JP2005250025A - フォトニッククリスタル光ファイバの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 石英ロッド、石英管、及び石英ジャケット管が十分に融着一体化したフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明に係るフォトニッククリスタル光ファイバ１０の製造方法は、石英ロッド２１の周りに石英管２２を複数本配置してなる石英束部材２３を、石英ジャケット管２４内に挿入配置してプリフォーム２０を形成し、そのプリフォーム２０内の脱水処理を行った後、プリフォーム２０に加熱処理を施して石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４を融着一体化し、その後、融着一体化させたプリフォーム２０に線引き加工を施すものである。
【選択図】 図２

Description

本発明は、光ファイバのクラッド部に、ファイバ長手方向に一様なフォトニック結晶構造を有するフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法に関するものである。

従来の光ファイバにおいては、コア部に添加物を入れることで、コアとクラッドとの間に屈折率の差をもたせ、それによってコアとクラッドとの間で全反射を生じさせて光波をコア内に導波させている。そして、異なる屈折率プロファイルの光ファイバを用いることにより、様々な特性を有する光ファイバが得られていた。

ところで、近年、光通信ネットワーク及び光信号処理の高速化に伴って、更に大容量の光ファイバが必要とされている。そこで、光ファイバの新しい可能性を切り開く技術として、フォトニッククリスタル光ファイバ（Photonic Crystal Fiber（以下、ＰＣＦと記す））が注目されている（例えば、非特許文献１参照）。

ＰＣＦとは、光ファイバのクラッド部に、光ファイバの長手方向に一様な２次元周期のフォトニック結晶（Photonic Crystal）構造を有しており、その導波原理の違いから分類して、おおよそ２種類に大別される。

１つは、クラッドに相当する領域に、フォトニックバンドギャップ（Photonic Band Gap）を設け、ブラッグ反射によって光波をコア内に閉じこめるものである（例えば、非特許文献２参照）。

もう１つは、従来の光ファイバと同様に、コアとクラッドの屈折率差を利用し、全反射によって光波をコア内に閉じこめるものである。従来の光ファイバが、コア部に添加物をドーピングすることによってコアとクラッドとの間に屈折率差をもたせていたのに対し、全反射を利用したＰＣＦは、図１３に示すホーリーファイバ（Holey Fiber）のように、コア部１３２の周りのクラッド部１３３に設けた空孔１３４により、実効屈折率を下げたものである。

ＰＣＦ１３０は、クラッド部１３３に設ける空孔１３４のデザイン（形状、配置密度）により、超広帯域単一モード伝送領域、大きな実効コア断面積、High-Δ、大きな構造分散など、通常の光ファイバでは実現できない特性を備えている。

ＰＣＦの製造方法は、図１４に示すように、先ず、細径で、所定の長さの石英管１４２及び石英ロッド１４１を用意し、石英ロッド１４１の周りに石英管１４２を数百本束ねて石英束部材１４３を形成し、その石英束部材１４３を石英ジャケット管１４４内に挿入配置してプリフォーム１４０を形成する。次に、プリフォーム１４０の石英ジャケット管１４４内に、脱水作用を有する活性ガスを供給し、石英ジャケット管１４４内の脱水処理を行う。次に、脱水処理後のプリフォーム１４０の一端側からその内部にＮ₂ガスを供給しながら、プリフォーム１４０の他端側の線引きを行い、石英ロッド１４１、石英管１４２、及び石英ジャケット管１４４を融着一体化させ、所定の径のＰＣＦ１３０を得ている（例えば、特許文献１参照）。

クレガン、外（R.F.Cregan et al.）,「シングルモード フォトニック バンド ギャップ ガイダンス オブ ライト イン エア（Single-Mode Photonic Band Gap Guidance of Light in Air）」,サイエンス（Science）,（米国）,1999年9月3日,第285号,p.1537-1539 ナイト、外（J.C.Knight）,「フォトニック バンド ギャップ ガイダンス イン オプティカル ファイバ（Photonic Band Gap Guidance in Optical Fibers）」,サイエンス（Science）,（米国）,1998年11月20日,第282号,p.1476-1478 特開２００３−２０６１４８号公報

