JP2005511700A - ポリスルフィドモノオルガノオキシシランの製造法 - Google Patents
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Abstract
(a)ヒドロシリル化反応:R2R3HSi−Hal + CH2=CH−CH2−Hal → Hal−R2R3Si−(CH2)3Hal;
(b)アルコール分解反応:Hal−R2R3Si−(CH2)3−Hal + R1−OH → R1O−R2R3Si−(CH2)3Hal;
(c)スルフィド化反応:R1O−R2R3Si−(CH2)3Hal + M2Sx → 式(I)の化合物;(ここでHal=ハロゲン原子であり、M=アルカリ金属である。)
Description
より具体的には、一般式:
・記号R1は、同一又は異なるもので、炭素原子を1〜15個もつ線状又は分枝状のアルキル基と炭素原子を2〜8個もつ線状又は分枝状のアルコキシアルキル基とから選択される1価の炭化水素基をそれぞれ表し;
・記号R2及びR3は、同一又は異なるもので、炭素原子を1〜6個もつ線状又は分枝状のアルキル基とフェニル基とから選択される1価の炭化水素基をそれぞれ表し;
・xは1.5±0.1〜5±0.1の範囲の整数又は端数である。)
に対応する硫黄含有有機ケイ素化合物の製造法である。
−第一のプロセスは、トリアルコキシシリルアルキルハライドを、アンモニア(NH3)又は第一若しくは第二アミンとH2S及び元素状硫黄の反応生成物と反応させることを含み、該反応を自生圧下、0℃〜175℃の範囲の温度で、随意的に不活性な極性(又は無極性)有機溶媒の存在下で行うものである(とりわけ米国特許第4 125 552号参照)。
−第二のプロセスは、元素状硫黄及びトリアルコキシシリルアルキルハライドをベースとした混合物を、H2Sと金属アルコキシド溶液の反応生成物と反応させることを含み、該反応を25℃から反応媒質の還流温度までの範囲で行うものである(とりわけ米国特許第5 489 701号参照)。
−第三のプロセスは、トリアルコキシシリルアルキルハライドを無水アルカリ金属ポリスルフィドと反応させることを含み、該反応を40℃から該混合物の沸点までの範囲で、随意的に不活性な極性(又は無極性)有機溶媒の存在下で行うものである(とりわけ米国特許第5 859 275号参照)。
−第四のプロセスは、トリアルコキシシリルアルキルハライドを元素状硫黄及びアルカリ金属と反応させることを含み、該反応を60℃〜100℃の範囲の温度で、随意的に非プロトン性有機溶媒の存在下で行うものである(とりわけ米国特許第6 066 752号参照)。
−その理由は、本合成経路は工業的収益性に関して非常に有利となる工業的利用性及び価格を有する前駆体モノハルシリルアルキルハライドを利用するからである。
−その理由は、本合成経路は、(ポリスルフィド化の段階においてはH2S及びアルカリ金属のような)毒性物質又は環境汚染物質である反応物に頼ることなく及び/又は副産物を生成することなく事実上定量的に起こる(とりわけポリスルフィド化の段階ではそうである。)一連の段階を含むからである。
ここで、
−記号Halは塩素、臭素及びヨウ素原子から選択されるハロゲン原子を表し(塩素原子が好ましい。)、
−記号R2及びR3は上で定義したとおりであり、
−Aは、塩素、臭素及びヨウ素原子に属するハロゲン原子Hal(塩素原子が好ましい。);又はパラ−R0−C6H4−SO2−O−基(式中のR0は線状又は分枝状のC1〜C4アルキル基であり、トシレート基パラ−CH3−C6H4−SO2−O−が好ましい。);又はR0−SO2−O−基(式中のR0は上で定義したとおりで、メシレート基CH3−SO2−O−が好ましい。);又はR0−CO−O−基(式中のR0は上で定義したとおりで、アセテート基CH3−CO−O−基が好ましい。)のいずれかから選択される脱離基であり、
−この反応は、
・−(マイナス)10℃〜200℃の温度範囲で、1モルの式(V)のジオルガノハロシランと、化学量論的モル量又は化学量論とは異なるモル量の式(VI)のアリル誘導体とを、均質又は不均質媒質中で、開始剤の存在下で反応させること、
(ここで開始剤は、
−(i)Co、Ru、Rh、Pd、Ir及びPtよりなる群から選択される遷移金属又は該金属の誘導体を少なくとも1種含む少なくとも1種の触媒と、随意的に(2i)少なくとも1種のヒドロシリル化反応促進剤とから成る触媒活性剤、
−或いは適切な紫外線又は適切な電離放射線より特に成る光化学活性剤、
のいずれかで構成される。)
