Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2006137876A - Ink for inkjet recording curable by radiation irradiation and method for producing lithographic printing plate using the same - Google Patents

Ink for inkjet recording curable by radiation irradiation and method for producing lithographic printing plate using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2006137876A
JP2006137876A JP2004329435A JP2004329435A JP2006137876A JP 2006137876 A JP2006137876 A JP 2006137876A JP 2004329435 A JP2004329435 A JP 2004329435A JP 2004329435 A JP2004329435 A JP 2004329435A JP 2006137876 A JP2006137876 A JP 2006137876A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkyl
aryl
examples
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004329435A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4864311B2 (en
Inventor
Tomotaka Tsuchimura
智孝 土村
Kazuto Kunida
一人 國田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2004329435A priority Critical patent/JP4864311B2/en
Priority to EP05024674.3A priority patent/EP1657286B1/en
Priority to US11/272,367 priority patent/US20060128823A1/en
Publication of JP2006137876A publication Critical patent/JP2006137876A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4864311B2 publication Critical patent/JP4864311B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ink for inkjet recording, which has high sensitivity to radiation irradiation, can form high-quality images, and has good storage stability and to provide a method for producing a lithographic printing plate, which requires no development treatment and enables formation of high-quality images with high printing durability. <P>SOLUTION: The ink for inkjet recording contains a color material, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiation system and is curable by radiation irradiation, wherein the photopolymerization initiation system contains a sensitizing dye containing one or more types of compound selected from the group consisting of compounds, one of which compounds is represented by general formula (XIV) (formulae (XV) to (XXVI) are not shown) and a polymerization initiator. The method for producing a lithographic printing plate comprises injecting the ink on a hydrophilic support and then irradiating the resultant, so as to obtain a hydrophobic image. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、インクジェット記録用インク及びこれを用いた平版印刷版の作製方法に関する。詳しくは、放射線の照射に対して高感度であり、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインクジェット記録用インク、および現像処理が不要であり、高耐刷、かつ高画質の画像の形成が可能な平版印刷版の作製方法に関するものである。   The present invention relates to an inkjet recording ink and a method for producing a lithographic printing plate using the same. Specifically, it is highly sensitive to radiation irradiation, can form high-quality images, has excellent storage stability, and does not require development processing, high printing durability, and high The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate capable of forming an image having an image quality.

画像データ信号に基づき、紙などの支持体に画像を形成する画像記録方法として、電子写真方式、昇華型及び溶融型熱転写方式、インクジェット方式などがある。中でもインクジェット方式は、必要とされる画像部のみにインクを射出し支持体上に直接画像形成を行うため、インクを効率良く使用できる。さらに、装置が簡易でかつ騒音が少ないという点で優れている。
インクジェット方式の画像記録方法では、射出したインクを支持体上に固定するために、インクを空気中で乾燥して溶媒を除去する方法、紫外線などの放射線の照射により硬化可能なインクを使用する方法などが採用されている。なかでも、紫外線のような放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インク(放射線硬化型インクジェット記録用インク)は、比較的低臭気でかつ速乾性であり、インク吸収性の無い、通常直接記録することが困難な支持体に対しても、滲みがなく、高感度で、支持体への密着性が高い画像を得ることができる。例えば、特許文献1では、かつ皮膚に適用しても刺激性や感作性が少なく安全性が高いインクジェット記録用インクを提供している。このような放射線硬化型インクジェット記録用インクを採用する場合、放射線に対する十分に高い感度と、固定したインクにより形成される画像の高画質化が求められている。放射線に対する感度が十分に高ければ、高い硬化性、放射線源の消費電力の低減、放射線源への負荷軽減による高寿命化、不十分硬化に基づく低分子物質の発生の防止等、多くの利益が生じる。また、高感度化は、特にインクジェット記録用インクをオフセット印刷用の平版印刷版の画像部として使用した場合、画像部の硬化強度が高まることになり、高耐刷性の平版印刷版が得られることになる。
一般に、放射線硬化型の重合性化合物における、放射線に対する感度を高める方法として、種々の重合開始系を使用することが開示されている(非特許文献1)。しかし、走査露光に十分な感度と保存安定性を満たした重合開始系をインクジェット記録用インクにおいて採用した例はない。また、高耐刷、かつ高画質の画像の形成、保存安定性を満たす放射線硬化型インクジェット記録用インクの平版印刷版への利用は知られていない。
As an image recording method for forming an image on a support such as paper based on an image data signal, there are an electrophotographic method, a sublimation type and a melt type thermal transfer method, an ink jet method and the like. In particular, the ink jet method ejects ink only to a required image portion and forms an image directly on a support, so that the ink can be used efficiently. Furthermore, it is excellent in that the apparatus is simple and has low noise.
In the inkjet image recording method, in order to fix the ejected ink on the support, a method of drying the ink in the air to remove the solvent, and a method of using an ink that can be cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays. Etc. are adopted. In particular, inks for ink jet recording that can be cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays (radiation curable ink for ink jet recording) have a relatively low odor, are quick-drying, have no ink absorbability, and are usually recorded directly. It is possible to obtain an image having no blur, high sensitivity, and high adhesion to the support even when the support is difficult. For example, Patent Document 1 provides an inkjet recording ink that has low irritation and sensitization and high safety even when applied to the skin. When such a radiation curable ink for ink jet recording is employed, there is a demand for sufficiently high sensitivity to radiation and high image quality of an image formed by a fixed ink. If the sensitivity to radiation is sufficiently high, there are many benefits such as high curability, reduction of power consumption of the radiation source, extension of life by reducing the load on the radiation source, prevention of low molecular weight substances due to insufficient curing, etc. Arise. In addition, high sensitivity is achieved particularly when the ink for inkjet recording is used as an image portion of a lithographic printing plate for offset printing, and the curing strength of the image portion is increased, and a lithographic printing plate having high printing durability can be obtained. It will be.
In general, as a method for increasing the sensitivity to radiation in a radiation curable polymerizable compound, use of various polymerization initiation systems is disclosed (Non-patent Document 1). However, there is no example in which an ink for ink-jet recording employs a polymerization initiation system that satisfies sufficient sensitivity and storage stability for scanning exposure. Also, there is no known use of a radiation curable ink jet recording ink satisfying the formation of high printing durability, high quality images, and storage stability for a lithographic printing plate.

特開2003−192943号公報JP 2003-192943 A ブルース M.モンロー(Bruce M. Monroe)ら著,ケミカル レビュー(Chemical Revue),第93巻,(1993年),pp.435−448.Bruce M. Monroe et al., Chemical Revue, Vol. 93, (1993), pp. 435-448.

したがって本発明の目的は、低出力の放射線に対しても高感度であり、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインクジェット記録用インク、および現像処理が不要であり、高耐刷、かつ高画質の画像の形成が可能な平版印刷版の作製方法を提供することである。   Therefore, the object of the present invention is high sensitivity to low-output radiation, can form a high-quality image, does not require ink for inkjet recording with good storage stability, and development processing, An object of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate capable of forming a high printing durability and high quality image.

本発明者らは検討を重ねた結果、特定の増感色素を重合開始剤と共に使用することにより、低出力の放射線の照射に対しても高感度であり、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインクジェット記録用インクが得られることを見出した。また、平版印刷版へと応用した時に、高耐刷、かつ高画質の画像形成、保存安定性を満たすことを見出した。
即ち、本発明は、
色材と、重合性化合物と、重合開始系とを含有する、放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インクであって、前記重合開始系が、下記一般式(XIV)及び一般式(XVI)〜(XXVI)で表される化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を含む増感色素と重合開始剤とを含むことを特徴とする、インクジェット記録用インク、に関する。

Figure 2006137876
(一般式(XIV)中、A1はS又はNR50を表し、ここでR50はアルキル基又はアリール基を表し、L2は隣接するA1及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R51及びR52はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、互いに結合して前記増感色素の酸性核を形成する非金属原子団を表し、WはO又はSを表す。)、
Figure 2006137876
(一般式(XVI)中、A2はS又はNR59を表し、ここでR59はアルキル基又はアリール基を表し、L4は隣接するA2及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)、
Figure 2006137876
(一般式(XVII)中、A3及びA4はそれぞれ独立にS、NR60又はNR63を表し、ここでR60及びR63はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、L5及びL6はそれぞれ独立に、隣接するA3、A4及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R61及びR62はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する。)
Figure 2006137876
(一般式(XVIII)中、R66は芳香族環又はヘテロ環を表し、A5はO、S又はNR67を表し、R64、R65及びR67はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、R64とR67及びR65とR67はそれぞれ互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する。)
Figure 2006137876
(一般式(XIX)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、但し、R1およびR3のうちの少なくとも一つは、下記部分構造式(XIX-1)に示す一価の有機残基で表され、又は、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に、脂肪族環または芳香族環を形成するため結合する。
Figure 2006137876
(部分構造式(XIX-1)中、R10は、一価の非金属原子団を表すか、又は、前記一般式(XIX)中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8またはR9と脂肪族環または芳香族環を形成するため結合し、Zは隣接する原子と共同して5員環酸性核を形成するのに必要な2価の非金属原子団を表す。))
Figure 2006137876
(一般式(XX)中、Rは一価の非金属原子団であり、Xは一価の非金属原子団であり、それぞれ互いに結合することができ、Yは5員環または6員環を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXI)中、Arは芳香環を表し、Aは−NR34、−SR5または−OR6を表し、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Z-は電荷の中和に必要なカウンターイオンを表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXII)中、Yは、独立に酸素原子または硫黄原子を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に水素原子以外の一価の非金属原子団を表し、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXIII)中、Xは、酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Aは炭素数20以下のアリール基またはヘテロアリール基を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXIV)中、Xは、酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXV)中、X1〜X5はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Zはアリール基、またはヘテロアリール基を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXVI)中、Yは隣接するNおよび炭素原子と共同して含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を表し、Xは一価の非金属原子団を表す。) As a result of repeated studies, the present inventors can use a specific sensitizing dye together with a polymerization initiator to form a high-quality image that is highly sensitive to irradiation with low-power radiation. It was found that an ink for ink jet recording having good storage stability can be obtained. It was also found that when applied to a lithographic printing plate, it satisfies high printing durability and high-quality image formation and storage stability.
That is, the present invention
An ink for inkjet recording, which contains a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiation system and is curable by irradiation with radiation, wherein the polymerization initiation system is represented by the following general formulas (XIV) and (XVI): The present invention relates to an ink for ink jet recording, comprising a sensitizing dye containing one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by (XXVI) and a polymerization initiator.
Figure 2006137876
(In the general formula (XIV), A 1 represents S or NR 50 , wherein R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 2 represents the sensitization in cooperation with the adjacent A 1 and the adjacent carbon atom. Represents a non-metallic atomic group that forms a basic nucleus of the dye, and R 51 and R 52 each independently represent a monovalent non-metallic atomic group, or are bonded to each other to form an acidic nucleus of the sensitizing dye. And W represents O or S).
Figure 2006137876
(In the general formula (XVI), A 2 represents S or NR 59 , wherein R 59 represents an alkyl group or an aryl group, and L 4 represents the sensitization in combination with the adjacent A 2 and the adjacent carbon atom. Represents a non-metallic atomic group forming a basic nucleus of the dye, and R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group).
Figure 2006137876
(In General Formula (XVII), A 3 and A 4 each independently represent S, NR 60 or NR 63 , wherein R 60 and R 63 each independently represent an alkyl group or an aryl group, and L 5 and L 6 independently represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the sensitizing dye in combination with adjacent A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms, and R 61 and R 62 each independently Represents a non-valent metal valence group, or is bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XVIII), R 66 represents an aromatic ring or a hetero ring, A 5 represents O, S or NR 67 , and R 64 , R 65 and R 67 each independently represents a monovalent nonmetallic atom. Or R 64 and R 67 and R 65 and R 67 are bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XIX), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group, provided that , R 1 and R 3 are each represented by a monovalent organic residue represented by the following partial structural formula (XIX-1), or R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each independently bonded to form an aliphatic ring or an aromatic ring.
Figure 2006137876
(In the partial structural formula (XIX-1), R 10 represents a monovalent nonmetallic atomic group, or R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 in the general formula (XIX). , R 6 , R 7 , R 8 or R 9 are bonded to form an aliphatic ring or an aromatic ring, and Z is divalent necessary to form a 5-membered acidic nucleus together with adjacent atoms. Represents a nonmetallic atomic group of
Figure 2006137876
(In the general formula (XX), R is a monovalent nonmetallic atomic group, X is a monovalent nonmetallic atomic group, and each can be bonded to each other, and Y is a 5-membered or 6-membered ring. To express.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXI), Ar represents an aromatic ring, A represents —NR 3 R 4 , —SR 5 or —OR 6 , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6. Each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and Z represents a counter ion necessary for charge neutralization.)
Figure 2006137876
(In General Formula (XXII), Y independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 1 and R 2 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group other than a hydrogen atom, and R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXIII), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently monovalent. Represents a nonmetallic atomic group, and A represents an aryl group or heteroaryl group having 20 or less carbon atoms.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXIV), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently monovalent. Represents a non-metallic atomic group.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXV), X 1 to X 5 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group, and Z represents an aryl group or a heteroaryl group.)
Figure 2006137876
(In general formula (XXVI), Y represents a nonmetallic atomic group that forms a nitrogen-containing heterocycle in cooperation with adjacent N and carbon atoms, and X represents a monovalent nonmetallic atomic group.)

2.また、本発明は、支持体上に画像を形成する方法であって、
(a)前記支持体上に請求項1に記載のインクジェット記録用インクを適用する工程;
(b)前記インクジェット記録用インクに350〜420nmにピーク波長を有する放射線で2000mJ/cm2以下の照射エネルギーで照射して前記インクジェット記録用インクを硬化する工程;及び
(c)前記硬化したインクジェット記録用インクが前記支持体上に画像を形成する工程、
を含む方法、に関する。
3.更に、本発明は、前記インクジェット記録用インクに含まれる増感色素が、350〜420nmに吸収の極大値を有する、上記2に記載の方法、に関する。
4.加えて、本発明は、支持体と、該支持体上に形成された画像とを有する平版印刷版の作製方法であって、
(1) 上記1に記載のインクジェット記録用インクを前記支持体上に射出する工程;及び
(2)前記インクを射出した支持体上に放射線を照射して前記インクを硬化し、前記インクが硬化してなる画像を前記支持体上に形成する工程、
とを有する方法、に関する。
2. The present invention also provides a method for forming an image on a support,
(a) applying the inkjet recording ink according to claim 1 on the support;
(b) curing the inkjet recording ink by irradiating the inkjet recording ink with radiation having a peak wavelength of 350 to 420 nm with an irradiation energy of 2000 mJ / cm 2 or less; and
(c) the cured ink jet recording ink forms an image on the support,
A method comprising:
3. Furthermore, the present invention relates to the method described in 2 above, wherein the sensitizing dye contained in the ink jet recording ink has a maximum absorption value at 350 to 420 nm.
4). In addition, the present invention is a method for producing a lithographic printing plate having a support and an image formed on the support,
(1) a step of ejecting the ink for inkjet recording described in 1 above onto the support; and
(2) A step of irradiating the support on which the ink is ejected to cure the ink and forming an image formed by curing the ink on the support;
And a method comprising:

放射線の照射に対して高感度であり、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインクジェット記録用インク組成物、および現像処理が不要であり、高耐刷、かつ高画質の画像の形成が可能な平版印刷版の作製方法に関するものである。
本発明により、例えば350〜450nmにピーク波長を有する短波長の放射線照射に対して高感度であり、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインクジェット記録用インクが提供される。また、本発明により、現像処理が不要であり、高耐刷、かつ高画質の画像の形成が可能な平版印刷版の作製方法が提供される。
High sensitivity to radiation, high-quality images can be formed, ink composition for ink-jet recording with good storage stability, and development processing is unnecessary, high printing durability, and high image quality The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate capable of forming an image.
The present invention provides an ink jet recording ink that is highly sensitive to short-wavelength radiation having a peak wavelength of, for example, 350 to 450 nm, can form high-quality images, and has good storage stability. The In addition, the present invention provides a method for producing a lithographic printing plate that does not require a development process and that can form a high printing durability and high-quality image.

上記のように、本発明は、色材と、重合性化合物と、重合開始系とを含有する、放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インクであって、前記重合開始系が、重合開始剤と増感色素とを含むことを特徴とする、インクジェット記録用インクに関する。以下、本発明について詳細に説明する。
(1)重合開始系
本発明のインクジェット記録用インクは、重合開始系を含む。この重合開始系は、増感色素、重合開始剤、及び任意にその他の添加剤を含む。
As described above, the present invention is an ink jet recording ink that contains a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiation system and is curable by irradiation with radiation, wherein the polymerization initiation system is a polymerization initiator. And an sensitizing dye. The present invention relates to an ink for ink jet recording. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(1) Polymerization Initiating System The ink for inkjet recording of the present invention includes a polymerization initiating system. The polymerization initiation system includes a sensitizing dye, a polymerization initiator, and optionally other additives.

(1-1)増感色素
本発明の増感色素は、下記一般式(XIV)及び一般式(XVI)〜(XXVI)で表される化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を含む。
(1-1-1)増感色素の種類

Figure 2006137876
一般式(XIV)中、A1はS又はNR50、好ましくはSを表す。ここでR50はアルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基及びアリール基は、置換されていてもよい。
好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、 (1-1) Sensitizing dye The sensitizing dye of the present invention contains one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by the following general formula (XIV) and general formulas (XVI) to (XXVI). .
(1-1-1) Types of sensitizing dye
Figure 2006137876
In the general formula (XIV), A 1 represents S or NR 50 , preferably S. Here, R 50 represents an alkyl group or an aryl group. Here, the alkyl group and the aryl group may be substituted.
Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.
As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferred examples include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, Aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, Reelsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-arylureido Group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′- Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'- Aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-ary Ruureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N- di arylcarbamoyl, N- alkyl -N- arylcarbamoyl groups, alkylsulfinyl groups, arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (hereinafter Sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diaryls Rufinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diaryl Sulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) ) 2), diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2), alkyl aryl phosphono group ( PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group),

モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphine group) A dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), a diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), an alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl)) (aryl)), a monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as an alkylphosphonatooxy group), a monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl) )) And conjugated base groups thereof (hereinafter referred to as arylphosphonateoxy groups), cyano groups, nitro groups, aryl groups, heteroaryl groups, alkenyl groups, and alkynyl groups. .

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, and a cumenyl group. , Chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylamino Phenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group Cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl phenyl group, phosphonophenyl phenyl group and the like.

上記ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。
上記アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(G1CO-)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably 5 or 6 members such as furan, pyrrole or pyridine. Ring aromatic substituents can be used.
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like. Examples of the alkynyl group include ethynyl group, 1- A propynyl group, a 1-butynyl group, a trimethylsilylethynyl group, etc. are mentioned. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-aryl sulf Moyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

該置換基とアルキレン基を組み合わせる事により得られるR50として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of the substituted alkyl group preferable as R 50 obtained by combining the substituent and the alkylene group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl. Group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, Ruoxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- ( Sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N- Methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylpho Phonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, Cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group and the like can be mentioned. .

50として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
上記アリール基は、置換されていてもよい。R50として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。
Specific examples of preferred aryl groups for R 50 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
The aryl group may be substituted. As a specific example of a substituted aryl group preferable as R 50 , those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carbo Cyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphono Enyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

51及びR52は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。一価の非金属原子団としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、置換もしくは非置換のアリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられ、これらのより具体的な例は、先のR50に関して説明したものである。 R 51 and R 52 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group. Examples of the monovalent nonmetallic atomic group include a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyl group. Dithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group , Carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfo Xyl group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamido Group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diaryl Ureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N— Aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkyls Sulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N , N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and Its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkylphosphono group (—PO 3 (alk yl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) And its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatooxy group), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl)) 2 ), an alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), a monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and a conjugated base group thereof (hereinafter referred to as an alkylphosphonatooxy group) Call) Monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphite Hona preparative group), a cyano group, a nitro group, a substituted or unsubstituted aryl group, a heteroaryl group, Examples thereof include an alkenyl group and an alkynyl group, and more specific examples thereof are those described above for R 50 .

また、R51及びR52は、互いに結合して前記増感色素の酸性核を形成する非金属原子団を表していてもよい。ここで、酸性核としては、L.G.Brooker et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(1951).及び右文献の参考文献に記載されるメロシアニン色素類における酸性核が挙げられる。
酸性核の具体例としては、1,3−ジカルボニル核(例えば,1,3−インダンジオン、1,3−シクロヘキサンジオン、5,5−ジメチルシクロヘキサンジオン、1,3−ジオキサン−4,6−ジオン等)、ピラゾリノン核(例えば、3−メチルー1−フェニルー2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾリル)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オン等)、イソオキサゾリノン核(例えば、3−フェニル−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソオキサゾリン−5−オン等)、オキシインドール核(例えば、1−アルキル−2,3−ジヒドロ−2−オキシインドール等)、2,4,6−トリオキソヘキサヒドロピリミジン核(例えば、バルビツル酸または2−チオバルビツル酸およびそのN置換誘導体、例えば、1,3−ジエチルバルビツル酸、1,3−ジエチル−2−チオバルビツル酸、1,3−ジブチルバルビツル酸、1,3−ジブチル−2−チオバルビツル酸、1,3−ジフェニルバルビツル酸、1,3−ジフェニル−2−チオバルビツル酸、1,3−ジメトキシカルボニルメチルバルビツル酸、1,3−ジメトキシカルボニルメチル−2−チオバルビツル酸等)、2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核(例えば、ローダニンおよびそのN置換誘導体、例えば、3−メチルローダニン、3−エチルローダニン、3−フェニルローダニン、3−アリルローダニン、3−ベンジルローダニン、3−カルボキシメチルローダニン、3−カルボキシエチルローダニン、3−メトキシカルボニルメチルローダニン、3−ヒドロキシエチルローダニン、3−モルフォリノエチルローダニン、等)、2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン核(すなわち、2−チオ−2,4−(3H,4H)−オキサゾールジオン核、例えば、2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン等)、チアナフテノン核(例えば、3(2H)−チアナフテノン、3(2H)−チアナフテノン−1,1−ジオキサイド等)、2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核(例えば、3−エチル−2−チオ2,5−チアゾリジンジオン等)、2,4−チアゾリジンジオン核(例えば、2,4−チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオン等)、チアゾリジノン核(例えば、4−チアゾリジノン、3−エチル−4−チアゾリジノン、2−エチルメルカプト−4−チゾリジノン、2−メチルフェニルアミノ−4−チゾリジノン等)、2−イミノ−2−オキサゾリン−4−オン核(即ち、擬ヒダントイン核)、2,4−イミダゾリジンジオン核(即ち、ヒダントイン核、例えば、2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3−ジエチル−2,4−イミダゾリジンジオン等)、2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン核(即ち、チオヒダントイン核、例えば、2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3−ジエチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン等)、イミダゾリン−5−オン核(例えば、2−プロピルメルカプト−2−イミダゾリン−5−オン等)、フラン−5−オン核、4−ヒドロキシ−2(1H)−ピリジノン核(例えば、N−メチル−4−ヒドロキシ−2(1H)−ピリジノン、N−メチル−4−ヒドロキシ−2(1H)−キノリノン、N−ブチル−4−ヒドロキシ−2(1H)−キノリノン等)、4−ヒドロキシ−2H−ピラン−2−オン核(例えば、4−ヒドロキシクマリン等)、チオインドキシル核(例えば、5−メチルチオインドキシル等)等があげられ、これらの酸性核はさらに置換基を有してもよい。
R 51 and R 52 may represent a nonmetallic atomic group that is bonded to each other to form an acidic nucleus of the sensitizing dye. Here, examples of acidic nuclei include acidic nuclei in merocyanine pigments described in LGBrooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73, 5326-5358 (1951). .
Specific examples of the acidic nucleus include a 1,3-dicarbonyl nucleus (for example, 1,3-indandione, 1,3-cyclohexanedione, 5,5-dimethylcyclohexanedione, 1,3-dioxane-4,6- Dione etc.), pyrazolinone nucleus (for example, 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazolyl) -3-methyl-2-pyrazolin -5-one etc.), isoxazolinone nuclei (eg 3-phenyl-2-isoxazolin-5-one, 3-methyl-2-isoxazolin-5-one etc.), oxindole nuclei (eg 1 -Alkyl-2,3-dihydro-2-oxindole, etc.), 2,4,6-trioxohexahydropyrimidine nucleus (eg barbituric acid or 2-thio Barbituric acid and its N-substituted derivatives, such as 1,3-diethylbarbituric acid, 1,3-diethyl-2-thiobarbituric acid, 1,3-dibutylbarbituric acid, 1,3-dibutyl-2-thiobarbituric acid, 1,3-diphenylbarbituric acid, 1,3-diphenyl-2-thiobarbituric acid, 1,3-dimethoxycarbonylmethylbarbituric acid, 1,3-dimethoxycarbonylmethyl-2-thiobarbituric acid, etc.), 2-thio- 2,4-thiazolidinedione nuclei (eg, rhodanine and its N-substituted derivatives such as 3-methylrhodanine, 3-ethylrhodanine, 3-phenylrhodanine, 3-allylrhodanine, 3-benzylrhodanine, 3 -Carboxymethyl rhodanine, 3-carboxyethyl rhodanine, 3-methoxycarbonylmethyl -Danine, 3-hydroxyethylrhodanine, 3-morpholinoethylrhodanine, etc.), 2-thio-2,4-oxazolidinedione nucleus (ie 2-thio-2,4- (3H, 4H) -oxazoledione) Nucleus, such as 2-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione), thianaphthenone nucleus (such as 3 (2H) -thianaphthenone, 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-dioxide), 2 -Thio-2,5-thiazolidinedione nucleus (for example, 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione, etc.), 2,4-thiazolidinedione nucleus (for example, 2,4-thiazolidinedione, 3-ethyl- 2,4-thiazolidinedione, 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione, etc.), thiazolidinone nucleus (for example, 4-thiazolidinone, 3-e Til-4-thiazolidinone, 2-ethylmercapto-4-thizolidinone, 2-methylphenylamino-4-thizolidinone, etc.), 2-imino-2-oxazolin-4-one nucleus (ie, pseudohydantoin nucleus), 2,4 An imidazolidinedione nucleus (ie, a hydantoin nucleus such as 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4-imidazolidinedione, 1,3-diethyl-2,4-imidazolidinedione, etc.), 2 A thio-2,4-imidazolidinedione nucleus (ie a thiohydantoin nucleus such as 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione, 1, 3-diethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione, etc.), imidazolin-5-one nucleus (for example, 2-propylmercapto-2-imidazole) Phosphorus-5-one, etc.), furan-5-one nucleus, 4-hydroxy-2 (1H) -pyridinone nucleus (eg, N-methyl-4-hydroxy-2 (1H) -pyridinone, N-methyl-4- Hydroxy-2 (1H) -quinolinone, N-butyl-4-hydroxy-2 (1H) -quinolinone, etc.), 4-hydroxy-2H-pyran-2-one nucleus (for example, 4-hydroxycoumarin etc.), thioindo A xyl nucleus (for example, 5-methylthioindoxyl etc.) etc. are mention | raise | lifted and these acidic nuclei may have a substituent further.

2は隣接するA1及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表す。ここで、塩基性核としては、複素環、例えば、5、6、7員の含窒素、あるいは含硫黄複素環があげられ、好ましくは5、6員の複素環がよい。
ここで、含窒素複素環の例としては、L.G.Brooker et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(1951).及び参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チアゾール類(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、4ーフェニルチアゾール、5−メチルチアゾール、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、4,5−ジ(p−メトキシフェニルチアゾール)、4−(2−チエニル)チアゾール、等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5,6−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチルアミノベンゾチアゾール、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、等)、ナフトチアゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾール、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、等)、チアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール類(例えば、4’−メトキシチアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール、等)、オキサゾール類(例えば、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキサゾール等)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、4−エトキシベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6ーメトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、等)、ナフトオキサゾール類(例えば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、等)、セレナゾール類(例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナゾール、等)、ベンゾセレナゾール類(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール、等)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、等)、2−キノリン類(例えば、キノリン、3−メチルキノリン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、6−メトキシキノリン、6−エトキシキノリン、6ーヒドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、等)、4−キノリン類(例えば、キノリン、6−メトキシキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、等)、1−イソキノリン類(例えば、イソキノリン、3,4−ジヒドロイソキノリン、等)、3−イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、ベンズイミダゾール類(例えば、1,3−ジエチルベンズイミダゾール、1−エチル−3−フェニルベンズイミダゾール、等)、3,3−ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3,5,−トリメチルインドレニン、3,3,7,−トリメチルインドレニン、等)、2−ピリジン類(例えば、ピリジン、5−メチルピリジン、等)、4−ピリジン(例えば、ピリジン等)等をあげることができる。
L 2 represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the sensitizing dye in cooperation with the adjacent A 1 and the adjacent carbon atom. Here, examples of the basic nucleus include heterocycles such as 5-, 6-, and 7-membered nitrogen-containing or sulfur-containing heterocycles, and preferably 5- or 6-membered heterocycles.
Here, as an example of the nitrogen-containing heterocycle, the basic nucleus in the merocyanine dyes described in LGBrooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73, 5326-5358 (1951). Any of those known as constituents can be suitably used. Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5- Di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl) thiazole, etc.), benzothiazoles (for example, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7- Chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 4-methoxybenzothiazole, 5-methoxybenzo Cheer , 6-methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-di Oxymethylenebenzothiazole, 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.), naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2] thiazole, naphtho [ 2,1] thiazole, 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1,2] thiazole, 7-methoxynaphtho [1,2] thiazole, Etc.), Chianafu -7 ', 6', 4,5-thiazole (for example, 4'-methoxythianaphtheno-7 ', 6', 4,5-thiazole, etc.), oxazole (for example, 4-methyloxazole, 5 -Methyl oxazole, 4-phenyl oxazole, 4,5-diphenyl oxazole, 4-ethyl oxazole, 4,5-dimethyl oxazole, 5-phenyl oxazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5- Methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5,6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 4-ethoxybenzoxazole, 5-chlorobenzo Oxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole, 6-hydroxybenzoxazole, etc.), naphthoxazoles (for example, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1] oxazole, etc.), selenazoles (For example, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.), benzoselenazoles (for example, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole, Tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (eg, naphtho [1,2] selenazole, naphtho [2,1] selenazole, etc.), thiazolines (eg, thiazoline, 4-methylthiazoline, etc.), 2 Quinolines (eg quino 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6-ethoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8-hydroxy Quinoline, etc.), 4-quinolines (eg, quinoline, 6-methoxyquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, etc.), 1-isoquinolines (eg, isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, etc.) , 3-isoquinolines (for example, isoquinoline etc.), benzimidazoles (for example, 1,3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3-phenylbenzimidazole, etc.), 3,3-dialkylindolenins (for example, 3,3-dimethylindolenine, 3,3,5, -trimethylin Renin, 3,3,7, - trimethyl indolenine, etc.), 2-pyridines (e.g., pyridine, 5-methyl-pyridine, etc.), 4-pyridine (e.g., may be mentioned pyridine, and the like) and the like.

また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平3−296759記載の色素類におけるジチオール部分構造をあげることができる。ジチオールの具体例としては、ベンゾジチオール類(例えば、ベンゾジチオール、5−t−ブチルベンゾジチオール、5−メチルベンゾジチオール、等)、ナフトジチオール類(例えば、ナフト[1,2]ジチオール、ナフト[2,1]ジチオール、等)、ジチオール類(例えば、4,5−ジメチルジチオール類、4−フェニルジチオール類、4−メトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジメトキシカルボニルベンゾジチオール類、4,5−ジトリフルオロメチルジチオール、4,5−ジシアノジチオール、4−メトキシカルボニルメチルジチオール、4−カルボキシメチルジチオール、等)等を挙げることができる。
Wは、O又はSを表す。
下記、一般式(XIV-1)および一般式(XIV-2)であらわされる構造を有する増感色素は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れた、インクジェット記録用インクを与えるため、一般式(XIV)で表される化合物として特に好ましい。










Examples of the sulfur-containing heterocycle include a dithiol partial structure in dyes described in JP-A-3-296759. Specific examples of the dithiol include benzodithiols (for example, benzodithiol, 5-t-butylbenzodithiol, 5-methylbenzodithiol, etc.), naphthodithiols (for example, naphtho [1,2] dithiol, naphtho [2 , 1] dithiol, etc.), dithiols (for example, 4,5-dimethyldithiols, 4-phenyldithiols, 4-methoxycarbonyldithiols, 4,5-dimethoxycarbonylbenzodithiols, 4,5-ditrifluoro) Methyldithiol, 4,5-dicyanodithiol, 4-methoxycarbonylmethyldithiol, 4-carboxymethyldithiol, etc.).
W represents O or S.
The following sensitizing dyes having the structures represented by the general formulas (XIV-1) and (XIV-2) have high sensitizing ability and are very excellent in storage stability. Therefore, the compound represented by the general formula (XIV) is particularly preferable.










Figure 2006137876
Figure 2006137876

一般式(XIV-1)および一般式(XIV-2)中、R1は、R50と同義であり、X1、X2は、それぞれR51及びR52と同義であり、Wは、一般式(XIV)と同義であり、ZはO又はSを表す。R2およびR3はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基をあらわし、R2、R3が互いに結合して5、6、もしくは7員環を形成してもよい。R2、R3の具体例としては、先に、R50の例としてあげた、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基の例があげられる。 In the general formulas (XIV-1) and (XIV-2), R 1 has the same meaning as R 50 , X 1 and X 2 have the same meanings as R 51 and R 52 , respectively, Synonymous with formula (XIV), Z represents O or S. R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and R 2 and R 3 are bonded to each other to form a 5-, 6-, or 7-membered ring May be. Specific examples of R 2 and R 3 include the examples of the substituted or unsubstituted alkyl group and aryl group described above as examples of R 50 .

以下に一般式(XIV)で表される化合物の好ましい具体例を示す。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。

Figure 2006137876







Preferred specific examples of the compound represented by the general formula (XIV) are shown below. Note that the present invention is not limited to this. Further, the isomer by the double bond connecting the acidic nucleus and the basic nucleus is not clear, and the present invention is not limited to either isomer.
Figure 2006137876







Figure 2006137876
Figure 2006137876












Figure 2006137876
Figure 2006137876













Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
一般式(XVI)中、A2はS又はNR59を表し、ここでR59はアルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基及びアリール基は、置換されていてもよい。
59の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Figure 2006137876
In the general formula (XVI), A 2 represents S or NR 59 , where R 59 represents an alkyl group or an aryl group. Here, the alkyl group and the aryl group may be substituted.
Specifically described for preferred embodiments of R 59. Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団の基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキルウレイド基、N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アリール−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、 As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups, alkoxy groups. Group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diaryl Amino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy Group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy , Arylsulfoxy group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N '-Arylureido group, N', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-aryluree Id group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl- N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group An alkylsulfinyl group, An arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (—SO 3 H) and a conjugate base group thereof (hereinafter referred to as a sulfonate group),

アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)およびその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)およびその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基が挙げられる。 Alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N- Alkyl-N-arylsulfamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N -Alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (-PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphine group phono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), -Alkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphono group (-PO 3 H (aryl)) and its conjugated base group ( Hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (-OPO3 (aryl) 2), alkylaryl phosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and Its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonatooxy group), monoaryl phosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate). And a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and a silyl group.