ところで、従来のＰＣＦ１３０の製造方法においては、プリフォーム１４０に線引き加工を施す際、同時に石英ロッド１４１、石英管１４２、及び石英ジャケット管１４４の融着一体化を行っている。しかしながら、この融着一体化が不十分であることから、ＰＣＦ１３０のフォトニック結晶構造に構造不良が生じ、具体的にはＰＣＦ１３０の空孔１３４の大きさが不均一となり、ＰＣＦ１３０の伝送損失が悪化するという問題があった。

また、脱水作用を有する活性ガスを用いた脱水処理では、プリフォーム１４０内の、石英ロッド１４１と石英管１４２との空隙、各石英管１４２同士の空隙、石英管１４２と石英ジャケット管１４４との空隙、及び石英管１４２内部の表面部に存在するＯＨ基を十分に取り除くことができず、残留したＯＨ基が、線引き時にコア部１３２に拡散してしまい、ＰＣＦ１３０の伝送損失の悪化を招くという問題があった。

以上の事情を考慮して創案された本発明の目的は、石英ロッド、石英管、及び石英ジャケット管が十分に融着一体化したフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法を提供することにある。

上記目的を達成すべく本発明に係るフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法は、光ファイバのクラッド部に、ファイバ長手方向に一様なフォトニック結晶構造を有するフォトニッククリスタル光ファイバを製造する方法において、
石英ロッドの周りに石英管を複数本配置してなる石英束部材を、石英ジャケット管内に挿入配置してプリフォームを形成し、そのプリフォーム内の脱水処理を行った後、プリフォームに加熱処理を施して上記石英ロッド、上記石英管、及び上記石英ジャケット管を融着一体化し、その後、融着一体化させたプリフォームに線引き加工を施すものである。

ここで、石英ロッド及び石英管は、その最外層にフッ素ドープ層を有し、かつ、石英ジャケット管は、少なくともその内表層にフッ素ドープ層を有することが好ましい。

また、脱水処理の際、プリフォーム内に、脱水処理剤であるＣｌ₂と共にエッチング剤のＣ₂Ｆ₆を供給し、脱水処理と、石英ロッド、石英管、及び石英ジャケット管の表面エッチング処理とを同時に行うことが好ましい。

また、プリフォームに加熱処理を施して石英ロッド、石英管、及び石英ジャケット管を融着一体化した後、プリフォームを完全に密封し、その後、線引き加工を施すことが好ましい。

以上によれば、プリフォームに線引き加工を施す前に、石英ロッド、石英管、及び石英ジャケット管の融着一体化を行い、この融着一体化させたプリフォームを線引きに供することで、フォトニッククリスタル光ファイバのフォトニック結晶構造を均一に配列させることができる。

本発明によれば、低伝送損失のフォトニッククリスタル光ファイバを得ることができるという優れた効果を発揮する。

以下、本発明の好適一実施の形態を添付図面に基づいて説明する。

本発明の好適一実施の形態に係るＰＣＦの製造方法により得られたＰＣＦの斜視図を図１に示す。

図１に示すように、本実施の形態により得られたＰＣＦ１０は、その中央部にコア部１１を有し、コア部１１の周りにクラッド部１２を有するものであり、クラッド部１２におけるコア部１１の近傍に、ファイバ長手方向に一様な２次元周期（ハニカム状）のフォトニック結晶構造１３を有している。フォトニック結晶構造１３は、コア部１１の周りに同心円状に形成、配列された複数の空孔１４で構成され、各空孔１４はファイバ長手方向（図１中では上下方向）に連通している。

次に、本実施の形態に係るＰＣＦ１０の製造方法を、添付図面に基づいて説明する。

本実施の形態に係るＰＣＦ１０の製造に先立って、石英ロッド（石英棒）２１及び石英管２２を予め作製しておく。ここで、石英ロッド２１は、図３に示すように、純粋石英で構成されるロッド本体３１の外周に、純粋石英にフッ素を添加してなるフッ素ドープ層３２を設けたものである。また、石英管２２は、図５に示すように、純粋石英で構成される管本体５１の外周に、純粋石英にフッ素を添加してなるフッ素ドープ層５２を設けたものであり、両端を封止したものである。石英ロッド２１及び石英管２２は、同径で、同じ長さとすることが好ましい。

