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JP2006512776A5 - - Google Patents

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Claims (25)

メモリセルの少なくとも1つの面が基板の上方に形成されたメモリアレイを備えた集積回路であって、前記メモリセルは、複数の直列接続されたNAND列に配置された可変コンダクタンススイッチデバイスを含む、集積回路。   An integrated circuit comprising a memory array having at least one surface of a memory cell formed above a substrate, the memory cell including a variable conductance switch device disposed in a plurality of series connected NAND strings. Integrated circuit. メモリアレイは、メモリセルの少なくとも2つの面が基板の上方に形成された三次元メモリアレイを含む、請求項1に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 1, wherein the memory array comprises a three-dimensional memory array in which at least two sides of the memory cells are formed above the substrate. 可変コンダクタンススイッチデバイスは、電荷蓄積誘電体を有するトランジスタを含む、請求項1に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 1, wherein the variable conductance switch device includes a transistor having a charge storage dielectric. メモリセルトランジスタの電荷蓄積誘電体は、酸化物−窒化物−酸化物(ONO)のスタックを含む、請求項3に記載の集積回路。   4. The integrated circuit of claim 3, wherein the charge storage dielectric of the memory cell transistor comprises an oxide-nitride-oxide (ONO) stack. 各列は、その第1の端部において、関連するグローバルアレイ線に列を結合するための第1のスイッチデバイスを含む、請求項1に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 1, wherein each column includes a first switch device for coupling the column to an associated global array line at a first end thereof. 共通してワード線を有する2つのNAND列は、1つのグローバルアレイ線を共有する、請求項5に記載の集積回路。   6. The integrated circuit of claim 5, wherein two NAND columns having a common word line share a global array line. 各NAND列は、第1の端部に対向する第2の端部において、関連するバイアスノードに列を結合するための第2のスイッチデバイスを含む、請求項5に記載の集積回路。   6. The integrated circuit of claim 5, wherein each NAND string includes a second switch device for coupling the string to an associated bias node at a second end opposite the first end. NAND列の対は、関連するグローバルアレイ線に対の一方の列を結合する第1の制御信号が、関連するバイアスノードに対の他方の列を結合するように配置される、請求項7に記載の集積回路。   8. The NAND column pair is arranged such that a first control signal coupling one column of the pair to an associated global array line couples the other column of the pair to an associated bias node. An integrated circuit as described. 各メモリセルの列の第1のスイッチデバイスは、電荷蓄積誘電体を有するトランジスタを含む、請求項5に記載の集積回路。   6. The integrated circuit of claim 5, wherein the first switch device in each column of memory cells includes a transistor having a charge storage dielectric. 各メモリセルの列の第1のスイッチデバイスは、デプリーションモードのしきい値電圧を有する、請求項9に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 9, wherein the first switch device in each column of memory cells has a depletion mode threshold voltage. 各NAND列を形成するメモリセルデバイスおよびスイッチデバイスは、構造上実質的に同じである、請求項5に記載の集積回路。   6. The integrated circuit of claim 5, wherein the memory cell devices and switch devices forming each NAND string are substantially the same in structure. 2つ以上のメモリレベル上のNAND列は、前記2つ以上のメモリレベルよりも少ないレベル上に配置されたグローバルアレイ線にそれぞれ結合される、請求項2に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 2, wherein NAND strings on two or more memory levels are each coupled to a global array line disposed on a level less than the two or more memory levels. 少なくとも2つのメモリレベルの各々の上の複数のNAND列のそれぞれは、集積回路の1つのレベル上に配置された1つのグローバルアレイ線に結合される、請求項2に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 2, wherein each of the plurality of NAND columns on each of the at least two memory levels is coupled to a global array line disposed on one level of the integrated circuit. 少なくとも2つのメモリ面の各々の上の少なくとも2つのNAND列は、共有されたジアにより、関連するグローバルアレイ線に接触する、請求項13に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 13, wherein at least two NAND columns on each of the at least two memory planes contact an associated global array line by a shared thread. 直列接続された複数のNAND列にメモリセルの少なくとも1つの面が配置されたメモリアレイを備え、
それぞれのNAND列の各々は、その一方端において、関連するグローバルアレイ線にそれぞれのNAND列を結合するための第1のスイッチデバイスを含み、その他方端において、関連するバイアスノードにそれぞれのNAND列を結合するための第2のスイッチデバイスをさらに含み、
第1のNAND列に対する第1のスイッチデバイスおよび第2のNAND列に対する第2のスイッチデバイスは、第1の制御信号に応答し、第1のNAND列に対する第2のスイッチデバイスおよび第2のNAND列に対する第1のスイッチデバイスは、第2の制御信号に応答し、
第1および第2のNAND列は、共通してワード線を共有する、集積回路。
Comprising a memory array in which at least one surface of a memory cell is arranged in a plurality of NAND columns connected in series;
Each NAND string includes, at one end thereof, a first switch device for coupling the respective NAND string to an associated global array line, and at the other end, each NAND string at an associated bias node. A second switch device for coupling
The first switch device for the first NAND string and the second switch device for the second NAND string are responsive to the first control signal and the second switch device and the second NAND for the first NAND string A first switch device for the column is responsive to the second control signal;
An integrated circuit in which the first and second NAND strings share a word line in common.
