Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2006036685A - Method for producing bisphenols - Google Patents

Method for producing bisphenols Download PDF

Info

Publication number
JP2006036685A
JP2006036685A JP2004218388A JP2004218388A JP2006036685A JP 2006036685 A JP2006036685 A JP 2006036685A JP 2004218388 A JP2004218388 A JP 2004218388A JP 2004218388 A JP2004218388 A JP 2004218388A JP 2006036685 A JP2006036685 A JP 2006036685A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
producing
formula
represented
bisphenol
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004218388A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kikumitsu Inoue
喜久光 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2004218388A priority Critical patent/JP2006036685A/en
Publication of JP2006036685A publication Critical patent/JP2006036685A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing bisphenols (I) which has a high reaction rate and a high yield and does not need the recovery of a diluent solvent. <P>SOLUTION: This method for producing the bisphenols of formula (I) (wherein R<SP>1</SP>is hydrogen or a 1-4C alkyl group; and R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are each a 1-5C alkyl group) comprises reacting a dialkylphenol of formula (II) (wherein R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are the same as the defined above) with a trioxane of formula (III) (wherein R<SP>1</SP>is the same as defined above) in a reaction solvent selected from 6-10C aliphatic hydrocarbon solvents and 6-12C aromatic hydrocarbon solvents in the presence of an anionic surface active agent and an acid catalyst. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ビスフェノール類を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing bisphenols.

ビスフェノール類は、天然ゴム、合成ゴムや潤滑油等の酸化防止剤として公知である。また、ビスフェノール類は、ブタジエン系ポリマーやオレフィン系ポリマーの熱劣化防止剤の中間体化合物として有用である。
従来、ビスフェノール類は、市販の低級アルデヒド水溶液と下式(II)で示されるジアルキルフェノール類を、陰イオン系界面活性剤、芳香族炭化水素溶媒及び酸触媒の存在下に反応させることによって製造されていた(下記特許文献1の実施例5を参照)。
Bisphenols are known as antioxidants such as natural rubber, synthetic rubber and lubricating oil. Bisphenols are useful as intermediate compounds for thermal degradation inhibitors for butadiene polymers and olefin polymers.
Conventionally, bisphenols are produced by reacting a commercially available lower aldehyde aqueous solution with a dialkylphenol represented by the following formula (II) in the presence of an anionic surfactant, an aromatic hydrocarbon solvent and an acid catalyst. (See Example 5 of Patent Document 1 below).

Figure 2006036685
(II)
Figure 2006036685
(II)

[式中、RおよびRは、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基を表す。] [Wherein, R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. ]

特開平4−264051号公報JP-A-4-264051

しかしながら、上記特許文献1に記載の方法では、低沸点のアルデヒド水溶液を用いるために反応が遅延し、ビスフェノール類(I)の収率が低下するという問題があった。また、水溶液の代わりにキシレン溶媒等で希釈した低沸点のアルデヒド溶液を用いると、該溶液中の希釈溶媒を回収して再使用する必要があった。   However, the method described in Patent Document 1 has a problem in that the reaction is delayed due to the use of an aldehyde aqueous solution having a low boiling point, and the yield of bisphenols (I) decreases. Further, when a low-boiling aldehyde solution diluted with a xylene solvent or the like is used instead of the aqueous solution, the diluted solvent in the solution must be recovered and reused.

本発明の目的は、反応が速くてビスフェノール類(I)の収率が高く、且つ上記の希釈溶媒の回収が不要なビスフェノール類の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for producing bisphenols that has a fast reaction, a high yield of bisphenols (I), and does not require the recovery of the diluted solvent.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下式(III)で示されるトリオキサン類を用いると、上記課題を解決できることを見出して、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下式(II)で示されるジアルキルフェノール類と下式(III)で示されるトリオキサン類を、炭素数6〜10の脂肪族炭化水素溶媒及び炭素数6〜12の芳香族炭化水素溶媒から選ばれる反応溶媒、陰イオン系界面活性剤並びに酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする下式(I)で示されるビスフェノール類の製造方法を提供するものである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by using trioxanes represented by the following formula (III), and have completed the present invention.
That is, the present invention provides a dialkylphenol represented by the following formula (II) and a trioxane represented by the following formula (III), an aliphatic hydrocarbon solvent having 6 to 10 carbon atoms and an aromatic having 6 to 12 carbon atoms. The present invention provides a process for producing bisphenols represented by the following formula (I), wherein the reaction is carried out in the presence of a reaction solvent selected from hydrocarbon solvents, an anionic surfactant and an acid catalyst.