・そして随意的に、生じた式(VII)のジオルガノハロシリルプロピル誘導体を単離すること、
により行う。
ここで、
−記号R1、R2、R3、Hal及びAは上で定義したとおりであり、
−この反応は、
・−(マイナス)20℃〜200℃の温度範囲で、段階(a)の結果得られた反応媒質又は前記媒質から分離して単離した式(VII)のジオルガノハロシリルプロピル誘導体を、式(VII)の反応剤1モル当たり少なくとも1モルの式(VIII)のアルコールを用いて式(VIII)のアルコールと反応させること(該反応は随意的に塩基及び/又は有機溶媒の存在下で行う。)、
・そして随意的に、生じた式(IX)のモノオルガノオキシジオルガノシリルプロピル誘導体を単離すること、
により行う。
ここで、
−記号R1、R2、R3、A及びxは上で定義したとおりであり、
−記号Mはアルカリ金属を表し、
−この反応は、
・20℃〜120℃の温度範囲で、段階(b)の結果得られた反応媒質又は前記媒質から分離して単離した式(IX)のモノオルガノオキシジオルガノシリルプロピル誘導体を、式(IX)の反応剤1モル当たり0.5±25%モル、好ましくは0.5±15%モルの式(X)の金属ポリスルフィドを用いて無水状態の式(X)の金属ポリスルフィドと反応させること(該反応は随意的に不活性な極性(又は無極性)有機溶媒の存在下で行う。)、
・そして生じた式(I)のビス(モノオルガノオキシシリルプロピル)ポリスルフィドを単離すること、
により行う。
ここで、
−記号Hal、R2、R3及びR1は上で定義したとおりであり、
−この反応は、
・−(マイナス)20℃〜200℃の温度範囲で、1モルの式(V)のジオルガノハロシランを、少なくとも1モルの式(VIII)のアルコールと反応させること(該反応は随意的に塩基及び/又は有機溶媒の存在下で行う。)、
・そして随意的に、生じた式(XI)のモノオルガノオキシジオルガノシランを単離すること、
により行う。
ここで、
−記号R1、R2、R3及びAは上で定義したとおりであり、
−この反応は、
・段階(a’)の結果得られた反応媒質又は前記媒質から分離して単離した式(XI)のモノオルガノオキシジオルガノシランを、1モルの式(XI)のシランを用いて化学量論的モル量又は化学量論とは異なるモル量の式(VI)のアリル誘導体と、均質又は不均質媒質中で、開始剤の存在下で反応させること
(ここで開始剤は、
(i)Co、Ru、Rh、Pd、Ir及びPtよりなる群から選択される遷移金属又は該金属の誘導体を少なくとも1種含む少なくとも1種の触媒と、随意的に(2i)少なくとも1種のヒドロシリル化反応促進剤とから成る触媒活性剤、
或いは適切な紫外線又は適切な電離放射線より特に成る光化学活性剤、
のいずれかで構成される。)、
・そして随意的に、生じた式(IX)のモノオルガノオキシジオルガノシリルプロピル誘導体を単離すること、
により行う。
触媒活性剤は:
−触媒(i)として:
(i―1)少なくとも1種の微粉状の元素状遷移金属;及び/又は
(i−2)少なくとも1種の遷移金属のコロイド;及び/又は
(i−3)少なくとも1種の遷移金属の酸化物;及び/又は
(i−4)少なくとも1種の遷移金属と無機酸又はカルボン酸とから誘導される塩;及び/又は
(i−5)1以上のヘテロ原子をもつことのできるハロゲン化及び/又は有機配位子、及び/又は有機ケイ素配位子をもつ少なくとも1種の遷移金属の錯体;及び/又は
(i−6)上で定義した塩であって、金属部分がやはり上で定義した配位子をもつもの;及び/又は
(i−7)前述した金属含有物(元素状遷移金属、酸化物、塩、錯体、錯塩)から選択される金属含有物であって、該遷移金属が「“Handbook of Chemistry and Physics”、第65版、1984−1985、CRC Press Inc.」で発行された周期表のIb、IIb、IIIa、IIIb、IVa、IVb、Va、Vb、VIb、VIIb及びVIII族(Co、Ru、Rh、Pd、Ir及びPtを除く)の元素群から選択される少なくとも1つの他の金属と結合しているもの(前記他の金属は元素形態又は分子形態をとり、前記結合によりバイメタル又はポリメタルを生じることが可能である。);及び/又は
(i−8)前述した金属含有物(元素状遷移金属、及び遷移金属−他金属結合;遷移金属ベース又は遷移金属−他金属結合ベースの酸化物、塩、錯体及び錯塩)から選択される金属含有物であって、例えばアルミナ、シリカ、カーボンブラック、粘土、酸化チタン、アルミノケイ酸塩、アルミニウム及びジルコニウム酸化物の混合物、又はポリマー樹脂のような(行う反応に関して不活性な)不活性固体担体上に担持されたもの;及び/又は
