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JP2005118672A - Action evaluation method for drawing device and drawing device, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device and electronic instrument - Google Patents

Action evaluation method for drawing device and drawing device, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device and electronic instrument Download PDF

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JP2005118672A JP2003356756A JP2003356756A JP2005118672A JP 2005118672 A JP2005118672 A JP 2005118672A JP 2003356756 A JP2003356756 A JP 2003356756A JP 2003356756 A JP2003356756 A JP 2003356756A JP 2005118672 A JP2005118672 A JP 2005118672A
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functional liquid
failure
maintenance
cause
liquid droplet
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Hayato Takahashi
隼人 高橋
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an action evaluation method for a drawing device capable of specifying a cause for delivery failure occurring in a delivery nozzle at maintenance of a function liquid drop delivery head, and a drawing device. <P>SOLUTION: The action evaluation method for the drawing device for carrying out drawing action for drawing on a work by the function liquid drop by driving the function liquid drop delivery head; and maintenance action for carrying out the maintenance of the function liquid drop delivery head using a head maintenance means comprises a drawing step for drawing a predetermined test pattern on the function liquid drop delivery head after the maintenance; an image recognition step for image-recognizing the drawn test pattern; a drawing failure determination step for determining whether or not the drawing failure is generated based on the image recognition; a failure specifying step for specifying which of the function liquid drop delivery head itself and the action of maintenance is the cause for the drawing failure based on the image recognition when it is determined as the drawing failure. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、機能液滴吐出ヘッドを用いてワークに描画をおこなう描画装置の動作評価方法および描画装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関するものである。   The present invention relates to an operation evaluation method and a drawing apparatus for a drawing apparatus that performs drawing on a workpiece using a functional liquid droplet ejection head, a method for manufacturing an electro-optical apparatus, an electro-optical apparatus, and an electronic apparatus.

描画装置は、吐出ノズルを形成した機能液滴吐出ヘッドを備えており、ワークに対して機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらこれを選択的に吐出駆動することにより、吐出ノズルから微少な機能液滴(ドット)を精度良く吐出させ、ワークに描画を行うようになっている。   The drawing apparatus includes a functional liquid droplet ejection head in which ejection nozzles are formed. By selectively driving the functional liquid droplet ejection head while moving the functional liquid droplet ejection head relative to the workpiece, the drawing apparatus is slightly disengaged from the ejection nozzle. Functional droplets (dots) are ejected with high accuracy, and drawing is performed on the workpiece.

描画装置に適用される吐出ノズルは、導入する機能液の特性や気泡の混入等に起因して、吐出不良の原因となる目詰まりを生じ易いため、描画装置では、吐出ノズルの目詰まりを防止して適切な吐出機能を確保すべく、ヘッド保守装置を用いて、描画直前に機能液滴吐出ヘッドに対して保守動作を行っている。具体的には、クリーニングユニットを用いて、機能液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の吸引を行うと共に、ワイピングユニットを用いて、機能液の吸引後に機能液滴吐出ヘッドのノズル面の拭取り(ワイピング)を行うようにしている。さらに、このような保守動作の終了後には、描画装置では、機能液滴吐出ヘッドに検査パターン(テストパターン)を描画させ、これに基づいて吐出ノズルの吐出不良を検出しており、実際の描画を行ったときのドット抜けを防止して、適切な描画結果を得られるようになっている。
特開2003−251243号公報
The discharge nozzle applied to the drawing device is prone to clogging that causes discharge failure due to the characteristics of the functional fluid to be introduced and the inclusion of bubbles, etc., so the discharge nozzle prevents clogging of the discharge nozzle. In order to ensure an appropriate ejection function, a maintenance operation is performed on the functional droplet ejection head immediately before drawing using a head maintenance device. Specifically, the functional liquid is sucked from the discharge nozzle of the functional liquid droplet ejection head using the cleaning unit, and the nozzle surface of the functional liquid droplet discharge head is wiped after the functional liquid is sucked using the wiping unit. (Wiping) is performed. Furthermore, after the completion of such a maintenance operation, the drawing apparatus draws an inspection pattern (test pattern) on the functional liquid droplet ejection head, and detects ejection defects of the ejection nozzles based on the test pattern. It is possible to prevent dot dropout when performing and to obtain an appropriate drawing result.
JP 2003-251243 A

ところで、吐出ノズルの吐出不良は、上述した機能液の特性や気泡の混入以外に、機能液滴吐出ヘッド自身やヘッド保守装置の不良によっても生じる。また、機能液滴吐出ヘッドに対するヘッド保守装置の保守動作は、本来、機能液滴吐出ヘッドの目詰まりを防止し、その機能回復を図るためのものであるが、保守動作の動作条件によっては、保守動作を行うことによりかえって目詰まり等の吐出不良を誘発し、機能液滴吐出ヘッドに悪影響を及ぼすことがある。したがって、吐出ノズルの吐出不良を防止し、適切な描画結果を得るためには、これら想定される複数の不良原因の中から実際の不良原因を特定すると共に、特定した不良原因に対応した保守を行うことが必要となる。   By the way, the ejection failure of the ejection nozzle is caused by the malfunction of the functional liquid droplet ejection head itself and the head maintenance device, in addition to the above-described characteristics of the functional liquid and mixing of bubbles. In addition, the maintenance operation of the head maintenance device for the functional liquid droplet ejection head is originally intended to prevent clogging of the functional liquid droplet ejection head and to recover its function, but depending on the operating conditions of the maintenance operation, On the contrary, the maintenance operation may cause a discharge failure such as clogging and may adversely affect the functional liquid droplet discharge head. Therefore, in order to prevent the discharge failure of the discharge nozzle and obtain an appropriate drawing result, the actual failure cause is identified from the plurality of possible failure causes, and maintenance corresponding to the identified failure cause is performed. It is necessary to do.

そこで、本発明は、機能液滴吐出ヘッドの保守に当たり、吐出ノズルに吐出不良が生じた場合にその原因を特定できる描画装置の動作評価方法および描画装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することを課題としている。   Therefore, the present invention provides a drawing apparatus operation evaluation method, a drawing apparatus, an electro-optical device manufacturing method, and an electro-optical device, which can specify the cause when a discharge failure occurs in a discharge nozzle in maintenance of a functional liquid droplet discharge head. It is an object to provide an apparatus and an electronic device.

本発明は、ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、ワークに前記機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置の動作評価方法において、保守した後の機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画工程と、描画したテストパターンを画像認識する画像認識工程と、画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断工程と、描画不良と判断されたときに、画像認識に基づいて、描画不良の原因が、機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定工程と、を備えたことを特徴とする。   The present invention drives a functional liquid droplet ejection head while relatively moving a functional liquid droplet ejection head formed by aligning a plurality of ejection nozzles with respect to a workpiece, whereby functional liquid droplets are ejected from the ejection nozzle. After maintenance in a drawing apparatus operation evaluation method for performing a drawing operation for performing drawing with the functional liquid droplets on the workpiece and a maintenance operation for performing maintenance of the functional liquid droplet ejection head using the head maintenance means. A drawing process for drawing a predetermined test pattern on the liquid droplet ejection head, an image recognition process for recognizing the drawn test pattern, and a drawing defect for judging whether or not a drawing defect has occurred based on the image recognition Determine whether the cause of the drawing failure is due to the functional liquid droplet ejection head itself or maintenance operation based on the image recognition and the judgment process That the defect specification step, characterized by comprising a.

また、本発明は、ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、ワークに機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置において、保守した後の前記機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画手段と、描画したテストパターンを画像認識する画像認識手段と、画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断手段と、描画不良と判断されたときに、画像認識に基づいて、描画不良の原因が、機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定手段と、を備えたことを特徴とする。   The present invention also provides a functional liquid ejected from the ejection nozzle by driving the functional liquid droplet ejection head while moving the functional liquid droplet ejection head formed by aligning a plurality of ejection nozzles with respect to the workpiece. The above-mentioned function after maintenance in a drawing apparatus which performs a drawing operation for discharging a droplet and drawing a functional droplet on a work and a maintenance operation for maintaining a functional droplet discharge head using a head maintenance means A drawing means for drawing a predetermined test pattern on the droplet discharge head, an image recognition means for recognizing the drawn test pattern, and a drawing defect judgment means for judging whether or not a drawing defect has occurred based on the image recognition And, when it is determined that the drawing is defective, based on the image recognition, the defect that specifies whether the cause of the drawing failure is due to the functional liquid droplet ejection head itself or the maintenance operation Characterized by comprising a constant means.

これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの保守動作後に描画させたテストパターンに基づいて、機能液滴吐出ヘッドから機能液滴が適切に吐出されているか否かが判断(判定)されるので、保守動作による影響を反映させた状態で、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良を判断することができる。すなわち、機能液滴吐出ヘッド自身の状態や機能液滴吐出ヘッドに対する保守動作の影響を複合的に考慮した状態で機能液滴吐出ヘッドの吐出不良を判断することができる。また、テストパターンの画像認識に基づいて、描画不良の原因が機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかが特定されるので、特定した不良原因に対応したメンテナンスを行うことにより、速やかに機能液滴吐出ヘッドから機能液滴が適切に吐出される状態に導くことができ、装置のメンテナンス性を向上させることができる。すなわち、機能液滴吐出ヘッドに不良があるにもかかわらず、保守動作に関連したメンテナンスを行うといったことを防止することができる。なお、(描画工程または描画手段による)テストパターンの描画は、機能液滴吐出ヘッドに対する保守が終了した直後に行うことが好ましい。   According to these configurations, it is determined (determined) whether or not the functional liquid droplets are appropriately ejected from the functional liquid droplet ejection head based on the test pattern drawn after the maintenance operation of the functional liquid droplet ejection head. Therefore, it is possible to determine the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head while reflecting the influence of the maintenance operation. In other words, it is possible to determine the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head in a state where the influence of the maintenance operation on the functional liquid droplet ejection head itself and the maintenance operation on the functional liquid droplet ejection head are combined. Also, based on the image recognition of the test pattern, it is specified whether the cause of the drawing failure is due to the functional liquid droplet ejection head itself or the maintenance operation, so by performing maintenance corresponding to the specified cause of failure, It is possible to promptly lead to a state in which functional liquid droplets are appropriately ejected from the functional liquid droplet ejection head, and it is possible to improve the maintainability of the apparatus. That is, it is possible to prevent the maintenance related to the maintenance operation from being performed even though the functional liquid droplet ejection head is defective. It should be noted that the test pattern drawing (by the drawing step or drawing means) is preferably performed immediately after the maintenance of the functional liquid droplet ejection head is completed.

この場合、描画不良判断工程は、テストパターンを構成する全機能液滴のうち、予め設定された基準条件を満たさない機能液滴が1つでも検出されると、描画不良と判断することが好ましい。   In this case, it is preferable that the drawing defect determination step determines that the drawing is defective when any functional droplet that does not satisfy a preset reference condition is detected among all the functional droplets constituting the test pattern. .

この構成によれば、画像認識に基づいて、基準条件を満たさない機能液滴が1つでも検出されると、描画不良と判断される。これは基準条件を満たさない機能液滴が1つ吐出されても、描画結果に悪影響を及ぼしかねないためである。したがって、基準条件を満たさない機能液滴がたった1つでも検出された場合に、描画不良と判断することにより、極めて精度の良い描画結果を得ることができると共に、製造上の歩留まりを向上させることができる。   According to this configuration, if even one functional droplet that does not satisfy the reference condition is detected based on the image recognition, it is determined that the drawing is defective. This is because even if one functional droplet that does not satisfy the reference condition is ejected, the drawing result may be adversely affected. Therefore, when only one functional droplet that does not satisfy the reference condition is detected, it is possible to obtain a highly accurate drawing result and to improve the manufacturing yield by determining that the drawing is defective. Can do.

この場合、描画不良判断工程により描画不良と判断されたときに、機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、再度保守した後に、機能液滴吐出ヘッドにテストパターンを再描画させ、再描画したテストパターンを再画像認識し、再画像認識したテストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断工程をさらに備え、不良特定工程は、再判断工程で描画したテストパターンが再度描画不良と判断されたときに、描画不良の原因を特定することが好ましい。   In this case, when it is determined that the drawing failure is determined by the drawing failure determining step, the maintenance operation is performed again on the functional liquid droplet ejection head, and after the maintenance is performed again, the test pattern is redrawn on the functional liquid droplet ejection head, and redrawing is performed. The test pattern is further re-recognized, and a re-judgment step for re-determining whether or not a drawing defect has occurred in the re-image-recognized test pattern is provided. The defect identification step re-draws the test pattern drawn in the re-judgment step. It is preferable to specify the cause of the drawing failure when it is determined to be defective.

また、この場合、描画不良と判断されたときに、機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、再度保守した後に、機能液滴吐出ヘッドにテストパターンを再描画させ、再描画したテストパターンを再画像認識し、再画像認識したテストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断手段をさらに備え、不良特定手段は、再判断手段により描画したテストパターンが再度描画不良と判断されたときに、描画不良の原因を特定することが好ましい。なお、テストパターンの再描画は、機能液滴吐出ヘッドに対して再保守した直後に行うことが好ましい。   In this case, when it is determined that the drawing is defective, the maintenance operation is performed again on the functional liquid droplet ejection head, and after the maintenance is performed again, the test pattern is redrawn on the functional liquid droplet ejection head. Re-recognizing means for re-recognizing and re-determining whether or not a drawing defect has occurred in the re-image-recognized test pattern, and the failure identifying means determines that the test pattern drawn by the re-determining means is a drawing defect again. When it is done, it is preferable to identify the cause of the drawing failure. The redrawing of the test pattern is preferably performed immediately after the functional liquid droplet ejection head is re-maintained.

この構成によれば、一度、描画不良と判断されても、再度テストパターンの描画とこれに基づく判断(判定)が行われるので、誤判断を防止して、より正確に機能液滴吐出ヘッドの吐出不良の判断を行うことができる。すなわち、1回のみ吐出不良が判断される場合には、偶然的に発生する吐出不良(例えば、ワークのセットミス等に起因する吐出不良)と判断される。このように、描画不良の再現性を要求することにより、機能液滴吐出ヘッド自身や保守動作そのものが不良原因である場合に、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良が判断される可能性が高くなる。なお、テストパターンとは、その描画結果から、吐出不良を生じた吐出ノズルを不良ノズルとして特定するためのものである。   According to this configuration, even if it is determined that the drawing is defective, the test pattern is drawn again and a determination (determination) based on the test pattern is performed again. Judgment of ejection failure can be made. That is, when a discharge failure is determined only once, it is determined as a discharge failure that occurs by chance (for example, a discharge failure due to a work set error or the like). In this way, by requesting reproducibility of the drawing defect, there is a high possibility that the defective ejection of the functional liquid droplet ejection head is judged when the functional liquid droplet ejection head itself or the maintenance operation itself is the cause of the malfunction. . The test pattern is for identifying the discharge nozzle that has caused the discharge failure as a defective nozzle from the drawing result.

この場合、不良特定工程は、画像認識工程による画像認識に基づいて、描画不良の原因となった機能液滴を吐出した吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第1不良ノズル特定工程と、再判断工程による再画像認識に基づいて、不良ノズルを特定する第2不良ノズル特定工程と、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程で特定された不良ノズルの発生態様を比較して、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッドおよび保守動作のいずれであるかを特定する原因特定工程と、を有することが好ましい。   In this case, the defect specifying step includes a first defective nozzle specifying step for specifying, as a defective nozzle, a discharge nozzle that discharged the functional liquid droplet that caused the drawing defect based on image recognition in the image recognition step, and a re-determination step. Based on the re-image recognition, the second defective nozzle identifying step for identifying the defective nozzle is compared with the generation mode of the defective nozzle identified in the first defective nozzle identifying step and the second defective nozzle identifying step, and the drawing defect It is preferable to include a cause specifying step for specifying whether the cause of this is a functional liquid droplet ejection head or a maintenance operation.

