JP2005239702A - ヒドロキシルアミンの製造方法 - Google Patents
ヒドロキシルアミンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005239702A JP2005239702A JP2004232437A JP2004232437A JP2005239702A JP 2005239702 A JP2005239702 A JP 2005239702A JP 2004232437 A JP2004232437 A JP 2004232437A JP 2004232437 A JP2004232437 A JP 2004232437A JP 2005239702 A JP2005239702 A JP 2005239702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxylamine
- reaction
- salt
- concentration
- stabilizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミンを得る反応工程、ヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程、ヒドロキシルアミンを蒸留により塔底部で濃縮する濃縮工程を含むことを特徴とする。
【選択図】 なし
Description
しかしながら、上記の方法では、ヒドロキシルアミンを蒸留により塔頂または側面から得る際に、高温での蒸留によるヒドロキシルアミンの分解や爆発の危険性があるという問題点があった。
(1)ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミンを得る反応工程、ヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程、および蒸留により塔底部でヒドロキシルアミンを濃縮する濃縮工程を含むことを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。
(2)前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程が、反応工程、精製工程および濃縮工程の順に行われる(1)に記載の製造方法。
(3)前記各工程が安定剤の存在下に行われる(1)または(2)に記載の製造方法。
(4)ヒドロキシルアミンと不溶性物質を分離する分離工程を含む(1)に記載の製造方法。
(5)前記分離工程の温度が0℃〜80℃の範囲内である(4)に記載の製造方法。
(6)前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程が、反応工程、分離工程、精製工程および濃縮工程の順に行われる(4)または(5)に記載の製造方法。
(7)前記各工程が安定剤の存在下に行われる(4)〜(6)のいずれかに記載の製造方法。
(8)前記分離工程で不溶性物質を分離した反応液の少なくとも一部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いる(4)〜(7)のいずれかに記載の製造方法。
(9)前記反応工程が、反応液のpHを7以上に保ちながら行われる(1)〜(8)のいずれかに記載の製造方法。
(10)前記反応工程が、アルカリ化合物を含む反応液にヒドロキシルアミンの塩が添加される工程である(9)に記載の製造方法。
(11)前記反応工程の反応温度が0℃〜80℃の範囲内である(1)〜(10)のいずれかに記載の製造方法。
(12)前記反応工程が、水および/またはアルコールを含む溶媒の存在下に行われる(1)〜(11)のいずれかに記載の製造方法。
(13)前記精製工程の温度が0℃〜70℃の範囲内である(1)〜(12)のいずれかに記載の製造方法。
(14)前記精製工程で得たヒドロキシルアミン溶液の少なくとも一部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いる(1)〜(13)のいずれかに記載の製造方法。
(15)前記濃縮工程の温度が0℃〜70℃の範囲内である(1)〜(14)に記載の製
造方法。
(16)前記濃縮工程で得たヒドロキシルアミン溶液の少なくとも一部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いる(1)〜(15)のいずれかに記載の製造方法。
(17)前記濃縮工程の後にヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程をさらに含む(1)〜(16)のいずれかに記載の製造方法。
(18)前記濃縮工程の後の精製工程の温度が0℃〜70℃の範囲内である(17)に記載の製造方法。
(19)前記ヒドロキシルアミンの塩が、硫酸ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、硝酸ヒドロキシルアミンおよびリン酸ヒドロキシルアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である(1)〜(18)のいずれかに記載の製造方法。
(20)前記アルカリ化合物が、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アンモニアおよびアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である(1)〜(19)のいずれかに記載の製造方法。
反応工程
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミンの塩と、アルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミンを得る反応工程を含む。
O4)、塩酸塩(NH2OH・HCl)、硝酸塩(NH2OH・HNO3)およびリン酸塩(NH2OH・1/3H3PO4)からなる群より選ばれる少なくとも1種の塩が好ましい。
アミンとしては、第1級アミン、第2級アミンおよび第3級アミンを用いることができる。また、アミンはモノアミンでも、分子内に2以上のアミノ基を有するジアミン、トリアミンなどのポリアミンでもよく、さらに、環式アミンでもよい。