(i−9)上記段落(i−8)で与えた定義に対応する担持された金属含有物であって、その構造中で前記不活性固体担体自体が1以上のヘテロ原子を含有することのできるハロゲン化及び/又は有機配位子の少なくとも1種を運ぶもの;
を含み、
−随意的な促進剤(2i)として:
例えば、有機ペルオキシド;カルボン酸;カルボン酸塩;第3ホスフィン;(例えば随意的に混合したアルキル及び/又はアリールホスファイトのような)ホスファイト;アミン;アミド;線状又は環状ケトン;トリアルキルヒドロシラン;ベンゾトリアゾール;フェノチアジン;3価金属−(C6H5)3タイプの化合物(ここで、金属はAs、Sb又はPである。);アミン又はシクロヘキサノンと1以上の≡Si−H基を含む有機ケイ素化合物との混合物;CH2=CH−CH2−OH又はCH2=CH−CH2−OCOCH3の化合物;ラクトン;シクロヘキサノンとトリフェニルホスフィンの混合物;或いは、例えばアルカリ金属又はイミダゾリニウムの硝酸塩又はホウ酸塩、ハロゲン化ホスホニウム、4級ハロゲン化アンモニウム、又はハロゲン化スズ(II)のようなイオン化合物;よりなる群から特に選択される配位子又はイオン化合物の形態をもつことのできる化合物を含む。
[IrCl(CO)(PPh3)2]
[Ir(CO)H(PPh3)3]
[Ir(C8H12)(C5H5N)P(C6H11)3]PF6
[IrCl3]・nH2O
H2[IrCl6]・nH2O
(NH4)2IrCl6
Na2IrCl6
K2IrCl6
KIr(NO)Cl5
[Ir(C8H12)2]+BF4 -
[IrCl(CO)3]n
H2IrCl6
Ir4(CO)12
Ir(CO)2(CH3COCHCOCH3)
Ir(CH3COCHCOCH3)
IrBr3
IrCl3
IrCl4
IrO2
(C6H7)(C8H12)Ir
である。
[Ir(R4)Hal]2 (XII)
(式中、
−記号R4は、少なくとも一つのC=C二重結合及び/又は少なくとも一つのC≡C三重結合を含む不飽和炭化水素配位子を表し;上記不飽和結合は共役又は非共役とすることができ;前記配位子は線状又は環状(単環式若しくは多環式)であり;4〜30個の炭素原子をもち;1〜8個のエチレン及び/又はアセチレン不飽和をもち;随意的に例えば酸素原子及び/又はケイ素原子のようなヘテロ原子を1個以上含み;
−記号Halは上で定義したとおりである。)
のイリジウム錯体の群より選択する。
・記号R4は1,3−ブタジエン、1,3−ヘキサジエン、1,3−シクロヘキサジエン、1,3−シクロオクタジエン、1,5−シクロオクタジエン、1,5,9−シクロドデカトリエン及びノルボルナジエン、並びに以下の式:
・記号Halは塩素原子を表す;
ものが挙げられる。
ジ−μ−クロロ−ビス(ジビニルテトラメチルジシロキサン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロ−ビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモ−ビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨード−ビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロ−ビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモ−ビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨード−ビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロ−ビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモ−ビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨード−ビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、
が挙げられる。
−1k:反応媒質をその沸点に加熱してハロゲン化水素酸を脱気すること、
−2k:例えば窒素のような乾燥した不活性ガスを使ってハロゲン化水素酸を除去すること、
−3k:適切な部分真空を用いることにより脱気すること、又は
