JP2006196505A - Semiconductor laser device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光情報処理装置の光源等に用いられる半導体レーザ装置(以下、半導体レーザと称する)に関するものであり、特にその半導体レーザチップ(以下、レーザチップと称する)を設置、収納するパッケージにおいて、レーザチップから出射されるレーザ光の中心軸(遠視野像における光強度分布の中心軸。以下、レーザ光軸という。)のパッケージ主面に対して垂直方向における傾斜を低減可能な半導体レーザの組立構造に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor laser device (hereinafter referred to as a semiconductor laser) used for a light source or the like of an optical information processing apparatus, and particularly in a package for installing and storing the semiconductor laser chip (hereinafter referred to as a laser chip). A semiconductor laser capable of reducing the inclination of the central axis of the laser light emitted from the laser chip (the central axis of the light intensity distribution in the far-field image; hereinafter referred to as the laser optical axis) in the direction perpendicular to the package main surface. The present invention relates to an assembly structure.
従来の半導体レーザのパッケージに用いられる組立構造において、レーザチップが搭載されるサブマウント、及びヒートシンク等の組立部材の形状は、直方体(立方体を含む、以下同様)で、その隣接する構成面は互いに直角をなしているため、レーザチップを設置する面はパッケージ主面に対して垂直となる。 In an assembly structure used in a conventional semiconductor laser package, the shape of assembly members such as a submount on which a laser chip is mounted and a heat sink is a rectangular parallelepiped (including a cube, the same applies hereinafter), and adjacent constituent surfaces are mutually Because of the right angle, the surface on which the laser chip is installed is perpendicular to the package main surface.
従って、上記組立部材により、レーザ光軸がレーザ共振器端面の垂直方向から傾斜したレーザチップをパッケージのステム上に組立てた場合、レーザ光軸もパッケージ主面の垂直方向から傾斜するという問題があった。 Therefore, when a laser chip whose laser optical axis is inclined from the vertical direction of the laser resonator end face is assembled on the package stem by the assembly member, there is a problem that the laser optical axis is also inclined from the vertical direction of the package main surface. It was.
このようなレーザ光軸がパッケージ主面から傾斜した半導体レーザを光ディスク書込装置の光ピックアップ等の光源として用いた場合、半導体レーザと光学系との光結合効率が悪くなり、DVD(Digital Versatile Disk)等の光ディスク書込用等の高出力動作が不可欠な用途においては、書込みに必要な十分な高い光密度がディスク面で安定して得られなくなり、書込みエラーが発生する等の問題があった。 When a semiconductor laser having such a laser optical axis tilted from the package main surface is used as a light source such as an optical pickup of an optical disk writing device, the optical coupling efficiency between the semiconductor laser and the optical system is deteriorated, and a DVD (Digital Versatile Disk) is obtained. In applications where high output operation such as for optical disk writing is indispensable, there is a problem that a sufficiently high light density necessary for writing cannot be stably obtained on the disk surface, and a writing error occurs. .
一方、レーザチップの活性層側表面をヒートシンクから離し、その基板側をヒートシンクに固着して設置した従来のジャンクションアップ方式による組立構造の半導体レーザにおいて、ヒートシンクのレーザチップ搭載面を斜めにカットして、レーザチップとヒートシンクとの固着面の延長面と、上記ステム主面とがなすヒートシンク側から見た角度を90°より大きくすることにより、上記レーザ光の光軸の傾斜を補償するキャンパッケージの構造が知られている(例えば特許文献1参照)。 On the other hand, the laser chip mounting surface of the heat sink is cut obliquely in a semiconductor laser with a conventional junction-up assembly structure in which the active layer side surface of the laser chip is separated from the heat sink and the substrate side is fixed to the heat sink. A can package that compensates for the inclination of the optical axis of the laser beam by making the angle seen from the heat sink side formed by the extension surface of the fixing surface of the laser chip and the heat sink and the main surface of the stem larger than 90 °. The structure is known (see, for example, Patent Document 1).
上記、従来の半導体レーザの組立構造においては、レーザチップとヒートシンクとの固着面の延長面と、ステム主面とがなすヒートシンク側の角度を90°より大きくしていたため、レーザ光軸がレーザ共振器端面の垂直方向に対し基板寄りに傾斜したレーザチップを、活性層に近い側のレーザチップ表面をヒートシンクに固着するジャンクションダウン方式の組立構造を用いた半導体レーザに適用した場合、レーザ光軸のステム主面の垂線に対する傾斜が一層大きくなるという問題が生じる。 In the above conventional semiconductor laser assembly structure, the angle of the heat sink side formed by the extension surface of the fixing surface of the laser chip and the heat sink and the main surface of the stem is larger than 90 °, so the laser optical axis is laser resonant. When a laser chip tilted closer to the substrate with respect to the vertical direction of the end face of the device is applied to a semiconductor laser using a junction-down assembly structure in which the laser chip surface close to the active layer is fixed to a heat sink, the laser optical axis There arises a problem that the inclination of the stem main surface with respect to the perpendicular is further increased.
この発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、大電流で駆動され発熱量の多い高出力半導体レーザに適した放熱性の良いジャンクションダウン方式の組立構造による半導体レーザに適用可能であり、かつキャンパッケージのステム主面に対して正確に垂直なレーザ光軸を有する半導体レーザの組立構造を実現することを目的とするものである。 The present invention has been made to solve the above problems, and can be applied to a semiconductor laser having a junction-down assembly structure with good heat dissipation suitable for a high-power semiconductor laser driven with a large current and generating a large amount of heat. An object of the present invention is to realize an assembly structure of a semiconductor laser having a laser optical axis that is exactly perpendicular to the stem main surface of the can package.
また、この発明の第2の目的は、従来の組立装置、工程をそのまま使うことが可能で、組立部材の変更等による組立コストの大きな増大を生ずることなく、ジャンクションアップ、またはジャンクションダウンのいずれの組立方式においても、光学的基準面であるステム主面に対して垂直なレーザ光を実現できる半導体レーザの組立構造を実現することを目的とするものである。 Further, the second object of the present invention is that the conventional assembling apparatus and process can be used as they are, and any of junction up or junction down can be performed without causing a large increase in assembly cost due to a change in assembly members or the like. The assembling method is also intended to realize a semiconductor laser assembling structure capable of realizing a laser beam perpendicular to a stem main surface which is an optical reference surface.
この発明に係る半導体レーザにおいては、レーザ光軸がレーザ共振器端面における垂線に対して基板側に傾斜したレーザチップと、その活性層側の表面が固着されたレーザチップ搭載用構造体をパッケージのステム上に設置するに際し、レーザ光軸がステム主面に対して垂直になるように、レーザチップとレーザチップ搭載用構造体とが固着された固着面の延長面とステム主面とがなすレーザチップ搭載用構造体側から見た角度が90°より小さくなる方向に上記固着面を傾けるようにした。 In the semiconductor laser according to the present invention, the laser chip whose laser optical axis is inclined toward the substrate side with respect to the perpendicular to the end face of the laser resonator and the laser chip mounting structure to which the active layer side surface is fixed are packaged. The laser formed by the stem main surface and the extension surface of the fixing surface to which the laser chip and the laser chip mounting structure are fixed so that the laser optical axis is perpendicular to the main surface of the stem when installed on the stem The fixing surface is inclined in a direction in which the angle viewed from the chip mounting structure side is smaller than 90 °.
