の膜厚は特に制限されないが、一般に膜厚が薄すぎるとピンホール等の欠陥が生じやすく、逆に厚すぎると高い印加電圧が必要となり効率が悪くなるため、通常は数nmから1μmの範囲が好ましい。
なお有機EL素子に直流電圧を印加する場合、陽極を+、陰極を−の極性にして、5〜40Vの電圧を印加すると発光が観測できる。また逆の極性で電圧を印加しても電流は流れず、発光は全く生じない。さらに交流電圧を印加した場合には陽極が+、陰極が−の極性になった時のみ均一な発光が観測される。印加する交流の波形は任意でよい。
以下、本発明を実施例をもとに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
(A−1)2,7−ジブロモ−9,10−ジハイドロフェナントレンの合成
9,10−ジハイドロフェナントレン 30.0gを(MeO)3PO 200mLに溶解させ、臭素56.7gの(MeO)3PO 100mL溶液を滴下した。フラスコを遮光し、反応溶液を8時間攪拌した。白色の沈殿が生成した。反応終了後、反応溶液中の白色沈殿を濾取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥し、2,7−ジブロモ−9,10−ジハイドロフェナントレン 32.7gを白色結晶として得た。
(A−2)2,7−ジブロモフェナントレンの合成
2,7−ジブロモ−9,10−ジハイドロフェナントレン32.7g、DDQ 24.1g、ベンゼン500mLを仕込み、アルゴン雰囲気下、64時間加熱還流した。反応終了後、室温まで冷却し、ろ過した。ろ液をエバポレーターで濃縮し、残渣をメタノールで洗浄した。得られた個体をショートカラムで精製した後、トルエンで再結晶し、2,7−ジブロモフェナントレン15.5gを無色の針状結晶として得た。
2,7−ジブロモフェナントレン 3.36g、N−フェニル−1−ナフチルアミン 5.26g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 183mg、t−ブトキシナトリウム1.34gのトルエン 100mL溶液にトリt−ブチルホスフィンの0.66wt% トルエン溶液100μLを加えて、5時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下乾燥させた。この固体を熱トルエンに溶解させた後、熱濾過し、室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、トルエンで再結晶することにより3.26gの淡緑白色結晶が得られた。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量612.26に対し、m/e=612であった。
(1)N−(4−ブロモフェニル)−N−フェニル−1−ナフチルアミンの合成
N−フェニル−1−ナフチルアミン 21.9g、4−ブロモヨードベンゼン 28.2g、t−ブトキシナトリウム 14.4g、銅粉 3.81g、キシレン 100mL溶液中にN,N‘−ジメチルエチレンジアミン 17.6gを加え、アルゴン雰囲気下24時間加熱還流した。室温に冷却後、濾過し、不溶物を取り除き、濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、N−(4−ブロモフェニル)−N−フェニル−1−ナフチルアミン 25.4gを得た。
アルゴン雰囲気下、N−(4−ブロモフェニル)−N−フェニル−1−ナフチルアミン 18.7gの乾燥エチルエーテル 100mL、乾燥トルエン 100mL溶液を−78℃に冷却し、1.6Mノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液 32.8mLを滴下した。反応溶液を0℃まで加温しながら1時間攪拌した。反応溶液を再び−78℃まで冷却し、ホウ酸トリイソプロピル 23.5gの乾燥エーテル 50mL溶液を滴下した。反応溶液を室温で5時間攪拌した。1N塩酸 100mLを加え、1時間攪拌後、水層を除去した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、4−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェニルボロン酸 10.2gを得た。
(3)2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレンの合成
アルゴン気流下、N−フェニル−1−ナフチルアミン 13.7g、2,7−ジブロモフェナントレン 21.0g、炭酸カリウム 13.0g、銅粉 0.400g、デカリン 40mLを仕込み、200℃にて6日間反応した。
反応後、熱時濾過し、不溶分はトルエンで洗浄し、濾液を併せ濃縮した。残渣にトルエン 30mLを加え析出晶を濾取して除き、濾液を濃縮した。次いで残渣にメタノール100mLを加え、攪拌後上澄み液を廃棄し、更に 30mLのメタノールを加え、攪拌後上澄み液を廃棄してカラム精製したところ、黄色粉末を得た。これを15mLのトルエンに加熱溶解し、ヘキサン 15mLを加え冷却し、析出した結晶を濾取したところ、2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレンを13.4g得た。
アルゴン気流下、2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレン5.00g、4−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェニルボロン酸4.29g、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(0)243mg、トルエン40mL、2M炭酸ナトリウム水溶液20mLを仕込み、8時間加熱還流した。反応終了後、濾過した。得られた個体を水、メタノールで洗浄後、トルエンで再結晶し、3.12gの淡緑白色結晶が得られた。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量688.29に対し、m/e=688であった。