−4k:有機溶媒を使った同伴により、生じたハロゲン化水素酸を除去すること(この溶媒は有利なことに、反応を行う際に過剰に利用した式(VIII)のアルコールとすることが可能である。)
の適切な方法によって、生じたハロゲン化水素酸の反応媒質からの除去が促進される。
−塩基の存在下で反応を行うときは、1〜30、好ましくは1〜15の範囲、
−塩基の不存在下で反応を行うときは、1〜30、好ましくは1〜25の範囲、
である。
・ステップ(1):アルカリ金属スルフィドハイドレートを、脱水工程の間中アルカリ金属スルフィドを固体状態に保持したまま結晶水を除去することを可能とする適切な方法を用いて脱水する。
・ステップ(2):次いで、得られた脱水したアルカリ金属スルフィドの1molをn(x−1)molの元素状硫黄と接触させて、20℃〜120℃の温度範囲で、随意的に加圧下で、随意的に無水有機溶媒の存在下で反応を行う(前記の因子nは0.8〜1.2の範囲内にあり、記号xは上で定義したとおりである。)。
本実施例では、式(III)のビス(モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド(数xは4が中心)の製造について記述する。
本実施例に係る反応スキームは以下の通りである。
純度97.5重量%の165g(2.10mol)のアリルクロライド2及び0.229gの触媒[Ir(COD)Cl]2(式中、COD=1,5−シクロオクタジエン)をジャケット及び攪拌器の付いた攪拌した1リットルのガラス反応器に加え、蒸留塔を載せた。触媒を完全に溶解するため該混合物を攪拌した。ジャケット内を循環する熱交換流体を用いて該混合物の温度を20℃に調整した。
純度99重量%のジメチルヒドロクロロシラン1をポンプを用いてディップ管(dip pipe)から反応媒質へ導入した(196.5g(2.06mol)を2時間35分かけて導入した。)。高い発熱反応であることを考慮して、反応媒質の温度を20〜25℃に維持するために導入流量を調節した。ジメチルヒドロクロロシラン1の導入終了後20分間反応媒質の攪拌を続けた。
反応媒質の攪拌終了時に、分析用にサンプルを取り出した。結果は、ガスクロマトグラフィの分析によると、ジメチルヒドロクロロシラン1の転換度=99.8%で、クロロプロピルジメチルクロロシラン3への選択率=92.7%であった。
続いて、二種類の主な留分:
(1)軽い生成物(クロロプロピルジメチルクロロシラン3を本質的に随伴する、アリルクロライド2の残渣及び極微量のジメチルヒドロクロロシラン1の残渣);
(2)モル純度98%を超えるクロロプロピルジメチルクロロシラン3;
を得るために反応混合物を真空下(約35×102Pa)の約40℃で蒸留した。より重い生成物及び触媒で構成される蒸留残渣が残った。モル収量は85%であった。
モル純度98.5%の304gのクロロプロピルジメチルクロロシラン3をジャケットの付いた攪拌した1リットルのガラス反応器に加え、還流できるようにコンデンサーを載せた。大気圧において温度を150℃に上げて28g/hの窒素流を反応器の底部から注入した。未反応のアルコールが直接逃げられるように、塔の頂部の還流はオフラインとした。したがってそのアルコールを凝縮させ、ボトムバルブの付いたフラスコ内に回収することができた。残留ガス流はHClトラップ(水+水酸化ナトリウム)へ導いた。
1812gの含水率200ppm未満の無水エタノール4(エタノール:シラン=22.7:1(モル比))をポンプを使って400g/hの流量で反応器の底部から注入した。反応混合物の温度は自然に沸点に調節された。温度は組成物に依存し、エタノールの流入開始時に変化して約110℃のところで急速に安定化した。エタノールは約4時間30分流入した。エタノールの流入終了後、該混合物に1時間窒素を流した。次いで該混合物を冷却し、分析したところ、以下の結果が得られた。
クロロプロピルジメチルクロロシラン3の転換度は100%で、クロロプロピルジメチルエトキシシラン5への選択率は96%を超えた。モル収率は96%であった。
3.1) 無水Na2S4 6の製造:
・ステップ1: Na2Sハイドレートの乾燥:
約60.5重量%のNa2Sを含む43.6gの工業用Na2Sハイドレートの薄片をロータリーエバポレーターの1リットル丸底ガラスフラスコに導入した。丸底フラスコをアルゴン雰囲気下に、それから13.3×102Paの減圧下に置いた。