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、さらに置換基を有していてもよく、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl group, which may further have a substituent. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, Tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, Methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenyl group Ba carbamoylphenyl group include a phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl phenyl group, a phosphonophenyl phenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、または多環芳香族環から誘導される基が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基中のヘテロアリール環の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等が挙げられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。   As the heteroaryl group, a group derived from a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and examples of the heteroaryl ring in the particularly preferred heteroaryl group include Is, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indolizine, indazole, indazole, Purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthrolin, phthalazine, phenalazine, phenoxazine, fura Emissions, phenoxazine and the like, and these are further may be benzo-fused or may have a substituent.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基、アルキリデン基(メチレン基等)が挙げられる。 Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-aryl sulf Moyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkylidene group (such as a methylene group).

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

上記置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるR59として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトプロピル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted alkyl groups as R 59 obtained by combining the above substituents and alkylene groups include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl. Group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group Allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- ( Sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatopropyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoyl group Propyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphine Onatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p -Methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. Can be mentioned.

59として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。 Specific examples of preferred aryl groups as R 59 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

59として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く1価の非金属原子団の基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。このような、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリルフェニル基、1−プロペニルメチルフェニル基、2−ブテニルフェニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted aryl groups for R 59 include those having a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, cal Xiphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphoro Phenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatephenyl group, allylphenyl group, 1-propenylmethylphenyl group, 2-butenylphenyl group, 2-methylallylphenyl Group, 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3-butynylphenyl group, and the like.

2は隣接するA2及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表す。塩基性核としては、複素環が適当である。このような複素環としては縮合環を有していてもよい5、6、7員の含窒素、あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは5、6員の複素環がよい。 L 2 represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the sensitizing dye in cooperation with the adjacent A 2 and the adjacent carbon atom. A heterocyclic ring is suitable as the basic nucleus. Examples of such a heterocyclic ring include 5-, 6-, and 7-membered nitrogen-containing or sulfur-containing heterocyclic rings that may have a condensed ring, and preferably 5- or 6-membered heterocyclic rings.

含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brooker et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(1951)および参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チアゾール類(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、4−フェニルチアゾール、5−メチルチアゾール、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、4,5−ジ(p−メトキシフェニルチアゾール)、4−(2−チエニル)チアゾール、4,5−ジ(2−フリル)チアゾール等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5,6−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチルアミノベンゾチアゾール、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、等)、ナフトチアゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾール、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、等)、チアナフテノ−7',6',4,5−チアゾール類(例えば、4'−メトキシチアナフテノ−7',6',4,5−チアゾール、等)、オキサゾール類(例えば、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキサゾール等)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、4−エトキシベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6ーメトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、等)、ナフトオキサゾール類(例えば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、等)、セレナゾール類(例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナゾール、等)、ベンゾセレナゾール類(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール、等)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、4,5−ジメチルチアゾリン、4−フェニルチアゾリン、4,5−ジ(2−フリル)チアゾリン、4,5−ジフェニルチアゾリン、4,5−ジ(p−メトキシフェニル)チアゾリン等)、2−キノリン類(例えば、キノリン、3−メチルキノリン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、6−メトキシキノリン、6−エトキシキノリン、6ーヒドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、等)、4−キノリン類(例えば、キノリン、6−メトキシキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、等)、1−イソキノリン類(例えば、イソキノリン、3,4−ジヒドロイソキノリン、等)、3−イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、ベンズイミダゾール類(例えば、1,3−ジメチルベンズイミダゾール、1,3−ジエチルベンズイミダゾール、1−エチル−3−フェニルベンズイミダゾール、等)、3,3−ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3,5−トリメチルインドレニン、3,3,7−トリメチルインドレニン、等)、2−ピリジン類(例えば、ピリジン、5−メチルピリジン、等)、4−ピリジン(例えば、ピリジン等)等を挙げることができる。また、これらの環の置換基同士が結合して環を形成していてもよい。   Examples of nitrogen-containing heterocycles form the basic nucleus in merocyanine dyes described in, for example, LGBrooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73, 5326-5358 (1951) and references Any known material can be suitably used. Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5- Di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl) thiazole, 4,5-di (2-furyl) thiazole, etc.), benzothiazoles (for example, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chloro Benzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7-chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole 4-methoxybenzo Azole, 5-methoxybenzothiazole, 6-methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-dioxymethylenebenzothiazole, 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.), naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2 ] Thiazole, naphtho [2,1] thiazole, 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1,2] thiazole, 7-methoxynaphtho [ , 2] thiazole, etc.), thianaphtheno-7 ′, 6 ′, 4,5-thiazole (for example, 4′-methoxythianaphtheno-7 ′, 6 ′, 4,5-thiazole, etc.), oxazole ( For example, 4-methyl oxazole, 5-methyl oxazole, 4-phenyl oxazole, 4,5-diphenyl oxazole, 4-ethyl oxazole, 4,5-dimethyl oxazole, 5-phenyl oxazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5,6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzo Oxazole, 4-ethoxybe Nzooxazole, 5-chlorobenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole, 6-hydroxybenzoxazole, etc.), naphthoxazoles (for example, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1 Oxazole, etc.), selenazoles (eg, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.), benzoselenazoles (eg, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole) , 5-hydroxybenzoselenazole, tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (for example, naphtho [1,2] selenazole, naphtho [2,1] selenazole, etc.), thiazolines (for example, thiazoline, 4 -Methyl thiazoline, , 5-dimethylthiazoline, 4-phenylthiazoline, 4,5-di (2-furyl) thiazoline, 4,5-diphenylthiazoline, 4,5-di (p-methoxyphenyl) thiazoline, etc.), 2-quinolines ( For example, quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6-ethoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8 -Hydroxyquinoline, etc.), 4-quinolines (eg, quinoline, 6-methoxyquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, etc.), 1-isoquinolines (eg, isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, Etc.), 3-isoquinolines (for example, isoquinoline etc.), benzimidazoles For example, 1,3-dimethylbenzimidazole, 1,3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3-phenylbenzimidazole, etc., 3,3-dialkylindolenine (for example, 3,3-dimethylindolenine, 3,3,5-trimethylindolenine, 3,3,7-trimethylindolenine, etc.), 2-pyridines (eg, pyridine, 5-methylpyridine, etc.), 4-pyridine (eg, pyridine, etc.), etc. Can be mentioned. Moreover, the substituents of these rings may combine to form a ring.

また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平3−296759号記載の色素類におけるジチオール部分構造を挙げることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類(例えば、ベンゾジチオール、5−t−ブチルベンゾジチオール、5−メチルベンゾジチオール、等)、ナフトジチオール類(例えば、ナフト[1,2]ジチオール、ナフト[2,1]ジチオール、等)、ジチオール類(例えば、4,5−ジメチルジチオール類、4−フェニルジチオール類、4−メトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジメトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジエトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジトリフルオロメチルジチオール、4,5−ジシアノジチオール、4−メトキシカルボニルメチルジチオール、4−カルボキシメチルジチオール、等)等を挙げることができる。
Examples of the sulfur-containing heterocycle include a dithiol partial structure in dyes described in JP-A-3-296759.
Specific examples include benzodithiols (eg, benzodithiol, 5-t-butylbenzodithiol, 5-methylbenzodithiol, etc.), naphthodithiols (eg, naphtho [1,2] dithiol, naphtho [2,1 Dithiols, etc.), dithiols (for example, 4,5-dimethyldithiols, 4-phenyldithiols, 4-methoxycarbonyldithiols, 4,5-dimethoxycarbonyldithiols, 4,5-diethoxycarbonyldithiols) 4,5-ditrifluoromethyldithiol, 4,5-dicyanodithiol, 4-methoxycarbonylmethyldithiol, 4-carboxymethyldithiol, etc.).

以上に述べた一般式(XVI)における、L4が隣接するA2及び隣接する炭素原子と共同して形成する含窒素あるいは硫黄複素環の例の内、下記部分構造式(XVI-1)で表される構造を有する色素は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れた、光重合性組成物を与えるため、特に好ましい。式(XVI)において、部分構造式(XVI-1)で表される構造を有する色素は新規化合物である。




Among the examples of nitrogen-containing or sulfur heterocycles formed by L 4 in combination with adjacent A 2 and adjacent carbon atoms in the general formula (XVI) described above, the following partial structural formula (XVI-1) The dye having the structure represented is particularly preferable because it gives a photopolymerizable composition having high sensitizing ability and excellent storage stability. In the formula (XVI), a dye having a structure represented by the partial structural formula (XVI-1) is a novel compound.




Figure 2006137876
Figure 2006137876

式(XVI-1)中、Aは式(XVI)のA2と同義であり、R8、R9はそれぞれ独立に、1価の非金属原子団の基を表し、R8、R9は互いに結合して5から8員の環を形成しても良い。
特に好ましいR8、R9は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロアリール基である。これらの置換基のより具体的な例は先述のR59の例として挙げたものを用いることができる。特に好ましいR8、R9はそれぞれ独立に、炭素数1から6の分岐していても良いアルキル基、置換基を有していても良いフェニル基、置換基を有しても良いフリル基、チエニル基、アルコキシカルボニル基である。さらに、R8、R9が互いに結合して5、6、もしくは7員環を形成する場合特に好ましいのは、ベンゼン環、ナフタレン環を形成するものや、トリメチレン(−(CH23−)、テトラメチレン(−(CH24−)を構成するものである。
In the formula (XVI-1), A has the same meaning as A 2 in the formula (XVI), R 8 and R 9 each independently represents a group of a monovalent nonmetallic atomic group, and R 8 and R 9 are They may combine with each other to form a 5- to 8-membered ring.
R 8 and R 9 are particularly preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heteroaryl group. As specific examples of these substituents, those exemplified as the example of R 59 described above can be used. Particularly preferred R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be branched, a phenyl group which may have a substituent, a furyl group which may have a substituent, A thienyl group and an alkoxycarbonyl group; Further, when R 8 and R 9 are bonded to each other to form a 5-, 6-, or 7-membered ring, it is particularly preferable to form a benzene ring or a naphthalene ring, or trimethylene (— (CH 2 ) 3 —). , Tetramethylene (— (CH 2 ) 4 —).

53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。R53、R54、R55、R56、R57及びR58は、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフイニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ基、ニトロ基、シリル基のいずれかであるものを挙げることができる。これらの置換基の好ましい例としては、前述のR59例として挙げたものがいずれも好適に使用できる。 R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group. R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 are more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, Hydroxyl group, substituted oxy group, mercapto group, substituted thio group, amino group, substituted amino group, substituted carbonyl group, sulfo group, sulfonate group, substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, phosphono group, substituted phosphono group, phosphonate group, substituted The thing which is any of a phosphonate group, a cyano group, a nitro group, and a silyl group can be mentioned. As preferred examples of these substituents, any of those exemplified as the aforementioned R 59 examples can be suitably used.

また、R53とR54は互いに結合して脂肪族環を形成し、これらが結合する炭素原子を含む環と、スピロ環をなしても良い。好ましい脂肪族環としては、3員環、5員環、6員環、7員環および8員環の脂肪族環を挙げることができ、より好ましくは、3員環、5員環、6員環の脂肪族環を挙げることができる。これらは更に、これらを構成する炭素原子上に置換基を有していても良く(置換基の例としては、先にR59の例として挙げた置換アルキル基における置換基の例を挙げることができる)、また、環構成炭素の一部が、へテロ原子(酸素原子、硫黄原子、窒素原子等)で置換されていても良い。これらの好ましい具体例としては、シクロプロパン環、シクロペンタン環、シクロへキサン環、シクロへプタン環、シクロオクタン漠、シクロ−1,3−ジオキサペンタン環、シクロペンテン環、シクロへキセン環、シクロへプテン環、シクロオクテン環、シクロ−1,3−ジオキサペンテン環、シクロ−1,3−ジオキサへキセン環、をなすもの等が挙げられる。 R 53 and R 54 may combine with each other to form an aliphatic ring, and may form a spiro ring with a ring containing a carbon atom to which they are bonded. Preferred examples of the aliphatic ring include 3-membered ring, 5-membered ring, 6-membered ring, 7-membered ring and 8-membered aliphatic ring, and more preferred are 3-membered ring, 5-membered ring and 6-membered ring. A cyclic aliphatic ring can be mentioned. These may further have a substituent on the carbon atom constituting them. (Examples of the substituent include the examples of the substituent in the substituted alkyl group mentioned above as the example of R 59. In addition, a part of the ring-constituting carbon may be substituted with a hetero atom (oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, etc.). Preferred examples of these include cyclopropane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane, cyclo-1,3-dioxapentane ring, cyclopentene ring, cyclohexene ring, cyclohexane ring, Examples include a heptene ring, a cyclooctene ring, a cyclo-1,3-dioxapentene ring, and a cyclo-1,3-dioxahexene ring.

また、R55とR56、R56とR57、R57とR58が互いに結合して脂肪族または芳香族環を形成しているものも好適に使用できる。このような脂肪族環の例としては、5員環、6員環、7員環および8員環の脂肪族環を挙げることができ、より好ましくは、5員環、6員環の脂肪族環を挙げることができる。これらは更に、これらを構成する炭素原子上に置換基を有していても良く(置換基の例としては、先に、R59の例として挙げた置換アルキル基における置換基の例を挙げることができる)、また、環構成炭素の一部が、へテロ原子(酸素原子、硫黄原子、窒素原子等)で置換されていても良い。これらの好ましい具体例としては、下記部分構造(XVI-2)中の、これらが結合する炭素原子を含むベンゼン環と協同して、ベンゾシクロペンテン環、ベンゾシクロへキセン環、ベンゾシクロへプテン環、ベンゾシクロオクテン環、1,3−ベンゾシクロへキサジエン環、1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキサインデン環、ジュロリジン環をなすもの等が挙げられる。また、芳香族環を形成する例としては、これらが結合する炭素原子を含むベンゼン環と協同して、ナフタレン、アントラセン環をなすものを挙げることができ、より好ましくはナフタレン環をなすものが挙げられる。これらを構成する炭素原子上に置換基を有していても良い(置換基の例としては、先にR59の例として挙げた置換アルキル基上の置換基を挙げることができる)。 Further, those in which R 55 and R 56 , R 56 and R 57 , R 57 and R 58 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring can also be suitably used. Examples of such aliphatic rings include 5-membered, 6-membered, 7-membered and 8-membered aliphatic rings, and more preferably 5-membered and 6-membered aliphatic rings. A ring can be mentioned. These may further have a substituent on the carbon atom constituting them. (Examples of the substituent include the examples of the substituent in the substituted alkyl group described above as the example of R 59. In addition, a part of the ring-constituting carbon may be substituted with a hetero atom (oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, etc.). Preferred examples of these include benzocyclopentene ring, benzocyclohexene ring, benzocycloheptene ring, benzocyclo in cooperation with the benzene ring containing the carbon atom to which they are bonded in the following partial structure (XVI-2). Examples include an octene ring, a 1,3-benzocyclohexadiene ring, a 1,3-dihydro-1,3-dioxaindene ring, and a julolidine ring. Examples of forming an aromatic ring include those that form a naphthalene or anthracene ring in cooperation with a benzene ring containing a carbon atom to which they are bonded, and more preferably those that form a naphthalene ring. It is done. A substituent may be present on the carbon atoms constituting these (as examples of the substituent, the substituents on the substituted alkyl group exemplified above for R 59 can be given).

これらの内、さらにより好ましいR53、R54としては水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換カルボニル基、トリアルキルシリル基が挙げられ、R55〜R58としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、がより好ましい。 Among these, more preferable R 53 and R 54 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a substituted carbonyl group, and a trialkylsilyl group, and R 55 to R As 58 , hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, substituted aryl group, hydroxyl group, substituted oxy group, mercapto group, substituted thio group, amino group, substituted amino group, substituted carbonyl group, More preferred.

以下に、好ましいR53〜R58を有する部分構造(XVI-2)の例を具体的に示す。

Figure 2006137876















Specific examples of the partial structure (XVI-2) having preferable R 53 to R 58 are specifically shown below.
Figure 2006137876















Figure 2006137876
Figure 2006137876









Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876

一般式(XVI)で表される化合物は、上記A2およびL4が隣接する炭素原子と共同して形成する塩基性核と、上記部分構造式(XIV-2)で表される1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2H−インデニリデン骨格とを順次組み合わせることで構成できる。以下に一般式(XVI)で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

Figure 2006137876



































The compound represented by the general formula (XVI) includes a basic nucleus formed by the above A 2 and L 4 in cooperation with adjacent carbon atoms, and 1,3 represented by the partial structural formula (XIV-2). It can be constructed by sequentially combining a dihydro-1-oxo-2H-indenylidene skeleton. Preferred specific examples of the compound represented by the general formula (XVI) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
Figure 2006137876



































Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876






Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
一般式(XVII)中、A3及びA4はそれぞれ独立にS、NR60又はNR63を表し、ここでR60及びR63はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表す。ここでいうアルキル基及びアリール基は置換されていてもよい。
ここで、R60、R63として非置換アルキル基の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。
Figure 2006137876
In general formula (XVII), A 3 and A 4 each independently represent S, NR 60 or NR 63 , wherein R 60 and R 63 each independently represent an alkyl group or an aryl group. The alkyl group and aryl group here may be substituted.
Here, preferred examples of the unsubstituted alkyl group as R 60 and R 63 will be specifically described. Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group.

60、R63として好ましい置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 As the substituent of the substituted alkyl group preferable as R 60 and R 63 , a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferable examples include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I). , Hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group Alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group N'-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkyl Ureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkyl Ureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N -Diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino Group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group , Acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl -N-aryl carbonate Bamoiru group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (hereinafter referred to as sulfonato group), alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, Sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group Sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl Group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and conjugated salts thereof Group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) ) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) And its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), dialkylphosphonooxy group (— OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphonooxy group (—OPO) 3 (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter, the aryl phosphite Hona preparative group A cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換アルキル基の置換基におけるアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられる。また、置換アルキル基の置換基におけるアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in the substituent of these substituted alkyl groups include the aforementioned alkyl groups. Specific examples of the aryl group in the substituent of the substituted alkyl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, Carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfo Tofeniru group, phosphono phenyl group, and a phosphonophenyl phenyl group.

また、置換アルキル基の置換基におけるヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員環または6員環芳香族置換基が使用できる。   Moreover, as the heteroaryl group in the substituent of the substituted alkyl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, preferably furan, pyrrole, pyridine, 5-membered or 6-membered aromatic substituents such as

また、置換アルキル基の置換基におけるアルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。また、置換アルキル基の置換基におけるアシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of the alkenyl group in the substituent of the substituted alkyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like. Examples of alkynyl group Examples thereof include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 1-butynyl group, and a trimethylsilylethynyl group. Further, Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO-) in the substituent of the substituted alkyl group include a hydrogen atom and the above-described alkyl group, an aryl group. Of these substituents, halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N are more preferable. -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-arylsulfa Moyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

該置換基とアルキレン基を組み合わせる事により得られる好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。   Specific examples of the preferred substituted alkyl group obtained by combining the substituent and the alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethoxyethyl group, and allyloxy. Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenyl Carbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonyl Bonylbutyl, chlorophenoxycarbonylmethyl, carbamoylmethyl, N-methylcarbamoylethyl, N, N-dipropylcarbamoylmethyl, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl, N-methyl-N- (sulfophenyl) Carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N -(Phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl Group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl Group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group and the like.

60、R63として好ましい非置換アリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。 Specific examples of preferred unsubstituted aryl groups as R 60 and R 63 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

60、R63として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted aryl groups as R 60 and R 63 include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carbo Cyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphono Enyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

5及びL6はそれぞれ独立に、隣接するA3、A4及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表す。ここで塩基性核としては、複素環が挙げられる。この様な複素環としては5、6、7員の含窒素、含酸素、あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは5、6員の複素環がよい。 L 5 and L 6 each independently represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the sensitizing dye in combination with adjacent A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms. Here, examples of the basic nucleus include a heterocyclic ring. Examples of such a heterocycle include 5-, 6-, and 7-membered nitrogen-containing, oxygen-containing, or sulfur-containing heterocycles, and preferably 5- or 6-membered heterocycles.

含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brooker et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(1951).及び参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チアゾール類(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、4ーフェニルチアゾール、5−メチルチアゾール、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、4,5−ジ(p−メトキシフェニルチアゾール)、4−(2−チエニル)チアゾール、等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5,6−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチルアミノベンゾチアゾール、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、等)、ナフトチアゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾール、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、等)、チアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール類(例えば、4’−メトキシチアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール、等)、オキサゾール類(例えば、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキサゾール等)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、4−エトキシベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6ーメトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、等)、ナフトオキサゾール類(例えば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、等)、セレナゾール類(例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナゾール、等)、ベンゾセレナゾール類(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール、等)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、等)、2−キノリン類(例えば、キノリン、3−メチルキノリン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、6−メトキシキノリン、6−エトキシキノリン、6ーヒドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、等)、4−キノリン類(例えば、キノリン、6−メトキシキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、等)、1−イソキノリン類(例えば、イソキノリン、3,4−ジヒドロイソキノリン、等)、3−イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、ベンズイミダゾール類(例えば、1,3−ジエチルベンズイミダゾール、1−エチル−3−フェニルベンズイミダゾール、等)、3,3−ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3,5,−トリメチルインドレニン、3,3,7,−トリメチルインドレニン、等)、2−ピリジン類(例えば、ピリジン、5−メチルピリジン、等)、4−ピリジン(例えば、ピリジン等)等があげられ、本発明においては、これらの塩基性核をジヒドロ化したアルキリデン誘導体として用いることができる。   Examples of nitrogen-containing heterocycles include, for example, the basic nucleus in merocyanine dyes described in LGBrooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73, 5326-5358 (1951). Any of those known to be used can be suitably used. Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5- Di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl) thiazole, etc.), benzothiazoles (for example, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7- Chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 4-methoxybenzothiazole, 5-methoxybenzo Cheer , 6-methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-di Oxymethylenebenzothiazole, 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.), naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2] thiazole, naphtho [ 2,1] thiazole, 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1,2] thiazole, 7-methoxynaphtho [1,2] thiazole, Etc.), Chianafu -7 ', 6', 4,5-thiazole (for example, 4'-methoxythianaphtheno-7 ', 6', 4,5-thiazole, etc.), oxazole (for example, 4-methyloxazole, 5 -Methyl oxazole, 4-phenyl oxazole, 4,5-diphenyl oxazole, 4-ethyl oxazole, 4,5-dimethyl oxazole, 5-phenyl oxazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5- Methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5,6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 4-ethoxybenzoxazole, 5-black Benzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole, 6-hydroxybenzoxazole, etc.), naphthoxazoles (for example, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1] oxazole, etc.), selenazole (Eg, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.), benzoselenazoles (eg, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole) , Tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (eg, naphtho [1,2] selenazole, naphtho [2,1] selenazole, etc.), thiazolines (eg, thiazoline, 4-methylthiazoline, etc.), 2-quinolines (eg Quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6-ethoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8- Hydroxyquinoline, etc.), 4-quinolines (eg, quinoline, 6-methoxyquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, etc.), 1-isoquinolines (eg, isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, etc.) ), 3-isoquinolines (for example, isoquinoline and the like), benzimidazoles (for example, 1,3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3-phenylbenzimidazole, and the like), 3,3-dialkylindolenins (for example, 3,3-dimethylindolenine, 3,3,5, -trimethyl Indolenine, 3,3,7, -trimethylindolenine, etc.), 2-pyridines (eg, pyridine, 5-methylpyridine, etc.), 4-pyridine (eg, pyridine, etc.) and the like. In, these basic nuclei can be used as alkylidene derivatives obtained by dihydrolysis.

61及びR62はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する。
好ましくは、R61及びR62はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基を表すか、又はこれらの基は置換もしくは非置換アルキレン基などを介して、脂肪族環または芳香族環を形成するために結合することができる。互いに結合して環を形成する場合、環の形成には、炭素原子以外に、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などを介することもできる。好ましい環の例としては、置換もしくは非置換のアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、アミド結合等を介した環などが挙げられる。ここで、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基および、置換基の好ましい例としては、一般式(XVII)におけるR60、R63の説明で述べたものと同様のものが挙げられる。
R 61 and R 62 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, or are bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring.
Preferably, R 61 and R 62 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or these groups are substituted or unsubstituted via an alkylene group or the like. Can be linked to form an aliphatic ring or an aromatic ring. When bonded to each other to form a ring, the ring can be formed via an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or the like in addition to the carbon atom. Examples of preferred rings include a ring through a substituted or unsubstituted alkylene group, an ether bond, an ester bond, an amide bond, and the like. Here, preferred examples of the substituted or unsubstituted alkyl group, the substituted or unsubstituted aryl group, and the substituent are the same as those described in the description of R 60 and R 63 in the general formula (XVII). Can be mentioned.

以上に述べた一般式(XVII)における、L5及びL6が上述のA3、A4および隣接する炭素原子と共同して形成する含窒素あるいは硫黄複素環の例の内、下記一般式(XVII-1)で表される構造を有する色素は、350〜450nmでの露光適性に特に優れ、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れた光重合性組成物を与えるため特に好ましい。 Of the examples of nitrogen-containing or sulfur heterocycles formed by L 5 and L 6 in combination with the aforementioned A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms in the general formula (XVII) described above, the following general formula ( The dye having the structure represented by XVII-1) is particularly excellent in exposure suitability at 350 to 450 nm, has a high sensitizing ability, and provides a photopolymerizable composition having excellent storage stability. Particularly preferred.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

式中、R1、R2、R3およびR4は一般式(XVII)中のR62、R61、R60及びR63と同義であり;X1、X2はそれぞれ独立に、O原子、S原子、Se原子、NR9またはCR1011を表わし、R9、R10およびR11はそれぞれ独立に1〜6個の炭素原子を有するアルキル基または置換もしくは非置換のフェニル基であり;及びR5〜R8はそれぞれ独立に水素原子、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ基、置換もしくは非置換のフェニル基、塩素または臭素であり、かつR5とR6は互いに、またはR7とR8は互いにそれぞれ脂肪族環または芳香族環を形成するため結合することができる。互いに環を形成する場合、環の形成には、炭素原子以外に、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などを介することもできる。好ましい環の例としては、置換もしくは非置換のアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、アミド結合等を介した環などが挙げられる。ここで、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基および、置換基の好ましい例としては、一般式(XVII)におけるR60、R63の説明で述べたものと同様のものが挙げられる。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as R 62 , R 61 , R 60 and R 63 in formula (XVII); X 1 and X 2 are each independently an O atom , S atom, Se atom, NR 9 or CR 10 R 11 , wherein R 9 , R 10 and R 11 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a substituted or unsubstituted phenyl group. And R 5 to R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, chlorine or bromine; And R 5 and R 6 can be linked together to form an aliphatic ring or an aromatic ring, or R 7 and R 8 can be bonded to each other. When forming a ring mutually, formation of a ring can also be via an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, etc. other than a carbon atom. Examples of preferred rings include a ring through a substituted or unsubstituted alkylene group, an ether bond, an ester bond, an amide bond, and the like. Here, preferred examples of the substituted or unsubstituted alkyl group, the substituted or unsubstituted aryl group, and the substituent are the same as those described in the description of R 60 and R 63 in the general formula (XVII). Can be mentioned.

本発明の具体例においてより好ましくは;X1=X2であり、SまたはC(CH3)2を表わし;R1 + R2(R1とR2が互いに結合して環を形成する場合)は−(CH2)2−または−(CH2CHR14CH2)−(式中R14はHまたはt-ブチルである)であり;R3=R4であり、CH3またはC25を表わし;R1とR2はHであり;及びR5とR6はそれぞれが水素であるか、または互いに結合して芳香環を形成するかのいずれかであり、及びR7とR8はそれぞれが水素であるか、または互いに結合して芳香環を形成するかのいずれかである。また、一般式(XVII-1)中における、置換もしくは非置換のアルキル基、アルキレン基および、置換基に関しては、一般式(XVII)において例示したものと同様のものが挙げられる。 More preferably in the embodiment of the present invention; X 1 = X 2 and S or C (CH 3 ) 2 ; R 1 + R 2 (when R 1 and R 2 are bonded to each other to form a ring) ) Is — (CH 2 ) 2 — or — (CH 2 CHR 14 CH 2 ) — (wherein R 14 is H or t-butyl); R 3 = R 4 and CH 3 or C 2 represents H 5; R 1 and R 2 is H; and R 5 and R 6 are either each is hydrogen, or combine to form a aromatic ring together, and with R 7 Each R 8 is either hydrogen or is bonded to each other to form an aromatic ring. In addition, regarding the substituted or unsubstituted alkyl group, alkylene group, and substituent in the general formula (XVII-1), the same as those exemplified in the general formula (XVII) can be mentioned.

一般式(XVII)で表される化合物の好ましい例としては、以下のものが挙げられる。なお、本発明の増感色素は上述の構造要件を満たすものをいずれも好適に使用でき、本発明は以下の化学構造式によって制限を受けるものではない。

Figure 2006137876































Preferable examples of the compound represented by the general formula (XVII) include the following. Any sensitizing dye of the present invention that satisfies the above structural requirements can be suitably used, and the present invention is not limited by the following chemical structural formula.
Figure 2006137876































Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876

本発明の一般式(XVII)又は(XVII-1)で表わされる増感色素は、2当量の適当なアルデヒドと1当量の適当なケトンとの塩基触媒によるクライゼンーシュミット縮合法で作ることができる。カルボシアニン色素の加水分解による方法は米国特許第3,672,906号中に述べられている。ケトンとアゾチウム塩との縮合による合成法はSlominskii氏他の、Khim. Geterotsikl. Soedin., 711 712 (1974); Chem.Abst., 81, 77828f (1974)に述べられている。   The sensitizing dye represented by the general formula (XVII) or (XVII-1) of the present invention can be prepared by a Claisen-Schmidt condensation method using a base catalyst of 2 equivalents of an appropriate aldehyde and 1 equivalent of an appropriate ketone. . A method by hydrolysis of carbocyanine dyes is described in US Pat. No. 3,672,906. A synthetic method by condensation of a ketone with an azotium salt is described in Slominskii et al., Khim. Geterotsikl. Soedin., 711 712 (1974); Chem. Abst., 81, 77828f (1974).

Figure 2006137876
一般式(XVIII)中、A5はO、S又はNR67を表し、R64、R65及びR67はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、R64とR67及びR65とR67はそれぞれ互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する。
64、R65及びR67は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を示す。ここで、一価の非金属原子団としては、例えば、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
Figure 2006137876
In general formula (XVIII), A 5 represents O, S or NR 67 , and R 64 , R 65 and R 67 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, or R 64 and R 67 and R 65 and R 67 are bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring.
R 64 , R 65 and R 67 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group. Here, examples of the monovalent nonmetallic atomic group include a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aromatic complex, and the like. It represents a ring residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

64、R65及びR67の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。 Preferable examples of R 64 , R 65 and R 67 will be specifically described. Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferred examples include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, Aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, Reelsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-arylureido Group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′- Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'- Aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-ary Luureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl- N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group , Alkylsul Finyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N -Alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter, phosphonato And referred), a dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), mono Alkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “alkyl phosphonate group”) , Arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ) , Diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its Conjugated base group Hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphite Hona preparative group), a cyano group, a nitro group, an aryl Group, heteroaryl group, alkenyl group, alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, and a cumenyl group. , Chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylamino Phenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group Cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl phenyl group, phosphonophenyl phenyl group and the like.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。   As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used. Examples of particularly preferred heteroaryl groups include thiophene, thiathrene, furan, Pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoyl, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, Quinazoline, cinolin, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthroline, phthalazine, phenazazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, etc. It further may be benzo-fused, or may have a substituent.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-aryl sulf Moyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

該置換基とアルキレン基を組み合わせる事により得られるR64、R65及びR67として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted alkyl groups as R 64 , R 65 and R 67 obtained by combining the substituent with an alkylene group include chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxy Methyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N -Cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarboni Ruethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl- N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobuty Group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonateoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p- Methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. Can be mentioned.

64、R65及びR67として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。 Specific examples of preferred aryl groups as R 64 , R 65 and R 67 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable. .

64、R65及びR67として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted aryl groups as R 64 , R 65 and R 67 include those having a monovalent non-metallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group described above. . Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carbo Cyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphono Enyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

66は置換又は非置換の芳香族環又はヘテロ環を表す。置換基を有しても良い芳香族環またはヘテロ環は、環式構造を持つ有機化合物であって、環を構成する原子が炭素原子だけでなく、O、S、Nその他のヘテロ原子を含むものであってもよい。このような具体例としては、有機化合物命名のてびき(化学同人)P27〜P40に記載されている構造が挙げられる。 R 66 represents a substituted or unsubstituted aromatic ring or heterocyclic ring. The aromatic ring or heterocycle which may have a substituent is an organic compound having a cyclic structure, and the atoms constituting the ring include not only carbon atoms but also O, S, N and other heteroatoms. It may be a thing. Specific examples include the structures described in the organic compound nomenclature TEBIKI (Chemical Doujinshi) P27-P40.

本発明の一般式(XVIII)であらわされる増感色素は、上に示したような酸性核や、活性メチレン基を有する酸性核と、置換、もしくは非置換の、芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によって得られるが、これらは特公昭59−28329を参照して合成することができる。一般式(XVIII)で表される化合物の好ましい具体例としては、以下に示すものが挙げられる。なお、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。

Figure 2006137876





























The sensitizing dye represented by the general formula (XVIII) of the present invention comprises an acidic nucleus as shown above, an acidic nucleus having an active methylene group, and a substituted or unsubstituted aromatic ring or heterocyclic ring. Although obtained by a condensation reaction, these can be synthesized with reference to JP-B-59-28329. Preferable specific examples of the compound represented by the general formula (XVIII) include those shown below. Note that the present invention is not limited to this. Further, the isomer by the double bond connecting the acidic nucleus and the basic nucleus is not clear, and the present invention is not limited to either isomer.
Figure 2006137876





























Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876







Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
一般式(XIX)は、カルバゾール系増感色素である。
一般式(XIX)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、但し、R1およびR3のうちの少なくとも一つは、下記部分構造式(XIX-1)に示す一価の有機残基で表され、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に、脂肪族環または芳香族環を形成するため結合することができる。




Figure 2006137876
General formula (XIX) is a carbazole sensitizing dye.
In general formula (XIX), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, provided that At least one of R 1 and R 3 is represented by a monovalent organic residue represented by the following partial structural formula (XIX-1), and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 can each independently be joined to form an aliphatic ring or an aromatic ring.




