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JP2005250451A - Heat-developable photosensitive material and image forming method - Google Patents

Heat-developable photosensitive material and image forming method Download PDF

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JP2005250451A
JP2005250451A JP2005006430A JP2005006430A JP2005250451A JP 2005250451 A JP2005250451 A JP 2005250451A JP 2005006430 A JP2005006430 A JP 2005006430A JP 2005006430 A JP2005006430 A JP 2005006430A JP 2005250451 A JP2005250451 A JP 2005250451A
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JP
Japan
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group
image forming
silver
photothermographic material
silver halide
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成人 後藤
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Konica Minolta Medical and Graphic Inc
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-developable photosensitive material having high density, free of faulty conveyance and occurrence of density unevenness during heat development, excellent in prevention of rise of fog with time, excellent in image preservability during hot holding, and excellent also in film conveyability and environmental suitability, and to provide an image forming method. <P>SOLUTION: The heat-developable photosensitive material has on a support an image forming layer containing an organic silver salt, silver halide, a binder and a reducing agent, wherein when the ten-point average roughness of the outermost surface of the image forming layer side is represented by Rz(E) and the ten-point average roughness of the outermost surface of the side of the support opposite to the side of the image forming layer by Rz(B), a value of Rz(E)/Rz(B) is 0.1-0.7. The heat-developable photosensitive material is exposed with a laser having a luminescence peak intensity at 350-450 nm as an exposure light source to form an image. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は熱現像感光材料に関し、詳しくは高濃度で、銀色調等に優れ、光照射画像保存性、経時でのかぶり上昇防止に優れる熱現像感光材料及びそれを用いた画像形成方法に関する。   The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly, to a photothermographic material having a high density, excellent silver tone, and the like, preserving light-irradiated images and preventing fogging with time, and an image forming method using the same.

従来、医療や印刷製版の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題となっており、近年では、環境保全、省スペースの観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、熱を加えるだけで画像形成ができる熱現像感光材料が実用化され、上記分野で急速に普及してきている。   Conventionally, in the medical and printing plate making fields, waste liquids resulting from wet processing of image forming materials have been a problem in terms of workability. In recent years, reduction of waste processing liquids has been strongly desired from the viewpoint of environmental conservation and space saving. It is rare. Therefore, photothermographic materials capable of forming an image only by applying heat have been put into practical use and are rapidly spreading in the above fields.

熱現像感光材料(以後、単に熱現像材料又は感光材料とも言う)自体は既に古くから提案されて(例えば、特許文献1、2参照。)いる。   A photothermographic material (hereinafter also simply referred to as a photothermographic material or a photosensitive material) has been proposed for a long time (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

この熱現像材料は、通常、熱現像処理機と呼ばれる熱現像材料に安定した熱を加えて画像を形成する熱現像処理装置により処理される。上述したように、近年の急速な普及に伴い、この熱現像処理装置も、多量に市場に供給されて来た。ところが熱現像処理時の温湿度条件によっては、感光材料と熱現像処理装置の搬送ローラーや処理部材との間の滑り性が変化し、搬送不良や濃度ムラが発生してしまうという問題点があった。又、熱現像感光材料の濃度が経時により変動してしまうという問題点もあった。これらの現象は、レーザ光により画像露光した後、熱現像により画像形成する熱現像感光材料で顕著に発生することが判った。   This heat-developable material is usually processed by a heat-development processing apparatus called a heat-development processor that applies stable heat to the heat-developable material to form an image. As described above, with the rapid spread in recent years, a large amount of this heat development processing apparatus has been supplied to the market. However, depending on the temperature and humidity conditions during the heat development processing, the slipping property between the photosensitive material and the transport roller or processing member of the heat development processing device changes, resulting in the problem of poor transport and uneven density. It was. Another problem is that the density of the photothermographic material varies with time. It has been found that these phenomena occur remarkably in a photothermographic material that forms an image by thermal development after image exposure with a laser beam.

又、近年レーザイメージャーのコンパクト化や処理の迅速化が要望されている。迅速処理を行っても十分な熱現像感光材料の濃度を得るためには、ハロゲン化銀として平均粒子サイズの小さいものを用いて発色点数を増やすことによりカバリングパワーを上げたり、2級、3級アルキル基を有する高活性の還元剤を用いたり、フェノール化合物やヒドラジン化合物やビニル化合物等の現像促進剤を用いる(例えば、特許文献3、4参照。)ことが有効である。   In recent years, there has been a demand for a compact laser imager and quick processing. In order to obtain a sufficient density of the photothermographic material even if rapid processing is performed, the covering power can be increased by increasing the number of color development points by using a silver halide having a small average grain size, second grade, third grade. It is effective to use a highly active reducing agent having an alkyl group, or to use a development accelerator such as a phenol compound, a hydrazine compound, or a vinyl compound (see, for example, Patent Documents 3 and 4).

又、近年レーザイメージャーのコンパクト化や画像の高精細化、経時でのかぶり上昇の防止が要望されている。経時でのかぶり上昇防止のために分光増感色素を用いず、紫外〜青色レーザによる露光を行う技術が開示されて(例えば、特許文献5参照。)いる。またさらに装置の小型化をはかるために350nm〜450nmに発光ピークをもつレーザ光より露光する技術が公開されて(例えば、特許文献6参照。)いる。しかしながら、これらの技術を用いても、装置を小型化し、また迅速処理を行った場合に熱現像時の搬送不良は濃度むらが発生してしまう問題点があった。また経時でのかぶり上昇の改良も十分ではなかった。
米国特許3,152,904号明細書(特許請求の範囲) 米国特許3,457,075号明細書(特許請求の範囲) 特開平11−295844号公報(特許請求の範囲) 特開平11−352627号公報(特許請求の範囲) 特開2000−305213号公報(特許請求の範囲) 特開2003−91053号公報(特許請求の範囲)
In recent years, there has been a demand for a compact laser imager, a high-definition image, and prevention of fogging over time. In order to prevent fogging with time, a technique of performing exposure with an ultraviolet to blue laser without using a spectral sensitizing dye has been disclosed (for example, see Patent Document 5). In order to further reduce the size of the apparatus, a technique for exposing from a laser beam having an emission peak at 350 to 450 nm has been disclosed (for example, see Patent Document 6). However, even if these techniques are used, there is a problem that density unevenness occurs due to poor transport during thermal development when the apparatus is downsized and rapid processing is performed. Also, the improvement of fog rise with time was not sufficient.
US Pat. No. 3,152,904 (Claims) US Pat. No. 3,457,075 (Claims) JP-A-11-295844 (Claims) JP-A-11-352627 (Claims) JP 2000-305213 A (Claims) JP 2003-91053 A (Claims)

本発明は上記の課題に鑑みて為されたものであり、本発明の目的は、高濃度で、熱現像時の搬送不良や濃度むらの発生がなく、経時でのかぶり上昇防止に優れた画像形成方法を提供することにある。又、必要により、更に高温保存時の画像保存性に優れ、あるいはフィルムの搬送性、環境適性に優れた画像形成方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is a high density image that is free from poor conveyance and uneven density during heat development, and excellent in preventing fog rise over time. It is to provide a forming method. It is another object of the present invention to provide an image forming method that is further excellent in image storability during high-temperature storage or excellent in film transportability and environmental suitability.

上記課題の解決のために鋭意検討を重ねた結果、露光光源が350nm〜450nmに発光ピーク強度を有するレーザを用いて装置を小型化し、さらに迅速現像を行った場合でも画像形成層側およびバックコート層側の表面粗さを特定の範囲に設定することで上記目的が達成されることを見いだし、本発明に到達した。   As a result of diligent studies to solve the above problems, the image forming layer side and the back coat are formed even when the exposure light source is downsized using a laser having an emission peak intensity at 350 nm to 450 nm and further rapid development is performed. The inventors have found that the above object can be achieved by setting the surface roughness on the layer side within a specific range, and have reached the present invention.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。   The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.

(請求項1)
支持体上に、有機銀塩、ハロゲン化銀、バインダー及び還元剤を含有する画像形成層を有する熱現像感光材料において、該支持体をはさんで画像形成層側の最表面の十点平均粗さを(Rz(E))、該支持体をはさんで画像形成層と反対側の最表面の十点平均粗さを(Rz(B))とするときRz(E)/Rz(B)の値が0.1以上0.7以下であることを特徴とする熱現像感光材料。
(Claim 1)
In a photothermographic material having an image forming layer containing an organic silver salt, silver halide, a binder and a reducing agent on a support, a ten-point average roughness of the outermost surface on the image forming layer side with the support interposed therebetween. Rz (E) / Rz (B) where (Rz (E)) is the ten-point average roughness of the outermost surface on the opposite side of the image forming layer across the support (Rz (B)) The photothermographic material is characterized by having a value of 0.1 or more and 0.7 or less.

(請求項2)
更に、支持体をはさんで画像形成層側の層に含まれるマット剤の平均粒子サイズで最大のものの平均粒子サイズをLe(μm)、支持体をはさんで画像形成層と反対側の層に含まれるマット剤の平均粒子サイズが最大のものの平均粒子サイズをLb(μm)とするとき、Lb/Leが2.0以上10以下であることを特徴とする請求項1記載の熱現像感光材料。
(Claim 2)
Furthermore, the average particle size of the largest average particle size of the matting agent contained in the layer on the image forming layer side across the support is Le (μm), and the layer on the side opposite to the image forming layer across the support 2. The photothermographic material according to claim 1, wherein Lb / Le is 2.0 or more and 10 or less, where Lb (μm) is the average particle size of the matting agent having the largest average particle size. material.

(請求項3)
画像形成層側の表面の中心線平均表面粗さをRa(E)とし、支持体をはさんで画像形成層と反対側の表面の中心線平均表面粗さをRa(B)とするとき、Ra(E)/Ra(B)の値が0.5以上、1.5以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の熱現像感光材料。
(Claim 3)
When the center line average surface roughness of the surface on the image forming layer side is Ra (E) and the center line average surface roughness of the surface opposite to the image forming layer across the support is Ra (B), 3. The photothermographic material according to claim 1, wherein the value of Ra (E) / Ra (B) is from 0.5 to 1.5.

(請求項4)
Rz(E)/Ra(E)の値が10以上、70以下であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の熱現像感光材料。
(Claim 4)
4. The photothermographic material according to claim 1, wherein the value of Rz (E) / Ra (E) is 10 or more and 70 or less.

(請求項5)
ハロゲン化銀が、沃化銀を5モル%以上100モル%以下の割合で含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 5)
5. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains silver iodide in a proportion of 5 mol% to 100 mol%.

(請求項6)
ハロゲン化銀が、沃化銀を40モル%以上100モル%以下の割合で含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 6)
6. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains silver iodide in a proportion of 40 mol% to 100 mol%.

(請求項7)
画像形成層を有する面側に、ビニル化合物、ヒドラジン誘導体、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、シラン化合物及び4級オニウム塩から選ばれる少なくとも1種の省銀化剤を含有することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 7)
2. A silver saving agent selected from a vinyl compound, a hydrazine derivative, a phenol derivative, a naphthol derivative, a silane compound, and a quaternary onium salt is contained on the side having an image forming layer. The photothermographic material according to claim 1.

(請求項8)
バインダーのガラス転移温度(Tg)が70〜150℃であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 8)
The photothermographic material according to claim 1, wherein the binder has a glass transition temperature (Tg) of 70 to 150 ° C.

(請求項9)
下記一般式(SF)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 9)
The photothermographic material according to claim 1, comprising a compound represented by the following general formula (SF).

一般式(SF) (Rf(L)n1p(Y)m1(A)q
(式中、Rfは弗素原子を有する置換基を表し、Lは弗素原子を有しない2価の連結基を表し、Yは弗素原子を有しない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩基を表す。m1、n1は各々0又は1の整数を表し、p及びqは各々1〜5の整数を表す。ただし、qが1の時、n1とm1は同時に0とはならない。)
(請求項10)
ハロゲン化銀の平均粒子サイズが10〜50nmであるハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
Formula (SF) (Rf (L) n1 ) p (Y) m1 (A) q
Wherein Rf represents a substituent having a fluorine atom, L represents a divalent linking group having no fluorine atom, Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom, and A represents an anion M1 and n1 each represents an integer of 0 or 1, and p and q each represent an integer of 1 to 5. However, when q is 1, n1 and m1 are not 0 at the same time. .)
(Claim 10)
10. The photothermographic material according to claim 1, further comprising silver halide grains having an average grain size of 10 to 50 nm.

(請求項11)
ハロゲン化銀が、更に平均粒子サイズ55〜100nmのハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 11)
11. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide further contains silver halide grains having an average grain size of 55 to 100 nm.

(請求項12)
ハロゲン化銀が、カルコゲン化合物により化学増感されたハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 12)
The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains silver halide grains chemically sensitized with a chalcogen compound.

(請求項13)
画像形成層に含有される銀量が0.3〜1.5g/m2であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項記載の熱現像感光材料。
(Claim 13)
13. The photothermographic material according to claim 1, wherein the amount of silver contained in the image forming layer is from 0.3 to 1.5 g / m < 2 >.

(請求項14)
請求項1〜13のいずれか1項記載の熱現像感光材料を、露光光源が350nm〜450nmに発光ピーク強度を有するレーザで露光して画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
(Claim 14)
An image forming method comprising: exposing the photothermographic material according to claim 1 with a laser having an exposure light source having an emission peak intensity at 350 nm to 450 nm to form an image.

(請求項15)
現像温度123℃、現像時間13.5秒で熱現像して得られる画像が、拡散濃度(Y軸)と常用対数露光量(X軸)の単位長の等しい直交座標上に示される特性曲線について、拡散光での光学濃度で0.25〜2.5の範囲における平均階調が2.0〜4.0であることを特徴とする請求項14記載の画像形成方法。
(Claim 15)
Regarding the characteristic curve shown on the orthogonal coordinate where the unit length of the diffusion density (Y axis) and the common logarithmic exposure (X axis) is equal, the image obtained by thermal development at a development temperature of 123 ° C. and a development time of 13.5 seconds The image forming method according to claim 14, wherein the average gradation in the range of 0.25 to 2.5 in terms of optical density with diffused light is 2.0 to 4.0.

(請求項16)
熱現像処理装置を使用して熱現像部の搬送速度を10〜200mm/sec、感光材料供給部から画像露光部の間の搬送速度を10〜200mm/sec、画像露光部での搬送速度を10〜200mm/secで熱現像することを特徴とする請求項14又は15記載の画像形成方法。
(Claim 16)
Using a heat development processing apparatus, the conveyance speed of the heat development unit is 10 to 200 mm / sec, the conveyance speed between the photosensitive material supply unit and the image exposure unit is 10 to 200 mm / sec, and the conveyance speed of the image exposure unit is 10 The image forming method according to claim 14, wherein the image is thermally developed at a speed of ˜200 mm / sec.

(請求項17)
1mW/mm2以上の照度を有する光で露光した後、熱現像することを特徴とする請求項14、15又は16記載の画像形成方法。
(Claim 17)
The image forming method according to claim 14, 15 or 16, wherein the image is exposed to light having an illuminance of 1 mW / mm 2 or more and then thermally developed.

本発明により、高濃度で、熱現像時の搬送不良や濃度むらの発生がなく、経時でのかぶり上昇防止に優れた画像形成方法を提供することが出来る。又、必要により、更に高温保存時の画像保存性に優れ、あるいはフィルムの搬送性、環境適性に優れた画像形成方法を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide an image forming method that is high in density, does not cause conveyance failure or density unevenness during thermal development, and is excellent in preventing fog rise with time. Further, if necessary, it is possible to provide an image forming method which is further excellent in image storability at high temperature storage, or excellent in film transportability and environmental suitability.

本発明を更に詳しく説明する。請求項1〜5の熱現像感光材料を用い請求項14の画像形成方法により、高濃度で、熱現像時の搬送不良や濃度むらの発生がなく、経時でのかぶり上昇防止に優れた画像を得ることができる。   The present invention will be described in more detail. The image forming method according to claim 14 using the photothermographic material according to claim 1, wherein an image excellent in prevention of fog rise with time is obtained at high density, without occurrence of conveyance failure or density unevenness during heat development. Can be obtained.

更に、請求項7の熱現像感光材料を用いることで、画像濃度を著しく向上することができる。   Further, by using the photothermographic material of claim 7, the image density can be remarkably improved.

又請求項8の熱現像感光材料を用いることで、更に高温保存時の画像保存性を向上することができる。   Further, by using the photothermographic material of claim 8, the image storability during high temperature storage can be further improved.

請求項9の熱現像感光材料を用いることで、更にフィルムの搬送性、環境適性の向上(生体内での蓄積性減少)を図ることができる。   By using the photothermographic material according to the ninth aspect, it is possible to further improve the film transportability and environmental suitability (decrease in accumulation in vivo).

請求項10において、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは好ましくは10〜40nmであり、さらに好ましくは10〜35nmである。ハロゲン化銀の平均粒子サイズが10nmより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性が劣化したりすることがある。又、50nmを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。   In claim 10, the average grain size of the silver halide is preferably 10 to 40 nm, more preferably 10 to 35 nm. If the average grain size of the silver halide is smaller than 10 nm, the image density may be lowered, or the light irradiation image storage stability may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 50 nm, the image density may decrease.

ここで言う平均粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。又、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒子サイズとして算出する。測定は電子顕微鏡を用いて行い、300個の粒子サイズの測定値を平均することで平均粒子サイズを求めた。   The average grain size referred to here means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In addition, in the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical particles, rod-shaped particles, etc., the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of silver halide grains is calculated as the particle size. The measurement was performed using an electron microscope, and the average particle size was determined by averaging the measured values of 300 particle sizes.

請求項11において、平均粒子サイズが55〜100nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒子サイズが10〜50nmであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、階調調整を行ったり、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善(小さく)することができる。平均粒子サイズが10〜50nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒子サイズが55〜100nmであるハロゲン化銀粒子との割合(質量比)は、95:5〜50:50が好ましく、より好ましくは90:10〜60:40である。   12. The gradation adjustment or the image density is improved by using silver halide grains having an average grain size of 55 to 100 nm and silver halide grains having an average grain size of 10 to 50 nm in combination according to claim 11. It is possible to improve (reduce) the decrease in image density over time. The ratio (mass ratio) of silver halide grains having an average grain size of 10 to 50 nm and silver halide grains having an average grain size of 55 to 100 nm is preferably 95: 5 to 50:50, more preferably 90. : 10-60: 40.

以下、本発明の構成要素について順次説明する。   Hereinafter, the constituent elements of the present invention will be sequentially described.

(有機銀塩)
銀画像形成のための銀イオン供給源としての有機銀塩としては、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に、この中でも、長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂肪族カルボン酸の銀塩、及び含窒素複素環化合物の銀塩が好ましい。配位子が銀イオンに対する総安定度常数として4.0〜10.0の値を持つようなリサーチ・ディスクロージャ(以下、単にRDとも言う)17029及び29963に記載された有機又は無機の錯体も好ましい。これら好適な銀塩の例としては、以下のものが挙げられる。
(Organic silver salt)
Organic silver salts as silver ion sources for silver image formation include silver salts of organic acids and heteroorganic acids, especially long chain (C10-30, preferably 15-25) fats. A silver salt of a group carboxylic acid and a silver salt of a nitrogen-containing heterocyclic compound are preferred. Organic or inorganic complexes described in Research Disclosure (hereinafter also simply referred to as RD) 17029 and 29963 in which the ligand has a value of 4.0 to 10.0 as a total stability constant with respect to silver ions are also preferable. . Examples of these suitable silver salts include:

有機酸の銀塩、例えば没食子酸、蓚酸、ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の銀塩;銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩、例えば1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等の銀塩;アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩又は錯体、例えばアルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸)の反応生成物の銀塩又は錯体;チオン類の銀塩又は錯体、例えば3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオン等の銀塩又は錯体;イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンズトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体又は塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;銀メルカプチド類等。   Silver salts of organic acids such as gallic acid, succinic acid, behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid, lauric acid, etc .; silver carboxyalkylthiourea salts such as 1- (3-carboxypropyl) thiourea, Silver salts such as 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea; silver salts or complexes of polymer reaction products of aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids, such as aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde) Etc.) and hydroxy-substituted acids (for example, salicylic acid, benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid) silver salts or complexes of reaction products; silver salts or complexes of thiones, such as 3- (2-carboxyethyl)- 4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thione, and 3-carboxymethyl-4-thiazo Silver salt or complex such as N-2-thione; selected from imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benztriazole Nitrogen acid and silver complexes or salts; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; silver mercaptides and the like.

これらの中で特に好ましい銀塩としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀等の長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂肪族カルボン酸の銀塩が挙げられる。   Among these, particularly preferable silver salts include silver salts of long-chain (10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25) aliphatic carboxylic acids such as silver behenate, silver arachidate, and silver stearate. .

又、本発明においては、有機銀塩が2種以上混合されていることが現像性を上げ高濃度、高コントラストの銀画像を形成する上で好ましく、例えば2種以上の有機酸混合物に銀イオン溶液を混合して調製することが好ましい。   In the present invention, it is preferable that two or more kinds of organic silver salts are mixed in order to improve developability and form a silver image having a high density and a high contrast. For example, silver ions are mixed into two or more kinds of organic acid mixtures. It is preferable to prepare by mixing the solutions.

有機銀塩は水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−127643号に記載される様なコントロールドダブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカリ金属塩(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウム等)を作製した後に、コントロールドダブルジェット法により、前記ソープと硝酸銀等を混合して有機銀塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。   The organic silver salt can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver. The organic silver salt is controlled by a normal mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, or a controlled compound as described in JP-A-9-127643. A double jet method or the like is preferably used. For example, an alkali metal salt (sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) is added to an organic acid to produce an organic acid alkali metal salt soap (sodium behenate, sodium arachidate, etc.). A soap and silver nitrate are mixed to produce an organic silver salt crystal. At that time, silver halide grains may be mixed.

上記の有機銀塩は種々の形状のものを使用できるが、平板状の粒子が好ましい。特に、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子であり、かつ、最大面積を有する2枚のほぼ平行に相対する面(主平面)の形状異方性を小さくして感光層中での充填率を上げるため、主平面方向から計測される該平板状有機銀塩粒子の針状比率の平均値が1.1以上10.0未満である粒子が好ましい。更に好ましい針状比率は1.1以上5.0未満である。   The organic silver salt can be used in various shapes, but tabular grains are preferred. In particular, it is a flat organic silver salt particle having an aspect ratio of 3 or more, and the filling in the photosensitive layer is made by reducing the shape anisotropy of two substantially parallel faces (main planes) having the largest area. In order to increase the rate, particles having an average needle-like ratio of the tabular organic silver salt particles measured from the main plane direction of 1.1 or more and less than 10.0 are preferable. A more preferable acicular ratio is 1.1 or more and less than 5.0.

又、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子であるとは、前記平板状有機銀塩粒子が全有機銀塩粒子の個数の50%以上を占めることを表す。更に、本発明における有機銀塩は、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子が全有機銀塩粒子の個数の60%以上を占めることが好ましく、更に好ましくは70%以上(個数)であり、特に好ましくは80%以上(個数)である。   The term “tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more” means that the tabular organic silver salt particles occupy 50% or more of the total number of organic silver salt particles. Furthermore, in the organic silver salt in the present invention, it is preferable that tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more occupy 60% or more of the total number of organic silver salt particles, and more preferably 70% or more (number). Particularly preferably, it is 80% or more (number).

アスペクト比3以上の平板状粒子とは、粒径と厚さの比、下記式で表される所謂アスペクト比(ARと略す)が3以上の粒子である。   The tabular grains having an aspect ratio of 3 or more are grains having a ratio of particle diameter to thickness, a so-called aspect ratio (abbreviated as AR) represented by the following formula of 3 or more.

AR=粒径(μm)/厚さ(μm)
平板状有機銀塩粒子のアスペクト比は、好ましくは、3〜20であり、更に好ましくは3〜10である。その理由としては、アスペクト比が低すぎると、有機銀塩粒子が最密され易くなり、又、アスペクト比が余りに高い場合には、有機銀塩粒子同士が重なり易く、又、くっついた状態で分散され易くなるので、光散乱等が起き易くなり、その結果として感光材料の透明感の低下をもたらす。
AR = particle diameter (μm) / thickness (μm)
The aspect ratio of the tabular organic silver salt particles is preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 10. The reason is that if the aspect ratio is too low, the organic silver salt particles are likely to be close-packed, and if the aspect ratio is too high, the organic silver salt particles are likely to overlap with each other and are dispersed in a stuck state. Therefore, light scattering or the like is likely to occur, and as a result, the transparency of the photosensitive material is lowered.

有機銀塩粒子の粒径、平均厚さ、針状比率の平均値については、特開2002−287299号の段落「0031」〜「0047」に記載された方法により求めることができる。   The average value of the particle diameter, average thickness and acicular ratio of the organic silver salt particles can be determined by the method described in paragraphs “0031” to “0047” of JP-A-2002-287299.

前記の形状を有する有機銀塩粒子を得る方法としては特に限定されないが、有機酸アルカリ金属塩ソープ形成時の混合状態又は前記ソープに硝酸銀を添加する際の混合状態等を良好に保つことや、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にすること等が有効である。   The method for obtaining the organic silver salt particles having the above-mentioned shape is not particularly limited, and it is preferable to maintain a mixed state when forming an organic acid alkali metal salt soap or a mixed state when adding silver nitrate to the soap, It is effective to optimize the ratio of silver nitrate that reacts with soap.

本発明に係る平板状有機銀塩粒子は、必要に応じバインダーや界面活性剤等と共に予備分散した後、メディア分散機又は高圧ホモジナイザ等で分散粉砕することが好ましい。上記予備分散にはアンカー型、プロペラ型等の一般的撹拌機や高速回転遠心放射型撹拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミキサ)を使用することができる。   The tabular organic silver salt particles according to the present invention are preferably pre-dispersed with a binder, a surfactant or the like, if necessary, and then dispersed and pulverized with a media disperser or a high-pressure homogenizer. For the preliminary dispersion, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high speed rotating centrifugal radiation type stirrer (dissolver), or a high speed rotating shear type stirrer (homomixer) can be used.

又、上記メディア分散機としては、ボールミル、遊星ボールミル、振動ボールミル等の転動ミルや、媒体撹拌ミルであるビーズミル、アトライター、その他バスケットミル等を用いることが可能であり、高圧ホモジナイザとしては壁、プラグ等に衝突するタイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプ等様々なタイプを用いることができる。   As the media dispersing machine, a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill or a vibrating ball mill, a bead mill which is a medium stirring mill, an attritor or other basket mill can be used, and a wall as a high-pressure homogenizer can be used. Various types such as a type that collides with a plug or the like, a type that collides liquids at a high speed after dividing the liquid into a plurality of types, and a type that passes through a thin orifice can be used.