Figure 2006036685
(I)
Figure 2006036685
(I)

Figure 2006036685
(II)
Figure 2006036685
(II)

Figure 2006036685
(III)
Figure 2006036685
(III)

[式中、R1は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基を表す。] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. ]

アルデヒドとしてトリオキサン類を用いる本発明によれば、収率良くビスフェノール類を製造することができる。また、反応容器の単位容積当りのビスフェノール得量が向上する。   According to the present invention using trioxanes as aldehydes, bisphenols can be produced with good yield. In addition, the yield of bisphenol per unit volume of the reaction vessel is improved.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いるトリオキサン類(III)において、Rは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。該アルキル基としては、メチル基、エチル基やプロピル基が挙げられる。
トリオキサン類(III)としては、例えば、パラホルムアルデヒド、パラアセトアルデヒド、2,4,6−トリエチル−1,3,5−トリオキサンや2,4,6−トリブチル−1,3,5−トリオキサン等が挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the trioxane (III) used in the present invention, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.
Examples of the trioxane (III) include paraformaldehyde, paraacetaldehyde, 2,4,6-triethyl-1,3,5-trioxane, 2,4,6-tributyl-1,3,5-trioxane and the like. It is done.

ジアルキルフェノール類(II)におけるR及びRとしては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基やt−ペンチル基等の炭素数1〜5のアルキル基が挙げられる。R及びRは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。R及びRとしては、t−ブチル基やt−ペンチル基のような3級炭素原子を有するアルキル基が好ましい。
ジアルキルフェノール類(II)としては、例えば2,4−ジ−t−ペンチルフェノール、2,4−ジ−t−ブチルフェノール、2−t-ブチル−4−メチルフェノール、2−t−ブチル−4−エチルフェノール、2−t-ブチル−4−プロピルフェノールや2−t-ブチル−4−イソプロピルフェノール等が挙げられる。
R 2 and R 3 in the dialkylphenol (II) are, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n- C1-C5 alkyl groups, such as a pentyl group and a t-pentyl group, are mentioned. R 2 and R 3 may be the same as or different from each other. R 2 and R 3 are preferably an alkyl group having a tertiary carbon atom such as a t-butyl group or a t-pentyl group.
Examples of dialkylphenols (II) include 2,4-di-t-pentylphenol, 2,4-di-t-butylphenol, 2-t-butyl-4-methylphenol, 2-t-butyl-4- Examples include ethylphenol, 2-t-butyl-4-propylphenol and 2-t-butyl-4-isopropylphenol.

本発明におけるビスフェノール類(I)としては、例えば2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−プロピリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−プロピルフェノール)や2,2’−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−イソプロピルフェノール)等が挙げられる。   Examples of the bisphenols (I) in the present invention include 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) and 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-pentylphenol). 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenol), 2,2′-propylidenebis (6-t-butyl) -4-methylphenol), 2,2'-methylenebis (6-tert-butyl-4-methylphenol), 2,2'-methylenebis (6-tert-butyl-4-ethylphenol), 2,2'- Ethylidenebis (6-t-butyl-4-methylphenol), 2,2′-ethylidenebis (6-t-butyl-4-propylphenol) and 2,2′-ethylidenebis (6-t-butyl-4) -Isopropylpheno Le) and the like.