Figure 2006137876
(部分構造式(XIX-1)中、R10は、一価の非金属原子団を表し、Zは隣接する原子と共同して5員環酸性核を形成するのに必要な2価の非金属原子団を表し、R10は前記一般式(XIX)中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8またはR9と脂肪族環または芳香族環を形成するため結合することができる。)
Figure 2006137876
(In the partial structural formula (XIX-1), R 10 represents a monovalent non-metallic atomic group, and Z represents a divalent non-metallic group necessary for forming a five-membered acidic nucleus together with adjacent atoms. Represents a metal atomic group, and R 10 represents R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 or R 9 in the general formula (XIX) and an aliphatic ring or aromatic Can be joined to form a ring.)

一般式(XIX)および部分構造式(XIX-1)について詳しく説明する。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は、それぞれ独立に水素原子または一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子を表す。 The general formula (XIX) and the partial structural formula (XIX-1) will be described in detail. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, preferably Substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted alkylthio Represents a group, a hydroxy group, or a halogen atom.

R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。 Preferable examples of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 will be specifically described. Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、   As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferred examples include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, Aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group,

アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、 Arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido Group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′- Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'- Aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-ary Ruureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N- di arylcarbamoyl, N- alkyl -N- arylcarbamoyl groups, alkylsulfinyl groups, arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (hereinafter Called sulfonato group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diaryls Rufinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diaryl Sulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ) , Alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl Phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonateoxy”) Group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl) )), -Alkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate Examples include a base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, and a cumenyl group. , Chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylamino Phenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, cyanophene Group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl phenyl group, and a phosphonophenyl phenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等が挙げられ、これらは、更にベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。
また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used. Examples of particularly preferred heteroaryl groups include thiophene, thiathrene, furan, Pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoyl, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, Quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthroline, phthalazine, phenazazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, etc. These further may be benzo-fused or may have a substituent.
Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.

アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group Group, N-arylsulfa Yl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

該置換基とアルキレン基を組み合わせる事により得られるR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10として好ましい置換アルキル基の置換基は、任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、 Preferred substituents of the substituted alkyl group as R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 obtained by combining the substituent and the alkylene group are Specific examples of the preferable substituted alkyl group include, but are not limited to, chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, and phenoxymethyl group. , Methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetyl Aminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2- Xoxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N- Dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group,

N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group , Tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonateoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methyl Benzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. be able to.

R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、
Specific examples of preferred aryl groups as R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 include 1 to 3 benzene rings as condensed rings. And those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl, indenyl, acenaphthenyl, fluorenyl. Group, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
Specific examples of the substituted aryl group preferable as R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 include a ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group. As the substituent, those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen are used. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carbo Cyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group,

スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。 Sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (Phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group , Tolylphosphonate phenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3- List butynylphenyl groups, etc. It can be.

次に、一般式(XIX)および部分構造式(XIX-1)中のZについて説明する。

Figure 2006137876
部分構造式(XIX-1)中、Zは隣接する原子と共同して置換基を有しても良い5員環酸性核を形成するのに必要な2価の非金属原子団を表し、酸性核の具体例としては、1,3−ジカルボニル核(例えば、1,3−インダンジオン、1,3−ジオキサン−4,6−ジオン等)、ピラゾリノン核(例えば、3−メチル−1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾリル)−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オン等)、イソオキサゾリノン核(例えば、3−フェニル−2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソオキサゾリン−5−オン等)、オキシインドール核(例えば、1−アルキル−2,3−ジヒドロ−2−オキシインドール等)、2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核(例えば、ローダニンおよびそのN置換誘導体、例えば、3−メチルローダニン、3−エチルローダニン、3−フェニルローダニン、3−アリルローダニン、3−ベンジルローダニン、3−カルボキシメチルローダニン、3−カルボキシエチルローダニン、3−メトキシカルボニルメチルローダニン、3−ヒドロキシエチルローダニン、3−モルフォリノエチルローダニン等)、2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン核(即ち、2−チオ−2,4−(3H,4H)−オキサゾールジオン核、例えば、2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン等)、チアナフテノン核(例えば、3(2H)−チアナフテノン、3(2H)−チアノフテノン−1,1−ジオキサイド等)、2−チオー2,5−チアゾリジンジオン核(例えば、3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン等)、2,4−チアゾリジンジオン核(例えば、2,4−チアゾリジンジオン、3−エチル−4−チアゾリジンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオン等)、チアゾリジノン核(例えば、4−チアゾリジノン、3−エチル−4−チアゾリジノン、2−エチルメルカプト−4−チアゾリジノン、2−メチルフェニルアミノ−4−チアゾリジノン等)、2−イミノ−2−オキサゾリン−4−オン核(即ち、擬ヒダントイン核)、2,4−イミダゾリジンジオン核(即ち、ヒダントイン核、例えば、2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3−ジエチル−2,4−イミダゾリジンジオン等)、2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン核(即ち、チオヒダントイン核、例えば、2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3−ジエチル−2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン等)、イミダゾリン−5−オン核(例えば、2−プロピルメルカプト−2−イミダゾリン−5−オン等)、フラン−5−オン核、チオインドキシル核(例えば、5−メチルチオインドキシル等)が挙げられ、これらの酸性核はさらに置換基を有してもよい。 Next, Z in the general formula (XIX) and the partial structural formula (XIX-1) will be described.
Figure 2006137876
In the partial structural formula (XIX-1), Z represents a divalent nonmetallic atomic group necessary for forming a 5-membered ring acidic nucleus which may have a substituent in cooperation with an adjacent atom, and is acidic. Specific examples of the nucleus include a 1,3-dicarbonyl nucleus (for example, 1,3-indandione, 1,3-dioxane-4,6-dione, etc.), a pyrazolinone nucleus (for example, 3-methyl-1-phenyl). -2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazolyl) -3-methyl-2-pyrazolin-5-one, etc.), isoxazolinone nucleus (for example , 3-phenyl-2-isoxazolin-5-one, 3-methyl-2-isoxazolin-5-one, etc.), oxindole nucleus (for example, 1-alkyl-2,3-dihydro-2-oxindole, etc.) ), 2-thio-2,4-thia Lysine dione nuclei (eg, rhodanine and its N-substituted derivatives such as 3-methyl rhodanine, 3-ethyl rhodanine, 3-phenyl rhodanine, 3-allyl rhodanine, 3-benzyl rhodanine, 3-carboxymethyl rhodanine 3-carboxyethylrhodanine, 3-methoxycarbonylmethylrhodanine, 3-hydroxyethylrhodanine, 3-morpholinoethylrhodanine, etc.), 2-thio-2,4-oxazolidinedione nucleus (ie 2-thio -2,4- (3H, 4H) -oxazoledione nuclei such as 2-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione, etc., thianaphthenone nuclei (eg 3 (2H) -thianaphthenone, 3 (2H) -Thianoftenone-1,1-dioxide, etc.), 2-thio-2,5-thiazolidinedione Nucleus (for example, 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione, etc.), 2,4-thiazolidinedione nucleus (for example, 2,4-thiazolidinedione, 3-ethyl-4-thiazolidinedione, 3-phenyl) -2,4-thiazolidinedione, etc.), thiazolidinone nucleus (for example, 4-thiazolidinone, 3-ethyl-4-thiazolidinone, 2-ethylmercapto-4-thiazolidinone, 2-methylphenylamino-4-thiazolidinone, etc.), 2- Imino-2-oxazolin-4-one nucleus (ie pseudohydantoin nucleus), 2,4-imidazolidinedione nucleus (ie hydantoin nucleus such as 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4- Imidazolidinedione, 1,3-diethyl-2,4-imidazolidinedione, etc.), 2-thio-2,4-imidazoli Thiohydantoin nuclei such as 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione, 1,3-diethyl-2-thio-2 , 4-imidazolidinedione, etc.), imidazolin-5-one nucleus (eg, 2-propylmercapto-2-imidazolin-5-one), furan-5-one nucleus, thioindoxyl nucleus (eg, 5-methylthio) Indoxyl etc.), and these acidic nuclei may further have a substituent.

以上に述べた一般式(XIX)および部分構造式(XIX-1)で表されるカルバゾール系増感色素の内、下記一般式(2)〜(6)で表される構造を有する色素は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れた、重合開始系を含むインクジェット記録用インクを与えるため、特に好ましい。



Of the carbazole-based sensitizing dyes represented by the general formula (XIX) and the partial structural formula (XIX-1) described above, the dye having a structure represented by the following general formulas (2) to (6) is: This is particularly preferred because it provides an ink for ink jet recording including a polymerization initiating system that has high sensitization ability and excellent storage stability.



Figure 2006137876
Figure 2006137876

一般式(2)〜(6)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は、前記一般式(XIX)および部分構造式(XIX-1)中のものと同義であり、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立に、O原子、S原子またはNR20、YはO原子、S原子またはNR21を表し、R11〜R21はそれぞれ独立に、水素原子または、一価の非金属原子団であり、それぞれ互いに、置換基を有しても良い、脂肪族環または芳香族環を形成するため結合することができる。 In the general formulas (2) to (6), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are the above general formula (XIX) and a moiety X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently O atom, S atom or N R 20 , and Y is O atom, S atom or N R 21. Each of R 11 to R 21 independently represents a hydrogen atom or a monovalent non-metallic atomic group, and may form an aliphatic ring or an aromatic ring, each of which may have a substituent. Can be combined.

一般式(2)〜(6)について詳しく説明する。一般式(2)〜(6)中、 R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は、一般式(XIX)中と同義であり、R11〜R21はそれぞれ独立に、水素原子または一価の非金属原子団を表し、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。また、R13〜R19は、それぞれ互いに、置換基を有しても良い、脂肪族環または芳香族環を形成するため結合することができる。R11〜R21の好ましい例としては、一般式(XIX)におけるR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10の説明で述べたものと同様の例が挙げられる。 General formulas (2) to (6) will be described in detail. In general formulas (2) to (6), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meanings as in general formula (XIX). R 11 to R 21 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted group. An aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, and a halogen atom are represented. R 13 to R 19 can be bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring which may have a substituent. Preferred examples of R 11 to R 21 are described in the description of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 in the general formula (XIX). Examples similar to those described above are given.

一般式(2)〜(6)中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立に、O原子、S原子またはNR20を表し、YはO原子、S原子またはNR21を表す。 In the general formulas (2) to (6), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 each independently represent an O atom, S atom or N R 20 , and Y represents an O atom, S atom or N R 21 . .

前記一般式(XIX)及び一般式(2)〜(6)で表される増感色素は、上に示したような酸性核や、活性メチレン基を有する酸性核と、置換、もしくは非置換のカルバゾールカルボアルデヒドとの縮合反応によって得られるが、これらは特公昭59−28329を参照して合成することができる。以下に一般式(XIX)で表される化合物の好ましい具体例(D1)から(D31)を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核とカルバゾール骨格を結ぶ2重結合による異性体については明らかではなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。




































The sensitizing dyes represented by the general formula (XIX) and the general formulas (2) to (6) are an acidic nucleus as shown above, an acidic nucleus having an active methylene group, a substituted or unsubstituted one. These can be obtained by condensation reaction with carbazole carbaldehyde, which can be synthesized with reference to JP-B-59-28329. Preferred specific examples (D1) to (D31) of the compound represented by the general formula (XIX) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In addition, the isomer due to the double bond connecting the acidic nucleus and the carbazole skeleton is not clear, and the present invention is not limited to either isomer.




































Figure 2006137876
Figure 2006137876








Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876











Figure 2006137876
Figure 2006137876







Figure 2006137876
一般式(XX)中、Rは一価の非金属原子団であり、Xは一価の非金属原子団であり、それぞれ互いに結合することができ、Yは5員環または6員環を表す。
ここで、一般式(XX)について詳しく説明する。Rはそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。この様な置換基Rの好ましい具体例としては、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、
Figure 2006137876
In general formula (XX), R is a monovalent nonmetallic atomic group, X is a monovalent nonmetallic atomic group, and can be bonded to each other, and Y represents a 5-membered ring or a 6-membered ring. .
Here, the general formula (XX) will be described in detail. Each R independently represents a monovalent nonmetallic atomic group. Preferred examples of such a substituent R include a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group. , Alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl- N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N -Arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfuryl group Xyl group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl- N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl- N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido , N'- alkyl -N'- aryl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N- di arylcarbamoyl, N- alkyl -N- arylcarbamoyl groups, alkylsulfinyl groups, arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (hereinafter Called sulfonato group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diaryls Rufinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diaryl Sulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ) , Alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl Phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonateoxy”) Group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl) )), -Alkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate Examples include a base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の好ましい例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。   Preferable examples of the alkyl group in these substituents include linear, branched and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group S-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group. it can. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。置換アルキル基の置換基は任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. The substituent of the substituted alkyl group is arbitrary, but preferred examples of the substituted alkyl group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxy. Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenyl Carbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl Chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl Group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group,

N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group , Tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonateoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methyl Benzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. be able to.

これらの置換基におけるアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。   Specific examples of the aryl group in these substituents include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、   Specific examples of the substituted aryl group include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. Preferred specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloromethylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, and a hydroxyphenyl group. , Methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxypheny Group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group,

スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (Phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group , Tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3- List butynylphenyl groups, etc. Can.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。   As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered ring such as furan, pyrrole or pyridine. Aromatic substituents can be used.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。   Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.

アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group Group, N-arylsulfa Yl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

以上述べた、Rは、感光性、感光波長、安定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択される。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止といった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮して適宜選択される。この様な観点で、特に好ましい置換基の例としては、水素原子、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、炭素数1から6の低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アリル基、2−メチルプロペニル基など)、アルキル置換アミノアルキレン基(アルキル基としては炭素数が1から6迄の直鎖状あるいは分岐状アルキル基炭素数が5から7までの環状アルキル基があげられ、アルキレン基としては炭素数1から3までのモノ−、ジ−、トリ−メチレン基がある)を挙げることができる。   R described above is selected from various practical viewpoints in addition to performance such as photosensitivity, photosensitive wavelength, and stability. For example, in terms of compatibility improvement in the composition system, prevention of crystal precipitation, when developing, solubility in a developing solution, dispersibility, difficulty in precipitation, raw material price, ease of synthesis, It is appropriately selected in consideration of economic viewpoints such as ease of purification. In this respect, examples of particularly preferable substituents include a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, Propyl group, isopropyl group, allyl group, 2-methylpropenyl group, etc.), alkyl-substituted aminoalkylene group (the alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and having 5 to 7 carbon atoms) And examples of the alkylene group include mono-, di-, and tri-methylene groups having 1 to 3 carbon atoms.

アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、置換アリール基の具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、   Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, Xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, chloromethylphenyl, trifluoromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, methoxyethoxyphenyl, allyloxyphenyl, phenoxy Phenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamo Oxy phenyl group, N- phenylcarbamoyloxy phenyl group, an acetylamino phenyl group, N- methyl-benzoylamino phenyl group,

カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl Group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphine Ionophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。置換ヘテロアリール基の例としては、一価の非金属原子団を用いることができ、具体的にはRの例としてあげたものを何れも用いる事ができる。特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フェナルザジン、フラザン等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。 As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered ring such as furan, pyrrole or pyridine. Aromatic substituents can be used. As an example of the substituted heteroaryl group, a monovalent nonmetallic atomic group can be used, and specifically, any of those exemplified as examples of R can be used. Examples of particularly preferred heteroaryl groups include, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, Indolizines, indoles, indazoles, purines, quinolidines, isoquinolines, phthalazines, naphthyridines, quinazolines, sinolines, pteridines, carbazoles, carbolines, phenanthrines, acridines, perimidines, phenanthrolins, phenalzazines, furansans, etc. It may be benzo-fused or may have a substituent.

一般式(XX)におけるXは一価の非金属原子団であり、ここで一価の非金属原子団は、上記Rで定義したものと同一である。
一般式(XX)におけるYは5員環または6員環を表す。5員環及び6員環としては、上記式(XVII)で定義した脂肪族又は芳香族の5員環または6員環が挙げられる。
X in the general formula (XX) is a monovalent nonmetallic atomic group, and the monovalent nonmetallic atomic group is the same as that defined in R above.
Y in the general formula (XX) represents a 5-membered ring or a 6-membered ring. Examples of the 5-membered ring and 6-membered ring include an aliphatic or aromatic 5-membered ring or 6-membered ring defined by the above formula (XVII).

さらに一般式(XX)は、下記一般式(2)、(3)又は(4)であってもよい。

Figure 2006137876
Further, the general formula (XX) may be the following general formula (2), (3) or (4).
Figure 2006137876

一般式(2)〜(4)中、Rは水素原子または一価の非金属原子団を表し、それぞれ互いに結合することができる。Arは芳香環またはヘテロ芳香環を表し、Aは−NR1112、−SR13または−OR14のいずれかを表す。
上記−NR1112、−SR13および−OR14は、一般式(XX)における芳香族環と窒素原子、硫黄原子または酸素原子のいずれかが直接結合しているもので、それらの原子上の原子R11〜R14は水素原子または、一価の非金属原子団を表し、その具体例としては、一般式(XX)中のRで記載したものと同様のものが挙げられる。
In general formulas (2) to (4), R represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and can be bonded to each other. Ar represents an aromatic ring or a heteroaromatic ring, and A represents any of —NR 11 R 12 , —SR 13 or —OR 14 .
-NR < 11 > R < 12 >, -SR < 13 > and -OR < 14 > are those in which any one of the aromatic ring and the nitrogen atom, sulfur atom or oxygen atom in general formula (XX) is directly bonded. Atoms R 11 to R 14 represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and specific examples thereof include those described for R in the general formula (XX).

上記一般式(3)におけるYは置換基を有してよい5員環または6員環を表す。5員環または6員環の定義は、一般式(XX)と同一である。
上記一般式(4)におけるXはNR、O、SまたはSeのいずれかを表す。
本発明の一般式(XX)並びに一般式(2)〜(4)で表される増感色素は、1)Vaz,C.J.F. et al.: Indian J.Chem.Sect.B,14, 1976, 709-711;2)Grozinger, Karl. G.:Sorcek, Ronald J.; Oliver, James T: Eur.J.Med.Chem.Chim.Ther., EN,20, 6, 1985, 487-491;3)Takahashi, Ueda: Yakugaku Zasshi, 72, 1952, 506, Chem.Abstr., 1953, 6406; 等を参照して合成することが出来る。以下に一般式(XX)並びに一般式(2)〜(4)で表される化合物の好ましい具体例(D−1)から(D−42)を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。










































Y in the general formula (3) represents a 5-membered ring or 6-membered ring which may have a substituent. The definition of a 5-membered ring or a 6-membered ring is the same as the general formula (XX).
X in the general formula (4) represents NR, O, S, or Se.
The sensitizing dyes represented by the general formula (XX) and the general formulas (2) to (4) of the present invention are 1) Vaz, CJF et al .: Indian J. Chem. Sect. B, 14, 1976, 709. -711; 2) Grozinger, Karl. G .: Sorcek, Ronald J .; Oliver, James T: Eur. J. Med. Chem. Chem. Ther., EN, 20, 6, 1985, 487-491; 3) Takahashi, Ueda: Yakugaku Zasshi, 72, 1952, 506, Chem. Abstr., 1953, 6406; Preferred specific examples (D-1) to (D-42) of the compounds represented by the general formula (XX) and the general formulas (2) to (4) are shown below, but the present invention is limited thereto. is not. Further, the isomer by the double bond connecting the acidic nucleus and the basic nucleus is not clear, and the present invention is not limited to either isomer.










































Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
一般式(XXI)中、Arは芳香環を表し、Aは−NR34、−SR5または−OR6を表し、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。ここで、一価の非金属原子団とは、一般式(XIV)のR51およびR52と同一の定義である。
-は電荷の中和に必要なカウンターイオンを表す。但し、増感色素のカチオン部がアニオン性の置換基を有する場合は必ずしも必要ではない。具体的には、Z-は、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、へキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンが挙げられ、好ましくは、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、へキサフルオロフオスフエートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
Figure 2006137876
In general formula (XXI), Ar represents an aromatic ring, A represents —NR 3 R 4 , —SR 5 or —OR 6 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent Each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group. Here, the monovalent nonmetallic atomic group has the same definition as R 51 and R 52 in the general formula (XIV).
Z represents a counter ion necessary for charge neutralization. However, it is not always necessary when the cation portion of the sensitizing dye has an anionic substituent. Specifically, Z includes a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and preferably a halogen ion Perchlorate ion, hexafluorophosphite ion, and aryl sulfonate ion.

また、一般式(XXI)は、下記一般式(2)〜(4)であることが好ましい。

Figure 2006137876
Moreover, it is preferable that general formula (XXI) is following General formula (2)-(4).
Figure 2006137876

一般式(2)について詳しく説明する。R11からR18はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。この様な置換基の好ましい具体例としては、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、 The general formula (2) will be described in detail. R 11 to R 18 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group. Preferable specific examples of such a substituent include a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, Alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N -Arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N- Arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group,

アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、 Arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido Group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′- Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'- Aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-ary Ruureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-SO3H) and its conjugate base group (hereinafter, Sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diaryls Rufinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diaryl Sulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ) , Alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl Phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonateoxy”) Group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl) )), -Alkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate Examples include a base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の好ましい例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。   Preferable examples of the alkyl group in these substituents include linear, branched and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group S-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group. it can. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。置換アルキル基の置換基は任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、 On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. The substituent of the substituted alkyl group is arbitrary, but preferred examples of the substituted alkyl group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxy. Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group,

N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、 N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyl Oxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfo) Phenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoyl group Propyl group,

N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group , Tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonateoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methyl Benzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. be able to.

これらの置換基におけるアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。   Specific examples of the aryl group in these substituents include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、   Specific examples of the substituted aryl group include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. Preferred specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloromethylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, and a hydroxyphenyl group. , Methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxypheny Group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group,

スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (Phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group , Tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3- List butynylphenyl groups, etc. Can.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。   As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered ring such as furan, pyrrole or pyridine. Aromatic substituents can be used.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。   Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.

アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group Group, N-arylsulfa Yl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

以上述べた、R11からR18は、感光性、感光波長、安定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択される。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止といった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮して適宜選択される。この様な観点で、特に好ましい置換基の例としては、水素原子、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、炭素数1から6の低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アリル基、2−メチルプロペニル基など)、アルキル置換アミノアルキレン基(アルキル基としては炭素数が1から6迄の直鎖状あるいは分岐状アルキル基炭素数が5から7までの環状アルキル基があげられ、アルキレン基としては炭素数1から3までのモノ−、ジ−、トリ−メチレン基がある)を挙げることができる。 R 11 to R 18 described above are selected from various practical viewpoints in addition to performance such as photosensitivity, photosensitive wavelength, and stability. For example, in terms of compatibility improvement in the composition system, prevention of crystal precipitation, when developing, solubility in a developing solution, dispersibility, difficulty in precipitation, raw material price, ease of synthesis, It is appropriately selected in consideration of economic viewpoints such as ease of purification. In this respect, examples of particularly preferable substituents include a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, Propyl group, isopropyl group, allyl group, 2-methylpropenyl group, etc.), alkyl-substituted aminoalkylene group (the alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and having 5 to 7 carbon atoms) And examples of the alkylene group include mono-, di-, and tri-methylene groups having 1 to 3 carbon atoms.

アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、置換アリール基の具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、   Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, Xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, chloromethylphenyl, trifluoromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, methoxyethoxyphenyl, allyloxyphenyl, phenoxy Phenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamo Oxy phenyl group, N- phenylcarbamoyloxy phenyl group, an acetylamino phenyl group, N- methyl-benzoylamino phenyl group,

カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl Group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphine Ionophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。置換ヘテロアリール基の例としては、一価の非金属原子団を用いることができ、具体的には上記一般式(2)のR11〜R18の例としてあげたものを何れも用いる事ができる。特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フェナルザジン、フラザン等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。 As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered ring such as furan, pyrrole or pyridine. Aromatic substituents can be used. As an example of the substituted heteroaryl group, a monovalent non-metallic atomic group can be used. Specifically, any of those exemplified as R 11 to R 18 in the general formula (2) can be used. it can. Examples of particularly preferred heteroaryl groups include, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, Indolizines, indoles, indazoles, purines, quinolidines, isoquinolines, phthalazines, naphthyridines, quinazolines, sinolines, pteridines, carbazoles, carbolines, phenanthrines, acridines, perimidines, phenanthrolins, phenalzazines, furansans, etc. It may be benzo-fused or may have a substituent.

次に、一般式(2)における−NR1920、−SR21および−OR22について説明する。−NR1920、−SR21および−OR22は一般式(2)におけるR11、R13およびR15のうちのいずれかに位置し、芳香族環と窒素原子、硫黄原子または酸素原子のいずれかが直接結合しているものであり、窒素原子に結合するR1920、硫黄原子に結合するR21および酸素原子に結合するR22は水素原子または一価の非金属原子団を表し、その具体例としては、一般式(2)中のR11〜R18で記載したものと同様のものが挙げられる。 Next, —NR 19 R 20 , —SR 21 and —OR 22 in the general formula (2) will be described. —NR 19 R 20 , —SR 21 and —OR 22 are located in any one of R 11 , R 13 and R 15 in the general formula (2), and are an aromatic ring and a nitrogen atom, sulfur atom or oxygen atom. One of them is directly bonded, and R 19 R 20 bonded to a nitrogen atom, R 21 bonded to a sulfur atom, and R 22 bonded to an oxygen atom represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group. Specific examples thereof include the same as those described for R 11 to R 18 in the general formula (2).

上記一般式(3)におけるYは置換基を有してよい5員環または6員環を表す。   Y in the general formula (3) represents a 5-membered ring or 6-membered ring which may have a substituent.

上記一般式(4)におけるXはNR9、O、SまたはSeのいずれかを表す。R23、R24は前記一般式(2)中のR11〜R18で記載したものと同義である。 X in the said General formula (4) represents either NR < 9 >, O, S, or Se. R 23 and R 24 have the same meanings as those described for R 11 to R 18 in the general formula (2).

本発明の一般式(XXI)及び一般式(2)〜(4)で表される増感色素は、特開20000-80297号公報、 US 98-12525 、Dyes Pigm. (1994), 24(2), 93-8.(Gadjev, N.; Deligeorgiev, T.; Kanev, I.; Tasseva, M.; Sabnis, R. )、Dyes Pigm. (1991), 17(2),153-62.等を参照して合成することが出来る。以下に一般式(XXI)及び一般式(2)〜(4)で表される化合物の好ましい具体例(D−1)から(D−40)を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。


The sensitizing dyes represented by the general formula (XXI) and general formulas (2) to (4) of the present invention are disclosed in JP-A 20000-80297, US 98-12525, Dyes Pigm. (1994), 24 (2 ), 93-8. (Gadjev, N .; Deligeorgiev, T .; Kanev, I .; Tasseva, M .; Sabnis, R.), Dyes Pigm. (1991), 17 (2), 153-62, etc. Can be synthesized with reference to. Preferred specific examples (D-1) to (D-40) of the compounds represented by general formula (XXI) and general formulas (2) to (4) are shown below, but the present invention is limited thereto. is not. Further, the isomer by the double bond connecting the acidic nucleus and the basic nucleus is not clear, and the present invention is not limited to either isomer.


Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876



















Figure 2006137876
一般式(XXII)中、Yは、独立に酸素原子または硫黄原子を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に水素原子以外の一価の非金属原子団を表し、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。
Figure 2006137876
In general formula (XXII), Y independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 1 and R 2 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group other than a hydrogen atom, R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group.

以下、一般式(XXII)について以下に詳しく説明する。
一般式(XXII)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12(以下R1〜R12と略記する場合がある)が表す一価の非金属原子団としては、好ましくは、水素原子(R1、R2を除く)、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環基、置換もしくは非置換のアルキニル基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、アシル基、およびハロゲン原子を表す。
Hereinafter, the general formula (XXII) will be described in detail below.
In general formula (XXII), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 (hereinafter referred to as R 1 to R 12 and The monovalent non-metallic atomic group represented by (which may be abbreviated) is preferably a hydrogen atom (excluding R 1 and R 2 ), a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted Or an unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, an acyl group, and a halogen Represents an atom.

1〜R12の好ましい例について具体的に述べる。
好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Preferable examples of R 1 to R 12 will be specifically described.
Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、
N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、
As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferred examples include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, Aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, Reel sulphoxide group, an acylthio group, an acylamino group, N- alkylacylamino group, N- arylacylamino group, a ureido group, N'- alkylureido group, N ', N'- dialkyl ureido group,
N'-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido Group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group Group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl -N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonyl Mino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl Group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N- An alkyl-N-arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (—SO 3 H) and a conjugate base group thereof (hereinafter referred to as a sulfonate group), an alkoxysulfonyl group, Ant Roxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-aryl Sulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N- An arylsulfamoyl group, a phosphono group (—PO 3 H 2 ) and a conjugate base group thereof (hereinafter referred to as a phosphonate group),

ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate) Group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatooxy group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono Oxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (After that, Kill phosphodiesterase referred to isocyanatomethyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphite Hona preparative group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, A heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group are mentioned.

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, and a cumenyl group. , Chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylamino Phenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group Cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl phenyl group, phosphonophenyl phenyl group and the like.

1〜R12として好ましい芳香族複素環基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、特に好ましい芳香族複素環基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等が挙げられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。 As the aromatic heterocyclic group preferable as R 1 to R 12 , a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen, and sulfur atoms is used. Examples of particularly preferable aromatic heterocyclic groups As, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoisine, indazole , Purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, cinolin, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthrolin, phthalazine, phenalazine, phenoxazine, furazane, phenoxy Jin and etc., and these are further may be benzo-fused or may have a substituent.

また、R1〜R12として好ましいアルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。 Examples of preferable alkenyl groups as R 1 to R 12 include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like. Examples of alkynyl group Examples thereof include ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups.

これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。   Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-aryl sulf Moyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

該置換基とアルキレン基を組み合わせる事により得られるR1〜R12として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of the substituted alkyl group preferable as R 1 to R 12 obtained by combining the substituent and the alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, Methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyl Oxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl Allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (Sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N -Methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, G Ruphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl Groups, cinnamyl groups, allyl groups, 1-propenylmethyl groups, 2-butenyl groups, 2-methylallyl groups, 2-methylpropenylmethyl groups, 2-propynyl groups, 2-butynyl groups, 3-butynyl groups, etc. Can do.

さらに、R1〜R12として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。 Furthermore, specific examples of preferred aryl groups as R 1 to R 12 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

1〜R12として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted aryl groups as R 1 to R 12 include those having a monovalent non-metallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carbo Cyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphono Enyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

なお、R1およびR2のより好ましい例としては、他の感光性組成物との相溶性を高める観点で置換または無置換のアルキル基が挙げられる。また、後述の活性剤化合物としてアシルホスフィン化合物を用いる場合には、感度の点でYが硫黄原子であることが好ましい。 In addition, as a more preferable example of R < 1 > and R < 2 >, a substituted or unsubstituted alkyl group is mentioned from a viewpoint of improving compatibility with another photosensitive composition. Further, when an acylphosphine compound is used as the activator compound described later, Y is preferably a sulfur atom in terms of sensitivity.

以下に一般式(XXII)で表される化合物の好ましい具体例(D1)から(D23)を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記式中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Hexはn−ヘキシル基を表す。 Preferred specific examples (D1) to (D23) of the compound represented by the general formula (XXII) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following formulae, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Hex represents an n-hexyl group.

Figure 2006137876
Figure 2006137876













Figure 2006137876
Figure 2006137876













Figure 2006137876
一般式(XXIII)中、Xは、酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Aは炭素数20以下のアリール基またはヘテロアリール基を表す。ここで、アリール基又はヘテロアリール基は置換されていてもよい。
Figure 2006137876
In general formula (XXIII), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are each independently monovalent. Represents a non-metallic atomic group, and A represents an aryl group or heteroaryl group having 20 or less carbon atoms. Here, the aryl group or heteroaryl group may be substituted.

以下、一般式(XXIII)について以下に詳しく説明する。
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8(以下R1〜R6と略記する場合がある)が表す一価の非金属原子団として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、および炭素数20以下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ヘテロアリール基、およびアルキルスルホン基が挙げられる。
Hereinafter, the general formula (XXIII) will be described in detail below.
As the monovalent non-metallic atomic group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 (hereinafter sometimes abbreviated as R 1 to R 6 ), A hydrogen atom, a halogen atom, and a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group, an acyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, a heteroaryl group, And alkylsulfone groups.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換または未置換のアルキル基としては、直鎖または分岐または環状のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル基、アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基、シアノアルキル基、アシルオキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル、スルホンアルキル基、アルキルカルボニルアミノアルキル基、アルキルスルホンアミノアルキル基、スルホンアミドアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アミノアルキル基、およびアルキルスルホンアルキル基の中から選択される。   Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups, alkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxycarbonylalkyl groups, alkoxycarbonyloxyalkyl groups, alkoxyalkoxycarbonyloxy groups. Alkyl group, hydroxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group, cyanoalkyl group, acyloxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, alkyl halide, sulfonealkyl group, alkylcarbonylaminoalkyl group , Alkylsulfonaminoalkyl group, sulfonamidoalkyl group, alkylaminoalkyl group Aminoalkyl groups, and they are selected from alkyl sulfonic alkyl group.

直鎖または分岐または環状のアルキル基としては、ポリカーボネート、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板などへの塗布による加工性を考慮すれば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、neo−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、cyclo−ペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、3−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,2,2−トリメチルブチル基、1,1,2−トリメチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、cyclo−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,5,5−トリメチルペンチル基、2,4−ジメチルヘキシル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,5−メチルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラエチルオクチル基、4−ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−トリデシル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチルヘプチル基、2,4−ジメチルヘプチル基、2,2,5,5−テトラメチルヘキシル基、1−cyclo−ペンチル−2,2−ジメチルプロピル基、1−cyclo−ヘキシル−2,2−ジメチルプロピル基などが挙げられる。   As the linear, branched or cyclic alkyl group, in consideration of processability by application to polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrates, etc., a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n- Butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group 1,1-dimethylpropyl group, cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2- Methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl Group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1, , 5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3, 5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1 -Cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group and the like can be mentioned.

アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、n−ヘキシルオキシエチル基、4−メチルペントキシエチル基、1,3−ジメチルブトキシエチル基、2−エチルヘキシルオキシエチル基、n−オクチルオキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシエチル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロポキシエチル基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルオキシエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル基、3−メトキシブチル基、3,3,3−トリフルオロプロポキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, 4-methyl. Pentoxyethyl group, 1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxy Ethyl group, 3-methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, 3,3,3 -A trichloropropoxyethyl group etc. are mentioned.

アルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、ヘキシルオキシエトキシエチル基、1,2−ジメチルプロポキシエトキシエチル基、3−メチル−1−iso−ブチルブトキシエトキシエチル基、2−メトキシ−1−メチルエトキシエチル基、2−ブトキシ−1−メチルエトキシエチル基、2−(2'−エトキシ−1'−メチルエトキシ)−1−メチルエチル基、3,3,3−トリフルオロプロポキシエトキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポキシエトキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, hexyloxyethoxyethyl group, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl group, 3-methyl-1 -Iso-butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2'-ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl Group, 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group and the like.

アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシエトキシエトキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-trichloroethoxy An ethoxyethoxyethyl group etc. are mentioned.