この丸底フラスコをオイルバスへ浸漬し、次いで温度を76℃とした。この温度を2時間保持した。続いて、85〜90℃の間で起こるNa2Sの溶解を回避するためにオイルバスの温度を上昇させるためのプロトコルを適用した。温度の漸進的上昇の目的は、乾燥しようとする物の融点の変化(融点はその物が脱水すると上昇する。)に合わせることである。適用したプロトコルは82℃で1時間、85℃で2時間、95℃で1時間、115℃で1時間、最後に130℃で1時間であった。本プロトコルは乾燥する量、操作圧力及び水の除去速度に影響を与える他のパラメータによって変更可能であることに留意すべきである。除去した水の量は重量差で測定して17.2gであり、これは39.5重量%の水分含有量に相当する。
・ステップ2: Na2S4 6の合成:
上記プロトコルに従って乾燥したNa2S(26g)を400mLのエタノール中に浮遊させ、還流することのできるコンデンサーの付いた攪拌したジャケット付きの1リットルガラス反応器へ吸引により移した。31.9gの硫黄及び200mLの無水エタノールを付加的にこの反応器へ導入した。該混合物の温度を約80℃とし(エタノールがわずかに沸騰する。)、600rev/minで該混合物を攪拌した。該混合物を80℃に2時間維持した。固体(Na2S及び硫黄)が徐々に消え、該混合物は徐々に黄色からオレンジ色、次いで茶色へ変化した。反応の終了時には該混合物は80℃で均質であった(600mLのエタノール中に約58gの無水Na2S4(0.33mol)が得られた。)。
3.2) 7の製造:
モル純度96.6%の114gのクロロプロピルジメチルエトキシシラン5(すなわち0.61mol)を、先に製造した600mLのエタノール中の無水Na2S4へ、無水Na2S4を製造した反応器内を80℃(エタノールがわずかに沸騰する。)に維持して600rev/minに攪拌して、ポンプを用いてディップ管から導入した。塩化ナトリウムの沈殿が見られた。クロロプロピルジメチルエトキシシラン5の導入の終了後、該混合物を80℃に2時間維持した。その後、該混合物を周囲温度まで冷却して取り出し、次いで塩化ナトリウムを含む浮遊物質を除去するために濾過した。濾過ケークからできるだけ多くの有機生成物を抽出するために濾過ケークをエタノールで洗浄した。エタノール及び可能なら軽い生成物を除去することを目的として減圧下(約20×102Pa)で蒸留するために濾液を反応器へ再び導入した。114gの残渣(これはビス(モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィドに相当し、モル純度97%と定量的に決定された。)を回収した。
87重量%の収量のビス(モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィドが得られた。
1H NMR、29Si NMR及び13C NMRで観測することで、得られた構造が明細書中に与えた式(III)に一致することが確認できた。
式(III)の1分子当たりのS原子の平均数は3.9±0.1(x=3.9±0.1)であった。
本実施例は、用いた式(VIII)のアルコールが本発明における意味において無水物ではない段階(b)について記述する。
実施例1、パート2)の操作条件を再現したが、ここでは含水率が1600ppm程度のエタノールから出発した。以下が得られた。クロロプロピルジメチルクロロシラン3の転換度は100%で、クロロプロピルジメチルエトキシシラン5への選択率は約82%であった。単離した生成物のモル収量は82%であった。
本実施例は式(VII)のケイ素化合物に対する式(VIII)のアルコールのモル比を減らした段階(b)について記述する。
実施例2の操作条件を再現したが、ここではエタノール:シラン=15:1(モル比)とした。以下が得られた。クロロプロピルジメチルクロロシラン3の転換度は99%で、クロロプロピルジメチルエトキシシラン5への選択率は約85%であった。単離した生成物のモル収量は84%であった。
本実施例は式(VII)のケイ素化合物に対する式(VIII)のアルコールのモル比を更に減らした段階(b)について記述する。
実施例2の操作条件を再現したが、ここではエタノール:シラン=10:1(モル比)とした。以下が得られた。クロロプロピルジメチルクロロシラン3の転換度は97%で、クロロプロピルジメチルエトキシシラン5への選択率は約85%であった。
本実施例は後続の回分式操作で未反応アルコールの一部を再利用した段階(b)について記述する。
未反応エタノールの一部を以下の実験において再利用した。操作条件は実施例2の操作条件であるが、ここではエタノール(含水率=1600ppm)を3回に分けて導入した。