次に、図２に示すように、線引後にコア部１１となる細径の石英ロッド２１の周りに、線引後にクラッド部１２のフォトニック結晶構造１３を構成する細径の石英管２２を、稠密に（最密に）、複数本、例えば、数百本束ねて配置し、石英束部材２３を形成する。その後、この石英束部材２３を、図７（ａ）に示す管全体にフッ素を添加（ドープ）してなる石英ジャケット管２４内に挿入配置し、プリフォーム２０を形成する。

得られたプリフォーム２０内に、脱水処理剤であるＣｌ₂及びＯ₂と共にエッチング剤のＣ₂Ｆ₆を供給し、脱水処理と、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４の表面エッチング処理とを同時に行う。

その後、プリフォーム２０に加熱処理を施して石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４を融着一体化した後、その融着一体化したプリフォーム２０を完全に密封する。その後、完全に密封したプリフォーム２０に、所定のファイバ径となるように線引きを行うことで、ＰＣＦ１０が得られる。

より詳細に、ＰＣＦ１０の製造方法を説明する。

石英ロッド２１は、スート母材に熱処理を施して透明化した透明ガラスプリフォームを線引きすることで得られる。このスート母材は、外付けＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により作製される。具体的には、図４に示すように、石英ロッド４１（例えば、外径が２５ｍｍ、長さが１ｍ）を外付けＣＶＤ装置４０にセットした後、石英ロッド４１をゆっくりと回転（例えば、１５ｒｐｍの回転速度で回転）させながら、その外周にスート層４２を堆積形成することで、スート母材４５（例えば、外径が３５ｍｍ）が得られる。スート層４２の堆積は、原料ガス（例えば、流量が250cc/minのＳｉＣｌ₄、流量が100cc/minのＳｉＦ₄、流量が15ｌ/minのＯ₂、及び流量が10ｌ/minのＨ₂で構成されるガス）と燃料ガスとの混合ガスＧをバーナ４３に供給し、このバーナ４３の火炎で石英ロッド４１の外周を炙ることでなされる。このスート母材４５を、所定の雰囲気下（例えば、流量が10ｌ/minのＨｅ及び流量が200cc/minのＣｌ₂で構成されるガス）、所定の温度（例えば、約１５００℃）で加熱処理することで、透明ガラスプリフォーム（例えば、外径が３０ｍｍ）が得られる。この透明ガラスプリフォームを通常の線引き方法で線引きすることで、図３に示した石英ロッド２１（例えば、外径が５００μｍ）が得られる。

石英管２２も、石英ロッド２１と同様の方法で作製される。具体的には、図６に示すように、図４と同様の外付けＣＶＤ装置４０に、石英管６１（例えば、外径が２５ｍｍ、内径が１８ｍｍ、長さが１ｍ）をセットした後、石英管６１をゆっくりと回転（例えば、１５ｒｐｍの回転速度で回転）させながら、その外周にスート層４２を堆積形成することで、スート母材６５（例えば、外径が３５ｍｍ、内径が１８ｍｍ）が得られる。その後は、石英ロッド２１の製造方法と同様にして、透明化、線引きを行い、図５に示した石英管２２（例えば、外径が５００μｍ）が得られる。

石英ロッド２１及び石英管２２における各フッ素ドープ層３２，５２の層厚は、石英ロッド２１及び石英管２２全体の外径の１／２０〜１／１０とされる。例えば、石英ロッド２１及び石英管２２全体の外径が５００μｍの場合、各フッ素ドープ層３２，５２の層厚は２５〜５０μｍとされる。この時、各フッ素ドープ層３２，５２の層厚が２５μｍ未満だと、後述するように、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４表面の融点を低下させる効果が十分でなく、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４の融着一体化の不良により、気泡が発生するためである。一方、各フッ素ドープ層３２，５２の層厚が５０μｍを超えると、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４表面の融点が低下し過ぎてしまい、石英管２２の孔部が変形してしまい、設計通りに融着一体化を行うことができなくなるためである。

石英ジャケット管２４としては、図７（ａ）に示した管全体にフッ素が添加されたものの他に、図７（ｂ）に示すように、管本体７１の内面にフッ素ドープ層７２を設けたものであってもよい。ここで、フッ素ドープ層７２の層厚は、石英ロッド２１及び石英管２２全体の外径と同等以下とされる。例えば、石英ロッド２１及び石英管２２全体の外径が５００μｍの場合、フッ素ドープ層７２の層厚も約５００μｍ以下とされる。