環式アミンとしては、たとえば、ピロール、ピリジン、ピリミジン、ピロリジン、ピペリジン、プリン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、3−ピロリン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ピペラジン、ピリダジン、1,2,3−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,3,5−トリアジン、1,2,3−トリアゾール、1,2,5−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、1,3,4−トリアゾール、モルホリンなどが挙げられる。
ジピリジル、チオ硫酸アンモニウム、ベンゾトリアゾール、フラボン、モリン、クエルセチン、ゴッシペチン、ロビチネン、ルテオリン、フィセチン、アピゲニン、ガランギン、クリシン、フラボノール、ピロガロール、オキシアントラキノン、1,2−ジオキシアントラキノン、1,4−ジオキシアントラキン、1,2,4−トリオキシアントラキノン、1,5−ジオキシアントラキノン、1,8−ジオキシアントラキノン、2,3−ジオキシアントラキノン、1,2,6−トリオキシアントラキノン、1,2,7−トリオキシアントラキノン、1,2,5,8−テトラオキシアントラキノン、1,2,4,5,8−ペンタオキシアントラキノン、1,6,8−ジオキシ−3−メチル−6−メトキシアントラキノン、キナリザリン、フラバン、ラクトン、2,3−ジヒドロヘキソノ−1,4−ラクトン、8−ヒドロキシキナルジン、6−メチル−8−ヒドロキシキナルジン、5,8−ジヒドロキシキナルジン、アントシアン、ペラルゴニジン、シアニジン、デルフィニジン、ペオニジン、ペツニジン、マルビジン、カテキン、チオ硫酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸、2−ヒドロキシエチルジスルフィド、1,4−ジメルカプト−2,3−ブタンジオール、チアミンの塩酸塩、カテコール、4−t−ブチルカテコール、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシピリジン−N−オキシド、1,2−ジメチル−3−ヒドロキシピリジン−4−オン、4−メチルピリジン−N−オキシド、6−メチルピリジン−N−オキシド、1−メチル−3−ヒドロキシピリジン−2−オン、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトシクロヘキシルチアゾール、2−メルカプト−6−t−ブチルシクロヘキシルチアゾール、2−メルカプト−4,5−ジメチルチアゾリン、2−メルカプトチアゾリン、2−メルカプト−5−t−ブチルチアゾリン、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラ−n−ブチルチウラムジスルフィド、N,N’−ジエチルチウラムジスルフィド、テトラフェニルチウラムジスルフィド、チウラムジスルフィド、チオ尿素、N,N’−ジフェニルチオ尿素、ジ−o−トリルチオ尿素、エチレンチオ尿素、チオセトアミド、2−チオウラシル、チオシアヌル酸、チオホルムアミド、チオアセトアミド、チオプロピオンアミド、チオベンズアミド、チオニコチンアミド、チオアセトアニリド、チオベンズアニリド、1,3−ジメチルチオ尿素、1,3−ジエチル−2−チオ尿素、1−フェニル−2−チオ尿素、1,3−ジフェニル−2−チオ尿素、チオカルバジド、チオセミカルバジド、4,4−ジメチル−3−チオセミカルバジド、2−メルカプトイミダゾリン、2−チオヒダントイン、3−チオウラゾール、2−チオウラミル、4−チオウラミル、チオペンタノール、2−チオバルビツール酸、チオシアヌル酸、2−メルカプトキノリン、チオクマゾン、チオクモチアゾン、チオサッカリン、2−メルカプトベンズイミダゾール、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。
溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられるが、反応に影響がなければこれらに限定されるものではない。これらの中では、水および/またはアルコールを用いることが好ましい。溶媒の量は使用する安定剤の種類および量、反応温度などの条件に応じて適宜選択することができる。
さらに、本発明のヒドロキシルアミンの製造方法における反応工程は、ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを、同時に供給して反応させる反応工程であってもよい。その際、反応液のpHを好ましくは7以上、より好ましくは7.5以上、さらに好ましくは8以上に保ちながら、ヒドロキシルアミンの塩およびアルカリ化合物の添加量を調整することが望ましい。ヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物は、固体のまま添加してもよく、溶媒に溶解または懸濁させて添加してもよい。また、アルカリ化合物がアンモニアなどの場合には、ガスで導入してもよい。
分離工程
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミンと不溶性物質を分離する工程を含んでもよい。
不溶性物質としては、たとえば上記反応工程でヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物との反応により生成した塩、ヒドロキシルアミンの塩、アルカリ化合物等が挙げられる。
分離の方法としては、濾過、圧搾、遠心分離、沈降分離、浮上分離などの公知の方法を用いることができる。たとえば、濾過による分離では、自然濾過、加圧濾過、減圧濾過のいずれの方法で行ってもよく、沈降分離による分離では、清澄分離、沈殿濃縮のいずれの方法で行ってもよく、浮上分離による分離では、加圧浮上、電離浮上のいずれの方法で行ってもよい。
不溶性物質を洗浄する溶媒としては、反応工程で用いた溶媒と同じ溶媒を使用してもよく、別の溶媒を使用してもよい。このような洗浄溶媒としては、水および/または有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、たとえば、炭化水素、エーテル、エステル、アルコールなどが挙げられるが、ヒドロキシルアミンの回収に影響がなければこれらに限定されるものではない。これらの中では、水および/またはアルコールを洗浄溶媒として用いることが好ましい。また、洗浄溶媒の量は、不溶性物質の種類および量、分離などの条件に応じて適宜選択することができる。