また、この場合、不良特定手段は、画像認識手段による画像認識に基づいて、描画不良の原因となった機能液滴を吐出した吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第1不良ノズル特定手段と、再判断手段による再画像認識に基づいて、不良ノズルを特定する第2不良ノズル特定手段と、第1不良ノズル特定手段および第2不良ノズル特定手段で特定された不良ノズルの発生態様を比較して、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッドおよび保守動作のいずれであるかを特定する原因特定手段と、を有することが好ましい。   Further, in this case, the defect specifying unit includes a first defective nozzle specifying unit that specifies, as a defective nozzle, a discharge nozzle that has discharged the functional liquid droplet that has caused the drawing defect based on image recognition by the image recognition unit. Based on the re-image recognition by the judging means, the second defective nozzle specifying means for specifying the defective nozzle is compared with the generation mode of the defective nozzle specified by the first defective nozzle specifying means and the second defective nozzle specifying means, It is preferable to have cause identifying means for identifying whether the cause of the drawing failure is the functional liquid droplet ejection head or the maintenance operation.

これらの構成によれば、描画不良の判断のために行った、2回のテストパターンの描画に基づいて得られた不良ノズルの発生態様を比較することにより、描画不良の原因が機能液滴吐出ヘッドおよび保守動作のいずれにあるかを特定することができる。すなわち、描画不良の原因となる不良ノズルの発生態様に着目し、これらを比較することにより、描画不良の傾向を認知することができ、描画不良の原因を特定できるようになっている。   According to these configurations, the cause of the drawing failure is determined by comparing the occurrence modes of the defective nozzles obtained based on the drawing of the test pattern performed twice for judging the drawing failure. It is possible to specify whether the head is in the maintenance operation. That is, paying attention to the occurrence mode of defective nozzles that cause drawing defects, and comparing them, the tendency of drawing defects can be recognized, and the cause of drawing defects can be identified.

この場合、原因特定工程は、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程で特定された不良ノズルの発生態様が同一である場合には、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することが好ましい。   In this case, the cause identification step causes the functional liquid droplet ejection head itself to cause the drawing failure if the generation mode of the defective nozzles identified in the first defective nozzle identification step and the second defective nozzle identification step is the same. It is preferable to identify the cause.

この構成によれば、両工程において、不良ノズルの発生態様が同一である場合には、機能液滴吐出ヘッド自身を描画不良の原因として特定することができる。これは、不良ノズルの発生態様が同一で、描画不良が連続して発生するのは、機能液滴吐出ヘッド自身に不良がある可能性が高いと判断できるためである。逆に言えば、ヘッド保守装置側に不良原因がある場合、不良理由は一致したとしても、不良ノズルとなる吐出ノズルが連続して一致する可能性は低い。なお、不良ノズルの発生態様とは、不良ノズルの発生箇所および不良ノズルと判断させる不良理由を併せた概念である。   According to this configuration, when the defective nozzles are generated in the same manner in both steps, the functional liquid droplet ejection head itself can be specified as the cause of the drawing failure. This is because the defective nozzles are generated in the same manner, and the defective drawing continuously occurs because it can be determined that there is a high possibility that the functional liquid droplet ejection head itself has a defect. In other words, if there is a cause of failure on the head maintenance device side, even if the reason for failure is the same, there is a low possibility that the discharge nozzles that are defective nozzles will be consistent. In addition, the generation mode of a defective nozzle is the concept which combined the generation | occurrence | production location of a defective nozzle, and the reason for the defect determined to be a defective nozzle.

この場合、原因特定工程は、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における不良ノズルの不良理由が異なるときに、描画不良の原因を保守動作に起因するものと特定することが好ましい。   In this case, the cause identifying step is a cause of the drawing defect when the defective nozzle generation modes in the first defective nozzle identifying step and the second defective nozzle identifying step are different, and the reason for the defective defective nozzles in both steps is different. Is preferably identified as being caused by a maintenance operation.

この構成によれば、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なり、かつ両工程における不良理由が異なるときに、描画不良の原因を保守動作に起因するものと特定することができる。これは、保守動作の精度が安定していないために、機能液滴吐出ヘッドに保守をおこなうと、吐出状態が不安定になると考えられるからである。   According to this configuration, when the defective nozzle generation mode is different in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step, and the reason for the failure in both steps is different, the cause of the drawing failure is caused by the maintenance operation. Can be specified. This is because the accuracy of the maintenance operation is not stable, and it is considered that the discharge state becomes unstable if maintenance is performed on the functional droplet discharge head.

この場合、原因特定工程は、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における不良ノズルの不良理由が一致しており、かつ不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれでないときに、描画不良の原因を保守動作に起因するものと特定することが好ましい。   In this case, in the cause identification step, when the defective nozzle generation modes in the first defective nozzle identification step and the second defective nozzle identification step are different from each other, the reasons for the defective nozzles in both steps coincide with each other, and the reason for the defect Is not the deviation of the landing position of the functional liquid droplets, it is preferable to specify that the cause of the drawing failure is due to the maintenance operation.

この構成によれば、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なっていても、不良ノズルの不良理由が一致している場合には、原則、描画不良の原因が保守動作に起因するものであると特定することができる。これは、不良理由が変わらない場合、保守動作による機能液滴吐出ヘッドへの保守作用が不十分である可能性が高いからである。なお、機能液滴吐出ヘッドのノズル面の撥液膜が損傷している場合にも、不良ノズルの発生態様が異なり、かつ不良ノズルの不良理由が一致する場合が考えられるので、撥液膜の損傷により生じる着弾位置のずれが生じている場合には、これを除外するようにしている。   According to this configuration, even when the defective nozzle generation modes in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step are different, if the reason for the defective nozzle is the same, in principle, the drawing defect It can be specified that the cause is caused by the maintenance operation. This is because if the reason for failure does not change, there is a high possibility that the maintenance action on the functional liquid droplet ejection head by the maintenance operation is insufficient. Note that even when the liquid repellent film on the nozzle surface of the functional liquid droplet ejection head is damaged, the generation mode of the defective nozzle is different and the reason for the defective defective nozzle may be the same. If there is a shift in the landing position caused by damage, this is excluded.

この場合、原因特定工程は、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における不良ノズルの不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれで一致しており、かつ両工程においてずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときに、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することが好ましい。   In this case, in the cause specifying step, when the generation mode of the defective nozzle in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step is different, the reason for the defective nozzle in both steps is the landing position of the functional droplet. It is preferable to specify that the cause of the drawing failure is caused by the functional liquid droplet ejection head itself when the deviation directions of all the functional liquid droplets that are coincident with each other and are substantially identical in both steps substantially coincide with each other. .

この構成によれば、第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合で、両工程における不良理由が機能液滴の着弾位置のずれ(飛行曲がり)で一致しているときには、ずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときに、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することができる。機能液滴吐出ヘッドのノズル面にメッキされた撥液膜が損傷した場合、特に、撥液膜に、ノズル面のワイピングにより特定方向に傷が付いている場合には、傷の方向に応じて着弾位置のずれは略一定方向となることが多い。一方、保守動作に問題があるときには、着弾位置のずれ方向に規則性は生じにくい。したがって、不良ノズルの発生箇所が異なっていても、これらが吐出した全機能液滴の着弾位置のずれ方向が略一定であるときには、機能液滴吐出ヘッド自身に吐出不良の原因がある可能性が高くなっている。そこで、両工程における不良理由が機能液滴の着弾位置のずれ(飛行曲がり)で一致しており、かつ両工程において、ずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときには、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと判断可能である。   According to this configuration, when the defective nozzle generation modes in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step are different from each other, the reason for the failure in both steps is the deviation of the landing position of the functional liquid droplet (flight bend). When it does, when the displacement directions of all the functional droplets that have shifted substantially coincide, it is possible to specify that the cause of the drawing failure is due to the functional droplet discharge head itself. When the liquid-repellent film plated on the nozzle surface of the functional liquid droplet ejection head is damaged, especially when the liquid-repellent film is scratched in a specific direction by wiping the nozzle surface, depending on the direction of the scratch In many cases, the landing position shifts in a substantially constant direction. On the other hand, when there is a problem with the maintenance operation, regularity hardly occurs in the landing position shift direction. Therefore, even if the occurrence locations of defective nozzles are different, if the deviation direction of the landing positions of all the functional liquid droplets ejected by these nozzles is substantially constant, there is a possibility that the functional liquid droplet ejection head itself has a cause of ejection failure. It is high. Therefore, if the reason for the failure in both steps is the same due to the deviation of the landing position of the functional liquid droplet (flight bend), and the deviation direction of all functional liquid droplets in which the deviation has occurred in both steps is substantially the same, the drawing failure It can be determined that the cause of this is due to the functional liquid droplet ejection head itself.

この場合、保守動作は、機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引動作と、吸引動作の後、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り動作と、で構成されており、描画不良の原因が保守動作にあると判断されたときに、不良原因が吸引動作および/または拭取り動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定工程をさらに備えたことが好ましい。   In this case, the maintenance operation is composed of a suction operation for sucking the functional liquid from the discharge nozzle formed in the functional liquid droplet ejection head, and a wiping operation for wiping the nozzle surface of the functional liquid droplet ejection head after the suction operation. It is preferable to further include a failure maintenance operation specifying step for further specifying that the cause of the failure is the suction operation and / or the wiping operation when it is determined that the cause of the drawing failure is the maintenance operation. .

また、この場合、ヘッド保守装置は、機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引手段と、吸引動作の後、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り手段と、で構成されており、描画不良の原因が保守動作にあると判断されたときに、不良原因が吸引手段および/または拭取り手段の保守動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定手段をさらに備えたことが好ましい。   Further, in this case, the head maintenance device includes a suction unit that sucks the functional liquid from the discharge nozzle formed in the functional liquid droplet discharge head, and a wiping unit that wipes the nozzle surface of the functional liquid droplet discharge head after the suction operation. And a failure maintenance operation specifying means for further specifying that the cause of the failure is the maintenance operation of the suction means and / or the wiping means when it is determined that the cause of the drawing failure is the maintenance operation. Furthermore, it is preferable to provide.

これらの構成によれば、保守動作が(吸引手段による)吸引動作および(拭き取り手段による)拭き取り動作から成り立っている場合に、吸引動作および拭き取り動作のいずれが機能液滴吐出ヘッドの不良原因であるかを特定することができる。したがって、よりピンポイントでメンテナンスを行うことができ、装置のメンテナンス性をより向上させることができる。   According to these configurations, when the maintenance operation includes a suction operation (by the suction unit) and a wiping operation (by the wiping unit), either the suction operation or the wiping operation is a cause of the defect of the functional liquid droplet ejection head. Can be identified. Therefore, maintenance can be performed more pinpointed, and the maintainability of the apparatus can be further improved.

この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンにドット抜けが生じている場合には、吸引動作を不良原因として特定することが好ましい。また、この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンを構成する機能液滴の着弾径に過小なものが含まれている場合には、吸引動作を不良原因として特定することが好ましい。   In this case, it is preferable that the defective maintenance operation specifying step specifies the suction operation as the cause of the defect when the missing dot has occurred in the test pattern. In this case, the defective maintenance operation specifying step preferably specifies the suction operation as the cause of the failure when the landing diameter of the functional liquid droplet constituting the test pattern is too small.

この構成によれば、不良ノズルの不良理由から、テストパターンにドット抜けが生じている場合や、機能液滴の着弾径が過小である場合には、吸引動作が不良原因であると特定することができる。これは、機能液滴吐出ヘッドに対する吸引動作が不十分であると、機能液滴吐出ヘッド内から適切に排除されなかった、ヘッド流路内の気泡や、経時的に増粘した機能液が、ドット抜けや着弾径の大きさに影響するからである。   According to this configuration, if the missing dot is generated in the test pattern due to the defective nozzle, or if the landing diameter of the functional liquid droplet is too small, the suction operation is identified as the defective cause. Can do. This is because bubbles in the head flow path and functional liquid thickened over time, which were not properly excluded from the functional liquid droplet ejection head if the suction operation to the functional liquid droplet ejection head was insufficient, This is because the dot omission and the impact diameter are affected.

この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンに機能液滴の着弾位置のずれが生じている場合には、拭き取り動作を不良原因として特定することが好ましい。また、この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンを構成する機能液滴の着弾径に過大なものが含まれている場合には、拭き取り動作を不良原因として特定することが好ましい。   In this case, it is preferable that the defect maintenance operation specifying step specifies the wiping operation as the cause of the defect when the landing position of the functional liquid droplet is shifted in the test pattern. In this case, it is preferable that the defect maintenance operation specifying step specifies the wiping operation as the cause of the defect when the landing diameter of the functional droplet constituting the test pattern is excessive.

この構成によれば、テストパターンに基づいて、機能液滴吐出ヘッドの不良原因が特定され、吐出した機能液滴の飛行曲がりにより、機能液滴の着弾位置のずれが生じている場合や、着弾した機能液滴の着弾径が過大である場合には、拭き取り動作を不良原因として特定することができる。   According to this configuration, the cause of the failure of the functional liquid droplet ejection head is identified based on the test pattern, and the landing position of the functional liquid droplet is displaced due to the flight bending of the ejected functional liquid droplet, When the landing diameter of the function droplet is excessive, the wiping operation can be specified as the cause of the failure.

この場合、不良保守動作特定工程で特定された保守動作の動作条件を変更する動作条件変更工程をさらに備えたことが好ましい。   In this case, it is preferable to further include an operation condition changing step for changing the operation condition of the maintenance operation specified in the defective maintenance operation specifying step.

また、この場合、不良保守動作特定手段で特定されたヘッド保守手段の保守動作条件を変更する動作条件変更手段をさらに備えたことが好ましい。   In this case, it is preferable to further include an operation condition changing means for changing the maintenance operation condition of the head maintenance means specified by the defective maintenance operation specifying means.

これらの構成によれば、描画不良の不良原因に対応して、保守動作の動作条件が変更される。具体的には、吸引動作が不良原因として判断されると、吸引動作における吸引条件(例えば、吸引時間や吸引圧力)が変更されるので、吸引動作による不良原因を解消することが可能である。また、拭取り動作が不良原因として判断されると、拭取り動作における拭取り条件(例えば、ノズル面に対する拭取り圧力や、拭取り速度など)を変更することができるので、拭取り動作による不良原因を解消することができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドに対して、適切に拭取り動作を行うことが可能となり、機能液滴吐出ヘッドが機能液滴を適切に吐出するよう、これを保守することができる。なお、この場合、動作条件の変更は、制御装置により、自動的に行っても良いし、ユーザの判断に基づいて手動で行うようにしても良い。   According to these configurations, the operating condition of the maintenance operation is changed corresponding to the cause of the drawing failure. Specifically, when the suction operation is determined as the cause of the failure, the suction conditions (for example, suction time and suction pressure) in the suction operation are changed, so that the cause of the failure due to the suction operation can be eliminated. Also, if the wiping operation is judged as the cause of failure, the wiping conditions (for example, the wiping pressure on the nozzle surface, the wiping speed, etc.) in the wiping operation can be changed. The cause can be resolved. Accordingly, it is possible to appropriately perform the wiping operation on the functional liquid droplet ejection head, and it is possible to maintain this so that the functional liquid droplet ejection head appropriately ejects the functional liquid droplets. In this case, the operating condition may be changed automatically by the control device or manually based on the user's judgment.

この場合、特定した描画不良の原因を表示する不良原因表示手段をさらに備えたことが好ましい。   In this case, it is preferable to further include a failure cause display means for displaying the cause of the specified drawing failure.

この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良の原因が特定されると、不良原因表示手段によりその原因が表示されるので、ユーザは、不良原因を容易に認識することができ、不良原因を除去するためのメンテナンス性を向上させることができる。   According to this configuration, when the cause of the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head is specified, the cause is displayed by the failure cause display means, so that the user can easily recognize the cause of the failure, Maintainability for removing the cause can be improved.