この発明は、活性層から出射されるレーザ光軸がレーザ共振器端面における垂線に対して基板側に傾斜したレーザチップを、その活性層側の表面がレーザチップ搭載用構造体に固着された所謂ジャンクションダウンの形態で組立てる場合において、レーザ光軸の傾斜が、レーザチップ搭載用構造体及びステムの構造により補償され、レーザ光軸がパッケージの光学的基準面であるステム主面、または下面に対して正確に垂直な半導体レーザを実現できる。 The present invention is a so-called laser chip in which the laser optical axis emitted from the active layer is inclined to the substrate side with respect to the perpendicular to the end face of the laser resonator, and the surface on the active layer side is fixed to the laser chip mounting structure. When assembled in a junction-down configuration, the tilt of the laser optical axis is compensated by the structure of the laser chip mounting structure and the stem, and the laser optical axis is relative to the main surface of the stem, which is the optical reference surface of the package, or the lower surface. And a vertical semiconductor laser can be realized accurately.
この発明を実施するための実施の形態においては、AlGaInP系材料を用いた660nm帯の光ディスク書込用高出力半導体レーザ(以下高出力レーザと称する)について説明する。 In an embodiment for carrying out the present invention, a 660 nm band high-power semiconductor laser for optical disk writing (hereinafter referred to as a high-power laser) using an AlGaInP-based material will be described.
実施の形態1.
図1の(a)は、この発明を実施するための実施の形態1におけるキャンパッケージ(封止用のキャップは図示せず)のステム上に組立てられた半導体レーザの斜視図、図1の(b)は、図1の(a)の半導体レーザをレーザチップ1、サブマウント5、及びヒートシンク7aを含み、ステム主面25に垂直なA−A面で切断した断面図である。図中、同一の符号は、同一の構成要素を示す。
FIG. 1A is a perspective view of a semiconductor laser assembled on a stem of a can package (a sealing cap is not shown) according to Embodiment 1 for carrying out the present invention. FIG. 2B is a cross-sectional view of the semiconductor laser of FIG. 1A taken along the AA plane perpendicular to the stem
図1に示す本実施の形態1による半導体レーザにおいて、レーザチップ搭載用構造体(以下、チップ搭載用構造体という)はサブマウント5、及びこのサブマウント5を搭載したヒートシンク7aから構成され、サブマウント5は、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム9から離れるに従ってステム主面25に平行方向の幅が減少するような傾斜面51を有しており、この傾斜面51の上の一部をなしている固着面4に活性層3側の表面が接するようにレーザチップ1が固着して設置されている。
In the semiconductor laser according to the first embodiment shown in FIG. 1, a laser chip mounting structure (hereinafter referred to as a chip mounting structure) includes a
なお、サブマウント5は、その形状が直方体(立方体を含む、以下同様))であり、ヒートシンク7aの上の一部をなしている設置面6において、ヒートシンク7aに固着して設置されている。
また、上記ヒートシンク7aは、その形状が直方体であり、レーザ光の出射方向が、ステム主面25に対して概略垂直方向、すなわちステム9の上方になるような形態で、ステム主面25の上の設置面8において、ステム主面25に固着して設置されている。
In addition, the shape of the
The
ここに、レーザチップ1は、例えば半導体基板であるGaAs基板(以下、基板と称する)2上に、AlGaInP(アルミニウム・ガリウム・インジウム・リン)系材料によるダブルへテロ構造から形成された活性層3を含み、レーザチップ1の基板2の側の表面、及び活性層3の側の表面にはそれぞれ、金属薄膜及び金メッキ等からなる電極(図1中省略)が形成されている。
Here, the
また、ヒートシンク7aの材料としては、できるだけ熱伝導率が良く、また加工の容易な材料を用いる必要があり、例えば、銀(Ag)、銅(Cu)、鉄(Fe)、アルミニウム(Al)のうち少なくとも一種類を用いることができる。
In addition, as a material of the
レーザチップ1のダブルへテロ構造中の活性層3から出射されるレーザ光軸21は、レーザ共振器端面20における垂線22に対し角度θだけ基板2の側に傾斜している。この角度θは、レーザチップの内部構造、材料や製造プロセス等に依存するが、本実施の形態1に係る高出力レーザの場合は、0.5°〜5°程度である。
The laser
上記レーザ光軸21の傾斜の原因は、活性層3の上下の半導体層における実効的な屈折率分布の非対称性によるものであり、高出力レーザにおいては、高出力化及び高出力動作時の特性の安定化のために、設計上、活性層周辺で屈折率分布を非対称にする場合が多い(例えば “ High−Power 980−nm Ridge Waveguide Laser Diodes Including an Asymmetically Expanded Optical Field Normal to the Active Layer”, K.Shigihara et al., IEEE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONIS, VOL. 38,No.8,PP.1081 1088を参照)。
The cause of the inclination of the laser
図1の(a)、及び(b)において、レーザチップ1は、その活性層3側の表面が、サブマウント5、及びヒートシンク7aからなるチップ搭載用構造体のサブマウント5上の固着面4において、AuSn(金スズ)等の半田材により、ジャンクションダウン方式で固着されている。さらに、このサブマウント5は銀(Ag)等の金属からなるヒートシンク7a上に、同じくAuSn等の半田材を用いて固着されている。
1A and 1B, the
ここで、チップ搭載用構造体を構成するサブマウント5の形状は従来のような板状の直方体ではなく、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム9から離れるにつれてステム主面25に平行方向における幅(厚さ)が減少するような傾斜面51を有しており、そのステム主面25における垂線に対する傾斜角度βは、上記レーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値(β=θ)とする。この傾斜面51上の固着面4にレーザチップ1が固着されているので、レーザチップ1全体が実効的に反時計廻りの方向に傾斜することになる。
Here, the shape of the
これにより、レーザチップ1の固着面4の延長面23も、角度θと同角度だけヒートシンク7a側に傾斜し、上記延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7a側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。
この結果、図1の(b)に示すように、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部から見ると、見かけ上レーザ光の中心軸21がステム主面25に対し正確に垂直方向になるように補償される。
Accordingly, the
As a result, as shown in FIG. 1 (b), the inclination of the laser
なお、レーザ光軸21の傾斜する角度θは、本実施の形態1に係る高出力レーザの場合は、0.5°〜5°程度であるので、傾斜面51とステム主面25における垂線のなす角度βも0.5°〜5°とするのが良い。また、実際の上記α1の値としては、例えばレーザ光軸21の傾斜する角度をθ=3°とするとα1=(90−θ)°=87°となる。
Note that the angle θ at which the laser
実際の高出力レーザの製品においては、θは構造設計パラメータや製造プロセスにより、素子毎に一定の範囲でばらつくため、そのばらつきの中心値に合わせて、上記、α1(すなわち、サブマウントの傾斜角度β)を設定すれば、レーザ光軸21がステム主面25に対し正確に垂直になる様に補償された半導体レーザを高い歩留まりで得ることができる。
In actual high-power laser products, θ varies within a certain range for each element depending on the structural design parameters and the manufacturing process. Therefore, according to the center value of the variation, α1 (that is, the inclination angle of the submount) If β) is set, a semiconductor laser compensated so that the laser
なお、上記サブマウント5の材料として、基板2と熱膨張係数ができるだけ近く、かつ、熱伝導率の高い、例えば、シリコン(Si)、窒化アルミニウム(AlN)、炭化珪素(SiC)、ダイヤモンド(C)、銅タングステン(CuW)のうち少なくとも一種類を用いることにより、良好な温度特性、及び信頼性を有し、かつレーザ光軸21がステム主面25に対して正確に垂直となる半導体レーザを実現することができる。
As the material of the
また、ヒートシンク7aの材料として、熱伝導率が高く、加工の容易な銀(Ag)、銅(Cu)、鉄(Fe)、アルミニウム(Al)のうち少なくとも一種類の材料を用いることにより、低コストで、良好な温度特性を有し、レーザ光軸21がステム主面25に対して正確に垂直となる半導体レーザを実現することができる。
Further, as the material of the
このようなレーザ光軸がステム主面に対して正確に垂直な半導体レーザを実現することにより、半導体レーザ応用機器において半導体レーザと光学系との光結合効率を高めることができるため、動作電流が低く光学系の安定性が高い、すなわち、信頼性及び製造歩留まりの高い光ディスク書込用の光ピックアップ等を実現できるというメリットが生じる。 By realizing a semiconductor laser in which such a laser optical axis is accurately perpendicular to the main surface of the stem, the optical coupling efficiency between the semiconductor laser and the optical system can be increased in semiconductor laser application equipment. There is a merit that an optical pickup for writing optical discs and the like having low optical system stability and high reliability, that is, high reliability and manufacturing yield can be realized.