第一ステップではエタノール:シラン=7:1(モル比)に達するまで先の回分操作からリサイクルしたエタノールを導入した。本ステップ中に未反応であったエタノールはすべて回収して処分した。
第二ステップ中は、蓄えがなくなるまで先の操作からリサイクルしたエタノールの導入を続けるが、未反応エタノールは次の操作中にリサイクルできるように保持した。
第三ステップ中は、全導入量がエタノール:シラン=20:1(モル比)に達するまで新鮮なエタノールを反応器へ導入した。この第三ステップ中に未反応であったエタノールは次の操作中でリサイクルできるように回収した。
上記手順によって、回分操作中に生じた量のHClを系から除去することが可能となった(このHClは第一ステップ中に処分された未反応エタノール中に存在していた。)。クロロプロピルジメチルクロロシランの転換度は99%で、期待される生成物への選択率は88%であった。モル収量は87%であった。
Claims (14)
- 式:
・記号R1は、同一又は異なるもので、炭素原子を1〜15個もつ線状又は分枝状のアルキル基と炭素原子を2〜8個もつ線状又は分枝状のアルコキシアルキル基とから選択される1価の炭化水素基をそれぞれ表し;
・記号R2及びR3は、同一又は異なるもので、炭素原子を1〜6個もつ線状又は分枝状のアルキル基とフェニル基とから選択される1価の炭化水素基をそれぞれ表し;
・xは1.5±0.1〜5±0.1の範囲の整数又は端数である。)
のビス(モノオルガノオキシシリルプロピル)ポリスルフィドの製造方法であって、以下の段階(a)、(b)及び(c)を結びつけることを特徴とする方法。
・段階(a)は、反応式:
(ここで、
−記号Halは塩素、臭素及びヨウ素原子から選択されるハロゲン原子を表し、
−記号R2及びR3は上で定義したとおりであり、
−Aは、塩素、臭素及びヨウ素原子に属するハロゲン原子Hal;又はパラ−R0−C6H4−SO2−O−基(式中のR0は線状又は分枝状のC1〜C4アルキル基である。);又はR0−SO2−O−基(式中のR0は上で定義したとおりである。);又はR0−CO−O−基(式中のR0は上で定義したとおりである。)のいずれかから選択される脱離基であり、
−この反応は、
・−(マイナス)10℃〜200℃の温度範囲で、1モルの式(V)のジオルガノハロシランと、化学量論的モル量又は化学量論とは異なるモル量の式(VI)のアリル誘導体とを、均質又は不均質媒質中で、開始剤の存在下で反応させること、
(ここで開始剤は、
−(i)Co、Ru、Rh、Pd、Ir及びPtよりなる群から選択される遷移金属又は該金属の誘導体を少なくとも1種含む少なくとも1種の触媒と、随意的に(2i)少なくとも1種のヒドロシリル化反応促進剤とから成る触媒活性剤、
−或いは適切な紫外線又は適切な電離放射線より特に成る光化学活性剤、
のいずれかで構成される。)
・そして随意的に、生じた式(VII)のジオルガノハロシリルプロピル誘導体を単離すること、
により行う。);
・段階(b)は、反応式:
(ここで、
−記号R1、R2、R3、Hal及びAは上で定義したとおりであり、
−この反応は、
・−(マイナス)20℃〜200℃の温度範囲で、段階(a)の結果得られた反応媒質又は前記媒質から分離して単離した式(VII)のジオルガノハロシリルプロピル誘導体を、式(VII)の反応剤1モル当たり少なくとも1モルの式(VIII)のアルコールを用いて式(VIII)のアルコールと反応させること(該反応は随意的に塩基及び/又は有機溶媒の存在下で行う。)、
・そして随意的に、生じた式(IX)のモノオルガノオキシジオルガノシリルプロピル誘導体を単離すること、
により行う。);
段階(c)は、反応式:
(ここで、
−記号R1、R2、R3、A及びxは上で定義したとおりであり、
−記号Mはアルカリ金属を表し、
−この反応は、
・20℃〜120℃の温度範囲で、段階(b)の結果得られた反応媒質又は前記媒質から分離して単離した式(IX)のモノオルガノオキシジオルガノシリルプロピル誘導体を、式(IX)の反応剤1モル当たり0.5±25%モルの式(X)の金属ポリスルフィドを用いて無水状態の式(X)の金属ポリスルフィドと反応させること(該反応は随意的に不活性な極性(又は無極性)有機溶媒の存在下で行う。)、
・そして生じた式(I)のビス(モノオルガノオキシシリルプロピル)ポリスルフィドを単離すること、
により行う。)。 - 段階(a)及び(b)を、以下の段階(a’)及び(b’)に置き換えたことを特徴とする請求項1に記載の方法。
段階(a’)は、反応式:
(ここで、
−記号Hal、R2、R3及びR1は上で定義したとおりであり、