メディア分散時に使用されるセラミックスビーズに用いられるセラミックスとしては、例えば前出の特開2002−287299号の段落「0051」に記載のものが好ましい。分散時におけるビーズや分散機との摩擦による不純物生成が少ない等の理由から、イットリウム安定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ(これらジルコニアを含有するセラミックスを、以下、ジルコニアと略す)が特に好ましく用いられる。   As the ceramic used for the ceramic beads used at the time of media dispersion, for example, those described in paragraph “0051” of the above-mentioned JP-A No. 2002-287299 are preferable. Yttrium-stabilized zirconia and zirconia reinforced alumina (hereinafter, these ceramics containing zirconia are hereinafter abbreviated as zirconia) are particularly preferably used because of the low generation of impurities due to friction with beads and dispersers during dispersion.

平板状有機銀塩粒子を分散する際に用いられる装置類において、該有機銀塩粒子が接触する部材の材質としてジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化硼素等のセラミックス類又はダイヤモンドを用いることが好ましく、中でも、ジルコニアを用いることが好ましい。   In the apparatus used when dispersing the flat organic silver salt particles, it is preferable to use ceramics such as zirconia, alumina, silicon nitride, boron nitride or diamond as the material of the member in contact with the organic silver salt particles, Among these, it is preferable to use zirconia.

上記分散を行う際、バインダー濃度は有機銀塩質量の0.1〜10%添加することが好ましく、予備分散から本分散を通して液温が45℃を上回らないことが好ましい。又、本分散の好ましい運転条件としては、例えば高圧ホモジナイザを分散手段として用いる場合には、29.42〜98.06MPa、運転回数は2回以上が好ましい条件として挙げられる。又、メディア分散機を分散手段として用いる場合には、周速が6〜13m/秒が好ましい条件として挙げられる。   When the dispersion is performed, the binder concentration is preferably 0.1 to 10% of the mass of the organic silver salt, and it is preferable that the liquid temperature does not exceed 45 ° C. from the preliminary dispersion through the main dispersion. Further, as preferable operating conditions for the present dispersion, for example, when a high-pressure homogenizer is used as the dispersing means, preferable conditions are 29.42 to 98.06 MPa, and the number of operations is preferably 2 times or more. Moreover, when using a media disperser as a dispersion | distribution means, 6-13 m / sec of peripheral speed is mentioned as preferable conditions.

又、本発明の熱現像感光材料における好ましい態様は、当該材料の支持体面と垂直な断面を電子顕微鏡観察した時、0.025μm2未満の投影面積を示す有機銀塩粒子の割合が有機銀塩粒子の全投影面積の70%以上を示し、かつ0.2μm2以上の投影面積を示す粒子の割合が有機銀塩粒子の全投影面積の10%以下である特徴を有する有機銀塩、更には感光性ハロゲン化銀を含有する感光性乳剤を塗布してなるものである。この様な場合、感光性乳剤中において有機銀塩粒子の凝集が少なく、かつ均一に分布した状態を得ることができる。 Further, in a preferred embodiment of the photothermographic material of the present invention, when the cross section perpendicular to the support surface of the material is observed with an electron microscope, the proportion of organic silver salt particles exhibiting a projected area of less than 0.025 μm 2 is an organic silver salt. An organic silver salt having a characteristic that the ratio of the particles showing 70% or more of the total projected area of the grains and the projected area of 0.2 μm 2 or more is 10% or less of the total projected area of the organic silver salt particles; A photosensitive emulsion containing photosensitive silver halide is coated. In such a case, it is possible to obtain a uniformly distributed state in which the organic silver salt particles are less aggregated in the photosensitive emulsion.

この様な特徴を有する感光性乳剤を作製する条件としては特に限定されないが、有機酸アルカリ金属塩ソープ形成時の混合状態又は前記ソープに硝酸銀を添加する際の混合状態等を良好に保つことや、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にすること、分散粉砕にはメディア分散機又は高圧ホモジナイザ等で分散すること、その際バインダーの使用量(濃度)としては有機銀塩質量の0.1〜10%とすること、乾燥から本分散終了までの温度が45℃を上回らないこと等に加えて、調液時にはディゾルバを使用し、周速2.0m/秒以上で撹拌すること等が好ましい条件として挙げられる。   The conditions for producing the photosensitive emulsion having such characteristics are not particularly limited, but the mixed state at the time of forming the organic acid alkali metal salt soap, or the mixed state at the time of adding silver nitrate to the soap, etc. can be kept good. Optimize the ratio of silver nitrate that reacts with soap, disperse and grind with a media disperser or a high-pressure homogenizer, and the amount of binder used (concentration) is 0.1 to 0.1% of the organic silver salt mass. Preferred conditions are 10%, and that the temperature from drying to the end of the dispersion does not exceed 45 ° C., and that a dissolver is used during preparation and stirring is performed at a peripheral speed of 2.0 m / sec or more. As mentioned.

上記のような特定の投影面積値を有する有機銀塩粒子の投影面積や全投影面積に占める割合等は、上記記載の平板状粒子の平均厚さを求める箇所で記載したと同様に、TEM(透過型電子顕微鏡)を用いた方法により、有機銀塩粒子に相当する箇所を抽出する。具体的には、特開2002−287299号の段落「0057」〜「0059」に記載された方法により求めることができる。   The ratio of the projected area and the total projected area of the organic silver salt particles having a specific projected area value as described above is the same as that described in the section for obtaining the average thickness of the tabular grains described above. A portion corresponding to the organic silver salt particles is extracted by a method using a transmission electron microscope. Specifically, it can be determined by the method described in paragraphs “0057” to “0059” of JP-A No. 2002-287299.

本発明に用いる有機銀塩粒子は単分散粒子であることが好ましく、好ましい単分散度としては1〜30%であり、この範囲の単分散粒子にすることにより、濃度の高い画像が得られる。ここで言う単分散度とは、下記式で定義される。   The organic silver salt particles used in the present invention are preferably monodisperse particles, and the preferred monodispersity is 1 to 30%. By making monodisperse particles in this range, an image with a high density can be obtained. The monodispersity mentioned here is defined by the following formula.

単分散度={(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
上記の有機銀塩の平均粒径(円相当径)は0.01〜0.3μmが好ましく、更に好ましくは0.02〜0.2μmである。尚、平均粒径(円相当径)とは、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積を有する円の直径を表す。
Monodispersity = {(standard deviation of particle size) / (average value of particle size)} × 100
The average particle diameter (equivalent circle diameter) of the organic silver salt is preferably 0.01 to 0.3 μm, more preferably 0.02 to 0.2 μm. The average particle diameter (equivalent circle diameter) represents the diameter of a circle having the same area as each particle image observed with an electron microscope.

感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換算して1m2当たり0.3〜1.5gであることが好ましい。この範囲にすることで、医用画像として用いる場合は好ましい画像が得られる。1m2当たり0.3g未満では画像濃度が低下してしまうことがある。又、1m2当たり1.5gを超えるとかぶりが増加したり、PS版への焼付け時に感度低下を起こしてしまうことがある。 In order to prevent devitrification of the photosensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably 0.3 to 1.5 g per 1 m 2 in terms of silver amount. By using this range, a preferable image can be obtained when used as a medical image. If it is less than 0.3 g per m 2 , the image density may decrease. Further, if the amount exceeds 1.5 g per 1 m 2 , the fog may increase or the sensitivity may be lowered when printing on the PS plate.

(ハロゲン化銀)
本発明に用いるハロゲン化銀(以下、感光性ハロゲン化銀粒子又はハロゲン化銀粒子とも言う)について説明する。尚、本発明においてハロゲン化銀とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、又は、人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収し得て、かつ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内の何れかの領域の光を吸収した時に、当該ハロゲン化銀結晶内及び/又は結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子を言う。
(Silver halide)
The silver halide used in the present invention (hereinafter also referred to as photosensitive silver halide grains or silver halide grains) will be described. In the present invention, silver halide can inherently absorb light as an intrinsic property of a silver halide crystal, or can artificially absorb visible light or infrared light by a physicochemical method. In addition, when light in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region is absorbed, a physicochemical change can occur in the silver halide crystal and / or on the crystal surface. This refers to the silver halide crystal grains produced.

ハロゲン化銀粒子自体は公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化銀乳剤とも言う)として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等の何れでもよく、又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等の何れを用いてもよいが、上記方法の中でも、形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する所謂コントロールドダブルジェット法が好ましい。   The silver halide grains themselves can be prepared as a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion) using a known method. That is, any of acid method, neutral method, ammonia method, etc. may be used, and as a method of reacting soluble silver salt and soluble halogen salt, any one of one-side mixing method, simultaneous mixing method, combination thereof, etc. may be used. Of these methods, the so-called controlled double jet method of preparing silver halide grains while controlling formation conditions is preferable.

ハロゲン組成としては本発明のハロゲン化銀粒子では沃化銀含有量が5モル%以上100モル%以下であることが好ましい。沃化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が、均一であっても、段階的に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、内部および/または表面に沃化銀含有率が高いコア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子である。本発明で用いる乳剤の好ましい沃化銀含有量は、ハロゲン化銀量に対して10モル%以上100モル%以下である。より好ましくは40モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは70モル%以上100モル%以下であり、特に好ましくは90モル%以上100モル%以下である。本発明のハロゲン化銀は、350nm〜440nmの間の波長に沃化銀結晶構造に由来する直接遷移吸収を示すことが好ましい。これらハロゲン化銀が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、400nm〜430nm付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。ハロゲン化銀粒子に沃化銀を導入する方法としては、粒子形成中に沃化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子沃化銀、微粒子沃臭化銀、微粒子沃塩化銀、微粒子沃塩臭化銀のうち少なくとも一つの微粒子を添加する方法、特開平5−323487号公報および特開平6−11780号公報記載の沃化物イオン放出剤を用いる方法などが好ましい。   As for the halogen composition, the silver halide content of the present invention preferably has a silver iodide content of 5 mol% or more and 100 mol% or less. If the silver iodide content is in this range, the intragranular halogen composition distribution may be uniform, may change stepwise, or may change continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure having a high silver iodide content inside and / or on the surface can also be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles. The preferred silver iodide content of the emulsion used in the present invention is 10 mol% or more and 100 mol% or less with respect to the amount of silver halide. More preferably, they are 40 mol% or more and 100 mol% or less, More preferably, they are 70 mol% or more and 100 mol% or less, Especially preferably, they are 90 mol% or more and 100 mol% or less. The silver halide of the present invention preferably exhibits direct transition absorption derived from the silver iodide crystal structure at a wavelength between 350 nm and 440 nm. Whether these silver halides have light absorption of direct transition can be easily distinguished by the fact that exciton absorption due to direct transition is observed in the vicinity of 400 nm to 430 nm. As a method for introducing silver iodide into the silver halide grains, a method of adding an alkali iodide aqueous solution during grain formation, fine grain silver iodide, fine grain silver iodobromide, fine grain silver iodochloride, fine grain silver iodochlorobromide Among them, the method of adding at least one fine particle, the method of using an iodide ion releasing agent described in JP-A-5-323487 and JP-A-6-11780 are preferable.

粒子形成は、通常、ハロゲン化銀種粒子(核)生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、又、核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ核(種粒子)生成(核生成工程)した後、コントロールされたpAg、pH等のもとで銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。   Grain formation is usually divided into two stages: silver halide seed grain (nucleus) generation and grain growth, and these may be performed continuously at once, or the nucleus (seed grain) formation and grain growth are separated. It is also possible to do this. The controlled double jet method in which the particle formation is controlled by controlling the pAg, pH, etc., which are particle formation conditions, is preferable because the particle shape and size can be controlled. For example, when performing a method in which nucleation and particle growth are performed separately, first, an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to produce nuclei (seed particles) (nucleation process). Then, silver halide grains are prepared by a grain growth process in which grains are grown while supplying an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution under controlled pAg, pH, and the like. After the formation of grains, a desired silver halide emulsion can be obtained by removing unnecessary salts and the like by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method, or an electrodialysis method. .

ハロゲン化銀粒子の粒子サイズは単分散であることが好ましい。ここで言う単分散とは、下記式で求められる粒子サイズの変動係数が30%以下を言う。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。   The grain size of the silver halide grains is preferably monodispersed. The monodispersion mentioned here means that the variation coefficient of the particle size obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.

粒子サイズの変動係数%=(粒径の標準偏差/粒径の平均値)×100
ハロゲン化銀粒子の形状としては、立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、これらの中、特に立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation of particle size% = (standard deviation of particle size / average value of particle size) × 100
Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tetrahedron grains, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, and potato grains. Among these, cubes, octahedrons, 14 Planar and tabular silver halide grains are preferred.

平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5〜100、より好ましくは2〜50である。これらについては、米国特許5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。   The average aspect ratio when using tabular silver halide grains is preferably 1.5 to 100, more preferably 2 to 50. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, 5,320,958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.

ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが特に好ましい。尚、ミラー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29,165(1985年)により求めることができる。   There is no particular limitation on the crystal habit on the outer surface of the silver halide grain, but when using a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grain. It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habits adapted to the selectivity. For example, when using a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100], the proportion of the [100] face on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is 50 % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。低分子量ゼラチンは平均分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは2,000〜40,000であり、特に好ましくは5,000〜25,000である。ゼラチンの平均分子量は、ゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸又はアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下又は加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。   The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains. The low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 2,000 to 40,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin can be decomposed by adding gelatin-degrading enzyme to a commonly used gelatin aqueous solution with an average molecular weight of about 100,000, hydrolyzing by adding acid or alkali, and heating under atmospheric pressure or pressure. Can be obtained by thermal decomposition, decomposition by ultrasonic irradiation, or a combination of these methods.

核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより好ましい。   The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.05 to 3.0% by mass.

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記一般式で表される化合物を用いることが好ましい。   For the silver halide grains used in the present invention, it is preferable to use a compound represented by the following general formula when the grains are formed.

1O(CH2CH2O)m2〔CH(CH3)CH2O〕p2(CH2CH2O)n21
式中、Y1は水素原子、−SO31又は−CO−B1−COOM1を表し、M1は水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は炭素原子数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、B1は有機2塩基性酸を形成する鎖状又は環状の基を表す。m2及びn2は各々0〜50を表し、p2は1〜100を表す。
Y 1 O (CH 2 CH 2 O) m2 [CH (CH 3 ) CH 2 O] p2 (CH 2 CH 2 O) n2 Y 1
In the formula, Y 1 represents a hydrogen atom, —SO 3 M 1 or —CO—B 1 —COOM 1 , and M 1 is substituted with a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group or an alkyl group having 5 or less carbon atoms. B 1 represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid. m 2 and n2 each represents 0 to 50, p2 represents 1 to 100.

上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられて来たものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば特開昭44−9497号に記載されている。このポリエチレンオキシド化合物は核形成時の消泡剤としても機能する。   The polyethylene oxide compound represented by the above general formula supports the step of producing an aqueous gelatin solution, the step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, and the emulsion when producing a silver halide photographic light-sensitive material. It has been preferably used as an antifoaming agent for significant foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as a step of coating on the body. 44-9497. This polyethylene oxide compound also functions as an antifoaming agent during nucleation.

上記一般式で表される化合物は、銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。   The compound represented by the above general formula is preferably used at 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.

核形成時の条件については、これも特開2002−287299号の段落「0079」〜「0082」に記載された方法を参考にすることができる。
また本発明に使用できる感光性ハロゲン化銀粒子として、特開2003−270755号公報に記載されている、熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子が挙げられる。すなわち、熱現像前の露光では、現像反応(銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応)の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子である。
Regarding the conditions at the time of nucleation, the method described in paragraphs “0079” to “0082” of JP-A-2002-287299 can also be referred to.
Further, as photosensitive silver halide grains that can be used in the present invention, a halogen described in JP-A No. 2003-270755, whose surface sensitivity is lowered by conversion from a surface latent image type to an internal latent image type by thermal development. Examples include silver halide grains. That is, in the exposure before thermal development, a latent image that can function as a catalyst for a development reaction (reduction reaction of silver ions by a silver ion reducing agent) is formed on the surface of the silver halide grains, and the exposure after the thermal development process has passed. Then, since a larger number of latent images are formed inside the surface of the silver halide grains, the silver halide grains can suppress the formation of latent images on the surface.

ハロゲン化銀粒子は如何なる方法で画像形成層に添加されてもよく、この時、ハロゲン化銀粒子は還元可能な銀源(有機銀塩)に近接するように配置するのが好ましい。   The silver halide grains may be added to the image forming layer by any method. At this time, the silver halide grains are preferably arranged so as to be close to a reducible silver source (organic silver salt).

ハロゲン化銀粒子は、予め調製しておき、これを有機銀塩粒子を調製するための溶液に添加するのが、ハロゲン化銀調製工程と有機銀塩粒子調製工程を分離して扱えるので製造コントロール上も好ましいが、英国特許1,447,454号に記載される様に、有機銀塩粒子を調製する際にハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存させ、これに銀イオンを注入することで有機銀塩粒子の生成とほぼ同時に生成させることもできる。   Silver halide grains are prepared in advance and added to the solution for preparing organic silver salt grains, so that the silver halide preparation process and the organic silver salt grain preparation process can be handled separately, so production control Although it is also preferable, as described in British Patent 1,447,454, when preparing organic silver salt particles, a halogen component such as a halide ion is allowed to coexist with an organic silver salt forming component, and silver ion is added thereto. By injecting, the organic silver salt particles can be generated almost simultaneously.

又、有機銀塩にハロゲン含有化合物を作用させ、有機銀塩のコンバージョンによりハロゲン化銀粒子を調製することも可能である。即ち、予め調製された有機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。   It is also possible to prepare silver halide grains by converting a halogen-containing compound to an organic silver salt and converting the organic silver salt. That is, a silver halide forming component is allowed to act on a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance or a sheet material containing the organic silver salt to convert a part of the organic silver salt into photosensitive silver halide. You can also.

このハロゲン化銀形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例については、特開2002−287299号の段落「0086」に記載されている。   Examples of the silver halide forming component include inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds. Specific examples thereof are described in paragraphs of JP-A-2002-287299. It is described in “0086”.

この様に、ハロゲン化銀を有機酸銀塩とハロゲンイオンとの反応により有機酸銀塩中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換することによって調製することもできる。又、別途調製したハロゲン化銀にこれらの有機銀塩の一部をコンバージョンすることで製造したハロゲン化銀粒子を併用してもよい。   Thus, silver halide can also be prepared by converting a part or all of silver in the organic acid silver salt into silver halide by the reaction of the organic acid silver salt with a halogen ion. Moreover, you may use together the silver halide grain manufactured by converting a part of these organic silver salt into the silver halide prepared separately.

これらのハロゲン化銀粒子は、別途調製したハロゲン化銀粒子、有機銀塩のコンバージョンによるハロゲン化銀粒子とも、有機銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル使用するのが好ましく、0.03〜0.5モル使用するのがより好ましい。   These silver halide grains are preferably used in an amount of 0.001 to 0.7 moles per mole of the organic silver salt, both separately prepared silver halide grains and silver halide grains obtained by conversion of the organic silver salt. It is more preferable to use 0.03 to 0.5 mol.

ハロゲン化銀には、元素周期律表の6〜11族に属する遷移金属のイオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt及びAuが好ましい。これらは1種類でも同種あるいは異種の金属錯体を2種以上併用してもよい。これらの金属イオンは金属塩をそのままハロゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。含有率は、銀1モルに対し1×10-9〜1×10-2モルの範囲が好ましく、1×10-8〜1×10-4モルの範囲がより好ましい。本発明においては、遷移金属錯体又は錯体イオンは下記一般式で表されるものが好ましい。 The silver halide preferably contains transition metal ions belonging to Groups 6 to 11 of the periodic table. As said metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, and Au are preferable. These may be used alone or in combination of two or more of the same or different metal complexes. Although these metal ions may introduce a metal salt into silver halide as it is, they can be introduced into silver halide in the form of a metal complex or complex ion. The content is preferably in the range of 1 × 10 −9 to 1 × 10 −2 mol, and more preferably in the range of 1 × 10 −8 to 1 × 10 −4 mol, with respect to 1 mol of silver. In the present invention, the transition metal complex or complex ion is preferably represented by the following general formula.

一般式〔ML6m
式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−、2−、3−又は4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン(弗素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン)、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、又異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from Group 6 to 11 elements in the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0,-, 2-, 3-, or 4-. Specific examples of the ligand represented by L include halogen ion (fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide, and aco. A ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like can be mentioned, and ako, nitrosyl, thionitrosyl and the like are preferable. When an acoligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

これらの金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、核形成、成長の段階で添加するのがより好ましく、特に好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数回に亘って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載される様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。   The compounds providing these metal ions or complex ions are preferably added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening It may be added at any stage before or after chemical sensitization, but is preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, particularly preferably. Add at the nucleation stage. In addition, it may be divided and added several times, or it can be uniformly contained in the silver halide grains. JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3 As described in JP-A Nos. 167545, 4-76534, 6-110146, 5-273683, etc., the particles can be contained with a distribution.

これらの金属化合物は、水あるいは適当な有機溶媒(アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等)に溶解して添加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物と塩化ナトリウム、塩化カリウムとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、あるいは銀塩水溶液とハライド水溶液が同時に混合される時、第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物と塩化ナトリウム、塩化カリウムとを一緒に溶解した水溶液をハライド水溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。   These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). For example, an aqueous solution of a metal compound powder Alternatively, an aqueous solution in which a metal compound and sodium chloride and potassium chloride are dissolved together is added to the water-soluble silver salt solution or water-soluble halide solution during particle formation, or the silver salt aqueous solution and the halide aqueous solution are mixed simultaneously. When adding, as a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a method of simultaneous mixing of three liquids, a method of charging a required amount of an aqueous solution of a metal compound into the reaction vessel during grain formation, or halogenation There is a method of adding another silver halide grain previously doped with a metal ion or complex ion and dissolving it at the time of silver preparation. In particular, a method in which an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and sodium chloride and potassium chloride are dissolved together is added to the halide aqueous solution. When added to the particle surface, a necessary amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or after the physical ripening, or at the chemical ripening.

別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子は、ヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、熱現像感光材料においては脱塩しないで用いることもできる。   Separately prepared photosensitive silver halide grains can be desalted by known desalting methods such as noodle method, flocculation method, ultrafiltration method, electrodialysis method, etc. It can also be used without salting.

ハロゲン化銀粒子には化学増感を施すことができる。例えば特開2001−249428号、同2001−249426号に開示されている方法等により、硫黄等のカルコゲン原子を有する化合物や金イオン等の貴金属イオンを放出する貴金属化合物を用いて化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。本発明においては、上記のカルコゲン原子を有する化合物による化学増感と貴金属化合物を用いる化学増感を併用することが特に好ましい。   The silver halide grains can be chemically sensitized. For example, by a method disclosed in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426, a compound having a chalcogen atom such as sulfur or a noble metal compound that releases noble metal ions such as gold ions is used as a chemical sensitization center ( Chemical sensitization nuclei). In the present invention, it is particularly preferable to combine the chemical sensitization using the above-mentioned compound having a chalcogen atom and the chemical sensitization using a noble metal compound.

本発明においては、以下に示すカルコゲン原子を含有する化合物により化学増感されているのが好ましい。これら有機増感剤として有用なカルコゲン原子を含有する化合物はハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。   In the present invention, it is preferably chemically sensitized by the following compound containing a chalcogen atom. The compound containing a chalcogen atom useful as an organic sensitizer is preferably a compound having a group capable of adsorbing to silver halide and an unstable chalcogen atom site.

これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらのうちカルコゲン原子が炭素原子又はリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。特に好ましいのは特開2002−250984号に開示されている一般式(1−1)、一般式(1−2)の化合物である。   As these organic sensitizers, organic sensitizers having various structures disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874, and the like can be used. Of these, at least one compound having a structure in which a chalcogen atom is bonded to a carbon atom or a phosphorus atom by a double bond is preferable. Particularly preferred are compounds of general formula (1-1) and general formula (1-2) disclosed in JP-A No. 2002-250984.

有機増感剤としてのカルコゲン原子を含有する化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境等により変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、1×10-8〜1×10-2モルが好ましく、より好ましくは1×10-7〜1×10-3モルである。化学増感環境としては特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅、あるいはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又、特に銀核を酸化し得る酸化剤の共存下においてカルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましく、該増感条件として、pAgとしては6〜11が好ましく(より好ましくは7〜10)、pHは4〜10が好ましく(より好ましくは5〜8)、又、温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。 The amount of the compound containing a chalcogen atom as an organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, etc., but 1 × per 1 mol of silver halide. 10 −8 to 1 × 10 −2 mol is preferable, and 1 × 10 −7 to 1 × 10 −3 mol is more preferable. The chemical sensitization environment is not particularly limited, but in the presence of a compound capable of annihilating or reducing the size of silver chalcogenide or silver nuclei on the photosensitive silver halide grains, and in particular silver nuclei. It is preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent that can be oxidized. As the sensitization condition, pAg is preferably 6 to 11 (more preferably 7 to 10) The pH is preferably 4 to 10 (more preferably 5 to 8), and the temperature is preferably 30 ° C. or lower for sensitization.

従って、本発明の熱現像感光材料においては、前記感光性ハロゲン化銀が、該粒子上の銀核を酸化し得る酸化剤の共存下においてカルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いて温度30℃以下において化学増感を施され、かつ、有機銀塩と混合して分散され脱水及び乾燥された感光性ハロゲン化銀乳剤を用いることが好ましい。   Therefore, in the photothermographic material of the present invention, the photosensitive silver halide is heated at a temperature of 30 using an organic sensitizer containing chalcogen atoms in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing silver nuclei on the grains. It is preferable to use a light-sensitive silver halide emulsion that has been chemically sensitized at a temperature of 0 ° C. or lower, mixed with an organic silver salt, dispersed, dehydrated and dried.

又、これらの有機増感剤を用いた化学増感は、ハロゲン化銀粒子に対して吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ、高感度、低かぶりを達成できる。本発明において用いられる分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号に記載される含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。   Further, chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having an adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. Although the spectral sensitizing dye used in the present invention will be described later, the heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide is preferably a nitrogen-containing heterocyclic compound described in JP-A-3-24537. It is done.

含窒素複素環化合物において、複素環としてはピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環等を挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えばフタラジン環、ベンズイミダゾール環、インダゾール環、ベンゾチアゾール環等も適用できる。これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えばヒドロキシトリアザインデン、ヒドロキシテトラアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。   In the nitrogen-containing heterocyclic compound, the heterocyclic ring includes pyrazole ring, pyrimidine ring, 1,2,4-triazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,3- Thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, Examples thereof include three bonded rings such as a triazolotriazole ring, a diazaindene ring, a triazaindene ring, and a pentaazaindene ring. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzothiazole ring, or the like can also be applied. Among these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, a hydroxytriazaindene, hydroxytetraazaindene, hydroxypentaazaindene compound or the like is more preferable.

複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えばアルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基等を有してもよい。   The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. May be.