アルコキシカルボニルアルキル基の例としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、ブトキシカルボニルエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシカルボニルメチル基、2,2,3,3−テトラクロロプロポキシカルボニルメチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxycarbonylalkyl groups include methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylethyl, butoxycarbonylethyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxy Examples thereof include a carbonylmethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group.

アルコキシカルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxycarbonyloxyalkyl groups include methoxycarbonyloxyethyl, ethoxycarbonyloxyethyl, butoxycarbonyloxyethyl, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl, 2,2,2-trichloroethoxy Examples thereof include a carbonyloxyethyl group.

アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、エトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl groups include methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2 , 2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and the like.

ヒドロキシアルキル基の例としては、2−ヒドロキシエチル基、4−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基などが挙げられる。   Examples of the hydroxyalkyl group include 2-hydroxyethyl group, 4-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxypropyl group, Examples include 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group and the like.

ヒドロキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエチル基、2−(2'−ヒドロキ−1'−メチルエトキシ)−1−メチルエチル基、2−(3'−フルオロ−2'−ヒドロキシプロポキシ)エチル基、2−(3'−クロロ−2'−ヒドロキシプロポキシ)エチル基などが挙げられる。   Examples of hydroxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethyl group, 2- (2′-hydroxy-1′-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3′-fluoro-2′-hydroxypropoxy) ethyl. Group, 2- (3′-chloro-2′-hydroxypropoxy) ethyl group and the like.

ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、[2'−(2'−ヒドロキ−1'−メチルエトキシ)−1'−メチルエトキシ]エトキシエチル基、[2'−(2'−フルオロ−1'−ヒドロキシエトキシ)−1'−メチルエトキシ]エトキシエチル基、[2'−(2'−クロロ−1'−ヒドロキシエトキシ)−1'−メチルエトキシ]エトキシエチル基などが挙げられる。   Examples of hydroxyalkoxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 ′-(2′-hydroxy-1′-methylethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 ′-(2 ′). -Fluoro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2'-chloro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, and the like. .

シアノアルキル基の例としては、2−シアノエチル基、4−シアノブチル基、2−シアノ−3−メトキシプロピル基、2−シアノ−3−クロロプロピル基、2−シアノ−3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−シアノプロピル基、2−シアノ−3−フェノキシプロピル基、2−シアノプロピル基、2−シアノブチル基などが挙げられる。   Examples of the cyanoalkyl group include 2-cyanoethyl group, 4-cyanobutyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-3-ethoxypropyl group, 3- Examples include butoxy-2-cyanopropyl group, 2-cyano-3-phenoxypropyl group, 2-cyanopropyl group, and 2-cyanobutyl group.

アシルオキシアルキル基の例としては、アセトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、ブチリルオキシエチル基、バレリルオキシエチル基、1−エチルペンチルカルボニルオキシエチル基、2,4,4−トリメチルペンチルカルボニルオキシエチル基、3−フルオロブチリルオキシエチル基、3−クロロブチリルオキシエチル基などが挙げられる。   Examples of the acyloxyalkyl group include an acetoxyethyl group, a propionyloxyethyl group, a butyryloxyethyl group, a valeryloxyethyl group, a 1-ethylpentylcarbonyloxyethyl group, and a 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethyl group. , 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group and the like.

アシルオキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエチル基、1−エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、2,4,4−トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、2−フルオロプロピオニルオキシエトキシエチル基、2−クロロプロピオニルオキシエトキシエチル基などが挙げられる。   Examples of the acyloxyalkoxyalkyl group include acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group , 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group, and the like.

アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエトキシエチル基、1−エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2,4,4−トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2−フルオロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、2−クロロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基などが挙げられる。   Examples of acyloxyalkoxyalkoxyalkyl groups include acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentyl Examples include carbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, and 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group.

ハロゲン化アルキル基の例としては、クロロメチル基、クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、トリフルオロメチル基、ブロムメチル基、ヨウ化メチル基などが挙げられる。   Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a trifluoromethyl group, a bromomethyl group, and a methyl iodide group.

スルホンアルキル基の例としては、スルホンメチル基、スルホンエチル基、スルホンプロピル基などが挙げられる。   Examples of the sulfonealkyl group include a sulfonemethyl group, a sulfoneethyl group, and a sulfonepropyl group.

アルキルカルボニルアミノアルキル基の例としては、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、プロピルカルボニルアミノエチル基、シクロヘキシルカルボニルアミノエチル基、スクシンイミノエチル基などが挙げられる。   Examples of the alkylcarbonylaminoalkyl group include a methylcarbonylaminoethyl group, an ethylcarbonylaminoethyl group, a propylcarbonylaminoethyl group, a cyclohexylcarbonylaminoethyl group, a succiniminoethyl group, and the like.

アルキルスルホンアミノアルキル基の例としては、メチルスルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル基、プロピルスルホンアミノエチル基などが挙げられる。   Examples of the alkylsulfonaminoalkyl group include methylsulfonaminoethyl group, ethylsulfonaminoethyl group, propylsulfonaminoethyl group and the like.

スルホンアミドアルキル基の例としては、スルホンアミドメチル基、スルホンアミドエチル基、スルホンアミドプロピル基などが挙げられる。   Examples of the sulfonamidoalkyl group include a sulfonamidomethyl group, a sulfonamidoethyl group, and a sulfonamidopropyl group.

アルキルアミノアルキル基の例としては、N−メチルアミノメチル基、N,N−ジメチルアミノメチル基、N,N−ジエチルアミノメチル基、N,N−ジプロピルアミノメチル基、N,N−ジブチルアミノメチル基などが挙げられる。   Examples of alkylaminoalkyl groups include N-methylaminomethyl, N, N-dimethylaminomethyl, N, N-diethylaminomethyl, N, N-dipropylaminomethyl, N, N-dibutylaminomethyl. Groups and the like.

アミノアルキル基の例としては、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基などが挙げられる。   Examples of the aminoalkyl group include an aminomethyl group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, and the like.

アルキルスルホンアルキル基の例としては、メチルスルホンメチル基、エチルスルホン
メチル基、ブチルスルホンメチル基、メチルスルホンエチル基、エチルスルホンエチル基、ブチルスルホンエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルスルホンメチル基、2,2,3,3−テトラクロロプロピルスルホンメチル基などが挙げられる。
Examples of alkyl sulfone alkyl groups include methyl sulfone methyl group, ethyl sulfone methyl group, butyl sulfone methyl group, methyl sulfone ethyl group, ethyl sulfone ethyl group, butyl sulfone ethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Examples thereof include a sulfonemethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonemethyl group.

置換または未置換のアルコキシ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ基、neo−ペントキシ基、2−メチルブトキシ基などの低級アルコキシ基が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group include an alkoxy group having the same substituent as the alkyl group listed above, and preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, n Examples include lower butoxy groups such as -butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, and 2-methylbutoxy group.

置換または未置換のアシル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアシル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、iso−ペンチルカルボニル基、neo−ペンチルカルボニル基、2−メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカルボニル基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted acyl group include an acyl group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably a formyl group, a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2- Examples thereof include a methylbutylcarbonyl group and a nitrobenzylcarbonyl group.

置換または未置換のアリール基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアリール基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aryl group are aryl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and preferably a phenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a hydroxyphenyl group, a methylphenyl group. Group, trifluoromethylphenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group and the like.

置換または未置換のアラルキル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group are aralkyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, preferably benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group. Group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group and the like.

置換または未置換のアルケニル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルケニル基であり、好ましくは、プロペニル基、1−ブテニル基、iso−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、2−メチル−1−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、2−メチル−2−ブテニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニル基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニル基などの低級アルケニル基が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl group are alkenyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and are preferably a propenyl group, a 1-butenyl group, an iso-butenyl group, and a 1-pentenyl group. 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methylcarboxyl vinyl And lower alkenyl groups such as 2-cyano-2-methylsulfonvinyl group.

置換または未置換のアルキルチオ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、メチルカルボキシルエチルチオ基などの低級アルキルチオ基が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group include an alkylthio group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an iso-propylthio group, n Lower alkylthio such as -butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neo-pentylthio group, 2-methylbutylthio group, methylcarboxylethylthio group Groups.

置換または未置換のアリールオキシ基の例としては、上記に挙げたアリール基と同様な置換基を有するアリールオキシ基であり、好ましくは、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、2−メトキシフェノキシ基、4−iso−プロピルフェノキシ基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group are aryloxy groups having the same substituents as the aryl groups listed above, preferably a phenoxy group, a 2-methylphenoxy group, a 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group and the like can be mentioned.

置換または未置換のアリールチオ基の例としては、上記に挙げたアリール基と同様な置換基を有するアリールチオ基であり、好ましくは、フェニルチオ基、4−メチルフェニルチオ基、2−メトキシフェニルチオ基、4−t−ブチルフェニルチオ基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted arylthio group are arylthio groups having the same substituents as the above-mentioned aryl groups, preferably a phenylthio group, a 4-methylphenylthio group, a 2-methoxyphenylthio group, 4-t-butylphenylthio group etc. are mentioned.

置換または未置換のヘテロアリール基の例としては、ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基などを挙げることができる。   Examples of substituted or unsubstituted heteroaryl groups include pyrrolyl, thienyl, furanyl, oxazoyl, isoxazoyl, oxadiazoyl, imidazolyl, benzoxazoyl, benzothiazoyl, benzoimidazolyl, benzofuranyl Group, indoyl group and the like.

置換または未置換のアルキルスルホン基の例としては、上記にあげたアルキル基と同様な置換基を有するアルキルスルホン基であり、好ましくは、メチルスルホン基、エチルスルホン基、n−プロピルスルホン基、iso−プロピルスルホン基、n−ブチルスルホン基、iso−ブチルスルホン基、sec−ブチルスルホン基、t−ブチルスルホン基、n−ペンチルスルホン基、iso−ブチルスルホン基、neo−ペンチルスルホン基、2−メチルブチルスルホン基、2−ヒドロキシエチルスルホン基、2−シアノエチルスルホン基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfone group are alkylsulfone groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably methylsulfone group, ethylsulfone group, n-propylsulfone group, iso -Propylsulfone group, n-butylsulfone group, iso-butylsulfone group, sec-butylsulfone group, t-butylsulfone group, n-pentylsulfone group, iso-butylsulfone group, neo-pentylsulfone group, 2-methyl A butyl sulfone group, 2-hydroxyethyl sulfone group, 2-cyanoethyl sulfone group, etc. are mentioned.

Aの好ましい具体例としては、R1〜R8の具体例として挙げた置換または未置換のアリール基、置換または未置換のヘテロアリール基等が挙げられる。なお、Aは、後述の一般式(XXIV)で表される化合物と同一にならないように選択される。 Preferable specific examples of A include substituted or unsubstituted aryl groups, substituted or unsubstituted heteroaryl groups and the like mentioned as specific examples of R 1 to R 8 . A is selected so as not to be the same as the compound represented by the following general formula (XXIV).

なお、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8のより好ましい例としては、他の感光性組成物との相溶性を高める観点で置換または無置換のアルキル基が挙げられる。また、後述の活性剤化合物としてアシルホスフィン化合物を用いる場合には、感度の点でXが硫黄原子であることが好ましい。また、Aはアミノ基を有するアリール基がより好ましい。 More preferable examples of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are substituted or unsubstituted from the viewpoint of enhancing compatibility with other photosensitive compositions. Of the alkyl group. Further, when an acylphosphine compound is used as an activator compound described later, X is preferably a sulfur atom in terms of sensitivity. A is more preferably an aryl group having an amino group.

本発明の一般式(XXIII)で示される化合物は、公知の方法、例えば、J.Am.Chem.Soc.63,3203(1941)などの記載に準じて容易に製造することができる。すなわち、下記一般式(2)に表される化合物と、下記一般式(3)に表される化合物とを塩酸等を触媒として反応させることで製造できる。
The compound represented by the general formula (XXIII) of the present invention can be obtained by a known method, for example, J. Org. Am. Chem. Soc. 63, 3203 (1941) and the like. That is, it can be produced by reacting a compound represented by the following general formula (2) with a compound represented by the following general formula (3) using hydrochloric acid or the like as a catalyst.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(式(2)、(3)中、R1〜R8、XおよびAは一般式(XXIII)の定義と同じ意味を示す。)
以下に一般式(XXIII)で表される化合物の好ましい具体例(D1)から(D21)を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。




























(In formulas (2) and (3), R 1 to R 8 , X and A have the same meaning as defined in general formula (XXIII).)
Preferred specific examples (D1) to (D21) of the compound represented by the general formula (XXIII) are shown below, but the present invention is not limited thereto.




























Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

一般式(XXIV)中、Xは、酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。 In general formula (XXIV), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a monovalent non-valent group. Represents a metal atomic group.

一般式(XXIV)について以下に詳しく説明する。
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8(以下R1〜R6と略記する場合がある)が表す一価の非金属原子団として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、および炭素数20以下の置換または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、ヘテロアリール基、およびアルキルスルホン基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
General formula (XXIV) will be described in detail below.
As the monovalent non-metallic atomic group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 (hereinafter sometimes abbreviated as R 1 to R 6 ), A hydrogen atom, a halogen atom, and a substituted or unsubstituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group, an acyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkylthio group, an aryloxy group, an arylthio group, a heteroaryl group, And alkylsulfone groups.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換または未置換のアルキル基としては、直鎖または分岐または環状のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキル基、アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基、シアノアルキル基、アシルオキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルキル基、アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル、スルホンアルキル基、アルキルカルボニルアミノアルキル基、アルキルスルホンアミノアルキル基、スルホンアミドアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アミノアルキル基、およびアルキルスルホンアルキル基の中から選択される。   Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups, alkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups, alkoxycarbonylalkyl groups, alkoxycarbonyloxyalkyl groups, alkoxyalkoxycarbonyloxy groups. Alkyl group, hydroxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkoxyalkyl group, cyanoalkyl group, acyloxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkyl group, acyloxyalkoxyalkoxyalkyl group, alkyl halide, sulfonealkyl group, alkylcarbonylaminoalkyl group , Alkylsulfonaminoalkyl group, sulfonamidoalkyl group, alkylaminoalkyl group Aminoalkyl groups, and they are selected from alkyl sulfonic alkyl group.

直鎖または分岐または環状のアルキル基としては、ポリカーボネート、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板などへの塗布による加工性を考慮すれば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、neo−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、cyclo−ペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、3−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,2,2−トリメチルブチル基、1,1,2−トリメチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、cyclo−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル基、2−エチルヘ
キシル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,5,5−トリメチルペンチル基、2,4−ジメチルヘキシル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,5−メチルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラエチルオクチル基、4−ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−トリデシル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチルヘプチル基、2,4−ジメチルヘプチル基、2,2,5,5−テトラメチルヘキシル基、1−cyclo−ペンチル−2,2−ジメチルプロピル基、1−cyclo−ヘキシル−2,2−ジメチルプロピル基などが挙げられる。
As the linear, branched or cyclic alkyl group, in consideration of processability by application to a polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrate or the like, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n- Butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group 1,1-dimethylpropyl group, cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2- Methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl Group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1, , 5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3, 5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1 -Cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group and the like can be mentioned.

アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、n−ヘキシルオキシエチル基、4−メチルペントキシエチル基、1,3−ジメチルブトキシエチル基、2−エチルヘキシルオキシエチル基、n−オクチルオキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシエチル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロポキシエチル基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルオキシエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル基、3−メトキシブチル基、3,3,3−トリフルオロプロポキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, 4-methyl. Pentoxyethyl group, 1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxy Ethyl group, 3-methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, 3,3,3 -A trichloropropoxyethyl group etc. are mentioned.

アルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、ヘキシルオキシエトキシエチル基、1,2−ジメチルプロポキシエトキシエチル基、3−メチル−1−iso−ブチルブトキシエトキシエチル基、2−メトキシ−1−メチルエトキシエチル基、2−ブトキシ−1−メチルエトキシエチル基、2−(2'−エトキシ−1'−メチルエトキシ)−1−メチルエチル基、3,3,3−トリフルオロプロポキシエトキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポキシエトキシエチル基などが挙げられる。   Examples of alkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, hexyloxyethoxyethyl group, 1,2-dimethylpropoxyethoxyethyl group, 3-methyl-1 -Iso-butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2'-ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl Group, 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group and the like.

アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシエトキシエトキシエチル基などが挙げられる。
アルコキシカルボニルアルキル基の例としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、ブトキシカルボニルエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシカルボニルメチル基、2,2,3,3−テトラクロロプロポキシカルボニルメチル基などが挙げられる。
Examples of alkoxyalkoxyalkoxyalkyl groups include methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-trichloroethoxy An ethoxyethoxyethyl group etc. are mentioned.
Examples of alkoxycarbonylalkyl groups include methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylethyl, butoxycarbonylethyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxy Examples thereof include a carbonylmethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group.

アルコキシカルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
アルコキシアルコキシカルボニルオキシアルキル基の例としては、メトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、エトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリフルオロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシエトキシカルボニルオキシエチル基などが挙げられる。
Examples of alkoxycarbonyloxyalkyl groups include methoxycarbonyloxyethyl, ethoxycarbonyloxyethyl, butoxycarbonyloxyethyl, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl, 2,2,2-trichloroethoxy Examples thereof include a carbonyloxyethyl group.
Examples of the alkoxyalkoxycarbonyloxyalkyl group include methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, 2,2 , 2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and the like.

ヒドロキシアルキル基の例としては、2−ヒドロキシエチル基、4−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基などが挙げられる。
ヒドロキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエチル基、2−(2'−ヒドロキ−1'−メチルエトキシ)−1−メチルエチル基、2−(3'−フルオロ−2'−ヒドロキシプロポキシ)エチル基、2−(3'−クロロ−2'−ヒドロキシプロポキシ)エチル基などが挙げられる。
Examples of the hydroxyalkyl group include 2-hydroxyethyl group, 4-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxypropyl group, Examples include 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group and the like.
Examples of hydroxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethyl, 2- (2′-hydroxy-1′-methylethoxy) -1-methylethyl, 2- (3′-fluoro-2′-hydroxypropoxy) ethyl Group, 2- (3′-chloro-2′-hydroxypropoxy) ethyl group and the like.

ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、[2'−(2'−ヒドロキ−1'−メチルエトキシ)−1'−メチルエトキシ]エトキシエチル基、[2'−(2'−フルオロ−1'−ヒドロキシエトキシ)−1'−メチルエトキシ]エトキシエチル基、[2'−(2'−クロロ−1'−ヒドロキシエトキシ)−1'−メチルエトキシ]エトキシエチル基などが挙げられる。
シアノアルキル基の例としては、2−シアノエチル基、4−シアノブチル基、2−シアノ−3−メトキシプロピル基、2−シアノ−3−クロロプロピル基、2−シアノ−3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−シアノプロピル基、2−シアノ−3−フェノキシプロピル基、2−シアノプロピル基、2−シアノブチル基などが挙げられる。
Examples of hydroxyalkoxyalkoxyalkyl groups include hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 ′-(2′-hydroxy-1′-methylethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 ′-(2 ′). -Fluoro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 '-(2'-chloro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, and the like. .
Examples of the cyanoalkyl group include 2-cyanoethyl group, 4-cyanobutyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-3-ethoxypropyl group, 3- Examples include butoxy-2-cyanopropyl group, 2-cyano-3-phenoxypropyl group, 2-cyanopropyl group, and 2-cyanobutyl group.

アシルオキシアルキル基の例としては、アセトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル基、ブチリルオキシエチル基、バレリルオキシエチル基、1−エチルペンチルカルボニルオキシエチル基、2,4,4−トリメチルペンチルカルボニルオキシエチル基、3−フルオロブチリルオキシエチル基、3−クロロブチリルオキシエチル基などが挙げられる。
アシルオキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエチル基、1−エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、2,4,4−トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、2−フルオロプロピオニルオキシエトキシエチル基、2−クロロプロピオニルオキシエトキシエチル基などが挙げられる。
Examples of the acyloxyalkyl group include an acetoxyethyl group, a propionyloxyethyl group, a butyryloxyethyl group, a valeryloxyethyl group, a 1-ethylpentylcarbonyloxyethyl group, and a 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethyl group. , 3-fluorobutyryloxyethyl group, 3-chlorobutyryloxyethyl group, and the like.
Examples of acyloxyalkoxyalkyl groups include acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentylcarbonyloxyethoxyethyl group , 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group, and the like.

アシルオキシアルコキシアルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエトキシエチル基、1−エチルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2,4,4−トリメチルペンチルカルボニルオキシエトキシエトキシエチル基、2−フルオロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、2−クロロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキル基の例としては、クロロメチル基、クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、トリフルオロメチル基、ブロムメチル基、ヨウ化メチル基などが挙げられる。
Examples of acyloxyalkoxyalkoxyalkyl groups include acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethoxyethyl group, 1-ethylpentylcarbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2,4,4-trimethylpentyl. Examples include carbonyloxyethoxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group, and the like.
Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a trifluoromethyl group, a bromomethyl group, and a methyl iodide group.

スルホンアルキル基の例としては、スルホンメチル基、スルホンエチル基、スルホンプロピル基などが挙げられる。
アルキルカルボニルアミノアルキル基の例としては、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、プロピルカルボニルアミノエチル基、シクロヘキシルカルボニルアミノエチル基、スクシンイミノエチル基などが挙げられる。
アルキルスルホンアミノアルキル基の例としては、メチルスルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル基、プロピルスルホンアミノエチル基などが挙げられる。
スルホンアミドアルキル基の例としては、スルホンアミドメチル基、スルホンアミドエチル基、スルホンアミドプロピル基などが挙げられる。
Examples of the sulfonealkyl group include a sulfonemethyl group, a sulfoneethyl group, and a sulfonepropyl group.
Examples of the alkylcarbonylaminoalkyl group include a methylcarbonylaminoethyl group, an ethylcarbonylaminoethyl group, a propylcarbonylaminoethyl group, a cyclohexylcarbonylaminoethyl group, a succiniminoethyl group, and the like.
Examples of the alkylsulfonaminoalkyl group include a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, and the like.
Examples of the sulfonamidoalkyl group include a sulfonamidomethyl group, a sulfonamidoethyl group, and a sulfonamidopropyl group.

アルキルアミノアルキル基の例としては、N−メチルアミノメチル基、N,N−ジメチルアミノメチル基、N,N−ジエチルアミノメチル基、N,N−ジプロピルアミノメチル基、N,N−ジブチルアミノメチル基などが挙げられる。
アミノアルキル基の例としては、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基などが挙げられる。
アルキルスルホンアルキル基の例としては、メチルスルホンメチル基、エチルスルホンメチル基、ブチルスルホンメチル基、メチルスルホンエチル基、エチルスルホンエチル基、ブチルスルホンエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルスルホンメチル基、2,2,3,3−テトラクロロプロピルスルホンメチル基などが挙げられる。
置換または未置換のアルコキシ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ基、neo−ペントキシ基、2−メチルブトキシ基などの低級アルコキシ基が挙げられる。
Examples of alkylaminoalkyl groups include N-methylaminomethyl, N, N-dimethylaminomethyl, N, N-diethylaminomethyl, N, N-dipropylaminomethyl, N, N-dibutylaminomethyl. Groups and the like.
Examples of the aminoalkyl group include an aminomethyl group, an aminoethyl group, and an aminopropyl group.
Examples of alkyl sulfone alkyl groups include methyl sulfone methyl group, ethyl sulfone methyl group, butyl sulfone methyl group, methyl sulfone ethyl group, ethyl sulfone ethyl group, butyl sulfone ethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Examples thereof include a sulfonemethyl group and a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonemethyl group.
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group include an alkoxy group having the same substituent as the alkyl group listed above, and preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, n Examples include lower butoxy groups such as -butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group, and 2-methylbutoxy group.

置換または未置換のアシル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアシル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、iso−ペンチルカルボニル基、neo−ペンチルカルボニル基、2−メチルブチルカルボニル基、ニトロベンジルカルボニル基などが挙げられる。
置換または未置換のアリール基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアリール基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted acyl group are acyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, preferably a formyl group, a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2- Examples thereof include a methylbutylcarbonyl group and a nitrobenzylcarbonyl group.
Examples of the substituted or unsubstituted aryl group are aryl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and preferably a phenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a hydroxyphenyl group, a methylphenyl group. Group, trifluoromethylphenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group and the like.

置換または未置換のアラルキル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基などが挙げられる。
置換または未置換のアルケニル基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルケニル基であり、好ましくは、プロペニル基、1−ブテニル基、iso−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、2−メチル−1−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、2−メチル−2−ブテニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニル基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニル基などの低級アルケニル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group are aralkyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, preferably benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl Group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group and the like.
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl group are alkenyl groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and are preferably a propenyl group, a 1-butenyl group, an iso-butenyl group, and a 1-pentenyl group. 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methylcarboxyl vinyl And lower alkenyl groups such as 2-cyano-2-methylsulfonvinyl group.

置換または未置換のアルキルチオ基の例としては、上記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、メチルカルボキシルエチルチオ基などの低級アルキルチオ基が挙げられる。
置換または未置換のアリールオキシ基の例としては、上記に挙げたアリール基と同様な置換基を有するアリールオキシ基であり、好ましくは、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、2−メトキシフェノキシ基、4−iso−プロピルフェノキシ基などが挙げられる。
置換または未置換のアリールチオ基の例としては、上記に挙げたアリール基と同様な置換基を有するアリールチオ基であり、好ましくは、フェニルチオ基、4−メチルフェニルチオ基、2−メトキシフェニルチオ基、4−t−ブチルフェニルチオ基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group are alkylthio groups having the same substituents as the alkyl groups listed above, and preferably a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an iso-propylthio group, n Lower alkylthio such as -butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neo-pentylthio group, 2-methylbutylthio group, methylcarboxylethylthio group Groups.
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group are aryloxy groups having the same substituents as the aryl groups listed above, preferably a phenoxy group, a 2-methylphenoxy group, a 4-methylphenoxy group, Examples include 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group.
Examples of the substituted or unsubstituted arylthio group are arylthio groups having the same substituents as the above-mentioned aryl groups, preferably a phenylthio group, a 4-methylphenylthio group, a 2-methoxyphenylthio group, 4-t-butylphenylthio group etc. are mentioned.

置換または未置換のヘテロアリール基の例としては、ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基などを挙げることができる。   Examples of substituted or unsubstituted heteroaryl groups include pyrrolyl, thienyl, furanyl, oxazoyl, isoxazoyl, oxadiazoyl, imidazolyl, benzoxazoyl, benzothiazoyl, benzoimidazolyl, benzofuranyl Group, indoyl group and the like.

置換または未置換のアルキルスルホン基の例としては、上記にあげたアルキル基と同様な置換基を有するアルキルスルホン基であり、好ましくは、メチルスルホン基、エチルスルホン基、n−プロピルスルホン基、iso−プロピルスルホン基、n−ブチルスルホン基、iso−ブチルスルホン基、sec−ブチルスルホン基、t−ブチルスルホン基、n−ペンチルスルホン基、iso−ブチルスルホン基、neo−ペンチルスルホン基、2−メチルブチルスルホン基、2−ヒドロキシエチルスルホン基、2−シアノエチルスルホン基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfone group are alkylsulfone groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably methylsulfone group, ethylsulfone group, n-propylsulfone group, iso -Propylsulfone group, n-butylsulfone group, iso-butylsulfone group, sec-butylsulfone group, t-butylsulfone group, n-pentylsulfone group, iso-butylsulfone group, neo-pentylsulfone group, 2-methyl A butyl sulfone group, 2-hydroxyethyl sulfone group, 2-cyanoethyl sulfone group, etc. are mentioned.

なお、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8のより好ましい例としては、他の感光性組成物との相溶性を高める観点で置換または無置換のアルキル基が挙げられる。また、後述の活性剤化合物としてアシルホスフィン化合物を用いる場合には、感度の点でXが硫黄原子であることが好ましい。 More preferable examples of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are substituted or unsubstituted from the viewpoint of enhancing compatibility with other photosensitive compositions. Of the alkyl group. Further, when an acylphosphine compound is used as an activator compound described later, X is preferably a sulfur atom in terms of sensitivity.

本発明の一般式(XXIV)で示される化合物は、公知の方法、例えば、J.Am.Chem.Soc.63,3203(1941)などの記載に準じて容易に製造することができる。すなわち、一般式(XXIV-1)に表される化合物と、一般式(XXIV-2)に表される化合物を塩酸等を触媒として反応させることで製造できる。   The compound represented by the general formula (XXIV) of the present invention can be obtained by a known method, for example, J. Org. Am. Chem. Soc. 63, 3203 (1941) and the like. That is, it can be produced by reacting a compound represented by the general formula (XXIV-1) with a compound represented by the general formula (XXIV-2) using hydrochloric acid or the like as a catalyst.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(式(XXIV-1)、(XXIV-2)中、R1〜R8、X1、X2は一般式(XXIV)の定義と同じ意味を示す。)
以下に一般式(XXIV)で表される化合物の好ましい具体例(D1)から(D19)を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記式中、Hexとはn−ヘキシル基を意味する。








(In the formulas (XXIV-1) and (XXIV-2), R 1 to R 8 , X 1 and X 2 have the same meaning as defined in the general formula (XXIV).)
Preferred specific examples (D1) to (D19) of the compound represented by the general formula (XXIV) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following formula, Hex means an n-hexyl group.








Figure 2006137876
Figure 2006137876






Figure 2006137876
一般式(XXV)中、X1〜X5はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Zはアリール基、またはヘテロアリール基を表す。
Figure 2006137876
In the general formula (XXV), X 1 to X 5 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group, and Z represents an aryl group or a heteroaryl group.

以下、一般式(XXV)について詳しく説明する。X1からX5はそれぞれ独立に一価の非金属原子団をあらわす。この様な置換基の好ましい具体例としては、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、 Hereinafter, the general formula (XXV) will be described in detail. X 1 to X 5 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group. Preferable specific examples of such a substituent include a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, Alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N -Arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N- Arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group,

アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、 Arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido Group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′- Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'- Aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-ary Ruureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group,

アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、 Alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ) , Alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl Phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonateoxy”) Group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl) )), -Alkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugate Examples include a base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group), a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の好ましい例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。   Preferable examples of the alkyl group in these substituents include linear, branched and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group S-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group. it can. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。置換アルキル基の置換基は任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. The substituent of the substituted alkyl group is arbitrary, but preferred examples of the substituted alkyl group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxy. Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenyl Carbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl Chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl Group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group,

N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group , Tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonateoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methyl Benzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. be able to.

これらの置換基におけるアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。   Specific examples of the aryl group in these substituents include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、   Specific examples of the substituted aryl group include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. Preferred specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloromethylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, and a hydroxyphenyl group. , Methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxypheny Group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group,

スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (Phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group , Tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3- List butynylphenyl groups, etc. Can.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。   As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered ring such as furan, pyrrole or pyridine. Aromatic substituents can be used.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。   Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.

アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group Group, N-arylsulfa Yl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

以上述べた、X1からX5は、感光性、感光波長、安定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択される。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止といった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮して適宜選択される。この様な観点で、特に好ましい置換基の例としては、水素原子、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、炭素数1から6の低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アリル基、2−メチルプロペニル基など)、アルキル置換アミノアルキレン基(アルキル基としては炭素数が1から6迄の直鎖状あるいは分岐状アルキル基炭素数が5から7までの環状アルキル基があげられ、アルキレン基としては炭素数1から3までのモノ−、ジ−、トリ−メチレン基がある)をあげることができる。 X 1 to X 5 described above are selected from various practical viewpoints in addition to performance such as photosensitivity, photosensitive wavelength, and stability. For example, in terms of compatibility improvement in the composition system, prevention of crystal precipitation, when developing, solubility in a developing solution, dispersibility, difficulty in precipitation, raw material price, ease of synthesis, It is appropriately selected in consideration of economic viewpoints such as ease of purification. In this respect, examples of particularly preferable substituents include a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (methyl group, ethyl group, Propyl group, isopropyl group, allyl group, 2-methylpropenyl group, etc.), alkyl-substituted aminoalkylene group (the alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and having 5 to 7 carbon atoms) And examples of the alkylene group include mono-, di-, and tri-methylene groups having 1 to 3 carbon atoms.

次に、一般式(XXV)中のZについて説明する。Zは置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基をあらわす。アリール基としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを用いることができる。置換アリール基の置換基としては1価の非金属原子団を用いることができ、具体的にはX1からX5の例としてあげたものを何れも用いる事ができる。 Next, Z in the general formula (XXV) will be described. Z represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heteroaryl group. As the aryl group, one in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, or one in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring can be used. As the substituent of the substituted aryl group, a monovalent non-metallic atomic group can be used, and specifically, any of those exemplified as examples of X 1 to X 5 can be used.

Zとして特に好ましいアリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、置換アリール基の具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、   Specific examples of particularly preferred aryl groups as Z include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group. , Tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxy Phenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-silane Rohe alkoxy carbamoyl oxyphenyl group, N- phenylcarbamoyloxy phenyl group, an acetylamino phenyl group, N- methyl-benzoylamino phenyl group,

カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl Group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphine Ionophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2- Examples thereof include a methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, and a 3-butynylphenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン、等の5員、または6員環芳香族置換基が使用できる。置換ヘテロアリール基の例としては、一価の非金属原子団を用いることができ、具体的にはX1からX5の例としてあげたものを何れも用いる事ができる。特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フェナルザジン、フラザン等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。   As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered ring such as furan, pyrrole or pyridine. Aromatic substituents can be used. As an example of the substituted heteroaryl group, a monovalent non-metallic atomic group can be used, and specifically, any of those exemplified as examples of X1 to X5 can be used. Examples of particularly preferred heteroaryl groups include, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, Indolizines, indoles, indazoles, purines, quinolidines, isoquinolines, phthalazines, naphthyridines, quinazolines, sinolines, pteridines, carbazoles, carbolines, phenanthrines, acridines, perimidines, phenanthrolins, phenalzazines, furansans, etc. It may be benzo-fused or may have a substituent.

以上述べた、Zは、感光性、感光波長、安定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択される。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止といった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮して適宜選択される。後述する一般的合成法によれば、Zは対応するZ−COOHなるカルボン酸誘導体に起因するので、比較的安価なZCOOHを用いる事が経済的に有利である。   Z described above is selected from various practical viewpoints in addition to performance such as photosensitivity, photosensitive wavelength, and stability. For example, in terms of compatibility improvement in the composition system, prevention of crystal precipitation, when developing, solubility in a developing solution, dispersibility, difficulty in precipitation, raw material price, ease of synthesis, It is appropriately selected in consideration of economic viewpoints such as ease of purification. According to the general synthesis method described later, since Z is caused by the corresponding carboxylic acid derivative Z-COOH, it is economically advantageous to use relatively inexpensive ZCOOH.