各フッ素ドープ層３２，５２及び石英ジャケット管２４のフッ素含有量は、０．１ｍｏｌ％以上、好ましくは０．１〜２．１ｍｏｌ％とされる。ここで、フッ素含有量を０．１ｍｏｌ％以上としたのは、フッ素含有量が０．１ｍｏｌ％未満であると、後述するように、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４の表面部の融点を低下させる効果が十分でなく、プリフォーム２０の融着一体化時に、融着不良が生じてしまうためである。その結果、図１に示したＰＣＦ１０において、各空孔１４の大きさ及び配列が不均一となってしまう。

上述した方法により得られた石英ロッド２１及び石英管２２は、それぞれ所定の長さに切断される。石英管２２については、この切断時に両端の封止を行う。その後、各切断部材の表面に付着している汚れやゴミを除去するために、流水を用いて破片などの大きいゴミを洗い流した後、エチルアルコールとトリクロロエチレンを用いて超音波洗浄を行う。その後、各切断部材の表面から遊離した汚れやゴミを純水で洗い流した後、１〜２％のフッ酸を用いて酸洗浄し、表面仕上げを行う。石英ロッド２１及び石英管２２の切断時、石英ロッド２１は、石英管２２よりも２０〜３０ｍｍ長めに切断する（例えば、石英ロッド２１を長さ２５０ｍｍ、石英管２２を長さ２３０ｍｍに切断する）。

次に、これらの石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４を用いてプリフォーム２０を形成する際、つまり、石英ロッド２１と石英管２２とで構成される石英束部材２３を石英ジャケット管２４に挿入配置してプリフォーム２０を形成する際、石英管２２が互いに交差することなく（石英管２２がねじれることなく）、両端部が同じ位置に配列されるようにする必要がある。このため、石英束部材２３の形成と、石英束部材２３の石英ジャケット管２４内への挿入配置とは、同時に、かつ、純水中で超音波による微振動を与えながら行うことが好ましい。具体的には、図８に示すように、純水８２を入れた超音波洗浄器８１の中に、所定寸法の石英ジャケット管２４を斜めに立てて配置し、その石英ジャケット管２４内に石英ロッド２１と石英管２２を順次配列して石英束部材２３を形成し、プリフォーム２０を作製する。石英ジャケット管２４の長手方向の寸法精度は、この配列の良否に大きく影響することから、その内径変動は±０．１ｍｍ以下に調整される。

次に、得られたプリフォーム２０を乾燥用の容器内に入れて、付着した水分を蒸発、乾燥させた後、脱水処理に供する。この乾燥処理は、真空容器を用い、真空容器内を油回転式真空ポンプで真空引きすることによって行う。

次に、図９に示すように、プリフォーム２０における石英ジャケット管２４の両端に石英ダミー管９１，９２を融着した後、石英ダミー管９１側からＣｌ₂及びＯ₂を所定の割合（例えば、Ｃｌ₂を20cc/min、Ｏ₂を50cc/minの割合）で導入すると共に、石英ダミー管９２側から所定の割合（例えば、約８０Ｐａ（0.6Torr）/minの割合）で排気を行い、石英ジャケット管２４の内部をＣｌ₂及びＯ₂で一定時間置換する。その後、石英ダミー管９１側から更にＣ₂Ｆ₆を所定の割合（例えば、20cc/minの割合）で導入し、プリフォーム２０内の圧力を一定（例えば、約７３Ｐａ（0.55Torr））に保った状態で、酸水素バーナ９３を用いてプリフォーム２０を加熱する。これにより、石英ジャケット管２４内の脱水処理を行いながら、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４の表面エッチング処理を行う。

次に、この表面エッチング処理・脱水処理の後、図１０に示すように、石英ダミー管９１側からＣｌ₂、Ｏ₂を導入しながら、石英ダミー管９２を封止する。その後、再び酸水素バーナ９３を用いて、プリフォーム２０をフッ素の融解温度まで加熱する。これにより、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４が融着一体化される。その後、図１１に示すように、石英ダミー管９１を封止することで、プリフォーム２０を完全に密封し、密封プリフォーム１１０を作製する。