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記のいずれかに記載の描画装置の保守方法または上記のいずれかに記載の描画装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。   The electro-optical device manufacturing method of the present invention uses the maintenance method of the drawing apparatus described above or the drawing apparatus described above to form a film-forming portion with functional droplets on a workpiece. It is characterized by.

また、本発明の電気光学装置は、上記のいずれかに記載の描画装置の保守方法または上記のいずれかに記載の描画装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。   In addition, the electro-optical device according to the aspect of the invention uses the maintenance method for the drawing apparatus described above or the drawing apparatus described above to form a film-forming portion using functional liquid droplets on a workpiece. Features.

これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの不良原因を特定して、メンテナンス性のよい描画装置の動作評価方法または描画装置を用いて、電気光学装置が製造されるので、製造時のメンテナンスに要する時間を削減して、効率よく製造を行うことができる。なお、電気光学装置(デバイス)としては、液晶表示装置、有機EL(Electro-Luminescence)装置、電子放出装置、PDP(Plasma Display Panel)装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるFED(Field
Emission Display)装置またはSED(Surface-Conduction Electron-Emitter Display)装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
According to these configurations, since the electro-optical device is manufactured using the drawing device operation evaluation method or the drawing device having a good maintainability by identifying the cause of the malfunction of the functional liquid droplet ejection head, maintenance during the manufacturing is performed. The time required for the production can be reduced and the production can be performed efficiently. Examples of the electro-optical device (device) include a liquid crystal display device, an organic EL (Electro-Luminescence) device, an electron emission device, a PDP (Plasma Display Panel) device, and an electrophoretic display device. The electron emission device is a so-called FED (Field
It is a concept including an Emission Display (Smission) device or a Surface-Conduction Electron-Emitter Display (SED) device. Further, as the electro-optical device, devices including metal wiring formation, lens formation, resist formation, light diffuser formation, and the like are conceivable.

本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする   An electronic apparatus according to an aspect of the invention includes the electro-optical device manufactured by the above-described electro-optical device manufacturing method or the electro-optical device described above.

この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。   In this case, the electronic apparatus corresponds to various electric products in addition to a mobile phone and a personal computer equipped with a so-called flat panel display.

以上に述べたように、本発明の描画装置の動作評価方法または描画装置によれば、機能液滴吐出ヘッドに描画させたテストパターンに基づいて、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良を判断すると共に、吐出不良の原因を特定することができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良時には、特定した原因に基づいて、描画装置に適切なメンテナンスを行うことができる。また、機能液滴吐出ヘッドの保守動作を行うことにより、機能液滴吐出ヘッドの機能をかえって害する場合があるが、本発明では、保守した機能液滴吐出ヘッドの吐出状態を判断しているため、機能液滴吐出ヘッドに対し保守動作が悪影響を及ぼしている場合にはこれを検出することができる。したがって、吐出不良の機能液滴吐出ヘッドによるワークへの描画を防止することができ、製造上の歩留まりを向上させることが可能である。さらに、本発明の描画装置の保守方法または描画装置は、保守した機能液滴吐出ヘッドの吐出状態を判断するため、ヘッド保守装置の保守動作が適切に行われているか否かの評価を行う際にも用いることができる。   As described above, according to the operation evaluation method or the drawing apparatus of the drawing apparatus of the present invention, the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head is determined based on the test pattern drawn on the functional liquid droplet ejection head. The cause of ejection failure can be identified. Therefore, at the time of ejection failure of the functional liquid droplet ejection head, appropriate maintenance can be performed on the drawing apparatus based on the specified cause. In addition, the maintenance operation of the functional liquid droplet ejection head may adversely affect the function of the functional liquid droplet ejection head. However, in the present invention, the ejection state of the maintained functional liquid droplet ejection head is determined. If the maintenance operation has an adverse effect on the functional liquid droplet ejection head, this can be detected. Therefore, it is possible to prevent the drawing of the defective liquid droplet ejection head on the work, and it is possible to improve the manufacturing yield. Furthermore, the drawing apparatus maintenance method or drawing apparatus of the present invention evaluates whether or not the maintenance operation of the head maintenance device is appropriately performed in order to determine the ejection state of the maintained functional liquid droplet ejection head. Can also be used.

本発明の電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器は、上記の描画装置を用いているため、効率よくこれらを製造することが可能となる。   Since the electro-optical device manufacturing method, the electro-optical device, and the electronic apparatus of the present invention use the above-described drawing device, they can be efficiently manufactured.

以下、添付した図面を参照しながら、本発明を適用した描画装置について説明する。この描画装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機EL装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。図1は、描画装置の平面模式図である。同図に示すように、描画装置1は、機台2と、機能液滴吐出ヘッド16を有し、機台2上の全域に広く載置された液滴吐出装置3と、液滴吐出装置3に添設するように機台2上に載置した保守装置4と、を備えている。   Hereinafter, a drawing apparatus to which the present invention is applied will be described with reference to the accompanying drawings. This drawing apparatus is incorporated into a so-called flat display production line, and by a droplet discharge method using a functional droplet discharge head, a color filter of a liquid crystal display device, a light emitting element that becomes each pixel of an organic EL device, or the like Is formed. FIG. 1 is a schematic plan view of a drawing apparatus. As shown in FIG. 1, the drawing apparatus 1 includes a machine base 2 and a functional liquid droplet ejection head 16, and a liquid droplet ejection apparatus 3 widely placed over the entire area of the machine base 2, and a liquid droplet ejection apparatus And a maintenance device 4 placed on the machine base 2 so as to be attached to the machine base 2.

また、描画装置1は、描画装置1全体を統括的に制御する制御装置5を備えており、制御装置5による制御を通じて、液滴吐出装置3を用いたワークWへの描画が行われると共に、保守装置4による液滴吐出装置3(機能液滴吐出ヘッド16)の保守(メンテナンス)が適宜行われるようになっている。   In addition, the drawing apparatus 1 includes a control device 5 that controls the drawing device 1 as a whole. Through the control of the control device 5, drawing on the workpiece W using the droplet discharge device 3 is performed. Maintenance (maintenance) of the droplet discharge device 3 (functional droplet discharge head 16) by the maintenance device 4 is appropriately performed.

図1に示すように、液滴吐出装置3は、ワークWを主走査(X軸方向に移動)させるX軸テーブル12およびX軸テーブル12に直交するX軸テーブル13から成るX・Y移動機構11と、X軸テーブル13に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ14と、メインキャリッジ14に垂設され、機能液滴吐出ヘッド16を搭載したヘッドユニット15と、を有している。そして、液滴吐出装置3は、X軸テーブル12による主走査(ワークWの往復移動)と、機能液滴吐出ヘッド16を吐出駆動(機能液滴の選択的吐出)と、を同期して行うと共に、X軸テーブル13による副走査(ヘッドユニット15のY軸方向への移動)を適宜行うことにより、ワークWに対する描画を行っている。   As shown in FIG. 1, the droplet discharge device 3 includes an X / Y movement mechanism including an X-axis table 12 for moving the workpiece W in the main scanning (moving in the X-axis direction) and an X-axis table 13 orthogonal to the X-axis table 12. 11, a main carriage 14 that is movably attached to the X-axis table 13, and a head unit 15 that is suspended from the main carriage 14 and has a functional liquid droplet ejection head 16 mounted thereon. The droplet discharge device 3 synchronizes main scanning (reciprocating movement of the workpiece W) with the X-axis table 12 and discharge driving of the functional droplet discharge head 16 (selective discharge of functional droplets). At the same time, drawing on the workpiece W is performed by appropriately performing sub-scanning (movement of the head unit 15 in the Y-axis direction) by the X-axis table 13.

X軸テーブル12は、X軸方向の駆動系を構成するX軸モータ(図示省略)駆動のX軸スライダ21を有し、これに吸着テーブル23およびθテーブル24等から成るセットテーブル22を移動自在に搭載して構成されている。同様に、X軸テーブル13は、Y軸方向の駆動系を構成するY軸モータ(図示省略)駆動のY軸スライダ25を有し、これにθ回転機構26を介してヘッドユニット15を支持する上記のメインキャリッジ14を移動自在に搭載して構成されている。   The X-axis table 12 has an X-axis slider 21 driven by an X-axis motor (not shown) constituting a drive system in the X-axis direction, and a set table 22 including a suction table 23, a θ table 24, and the like can be moved freely. It is configured on board. Similarly, the X-axis table 13 includes a Y-axis slider 25 that drives a Y-axis motor (not shown) constituting a drive system in the Y-axis direction, and supports the head unit 15 via a θ rotation mechanism 26. The main carriage 14 is mounted movably.

なお、X軸テーブル12は、保守装置4とX軸方向に相互に平行に配設されており、機台2上に直接支持されている。一方、X軸テーブル13は、機台2上に立設した左右一対の支柱27に支持されており、X軸テーブル12および保守装置4を跨ぐようにY軸方向に延在している(図1参照)。そして、この液滴吐出装置3では、X軸テーブル13とX軸テーブル12とが交わるエリアがワークWの描画を行う描画エリア31、X軸テーブル13と保守装置4とが交わるエリアが機能液滴吐出ヘッド16の保守を行う保守エリア32となっており、X軸テーブル13は、ワークWに描画を行う場合には描画エリア31に、機能液滴吐出ヘッド16の保守を行う場合には保守エリア32に、ヘッドユニット15を臨ませるようになっている。   The X-axis table 12 is disposed in parallel with the maintenance device 4 in the X-axis direction and is directly supported on the machine base 2. On the other hand, the X-axis table 13 is supported by a pair of left and right columns 27 erected on the machine base 2 and extends in the Y-axis direction so as to straddle the X-axis table 12 and the maintenance device 4 (see FIG. 1). In the droplet discharge device 3, the area where the X-axis table 13 and the X-axis table 12 intersect is the drawing area 31 where the workpiece W is drawn, and the area where the X-axis table 13 and the maintenance device 4 intersect is the functional droplet. The X-axis table 13 is a maintenance area 32 where maintenance of the discharge head 16 is performed. The X-axis table 13 is placed in the drawing area 31 when drawing on the work W, and the maintenance area when maintaining the functional droplet discharge head 16. 32, the head unit 15 is allowed to face.

図1に示すように、ヘッドユニット15は、ヘッド保持部材(図示省略)を介して機能液滴吐出ヘッド16を搭載したヘッドプレート41と、メインキャリッジ14に着脱可能に構成されたヘッド支持部材42と、を備えている。なお、メインキャリッジ14には、ヘッドユニット15を微少にθ方向に回転させるθ回転機構26が取り付けられており、ヘッドユニット15は、θ回転機構26に支持させたヘッドプレート41を介してメインキャリッジ14に支持されている。図示省略したが、ヘッドプレート41には、配管ジョイントを有するジョイントユニットが配設されている。配管ジョイントの一端は、機能液滴吐出ヘッド16(配管アダプタ55)からのヘッド側配管部材(図示省略)が接続され、もう一端は機能液滴吐出ヘッド16に機能液を供給する機能液供給機構(図示省略)からの装置側配管部材(図示省略)が接続される。   As shown in FIG. 1, the head unit 15 includes a head plate 41 on which the functional liquid droplet ejection head 16 is mounted via a head holding member (not shown), and a head support member 42 configured to be detachable from the main carriage 14. And. The main carriage 14 is provided with a θ rotation mechanism 26 that slightly rotates the head unit 15 in the θ direction. The head unit 15 is attached to the main carriage via a head plate 41 supported by the θ rotation mechanism 26. 14 is supported. Although not shown, the head plate 41 is provided with a joint unit having a pipe joint. One end of the piping joint is connected to a head side piping member (not shown) from the functional liquid droplet ejection head 16 (piping adapter 55), and the other end is a functional liquid supply mechanism that supplies the functional liquid to the functional liquid droplet ejection head 16. A device-side piping member (not shown) from (not shown) is connected.

図2に示すように、機能液滴吐出ヘッド16は、いわゆる2連のものであり、2連の接続針52を有する機能液導入部51と、機能液導入部51に連なる2連のヘッド基板53と、機能液導入部51の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体54と、を備えている。各接続針52は、配管アダプタ55を介して、ヘッド側配管部材に接続されており、機能液滴吐出ヘッド16は、各接続針52から機能液の供給を受けるようになっている。ヘッド本体54は、キャビティ56(ピエゾ圧電素子)と、ノズル面58を有するノズルプレート57と、で構成されている。ノズル面58の下面には、多数(180個)の吐出ノズル59からなるノズル列が2列形成されている。機能液滴吐出ヘッド16では、キャビティ56のポンプ作用により吐出ノズル59から機能液を吐出する。なお、ノズル面58には、各吐出ノズル59から吐出される機能液滴の飛行曲がりを防止するために、撥液処理が為されている。   As shown in FIG. 2, the functional liquid droplet ejection head 16 has a so-called double structure, a functional liquid introduction part 51 having two connection needles 52, and a double head substrate that is continuous with the functional liquid introduction part 51. 53, and a head main body 54 which is connected to the lower side of the functional liquid introducing portion 51 and has an in-head flow path filled with the functional liquid therein. Each connection needle 52 is connected to the head-side piping member via a pipe adapter 55, and the functional liquid droplet ejection head 16 is supplied with a functional liquid from each connection needle 52. The head body 54 includes a cavity 56 (piezoelectric element) and a nozzle plate 57 having a nozzle surface 58. On the lower surface of the nozzle surface 58, two rows of nozzle rows composed of a large number (180) of discharge nozzles 59 are formed. In the functional liquid droplet ejection head 16, the functional liquid is ejected from the ejection nozzle 59 by the pump action of the cavity 56. The nozzle surface 58 is subjected to a liquid repellent treatment in order to prevent flying of functional droplets discharged from the discharge nozzles 59.

図示省略したが、液滴吐出装置3は、上記したものの他に、各機能液滴吐出ヘッド16に機能液が供給する機能液供給機構や、セットテーブル22にワークWを吸着セットするための吸着セット機構等を具備している。   Although not shown in the drawings, the droplet discharge device 3 has a function liquid supply mechanism for supplying a function liquid to each function droplet discharge head 16 and an adsorption for adsorbing and setting the work W on the set table 22 in addition to those described above. A set mechanism and the like are provided.

図1および図3に示すように、保守装置4は、吸引ユニット71と、ワイピングユニット72と、不良検査ユニット73と、を備えている。これらは、機台2に設置されると共に、X軸方向に対してスライド自在に構成された移動テーブル74上に並んで配設されており、機能液滴吐出ヘッド16の保守を行うときには、各ユニットは、移動テーブル74を介して適宜保守エリア32に移動するようになっている。また、移動テーブル74には、ヘッド観察カメラ75が上記各ユニットに並設されている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the maintenance device 4 includes a suction unit 71, a wiping unit 72, and a defect inspection unit 73. These are installed on the machine base 2 and arranged side by side on a moving table 74 configured to be slidable in the X-axis direction. The unit is appropriately moved to the maintenance area 32 via the moving table 74. Further, on the moving table 74, a head observation camera 75 is provided in parallel with each of the above units.

吸引ユニット71は、機能液滴吐出ヘッド16(吐出ノズル59)を吸引することにより、機能液滴吐出ヘッド16の吐出ノズル59から機能液を強制的に排出させるものであり、例えば、新たにヘッドユニット15に機能液滴吐出ヘッド16を投入した場合のように機能液の充填を行う場合や、機能液滴吐出ヘッド16内で増粘した機能液や混入した気泡を除去して、吐出ノズル59の目詰まりを防止するための吸引(クリーニング)を行う場合に用いられる。   The suction unit 71 forcibly discharges the functional liquid from the discharge nozzle 59 of the functional liquid droplet discharge head 16 by sucking the functional liquid droplet discharge head 16 (discharge nozzle 59). When the functional liquid filling head 16 is filled with the functional liquid droplet ejection head 16, or when the functional liquid thickened in the functional liquid droplet ejection head 16 or mixed bubbles are removed, the ejection nozzle 59 It is used when suction (cleaning) is performed to prevent clogging.