この様な観点からはZCOOHとしてフェニル核置換安息香酸類や、核置換ナフトエ酸類が好適である。具体的には、安息香酸、o−トルイル酸、m−トルイル酸、p−エチル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p-ブチル安息香酸、p−tert−ブチル安息香酸、3,4−ジメチル安息香酸、3,5−ジメチル安息香酸、o−アニス酸、m−アニス酸、p−アニス酸、3,4−ジメトキシ安息香酸(バラトルム酸)、2,3−ジメトキシ安息香酸(o−ベラトルム酸)、o−エトキシ安息香酸、3−メトキシ−4−メチル安息香酸、p−エトキシ安息香酸、p−プロポキシ安息香酸、o−ブロム安息香酸、p−ブロム安息香酸、o−クロル安息香酸、m−クロル安息香酸、p−フルオロ安息香酸、3,4−ジクロル安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、m−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ−3−メトキシ安息香酸、o−ビフェニルカルボン酸、4−ビフェニルカルボン酸、o−ベンゾイル安息香酸、p−アセトアミド安息香酸、m−ジメチルアミノ安息香酸、p−メチルアミノ安息香酸、m−シアノ安息香酸、等の安息香酸類や、ナフトエ酸、2−クロル−1−ナフトエ酸、5−クロル−1−ナフトエ酸、8−クロル−1−ナフトエ酸、4−フルオロ−1−ナフトエ酸、4−ブロム−1−ナフトエ酸、5−ヨード−1−ナフトエ酸、5,8−ジクロル−1−ナフトエ酸、1−クロル−2−ナフトエ酸、3−クロル−2−ナフトエ酸、5−クロル−2−ナフトエ酸、4,5−ジクロル−2−ナフトエ酸、1−ブロム−2−ナフトエ酸、4,5−ジクロル−2−ナフトエ酸、1−ブロム−2−ナフトエ酸、2−メチル−1−ナフトエ酸、8−メチル−2−ナフトエ酸等が挙げられる。また、本発明のナフトフラノン化合物は、Zの構造を選択することで、容易に感光波長を制御できる。例えば、500nm付近迄の長波領域で高感度な開始系を得る目的に対しては、特公昭61−55513号記載に記載される様に、ZCOOHとして、4−ジアルキルアミノ安息香酸類を用いる事により達成できる。   From this point of view, phenyl nucleus-substituted benzoic acids and nucleus-substituted naphthoic acids are preferred as ZCOOH. Specifically, benzoic acid, o-toluic acid, m-toluic acid, p-ethylbenzoic acid, p-isopropylbenzoic acid, p-butylbenzoic acid, p-tert-butylbenzoic acid, 3,4-dimethylbenzoic acid Acid, 3,5-dimethylbenzoic acid, o-anisic acid, m-anisic acid, p-anisic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid (baratrmic acid), 2,3-dimethoxybenzoic acid (o-veratormic acid) , O-ethoxybenzoic acid, 3-methoxy-4-methylbenzoic acid, p-ethoxybenzoic acid, p-propoxybenzoic acid, o-bromobenzoic acid, p-bromobenzoic acid, o-chlorobenzoic acid, m-chloro Benzoic acid, p-fluorobenzoic acid, 3,4-dichlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, m-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxy-3-methoxybenzoic acid Benzoic acid such as perfume acid, o-biphenylcarboxylic acid, 4-biphenylcarboxylic acid, o-benzoylbenzoic acid, p-acetamidobenzoic acid, m-dimethylaminobenzoic acid, p-methylaminobenzoic acid, m-cyanobenzoic acid, etc. Acids, naphthoic acid, 2-chloro-1-naphthoic acid, 5-chloro-1-naphthoic acid, 8-chloro-1-naphthoic acid, 4-fluoro-1-naphthoic acid, 4-bromo-1-naphthoic acid 5-iodo-1-naphthoic acid, 5,8-dichloro-1-naphthoic acid, 1-chloro-2-naphthoic acid, 3-chloro-2-naphthoic acid, 5-chloro-2-naphthoic acid, 4, 5-dichloro-2-naphthoic acid, 1-bromo-2-naphthoic acid, 4,5-dichloro-2-naphthoic acid, 1-bromo-2-naphthoic acid, 2-methyl-1-naphthoic acid, 8-methyl -2 -Naphthoic acid etc. are mentioned. In the naphthofuranone compound of the present invention, the photosensitive wavelength can be easily controlled by selecting the structure of Z. For example, the purpose of obtaining a highly sensitive starting system in the long wave region up to around 500 nm is achieved by using 4-dialkylaminobenzoic acid as ZCOOH as described in JP-B-61-55513. it can.

以下に、本発明の一般式(XXV)の例を、より、具体的な記述として、化学構造式(D1)から(D37)で示すが、本発明の一般式(XXV)は上述の構造要件を満たすものをいずれも好適に使用でき、本発明は、以下の化学構造式によって制限を受けるものではない。







































In the following, examples of the general formula (XXV) of the present invention are shown as chemical structural formulas (D1) to (D37) as more specific descriptions. The general formula (XXV) of the present invention is the structural requirement described above. Any of those satisfying the above conditions can be suitably used, and the present invention is not limited by the following chemical structural formula.







































Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876






Figure 2006137876
一般式(XXVI)中、Yは隣接するNおよび炭素原子と共同して含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を表し、Xは一価の非金属原子団を表す。
Figure 2006137876
In general formula (XXVI), Y represents a nonmetallic atomic group that forms a nitrogen-containing heterocycle in cooperation with adjacent N and carbon atoms, and X represents a monovalent nonmetallic atomic group.

前記一般式(XXVI)について詳しく説明する。Yは隣接するN原子および隣接炭素原子と共同して含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を表す。好ましい含窒素ヘテロ環の例としては、例えば、F.M. Hamer著、 The Chemistry of Heterocyclic Compounds18巻 "The Cyanine Dyes and Related Compounds"(1964),JohnWilley & Sons(New York)に記載されている様な、シアニンベース(Base)化合物群を構成する含窒素ヘテロ環群を挙げる事ができる。   The general formula (XXVI) will be described in detail. Y represents a non-metallic atomic group that forms a nitrogen-containing heterocycle together with an adjacent N atom and an adjacent carbon atom. Examples of preferred nitrogen-containing heterocycles include cyanine as described in, for example, FM Hamer, The Chemistry of Heterocyclic Compounds Vol. 18, “The Cyanine Dyes and Related Compounds” (1964), John Willille & Sons (New York). The nitrogen-containing heterocyclic group which comprises a base (Group) compound group can be mentioned.

具体例としては、チアゾール類(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、4ーフェニルチアゾール、5−メチルチアゾール、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、4,5−ジ(p−メトキシフェニルチアゾール)、4−(2−チエニル)チアゾール、等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5,6−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチルアミノベンゾチアゾール、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、等)、   Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5- Di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl) thiazole, etc.), benzothiazoles (for example, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7- Chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 4-methoxybenzothiazole, 5-methoxybenzo Cheer , 6-methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-di Oxymethylenebenzothiazole, 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.),

ナフトチアゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾール、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、等)、チアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール類(例えば、4’−メトキシチアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール、等)、オキサゾール類(例えば、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキサゾール等)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、4−エトキシベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6ーメトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、等)、 Naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2] thiazole, naphtho [2,1] thiazole, 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1 , 2] thiazole, 7-methoxynaphtho [1,2] thiazole, etc.), thianaphtheno-7 ′, 6 ′, 4,5-thiazole (for example, 4′-methoxythianaphtheno-7 ′, 6 ′, 4) , 5-thiazole, etc.), oxazoles (for example, 4-methyloxazole, 5-methyloxazole, 4-phenyloxazole, 4,5-diphenyloxazole, 4-ethyloxazole, 4,5-dimethyloxazole, 5-phenyl Oxazole), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5-methyl Benzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5,6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 4-ethoxybenzoxazole, 5 -Chlorobenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole, 6-hydroxybenzoxazole, etc.),

ナフトオキサゾール類(例えば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、等)、セレナゾール類(例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナゾール、等)、ベンゾセレナゾール類(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール、等)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、等)、2−キノリン類(例えば、キノリン、3−メチルキノリン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、6−メトキシキノリン、6−エトキシキノリン、6ーヒドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、等)、4−キノリン類(例えば、キノリン、6−メトキシキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、等)、1−イソキノリン類(例えば、イソキノリン、3,4−ジヒドロイソキノリン、等)、3−イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、イミダゾール類(例えば、イミダゾール等)、 Naphthoxazoles (eg, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1] oxazole, etc.), selenazoles (eg, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.), benzoselenazoles ( For example, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole, tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (for example, naphtho [1,2] selenazole, Naphtho [2,1] selenazole, etc.], thiazolines (eg, thiazoline, 4-methylthiazoline, etc.), 2-quinolines (eg, quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquino , 6-methoxyquinoline, 6-ethoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8-hydroxyquinoline, etc.), 4-quinolines (for example, quinoline, 6-methoxyquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, etc.) ), 1-isoquinolines (eg, isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, etc.), 3-isoquinolines (eg, isoquinoline, etc.), imidazoles (eg, imidazole, etc.),

ベンズイミダゾール類(例えば、1,3−ジエチルベンズイミダゾール、1−エチル−3−フェニルベンズイミダゾール、等)、3,3−ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3,5,−トリメチルインドレニン、3,3,7,−トリメチルインドレニン、等)、2−ピリジン類(例えば、ピリジン、5−メチルピリジン、等)、4−ピリジン(例えば、ピリジン等)等が挙げられ、さらに、ジアゾール類(例えば、1,3,4−オキサジアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,3,4−セレナジアゾール等)、トリアゾール類(例えば、1,2,4−トリアゾール等)、の他、ピラジン類、キノキサリン類、トリアジン類(例えば1,3,5−トリアジン等)、フェナントリジン、2Hピロール類、ピラゾール類、イソチアゾール類、イソオキサゾール類、ピリミジン類、ピリダジン類、インダゾール類、フタラジン類、ナフチリジン類、キナゾリン類、シンノリン類、プテリジン類、β−カルボリン類、ペリミジン類、フラザン類等も好適に用いられる。 Benzimidazoles (for example, 1,3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3-phenylbenzimidazole, etc.), 3,3-dialkylindolenines (for example, 3,3-dimethylindolenine, 3,3, 5, -trimethylindolenine, 3,3,7, -trimethylindolenine, etc.), 2-pyridines (eg, pyridine, 5-methylpyridine, etc.), 4-pyridine (eg, pyridine, etc.) and the like. In addition, diazoles (for example, 1,3,4-oxadiazole, 1,3,4-thiadiazole, 1,3,4-selenadiazole, etc.), triazoles (for example, 1,2,4- Other than triazole), pyrazines, quinoxalines, triazines (eg, 1,3,5-triazine, etc.), phenanthridine, 2H pyrrole , Pyrazoles, isothiazoles, isoxazoles, pyrimidines, pyridazines, indazoles, phthalazines, naphthyridines, quinazolines, cinnolines, pteridines, β-carbolines, perimidines, furazanes, etc. Used.

これらのYが隣接するNおよび隣接炭素原子と共同して形成する含窒素ヘテロ環類はそれを構成する水素原子を任意の置換基に置き換える事もできる。そのような置換基の好ましい例としては、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、   In these nitrogen-containing heterocycles formed by Y in combination with adjacent N and adjacent carbon atoms, the hydrogen atoms constituting them can be replaced with arbitrary substituents. Preferred examples of such a substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group. Group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group , Acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group Alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, Thio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group,

N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、 N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl- N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl- N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N -Alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N- Lucoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkyl Carbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group,

スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、 Sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “sulfonato group”), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl Group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa Moyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter, Phosphonate group), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (— PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate) Group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base A group (hereinafter referred to as a phosphonatoxy group), a dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ),

ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its A conjugated base group (hereinafter referred to as an alkylphosphonatooxy group), a monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and a conjugated base group (hereinafter referred to as an arylphosphonatooxy group), a cyano group, Examples thereof include a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の好ましい例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。   Preferable examples of the alkyl group in these substituents include linear, branched and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group S-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group. it can. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

置換アルキル基の置換基は任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。   The substituent of the substituted alkyl group is arbitrary, but preferred examples of the substituted alkyl group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxy. Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenyl Carbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl Chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl Group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- ( (Phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, Thrill Suphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group and the like.

これらの置換基におけるアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。   Specific examples of the aryl group in these substituents include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the substituted aryl group include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. Preferred specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloromethylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, and a hydroxyphenyl group. , Methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxypheny Group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N -Tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group Methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl Group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3-butynylphenyl group and the like.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロール、ピリジン等の5員または6員環芳香族置換基が使用できる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。   As the heteroaryl group, a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen, and sulfur atoms is used, and preferably a 5-membered or 6-membered aromatic such as furan, pyrrole, or pyridine. Substituents can be used. Examples of the alkenyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group and the like. Examples of alkynyl group include ethynyl group, 1- A propynyl group, a 1-butynyl group, a trimethylsilylethynyl group, etc. are mentioned.

アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。 Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group Group, N-arylsulfa Yl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group, aryl phosphine group Examples include an onato group, a phosphonooxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

以上に述べた一般式(XXVI)において、Yが隣接するNおよび隣接炭素原子と共同して形成する含窒素ヘテロ環の例の内、下記、部分構造式(A−1)で表される構造を有する色素は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れた、光開始系を与えるため、特に好ましい。   In the general formula (XXVI) described above, Y is a structure represented by the following partial structural formula (A-1) among examples of nitrogen-containing heterocycles formed in cooperation with adjacent N and adjacent carbon atoms. Is particularly preferable because it provides a photoinitiating system having high sensitizing ability and very excellent storage stability.

Figure 2006137876
(式(A−1)中、X1 、X2 はそれぞれ独立に、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基を表し、X1 、X2 が互いに結合して5、6もしくは7員の脂肪族または芳香族環を形成してもよい。)
1 、X2 の具体例としては、先に挙げた置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基の例が挙げられる。
Figure 2006137876
(In formula (A-1), X 1 and X 2 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heteroaryl group, and X 1 and X 2 are bonded to each other to form 5, 6 or A 7-membered aliphatic or aromatic ring may be formed.)
Specific examples of X 1 and X 2 include the examples of the substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group and heteroaryl group mentioned above.

次に、一般式(XXVI)中のXについて説明する。Xは一価の非金属原子団を表し、例えば、一般式(XXVI)中のYが隣接するNおよび隣接炭素原子と共同して形成する含窒素ヘテロ環類の水素原子を置き換えてもよい置換基の例として挙げたものや、水素原子等を何れも好適に用いる事ができる。これらの置換基の内、置換されてもよいアルキル基、置換されても良いアリール基、置換されても良いヘテロアリール基、置換されてもよいアルケニル基を用いる場合、色素の製造において、比較的安価な原料から、短工程での合成が可能となるため、経済的である。また、特にYが、置換されても良いアリール基、置換されても良いヘテロアリール基、置換されてもよいアルケニル基の色素は、吸収波長的に有利でかつ、保存安定性に非常に優れた色素を与える。   Next, X in the general formula (XXVI) will be described. X represents a monovalent non-metallic atomic group, for example, substitution in which Y in general formula (XXVI) may replace a hydrogen atom of a nitrogen-containing heterocycle formed in cooperation with adjacent N and adjacent carbon atoms Any of those listed as examples of groups, hydrogen atoms, and the like can be suitably used. Among these substituents, when an alkyl group that may be substituted, an aryl group that may be substituted, a heteroaryl group that may be substituted, or an alkenyl group that may be substituted is used, Since an inexpensive raw material can be synthesized in a short process, it is economical. In particular, Y is an aryl group which may be substituted, a heteroaryl group which may be substituted, or an alkenyl group which may be substituted, which is advantageous in terms of absorption wavelength and very excellent in storage stability. Give the pigment.

Yとして特に好ましいアリール基、置換アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができる。置換アリール基の具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、   Specific examples of the aryl group and substituted aryl group that are particularly preferable as Y include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Specific examples of the substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, Methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group, Alkoxycarbonyl phenyl group, allyloxycarbonyl phenyl group, chlorophenoxy carbonyl phenyl group, carbamoyl phenyl group, N- methylcarbamoyl-phenyl group, N, N- dipropylcarbamoylphenyl group,

N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group , Diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl Group, 2-methyl group Penirufeniru group, 2-propynyl phenyl group, 2-butynyl phenyl group, 3-butynyl phenyl group, and the like.

特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、一般式(XXVI)中のYが隣接するNおよび隣接炭素原子と共同して形成する含窒素ヘテロ環類の例として挙げたものが何れも好適に使用できる。その他、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等が挙げられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を有していても良い。   Particularly preferred examples of the heteroaryl group include, for example, any of the nitrogen-containing heterocycles formed by Y in the general formula (XXVI) in cooperation with the adjacent N and adjacent carbon atoms. Can be used. Others, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoir, indazole, purine, Quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, cinazoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthrolin, phthalazine, phenalazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, etc. It may be condensed or may have a substituent.

Yとして好ましいアルケニル基の例としては先に述べたアルケニル基の例に加え、特に下記部分構造(A−2)で表されるものが優れる。






Preferred examples of the alkenyl group as Y include those represented by the following partial structure (A-2) in addition to the examples of the alkenyl group described above.






Figure 2006137876
(部分構造式(A−2)中、M1 、M2 はそれぞれ独立に、置換されてもよいメチン炭素を表し、X3 は置換もしくは非置換のアリール基もしくは、ヘテロアリール基を表し、nは1以上の整数である。)
1 、M2が独立にCH、CCH3である場合、特に色素の製造が容易であり、nが1、2の場合、吸収特性と安定性の両方に優れた色素が得られる。X3は置換もしくは非置換のアリール基もしくは、ヘテロアリール基は既に例示したものが何れも好適に使用できる。
Figure 2006137876
(In the partial structural formula (A-2), M 1 and M 2 each independently represents an optionally substituted methine carbon, X 3 represents a substituted or unsubstituted aryl group or heteroaryl group, n Is an integer of 1 or more.)
When M 1 and M 2 are independently CH and CCH 3 , the production of the dye is particularly easy, and when n is 1 or 2, a dye excellent in both absorption characteristics and stability can be obtained. As X 3, any of substituted or unsubstituted aryl groups or heteroaryl groups already exemplified can be preferably used.

以下に、本発明の一般式(XXVI)の例を、より、具体的な記述として、化学構造式(D1)〜(D54)で示すが、本発明の一般式(XXVI)は上述の構造要件を満たすものをいずれも好適に使用でき、本発明は、以下の化学構造式によって制限を受けるものではない。























In the following, examples of the general formula (XXVI) of the present invention are shown as chemical structural formulas (D1) to (D54) as more specific descriptions. The general formula (XXVI) of the present invention is the structural requirement described above. Any of those satisfying the above conditions can be suitably used, and the present invention is not limited by the following chemical structural formula.























Figure 2006137876
Figure 2006137876



Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
Figure 2006137876





Figure 2006137876
上記一般式(XIV)〜(XXVI)で表される増感色素の中でも、光吸収特性に基づく高感度化の観点で、一般式(XIV)、(XVI)、(XVIII)、(XXVI)、(XXIII)が好ましく、一般式(XVIII)が最も好ましい。
Figure 2006137876
Among the sensitizing dyes represented by the general formulas (XIV) to (XXVI), from the viewpoint of high sensitivity based on the light absorption characteristics, the general formulas (XIV), (XVI), (XVIII), (XXVI), (XXIII) is preferred, and general formula (XVIII) is most preferred.

(1-1-2)増感色素の化学修飾
これらの増感色素に関しては、さらに、本発明の重合開始系を用いて平版印刷版を作製した場合、この増感色素を含むインクジェット記録用インクによって形成された画像の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素と、付加重合性化合物構造(例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基)とを、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結合させる事で、露光膜の高強度化や、露光後の膜からの色素の不要な析出抑制を行うことができる。
(1-1-2) Chemical Modification of Sensitizing Dye Regarding these sensitizing dyes, when a lithographic printing plate is prepared using the polymerization initiation system of the present invention, an ink for inkjet recording containing this sensitizing dye Various chemical modifications can also be made to improve the properties of the image formed by. For example, by combining a sensitizing dye and an addition polymerizable compound structure (for example, an acryloyl group or a methacryloyl group) by a method such as a covalent bond, an ionic bond, or a hydrogen bond, the exposure film can be increased in strength or exposed. Unnecessary precipitation suppression of the dye from the subsequent film can be performed.

さらに、本発明の重合開始系を用いて平版印刷版を作製した場合、この増感色素を含むインクジェット記録用インクによって形成された画像の好ましい使用様態である、アルミ支持体への密着性を高める目的に対しては、親水性部位(カルボキシル基並びにそのエステル、スルホン酸基並びにそのエステル、エチレンオキサイド基等の酸基もしくは極性基)の導入が有効である。その他、例えば、インクジェット記録用インク中での相溶性向上、結晶析出抑制のために適宜置換基を導入する事ができる。例えば、ある種の重合開始系では、アリール基やアリル基等の不飽和結合が相溶性向上に非常に有効である場合があり、また、分岐アルキル構造導入等の方法により、色素π平面間の立体障害を導入する事で、結晶析出が著しく抑制できる。また、ホスホン酸基やエポキシ基、トリアルコキシシリル基等の導入により、金属や金属酸化物等の無機物への密着性を向上させる事ができる。そのほか、目的に応じ、増感色素のポリマー化等の方法も利用できる。   Furthermore, when a lithographic printing plate is prepared using the polymerization initiation system of the present invention, the adhesion to an aluminum support, which is a preferred mode of use of an image formed by an ink jet recording ink containing this sensitizing dye, is increased. For the purpose, it is effective to introduce a hydrophilic moiety (carboxyl group and its ester, sulfonic acid group and its ester, acid group or polar group such as ethylene oxide group). In addition, for example, a substituent can be appropriately introduced in order to improve the compatibility in the ink for inkjet recording and to suppress crystal precipitation. For example, in a certain polymerization initiation system, an unsaturated bond such as an aryl group or an allyl group may be very effective in improving the compatibility, and a method such as introduction of a branched alkyl structure may be used. By introducing steric hindrance, crystal precipitation can be remarkably suppressed. In addition, by introducing a phosphonic acid group, an epoxy group, a trialkoxysilyl group, etc., adhesion to an inorganic substance such as a metal or a metal oxide can be improved. In addition, a method such as polymerization of a sensitizing dye can be used depending on the purpose.

これらの増感色素のどの構造を用いるか、単独で使用するか2種以上併用するか、添加量はどうか、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて適宜設定できる。例えば、増感色素を2種以上併用することで、インクジェット記録用インク中の相溶性を高める事ができる。増感色素の選択は、感光性の他、使用する放射線源の発光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな増感色素を使用する事により、増感色素の添加量は比較的少なくできるので、経済的であり、かつ平版印刷版に用いた場合、その画像層の膜物性の点からも有利である。該画像の感光性、解像度や、画像の物性は放射線源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。比較的薄い膜厚で使用する平版印刷版としての使用に際しては、増感色素の添加量は、例えば、この増感色素を含むインクジェット記録用インクによって形成された画像の吸光度が0.1〜1.5の範囲、好ましくは0.25〜1の範囲となるように設定するのが好ましい。吸光度が0.1以上であれば、感度が低下することもなく、また、ハレーションの影響により低解像度となることもない。また、吸光度が0.1未満であっても5μm以上の厚い膜を硬化せしめる目的に対しては、かえって硬化度をあげられる場合もある。また、吸光度が3以下であれば、上記画像表面近傍で大部分の放射線が吸収されて、より内部での硬化が阻害されることもない。例えば印刷版として使用した場合であっても、十分な膜強度、基板密着性を得ることができる。
平版印刷版として利用する場合において、増感色素の添加量は、通常、インクジェット記録用インク100質量部に対し、0.05〜30質量部、好ましくは0.1〜20質量部、さらに好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。
Details of the usage such as which structure of these sensitizing dyes are used, whether they are used alone or in combination of two or more, and how much is added, can be appropriately set according to the performance design of the final photosensitive material. . For example, by using two or more sensitizing dyes in combination, the compatibility in the ink for ink jet recording can be increased. In selecting the sensitizing dye, in addition to the photosensitivity, the molar extinction coefficient at the emission wavelength of the radiation source to be used is an important factor. By using a sensitizing dye having a large molar extinction coefficient, the addition amount of the sensitizing dye can be made relatively small, so that it is economical, and when used in a lithographic printing plate, from the viewpoint of film physical properties of the image layer Is also advantageous. The photosensitivity and resolution of the image and the physical properties of the image are greatly affected by the absorbance at the radiation source wavelength. Therefore, the addition amount of the sensitizing dye is appropriately selected in consideration of these factors. When used as a lithographic printing plate used in a relatively thin film thickness, for example, the addition amount of the sensitizing dye is such that the absorbance of the image formed by the ink jet recording ink containing this sensitizing dye is 0.1 to 1. .5, preferably 0.25 to 1. When the absorbance is 0.1 or more, the sensitivity does not decrease and the resolution is not lowered due to the influence of halation. Even if the absorbance is less than 0.1, the degree of cure may be increased for the purpose of curing a thick film of 5 μm or more. If the absorbance is 3 or less, most of the radiation is absorbed in the vicinity of the image surface, and the internal curing is not hindered. For example, even when used as a printing plate, sufficient film strength and substrate adhesion can be obtained.
When used as a lithographic printing plate, the addition amount of the sensitizing dye is usually 0.05 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 100 parts by mass of the ink for ink jet recording. It is the range of 0.2-10 mass parts.

(1-2)重合開始剤
本発明の重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤を使用することができる。
(1-2-1)ラジカル重合開始剤
本発明で使用され得る好ましいラジカル重合開始剤としては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、並びに(l)アルキルアミン化合物等が挙げられる。 これらのラジカル重合開始剤は、上記(a)〜(l)の化合物を単独若しくは組み合わせて使用してもよい。
(1-2) Polymerization initiator As the polymerization initiator of the present invention, a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator can be used.
(1-2-1) Radical polymerization initiator Preferred radical polymerization initiators that can be used in the present invention include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt compounds, (c) organic peroxides, ( d) thio compound, (e) hexaarylbiimidazole compound, (f) ketoxime ester compound, (g) borate compound, (h) azinium compound, (i) metallocene compound, (j) active ester compound, (k) Examples thereof include compounds having a carbon halogen bond, and (l) alkylamine compounds. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination with the above compounds (a) to (l).

(a)芳香族ケトン類の好ましい例としては、「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABEK (1993)、p77〜117記載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有する化合物、例えば







(A) Preferred examples of aromatic ketones include compounds having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton described in “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY” JPFOUASSIER JFRABEK (1993), p77-117, for example,







Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

等が挙げられる。より好ましい(a)芳香族ケトン類の例としては、特公昭47−6416記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47−22326記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭47−23664記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−30704号公報記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60−26483号公報記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭60−26403号公報、特開昭62−81345号公報記載のベンゾインエーテル類、特公平1−34242号公報、米国特許第4,318,791号、ヨーロッパ特許0284561A1号記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば





Etc. More preferable examples of (a) aromatic ketones include α-thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416, benzoin ether compounds described in JP-B-47-3981, and α-substituted benzoin compounds described in JP-B-47-22326. Benzoin derivatives described in JP-B-47-23664, aroylphosphonic acid esters described in JP-A-57-30704, dialkoxybenzophenones described in JP-B-60-26483, JP-B-60-26403, Benzoin ethers described in JP-A-62-81345, α-aminobenzophenones described in US Pat. No. 4,318,791, European Patent 0284561A1, for example,





Figure 2006137876
Figure 2006137876

特開平2−211452号公報記載のp−ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61−194062号公報記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2−9597号公報記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2−9596号公報記載のアシルホスフィン、例えば、 P-di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-2-21152, thio-substituted aromatic ketone described in JP-A-61-194062, acylphosphine sulfide described in JP-B-2-9597, No. 2-9596, for example,

Figure 2006137876
Figure 2006137876

特公昭63−61950号公報記載のチオキサントン類、特公昭59−42864号公報記載のクマリン類等を挙げることができる。 Examples thereof include thioxanthones described in JP-B 63-61950, and coumarins described in JP-B 59-42864.

また、別の例である(b)芳香族オニウム塩としては、周期律表の第V、VIおよびVII族の元素、具体的にはN、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、Te、又はIの芳香族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩の例としては、特公昭52−14277号公報、特公昭52−14278号公報、特公昭52−14279号公報に示されている化合物を挙げることができる。具体的には、




Another example of the (b) aromatic onium salt is a group V, VI or VII element of the periodic table, specifically N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se. , Te, or I aromatic onium salts. Examples of such aromatic onium salts include compounds disclosed in Japanese Patent Publication No. 52-14277, Japanese Patent Publication No. 52-14278, and Japanese Patent Publication No. 52-14279. In particular,




Figure 2006137876
Figure 2006137876










Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

を挙げることができる。
さらに以下のジアゾニウム塩も挙げることができる。






Can be mentioned.
Furthermore, the following diazonium salts can also be mentioned.






Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

本発明に使用されるラジカル重合開始剤の他の例である(c)「有機過酸化物」としては分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、3,3′4,4′−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−テトラ−(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。   Another example of the radical polymerization initiator used in the present invention (c) “organic peroxide” includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples include 3,3'4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ' 4,4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- ( Cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyldiperoxy Peroxide ester such Sofutareto are preferred.

本発明で使用されるラジカル重合開始剤としての(d)チオ化合物は、下記一般式〔II〕で示される。

The (d) thio compound as a radical polymerization initiator used in the present invention is represented by the following general formula [II].

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(一般式〔II〕中、R20はアルキル基、アリール基又は置換アリール基を示し、R21は水素原子又はアルキル基を示す。また、R20とR21は、互いに結合して酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい5員ないし7員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。)
上記一般式〔II〕におけるアルキル基としては炭素原子数1〜4個のものが好ましい。またアリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数6〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれる。R21は、好ましくは炭素原子数1〜4個のアルキル基である。
(In the general formula [II], R 20 represents an alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 20 and R 21 are bonded to each other to form oxygen, sulfur, And a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5- to 7-membered ring which may contain a heteroatom selected from nitrogen atoms.)
The alkyl group in the general formula [II] is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. As the aryl group, those having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl are preferable, and as the substituted aryl group, a halogen atom such as a chlorine atom and an alkyl such as a methyl group as described above. And those substituted with an alkoxy group such as a group, a methoxy group, and an ethoxy group. R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

本発明に使用されるラジカル重合開始剤の他の例である(e)ヘキサアリールビイミダゾールとしては、特公昭45−37377号公報、特公昭44−86516号公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the radical polymerization initiator (e) hexaarylbiimidazole used in the present invention include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2, 2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl Biimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5 , 5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bi (O-nitrophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, Examples include 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole.

本発明で使用されるラジカル重合開始剤の他の例である(f)ケトオキシムエステルとしては3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。
本発明におけるラジカル重合開始剤の他の例である(g)ボレート塩の例としては下記一般式[III] で表わされる化合物を挙げることができる。
Other examples of radical polymerization initiators used in the present invention include (f) ketoxime esters such as 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, and 3-propionyloxy. Iminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p -Toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like can be mentioned.
As an example of the (g) borate salt which is another example of the radical polymerization initiator in the present invention, a compound represented by the following general formula [III] can be mentioned.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(一般式[III]中、R22、R23、R24およびR25は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素環基を示し、R22、R23、R24およびR25はその2個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、R22、R23、R24およびR25のうち、少なくとも1つは置換もしくは非置換のアルキル基である。Z+はアルカリ金属カチオン又は第4級アンモニウムカチオンを示す)。上記R22〜R25のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例えば−Cl、−Brなど)、シアノ基、ニトロ基、アリール基(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、 (In the general formula [III], R 22 , R 23 , R 24 and R 25 may be the same or different from each other, and each is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted group. Represents an alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are bonded to form a cyclic structure. Provided that at least one of R 22 , R 23 , R 24 and R 25 is a substituted or unsubstituted alkyl group, Z + represents an alkali metal cation or a quaternary ammonium cation) . Examples of the alkyl group for R 22 to R 25 include linear, branched, and cyclic groups, and those having 1 to 18 carbon atoms are preferable. Specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, stearyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like are included. Examples of the substituted alkyl group include the above alkyl groups, halogen atoms (for example, —Cl, —Br, etc.), cyano groups, nitro groups, aryl groups (preferably phenyl groups), hydroxy groups,

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(ここでR26、R27は独立して水素原子、炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)、−COOR28(ここでR28は水素原子、炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)、−OCOR29又は−OR30(ここでR29、R30は炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)を置換基として有するものが含まれる。上記R22〜R25のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの1〜3環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数1〜14のアルキル基を有するものが含まれる。上記R22〜R25のアルケニル基としては、炭素数2〜18の直鎖、分枝、環状のものが含まれ、置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。上記R22〜R25のアルキニル基としては、炭素数2〜28の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。また、上記R22〜R25の複素環基としてはN、SおよびOの少なくとも1つを含む5員環以上、好ましくは5〜7員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。一般式[III] で示される化合物例としては具体的には米国特許3,567,453号、同4,343,891号、ヨーロッパ特許109,772号、同109,773号に記載されている化合物および以下に示すものが挙げられる。











(Wherein R 26 and R 27 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, or an aryl group), —COOR 28 (where R 28 is a hydrogen atom, having 1 to 14 carbon atoms) An alkyl group or an aryl group), -OCOR 29 or -OR 30 (wherein R 29 and R 30 represent an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms or an aryl group) as a substituent. included. The aryl groups of R 22 to R 25 include 1 to 3 ring aryl groups such as a phenyl group and a naphthyl group, and the substituted aryl group is a substitution of the above substituted alkyl group with the above aryl group. Those having a group or an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms are included. Examples of the alkenyl group of R 22 to R 25 include linear, branched, and cyclic groups having 2 to 18 carbon atoms, and examples of the substituent of the substituted alkenyl group include the substituents of the substituted alkyl group. Is included. Examples of the alkynyl group of R 22 to R 25 include linear or branched groups having 2 to 28 carbon atoms, and examples of the substituent of the substituted alkynyl group include those listed as the substituents of the substituted alkyl group. included. In addition, examples of the heterocyclic group of R 22 to R 25 include a 5-membered or more, preferably 5 to 7-membered heterocyclic group containing at least one of N, S, and O. May contain a condensed ring. Furthermore, you may have what was mentioned as a substituent of the above-mentioned substituted aryl group as a substituent. Specific examples of the compound represented by the general formula [III] are described in U.S. Pat. Nos. 3,567,453 and 4,343,891 and European Patents 109,772 and 109,773. Examples include compounds and those shown below.











Figure 2006137876
Figure 2006137876

本発明のラジカル重合開始剤の他の例である(h)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63−138345号、特開昭63−142345号、特開昭63−142346号、特開昭63−143537号ならびに特公昭46−42363号記載のN−O結合を有する化合物群を挙げることができる。   Examples of the (h) azinium salt compound which is another example of the radical polymerization initiator of the present invention include JP-A 63-138345, JP-A 63-142345, JP-A 63-142346, and JP-A 63-142346. Examples thereof include compounds having an N—O bond described in JP-A-63-143537 and JP-B-46-42363.

ラジカル重合開始剤の他の例である(i)メタロセン化合物の例としては、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号、特開昭63−41484号、特開平2−249号、特開平2−4705号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−304453号、特開平1−152109号記載の鉄−アレーン錯体を挙げることができる。   Examples of (i) metallocene compounds which are other examples of radical polymerization initiators include JP-A 59-152396, JP-A 61-151197, JP-A 63-41484, and JP-A 2-249. And titanocene compounds described in JP-A-2-4705 and iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109.