実施の形態2.
図2は実施の形態2による半導体レーザの構造を示す断面図である。 本実施の形態2では、図1の(a)、及び(b)の実施の形態1と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 2 is a sectional view showing the structure of the semiconductor laser according to the second embodiment. In the second embodiment, parts that are the same as or equivalent to those in the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only different parts are described. .
上記実施の形態1においてはサブマウント5に傾斜面51を設けたが、本実施の形態2においては、図2に示すようにサブマウント5は板状の直方体であり、ヒートシンク7bは、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステムから離れるに従ってステム主面25に平行方向の幅が減少するような傾斜面71を有している。この傾斜面71上の一部をなす設置面6にサブマウント5を設置し、サブマウント5上の表面の固着面4に活性層3側の表面が接するようにレーザチップ1を設置したものである。
In the first embodiment, the
ここで、ヒートシンク7bの傾斜面71において、その傾斜角度βは、前記レーザ光軸21の傾斜角θと同じ値(β=θ)に設定している。この傾斜面上の一部の設置面6に直方体のサブマウント5が設置されているため、上記実施の形態1と同様、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に傾斜することになる。
Here, on the
これにより、レーザチップ1の固着面4の延長面23も、θと同角度だけヒートシンク7b側に傾斜し、上記延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7b側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=90−θとなる。この結果、図2に示すように、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜角θはパッケージ外部から見ると見かけ上補償され、レーザ光軸21はステム主面25に対し正確に垂直になる。
As a result, the
なお、レーザ光軸21の傾斜角θは、本実施の形態1に係る高出力レーザの場合は、0.5°〜5°程度であるので、傾斜面71とステム主面25における垂線のなす角度βも0.5°〜5°とするのが良い。また、実際の上記α1の値としては、例えばレーザ光軸21の傾斜する角度をθ=3°とするとα1=(90−θ)°=87°となる。
In the case of the high-power laser according to the first embodiment, the inclination angle θ of the laser
また、上記実施の形態1では、サブマウント5はAlN(窒化アルミニウム)等のセラミックやシリコン等の硬度が高く加工しにくい材料でできているため、傾斜面を形成するのにコストがかかるが、本実施の形態2によれば、ヒートシンク7bとして加工のし易い銀、銅、鉄等の金属を用いているので、金型による整形法等、量産に向いた安価な方法で傾斜面71を形成できるため、低コストでレーザ光軸21がステム主面25に対して垂直となる半導体レーザを実現できるというメリットがある。
In the first embodiment, since the
実施の形態3.
図3は実施の形態3による半導体レーザの構造を示す断面図である。本実施の形態3では、図1の(a)、及び(b)の実施の形態1と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ詳細に説明する。
FIG. 3 is a sectional view showing the structure of the semiconductor laser according to the third embodiment. In the third embodiment, parts that are the same as or equivalent to those in the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only different parts are described in detail. explain.
上記、実施の形態2においては、ヒートシンク7bのサブマウント5が設置される側の面全体を傾斜面としていたが、本実施の形態3では、ヒートシンク7cの断面形状において、すなわち、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム9から離れるに従って、ステム主面25に平行方向の幅が減少するような傾斜面72が、サブマウント7bが設置される側の面の上方の一部領域に形成されている。この傾斜面72上の一部である設置面6に、レーザチップ1の活性層3側の表面が固着面4で固着されたサブマウント5を設置したものである。
In the second embodiment, the entire surface on the side where the
本実施の形態3においては、ヒートシンク7cの傾斜面72の傾斜角βは、レーザ光軸21の傾斜角θと同じ角度に設定されおり、またサブマウント5は板状の直方体である。従って、図3から分かるように、レーザチップ1のサブマウント5上の固着面4の延長面23は、ヒートシンク7c側にθと同角度だけ傾斜し、上記延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7c側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。
In the third embodiment, the inclination angle β of the
この傾斜面72上の設置面6にレーザチップ1を搭載した直方体のサブマウント5が設置されているため、上記実施の形態1及び2と同様、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に傾斜することになる。この結果、図3に示すように、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光はステム主面25に対し正確に垂直方向に出射するようになる。
Since the
なお、レーザ光軸21の傾斜角θは、本実施の形態3に係る高出力レーザの場合は、0.5°〜5°程度であるので、傾斜面71とステム主面25における垂線のなす角度βも0.5°〜5°とすれば良い。また、実際の上記α1の値は、例えばレーザ光軸21の傾斜角をθ=3°とするとα1=(90−θ)°=87°となる。
Note that the tilt angle θ of the laser
本実施の形態3によれば、既存形状の直方体のヒートシンクをレーザチップのレーザ光軸の傾斜する角度θに合わせて、機械的な研磨等の加工法により種々の角度の傾斜面72を持ったヒートシンクを容易に製作できる。従って、半導体レーザの製造ロット毎の分布の中心地に対応して、傾斜面72の傾斜角度βを選択することにより、レーザ光軸21がステム主面25に対して正確に垂直になるよう補償された半導体レーザを低コストで製作できるというメリットがある。
According to the third embodiment, a rectangular parallelepiped heat sink having an
実施の形態4.
図4は実施の形態4による半導体レーザの構造を示す断面図である。本実施の形態4では、図1の(a)、及び(b)の実施の形態1と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of the semiconductor laser according to the fourth embodiment. In the fourth embodiment, the same or corresponding parts as those in the first embodiment of FIGS. 1A and 1B are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only different parts are described. .