図1および図3に示すように、吸引ユニット71(吸引手段)は、キャップスタンド81と、キャップスタンド81に支持され、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58に密着するキャップ82と、キャップ82を介して機能液滴吐出ヘッド16の吸引を行う吸引ポンプ(図示省略)と、キャップ82と吸引ポンプとを接続する吸引チューブ(図示省略)と、を有している。図示省略したが、キャップスタンド81には、モータ駆動により、キャップ82を昇降させるキャップ昇降機構が組み込まれており、保守エリア32に臨んだヘッドユニット15の機能液滴吐出ヘッド16に対して、キャップ82を離接できるようになっている。そして、機能液滴吐出ヘッド16の吸引を行う場合には、キャップ昇降機構を駆動して、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58にキャップ82を密着させると共に、吸引ポンプを駆動し、キャップ82を介して機能液滴吐出ヘッド16に吸引力を作用させることにより、機能液滴吐出ヘッド16から機能液を強制的に排出させる。また、図示省略したが、吸引チューブのキャップ82の下流側(吸引ポンプ側)には、吸引圧力を検出する吸引圧検出センサ、吸引チューブを通過する機能液の有無を検出する液体検出センサが設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the suction unit 71 (suction means) includes a cap stand 81, a cap 82 supported by the cap stand 81 and in close contact with the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16, and the cap 82. A suction pump (not shown) for sucking the functional liquid droplet ejection head 16 via the suction head, and a suction tube (not shown) for connecting the cap 82 and the suction pump. Although not shown, the cap stand 81 incorporates a cap raising / lowering mechanism that raises and lowers the cap 82 by driving a motor. The cap stand 81 has a cap for the functional liquid droplet ejection head 16 of the head unit 15 facing the maintenance area 32. 82 can be separated. When suctioning the functional liquid droplet ejection head 16, the cap lifting mechanism is driven to bring the cap 82 into close contact with the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16, and the suction pump is driven to drive the cap 82. By applying a suction force to the functional liquid droplet ejection head 16 via the function liquid, the functional liquid is forcibly discharged from the functional liquid droplet ejection head 16. Although not shown, a suction pressure detection sensor for detecting the suction pressure and a liquid detection sensor for detecting the presence or absence of the functional liquid passing through the suction tube are provided on the downstream side (suction pump side) of the cap 82 of the suction tube. It has been.

なお、キャップ82は、機能液滴吐出ヘッド16の捨て吐出(予備吐出)により吐出された機能液を受けるフラッシングボックスの機能を有しており、ワークWの交換時のように、ワークWに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングの機能液を受けるようになっている。この場合、フラッシングされた機能液がキャップ82外に飛び散ることを防止するため、キャップ昇降機構は、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58およびキャップ82(の上面)が僅かに離間する位置にキャップ82を支持している。   Note that the cap 82 has a function of a flushing box that receives the functional liquid ejected by the discarding (preliminary ejection) of the functional liquid droplet ejection head 16, and drawing on the workpiece W as when the workpiece W is replaced. The function liquid of the regular flushing performed when stopping temporarily is received. In this case, in order to prevent the flushed functional liquid from splashing out of the cap 82, the cap lifting mechanism is arranged so that the nozzle surface 58 and the cap 82 (the upper surface) of the functional liquid droplet ejection head 16 are slightly separated from each other. 82 is supported.

図1および図3に示すように、ワイピングユニット72(拭き取り手段)は、ロール状に巻回され、汚れを吸着するワイピングシート91と、ワイピングシート91を繰り出しながら巻き取っていく巻取りユニット92と、繰り出されたワイピングシート91を機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58に当接させながら、拭き取っていく拭き取りユニット93と、ワイピングシート91に洗浄液を供給する洗浄液供給ユニット94と、を備えており、ワイピングシート91は、巻取りユニット92から拭き取りユニット93を周回するように架け渡されている。ワイピング動作は、主に、吸引ユニット71による機能液滴吐出ヘッド16の吸引に続いて行われるようになっており、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58を、洗浄液を含浸したワイピングシート91で払拭(ワイピング)することにより、ノズル面58に付着した機能液やごみ等の汚れを除去して、機能液滴吐出ヘッド16から吐出された機能液滴の飛行曲がり(着弾位置のずれ)等を防止するようになっている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the wiping unit 72 (wiping means) is wound in a roll shape and adsorbs dirt, and a winding unit 92 that winds up the wiping sheet 91 while feeding it out. A wiping unit 93 for wiping the fed wiping sheet 91 against the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16, and a cleaning liquid supply unit 94 for supplying a cleaning liquid to the wiping sheet 91. The wiping sheet 91 is stretched around the wiping unit 93 from the winding unit 92. The wiping operation is mainly performed following the suction of the functional liquid droplet ejection head 16 by the suction unit 71, and the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16 is covered with a wiping sheet 91 impregnated with a cleaning liquid. By wiping, dirt such as functional liquid and dust adhering to the nozzle surface 58 is removed, and flight bending (displacement of landing position) of functional liquid droplets ejected from the functional liquid droplet ejection head 16 is prevented. It comes to prevent.

巻取りユニット92は、ロール状のワイピングシート91を装着した繰り出しリール95と、繰り出されたワイピングシート91を巻き取る巻取りリール96と、エンコーダ付きの巻取りモータ(図示省略)と、を有しており、巻取りモータを駆動して、巻取りリール96を回転させることにより、繰り出しリール95からワイピングシート91が繰り出すと共に、エンコーダにより、ワイピングシート91の巻取り量(または巻取り速度)を検出しながら、巻取りリール96に繰り出されたワイピングシート91が巻き取るようになっている。   The take-up unit 92 includes a feed reel 95 on which a roll-shaped wiping sheet 91 is mounted, a take-up reel 96 that takes up the fed wiping sheet 91, and a take-up motor (not shown) with an encoder. When the take-up motor is driven and the take-up reel 96 is rotated, the wiping sheet 91 is fed out from the feed-out reel 95, and the winding amount (or take-up speed) of the wiping sheet 91 is detected by the encoder. On the other hand, the wiping sheet 91 fed to the take-up reel 96 is taken up.

拭き取りユニット93は、ワイピングシート91を介して、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58に当接する拭き取りローラ97と、拭き取りローラ97を昇降させることにより、拭き取りローラ97をノズル面58に対して離接させる昇降機構(図示省略)と、を有している。また、拭き取りユニット93には、ノズル面58に対するワイピングシート91の押圧力を検出するワイピング圧検出センサ(図示省略)が設けられており、ワイピング圧検出センサに基づいて昇降機構による拭き取りローラ97の昇降を調整すると、ワイピングシート91の押圧力を調整できるようになっている。なお、本実施形態では、拭き取りローラ97を昇降することにより、ワイピングシート91をノズル面58に当接させているが、ヘッドユニット15を昇降させる構成としてもよい。   The wiping unit 93 moves the wiping roller 97 away from the nozzle surface 58 by lifting and lowering the wiping roller 97 that contacts the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16 via the wiping sheet 91. And an elevating mechanism (not shown). Further, the wiping unit 93 is provided with a wiping pressure detection sensor (not shown) for detecting the pressing force of the wiping sheet 91 against the nozzle surface 58, and the wiping roller 97 is lifted and lowered by the lifting mechanism based on the wiping pressure detection sensor. Is adjusted, the pressing force of the wiping sheet 91 can be adjusted. In this embodiment, the wiping sheet 91 is brought into contact with the nozzle surface 58 by moving up and down the wiping roller 97, but the head unit 15 may be moved up and down.

洗浄液供給ユニット94は、洗浄液タンク(図示省略)と、洗浄液タンクに連通する洗浄液ノズル98と、洗浄液タンクに貯留する洗浄液を洗浄液ノズル98から滴下させる洗浄液滴下手段(図示省略)と、を有している。複数の洗浄液ノズル98は、ワイピングシート91に臨み、ワイピングシート91の送り方向と直交するように(すなわち、ワイピングシート91の幅方向に)、均一に整列して配設されている。洗浄液滴下手段は、洗浄液タンクに圧縮エアーを導入することにより、各洗浄液ノズルからワイピングシート91に洗浄液を滴下させるものであり、洗浄液タンクに対する圧縮エアーの導入量を調整することにより、洗浄液の滴下量を調整することができるようになっている。   The cleaning liquid supply unit 94 includes a cleaning liquid tank (not shown), a cleaning liquid nozzle 98 communicating with the cleaning liquid tank, and cleaning liquid dropping means (not shown) for dropping the cleaning liquid stored in the cleaning liquid tank from the cleaning liquid nozzle 98. Yes. The plurality of cleaning liquid nozzles 98 are arranged in a uniform manner so as to face the wiping sheet 91 and to be orthogonal to the feeding direction of the wiping sheet 91 (that is, in the width direction of the wiping sheet 91). The cleaning liquid dropping means drops the cleaning liquid from each cleaning liquid nozzle onto the wiping sheet 91 by introducing the compressed air into the cleaning liquid tank, and the amount of the cleaning liquid dropped by adjusting the amount of the compressed air introduced into the cleaning liquid tank. Can be adjusted.

ヘッド観察カメラ75は、ワイピングユニット72によるワイピング動作の終了後に、保守エリア32に臨んで、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58を撮像するものである。撮像結果は、制御装置5に送信されると共に画像処理され、ワイピング終了後のノズル面58の拭き残しを確認できるようになっている。ヘッド観察カメラ75は、レンズ(図示省略)を上方に(機能液滴吐出ヘッド16側に)向けたカメラ本体101と、カメラ本体101を(焦点距離を調整するために)高さ調節可能に支持すると支持スタンド102と、を備えている。   The head observation camera 75 faces the maintenance area 32 after the wiping operation by the wiping unit 72 is completed, and images the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16. The imaging result is transmitted to the control device 5 and subjected to image processing, so that the remaining wiping of the nozzle surface 58 after completion of wiping can be confirmed. The head observation camera 75 supports the camera body 101 with a lens (not shown) facing upward (toward the functional liquid droplet ejection head 16) and the camera body 101 so that the height can be adjusted (to adjust the focal length). Then, a support stand 102 is provided.

図1および図3に示すように、不良検査ユニット73は、機能液滴吐出ヘッド16の吸引からワイピングに至る一連の保守動作の後に、機能液滴吐出ヘッド16に所定のテストパターンを描画させると共に、これを撮像することにより、機能液滴吐出ヘッド16、吸引ユニット71、およびワイピングユニット72の動作不良を検出するためのものであり、テストパターンを描画させる検査用の小型基板111を載置(セット)する載置テーブル112と、描画したテストパターンを撮像する撮像ユニット113と、を備えている。なお、本実施形態では、機能液滴吐出ヘッド16に直接保守を行う吸引ユニット71およびワイピングユニット72を併せて、ヘッド保守装置70と呼ぶ。   As shown in FIGS. 1 and 3, the defect inspection unit 73 draws a predetermined test pattern on the functional liquid droplet ejection head 16 after a series of maintenance operations from suction to wiping of the functional liquid droplet ejection head 16. In order to detect malfunctions of the functional liquid droplet ejection head 16, the suction unit 71, and the wiping unit 72 by imaging this, a small substrate 111 for inspection on which a test pattern is drawn is placed ( A mounting table 112 for setting) and an imaging unit 113 for imaging the drawn test pattern. In the present embodiment, the suction unit 71 and the wiping unit 72 that perform maintenance directly on the functional liquid droplet ejection head 16 are collectively referred to as a head maintenance device 70.

載置テーブル112は、移動テーブル74上に配設されており、移動テーブル74を介してX軸方向に適宜移動する構成となっている。具体的には、載置テーブル112は、テストパターンの描画時には、保守エリア32に移動して小型基板111を機能液滴吐出ヘッド16に臨ませる一方、小型基板111の撮像時には、撮像ユニット113に臨む撮像エリア114まで移動して、小型基板111を後述する撮像ユニット113のCCDカメラ(対物レンズ)115に臨ませるようになっている。   The mounting table 112 is disposed on the moving table 74 and is configured to appropriately move in the X-axis direction via the moving table 74. Specifically, the placement table 112 moves to the maintenance area 32 when the test pattern is drawn so that the small substrate 111 faces the functional liquid droplet ejection head 16, while the imaging table 113 is moved to the imaging unit 113 when the small substrate 111 is imaged. The small-sized substrate 111 is moved to the facing imaging area 114 and faces a CCD camera (objective lens) 115 of the imaging unit 113 described later.

撮像ユニット113は、セットした小型基板111に臨んでテストパターンを撮像するCCDカメラ115と、移動テーブル74を跨ぐように機台2上に設置され、CCDカメラ115を支持するカメラスタンド116と、カメラスタンド116に組み込まれ、CCDカメラ115をY軸方向に移動させるカメラ移動機構(図示省略)と、撮像のための光を照射する照明(図示省略)と、を有している。図示省略したが、CCDカメラ115は、撮像用の対物レンズや、対物レンズにより結像した機能液滴の画像を電気信号に変換するCCD撮像素子の他、撮像倍率(視野)を変えるためのカメラズームやカメラズーム用のズームモータなどを具備している。なお、照明は、十分な光量を確保できると共に装置内への熱的影響が少ないLEDアレイで構成することが好ましい。   The image pickup unit 113 is a CCD camera 115 that picks up a test pattern facing the set small substrate 111, a camera stand 116 that is installed on the machine base 2 so as to straddle the moving table 74, and supports the CCD camera 115, and a camera. A camera moving mechanism (not shown) that is incorporated in the stand 116 and moves the CCD camera 115 in the Y-axis direction, and illumination (not shown) that emits light for imaging. Although not shown, the CCD camera 115 is a camera for changing an imaging magnification (field of view) in addition to an imaging objective lens and a CCD imaging device that converts an image of a functional droplet imaged by the objective lens into an electrical signal. It has a zoom motor for zooming and camera zooming. In addition, it is preferable to comprise illumination with the LED array which can ensure sufficient light quantity and has little thermal influence in an apparatus.

テストパターンの描画から撮像に至る一連の動作について説明すると、先ず、移動テーブル74を駆動して、載置テーブル112を保守エリア32に移動させ、小型基板111をヘッドユニット15に臨ませる(図1参照)。そして、小型基板111を微少移動させながら、機能液滴吐出ヘッド16を吐出駆動して機能液滴を吐出させ、小型基板111の上面にテストパターンを描画させる。テストパターンは、機能液滴吐出ヘッド16から吐出された機能液滴を1滴ずつ所定の位置にマトリクス状に着弾させたものであり、機能液滴吐出ヘッド16の全吐出ノズル59を用いて描画される。また、テストパターンを構成する各ドット(機能液滴)および機能液滴吐出ヘッド16の各吐出ノズル59は関連付けられており、テストパターンにおけるドットの位置から、当該ドットを吐出した吐出ノズル59を特定できるようになっている。   A series of operations from test pattern drawing to imaging will be described. First, the moving table 74 is driven, the mounting table 112 is moved to the maintenance area 32, and the small substrate 111 is made to face the head unit 15 (FIG. 1). reference). Then, while the small substrate 111 is moved slightly, the functional droplet discharge head 16 is driven to discharge the functional droplet, and a test pattern is drawn on the upper surface of the small substrate 111. The test pattern is a pattern in which the functional liquid droplets ejected from the functional liquid droplet ejection head 16 are landed one by one in a matrix at predetermined positions and drawn using all the ejection nozzles 59 of the functional liquid droplet ejection head 16. Is done. In addition, each dot (functional droplet) constituting the test pattern and each ejection nozzle 59 of the functional droplet ejection head 16 are associated with each other, and the ejection nozzle 59 that ejects the dot is specified from the position of the dot in the test pattern. It can be done.