これら含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、大凡の量はハロゲン化銀1モル当たりの量で1×10-6〜1モルの範囲であり、好ましくは1×10-4〜1×10-1モルの範囲である。 The addition amount of these heterocyclic compounds varies over a wide range depending on the size, composition and other conditions of the silver halide grains, but the approximate amount is 1 × 10 5 per mole of silver halide. -6 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 1 × 10 −1 mol.

ハロゲン化銀粒子には、前述のように金イオン等の貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。   As described above, the silver halide grains can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer.

又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物としてはアスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1錫、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。又、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。   In addition to the above-described sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. As the reduction-sensitized shell-like compounds, ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, borane compounds A silane compound, a polyamine compound, or the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.

本発明に係る化学増感を施されるハロゲン化銀は、有機銀塩の存在下で形成されたものでも、有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、又、両者が混合されたものでもよい。   The silver halide subjected to chemical sensitization according to the present invention may be formed in the presence of an organic silver salt, formed in the absence of an organic silver salt, or a mixture of both. May be good.

ハロゲン化銀粒子には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施しても良い。分光増感色素としては公知の分光増感色素を適宜用いることができる。本願ではハロゲン化銀の直接遷移吸収を用いることが好ましく、その場合は分光増感色素は使用しない。   The silver halide grains may be spectrally sensitized by adsorbing spectral sensitizing dyes. A known spectral sensitizing dye can be appropriately used as the spectral sensitizing dye. In the present application, it is preferable to use direct transition absorption of silver halide, in which case no spectral sensitizing dye is used.

上記のハロゲン化銀の直接遷移吸収を用いない場合は、ハロゲン化銀粒子には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許4,639,414号、同4,740,455号、同4,741,966号、同4,751,175号、同4,835,096号等に記載された増感色素が使用できる。有用な増感色素は、例えばRD17643−A項(1978年12月,23頁)、同18431X項(1978年8月,437頁)に記載又は引用された文献に記載される。特に、各種レーザイメージャやスキャナ光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用いられる。   When the direct transition absorption of the above silver halide is not used, it is preferable to perform spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye to the silver halide grains. As spectral sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes and the like can be used. For example, JP-A Nos. 63-159841, 60-140335, 63-231437, 63-259651, 63-304242, 63-15245, U.S. Pat. Nos. 4,639,414, 4 , 740,455, 4,741,966, 4,751,175, 4,835,096 and the like. Useful sensitizing dyes are described in, for example, documents described or cited in Section RD17643-A (December 1978, page 23) and Section 18431X (August 1978, page 437). In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having spectral sensitivity suitable for spectral characteristics of various laser imagers and scanner light sources. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.

(還元剤)
本発明においては、還元剤(銀イオン還元剤)として、特に、還元剤の少なくとも1種が下記一般式(1)で表される化合物を単独又は他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いることが好ましい。これらの高活性な還元剤を用いることで、高濃度で、光照射画像保存性に優れた熱現像感光材料を得ることができる。
(Reducing agent)
In the present invention, as the reducing agent (silver ion reducing agent), in particular, at least one of the reducing agents is a compound represented by the following general formula (1) alone or in combination with a reducing agent having another different chemical structure. It is preferable to use it. By using these highly active reducing agents, it is possible to obtain a photothermographic material having a high concentration and excellent light irradiation image storage stability.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

〔式中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表し、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。R2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、少なくとも一方は2級又は3級のアルキル基である。R3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。R4はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。〕
本発明においては、前記一般式(1)の化合物と下記一般式(2)の化合物とを併用することが望ましい色調を得るためには好ましい。
[Wherein, X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 , and R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 represents an alkyl group, which may be the same or different, but at least one is a secondary or tertiary alkyl group. R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2. ]
In the present invention, it is preferable to use a compound of the general formula (1) and a compound of the following general formula (2) together in order to obtain a desirable color tone.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

〔式中、X2はカルコゲン原子又はCHR5を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。R7は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。R8はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。〕
その併用比率としては、[一般式(1)の化合物の質量]:[一般式(2)の化合物の質量]が5:95〜45:55であることが好ましく、より好ましくは10:90〜40:60である。
[Wherein, X 2 represents a chalcogen atom or CHR 5 , and R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. R 7 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. R 8 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2. ]
As the ratio of the combined use, [mass of compound of general formula (1)]: [mass of compound of general formula (2)] is preferably 5:95 to 45:55, more preferably 10:90 to 40:60.

一般式(1)中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表す。カルコゲン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。CHR1におけるR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表し、ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子等であり、アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基が好ましい。具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル等、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等、アリール基としてはベンゼン環、ナフタレン環等、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。 In the general formula (1), X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 . The chalcogen atom is sulfur, selenium or tellurium, preferably a sulfur atom. CHR R 1 in 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group, a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, the alkyl group substituted or An unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferred. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, cyclohexyl, heptyl and the like, and examples of the alkenyl group include vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, cyclohexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1- Methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, etc., aryl groups are benzene rings, naphthalene rings, etc., and heterocyclic groups are thiophene, furan, imidazole, pyrazole, pyrrole, etc. .

これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては例えば一般式(YA)のR14における置換基が挙げられる。又、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。特に好ましい置換基はアルキル基である。 These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include a substituent in R 14 of the general formula (YA). Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. A particularly preferred substituent is an alkyl group.

2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、少なくとも一方は2級又は3級のアルキル基である。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、1−メチルシクロプロピル等の基が挙げられる。 R 2 represents an alkyl group, which may be the same or different, but at least one is a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, i-butyl, t-butyl, t-pentyl, t-octyl. , Cyclohexyl, cyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-methylcyclopropyl and the like.

アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えばアリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、(R4n及び(R4mと飽和環を形成してもよい。R2は、好ましくは何れも2級又は3級のアルキル基であり、炭素数2〜20が好ましい。より好ましくは3級アルキル基であり、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、1−メチルシクロヘキシルであり、最も好ましくはt−ブチルである。 Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, An ester group, a halogen atom, etc. are mentioned. Or it may form a saturated ring with (R 4) n and (R 4) m. R 2 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 to 20 carbon atoms. A tertiary alkyl group is more preferred, t-butyl, t-pentyl and 1-methylcyclohexyl are more preferred, and t-butyl is most preferred.

3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えば弗素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。 R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Examples of the group that can be substituted on the benzene ring include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, cycloalkenyl groups, alkynyl groups, amino groups, acyl groups, acyloxy groups, Examples include acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl group, cyano group, and heterocyclic group.

3として好ましくは、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、2−ヒドロキシエチル等が挙げられる。更に好ましくは、メチル、2−ヒドロキシエチルである。 R 3 is preferably methyl, ethyl, i-propyl, t-butyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, 2-hydroxyethyl and the like. More preferred are methyl and 2-hydroxyethyl.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、前記R1で挙げた置換基を用いることができる。R3は好ましくはヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する炭素数1〜20のアルキル基であり、炭素数1〜5のアルキル基であることがより好ましい。最も好ましくは2−ヒドロキシエチルである。R2及びR3の最も好ましい組合せは、R2が第3級アルキル基(t−ブチル、1−メチルシクロヘキシル等)であり、R3がヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する第1級アルキル基(2−ヒドロキシエチル等)である。複数のR2、R3は同じでも異なっていてもよい。 These groups may further have a substituent, and the substituents exemplified in the above R 1 can be used as the substituent. R 3 is preferably a C 1-20 alkyl group having a hydroxyl group or a precursor group thereof, and more preferably a C 1-5 alkyl group. Most preferred is 2-hydroxyethyl. In the most preferred combination of R 2 and R 3 , R 2 is a tertiary alkyl group (t-butyl, 1-methylcyclohexyl, etc.), and R 3 is a primary alkyl group having a hydroxyl group or a precursor group thereof ( 2-hydroxyethyl and the like). A plurality of R 2 and R 3 may be the same or different.

4はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、弗素)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は、更にこれらの基で置換されてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはn、m共に0の場合である。 R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, etc.), Halogenated alkyl group (trifluoromethyl, perfluorooctyl etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl, cyclopentyl etc.), alkynyl group (propargyl etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aryl group (phenyl etc.), heterocyclic ring Groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atoms (chlorine, bromine, iodine, fluorine), alkoxy groups (methoxy, ethoxy) , Pyroxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (phenyloxycarbonyl) ), Sulfonamide groups (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl groups (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl, butylamino) Sulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminos Sulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.), Carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl), amide group (acetamide, propionamide, butanamide, hexaneamide, Benzamide etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, Phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, An oxamoyl group can be exemplified. These groups may be further substituted with these groups. n and m represent an integer of 0 to 2, and most preferably n and m are 0.

又、R4はR2、R3と飽和環を形成してもよい。R4は好ましくは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。複数のR4は同じでも異なっていても良い。 R 4 may form a saturated ring with R 2 and R 3 . R 4 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom. A plurality of R 4 may be the same or different.

一般式(2)中、はR5はR1と同様の基であるがシクロヘキシル、シクロヘキセニル等の環状基であることがより好ましい。R7はR3と同様の基であり、R8はR4と同様の基である。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル等の基が挙げられる。 In general formula (2), R 5 is the same group as R 1 , but is more preferably a cyclic group such as cyclohexyl or cyclohexenyl. R 7 is the same group as R 3, and R 8 is the same group as R 4 . R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl and the like.

アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えばアリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、(R8n及び(R8mと飽和環を形成してもよい。R6は、好ましくはメチルである。 Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, An ester group, a halogen atom, etc. are mentioned. Further, a saturated ring may be formed with (R 8 ) n and (R 8 ) m . R 6 is preferably methyl.

一般式(2)で表される化合物のうちでも好ましく用いられる化合物は、欧州特許1,278,101号に記載の一般式(S)、一般式(T)を満足する化合物であり、具体的にはp21〜p28に記載の(1−24)、(1−28)〜(1−54)、(1−56)〜(1−75)の化合物が挙げられる。   Among the compounds represented by the general formula (2), compounds that are preferably used are compounds satisfying the general formula (S) and general formula (T) described in European Patent No. 1,278,101. Include the compounds (1-24), (1-28) to (1-54), and (1-56) to (1-75) described in p21 to p28.

以下に、一般式(1)、一般式(2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the compounds represented by general formula (1) and general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited to these.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Figure 2005250451
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これら一般式(1)、一般式(2)で表されるビスフェノール化合物は、従来公知の方法により容易に合成することができる。   These bisphenol compounds represented by the general formulas (1) and (2) can be easily synthesized by a conventionally known method.

熱現像感光材料が含有する還元剤は、有機銀塩を還元して銀画像を形成するものである。本発明の還元剤と併用することができる還元剤としては、例えば米国特許3,770,448号、同3,773,512号、同3,593,863号、RD17029号及び29963号、特開平11−119372号、特開2002−62616号等に記載されている。   The reducing agent contained in the photothermographic material is for reducing the organic silver salt to form a silver image. Examples of the reducing agent that can be used in combination with the reducing agent of the present invention include US Pat. Nos. 3,770,448, 3,773,512, 3,593,863, RD17029 and 29963, 11-119372 and JP-A-2002-62616.

前記一般式(1)で表される化合物を初めとする還元剤の使用量は、好ましくは銀1モル当たり1×10-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モルである。 The amount of the reducing agent including the compound represented by the general formula (1) is preferably 1 × 10 −2 to 10 mol, particularly preferably 1 × 10 −2 to 1.5 mol, per mol of silver. It is.

また本発明で好ましく使用される熱現像感光材料には、前記した還元剤と併用する現像促進剤として特開2003−43614号に記載の一般式(1)〜(4)、特開2003−66559号に記載の一般式(1)〜(3)で表されるヒドラジン誘導体、フェノール誘導体、ナフトール誘導体が好ましく用いられる。   In the photothermographic material preferably used in the present invention, the general formulas (1) to (4) and JP-A-2003-66559 described in JP-A No. 2003-43614 are used as development accelerators used in combination with the reducing agent. Hydrazine derivatives, phenol derivatives and naphthol derivatives represented by the general formulas (1) to (3) described in No. 1 are preferably used.

(画像の色調)
次に、熱現像感光材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
(Image tone)
Next, the color tone of an image obtained by thermally developing a photothermographic material will be described.

従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとって、より的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを言う。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論が出来るように、以下、国際照明委員会(CIE)の推奨する表現法に基づき説明する。   Regarding the color tone of an output image for medical diagnosis such as a conventional X-ray photographic film, it is said that a cold tone image tone is easier for a reader to obtain a more accurate diagnosis observation result. Here, the cool image tone means a pure black tone or a bluish black tone of a black image. On the other hand, the warm image tone is said to be a warm black tone in which the black image is tinged with brown. However, in order to allow a more precise quantitative discussion, the International Lighting Commission (CIE) ), Based on the recommended expression.

色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0における色相角habにより表現できる。即ち、色相角habは、国際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL***色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 The terms “more cold” and “more warm” regarding the color tone can be expressed by the hue angle hab at the minimum density Dmin and the optical density D = 1.0. That is, the hue angle hab is expressed by the color coordinates a * and b * of the color space L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976. Using the following formula.

hab=tan-1(b*/a*
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明の熱現像感光材料の現像後の色調は、色相角habの範囲が180度<hab<270度であることが好ましく、更に好ましくは200度<hab<270度、最も好ましくは220度<hab<260度であることが判った。このことは、特開2002−6463号に開示されている。
hab = tan −1 (b * / a * )
As a result of the examination based on the expression method based on the hue angle, the color tone after development of the photothermographic material of the present invention is preferably such that the hue angle hab is in the range of 180 ° <hab <270 °, more preferably 200 °. It was found that <hab <270 degrees, most preferably 220 degrees <hab <260 degrees. This is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-6463.

尚、従来、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間におけるu*、v*又はa*、b*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば特開2000−29164号に記載されている。 Conventionally, the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space near the optical density of 1.0 is specified as u * , v * or a * , b * . It is known that a diagnostic image having a favorable color tone can be obtained by adjusting the numerical value, and is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-29164.

しかしながら、本発明の熱現像感光材料について更に鋭意検討の結果、CIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間において横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*又はa*、b*をプロットし、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見い出した。以下に好ましい条件範囲について述べる。 However, as a result of further intensive studies on the photothermographic material of the present invention, the horizontal axis is u * or a * , in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) color space. When plotting u * , v * or a * , b * at various photographic densities on a graph with the axis as v * or b * and creating a linear regression line, the linear regression line is specified. By adjusting the range, it was found that it has a diagnostic ability equal to or higher than that of conventional wet silver salt photosensitive materials. A preferable range of conditions is described below.

1.熱現像感光材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。 1. The CIE 1976 (L * u * v * ) color was measured by measuring the optical densities of 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density of the silver image obtained after heat development processing of the photothermographic material. The coefficient of determination (multiple determination) R 2 of the linear regression line created by arranging u * and v * at the respective optical densities on two-dimensional coordinates with the horizontal axis u * and the vertical axis v * is 0. It is preferable that it is .998 to 1.000.

更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のv*値が−5〜5であること、かつ傾き(v*/u*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the v * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (v * / u * ) is 0.7 to 2.5.

2.又、当該熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。 2. In addition, the optical density of the photothermographic material is measured at 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density, and the horizontal axis of the CIE 1976 (L * a * b * ) color space is plotted as a *. , vertical axis in the two-dimensional coordinates to b *, a * in the above each optical density, coefficient of determination of the linear regression line that created arranged b * (multiple determination) R 2 is at 0.998 to 1.000 Preferably there is.

更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のb*値が−5〜5であること、かつ傾き(b*/a*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the b * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (b * / a * ) is 0.7 to 2.5.

尚、次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ちCIE 1976色空間におけるu*、v*及びa*、b*の測定法の一例を説明する。 An example of a method for creating the above-described linear regression line, that is, a method for measuring u * , v *, a * , and b * in the CIE 1976 color space will be described next.

熱現像装置を用いて未露光部、及び光学濃度0.5、1.0、1.5を含む4段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計(ミノルタ社製:CM−3600d等)で測定し、u*、v*又はa*、b*を算出する。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10度として透過測定モードで測定を行う。横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に測定したu*、v*又はa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数(重決定)R2、切片及び傾きを求める。 A four-stage wedge sample including an unexposed portion and optical densities of 0.5, 1.0, and 1.5 is prepared using a heat development apparatus. Each wedge density part thus produced is measured with a spectrocolorimeter (Minolta Co., Ltd .: CM-3600d or the like), and u * , v * or a * , b * are calculated. The measurement conditions at that time are F7 light source as the light source, the viewing angle is 10 degrees, and measurement is performed in the transmission measurement mode. Plot u * , v * or a * , b * measured on a graph with u * or a * on the horizontal axis and v * or b * on the vertical axis to obtain a linear regression line, and the coefficient of determination (multiple determination) Find R 2 , intercept and slope.

次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。   Next, a specific method for obtaining a linear regression line having the above characteristics will be described.

本発明においては、下記の調色剤、現像剤、ハロゲン化銀粒子及び脂肪族カルボン酸銀等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化し好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。   In the present invention, the developed silver can be adjusted by adjusting the addition amount of a compound or the like directly or indirectly involved in the development reaction process of the following toning agent, developer, silver halide grains and aliphatic carboxylate. The shape can be optimized to obtain a preferable color tone. For example, when the developed silver shape is dendritic, it becomes a bluish direction, and when it is a filament shape, it becomes a yellowish direction. That is, it can be adjusted in consideration of the tendency of the developed silver shape.

従来、調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号、同4,021,249号等に開示されている。   Conventionally, phthalazinone or phthalazine and phthalic acids and phthalic anhydrides are generally used as toning agents. Examples of suitable toning agents are disclosed in RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, 4,021,249 and the like. .

本発明においては熱現像時に波長領域360nm以上700nm以下の範囲に色素像を形成する化合物を用いることが好ましい。設計の自由度や色調調整の観点からは熱現像前には無色であるロイコ染料やカプラーを用いることが好ましいが、着色した染料であって、熱現像時に極大吸収波長が変化して、イメージワイズに波長領域360nm以上700nm以下の範囲で色素像を形成される化合物を用いることもできる。   In the present invention, it is preferable to use a compound that forms a dye image in a wavelength range of 360 nm to 700 nm during heat development. From the viewpoint of freedom of design and color tone adjustment, it is preferable to use a colorless leuco dye or coupler before heat development, but it is a colored dye, and the maximum absorption wavelength changes during heat development. In addition, a compound capable of forming a dye image in a wavelength range of 360 nm to 700 nm can also be used.

以下に本発明で好ましく用いられるロイコ染料、カプラーについて説明する。   The leuco dye and coupler preferably used in the present invention will be described below.

(シアン発色性ロイコ染料)
本発明で好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料について説明する。ロイコ染料として好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、銀イオンにより酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
(Cyan coloring leuco dye)
The cyan color-forming leuco dye preferably used in the present invention will be described. The leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds, and is oxidized by silver ions. Any leuco dye that forms a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.

本発明において、特にシアン発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより600〜700nmの吸光度が増加する色像形成剤であり、特開昭59−206831号(特にλmaxが600〜700nmの範囲内にある化合物)、特開平5−204087号の一般式(I)〜一般式(IV)の化合物(具体的には段落「0032」〜「0037」に記載の(1)〜(18)の化合物)及び特開平11−231460号の一般式4〜一般式7の化合物(具体的には段落「0105」に記載されるNo.1〜No.79の化合物)である。   In the present invention, a color image forming agent that increases its absorbance at 600 to 700 nm when oxidized is particularly used as a cyan color-forming leuco dye. JP-A-59-206831 (in particular, λmax is 600 to 600). Compounds within the range of 700 nm), compounds of general formula (I) to general formula (IV) of JP-A-5-204087 (specifically, (1) to (1) described in paragraphs “0032” to “0037”) 18) and compounds of general formula 4 to general formula 7 of JP-A No. 11-231460 (specifically, compounds of No. 1 to No. 79 described in paragraph “0105”).

本発明において特に好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、下記一般式(CL)で表される。   A cyan color-forming leuco dye particularly preferably used in the present invention is represented by the following general formula (CL).

Figure 2005250451
Figure 2005250451

式中、R81、R82は水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、−NHCO−R10基(R10はアルキル基、アリール基、複素環基を表す。)であるか、またはR81、R82は互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環または複素環を形成する基である。A8は−NHCO−基、−CONH−基または−NHCONH−基を表し、R83は置換または無置換の、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。また、−A8−R83は水素原子であってもよい。W8は水素原子または−CONH−R85基、−CO−R85基または−CO−O−R85基(R85は置換または無置換のアルキル基、アリール基または複素環基を表す。)を表し、R84は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、カルバモイル基、またはニトリル基を表す。R86は−CONH−R87基、−CO−R87基または−CO−O−R87基(R87が置換または無置換の、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。)を表す。X8は、置換または無置換の、アリール基、複素環基を表す。 In the formula, R 81 and R 82 are a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, —NHCO—R 10 group (R 10 is an alkyl group, aryl group, heterocyclic group) Or R 81 and R 82 are groups which are linked to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring. A 8 represents a —NHCO— group, a —CONH— group or a —NHCONH— group, and R 83 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. In addition, —A 8 —R 83 may be a hydrogen atom. W 8 is a hydrogen atom or —CONH—R 85 group, —CO—R 85 group or —CO—O—R 85 group (R 85 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group). R 84 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, carbamoyl group, or nitrile group. R 86 represents a —CONH—R 87 group, a —CO—R 87 group or a —CO—O—R 87 group (R 87 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group). . X 8 represents a substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group.

一般式(CL)において、R81、R82で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、臭素原子、塩素原子等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数が20までのアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等)が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数20までのアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては炭素原子数20までのアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ等)が挙げられる。また、−NHCO−R10基におけるR10で表されるアルキル基としては、炭素原子数が20までのアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等)が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基のような炭素原子数6〜20の基が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。R83で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数20までのアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。W8で表される−CONH−R85基、−CO−R85基または−CO−O−R85基において、R85で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数20までのアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20までのアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。 In the general formula (CL), examples of the halogen atom represented by R 81 and R 82 include a fluorine atom, a bromine atom, and a chlorine atom, and the alkyl group includes an alkyl group having up to 20 carbon atoms (for example, Methyl group, ethyl group, butyl group, dodecyl group, etc.). Examples of the alkenyl group include alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (for example, vinyl group, allyl group, butenyl group, hexenyl group, hexadienyl group, ethenyl-2-ethyl group). A propenyl group, a 3-butenyl group, a 1-methyl-3-propenyl group, a 3-pentenyl group, a 1-methyl-3-butenyl group, and the like. As the alkoxy group, an alkoxy group having up to 20 carbon atoms (for example, methoxy) Group, ethoxy and the like). Examples of the alkyl group represented by R 10 in the —NHCO—R 10 group include alkyl groups having up to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a dodecyl group, etc.), and an aryl group. Examples thereof include a group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, and examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group. Alkyl group represented by R 83 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, butyl group, dodecyl group and the like, the aryl group preferably having 6 to 20 carbon atoms Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group. In the —CONH—R 85 group, —CO—R 85 group or —CO—O—R 85 group represented by W 8 , the alkyl group represented by R 85 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, and a dodecyl group. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group.

84で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられ、アルキル基としては鎖状若しくは環状のアルキル基、例えば、メチル基、ブチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数20までのアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、ブトキシ基、テトラデシルオキシ基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。またニトリル基も好ましい。これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。前記R83とR84は、互いに連結して環構造を形成してもよい。
上記の基はさらに単一の置換基または複数の置換基を有することができる。典型的な置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基等)、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)、アルキルスルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスルファモイル(例えば、フェニルスルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom represented by R 84 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group include a chain or cyclic alkyl group such as a methyl group, a butyl group, and dodecyl. Group, cyclohexyl group and the like. Examples of the alkenyl group include alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (for example, vinyl group, allyl group, butenyl group, hexenyl group, hexadienyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl, etc.), and alkoxy groups include, for example, methoxy group, butoxy group, tetradecyloxy group, etc., and carbamoyl Examples of the group include a diethylcarbamoyl group and a phenylcarbamoyl group. Nitrile groups are also preferred. Among these, a hydrogen atom and an alkyl group are more preferable. R 83 and R 84 may be connected to each other to form a ring structure.
The above groups can further have a single substituent or multiple substituents. Typical substituents include halogen atoms (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, dodecyl group), hydroxyl group, cyano group , Nitro group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.), alkylsulfonamide group (for example, methylsulfonamide group, octylsulfonamide group, etc.), arylsulfonamide group (for example, phenylsulfonamide group, naphthylsulfone) Amide group etc.), alkylsulfamoyl group (eg butylsulfamoyl group etc.), arylsulfamoyl (eg phenylsulfamoyl group etc.), alkyloxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group etc.), aryl Oxycarbonyl group (for example, phenyloxycarbonyl group, etc.) , Amino sulfonamido group, an acylamino group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfoxy group, a sulfo group, an aryloxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, and an amino carbonyl group.

10またはR85は好ましくはフェニル基であり、より好ましくは、ハロゲン原子およびシアノ基を置換基として複数有するフェニル基である。
86で表される−CONH−R87基、−CO−R87基または−CO−O−R87基において、R87で表されるアルキル基は、好ましく炭素原子数20までのアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基、チエニル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。
87で表される基が有することができる置換基としては一般式(CL)のR81〜R84の説明において挙げた置換基と同様のものが使用できる。
R 10 or R 85 is preferably a phenyl group, and more preferably a phenyl group having a plurality of halogen atoms and cyano groups as substituents.
-CONH-R 87 group represented by R 86, in -CO-R 87 group, or -CO-O-R 87 group, the alkyl group represented by R 87 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms Yes, for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a dodecyl group, and the like. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group, a naphthyl group, a thienyl group, and the like. Examples of the heterocyclic group include a thiophene group, a furan group, an imidazole group, a pyrazole group, and a pyrrole group.
As the substituent that the group represented by R 87 can have, the same substituents as those described in the description of R 81 to R 84 in formula (CL) can be used.

8で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、チエニル基のような炭素原子数6〜20のアリール基が挙げられ、複素環基としては、例えば、チオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by X 8 include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, and thienyl group. Examples of the heterocyclic group include thiophene group, furan group, and imidazole. Group, pyrazole group, pyrrole group and the like.

8で表される基が有することができる置換基としては一般式(CL)のR81〜R84の説明において挙げた置換基と同様のものを挙げることができる。
8で表される基としてはパラ位にアルキルアミノ基(ジエチルアミノ基等)を有するアリール基または複素環基が好ましい。
Examples of the substituent that the group represented by X 8 can have include the same substituents as those described in the description of R 81 to R 84 in formula (CL).
The group represented by X 8 is preferably an aryl group or heterocyclic group having an alkylamino group (such as a diethylamino group) at the para position.

これらの基は写真的に有用な基を含んでもよい。   These groups may include photographically useful groups.

以下にシアン発色性ロイコ染料(CL)の具体例を示すが、本発明で用いられるシアン発色性ロイコ染料はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the cyan coloring leuco dye (CL) are shown below, but the cyan coloring leuco dye used in the present invention is not limited thereto.