上記実施の形態2では、ヒートシンク7bに傾斜面71を設け、また上記実施の形態3ではヒートシンク7cに傾斜面72を設け、傾斜面71又は72の上に、サブマウント5を設置したが、本実施の形態4では図4に示すように、ヒートシンク7aは実施の形態1と同様に直方体で形成し、このヒートシンク7aとサブマウント5の間に傾斜面73を有する凸部を形成するくさび型の部材11dを設け、この傾斜面73上にサブマウント5を設置し、このサブマウント5上の一部をなす固着面4において、レーザチップ1を活性層3側の表面が接するように固着したものである。
In the second embodiment, the
傾斜面73を有するくさび型の部材11dは、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム9から離れるに従ってステム主面25に平行方向の幅が減少するような傾斜面73を有し、この傾斜面73の傾斜角βは、レーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値に設定されている。
The wedge-shaped
従って、実施の形態2及び実施の形態3と同様、レーザチップの固着面4の延長面23は、レーザ光軸21の傾斜する角度θと同角度だけヒートシンク7a側に傾斜し、上記延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7a側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。これにより、実施の形態1〜実施の形態3と同様、レーザ光軸21は見かけ上ステム主面25に対し正確に垂直になるように補償される。
Therefore, as in the second and third embodiments, the
上記のように、本実施の形態4では、ヒートシンク7aの一部に傾斜面を有する凸部を設ける方法として、くさび型の部材11dを用意し、これをヒートシンク7aとサブマウント5の間に挟んで固定している。この方法によれば、種々の傾斜角度βを持ったくさび型の部材11dを用意することにより、個々のレーザチップ1におけるレーザ光軸21の傾斜角度θのばらつきに対応して、レーザ光軸21がステム主面25に対してより正確に垂直になるように補償できるというメリットがある。
As described above, in the fourth embodiment, as a method of providing a convex portion having an inclined surface on a part of the
また、ヒートシンク7aとサブマウント5の間に傾斜面を有する凸部を設ける他の方法として、銀、銅、鉄等の金属材料によるヒートシンク7aを金型による整形法などにより一体構造として加工して、ヒートシンク7aの一部を突出させて凸部11dを形成しても良い。この方法によれば、半導体レーザとしての組立部材の数が少なくて済み、また組立工程も短縮されるため、光軸21がステムの主面25に対して垂直な半導体レーザを低コストで大量に作製できるというメリットがある。
As another method of providing a convex portion having an inclined surface between the
実施の形態5.
図5は実施の形態5による半導体レーザの構造を示す断面図である。本実施の形態5では、図1の(a)、及び(b)の実施の形態1、及び図2に示す実施の形態2と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a semiconductor laser according to the fifth embodiment. In the fifth embodiment, parts that are the same as or equivalent to those in the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B and the second embodiment shown in FIG. Is omitted, and only different parts will be described.
上記実施の形態1〜4においては、ヒートシンクとレーザチップの熱膨張係数の差によるストレスによって生じる半導体レーザの信頼性への悪影響を低減するため、チップ搭載用構造体を構成するヒートシンクとレーザチップの間に、熱膨張係数がレーザチップに近いサブマウントを介在させた構造としていた。しかし、本実施の形態5では、ヒートシンクとして、AlN(窒化アルミニウム)のようにレーザチップと熱膨張係数が近く、かつ熱伝導率の高い材料を用いることにより、サブマウントを使用せずに直接ヒートシンクにレーザチップを固着し、半導体レーザとしての信頼性上の悪影響を避けるようにしている。 In the first to fourth embodiments, in order to reduce the adverse effect on the reliability of the semiconductor laser caused by the stress due to the difference between the thermal expansion coefficients of the heat sink and the laser chip, the heat sink and the laser chip that constitute the chip mounting structure are reduced. A structure in which a submount having a thermal expansion coefficient close to that of a laser chip is interposed therebetween. However, in the fifth embodiment, as the heat sink, a material having a thermal expansion coefficient close to that of the laser chip and high thermal conductivity such as AlN (aluminum nitride) is used, so that the heat sink can be directly used without using a submount. A laser chip is fixed to the semiconductor laser to avoid adverse effects on reliability as a semiconductor laser.
本実施の形態5においては、図5に示すように、チップ搭載用構造体を構成するヒートシンク7bは、図2の実施の形態2と同様に、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム9から離れるに従ってステム主面25に平行方向の幅が減少するような傾斜面71を有しており、この傾斜面71の一部をなす固着面4の上に、レーザチップ1をサブマウントを介さずに活性層3側の表面が接するように直接固着したものである。
In the fifth embodiment, as shown in FIG. 5, the
ここで、傾斜面71のステム主面に垂直方向からの傾斜角βは、レーザ光軸21の傾斜角θと同じ値(β=θ)になるように設定されている。この傾斜面71上の固着面4にレーザチップ1が固着されているため、上記実施の形態1〜4と同様、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に傾斜することになる。
Here, the inclination angle β from the direction perpendicular to the stem main surface of the
これにより、レーザチップ1の固着面4の延長面23も、θと同角度だけヒートシンク7a側に傾斜し、上記延長面23(すなわち傾斜面71)とステム主面25のなすヒートシンク7b側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。ここで、レーザ光軸21の傾斜する角度θは、本実施の形態5に係る高出力レーザの場合は、0.5°〜5°程度であるので、傾斜面71とステム主面25における垂線のなす角度βも0.5°〜5°としている。また、実際の上記角度α1の値としては、例えばレーザ光軸21の傾斜角をθ=3°とするとα1=(90−θ)°=87°となる。
As a result, the
この結果、図5に示すように、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光はステム主面25に対し正確に垂直方向に出射するようになる。
As a result, as shown in FIG. 5, the inclination of the laser resonator end face 20 of the laser
なお、本実施の形態5では、チップ搭載用構造体を構成するヒートシンクとサブマウントのうち、サブマウントを省略できるので、低コストでステムの主面25に対してレーザ光軸21が正確に垂直になるように補償された半導体レーザを作製できるというメリットがある。
In the fifth embodiment, since the submount can be omitted from the heat sink and the submount constituting the chip mounting structure, the laser
実施の形態6.
図6は実施の形態6による半導体レーザの構造を示す断面図である。本実施の形態6では、図1の(a)、及び(b)の実施の形態1、図3に示す実施の形態3、及び図5に示す実施の形態5と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 6 is a sectional view showing the structure of a semiconductor laser according to the sixth embodiment. In the sixth embodiment, the same or corresponding parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B, the third embodiment shown in FIG. 3, and the fifth embodiment shown in FIG. The same reference numerals are attached and the description is omitted, and only different parts will be described.