化合物2の合成においてN−フェニル−1−ナフチルアミンの代わりにN−ビフェニルアニリンを用いて同様の方法で合成した。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量740.32に対し、m/e=740であった。
(B−4)化合物4の合成
化合物2の合成において、2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレンの代わりに2,7−ジブロモフェナントレンを用いて同様の方法で合成した。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量764.32に対し、m/e=764であった。
2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレン 10.4g、アニリン 0.930g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 366mg、t−ブトキシナトリウム 2.68gのトルエン 200mL溶液にトリt−ブチルホスフィンの 0.66wt%トルエン溶液 200μLを加えて、5時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下乾燥させた。この固体を熱トルエンに溶解させた後、熱濾過し、室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、トルエンで再結晶することにより7.26gの淡緑白色結晶が得られた。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量879.36に対し、m/e=879であった。
化合物5の合成において、2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレンの代わりに2−ブロモ−7−[N,N−ビス(4-ビフェニル)アミノ]フェナントレンを用いて同様の方法で合成した。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量1083.46に対し、m/e=1083であった。
(B−7)化合物7の合成
化合物5の合成において、2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレンの代わりに2−ブロモ−7−[N−(4−ビフェニル)−N−フェニルアミノ]フェナントレンを用いて同様の方法で合成した。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量931.39に対し、m/e=931であった。
(1)4−ブロモ−4‘−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)ビフェニルの合成
アルゴン気流下、N−フェニル−1−ナフチルアミン 13.7g、4,4‘−ジブロモビフェニル 19.5g、炭酸カリウム 13.0g、銅粉 0.400g、デカリン 40mLを仕込み、200℃にて6日間反応した。反応後、熱時濾過し、不溶分はトルエンで洗浄し、濾液を併せ濃縮した。残渣にトルエン 30mLを加え析出晶を濾取して除き、濾液を濃縮した。次いで残渣にメタノール 100mLを加え、攪拌後上澄み液を廃棄し、更に30mLのメタノールを加え、攪拌後上澄み液を廃棄してカラム精製したところ、黄色粉末を得た。これを15mLのトルエンに加熱溶解し、ヘキサン15mLを加え冷却し、析出した結晶を濾取したところ、4−ブロモ−4’−(N−1−ナフチル-N-フェニルアミノ)ビフェニルを 13.4g得た。
(2)N,N‘−ジフェニル−N−1−ナフチルベンジジンの合成
4−ブロモ−4‘−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)ビフェニル 4.50g、アニリン 1.11g、トリス(ベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 183mg、t−ブトキシナトリウム 1.35gのトルエン100mL溶液にトリt-ブチルホスフィンの0.66wt%トルエン溶液100μLを加えて、室温で5時間攪拌した。反応終了後、混合物をセライト濾過し、濾液をトルエンで抽出した。これを減圧下で濃縮し、得られた粗生成物をカラム精製し、3.50gの淡黄色粉末が得られた。
2−ブロモ−7−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)フェナントレン2.37g、N,N‘−ジフェニル−N−1−ナフチルベンジジン2.25g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 91.5mg、t−ブトキシナトリウム0.670gのトルエン50mL溶液にトリt−ブチルホスフィンの0.66wt%トルエン溶液50μLを加えて、5時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下乾燥させた。この固体を熱トルエンに溶解させた後、熱濾過し、室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、トルエンで再結晶することにより3.26gの淡緑白色結晶が得られた。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量855.36に対し、m/e=855であった。