Figure 2005250451
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Figure 2005250451
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Figure 2005250451
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シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常0.00001〜0.05モル/Ag1モルであり、好ましくは0.0005〜0.02モル/Ag1モル、より好ましくは0.001〜0.01モル/Ag1モルである。シアン発色性ロイコ染料の一般式(1)、一般式(2)で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。本発明では、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましく、より好ましくは0.02以上0.30以下、特に好ましくは0.03以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。   The addition amount of the cyan coloring leuco dye is usually 0.00001 to 0.05 mol / Ag1 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol / Ag1 mol, more preferably 0.001 to 0.01 mol. / Ag1 mol. The addition ratio of the cyan color-forming leuco dye to the total sum of the reducing agents represented by the general formulas (1) and (2) is preferably 0.001 to 0.2 in terms of molar ratio. More preferably, it is -0.1. In the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of the dye image formed with the cyan leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less, more preferably 0.02 or more and 0.30 or less, particularly preferably. Is preferably colored so as to have 0.03 or more and 0.10 or less.

本発明においては上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料または黄色発色性ロイコ染料を併用することでさらに微妙な色調の調整を可能とすることができる。   In the present invention, a subtle color tone can be adjusted by using a magenta chromogenic leuco dye or a yellow chromogenic leuco dye in addition to the cyan chromogenic leuco dye.

(黄色発色性ロイコ染料)
本発明においては上記したシアン発色性ロイコ染料やマゼンタ発色性ロイコ染料に加えて色調の微妙な調整を目的に黄色発色性ロイコ染料を用いることができる。黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより360〜480nmの吸光度が増加する色像形成剤であり、一般式(YA)で表される化合物または一般式(YL)で表される化合物が好ましく、特に一般式(YA)で表される色像形成剤であることが好ましい。
(Yellow coloring leuco dye)
In the present invention, in addition to the above-described cyan color developing leuco dye and magenta color forming leuco dye, a yellow color forming leuco dye can be used for the purpose of finely adjusting the color tone. A color image forming agent whose absorbance at 360 to 480 nm increases when oxidized is preferably used as the yellow color-forming leuco dye, and is represented by the compound represented by the general formula (YA) or the general formula (YL). In particular, a color image forming agent represented by the general formula (YA) is preferable.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

式中、R11は置換又は無置換のアルキル基を表し、R12は水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R14はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。 In the formula, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, respectively, and R 11 and R 12 are 2-hydroxyphenylmethyl groups. There is never. R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14 represents a substituent that can be substituted on the benzene ring.

以下、一般式(YA)の化合物について詳細に説明する。   Hereinafter, the compound of the general formula (YA) will be described in detail.

一般式(YA)におけるアルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。   As an alkyl group in general formula (YA), a C1-C30 alkyl group is preferable and may have a substituent.

具体的にはメチル、エチル、ブチル、オクチル、i−プロピル、t−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、i−プロピルよりも立体的に大きな基(i−プロピル、i−ノニル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等)であることが好ましく、その中でも2級又は3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるt−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル等が特に好ましい。R11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。 Specifically, methyl, ethyl, butyl, octyl, i-propyl, t-butyl, t-octyl, t-pentyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl and the like are preferable, and steric rather than i-propyl. Are preferably large groups (i-propyl, i-nonyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl, adamantyl, etc.), among which secondary or tertiary alkyl Group is preferable, and tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-octyl, and t-pentyl are particularly preferable. Examples of the substituent that R 11 may have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , Sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like.

12は水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表す。R12で表されるアルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記R11と同様である。 R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, respectively. The alkyl group represented by R 12 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the acylamino group is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, the description of the alkyl group is the same as R 11 described above.

12で表されるアシルアミノ基は、無置換でも置換基を有してもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。R12として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチルが挙げられる。又、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。 The acylamino group represented by R 12 may be unsubstituted or substituted, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R 12 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, and t-butyl. R 11 and R 12 are not 2-hydroxyphenylmethyl groups.

13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記R11と同様である。R13として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル等が挙げられる。又、R12、R13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。 R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as that for R 11 . R 13 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, t-butyl and the like. Further, it is preferable either R 12, R 13 is a hydrogen atom.

14はベンゼン環に置換可能な基を表し、例えば具体的には、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、i−ペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、デシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロヘプチル等)、アルケニル基(エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、シクロアルケニル基(1−シクロアルケニル、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(エチニル、1−プロピニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ等)、アルキルカルボニルオキシ基(アセチルオキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(アセチルアミノ等)、ウレイド基(メチルアミノカルボニルアミノ等)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−モルホリノカルボニル等)、スルファモイル基(スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等)、アルキルアミノ基(アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ等)、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等)、アルキニルアミノカルボニル基(アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等)等が挙げられる。R14として好ましいのは、置換又は無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。 R 14 represents a group capable of substituting on the benzene ring. For example, specific examples include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, i-pentyl, 2-ethylhexyl). , Octyl, decyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl groups (ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl) Etc.), cycloalkenyl groups (1-cycloalkenyl, 2-cycloalkenyl groups, etc.), alkynyl groups (ethynyl, 1-propynyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), alkylcarbonyloxy groups (acetyloxy, etc.) ), Alkylthio group (methylthio, trifluoromethylthio, etc.), carboxyl , Alkylcarbonylamino groups (such as acetylamino), ureido groups (such as methylaminocarbonylamino), alkylsulfonylamino groups (such as methanesulfonylamino), alkylsulfonyl groups (such as methanesulfonyl and trifluoromethanesulfonyl), carbamoyl groups (carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-morpholinocarbonyl, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, morpholinosulfamoyl etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkyl Sulfonamide groups (methanesulfonamide, butanesulfonamide, etc.), alkylamino groups (amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, etc.), sulfo groups, phosphono groups, sulfite groups, sulfo groups Inino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (acetamidosulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl, etc.), alkynylaminocarbonyl group (acetamidocarbonyl, methoxyacetamidocarbonyl, etc.) And alkylsulfinylaminocarbonyl groups (methanesulfinylaminocarbonyl, ethanesulfinylaminocarbonyl, etc.) and the like. R 14 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group, and more preferable examples include an aryl group, an amino group, an oxycarbonyl group, and an alkoxy group. preferable. These alkyl group substituents may be further substituted with these substituents.

次に、一般式(YA)で表される化合物の中でも、特に本発明で好ましく用いられる、下記一般式(YB)で表されるビスフェノール化合物について説明する。   Next, among the compounds represented by the general formula (YA), a bisphenol compound represented by the following general formula (YB), which is particularly preferably used in the present invention, will be described.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

式中、Zは−S−又は−C(R21)(R21′)−を表し、R21、R21′は各々、水素原子又は置換基を表す。R21、R21′の表す置換基としては、例えば一般式(YA)のR14における置換基が挙げられる。R21、R21′として好ましくは、水素原子又はアルキル基である。 In the formula, Z represents —S— or —C (R 21 ) (R 21 ′) —, and R 21 and R 21 ′ each represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 21 and R 21 ′ include the substituent in R 14 of the general formula (YA). R 21 and R 21 ′ are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

22、R23、R22′及びR23′は、各々置換基を表すが、置換基としてはR21、R21′の表す置換基と同様な基が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ each represent a substituent, and examples of the substituent include the same groups as the substituents represented by R 21 and R 21 ′.

22、R23、R22′及びR23′として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、R21、R21′の表す置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, with an alkyl group being more preferred. Examples of the substituent on the alkyl group include the same groups as those described in the description of the substituents represented by R 21 and R 21 ′.

22、R23、R22′及びR23′として更に好ましくは、t−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、1−メチル−シクロヘキシル等の3級アルキル基である。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are more preferably tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-pentyl, t-octyl and 1-methyl-cyclohexyl.

24及びR24′は各々、水素原子又は置換基を表すが、置換基としては、R21、R21′の表す置換基と同様な基が挙げられる。 R 24 and R 24 ′ each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same groups as the substituents represented by R 21 and R 21 ′.

一般式(YA)及び(YB)で表される化合物としては、例えば特開2002−169249号の段落「0032」〜「0038」記載の化合物(II−1)〜(II−40)、EP1,211,093号の段落「0026」記載の化合物(ITS−1)〜(ITS−12)を挙げることができる。   Examples of the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0032” to “0038” of JP-A No. 2002-169249, EP1, And compounds (ITS-1) to (ITS-12) described in paragraph “0026” of No. 211,093.

以下に、一般式(YA)及び(YB)で表されるビスフェノール化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the bisphenol compound represented by general formula (YA) and (YB) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Figure 2005250451
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一般式(YA)の化合物(ヒンダードフェノール化合物、一般式(YB)の化合物も含まれる)の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.01モルであり、好ましくは0.0005〜0.01モル、より好ましくは0.001〜0.008モルである。また一般式(YA)の化合物(ヒンダードフェノール化合物、一般式(YB)の化合物も含まれる)の一般式(1)、一般式(2)で表される還元剤の総和に対する添加量比はモル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。   The addition amount of the compound of the general formula (YA) (including hindered phenol compounds and compounds of the general formula (YB)) is usually 0.00001 to 0.01 mol, preferably 0. 0005 to 0.01 mol, more preferably 0.001 to 0.008 mol. In addition, the ratio of the amount of the compound of the general formula (YA) (including the hindered phenol compound and the compound of the general formula (YB)) to the sum of the reducing agents represented by the general formula (1) and the general formula (2) is The molar ratio is preferably 0.001 to 0.2, and more preferably 0.005 to 0.1.

本発明では、黄色発色性ロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましく、より好ましくは0.01以上0.30以下、特に好ましくは0.02以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。   In the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a yellow color-forming leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less, more preferably 0.01 or more and 0.30 or less. In particular, it is preferable to make the color develop so as to have 0.02 to 0.10.

前述した黄色発色性ロイコ染料に加えて本発明で使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えばビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。又、有用なものは、米国特許3,445,234号、同3,846,136号、同3,994,732号、同4,021,249号、同4,021,250号、同4,022,617号、同4,123,282号、同4,368,247号、同4,461,681号、及び特開昭50−36110号、同59−206831号、特開平5−204087号、同11−231460号、特開2002−169249号、同2002−236334号等に開示されているロイコ染料である。   Representative leuco dyes suitable for use in the present invention in addition to the yellow color-forming leuco dyes described above are not particularly limited. Examples include sazine leuco dyes, phenodiazine leuco dyes, and phenothiazine leuco dyes. Also useful are U.S. Pat. Nos. 3,445,234, 3,846,136, 3,994,732, 4,021,249, 4,021,250, 4 No. 4,022,617, No. 4,123,282, No. 4,368,247, No. 4,461,681, and JP-A-50-36110, No. 59-206931, JP-A-5-204087. No. 11-231460, JP-A Nos. 2002-169249, 2002-236334, and the like.

本発明においては高活性な還元剤を使用することに伴って、その使用量は使用比率によって色調(特に黄色味)が変化したり、微粒子のハロゲン化銀を用いることにより特に濃度が2.0以上の高濃度部で画像が過度に赤みをおびることを防止するために、前述した黄色発色性ロイコ染料に加えて、シアン発色性ロイコ染料を併用し、その使用量や使用比率を調整するのが好ましい。   In the present invention, with the use of a highly active reducing agent, the amount used varies in color tone (especially yellowishness) depending on the use ratio, or the concentration is particularly 2.0 by using fine grain silver halide. In order to prevent the image from becoming excessively reddish in the above high density area, in addition to the yellow color-forming leuco dye described above, a cyan color-forming leuco dye is used in combination, and the amount and ratio of use are adjusted. Is preferred.

(バインダー)
熱現像感光材料に好適なバインダーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、特開2001−330918号の段落「0069」に記載のものが挙げられる。これらの内、本発明の熱現像感光材料の感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールである。これらについては詳しく後述する。
(binder)
A binder suitable for the photothermographic material is transparent or translucent and generally colorless, and is a natural polymer synthetic resin, polymer and copolymer, or other medium for forming a film, for example, paragraph “0069” of JP-A No. 2001-330918. The thing of description is mentioned. Among these, preferred binders for the photosensitive layer of the photothermographic material of the invention are polyvinyl acetals, and particularly preferred is polyvinyl butyral. These will be described in detail later.

又、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。尚、必要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用い得る。   For non-photosensitive layers such as overcoat layers and undercoat layers, especially protective layers and backcoat layers, cellulose esters which are polymers with higher softening temperatures, especially polymers such as triacetyl cellulose and cellulose acetate butyrate preferable. In addition, as needed, said binder can be used in combination of 2 or more type.

バインダーには−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、−N(R)2、−N+(R)3(Mは水素原子、又はアルカリ金属塩基、Rは炭化水素基を表す)、エポキシ基、−SH、−CN等から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したものを用いることが好ましく、特に−SO3M、−OSO3M、が好ましい。この様な極性基の量は、1×10-1〜1×10-8モル/gであり、好ましくは1×10-2〜1×10-6モル/gである。 The binder includes —COOM, —SO 3 M, —OSO 3 M, —P═O (OM) 2 , —O—P═O (OM) 2 , —N (R) 2 , —N + (R) 3. (M represents a hydrogen atom or an alkali metal base, R represents a hydrocarbon group), a group in which at least one polar group selected from an epoxy group, —SH, —CN and the like is introduced by copolymerization or addition reaction It is preferable to use, and —SO 3 M and —OSO 3 M are particularly preferable. The amount of such a polar group is 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 mol / g, preferably 1 × 10 −2 to 1 × 10 −6 mol / g.

この様なバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、画像形成層において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2(質量比)が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、画像形成層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましく、更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 Such a binder is used in an effective range to function as a binder. The effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least the organic silver salt in the image forming layer, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2 (mass ratio), and particularly 8: 1 to 1: 1. The range of is preferable. That is, it is preferable that the binder amount of the image forming layer is 1.5~6g / m 2, more preferably from 1.7~5g / m 2. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.

本発明で用いるバインダーのガラス転移温度(Tg)は、70〜105℃であることが好ましい。Tgは示差走査熱量計で測定して求めることができ、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をTgとする。本発明におけるTgは、ブランドラップ等による「重合体ハンドブック」III−139〜179頁(1966年,ワイリーアンドサン社版)に記載の方法で求めたものである。   The glass transition temperature (Tg) of the binder used in the present invention is preferably 70 to 105 ° C. Tg can be obtained by measuring with a differential scanning calorimeter, and the intersection of the baseline and the endothermic peak slope is defined as Tg. Tg in the present invention is determined by the method described in “Polymer Handbook” III-139-179 (1966, Wiley and Sun, Inc.) by Brand Wrap et al.

バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。   Tg when the binder is a copolymer resin is obtained by the following formula.

Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。上式に従って計算されたTgの精度は±5℃である。
Tg (copolymer) (° C.) = V 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 +... + V n Tg n
Wherein, v 1, v 2 ··· v n represents the mass fraction of the monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ··· Tg n from each monomer in the copolymer Tg (° C.) of the obtained single polymer is represented. The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.

Tgが70〜105℃のバインダーを用いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることができ好ましい。   Use of a binder having a Tg of 70 to 105 ° C. is preferable because a sufficient maximum density can be obtained in image formation.

本発明のバインダーとしては、Tgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。又、エチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体又は共重合体については、特開2001−330918号の段落番号「0069」に記載のものが挙げられる。   The binder of the present invention has a Tg of 70 to 105 ° C., a number average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and a degree of polymerization of about 50 to 1,000. It is. Examples of the polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer as a constituent unit include those described in paragraph No. “0069” of JP-A No. 2001-330918.

これらの内、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば米国特許2,358,836号、同3,003,879号、同2,828,204号、英国特許771,155号等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。   Of these, particularly preferred examples include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, and styrenes. Among such polymer compounds, a polymer compound having an acetal group is preferably used. Even a polymer compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure, for example, U.S. Pat. Nos. 2,358,836, 3,003,879, 2,828,204, UK The polyvinyl acetal shown by patent 771,155 etc. can be mentioned.

アセタール基を持つ高分子化合物としては、特開2002−287299号公報の「150」に記載の一般式(V)で表される化合物が、特に好ましい。   As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the general formula (V) described in “150” of JP-A No. 2002-287299 is particularly preferable.

本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン等公知のものが使用できる。又、ポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のヒドロキシル基を有することが好ましい。ヒドロキシル基は、硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、ヒドロキシル基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にヒドロキシル基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は、Tgが70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, known resins such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. Moreover, it is preferable to have a total of 2 or more hydroxyl groups, at least one at each polyurethane molecule end. Since hydroxyl groups are cross-linked with polyisocyanate which is a curing agent to form a three-dimensional network structure, it is more preferable that the hydroxyl groups are contained in the molecule. In particular, it is preferable that the hydroxyl group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more hydroxyl groups at the molecular terminals, and particularly preferably 4 or more. In the present invention, when polyurethane is used, Tg is preferably 70 to 105 ° C., elongation at break is 100 to 2000%, and stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .

これらの高分子化合物(ポリマー)は単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。   These polymer compounds (polymers) may be used alone or in a blend of two or more.

本発明の画像形成層には上記ポリマーを主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、「画像形成層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」をいう。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明に好ましく用いられるポリマーが可溶となる溶媒であれば特に制限はない。より好ましくは、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。   In the image forming layer of the present invention, the above polymer is preferably used as a main binder. The main binder here refers to “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder in the image forming layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as the polymers preferably used in the present invention are soluble. More preferably, a polyvinyl acetate, a polyacryl resin, a urethane resin, etc. are mentioned.

画像形成層に有機性ゲル化剤を含有せしめてもよい。尚、ここで言う有機性ゲル化剤とは、例えば多価アルコール類のように、有機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する化合物を言う。   An organic gelling agent may be contained in the image forming layer. The organic gelling agent referred to here has a function of giving a yield value to the system by adding to an organic liquid, such as polyhydric alcohols, and eliminating or reducing the fluidity of the system. The compound which has.

画像形成層用塗布液が水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ましい態様である。この場合、画像形成層用塗布液中の全バインダーの50質量%以上が水性分散されたポリマーラテックスであることが好ましい。又、画像形成層がポリマーラテックスを含有する場合、画像形成層中の全バインダーの50質量%以上がポリマーラテックスであることが好ましく、更に好ましくは70質量%以上である。   It is also a preferred embodiment that the image forming layer coating solution contains an aqueous dispersed polymer latex. In this case, a polymer latex in which 50% by mass or more of the total binder in the coating solution for the image forming layer is dispersed in water is preferable. When the image forming layer contains a polymer latex, 50% by mass or more of the total binder in the image forming layer is preferably polymer latex, and more preferably 70% by mass or more.

ポリマーラテックスとは、水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち、分子鎖自身が分子状分散したもの等、何れでもよい。分散粒子の平均粒径は1〜50,000nmが好ましく、より好ましくは5〜1,000nm程度の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも、単分散の粒径分布を持つものでもよい。   The polymer latex is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As the dispersion state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, the emulsion is polymerized, the micelle is dispersed, or the polymer molecule has a partially hydrophilic structure, and the molecular chain itself is molecularly dispersed. Any of these may be used. The average particle diameter of the dispersed particles is preferably 1 to 50,000 nm, more preferably in the range of about 5 to 1,000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

本発明に好ましく用いられるポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、所謂コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェルはTgを変えると好ましい場合がある。本発明に係るポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は、−30〜90℃であることが好ましく、更に好ましくは0〜70℃程度である。又、最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。   The polymer latex preferably used in the present invention may be a so-called core / shell type latex other than a normal polymer latex having a uniform structure. In this case, it may be preferable to change the Tg of the core and the shell. The minimum film-forming temperature (MFT) of the polymer latex according to the present invention is preferably -30 to 90 ° C, more preferably about 0 to 70 ° C. In addition, a film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature.

上記造膜助剤は可塑剤とも呼ばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常、有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの化学(室井宗一著,高分子刊行会発行,1970)」に記載されている。   The film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of polymer latex. For example, “Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Co., Ltd.) , 1970).

ポリマーラテックスに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、又はこれらの共重合体等がある。ポリマーとしては、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、又、架橋されたポリマーでもよい。又、ポリマーとしては、単一のモノマーが重合した所謂ホモポリマーでもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合は、ランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は、数平均分子量で、通常、5,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜100,000程度である。分子量が小さすぎるものは感光層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪く、共に好ましくない。   Examples of the polymer species used for the polymer latex include acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, and copolymers thereof. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is a number average molecular weight and is usually about 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the photosensitive layer is insufficient.

ポリマーラテックスは、25℃・60%RH(相対湿度)での平衡含水率が0.01〜2質量%以下のものが好ましく、更に好ましくは、0.01〜1質量%のものである。平衡含水率の定義と測定法については、例えば「高分子工学講座14,高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)」等を参考にすることができる。   The polymer latex preferably has an equilibrium water content of 0.01 to 2% by mass or less, more preferably 0.01 to 1% by mass at 25 ° C. and 60% RH (relative humidity). For the definition and measurement method of the equilibrium moisture content, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan)” can be referred to.

ポリマーラテックスの具体例としては、特開2002−287299号公報の「0173」に記載の各ラテックスが挙げられる。これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレート又はメタクリレート成分の如きカルボン酸成分を0.1〜10質量%程度含有するものが好ましい。   Specific examples of the polymer latex include latexes described in “0173” of JP-A No. 2002-287299. These polymers may be used alone or in combination of two or more as required. As a polymer seed | species of a polymer latex, what contains about 0.1-10 mass% of carboxylic acid components, such as an acrylate or a methacrylate component, is preferable.

更に、必要に応じて全バインダーの50質量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は前記感光層の全バインダーの30質量%以下が好ましい。   Furthermore, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose or the like may be added within a range of 50% by mass or less of the total binder. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less based on the total binder of the photosensitive layer.

画像形成層用塗布液の調製において、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスの添加の順序については、何れを先に添加してもよいし、同時に添加してもよいが、好ましくはポリマーラテックスが後である。   In the preparation of the coating solution for the image forming layer, the order of the addition of the organic silver salt and the aqueous-dispersed polymer latex may be added first or at the same time, but preferably the polymer latex There will be later.

更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。又、有機銀塩とポリマーラテックスを混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が損なわれ、高すぎるとカブリが上昇する問題があるので、混合後の塗布液は30〜65℃で上記時間経時されることが好ましい。更には、35〜60℃で経時されることが好ましく、特に35〜55℃での経時が好ましい。この様に温度を維持するには、塗布液の調液槽等を保温すればよい。   Furthermore, it is preferable that an organic silver salt and further a reducing agent are mixed before adding the polymer latex. In addition, after mixing the organic silver salt and the polymer latex, if the temperature to be aged is too low, the coated surface shape is impaired, and if it is too high, there is a problem that fog increases, so the coating solution after mixing is 30 to 65 ° C. It is preferable that the above time is elapsed. Furthermore, it is preferable to be aged at 35 to 60 ° C, and a time at 35 to 55 ° C is particularly preferable. In order to maintain the temperature in this way, it is sufficient to keep the temperature of the coating solution preparation tank or the like.

画像形成層用塗布液の塗布は、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合した後、30分〜24時間経過した塗布液を用いるのが好ましく、更に好ましくは、混合した後、60分〜12時間経過させることであり、特に好ましくは、120分〜10時間経過した塗布液を用いることである。   For coating of the image forming layer coating solution, it is preferable to use a coating solution that has been mixed for 30 minutes to 24 hours after mixing the organic silver salt and the aqueous dispersed polymer latex, and more preferably, 60 minutes after mixing. It is to make -12 hours pass, and it is especially preferable to use the coating liquid which passed 120 minutes-10 hours.

ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材が均一に分散された後を言う。   Here, “after mixing” means after the organic silver salt and the aqueous polymer latex are added and the additive material is uniformly dispersed.

架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。   By using a crosslinking agent for the binder, it is known that filming is improved and development unevenness is reduced, but there is also an effect of suppressing fogging during storage and suppressing generation of printout silver after development. is there.

用いられる架橋剤としては、従来、写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば特開昭50−96216号に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは、以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物又は酸無水物である。   Examples of the crosslinking agent to be used include various crosslinking agents conventionally used for photographic light-sensitive materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based, ethyleneimine-based, vinylsulfone-based, sulfone described in JP-A-50-96216. Acid ester-based, acryloyl-based, carbodiimide-based, and silane compound-based crosslinking agents are used, and the following isocyanate-based, silane compound-based, epoxy-based compounds, and acid anhydrides are preferable.

イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価又は3価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特開昭56−5535号の10〜12頁に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。   Isocyanate-based crosslinking agents are isocyanates having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts). More specifically, aliphatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates having a cyclic group, benzene Diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and divalent or trivalent polyalcohols with these isocyanates Adducts and the like. As specific examples, isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.

尚、イソシアネートとポリアルコールの付加体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは、熱現像感光材料のどの部分に置かれてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。   In addition, the adduct of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent layer peeling, image shift and bubble generation. Such isocyanate may be placed in any part of the photothermographic material. For example, in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition) photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to any layer and can be added to one or more of these layers.

又、本発明に使用可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。   As the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above-mentioned isocyanates are also useful.

上記架橋剤の使用量は、銀1モルに対して、通常、0.001〜2モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲である。   The amount of the crosslinking agent used is usually in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of silver.

本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を1個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。   The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but a good result can be obtained even if the compound has only one functional group.

シラン化合物の例としては、特開2001−264930号に開示されている一般式(1)〜一般式(3)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the silane compound include compounds represented by general formulas (1) to (3) disclosed in JP-A No. 2001-264930.

又、架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。又、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れであってもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2,000〜20,000程度である。   Moreover, as an epoxy compound which can be used as a crosslinking agent, what is necessary is just to have one or more epoxy groups, and there is no restriction | limiting in the number of epoxy groups, molecular weight, and others. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc., and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be either a homopolymer or a copolymer, and the number average molecular weight Mn is particularly preferably in the range of about 2,000 to 20,000.

本発明に用いられる酸無水物は、下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。この様な酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない。   The acid anhydride used in the present invention is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula. The number of acid anhydride groups, molecular weight, and the like are not particularly limited as long as they have one or more acid anhydride groups.

−CO−O−CO−
上記のエポキシ化合物や酸無水物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。このエポキシ化合物や酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。
-CO-O-CO-
Said epoxy compound and acid anhydride may use only 1 type, or may use 2 or more types together. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is. This epoxy compound or acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as the photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc., and one of these layers Or it can add to two or more layers.

(省銀化剤)
本発明では、省銀化剤を使用することにより、本発明の効果をさらに高めることができる。本発明において使用される省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。この低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。
省銀化剤としては、ヒドラジン誘導体化合物、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、4級オニウム化合物及びシラン化合物が好ましい例として挙げられる。
(Silver saving agent)
In the present invention, the effect of the present invention can be further enhanced by using a silver saving agent. The silver saving agent used in the present invention refers to a compound that can reduce the amount of silver necessary to obtain a certain silver image density. Various action mechanisms of the function of decreasing can be considered, but a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferable. Here, the covering power of developed silver refers to the optical density per unit amount of silver.
Preferred examples of the silver saving agent include hydrazine derivative compounds, vinyl compounds, phenol derivatives, naphthol derivatives, quaternary onium compounds, and silane compounds.