上記、実施の形態5においては、ヒートシンク7bのサブマウント5が固着される側の面全体を傾斜面としていたが、本実施の形態6では、図3の実施の形態3と同様、ヒートシンク7cの断面形状においてステム9から離れるに従ってステム主面25に平行方向の幅が減少するように、傾斜面72はサブマウント7cが固着される側の面の上方の一部に形成されている。このヒートシンク7c上の傾斜面72の一部である固着面4に、レーザチップ1を活性層3側の表面を固着して設置したものである。
In the fifth embodiment, the entire surface of the
ここで、傾斜面72のステム主面25における垂線に対する傾斜角βは、レーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値、すなわちβ=θになるように設定しておく。この傾斜面72上の固着面4にレーザチップ2が固着されているため、上記実施の形態2〜5と同様、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に傾斜することになる。
Here, the inclination angle β of the
これにより、レーザチップ1の固着面4の延長面23も、θと同角度だけヒートシンク7c側に傾斜し、上記延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7c側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。
Accordingly, the
ここで前記のように、レーザ光軸21の傾斜角θは、本実施の形態6に係る高出力レーザの場合は、0.5°〜5°程度であるので、傾斜面72とステム主面25における垂線のなす角度βも0.5°〜5°としている。また、実際の上記α1の値としては、例えばレーザ光軸21の傾斜角をθ=3°とするとα1=(90−θ)°=87°となる。
Here, as described above, the inclination angle θ of the laser
この結果、図6に示すように、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21はステム主面25に対し正確に垂直になる。
As a result, as shown in FIG. 6, the inclination of the laser
本実施の形態6では、実施の形態5同様、チップ搭載用構造体を構成するヒートシンクとサブマウントのうち、サブマウントを省略できるので、低コストでステム主面25に対して、レーザ光軸21が正確に垂直になるよう補償された半導体レーザを作製できるというメリットがある。
In the sixth embodiment, as in the fifth embodiment, the submount can be omitted from the heat sink and the submount constituting the chip mounting structure, so that the laser
また、レーザチップを搭載したチップ搭載用構造体において、上記実施の形態2及び3では、レーザチップ1とサブマウント5の間で固着し、しかもサブマウント5をヒートシンク7bまたは7cに設置するのに両者を固着するため、固着する箇所を2箇所必要としていたが、本実施の形態6では、固着箇所がヒートシンク7cとレーザチップ1の間の1箇所に低減されるので、固着に用いられる半田材の厚さの変動等によるレーザチップ1の傾斜角のばらつきが少なくなり、ステムの主面25に対して、レーザ光軸21がより正確にステム主面25に対して垂直な半導体レーザを作製できるというメリットがある。
Further, in the chip mounting structure in which the laser chip is mounted, in the second and third embodiments, the
これに加え、既存型式のヒートシンクを、レーザチップのレーザ光軸の傾斜角度θに合わせて、機械的な研磨等の加工法により、種々の角度の傾斜部を持ったヒートシンクを容易に製作できるので、半導体レーザの製造ロット毎のばらつきに対応して、レーザ光軸が正確にステム主面に対して垂直な半導体レーザを低コストで作製できるという、実施の形態3と同様なメリットを合わせ持つ。 In addition to this, heat sinks with various angles of inclination can be easily manufactured by machining methods such as mechanical polishing to match existing model heat sinks with the inclination angle θ of the laser optical axis of the laser chip. The semiconductor laser has a merit similar to that of the third embodiment in that a semiconductor laser whose laser optical axis is accurately perpendicular to the main surface of the stem can be manufactured at low cost in accordance with the variation of each manufacturing lot of semiconductor lasers.
なお、上記実施の形態2〜6において、レーザチップ1の活性層3から出射されるレーザ光軸21は、レーザ共振器端面20における垂直線22から傾斜角θだけ基板2の側に傾斜しており、通常AlGaInP系材料による高出力レーザにおいては、この傾斜角θは0.5°〜5°程度であるので、ヒートシンク7b、7c、及び、くさび型の部材11dにおける傾斜面71、72、73とステム主面25における垂線とがなす角度も、それぞれ0.5°〜5°にすれば良い。
In the second to sixth embodiments, the laser
実施の形態7.
図7は実施の形態7による半導体レーザの構造を示す構成図であり、図の(a)はその断面図、(b)はステム9のみを示す上面図である。
本実施の形態では、図1の(a)、及び(b)の実施の形態1、及び図2〜図6の実施の形態2〜6と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
Embodiment 7 FIG.
7A and 7B are configuration diagrams showing the structure of the semiconductor laser according to the seventh embodiment. FIG. 7A is a cross-sectional view thereof, and FIG. 7B is a top view showing only the
In the present embodiment, the same or corresponding parts as those in the first embodiment in FIGS. 1A and 1B and the second to sixth embodiments in FIGS. Thus, the description will be omitted, and only different parts will be described.
上記実施の形態1〜6においては、チップ搭載用構造体を構成するサブマウント又はヒートシンクを改良して、レーザチップを実質的に傾斜させることにより、レーザ光軸をステム主面に対して正確に垂直になるように補償したものであるが、図7に示す本実施の形態7では、従来の直方体の形状のサブマウント5とヒートシンク7aによりチップ搭載用構造体を形成し、これをステム主面25の一部に形成された傾斜面12gを有する凹部13gに設置して、同様な効果を得るようにしたものである。
In the first to sixth embodiments, the laser optical axis is accurately set with respect to the main surface of the stem by improving the submount or the heat sink constituting the chip mounting structure and substantially tilting the laser chip. In the seventh embodiment shown in FIG. 7, the chip mounting structure is formed by the conventional
本実施の形態7においては、図7に示すように、ステム主面29の一部領域に、ステム主面25上をレーザチップ1から離れる方向に進むにつれて、その位置がステム主面25より低くなるような傾斜面12gを有する凹部13gが形成されている。この傾斜面12gの上に、直方体のヒーシンク7a、及びレーザチップ1がその活性層2側を固着面4において固着された直方体のサブマウント5からなるチップ搭載用構造体が設置されている。
In the seventh embodiment, as shown in FIG. 7, the position of the stem main surface 29 becomes lower than the stem
図7において、凹部13gにおける傾斜面12gのステム主面25に対する傾斜角βは、レーザチップ1におけるレーザ光軸21の傾斜角度θと同じ値(β=θ)に設定されており、またヒートシンク7a及び、サブマウント5は直方体であるので、レーザチップ1のサブマウント5の上の固着面4の延長面23は、ヒートシンク7a側にθと同角度だけ傾斜し、該延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7a側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。すなわち、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に角度θだけ、傾斜することになる。
In FIG. 7, the inclination angle β of the
この結果、図7に示すように、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21はステム主面25に対し正確に垂直方向になるように改善される。
As a result, as shown in FIG. 7, the inclination of the laser
なお、本実施の形態7において、レーザチップ1の活性層3から出射されるレーザ光軸21は、レーザ共振器端面20における垂線22から傾斜角θだけ基板2の側に傾斜おり、通常AlGaInP系材料による高出力レーザにおいては、この傾斜する角度θは、0.5°〜5°であるので、ステム主面25に形成した凹部の傾斜面12gのステム主面25に対する傾斜角度βも0.5°〜5°にすればよい。
In the seventh embodiment, the laser
本実施の形態7によれば、傾斜面12gを有する凹部13gは、ステム主面25に特別な加工を施すことなく、ステム9の作製工程において金型による整形法等を用いてステム9の中に作り込むことができるので、低コストでレーザ光軸21がステム主面25に対して正確に垂直となる半導体レーザを作製できるというメリットがある。
According to the seventh embodiment, the
なお、本実施の形態7においては、レーザチップ1はサブマウント5を介して、ヒートシンク7aに設置される場合について示したが、実施の形態5及び実施の形態6と同様に、レーザチップ1を直接ヒートシンク7aに設置しても同様な効果が得られる。