この密封プリフォーム１１０を所定の外径（例えば、外径φ１２５μｍ）に線引きし、ファイバ化することで、図１に示したＰＣＦ１０（例えば、長さ２．６ｋｍ）が得られる。このＰＣＦ１０の波長分光特性を調べたところ、図１２に示すように、波長１５５０ｎｍにおける伝送損失は４．２ｄＢ／ｋｍであり、非常に低損失であった。

次に、本実施の形態の作用を説明する。

本実施の形態に係るＰＣＦ１０の製造方法においては、プリフォーム２０を線引きに供する前に、プリフォーム２０に熱処理を施し、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４の表面部を部分溶融させ、融着一体化を行っている。プリフォーム２０に熱処理を施すことで、石英ロッド２１、石英管２２、及びジャケット管２４が融着一体化するが、この時に、石英ロッド２１及び石英管２２の最外層とジャケット管２４の内表層が部分溶融する。この部分溶融体は、毛細管現象により拡散して石英束部材２３の隙間（石英ロッド２１と石英管２２との空隙、各石英管２２同士の空隙、及び石英管２２と石英ジャケット管２４との空隙）内に入り込み、石英束部材２３における石英ロッド２１及び石英管２２の配列が乱れるのを抑制する。また、この部分溶融体により、石英ロッド２１と石英管２２との空隙、各石英管２２同士の空隙、及び石英管２２と石英ジャケット管２４との空隙が完全に封じられる。よって、石英ロッド２１、石英管２２、及びジャケット管２４の融着一体化を、プリフォーム２０の径方向に亘って、同時に、かつ、均一に行うことができる。

その結果、本実施の形態に係る製造方法によれば、プリフォーム２０の線引き時に、石英ロッド２１と石英管２２との界面、各石英管２２同士の界面、及び石英管２２と石英ジャケット管２４との界面において気泡が発生することがなくなり、線引き時に融着一体化を行う従来の製造方法と比較して、伝送損失に悪影響を及ぼす気泡などの不純物の含有がより少なく、良好なフォトニック結晶構造を有するＰＣＦ１０を得ることができる。

また、プリフォーム２０の径方向に亘って、均一に線引き（ファイバ化）を行うことができるようになるため、線引き中における石英管２２の大きさ及び配列が不均一になるということはなくなる。その結果、図１に示したＰＣＦ１０において、各空孔１４の大きさ及び配列が均一となる。

また、本実施の形態に係るＰＣＦ１０の製造方法においては、最外層にフッ素ドープ層３２，５２を有する石英ロッド２１及び石英管２２と、少なくとも内表層にフッ素をドープした石英ジャケット管２４とを用いていることにより、純石英で構成される石英ロッド、石英管、及びジャケット管と比較して、融点が低くなっている。このため、プリフォーム２０に熱処理を施して、石英ロッド２１、石英管２２、及びジャケット管２４を融着一体化する際に、石英ロッド２１及び石英管２２の最外層とジャケット管２４の内表層を、容易に部分溶融させることができる。

また、本実施の形態に係るＰＣＦ１０の製造方法においては、プリフォーム２０の融着一体化の前工程で脱水処理を行っているが、この脱水処理の際に、石英ロッド２１、石英管２２、及び石英ジャケット管２４の表面エッチング処理を行っている。石英ロッド２１と石英管２２との空隙、各石英管２２同士の空隙、及び石英管２２と石英ジャケット管２４との空隙表面をエッチングしながら、脱水処理がなされる。このため、石英ロッド２１及び石英管２２の表面と、ジャケット管２４の内表層とに含まれるＯＨ基を、効果的に、かつ、効率よく除去することができる。その結果、従来のように、残留したＯＨ基が、線引き時にコア部に拡散し、ＰＣＦの伝送損失の悪化を招くというおそれはない。つまり、低伝送損失のＰＣＦ１０、すなわち高品質なＰＣＦ１０を得ることができる。

また、本実施の形態に係るＰＣＦ１０の製造方法においては、融着一体化したプリフォーム２０を完全に密封して密封プリフォーム１１０を作製し、この密封プリフォーム１１０に対して線引きを行うようにしている。これによって、線引き時に、プリフォーム２０内に水分を含む空気、つまりＯＨ基が混入するのを防止することができ、ＯＨ基によるＰＣＦの伝送損失に及ぼす影響を、より低減することができる。