ヒドラジン誘導体の具体例としては、米国特許第5,545,505号明細書カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許第5,464,738号明細書カラム9〜11に記載の化合物1〜12、特開2001−27790号公報の段落「0042」〜「0052」に記載の化合物H−1−1〜H−1−28、H−2−1〜H−2−9、H−3−1〜H−3−12、H−4−1〜H−4−21、H−5−1〜H−5−5が挙げられる。   Specific examples of the hydrazine derivative include compounds H-1 to H-29 described in US Pat. No. 5,545,505, columns 11 to 20, US Pat. No. 5,464,738, columns 9 to 11. 1 to 12 described in JP-A-2001-27790, compounds H-1-1 to H-1-28 described in paragraphs “0042” to “0052”, and H-2-1 to H-2- 9, H-3-1 to H-3-12, H-4-1 to H-4-21, H-5-1 to H-5-5.

ビニル化合物の具体例としては、米国特許第5,545,515号明細書のカラム13〜14に記載の化合物CN−01〜CN−13、米国特許第5,635,339号明細書のカラム10に記載の化合物HET−01〜HET−02、米国特許第5,654,130号明細書のカラム9〜10に記載の化合物MA−01〜MA−07の化合物、米国特許第5,705,324号明細書のカラム9〜10に記載の化合物IS−01〜IS−04、特開2001−125224号公報の段落「0043」〜「0088」記載の化合物1−1〜218−2が挙げられる。   Specific examples of the vinyl compound include compounds CN-01 to CN-13 described in columns 13 to 14 of US Pat. No. 5,545,515 and column 10 of US Pat. No. 5,635,339. Compounds HET-01 to HET-02 described in US Pat. No. 5,654,130, columns MA-10 to compounds MA-01 to MA-07, US Pat. No. 5,705,324 Compounds IS-01 to IS-04 described in columns 9 to 10 of the specification, and compounds 1-1 to 218-2 described in paragraphs “0043” to “0088” of JP-A-2001-125224.

フェノール誘導体、ナフトール誘導体の具体例としては、特開2000−267222号公報の段落「0075」〜「0078」の記載の化合物A−1〜A−89、特開2003−66558号公報の段落「0025」〜「0045」に記載の化合物A−1〜A−258が挙げられる。   Specific examples of the phenol derivative and the naphthol derivative include compounds A-1 to A-89 described in paragraphs “0075” to “0078” of JP 2000-267222 A, and paragraph “0025” of JP 2003-66558 A. ”To“ 0045 ”. Examples thereof include compounds A-1 to A-258.

4級オニウム化合物の具体例としては、トリフェニルテトラゾリウムが挙げられる。   Specific examples of the quaternary onium compound include triphenyltetrazolium.

シラン化合物の具体例としては、特開2003−5324号公報の段落「0027」〜「0029」記載の化合物A1〜A33に示されるような一級または二級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物或いはその塩が挙げられる。   Specific examples of the silane compound include alkoxysilane compounds having two or more primary or secondary amino groups as shown in compounds A1 to A33 described in paragraphs “0027” to “0029” of JP-A No. 2003-5324 or The salt is mentioned.

上記省銀化剤の添加量は有機銀塩1モルに対し1×10-5〜1モル、好ましくは1×10-4〜5×10-1モルの範囲である。 The amount of the silver saving agent added is in the range of 1 × 10 −5 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −1 mol, per mol of the organic silver salt.

(カブリ防止及び画像安定化剤)
本発明の熱現像感光材料に用いられるカブリ防止及び画像安定化剤について説明する。
(Anti-fogging and image stabilizer)
The antifogging and image stabilizer used in the photothermographic material of the present invention will be described.

還元剤としては、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を引き抜くことができる活性種を発生することにより還元剤を不活性化できる化合物が含有されていることが好ましい。好適には、無色の光酸化性物質として、露光時にフリーラジカルを反応活性種として生成可能な化合物が好ましい。   Since reducing agents with protons such as bisphenols and sulfonamidophenols are mainly used as reducing agents, these reducing agents are deactivated by generating active species that can extract hydrogen. It is preferable that the compound which can be converted is contained. Preferably, the colorless photo-oxidizing substance is preferably a compound capable of generating free radicals as reactive active species during exposure.

従ってこれらの機能を有する化合物であればいかなる化合物でもよいが、複数の原子からなる有機フリーラジカルが好ましい。かかる機能を有し、且つ熱現像感光材料に格別の弊害を生じることのない化合物であればいかなる構造を持った化合物でもよい。   Accordingly, any compound having these functions may be used, but an organic free radical composed of a plurality of atoms is preferred. A compound having any structure may be used as long as it has such a function and does not cause any particular adverse effect on the photothermographic material.

また、これらのフリーラジカルを発生する化合物としては、発生するフリーラジカルに、これが還元剤と反応し不活性化するに十分な時間接触できる位の安定性を持たせるために炭素環式、または複素環式の芳香族基を有するものが好ましい。これらの化合物の代表的なものとしてビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を挙げることができる。   In addition, as a compound that generates these free radicals, the generated free radicals are carbocyclic or complex in order to have a stability that allows contact with the reducing agent for a time sufficient to react with the reducing agent and inactivate it. Those having a cyclic aromatic group are preferred. Representative examples of these compounds include biimidazolyl compounds and iodonium compounds.

上記のビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物の添加量は0.001〜0.1モル/m2、好ましくは0.005〜0.05モル/m2の範囲である。尚、当該化合物は、本発明の感光材料において、いかなる構成層中にも含有させることができるが、還元剤の近傍に含有させることが好ましい。 The amount of the biimidazolyl compound and iodonium compound added is in the range of 0.001 to 0.1 mol / m 2 , preferably 0.005 to 0.05 mol / m 2 . The compound can be contained in any constituent layer in the light-sensitive material of the present invention, but is preferably contained in the vicinity of the reducing agent.

また、カブリ防止及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開2002−287299号公報の「0264」〜「0271」に記載の一般式(9)の化合物が挙げられる。   Many compounds capable of releasing halogen atoms as active species are known as antifogging and image stabilizers. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include compounds represented by general formula (9) described in “0264” to “0271” of JP-A-2002-287299.

これらの化合物の添加量は、実質的にハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が問題にならない範囲が好ましく、活性ハロゲンラジカルを生成しない化合物に対する比率で、最大150%以下、更に好ましくは100%以下であることが好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開2002−169249号公報の段落「0086」〜「0087」に記載されている化合物(III−1)〜(III−23)、特開2003−50441号公報の段落「0031」〜「0034」記載の化合物1−1a〜1−1o、1−2a〜1−2o、段落「0050」〜「0056」記載の化合物2a〜2z、2aa〜2ll、2−1a〜2−1f、特開2003−91054号公報の段落「0055」〜「0058」記載の化合物4−1〜4−32、段落「0069」〜「0072」記載の化合物5−1〜5−10を挙げることができる。   The amount of these compounds added is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide is not a problem, and is a maximum of 150% or less, more preferably 100% in terms of the ratio to the compound that does not generate active halogen radicals. % Or less is preferable. Specific examples of compounds that generate these active halogen atoms include compounds (III-1) to (III-23) described in paragraphs “0086” to “0087” of JP-A No. 2002-169249, Compounds 1-1a to 1-1o and 1-2a to 1-2o described in paragraphs “0031” to “0034” of JP-A-2003-50441, and compounds 2a to 2z and 2aa described in paragraphs “0050” to “0056” To 2ll, 2-1a to 2-1f, compounds 4-1 to 4-32 described in paragraphs “0055” to “0058” of JP-A No. 2003-91054, and compounds 5 described in paragraphs “0069” to “0072” -1 to 5-10.

次に本発明において好ましく使用される上記以外のカブリ防止剤について説明する。本発明で好ましく使用されるカブリ防止剤としては、例えば、特開平8−314059号公報の段落「0012」に記載の化合物例a〜j、特開平7−209797号公報の段落「0028」に記載のチオスルホネートエステルA〜K、特開昭55−140833号公報のp14から記載の化合物例(1)〜(44)、特開2001−13627号公報の段落「0063」記載の化合物(I−1)〜(I−6)、段落「0066」記載の(C−1)〜(C−3)、特開2002−90937号公報の段落「0027」記載の化合物(III−1)〜(III−108)、ビニルスルホン類及び/又はβ−ハロスルホン類の化合物として特開平6−208192号公報の段落「0013」に記載の化合物VS−1〜VS−7、化合物HS−1〜HS−5、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開2000−330235号公報に記載のKS−1〜KS−8の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表2000−515995号公報に記載のPR−01〜PR−08、特開2002−207273号公報の段落「0042」〜「0051」に記載の化合物(1)−1〜(1)−132、を挙げることができる。   Next, antifoggants other than those described above that are preferably used in the present invention will be described. Antifoggants preferably used in the present invention include, for example, compound examples a to j described in paragraph “0012” of JP-A-8-314059 and paragraph “0028” of JP-A-7-209797. Thiosulfonate esters A to K, compound examples (1) to (44) described from p14 of JP-A No. 55-140833, compounds described in paragraph “0063” of JP-A No. 2001-13627 (I-1 ) To (I-6), (C-1) to (C-3) described in paragraph “0066”, and compounds (III-1) to (III-) described in paragraph “0027” of JP-A-2002-90937. 108), compounds VS-1 to VS-7 and compounds HS-1 to HS-5 described in paragraph “0013” of JP-A-6-208192 as compounds of vinyl sulfones and / or β-halo sulfones. KS-1 to KS-8 compounds described in JP-A No. 2000-330235 as sulfonylbenzotriazole compounds, PR-01 to PR-08 described in JP-T-2000-515995 as substituted propene nitrile compounds, Examples thereof include compounds (1) -1 to (1) -132 described in paragraphs “0042” to “0051” of JP-A-2002-207273.

上記カブリ防止剤は一般に銀のモルに対して少なくとも0.001モル用いる。通常、その範囲は銀のモルに対して化合物は0.01〜5モル、好ましくは銀のモルに対して化合物は0.02〜0.6モルである。   The antifoggant is generally used in an amount of at least 0.001 mole per mole of silver. Usually, the range is 0.01 to 5 moles of the compound relative to the moles of silver, preferably 0.02 to 0.6 moles of the compound relative to the moles of silver.

尚、上記の化合物の他に、本発明の熱現像感光材料中には、従来カブリ防止剤として知られている化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号の各明細書、特開昭59−57234号公報、米国特許第3,874,946号明細書、同4,756,999号明細書、特開平9−288328号公報、同9−90550号公報に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同605,981号、同631,176号の各明細書に開示されている化合物が挙げられる。   In addition to the above compounds, the photothermographic material of the present invention may contain a compound conventionally known as an antifoggant, but generates a reactive species similar to the above compound. Even a compound that can be used may be a compound having a different antifogging mechanism. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. No. 3,874,946. Examples thereof include compounds described in the specification, JP 4,756,999, JP-A-9-288328, and JP-A-9-90550. Further, as other antifoggants, compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176 are exemplified. Can be mentioned.

本発明に用いる還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。   When the reducing agent used in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of bisphenols, a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups is used. It is preferable to use together.

本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば、特開2002−90937号公報の段落「0061」〜「0064」に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。   Specific examples of particularly preferred hydrogen bonding compounds in the present invention include, for example, compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0061” to “0064” of JP-A-2002-90937. Is mentioned.

(色調剤)
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する色調剤を通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
(Coloring agent)
The photothermographic material of the present invention forms a photographic image by heat development processing, and contains a toning agent that adjusts the color tone of silver as necessary dispersed in an ordinary (organic) binder matrix. Preferably it is.

本発明に用いられる好適な色調剤の例は、RD17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号の各明細書に開示されており、例えば、次のものがある。   Examples of suitable toning agents for use in the present invention include those of RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136 and 4,021,249. For example, the following are disclosed.

イミド類(例えば、スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド);メルカプタン類(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);フタラジノン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩(例えば、フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジンとフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸)の組合せ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸またはo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい色調剤としてはフタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。   Imides (eg, succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives ( For example, phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids ( For example, combinations of phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid; phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof Products (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4 The combination and the like with at least one compound selected from nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride). A particularly preferred colorant is a combination of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids and phthalic anhydrides.

本発明に用いる還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば特開2002−90937号の段落「0061」〜「0064」に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。   When the reducing agent used in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of bisphenols, a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups is used. It is preferable to use together. Specific examples of particularly preferable hydrogen bonding compounds include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0061” to “0064” of JP-A-2002-90937.

熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する色調剤を、通常、(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有することが好ましい。   The photothermographic material forms a photographic image by heat development processing, and may contain a toning agent that adjusts the color tone of silver as necessary, usually dispersed in an (organic) binder matrix. preferable.

本発明に用いられる好適な色調剤の例は、RD17029号、米国特許4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号に開示されており、例えば以下のものがある。   Examples of suitable toning agents for use in the present invention are disclosed in RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136 and 4,021,249. For example, there are the following.

イミド類(スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド等);メルカプタン類(3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール等);フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン等);フタラジンとフタル酸類(フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸)の組合せ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも一つの化合物との組合せ等。   Imides (succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide, etc.); mercaptans (3-mercapto-1,2,4-triazole, etc.); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione, etc .; phthalazine and phthalic acids (phthalic acid, 4 -A combination of methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid; phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivative and its anhydride (phthalic acid, 4 -No methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid Combination of at least one compound selected from the object).

特に好ましい色調剤としては、フタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。   A particularly preferable colorant is a combination of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids and phthalic anhydrides.

(弗素系界面活性剤)
本発明では熱現像処理装置でのフィルム搬送性や環境適性(生体内への蓄積性)を改良するために下記一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
(Fluorine surfactant)
In the present invention, a fluorosurfactant represented by the following general formula (SF) is preferably used in order to improve film transportability and environmental suitability (accumulation in vivo) in a heat development processing apparatus.

一般式(SF)
(Rf(L1n1p(Y)m1(A)q
式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、L1はフッ素原子を有しない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基またはその塩を表し、n1、m1は各々0または1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。但し、qが1の時はn1とm1は同時に0ではない。
General formula (SF)
(Rf (L 1 ) n1 ) p (Y) m1 (A) q
In the formula, Rf represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom, Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom, A Represents an anionic group or a salt thereof, n1 and m1 each represents an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, n1 and m1 are not 0 at the same time.

前記一般式(SF)において、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表すが、該フッ素原子を含有する置換基としては例えば、炭素数1〜25のフッ化アルキル基(例えば、トリフロロメチル基、トリフロロエチル基、パーフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基、パーフロロドデシル基及びパーフロロオクタデシル基等)またはフッ化アルケニル基(例えば、パーフロロプロペニル基、パーフロロブテニル基、パーフロロノネニル基及びパーフロロドデセニル基等)等が挙げられる。Rfは炭素数2〜8であることが好ましく、より好ましくは炭素数2〜6である。またRfはフッ素原子数2〜12であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子数3〜12である。   In the general formula (SF), Rf represents a substituent containing a fluorine atom. Examples of the substituent containing a fluorine atom include a fluorinated alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (for example, a trifluoromethyl group). Trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group and perfluorooctadecyl group) or fluorinated alkenyl group (for example, perfluoropropenyl group, perfluorobutenyl group, Perfluorononenyl group, perfluorododecenyl group, etc.). Rf preferably has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. Rf preferably has 2 to 12 fluorine atoms, and more preferably 3 to 12 fluorine atoms.

1はフッ素原子を有さない2価の連結基を表すが、該フッ素原子を有さない2価の連結基としては例えば、アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等)、アルキレンオキシ基(メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、ブチレンオキシ基等)、オキシアルキレン基(例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシブチレン基等)、オキシアルキレンオキシ基(例えば、オキシメチレンオキシ基、オキシエチレンオキシ基、オキシエチレンオキシエチレンオキシ基等)、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基またはこれらの基を組合せた基等が挙げられる。 L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom. Examples of the divalent linking group having no fluorine atom include an alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, a butylene group, etc.), Alkyleneoxy group (methyleneoxy group, ethyleneoxy group, butyleneoxy group, etc.), oxyalkylene group (for example, oxymethylene group, oxyethylene group, oxybutylene group, etc.), oxyalkyleneoxy group (for example, oxymethyleneoxy group, Oxyethyleneoxy group, oxyethyleneoxyethyleneoxy group, etc.), phenylene group, oxyphenylene group, phenyloxy group, oxyphenyloxy group, or a combination of these groups.

Aはアニオン基またはその塩を表すが、例えば、カルボン酸基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、スルホン酸基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、硫酸ハーフエステル基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、及び燐酸基またはその塩(ナトリウム塩及びカリウム塩等)等が挙げられる。   A represents an anionic group or a salt thereof. For example, carboxylic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), sulfonic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), sulfuric acid half ester Group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), a phosphoric acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and the like) and the like.

Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表すが、例えば、フッ素原子を有さない3価または4価の連結基としては、窒素原子または炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。n1は0または1の整数を表すが、1であるのが好ましい。   Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom. For example, the trivalent or tetravalent linking group having no fluorine atom is composed mainly of a nitrogen atom or a carbon atom. An atomic group is mentioned. n1 represents 0 or an integer of 1, and is preferably 1.

一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数1〜25のアルキル化合物(例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基及びパーフロロオクタデシル基等を有する化合物)及びアルケニル化合物(例えば、パーフロロヘキセニル基及びパーフロロノネニル基等)と、それぞれフッ素原子を導入していない3価〜6価のアルカノール化合物、水酸基を3〜4個有する芳香族化合物またはヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物(一部Rf化されたアルカノール化合物)に、更に例えば硫酸エステル化等によりアニオン基(A)を導入することにより得ることができる。   The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is an alkyl compound having 1 to 25 carbon atoms into which a fluorine atom is introduced (for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorooctyl). Group and a compound having a perfluorooctadecyl group) and an alkenyl compound (for example, a perfluorohexenyl group and a perfluorononenyl group), a trivalent to hexavalent alkanol compound in which no fluorine atom is introduced, and a hydroxyl group, respectively. An anionic group (A) is further introduced into the compound (partially Rf-modified alkanol compound) obtained by addition reaction or condensation reaction with 3 to 4 aromatic compounds or hetero compounds by, for example, sulfate esterification. Can be obtained.

上記3〜6価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、2−メチル−2−ヒドロキシメチル1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンテン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2,2−ビス(ブタノール)−3、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、D−ソルビトール、キシリトール、D−マンニトール等が挙げられる。   Examples of the trivalent to hexavalent alkanol compound include glycerin, pentaerythritol, 2-methyl-2-hydroxymethyl 1,3-propanediol, 2,4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentene, and 1,2,6-hexane. Examples include triol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) propane, 2,2-bis (butanol) -3, aliphatic triol, tetramethylolmethane, D-sorbitol, xylitol, D-mannitol and the like.

また、上記水酸基を3〜4個有する芳香族化合物及びへテロ化合物としては、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン及び2,4,6−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。   Examples of the aromatic compound and hetero compound having 3 to 4 hydroxyl groups include 1,3,5-trihydroxybenzene and 2,4,6-trihydroxypyridine.

以下に、一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。   Below, the preferable specific compound of the fluorine-type surfactant represented by general formula (SF) is shown.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Figure 2005250451
Figure 2005250451

本発明の一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。また、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、最外層の保護層に添加することが好ましい。   As a method for adding the fluorosurfactant represented by the general formula (SF) of the present invention to the coating solution, it can be added according to a known addition method. That is, it can be dissolved and added in alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Further, fine particles having a size of 1 μm or less can be added after being dispersed in water or an organic solvent by sand mill dispersion, jet mill dispersion, ultrasonic dispersion or homogenizer dispersion. Many techniques for fine particle dispersion are disclosed, but they can be dispersed according to these techniques. The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is preferably added to the outermost protective layer.

本発明の一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は1m2当たり1×10-8〜1×10-1モルが好ましく、1×10-5〜1×10-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では、帯電特性が得られず、前者の範囲を越えると、湿度依存性が大きく高湿下の保存性が劣化する。 The amount of the fluorosurfactant represented by the general formula (SF) of the present invention is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol per 1 m 2 , and 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2. Mole is particularly preferred. If it is less than the former range, charging characteristics cannot be obtained, and if it exceeds the former range, the humidity dependence is large and the storage stability under high humidity deteriorates.

(表面層)
本発明における十点平均粗さ(Rz)、最大粗さ(Rt)、中心線平均粗さ(Ra)は、下記のJIS表面粗さ(B0601)により定義される。十点平均粗さ(Rz)とは断面曲線から基準長さだけぬきとった部分において、平均線に平行、且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。最大粗さ(Rt)とは粗さ曲線を基準長さLだけ抜き取り、中心線に平行な2直線で抜き取り部分を挟んだとき、この2直線の間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。中心線平均粗さ(Ra)とは粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、粗さ曲線をy=f(x)で表したとき、次の式によって求められる値をマイクロメートル(μm)であらわしたものをいう。
(Surface layer)
The ten-point average roughness (Rz), maximum roughness (Rt), and centerline average roughness (Ra) in the present invention are defined by the following JIS surface roughness (B0601). Ten-point average roughness (Rz) is the peak from the highest to the fifth measured in the direction of the vertical magnification from the straight line that is parallel to the average line and does not cross the cross-sectional curve, in the portion that has been cut by the reference length from the cross-sectional curve. The difference between the average value of the altitude and the average value of the altitude at the bottom of the valley from the deepest to the fifth is expressed in micrometers (μm). The maximum roughness (Rt) is the roughness curve extracted by the reference length L, and when the extracted part is sandwiched between two straight lines parallel to the center line, the distance between the two straight lines is measured in the direction of the vertical magnification of the roughness curve. Then, this value is expressed in micrometers (μm). The centerline average roughness (Ra) is a portion of the measured length L extracted from the roughness curve in the direction of the centerline, the centerline of this extracted portion is the X axis, the direction of the vertical magnification is the Y axis, and the roughness curve Is represented by y = f (x), the value obtained by the following equation is expressed in micrometers (μm).

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Rz、Rt、Raの測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重ね合わされない条件で24時間調湿した後、該環境下で測定した。ここで示す重ね合わされない条件とは、例えば、フィルムエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法やフィルムとフィルムの間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることのできる測定装置としては、例えば、WYKO社製RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。   As a method for measuring Rz, Rt, and Ra, the humidity was adjusted for 24 hours under the condition that the measurement samples were not overlapped in an environment of 25 ° C. and 65% RH, and then measured in the environment. The non-overlapping conditions shown here are, for example, a method of winding with the film edge portion raised, a method of stacking paper between the films, a method of making a frame with cardboard and fixing the four corners, etc. One of them. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system manufactured by WYKO.

感光材料の表面と裏面のRz、Rt、Raを本発明の範囲とするためには、下記に示す技術手段を適宜組み合わせて用いることで容易に調整することができる。
1.画像形成層を有する側の層、画像形成層を有する側と反対面の層に含まれるマット剤(無機または有機粉末)の種類、平均粒径、添加量、表面処理方法
2.マット剤の分散条件(使用する分散機の種類、分散時間、分散に使用するビーズの種類、平均粒径、分散時に使用する分散剤の種類と量、バインダーの極性基の種類、極性基含有量)
3.塗布時の乾燥条件(塗布速度、温風の吹き出しノズルの塗布面からの距離、乾燥風量)、残留溶媒量
4.塗布液の濾過に用いるフイルターの種類、濾過時間
5.塗布後にカレンダ処理を行う場合は、その条件(例えばカレンダ温度40〜80℃、圧力50〜300kg/cm、ラインスピード20〜100m、ニップ数2〜6)
本発明においては、請求項1に記載された範囲(0.1以上、0.7以下)の中でも、特にRz(E)/Rz(B)の値が0.2以上、0.6以下であるのが好ましく、0.3以上、0.5以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生を格段に向上することができる。
In order to set Rz, Rt, and Ra on the front and back surfaces of the photosensitive material within the scope of the present invention, it can be easily adjusted by appropriately combining the following technical means.
1. 1. Type of matting agent (inorganic or organic powder) contained in the layer having the image forming layer and the layer opposite to the side having the image forming layer, average particle diameter, amount added, surface treatment method Matting agent dispersion conditions (type of disperser used, dispersion time, type of beads used for dispersion, average particle size, type and amount of dispersant used during dispersion, type of polar group of binder, polar group content )
3. 3. Drying conditions during application (application speed, distance from the application surface of the hot air blowing nozzle, amount of dry air), residual solvent amount 4. Filter type used for filtration of coating solution, filtration time When the calendering is performed after coating, the conditions (for example, calendar temperature 40 to 80 ° C., pressure 50 to 300 kg / cm, line speed 20 to 100 m, nip number 2 to 6)
In the present invention, the value of Rz (E) / Rz (B) is particularly not less than 0.2 and not more than 0.6 in the range described in claim 1 (0.1 or more and 0.7 or less). It is preferable that it is 0.3 or more and 0.5 or less. By setting it within this range, among the effects of the present invention, the transportability of the film is particularly good, and the occurrence of uneven density during thermal development can be remarkably improved.

また本発明においては、請求項3に記載された範囲(0.6以上、1.5以下)の中でも、特にRa(E)/Ra(B)の値が0.6以上、1.3以下であるのが好ましく、0.7以上、1.1以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで、本発明の効果の中でも特に、経時でのかぶり上昇が小さく、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生についてより向上させることができる。   In the present invention, the Ra (E) / Ra (B) value is 0.6 or more and 1.3 or less, particularly within the range described in claim 3 (0.6 or more and 1.5 or less). It is preferable that it is 0.7 or more and 1.1 or less. By setting it within this range, among the effects of the present invention, in particular, the increase in fog over time is small, the transportability of the film is good, and the occurrence of uneven density during thermal development can be further improved.

本発明の画像形成方法においては、画像形成層を有する側の表面に含まれるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をLe(μm)、バックコート層を有する側の表面に含まれるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をLb(μm)とする時Lb/Leが2.0〜10であることが好ましく、より好ましくは3.0〜4.5である。Lb/Leをこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラを改良することができる。また本発明の画像形成方法においてはRz(E)/Ra(E)の値は好ましくは12以上、60以下であり、より好ましくは14以上、50以下である。Rz(E)/Ra(E)の値をこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。また本発明の画像形成方法においてはRz(B)/Ra(B)の値は好ましくは25以上、65以下であり、より好ましくは30以上、60以下である。Rz(E)/Ra(E)の値をこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。   In the image forming method of the present invention, the average particle size of the matting agent having the maximum average particle size contained in the surface on the side having the image forming layer is Le (μm), and is included in the surface on the side having the backcoat layer. Lb / Le is preferably 2.0 to 10 and more preferably 3.0 to 4.5 when the average particle size of the matting agent having the maximum average particle size is Lb (μm). . By setting Lb / Le within this range, among the effects of the present invention, density unevenness during thermal development can be improved. In the image forming method of the present invention, the value of Rz (E) / Ra (E) is preferably 12 or more and 60 or less, more preferably 14 or more and 50 or less. By setting the value of Rz (E) / Ra (E) within this range, among the effects of the present invention, density unevenness during heat development and storage characteristics over time can be improved. In the image forming method of the present invention, the value of Rz (B) / Ra (B) is preferably 25 or more and 65 or less, more preferably 30 or more and 60 or less. By setting the value of Rz (E) / Ra (E) within this range, among the effects of the present invention, density unevenness during heat development and storage characteristics over time can be improved.