In the seventh embodiment, the case where the
また、本実施の形態7においては、サブマウント5及びヒートシンク7aは直方体の場合について説明したが、それぞれ立方体でも良く、またサブマウントとして板状の平行平板を用いても同様な効果が得られる。
In the seventh embodiment, the case where the
実施の形態8
図8は実施の形態8による半導体レーザの構造を示す構成図であり、図の(a)は断面図、(b)はステム9のみを示す上面図である。本実施の形態では、図1の(a)及び(b)の実施の形態1、及び図4及び図7の実施の形態4及び7と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
8A and 8B are configuration diagrams showing the structure of the semiconductor laser according to the eighth embodiment. FIG. 8A is a sectional view, and FIG. 8B is a top view showing only the
上記実施の形態7では、ステム主面25の一部に傾斜面12gを有する凹部を形成し、この傾斜面12g上に従来の直方体の部材からなるサブマウント5、ヒートシンク7aにより形成されたチップ搭載用構造体を設置することにより、レーザ光軸21がステム主面25に対し正確に垂直になるようにしたが、本実施の形態8のように、ステム9の一部に傾斜面12hを有する凸部11hを形成しても、同様な効果が得られる。
In the seventh embodiment, a concave portion having an
本実施の形態8においては、図8に示すように、ステム主面25の一部領域に、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム主面25上をレーザチップ1に近い方向に進むにつれてその位置がステム主面25より高くなるような傾斜面12hを有するくさび型の凸部11hが形成されている。
In the eighth embodiment, as shown in FIG. 8, in a cross section that is perpendicular to the
この凸部11hの形成方法として、例えばステム9が金属製の枠に低融点ガラスが融着されたハーメチックシールで構成されている場合には、その作製工程においてステム主面25を形成する金属製の枠の表面を金型による整形法等により隆起させることにより、容易にステム主面25上に凸部11hを一体構造として作り込むことができる。
As a method for forming the
傾斜面12hの上に、それぞれ直方体の部材からなるヒーシンク7a及びサブマウント5からなるチップ搭載用構造体、及び上記サブマウント5上の固着面4において活性層2側が接するように固着されたレーザチップ1が設置されている。
On the
図8において、凸部11hのステム主面25に対する傾斜角βは、レーザチップ1におけるレーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値(β=θ)に設定されており、またヒートシンク7a及び、サブマウント5は直方体であるので、レーザチップ1のサブマウント5の上の固着面4の延長面23は、ヒートシンク7a側にθと同角度だけ傾斜する。従って上記延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7a側から見た角度α1は90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。すなわち、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に角度θだけ傾斜することになる。
In FIG. 8, the inclination angle β of the
この結果、図8に示すようにレーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21はステム主面25に対し正確に垂直方向になるように改善される。
As a result, as shown in FIG. 8, the inclination of the laser
なお、本実施の形態8において、レーザチップ1の活性層3から出射されるレーザ光軸21は、レーザ共振器端面20における垂直線22から傾斜角θだけ基板2の側に傾斜おり、通常AlGaInP系材料による高出力レーザにおいては、この傾斜角θは、0.5°〜5°であるので、ステム主面25に形成した凸部の傾斜面のステム主面に対する傾斜角度βは0.5°〜5°にすればよい。
In the eighth embodiment, the laser
また、本実施の形態8によれば、傾斜面12hを有する凸部11hは、ステム主面25に特別な加工を施すことなく、ステム9の作製工程において金型等を用いて主面25の上に、一体構造として作り込むことができるので、低コストでステム主面25に対して正確に垂直に出射する半導体レーザを作製できるというメリットがある。
Further, according to the eighth embodiment, the
なお、本実施の形態8においては、傾斜面12hを有する凸部11hは、ステム主面25の上にステム9の一体構造として形成された例を示したが、ステム9とは別に、傾斜面12hを有するくさび型部材を用意してステム主面上に設置し、凸部11hとしても良い。
In the eighth embodiment, an example in which the
また、本実施の形態8においては、レーザチップ1はサブマウント5を介して、ヒートシンク7に設置された場合について示したが、サブマウントを用いずにレーザチップ1を直接ヒートシンク7aに設置しても同様な効果が得られる。
In the eighth embodiment, the
また、本実施の形態8においては、サブマウント5及びヒートシンク7aは直方体の場合について説明したが、それぞれ立方体を用いても良く、またサブマウントとして薄い板状の平行平板を用いても同様な効果が得られる。
In the eighth embodiment, the case where the
実施の形態9
図9は実施の形態9による半導体レーザの構造を示す構成図である。図中、図1、4、7、及び8に示す実施の形態1、4、7、及び8と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 9 is a block diagram showing the structure of the semiconductor laser according to the ninth embodiment. In the figure, the same or corresponding parts as those of the first, fourth, seventh, and eighth embodiments shown in FIGS. 1, 4, 7, and 8 are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted, and only different parts are described. explain.
上記実施の形態1〜8においては、ステムのレーザチップを搭載する側のステム主面を光学的基準面として、レーザ光軸がこの基準面に正確に垂直になるように補償することを目的にしていたが、半導体レーザ応用機器の光学系の設計によっては、ステムの下面(以下ステム下面)を光ピックアップ等の光応用機器における光学系の基準面として用いることも可能である。本実施の形態9では、ステム主面を光学的基準面としたステム下面26に対して傾斜させ、この傾斜したステム主面25bの上にサブマウント5及びヒートシンク7aからなるチップ搭載用構造体を搭載することにより、レーザ光軸21がこの基準面に正確に垂直になるようにしたものである。
In the first to eighth embodiments, the main stem surface on the side where the laser chip of the stem is mounted is used as an optical reference surface, and the purpose is to compensate so that the laser optical axis is accurately perpendicular to the reference surface. However, depending on the design of the optical system of the semiconductor laser application device, the lower surface of the stem (hereinafter referred to as the stem lower surface) can be used as a reference surface of the optical system in the optical application device such as an optical pickup. In the ninth embodiment, the chip mounting structure including the
本実施の形態9においては、図9に示すように、ステム主面25bは、光学的基準面であるステム下面26に対し、βの角度で傾斜したものを用いる。その傾斜方向は、ステム主面25b上で、レーザチップ1からヒートシンク7aに向かう方向(図9の左方)に行くほど、ステム主面25bが下面に近づく、すなわち左方ほどステム主面25bが下がる方向である。その傾斜角βはレーザチップ1におけるレーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値(β=θ)に設定する。
In the ninth embodiment, as shown in FIG. 9, the stem
上記傾斜したステム主面25bの上に、それぞれ直方体のヒーシンク7a及びサブマウント5からなるチップ搭載用構造体が設置され、さらにサブマウント5上の固着面4において、レーザチップ1がその活性層3側の表面を接する様に固着して設置されている。上記チップ搭載用構造体は、レーザチップ1のレーザ光軸21が、ステム主面25bの概略垂直方向(上方)になるような形態で、ステム主面25bの上に設置されている。
On the inclined stem
レーザチップ1は直方体のサブマウント5、及びヒートとシンク7aを介して、β(=θ)の角度だけ傾斜したステム主面25b上に設置されているため、レーザチップ1とサブマウント5の固着面4の延長面23と、ステム下面26とがなすヒートシンク7a側から見た角度α1は、90°より小さい角度、すなわちα1=(90−θ)°となる。すなわち、レーザチップ1は実効的に反時計廻りの方向に角度θだけ傾斜することになる。
Since the
この結果、図9に示すようにレーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21は光学的基準面となるステム下面26に対し正確に垂直方向になるように改善される。
As a result, as shown in FIG. 9, the inclination of the laser resonator end face 20 of the laser
本実施の形態9によれば、傾斜したステム主面25bを有するステム9bは、特別な加工や部品を追加することなく、その作製工程において金型等を用いて容易に作製できるので、低コストでレーザ光軸が光学的基準面となるステム下面26に対して正確に垂直となる半導体レーザを歩留まり良く作製できるというメリットがある。
According to the ninth embodiment, the