なお、機能液滴吐出ヘッド16の各吐出ノズル59から所定の位置に1ドットずつ吐出させたものをテストパターンとしても良いが、吐出した各ドットがそれぞれ異なる位置に着弾するように、各吐出ノズル59から複数ドットずつ吐出させたものをテストパターンとすることが好ましい。   A test pattern may be formed by ejecting one dot at a predetermined position from each ejection nozzle 59 of the functional liquid droplet ejection head 16, but each ejection nozzle may be landed at a different position. It is preferable that a test pattern is formed by discharging a plurality of dots from 59.

テストパターンの描画が終了すると、移動テーブル74を再度駆動して、載置テーブル112を撮像エリア114に臨ませる(図4参照)。そして、CCDカメラ115により小型基板111に描画したテストパターン全体を撮像する。CCDカメラ115の視野が狭く、テストパターン全体を一度に撮像できない場合には、カメラズームにより視野を広げてテストパターン全体を撮像する。または、テストパターンを複数に分割し、カメラ移動機構(および移動テーブル74)によりCCDカメラ115を移動させながら、テストパターンを(分割した)一部分ずつ、複数回に分けて撮像するようにして、テストパターン全体を撮像する。   When the drawing of the test pattern is completed, the moving table 74 is driven again so that the mounting table 112 faces the imaging area 114 (see FIG. 4). Then, the entire test pattern drawn on the small substrate 111 is imaged by the CCD camera 115. When the field of view of the CCD camera 115 is narrow and the entire test pattern cannot be imaged at once, the entire field of the test pattern is imaged by expanding the field of view by camera zoom. Alternatively, the test pattern is divided into a plurality of parts, and the CCD camera 115 is moved by the camera moving mechanism (and the moving table 74), and the test pattern is divided (divided) and the test pattern is divided into a plurality of times to perform the test. Image the entire pattern.

詳細は後述するが、撮像ユニット113(CCDカメラ)による撮像結果は、制御装置5に送信されて画像認識される。そして、この画像認識に基づいて、機能液滴吐出ヘッド16が正常に機能液を吐出しているか否かが判断されると共に、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良時にはその原因が機能液滴吐出ヘッド16自身に起因するもの、ヘッド保守装置70自身に起因するもの(その中でも、吸引ユニット71自身に起因するもの、およびワイピングユニット72自身に起因するもの)のいずれにあるかが判断されるようになっている。   Although details will be described later, an imaging result obtained by the imaging unit 113 (CCD camera) is transmitted to the control device 5 for image recognition. Then, based on this image recognition, it is determined whether or not the functional liquid droplet ejection head 16 is normally ejecting the functional liquid, and when the functional liquid droplet ejection head 16 is defective, the cause is the functional liquid droplet ejection. It can be determined whether the head 16 itself or the head maintenance device 70 itself (among them, the suction unit 71 itself, or the wiping unit 72 itself) is present. It has become.

なお、本実施形態の不良検査ユニット73は、吐出不良の原因が機能液滴吐出ヘッド16自身に起因する場合のように、機能液滴吐出ヘッド16(の各吐出ノズル59)から吐出される機能液滴の吐出量を補正するときにも使用されるようになっている。各機能液滴の吐出量(体積)は、テストパターンの描画結果に基づいて算出できるようになっており、機能液滴吐出ヘッド16の各吐出ノズル59から吐出される機能液滴量のばらつきを算出し、これに基づいて各吐出ノズル59(ピエゾ圧電素子)の駆動波形を補正することにより、各吐出ノズル59の吐出量を調整できるようになっている。   Note that the defect inspection unit 73 of the present embodiment has a function of ejecting from the functional liquid droplet ejection head 16 (each ejection nozzle 59) as in the case where the cause of ejection failure is caused by the functional liquid droplet ejection head 16 itself. It is also used when correcting the droplet discharge amount. The ejection amount (volume) of each functional droplet can be calculated based on the test pattern drawing result, and the variation in the functional droplet amount ejected from each ejection nozzle 59 of the functional droplet ejection head 16 can be calculated. The discharge amount of each discharge nozzle 59 can be adjusted by calculating and correcting the drive waveform of each discharge nozzle 59 (piezo piezoelectric element) based on this calculation.

具体的には、載置テーブル112に専用の小型基板111をセットして、機能液滴吐出ヘッド16の各吐出ノズル59から機能液滴を吐出させ、テストパターンを描画させる。この場合、小型基板111の表面には、着弾した機能液滴が冠球状となり、かつ機能液の種類毎に小型基板111と着弾した機能液滴とのなす角、すなわち接触角θが一定となるように特殊加工が施されている。   Specifically, a dedicated small substrate 111 is set on the mounting table 112, functional droplets are ejected from the ejection nozzles 59 of the functional droplet ejection head 16, and a test pattern is drawn. In this case, on the surface of the small substrate 111, the landed functional droplets have a coronal spherical shape, and the angle between the small substrate 111 and the landed functional droplets, that is, the contact angle θ is constant for each type of functional liquid. Special processing is applied.

続いて、描画したテストパターンを撮像して、制御装置5に画像認識させ、着弾した全ドットの着弾径をそれぞれ計測する。次に、小型基板111に着弾した各ドットの着弾径および接触角θに基づいて、小型基板111に着弾した各機能液滴の体積を算出する。そして、予め規定した基準吐出量からのずれ量に基づいて、基準吐出量から外れる機能液量を吐出した吐出ノズル59の駆動波形を補正し、機能液滴吐出ヘッド16の全吐出ノズル59が基準吐出量を吐出するように調整する。なお、基準吐出量は、全吐出ノズル59から吐出される機能液滴の吐出量が略一定となるように、機能液滴吐出ヘッド16の全吐出ノズル59の平均吐出量としても良いし、設計基準として予め各吐出ノズル毎に定めた値を用いても良い。   Subsequently, the drawn test pattern is imaged, and the controller 5 recognizes the image, and the landing diameters of all the landed dots are measured. Next, based on the landing diameter and contact angle θ of each dot landed on the small substrate 111, the volume of each functional droplet landed on the small substrate 111 is calculated. Then, based on the deviation amount from the predetermined reference discharge amount, the drive waveform of the discharge nozzle 59 that discharges the functional liquid amount deviating from the reference discharge amount is corrected, and all the discharge nozzles 59 of the functional liquid droplet discharge head 16 are set as the reference. Adjust the discharge amount to discharge. The reference discharge amount may be an average discharge amount of all the discharge nozzles 59 of the functional liquid droplet discharge head 16 so that the discharge amount of the functional liquid droplets discharged from all the discharge nozzles 59 is substantially constant, and is designed. A value determined in advance for each discharge nozzle may be used as a reference.

また、保守装置4として、上記の各ユニットに加え、描画装置1の稼動停止時に、機能液滴吐出ヘッド16の乾燥を防止すべくこれを保管するための保管装置や、機能液滴吐出ヘッド16から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定ユニット等を搭載することが好ましい。   In addition to the above units, the maintenance device 4 includes a storage device for storing the functional liquid droplet ejection head 16 in order to prevent the functional liquid droplet ejection head 16 from drying when the drawing apparatus 1 is stopped, and the functional liquid droplet ejection head 16. It is preferable to mount a weight measuring unit or the like for measuring the weight of the functional liquid droplets discharged from the liquid crystal.

制御装置5は、パソコン等で構成されており、図5に示すように、液滴吐出装置3および保守装置4と接続するためのインタフェース121と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるRAM122と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するROM123と、液滴吐出装置3や保守装置4からの各種データ(CCDカメラ115からの撮像データや撮像データに基づく各種データを含む)等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク124と、ハードディスク124に記憶されたプログラム等に基づいて、各種データを演算処理するCPU125と、これらを互いに接続するバス126と、を備えている。また、制御装置5には、キーボードやマウス等の入力装置127、各種データやメッセージなどを表示するモニタディスプレイ128等が備えられている。   The control device 5 is configured by a personal computer or the like, and has an interface 121 for connecting to the droplet discharge device 3 and the maintenance device 4 and a storage area that can be temporarily stored, as shown in FIG. A RAM 122 used as a work area for control processing, a ROM 123 having various storage areas, storing control programs and control data, and various data (from the CCD camera 115) from the droplet discharge device 3 and the maintenance device 4 Image data and various data based on the image data), the hard disk 124 for storing programs for processing the various data, and the like, and the various data based on the programs stored in the hard disk 124. A CPU 125 that performs arithmetic processing and a bus 126 that connects them to each other are provided. The control device 5 includes an input device 127 such as a keyboard and a mouse, a monitor display 128 that displays various data and messages, and the like.

制御装置5では、液滴吐出装置3や保守装置4、入力装置127からの各種データを、インタフェース121を介して入力すると共に、ハードディスク124に記憶された(または、CD−ROMドライブ等により順次読み出される)プログラムに従ってCPU125に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース121を介して液滴吐出装置3や保守装置4等に出力することにより、各種手段を実現できるようになっている。そして、請求項に記載された、画像認識手段、描画不良判断手段、不良特定手段、再判断手段、第1不良ノズル特定手段、第2不良ノズル特定手段、原因特定手段、動作条件変更手段等は、CPU125の演算処理により制御装置5内で実現される仮想的な手段である。   In the control device 5, various data from the droplet discharge device 3, the maintenance device 4, and the input device 127 are input via the interface 121 and stored in the hard disk 124 (or sequentially read out by a CD-ROM drive or the like). The CPU 125 performs arithmetic processing according to a program and outputs the processing result to the droplet discharge device 3 or the maintenance device 4 through the interface 121, thereby realizing various means. And the image recognition means, the drawing defect judgment means, the defect identification means, the re-judgment means, the first defective nozzle identification means, the second defective nozzle identification means, the cause identification means, the operating condition change means, etc. These are virtual means realized in the control device 5 by the arithmetic processing of the CPU 125.

ところで、機能液滴吐出ヘッド16の吐出ノズル59は、目詰まり等に起因して吐出不良を生じ易いため、目詰まりを防止すべく、上述したようにヘッド保守装置70(吸引ユニット71およびワイピングユニット72)を用いて機能液滴吐出ヘッド16の保守を行うようになっている。しかしながら、吸引ユニット71およびワイピングユニット72による保守動作は、その動作条件によってはかえって機能液滴吐出ヘッド16に悪影響を及ぼす場合がある。また、ノズル面58にメッキされた撥液膜が損傷した場合のように、機能液滴吐出ヘッド16自身が不良である場合には、両ユニット71、72による保守動作を行っても吐出不良は解消せず、ワークWに適切な描画を行うことはできない。   By the way, since the discharge nozzle 59 of the functional liquid droplet discharge head 16 is liable to cause a discharge failure due to clogging or the like, as described above, the head maintenance device 70 (the suction unit 71 and the wiping unit) is used to prevent clogging. 72) is used to perform maintenance of the functional liquid droplet ejection head 16. However, the maintenance operation by the suction unit 71 and the wiping unit 72 may adversely affect the functional liquid droplet ejection head 16 depending on the operation conditions. Further, when the functional liquid droplet ejection head 16 itself is defective, as in the case where the liquid repellent film plated on the nozzle surface 58 is damaged, even if the maintenance operation by both units 71 and 72 is performed, the ejection failure is not caused. The image cannot be eliminated and appropriate drawing on the workpiece W cannot be performed.

このように、ヘッド保守装置70および機能液滴吐出ヘッド16の両方が機能液滴吐出ヘッド16の不良原因になりうるため、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良を解消するためには、その不良原因を特定し、不良原因に見合ったメンテナンスを行うことが重要である。そこで、本実施形態の描画装置1は、不良検査ユニット73を備え、保守動作の終了後には、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良を検出すると共に、その不良原因を特定できるようになっている。   As described above, both the head maintenance device 70 and the functional liquid droplet ejection head 16 can cause the malfunction of the functional liquid droplet ejection head 16. It is important to identify the cause and perform maintenance appropriate to the cause of the defect. Therefore, the drawing apparatus 1 of the present embodiment includes a defect inspection unit 73, and after the maintenance operation is completed, it is possible to detect an ejection failure of the functional liquid droplet ejection head 16 and to identify the cause of the failure. .

図6を参照して、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良を検出するための一連の処理について説明する。同図に示すように、機能液滴吐出ヘッド16に対する吸引ユニット71およびワイピングユニット72の保守動作が終了すると(S1)、小型基板111にテストパターンが描画され(S2:描画工程)、続いて、撮像ユニット113によるテストパターンの撮像が行われる(S3)。撮像されたテストパターンの撮像データは、制御装置5に送信され(S4)、制御装置5に記憶された所定のプログラムに基づいて、画像認識が為され(S5:画像認識工程)、不良ノズルが特定される(S6:第1不良ノズル特定工程)。   With reference to FIG. 6, a series of processes for detecting ejection failure of the functional liquid droplet ejection head 16 will be described. As shown in the figure, when the maintenance operation of the suction unit 71 and the wiping unit 72 with respect to the functional liquid droplet ejection head 16 is completed (S1), a test pattern is drawn on the small substrate 111 (S2: drawing process). The test pattern is imaged by the imaging unit 113 (S3). The captured image data of the test pattern is transmitted to the control device 5 (S4), image recognition is performed based on a predetermined program stored in the control device 5 (S5: image recognition process), and defective nozzles are detected. It is specified (S6: first defective nozzle specifying step).

続いて、テストパターンが描画不良であるか否かの判定が行われる(描画不良判断工程)。同図に示すように、描画不良の判定(描画不良判断工程)では、不良ノズルとして特定された吐出ノズル59の有無を確認し(S7)、不良ノズルが1つも検出されない場合には(S7:Yes)、描画が適切である、すなわち、機能液滴吐出ヘッド16に吐出不良がないと判断して処理を終了させる。一方、不良ノズルが1つでも検出された場合には(S7:No)、機能液滴吐出ヘッド16の保守動作を実行させると共に、上記の処理を繰り返し(S2〜S6:再判断工程および第2不良ノズル特定工程)、再度画像認識に基づいて、不良ノズルの有無を検出する(S7)。そして、再び不良ノズルが検出された場合(S8:Yes)、すなわち描画不良と判断された場合には、機能液滴吐出ヘッド16、少なくとも吸引ユニット71またはワイピングユニット72に不良があると判断し(S9)、不良原因を特定した(S10:原因特定工程)後に、一連の処理を終了させる。   Subsequently, it is determined whether or not the test pattern has a drawing failure (drawing failure determination step). As shown in the figure, in the determination of the drawing failure (drawing failure determination step), the presence / absence of the discharge nozzle 59 specified as a defective nozzle is confirmed (S7), and if no defective nozzle is detected (S7: Yes), it is determined that drawing is appropriate, that is, the functional liquid droplet ejection head 16 has no ejection failure, and the process is terminated. On the other hand, when even one defective nozzle is detected (S7: No), the maintenance operation of the functional liquid droplet ejection head 16 is executed, and the above processing is repeated (S2 to S6: re-determination step and second). Defective nozzle identification step), the presence or absence of a defective nozzle is detected again based on image recognition (S7). When a defective nozzle is detected again (S8: Yes), that is, when it is determined that the drawing is defective, it is determined that there is a defect in the functional liquid droplet ejection head 16, at least the suction unit 71 or the wiping unit 72 ( S9) After identifying the cause of failure (S10: cause identifying step), a series of processing is terminated.