本発明においては、熱現像感光材料の表面層に(画像形成層側、また支持体をはさみ画像形成層の反対側に非画像形成層を設けた場合にも)、本発明の目的、また表面粗さをコントロールする等のためにマット剤として有機または無機の粉末を用いることが好ましい。本発明において用いられる粉末としては、モース硬度が5以上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、窒化ホウ素、SnO2、SiO2、Cr23、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン(登録商標)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、Cr23、マイカ等の無機粉末等であり、その中でもSiO2、α−Al23が好ましく、特に好ましいのはSiO2である。 In the present invention, the surface layer of the photothermographic material (when the image forming layer side or a non-image forming layer is provided on the opposite side of the image forming layer with the support interposed therebetween) It is preferable to use organic or inorganic powder as a matting agent in order to control roughness. As the powder used in the present invention, a powder having a Mohs hardness of 5 or more is preferably used. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used. Examples of the inorganic powder include titanium oxide, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, cerium oxide, corundum, artificial Examples thereof include diamond, garnet, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like. Examples of the organic powder include powders such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and Teflon (registered trademark). Among these, inorganic powders such as SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate, α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2 O 3 , mica, etc. are preferable. SiO 2 and α-Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 is particularly preferable.

本発明において、前記粉末が例えば、表面処理されていることが好ましい。表面処理層形成は、無機質粉末素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のAl、Si、Ti、Zr、Sb、Sn、Znなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で無機質粉末粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーpHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなくAlCl3、SiCl4の蒸気を非磁性無機質粉末に通じ、その後水蒸気を流入してAl、Si表面処理を施すことも可能である。その他の表面処理法については、「Characterization of Powder Surfaces 」, Academic Pressを参考にすることができる。 In the present invention, the powder is preferably surface-treated, for example. The surface treatment layer is formed by dry pulverizing the inorganic powder material, adding water and a dispersing agent, and performing coarse particle classification by wet pulverization and centrifugal separation. Thereafter, the fine slurry is transferred to a surface treatment tank, where the surface of the metal hydroxide is coated. First, a predetermined amount of an aqueous salt solution such as Al, Si, Ti, Zr, Sb, Sn, and Zn is added, and an acid or alkali that neutralizes the solution is added, and the surface of the inorganic powder particles is coated with the resulting hydrous oxide. To do. Water-soluble salts produced as a by-product are removed by decantation, filtration, and washing. Finally, the slurry pH is adjusted, filtered, and washed with pure water. The washed cake is dried with a spray dryer or a band dryer. Finally, the dried product is pulverized by a jet mill to become a product. In addition to the aqueous system, AlCl 3 and SiCl 4 vapors can be passed through the non-magnetic inorganic powder, and then steam can be introduced to perform Al and Si surface treatment. For other surface treatment methods, “Characterization of Powder Surfaces”, Academic Press can be referred to.

本発明では、Si化合物またはAl化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いるとマット剤分散時の分散状態を良好にすることができる。前記SiまたはAlの含有量としては、前記粉末に対して、Siが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%であるのが好ましく、より好ましくはSiが0.1〜5質量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ましい。また、Si、Alの質量比がSi<Alであるのがよい。表面処理に関しては特開平2−83219号公報に記載された方法により行うことができる。尚、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。   In the present invention, it is preferable that the surface treatment is performed with an Si compound or an Al compound. When such a surface-treated powder is used, the dispersion state when the matting agent is dispersed can be improved. The content of Si or Al is preferably 0.1 to 10% by mass of Si and 0.1 to 10% by mass of Al, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the powder. It is particularly preferable that 5% by mass, Al is 0.1-5% by mass, Si is 0.1-2% by mass, and Al is 0.1-2% by mass. The mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al. The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219. The average particle diameter of the powder in the present invention is the average diameter in the case of spherical powder, the average major axis length in the case of acicular powder, and the maximum diagonal length of the plate-like surface in the case of plate-like powder. Mean values can be easily obtained from measurement with an electron microscope.

上記の有機または無機粉末は平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。   The organic or inorganic powder preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm.

画像形成層側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は通常0.5〜8.0μm、好ましくは1.0〜6.0μmであり、より好ましくは2.0〜5.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%であり、より好ましくは3.0〜10質量%である。支持体をはさんで画像形成層側とは反対側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常2.0〜15.0μm、好ましくは3.0〜12.0μmであり、より好ましくは4.0〜10.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%であり、より好ましくは0.6〜5質量%である。   The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the image forming layer side is usually 0.5 to 8.0 μm, preferably 1.0 to 6.0 μm, more preferably 2.0 to 5.0 μm. It is. The addition amount is usually 1.0 to 20% by mass, preferably 2.0 to 15% by mass, more preferably 3 with respect to the amount of binder used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). 0.0 to 10% by mass. The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the opposite side of the image forming layer across the support is usually 2.0 to 15.0 μm, preferably 3.0 to 12.0 μm. More preferably, it is 4.0-10.0 micrometers. The addition amount is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, and more preferably 0 to the amount of binder used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). .6 to 5% by mass.

また、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる粉末である。ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。   The variation coefficient of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less. Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

{(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
{(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size)} × 100
The method of adding the organic or inorganic powder may be a method in which the organic or inorganic powder is previously dispersed in the coating solution, or a method of spraying the organic or inorganic powder after the coating solution is applied and before the drying is completed. May be. Moreover, when adding several types of powder, you may use both methods together.

(支持体)
本発明の熱現像感光材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(例えば、アルミニウム)等が挙げられるが、情報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシートまたはロールに加工できるものが好適である。
(Support)
Examples of the support material used in the photothermographic material of the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (for example, aluminum), etc. Is preferably one that can be processed into a flexible sheet or roll.

従って、本発明の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチックフィルム(例えば、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルムまたはポリカーボネートフィルム等)が好ましく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。   Therefore, as a support in the photothermographic material of the present invention, a plastic film (for example, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film, or polycarbonate film). In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

本発明においては、帯電性を改良するために金属酸化物及び/または導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくはバック層または画像形成層側の表面保護層、下引層等に含まれる。本発明においては、米国特許第5,244,773号明細書カラム14〜20に記載された導電性化合物等が好ましく用いられる。   In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layers in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in a surface protective layer, an undercoat layer or the like on the back layer or image forming layer side. In the present invention, conductive compounds described in U.S. Pat. No. 5,244,773, columns 14 to 20 are preferably used.

中でも本発明では、バック層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。このことで、更に本発明の効果(特には熱現像処理時の搬送性)を高められることが分かった。ここで、導電性金属酸化物とは結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。   Especially in this invention, it is preferable to contain a conductive metal oxide in the surface protective layer by the side of a back layer. This proved that the effects of the present invention (particularly the transportability during heat development) can be further enhanced. Here, the conductive metal oxide is a crystalline metal oxide particle, and those that contain oxygen defects and those that contain a small amount of hetero atoms that form donors with respect to the metal oxide used are generally referred to. In particular, the latter is particularly preferable because it has high conductivity, and the latter is particularly preferable because it does not give fog to the silver halide emulsion.

金属酸化物の例として、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V25等、或いはこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えば、ZnOに対してはAl、In等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、またTiO2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.1〜10モル%であれば特に好ましい。更にまた、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時にケイ素化合物を添加してもよい。本発明に用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。これらの酸化物については、特開昭56−143431号、同56−120519号、同58−62647号の各公報等に記載されている。更にまた、特公昭59−6235号公報に記載のごとく、他の結晶性金属酸化物粒子或いは繊維状物(例えば、酸化チタン)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。 Examples of metal oxides include ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5 , or a composite oxide thereof. In particular, ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferable. As an example of containing a heteroatom, the addition Al, or In respect ZnO, Sb for SnO 2, Nb, P, the addition of such a halogen element, also Nb for TiO 2, Ta Etc. are effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, but particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Furthermore, a silicon compound may be added during the production of fine particles in order to improve fine particle dispersibility and transparency. The metal oxide fine particles used in the present invention have electrical conductivity, and the volume resistivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less. These oxides are described in JP-A Nos. 56-143431, 56-120519, and 58-62647. Furthermore, as described in Japanese Examined Patent Publication No. 59-6235, a conductive material in which the above metal oxide is adhered to other crystalline metal oxide particles or fibrous materials (for example, titanium oxide) is used. Also good.

利用できる粒子サイズは1μm以下が好ましいが、0.5μm以下であると分散後の安定性が良く使用しやすい。また光散乱性をできるだけ小さくするために、0.3μm以下の導電性粒子を利用すると透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。また、導電性金属酸化物が針状或いは繊維状の場合はその長さは30μm以下で直径が1μm以下が好ましく、特に好ましいのは長さが10μm以下で直径0.3μm以下であり、長さ/直径比が3以上である。尚、SnO2としては、石原産業社より市販されており、SNS10M、SN−100P、SN−100D、FSS10M等を用いることができる。 The particle size that can be used is preferably 1 μm or less, but if it is 0.5 μm or less, the stability after dispersion is good and it is easy to use. In order to make the light scattering property as small as possible, it is very preferable to use conductive particles of 0.3 μm or less because a transparent photosensitive material can be formed. When the conductive metal oxide is needle-like or fibrous, the length is preferably 30 μm or less and the diameter is preferably 1 μm or less, and particularly preferably the length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less. / Diameter ratio is 3 or more. As the SnO 2, are commercially available from Ishihara Sangyo Kaisha, it can be used SNS10M, SN-100P, SN- 100D, the FSS10M like.

本発明の熱現像感光材料は支持体上に少なくとも1層の画像形成層である画像形成層を有している。支持体の上に画像形成層のみを形成してもよいが、画像形成層の上に少なくとも一層の非画像形成層を形成するのが好ましい。例えば、画像形成層の上には保護層が、画像形成層を保護する目的で設けられることが好ましく、また支持体の反対の面には熱現像材料間の、或いは熱現像材料ロールにおいてくっつきを防止するために、バック層が設けられる。これらの保護層やバック層に用いるバインダーとしては画像形成層よりもガラス転位点が高く、擦り傷や、変形の生じにくいポリマー、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが、前記のバインダーの中から選ばれる。   The photothermographic material of the invention has an image forming layer which is at least one image forming layer on a support. Although only the image forming layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-image forming layer on the image forming layer. For example, a protective layer is preferably provided on the image forming layer for the purpose of protecting the image forming layer, and the opposite surface of the support is stuck between the heat developing materials or in the heat developing material roll. A back layer is provided to prevent this. As the binder used in these protective layers and back layers, a polymer having a glass transition point higher than that of the image forming layer and not easily scratched or deformed, for example, a polymer such as cellulose acetate or cellulose acetate butyrate is used. Chosen from the inside.

尚、階調調整等のために、画像形成層を支持体の一方の側に2層以上または支持体の両側に1層以上設置してもよい。   For gradation adjustment or the like, two or more image forming layers may be provided on one side of the support or one or more layers on both sides of the support.

本発明において用いられる粉末としては、モース硬度が5以上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。   As the powder used in the present invention, a powder having a Mohs hardness of 5 or more is preferably used. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used.

無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、窒化ホウ素、SnO2、SiO2、Cr23、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン(登録商標)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、Cr23、マイカ等の無機粉末等であり、その中でも、SiO2、α−Al23が好ましく、特に好ましいのはSiO2である。 Examples of the inorganic powder include titanium oxide, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, cerium oxide, corundum, artificial Examples thereof include diamond, garnet, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like. Examples of the organic powder include powders such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and Teflon (registered trademark). Among these, inorganic powders such as SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate, α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2 O 3 , mica, etc. are preferable. , SiO 2 and α-Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 is particularly preferable.

本発明において、前記粉末が、Si化合物またはAl化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いると最上層の表面状態を良好にすることができる。前記SiまたはAlの含有量としては、前記粉末に対して、Siが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%であるのが好ましく、より好ましくはSiが0.1〜5質量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ましい。また、Si、Alの質量比がSi<Alであるのがよい。   In the present invention, the powder is preferably surface-treated with a Si compound or an Al compound. By using such surface-treated powder, the surface state of the uppermost layer can be improved. The content of Si or Al is preferably 0.1 to 10% by mass of Si and 0.1 to 10% by mass of Al, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the powder. It is particularly preferable that 5% by mass, Al is 0.1-5% by mass, Si is 0.1-2% by mass, and Al is 0.1-2% by mass. The mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al.

表面処理に関しては特開平2−83219号に記載された方法により行うことができる。尚、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。   The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219. The average particle diameter of the powder in the present invention is the average diameter in the case of spherical powder, the average major axis length in the case of acicular powder, and the maximum diagonal length of the plate-like surface in the case of plate-like powder. Mean values can be easily obtained from measurement with an electron microscope.

上記の有機または無機粉末は、平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。   The organic or inorganic powder preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm.

感光層側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は通常0.5〜8.0μm、好ましくは1.0〜6.0μmであり、より好ましくは2.0〜5.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(硬化剤についてはバインダー量に含む)に対して通常1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%であり、より好ましくは3.0〜10質量%である。支持体をはさんで感光層側とは反対側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常2.0〜15.0μm、好ましくは3.0〜12.0μmであり、より好ましくは4.0〜10.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(硬化剤についてはバインダー量に含む)に対して通常0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%であり、より好ましくは0.6〜5質量%である。   The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the photosensitive layer side is usually 0.5 to 8.0 μm, preferably 1.0 to 6.0 μm, more preferably 2.0 to 5.0 μm. is there. The addition amount is usually 1.0 to 20% by mass, preferably 2.0 to 15% by mass, and more preferably 3% with respect to the amount of binder used in the outermost layer (the curing agent includes the binder amount). 0.0 to 10% by mass. The average particle diameter of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer opposite to the photosensitive layer side across the support is usually 2.0 to 15.0 μm, preferably 3.0 to 12.0 μm. More preferably, it is 4.0-10.0 micrometers. The addition amount is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, and more preferably 0 to the amount of binder used in the outermost layer (the curing agent includes the binder amount). .6 to 5% by mass.

また、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる粉末である。   The variation coefficient of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.

ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。   Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

{(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
{(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size)} × 100
The method of adding the organic or inorganic powder may be a method in which the organic or inorganic powder is previously dispersed in the coating solution, or a method of spraying the organic or inorganic powder after the coating solution is applied and before the drying is completed. May be. Moreover, when adding several types of powder, you may use both methods together.

(染料)
本発明の熱現像感光材料においては、画像形成層を透過する光の量又は波長分布を制御するために画像形成層と同じ側又は反対の側にフィルター層を形成するか、画像形成層に染料又は顔料を含有させることが好ましい。
(dye)
In the photothermographic material of the present invention, a filter layer is formed on the same side as or opposite to the image forming layer in order to control the amount of light transmitted through the image forming layer or the wavelength distribution, or a dye is formed on the image forming layer. Or it is preferable to contain a pigment.

用いられる染料としては、熱現像材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。例えば、熱現像感光材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−83655号に開示されるようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本発明ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本発明ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、又、スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。   As the dye used, known compounds that absorb light in various wavelength regions can be used depending on the color sensitivity of the heat developing material. For example, when the photothermographic material is an image recording material using infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-83655 (referred to as a thiopyrylium squarylium dye in the present invention). And a squarylium dye having a pyrylium nucleus (referred to as a pyrylium squarylium dye in the present invention), a thiopyrylium croconium dye similar to a squarylium dye, or a pyrylium croconium dye.

尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下、本明細書ではこれらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料と呼ぶ。尚、染料としては、特開平8−201959号の化合物も好ましい。   The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobuten-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy in the molecular structure. It is a compound having -4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated. Hereinafter, in the present specification, these pigments are collectively referred to as squarylium dyes for convenience. In addition, as a dye, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 8-201959 is also preferable.

(構成層の塗布)
本発明の熱現像感光材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成することが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(感光層、保護層等)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に、各層個別に塗布・乾燥の繰返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成し得ることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下となる前に、上層を設けることである。
(Application of component layers)
The photothermographic material of the present invention is preferably formed by preparing a coating solution in which the materials of the above-described constituent layers are dissolved or dispersed in a solvent, applying a plurality of coating solutions simultaneously, and then performing a heat treatment. . Here, "multiple simultaneous multi-layer coating" means that a coating solution for each constituent layer (photosensitive layer, protective layer, etc.) is prepared, and when this is coated on a support, the coating and drying are repeated for each layer individually. Rather, it means that each constituent layer can be formed in a state in which multiple layers can be simultaneously applied and dried. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of the total solvent in the lower layer reaches 70% by mass or less.

各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、エクストリュージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。これらの中で、より好ましくはエクストリュージョン塗布法と呼ばれる前計量タイプの塗布方式である。該エクストリュージョン塗布法は、スライド塗布方式のようにスライド面での揮発がないため、精密塗布、有機溶剤塗布に適している。この塗布方法は、感光層を有する側について述べたが、バックコート層を設ける際、下引きと共に塗布する場合についても同様である。熱現像感光材料における同時重層塗布方法に関しては、特開2000−15173号に詳細な記載がある。   There are no particular restrictions on the method of applying multiple layers of each constituent layer simultaneously, and for example, a known method such as a bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, or extrusion coating method may be used. Can do. Among these, a pre-weighing type coating method called an extrusion coating method is more preferable. The extrusion coating method is suitable for precision coating and organic solvent coating because there is no volatilization on the slide surface unlike the slide coating method. This coating method has been described on the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case of coating with undercoating when providing the backcoat layer. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-15173 has a detailed description on the simultaneous multilayer coating method in the photothermographic material.

本発明において、塗布銀量は熱現像感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には0.3〜1.5g/m2が好ましく、0.5〜1.5g/m2がより好ましい。該塗布銀量の内、ハロゲン化銀に由来するものは、全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましく、更には5〜15%が好ましい。 In the present invention, the silver coating amount is preferably selected in accordance with the purpose of the photothermographic material, but is preferably 0.3 to 1.5 g / m 2 for medical purposes. 5-1.5 g / m < 2 > is more preferable. Among the amount of coated silver, those derived from silver halide preferably occupy 2 to 18%, more preferably 5 to 15%, based on the total silver amount.

又、本発明において、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014〜1×1018個/m2が好ましい。更には1×1015〜1×1017個/m2が好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains having a particle diameter of 0.01 μm or more (equivalent sphere equivalent diameter) is preferably 1 × 10 14 to 1 × 10 18 particles / m 2 . Furthermore, 1 * 10 < 15 > -1 * 10 < 17 > piece / m < 2 > is preferable.

更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり1×10-17〜1×10-14gが好ましく、1×10-16〜1×10-15gがより好ましい。 Furthermore, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylate is 1 × 10 −17 to 1 × 10 −14 g per silver halide grain of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter in terms of sphere). Is preferably 1 × 10 −16 to 1 × 10 −15 g.

上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち、銀被覆量(カバリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。   In the case of coating under the conditions within the above range, a preferable result from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. Is obtained.

本発明においては、熱現像感光材料が、現像時に溶剤を5〜1,000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。100〜500mg/m2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低かぶり、最高濃度の高い熱現像感光材料となる。 In the present invention, the photothermographic material preferably contains a solvent in the range of 5 to 1,000 mg / m 2 during development. It is more preferable to adjust so that it may be 100-500 mg / m < 2 >. As a result, the photothermographic material has high sensitivity, low fog and high maximum density.

溶剤としては、特開2001−264930号の段落「0030」に記載のものが挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。又、これらの溶剤は、単独又は数種類組み合わせて用いることができる。   Examples of the solvent include those described in paragraph “0030” of JP-A No. 2001-264930. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.

尚、熱現像感光材料中の上記溶剤の含有量は、塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。   The content of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in the drying step after the coating step. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

(包装体)
本発明の熱現像感光材料を保存する場合は、経時での濃度変化やカブリ発生を防止するため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day(尚、1atmは1.01325×105Paである)以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下である。熱現像感光材料用の包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号、特開2000−206653号、特開2000−235241号、特開2002−062625号、特開2003−015261号、特開2003−057790号、特開2003−084397号、特開2003−098648号、特開2003−098635号、特開2003−107635号、特開2003−131337号、特開2003−146330号、特開2003−226439、特開2003−228152号公報明細書に記載されている包装材料である。また包装体内の空隙率は0.01〜10%、好ましくは0.02〜5%とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を80%以上、好ましくは90%以上とするのがよい。また包装体内の相対湿度は10%以上60%以下、好ましくは40%以上、55%以下とするのが良い。
(Packaging body)
When storing the photothermographic material of the present invention, a package having a low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to prevent density changes and fogging over time, or to improve curling, curling, etc. It is preferable to package with materials. The oxygen permeability is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less at 25 ° C. (where 1 atm is 1.01325 × 10 5 Pa), more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less, More preferably, it is 1.0 ml / atm · m 2 · day or less. The moisture permeability is preferably 10 g / atm · m 2 · day or less, more preferably 5 g / atm · m 2 · day or less, and still more preferably 1 g / atm · m 2 · day or less. Specific examples of the packaging material for the photothermographic material include, for example, JP-A-8-254793, JP-A-2000-206653, JP-A-2000-235241, JP-A-2002-062625, JP-A-2003-015261, JP 2003-057990 A, JP 2003-084397 A, JP 2003-098648 A, JP 2003-098635 A, JP 2003-107635 A, JP 2003-131337 A, JP 2003-146330 A, Special It is a packaging material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-226439 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-228152. The void ratio in the package is 0.01 to 10%, preferably 0.02 to 5%. Nitrogen sealing is performed so that the nitrogen partial pressure in the package is 80% or more, preferably 90% or more. It is good to do. The relative humidity in the package is 10% to 60%, preferably 40% to 55%.

(熱現像感光材料の露光)
本発明の感光材料は、光量が1mW/mm2以上の高照度の光で短時間露光されることでその特性を発揮する。ここでの照度は熱現像後の感光材料が3.0の光学濃度がでるときの照度を言う。このような高照度で露光を行うと必要な光学濃度を得るために必要な光量(=照度*露光時間)が少なくてすみ、高感度システムを設計できる。より好ましくはその光量は2mW/mm2以上50W/mm2以下であり、さらに好ましくは10mW/mm2以上50W/mm2以下である。このような光源であればどのようなものでも構わないが、レーザ光であることによって好ましく達成できる。本発明にこのましく用いられるレーザ光としては、ガスレーザ(Ar+、Kr+、He−Ne)、YAGレーザ、色素レーザ、半導体レーザなどが好ましい。また、半導体レーザと第2高調波発生素子などを用いることもできる。更に好ましくは青〜紫発光の半導体レーザ(波長350nm〜440nmにピーク強度を持つもの等)である。青〜紫発光の高出力半導体レーザとしては日亜化学のNLHV3000E半導体レーザを挙げることができる。
(Exposure of photothermographic material)
The photosensitive material of the present invention exhibits its characteristics by being exposed for a short time with light having a high illuminance of 1 mW / mm 2 or more. The illuminance here refers to the illuminance when the photosensitive material after heat development has an optical density of 3.0. When exposure is performed at such high illuminance, the amount of light (= illuminance * exposure time) required to obtain a required optical density is reduced, and a high sensitivity system can be designed. More preferably, the amount of light is 2 mW / mm 2 or more and 50 W / mm 2 or less, and more preferably 10 mW / mm 2 or more and 50 W / mm 2 or less. Any light source may be used as long as it is such a light source, but it can be preferably achieved by using laser light. As the laser beam preferably used in the present invention, a gas laser (Ar + , Kr + , He—Ne), a YAG laser, a dye laser, a semiconductor laser, and the like are preferable. In addition, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used. More preferably, the semiconductor laser emits blue to violet light (such as one having a peak intensity at a wavelength of 350 nm to 440 nm). An example of a blue to purple light emitting high-power semiconductor laser is Nichia's NLHV 3000E semiconductor laser.

本発明において、露光はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザ光の為す角が実質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙げられる。   In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the scanning surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is not substantially perpendicular.

ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザ光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55〜88度、より好ましくは60〜86度、更に好ましくは65〜84度、最も好ましくは70〜82度であることを言う。   Here, “substantially not perpendicular” means that the angle closest to the vertical during laser beam scanning is preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees, and still more preferably 65 to 84 degrees. , Most preferably 70-82 degrees.

レーザ光が感光材料に走査される時の、感光材料露光面でのビームスポット直径は好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方が、レーザ光入射角度の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は10μmである。この様なレーザ走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることができる。   The beam spot diameter on the exposure surface of the photosensitive material when the laser beam is scanned onto the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable in that a smaller spot diameter can reduce the “shift angle” from the vertical of the laser beam incident angle. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as generation of interference fringe-like unevenness.

又、第2の方法として、露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳を掛ける、等の方法がよい。尚、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常、露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。   As a second method, it is also preferable to perform exposure using a laser scanning exposure machine that emits scanning laser light that is a vertical multi. Compared with a longitudinal single mode scanning laser beam, image quality degradation such as occurrence of interference fringe-like unevenness is reduced. In order to make a vertical multiplex, methods such as using return light by combining and applying high-frequency superposition are preferable. Note that the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

更に、第3の態様としては、2本以上のレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。この様な複数本のレーザ光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば特開昭60−166916号等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザ光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザイメージャー等と原理的に同じレーザ走査光学装置である。   Furthermore, as a third aspect, it is also preferable to form an image by scanning exposure using two or more laser beams. As such an image recording method using a plurality of laser beams, it is used in an image writing unit of a laser printer or a digital copying machine that writes an image line by line in one scan because of a demand for higher resolution and higher speed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-166916 is known. This is a method in which laser light emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror and imaged on a photoconductor via an fθ lens or the like. This is in principle the same laser scanning optics as a laser imager or the like. Device.

レーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザ光の結像は、1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザ光の結像位置から1ライン分ずらして次のレーザ光が結像されている。具体的には、二つの光ビームは、互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(dpiとは、1インチ=2.54cm当たりのドット数を表す)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5μm、600dpiで42.3μmである。この様な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に2本以上のレーザを入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の1本のレーザ光(波長λ[nm])で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがEであり、露光に使用するN本のレーザ光が同一波長(波長λ[nm])、同一露光エネルギー(En)である場合に、0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にするのが好ましい。この様にすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザ光の画像形成層への反射は、レーザの露光エネルギーが低いため低減され、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。   The image formation of laser light on the photoconductor in the image writing means of a laser printer or digital copying machine is for one line from the image formation position of one laser light for the purpose of writing an image by a plurality of lines in one scan. The next laser beam is imaged by shifting. Specifically, the two light beams are close to each other on the image plane in the sub-scanning direction at an order of several tens of μm, and the print density is 400 dpi (dpi is the number of dots per inch = 2.54 cm). The sub-scanning direction pitch of the two beams is 63.5 μm, and 42.3 μm at 600 dpi. Unlike the method of shifting the resolution in the sub-scanning direction as described above, in the present invention, it is preferable to form an image by condensing two or more lasers at the same place on the exposure surface while changing the incident angle. At this time, the exposure energy on the exposure surface when writing with one normal laser beam (wavelength λ [nm]) is E, and N laser beams used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [nm]). ), In the case of the same exposure energy (En), the range of 0.9 × E ≦ En × N ≦ 1.1 × E is preferable. By doing so, energy is secured on the exposure surface, but the reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and thus the occurrence of interference fringes is suppressed.