本発明の製造方法においては、炭素数6〜10の脂肪族炭化水素溶媒及び炭素数6〜12の芳香族炭化水素溶媒から選ばれる反応溶媒の存在下に、ジアルキルフェノール類(II)とトリオキサン類(III)の反応が行われる。上記の有機溶媒を用いない場合は、反応の進行に伴って生成するビスフェノール類(I)の結晶が析出し、該結晶の析出に伴って酸触媒やジアルキルフェノール類(II)が結晶中に取り込まれる結果、反応が遅延したり、ビスフェノール類(I)の収率が低下したりする。
上述した炭素数6〜10の脂肪族炭化水素溶媒としては、例えば、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカンやシクロヘキサン等が挙げられる。
また、炭素数6〜12の芳香族炭化水素溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、シメンやクロルベンゼン等が挙げられる。
これらの中でも芳香族炭化水素溶媒が好ましく、トルエンやキシレンが特に好ましい。
上記の有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上の混合物として用いてもよい。
上記反応溶媒の使用量は、ジアルキルフェノール類(II)の100重量部当り、通常は1〜100重量部の範囲であり、好ましくは5〜50重量部の範囲である。
In the production method of the present invention, dialkylphenols (II) and trioxanes in the presence of a reaction solvent selected from an aliphatic hydrocarbon solvent having 6 to 10 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon solvent having 6 to 12 carbon atoms. Reaction (III) is performed. When the above organic solvent is not used, crystals of bisphenols (I) produced as the reaction proceeds are precipitated, and acid catalysts and dialkylphenols (II) are taken into the crystals as the crystals are precipitated. As a result, the reaction is delayed or the yield of the bisphenol (I) is decreased.
Examples of the aliphatic hydrocarbon solvent having 6 to 10 carbon atoms include n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, and cyclohexane.
Examples of the aromatic hydrocarbon solvent having 6 to 12 carbon atoms include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, cymene, and chlorobenzene.
Among these, aromatic hydrocarbon solvents are preferable, and toluene and xylene are particularly preferable.
Said organic solvent may be used independently and may be used as a 2 or more types of mixture.
The amount of the reaction solvent used is usually in the range of 1 to 100 parts by weight, preferably in the range of 5 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the dialkylphenol (II).

本発明の製造方法においては、陰イオン界面活性剤の存在下に反応が行われる。
本発明で用いる陰イオン系界面活性剤としては、モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びジアルキルスルホコハク酸ナトリウムからなる群より選ばれる界面活性剤が好ましい。
モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムとしては、例えば、ペレックスNB−L(花王の商品名)が挙げられる。また、アルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウムとしては、例えば、サンデットAL(三洋化成の商品名)が挙げられる。さらに、ジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムとしては、例えば、センデールS(第一工業の商品名)が挙げられる。そして、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウムとしては、例えば、ネオペレックスOT−P(花王の商品名)が挙げられる。
In the production method of the present invention, the reaction is carried out in the presence of an anionic surfactant.
The anionic surfactant used in the present invention is preferably a surfactant selected from the group consisting of sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate, sodium dialkylbenzenesulfonate and sodium dialkylsulfosuccinate.
Examples of sodium monoalkylnaphthalene sulfonate include Perex NB-L (trade name of Kao). Examples of sodium alkyldiphenyldisulfonate include Sandet AL (trade name of Sanyo Kasei). Furthermore, as sodium dialkylbenzenesulfonate, for example, Sendale S (trade name of Daiichi Kogyo) is mentioned. Examples of sodium dialkylsulfosuccinate include Neoperex OT-P (trade name of Kao).

これらの陰イオン系界面活性剤剤のなかでも、モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウムやジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムが好ましく、上記のペレックスNB−L、サンデットALやセンデールS等が特に好ましい。   Among these anionic surfactants, sodium monoalkylnaphthalene sulfonate, sodium alkyldiphenyl disulfonate and sodium dialkylbenzene sulfonate are preferable, and Pelex NB-L, Sandet AL, Sendale S and the like are particularly preferable. .