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1
.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
精製工程
本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、たとえば、上記のようにして得られたヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程を含む。
陽イオン交換による精製は、強酸性陽イオン交換樹脂、弱酸性陽イオン交換樹脂などを使用する公知の方法により行うことができる。陽イオン交換樹脂は、予め酸処理を行い、H型にして使用することが好ましい。
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
濃縮工程
さらに、本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、ヒドロキシルアミンを蒸留により塔底部で濃縮する工程を含む。
たとえば、単蒸留または多段蒸留により、塔底部からヒドロキシルアミン濃度の高いヒドロキシルアミン溶液を得ることができる。
蒸留の温度は、塔底部の温度で0〜70℃が好ましく、さらに好ましくは5〜60℃の範囲内であることが望ましい。塔底部の温度が70℃より高いと、ヒドロキシルアミンの分解などの問題が生じることがある。一方、塔底部の温度が0℃より低いと、多量の冷却エネルギーが必要になるなどの問題が生じることがある。
上記濃縮工程で得たヒドロキシルアミン溶液の一部は、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いてもよい。
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
さらに本発明のヒドロキシルアミンの製造方法は、上記濃縮工程で得たヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程を含んでもよい。
方法で行うことができる。
陽イオン交換による精製は、強酸性陽イオン交換樹脂、弱酸性陽イオン交換樹脂などを使用する公知の方法により行うことができる。陽イオン交換樹脂は、予め酸処理を行い、H型にして使用することが好ましい。
用いることが適している。上記質量比が1.0×10-9よりも小さい場合、金属不純物によるヒドロキシルアミンの分解反応を抑制する効果が得られないことがあり、質量比が1.0よりも大きい場合、過剰の安定剤の除去や回収が必要になることがある。
(1)ヒドロキシルアミンの塩と、アルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミンを得る反応工程。
(2)ヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程。
(3)ヒドロキシルアミンを蒸留により塔底部で濃縮する濃縮工程。
を含み、これらの工程は、反応工程、精製工程および濃縮工程の順に行なうことが好ましい。また、(1)〜(3)の各工程は、(1)の工程を行った後にいかなる順序で行ってもよく、また同じ工程を2回以上行ってもよい。
以下、実施例を用いてさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
CaO 61.7g(1.1モル)、8−ヒドロキシキノリン 1.45g(0.01モル)およびH2O 332g(18.4モル)を1Lのガラス製反応器に仕込み、20℃で攪拌した。このときの反応液のpHは12.8であった。この反応液を撹拌しながら、硫酸ヒドロキシルアミン 164g(2.0モル)をH2O 246g(13.7モル)に溶
解させた液を、反応液のpHを7以上に保ちながら添加していった。添加に要した時間は約40分であった。添加後、さらに20℃で3時間反応させた。反応液の最終的なpHは12.2であった。
不溶性の固体を分離した反応液と、分離後の固体を洗浄した液とを混合した液について、塩酸滴定により分析した結果、混合液のヒドロキシルアミン濃度は7.4質量%であった。したがって、得られたヒドロキシルアミンは64.7g(1.96モル)であり、硫酸ヒドロキシルアミンを基準としたヒドロキシルアミンの収率は98%であった。
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例1−1と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1/hで流通させた。得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Feの各濃度は10質量ppb以下であった。
1N−HCl水溶液の代わりに1N−H2SO4水溶液を使用した以外は実施例1−2と同様に行ったところ、同様の結果が得られた。
Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA900
J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性陰イオ
ン交換樹脂に実施例1−2と同様の方法を用いて得られた不純物の金属イオンを除去したヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1/hで流通させた。
濃度は1.0質量ppm以下であった。
実施例1−4と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液をさらに減圧蒸留により濃縮させた。塔底部温度が30℃以下となるように減圧度を調整し、塔頂より水を抜き出し、塔底部よりヒドロキシルアミン濃度が高い水溶液を回収した。
[実施例1−6]
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例1−5と同様な方法で得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1/hで流通させた。
Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA900
J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性陰イオ
ン交換樹脂に実施例1−6と同様の方法を用いて得られた不純物の金属イオンを除去したヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1/hで流通させた。
各濃度は1.0質量ppm以下であった。
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製超純水級アンバーライト ESG−1)をポリテト
ラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド
樹脂に実施例1−5と同様な方法で得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1/hで流通させた。
析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度1.0質量ppm以下であった。
20質量%NaOH水溶液220g(NaOH 1.1モル)、8−ヒドロキシキノリン0.73g(0.005モル)を1Lのガラス製反応器に仕込み、20℃で攪拌した。この反応液を撹拌しながら、硫酸ヒドロキシルアミン 82.1g(1.0モル)をH2O
465g(25.8モル)に溶解させた液を、約40分かけて添加していった。添加後
、さらに20℃で3時間反応させた。
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例2−1と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1/hで流通させた。得られた水溶液をICP−MS(セイコーインスツルメンツ(株)製SPQ−900型)により分析した結果、不純物のNa、Ca、Feの各濃度は10質量ppb以下であった。
1N−HCl水溶液の代わりに1N−H2SO4水溶液を使用した以外は実施例2−2と同様に行ったところ、同様の結果が得られた。
Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA900
J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性陰イオ
ン交換樹脂に実施例2−2と同様の方法を用いて得られた不純物の金属イオンを除去したヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1/hで流通させた。
HODEX IC SI−90 4E)で分析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオン
の各濃度は1.0質量ppm以下であった。
実施例2−4と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液をさらに減圧蒸留により濃縮させた。塔底部温度が30℃以下となるように減圧度を調整し、塔頂より水を抜き出し、塔底部よりヒドロキシルアミン濃度が高い水溶液を回収した。
[実施例2−6]
Na型の強酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IR120B)
をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−HCl水溶液を流通させてH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強酸性陽イオン交換樹脂
に実施例2−5と同様の方法を用いて得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1/hで流通させた。
Cl型の強塩基性陰イオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト IRA900
J)をポリテトラフルオロエチレン製カラムに充填し、これに1N−NaOH水溶液を流通させてOH型に変換し、さらに、H2Oにより十分洗浄を行った。この強塩基性陰イオ
ン交換樹脂に実施例2−6と同様の方法を用いて得られた不純物の金属イオンを除去したヒドロキシルアミンの水溶液を空間速度(SV)=1/hで流通させた。
各濃度は1.0質量ppm以下であった。
モノベッド樹脂(オルガノ(株)製超純水級アンバーライト ESG−1)をポリテト
ラフルオロエチレン製カラムに充填し、H2Oにより十分洗浄を行った。このモノベッド
樹脂に実施例2−5と同様な方法で得られたヒドロキシルアミンの水溶液を、空間速度(SV)=1/hで流通させた。
析した結果、不純物の硫酸イオン、塩素イオンの各濃度1.0質量ppm以下であった。
Claims (20)
- ヒドロキシルアミンの塩とアルカリ化合物とを反応させてヒドロキシルアミンを得る反応工程、ヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程、および蒸留により塔底部でヒドロキシルアミンを濃縮する濃縮工程を含むことを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。
- 前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程が、反応工程、精製工程および濃縮工程の順に行われる請求項1に記載の製造方法。
- 前記各工程が安定剤の存在下に行われる請求項1または2に記載の製造方法。
- ヒドロキシルアミンと不溶性物質を分離する分離工程を含む請求項1に記載の製造方法。
- 前記分離工程の温度が0℃〜80℃の範囲内である請求項4に記載の製造方法。
- 前記ヒドロキシルアミンを製造する各工程が、反応工程、分離工程、精製工程および濃縮工程の順に行われる請求項4または5に記載の製造方法。
- 前記各工程が安定剤の存在下に行われる請求項4〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記分離工程で不溶性物質を分離した反応液の少なくとも一部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いる請求項4〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記反応工程が、反応液のpHを7以上に保ちながら行われる請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記反応工程が、アルカリ化合物を含む反応液にヒドロキシルアミンの塩が添加される工程である請求項9に記載の製造方法。
- 前記反応工程の反応温度が0℃〜80℃の範囲内である請求項1〜10のいずれかに記載の製造方法。
- 前記反応工程が、水および/またはアルコールを含む溶媒の存在下に行われる請求項1〜11のいずれかに記載の製造方法。
- 前記精製工程の温度が0℃〜70℃の範囲内である請求項1〜12のいずれかに記載の製造方法。
- 前記精製工程で得たヒドロキシルアミン溶液の少なくとも一部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として用いる請求項1〜13のいずれかに記載の製造方法。
- 前記濃縮工程の温度が0℃〜70℃の範囲内である請求項1〜14のいずれかに記載の製造方法。
- 前記濃縮工程で得たヒドロキシルアミン溶液の少なくとも一部を、反応原料であるヒドロキシルアミンの塩および/またはアルカリ化合物を溶解もしくは懸濁させる溶媒として
用いる請求項1〜15のいずれかに記載の製造方法。 - 前記濃縮工程の後にヒドロキシルアミンをイオン交換により精製する精製工程をさらに含む請求項1〜16のいずれかに記載の製造方法。
- 前記濃縮工程の後の精製工程の温度が0℃〜70℃の範囲内である請求項17に記載の製造方法。
- 前記ヒドロキシルアミンの塩が、硫酸ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、硝酸ヒドロキシルアミンおよびリン酸ヒドロキシルアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜18のいずれかに記載の製造方法。
- 前記アルカリ化合物が、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アンモニアおよびアミンからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜19のいずれかに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004232437A JP2005239702A (ja) | 2004-01-28 | 2004-08-09 | ヒドロキシルアミンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004020217 | 2004-01-28 | ||
JP2004232437A JP2005239702A (ja) | 2004-01-28 | 2004-08-09 | ヒドロキシルアミンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005239702A true JP2005239702A (ja) | 2005-09-08 |
Family
ID=35021805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004232437A Abandoned JP2005239702A (ja) | 2004-01-28 | 2004-08-09 | ヒドロキシルアミンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005239702A (ja) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4878099A (ja) * | 1972-01-22 | 1973-10-19 | ||
JPS4914640A (ja) * | 1972-06-02 | 1974-02-08 | ||
JPS5477298A (en) * | 1977-10-28 | 1979-06-20 | Allied Chem | Purification of hydroxyamine by cation exchange |
JPS62171905A (ja) * | 1986-01-22 | 1987-07-28 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造方法 |
JPH0421506A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-24 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | ヒドロキシルアミンの製造法 |
JP2000505033A (ja) * | 1995-12-20 | 2000-04-25 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造 |
JP2000211906A (ja) * | 2000-03-13 | 2000-08-02 | Toray Fine Chemical Kk | フリーヒドロキシルアミン水溶液の製造方法 |
JP2001513479A (ja) * | 1997-08-04 | 2001-09-04 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造方法 |
JP2002012416A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-15 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 高濃度フリーヒドロキシルアミン水溶液の製造法 |
JP2005504704A (ja) * | 2001-10-03 | 2005-02-17 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 安定化されたヒドロキシルアミン溶液 |
JP2005220012A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-08-18 | Sanfuku Kako Kofun Yugenkoshi | 高純度かつ高濃度の遊離型ヒドロキシルアミンの製造方法 |
-
2004
- 2004-08-09 JP JP2004232437A patent/JP2005239702A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4878099A (ja) * | 1972-01-22 | 1973-10-19 | ||
JPS4914640A (ja) * | 1972-06-02 | 1974-02-08 | ||
JPS5477298A (en) * | 1977-10-28 | 1979-06-20 | Allied Chem | Purification of hydroxyamine by cation exchange |
JPS62171905A (ja) * | 1986-01-22 | 1987-07-28 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造方法 |
JPH0421506A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-24 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | ヒドロキシルアミンの製造法 |
JP2000505033A (ja) * | 1995-12-20 | 2000-04-25 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造 |
JP2001513479A (ja) * | 1997-08-04 | 2001-09-04 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造方法 |
JP2000211906A (ja) * | 2000-03-13 | 2000-08-02 | Toray Fine Chemical Kk | フリーヒドロキシルアミン水溶液の製造方法 |
JP2002012416A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-15 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 高濃度フリーヒドロキシルアミン水溶液の製造法 |
JP2005504704A (ja) * | 2001-10-03 | 2005-02-17 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 安定化されたヒドロキシルアミン溶液 |
JP2005220012A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-08-18 | Sanfuku Kako Kofun Yugenkoshi | 高純度かつ高濃度の遊離型ヒドロキシルアミンの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4150075B2 (ja) | 遊離ヒドロキシルアミン水溶液の製造 | |
US7491846B2 (en) | Process for producing hydroxylamine | |
KR100975471B1 (ko) | 히드록실아민의 안정화제, 안정화 방법 및 안정화된히드록실아민 용액 | |
JP4578988B2 (ja) | ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
JP4948727B2 (ja) | 高い安定状態のヒドロキシルアミン溶液の製造方法 | |
KR100752004B1 (ko) | 히드록실아민의 제조 방법 | |
US20050163694A1 (en) | Preparation of a high purity and high concentration hydroxylamine free base | |
JP4578999B2 (ja) | ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
JP4578885B2 (ja) | ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
JP4578998B2 (ja) | ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
JP2005239702A (ja) | ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
JP2006219343A (ja) | ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
JP4624914B2 (ja) | ヒドロキシルアミンの安定化剤、安定化方法および安定化されたヒドロキシルアミン溶液 | |
WO2006062178A2 (en) | Stabilizer for hydroxylamine, method for stabilizing hydroxylamine, and stabilized hydroxylamine solution | |
EP1431276B1 (en) | Preparation and purification of hydroxylamine stabilizers | |
JP2007022956A (ja) | 高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法 | |
US7045655B2 (en) | Preparation and purification of hydroxylamine stabilizers | |
JP4742763B2 (ja) | アミノメチレンホスホン酸の製造方法 | |
US3499728A (en) | Process for the manufacture of hydroxyl-ammonium-salts | |
JP2001064288A (ja) | N,n,n’,n’−テトラ(ホスホノメチル)ジアミノアルカン類の精製方法 | |
MXPA98004788A (en) | Preparation of aqueous solutions of hydroxylamine li | |
CS234889B1 (en) | Method of of 3-methyl-4-nitrophenol production |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100715 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101004 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20110801 |