(1)4−ブロモ−4‘’−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)−p−ターフェニルの合成
アルゴン気流下、N,N−ジフェニルアミン 13.7g、4,4‘’−ジブロモ−p−ターフェニル 24.3g、炭酸カリウム 13.0g、銅粉 0.400g、デカリン 40mLを仕込み、200℃にて6日間反応した。
反応後、熱時濾過し、不溶分はトルエンで洗浄し、濾液を併せ濃縮した。残渣にトルエン 30mLを加え析出晶を濾取して除き、濾液を濃縮した。次いで残渣にメタノール 100mLを加え、攪拌後上澄み液を廃棄し、更に30mLのメタノールを加え、攪拌後上澄み液を廃棄してカラム精製したところ、黄色粉末を得た。これを15mLのトルエンに加熱溶解し、ヘキサン 15mLを加え冷却し、析出した結晶を濾取したところ、4−ブロモ−4‘’−ジフェニルアミノ−p−ターフェニルを13.4g得た。
(2)2−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)−7−(N−フェニルアミノ)フェナントレンの合成
4−ブロモ−4‘−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)ビフェニル 4.74g、アニリン 1.11g、トリス(ベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 183mg、t−ブトキシナトリウム 1.35gのトルエン 100mL溶液にトリt−ブチルホスフィンの0.66wt%トルエン溶液 100μLを加えて、室温で5時間攪拌した。反応終了後、混合物を濾過した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下で乾燥させ、3.50gの灰色粉末が得られた(粗生成物)。
4−ブロモ−4‘’−ジフェニルアミノ−p−ターフェニル 2.63g、2−(N−1−ナフチル−N−フェニルアミノ)−7−(N−フェニルアミノ)フェナントレン 2.91g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 91.5mg、t−ブトキシナトリウム 0.670gのトルエン 50mL溶液にトリt-ブチルホスフィンの0.66wt%トルエン溶液 50μLを加えて、5時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下乾燥させた。この固体を熱トルエンに溶解させた後、熱濾過し、室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、トルエンで再結晶することにより2.26gの淡緑白色結晶が得られた。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量931.39に対し、m/e=931であった。
(1)2,7−ビス(N−アニリノ)フェナントレンの合成
2,7−ジブロモフェナントレン3.36g、アニリン1.11g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 183mg、t−ブトキシナトリウム1.34gのトルエン100mL溶液にトリt-ブチルホスフィンの0.66wt%トルエン溶液100μLを加えて、5時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下乾燥させ、3.26gの灰色固体が得られた。
(2)化合物10の合成
2,7−ビス(N-アニリノ)フェナントレン 1.80g、4−ブロモ−4‘−(N,N−ジフェニルアミノ)ビフェニル 4.40g、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 183mg、t−ブトキシナトリウム 1.35gのトルエン 50mL溶液にトリt−ブチルホスフィンの0.66wt%トルエン溶液 100μLを加えて、5時間加熱還流した。室温に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた個体をメタノール、水、メタノール、トルエンで順次洗浄し、減圧下乾燥させた。この固体を熱トルエンに溶解させた後、熱濾過し、室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、トルエンで再結晶することにより2.20gの淡緑白色結晶が得られた。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量998.43に対し、m/e=998であった。
化合物10の合成において4−ブロモ−4‘−(N,N−ジフェニルアミノ)ビフェニルの代わりに4−ブロモトリフェニルアミンを用いて同様の方法で合成した。このものは、マススペクトル分析の結果、目的物であり、分子量846.37に対し、m/e=846であった。
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を5分間行なった後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に、前記透明電極を覆うようにして膜厚80nmの化合物1膜を抵抗加熱蒸着により成膜した。この化合物1膜は、正孔注入輸送層として機能する。化合物1膜の成膜に続けてこの化合物1膜上に、膜厚40nmで9−(2−ナフチル)−10−[4−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン(以下AN−1と略記する。)を抵抗加熱蒸着により成膜した。同時に発光分子として、下記のスチリル基を有するアミン化合物D−1をAN−1に対し重量比2:40で蒸着した。この膜は、発光層として機能する。この膜上に膜厚10nmのAlq膜を成膜した。これは、電子注入層として機能する。この後還元性ドーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極)としてAlq:Li膜(膜厚10nm)を形成した。このAlq:Li膜上に金属Alを蒸着させ金属陰極を形成し有機EL発光素子を形成した。