陰イオン系界面活性剤の使用量は、ジアルキルフェノール類(II)の100重量部当り0.6〜3重量部の範囲が好ましい。非イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤や両性界面活性剤を使用すると、反応が遅延する。   The amount of the anionic surfactant used is preferably in the range of 0.6 to 3 parts by weight per 100 parts by weight of the dialkylphenol (II). When a nonionic surfactant, a cationic surfactant or an amphoteric surfactant is used, the reaction is delayed.

本発明において、反応は酸触媒の存在下で行われる。酸触媒としては、例えば硫酸、塩酸や燐酸等の鉱酸や、p−トルエンスルホン酸等の有機酸が用いられる。好ましい酸触媒は、硫酸又は塩酸である。
酸触媒の使用量は、ジアルキルフェノール類(II)の1モル当り、通常は0.001〜0.1モルの範囲である。上記の酸触媒は水等で希釈したものを用いてもよい。
In the present invention, the reaction is carried out in the presence of an acid catalyst. As the acid catalyst, for example, a mineral acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid or phosphoric acid, or an organic acid such as p-toluenesulfonic acid is used. A preferred acid catalyst is sulfuric acid or hydrochloric acid.
The amount of the acid catalyst used is usually in the range of 0.001 to 0.1 mol per mol of the dialkylphenol (II). The acid catalyst may be diluted with water or the like.

本発明におけるトリオキサン類(III)の好ましい使用量は、ジアルキルフェノール類(II)の1モル当り0.5〜0.6モルの範囲である。トリオキサン類(III)の使用量がジアルキルフェノール類(II)の1モル当り0.5モル未満である場合は、ジアルキルフェノール類(II)が未反応のまま比較的多く残存する。一方、トリオキサン類(III)の使用量がジアルキルフェノール類(II)の1モル当り0.6モルを超える場合は、不純物が副生し易く、ビスフェノール類(I)の収率が低下する。トリオキサン類(III)は、必要に応じて、水や反応溶媒で希釈して用いてもよい。水や有機溶媒で希釈して用いる場合は、希釈に用いる溶媒の使用量と反応に用いる溶媒の使用量との合計使用量が、ジアルキルフェノール類(II)の100重量部当り、100重量部以下の範囲であることが好ましい。
トリオキサン類(III)は、該トリオキサン類以外の原料化合物等と同時に仕込んでもよく、トリオキサン類(III)以外の原料化合物中に連続的又は間欠的に仕込んでもよい。
The preferred amount of trioxane (III) used in the present invention is in the range of 0.5 to 0.6 mole per mole of dialkylphenol (II). When the amount of the trioxane (III) used is less than 0.5 mole per mole of the dialkylphenol (II), the dialkylphenol (II) remains relatively unreacted. On the other hand, when the amount of the trioxane (III) used exceeds 0.6 mol per 1 mol of the dialkylphenol (II), impurities are easily produced as a by-product and the yield of the bisphenol (I) decreases. Trioxanes (III) may be diluted with water or a reaction solvent as necessary. When diluted with water or an organic solvent, the total amount of the solvent used for dilution and the solvent used for the reaction is 100 parts by weight or less per 100 parts by weight of the dialkylphenol (II). It is preferable that it is the range of these.
Trioxanes (III) may be charged simultaneously with raw material compounds other than the trioxanes, or may be charged continuously or intermittently into raw material compounds other than the trioxanes (III).

本発明においては、反応系内の水や有機溶媒量が少ないほど、反応速度が早くなる。したがって、反応系内の水や有機溶媒量を少なくする方が、収率や反応時間の観点からは有利である。
本発明における反応温度は、通常は30〜110℃の範囲であり、好ましくは40〜100℃の範囲である。反応は、大気圧下で行ってもよく、加圧下で行ってもよい。
In the present invention, the smaller the amount of water or organic solvent in the reaction system, the faster the reaction rate. Therefore, reducing the amount of water and organic solvent in the reaction system is advantageous from the viewpoint of yield and reaction time.
The reaction temperature in the present invention is usually in the range of 30 to 110 ° C, preferably in the range of 40 to 100 ° C. The reaction may be performed under atmospheric pressure or under pressure.