なお、本実施の形態9においては、レーザチップ1はサブマウント5を介してヒートシンク7aに設置された場合について示したが、レーザチップ1を直接ヒートシンク7aに設置しても同様な効果が得られる。
In the ninth embodiment, the case where the
また、本実施の形態9においては、サブマウント5及びヒートシンク7aは直方体の場合について説明したが、それぞれ立方体を用いても良く、またサブマウント5として板状の平行平板を用いても同様な効果が得られる。
In the ninth embodiment, the
実施の形態10
図10は実施の形態10による半導体レーザの構造を示す構成図であり、図の(a)は断面図、(b)はステム9のみを示す上面図である。図中、図7の実施の形態7と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
10A and 10B are configuration diagrams showing the structure of the semiconductor laser according to the tenth embodiment. FIG. 10A is a cross-sectional view, and FIG. 10B is a top view showing only the
上記実施の形態7(図7)においては、レーザ光軸21が基板2の側に傾斜したレーザチップ1が活性層3側の表面をサブマウント5に接する様に固着された所謂ジャンクションダウン方式の形態によりレーザチップ1がチップ搭載用構造体に設置され、このチップ搭載用構造体を、ステム主面25に設けられた傾斜部12gを有する凹部13gに設置した場合について説明したが、本実施の形態10では、図10に示すように、レーザチップ1の基板2側がサブマウント5に固着された、所謂ジャンクションアップ方式の形態で組立てられた半導体レーザに関し、そのレーザ光軸21を正確にステム主面25に垂直方向にする組立構造について説明する。
In the seventh embodiment (FIG. 7), the so-called junction down type in which the
本実施の形態10においては、図10に示すように、ステム9の一部領域に、ステム主面25上をヒートシンク7a側からレーザチップ1に近づく方向に進むにつれて、その位置がステム主面25より低くなるような傾斜面12jを有する凹部13jがステム9に形成されている。この傾斜面12jの上に、それぞれ直方体のヒーシンク7a、およびサブマウント5からなるチップ搭載用構造体が設置され、上記サブマウント5上の固着面4において、レーザチップ1がその基板2の側が接するように固着して設置されている。
In the tenth embodiment, as shown in FIG. 10, in a partial region of the
また、上記チップ搭載用構造体の一部であるヒートシンク7aは、レーザ光の出射方向がステム主面25に対し概略垂直方向となるような形態で、すなわちステム9の上方となるように、上記傾斜面12jの上に設置されている。
Further, the
図10において、凹部13jの傾斜面12jのステム主面25に対する傾斜角βは、レーザチップ1におけるレーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値(β=θ)に設定されており、またヒートシンク7a、及びサブマウント5は直方体であるので、レーザチップ1のサブマウント5の上の固着面4の延長面23は、ヒートシンク7aの反対側に角度θと同角度だけ傾斜し、この延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7a側から見た角度α2は90°より大さい角度、すなわちα2=(90+θ)°となる。すなわち、レーザチップ1は実効的に時計廻りの方向に角度θだけ、傾斜することになる。
In FIG. 10, the inclination angle β of the inclined surface 12j of the recess 13j with respect to the stem
これにより、図10に示すように、ジャンクションアップ方式でサブマウント5に設置された半導体レーザにおいても、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における垂線に対する基板側への傾斜は、パッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21はステム主面25に対し正確に垂直方向になるように改善される。
As a result, as shown in FIG. 10, even in the semiconductor laser installed on the
また、本実施の形態10によれば、傾斜面12jを有する凹部13jは、ステム主面25に特別な加工を施すことなく、ステム9の作製工程において金型等を用いてステム9の中に作り込むことができるので、低コストでレーザ光軸21がステム主面25に対して正確に垂直になるよう補償された半導体レーザを作製できるというメリットがある。
Further, according to the tenth embodiment, the recess 13j having the inclined surface 12j is formed in the
なお、本実施の形態10においては、レーザチップ1はサブマウント5を介して、ヒートシンク7に設置される場合について示したが、サブマウント5を用いずにレーザチップ1を直接ヒートシンク7aに設置しても同様な効果が得られる。
In the tenth embodiment, the
実施の形態11
図11は実施の形態11による半導体レーザの構造を示す構成図であり、図の(a)は断面図、(b)はステム9のみを示す上面図である。図中、図8の実施の形態8と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
Embodiment 11
11A and 11B are configuration diagrams showing the structure of the semiconductor laser according to the eleventh embodiment. FIG. 11A is a cross-sectional view, and FIG. 11B is a top view showing only the
上記実施の形態8(図8)においては、レーザ光軸21が基板2側に傾斜したレーザチップ1がその活性層3側をサブマウント5に固着された、すなわちジャンクションダウン方式により組立てられたチップ搭載用構造体を、凸部11hの傾斜面12h上に設置して作製した半導体レーザについて説明したが、本実施の形態11においては、図11に示すように、レーザチップ1の基板2側の面がサブマウント5に固着された、すなわちジャンクションダウンアップ方式で組立てられた半導体レーザに関し、そのレーザ光軸を正確にステム主面25に垂直方向にする構造について説明する。
In the eighth embodiment (FIG. 8), the
本実施の形態11においては、図11に示すように、ステム9の一部領域に、レーザチップ1の活性層3に垂直でかつレーザ光軸21を含む断面において、ステム主面25上をヒートシンク7aからレーザチップ1に近づく方向に進むにつれて、その位置がステム主面25近づくような、すなわち高さが低くなるような傾斜面12kを有するくさび型の断面形状の凸部11kが形成されている。
このくさび型の断面形状の凸部11kは、図8に示す実施の形態8と同様に、ステム9の作製工程において、金型による整形法等を用いてステム主面25の一部領域を隆起させた一体構造として作り込むことができる。
In the eleventh embodiment, as shown in FIG. 11, a heat sink is formed on the stem
This wedge-shaped
上記、傾斜面12kの上に、それぞれ直方体のヒーシンク7a、サブマウント5からなるチップ搭載用構造体が設置され、上記サブマウント5上の固着面4に、レーザチップ1がその基板2の側を接するように、すなわちジャンクションアップ方式で設置されている。
A chip mounting structure comprising a
また、上記チップ搭載用構造体の一部であるヒートシンク7aは、レーザ光の出射方向がステム主面25に対し概略垂直方向となるような形態で、すなわちレーザ光の出射方向がステム9の上方となるように、上記傾斜面12kの上に設置されている。
The
図11において、凸部11kのステム主面25に対する傾斜角βは、レーザチップ1におけるレーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値(β=θ)に設定されており、またヒートシンク7a及び、サブマウント5は直方体(隣り合う面のなす角度が90°)であるので、レーザチップ1のサブマウント5における固着面4の延長面23は、ヒートシンク7a側に角度θと同角度だけ傾斜し、該延長面23とステム主面25のなすヒートシンク7側から見た角度α2は90°より大きい角度、すなわちα2=(90+θ)°となる。すなわち、レーザチップ1は実効的に時計廻りの方向に角度θだけ、傾斜することになる。
In FIG. 11, the inclination angle β of the
この結果、図11に示すように、ジャンクションアップ方式でサブマウント4に設置されたレーザ光軸21が基板2側に傾斜した半導体レーザにおいても、レーザ光軸21のレーザ共振器端面20における垂線22に対する基板2側への傾斜は、パッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21はステム主面25に対し正確に垂直方向になるように改善される。
As a result, as shown in FIG. 11, even in a semiconductor laser in which the laser
また、本実施の形態11によれば、傾斜面12kを有する凸部11kは、ステム主面25に特別な加工を施すことなく、ステム9の作製工程において金型等を用いて主面25の上に、一体構造として作り込むことができるので、低コストでレーザ光軸21がステム主面25に対して正確に垂直になる半導体レーザを作製できるというメリットがある。
Further, according to the eleventh embodiment, the
なお、本実施の形態11においては、傾斜面を有する凸部11kは、ステム主面25の一部を隆起させた一体構造として説明したが、表面が平坦なステム9の上に、別途作製した断面形状がくさび型をした部材を、ステム主面25上に設置しても同様な効果が得られるのはいうまでもない。
In the eleventh embodiment, the
また、本実施の形態11においては、レーザチップ1はサブマウント5を介して、ヒートシンク7aに設置される場合について示したが、サブマウント5を用いずにレーザチップ1を直接ヒートシンク7aに設置しても同様な効果が得られる。
In the eleventh embodiment, the
実施の形態12
図12は実施の形態12による半導体レーザの構造を示す断面図である。図中、図9の実施の形態9と同一又は相当する部分については、同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 12 is a sectional view showing the structure of a semiconductor laser according to the twelfth embodiment. In the figure, portions that are the same as or equivalent to those of the ninth embodiment in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only different portions are described.