メモリアレイは、メモリセルの2つ以上の面が基板の上方に形成された三次元メモリアレイを含む、請求項15に記載の集積回路。   16. The integrated circuit of claim 15, wherein the memory array includes a three-dimensional memory array in which two or more faces of memory cells are formed above the substrate. メモリセルは、電荷蓄積誘電体を有するトランジスタを含む、請求項15に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 15, wherein the memory cell includes a transistor having a charge storage dielectric. 所定のNAND列の第1および第2のスイッチデバイスは、所定のNAND列のメモリセルトランジスタと構造上実質的に同じである、請求項15に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 15, wherein the first and second switch devices of a given NAND string are substantially the same in structure as the memory cell transistors of the given NAND string. メモリアレイは複数のブロックに配置され、前記複数のメモリブロックの第1のメモリブロックは、
第1のバイアスノードと、
第2のバイアスノードと、
第1の方向で第1のブロックを横切る複数のグローバルビット線と、
第1の方向とは異なる第2の方向で第1のブロックを横切る複数のワード線と、
複数のワード線の一方側とほぼ平行でありかつ前記一方側に配置された、第1のブロックを横切る第1のブロック選択線と、
複数のワード線の他方側とほぼ平行でありかつ前記他方側に配置された、第1のブロックを横切る第2のブロック選択線と、
各々が、第1のブロック選択線に応答する第1のブロック選択デバイス、複数のワード
線のそれぞれの1つに各々が応答する複数のメモリセルデバイス、および第2のブロック選択線に応答する第2のブロック選択デバイスを含む、複数の直列接続されたNAND列とを含み、
第1の群のNAND列の各々の第1のブロック選択デバイスは、複数のグローバルビット線のそれぞれ1つにそれぞれ結合され、第2の群のNAND列の各々の第1のブロック選択デバイスは、第1のバイアスノードにそれぞれ結合され、
第1の群のNAND列の各々の第2のブロック選択デバイスは、第2のバイアスノードにそれぞれ結合され、第2の群のNAND列の各々の第2のブロック選択デバイスは、複数のグローバルビット線のそれぞれ1つにそれぞれ結合される、請求項15に記載の集積回路。
The memory array is arranged in a plurality of blocks, and a first memory block of the plurality of memory blocks is:
A first bias node;
A second bias node;
A plurality of global bit lines across the first block in a first direction;
A plurality of word lines crossing the first block in a second direction different from the first direction;
A first block selection line that is substantially parallel to one side of the plurality of word lines and disposed on the one side and that crosses the first block;
A second block selection line across the first block and disposed substantially parallel to the other side of the plurality of word lines and on the other side;
A first block select device responsive to a first block select line, a plurality of memory cell devices each responsive to a respective one of the plurality of word lines, and a second responsive to a second block select line A plurality of series connected NAND strings including two block selection devices;
Each first block selection device of each of the first group of NAND columns is coupled to a respective one of the plurality of global bit lines, and each first block selection device of each of the second group of NAND columns is Each coupled to a first bias node;
Each second block selection device of each of the first group of NAND strings is coupled to a second bias node, respectively, and each second block selection device of each of the second group of NAND strings includes a plurality of global bits. The integrated circuit of claim 15, each coupled to a respective one of the lines.