反応時間は、有機溶媒量、水量及び界面活性剤量、上述した各原料化合物の仕込み方法、反応温度等によって異なるが、通常は1〜20時間の範囲であり、より好ましくは2〜10時間の範囲である。反応の進行は、ガスクロマトグラフィーや高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により追跡することができる。   The reaction time varies depending on the amount of organic solvent, the amount of water and the amount of surfactant, the preparation method of each raw material compound described above, the reaction temperature, etc., but is usually in the range of 1 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours. It is a range. The progress of the reaction can be followed by an analytical means such as gas chromatography or high performance liquid chromatography.

ビスフェノール類(I)を含む反応混合物中の酸触媒の除去は、必要に応じて有機溶媒を加えた後、酸触媒をアルカリで中和後、水層を分液することによって行われる。
水層を分液して得たビスフェノール類(I)を含む有機層は、該有機層を脱水することにより、ビスフェノールモノエステル類等の原料化合物として使用することができる。ビスフェノール類(I)は、必要に応じて、晶析等によって単離してもよい。
The acid catalyst in the reaction mixture containing the bisphenol (I) is removed by adding an organic solvent as necessary, neutralizing the acid catalyst with an alkali, and then separating the aqueous layer.
The organic layer containing bisphenols (I) obtained by separating the aqueous layer can be used as a raw material compound such as bisphenol monoesters by dehydrating the organic layer. The bisphenol (I) may be isolated by crystallization or the like, if necessary.

以下、実施例等により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited by these examples.

実施例1
温度計、攪拌装置、還流冷却管及び滴下装置を備えた反応容器中に、2,4−ジ−t−ペンチルフェノール100重量部、キシレン10重量部、ペレックスNB−L(花王の陰イオン系界面活性剤;主成分はモノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム)の2重量部及び78%硫酸の4重量部をこの順に仕込んだ。60℃以下で、攪拌下にパラアルデヒド9.5重量部を2時間かけて滴下した。滴下終了後、90〜95℃まで昇温した。その後、同温度で3時間反応させた。反応終了後、反応混合物中にキシレン158重量部と水50重量部を加えた後、28%水酸化ナトリウム水溶液で中和した。中和後、水層を分液により除去した。得られた油層に水50重量部を加えて水洗した。水洗後の水層を分液により除去して、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)を含む溶液を得た。該溶液中の2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)の含量を分析した。その結果、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)の収率は、96.7%であった。
Example 1
In a reaction vessel equipped with a thermometer, stirring device, reflux condenser and dropping device, 100 parts by weight of 2,4-di-t-pentylphenol, 10 parts by weight of xylene, Perex NB-L (Kao's anionic interface) 2 parts by weight of activator; main component sodium monoalkylnaphthalene sulfonate) and 4 parts by weight of 78% sulfuric acid were charged in this order. At 60 ° C. or less, 9.5 parts by weight of paraaldehyde was added dropwise over 2 hours with stirring. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 90 to 95 ° C. Then, it was made to react at the same temperature for 3 hours. After completion of the reaction, 158 parts by weight of xylene and 50 parts by weight of water were added to the reaction mixture, and then neutralized with a 28% aqueous sodium hydroxide solution. After neutralization, the aqueous layer was removed by liquid separation. 50 parts by weight of water was added to the obtained oil layer and washed with water. The aqueous layer after washing with water was removed by liquid separation to obtain a solution containing 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol). The content of 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) in the solution was analyzed. As a result, the yield of 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) was 96.7%.

実施例2
パラアルデヒド9.9重量部を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行って、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)を含む溶液を得た。分析した結果、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)の収率は、97.1%であった。
Example 2
The same operation as in Example 1 was carried out except that 9.9 parts by weight of paraaldehyde was used to obtain a solution containing 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol). As a result of analysis, the yield of 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) was 97.1%.