このように、一度不良ノズルが検出された後、さらに保守動作を繰り返すことにより、機能液滴吐出ヘッド16の偶然的な吐出不良を排除し、機能液滴吐出ヘッド16、吸引ユニット71、およびワイピングユニット72のいずれかに不良原因があることについての蓋然性を高めることができる。また、不良原因を特定するためのデータが増えるため、適切な判断を行うことが可能である。なお、本実施形態では、不良ノズルが検出された場合に繰り返す、機能液滴吐出ヘッド16の保守回数を1回としているが、繰り返し保守回数は任意に設定可能である。また、保守動作を繰り返す場合には、機能液滴吐出ヘッド16の吸引からワイピングに至る一連の動作を行うようにしても良いが、状況により(画像認識で、ドットの位置ずれのみが検出された場合など)ワイピング動作のみを行うようにしても良い。   As described above, once a defective nozzle is detected, the maintenance operation is further repeated to eliminate the accidental ejection failure of the functional liquid droplet ejection head 16, and the functional liquid droplet ejection head 16, the suction unit 71, and the wiping are eliminated. It is possible to increase the probability that any of the units 72 has a cause of failure. In addition, since data for specifying the cause of failure increases, an appropriate determination can be made. In the present embodiment, the number of maintenance times of the functional liquid droplet ejection head 16 that is repeated when a defective nozzle is detected is set to one, but the number of times of maintenance can be arbitrarily set. When the maintenance operation is repeated, a series of operations from the suction of the functional liquid droplet ejection head 16 to the wiping may be performed. However, depending on the situation (only the dot misalignment was detected in the image recognition) Only the wiping operation may be performed.

ここで、撮像データの画像認識について説明する。画像認識では、基準となる基準テストパターンと実際に描画されたテストパターンとの比較が為され、テストパターンを構成する全ドットについて1個ずつ順番に認識が行われる。先ず、ドット抜けの有無が検出され、ドット抜けが検出されると、そのドット抜けの原因となった吐出ノズル59を特定して不良ノズルとして記憶する。なお、機能液滴吐出ヘッド16の各吐出ノズル59には、固有のノズル番号が付されており、不良ノズルとして吐出ノズル59を記憶する場合には、ノズル番号が記憶されることはいうまでもない。   Here, image recognition of imaging data will be described. In image recognition, a reference test pattern as a reference is compared with an actually drawn test pattern, and recognition is performed sequentially for all the dots constituting the test pattern. First, the presence / absence of missing dots is detected, and when missing dots are detected, the discharge nozzle 59 that caused the missing dots is identified and stored as a defective nozzle. It should be noted that each discharge nozzle 59 of the functional liquid droplet discharge head 16 is assigned a unique nozzle number, and when the discharge nozzle 59 is stored as a defective nozzle, it goes without saying that the nozzle number is stored. Absent.

一方、ドット抜けが検出されない場合には、小型基板111に着弾したドットの着弾径を計測してこれを記憶すると共に、基準位置(基準テストパターンにおけるドットの位置)と実際のドットとの位置ずれ量(吐出した機能液滴の飛行曲がりに起因する)をX軸方向およびY軸方向について算出して記憶する。また、各ドットについて、基準位置からの位置ずれ方向を特定して記憶する。さらに、記憶した全データに対して、ドットの着弾径および位置ずれ量が予め設定した許容範囲内にあるか否かをチェックし、許容範囲から外れた着弾径または位置ずれ量のドットを吐出した吐出ノズル59を不良ノズルとして記憶する。   On the other hand, when dot missing is not detected, the landing diameter of the dot landed on the small substrate 111 is measured and stored, and the positional deviation between the reference position (dot position in the reference test pattern) and the actual dot is measured. The amount (due to the flight curve of the ejected functional droplet) is calculated and stored in the X-axis direction and the Y-axis direction. In addition, for each dot, the direction of displacement from the reference position is specified and stored. Further, it is checked whether or not the dot landing diameter and the positional deviation amount are within a preset allowable range with respect to all stored data, and a dot having a landing diameter or positional deviation amount outside the allowable range is discharged. The discharge nozzle 59 is stored as a defective nozzle.

なお、本実施形態では、全ドットについて画像認識を行っているが、予め定められた所定数のドット分についてのみ画像認識を行う(サンプリング)ようにしても良い。これにより、吐出不良の検出精度は若干低下するものの、検査速度を向上させることが可能となり、画像認識の所要時間を削減することが可能である。この場合、画像認識を行うドットは、テストパターンを構成する全ドットからランダムに、かつマトリクス状に整列した行方向および列方向から均一にドットを選択することが好ましい。また、テストパターンの描画に際し、各吐出ノズル59から複数ドットずつ機能液滴が吐出されている場合には、複数ドットのうち、1ドットでも不良が検出されれば、そのドットを吐出した吐出ノズル59は不良ノズルとして特定される。   In this embodiment, image recognition is performed for all dots, but image recognition may be performed (sampling) only for a predetermined number of dots. Thereby, although the detection accuracy of ejection failure is slightly lowered, the inspection speed can be improved, and the time required for image recognition can be reduced. In this case, it is preferable to select dots for image recognition at random from all the dots constituting the test pattern and uniformly from the row direction and the column direction arranged in a matrix. In addition, when a functional liquid droplet is ejected from each ejection nozzle 59 at the time of drawing a test pattern, if a defect is detected even at one of the plurality of dots, the ejection nozzle that ejects the dot 59 is identified as a defective nozzle.

次に、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良が検出された場合に行われる不良原因の特定方法について図7を参照しながら説明する。説明の便宜のため、ここでは、1回目に描画させたテストパターンを第1テストパターン、再度保守動作を行った後に描画させたテストパターンを第2テストパターンとし、第1テストパターンの画像認識により検出された不良ノズルを第1不良ノズル、第2テストパターンの画像認識により検出された不良ノズルを第2不良ノズルとする。   Next, a method for identifying the cause of failure performed when a discharge failure of the functional droplet discharge head 16 is detected will be described with reference to FIG. For convenience of explanation, here, the first test pattern drawn is the first test pattern, the test pattern drawn after the maintenance operation is performed again is the second test pattern, and image recognition of the first test pattern is performed. The detected defective nozzle is defined as a first defective nozzle, and the defective nozzle detected by image recognition of the second test pattern is defined as a second defective nozzle.

同図に示すように、不良原因の特定(原因特定工程)では、先ず、吐出不良検出において、先ず、第1不良ノズルおよび第2不良ノズルの発生態様を比較する(S11)。ここでいう不良ノズルの「発生態様」とは、吐出ノズル59のノズル番号、不良ノズルとして特定された理由(不良理由)を併せて考慮したものであり、S11では、第1不良ノズルおよび第2不良ノズルについて、そのノズル番号、および不良理由が比較される。また、各吐出ノズル59から複数ドットずつ機能液滴を吐出させている場合には、吐出不良の発生時期や発生回数等を併せて比較するようにしても良い。   As shown in the figure, in the failure cause identification (cause identification step), first, in the ejection failure detection, first, the occurrence modes of the first defective nozzle and the second defective nozzle are compared (S11). The “occurrence mode” of the defective nozzle here refers to a combination of the nozzle number of the discharge nozzle 59 and the reason (defect reason) specified as the defective nozzle. In S11, the first defective nozzle and the second defective nozzle are considered. For defective nozzles, the nozzle number and reason for failure are compared. In addition, when functional droplets are ejected from the respective ejection nozzles 59 by a plurality of dots, the timing of occurrence or the number of occurrences of ejection defects may be compared together.

そして、第1不良ノズルおよび第2不良ノズルの発生態様が異なる場合(S11:No)、不良理由が異なる場合(S12:No)には、保守動作が安定して行われない、すなわちヘッド保守装置70が不安定で保守動作精度が悪いために、機能液滴吐出ヘッドの適切な保守が為されないとして、ヘッド保守装置70自身を機能液滴吐出ヘッド16の不良原因であると特定する(S13)。また、不良ノズルに特定されたノズル番号が異なっても、不良理由が一致する場合(S12:Yes)には、保守動作による保守作用が不十分であるために、機能液滴吐出ヘッド16(吐出ノズル59)の吐出状態が安定しないと見做して、原則的には、ヘッド保守装置70の動作条件に機能液滴吐出ヘッド16の不良原因があると判断する(S16)。   When the generation modes of the first defective nozzle and the second defective nozzle are different (S11: No) and when the reason for the defect is different (S12: No), the maintenance operation is not stably performed, that is, the head maintenance device. Since 70 is unstable and the maintenance operation accuracy is poor, the proper maintenance of the functional liquid droplet ejection head is not performed, and the head maintenance device 70 itself is identified as the cause of the malfunction of the functional liquid droplet ejection head 16 (S13). . In addition, even if the nozzle numbers specified as defective nozzles are different, if the reason for the defects is the same (S12: Yes), the maintenance action by the maintenance operation is insufficient, and thus the functional liquid droplet ejection head 16 (ejection) Assuming that the discharge state of the nozzle 59) is not stable, in principle, it is determined that the operating condition of the head maintenance device 70 is the cause of the failure of the functional liquid droplet discharge head 16 (S16).

機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58にメッキされた撥液膜が損傷した場合、特にノズル面58のワイピングによりノズル面58に一定方向の傷が生じている場合には、ヘッド保守装置70の動作条件に問題がなくても、不特定の吐出ノズル59について機能液滴の着弾位置のずれ(飛行曲がり)が生じることがある。この場合、ノズル面58に付いた傷に合わせて、着弾位置のずれ方向に一定の規則性を生じやすい。そこで、図7に示すように、ヘッド保守装置70の動作条件に問題があると判断する前に、不良理由として着弾位置のずれが挙げられているかを確認(S14)するようになっている。そして、着弾位置のずれが確認されると(S14:Yes)、第1および第2不良ノズルの各吐出ノズル59について着弾位置のずれ方向を認識し(S15)、着弾位置のずれ方向が略一致している、すなわち着弾位置のずれ方向におけるばらつきが予め設定された所定の範囲内に収まる場合(S15:Yes)には、機能液滴吐出ヘッド16自身に不良原因があると判断する。なお、着弾位置のずれが確認できない場合(S14:No)や、ずれ方向が一定しない場合(S15:No)には、ヘッド保守装置70の動作条件に機能液滴吐出ヘッド16の不良原因があると判断する(S16)。   When the liquid-repellent film plated on the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16 is damaged, particularly when the nozzle surface 58 is scratched in a certain direction due to wiping of the nozzle surface 58, the head maintenance device 70 Even if there is no problem in the operating conditions, the landing position of the functional liquid droplet (flying bend) may occur for the unspecified discharge nozzle 59. In this case, a certain regularity is likely to occur in the direction of deviation of the landing position according to the scratches on the nozzle surface 58. Therefore, as shown in FIG. 7, before it is determined that there is a problem in the operating condition of the head maintenance device 70, it is checked whether the landing position shift is listed as the reason for the failure (S14). When the landing position shift is confirmed (S14: Yes), the landing position shift direction is recognized for each discharge nozzle 59 of the first and second defective nozzles (S15), and the landing position shift direction is substantially the same. If it is determined that the variation in the deviation direction of the landing position is within a predetermined range set in advance (S15: Yes), it is determined that there is a cause of the defect in the functional liquid droplet ejection head 16 itself. If the landing position deviation cannot be confirmed (S14: No) or the deviation direction is not constant (S15: No), the operating condition of the head maintenance device 70 has a cause of the defective function droplet ejection head 16. (S16).

一方、第1不良ノズルおよび第2不良ノズルの発生態様が同一である場合(S11:Yes)には、機能液滴吐出ヘッド16に不良原因があると判断する(S17)。これは、ヘッド保守装置に不良原因があり、保守動作が不適切であると仮定した場合には、描画不良の不良理由が一致しても、不良ノズルの発生箇所が連続して一致する可能性が低いと考えられるためであり、連続して同一の吐出ノズルが不良ノズルとなるのは、機能液滴吐出ヘッド自身の不良に起因する可能性が高いためである。   On the other hand, if the first defective nozzle and the second defective nozzle are generated in the same manner (S11: Yes), it is determined that there is a cause of the defect in the functional liquid droplet ejection head 16 (S17). This is because if there is a cause of failure in the head maintenance device and the maintenance operation is inappropriate, even if the reason for the drawing failure is the same, the location where the defective nozzle is generated may be consistent. The reason why the same discharge nozzle becomes a defective nozzle in succession is that there is a high possibility that it is caused by a defect in the functional liquid droplet discharge head itself.

なお、機能液滴吐出ヘッド16またはヘッド保守装置70に不良原因があるかを判断するに当たり、上述したヘッド観察カメラ75により、ワイピングの終了後に撮像された撮像データに基づいて行う判断を組み込むようにしても良い。この場合、例えば、機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58に拭き残しがないかを確認し、拭き残しがない場合には機能液滴吐出ヘッド16に何らかの不良が有ると判断し、拭き残しがある場合には、ヘッド保守装置70に不良原因があると判断する。   In determining whether there is a defect cause in the functional liquid droplet ejection head 16 or the head maintenance device 70, a determination made based on the imaging data captured after the wiping is completed by the head observation camera 75 described above is incorporated. May be. In this case, for example, the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16 is checked for wiping residue, and if there is no wiping residue, it is determined that the functional liquid droplet ejection head 16 has some defect, and the wiping residue remains. If there is, it is determined that the head maintenance device 70 has a cause of failure.

さらに、本実施形態では、ヘッド保守装置70の保守条件に不良原因があると判断された場合に、上記したテストパターンの画像認識により得たデータに基づいて、ヘッド保守装置70内における不良原因をさらに特定する(不良保守動作特定工程)と共に、不良原因を解消すべく不良原因に特定されたユニットの保守条件(吸引条件またはワイピング条件)を変更するようになっている。   Furthermore, in this embodiment, when it is determined that there is a cause of failure in the maintenance conditions of the head maintenance device 70, the cause of failure in the head maintenance device 70 is determined based on the data obtained by the image recognition of the test pattern described above. Further, the maintenance condition (suction condition or wiping condition) of the unit identified as the cause of the defect is changed in order to identify the cause of the defect and to identify the cause of the defect.

不良保守動作特定工程では、吸引ユニット71およびワイピングユニット72について、不良ノズルの不良理由に基づき、不良原因を順次特定するようになっている。したがって、吸引ユニット71およびワイピングユニット72の両方に不良原因がある場合も含め、両ユニットのいずれに不良原因があるかを特定できるようになっている。具体的には、ドット抜けが不良理由である場合、機能液滴吐出ヘッド16の吸引が十分でないために、吐出ノズル59にノズル詰まりが解消されていない可能性が高いので、吸引ユニット71が不良であると判断する。同様に、ドットの着弾径の異常で、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも小さい場合には、機能液滴吐出ヘッド16の吸引が不十分なため、増粘した機能液が排出されていないとして吸引ユニット71に不良があると判断する。   In the defect maintenance operation specifying step, the cause of the defect is sequentially specified for the suction unit 71 and the wiping unit 72 based on the reason for the defect of the defective nozzle. Therefore, it is possible to identify which of both units has the cause of failure, including cases where both the suction unit 71 and the wiping unit 72 have a cause of failure. Specifically, when the dot omission is the reason for failure, the suction of the functional liquid droplet ejection head 16 is not sufficient, and there is a high possibility that the nozzle clogging has not been eliminated in the ejection nozzle 59. It is judged that. Similarly, when the dot landing diameter is abnormal and the dot landing diameter Lm is smaller than the allowable landing diameter L, the functional liquid droplet ejection head 16 is not sufficiently sucked, and thus the thickened functional liquid is discharged. It is determined that the suction unit 71 is defective.

吸引ユニット71に不良原因があると判断された場合、吸引ユニット71の吸引力を増すように吸引条件(例えば、吸引ポンプによる吸引圧力や、吸引ポンプの駆動時間等)に変更が加えられる。そして、ドット抜けが生じている場合には、吸引条件変更Aが行われ、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも小さい場合には、吸引条件変更Bが行われる。吸引条件変更Aでは、吸引条件変更Bに比して、吸引力が大きくなるように吸引条件が変更される(動作条件変更工程)。   When it is determined that there is a cause of the defect in the suction unit 71, the suction conditions (for example, the suction pressure by the suction pump, the driving time of the suction pump, etc.) are changed so as to increase the suction force of the suction unit 71. When the missing dot has occurred, the suction condition change A is performed. When the dot landing diameter Lm is smaller than the allowable landing diameter L, the suction condition change B is performed. In the suction condition change A, the suction condition is changed so that the suction force is larger than the suction condition change B (operation condition changing step).