NAND列の対が同じグローバルビット線に結合され、そのような対の各々は、第1および第2の群のNAND列の各々からのNAND列を含み、それによってNAND列のピッチの半分のグローバルビット線のピッチを規定する、請求項19に記載の集積回路。   A pair of NAND strings are coupled to the same global bit line, each of such pairs including a NAND string from each of the first and second groups of NAND strings, thereby globally half the pitch of the NAND string. 20. The integrated circuit of claim 19, wherein the integrated circuit defines a bit line pitch. 第1のメモリブロックの、物理的に隣接する2つ以上のNAND列は、第1または第2のバイアスノードへのコンタクトを共有する、請求項19に記載の集積回路。   20. The integrated circuit of claim 19, wherein two or more physically adjacent NAND strings of the first memory block share a contact to the first or second bias node. メモリアレイは、2つ以上のメモリレベルが基板の上方に形成された三次元メモリアレイを含み、前記集積回路はさらに、
第1のメモリブロックとは異なるメモリアレイのレベル上に配置された第3のメモリブロックを備え、前記第1および第3のメモリブロックは、複数のグローバルビット線、第1のバイアスノード、および第2のバイアスノードを共有し、前記第3のメモリブロックはそれぞれ、
第2の方向でブロックを横切る第3の複数のワード線と、
第3の複数のワード線の一方側とほぼ平行でありかつ前記一方側に配置された、ブロックを横切る第5のブロック選択線と、
第3の複数のワード線の他方側とほぼ平行でありかつ前記他方側に配置された、ブロックを横切る第6のブロック選択線と、
各々が、第5のブロック選択線に応答する第1のブロック選択デバイス、各々が第3の複数のワード線のそれぞれ1つに応答する複数のメモリセルデバイス、および第6のブロック選択線に応答する第2のブロック選択デバイスをそれぞれ含む、第3の複数の直列接続されたNAND列とを含み、
第1の群の第3の複数のNAND列の各々の第1のブロック選択デバイスのそれぞれは、複数のグローバルビット線のそれぞれ1つにそれぞれ結合され、第2の群の第3の複数のNAND列の各々の第1のブロック選択デバイスのそれぞれは、第1のバイアスノードにそれぞれ結合され、
第1の群の第3の複数のNAND列の各々の第2のブロック選択デバイスのそれぞれは、第2のバイアスノードにそれぞれ結合され、第2の群の第3の複数のNAND列の各々の第2のブロック選択デバイスのそれぞれは、複数のグローバルビット線のそれぞれ1つにそれぞれ結合される、請求項19に記載の集積回路。
The memory array includes a three-dimensional memory array having two or more memory levels formed above the substrate, the integrated circuit further comprising:
A third memory block disposed on a level of a memory array different from the first memory block, wherein the first and third memory blocks include a plurality of global bit lines, a first bias node, and a first memory block; Each of the third memory blocks share two bias nodes.
A third plurality of word lines across the block in a second direction;
A fifth block select line across the block, substantially parallel to one side of the third plurality of word lines and disposed on the one side;
A sixth block selection line across the block, substantially parallel to the other side of the third plurality of word lines and disposed on the other side;
Responsive to a first block select device, each responsive to a fifth block select line, a plurality of memory cell devices each responsive to a respective one of a third plurality of word lines, and a sixth block select line A third plurality of series connected NAND strings each including a second block selection device that
Each of the first block selection devices of each of the first group of third plurality of NAND strings is coupled to a respective one of the plurality of global bit lines, respectively, and second group of third plurality of NANDs Each of the first block selection devices in each of the columns is respectively coupled to a first bias node;
Each of the second block selection devices in each of the first group of third plurality of NAND strings is coupled to a second bias node, respectively, and each of the second group of third plurality of NAND strings. The integrated circuit of claim 19, wherein each of the second block selection devices is coupled to a respective one of the plurality of global bit lines.