比較例1
パラアルデヒドの代わりにアセトアルデヒド9.9重量部を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行って、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)を含む溶液を得た。分析した結果、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)の収率は、96.2%であった。
Comparative Example 1
A solution containing 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) by performing the same operation as in Example 1 except that 9.9 parts by weight of acetaldehyde was used instead of paraaldehyde. Got. As a result of analysis, the yield of 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) was 96.2%.

比較例2
ペレックスNB−Lを用いない以外は、実施例1と同様の操作を行って、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)を含む溶液を得た。分析した結果、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)の収率は、87.3%であった。
Comparative Example 2
A solution containing 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) was obtained in the same manner as in Example 1 except that Perex NB-L was not used. As a result of analysis, the yield of 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol) was 87.3%.

Figure 2006036685
Figure 2006036685

1) ジアルキルフェノール基準の重量比
2) ジアルキルフェノール基準のモル比
3) 希釈溶媒の種類及び希釈溶媒の重量倍率(対アルデヒド)
4) ジアルキルフェノール基準の反応収率(%)
1) Weight ratio based on dialkylphenol 2) Molar ratio based on dialkylphenol 3) Type of dilution solvent and weight ratio of dilution solvent (to aldehyde)
4) Reaction yield based on dialkylphenol (%)

本発明の製造方法により得られるビスフェノール類は、ブタジエン系ポリマーやオレフィン系ポリマーの熱劣化防止剤の中間体化合物として有用である。
The bisphenols obtained by the production method of the present invention are useful as an intermediate compound of a thermal degradation inhibitor for butadiene polymers and olefin polymers.

Claims (8)

下式(II)で示されるジアルキルフェノール類と下式(III)で示されるトリオキサン類を、炭素数6〜10の脂肪族炭化水素溶媒及び炭素数6〜12の芳香族炭化水素溶媒から選ばれる反応溶媒、陰イオン系界面活性剤並びに酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする下式(I)で示されるビスフェノール類の製造方法。
Figure 2006036685
(I)
Figure 2006036685
(II)
Figure 2006036685
(III)
[式中、R1は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R及びRは、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基を表す。]
The dialkylphenol represented by the following formula (II) and the trioxane represented by the following formula (III) are selected from an aliphatic hydrocarbon solvent having 6 to 10 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon solvent having 6 to 12 carbon atoms. A process for producing a bisphenol represented by the following formula (I), wherein the reaction is carried out in the presence of a reaction solvent, an anionic surfactant and an acid catalyst.
Figure 2006036685
(I)
Figure 2006036685
(II)
Figure 2006036685
(III)
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. ]
陰イオン系界面活性剤が、モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びジアルキルスルホコハク酸ナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の界面活性剤である請求項1に記載のビスフェノール類の製造方法。   2. The surfactant according to claim 1, wherein the anionic surfactant is at least one surfactant selected from the group consisting of sodium monoalkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate, sodium dialkylbenzenesulfonate, and sodium dialkylsulfosuccinate. The manufacturing method of bisphenol of description. 陰イオン系界面活性剤の使用量が、式(II)で示されるジアルキルフェノール類100重量部当り0.6〜3重量部の範囲である請求項1又は2に記載のビスフェノール類の製造方法。   The method for producing a bisphenol according to claim 1 or 2, wherein the amount of the anionic surfactant used is in the range of 0.6 to 3 parts by weight per 100 parts by weight of the dialkylphenol represented by the formula (II). 反応溶媒の使用量が、式(II)で示されるジアルキルフェノール類の100重量部当り1〜100重量部の範囲である請求項1〜3のいずれかに記載のビスフェノール類の製造方法。   The method for producing a bisphenol according to any one of claims 1 to 3, wherein the amount of the reaction solvent used is in the range of 1 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the dialkylphenol represented by the formula (II). 反応溶媒が、トルエン又はキシレンである請求項1〜4のいずれかに記載のビスフェノール類の製造方法。   The method for producing bisphenols according to any one of claims 1 to 4, wherein the reaction solvent is toluene or xylene. 酸触媒の使用量が、式(II)で示されるジアルキルフェノール類の1モル当り0.001〜0.1モルの範囲である請求項1〜5のいずれかに記載のビスフェノール類の製造方法。   The method for producing a bisphenol according to any one of claims 1 to 5, wherein the amount of the acid catalyst used is in the range of 0.001 to 0.1 mol per mol of the dialkylphenol represented by the formula (II). 式(I)で示されるビスフェノール類が、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ペンチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)又は2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)である請求項1〜6のいずれかに記載のビスフェノール類の製造方法。   The bisphenol represented by the formula (I) is 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-pentylphenol), 2,2′-ethylidenebis (4,6-di-t-butylphenol) or The method for producing bisphenols according to any one of claims 1 to 6, which is 2,2'-methylenebis (6-tert-butyl-4-methylphenol). 式(III)で示されるトリオキサン類が、パラホルムアルデヒド又はパラアセトアルデヒドである請求項1〜7のいずれかに記載のビスフェノール類の製造方法。
The method for producing bisphenols according to any one of claims 1 to 7, wherein the trioxane represented by the formula (III) is paraformaldehyde or paraacetaldehyde.
JP2004218388A 2004-07-27 2004-07-27 Method for producing bisphenols Pending JP2006036685A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004218388A JP2006036685A (en) 2004-07-27 2004-07-27 Method for producing bisphenols