ドットの飛行曲がりが不良理由である場合、ワイピングによる機能液滴吐出ヘッド16のノズル面58の拭き残しが原因であると考えられるため、ワイピングユニット72を不良原因に特定する。また、ドットの着弾径の異常で、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きい場合にも、ワイピングユニット72に不良原因があると判断する。これは、ワイピングシート91の塗布した洗浄液が、ワイピング時に機能液滴吐出ヘッド16の吐出ノズル59に入り込み、吐出ノズル59内で機能液の濃度が低下したと考えるためである。   If the flying curve of the dots is the reason for the failure, it is considered that the remaining wiping of the nozzle surface 58 of the functional liquid droplet ejection head 16 due to wiping is the cause, so the wiping unit 72 is specified as the cause of the failure. Also, when the dot landing diameter is abnormal and the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L, it is determined that the wiping unit 72 has a cause of failure. This is because the cleaning liquid applied to the wiping sheet 91 enters the discharge nozzle 59 of the functional liquid droplet discharge head 16 during wiping, and the concentration of the functional liquid is reduced in the discharge nozzle 59.

ワイピングユニット72に不良原因があると判断された場合、ワイピングユニット72のワイピング条件(例えば、ノズル面58に対するワイピングシート91の押圧力、ワイピングシート91の巻取り速度、ワイピング時間、ワイピングシート91に塗布する洗浄液量等)が変更される。この場合、不良理由の組み合わせに基づいて、適宜ワイピング条件が変更されるようになっている(条件変更工程)。   When it is determined that the wiping unit 72 is defective, the wiping conditions of the wiping unit 72 (for example, the pressing force of the wiping sheet 91 against the nozzle surface 58, the winding speed of the wiping sheet 91, the wiping time, the application to the wiping sheet 91) The amount of cleaning liquid to be changed). In this case, the wiping condition is appropriately changed based on the combination of reasons for failure (condition changing step).

飛行曲がりのみが不良理由である場合には、ワイピング条件変更Bが行われる。ワイピング条件変更Bでは、ワイピングシート91の押付け圧力を増加させる、ワイピング時間を増加させるなどワイピング条件の設定値を増加させることが考えられる。この場合、複数のワイピング条件を変更しても良い。また、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きい場合には、ワイピング条件変更Cが行われる。ワイピング条件変更Cでは、ワイピングシート91に塗布する洗浄液量を減少させたり、ワイピングシート91の押付け圧力を減少させたりして、吐出ノズル59に洗浄液が入り込むことを防止する。また、飛行曲がりがあり、かつドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きい場合には、ワイピング条件変更Cが行われる。ワイピング条件変更Cでは、ワイピングシート91の巻取り速度やワイピング時間を増加させる一方、ワイピングシート91に塗布する洗浄液量や、ワイピングシート91の押付け圧力を減少させる。   If only the flight curve is the reason for the failure, the wiping condition change B is performed. In the wiping condition change B, it is conceivable to increase the setting value of the wiping condition such as increasing the pressing pressure of the wiping sheet 91 or increasing the wiping time. In this case, a plurality of wiping conditions may be changed. When the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L, the wiping condition change C is performed. In the wiping condition change C, the amount of cleaning liquid applied to the wiping sheet 91 is reduced or the pressing pressure of the wiping sheet 91 is reduced to prevent the cleaning liquid from entering the discharge nozzle 59. Further, when there is a flight curve and the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L, the wiping condition change C is performed. In the wiping condition change C, the winding speed and wiping time of the wiping sheet 91 are increased, while the amount of cleaning liquid applied to the wiping sheet 91 and the pressing pressure of the wiping sheet 91 are decreased.

図8を参照して、ヘッド保守装置70の不良原因を特定するためのフローについて説明する。同図に示すように、ヘッド保守装置70の動作条件に不良原因があると特定される(S16)と、ドット抜けの有無が確認される(S31)。ここで、ドット抜け有りと判断される(S31:Yes)と、吸引ユニットに不良原因があると特定され(S32)、吸引条件変更Aが行われる(S33)。ドット抜けがないと判断される(S31:No)と、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも小さいか否かが判断され(S34)、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも小さい場合(S34:Yes)には、吸引ユニットに不良原因があると特定され(S35)、吸引条件変更Bが行われる(S36)。   With reference to FIG. 8, a flow for identifying the cause of the failure of the head maintenance device 70 will be described. As shown in the figure, when it is specified that the operating condition of the head maintenance device 70 is defective (S16), the presence or absence of missing dots is confirmed (S31). Here, when it is determined that there is a missing dot (S31: Yes), it is specified that there is a cause of the defect in the suction unit (S32), and the suction condition change A is performed (S33). If it is determined that there is no missing dot (S31: No), it is determined whether the dot landing diameter Lm is smaller than the allowable landing diameter L (S34), and the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L. When it is small (S34: Yes), it is specified that the suction unit has a cause of failure (S35), and the suction condition change B is performed (S36).

続いて、飛行曲がりの有無が確認され(S41)、飛行曲がり有りと判断される(S41:Yes)と、ワイピングユニット72に不良原因があると判断される(S42)。そして、さらに、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きいか否かが確認され(S43)、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きい場合(S43:Yes)には、ワイピング条件変更Aが行われ(S44)、ドットの着弾径Lmが許容着弾径L以下である場合(S43:No)には、ワイピング条件Bが行われる(S45)。また、飛行曲がりなしと判断される(S41:No)と、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きいか否かが確認され(S46)、ドットの着弾径Lmが許容着弾径Lよりも大きい場合(S46:Yes)には、ワイピングユニット72に不良原因があると判断される(S47)と共に、ワイピング条件変更Cが行われる(S48)。   Subsequently, the presence / absence of a flight curve is confirmed (S41). If it is determined that there is a flight curve (S41: Yes), it is determined that the wiping unit 72 has a defect cause (S42). Further, it is confirmed whether or not the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L (S43). When the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L (S43: Yes), wiping is performed. When the condition change A is performed (S44) and the dot landing diameter Lm is equal to or smaller than the allowable landing diameter L (S43: No), the wiping condition B is performed (S45). If it is determined that there is no flight curve (S41: No), it is confirmed whether or not the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L (S46), and the dot landing diameter Lm is larger than the allowable landing diameter L. Is larger (S46: Yes), it is determined that there is a defect cause in the wiping unit 72 (S47), and the wiping condition change C is performed (S48).

なお、保守条件の変更を行った後は、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良を検出する上記の一連の処理を行い、保守条件の変更により吐出不良が解消したかを確認する。吐出不良が解消しない場合には、予め設定された回数だけ一連の処理を繰り返す。そして、所定回数、一連の処理を繰り返しても、吐出不良が解消しない場合には、モニタディスプレイ128にエラー表示を行う。このとき、エラー表示と共に、選択画面を表示させて、保守動作の動作条件を手動で設定する手動変更モードへの切替えを選択できるようにしても良い。   Note that after the maintenance condition is changed, the above-described series of processing for detecting the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head 16 is performed, and it is confirmed whether the ejection failure has been eliminated by the change of the maintenance condition. If the ejection failure is not resolved, a series of processing is repeated a preset number of times. If the ejection failure is not resolved even after repeating a series of processes a predetermined number of times, an error is displayed on the monitor display 128. At this time, a selection screen may be displayed together with an error display so that switching to the manual change mode for manually setting the operation condition of the maintenance operation may be selected.

また、本実施形態では、吸引ユニット71、ワイピングユニット72の順に不良原因を特定しているが、不良原因特定の順番はこれに限られるものではなく、適宜変更可能である。また、本実施形態では、保守動作の動作条件(吸引ユニット71による吸引条件やワイピングユニット72によるワイピング条件)を自動変更する構成となっているが、初めからユーザが手動でこれらを変更するようにしても良い。   In this embodiment, the cause of failure is specified in the order of the suction unit 71 and the wiping unit 72, but the order of specifying the cause of failure is not limited to this, and can be changed as appropriate. In the present embodiment, the operation conditions of the maintenance operation (suction conditions by the suction unit 71 and wiping conditions by the wiping unit 72) are automatically changed. However, the user manually changes them from the beginning. May be.

また、制御装置5は、各種センサ(例えば、吸引圧検出センサ、ワイピング圧検出センサやモータに付されたエンコーダなど)を通じて、吸引ユニット71およびワイピングユニット72の保守動作をモニタリングしており、制御装置5のモニタディスプレイ128には、動作状況が示されるようになっている。そして、保守動作実行中に、吸引ユニット71およびワイピングユニット72の機械的な故障等により動作異常が生じた場合には、これを検出して、動作異常が生じた旨をモニタディスプレイ128に表示させるようになっている。これにより、ユーザは、吸引ユニット71およびワイピングユニット72の故障を認識することができ、故障したユニットに対して適切なメンテナンスを行うことが可能である。   The control device 5 monitors maintenance operations of the suction unit 71 and the wiping unit 72 through various sensors (for example, a suction pressure detection sensor, a wiping pressure detection sensor, an encoder attached to the motor, etc.). The monitor display 128 of No. 5 shows the operation status. When an abnormal operation occurs due to a mechanical failure or the like of the suction unit 71 and the wiping unit 72 during the maintenance operation, this is detected and the fact that the abnormal operation has occurred is displayed on the monitor display 128. It is like that. Thereby, the user can recognize the failure of the suction unit 71 and the wiping unit 72, and can perform appropriate maintenance for the failed unit.

また、モニタディスプレイ128には、機能液滴吐出ヘッド16の吐出不良を検出するための一連の処理により特定された不良原因と共に、上記の画像認識により得られた各種データを表示させることが可能である。例えば、不良ノズルに特定された吐出ノズル59のノズル番号や、テストパターンの描画中に生じたドット抜け数、テストパターンを構成する各ドットの各種データ(位置ずれ量、着弾径の大きさなど)、位置ずれ量の最大値・最小値、着弾径の最大値・最小値を表示させることが可能である。また、不良原因として、特定されたユニット名と共に、その不良理由を併せて表示するようになっている。したがって、保守動作の動作条件を手動で変更するときには、これらのデータや表示を参考にすることができる。   In addition, the monitor display 128 can display various data obtained by the above image recognition together with the cause of the failure identified by a series of processes for detecting the ejection failure of the functional liquid droplet ejection head 16. is there. For example, the nozzle number of the discharge nozzle 59 specified as a defective nozzle, the number of missing dots generated during drawing of the test pattern, and various data of each dot constituting the test pattern (position shift amount, size of impact diameter, etc.) It is possible to display the maximum value / minimum value of the displacement amount and the maximum value / minimum value of the impact diameter. In addition, the cause of failure is displayed together with the specified unit name as the cause of failure. Therefore, when manually changing the operating conditions of the maintenance operation, these data and display can be referred to.

また、制御装置5には、描画装置1を新設した場合のように、新たに保守動作の動作条件を設定するときに、保守動作の動作条件を適切な動作条件に設定するために用いられる保守評価機能が備えられている。保守評価機能は、機能液滴吐出ヘッド16に対する保守動作の終了後、テストパターンを描画させ、これに基づいて、ヘッド保守装置70の動作条件を評価するものである。ここでは、機能液滴吐出ヘッド16が正常に駆動することが前提となっており、テストパターンの画像認識が終了した後は、上記したヘッド保守装置70の不良原因を特定するためのフローに準じて保守評価が行われる。   Further, in the control device 5, maintenance is used to set the operation condition of the maintenance operation to an appropriate operation condition when newly setting the operation condition of the maintenance operation, as in the case where the drawing apparatus 1 is newly installed. An evaluation function is provided. The maintenance evaluation function draws a test pattern after the maintenance operation for the functional liquid droplet ejection head 16 is completed, and evaluates the operation condition of the head maintenance device 70 based on the test pattern. Here, it is assumed that the functional liquid droplet ejection head 16 is normally driven. After the image recognition of the test pattern is completed, it follows the flow for specifying the cause of the failure of the head maintenance device 70 described above. Maintenance evaluation is performed.

保守評価機能を使用する場合、モニタディスプレイ128には、図9に示すような、保守評価画面131が表示される。保守評価画面131には、吸引ユニット71の駆動に続き、ワイピングユニット72を駆動させる連続駆動ボタン132、吸引ユニット71のみを駆動させる吸引駆動ボタン133、およびワイピングユニット72のみを駆動させるワイピング駆動ボタン134が設けられており、保守評価画面131上からヘッド保守装置70の駆動を指示できるようになっている。また、保守評価画面131には、保守評価における動作状況を示す動作表示ボックス135の他、保守動作が良好(OK)であるか不良(NG)であるかを表示する評価ボックス136が備えられている。評価ボックス136は、各不良理由に対して良否を表示する個別評価ボックス137と、これに基づいて保守動作全体の良否を表示する全体評価ボックス138と、を有しており、全体評価ボックス138では、個別評価ボックス137が全て良好表示である場合に、良好である旨の表示がなされるようになっている。さらに、保守評価画面131には、コメントボックス139が設けられており、画像認識により得られた各種データを表示するようになっている。   When the maintenance evaluation function is used, a maintenance evaluation screen 131 as shown in FIG. On the maintenance evaluation screen 131, following the driving of the suction unit 71, a continuous drive button 132 for driving the wiping unit 72, a suction drive button 133 for driving only the suction unit 71, and a wiping drive button 134 for driving only the wiping unit 72 are displayed. Is provided so that the head maintenance device 70 can be instructed to be driven from the maintenance evaluation screen 131. Further, the maintenance evaluation screen 131 is provided with an evaluation box 136 for displaying whether the maintenance operation is good (OK) or defective (NG) in addition to the operation display box 135 indicating the operation status in the maintenance evaluation. Yes. The evaluation box 136 has an individual evaluation box 137 that displays pass / fail for each failure reason, and an overall evaluation box 138 that displays the overall pass / fail of the maintenance operation based on this. When the individual evaluation boxes 137 are all in good display, a display indicating that they are good is made. Furthermore, the maintenance evaluation screen 131 is provided with a comment box 139 for displaying various data obtained by image recognition.

次に、本実施形態の描画装置1を用いて製造される電気光学装置(フラットパネルディスプレイ)として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機EL装置、プラズマディスプレイ(PDP装置)、電子放出装置(FED装置、SED装置)、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。   Next, as an electro-optical device (flat panel display) manufactured using the drawing device 1 of the present embodiment, a color filter, a liquid crystal display device, an organic EL device, a plasma display (PDP device), an electron emission device (FED device). The structure and the manufacturing method thereof will be described by taking an active matrix substrate and the like formed in these display devices as examples. Note that an active matrix substrate refers to a substrate on which a thin film transistor, a source line electrically connected to the thin film transistor, and a data line are formed.

先ず、液晶表示装置や有機EL装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図10は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図11は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ500(フィルタ基体500A)の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程(S51)では、図11(a)に示すように、基板(W)501上にブラックマトリクス502を形成する。ブラックマトリクス502は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス502を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス502を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
First, a method for manufacturing a color filter incorporated in a liquid crystal display device, an organic EL device or the like will be described. FIG. 10 is a flowchart showing the manufacturing process of the color filter, and FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of the color filter 500 (filter base body 500A) of this embodiment shown in the order of the manufacturing process.
First, in the black matrix forming step (S51), a black matrix 502 is formed on a substrate (W) 501 as shown in FIG. The black matrix 502 is formed of metal chromium, a laminate of metal chromium and chromium oxide, resin black, or the like. A sputtering method, a vapor deposition method, or the like can be used to form the black matrix 502 made of a metal thin film. Further, when forming the black matrix 502 made of a resin thin film, a gravure printing method, a photoresist method, a thermal transfer method, or the like can be used.