尚、上述では複数本のレーザ光の波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ[nm]に対して(λ−30)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲にするのが好ましい。
尚、レーザ・イメージャやレーザ・イメージセッタで使用されるレーザ光において、熱現像感光材料に走査される時の該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は熱現像材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、熱現像感光材料毎に最適な値に設定することができる。
In the above description, the wavelengths of the plurality of laser beams are the same as λ, but those having different wavelengths may be used. In this case, it is preferable that (λ−30) <λ1, λ2,... Λn ≦ (λ + 30) with respect to λ [nm].
In the laser light used in a laser imager or a laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of the material when scanned with the photothermographic material is generally 5 to 75 μm as the minor axis diameter, and the major axis. The diameter is in the range of 5 to 100 μm, and the laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photothermographic material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength specific to the photothermographic material.

(熱現像処理装置)
本発明で言う熱現像処理装置は、構成としては、フィルムトレイで代表されるフィルム供給部、レーザ画像記録部、熱現像感光材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像部、フィルム供給部からレーザ記録を経て、熱現像により画像形成された熱現像感光材料を装置外に排出するまでの搬送部から構成される。この態様の熱現像処理装置の具体例は図1に示すものである。
(Heat development processing equipment)
The heat development processing apparatus referred to in the present invention is composed of a film supply unit represented by a film tray, a laser image recording unit, a heat development unit for supplying uniform and stable heat to the entire surface of the photothermographic material, and a film supply. It is composed of a conveying section from the section through laser recording to the discharge of the photothermographic material image-formed by thermal development to the outside of the apparatus. A specific example of the heat development processing apparatus of this embodiment is shown in FIG.

熱現像装置100は、シート状の熱現像感光材料(フォトサーモグラフィックエレメント又は単にフィルムとも言う)を1枚ずつ給送する給送部110、給送されたフィルムFを露光する露光部120、露光されたフィルムFを現像する現像部130、現像を停止させる冷却部150と集積部160とを有し、給送部からフィルムFを供給するための供給ローラー対140、現像部にフィルムを送るための供給ローラー対144、各部間でフィルムFを円滑に移送するための搬送ローラー対141、142、143、145等複数のローラー対から成っている。熱現像部はフィルムFを現像する加熱手段として、外周にほぼ密着して保持しつつ加熱可能な複数の対向ローラー2を有するヒートドラム1と現像したフィルムFを剥離し冷却部に送るための剥離爪6等から成る。   The heat development apparatus 100 includes a feeding unit 110 that feeds a sheet-like photothermographic material (photothermographic element or simply a film) one by one, an exposure unit 120 that exposes the fed film F, and an exposure. A developing unit 130 for developing the developed film F, a cooling unit 150 for stopping development, and a stacking unit 160, a supply roller pair 140 for supplying the film F from the feeding unit, and for feeding the film to the developing unit Supply roller pair 144, and a plurality of roller pairs such as transport roller pairs 141, 142, 143, and 145 for smoothly transferring the film F between the respective parts. The heat developing part is a heating means for developing the film F, and peeling the heat drum 1 having a plurality of opposed rollers 2 that can be heated while being held in close contact with the outer periphery, and the developed film F to be sent to the cooling part. It consists of nails 6 etc.

尚、熱現像感光材料の搬送速度は10〜200mm/secが好ましい範囲である。特に、熱現像部の搬送速度を10〜200mm/sec、感光材料供給部から画像露光部の搬送速度を10〜200mm/sec、画像露光部での搬送速度を10〜200mm/secで熱現像することが好ましく、熱現像部の搬送速度を20〜100mm/secとすることがより好ましい。この範囲にすることにより、熱現像時の濃度むらを改良でき、また処理時間を短縮できるので、緊急時の診断にも対応できて好ましい。   The conveyance speed of the photothermographic material is preferably in the range of 10 to 200 mm / sec. In particular, the heat development is carried out at a conveyance speed of 10 to 200 mm / sec, a conveyance speed from the photosensitive material supply unit to the image exposure unit of 10 to 200 mm / sec, and a conveyance speed of the image exposure unit of 10 to 200 mm / sec. It is preferable that the conveying speed of the heat developing unit is 20 to 100 mm / sec. By setting it within this range, density unevenness during heat development can be improved, and processing time can be shortened.

熱現像感光材料の現像条件は、使用する機器、装置、あるいは手段に依存して変化するが、典型的には、適した高温において像様に露光した熱現像材料を加熱することにより現像を行うものである。露光後に得られた潜像は、中程度の高温(約80〜200℃、好ましくは約100〜200℃)で、十分な時間(一般には約1秒〜約2分間、好ましくは3〜30秒間、より好ましくは5〜20秒間)、熱現像材料を加熱することにより現像される。   The development conditions of the photothermographic material vary depending on the equipment, apparatus, or means used. Typically, development is performed by heating the photothermographic material exposed imagewise at a suitable high temperature. Is. The latent image obtained after exposure is at moderately high temperatures (about 80 to 200 ° C., preferably about 100 to 200 ° C.) for a sufficient time (generally about 1 second to about 2 minutes, preferably 3 to 30 seconds). , More preferably for 5 to 20 seconds), the development is performed by heating the heat developing material.

加熱温度が80℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、又、200℃を超えるとバインダーが溶融し、ローラーへの転写等画像そのものだけでなく、搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。   If the heating temperature is less than 80 ° C, a sufficient image density cannot be obtained in a short time. If the heating temperature exceeds 200 ° C, the binder melts, and not only the image itself such as transfer to a roller but also transportability and a developing machine. Adversely affect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside.

加熱する機器、装置あるいは手段としては、例えばホットプレート、アイロン、ホットローラー、炭素又は白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段等で行ってよい。より好ましくは、保護層の設けられた熱現像材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理することが、均一な加熱を行う上で、又、熱効率、作業性等の観点から好ましく、保護層を有する側の面をヒートローラーに接触させながら搬送し、加熱処理して現像することが好ましい。   The heating device, apparatus or means may be a heating means typical as a heat generator using, for example, a hot plate, iron, hot roller, carbon or white titanium. More preferably, the heat-developable material provided with the protective layer is subjected to heat treatment by bringing the surface having the protective layer into contact with the heating means. It is preferable from the viewpoint, and it is preferable that the surface on the side having the protective layer is conveyed while being in contact with the heat roller, and is developed by heat treatment.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, the embodiment of this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “mass%”.

実施例1
《下引加工した写真用支持体の作製》
光学濃度0.150(コニカ(株)製デンシトメータPDA−65で測定)に下記青色染料で着色した2軸延伸熱固定した厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に、8W・分/m2のコロナ放電処理を施した写真用支持体に、下引加工を行った。即ち、この写真用支持体の一方の面に下引塗布液a−1を乾燥膜厚が0.2μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥して画像形成層側下引層を形成した(下引下層A−1という)。また、反対側の面にバッキング層下引層として下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚が0.12μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させてバッキング層側に帯電防止機能を持つ下引導電層(下引下層B−1という)を塗設した。下引下層A−1と下引下層B−1の上表面に、8W・分/m2のコロナ放電を施し、下引下層A−1の上には下記下引塗布液a−2を乾燥膜厚0.03μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層A−2とし、下引下層B−1の上には下記下引塗布液b−2を乾燥膜厚0.2μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層B−2とし、更に123℃で2分間支持体を熱処理し25℃、50%RHの条件下で巻き取り、下引済み試料を作製した。
Example 1
<< Preparation of undercoated photographic support >>
Corona of 8 W · min / m 2 on both sides of a 175 μm thick polyethylene terephthalate film with an optical density of 0.150 (measured with a Densitometer PDA-65 manufactured by Konica Corporation) colored with the following blue dye and heat-fixed biaxially. The photographic support subjected to the discharge treatment was subjected to subbing. That is, the undercoat coating liquid a-1 was applied to one surface of this photographic support so that the dry film thickness was 0.2 μm at 22 ° C. and 100 m / min, and dried at 140 ° C. to form an image. A layer side undercoat layer was formed (referred to as undercoat underlayer A-1). Moreover, the following undercoat coating liquid b-1 was applied to the opposite surface as a backing layer undercoat layer at 22 ° C. and 100 m / min so that the dry film thickness was 0.12 μm, and dried at 140 ° C. An undercoat conductive layer having an antistatic function (referred to as undercoat underlayer B-1) was applied on the backing layer side. A corona discharge of 8 W · min / m 2 is applied to the upper surfaces of the subbing lower layer A-1 and the subbing lower layer B-1, and the following subbing coating solution a-2 is dried on the lower subbing layer A-1. The film was coated at 33 ° C. and 100 m / min so as to have a film thickness of 0.03 μm, and dried at 140 ° C. to form an undercoat upper layer A-2. -2 was coated at 33 ° C. and 100 m / min to a dry film thickness of 0.2 μm, dried at 140 ° C. to form an undercoating upper layer B-2, and the support was further heat treated at 123 ° C. for 2 minutes. The sample was wound up under the conditions of 50 ° C. and 50% RH to prepare a subtracted sample.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

[水性ポリエステルA−1溶液の調製]
テレフタル酸ジメチル35.4質量部、イソフタル酸ジメチル33.63質量部、5−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩17.92質量部、エチレングリコール62質量部、酢酸カルシウム・一水塩0.065質量部、酢酸マンガン四水塩0.022質量部を、窒素気流下において、170〜220℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行った後、リン酸トリメチル0.04質量部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン0.04質量部及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸6.8質量部を加え、220〜235℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を留去しエステル化を行った。
[Preparation of aqueous polyester A-1 solution]
35.4 parts by weight of dimethyl terephthalate, 33.63 parts by weight of dimethyl isophthalate, 17.92 parts by weight of dimethyl sodium 5-sulfoisophthalate, 62 parts by weight of ethylene glycol, 0.065 parts by weight of calcium acetate / monohydrate, After transesterification of 0.022 parts by mass of manganese acetate tetrahydrate under a nitrogen stream while distilling off methanol at 170 to 220 ° C., 0.04 parts by mass of trimethyl phosphate and a polycondensation catalyst were used. 0.04 parts by mass of antimony oxide and 6.8 parts by mass of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid were added, and at a reaction temperature of 220 to 235 ° C., a theoretical amount of water was distilled off for esterification.

その後、更に反応系内を約1時間かけて減圧、昇温し最終的に280℃、133Pa以下で約1時間重縮合を行い、水性ポリエステルA−1を合成した。得られた水性ポリエステルA−1の固有粘度は0.33、平均粒径は40nm、Mw=80000〜100000であった。   Thereafter, the inside of the reaction system was further depressurized and heated over about 1 hour, and finally subjected to polycondensation at 280 ° C. and 133 Pa or less for about 1 hour to synthesize aqueous polyester A-1. The obtained aqueous polyester A-1 had an intrinsic viscosity of 0.33, an average particle size of 40 nm, and Mw = 80000 to 100,000.

次いで、撹拌翼、環流冷却管、温度計を付した2Lの3つ口フラスコに、純水850mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、水性ポリエステルA−1を150g徐々に添加した。室温でこのまま30分間撹拌した後、1.5時間かけて内温が98℃になるように加熱し、この温度で3時間加熱溶解した。加熱終了後、1時間かけて室温まで冷却し、一夜放置して、15質量%の水性ポリエステルA−1溶液を調製した。   Next, 850 ml of pure water was put into a 2 L three-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, and 150 g of aqueous polyester A-1 was gradually added while rotating the stirring blade. After stirring for 30 minutes at room temperature, the mixture was heated to an internal temperature of 98 ° C. over 1.5 hours and dissolved at this temperature for 3 hours. After completion of the heating, the mixture was cooled to room temperature over 1 hour and allowed to stand overnight to prepare a 15% by mass aqueous polyester A-1 solution.

[変性水性ポリエステルB−1〜2溶液の調製]
撹拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した3Lの4つ口フラスコに、前記15質量%の水性ポリエステルA−1溶液1900mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、内温度を80℃まで加熱する。この中に、過酸化アンモニウムの24質量%水溶液を6.52ml加え、モノマー混合液(メタクリル酸グリシジル28.5g、アクリル酸エチル21.4g、メタクリル酸メチル21.4g)を30分間かけて滴下し、更に3時間反応を続ける。その後、30℃以下まで冷却、濾過して、固形分濃度が18質量%の変性水性ポリエステルB−1溶液(ビニル系成分変性比率20質量%)を調製した。
[Preparation of Modified Aqueous Polyester B-1-2 Solution]
Into a 3 L four-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel, 1900 ml of the 15% by mass aqueous polyester A-1 solution was placed, and the internal temperature was adjusted to 80 ° C. while rotating the stirring blade. Until heated. Into this, 6.52 ml of a 24 mass% aqueous solution of ammonium peroxide was added, and a monomer mixture (28.5 g of glycidyl methacrylate, 21.4 g of ethyl acrylate, 21.4 g of methyl methacrylate) was dropped over 30 minutes. The reaction is continued for another 3 hours. Then, it cooled and filtered to 30 degrees C or less, and prepared the modified aqueous polyester B-1 solution (vinyl-type component modification | denaturation ratio 20 mass%) whose solid content concentration is 18 mass%.

ビニル変性比率を36質量%にし、変性成分をスチレン:グリシジルメタクリレート:アセトアセトキシエチルメタクリレート:n−ブチルアクリレート=39.5:40:20:0.5にした以外は同様にして、固形分濃度が18質量%の変性水性ポリエステルB−2溶液(ビニル系成分変性比率20質量%)を調製した。   The solid content concentration was the same except that the vinyl modification ratio was 36% by mass and the modified components were styrene: glycidyl methacrylate: acetoacetoxyethyl methacrylate: n-butyl acrylate = 39.5: 40: 20: 0.5. An 18% by mass modified aqueous polyester B-2 solution (vinyl component modification ratio 20% by mass) was prepared.

[アクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3の作製]
乳化重合により、表1に示すモノマー組成を有するアクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3を合成した。固形分濃度は全て30質量%とした。
[Production of Acrylic Polymer Latex C-1 to C-3]
Acrylic polymer latexes C-1 to C-3 having the monomer composition shown in Table 1 were synthesized by emulsion polymerization. The solid content concentration was 30% by mass.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

《ポリビニルアルコールユニットを含有する水性ポリマー》
D−1:PVA−617(クラレ(株)の水分散物(固形分5%):ケン化度95)
[画像形成層側下引下層用塗布液a−1]
アクリル系ポリマーラテックスC−3(固形分30%) 70.0g
エトキシ化アルコールとエチレンホモポリマーの水分散物(固形分10%)
5.0g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
<< Aqueous polymer containing polyvinyl alcohol unit >>
D-1: PVA-617 (Kuraray Co., Ltd. aqueous dispersion (solid content 5%): degree of saponification 95)
[Image forming layer side undercoat coating solution a-1]
Acrylic polymer latex C-3 (solid content 30%) 70.0 g
Water dispersion of ethoxylated alcohol and ethylene homopolymer (10% solids)
5.0g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

[画像形成層側下引上層用塗布液a−2]
変性水性ポリエステルB−2(18質量%) 30.0g
界面活性剤(A) 0.1g
真球状シリカマット剤(日本触媒(株)製 シーホスターKE−P50)
0.04g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Image forming layer side undercoat layer coating solution a-2]
Modified aqueous polyester B-2 (18% by mass) 30.0 g
Surfactant (A) 0.1g
Spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd. Sea Hoster KE-P50)
0.04g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

[バッキング層側下引下層用塗布液b−1]
アクリル系ポリマーラテックスC−1(固形分30%) 30.0g
アクリル系ポリマーラテックスC−2(固形分30%) 7.6g
SnO2ゾル 180g
(特公昭35−6616号公報の実施例1に記載の方法で合成したSnO2ゾルを固形分濃度が10質量%になるように加熱濃縮した後、アンモニア水でpH=10に調整したもの)
界面活性剤(A) 0.5g
PVA−613(クラレ(株)製 PVA)5質量%水溶液 0.4g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Backing layer side undercoat coating solution b-1]
Acrylic polymer latex C-1 (solid content 30%) 30.0 g
Acrylic polymer latex C-2 (solid content 30%) 7.6 g
SnO 2 sol 180g
(SnO 2 sol synthesized by the method described in Example 1 of Japanese Patent Publication No. 35-6616 was heated and concentrated so that the solid content concentration was 10% by mass, and then adjusted to pH = 10 with ammonia water)
Surfactant (A) 0.5g
PVA-613 (PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% by weight aqueous solution 0.4 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

[バッキング層側下引上層用塗布液b−2]
変性水性ポリエステルB−1(18質量%) 145.0g
真球状シリカマット剤(日本触媒(株)製 シーホスターKE−P50) 0.2g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Backing layer side undercoat upper layer coating solution b-2]
Modified aqueous polyester B-1 (18% by mass) 145.0 g
True spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd. Sea Hoster KE-P50) 0.2g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

なお、前記下引層を施した支持体の下引層B−2上には下記の組成のバックコート層、バックコート層保護層を塗設した。   A backcoat layer and a backcoat layer protective layer having the following composition were coated on the undercoat layer B-2 of the support on which the undercoat layer had been applied.

〈バックコート層塗布液の調製〉
メチルエチルケトン(MEK)830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(Eastman Chemical社製:CAP482−20)84.2g及びポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)4.5gを添加し溶解した。次に、溶解した液にメタノール43.2gに溶解した弗素系界面活性剤(旭硝子社製:サーフロンKH40)4.5gと弗素系界面活性剤(大日本インキ社製:メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの2.5gを添加した。最後に、MEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(平均粒径は表2に記載)を75g添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Preparation of backcoat layer coating solution>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20) and 4.5 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) were added and dissolved. Next, 4.5 g of a fluorine-based surfactant (Asahi Glass Co., Ltd .: Surflon KH40) dissolved in 43.2 g of methanol and 2.3 g of a fluorine-based surfactant (Dainippon Ink Co., Ltd .: MegaFag F120K) were dissolved in the dissolved liquid. Add and stir well until dissolved. Next, 2.5 g of oleyl oleate was added. Finally, 75 g of silica dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% (average particle diameter is described in Table 2) was added and stirred to prepare a backcoat layer coating solution.

〈バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製〉
下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。シリカの分散にはディゾルバ型ホモジナイザを使用した。
<Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution>
The following composition ratio was prepared in the same manner as the back coat layer coating solution. A dissolver type homogenizer was used for dispersion of silica.

セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液) 15g
(Eastman Chemical社製:CAP482−20)
単分散度15%の単分散シリカ(平均粒径:表2に記載)
(シリカ全質量の1%のアルミニウムで表面処理) 0.03g
817(CH2CH2O)12817 0.05g
弗素系界面活性剤(SF−17) 0.01g
ステアリン酸 0.1g
オレイルオレート 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
Cellulose acetate propionate (10% MEK solution) 15g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20)
Monodispersed silica with a monodispersity of 15% (average particle size: listed in Table 2)
(Surface treatment with 1% aluminum of the total mass of silica) 0.03 g
C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g
Fluorine-based surfactant (SF-17) 0.01g
Stearic acid 0.1g
Oleyl oleate 0.1g
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g

Figure 2005250451
Figure 2005250451

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製〉
(A1)
フェニルカルバモイル化ゼラチン 88.3g
化合物(AO−1)の10%メタノール水溶液 10ml
臭化カリウム 0.32g
水で5429mlに仕上げる
(B1)
0.67モル/L硝酸銀水溶液 2635ml
(C1)
臭化カリウム 50.69g
沃化カリウム 2.66g
水で660mlに仕上げる
(D1)
臭化カリウム 151.6g
沃化カリウム 7.67g
ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム(K2(IrCl6)の1%水溶液)
0.93ml
ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム 0.004g
ヘキサクロロオスミウム(IV)酸カリウム 0.004g
水で1982mlに仕上げる
(E1)
0.4モル/L臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
(F1)
水酸化カリウム 0.71g
水で20mlに仕上げる
(G1)
56%酢酸水溶液 18.0ml
(H1)
無水炭酸ナトリウム 1.72g
水で151mlに仕上げる
AO−1:HO(CH2CH2O)n〔CH(CH3)CH2O〕17(CH2CH2O)mH(m+n=5〜7)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion A>
(A1)
Phenylcarbamoylated gelatin 88.3g
10% aqueous methanol solution of compound (AO-1) 10ml
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water (B1)
0.67 mol / L silver nitrate aqueous solution 2635 ml
(C1)
Potassium bromide 50.69g
Potassium iodide 2.66g
Finish to 660ml with water (D1)
Potassium bromide 151.6g
Potassium iodide 7.67g
Potassium hexachloroiridium (IV) (1% aqueous solution of K 2 (IrCl 6 ))
0.93ml
Potassium hexacyanoferrate (II) 0.004g
Hexachloroosmium (IV) potassium salt 0.004g
Finish to 1982ml with water (E1)
0.4 mol / L potassium bromide aqueous solution The following silver potential control amount (F1)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish to 20ml with water (G1)
56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml
(H1)
Anhydrous sodium carbonate 1.72 g
Water finish 151ml AO-1: HO (CH 2 CH 2 O) n [CH (CH 3) CH 2 O] 17 (CH 2 CH 2 O) m H (m + n = 5~7).

特公昭58−58288号に示される混合撹拌機を用いて溶液(A1)に溶液(B1)の1/4量及び溶液(C1)全量を20℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し核形成を行った。1分後に溶液(F1)の全量を添加した。この間、pAgの調整を(E1)を用いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4量及び溶液(D1)の全量を、20℃、pAg8.09に制御しながら、14分15秒かけて同時混合法により添加した。5分間撹拌した後、40℃に降温し、溶液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、撹拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加え、60℃に昇温し、更に120分撹拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。   Using the mixing stirrer shown in Japanese Patent Publication No. 58-58288, while controlling 1/4 of the solution (B1) and the total amount of the solution (C1) to 20 ° C. and pAg 8.09 using the mixing stirrer Was added for 4 minutes and 45 seconds to nucleate. After 1 minute, the entire amount of solution (F1) was added. During this time, pAg was adjusted as appropriate using (E1). After 6 minutes, 3/4 amount of the solution (B1) and the total amount of the solution (D1) were added by a simultaneous mixing method over 14 minutes and 15 seconds while controlling at 20 ° C. and pAg 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., the whole amount of the solution (G1) was added, and the silver halide emulsion was allowed to settle. The supernatant was removed leaving 2000 ml of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. The remaining portion of 1500 ml was left, the supernatant was removed, 10 L of water was further added, and after stirring, the silver halide emulsion was allowed to settle. After leaving 1500 ml of the sedimented portion and removing the supernatant, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so that the amount of silver was 1161 g per mole of silver, whereby photosensitive silver halide emulsion A was obtained.

この乳剤は、平均粒子サイズ25nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。   This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Bの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ55nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion B>
The same procedure as in the preparation of photosensitive silver halide emulsion A was carried out except that the temperature during addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. This emulsion was monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製〉
感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製時に用いられる臭化カリウムを沃化カリウムに変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ25nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion C>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A, except that the potassium bromide used in the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A was changed to potassium iodide. This emulsion was monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Dの調製〉
感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製時に用いられる臭化カリウムの一部を沃化銀含有率が90モル%となるように沃化カリウムに変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ25nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率は90モル%であった)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion D>
Preparation of photosensitive silver halide emulsion A, except that part of potassium bromide used in the preparation of photosensitive silver halide emulsion A was changed to potassium iodide so that the silver iodide content was 90 mol%. The same was done. This emulsion was monodispersed silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (silver iodide content was 90 mol%).

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Eの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Cの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ55nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散純沃化銀粒子であった。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion E>
The same procedure as in the preparation of photosensitive silver halide emulsion C was carried out except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. This emulsion was monodispersed pure silver iodide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92%.

〈感光性ハロゲン化銀乳剤Fの調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀乳剤Dの調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ55nm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散沃臭化銀粒子であった(沃化銀含有率は90モル%であった)。
<Preparation of photosensitive silver halide emulsion F>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide emulsion D except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. This emulsion was monodispersed silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (silver iodide content was 90 mol%).

〈粉末有機銀塩の調製〉
4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀乳剤(表2に記載の種類と量)と純水450mlを添加し5分間撹拌した。
<Preparation of powdered organic silver salt>
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution was added and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a fatty acid sodium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid sodium solution at 55 ° C., a photosensitive silver halide emulsion (type and amount described in Table 2) and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes.

次に1モル/Lの硝酸銀溶液468.4mlを2分間かけて添加し、10分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(セイシン企業社製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により含水率が0.1%になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩を得た。この有機銀塩を用いて作製した熱現像感光材料試料1(後述)について電子顕微鏡を用いた分析結果から、平均粒径(円相当径)0.08μm、アスペクト比5、単分散度10%の平板状粒子であった。   Next, 468.4 ml of 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the obtained cake-like organic silver salt was converted into an airflow dryer Flashjet dryer (Seishin). Was used until the water content became 0.1% according to the operating conditions of the nitrogen gas atmosphere and the hot air temperature at the entrance of the dryer, to obtain a dried powdered organic silver salt. The photothermographic material sample 1 (described later) prepared using this organic silver salt was analyzed using an electron microscope. The average particle diameter (equivalent circle diameter) was 0.08 μm, the aspect ratio was 5, and the monodispersity was 10%. Tabular grains.

尚、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。   In addition, the infrared moisture meter was used for the moisture content measurement of an organic silver salt composition.

〈予備分散液の調製〉
画像形成層バインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃、−SO3K基を0.2ミリモル/g含む)14.57gをMEK1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて撹拌しながら、上記粉末有機銀塩500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液を調製した。
<Preparation of preliminary dispersion>
As the image forming layer binder, 14.57 g of SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 75 ° C., containing 0.2 mmol / g of —SO 3 K group) was dissolved in 1457 g of MEK, and dissolver DISPERMAT CA-40M manufactured by VMA-GETZMANN While stirring with a mold, 500 g of the powdered organic silver salt was gradually added and mixed well to prepare a preliminary dispersion.

〈感光性乳剤分散液の調製〉
予備分散液をポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ社製:トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液を調製した。
<Preparation of photosensitive emulsion dispersion>
Media type disperser DISPERMAT SL filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm zirconia beads (Toray Industries, Inc .: Treceram) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. A photosensitive emulsion dispersion was prepared by supplying to -C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s.

〈安定剤液の調製〉
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液を調製した。
<Preparation of stabilizer solution>
A stabilizer solution was prepared by dissolving 1.0 g of Stabilizer 1 and 0.31 g of potassium acetate in 4.97 g of methanol.