上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(メチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルビアロイル−アミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができる。   Specific examples of the titanocene compound include di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, and di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3. 4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti- Bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4 -Difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti- -2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyridin-1-yl) phenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (methylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopenta And dienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbialoyl-amino) phenyl] titanium.

ラジカル重合開始剤の他の例である(j)活性エステル化合物の例としては特公昭62−6223号公報記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号公報、特開昭59−174831号公報記載の活性スルホネート類を挙げることができる。   Examples of (j) active ester compounds which are other examples of radical polymerization initiators include imide sulfonate compounds described in JP-B-62-2223, JP-B-63-14340, and JP-A-59-174831. The active sulfonates can be mentioned.

ラジカル重合開始剤の一例である(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一般式[IV]から[X]のものを挙げることができる。   Preferred examples of the compound (k) having a carbon halogen bond, which is an example of a radical polymerization initiator, include those represented by the following general formulas [IV] to [X].

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(式[IV]中、X2はハロゲン原子を表わす。Y2は−C(X23、−NH2、−NHR32、−NR32、−OR32を表わす。ここでR32はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またR31は−C(X23、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で表わされる化合物。 (In the formula [IV], X 2 represents a halogen atom. Y 2 represents —C (X 2 ) 3 , —NH 2 , —NHR 32 , —NR 32 , —OR 32 , where R 32 is alkyl. R 31 represents a group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group, and R 31 represents —C (X 2 ) 3 , an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a substituted alkenyl group. Compound.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(一般式[V]中、R33は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、X3はハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。)で表わされる化合物。

Figure 2006137876
(In the general formula [V], R 33 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxyl group, a nitro group, or a cyano group. , X 3 is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 3. )
Figure 2006137876

(一般式[VI]中、R34は、アリール基又は置換アリール基であり、R35(In the general formula [VI], R 34 represents an aryl group or a substituted aryl group, and R 35 represents

Figure 2006137876
Figure 2006137876

又はハロゲンであり、Z2は−C(=O)−、−C(=S)−又は−SO2−であり、R36、R37はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、R38は一般式[IV]中のR32と同じであり、X3はハロゲン原子であり、mは1又は2である。)で表わされる化合物。 Or Z 2 is —C (═O) —, —C (═S) — or —SO 2 —, and R 36 and R 37 are alkyl groups, substituted alkyl groups, alkenyl groups, substituted alkenyl groups. , An aryl group or a substituted aryl group, R 38 is the same as R 32 in the general formula [IV], X 3 is a halogen atom, and m is 1 or 2. ) A compound represented by

Figure 2006137876
Figure 2006137876

一般式[VII]中、R39は置換されていてもよいアリール基又は複素環式基であり、R40は炭素原子1〜3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニル基であり、pは1、2又は3である。 In the general formula [VII], R 39 is an optionally substituted aryl group or heterocyclic group, R 40 is a trihaloalkyl group or trihaloalkenyl group having 1 to 3 carbon atoms, and p is 1 2 or 3.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(一般式[VIII]中、Lは水素原子又は式:CO−(R41q(C(X43rの置換基であり、Qはイオウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−1,2−イレン基、1,2−フェニレン基又はN−R基であり、Mは置換又は非置換のアルキレン基又はアルケニレン基であるか、又は1,2−アリーレン基であり、R42はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、R41は炭素環式又は複素環式の2価の芳香族基であり、X4は塩素、臭素またはヨウ素原子であり、q=0及びr=1であるか又はq=1及びr=1又は2である。)で表わされる、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物。 (In the general formula [VIII], L is a hydrogen atom or a substituent of the formula: CO- (R 41 ) q (C (X 4 ) 3 ) r , Q is a sulfur, selenium or oxygen atom, a dialkylmethylene group, An alkene-1,2-ylene group, a 1,2-phenylene group or an N—R group, and M is a substituted or unsubstituted alkylene group or alkenylene group, or a 1,2-arylene group, R 42 is an alkyl group, an aralkyl group or an alkoxyalkyl group, R 41 is a carbocyclic or heterocyclic divalent aromatic group, X 4 is a chlorine, bromine or iodine atom, q = 0 and a carbonylmethylene heterocyclic compound having a trihalogenomethyl group represented by: r = 1 or q = 1 and r = 1 or 2.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(一般式[IX]中、X5はハロゲン原子であり、tは1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R43は水素原子又はCH3-t5 t基であり、R44はs価の置換されていてもよい不飽和有機基である)で表わされる、4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オキサゾール誘導体。 (In the general formula [IX], X 5 is a halogen atom, t is an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 4, and R 43 is a hydrogen atom or a CH 3 -t X 5 t group. And R 44 is an s-valent optionally substituted unsaturated organic group), 4-halogeno-5- (halogenomethyl-phenyl) -oxazole derivative.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

(一般式[X]中、X6はハロゲン原子であり、vは1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R45は水素原子又はCH3-v6 v基であり、R46はu価の置換されていてもよい不飽和有機基である。)で表わされる、2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ−オキサゾール誘導体。 (In the general formula [X], X 6 is a halogen atom, v is an integer of 1 to 3, u is an integer of 1 to 4, and R 45 is a hydrogen atom or a CH 3 -v X 6 v group. 2- (halogenomethyl-phenyl) -4-halogeno-oxazole derivative represented by: wherein R 46 is an u-valent unsaturated organic group which may be substituted.

このような炭素−ハロゲン結合を有する化合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Chem. Soc. Japan,42、2924(1969)記載の化合物、たとえば、2−フェニル4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許1388492号明細書記載の化合物、たとえば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等、特開昭53−133428号公報記載の化合物、たとえば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン)、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン等、独国特許3337024号明細書記載の化合物等を挙げることができる。   Specific examples of such a compound having a carbon-halogen bond include, for example, compounds described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), such as 2-phenyl 4,6-bis. (Trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- S-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and the like can be mentioned. In addition, compounds described in British Patent 1388492, for example, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine, etc. And compounds described in JP-A-53-133428, such as 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphtho). -1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-to Chloromethyl-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine), 2- (acenaphtho-5-yl) -4,6- Examples thereof include bis-trichloromethyl-S-triazine and the compounds described in German Patent 3333724.

また、F. C. Schaefer等によるJ. Org. Chem. 29、1527(1964)記載の化合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げることができる。さらに特開昭62−58241号公報記載の化合物、等を挙げることができる。更に特開平5−281728号公報記載の化合物、例えば、


























Further, compounds described in J. Org. Chem. 29, 1527 (1964) by FC Schaefer et al., For example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris ( Tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl- Examples include 6-trichloromethyl-S-triazine. Further, compounds described in JP-A-62-258241 can be exemplified. Furthermore, compounds described in JP-A-5-281728, for example,


























Figure 2006137876
Figure 2006137876

等を挙げることができる。あるいはさらにM. P. Hutt、E. F. ElslagerおよびL. M. Herbel著「Journalof Heterocyclic chemistry」第7巻(No.3)、第511頁以降(1970年)に記載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができる次のような化合物群 Etc. Alternatively, those skilled in the art can easily synthesize them according to the synthesis methods described in MP Hutt, EF Elslager and LM Herbel, “Journal of Heterocyclic chemistry”, Volume 7 (No. 3), pages 511 and after (1970). The following compound groups that can

Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
Figure 2006137876




Figure 2006137876
Figure 2006137876

あるいは、ドイツ特許第2641100号に記載されているような化合物、例えば、4−(4−メトキシ−スチリル)−6−(3,3,3−トリクロルプロペニル)−2−ピロンおよび4−(3,4,5−トリメトキシ−スチリル)−6−トリクロルメチル−2−ピロン、ドイツ特許第3333450号に記載されている化合物、ドイツ特許第3021590号に記載の化合物群、あるいはドイツ特許第3021599号に記載の化合物群、等を挙げることができる。 Alternatively, compounds such as those described in German Patent 2,641,100, such as 4- (4-methoxy-styryl) -6- (3,3,3-trichloropropenyl) -2-pyrone and 4- (3 4,5-trimethoxy-styryl) -6-trichloromethyl-2-pyrone, compounds described in German Patent No. 3333450, compounds described in German Patent No. 3021590, or described in German Patent No. 3021599 A compound group, etc. can be mentioned.

(l)アルキルアミン化合物の例としては特開昭56−4604号、特開平5−132507号、特開2001−324806号、特表平9−503871号、特開平8−254821号に記載のアルキルアミン化合物類を挙げることができる。 (L) Examples of alkylamine compounds include alkyl compounds described in JP-A-56-4604, JP-A-5-132507, JP-A-2001-324806, JP-T-9-503871, and JP-A-8-254821. Mention may be made of amine compounds.

本発明におけるラジカル重合開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム塩、(c)有機過酸化物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール、(i)メタロセン化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物を挙げることができ、さらに最も好ましい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、チタノセン化合物、一般式[IV]であらわされるトリハロメチル−S−トリアジン化合物を挙げることができる。   As an even more preferable example of the radical polymerization initiator in the present invention, the above-mentioned (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt, (c) organic peroxide, (e) hexaarylbiimidazole, ( i) a metallocene compound, (k) a compound having a carbon halogen bond, and most preferred examples include an aromatic iodonium salt, an aromatic diazonium salt, a titanocene compound, and a trihalomethyl represented by the general formula [IV]. -S-triazine compounds can be mentioned.

(1-2-2)カチオン重合開始剤
本発明で使用され得る好ましいカチオン重合開始剤(光酸発生剤)としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる(有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページ参照)。本発明に好適なカチオン重合開始剤の例を以下に挙げる。
(1-2-2) Cationic Polymerization Initiator As a preferable cationic polymerization initiator (photoacid generator) that can be used in the present invention, for example, a chemically amplified photoresist or a compound used for photocationic polymerization is used. (See Organic Electronics Materials Study Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing (1993), pages 187-192). Examples of the cationic polymerization initiator suitable for the present invention are listed below.

第1に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のB(C654−、PF6−、AsF6−、SbF6−、CF3SO3−塩を挙げることができる。
本発明で用いることのできるオニウム化合物の具体的な例を、以下に示す。












First, B (C 6 F 5 ) 4 —, PF 6 —, AsF 6 —, SbF 6 —, CF 3 SO 3 — salts of aromatic onium compounds such as diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium, and phosphonium are listed. be able to.
Specific examples of onium compounds that can be used in the present invention are shown below.












Figure 2006137876
Figure 2006137876

第2に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができ、その具体的な化合物を、以下に例示する。





Secondly, sulfonated substances that generate sulfonic acid can be mentioned, and specific compounds thereof are exemplified below.





Figure 2006137876
Figure 2006137876

第3に、ハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物も用いることができ、以下にその具体的な化合物を例示する。




Thirdly, halides that generate hydrogen halide can also be used, and specific compounds thereof are exemplified below.




Figure 2006137876
Figure 2006137876

第4に、鉄アレン錯体を挙げることができる。






Fourthly, an iron allene complex can be mentioned.






Figure 2006137876
Figure 2006137876

本発明における重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。これらの重合開始剤は、本発明の重合性化合物100質量部に対して0.01〜20質量部、好ましくは、0.5〜10質量部の範囲で含有されるのが適当である。また、本発明の重合開始剤は、上記増感色素に対して、重合開始剤:増感色素の質量比で200:1〜1:200、好ましくは、50:1〜1:50、より好ましくは、20:1〜1:5の量で重合開始系に含まれることが適当である。   The polymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more. These polymerization initiators are contained in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymerizable compound of the present invention. Further, the polymerization initiator of the present invention is 200: 1 to 1: 200, preferably 50: 1 to 1:50, more preferably, in a mass ratio of polymerization initiator: sensitizing dye to the above sensitizing dye. Is suitably included in the polymerization initiation system in an amount of 20: 1 to 1: 5.

(1-3)その他の添加剤
本発明の重合開始系には、共増感剤、連鎖移動剤等のその他の添加剤を加えてもよい。
共増感剤は、増感色素の放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
この様な共増感剤の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−20189号公報、特開昭51−82102号公報、特開昭52−134692号公報、特開昭59−138205号公報、特開昭60−84305号公報、特開昭62−18537号公報、特開昭64−33104号公報、Research Disclosure 33825号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
(1-3) Other Additives Other additives such as co-sensitizers and chain transfer agents may be added to the polymerization initiation system of the present invention.
The co-sensitizer has functions such as further improving the sensitivity of the sensitizing dye to radiation or suppressing the inhibition of polymerization of the polymerizable compound by oxygen.
Examples of such co-sensitizers include amines such as MR Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, page 3173 (1972), Japanese Examined Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Laid-Open No. 51-82102. Publication, JP 52-134692, JP 59-138205, JP 60-84305, JP 62-18537, JP 64-33104, Research Disclosure 33825 Specifically, triethanolamine, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like can be mentioned.

共増感剤の別の例としてはチオールおよびスルフィド類、例えば、特開昭53−702号公報、特公昭55−500806号公報、特開平5−142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56−75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。   Other examples of co-sensitizers include thiols and sulfides, for example, thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142772, and JP-A-56 And the like. Specific examples include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β-mercaptonaphthalene. Etc.

また別の例としては、アミノ酸化合物(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−42965号公報記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55−34414号公報記載の水素供与体、特開平6−308727号公報記載のイオウ化合物(例、トリチアン等)、特開平6−250387号公報記載のリン化合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−191605号記載のSi−H、Ge−H化合物等が挙げられる。
このような共増感剤は、重合開始系に対して、例えば、0.01〜20質量%、好ましくは、0.1〜10質量%の量で含まれることが適当である。
Other examples include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in Japanese Patent Publication No. 48-42965 (eg, tributyltin acetate), and hydrogen described in Japanese Patent Publication No. 55-34414. Donors, sulfur compounds described in JP-A-6-308727 (eg, trithiane), phosphorus compounds described in JP-A-6-250387 (diethylphosphite, etc.), Si-- described in Japanese Patent Application No. 6-191605 H, Ge-H compound, etc. are mentioned.
Such a co-sensitizer is suitably contained in an amount of, for example, 0.01 to 20% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the polymerization initiation system.

(1-4)重合開始系の作用
上記増感色素は、特定の放射線を吸収して上記重合開始剤の分解を促進することができる。増感色素は、特定の放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感色素は、重合開始剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより重合開始剤は化学変化を起こして分解し、ラジカル、酸或いは塩基を生成する。
例えば、本発明の増感色素は、300〜500nm、好ましくは350〜450nm、より好ましくは360〜420nm域に吸収の極大値(λmax)を有する、優れた吸収特性を有する。特定域の放射線を吸収した増感色素さらに電子励起状態となって重合開始剤の分解を効率良く引き起こす。従って、本発明の重合開始系は、増感色素が触媒のような役割を果たして重合開始剤の光分解を促進し、ひいては非常に高い感光性を示すこととなる。
一般に、増感色素/重合開始剤からなる重合開始系の増感機構は、
(a)増感色素の電子励起状態から重合開始剤への電子移動反応に基づく、重合開始剤の還元的分解、
(b)重合開始剤から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、重合開始剤の酸化的分解、
(c)増感色素の電子励起状態から重合開始剤へのエネルギー移動に基づく、重合開始剤の電子励起状態からの分解、
といった経路が知られている。本発明の増感色素は、これら何れのタイプの増感反応をも優れた効率で引き起こすものである。本発明者らは、高感度を得るためには増感色素が、上記一般式(XIV)〜(XXVI)で表される化学構造を有することが非常に重要であることを見いだしたが、より具体的な作用機構は明らかではない。本発明の増感色素は、高強度の発光(ケイ光および/又はリン光)スペクトルを示す。このことから、一つの可能性として、上記部分構造を有する本発明の増感色素は、励起状態の寿命が比較的長いため、重合開始剤との反応の効率化に作用していることが考えられる。その他の可能性として、一般式(XIV)〜(XXVI)で表される化学構造が、増感反応初期過程(電子移動等)の効率化や、さらに、重合開始剤の分解にいたる後続反応の効率化に寄与している可能性もある。
(1-4) Effect of Polymerization Initiating System The sensitizing dye can absorb specific radiation and promote decomposition of the polymerization initiator. A sensitizing dye absorbs specific radiation and enters an electronically excited state. The sensitizing dye in an electronically excited state comes into contact with the polymerization initiator, and effects such as electron transfer, energy transfer, and heat generation occur. As a result, the polymerization initiator undergoes a chemical change and decomposes to generate radicals, acids or bases.
For example, the sensitizing dye of the present invention has excellent absorption characteristics having a maximum absorption value (λmax) in the range of 300 to 500 nm, preferably 350 to 450 nm, more preferably 360 to 420 nm. A sensitizing dye that absorbs radiation in a specific region and further becomes an electronically excited state, and efficiently causes decomposition of the polymerization initiator. Therefore, in the polymerization initiating system of the present invention, the sensitizing dye plays a role as a catalyst to promote the photodecomposition of the polymerization initiator, and thus exhibits extremely high photosensitivity.
In general, the sensitization mechanism of a polymerization initiation system comprising a sensitizing dye / polymerization initiator is:
(A) reductive decomposition of the polymerization initiator based on an electron transfer reaction from the electronically excited state of the sensitizing dye to the polymerization initiator,
(B) oxidative degradation of the polymerization initiator based on electron transfer from the polymerization initiator to the electronically excited state of the sensitizing dye,
(C) decomposition of the polymerization initiator from the electronically excited state based on energy transfer from the electronically excited state of the sensitizing dye to the polymerization initiator;
Such a route is known. The sensitizing dye of the present invention causes any of these types of sensitizing reactions with excellent efficiency. The present inventors have found that in order to obtain high sensitivity, it is very important that the sensitizing dye has a chemical structure represented by the above general formulas (XIV) to (XXVI). The specific mechanism of action is not clear. The sensitizing dye of the present invention exhibits a high-intensity emission (fluorescence and / or phosphorescence) spectrum. From this, one possibility is that the sensitizing dye of the present invention having the above partial structure has a relatively long lifetime in the excited state, and therefore it is considered that it acts on the efficiency of the reaction with the polymerization initiator. It is done. As other possibilities, the chemical structures represented by the general formulas (XIV) to (XXVI) can be used to improve the efficiency of the initial stage of the sensitization reaction (electron transfer, etc.) and further the subsequent reaction leading to the decomposition of the polymerization initiator. It may also contribute to efficiency.

(2)インクジェット記録用インク
本発明のインクジェット記録用インクは、上記重合開始系と、重合性化合物、色材、及びその他の成分とを含有する。
(2-1)重合性化合物
本発明の重合性化合物は、ラジカル重合性化合物、例えば特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平8−224982号、特開平10−863号、特願平7−231444号等の各号及び特願平7−231444号に記載されている光重合性組成物を用いた光硬化型材料と、カチオン重合性化合物、例えば、カチオン重合系の光硬化性樹脂が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も、例えば特開平6−43633号、特開平8−324137号等に公開されている。
(2-1-1)ラジカル重合性化合物
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。また、単官能化合物よりも官能基を2つ以上持つ多官能化合物の方がより好ましい。更に好ましくは多官能化合物を2種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。
(2) Ink for ink jet recording The ink for ink jet recording of the present invention contains the polymerization initiation system, a polymerizable compound, a color material, and other components.
(2-1) Polymerizable Compound The polymerizable compound of the present invention is a radical polymerizable compound such as JP-A-7-159983, JP-B-7-31399, JP-A-8-224982, JP-A-10-863, A photocurable material using a photopolymerizable composition described in Japanese Patent Application No. 7-231444, etc. and Japanese Patent Application No. 7-231444, and a cationic polymerizable compound, for example, a cationic polymerization type light A curable resin is known, and a photo-cationic polymerization type photocurable resin sensitized to a long wavelength region longer than visible light is also disclosed in, for example, JP-A-6-43633 and JP-A-8-324137. It has been published.
(2-1-1) Radical polymerizable compound A radical polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and having at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. Any material may be used as long as it has a chemical form such as a monomer, oligomer or polymer. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties. A polyfunctional compound having two or more functional groups is more preferable than a monofunctional compound. More preferably, two or more polyfunctional compounds are used in combination for controlling performance such as reactivity and physical properties.

ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。   Examples of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid, and salts, esters and urethanes thereof. And radical polymerizable compounds such as amides, anhydrides, acrylonitrile, styrene, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated urethanes. Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaery Acrylic acid derivatives such as lithol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylol Methacryl derivatives such as tan trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and other derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate More specifically, Shinzo Yamashita, “Cross-linking agent handbook”, (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB curing handbook (raw material)” (1985, Polymer publication) ); Rad-Tech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Commercially available products described in the above, or radically polymerizable or crosslinkable monomers known in the industry, Ligomers and polymers can be used.

(2-1-2)カチオン重合性化合物
カチオン重合性化合物としては、各種公知のカチオン重合性化合物(モノマー)が使用出来る。例えば、特開平6−9714号、特開2001−31892号、同2001−40068号、同2001−55507号、同2001−310938号、同2001−310937号、同2001−220526号に例示されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。本発明のカチオン重合性化合物としては、オキセタン化合物、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、若しくはこれらの組み合わせが挙げられる。
(2-1-2) Cationic Polymerizable Compound As the cationic polymerizable compound, various known cationic polymerizable compounds (monomers) can be used. Examples thereof include JP-A-6-9714, JP-A-2001-31892, JP-A-2001-40068, JP-A-2001-55507, JP-A-2001-310938, JP-A-2001-310937, and JP-A-2001-220526. An epoxy compound, a vinyl ether compound, an oxetane compound, etc. are mentioned. Examples of the cationically polymerizable compound of the present invention include oxetane compounds, epoxy compounds, vinyl ether compounds, or combinations thereof.

(a)オキセタン化合物とは、オキセタン環を有する化合物のことであり、特開2001−220526号、同2001−310937号に紹介されているような公知のあらゆるオキセタン化合物を挙げることができる。特に、下記一般式(1)で表されるオキセタン環を含有する化合物が好ましい。

Figure 2006137876
一般式(1)において、R1〜R6は、各々水素原子または置換基を表す。ただし、R3〜R6で表される基の少なくとも一つは置換基である。 The (a) oxetane compound is a compound having an oxetane ring, and examples thereof include all known oxetane compounds as introduced in JP-A Nos. 2001-220526 and 2001-310937. In particular, a compound containing an oxetane ring represented by the following general formula (1) is preferable.
Figure 2006137876
In General formula (1), R < 1 > -R < 6 > represents a hydrogen atom or a substituent respectively. However, at least one of the groups represented by R 3 to R 6 is a substituent.

一般式(1)において、R1〜R6で各々表される置換基としては、例えば、フッ素原子、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭素数1〜6個のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、フリル基またはチエニル基を表す。また、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 In the general formula (1), examples of the substituent represented by R 1 to R 6 include a fluorine atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group). Etc.), a C1-C6 fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group (for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), a furyl group, or a thienyl group. Moreover, these groups may further have a substituent.

分子中に1個のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式(2)〜(5)で表される化合物を挙げることができる。   Examples of the compound having one oxetane ring in the molecule include compounds represented by the following general formulas (2) to (5).

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(2)〜(5)において、R1〜R6は各々一般式(1)と同義の基を表し、Zはそれぞれ独立で、酸素又は硫黄原子、あるいは主鎖に酸素又は硫黄原子を含有してもよい2価の炭化水素基を表す。
上記一般式(2)〜(5)において、R7、R8で各々表される置換基としては、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基等)、炭素数1〜6個のアシル基(例えば、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、炭素数1〜6個のアルキルカルバモイル基(例えば、プロピルカルバモイル基、ブチルペンチルカルバモイル基等)、アルコキシカルバモイル基(例えば、エトキシカルバモイル基等)を表す。
In the above general formulas (2) to (5), R 1 to R 6 each represent a group having the same meaning as in the general formula (1), Z is independent, oxygen or sulfur atom, or oxygen or sulfur atom in the main chain Represents a divalent hydrocarbon group which may contain
In the above general formulas (2) to (5), the substituents represented by R 7 and R 8 are each an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group). Etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-butenyl group, 2- Butenyl group, 3-butenyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), aralkyl group (eg, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), acyl group having 1 to 6 carbon atoms (For example, propylcarbonyl group, butylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, etc.), C1-C6 alkoxycarbonyl group (for example, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group) Butoxycarbonyl group), represents the number 1-6 alkylcarbamoyl group having a carbon (e.g., propylcarbamoyl group, butyl pentylcarbamoyl group), alkoxy carbamoyl group (e.g., ethoxy carbamoyl group).

一般式(2)〜(5)において、Zで表される、酸素または硫黄原子、あるいは主鎖に酸素または硫黄原子を含有してもよい2価の炭化水素基としては、アルキレン基(例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基等)、アルケニレン基(例えば、ビニレン基、プロペニレン基等)、アルキニレン基(例えば、エチニレン基、3−ペンチニレン基等)が挙げられ、また、前記のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基の炭素原子は、酸素原子や硫黄原子に置き換わっていてもよい。   In the general formulas (2) to (5), an oxygen or sulfur atom represented by Z or a divalent hydrocarbon group which may contain an oxygen or sulfur atom in the main chain is an alkylene group (for example, Ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, propylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, heptamethylene group, octamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group, etc.), alkenylene group (for example, vinylene group, propenylene) Group), alkynylene group (for example, ethynylene group, 3-pentynylene group, etc.), and the carbon atom of the aforementioned alkylene group, alkenylene group, alkynylene group may be replaced by an oxygen atom or a sulfur atom. .

本発明で使用するオキセタン環含有化合物としては、上記一般式(2)〜(5)において、R1が低級アルキル基、特にエチル基で、R7およびR8がプロピル基、ブチル基、フェニル基、又はベンジル基で、Zが酸素又は硫黄原子を含まない炭化水素基(アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基等)であるものが好ましい。このとき、R3〜R6で表される少なくとも1つの基が置換基である。
分子中に2個以上のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式(6)、(7)で表わされる化合物を挙げることができる。
As the oxetane ring-containing compound used in the present invention, in the above general formulas (2) to (5), R 1 is a lower alkyl group, particularly an ethyl group, and R 7 and R 8 are a propyl group, a butyl group, and a phenyl group. Or a benzyl group, wherein Z is a hydrocarbon group containing no oxygen or sulfur atom (an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, etc.). At this time, at least one group represented by R 3 to R 6 is a substituent.
Examples of the compound having two or more oxetane rings in the molecule include compounds represented by the following general formulas (6) and (7).

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(6)および(7)において、mは2、3又は4を表し、Zは前記一般式(2)〜(5)で表されるZと同義である。
1〜R6は、各々一般式(1)と同義の基を表す。ただし、一般式(6)において、R3〜R6の少なくとも1つが、置換基である。
9は、炭素数1〜12の線形又は分枝アルキレン基、線形或いは分枝ポリ(アルキレンオキシ)基、または下記一般式(9)、(10)及び(11)からなる群から選択される2価の基を表す。上記炭素数1〜12の線形又は分枝アルキレン基としては、下記一般式(8)で表される基が好ましい。




In the general formulas (6) and (7), m represents 2, 3 or 4, and Z has the same meaning as Z represented by the general formulas (2) to (5).
R 1 to R 6 each represent a group having the same meaning as in the general formula (1). However, in General formula (6), at least 1 of R < 3 > -R < 6 > is a substituent.
R 9 is selected from the group consisting of linear or branched alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, linear or branched poly (alkyleneoxy) groups, or the following general formulas (9), (10) and (11). Represents a divalent group. The linear or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms is preferably a group represented by the following general formula (8).




Figure 2006137876
Figure 2006137876

一般式(8)において、R10はメチル基、エチル基又はプロピル基等の低級アルキル基を表す。 In the general formula (8), R 10 represents a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(9)において、nは0又は1〜2000の整数、R11は炭素数1〜10個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等)、または下記一般式(12)から選択される基を表す。R12は炭素数1〜10のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等)を表す。 In the general formula (9), n is 0 or an integer of 1 to 2000, R 11 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group). , A heptyl group, an octyl group, a nonyl group, or the like) or a group selected from the following general formula (12). R 12 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, etc.).

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(12)において、jは0又は1〜100の整数、R13は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等)を表す。 In the general formula (12), j is 0 or an integer of 1 to 100, R 13 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, etc.).

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(10)において、R14は水素原子、炭素数1〜10個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等)、炭素数1〜10個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)またはカルボキシル基を表す。 In the general formula (10), R 14 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, Nonyl group, etc.), an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) Etc.), a nitro group, a cyano group, a mercapto group, an alkoxycarbonyl group (for example, a methyloxycarbonyl group, an ethyloxycarbonyl group, a butyloxycarbonyl group, etc.) or a carboxyl group.

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(11)において、R15は酸素原子、硫黄原子、NH、SO、SO2、CH2、C(CH32又はC(CF32を表す。 In the general formula (11), R 15 represents an oxygen atom, a sulfur atom, NH, SO, SO 2 , CH 2 , C (CH 3 ) 2 or C (CF 3 ) 2 .

本発明で使用されるオキセタン環含有化合物の好ましい部分構造の態様としては、例えば、上記一般式(6)、(7)において、R1が低級アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)であることが好ましく、特に好ましくは、エチル基である。また、R9としては、ヘキサメチレン基または、上記一般式(10)において、R14が水素原子であるものが好ましく用いられる。 Preferred embodiments of the partial structure of the oxetane ring-containing compound used in the present invention include, for example, in the above general formulas (6) and (7), R 1 is a lower alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group). And the like, particularly preferably an ethyl group. As R 9 , a hexamethylene group or one in which R 14 is a hydrogen atom in the general formula (10) is preferably used.

上記一般式(8)において、R10がエチル基、一般式(9)、(12)においてR12及びR13が、各々メチル基であることが好ましい。ただし、一般式(6)においてR3〜R6で表される基の少なくとも1つが置換基である。 In the general formula (8), R 10 is preferably an ethyl group, and in general formulas (9) and (12), R 12 and R 13 are each preferably a methyl group. However, in General Formula (6), at least one of the groups represented by R 3 to R 6 is a substituent.

更に、分子中に2個以上のオキセタン環を有する化合物としては、下記一般式(13)で表わされる化合物を挙げることができる。   Furthermore, examples of the compound having two or more oxetane rings in the molecule include compounds represented by the following general formula (13).

Figure 2006137876
Figure 2006137876

上記一般式(13)において、rは25〜200の整数であり、R16は炭素数1〜4のアルキル基又はトリアルキルシリル基である。また、R1、R4〜R6は、前記一般式(1)のそれらと同義であり、R3〜R6で表される基の少なくとも1つが置換基である。
本発明に係る一般式(1)で表されるオキセタン環を含有する化合物の具体例を、表1に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the general formula (13), r is an integer of 25 to 200, R 16 is an alkyl group or a trialkylsilyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 1 and R 4 to R 6 have the same meanings as those in the general formula (1), and at least one of the groups represented by R 3 to R 6 is a substituent.
Although the specific example of the compound containing the oxetane ring represented by General formula (1) based on this invention is shown in Table 1, this invention is not limited to these.

Figure 2006137876
Figure 2006137876







Figure 2006137876






















Figure 2006137876






















Figure 2006137876
Figure 2006137876

また、上記各化合物は「高分子科学と有機化学とのキャッチボール」の第4項に記載の方法をはじめ、下記文献を参考にすることで、主に下記のスキームにより容易に合成できるが、合成法に関してはこれに限定されるものではない。






In addition, each of the above compounds can be easily synthesized mainly by the following scheme by referring to the following literature, including the method described in item 4 of "Catchball between polymer science and organic chemistry". The synthesis method is not limited to this.






Figure 2006137876
Figure 2006137876

1)Hu Xianming,Richard M.Kellogg,Synthesis,533〜538,May(1995)
2)A.O.Fitton,J.Hill,D.Ejane,R.Miller,Synth.,12,1140(1987)
3)Toshiro Imai and Shinya Nishida,Can.J.Chem.Vol.59,2503〜2509(1981)
4)Nobujiro Shimizu,Shintaro Yamaoka,and Yuho Tsuno,Bull.Chem.Soc.Jpn.,56,3853〜3854(1983)
5)Walter Fisher and Cyril A.Grob,Helv.Chim.Acta.,61,2336(1978)
6)Chem.Ber.101,1850(1968)
7)“Heterocyclic Compounds with Three− and Four−membered Rings”,Part Two,Chapter IX,Interscience Publishers,John Wiley & Sons,New York(1964)
8)H.A.J.Curless,“Synthetic Organic Photochemistry”,Plenum,New York(1984)
9)M.Braun,Nachr.Chem.Tech.Lab.,33,213(1985)
10)S.H.Schroeter,J.Org.Chem.,34,5,1181(1969)
11)D.R.Arnold,Adv.Photochem.,6,301(1968)
1) Hu Xianming, Richard M. et al. Kellogg, Synthesis, 533-538, May (1995)
2) A. O. Fitton, J .; Hill, D.C. Ejane, R.A. Miller, Synth. , 12, 1140 (1987)
3) Toshiro Imai and Shinya Nishida, Can. J. et al. Chem. Vol. 59, 2503-2509 (1981)
4) Nobujiro Shimizu, Shintaro Yamaoka, and Yuho Tsuno, Bull. Chem. Soc. Jpn. 56, 3853-3854 (1983)
5) Walter Fisher and Cyril A. Grob, Helv. Chim. Acta. , 61, 2336 (1978)
6) Chem. Ber. 101, 1850 (1968)
7) “Heterocyclic Compounds with Three- and Four-membered Rings”, Part Two, Chapter IX, Interscience Publishers, John Wiley & Sons, N
8) H.M. A. J. et al. Curless, “Synthetic Organic Photochemistry”, Plenum, New York (1984).
9) M.M. Braun, Nachr. Chem. Tech. Lab. 33, 213 (1985)
10) S.M. H. Schroeter, J.A. Org. Chem. , 34, 5, 1181 (1969)
11) D. R. Arnold, Adv. Photochem. 6,301 (1968)

(b)エポキシ化合物には、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシド等が挙げられる。
芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルであり、例えばビスフェノールA或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールA或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
Examples of the (b) epoxy compound include aromatic epoxides, alicyclic epoxides, and aliphatic epoxides.
A preferable aromatic epoxide is a di- or polyglycidyl ether produced by the reaction of a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof and epichlorohydrin, such as bisphenol A or an alkylene oxide thereof. Examples thereof include di- or polyglycidyl ethers of adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adducts, and novolak-type epoxy resins. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。
脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリン或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
As the alicyclic epoxide, cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Or a cyclopentene oxide containing compound is preferable.
Preferred aliphatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol or Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or its alkylene oxide adduct, polyethylene glycol or its alkylene oxide adduct Diglycidyl ethers of polyalkylene glycols such as diglycidyl ethers, polypropylene glycols or diglycidyl ethers of adducts thereof Tel and the like. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

これらのエポキシドのうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these epoxides, in view of fast curability, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable. In the present invention, one of the epoxides may be used alone, or two or more may be used in appropriate combination.