−この反応は、
・−(マイナス)20℃〜200℃の温度範囲で、1モルの式(V)のジオルガノハロシランを、少なくとも1モルの式(VIII)のアルコールと反応させること(該反応は随意的に塩基及び/又は有機溶媒の存在下で行う。)、
・そして随意的に、生じた式(XI)のモノオルガノオキシジオルガノシランを単離すること、
により行う。);
段階(b’)は、反応式:
(ここで、
−記号R1、R2、R3及びAは上で定義したとおり、
−この反応は、
・段階(a’)の結果得られた反応媒質又は前記媒質から分離して単離した式(XI)のモノオルガノオキシジオルガノシランを、1モルの式(XI)のシランを用いて化学量論的モル量又は化学量論とは異なるモル量の式(VI)のアリル誘導体と、均質又は不均質媒質中で、開始剤の存在下で反応させること、
(ここで開始剤は、
−(i)Co、Ru、Rh、Pd、Ir及びPtよりなる群から選択される遷移金属又は該金属の誘導体を少なくとも1種含む少なくとも1種の触媒と、随意的に(2i)少なくとも1種のヒドロシリル化反応促進剤とから成る触媒活性剤、
−或いは適切な紫外線又は適切な電離放射線より特に成る光化学活性剤、
のいずれかで構成される。)
・そして随意的に、生じた式(IX)のモノオルガノオキシジオルガノシリルプロピル誘導体を単離すること、
により行う。)。 - 前記各段階の定義の中で脱離基Aを塩素、臭素及びヨウ素原子から選択されるハロゲン原子を表す記号Halに対応させて、段階(a)、(b)及び(c)、又は段階(a’)、(b’)及び(c)のいずれかを結びつけることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 段階(a)又は段階(b’)を触媒活性剤の存在下で操作することにより行うことを特徴とする請求項1〜3いずれか一項に記載の方法。
(ここで前記触媒活性剤は:
−触媒(i)として、以下の金属含有物の一方及び/又は他方、すなわち:
(i―1)少なくとも1種の微粉状の元素状遷移金属;及び/又は
(i−2)少なくとも1種の遷移金属のコロイド;及び/又は
(i−3)少なくとも1種の遷移金属の酸化物;及び/又は
(i−4)少なくとも1種の遷移金属と無機酸又はカルボン酸とから誘導される塩;及び/又は
(i−5)1以上のヘテロ原子をもつことのできるハロゲン化及び/又は有機配位子、及び/又は有機ケイ素配位子をもつ少なくとも1種の遷移金属の錯体;及び/又は
(i−6)上で定義した塩であって、金属部分がやはり上で定義した配位子をもつもの;及び/又は
(i−7)前述した金属含有物(元素状遷移金属、酸化物、塩、錯体、錯塩)から選択される金属含有物であって、該遷移金属が周期表のIb、IIb、IIIa、IIIb、IVa、IVb、Va、Vb、VIb、VIIb及びVIII族(Co、Ru、Rh、Pd、Ir及びPtを除く)の元素群から選択される少なくとも一つの他の金属と結合しているもの(前記他の金属は元素形態又は分子形態をとり、前記結合によりバイメタル又はポリメタル含有物を生じることが可能である。);及び/又は
(i−8)前述した金属含有物(元素状遷移金属及び遷移金属−他金属結合;遷移金属ベース又は遷移金属−他金属結合ベースの酸化物、塩、錯体及び錯塩)から選択される金属含有物であって、アルミナ、シリカ、カーボンブラック、粘土、酸化チタン、アルミノケイ酸塩、アルミニウム及びジルコニウム酸化物の混合物、又はポリマー樹脂のような不活性固体担体上に担持されたもの;及び/又は
(i−9)上記段落(i−8)で与えた定義に対応する担持された金属含有物であって、その構造中で前記不活性固体担体自体が1以上のヘテロ原子を含有することのできるハロゲン化及び/又は有機配位子の少なくとも1種を運ぶもの;
を含んで成る。) - 触媒(i)として、前記遷移金属がIr及びPtよりなるサブグループに属する、(i−1)から(i−9)の金属含有物の一方及び/又は他方を含む触媒活性剤の存在下で操作することにより段階(a)又は段階(b’)を行うことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 触媒(i)として、前記遷移金属がIrである、(i−1)から(i−9)の金属含有物の一方及び/又は他方を含む触媒活性剤の存在下で操作することにより段階(a)又は段階(b’)を行うことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 触媒(i)として、式:
[Ir(R4)Hal]2 (XII)