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004218388A JP2006036685A (en) 2004-07-27 2004-07-27 Method for producing bisphenols

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006036685A true JP2006036685A (en) 2006-02-09

Family

ID=35902065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004218388A Pending JP2006036685A (en) 2004-07-27 2004-07-27 Method for producing bisphenols

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006036685A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101704728A (en) * 2009-11-13 2010-05-12 江苏工业学院 Method for preparing bisphenol compound antioxidant product by using organic acid catalyst
JP2010241701A (en) * 2009-04-02 2010-10-28 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for producing 2,2'-alkylene bis(4,6-dialkylphenol)
CN105585454A (en) * 2014-10-23 2016-05-18 中国石油天然气股份有限公司 Preparation method of hindered bisphenol antioxidant
WO2019039520A1 (en) * 2017-08-22 2019-02-28 三菱ケミカル株式会社 Bisphenol composition containing aromatic alcohol sulfonate and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and bisphenol production method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2330217A (en) * 1940-07-22 1943-09-28 Sherwin Williams Co Manufacture of the phenol-aldehyde type of resins
JPS52122350A (en) * 1976-04-01 1977-10-14 Seiko Kagaku Kk Process for preparing 2*22methylenee bis*4*66dialkylphenol*
JPS5731630A (en) * 1980-08-01 1982-02-20 Cosmo Co Ltd Preparation of bisphenolethane
JPS59191034A (en) * 1983-04-14 1984-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photosensitive material
JPH07252428A (en) * 1994-03-16 1995-10-03 Kawasaki Kasei Chem Ltd Production of copper phthalocyanine
JP2000239204A (en) * 1998-12-22 2000-09-05 Sumitomo Chem Co Ltd Production of bisphenols
JP2002241331A (en) * 2001-02-19 2002-08-28 Honshu Chem Ind Co Ltd Method for manufacturing 2,2'-methylenebis(alkylphenol)
JP2003261487A (en) * 2002-03-06 2003-09-16 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing alkylidenebisphenols

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2330217A (en) * 1940-07-22 1943-09-28 Sherwin Williams Co Manufacture of the phenol-aldehyde type of resins
JPS52122350A (en) * 1976-04-01 1977-10-14 Seiko Kagaku Kk Process for preparing 2*22methylenee bis*4*66dialkylphenol*
JPS5731630A (en) * 1980-08-01 1982-02-20 Cosmo Co Ltd Preparation of bisphenolethane
JPS59191034A (en) * 1983-04-14 1984-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photosensitive material
JPH07252428A (en) * 1994-03-16 1995-10-03 Kawasaki Kasei Chem Ltd Production of copper phthalocyanine
JP2000239204A (en) * 1998-12-22 2000-09-05 Sumitomo Chem Co Ltd Production of bisphenols
JP2002241331A (en) * 2001-02-19 2002-08-28 Honshu Chem Ind Co Ltd Method for manufacturing 2,2'-methylenebis(alkylphenol)
JP2003261487A (en) * 2002-03-06 2003-09-16 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing alkylidenebisphenols