また、本発明においては変異原性試験(AMES)及び感作性試験等から見た、特に人体に対する安全性の観点から、オキシラン基を有するエポキシ化合物としては、エポキシ化脂肪酸エステル、エポキシ化脂肪酸グリセライドの少なくとも一方であることが特に好ましい。
エポキシ化脂肪酸エステル、エポキシ化脂肪酸グリセライドは、脂肪酸エステル、脂肪酸グリセライドにエポキシ基を導入したものであれば、特に制限はなく用いられる。
エポキシ化脂肪酸エステルとしては、オレイン酸エステルをエポキシ化して製造されたもので、エポキシステアリン酸メチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル等が用いられる。また、エポキシ化脂肪酸グリセライドは、同様に、大豆油、アマニ油、ヒマシ油等をエポキシ化して製造されたもので、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ヒマシ油等が用いられる。
In the present invention, from the viewpoint of mutagenicity test (AMES), sensitization test, etc., particularly from the viewpoint of safety to the human body, epoxy compounds having an oxirane group include epoxidized fatty acid esters, epoxidized fatty acid glycerides. Particularly preferred is at least one of the following.
The epoxidized fatty acid ester and the epoxidized fatty acid glyceride are not particularly limited as long as an epoxy group is introduced into the fatty acid ester or fatty acid glyceride.
The epoxidized fatty acid ester is produced by epoxidizing an oleic acid ester, and examples thereof include methyl epoxy stearate, butyl epoxy stearate, octyl epoxy stearate and the like. Similarly, the epoxidized fatty acid glyceride is produced by epoxidizing soybean oil, linseed oil, castor oil and the like, and epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, epoxidized castor oil and the like are used.

(c)ビニルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。 (c) Examples of vinyl ether compounds include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether. , Di- or trivinyl ether compounds such as trimethylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, n-propyl Pills vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether -O- propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.

これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジ又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these vinyl ether compounds, in consideration of curability, adhesion, and surface hardness, di- or trivinyl ether compounds are preferable, and divinyl ether compounds are particularly preferable. In the present invention, one of the above vinyl ether compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in appropriate combination.

(2-1-3)好ましい重合性化合物
本発明の重合性化合物としては、(メタ)アクリル系モノマー或いはプレポリマー、エポキシ系モノマー或いはプレポリマー、ウレタン系モノマー或いはプレポリマー等が好ましく用いられる。更に好ましくは、下記化合物である。
(2-1-3) Preferred polymerizable compound As the polymerizable compound of the present invention, (meth) acrylic monomers or prepolymers, epoxy monomers or prepolymers, urethane monomers or prepolymers are preferably used. More preferably, they are the following compounds.

2−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、2−アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、2−アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールEO付加物アクリレート、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールAジアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールAのPO付加物ジアクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、2−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート等。   2-ethylhexyl-diglycol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, 2-acryloyloxyethyl phthalate, methoxy-polyethylene glycol acrylate, tetramethylol Methane triacrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalic acid, dimethylol tricyclodecane diacrylate, ethoxylated phenyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, nonylphenol EO adduct acrylate, modified glycerin triacrylate Bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct, modified bisphenol A diacrylate, phenoxy-polyethylene Glycol acrylate, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, bisphenol A PO adduct diacrylate, bisphenol A EO adduct diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate tolylene diisocyanate urethane prepolymer, lactone Modified flexible acrylate, butoxyethyl acrylate, propylene glycol diglycidyl ether acrylic acid adduct, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, 2-hydroxyethyl acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, penta Erythritol triacrylate hexamethylene di Socia sulfonates urethane prepolymer, stearyl acrylate, isoamyl acrylate, isomyristyl acrylate, isostearyl acrylate.

これらのアクリレート化合物は、従来UV硬化型インクに用いられてきた重合性化合物より、皮膚刺激性や感作性(かぶれ)が小さく、比較的粘度を下げることが出来、安定したインク射出性が得られ、重合感度、記録媒体との密着性も良好である。本発明においては、重合性化合物として上記アクリレート化合物を使用する場合、アクリレート化合物の含有量を、本発明の上記インクジェット記録用インクの全質量に対して、例えば、20〜95質量%、好ましくは50〜95質量%、更に好ましくは70〜95質量%とすることが適当である。   These acrylate compounds have lower skin irritation and sensitization (rash) than the polymerizable compounds conventionally used in UV curable inks, can relatively reduce viscosity, and provide stable ink ejection properties. Further, the polymerization sensitivity and the adhesion to the recording medium are also good. In the present invention, when the acrylate compound is used as the polymerizable compound, the content of the acrylate compound is, for example, 20 to 95% by mass, preferably 50%, based on the total mass of the ink for inkjet recording of the present invention. It is suitable to set it to -95 mass%, More preferably, it is 70-95 mass%.

本発明においては、上述した重合性化合物として列挙されているモノマーは、低分子量であっても感作性が小さいものであり、尚かつ反応性が高く、粘度が低く、記録媒体への密着性に優れる。
更に感度、滲み、記録媒体との密着性をより改善するためには、上記モノアクリレートと、分子量400以上、好ましくは500以上の多官能アクリレートモノマー又は多官能アクリレートオリゴマーを併用することが感度、密着性向上の点で好ましい。更に、単官能、二官能、三官能以上の多官能モノマーを併用することが特に好ましい。安全性を維持しつつ、更に、感度、滲み、記録媒体との密着性をより改善することが出来る。オリゴマーとしてはエポキシアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマーが特に好ましい。
In the present invention, the monomers listed as the polymerizable compounds described above are low in sensitization even with a low molecular weight, have high reactivity, low viscosity, and adhesion to a recording medium. Excellent.
In order to further improve sensitivity, bleeding, and adhesion to the recording medium, it is preferable to use the above monoacrylate in combination with a polyfunctional acrylate monomer or polyfunctional acrylate oligomer having a molecular weight of 400 or more, preferably 500 or more. It is preferable in terms of improving the performance. Furthermore, it is particularly preferable to use a monofunctional, bifunctional, or trifunctional or higher polyfunctional monomer in combination. While maintaining safety, the sensitivity, bleeding, and adhesion to the recording medium can be further improved. As the oligomer, an epoxy acrylate oligomer and a urethane acrylate oligomer are particularly preferable.

PETフィルムやPPフィルムといった柔軟な記録媒体への記録では、上記化合物群の中から選ばれるモノアクリレートと、多官能アクリレートモノマー又は多官能アクリレートオリゴマーとの併用が膜に可撓性を持たせられ密着性を高めつつ、膜強度を高められるため好ましい。モノアクリレートとしてはステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミスチルアクリレート、イソステアリルアクリレートが感度も高く、低収縮性でカールの発生を防止出来るとともに、滲み防止、印刷物の臭気、照射装置のコストダウンの点で好ましい。
尚、メタクリレートは、皮膚刺激性がアクリレートより良好である。
尚、上記化合物の中でもアルコキシアクリレートを70質量%未満の量で使用し、残部をアクリレートとする場合、良好な感度、滲み特性、臭気特性を有するため好ましい。
When recording on a flexible recording medium such as a PET film or PP film, the combination of a monoacrylate selected from the above compound group and a polyfunctional acrylate monomer or polyfunctional acrylate oligomer gives the film flexibility and adhesion. It is preferable because the film strength can be increased while improving the properties. As monoacrylate, stearyl acrylate, isoamyl acrylate, isomystil acrylate, and isostearyl acrylate have high sensitivity and low shrinkage to prevent curling, and are preferable in terms of prevention of bleeding, odor of printed matter, and cost reduction of irradiation device. .
Incidentally, methacrylates, skin mildness is better than acrylate.
Of the above-mentioned compounds, when alkoxy acrylate is used in an amount of less than 70% by mass and the balance is acrylate, it is preferable because it has good sensitivity, bleeding characteristics and odor characteristics.

(2-1-4)重合性化合物の添加量
本発明の重合性化合物の添加量は、例えば、本発明の上記インクジェット記録用インクの全質量に対し、1〜97質量%であり、より好ましくは30〜95質量%である。
(2-1-4) Addition amount of polymerizable compound The addition amount of the polymerizable compound of the present invention is, for example, 1 to 97% by mass with respect to the total mass of the ink jet recording ink of the present invention, and more preferably. Is 30-95 mass%.

(2-2)色材
本発明の色材としては、特に制限はないが、耐候性に優れた顔料が好ましく、溶解性染料及び油性染料等の任意の公知の色材が使用できる。従来、インクジェット記録用インクに使用し得る色材として、一般的な染料を使用することができなかった。これは、染料は、重合反応において重合禁止剤として機能するため、放射線の感度が低下するという問題があるからである。しかし、本発明の重合開始系では、発生する活性種の量が多くなるので、このような色材も使用することができる。
本発明の色材としては、特に限定されるわけではないが、例えばカラーインデックスに記載される下記の番号の有機又は無機顔料が使用できる。
(2-2) Color Material The color material of the present invention is not particularly limited, but a pigment excellent in weather resistance is preferable, and any known color material such as a soluble dye and an oily dye can be used. Conventionally, a general dye could not be used as a coloring material that can be used in ink jet recording ink. This is because the dye functions as a polymerization inhibitor in the polymerization reaction, so that there is a problem that the sensitivity of radiation is lowered. However, since the amount of active species generated in the polymerization initiation system of the present invention increases, such a coloring material can also be used.
Although it does not necessarily limit as a coloring material of this invention, For example, the organic or inorganic pigment of the following number described in a color index can be used.

即ち、赤あるいはマゼンタ顔料としては、Pigment Red 3、5、19、22、31、38、43、48:1、48:2、48:3、48:4、48:5、49:1、53:1、57:1、57:2、58:4、63:1、81、81:1、81:2、81:3、81:4、88、104、108、112、122、123、144、146、149、166、168、169、170、177、178、179、184、185、208、216、226、257、Pigment Violet 3、19、23、29、30、37、50、88、Pigment Orange 13、16、20、36、青又はシアン顔料としては、Pigment Blue 1、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、17−1、22、27、28、29、36、60、緑顔料としては、Pigment Green 7、26、36、50、黄顔料としては、Pigment Yellow 1、3、12、13、14、17、34、35、37、55、74、81、83、93、94,95、97、108、109、110、137、138、139、153、154、155、157、166、167、168、180、185、193、黒顔料としては、Pigment Black 7、28、26、白色顔料としては、PigmentWhite 6,18,21などが目的に応じて使用できる。   That is, as red or magenta pigment, Pigment Red 3, 5, 19, 22, 31, 38, 43, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 48: 5, 49: 1, 53 : 1, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 63: 1, 81, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 88, 104, 108, 112, 122, 123, 144 146, 149, 166, 168, 169, 170, 177, 178, 179, 184, 185, 208, 216, 226, 257, Pigment Violet 3, 19, 23, 29, 30, 37, 50, 88, Pigment Orange 13, 16, 20, 36, blue or cyan pigments include Pigment Blue 1, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16 17-1, 22, 27, 28, 29, 36, 60, as green pigment, Pigment Green 7, 26, 36, 50, as yellow pigment, Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 17, 34, 35, 37, 55, 74, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 108, 109, 110, 137, 138, 139, 153, 154, 155, 157, 166, 167, 168, 180, 185, 193, Pigment Black 7, 28, 26 as the black pigment, and Pigment White 6, 18, 21, etc. as the white pigment can be used according to the purpose.

本発明の色材は、本発明のインクジェット記録用インクに添加された後、適度に当該インク内で分散されることを要する。色材の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等の各分散装置を用いることができる。
また、色材の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、その種類に特に制限はないが、好ましくは高分子分散剤を用いることであり、高分子分散剤としては、例えば、Zeneca社のSolsperseシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、本発明の色材100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。
色材は、本発明のインクジェット記録用インクに直接添加してもよいが、分散性向上のため、あらかじめ溶剤又は本発明に係る重合性化合物のような分散媒体に添加してもよい。溶剤が硬化画像に残留する場合の耐溶剤性の劣化並びに残留する溶剤のVOC(Volatile Organic Compound:揮発性有機化合物)の問題を避けるためにも、色材は、本発明の重合性化合物に添加することが好ましい。さらに使用する重合性化合物としては、最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
The color material of the present invention needs to be appropriately dispersed in the ink after being added to the ink for inkjet recording of the present invention. For dispersion of the color material, for example, a dispersion device such as a ball mill, a sand mill, an attritor, a roll mill, an agitator, a Henschel mixer, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a pearl mill, a wet jet mill, or a paint shaker can be used.
It is also possible to add a dispersant when dispersing the color material. The type of the dispersant is not particularly limited, but a polymer dispersant is preferably used, and examples of the polymer dispersant include Solsperse series manufactured by Zeneca. Moreover, it is also possible to use a synergist according to various pigments as a dispersion aid. These dispersants and dispersion aids are preferably added in an amount of 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the coloring material of the present invention.
The coloring material may be added directly to the ink jet recording ink of the present invention, but may be added in advance to a dispersion medium such as a solvent or a polymerizable compound according to the present invention in order to improve dispersibility. In order to avoid the deterioration of the solvent resistance when the solvent remains in the cured image and the problem of VOC (Volatile Organic Compound) of the remaining solvent, the coloring material is added to the polymerizable compound of the present invention. It is preferable to do. Further, as the polymerizable compound to be used, it is preferable in view of dispersion suitability to select a monomer having the lowest viscosity.

本発明の色材粒子の平均粒径は、例えば、0.08〜0.5μm、好ましくは0.1〜0.45μm、より好ましくは、0.15〜0.4μmであることが適当である。また、色材の最大粒径は、例えば0.3〜10μm、好ましくは0.3〜3μmであることが適当である。このような最大粒径となるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を設定することが適当である。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化感度を維持することができる。
本発明の色材は、全インク質量に対し、例えば、1〜10質量%、好ましくは2〜8質量%含有することが適当である。
The average particle diameter of the color material particles of the present invention is, for example, 0.08 to 0.5 μm, preferably 0.1 to 0.45 μm, and more preferably 0.15 to 0.4 μm. . The maximum particle size of the color material is, for example, 0.3 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm. It is appropriate to select the pigment, the dispersant, the dispersion medium, the dispersion conditions, and the filtration conditions so that the maximum particle size is obtained. By controlling the particle size, clogging of the head nozzle can be suppressed, and ink storage stability, ink transparency, and curing sensitivity can be maintained.
The color material of the present invention is contained in an amount of, for example, 1 to 10% by mass, preferably 2 to 8% by mass, based on the total ink mass.

(2-3)その他の成分
本発明のインクジェト記録用インクには、必要に応じて、他の成分を添加することができる。他の成分としては、例えば、重合禁止剤、溶剤、カチオン重合性モノマー等が挙げられる。
重合禁止剤は、保存性を高める観点から添加され得る。また、本発明のインクジェト記録用インクは、40〜80℃の範囲で加熱、低粘度化して射出することが好ましく、熱重合によるヘッド詰まりを防ぐためにも、重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤は、本発明のインクジェット記録用インク全量に対し、200〜20000ppm添加することが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ベンゾキノン、p−メトキシフェノール、TEMPO、TEMPOL、クペロンAl等が挙げられる。
(2-3) Other components Other components can be added to the ink for ink jet recording of the present invention, if necessary. Examples of other components include a polymerization inhibitor, a solvent, and a cationic polymerizable monomer.
A polymerization inhibitor may be added from the viewpoint of enhancing the storage stability. In addition, the ink for inkjet recording of the present invention is preferably ejected by heating and lowering the viscosity in the range of 40 to 80 ° C., and a polymerization inhibitor is preferably added to prevent clogging of the head due to thermal polymerization. The polymerization inhibitor is preferably added in an amount of 200 to 20000 ppm based on the total amount of the ink for inkjet recording of the present invention. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, benzoquinone, p-methoxyphenol, TEMPO, TEMPOL, and cuperon Al.

本発明に用いるインクジェット記録用インクが放射線硬化型インクであることに鑑み、インク着弾直後に速やかに反応しかつ硬化し得るよう、溶剤を含まないことが好ましい。しかし、インクの硬化速度等に影響がない限り、所定の溶剤を含めることができる。本発明において、溶剤としては、有機溶剤、水が使用できる。特に、有機溶剤は、被記録媒体(紙などの支持体)との密着性を改良するために添加され得る。有機溶剤を添加すると、VOCの問題が回避できるので有効である。有機溶剤の量は、本発明のインクジェット記録用インク全体の質量に対し、例えば、0.1〜5質量%、好ましくは0.1〜3質量%の範囲である。
インク色材の遮光効果による感度低下を防ぐ手段として、カチオン重合性化合物とカチオン重合開始剤との組み合わせ、及び、ラジカル重合性化合物とラジカル重合開始剤との組み合わせの他、これらの重合性化合物及び重合開始剤を併用したラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとしてもよい。
In view of the fact that the ink for ink jet recording used in the present invention is a radiation curable ink, it is preferable not to contain a solvent so that it can react quickly and be cured immediately after ink landing. However, a predetermined solvent can be included as long as it does not affect the curing speed of the ink. In the present invention, an organic solvent or water can be used as the solvent. In particular, an organic solvent can be added in order to improve the adhesion to a recording medium (support such as paper). The addition of an organic solvent is effective because the VOC problem can be avoided. The amount of the organic solvent is, for example, in the range of 0.1 to 5% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, with respect to the total mass of the ink for inkjet recording of the present invention.
As a means for preventing sensitivity deterioration due to the light-shielding effect of the ink coloring material, in addition to the combination of a cationic polymerizable compound and a cationic polymerization initiator, and a combination of a radical polymerizable compound and a radical polymerization initiator, these polymerizable compounds and A radical-cation hybrid type curable ink may be used in combination with a polymerization initiator.

この他に、必要に応じて公知の化合物を本発明のインクジェット記録用インクに添加することができる。例えば、界面活性剤、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類等を適宜選択して添加することができる。また、ポリオレフィンやPET等の被記録媒体への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤーを含有させることも好ましい。具体的には、特開2001−49200号公報の5〜6頁に記載されている高分子量の粘着性ポリマー(例えば、(メタ)アクリル酸と炭素数1〜20のアルキル基を有するアルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数3〜14の脂環属アルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数6〜14の芳香属アルコールとのエステルからなる共重合物)や、重合性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などが挙げられる。   In addition, a known compound can be added to the ink for ink jet recording of the present invention as necessary. For example, surfactants, leveling additives, matting agents, polyester resins for adjusting film properties, polyurethane resins, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins, waxes and the like are appropriately selected and added. be able to. In order to improve the adhesion to a recording medium such as polyolefin or PET, it is also preferable to contain a tackifier that does not inhibit the polymerization. Specifically, a high molecular weight adhesive polymer described in JP-A-2001-49200, pages 5 to 6 (for example, (meth) acrylic acid and an alcohol having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). An ester, a copolymer of (meth) acrylic acid and an alicyclic alcohol having 3 to 14 carbon atoms, a copolymer of an ester of (meth) acrylic acid and an aromatic alcohol having 6 to 14 carbon atoms), and polymerizability. Examples thereof include a low molecular weight tackifying resin having an unsaturated bond.

(2-4)インクジェット記録用インクの性質
本発明のインクジェット記録用インクは、上述のように、色材と、重合性化合物と、重合開始系とを含有するものである。これらの成分は、インクジェット記録用インク全体の質量に対して、色材が1〜10質量%、好ましくは、2〜8質量%、重合性化合物が、1〜97質量%、好ましくは、3〜95質量%、重合開始系が、0.01〜20質量%、好ましくは、0.1〜20質量%の量であって各成分の合計の質量%が100質量%となるように含有することが適当である。
得られたインクジェット記録用インクは、射出性を考慮し、射出時の温度(例えば、40〜80℃、好ましくは25〜30℃)において、粘度が、例えば、7〜30mPa・s、好ましくは7〜20mPa・sであることが好ましい。例えば、本発明のインクジェット記録用インクの室温(25〜30℃)での粘度は、35〜500mPa・s、好ましくは35〜200mPa・sである。本発明のインクジェット記録用インクは、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク浸透を回避し、未硬化モノマーの低減、臭気低減が可能となる。更にインク液滴着弾時のインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善される。
(2-4) Properties of Inkjet Recording Ink As described above, the inkjet recording ink of the present invention contains a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiation system. These components are 1 to 10% by mass, preferably 2 to 8% by mass, and 1 to 97% by mass of the polymerizable compound, preferably 3 to 3% by mass with respect to the total mass of the inkjet recording ink. 95% by mass and the polymerization initiation system is contained in an amount of 0.01 to 20% by mass, preferably 0.1 to 20% by mass, and the total mass% of each component is 100% by mass. Is appropriate.
The obtained ink for inkjet recording has a viscosity of, for example, 7 to 30 mPa · s, preferably 7 at a temperature at the time of ejection (for example, 40 to 80 ° C., preferably 25 to 30 ° C.) in consideration of ejection properties. It is preferably ˜20 mPa · s. For example, the viscosity of the ink for inkjet recording of the present invention at room temperature (25 to 30 ° C.) is 35 to 500 mPa · s, preferably 35 to 200 mPa · s. The composition ratio of the ink for inkjet recording of the present invention is preferably adjusted as appropriate so that the viscosity is in the above range. By setting the viscosity at room temperature high, even when a porous recording medium is used, ink penetration into the recording medium can be avoided, and uncured monomers and odors can be reduced. Furthermore, ink bleeding at the time of ink droplet landing can be suppressed, and as a result, the image quality is improved.

本発明のインクジェット記録用インクの表面張力は、例えば20〜30mN/m、好ましくは23〜28mN/mである。ポリオレフィン、PET、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲み及び浸透の観点から、20mN/m以上が好ましく、濡れ性の点はで30mN/m以下が好ましい。   The surface tension of the ink for inkjet recording of the present invention is, for example, 20 to 30 mN / m, preferably 23 to 28 mN / m. When recording on various recording media such as polyolefin, PET, coated paper, and non-coated paper, 20 mN / m or more is preferable from the viewpoint of bleeding and penetration, and the wettability is preferably 30 mN / m or less.

(3)インクジェット記録方法及び装置
本発明に好適に採用され得るインクジェット記録方法およびインクジェット記録装置について、以下説明する。
(3-1)インクジェット記録方法
本発明は、上記インクジェット記録用インクを、支持体(記録材料)上に噴射し、支持体上に着弾したインクに放射線を照射し、もってインクを硬化して画像を形成する方法を提供する。即ち、本発明は、
(a)支持体上に上記インクジェット記録用インクを適用する工程;
(b)上記インクジェット記録用インクに200〜600nm、好ましくは、300〜450nm、より好ましくは350〜420nmのピーク波長を有する放射線で、2000mJ/cm2以下、好ましくは、10〜2000mJ/cm2、より好ましくは、20〜1000mJ/cm2さらに好ましくは、50〜800mJ/cm2の出力で照射して上記インクジェット記録用インクを硬化する工程;及び
(c)硬化したインクジェット記録用インクが支持体上に画像を形成する工程、
を含む方法に関する。
(3) Inkjet recording method and apparatus An inkjet recording method and an inkjet recording apparatus that can be suitably employed in the present invention will be described below.
(3-1) Inkjet recording method The present invention is a method in which the ink jet recording ink is jetted onto a support (recording material), the ink landed on the support is irradiated with radiation, and the ink is cured to form an image. Provide a method of forming. That is, the present invention
(a) applying the ink jet recording ink onto a support;
(b) Radiation having a peak wavelength of 200 to 600 nm, preferably 300 to 450 nm, more preferably 350 to 420 nm in the ink jet recording ink, 2000 mJ / cm 2 or less, preferably 10 to 2000 mJ / cm 2 , more preferably, 20~1000mJ / cm 2 and even more preferably, a step of curing the inkjet ink by irradiating at an output of 50 to 800 mJ / cm 2; and
(c) a step in which the cured ink for ink jet recording forms an image on a support,
Relates to a method comprising:

さらに、本発明のインクジェット記録方法について、平版印刷版にインクジェット記録用インクを射出して画像を形成することを含む平版印刷版の作製方法を例に説明する。
本発明の平版印刷版は、親水性支持体と、該親水性支持体上に形成された疎水性画像とを有する。この平版印刷版の作製方法は、以下の工程;
(1)本発明のインクジェット記録用インクを前記親水性支持体上に射出する工程;及び
(2)前記インクを射出した親水性支持体表面に放射線を照射して前記インクを硬化し、以て前記インクが硬化してなる疎水性画像を前記親水性支持体上に形成する工程、
とを有する。
Furthermore, the ink jet recording method of the present invention will be described by taking as an example a method for preparing a lithographic printing plate including injecting an ink jet recording ink onto the lithographic printing plate to form an image.
The lithographic printing plate of the present invention has a hydrophilic support and a hydrophobic image formed on the hydrophilic support. This lithographic printing plate production method comprises the following steps:
(1) a step of ejecting the inkjet recording ink of the present invention onto the hydrophilic support; and
(2) a step of irradiating the surface of the hydrophilic support on which the ink has been ejected to cure the ink, thereby forming a hydrophobic image formed by curing the ink on the hydrophilic support;
And have.

(3-1-1)平版印刷版
ここで、平版印刷版は、支持体と、該支持体上に形成された画像とを有する。
従来、平版印刷版としては、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するいわゆるPS版が広く用いられてきた。このPS版の製造方法としては、通常、リスフィルムを介してマスク露光(面露光)した後、非露光部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。しかし、近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が求められるようになった。特に、リスフィルムを使用することなく、レーザー光のような嗜好性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査し、直接印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が開発されている。
このような走査露光を可能にする平版印刷版を得るための方式として、インクジェット記録用インクによって直接平版印刷版を作製する方法が挙げられる。これは、支持体、好ましくは親水性の支持体上にインクジェット方式等によってインクを吐出し、これを放射線に露光することにより、インクジェット記録用インクの部分が露光して所望の画像(好ましくは、疎水性画像)を有する印刷版を得るものである。このような方式に適したインクジェット記録用インクが本件発明のインクジェット記録用インクである。
本発明のインクジェット記録用インクが射出される支持体(被記録媒体)としては、特に限定されず、寸度的に安定な板状の支持体であればよい。支持体は、親水性の支持体であることが好ましい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。なかでも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
(3-1-1) Lithographic printing plate Here, the lithographic printing plate has a support and an image formed on the support.
Conventionally, so-called PS plates having a configuration in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support have been widely used as lithographic printing plates. As a method for producing the PS plate, a desired printing plate is usually obtained by performing mask exposure (surface exposure) through a lith film and then dissolving and removing the non-exposed portion. However, in recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread, and a new image output method corresponding to the technique has been demanded. In particular, Computer-to-Plate (CTP) technology has been developed that scans highly-preferred light such as laser light according to digitized image information without using a lithographic film, and directly produces printing plates. Yes.
As a method for obtaining a lithographic printing plate that enables such scanning exposure, a method of directly producing a lithographic printing plate with an ink jet recording ink can be mentioned. This is because the ink is ejected onto a support, preferably a hydrophilic support by an ink jet method or the like, and this is exposed to radiation, whereby the ink jet recording ink portion is exposed to form a desired image (preferably, A printing plate having a hydrophobic image) is obtained. An ink jet recording ink suitable for such a method is the ink jet recording ink of the present invention.
The support (recording medium) on which the ink jet recording ink of the present invention is ejected is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like support. The support is preferably a hydrophilic support. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又は、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましい。
アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.
Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いてもかまわない。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Also, a transfer method in which the uneven shape is transferred with a roll provided with unevenness in the aluminum rolling step may be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.
The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成
される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでも良いが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, the surface of the anodized film described in JP-A-2001-253181 and JP-A-2001-322365 may be enlarged or sealed, and immersed in an aqueous solution containing a hydrophilic compound. A hydrophilic treatment or the like can be appropriately selected and performed. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

〔封孔処理〕
封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。
[Sealing treatment]
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable. Each will be described below.

<無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理>
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
<Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound>
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Of these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。
The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.
It is preferable that the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。
水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。
水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合
物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回又は複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Of these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.
The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

<水蒸気による封孔処理>
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧又は常圧の水蒸気を連続的に又は非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。
水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105Pa)であるのが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<Sealing treatment with water vapor>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method of bringing pressurized or normal pressure water vapor into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

<熱水による封孔処理>
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)又は有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。
また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
本発明に用いられる親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウムなどの水溶液で浸漬処理し、又は電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。
本発明の支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
<Sealing treatment with hot water>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.
Examples of the hydrophilization treatment used in the present invention include US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There is an alkali metal silicate method as described in the book. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described in each specification of No. 272.
The support of the present invention preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.

(3-1-2)インクジェット記録用インクを前記親水性支持体上に射出する工程
本発明のインクジェット記録用インクを上記親水性支持体の表面上に射出する場合、インクジェット記録用インクを40〜80℃、好ましくは25〜30℃に加熱して、インク組成物の粘度を7〜30mPa・s、好ましくは7〜20mPa・sに下げた後に射出することが好ましい。特に、25℃におけるインク粘度が35〜500MP・sのインク組成物を用いると大きな効果を得ることが出来る。この方法を用いることにより、高い射出安定性を実現することができる。本発明のインクのような放射線硬化型インクジェット記録用インクは、概して通常インクジェット記録用インクで使用される水性インクより粘度が高いため、印字時の温度変動による粘度変動が大きい。インクの粘度変動は、液滴サイズの変化及び液滴射出速度の変化に対して大きな影響を与え、ひいては画質劣化を引き起こす。従って、印字時のインクの温度はできるだけ一定に保つことが必要である。よって、本発明温度の制御幅は、設定温度の±5℃、好ましくは設定温度の±2℃、より好ましくは設定温度±1℃とすることが適当である。
(3-1-2) Step of Injecting Inkjet Recording Ink onto the Hydrophilic Support When the inkjet recording ink of the present invention is ejected onto the surface of the hydrophilic support, the inkjet recording ink is 40 to The ink composition is preferably ejected after being heated to 80 ° C., preferably 25 to 30 ° C., to lower the viscosity of the ink composition to 7 to 30 mPa · s, preferably 7 to 20 mPa · s. In particular, when an ink composition having an ink viscosity of 35 to 500 MP · s at 25 ° C. is used, a great effect can be obtained. By using this method, high injection stability can be realized. A radiation curable ink jet recording ink such as the ink of the present invention generally has a higher viscosity than a water-based ink generally used in ink jet recording inks, and therefore has a large viscosity fluctuation due to temperature fluctuations during printing. The ink viscosity fluctuation has a great influence on the change in the droplet size and the change in the ejection speed of the droplets, thereby causing deterioration of the image quality. Therefore, it is necessary to keep the temperature of ink at the time of printing as constant as possible. Therefore, it is appropriate that the control range of the temperature of the present invention is the set temperature ± 5 ° C., preferably the set temperature ± 2 ° C., more preferably the set temperature ± 1 ° C.

(3-1-3)インクを射出した親水性支持体上に放射線を照射して前記インクを硬化する工程
親水性支持体の表面上に射出された上記インクは、放射線を照射することによって硬化する。これは、本発明の上記インクジェット記録用インクに含まれる重合開始系中の増感色素が放射線を吸収して励起状態となり、重合開始系中の重合開始剤と接触することによって重合開始剤が分解し、もって重合性化合物がラジカル重合して硬化するためである。
ここで、使用される放射線は、α線、γ線、電子線、X線、紫外線、可視光又は赤外光などが使用され得る。放射線のピーク波長は、増感色素の吸収特性にもよるが、例えば、200〜600nm、好ましくは、300〜450nm、より好ましくは、350〜450nmであることが適当である。また、本発明の重合開始系は、低出力の放射線であっても十分な感度を有するものである。従って、放射線の出力は、例えば、2000mJ/cm2以下、好ましくは、10〜2000mJ/cm2、より好ましくは、20〜1000mJ/cm2、さらに好ましくは、50〜800mJ/cm2の照射エネルギーであることが適当である。また、放射線は、露光面照度が、例えば、10〜2000mW/cm2、好ましくは、20〜1000mW/cm2で照射されることが適当である。
(3-1-3) Step of curing the ink by irradiating the hydrophilic support on which the ink has been ejected The ink ejected on the surface of the hydrophilic support is cured by irradiating the radiation. To do. This is because the sensitizing dye in the polymerization initiation system contained in the ink for ink jet recording of the present invention absorbs radiation to be in an excited state, and the polymerization initiator is decomposed by contact with the polymerization initiator in the polymerization initiation system. This is because the polymerizable compound is cured by radical polymerization.
Here, α-rays, γ-rays, electron beams, X-rays, ultraviolet rays, visible light, infrared light, or the like can be used as the radiation used. The peak wavelength of the radiation is, for example, 200 to 600 nm, preferably 300 to 450 nm, more preferably 350 to 450 nm, depending on the absorption characteristics of the sensitizing dye. In addition, the polymerization initiation system of the present invention has sufficient sensitivity even with low output radiation. Thus, the output of radiation, for example, 2000 mJ / cm 2 or less, preferably, 10 to 2000 mJ / cm 2, more preferably, 20~1000mJ / cm 2, more preferably, irradiation energy of 50 to 800 mJ / cm 2 It is appropriate to be. Moreover, it is appropriate that the radiation is irradiated at an exposure surface illuminance of, for example, 10 to 2000 mW / cm 2 , preferably 20 to 1000 mW / cm 2 .

本発明の上記インクジェット記録用インクは、このような放射線に、例えば、0.01〜120秒、好ましくは、0.1〜90秒照射されることが適当である。
放射線の照射条件並びに基本的な照射方法は、特開昭60−132767号公報に開示されている。具体的には、インクの射出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニットと光源を走査することによって行われる。放射線の照射は、インク着弾後、一定時間(例えば、0.01〜0.5秒、好ましくは、0.01〜0.3秒、より好ましくは、0.01〜0.15秒)をおいて行われることになる。このようにインク着弾から照射までの時間を極短時間に制御することにより、被記録媒体に着弾したインクが硬化前に滲むことを防止するこが可能となる。また、多孔質な被記録媒体に対しても光源の届かない深部までインクが浸透する前に露光することができる為、未反応モノマーの残留を抑えられ、その結果として臭気を低減することができる。
更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させてもよい。WO99/54415号では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法やコリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。
The ink for ink jet recording of the present invention is appropriately irradiated with such radiation for, for example, 0.01 to 120 seconds, preferably 0.1 to 90 seconds.
Radiation irradiation conditions and a basic irradiation method are disclosed in JP-A-60-132767. Specifically, the light source is provided on both sides of the head unit including the ink ejection device, and the head unit and the light source are scanned by a so-called shuttle method. Irradiation of radiation takes a certain time (for example, 0.01 to 0.5 seconds, preferably 0.01 to 0.3 seconds, more preferably 0.01 to 0.15 seconds) after ink landing. Will be done. In this way, by controlling the time from ink landing to irradiation to an extremely short time, it is possible to prevent the ink that has landed on the recording medium from spreading before curing. Further, since the ink can be exposed to a porous recording medium before the ink penetrates to a deep part where the light source does not reach, residual unreacted monomer can be suppressed, and as a result, odor can be reduced. .
Further, the curing may be completed by another light source that is not driven. In WO99 / 54415, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method in which a collimated light source is applied to a mirror surface provided on the side surface of the head unit to irradiate the recording unit with UV light is disclosed.