上記実施の形態9(図9)においては、レーザ光軸21が基板2側に傾斜したレーザチップ1がジャンクションダウン方式で搭載されたチップ搭載用構造体を、傾斜したステム主面25b上に設置した場合について説明したが、本実施の形態12においては、図12に示すように、レーザチップ1の基板2の側がサブマウント5に固着された、すなわちジャンクションアップ方式でレーザチップ1が搭載されたチップ搭載用構造体に関し、傾斜したステム主面25cを持つステム9cを用いて、レーザ光軸21を、光学的基準面となるステム下面26に対して正確に垂直にする構成について説明する。
In the ninth embodiment (FIG. 9), the chip mounting structure in which the
本実施の形態12においては、図12に示すように、ステム主面25cは、光学的基準面となるステム下面26に対し、βの角度で傾斜している。
その傾斜方向は、ステム主面25c上を、ヒートシンク6からレーザチップ1に向かう方向(図12の右方)に行くほど、ステム主面25cがステム下面26に近づく、すなわち図の右方ほどステム主面25cの位置が下がる方向である。その傾斜角βはレーザ共振器端面20におけるレーザ光軸21の傾斜する角度θと同じ値(β=θ)に設定する。
In the twelfth embodiment, as shown in FIG. 12, the stem
The inclination direction of the stem
上記傾斜した主面25cの上に、それぞれ直方体のヒーシンク7a及びサブマウント5からなるチップ搭載用構造体が設置され、さらにサブマウント5上の固着面4において、レーザチップ1がその活性層3側を接するようにして設置されている。
また、上記チップ搭載用構造体は、レーザチップ1のレーザ光軸21が、ステム主面25cの概略垂直方向、すなわち上方になるような形態で、ステム主面25bの上に設置されている。
A chip mounting structure composed of a rectangular
The chip mounting structure is installed on the stem
上記のように、レーザチップ1は、それぞれ直方体のサブマウント5、ヒートシンク7aを介して、β(=θ)の角度だけ傾斜したステム主面25b上に設置されている。これにより、レーザチップ1とサブマウント5の固着面4の延長面23と、ステム下面26とがなすヒートシンク7aの側から見た角度α2は、90°より大きい角度、すなわちα2=(90+θ)°となる。すなわち、レーザチップ1は実効的に時計廻りの方向に角度θだけ傾斜することになる。
As described above, the
この結果、図12に示すようにレーザ光軸21のレーザ共振器端面20における傾斜はパッケージ外部からみると見かけ上補償され、レーザ光軸21は光学的基準面となるステム下面26に対し正確に垂直方向になるように改善される。
As a result, as shown in FIG. 12, the tilt of the laser
また、本実施の形態12によれば、傾斜したステム主面25を有するステム9cは、特別な加工や部品を追加することなく、その作製工程において金型等を用いて容易に作製できるので、レーザ光軸が光学的基準面となるステム下面26に対して正確に垂直となる半導体レーザを低コストで、かつ歩留まり良く作製できるというメリットがある。
Further, according to the twelfth embodiment, the
なお、上記実施の形態7〜12においては、レーザチップ1はサブマウント5を介して、ヒートシンク7aに設置される場合について示したが、レーザチップ1を直接ヒートシンク7aに設置しても同様な効果が得られる。
In the seventh to twelfth embodiments described above, the
なお、上記実施の形態1〜12においては、AlGaInP系材料による光ディスク書込み用高出力レーザのレーザチップを用いた場合について説明したが、AlGaAs系やInGaAsP系、AlGaInN(GaN)系材料等、他の材料で構成されたレーザチップを用いた場合についても適用できるのはいうまでもない。 In the first to twelfth embodiments, the case where the laser chip of the high-power laser for writing on the optical disk using the AlGaInP-based material has been described. However, other AlGaAs-based, InGaAsP-based, AlGaInN (GaN) -based materials, etc. Needless to say, the present invention can also be applied to the case of using a laser chip made of a material.
また、上記実施の形態1〜7においては、ヒートシンク7a、7b、および7cはステムと別の独立した部材として説明したが、最初からヒートシンク7a、7b、および7cがステム9と一体構造として作製されたものであっても、効果は変わらないのはいうまでもない。
In the first to seventh embodiments, the
また、上記実施の形態1〜12においては、レーザチップ、サブマウント、ヒートシンク、ステムをそれぞれ固着する方法については、例えばAuSi, AuSnなどの適切な組成比、及び融点を有する合金半田を用いることにより、組立ストレスを抑え、かつ実用的な固着強度を得ることができる。 In the first to twelfth embodiments, the laser chip, the submount, the heat sink, and the stem are fixed by using, for example, an alloy solder having an appropriate composition ratio and melting point such as AuSi and AuSn. As a result, assembly stress can be suppressed and practical fixing strength can be obtained.
また、上記実施の形態2〜4、または実施の形態7〜12においては、実施の形態1と同様に、サブマウント5の材料として、熱伝導率が高く、基板と熱膨張係数が近い、シリコン(Si)、窒化アルミニウム(AlN)、炭化珪素(SiC)、ダイヤモンド(C)、銅タングステン(CuW)のうち少なくとも一種類を用いることにより、良好な温度特性及び信頼性を有し、かつレーザ光軸が光学的基準面となるステム主面、またはステム下面に対して正確に垂直となる半導体レーザを実現することができる。
In
また、上記実施の形態2〜12においては、実施の形態1と同様に、ヒートシンク7a、7b、および7cの材料として、熱伝導率が高く、加工の容易な銀(Ag)、銅(Cu)、鉄(Fe)、アルミニウム(Al)のうち少なくとも一種類の材料を用いることにより、良好な温度特性、及び低コスト化が実現可能で、かつ、レーザ光軸が光学的基準面となるステム主面、またはステム下面に対して正確に垂直となる半導体レーザを実現することができる。
In the second to twelfth embodiments, as in the first embodiment, the
1 レーザチップ
2 基板
3 活性層
4 レーザチップの固着面
5 サブマウント
6 サブマウントの設置面
7a,7b,7c ヒートシンク
8 ヒートシンクの設置面
9 ステム
11d ヒートシンク上の凸部
11h,11k ステム主面上の凸部
12h,12k 凸部に形成された傾斜面
12g,12j 凹部に形成された傾斜面
13g,13j ステム主面上の凹部
20 レーザ共振器端面
21 レーザ光軸
22 レーザ共振器端面における垂線
23 レーザチップの固着面の延長面
25 ステム主面
26 ステム下面
DESCRIPTION OF
Claims (16)
The submount material is at least one of silicon (Si), aluminum nitride (AlN), silicon carbide (SiC), diamond (C), and copper tungsten (CuW), and the heat sink material is silver (Ag) and copper (Cu The semiconductor laser device according to claim 1, wherein at least one of iron (Fe) and aluminum (Al) is used.
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