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010241701A (en) * 2009-04-02 2010-10-28 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for producing 2,2'-alkylene bis(4,6-dialkylphenol)
CN101704728A (en) * 2009-11-13 2010-05-12 江苏工业学院 Method for preparing bisphenol compound antioxidant product by using organic acid catalyst
CN105585454A (en) * 2014-10-23 2016-05-18 中国石油天然气股份有限公司 Preparation method of hindered bisphenol antioxidant
CN105585454B (en) * 2014-10-23 2018-08-10 中国石油天然气股份有限公司 Preparation method of hindered bisphenol antioxidant
WO2019039520A1 (en) * 2017-08-22 2019-02-28 三菱ケミカル株式会社 Bisphenol composition containing aromatic alcohol sulfonate and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and bisphenol production method
CN111032607A (en) * 2017-08-22 2020-04-17 三菱化学株式会社 Aromatic alcohol sulfonate-containing bisphenol composition and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and method for producing bisphenol
JPWO2019039520A1 (en) * 2017-08-22 2020-10-01 三菱ケミカル株式会社 A bisphenol composition containing an aromatic alcohol sulfonate and a method for producing the same, a polycarbonate resin and a method for producing the same, and a method for producing bisphenol.
US11427523B2 (en) 2017-08-22 2022-08-30 Mitsubishi Chemical Corporation Bisphenol composition containing aromatic alcohol sulfonate and method for producing same, polycarbonate resin and method for producing same, and bisphenol production method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007269708A (en) Method for producing tertiary olefin and aliphatic alcohol
RU2330848C1 (en) Method of obtaining 4,4-dimethyl-1,3-dioxane
KR101822607B1 (en) Process for Producing a t-Butyl Phenol from a C4 Raffinate Stream
JP4016520B2 (en) Production method of bisphenols
JP2014524897A (en) Recovery of phenol and acetone from bisphenol A stream
US20110009675A1 (en) Process for the Continuous Production of High Purity Phenolic Glycol Ether
JP2006036685A (en) Method for producing bisphenols
JP4902931B2 (en) Method of recovering physical value from bisphenol tar
JP4438465B2 (en) Method for producing tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane compound
EP1151986B1 (en) Method for removing tert-butyl groups from tert-butyl phenol compounds
JP4127017B2 (en) Method for producing benzylcarbazate compound
JP6502151B2 (en) Method for producing tetrakisphenol ethanes
CN105688984B (en) The method of crotonization for methyln-hexyl ketone
JP5343672B2 (en) Process for producing 2,2&#39;-alkylenebis (4,6-dialkylphenol)
JP4545248B2 (en) Method for producing phenols
JP3337326B2 (en) Process for producing bis (hydroxyaryl) pentanoic acids
JP6034750B2 (en) Paradecylphenol
JP3832837B2 (en) Method for producing 3,3 &#39;, 5,5&#39;-tetraalkyl-4,4&#39;-biphenol
US8367874B2 (en) Process for producing 2-(1-hydroxyalkyl)cycloalkanone
EP0284424B1 (en) Process for producing hydroxybenzenes
JP2003012580A (en) Method for continuously producing acetylenediol compound
JP2008247836A (en) Method for producing alcohol
JPH05310624A (en) Production of terpene diphenol resin
JP2005097144A (en) Method for producing binuclear phenols
EP0439083B1 (en) Process for preparing 4,4&#39;-dihydroxybiphenyl

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20070620

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080130

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Effective date: 20080513

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20100525

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101005