実施例1における化合物1の代わりに化合物2〜10をそれぞれ用いて、同様の有機EL素子を作製した。
実施例1における化合物1の代わりに下記化合物(A)〜(G)をそれぞれ用いて、同様の有機EL素子を作製した。
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を5分間行なった後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に、前記透明電極を覆うようにして膜厚60nmの化合物11膜を抵抗加熱蒸着により成膜した。この化合物11膜は、第一の正孔注入層(正孔輸送層)として機能する。化合物11膜の成膜に続けてこの化合物11膜上に膜厚20nmの4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル膜(以下「NPD膜」と略記する。)を抵抗加熱蒸着により成膜した。このNPD膜は第2の正孔注入層(正孔輸送層)として機能する。さらに、NPD膜の成膜に続けてこのNPD膜上に膜厚40nmでAN−1とを抵抗加熱蒸着により成膜した。同時に発光分子として、D−1をAN−1に対し重量比2:40で蒸着した。この膜は、発光層として機能する。この膜上に膜厚10nmのAlq膜を成膜した。これは、電子注入層として機能する。この後還元性ドーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極)としてAlq:Li膜(膜厚10nm)を形成した。このAlq:Li膜上に金ゾクAlを蒸着させ金属陰極を形成し有機EL発光素子を形成した。
Claims (12)
- 下記一般式(1)で表される芳香族アミン誘導体。
L1及びL2はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の核炭素数6〜30のアリーレン基、又は、置換もしくは無置換の核炭素数5〜30のヘテロアリーレン基を表す。
但し、L1及びL2が単結合である場合は、Ar1及びAr3が共に置換もしくは無置換のフェニル基であり、かつAr2及びAr4が共に置換もしくは無置換のビフェニリル基又は置換もしくは無置換のフェニル基である場合はない。
Raは置換基を示し、複数の場合には互いに結合して環を形成しても良い。
nは0〜8の整数である。] - 下記一般式(2)又は(3)で表される芳香族アミン誘導体。
L3〜L7はそれぞれ独立に、置換もしくは無置換の核炭素数6〜30のアリーレン基、又は置換もしくは無置換の核炭素数5〜30のヘテロアリーレン基を示し、かつ、一般式(2)においてL3及びL4の少なくとも一つ、あるいは一般式(3)においてL5〜L7のうち少なくとも一つが、下記一般式(4)で表される連結基である。
Raは置換基を示し、複数の場合には互いに結合して環を形成しても良い。
nは0〜8の整数である。}] - 請求項1又は2に記載の芳香族アミン誘導体である有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
- 有機エレクトロルミネッセンス素子用正孔注入材料または正孔輸送材料である請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
- 有機エレクトロルミネッセンス素子用ドーピング材料である請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
- 陽極と陰極間に少なくとも発光層を有する一層又は複数層からなる有機薄膜層が挟持されている有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機薄膜層の少なくとも一層が請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を単独または混合物の成分として含有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記有機薄膜層が正孔輸送帯域及び/または正孔注入帯域を有し、請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料が、正孔注入帯域及び/または正孔輸送帯域に用いられている請求項7記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記有機薄膜層が正孔輸送層及び/または正孔注入層を有し、請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料が、正孔注入層及び/または正孔輸送層に用いられている請求項7記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記有機薄膜層が発光層を有し、請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料が、発光層に用いられている請求項7記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項3又は4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用材料が、該発光層中に0.1〜20重量%含有されている請求項7記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 青色系発光である請求項7〜11のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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