(式中、
−記号R4は、少なくとも一つのC=C二重結合及び/又は少なくとも一つのC≡C三重結合を含む不飽和炭化水素配位子を表し;この不飽和結合は共役又は非共役とすることができ;前記配位子は線状又は環状(単環式若しくは多環式)であり;4〜30個の炭素原子をもち;1〜8個のエチレン及び/又はアセチレン不飽和をもち;随意的にヘテロ原子を1個以上含み;
−記号Halは上で定義したとおりである。)
のイリジウム錯体に属する(i−5)型の金属含有物を少なくとも1種含む触媒活性剤の存在下で操作することにより段階(a)又は段階(b’)を行うことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 段階(a)又は段階(b’)の終了時に、触媒を均質媒質中で用いたときに、以下の方法で触媒金属を回収することを特徴とする請求項1〜7いずれか一項に記載の方法。
−段階(1):副産物及び触媒の金属又はその誘導体を含む液体蒸留残渣から生成物を分離するために反応媒質を蒸留し、
−段階(2):水相及び有機相を得ることを目的として、随意的に、生じたH−Halに対して不活性な有機溶媒の存在下で、随意的に、該残渣を水と接触させ、
−段階(3):(1)で生じた残渣又は(2)で生じた残渣を触媒の金属を吸着する有効量の固体物質に接触させ、
−段階(4):前記金属を回収する目的で触媒金属から吸着剤を分離する。 - 非水塩基や有機塩基の不存在下で、
−1k:反応媒質をその沸点に加熱してハロゲン化水素酸を脱気すること、
−2k:乾燥した不活性ガスを使ってハロゲン化水素酸を除去すること、
−3k:適切な部分真空を用いることにより脱気すること、
又は
−4k:有機溶媒を使った同伴により、生じたハロゲン化水素酸を除去すること、
から成る適切な方法によって、生じたハロゲン化水素酸の反応媒質からの除去を促進することにより、
段階(b)又は段階(a’)を行うことを特徴とする請求項1〜8いずれか一項に記載の方法。 - 無水状態すなわち含水率が1000ppm未満の式(VIII)のアルコールを用いて
段階(b)又は段階(a’)を行うことを特徴とする請求項1〜9いずれか一項に記載の方法。 - 塩基の不存在下、60℃〜160℃の温度範囲内で、含水率が1000ppm未満の無水アルコールを使い、方法4kを適用してハロゲン化水素酸を除去し、式(VII)のケイ素化合物又は式(V)のシランに対する式(VIII)のアルコールのモル比を3〜23として、段階(b)又は段階(a’)を行うことを特徴とする請求項1〜10いずれか一項に記載の方法。
- 式(VIII)の出発時のアルコールとして、前操作を回分式に実施して生じた、式(VIII)のアルコール及びハロゲン化水素酸をベースとした蒸留混合物で一部又は全部が構成されるアルコール反応物を用いて、随意的に式(VIII)の新しいアルコールを補助的に加えて、段階(b)又は段階(a’)を行うことを特徴とする請求項1〜11いずれか一項に記載の方法。
- スルフィドハイドレートの形態のアルカリ金属スルフィドM2Sから、以下の操作ステップ(1)及び(2)を結びつけた方法に従って事前に作製される式(X)の無水金属ポリスルフィドを用いて、段階(c)を行うことを特徴とする請求項1〜12いずれか一項に記載の方法。
・ステップ(1):アルカリ金属スルフィドハイドレートを、脱水工程を通してアルカリ金属スルフィドを固体状態に保持したまま結晶水を除去することを可能とする適切な方法を用いて脱水する。
・ステップ(2):次いで、得られた脱水したアルカリ金属スルフィドの1molをn(x−1)molの元素状硫黄と接触させて、20℃〜120℃の温度範囲で、随意的に加圧下で、随意的に無水有機溶媒の存在下で反応を行う(前記の因子nは0.8〜1.2の範囲内にあり、記号xは上で定義したとおりである。)。 - ステップ(1)に関して、脱水プロトコルとして、1.33×102Pa〜40×102Paの範囲の部分真空下で、乾燥開始時には70℃〜85℃とし、次いで乾燥中は温度を70℃〜85℃の範囲の領域から125℃〜135℃の範囲の領域に達するまで徐々に上げてアルカリ金属スルフィドハイドレートを乾燥する(1時間〜6時間まで変化する第一ピリオド後に+10℃〜+15℃の第一温度上昇を与え、そして1時間〜4時間まで変化する第二ピリオド後に+20℃〜+50℃の第二温度上昇を与えるプログラムとする。)操作を行うこと特徴とする請求項13記載の方法。
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