また、本実施の形態に係る製造方法により得られたＰＣＦ１０のクラッド部１２は、前述した部分溶融体が均一に拡散しているため、フッ素ドープの石英で構成される。このため、純石英で構成されるクラッド部と比較して屈折率が低くなっている。よって、ＰＣＦ１０の、コア部１１とクラッド部１２との屈折率差は、従来のＰＣＦの、コア部とクラッド部との屈折率差よりも大きくなり、光波をコア部１１に閉じこめる効果がより高くなる。

以上、本発明の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、他にも種々のものが想定されることは言うまでもない。

本発明の好適一実施の形態に係るフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法により得られたＰＣＦの斜視図である。 本発明の好適一実施の形態に係るフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法を説明するための図であり、フォトニッククリスタル光ファイバの製造に用いるプリフォームの斜視図である。 図２のプリフォームにおける石英ロッドの横断面図である。 図３の石英ロッドを製造する際の概略図である。 図２のプリフォームにおける石英管の横断面図である。 図５の石英管を製造する際の概略図である。 図２の石英ジャケット管の横断面図である。 図２のプリフォームを製造する際の概略図である。 図２のプリフォームに脱水処理を施す際の概略図である。 脱水処理後のプリフォームを、融着一体化する際の概略図である。 融着一体化後のプリフォームを、完全に密封した後の縦断面図である。 本発明の好適一実施の形態に係るフォトニッククリスタル光ファイバの、波長分光特性の一例を示す図である。ここで、図中の横軸は波長［ｎｍ］、縦軸は損失［ｄＢ／ｋｍ］である。 従来のフォトニッククリスタル光ファイバの斜視図である。 従来のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法を説明するための図であり、フォトニッククリスタル光ファイバの製造に用いるプリフォームの斜視図である。

符号の説明

２０ プリフォーム
２１ 石英ロッド
２２ 石英管
２３ 石英束部材
２４ 石英ジャケット管

Claims (7)

1. 光ファイバのクラッド部に、ファイバ長手方向に一様なフォトニック結晶構造を有するフォトニッククリスタル光ファイバを製造する方法において、
   石英ロッドの周りに石英管を複数本配置してなる石英束部材を、石英ジャケット管内に挿入配置してプリフォームを形成し、そのプリフォーム内の脱水処理を行った後、プリフォームに加熱処理を施して上記石英ロッド、上記石英管、及び上記石英ジャケット管を融着一体化し、その後、融着一体化させたプリフォームに線引き加工を施すことを特徴とするフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
2. 上記石英ロッド及び上記石英管は、その最外層にフッ素ドープ層を有し、かつ、上記石英ジャケット管は、少なくともその内表層にフッ素ドープ層を有する請求項１記載のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
3. 上記脱水処理の際、上記プリフォーム内に、脱水処理剤であるＣｌ₂と共にエッチング剤のＣ₂Ｆ₆を供給し、脱水処理と、上記石英ロッド、上記石英管、及び上記石英ジャケット管の表面エッチング処理とを同時に行う請求項１又は２記載のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
4. 上記プリフォームに加熱処理を施して上記石英ロッド、上記石英管、及び上記石英ジャケット管を融着一体化した後、プリフォームを完全に密封し、その後、上記線引き加工を施す請求項１から３いずれかに記載のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
5. 上記石英ロッド及び上記石英管の各フッ素ドープ層の層厚が２５〜５０μｍであり、各フッ素ドープ層のフッ素含有量が０．１ｍｏｌ％以上である請求項１から４いずれかに記載のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
6. 上記石英ジャケット管は、その全体にフッ素がドープされてなるものであり、石英ジャケット管全体のフッ素含有量が０．１ｍｏｌ％以上である請求項１から５いずれかに記載のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
7. 上記石英ジャケット管は、その内表層に層厚が５００μｍ以下のフッ素ドープ層を有したものであり、そのフッ素ドープ層のフッ素含有量が０．１ｍｏｌ％以上である請求項１から５いずれかに記載のフォトニッククリスタル光ファイバの製造方法。
   

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