〈2−クロロ安息香酸液の調製〉
1.488gの2−クロロ安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し2−クロロ安息香酸液を調製した。
<Preparation of 2-chlorobenzoic acid solution>
1.488 g of 2-chlorobenzoic acid, 2.779 g of stabilizer 2 and 365 mg of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole are dissolved in 31.3 ml of MEK in the dark to prepare a 2-chlorobenzoic acid solution. did.

〈添加液aの調製〉
還元剤(表2に記載の化合物(還元剤)と量)と0.159gの黄色発色性ロイコ染料(YA−1)、0.159gのシアン発色性ロイコ染料(CA−10)、1.54gの4−メチルフタル酸をMEK110gに溶解し、添加液aとした。
<Preparation of additive solution a>
Reducing agent (compound described in Table 2 (reducing agent) and amount) and 0.159 g of yellow chromophoric leuco dye (YA-1), 0.159 g of cyan chromogenic leuco dye (CA-10), 1.54 g 4-methylphthalic acid was dissolved in 110 g of MEK to obtain an additive solution a.

〈添加液bの調製〉
1.56gのかぶり防止剤2、0.5gのかぶり防止剤3、0.5gのかぶり防止剤4、0.5gのかぶり防止剤5、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し添加液bとした。
<Preparation of additive liquid b>
1.56 g of antifogging agent 2, 0.5 g of antifogging agent 3, 0.5 g of antifogging agent 4, 0.5 g of antifogging agent 5, 3.43 g of phthalazine are dissolved in 40.9 g of MEK and added. b.

〈添加液cの調製〉
0.01gの省銀化剤KをMEK39.99gに溶解し添加液cとした。
<Preparation of additive liquid c>
0.01 g of silver saving agent K was dissolved in 39.99 g of MEK to obtain additive liquid c.

〈添加液dの調製〉
0.5gのp−トルエンチオスルホン酸カリウム、0.5gのかぶり防止剤6をMEK9.0gに溶解し、添加液dとした。
<Preparation of additive liquid d>
0.5 g of potassium p-toluenethiosulfonate and 0.5 g of antifogging agent 6 were dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution d.

〈添加液eの調製〉
1.0gのビニルスルホン〔(CH2=CH−SO2CH22CHOH〕をMEK9.0gに溶解し、添加液eとした。
<Preparation of additive liquid e>
1.0 g of vinyl sulfone [(CH 2 ═CH—SO 2 CH 2 ) 2 CHOH] was dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution e.

〈画像形成層塗布液の調製〉
不活性気体雰囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液1の50g及びMEK15.11gを撹拌しながら21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)1000μlを加え、2分後にかぶり防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加えて1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を添加し、更に20分撹拌した。続いて、安定剤液167mlを添加して10分間撹拌した後、1.32gの前記2−クロロ安息香酸液を添加して1時間撹拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分撹拌した。13℃に保温したまま、0.5gの添加液d、0.5gの添加液e、予備分散液で使用したバインダー13.31gを添加して30分撹拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4%MEK溶液)1.084gを添加して15分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodurN3300/モーベイ社製の脂肪族イソシアネート(10%MEK溶液)、4.27gの添加液b、1.0gの添加液cを順次添加し撹拌することにより画像形成層塗布液を得た。
<Preparation of image forming layer coating solution>
In an inert gas atmosphere (nitrogen 97%), 50 g of the photosensitive emulsion dispersion 1 and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring, and the chemical sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) 1000 μl was added, and after 2 minutes, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added and stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 10 minutes, then gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mole of the above organic chemical sensitizer was added, and further stirred for 20 minutes. . Subsequently, 167 ml of a stabilizer solution was added and stirred for 10 minutes, and then 1.32 g of the 2-chlorobenzoic acid solution was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While maintaining the temperature at 13 ° C., 0.5 g of additive liquid d, 0.5 g of additive liquid e, and 13.31 g of binder used in the preliminary dispersion were added and stirred for 30 minutes, and then tetrachlorophthalic acid (9. (4% MEK solution) 1.084 g was added and stirred for 15 minutes. While further stirring, 12.43 g of additive liquid a, 1.6 ml of Desmodur N3300 / Movey aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of additive liquid b, and 1.0 g of additive liquid c were added. By sequentially adding and stirring, an image forming layer coating solution was obtained.

安定剤液を初めとする各塗布液、画像形成層塗布液の調製に用いた添加剤の構造を以下に示す。   The structures of the additives used for the preparation of each coating solution including the stabilizer solution and the image forming layer coating solution are shown below.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Figure 2005250451
Figure 2005250451

〈画像形成層保護層下層(表面保護層下層)の調製〉
アセトン500g、MEK2100g、メタノール700gに230gのセルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製:CAB−171−15S)を添加し、ディゾルバーで撹拌、溶解した。次に25gのフタラジン、3.5gのCH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2、1gのC1225(CH2CH2O)101225、SF−17の1g、10gのステアリン酸、10gのステアリン酸ブチルを撹拌しながら添加し、溶解した。最後に、MEKに5%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散した単分散度15%単分散シリカ(平均粒子サイズ:表2に記載。シリカ全質量の1%のアルミニウムで表面処理)を140g添加、撹拌し画像形成層保護層下層塗布液を調製した。
<Preparation of image forming layer protective layer lower layer (surface protective layer lower layer)>
To 500 g of acetone, 2100 g of MEK, and 700 g of methanol, 230 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical: CAB-171-15S) was added, and the mixture was stirred and dissolved with a dissolver. Then 25 g phthalazine, 3.5 g CH 2 ═CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH═CH 2 , 1 g C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 , SF -17 g, 10 g stearic acid, 10 g butyl stearate were added with stirring and dissolved. Finally, 140 g of monodispersed 15% monodispersed silica (average particle size: described in Table 2. 1% of aluminum in the total mass of silica) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 5% is added. Then, the mixture was stirred to prepare an image forming layer protective layer lower layer coating solution.

〈画像形成層保護層上層(表面保護層上層)の調製〉
アセトン500g、MEK2100g、メタノール700gに230gのセルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社製:CAB−171−15S)を添加し、ディゾルバーで撹拌、溶解した。次に25gのフタラジン、3.5gのCH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2、1gのC1225(CH2CH2O)101225、SF−17の1g、10gのステアリン酸、10gのステアリン酸ブチルを撹拌しながら添加し、溶解した。最後に、MEKに5%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散した単分散度15%単分散シリカ(平均粒子サイズ:表2に記載。シリカ全質量の1%のアルミニウムで表面処理)を280g添加、撹拌し画像形成層保護層上層塗布液を調製した。
<Preparation of image forming layer protective layer upper layer (surface protective layer upper layer)>
To 500 g of acetone, 2100 g of MEK and 700 g of methanol, 230 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical: CAB-171-15S) was added, and the mixture was stirred and dissolved with a dissolver. Then 25 g of phthalazine, 3.5 g of CH 2 ═CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH═CH 2 , 1 g of C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 , SF -17 g, 10 g stearic acid, 10 g butyl stearate were added with stirring and dissolved. Finally, 280 g of monodispersed 15% monodispersed silica (average particle size: described in Table 2. 1% aluminum of the total mass of silica) dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 5% is added. Then, the mixture was stirred to prepare an image forming layer protective layer upper layer coating solution.

〈熱現像感光材料の作製〉
前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ3.5μmになるように、下引上層B−2上に押出しコーターにて塗布速度50m/minにて塗布を行った。尚、乾燥は乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて行った。
<Preparation of photothermographic material>
The backcoat layer coating solution and the backcoat layer protective layer coating solution prepared as described above were extruded onto the undercoating upper layer B-2 so that the dry film thickness was 3.5 μm, respectively, and the coating speed was 50 m / Application was performed in min. The drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

前記画像形成層塗布液と画像形成層保護層(表面保護層)塗布液を押出し(エクストルージョン)コーターを用いて塗布速度50m/minにて、下引上層A−2上に同時重層塗布することにより表2、表3に示す感光材料試料1〜17を作製した。塗布は、画像形成層は塗布銀量1.2g/m2、画像形成層保護層(表面保護層)は乾燥膜厚で3.0μm(表面保護層上層1.5μm、表面保護層下層1.5μm)になる様に行った後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて10分間乾燥を行った。 The image forming layer coating solution and the image forming layer protective layer (surface protective layer) coating solution are simultaneously coated on the subbing upper layer A-2 at an application speed of 50 m / min using an extrusion coater. Thus, photosensitive material samples 1 to 17 shown in Tables 2 and 3 were prepared. As for coating, the image forming layer has a coated silver amount of 1.2 g / m 2 , and the image forming layer protective layer (surface protective layer) has a dry film thickness of 3.0 μm (surface protective layer upper layer 1.5 μm, surface protective layer lower layer 1. 5 μm), followed by drying for 10 minutes using drying air having a drying temperature of 75 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

得られた熱現像感光材料の画像形成層側の膜面pHは5.3、バックコート層側の膜面pHは5.5であった。   The obtained photothermographic material had a film surface pH of 5.3 on the image forming layer side and a film surface pH of 5.5 on the backcoat layer side.

尚、試料9については、試料1における、粉末有機銀塩Aの調製において、ベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gのかわりにベヘン酸259.9gを用いたこと以外は試料1と同様にして試料を作製した。   For sample 9, in the preparation of powdered organic silver salt A in sample 1, behenic acid 259. instead of 130.8 g behenic acid, 67.7 g arachidic acid, 43.6 g stearic acid, and 2.3 g palmitic acid. A sample was prepared in the same manner as Sample 1 except that 9 g was used.

試料10については、試料1における、粉末有機銀塩Aの調製において、1.5モル/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlのかわりに1.5モル/Lの水酸化カリウム水溶液540.2mlを用いたこと以外は試料1と同様にして試料を作製した。   For sample 10, in the preparation of powdered organic silver salt A in sample 1, 540.2 ml of 1.5 mol / L potassium hydroxide aqueous solution was used instead of 540.2 ml of 1.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution. A sample was prepared in the same manner as Sample 1 except that it was used.

試料11については、試料1におけるバックコート層保護層、画像形成層保護層(上層及び下層)の弗素系活性剤をSF−17からC817SO3Liに変更した以外は試料1と同様にして試料を作製した。 Sample 11 was the same as Sample 1 except that the fluorine-based activator of the backcoat layer protective layer and the image forming layer protective layer (upper layer and lower layer) in Sample 1 was changed from SF-17 to C 8 F 17 SO 3 Li. A sample was prepared.

試料12については、試料1での予備分散液Aの調製における画像形成層バインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg75℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)に代えて、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg65℃、SO3Kを0.2ミリモル/g含む)を用いたこと以外は試料1と同様にして試料を作製した。 Sample 12 was replaced with SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 75 ° C., containing 0.2 mmol / g of SO 3 K) as the image-forming layer binder in the preparation of preliminary dispersion A in Sample 1. A sample was prepared in the same manner as Sample 1 except that 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 65 ° C., SO 3 K was contained 0.2 mmol / g) was used.

〈露光及び現像処理〉
上記のように作製した熱現像感光材料試料1〜17を半切サイズ(34.5cm×43.0cm)に加工した後、図1に示す熱現像処理装置を用いて以下の要領で処理した。
<Exposure and development processing>
The photothermographic material samples 1 to 17 prepared as described above were processed into half-cut sizes (34.5 cm × 43.0 cm), and then processed in the following manner using the heat development processing apparatus shown in FIG.

熱現像感光材料試料をフィルムトレイから取り出し、レーザ露光部に搬送した後、画像形成層面側から、発光波長405nmの半導体レーザ(日亜化学工業のNLHV3000E)を露光源とした露光機により、レーザ光の光量を0および1mW/mm2〜1000mW/mm2の間で変化させて感材の露光を行った。その後、熱現像感光材料は熱現像部へと搬送され、ヒートドラムが熱現像感光材料の画像形成層側の保護層とドラム表面とが接触するようにして、123℃で13.5秒熱現像処理した後、熱現像感光材料を装置外に搬出した。この時の感光材料供給部から画像露光部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ20mm/secで行った。尚、露光及び現像は23℃・50%RHに調湿した部屋で行った。露光は最高出力から1段ごとに露光エネルギー量をlogE0.05ずつ減じながら階段状に行った。 After taking the photothermographic material sample from the film tray and transporting it to the laser exposure unit, from the image forming layer surface side, the laser beam is emitted by an exposure machine using a semiconductor laser having an emission wavelength of 405 nm (NLHV3000E from Nichia Corporation) as an exposure source. was exposed sensitive material of the light amount was varied between 0 and 1mW / mm 2 ~1000mW / mm 2 . Thereafter, the photothermographic material is conveyed to a heat developing unit, and the heat drum is heat-developed at 123 ° C. for 13.5 seconds so that the protective layer on the image forming layer side of the photothermographic material is in contact with the drum surface. After the processing, the photothermographic material was carried out of the apparatus. At this time, the conveyance speed from the photosensitive material supply section to the image exposure section, the conveyance speed at the image exposure section, and the conveyance speed at the heat development section were each 20 mm / sec. The exposure and development were performed in a room adjusted to 23 ° C. and 50% RH. The exposure was performed in a stepped manner while reducing the exposure energy amount by log E0.05 step by step from the maximum output.

〈包装材料〉
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3%を含むポリエチレン50μm、酸素透過率:0ml/atm・m2・25℃・day、水分透過率:0g/atm・m2・25℃・day。紙トレーを使用。
<Packaging materials>
PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% carbon, oxygen transmission rate: 0 ml / atm · m 2 · 25 ° C. · day, moisture transmission rate: 0 g / atm · m 2 · 25 ° C./day. Use paper tray.

〈性能評価〉
熱現像された各画像について下記性能を評価した。
<Performance evaluation>
The following performance was evaluated for each heat-developed image.

《画像濃度》
上記の条件にて得られた画像の最高濃度部の値を濃度計により測定し画像濃度として示した。
<Image density>
The value of the highest density portion of the image obtained under the above conditions was measured with a densitometer and indicated as the image density.

《平均階調》
得られたセンシトメトリー試料をPDM65透過濃度計(コニカ社製)を用いて濃度測定し、測定結果をコンピューター処理して特性曲線を得た。この特性曲線から光学濃度0.25〜2.5の平均階調(Ga)値を求めた。
《Average gradation》
The obtained sensitometric sample was subjected to concentration measurement using a PDM65 transmission densitometer (manufactured by Konica), and the measurement result was computer processed to obtain a characteristic curve. From this characteristic curve, an average gradation (Ga) value with an optical density of 0.25 to 2.5 was obtained.

《搬送性》
熱現像処理装置を用いて50回現像処理を行い、搬送不良の発生した回数を測定した。
<Transportability>
Development processing was performed 50 times using a heat development processing apparatus, and the number of times of occurrence of conveyance failure was measured.

《熱現像時の濃度むら》
現像後の濃度むらを目視で、以下の基準で評価した。
《Density unevenness during heat development》
The density unevenness after development was visually evaluated based on the following criteria.

5:濃度むらの発生は見られない
4:わずかに濃度むらが発生
3:一部で弱い濃度むらが発生
2:一部で強い濃度むらが発生
1:全面で強い濃度むらが発生
《経時かぶり特性》
作製した熱現像感光材料を内部が25℃で湿度55%に保たれた密閉容器中に入れた後55℃で7日間経時保存した(強制経時)。比較として同じ熱現像感光材料を25℃で湿度55%にて遮光容器中に7日経時保存した。これらの試料をセンシトメトリーの評価に用いたものと同じ処理を行い、かぶり部分の濃度を測定した。
ΔDmin(かぶりの増加)=(強制経時のかぶり)−(比較用経時のかぶり)を算出し熱現像感光材料の経時かぶり特性をみた。
5: Concentration unevenness is not observed 4: Slight concentration unevenness occurs 3: Some weak density unevenness occurs 2: Strong concentration unevenness occurs partly 1: Strong density unevenness occurs over the entire surface Characteristic"
The produced photothermographic material was placed in a sealed container whose inside was kept at 25 ° C. and 55% humidity, and then stored at 55 ° C. for 7 days (forced aging). For comparison, the same photothermographic material was stored for 7 days in a light-shielding container at 25 ° C. and 55% humidity. These samples were subjected to the same treatment as that used for evaluation of sensitometry, and the density of the fogged part was measured.
ΔDmin (increased fog) = (fogging with forced aging) − (fogging with time for comparison) was calculated, and the aging characteristics of the photothermographic material were observed.

《Rz(E)/Rz(B)》《Ra(E)/Ra(B)》《Rz(E)/Ra(E)》
熱現像の処理前の試料について、非接触3次元表面解析装置(WYKO社RST/PLUS)を用いて、Rz、Raを下記に示す方法により測定した。
1.対物レンズ:×10.0、中間レンズ:×1.0
2.測定範囲:463.4μm×623.9μm
3.ピクセルサイズ:368×238
4.フィルター:円筒補正と傾き補正
5.スムージング:ミディアムスムージング
6.スキャンスピード:Low
なおRz、Raの定義はJIS表面粗さ(B0601)に従った。測定は10cm×10cmの各試料について、1cm間隔で碁盤目状に100分割し、各正方形領域の中心について測定を行ない、100回の測定からその平均値を求めた。これによりRz(E)、Rz(B)、Ra(E)、Ra(B)を求め、Rz(E)/Rz(B)、Ra(E)/Ra(B)、Rz(E)/Ra(E)を得た。
<< Rz (E) / Rz (B) >><< Ra (E) / Ra (B) >><< Rz (E) / Ra (E) >>
About the sample before the process of heat development, Rz and Ra were measured by the method shown below using the non-contact three-dimensional surface analyzer (WYKO company RST / PLUS).
1. Objective lens: × 10.0, Intermediate lens: × 1.0
2. Measurement range: 463.4 μm × 623.9 μm
3. Pixel size: 368 × 238
4). Filter: Cylindrical correction and tilt correction Smoothing: Medium smoothing6. Scan speed: Low
In addition, the definition of Rz and Ra followed JIS surface roughness (B0601). For each sample of 10 cm × 10 cm, the sample was divided into 100 in a grid pattern at 1 cm intervals, the center of each square region was measured, and the average value was obtained from 100 measurements. Thus, Rz (E), Rz (B), Ra (E), Ra (B) are obtained, and Rz (E) / Rz (B), Ra (E) / Ra (B), Rz (E) / Ra (E) was obtained.

結果を併せて表2、表3に示す。   The results are also shown in Tables 2 and 3.

Figure 2005250451
Figure 2005250451

Figure 2005250451
Figure 2005250451

表2、表3から、比較の画像形成方法と比べて、本発明の画像形成方法は、高濃度で、熱現像時の搬送不良や濃度むらの発生がなく、経時でのかぶり上昇防止に優れていることが明らかである。   From Tables 2 and 3, compared with the comparative image forming method, the image forming method of the present invention has a high density, no occurrence of conveyance failure or density unevenness at the time of heat development, and excellent prevention of fog rise with time. It is clear that

又、試料11と1を比較すると、搬送性、環境適性(生体内での蓄積性)については、試料1の方が優れた特性を有することが判った。又、試料12と1を比較すると、高温保存時の画像保存性については、試料1の方が優れた特性を有することが判った。   Further, comparing Samples 11 and 1, it was found that Sample 1 has superior characteristics in terms of transportability and environmental suitability (accumulation in vivo). Further, comparing Samples 12 and 1, it was found that Sample 1 has superior characteristics with respect to image storage stability during high-temperature storage.

本発明の熱現像感光材料を処理する熱現像処理装置の一例を示す図である。1 is a diagram showing an example of a heat development processing apparatus for processing a photothermographic material of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ヒートドラム
2 対向ローラー
6 剥離爪
100 熱現像装置
110 給送部
120 露光部
130 現像部
140 供給ローラー対
141,142,143,145 搬送ローラー対
144 供給ローラー対
150 冷却部
160 集積部
F フィルム
C フィルムトレイ
L レーザビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heat drum 2 Opposed roller 6 Peeling nail | claw 100 Heat developing apparatus 110 Feeding part 120 Exposure part 130 Developing part 140 Supply roller pair 141,142,143,145 Transport roller pair 144 Supply roller pair 150 Cooling part 160 Accumulation part F Film C Film tray L Laser beam

Claims (17)

支持体上に、有機銀塩、ハロゲン化銀、バインダー及び還元剤を含有する画像形成層を有する熱現像感光材料において、該支持体をはさんで画像形成層側の最表面の十点平均粗さを(Rz(E))、該支持体をはさんで画像形成層と反対側の最表面の十点平均粗さを(Rz(B))とするときRz(E)/Rz(B)の値が0.1以上0.7以下であることを特徴とする熱現像感光材料。 In a photothermographic material having an image forming layer containing an organic silver salt, silver halide, a binder and a reducing agent on a support, a ten-point average roughness of the outermost surface on the image forming layer side with the support interposed therebetween. Rz (E) / Rz (B) where (Rz (E)) is the ten-point average roughness of the outermost surface on the opposite side of the image forming layer across the support (Rz (B)) The photothermographic material is characterized by having a value of 0.1 to 0.7. 更に、支持体をはさんで画像形成層側の層に含まれるマット剤の平均粒子サイズで最大のものの平均粒子サイズをLe(μm)、支持体をはさんで画像形成層と反対側の層に含まれるマット剤の平均粒子サイズが最大のものの平均粒子サイズをLb(μm)とするとき、Lb/Leが2.0以上10以下であることを特徴とする請求項1記載の熱現像感光材料。 Furthermore, the average particle size of the largest average particle size of the matting agent contained in the layer on the image forming layer side across the support is Le (μm), and the layer on the side opposite to the image forming layer across the support 2. The photothermographic material according to claim 1, wherein Lb / Le is 2.0 or more and 10 or less, where Lb (μm) is the average particle size of the matting agent having the largest average particle size. material. 画像形成層側の表面の中心線平均表面粗さをRa(E)とし、支持体をはさんで画像形成層と反対側の表面の中心線平均表面粗さをRa(B)とするとき、Ra(E)/Ra(B)の値が0.5以上、1.5以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の熱現像感光材料。 When the center line average surface roughness of the surface on the image forming layer side is Ra (E) and the center line average surface roughness of the surface opposite to the image forming layer across the support is Ra (B), 3. The photothermographic material according to claim 1, wherein the value of Ra (E) / Ra (B) is from 0.5 to 1.5. Rz(E)/Ra(E)の値が10以上、70以下であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の熱現像感光材料。 4. The photothermographic material according to claim 1, wherein the value of Rz (E) / Ra (E) is 10 or more and 70 or less. ハロゲン化銀が、沃化銀を5モル%以上100モル%以下の割合で含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 5. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains silver iodide in a proportion of 5 mol% to 100 mol%. ハロゲン化銀が、沃化銀を40モル%以上100モル%以下の割合で含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 6. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains silver iodide in a proportion of 40 mol% to 100 mol%. 画像形成層を有する面側に、ビニル化合物、ヒドラジン誘導体、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、シラン化合物及び4級オニウム塩から選ばれる少なくとも1種の省銀化剤を含有することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項記載の熱現像感光材料。 2. A silver saving agent selected from a vinyl compound, a hydrazine derivative, a phenol derivative, a naphthol derivative, a silane compound, and a quaternary onium salt is contained on the side having an image forming layer. The photothermographic material according to claim 1. バインダーのガラス転移温度(Tg)が70〜150℃であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to claim 1, wherein the binder has a glass transition temperature (Tg) of 70 to 150 ° C. 下記一般式(SF)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項記載の熱現像感光材料。
一般式(SF) (Rf(L)n1p(Y)m1(A)q
(式中、Rfは弗素原子を有する置換基を表し、Lは弗素原子を有しない2価の連結基を表し、Yは弗素原子を有しない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩基を表す。m1、n1は各々0又は1の整数を表し、p及びqは各々1〜5の整数を表す。ただし、qが1の時、n1とm1は同時に0とはならない。)
The photothermographic material according to claim 1, comprising a compound represented by the following general formula (SF).
Formula (SF) (Rf (L) n1 ) p (Y) m1 (A) q
Wherein Rf represents a substituent having a fluorine atom, L represents a divalent linking group having no fluorine atom, Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom, and A represents an anion M1 and n1 each represents an integer of 0 or 1, and p and q each represent an integer of 1 to 5. However, when q is 1, n1 and m1 are not 0 at the same time. .)
ハロゲン化銀の平均粒子サイズが10〜50nmであるハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 10. The photothermographic material according to claim 1, further comprising silver halide grains having an average grain size of 10 to 50 nm. ハロゲン化銀が、更に平均粒子サイズ55〜100nmのハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 11. The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide further contains silver halide grains having an average grain size of 55 to 100 nm. ハロゲン化銀が、カルコゲン化合物により化学増感されたハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to claim 1, wherein the silver halide contains silver halide grains chemically sensitized with a chalcogen compound. 画像形成層に含有される銀量が0.3〜1.5g/m2であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項記載の熱現像感光材料。 13. The photothermographic material according to claim 1, wherein the amount of silver contained in the image forming layer is from 0.3 to 1.5 g / m < 2 >. 請求項1〜13のいずれか1項記載の熱現像感光材料を、露光光源が350nm〜450nmに発光ピーク強度を有するレーザで露光して画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 An image forming method comprising: exposing the photothermographic material according to any one of claims 1 to 13 with a laser whose exposure light source has an emission peak intensity at 350 nm to 450 nm to form an image. 現像温度123℃、現像時間13.5秒で熱現像して得られる画像が、拡散濃度(Y軸)と常用対数露光量(X軸)の単位長の等しい直交座標上に示される特性曲線について、拡散光での光学濃度で0.25〜2.5の範囲における平均階調が2.0〜4.0であることを特徴とする請求項14記載の画像形成方法。 Regarding the characteristic curve shown on the orthogonal coordinates where the unit length of the diffusion density (Y axis) and the common logarithmic exposure (X axis) is equal, the image obtained by thermal development at a development temperature of 123 ° C. and a development time of 13.5 seconds The image forming method according to claim 14, wherein the average gradation in the range of 0.25 to 2.5 in terms of optical density with diffused light is 2.0 to 4.0. 熱現像処理装置を使用して熱現像部の搬送速度を10〜200mm/sec、感光材料供給部から画像露光部の間の搬送速度を10〜200mm/sec、画像露光部での搬送速度を10〜200mm/secで熱現像することを特徴とする請求項14又は15記載の画像形成方法。 Using a heat development processing apparatus, the conveyance speed of the heat development unit is 10 to 200 mm / sec, the conveyance speed between the photosensitive material supply unit and the image exposure unit is 10 to 200 mm / sec, and the conveyance speed of the image exposure unit is 10 The image forming method according to claim 14, wherein the image is thermally developed at a speed of ˜200 mm / sec. 1mW/mm2以上の照度を有する光で露光した後、熱現像することを特徴とする請求項14、15又は16記載の画像形成方法。 The image forming method according to claim 14, 15 or 16, wherein the image is exposed to light having an illuminance of 1 mW / mm 2 or more and then thermally developed.
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