第1のメモリブロックの各NAND列は、第3のメモリブロックの対応するNAND列によって共有されるビアにより、関連するグローバルビット線に接触する、請求項22に記載の集積回路。   23. The integrated circuit of claim 22, wherein each NAND string of the first memory block contacts an associated global bit line by a via shared by a corresponding NAND string of the third memory block. メモリセルデバイスは、電荷蓄積誘電体を有するトランジスタを含む、請求項19に記載の集積回路。   The integrated circuit of claim 19, wherein the memory cell device comprises a transistor having a charge storage dielectric. 所定のNAND列の第1および第2のブロック選択デバイスは、所定のNAND列のメ
モリセルトランジスタと構造上同じである、請求項24に記載の集積回路。
25. The integrated circuit of claim 24, wherein the first and second block selection devices of a given NAND string are structurally the same as the memory cell transistors of the given NAND string.
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100657910B1 (en) * 2004-11-10 2006-12-14 삼성전자주식회사 Multi-bit flash memory device, method of working the same, and method of fabricating the same
DE102005017072A1 (en) * 2004-12-29 2006-07-13 Hynix Semiconductor Inc., Ichon Charge trap insulator memory device, has float channel, where data are read based on different channel resistance induced to channel depending on polarity states of charges stored in insulator
US7709334B2 (en) 2005-12-09 2010-05-04 Macronix International Co., Ltd. Stacked non-volatile memory device and methods for fabricating the same
US7473589B2 (en) * 2005-12-09 2009-01-06 Macronix International Co., Ltd. Stacked thin film transistor, non-volatile memory devices and methods for fabricating the same
US7764549B2 (en) 2005-06-20 2010-07-27 Sandisk 3D Llc Floating body memory cell system and method of manufacture
US7317641B2 (en) 2005-06-20 2008-01-08 Sandisk Corporation Volatile memory cell two-pass writing method
US7489546B2 (en) 2005-12-20 2009-02-10 Micron Technology, Inc. NAND architecture memory devices and operation
EP1997148A1 (en) * 2006-03-20 2008-12-03 STMicroelectronics S.r.l. Semiconductor field-effect transistor, memory cell and memory device
KR100806339B1 (en) * 2006-10-11 2008-02-27 삼성전자주식회사 Nand flash memory devices having 3-dimensionally arranged memory cells and methods of fabricating the same
US7675783B2 (en) * 2007-02-27 2010-03-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory device and driving method thereof
JP5175526B2 (en) * 2007-11-22 2013-04-03 株式会社東芝 Nonvolatile semiconductor memory device and manufacturing method thereof
JP5288933B2 (en) * 2008-08-08 2013-09-11 株式会社東芝 Semiconductor memory device and manufacturing method thereof
JP5322533B2 (en) * 2008-08-13 2013-10-23 株式会社東芝 Nonvolatile semiconductor memory device and manufacturing method thereof
JP4945609B2 (en) 2009-09-02 2012-06-06 株式会社東芝 Semiconductor integrated circuit device
KR101547328B1 (en) * 2009-09-25 2015-08-25 삼성전자주식회사 Ferroelectric memory devices and operating method of the same
JP5395738B2 (en) 2010-05-17 2014-01-22 株式会社東芝 Semiconductor device
US8755227B2 (en) 2012-01-30 2014-06-17 Phison Electronics Corp. NAND flash memory unit, NAND flash memory array, and methods for operating them
JP2013161878A (en) * 2012-02-02 2013-08-19 Renesas Electronics Corp Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method
JP2021141283A (en) 2020-03-09 2021-09-16 キオクシア株式会社 Semiconductor storage device
CN112470225B (en) * 2020-10-23 2022-12-09 长江先进存储产业创新中心有限责任公司 Programming and read biasing and access schemes to improve data throughput of 2-stack 3D PCM memories

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19523775C2 (en) * 1994-06-29 2001-12-06 Toshiba Kawasaki Kk Non-volatile semiconductor memory device
US6163048A (en) * 1995-10-25 2000-12-19 Cypress Semiconductor Corporation Semiconductor non-volatile memory device having a NAND cell structure
KR100206709B1 (en) * 1996-09-21 1999-07-01 윤종용 Cell array structure of multi-bit non-volatile semiconductor memory and fabrication method thereof
US6888750B2 (en) * 2000-04-28 2005-05-03 Matrix Semiconductor, Inc. Nonvolatile memory on SOI and compound semiconductor substrates and method of fabrication

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