上述したようなインクジェット記録方法を採用することにより、表面の濡れ性が異なる様々な被記録媒体に対しても、着弾したインクのドット径を一定に保つことができ、画質が向上する。なお、カラー画像を得るためには、明度の低い色から順に重ねていくことが好ましい。明度の低いインクから順に重ねることにより、下部のインクまで照射線が到達しやすくなり、良好な硬化感度、残留モノマーの低減、臭気の低減、密着性の向上が期待できる。また、照射は、全色を射出してまとめて露光することが可能だが、1色毎に露光するほうが、硬化促進の観点で好ましい。
このようにして、本発明の上記インクジェット記録用インクは、放射線の照射により硬化し、疎水性画像を前記親水性支持体表面上に形成する。
By adopting the ink jet recording method as described above, the dot diameter of the landed ink can be kept constant even on various recording media having different surface wettability, and the image quality is improved. In addition, in order to obtain a color image, it is preferable to superimpose in order from the color with the lowest brightness. By superimposing the inks in the order of low lightness, the irradiation line can easily reach the lower ink, and good curing sensitivity, reduction of residual monomers, reduction of odor, and improvement of adhesion can be expected. Irradiation can be performed by injecting all colors and exposing them together, but exposure for each color is preferable from the viewpoint of curing acceleration.
In this way, the ink for inkjet recording of the present invention is cured by irradiation with radiation, and forms a hydrophobic image on the surface of the hydrophilic support.

(3-2)インクジェット記録装置
本発明に用いられるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、市販のインクジェット記録装置が使用できる。即ち、本発明においては、市販のインクジェット記録装置を用いて被記録媒体へ記録することができる。
本発明のインクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、放射線源を含む。
インク供給系は、例えば、本発明の上記インクジェット記録用インクを含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、1〜100pl、好ましくは、8〜30plのマルチサイズドットを例えば、320×320〜4000×4000dpi、好ましくは、400×400〜1600×1600dpi、より好ましくは、720×720dpiの解像度で射出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうdpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す。
(3-2) Inkjet recording apparatus The inkjet recording apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a commercially available inkjet recording apparatus can be used. That is, in the present invention, recording can be performed on a recording medium using a commercially available inkjet recording apparatus.
The ink jet recording apparatus of the present invention includes, for example, an ink supply system, a temperature sensor, and a radiation source.
The ink supply system includes, for example, an original tank containing the ink jet recording ink of the present invention, a supply pipe, an ink supply tank immediately before the ink jet head, a filter, and a piezo ink jet head. The piezo-type inkjet head has a multi-size dot of 1 to 100 pl, preferably 8 to 30 pl, for example, 320 × 320 to 4000 × 4000 dpi, preferably 400 × 400 to 1600 × 1600 dpi, and more preferably 720 × 720 dpi. It can drive so that it can inject with the resolution of. In the present invention, dpi represents the number of dots per 2.54 cm.

上述したように、放射線硬化型インクは、射出されるインクを一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱および加温を行うことができる。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、あるいは熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うとともに、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。 As described above, since it is desirable that the radiation curable ink has a constant temperature for the ejected ink, heat insulation and heating can be performed from the ink supply tank to the inkjet head portion. The temperature control method is not particularly limited, but for example, it is preferable to provide a plurality of temperature sensors at each piping site and perform heating control according to the ink flow rate and the environmental temperature. The temperature sensor can be provided in the vicinity of the ink supply tank and the nozzle of the inkjet head. Moreover, it is preferable that the head unit to be heated is thermally shielded or insulated so that the apparatus main body is not affected by the temperature from the outside air. In order to shorten the printer start-up time required for heating or to reduce the loss of thermal energy, it is preferable to insulate from other parts and reduce the heat capacity of the entire heating unit.

放射線源としては、水銀ランプやガス・固体レーザー等が主に利用されており、紫外線光硬化型インクジェットには、水銀ランプ、メタルハライドランプが広く知られている。しかしながら、現在環境保護の観点から水銀フリー化が強く望まれており、GaN系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用である。更にLED(UV−LED),LD(UV−LD)は小型、高寿命、高効率、低コストであり、光硬化型インクジェット用光源として期待されている。
また、発光ダイオード(LED)及びレーザーダイオード(LD)を放射線源として用いることが可能である。特に、紫外線源を要する場合、紫外LED及び紫外LDを使用することができる。例えば、日亜化学(株)は、主放出スペクトルが365nmと420nmとの間の波長を有する紫色LEDを上市している。更に一層短い波長が必要とされる場合、米国特許番号第6,084,250号明細書は、300nmと370nmとの間に中心付けされた放射線を放出し得るLEDを開示している。また、他の紫外LEDも、入手可能であり、異なる紫外線帯域の放射を照射することができる。本発明で特に好ましい放射線源は、UV−LEDであり、特に好ましくは、350〜420nmにピーク波長を有するUV−LEDである。
As a radiation source, a mercury lamp, a gas / solid laser or the like is mainly used, and a mercury lamp and a metal halide lamp are widely known as ultraviolet light curable ink jets. However, from the viewpoint of environmental protection, mercury-free is strongly desired, and replacement with a GaN-based semiconductor ultraviolet light-emitting device is very useful industrially and environmentally. Furthermore, LED (UV-LED) and LD (UV-LD) are small, have a long life, have high efficiency, and are low in cost, and are expected as light sources for photocurable ink jets.
In addition, a light emitting diode (LED) and a laser diode (LD) can be used as a radiation source. In particular, when an ultraviolet light source is required, an ultraviolet LED and an ultraviolet LD can be used. For example, Nichia Corporation has launched a purple LED whose main emission spectrum has a wavelength between 365 nm and 420 nm. When even shorter wavelengths are required, US Pat. No. 6,084,250 discloses an LED that can emit radiation centered between 300 nm and 370 nm. Other ultraviolet LEDs are also available and can emit radiation in different ultraviolet bands. Particularly preferred radiation sources in the present invention are UV-LEDs, and particularly preferred are UV-LEDs having a peak wavelength in the range of 350 to 420 nm.

以下実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例における形態に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the embodiments in these examples.

<色材分散物の調製>
下記に記載の方法に従って、イエロー、マゼンタ、シアン及びブラックの各顔料を用い、各色材の分散物を調製した。各顔料は、高分子分散剤を用いて分散し、顔料分散物とした。なお、分散条件は、各顔料粒子の平均粒径が0.2〜0.3μmの範囲となるように、公知の分散装置(ペイイントシェーカー)を用いて、分散条件を適宜調整して行い、次いで加熱した後、フィルター濾過を行って調製した。
<Preparation of colorant dispersion>
According to the method described below, each colorant dispersion was prepared using yellow, magenta, cyan, and black pigments. Each pigment was dispersed using a polymer dispersant to obtain a pigment dispersion. In addition, the dispersion conditions are performed by appropriately adjusting the dispersion conditions using a known dispersion device (pain shaker) so that the average particle diameter of each pigment particle is in the range of 0.2 to 0.3 μm. Subsequently, after heating, it filtered and filtered and prepared.

(イエロー色材分散物1)

Figure 2006137876
(マゼンタ色材分散物1)
Figure 2006137876
(Yellow color material dispersion 1)
Figure 2006137876
(Magenta colorant dispersion 1)
Figure 2006137876

(マゼンタ色材分散物2)

Figure 2006137876






(シアン色材分散物1)
Figure 2006137876
(ブラック色材分散物1)
Figure 2006137876
(Magenta colorant dispersion 2)
Figure 2006137876






(Cyan colorant dispersion 1)
Figure 2006137876
(Black color material dispersion 1)
Figure 2006137876

[実施例1]
<インクジェット記録用インクの調製>
上記のように調製した各色材分散物1を用いて、下記に記載の方法に従い各色のインクジェット記録用インクを調製した。
[Example 1]
<Preparation of ink for ink jet recording>
Using each color material dispersion 1 prepared as described above, inks for ink-jet recording of each color were prepared according to the method described below.

(イエローインク1:実施例1−1)

Figure 2006137876
(Yellow ink 1: Example 1-1)
Figure 2006137876

ここで、2官能芳香族ウレタンアクリレートA(分子量1500):

Figure 2006137876








Here, bifunctional aromatic urethane acrylate A (molecular weight 1500):
Figure 2006137876








6官能脂肪族ウレタンアクリレートB(分子量1000):

Figure 2006137876
Hexafunctional aliphatic urethane acrylate B (molecular weight 1000):
Figure 2006137876

Figure 2006137876
である。






Figure 2006137876
It is.






(マゼンタインク1:実施例1−2)

Figure 2006137876
(Magenta ink 1: Example 1-2)
Figure 2006137876

ここで、増感色素B:

Figure 2006137876
Figure 2006137876
Here, sensitizing dye B:
Figure 2006137876
Figure 2006137876

Figure 2006137876
である。
Figure 2006137876
It is.

(シアンインク1:実施例1−3)

Figure 2006137876
(Cyan ink 1: Example 1-3)
Figure 2006137876

ここで、増感色素C:

Figure 2006137876
Figure 2006137876
である。 Here, sensitizing dye C:
Figure 2006137876
Figure 2006137876
It is.

(ブラックインク1:実施例1−4)

Figure 2006137876







(Black ink 1: Example 1-4)
Figure 2006137876







ここで、増感色素D:

Figure 2006137876
である。 Here, sensitizing dye D:
Figure 2006137876
It is.

以上の様にして調製した粗製の各色のインク1は、絶対ろ過精度2μmのフィルターにてろ過し、各色のインク1とした。   The crude ink 1 of each color prepared as described above was filtered through a filter having an absolute filtration accuracy of 2 μm to obtain ink 1 of each color.

[実施例2〜5]
<インクの調製>
マゼンタ色材分散物1及び2を使用し、以下に記載の方法に従って、マゼンタインク2〜5を調製した。
[Examples 2 to 5]
<Preparation of ink>
Using magenta color material dispersions 1 and 2, magenta inks 2 to 5 were prepared according to the method described below.

(マゼンタインク2:実施例2)

Figure 2006137876
(Magenta ink 2: Example 2)
Figure 2006137876

(マゼンタインク3:実施例3)

Figure 2006137876
(Magenta ink 3: Example 3)
Figure 2006137876

ここで、ラクトン変性アクリレートA(分子量458):

Figure 2006137876
である。 Here, lactone-modified acrylate A (molecular weight 458):
Figure 2006137876
It is.

(マゼンタインク4:実施例4)

Figure 2006137876
(Magenta ink 4: Example 4)
Figure 2006137876

ここで、重合開始剤B:

Figure 2006137876
である。 Here, polymerization initiator B:
Figure 2006137876
It is.

(マゼンタインク5:実施例5)

Figure 2006137876
(Magenta ink 5: Example 5)
Figure 2006137876

ここで、増感色素E:

Figure 2006137876
である。 Here, sensitizing dye E:
Figure 2006137876
It is.

[比較例1〜2]
<インクの調製>
以下に記載の方法に従って、マゼンタインク6〜7を調製した。





(マゼンタインク6:比較例1)

Figure 2006137876
[Comparative Examples 1-2]
<Preparation of ink>
Magenta inks 6-7 were prepared according to the method described below.





(Magenta ink 6: Comparative example 1)
Figure 2006137876

(マゼンタインク7:比較例2)

Figure 2006137876
(Magenta ink 7: Comparative example 2)
Figure 2006137876

上記実施例および比較例で作成したインク組成物において、射出温度でのインク粘度は、7〜20mPa.sの範囲内であった。   In the ink compositions prepared in the above examples and comparative examples, the ink viscosity at the ejection temperature is 7 to 20 mPa.s. It was within the range of s.

<インクジェット画像記録>
以上のようにして調製した実施例及び比較例のインクを用いて、画像印字を行った。
画像印字は、ピエゾ型インクジェットノズルを有する市販のインクジェット記録装置を用いて、支持体(被記録媒体)へ記録することにより行った。
使用した支持体(被記録媒体)としては、砂目立てしたアルミニウム支持体、印刷適性を持たせた表面処理済みの透明二軸延伸ポリプロピレンフィルム、軟質塩化ビニルシート、キャストコート紙、市販の再生紙を使用した。
インクジェット記録装置のインク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱および加温を行った。温度センサーは、インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が常に70℃±2℃となるよう、温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、8〜30plのマルチサイズドットを720×720dpiの解像度で射出できるよう駆動した。着弾後はピーク波長395nmのUV―LED光を露光面照度100mW/cm2、に集光し、被記録媒体上にインク着弾した0.1秒後に照射が始まるよう露光系、主走査速度及び射出周波数を調整した。また、露光時間を可変とし、露光エネルギーを照射した。なお、本発明でいうdpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す。
<Inkjet image recording>
Image printing was performed using the inks of Examples and Comparative Examples prepared as described above.
Image printing was performed by recording on a support (recording medium) using a commercially available inkjet recording apparatus having a piezoelectric inkjet nozzle.
As the support (recording medium) used, a grained aluminum support, a surface-treated transparent biaxially oriented polypropylene film with printability, a soft vinyl chloride sheet, cast coated paper, and commercially available recycled paper were used. used.
The ink supply system of the ink jet recording apparatus includes an original tank, a supply pipe, an ink supply tank immediately before the ink jet head, a filter, and a piezo ink jet head, and heat insulation and heating are performed from the ink supply tank to the ink jet head portion. Temperature sensors were provided near the ink supply tank and the nozzles of the ink jet head, respectively, and temperature control was performed so that the nozzle portions were always 70 ° C. ± 2 ° C. The piezo-type inkjet head was driven so that 8 to 30 pl multi-size dots could be ejected at a resolution of 720 × 720 dpi. After landing, UV-LED light with a peak wavelength of 395 nm is condensed to an exposure surface illuminance of 100 mW / cm 2 , and the exposure system, main scanning speed, and emission are set so that irradiation starts 0.1 seconds after ink landing on the recording medium. The frequency was adjusted. Further, the exposure time was variable, and exposure energy was irradiated. In the present invention, dpi represents the number of dots per 2.54 cm.

実施例及び比較例の各インクを用い、環境温度25℃にて、インクを射出し、上記UV−LED光を照射した。実施例1−1〜1−4については、ブラック→シアン→マゼンタ→イエローの順に射出し、1色毎にUV−LED光を照射した(これらをまとめて実施例1とする)。触診で粘着性が無くなる様、完全に硬化するエネルギーとして、1色あたりのトータル露光エネルギーが一律300mJ/cm2で露光した。 Using each ink of the example and the comparative example, the ink was ejected at an environmental temperature of 25 ° C. and irradiated with the UV-LED light. In Examples 1-1 to 1-4, the light was emitted in the order of black → cyan → magenta → yellow and irradiated with UV-LED light for each color (collectively referred to as Example 1). In order to eliminate tackiness by palpation, the exposure was performed with a total exposure energy per color of 300 mJ / cm 2 as the energy for complete curing.

<インクジェット画像の評価>
各形成した画像について、下記に記載の方法に準じて、硬化に必要な感度、市販の再生紙における浸透性、砂目立てしたアルミニウム支持体でのインク滲み、密着性、耐刷性、保存安定性の評価を行った。
<Evaluation of inkjet image>
For each formed image, the sensitivity required for curing, penetrability in commercially available recycled paper, ink bleeding on a grained aluminum support, adhesion, printing durability, storage stability, in accordance with the method described below Was evaluated.

(硬化感度の測定)
紫外線照射後の画像面において、粘着感の無くなる露光エネルギー量(mJ/cm2)を硬化感度と定義した。数値が小さいものほど高感度であることを表す。
(Measurement of curing sensitivity)
The amount of exposure energy (mJ / cm 2 ) at which the sticky feeling disappears on the image surface after ultraviolet irradiation was defined as the curing sensitivity. The smaller the value, the higher the sensitivity.

(市販の再生紙に対する浸透性評価)
市販の再生紙に対し印字した画像について、下記の基準に従い浸透性の評価を行った。
○:殆ど浸透せず、残留モノマー臭もしない
△:僅かに浸透し、残留モノマー臭も僅かに認められる
×:明らかにインクが裏面側に浸透し、残留モノマー臭も強い
(Permeability evaluation for commercial recycled paper)
For images printed on commercially available recycled paper, permeability was evaluated according to the following criteria.
○: Almost no penetration and no residual monomer odor △: Slight penetration and slight residual monomer odor X: Clearly the ink penetrates the back side and the residual monomer odor is strong

(砂目立てしたアルミニウム支持体におけるインク滲み評価)
砂目立てしたアルミニウム支持体上に印字した画像について、下記の基準に従いインク滲みの評価を行った。
○:隣接するドット間の滲みが無い
△:僅かにドットが滲む
×:ドットが滲み、明らかに画像がぼやける
(Evaluation of ink bleeding on grained aluminum support)
For images printed on a grained aluminum support, ink bleeding was evaluated according to the following criteria.
○: No blur between adjacent dots Δ: Slightly blur dots ×: Dot blurs and the image is clearly blurred

(砂目立てしたアルミニウム支持体における密着性の評価)
上記作成した印字画像について、全く印字面に傷をつけない試料と、JISK 5400に準拠して、印字面上に1mm間隔で縦、横に11本の切れ目をいれ、1mm角の碁盤目を100個作った試料を作製し、各印字面上にセロテープ(登録商標)を貼り付け、90度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った印字画像あるいは碁盤目の状況について、下記の基準に則り評価した。
○:碁盤目テストでも、印字画像の剥がれが全く認められない
△:碁盤目テストでは若干のインク剥がれが認められるが、インク面に傷をつけなければ剥がれは殆ど認められない
×:両条件共に、簡単にセロテープ(登録商標)での剥がれが認められる
(Evaluation of adhesion in grained aluminum support)
With respect to the print image created above, a sample that does not scratch the print surface at all, and in accordance with JISK 5400, 11 cuts are made on the print surface at 1 mm intervals vertically and horizontally, and a 1 mm square grid is 100. Samples made individually are prepared, cellotape (registered trademark) is pasted on each printing surface, peeled off quickly at an angle of 90 degrees, and the remaining printed images or grids were evaluated according to the following criteria. did.
○: No peeling of the printed image is observed even in the cross cut test. Δ: Some peeling of the ink is recognized in the cross cut test, but almost no peeling is observed unless the ink surface is scratched. Easy to peel off with cello tape (registered trademark)

(耐刷性の評価)
上記で作成した砂目立てしたアルミニウム支持体上に印字した画像を印刷版として、ハイデルKOR−D機で印刷後、刷了枚数を耐刷性の指標として相対比較した(実施例1を100とした)。数値が大きいものほど高耐刷であり好ましい。
(Evaluation of printing durability)
The image printed on the grained aluminum support prepared above was used as a printing plate, and after printing with a Heidel KOR-D machine, the number of finished sheets was relatively compared as an index of printing durability (Example 1 was set to 100). ). A larger numerical value is preferable because it has a higher printing durability.

(保存安定性の評価)
作成したインクを75%RH、60℃で3日保存した後、射出温度でのインク粘度を測定し、インク粘度の増加分を、保存後/保存前の粘度比で表した。粘度が変化せず1.0に近いほうが保存安定性良好であり、1.5未満であれば保存安定性があると判断した。
これらの評価結果を表Aに示す。









(Evaluation of storage stability)
The prepared ink was stored at 75% RH and 60 ° C. for 3 days, and then the ink viscosity at the injection temperature was measured. The increase in the ink viscosity was expressed as the viscosity ratio after storage / before storage. It was judged that the storage stability was good when the viscosity did not change and was close to 1.0, and when it was less than 1.5, the storage stability was determined.
These evaluation results are shown in Table A.









表A

Figure 2006137876
Table A
Figure 2006137876

表Aより、本発明における特定増感色素を用いたインク組成物は、放射線の照射に対して高感度であり、紙への画像形成性においても高画質の画像を形成することができ、保存安定性も良好であり、また印刷版の作製に用いた場合であっても、高耐刷、かつ高画質の画像の形成が可能であることが分かる。
特に実施例1−1〜1−4のインクを組み合わせた実施例1においては、いずれの色もドットの滲みの無い高解像度の画像が得られた。更に、上質紙においてもインクが裏周りすることなく、十分にインクが硬化し、未反応モノマーによる臭気が殆どしなかった。また、フィルムに記録したインクには十分な可とう性があり、折り曲げてもインクにクラックが入ることは無く、セロテープ(登録商標)剥離による密着性テストにおいても問題無かった。
From Table A, the ink composition using the specific sensitizing dye in the present invention is highly sensitive to radiation irradiation, can form a high-quality image even in image-forming properties on paper, and is preserved. It can be seen that the stability is also good, and even when used for the production of a printing plate, it is possible to form images with high printing durability and high image quality.
In particular, in Example 1 in which the inks of Examples 1-1 to 1-4 were combined, a high-resolution image without dot bleeding was obtained for any color. Furthermore, even on high-quality paper, the ink was sufficiently cured without causing the ink to turn around, and there was almost no odor due to unreacted monomers. Further, the ink recorded on the film had sufficient flexibility, and the ink was not cracked even when it was bent, and there was no problem in the adhesion test by peeling the cello tape (registered trademark).

Claims (4)

色材と、重合性化合物と、重合開始系とを含有する、放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インクであって、前記重合開始系が、下記一般式(XIV)及び一般式(XVI)〜(XXVI)で表される化合物からなる群より選択される一種以上の化合物を含む増感色素と重合開始剤とを含むことを特徴とする、インクジェット記録用インク。
Figure 2006137876
(一般式(XIV)中、A1はS又はNR50を表し、ここでR50はアルキル基又はアリール基を表し、L2は隣接するA1及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R51及びR52はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、互いに結合して前記増感色素の酸性核を形成する非金属原子団を表し、WはO又はSを表す。)、
Figure 2006137876
(一般式(XVI)中、A2はS又はNR59を表し、ここでR59はアルキル基又はアリール基を表し、L4は隣接するA2及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)、
Figure 2006137876
(一般式(XVII)中、A3及びA4はそれぞれ独立にS、NR60又はNR63を表し、ここでR60及びR63はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、L5及びL6はそれぞれ独立に、隣接するA3、A4及び隣接する炭素原子と共同して前記増感色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R61及びR62はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する。)
Figure 2006137876
(一般式(XVIII)中、R66は芳香族環又はヘテロ環を表し、A5はO、S又はNR67を表し、R64、R65及びR67はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表すか、又は、R64とR67及びR65とR67はそれぞれ互いに結合して脂肪族環又は芳香族環を形成する。)
Figure 2006137876
(一般式(XIX)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、但し、R1およびR3のうちの少なくとも一つは、下記部分構造式(XIX-1)に示す一価の有機残基で表され、又は、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に、脂肪族環または芳香族環を形成するため結合する。
部分構造式(XIX-1)
Figure 2006137876
(部分構造式(XIX-1)中、R10は、一価の非金属原子団を表すか、又は、前記一般式(XIX)中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8またはR9と脂肪族環または芳香族環を形成するため結合し、Zは隣接する原子と共同して5員環酸性核を形成するのに必要な2価の非金属原子団を表す。))
Figure 2006137876
(一般式(XX)中、Rは一価の非金属原子団であり、Xは一価の非金属原子団であり、それぞれ互いに結合することができ、Yは5員環または6員環を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXI)中、Arは芳香環を表し、Aは−NR34、−SR5または−OR6を表し、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Z-は電荷の中和に必要なカウンターイオンを表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXII)中、Yは、独立に酸素原子または硫黄原子を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に水素原子以外の一価の非金属原子団を表し、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXIII)中、Xは、酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Aは炭素数20以下のアリール基またはヘテロアリール基を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXIV)中、Xは、酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXV)中、X1〜X5はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、Zはアリール基、またはヘテロアリール基を表す。)
Figure 2006137876
(一般式(XXVI)中、Yは隣接するNおよび炭素原子と共同して含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を表し、Xは一価の非金属原子団を表す。)
An ink for inkjet recording, which contains a coloring material, a polymerizable compound, and a polymerization initiation system and is curable by irradiation with radiation, wherein the polymerization initiation system comprises the following general formulas (XIV) and (XVI) An ink for inkjet recording, comprising a sensitizing dye containing at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by (XXVI) and a polymerization initiator.
Figure 2006137876
(In the general formula (XIV), A 1 represents S or NR 50 , wherein R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 2 represents the sensitization in cooperation with the adjacent A 1 and the adjacent carbon atom. Represents a non-metallic atomic group that forms a basic nucleus of the dye, and R 51 and R 52 each independently represent a monovalent non-metallic atomic group, or are bonded to each other to form an acidic nucleus of the sensitizing dye. And W represents O or S).
Figure 2006137876
(In the general formula (XVI), A 2 represents S or NR 59 , wherein R 59 represents an alkyl group or an aryl group, and L 4 represents the sensitization in combination with the adjacent A 2 and the adjacent carbon atom. Represents a non-metallic atomic group forming a basic nucleus of the dye, and R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group).
Figure 2006137876
(In General Formula (XVII), A 3 and A 4 each independently represent S, NR 60 or NR 63 , wherein R 60 and R 63 each independently represent an alkyl group or an aryl group, and L 5 and L 6 independently represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the sensitizing dye in combination with adjacent A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms, and R 61 and R 62 each independently Represents a non-valent metal valence group, or is bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XVIII), R 66 represents an aromatic ring or a hetero ring, A 5 represents O, S or NR 67 , and R 64 , R 65 and R 67 each independently represents a monovalent nonmetallic atom. Or R 64 and R 67 and R 65 and R 67 are bonded to each other to form an aliphatic ring or an aromatic ring.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XIX), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group, provided that , R 1 and R 3 are each represented by a monovalent organic residue represented by the following partial structural formula (XIX-1), or R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each independently bonded to form an aliphatic ring or an aromatic ring.
Partial structural formula (XIX-1)
Figure 2006137876
(In the partial structural formula (XIX-1), R 10 represents a monovalent nonmetallic atomic group, or R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 in the general formula (XIX). , R 6 , R 7 , R 8 or R 9 are bonded to form an aliphatic ring or an aromatic ring, and Z is divalent necessary to form a 5-membered acidic nucleus together with adjacent atoms. Represents a nonmetallic atomic group of
Figure 2006137876
(In the general formula (XX), R is a monovalent nonmetallic atomic group, X is a monovalent nonmetallic atomic group, and each can be bonded to each other, and Y is a 5-membered or 6-membered ring. To express.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXI), Ar represents an aromatic ring, A represents —NR 3 R 4 , —SR 5 or —OR 6 , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6. Each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and Z represents a counter ion necessary for charge neutralization.)
Figure 2006137876
(In General Formula (XXII), Y independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 1 and R 2 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group other than a hydrogen atom, and R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXIII), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently monovalent. Represents a nonmetallic atomic group, and A represents an aryl group or heteroaryl group having 20 or less carbon atoms.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXIV), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently monovalent. Represents a non-metallic atomic group.)
Figure 2006137876
(In the general formula (XXV), X 1 to X 5 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group, and Z represents an aryl group or a heteroaryl group.)
Figure 2006137876
(In general formula (XXVI), Y represents a nonmetallic atomic group that forms a nitrogen-containing heterocycle in cooperation with adjacent N and carbon atoms, and X represents a monovalent nonmetallic atomic group.)
支持体上に画像を形成する方法であって、
(a)前記支持体上に請求項1に記載のインクジェット記録用インクを適用する工程;
(b)前記インクジェット記録用インクに350〜420nmにピーク波長を有する放射線で2000mJ/cm2以下の照射エネルギーで照射して前記インクジェット記録用インクを硬化する工程;及び
(c)前記硬化したインクジェット記録用インクが前記支持体上に画像を形成する工程、
を含む方法。
A method of forming an image on a support, comprising:
(a) applying the inkjet recording ink according to claim 1 on the support;
(b) curing the inkjet recording ink by irradiating the inkjet recording ink with radiation having a peak wavelength of 350 to 420 nm with an irradiation energy of 2000 mJ / cm 2 or less; and
(c) the cured ink jet recording ink forms an image on the support,
Including methods.
前記インクジェット記録用インクに含まれる増感色素が、350〜420nmに吸収の極大値を有する、請求項2に記載の方法。   The method according to claim 2, wherein the sensitizing dye contained in the ink jet recording ink has a maximum value of absorption at 350 to 420 nm. 支持体と、該支持体上に形成された画像とを有する平版印刷版の作製方法であって、
(1)請求項1に記載のインクジェット記録用インクを前記支持体上に射出する工程;及び
(2)前記インクを射出した支持体上に放射線を照射して前記インクを硬化し、前記インクが硬化してなる画像を前記支持体上に形成する工程、
とを有する方法。
A method for producing a lithographic printing plate having a support and an image formed on the support,
(1) a step of ejecting the inkjet recording ink according to claim 1 onto the support; and
(2) A step of irradiating the support on which the ink is ejected to cure the ink and forming an image formed by curing the ink on the support;
And a method comprising:
JP2004329435A 2004-11-12 2004-11-12 Ink jet recording ink curable by radiation irradiation and lithographic printing plate preparation method using the same Expired - Fee Related JP4864311B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004329435A JP4864311B2 (en) 2004-11-12 2004-11-12 Ink jet recording ink curable by radiation irradiation and lithographic printing plate preparation method using the same
EP05024674.3A EP1657286B1 (en) 2004-11-12 2005-11-11 Radiation curable ink jet ink, comprising a polymerisation initiation sensitising dye
US11/272,367 US20060128823A1 (en) 2004-11-12 2005-11-14 Radiation curable inkjet recording ink, and method of producing planographic printing plate using same, and ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing a planographic printing plate, and planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004329435A JP4864311B2 (en) 2004-11-12 2004-11-12 Ink jet recording ink curable by radiation irradiation and lithographic printing plate preparation method using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006137876A true JP2006137876A (en) 2006-06-01
JP4864311B2 JP4864311B2 (en) 2012-02-01

Family

ID=36618889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004329435A Expired - Fee Related JP4864311B2 (en) 2004-11-12 2004-11-12 Ink jet recording ink curable by radiation irradiation and lithographic printing plate preparation method using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4864311B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008037930A (en) * 2006-08-02 2008-02-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd Photocurable inkjet ink
JP2014145053A (en) * 2013-01-30 2014-08-14 Hitachi Maxell Ltd Pigment dispersion and energy ray-curable inkjet ink
JP2017186419A (en) * 2016-04-04 2017-10-12 Dic株式会社 (meth)acrylate resin and printing ink
CN117264468A (en) * 2023-07-03 2023-12-22 高宝新材料(珠海)有限公司 UV (ultraviolet) jet printing ink for woven bags and preparation method thereof

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11256085A (en) * 1998-03-12 1999-09-21 Ricoh Co Ltd Ink composition for ink jet recording and process for directly producing machine plate
JP2000044857A (en) * 1998-05-29 2000-02-15 Brother Ind Ltd Thermally meltable ink and ink jet type recording device
JP2003221517A (en) * 2002-01-30 2003-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd Method for producing sensitized dye and photosensitive composition given by using the same
JP2004004145A (en) * 2002-03-27 2004-01-08 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate and its platemaking method
JP2004097955A (en) * 2002-09-10 2004-04-02 Konica Minolta Holdings Inc Polymer dispersant, and photosetting material and thermosetting material using the same
JP2004117669A (en) * 2002-09-25 2004-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable image recording material
JP2004258648A (en) * 2003-02-06 2004-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic printing plate
JP2004318049A (en) * 2003-03-31 2004-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition and novel compound using the same
JP2006152278A (en) * 2004-10-29 2006-06-15 Dainippon Ink & Chem Inc Active energy ray-curable inkjet recording ink

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11256085A (en) * 1998-03-12 1999-09-21 Ricoh Co Ltd Ink composition for ink jet recording and process for directly producing machine plate
JP2000044857A (en) * 1998-05-29 2000-02-15 Brother Ind Ltd Thermally meltable ink and ink jet type recording device
JP2003221517A (en) * 2002-01-30 2003-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd Method for producing sensitized dye and photosensitive composition given by using the same
JP2004004145A (en) * 2002-03-27 2004-01-08 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate and its platemaking method
JP2004097955A (en) * 2002-09-10 2004-04-02 Konica Minolta Holdings Inc Polymer dispersant, and photosetting material and thermosetting material using the same
JP2004117669A (en) * 2002-09-25 2004-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable image recording material
JP2004258648A (en) * 2003-02-06 2004-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic printing plate
JP2004318049A (en) * 2003-03-31 2004-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition and novel compound using the same
JP2006152278A (en) * 2004-10-29 2006-06-15 Dainippon Ink & Chem Inc Active energy ray-curable inkjet recording ink

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008037930A (en) * 2006-08-02 2008-02-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd Photocurable inkjet ink
JP2014145053A (en) * 2013-01-30 2014-08-14 Hitachi Maxell Ltd Pigment dispersion and energy ray-curable inkjet ink
JP2017186419A (en) * 2016-04-04 2017-10-12 Dic株式会社 (meth)acrylate resin and printing ink
CN117264468A (en) * 2023-07-03 2023-12-22 高宝新材料(珠海)有限公司 UV (ultraviolet) jet printing ink for woven bags and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4864311B2 (en) 2012-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1657286A2 (en) Radiation curable ink jet ink, comprising a polymerisation initiation sensitising dye
JP2006213862A (en) Ink composition, inkjet recording method, printed matter, method for making lithographic printing plate and the lithographic printing plate
JP4474317B2 (en) Preparation method of lithographic printing plate
JP2006335826A (en) Ink composition for inkjet recording and method for manufacturing planographic printing plate using the same
EP1721945B1 (en) Ink composition
JP4864311B2 (en) Ink jet recording ink curable by radiation irradiation and lithographic printing plate preparation method using the same
JP4572098B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2006160836A (en) Ink for ink jet recording curable by irradiating with radioactive ray and method for making lithographic printing plate using the same
JP2006267289A (en) Polymerizable composition and planographic printing original plate
JP2001133968A (en) Photosensitive composition
JP5204371B2 (en) INK COMPOSITION FOR INKJET RECORDING AND METHOD FOR PRODUCING A lithographic printing plate using this
JP4662762B2 (en) Ink jet recording ink and planographic printing plate using the same
JP2007238777A (en) Ink composition, inkjet recording method, printed matter, manufacturing method of lithographic printing plate, and lithographic printing plate
JP5189730B2 (en) Ink composition
JP5073231B2 (en) Ink composition, inkjet recording method, lithographic printing plate production method, and lithographic printing plate
JP2007051196A (en) Ink composition
JP2006241301A (en) Ink composition, inkjet recording method, printed article, method for producing planographic printing plate and planographic printing plate
US5939465A (en) Photopolymerizable composition
JP2004117555A (en) Photo or thermosetting composition
JP2006249224A (en) Ink composition
JP2006182990A (en) Ink composition for inkjet recording and method for preparing lithographic printing plate by using it
JP2007186566A (en) Ink composition, inkjet-recording method, printed matter, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing plate
JP2002116540A (en) Photosensitive composition and original plate for planographic printing using the same
JP2006241382A (en) Ink composition, inkjet recording method, printed article, planographic printing plate and method for producing the same
JP5005216B2 (en) Ink composition

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061205

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070307

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100804

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100823

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101021

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101115

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110704

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110901

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110926

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110929

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111017

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111109

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees