JP2005274709A - Laser repair device, laser repair device operating program, and method for correcting liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置をレーザ光を用いて修正するためのレーザリペア装置及びレーザリペア装置プログラム、並びに液晶表示装置の修正方法に関するものである。 The present invention relates to a laser repair device and a laser repair device program for correcting a liquid crystal display device using laser light, and a method for correcting a liquid crystal display device.
液晶表示装置は精密な構造を有しているため、その製造過程において輝点と呼ばれる欠陥が形成されることがある。ここで輝点とは、液晶表示装置の画素において光の透過・非透過を正しく制御できず、その画素において常に光が透過する状態となった部分を指す。このような輝点を1つでも有する液晶表示装置は不良品として取り扱われる。 Since the liquid crystal display device has a precise structure, defects called bright spots may be formed in the manufacturing process. Here, the bright spot refers to a portion where light transmission / non-transmission cannot be correctly controlled in a pixel of the liquid crystal display device, and light is always transmitted through the pixel. A liquid crystal display device having at least one such bright spot is treated as a defective product.
液晶表示装置は、特に近年において、個々の画素が小型化することによる高精細化及び液晶表示装置そのものが大型化することに伴って、1枚の液晶表示装置内に輝点が形成されるロットの比率が高くなってしまうことにより、相対的に製品の歩留まりが低下しているのが現状である。そこで、輝点を有する不良品を少しでも多く修正できるよう、液晶表示装置の輝点を修正するに際し、精度及び効率の高い修正方法及び修復装置が求められている。 In particular, in recent years, a liquid crystal display device is a lot in which bright spots are formed in a single liquid crystal display device as the individual pixels are downsized to increase the definition and the liquid crystal display device itself is upsized. As a result, the yield of products is relatively lowered. Therefore, there is a need for a correction method and a repair device with high accuracy and efficiency when correcting bright spots of a liquid crystal display device so that defective products having bright spots can be corrected as much as possible.
液晶表示装置におけるこのような輝点を修正する方法としては、例えば特許文献1に示すように、液晶表示装置の輝点へレーザ光を照射することにより当該輝点を有する箇所の修正を行うレーザリペア装置を用いて修正する方法が提案されている。斯かる従来の修正方法について図11〜図14を用いて説明する。 As a method of correcting such a bright spot in a liquid crystal display device, for example, as shown in Patent Document 1, a laser that corrects a portion having the bright spot by irradiating the bright spot of the liquid crystal display device with a laser beam. A method of correcting using a repair device has been proposed. Such a conventional correction method will be described with reference to FIGS.
図11は光学素子としての液晶表示装置10の部分断面図である。まず同図を用いて液晶表示装置10の構成について説明する。この液晶表示装置10はモジュール工程を経て図示しない駆動回路等が設けられた状態の、いわゆる液晶モジュールである。液晶表示装置10にはガラス等からなる透明な基板11、12が対向して設けられている。基板11と基板12の対向面(内側面)の間には液晶21がシール材24によって封入されている。基板11の内側面には、互いに所定間隔をあけてカラーフィルタ20r、20g、20bが設けられ、カラーフィルタ20r、20g、20b間はブラックマトリクスが設けられている。例えばカラーフィルタ20r、20g、20bは、それぞれ光の三原色である赤、緑、青のフィルタである。そして、カラーフィルタ20r、20g、20bを覆うようにしてITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電性薄膜からなる共通電極15が設けられている。さらに共通電極15の上には配向膜18が設けられている。以下、カラーフィルタ20r、20g、20bが設けられている基板11をCF側基板11という。一方、基板12の内側面には、CF側基板11の共通電極15に対向するようにして、液晶材料の駆動素子としてTFT16r、16g、16bと、表示電極17r、17g、17bとが設けられ、さらにそれら全面を覆うようにして配向膜19が設けられている。以下、TFT16r、16g、16bが設けられた基板12をTFT側基板12という。配向膜18と配向膜19は、例えばPI(Polyimide)膜からなり、互いに直交する向きにラビング処理が施されている。そのため、配向膜18、19間に挟まれた液晶21は、CF側基板11からTFT側基板12に向かって螺旋状に90°ねじれた方向に配向されている。CF側基板11とTFT側基板12の外側面には、それぞれの配向膜18、19のラビング方向に一致する偏向軸を有する偏光板13、14が設けられている。そして、TFT側基板12側の偏光板14の外側面にはバックライト22が反射板23と共に設けられている。このような構成を有する液晶表示装置10においては、バックライト22からの光は、TFT側基板12側の偏光板14によって直線偏光に変化し、この直線偏光は液晶21の配向方向に沿って旋回し、CF側基板11側の偏光板13から射出する。液晶表示装置10の各電極に電圧を印加すると、液晶21は基板11、12に対して垂直に配向し、光が透過しない状態となる。液晶表示装置10では、表示電極17r、17g、17bと、TFT18r、18g、18bとの組み合わせごとに1つの画素を構成するサブピクセル50r、50g、50bが形成されており、各画素において光の透過率が制御される。各サブピクセル50r、50g、50bには、カラーフィルタ20r、20g、20bが設けられているので、各画素ごとに光の透過率が制御された結果、液晶表示装置10の表示面10sにカラー画像が表示される。なお表示面10sにおける表面反射を防止するため、偏光板13の表示面10s側には、表面反射を防止するため、微小な凹凸を施したアンチグレア処理が施されている。
FIG. 11 is a partial cross-sectional view of the liquid
このような液晶表示装置10において、輝点が形成された場合に、その修正が行われる。輝点は、バックライト22若しくは他の光源を用いた点灯検査によって検出することができる。ここで液晶表示装置10において輝点が形成された箇所について以後輝点欠陥部と記すが、輝点欠陥部とは、その輝点が形成される原因となる欠陥部分そのものを意味するのではなく、液晶表示装置10の表示面10sから観察したときに、輝点が発生しているサブピクセル50r、50g、50b…の、表示面10sに直交する方向に位置するいずれかの領域を意味する。
In such a liquid
ここで、特許文献1では図12〜図14に示すように輝点欠陥部を有する液晶表示装置10に対して、レーザ処理装置を用いて、減衰率及び焦点の位置がそれぞれ異なるレーザ光30を表示面10s側から計2回照射することにより、1箇所の輝点欠陥部の修正を行っている。詳細には、1回目のレーザ光30を液晶21に焦点が合うようにして照射すると、図12に示すようにレーザ光30の焦点付近の液晶21が気化して気泡35が発生する。この気泡35が発生した箇所においては一時的にではあるが液晶21が両脇へ退避しており、その間に改めて2回目のレーザ光30をCF側基板11側の配向膜18へ焦点を合わせて照射を行っている。このようにして行う2回のレーザ光30の照射を行う際には図14に示すように配向膜18、19間に液状の液晶21が存在しない状態で行うことができるので、液晶21の配向に沿ってレーザ光30がTFT側基板12側へ抜けてしまうことなく照射先である配向膜18へエネルギーが集中し、配向膜18を確実に変質することができる。この結果、図14に示すように配向膜18に変質部18dが形成され、変質部18dではラビング処理により形成された配向膜18上の細かい溝が崩れ、変質部18dにおいては液晶分子が正しく配向しなくなる。その結果、変質した箇所ではバックライト22からの光が液晶21の配向方向に沿って旋回せず、光が透過しなくなる。すなわち、変質した箇所において光は出射されないので、変質した箇所は黒色となり、これをもって輝点欠陥部の修正は完了する。
Here, in patent document 1, as shown in FIGS. 12-14, with respect to the liquid
すなわち、同文献に示すような従来の液晶表示装置の修正方法では、修正に係る各工程が終わるごとにレーザ光30の減衰率並びに照射面積を変更する必要があるために、その都度レーザ光30を切って減衰率及び照射面積を段階的に調節し直し、再度レーザ光30の照射を行うようにしており、このような手順をふまえる方法が一般的になされている。
しかしながら、レーザ光を2回に分けて照射することにより、気泡を発生させるステップと配向膜を変質させるステップとを個別に行う従来の方法では、その1回目のレーザ光の照射から2回目のレーザ光の照射へ移行するためには、一旦レーザ光の照射を切った状態として減衰率及び焦点を変更し、再びレーザ光を照射しなければならず、このような作業手順では1箇所の輝点欠陥部の修正にも多大な時間が掛かってしまい、極めて効率の悪いものとなっている。 However, in the conventional method in which the step of generating bubbles and the step of modifying the alignment film are separately performed by irradiating the laser beam in two steps, the second laser is irradiated after the first laser beam irradiation. In order to shift to light irradiation, it is necessary to change the attenuation factor and focus once the laser light is turned off, and then irradiate the laser light again. It takes a lot of time to correct the defective part, which is extremely inefficient.
また、液晶表示装置の製造現場において、1種類のみの液晶表示装置を生産しているというのはまれで、複数種類の表示装置を生産しているのが通例であるが、上述したような輝点欠陥部の修正を行うためのレーザ処理装置はレーザ光の減衰率並びに照射面積は、限られた数段階しか設定できない。そのため、1つのレーザリペア装置で対応可能な液晶表示装置の種類は少なく、多種類の液晶表示装置を製造する現場においては対応可能な液晶表示装置の機種ごとにレーザリペア装置を準備しなければならない。 In addition, it is rare that only one type of liquid crystal display device is produced at the manufacturing site of the liquid crystal display device, and it is usual that a plurality of types of display devices are produced. The laser processing apparatus for correcting the point defect portion can set only a limited number of steps for the attenuation rate and irradiation area of the laser beam. For this reason, there are few types of liquid crystal display devices that can be handled by one laser repair device, and in the field of manufacturing various types of liquid crystal display devices, it is necessary to prepare a laser repair device for each type of compatible liquid crystal display device. .
本発明は、このような不具合に着目したものであり、液晶表示装置における輝点欠陥部の修正を好適且つ効率的に行うことができ、しかも様々な種類の液晶表示装置に対応することが可能なレーザリペア装置、このようなレーザリペア装置を動作させるためのプログラム及び液晶表示装置の修正方法を提供しようとするものである。 The present invention pays attention to such a defect, and can correct and efficiently correct a bright spot defect portion in a liquid crystal display device, and can cope with various types of liquid crystal display devices. An object of the present invention is to provide a simple laser repair device, a program for operating such a laser repair device, and a method for correcting a liquid crystal display device.
本発明は、このような目的を達成するために、次のような手段を講じたものである。すなわち、本発明に係るレーザリペア装置は、レーザ光を照射することにより、配向膜を有した一対の基板間に液晶が封入された液晶表示装置における輝点欠陥部を修正するものであって、レーザ光を出力するレーザ光学系と、液晶表示装置を載置可能であり当該液晶表示装置の面方向に移動可能なステージと、このステージ上に載置される液晶表示装置に対して照射するレーザ光の焦点位置を設定する収束光学系とを備え、レーザ光学系が、レーザ光を発振するレーザ発振器と、レーザ発振器により発振されたレーザ光を減衰させる減衰器と、減衰されたレーザ光の照射面積を制御する可変スリットとを有するものにおいて、レーザ光の照射中に液晶と配向膜との間でレーザ光の焦点の位置を無段階に制御可能な収束光学系制御手段と、レーザ光の焦点が液晶と配向膜との間を移動する際に当該レーザ光の減衰率を無段階に制御可能な減衰器制御手段とを具備することを特徴とする。 In order to achieve such an object, the present invention takes the following measures. That is, the laser repair device according to the present invention corrects a bright spot defect portion in a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates having an alignment film by irradiating a laser beam, A laser optical system that outputs laser light, a stage on which a liquid crystal display device can be mounted and movable in the surface direction of the liquid crystal display device, and a laser that irradiates the liquid crystal display device mounted on the stage A converging optical system for setting a focal position of the light, the laser optical system oscillating the laser light, an attenuator for attenuating the laser light oscillated by the laser oscillator, and irradiation of the attenuated laser light In a device having a variable slit for controlling the area, a converging optical system control means capable of steplessly controlling the position of the focal point of the laser light between the liquid crystal and the alignment film during laser light irradiation, The focus of laser light is characterized by comprising the said laser beam attenuation rate controllable in a stepless attenuator control means when moving between the liquid crystal and the alignment layer.
また、本発明に係るレーザリペア装置動作プログラムは、上述したようなレーザリペア装置の動作を制御するコンピュータに格納されるレーザリペア装置動作プログラムであって、レーザ光の照射中において、コンピュータを通じて、収束光学系に対し、液晶と配向膜との間でレーザ光の焦点の位置を移行させる収束光学系制御処理を実行させるとともに、減衰器に対し、レーザ光の焦点が液晶と配向膜との間を移動する際に当該レーザ光の減衰率を無段階に変更させる減衰器制御処理を実行させることを特徴とする。 The laser repair device operation program according to the present invention is a laser repair device operation program stored in a computer that controls the operation of the laser repair device as described above, and is converged through the computer during laser light irradiation. The optical system is caused to execute a converging optical system control process for shifting the focus position of the laser beam between the liquid crystal and the alignment film, and the attenuator causes the focus of the laser beam to move between the liquid crystal and the alignment film. An attenuator control process for changing the attenuation rate of the laser beam steplessly when moving is performed.
このようなレーザリペア装置及びレーザリペア装置動作プログラムであれば、レーザ光の照射中に減衰率及び焦点位置を制御して連続的に変化させることが可能であるので、液晶表示装置の液晶に気泡を発生させる処理から配向膜を変質させるまでの処理を連続して行うことができ、レーザ光を一旦停止させて再び照射する必要がないため、輝点欠陥部の修正に係る時間を大幅に短縮することが可能となる。また、レーザ光の減衰率と焦点位置を無段階に制御することができるので、様々な液晶表示装置に対して最適な値を設定することにより、様々な種類の液晶表示装置に適用することができる。ここで、レーザ光の焦点位置とは、単にレーザ光が収束された交点を示すのみならず、レーザ光が一定以上のパワー密度をもって所定の照射面積を照射する場合の当該照射位置をも含むものである。 With such a laser repair device and a laser repair device operation program, it is possible to continuously change the attenuation rate and the focal position during laser light irradiation, so that bubbles are generated in the liquid crystal of the liquid crystal display device. Since the process from the generation of defects to the modification of the alignment film can be performed continuously, it is not necessary to stop and irradiate the laser beam once again, greatly reducing the time required for correcting the bright spot defects. It becomes possible to do. In addition, since the laser light attenuation factor and focus position can be controlled steplessly, it can be applied to various types of liquid crystal display devices by setting optimum values for various liquid crystal display devices. it can. Here, the focal position of the laser light not only indicates the intersection where the laser light is converged, but also includes the irradiation position when the laser light irradiates a predetermined irradiation area with a power density of a certain level or more. .
なお、本発明に係る液晶表示装置の修正方法は、配向膜を有した一対の基板間に液晶が封入された液晶表示装置にレーザ光を照射する液晶表示装置における輝点欠陥部の修正方法であって、液晶中において輝点欠陥部に該当する箇所に、レーザ光を照射することにより気泡を発生させる気泡発生ステップと、レーザ光の照射により配向膜における気泡に接する箇所を変質させる配向膜変質ステップとからなり、レーザ光の照射中に、レーザ光の焦点を配向膜と液晶との間で無段階に移動させつつレーザ光の減衰率を連続的に変化させながら、気泡発生ステップから配向膜変質ステップへ連続的に移行することを特徴とする。 The liquid crystal display device correction method according to the present invention is a method for correcting a bright spot defect in a liquid crystal display device in which a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates having an alignment film is irradiated with laser light. In the liquid crystal, a bubble generation step for generating bubbles by irradiating a laser beam to a location corresponding to a bright spot defect portion, and an alignment film alteration for changing the location of the alignment film in contact with the bubbles by laser irradiation. The step of generating bubbles from the bubble generation step while continuously changing the attenuation rate of the laser light while continuously moving the focus of the laser light between the alignment film and the liquid crystal during the irradiation of the laser light. It is characterized by continuously shifting to the alteration step.
したがって、このような方法であれば上述したレーザリペア装置並びにレーザリペア装置動作プログラムを利用するか否かを問わず、気泡発生ステップから配向膜変質ステップへ連続して移行することができるので、レーザ光を一旦停止させて再び照射する必要がないため、輝点欠陥部の修正に係る時間を大幅に短縮することが可能となる。 Therefore, in such a method, it is possible to continuously shift from the bubble generation step to the alignment film alteration step regardless of whether the laser repair device and the laser repair device operation program described above are used. Since it is not necessary to stop the light once and irradiate it again, it is possible to greatly reduce the time required for correcting the bright spot defect portion.
また、本発明に係るレーザリペア装置を、収束光学制御手段が液晶と配向膜との間で前記レーザ光の焦点の位置を移動させる際に、レーザ光の照射面積を無段階に制御可能な可変スリット制御手段を具備するものとした場合、1回のレーザ光の照射において液晶中に設けるレーザ光の焦点におけるパワー密度を適宜調節することができるとともに、配向膜にレーザ光を照射する場合ではレーザ光の照射面積を最適の値を設定できるようになる。なお、このような制御を行うためには、レーザリペア装置動作プログラムを、前記コンピュータを通じて、前記収束光学系制御処理と前記減衰器制御処理の実行中に、前記可変スリットに対し、前記レーザ光の照射面積を無段階に制御する可変スリット制御処理を実行させるものとすることが望ましい。 Further, the laser repair device according to the present invention is a variable that can control the irradiation area of the laser light steplessly when the focusing optical control means moves the focal position of the laser light between the liquid crystal and the alignment film. When the slit control means is provided, the power density at the focal point of the laser beam provided in the liquid crystal can be adjusted as appropriate in one laser beam irradiation, and the laser beam is irradiated when the alignment film is irradiated with the laser beam. An optimum value can be set for the light irradiation area. In order to perform such control, a laser repair device operation program is transmitted to the variable slit through the computer during the convergence optical system control process and the attenuator control process. It is desirable to execute variable slit control processing for controlling the irradiation area steplessly.
これに対応する本発明に係る液晶表示装置の修正方法は、レーザ光の照射面積を連続的に変化させながら気泡発生ステップから配向膜変質ステップへ連続的に移行するというものであり、このようにすることで、より効率的に配向膜変質ステップを行うようにすることができる。 A corresponding method for correcting a liquid crystal display device according to the present invention is to continuously shift from the bubble generation step to the alignment film alteration step while continuously changing the irradiation area of the laser beam. By doing so, the alignment film alteration step can be performed more efficiently.
さらに、レーザ光の照射面積よりも大きな面積を有する輝点欠陥部を確実にレーザ光で処理するためには、レーザリペア装置を、レーザ光の照射中に、レーザ光の焦点の位置がステージ上に載置された前記液晶表示装置における前記輝点欠陥部上を所定の経路で走査するようステージの移動を制御するものとすることが好適である。また、これに対する本発明に係るレーザリペア装置動作プログラムとしては、コンピュータに前記輝点欠陥部に係る座標データの入力を受け付けさせる座標データ受付処理を実行させるとともに、コンピュータを通じて前記ステージに対し、前記レーザ光の照射中に、レーザ光の焦点の位置がステージ上に載置された液晶表示装置における前記輝点欠陥部上を所定経路で走査するよう前記座標データに基づいてステージの移動を制御するステージ制御処理を実行させるものを挙げることができる。 Furthermore, in order to reliably process a bright spot defect portion having an area larger than the laser light irradiation area with the laser light, the laser repair device is placed on the stage while the laser light is being irradiated. It is preferable that the movement of the stage is controlled so as to scan the bright spot defect portion on the liquid crystal display device placed on a predetermined path. Further, as a laser repair apparatus operation program according to the present invention, a coordinate data receiving process for causing a computer to receive input of coordinate data related to the bright spot defect portion is executed, and the laser is sent to the stage through the computer. A stage for controlling the movement of the stage based on the coordinate data so that the position of the focal point of the laser beam is scanned on the bright spot defect portion in a predetermined path in the liquid crystal display device placed on the stage during light irradiation The thing which performs control processing can be mentioned.
そして、本発明に係る液晶表示装置の修正方法について、輝点欠陥部の大きさに関わらず、1箇所の輝点欠陥部の範囲内における配向膜を隙間無く変質させるためには、配向膜変質ステップにおいてレーザ光の焦点の位置を前記輝点欠陥部上を所定経路で走査させるものであることが望ましい。 Then, with respect to the method for correcting a liquid crystal display device according to the present invention, in order to alter the alignment film within one bright spot defect portion without any gap, regardless of the size of the bright spot defect portion, the alignment film alteration In the step, it is desirable that the position of the focal point of the laser beam is scanned on the bright spot defect portion along a predetermined path.
また、高いピークパワーが安定して得られ、かつ操作が容易であり、メンテナンスが簡便といった特徴を有し、実用性が高いものとするためには、本発明に係るレーザリペア装置に用いるレーザ発振器はYAGレーザを発振するものであることが好ましい。 In addition, in order to achieve high peak power stably, easy operation, easy maintenance, and high practicality, a laser oscillator used in the laser repair apparatus according to the present invention Is preferably one that oscillates a YAG laser.
以上に詳述した本発明に係るレーザリペア装置並びにレーザリペア装置動作プログラムによれば、レーザ光の照射中に減衰率及び焦点位置を制御して連続的に変化させることが可能であるので、液晶表示装置の液晶に気泡を発生させる処理から配向膜を変質させるまでの処理を連続して行うことができる。すなわち、レーザ光を一旦停止させて再び照射する必要がないため、輝点欠陥部の修正に係る時間を大幅に短縮することが可能となる。また、レーザ光の減衰率と焦点位置を無段階に制御することができるので、様々な液晶表示装置に対して最適な値を設定することにより、様々な種類の液晶表示装置に適用することができる。 According to the laser repair device and the laser repair device operation program according to the present invention described in detail above, the attenuation rate and the focal position can be controlled and continuously changed during the irradiation of the laser beam. The processing from the generation of bubbles in the liquid crystal of the display device to the alteration of the alignment film can be continuously performed. That is, since it is not necessary to stop the laser beam and irradiate it again, it is possible to greatly reduce the time required for correcting the bright spot defect portion. In addition, since the laser light attenuation factor and focus position can be controlled steplessly, it can be applied to various types of liquid crystal display devices by setting optimum values for various liquid crystal display devices. it can.
そして、本発明に係る液晶表示装置の修正方法によれば、気泡発生ステップから配向膜変質ステップへ連続して移行することができるので、レーザ光を一旦停止させて再び照射する必要がないため、輝点欠陥部の修正に係る時間を大幅に短縮することが可能となる。 And, according to the correction method of the liquid crystal display device according to the present invention, since it is possible to continuously shift from the bubble generation step to the alignment film alteration step, it is not necessary to stop and irradiate the laser beam once again, It is possible to significantly reduce the time required for correcting the bright spot defect portion.
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図1〜10において図11〜図14と共通する部分には同一符号を付してその説明を省略している。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In FIG. 1 to FIG. 10, the same reference numerals are given to portions common to FIG. 11 to FIG. 14, and description thereof is omitted.
図1は本発明を実施するレーザリペア装置1の構成を示す図である。このレーザリペア装置1は、レーザ処理装置100とコンピュータ200とをインターフェースケーブル400によって接続することにより構成しており、コンピュータ200の有する補助記憶装置206に格納したレーザリペア装置動作プログラム209をCPU201で実行することによって、レーザ処理装置100の動作を制御するようにしている。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a laser repair apparatus 1 for carrying out the present invention. The laser repair apparatus 1 is configured by connecting the
レーザ処理装置100は、レーザ光30を出力するレーザ光学系110と、前記液晶表示装置を載置し面方向に移動可能なステージたるXYステージ130と、このXYステージ130上に配置される液晶表示装置10を前記レーザ光30により加工する収束光学系120と、これらの動作を制御するべくコンピュータ200との各種データの授受を管理するコントロールユニット140とを備えている。
The
コンピュータ200は、レーザリペア装置動作プログラム209の実行によってこのレーザリペア装置全体の動作制御を司るCPU201、CPU201が必要に応じてワークメモリとして使用するメインメモリ202、レーザ処理装置100との各種データの授受を管理するインターフェースユニット203、レーザ処理装置100で取得された画像や各種の情報の表示を行う表示装置204、コンピュータ200に対するユーザからの指示を取得するキーボードやマウスなどからなる入力装置205、各種のプログラムや画像データなどを記憶しておく例えばハードディスク装置などの補助記憶装置206、及びフレキシブルディスク、CD−ROM、MOディスク(光磁気ディスク)等の記録媒体210からデータを読み出すドライブ装置207を有して構成されている。なお、CPU201、メインメモリ202、インターフェースユニット203、表示装置204、入力装置205、補助記憶装置206及びドライブ装置207はいずれもCPU201に接続されており、CPU201の管理の下で相互にデータの授受が行える。
The computer 200 executes the laser repair
そして、補助記憶装置206には、CPU201において並行して複数のプログラムの実行を可能とするオペレーティングシステム208、レーザ処理装置100の機種毎あるいは製造メーカ毎に提供されレーザ処理装置100の制御のために使用されるとともに、レーザリペア装置全体の動作を管理するレーザリペア装置動作プログラム209が予め格納されている。また、個々の液晶表示装置10の輝点欠陥部に係る座標データを含んでいるリペアデータRDが、ドライブ装置207が読み出し可能な記憶媒体210に格納されている。ここで、リペアデータRDは、輝点欠陥部の座標データの他に、例えば、修理する液晶表示装置10の種類、ID等の液晶表示装置10を特定するためのデータや、修理する液晶表示装置10がセル工程であるかモジュール工程であるか等の液晶表示装置10の状態に関するデータ等が含まれている。
The
なお、図1に示すレーザリペア装置1は、レーザリペア装置動作プログラム209をリペアデータRDと同じくフレキシブルディスク、CD−ROM、MOディスク(光磁気ディスク)等の記録媒体に記録しておき、CPU21がこのドライブ装置207を制御して記録媒体からこれらのプログラムを読み出して実行する構成とすることもできる。
In the laser repair apparatus 1 shown in FIG. 1, the laser repair
図2は、本実施の形態における液晶表示装置10の修正に用いるレーザ処理装置100の構成図である。レーザ処理装置100は、レーザ光学系110として、近赤外光であるYAGレーザの基本波(1064nm)を発振するレーザ発振器たる発振器111、アッテネータユニット112、ビームエクスパンダ113及び可変スリット114を備えている。また、輝点欠陥部の位置検出のため、収束光学系120として、CCDカメラ121、接眼レンズ122、ペンタプリズム123、結像レンズ122、落射照明123、ハーフミラー124、ダイクロックミラー125、対物レンズ126及び電動レボルバ127を備えている。さらに液晶表示装置10を載せるXYテーブル130を備えている。また、これらレーザ光学系110、収束光学系120及びXYテーブル130は、コントロールユニット140にそれぞれ接続されている。
FIG. 2 is a configuration diagram of a
レーザ光学系110において、図示しないレーザダイオードにより励起されることにより発振器111から出射したレーザ光30は、アッテネータユニット112に内蔵されている減衰器121aにおいて減衰される。ここで、減衰されたレーザ光30をそのままの状態で液晶表示装置10に照射すると、液晶表示装置10の偏光板13を透過するときにさらに減衰してしまう。そこで、アッテネータユニット112は、偏光板121bを設けることにより単にレーザ光30を減衰させるだけでなく、レーザ光30が液晶表示装置10の偏光板13を透過するような偏光方向に偏光させるものとしている。レーザ光30は、ビームエクスパンダ113を介することにより光束が拡大される。拡大されたレーザ光30は、可変スリット114によりレーザ光30の照射面積(レーザスポットサイズ)が調整される。
In the laser
このように可変スリット114により照射面積が調整されたレーザ光30は、ダイクロックミラー125にて反射され、対物レンズ126にて集光されてXYテーブル130上に載置された液晶表示装置10に照射される。XYテーブル130には、図示しない移動機構が設けられており、XYテーブル130をXY平面上において水平移動させ、XYテーブル130上に載置された液晶表示装置10の位置を制御できるように構成されている。
The
一方、落射照明123から出射された落射光は、ハーフミラー124で分岐され、ダイクロックミラー125を透過して対物レンズ126により集光されて液晶表示装置10に照射される。この照射された光の反射光が、対物レンズ126、ダイクロックミラー125、ハーフミラー124、結像レンズ122、ペンタプリズム123及び接眼レンズを通ってCCDカメラ110で受光される。このようにしてCCDカメラ110によって液晶表示装置10を撮影する。ここで本実施形態において、対物レンズ126は電動レボルバ127に備え付けられており、この電動レボルバ127を回転させることにより異なる倍率の対物レンズ126を適用することが可能である。
On the other hand, the incident light emitted from the
本実施形態に係るレーザリペア装置1は、図3に示すように、上述したコンピュータ100の補助記憶装置106に格納されたオペレーティングシステム208及びレーザリペア装置動作プログラム209をCPU201に読み込ませ、逐次実行させることによってそれらのプログラムと補助記憶装置206、インターフェースユニット203及びコントロールユニット140等が協働し、リペアデータ受付手段301、装置情報データベース302、リペアデータ処理手段303、制御情報送信手段304、手動操作受付手段305、制御情報受付手段310、発振器制御手段311、減衰器制御手段312、可変スリット制御手段313、CCDカメラ制御手段314、落射照明制御手段315、収束光学系制御手段たる対物レンズ制御手段316、電動レボルバ制御手段317及びXYステージ制御手段318として機能している。
As shown in FIG. 3, the laser repair apparatus 1 according to the present embodiment causes the
リペアデータ受付手段301は、オペレーティングシステム208及びレーザリペア装置動作プログラム209を読み込んだCPU201の指示により、記憶媒体210に格納されたリペアデータRDをドライブ装置207に読み込ませ、当該リペアデータを補助記憶装置206の所定箇所へ一時保存させる機能を有する。
The repair
装置情報データベース302は、補助記憶装置206に格納されている、レーザリペア装置が適応可能な全ての液晶表示装置10に関する外寸法、表示画素数、表示画素寸法、その他の情報から構成されるものである。
The device information database 302 is composed of external dimensions, the number of display pixels, display pixel dimensions, and other information related to all the liquid
リペアデータ処理手段303は、リペアデータ受付手段301によって補助記憶装置206に一時保存されたリペアデータRDをCPU201に読み込ませるとともに、装置情報データベース302から必要な情報を同じくCPU201に読み込ませ、演算処理を行うことによりレーザ処理装置100に送信する制御情報Cを算出し、当該制御情報Cを補助記憶装置206へ一時保存させる機能を有する。
The repair data processing unit 303 causes the
制御情報送信手段304は、補助記憶装置206に一時保存された制御情報CをCPU201に読み込ませるとともに、インターフェースユニット203にインターフェースケーブル400を介してレーザ処理装置100のコントロールユニット140内の制御情報受付手段310へ送信する機能を有する。
The control
なお、手動制御受付手段305によって、上述したリペアデータ受付手段301、リペアデータ処理手段303が動作していない状態では、レーザリペア装置を使用者が任意に操作することも可能である。詳細には、オペレーティングシステム208及びレーザリペア装置動作プログラム209を読み込んだCPU201の指示により、表示装置204に所定の画面を表示させるとともに、使用者が入力装置を用いて所定の入力を行うことによりマニュアル制御情報C’を算出し、当該制御情報C’を補助記憶装置206へ一時記憶させる機能を有するものである。
It should be noted that the user can arbitrarily operate the laser repair apparatus by the manual control receiving means 305 when the repair data receiving means 301 and the repair data processing means 303 described above are not operating. Specifically, in accordance with an instruction from the
制御情報受付手段310は、制御情報送信手段304より制御情報C、C’を受信するとともに、当該制御情報C、C’をコントロールユニット140へ読み込ませる事により、コントロールユニット140に制御情報Cをそれぞれ発振器制御情報C1、減衰器制御情報C2、可変スリット制御情報C3、CCDカメラ制御情報C4、落射照明制御情報C5、対物レンズ制御情報C6、電動レボルバ制御情報C7、XYステージ制御情報C8へと変換し、発振器制御手段311、減衰器制御手段312、可変スリット制御手段313、CCDカメラ制御手段314、落射照明制御手段315、収束光学系制御手段たる対物レンズ制御手段316、電動レボルバ制御手段317及びXYステージ制御手段318へとそれぞれ伝達する機能を有する。
The control
発振器制御手段311は、コントロールユニット140より発振器制御情報C1を受け取るとともに、当該発振器制御情報C1に従って発振器111の制御を行う機能を有する。詳細には、レーザを励起させるレーザダイオードに与える電流の量を調節する事により、発振されたレーザ光30の強度又は周波数の制御を行う処理を実行する。
The oscillator control means 311 has a function of receiving the oscillator control information C1 from the
減衰器制御手段たるアッテネータユニット制御手段312は、コントロールユニット140よりアッテネータユニット制御情報C2を受け取るとともに、当該アッテネータユニット制御情報C2に従ってアッテネータユニット112の制御を行う機能を有する。詳細には、アッテネータユニット112を構成する減衰器112aの減衰率を無段階且つ連続的に制御する減衰器制御処理を実行するとともに、偏光板121bの向きを設定する機能を有している。
The attenuator unit control means 312 which is an attenuator control means has a function of receiving the attenuator unit control information C2 from the
可変スリット制御手段313は、コントロールユニット140より可変スリット制御情報C3を受け取るとともに、当該可変スリット制御情報C3に従って可変スリット114の制御を行う機能を有する。詳細には、アッテネータユニットより射出されたレーザ光30の照射面積を無段階且つ連続的に調節する処理を実行するとともに、照射面のスリット形状を例えば、X方向の長方形状、Y方向の長方形状、又はθ方向の長方形状といったように変更する処理を実行する。
The variable slit control means 313 has a function of receiving the variable slit control information C3 from the
CCDカメラ制御手段314はコントロールユニット140よりCCDカメラ制御情報C4を受け取るとともに、当該CCDカメラ制御情報C4に従ってCCDカメラ121の制御を行う機能を有する。詳細には、CCDカメラの露出や表示画面の画素数、明度、色彩等を調節する処理を実行する。
The CCD camera control means 314 has a function of receiving the CCD camera control information C4 from the
落射照明制御手段315はコントロールユニット140より落射照明制御情報C5を受け取るとともに、当該落射照明御情報C4に従って落射照明123の制御を行う機能を有する。詳細には、落射照明123の照度調節等を調節する処理を実行する。
The epi-illumination control means 315 has a function of receiving epi-illumination control information C5 from the
収束光学系制御手段たる対物レンズ制御手段316は、コントロールユニット140より対物レンズ制御情報C6を受け取るとともに、対物レンズ御情報C4に従って対物レンズ126の制御を行うことにより、レーザ光30のビームの形状を制御する機能を有する。詳細には、対物レンズ126を無段階且つ連続的に制御することによりレーザ光30のビームの形状を適宜制御することにより、レーザ光30の焦点または照射面積、パワー密度等を調節する収束光学系制御処理を実行する。ここで、レーザ光30の焦点とは、単にレーザ光30が収束された交点を示すのみならず、レーザ光30が一定以上のパワー密度をもって所定の照射面積を照射する場合の当該照射位置をも含むものである。
The objective lens control means 316 serving as the converging optical system control means receives the objective lens control information C6 from the
電動レボルバ制御手段317はコントロールユニット140より電動レボルバ制御情報C7を受け取るとともに、電動レボルバ制御情報C7に従って電動レボルバ127の制御を行う機能を有する。詳細には電動レボルバ127を回転させて対物レンズ126を選択する処理を実行する。
The electric revolver control means 317 has a function of receiving the electric revolver control information C7 from the
XYステージ制御手段318は、コントロールユニット140よりXYステージ制御情報C8を受け取るとともに、XYステージ制御情報C8に従ってXYステージ129の制御を行う機能を有する。詳細には、レーザ光30の焦点を輝点欠陥部の位置へ合わせる機能や、輝点欠陥部の範囲内をレーザ光30の焦点又は照射面が走査するようレーザ光30の照射方向に直交する方向にXYステージ130を移動させるステージ制御処理を実行する。
The XY stage control means 318 has a function of receiving the XY stage control information C8 from the
以降、本実施形態におけるレーザリペア装置において、コンピュータ200においてCPU201に読み込まれたレーザリペア装置動作プログラムとレーザ処理装置100等が協働することによってなされる、液晶表示装置10における輝点欠陥部を修正する手順を図4のフロー図を参照して述べるとともに、併せてその際の液晶表示装置10の状況について図5〜図10を用いて説明する。
Thereafter, in the laser repair device according to the present embodiment, the bright spot defect portion in the liquid
ここで、液晶表示装置10の輝点欠陥部は予め検出されており、検出された輝点欠陥部の位置に関するデータはリペアデータRDとして液晶表示装置10に関する他のデータとともに記憶媒体210に格納されて、ドライブ装置207を介してCPU201に読み込み可能な状態となっているものとする。そして、液晶表示装置10の輝点欠陥部の修正を行うに先立ち、輝点欠陥部が検出された液晶表示装置10に対してアライメント(位置合わせ)を行う。詳細には、レーザ処理装置100のXYテーブル130上に、液晶表示装置10を載置する。このとき、予め設定された例えば2点のアライメントポイントの検出をCCDカメラ121によって行う。アライメントポイントの検出が行われると、レーザ光30の照射目標に輝点欠陥部が正確に位置するように、XYテーブル130を駆動させることが可能となる。
Here, the bright spot defect portion of the liquid
まず、アライメントポイントの検出が正常に行えたことを確認したとき(アライメント確認ステップS1)、XYステージ制御手段318によってXYステージ130を、レーザ光30の焦点が図10(a)〜図10(b)に示す輝点欠陥部に該当する領域k内の所定箇所に来るよう移動させる(ステージ調節ステップS2)。アライメントが行われていないときは処理が終了する。そして、発振器制御手段311、アッテネータユニット制御手段312、可変スリット制御手段313及び対物レンズ制御手段316を起動させ、レーザ光30の焦点を液晶21に合わせて照射することにより、図5及び図10(a)に示すように液晶21中に気泡35を発生させる(気泡発生ステップS3)。気泡35を発生させた後、アッテネータユニット制御手段312によってレーザ光30の減衰率を、可変スリット制御手段313によってレーザ光30の照射面積を、対物レンズ制御手段316によってレーザ光30の焦点をそれぞれ連続的に調節しながらレーザ光30を配向膜18に照射する(焦点移行ステップS4)。そして、対物レンズ制御手段316によってレーザ光30の照射面を配向膜18に合わせながらXYステージ制御手段318によりレーザ光30の照射面が配向膜18上の領域k内を、レーザリペア装置動作プログラム209又はリペアデータRDによって予め決められた所定経路rに沿って図6及び図10(b)のように走査するよう、XYステージ130を液晶表示装置10の面方向へ移動させる。(配向膜変質ステップS5)。レーザ光30の照射面が上述した気泡35の範囲内の位置からはみ出ない程度の所定距離を走査したとき、レーザ光30が上述した所定経路rの全てを走査したかかどうかをXYステージ制御手段318により確認し(照射確認ステップS6)、図10(b)及び図10(c)のようにレーザ光30が所定経路を走査していなければ気泡発生ステップS3へ戻り、図7のように気泡35を発生させ、図8のように焦点移行ステップS4及び配向膜変質ステップS5を経て照射確認ステップS6までの処理を行う。レーザ光30が所定経路rを全て走査していれば、図10(d)のように領域k内の配向膜18が全て変質部18dとなり、その時点でレーザ光30の照射を停止するとともに(照射停止ステップS7)、他に修正されていない輝点欠陥部が存在するか否かをXYステージ制御手段318により確認し(輝点欠陥部確認ステップS8)、他にも輝点欠陥部が存在する場合にはステージ調節ステップS2へ移行させる。他に輝点欠陥部が存在しない場合は処理を終了する。
First, when it is confirmed that the alignment point is normally detected (alignment confirmation step S1), the
以上に説明したように本実施形態によれば、収束光学系制御手段たる対物レンズ制御手段316が、レーザ光30の照射中に液晶21と配向膜18との間でレーザ光30の焦点の位置を無段階に制御する処理として収束光学系制御処理を行うとともに、減衰器制御手段たるアッテネータユニット制御手段312がレーザ光30の焦点が液晶21と配向膜18との間を移動する際に当該レーザ光30の減衰率を無段階に制御する減衰器制御処理を実行している。言い換えれば、レーザ光30の照射中に、レーザ光30の焦点を配向膜18と液晶21との間で無段階に移動させつつレーザ光30の減衰率を連続的に変化させながら、気泡発生ステップS3から配向膜変質ステップS5へ連続的に移行する液晶表示装置10の修正方法を実現している。
As described above, according to the present embodiment, the objective
このようにすることにより、レーザ光30の照射中に、減衰率及び焦点位置を制御して連続的に変化させることが可能となるので、従来1箇所の輝点欠陥部に対してレーザ光30を複数回に分けて照射していた照射回数を1回のみの照射として輝点欠陥部を修正することが可能となり、輝点欠陥部の修正に要する時間を大幅に短縮することが可能となる。また、レーザ光30の減衰率と焦点の位置を無段階に制御することにより、レーザ光30の減衰率、焦点の位置及び照射面積をそれぞれ最適な値に設定することができるので、様々な種類の液晶表示装置10に適用することができる。
By doing so, the attenuation rate and the focal position can be controlled and continuously changed during irradiation of the
そして、本実施形態に係るレーザリペア装置1及びレーザリペア装置動作プログラム209は、可変スリット制御手段313がレーザ光30の照射面積を無段階に制御する可変スリット制御処理を実行するものであり、併せて、レーザ光30の照射面積を無段階に制御して連続的に変化させながら気泡発生ステップS3から配向膜変質ステップS5へ連続的に移行することにより液晶表示装置10の輝点欠陥部を修正するものであるので、1回のレーザ光30の照射において液晶21中に設けるレーザ光30の焦点におけるパワー密度を適宜調節して発生させる気泡の大きさを調節することができるとともに、配向膜18にレーザ光30を照射する場合ではレーザ光30の照射面積を適宜設定することが可能となる。
The laser repair device 1 and the laser repair
さらに、配向膜変質ステップS5においてレーザ光30の焦点の位置を輝点欠陥部上を所定経路で走査させることにより、1回のレーザ光30の照射において輝点欠陥部の範囲内にレーザ光30を走査させることができるため、輝点欠陥部の大きさに関わらず、1箇所の輝点欠陥部の範囲内における配向膜18を隙間無く変質させて変質部18dを形成することにより、より精度の高い輝点欠陥部の修正を行うことが可能となる。
Further, in the alignment film alteration step S5, the position of the focal point of the
また、本実施形態に係るレーザリペア装置に用いるレーザ発振器たる発振器111はYAGレーザを発振するものであるので、高いピークパワーが安定して得られ、かつ操作が容易であり、メンテナンスが簡便といった特徴を有し、実用性が高いものとなっている。
In addition, since the
以上、本発明の実施形態について説明したが、各部の具体的な構成は、上述した実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。 Although the embodiment of the present invention has been described above, the specific configuration of each unit is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
例えば、上記実施形態では、気泡を発生させるステップと配向膜を走査するステップとを交互に行うものとしたが、その他に、例えば先に気泡を数回に分けて発生させるようにしたり、気泡を発生させながらレーザ光を動作させるようにしてもよい。また、上記実施形態ではレーザ光としてYAGレーザの基本波のみを用いたが、第2高調波を射出可能なものであってもよい。 For example, in the above-described embodiment, the step of generating bubbles and the step of scanning the alignment film are alternately performed, but other than that, for example, the bubbles may be generated in several times first, or the bubbles may be generated. You may make it operate | move a laser beam, generating. In the above-described embodiment, only the fundamental wave of the YAG laser is used as the laser beam. However, the laser beam may be capable of emitting the second harmonic.
その他、各部の具体的構成についても上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。 In addition, the specific configuration of each part is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
1 …レーザリペア装置
10…液晶表示装置
11…基板(CF側基板)
12…基板(TFT側基板)
18、19…配向膜
18d…変質部
21…液晶
30…レーザ光
110…レーザ光学系
111…レーザ発振器(発振器)
112a…減衰器
114…可変スリット
120…収束光学系
130…ステージ(XYステージ)
200…コンピュータ
209…レーザリペア装置動作プログラム
312…減衰器制御手段(アッテネータユニット制御手段)
313…可変スリット制御手段
316…収束光学系制御手段(対物レンズ制御手段)
318…ステージ制御手段(XYステージ制御手段)
r …所定の経路
S3…気泡発生ステップ
S5…配向膜変質ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
12 ... Substrate (TFT side substrate)
18, 19 ...
112a ...
DESCRIPTION OF SYMBOLS 200 ...
313: Variable slit control means 316: Converging optical system control means (objective lens control means)
318 ... Stage control means (XY stage control means)
r ... predetermined path S3 ... bubble generation step S5 ... alignment film alteration step
Claims (10)
レーザ光を出力するレーザ光学系と、前記液晶表示装置を載置可能であり当該液晶表示装置の面方向に移動可能なステージと、このステージ上に載置される前記液晶表示装置に対して照射する前記レーザ光の焦点位置を設定する収束光学系とを備え、前記レーザ光学系が、レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記レーザ発振器により発振されたレーザ光を減衰させる減衰器と、減衰されたレーザ光の照射面積を制御する可変スリットとを有するものにおいて、
前記レーザ光の照射中に前記液晶と前記配向膜との間で前記レーザ光の焦点の位置を無段階に制御可能な収束光学系制御手段と、
前記レーザ光の焦点が前記液晶と前記配向膜との間を移動する際に当該レーザ光の減衰率を無段階に制御可能な減衰器制御手段とを具備することを特徴とするレーザリペア装置。 By irradiating a laser beam, a bright spot defect portion in a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates having an alignment film,
A laser optical system for outputting laser light, a stage on which the liquid crystal display device can be mounted and movable in the surface direction of the liquid crystal display device, and irradiation on the liquid crystal display device mounted on the stage And a converging optical system for setting a focal position of the laser beam, wherein the laser optical system is attenuated by a laser oscillator that oscillates the laser beam, and an attenuator that attenuates the laser beam oscillated by the laser oscillator. Having a variable slit for controlling the irradiation area of the laser beam,
A converging optical system control means capable of steplessly controlling the position of the focal point of the laser light between the liquid crystal and the alignment film during the irradiation of the laser light;
A laser repair device comprising: an attenuator control means capable of controlling the attenuation rate of the laser light steplessly when the focal point of the laser light moves between the liquid crystal and the alignment film.
前記レーザ光の照射中において、前記コンピュータを通じて、前記収束光学系に対し、前記液晶と前記配向膜との間で前記レーザ光の焦点の位置を移行させる収束光学系制御処理を実行させるとともに、前記減衰器に対し、前記レーザ光の焦点が前記液晶と前記配向膜との間を移動する際に当該レーザ光の減衰率を無段階に変更させる減衰器制御処理を実行させることを特徴とするレーザリペア装置動作プログラム。 A laser optical system for outputting laser light, a stage on which a liquid crystal display device can be mounted and movable in the surface direction of the liquid crystal display device, and the liquid crystal display device disposed on the stage are irradiated with the laser light A converging optical system for setting a focal position of laser light, wherein the laser optical system oscillates laser light, an attenuator that attenuates laser light oscillated by the laser oscillator, and an attenuated laser The bright spot is obtained by irradiating a laser beam from the laser optical system to a liquid crystal display device having a variable slit for controlling an irradiation area of light and having a liquid crystal sealed between a pair of substrates having an alignment film. A laser repair device operation program stored in a computer for controlling the operation of the laser repair device for correcting a defective part,
During the irradiation of the laser light, the converging optical system is caused to execute a converging optical system control process for shifting the position of the focal point of the laser light between the liquid crystal and the alignment film through the computer through the computer. A laser that causes the attenuator to execute an attenuator control process that changes the attenuation rate of the laser light steplessly when the focal point of the laser light moves between the liquid crystal and the alignment film. Repair device operation program.
前記液晶中において輝点欠陥部に該当する箇所に、前記レーザ光を照射することにより気泡を発生させる気泡発生ステップと、
前記レーザ光の照射により前記配向膜における前記気泡に接する箇所を変質させる配向膜変質ステップとからなり、
レーザ光の照射中に、前記レーザ光の焦点を前記配向膜と前記液晶との間で無段階に移動させつつ前記レーザ光の減衰率を連続的に変化させながら、前記気泡発生ステップから前記配向膜変質ステップへ連続的に移行することを特徴とする液晶表示装置の修正方法。 A method for correcting a bright spot defect in a liquid crystal display device in which a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates having an alignment film is irradiated with laser light,
A bubble generation step of generating bubbles by irradiating the laser beam to a location corresponding to a bright spot defect in the liquid crystal;
An alignment film alteration step that alters the location of the alignment film in contact with the bubbles by irradiation with the laser beam,
While the laser beam is irradiated, the focus of the laser beam is continuously moved between the alignment film and the liquid crystal while continuously changing the attenuation rate of the laser beam, and the orientation from the bubble generation step. A method of correcting a liquid crystal display device, characterized by continuously shifting to a film alteration step.
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