続いて、バンク形成工程(S52)において、ブラックマトリクス502上に重畳する状態でバンク503を形成する。即ち、まず図11(b)に示すように、基板501及びブラックマトリクス502を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層504を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム505で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図11(c)に示すように、レジスト層504の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層504をパターニングして、バンク503を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク503とその下のブラックマトリクス502は、各画素領域507aを区画する区画壁部507bとなり、後の着色層形成工程において液滴吐出ヘッド10により着色層(成膜部)508R、508G、508Bを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
Subsequently, in the bank formation step (S52), the bank 503 is formed in a state of being superimposed on the black matrix 502. That is, first, as shown in FIG. 11B, a resist layer 504 made of a negative transparent photosensitive resin is formed so as to cover the substrate 501 and the black matrix 502. Then, an exposure process is performed with the upper surface covered with a mask film 505 formed in a matrix pattern shape.
Further, as shown in FIG. 11C, the resist layer 504 is patterned by etching an unexposed portion of the resist layer 504 to form a bank 503. When the black matrix is formed from resin black, it is possible to use both the black matrix and the bank.
The bank 503 and the black matrix 502 below the bank 503 serve as partition wall portions 507b for partitioning the pixel regions 507a, and the colored layers (film forming portions) 508R, 508G, and 508B are formed by the droplet discharge head 10 in the subsequent colored layer forming step. The landing area of the functional droplet is defined when forming the.

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体500Aが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク503の材料として、塗膜表面が疎液(疎水)性となる樹脂材料を用いている。そして、基板(ガラス基板)501の表面が親液(親水)性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク503(区画壁部507b)に囲まれた各画素領域507a内への液滴の着弾位置精度が向上する。
The filter substrate 500A is obtained through the above black matrix forming step and bank forming step.
In the present embodiment, as the material of the bank 503, a resin material whose coating film surface is lyophobic (hydrophobic) is used. Since the surface of the substrate (glass substrate) 501 is lyophilic (hydrophilic), the droplets into each pixel region 507a surrounded by the bank 503 (partition wall portion 507b) in the colored layer forming step described later. The landing position accuracy is improved.

次に、着色層形成工程(S53)では、図11(d)に示すように、液滴吐出ヘッド10によって機能液滴を吐出して区画壁部507bで囲まれた各画素領域507a内に着弾させる。この場合、液滴吐出ヘッド10を用いて、R・G・Bの3色の機能液(フィルタ材料)を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Next, in the colored layer forming step (S53), as shown in FIG. 11D, functional droplets are ejected by the droplet ejection head 10 and land in each pixel region 507a surrounded by the partition wall portion 507b. Let In this case, the functional liquid droplets are ejected by introducing functional liquids (filter materials) of three colors of R, G, and B using the liquid droplet ejection head 10. Note that the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

その後、乾燥処理(加熱等の処理)を経て機能液を定着させ、3色の着色層508R、508G、508Bを形成する。着色層508R、508G、508Bを形成したならば、保護膜形成工程(S54)に移り、図11(e)に示すように、基板501、区画壁部507b、および着色層508R、508G、508Bの上面を覆うように保護膜509を形成する。
即ち、基板501の着色層508R、508G、508Bが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜509が形成される。
そして、保護膜509を形成した後、カラーフィルタ500は、次工程の透明電極となるITO(Indium Tin Oxide)などの膜付け工程に移行する。
Thereafter, the functional liquid is fixed through a drying process (a process such as heating), and three colored layers 508R, 508G, and 508B are formed. When the colored layers 508R, 508G, and 508B are formed, the process proceeds to the protective film forming step (S54), and as shown in FIG. 11E, the substrate 501, the partition wall portion 507b, and the colored layers 508R, 508G, and 508B are moved. A protective film 509 is formed so as to cover the upper surface.
That is, after the protective film coating liquid is discharged over the entire surface of the substrate 501 where the colored layers 508R, 508G, and 508B are formed, the protective film 509 is formed through a drying process.
Then, after forming the protective film 509, the color filter 500 moves to a film forming process such as ITO (Indium Tin Oxide) which becomes a transparent electrode in the next process.

図10は、上記のカラーフィルタ500を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置(液晶装置)の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置520に、液晶駆動用IC、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ500は図11に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part showing a schematic configuration of a passive matrix liquid crystal device (liquid crystal device) as an example of a liquid crystal display device using the color filter 500 described above. By attaching auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support to the liquid crystal device 520, a transmissive liquid crystal display device as a final product can be obtained. Since the color filter 500 is the same as that shown in FIG. 11, the corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

この液晶装置520は、カラーフィルタ500、ガラス基板等からなる対向基板521、及び、これらの間に挟持されたSTN(Super Twisted Nematic)液晶組成物からなる液晶層522により概略構成されており、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置している。
なお、図示していないが、対向基板521およびカラーフィルタ500の外面(液晶層522側とは反対側の面)には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板521側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
The liquid crystal device 520 is roughly composed of a color filter 500, a counter substrate 521 made of a glass substrate, and a liquid crystal layer 522 made of STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal composition sandwiched between them, The filter 500 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.
Although not shown, polarizing plates are provided on the outer surfaces of the counter substrate 521 and the color filter 500 (surfaces opposite to the liquid crystal layer 522 side), and the polarizing plates located on the counter substrate 521 side are also provided. A backlight is disposed outside.

カラーフィルタ500の保護膜509上(液晶層側)には、図10において左右方向に長尺な短冊状の第1電極523が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極523のカラーフィルタ500側とは反対側の面を覆うように第1配向膜524が形成されている。
一方、対向基板521におけるカラーフィルタ500と対向する面には、カラーフィルタ500の第1電極523と直交する方向に長尺な短冊状の第2電極526が所定の間隔で複数形成され、この第2電極526の液晶層522側の面を覆うように第2配向膜527が形成されている。これらの第1電極523および第2電極526は、ITOなどの透明導電材料により形成されている。
On the protective film 509 of the color filter 500 (on the liquid crystal layer side), a plurality of strip-shaped first electrodes 523 elongated in the left-right direction in FIG. 10 are formed at predetermined intervals. The color of the first electrode 523 A first alignment film 524 is formed so as to cover the surface opposite to the filter 500 side.
On the other hand, a plurality of strip-shaped second electrodes 526 elongated in a direction orthogonal to the first electrode 523 of the color filter 500 are formed on the surface of the counter substrate 521 facing the color filter 500 at a predetermined interval. A second alignment film 527 is formed so as to cover the surface of the two electrodes 526 on the liquid crystal layer 522 side. The first electrode 523 and the second electrode 526 are made of a transparent conductive material such as ITO.

液晶層522内に設けられたスペーサ528は、液晶層522の厚さ(セルギャップ)を一定に保持するための部材である。また、シール材529は液晶層522内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第1電極523の一端部は引き回し配線523aとしてシール材529の外側まで延在している。
そして、第1電極523と第2電極526とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
The spacer 528 provided in the liquid crystal layer 522 is a member for keeping the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 522 constant. The sealing material 529 is a member for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 522 from leaking to the outside. Note that one end of the first electrode 523 extends to the outside of the sealing material 529 as a lead-out wiring 523a.
A portion where the first electrode 523 and the second electrode 526 intersect with each other is a pixel, and the color layers 508R, 508G, and 508B of the color filter 500 are located in the portion that becomes the pixel.

通常の製造工程では、カラーフィルタ500に、第1電極523のパターニングおよび第1配向膜524の塗布を行ってカラーフィルタ500側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板521に、第2電極526のパターニングおよび第2配向膜527の塗布を行って対向基板521側の部分を作成する。その後、対向基板521側の部分にスペーサ528およびシール材529を作り込み、この状態でカラーフィルタ500側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材529の注入口から液晶層522を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。   In a normal manufacturing process, patterning of the first electrode 523 and application of the first alignment film 524 are performed on the color filter 500 to create a portion on the color filter 500 side. Patterning of the electrode 526 and application of the second alignment film 527 are performed to create a portion on the counter substrate 521 side. Thereafter, a spacer 528 and a sealing material 529 are formed in the portion on the counter substrate 521 side, and the portion on the color filter 500 side is bonded in this state. Next, liquid crystal constituting the liquid crystal layer 522 is injected from the inlet of the sealing material 529, and the inlet is closed. Thereafter, both polarizing plates and the backlight are laminated.

実施形態の描画装置1は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料(機能液)を塗布すると共に、対向基板521側の部分にカラーフィルタ500側の部分を貼り合わせる前に、シール材529で囲んだ領域に液晶(機能液)を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材529の印刷を、液滴吐出ヘッド10で行うことも可能である。さらに、第1・第2両配向膜524,527の塗布を液滴吐出ヘッド10で行うことも可能である。   The drawing apparatus 1 of the embodiment applies, for example, the spacer material (functional liquid) that constitutes the cell gap described above, and before the portion on the color filter 500 side is bonded to the portion on the counter substrate 521 side, the sealing material 529 is used. Liquid crystal (functional liquid) can be uniformly applied to the enclosed area. In addition, the above-described sealing material 529 can be printed by the droplet discharge head 10. Further, the first and second alignment films 524 and 527 can be applied by the droplet discharge head 10.

図11は、本実施形態において製造したカラーフィルタ500を用いた液晶装置の第2の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置530が上記液晶装置520と大きく異なる点は、カラーフィルタ500を図中下側(観測者側とは反対側)に配置した点である。
この液晶装置530は、カラーフィルタ500とガラス基板等からなる対向基板531との間にSTN液晶からなる液晶層532が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板531およびカラーフィルタ500の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a second example of a liquid crystal device using the color filter 500 manufactured in the present embodiment.
The liquid crystal device 530 is significantly different from the liquid crystal device 520 in that the color filter 500 is arranged on the lower side (the side opposite to the observer side) in the figure.
The liquid crystal device 530 is generally configured by sandwiching a liquid crystal layer 532 made of STN liquid crystal between a color filter 500 and a counter substrate 531 made of a glass substrate or the like. Although not shown, polarizing plates and the like are provided on the outer surfaces of the counter substrate 531 and the color filter 500, respectively.

カラーフィルタ500の保護膜509上(液晶層532側)には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第1電極533が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極533の液晶層532側の面を覆うように第1配向膜534が形成されている。
対向基板531のカラーフィルタ500と対向する面上には、カラーフィルタ500側の第1電極533と直交する方向に延在する複数の短冊状の第2電極536が所定の間隔で形成され、この第2電極536の液晶層532側の面を覆うように第2配向膜537が形成されている。
On the protective film 509 of the color filter 500 (on the liquid crystal layer 532 side), a plurality of strip-shaped first electrodes 533 elongated in the depth direction in the figure are formed at predetermined intervals, and the liquid crystal of the first electrodes 533 is formed. A first alignment film 534 is formed so as to cover the surface on the layer 532 side.
A plurality of strip-shaped second electrodes 536 extending in a direction orthogonal to the first electrode 533 on the color filter 500 side are formed on the surface of the counter substrate 531 facing the color filter 500 at a predetermined interval. A second alignment film 537 is formed so as to cover the surface of the second electrode 536 on the liquid crystal layer 532 side.

液晶層532には、この液晶層532の厚さを一定に保持するためのスペーサ538と、液晶層532内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材539が設けられている。
そして、上記した液晶装置520と同様に、第1電極533と第2電極536との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
The liquid crystal layer 532 is provided with a spacer 538 for keeping the thickness of the liquid crystal layer 532 constant and a sealing material 539 for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 532 from leaking to the outside. Yes.
Similarly to the liquid crystal device 520 described above, a portion where the first electrode 533 and the second electrode 536 intersect with each other is a pixel, and the colored layers 508R, 508G, and 508B of the color filter 500 are located at the portion that becomes the pixel. Is configured to do.

図10は、本発明を適用したカラーフィルタ500を用いて液晶装置を構成した第3の例を示したもので、透過型のTFT(Thin Film Transistor)型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置550は、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置したものである。
FIG. 10 shows a third example in which a liquid crystal device is configured using a color filter 500 to which the present invention is applied, and is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a transmissive TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal device. It is.
In the liquid crystal device 550, the color filter 500 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.

この液晶装置550は、カラーフィルタ500と、これに対向するように配置された対向基板551と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ500の上面側(観測者側)に配置された偏光板555と、対向基板551の下面側に配設された偏光板(図示せず)とにより概略構成されている。
カラーフィルタ500の保護膜509の表面(対向基板551側の面)には液晶駆動用の電極556が形成されている。この電極556は、ITO等の透明導電材料からなり、後述の画素電極560が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極556の画素電極560とは反対側の面を覆った状態で配向膜557が設けられている。
The liquid crystal device 550 includes a color filter 500, a counter substrate 551 disposed so as to face the color filter 500, a liquid crystal layer (not shown) sandwiched therebetween, and an upper surface side (observer side) of the color filter 500. The polarizing plate 555 and the polarizing plate (not shown) arranged on the lower surface side of the counter substrate 551 are roughly configured.
A liquid crystal driving electrode 556 is formed on the surface of the protective film 509 of the color filter 500 (the surface on the counter substrate 551 side). The electrode 556 is made of a transparent conductive material such as ITO, and is a full surface electrode that covers the entire region where a pixel electrode 560 described later is formed. An alignment film 557 is provided so as to cover the surface of the electrode 556 opposite to the pixel electrode 560.

対向基板551のカラーフィルタ500と対向する面には絶縁層558が形成されており、この絶縁層558上には、走査線561及び信号線562が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線561と信号線562とに囲まれた領域内には画素電極560が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極560上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。   An insulating layer 558 is formed on the surface of the counter substrate 551 facing the color filter 500, and the scanning lines 561 and the signal lines 562 are formed on the insulating layer 558 in a state of being orthogonal to each other. A pixel electrode 560 is formed in a region surrounded by the scanning lines 561 and the signal lines 562. In an actual liquid crystal device, an alignment film is provided on the pixel electrode 560, but the illustration is omitted.

また、画素電極560の切欠部と走査線561と信号線562とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ563が組み込まれて構成されている。そして、走査線561と信号線562に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ563をオン・オフして画素電極560への通電制御を行うことができるように構成されている。   In addition, a thin film transistor 563 including a source electrode, a drain electrode, a semiconductor, and a gate electrode is incorporated in a portion surrounded by the cutout portion of the pixel electrode 560 and the scanning line 561 and the signal line 562. . The thin film transistor 563 is turned on / off by application of signals to the scanning line 561 and the signal line 562 so that energization control to the pixel electrode 560 can be performed.

なお、上記の各例の液晶装置520,530,550は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。   Note that the liquid crystal devices 520, 530, and 550 in the above examples are transmissive, but a reflective liquid crystal device or a transflective liquid crystal device is provided by providing a reflective layer or a transflective layer. You can also.

次に、図17は、有機EL装置の表示領域(以下、単に表示装置600と称する)の要部断面図である。   Next, FIG. 17 is a cross-sectional view of a main part of a display area of an organic EL device (hereinafter simply referred to as a display device 600).

この表示装置600は、基板(W)601上に、回路素子部602、発光素子部603及び陰極604が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置600においては、発光素子部603から基板601側に発した光が、回路素子部602及び基板601を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部603から基板601の反対側に発した光が陰極604により反射された後、回路素子部602及び基板601を透過して観測者側に出射されるようになっている。
The display device 600 is schematically configured with a circuit element portion 602, a light emitting element portion 603, and a cathode 604 stacked on a substrate (W) 601.
In the display device 600, light emitted from the light emitting element portion 603 to the substrate 601 side is transmitted through the circuit element portion 602 and the substrate 601 and emitted to the observer side, and the light emitting element portion 603 is opposite to the substrate 601. After the light emitted to the side is reflected by the cathode 604, the light passes through the circuit element portion 602 and the substrate 601 and is emitted to the observer side.

回路素子部602と基板601との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜606が形成され、この下地保護膜606上(発光素子部603側)に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜607が形成されている。この半導体膜607の左右の領域には、ソース領域607a及びドレイン領域607bが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域607cとなっている。   A base protective film 606 made of a silicon oxide film is formed between the circuit element portion 602 and the substrate 601, and an island-shaped semiconductor film 607 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective film 606 (on the light emitting element portion 603 side). Is formed. In the left and right regions of the semiconductor film 607, a source region 607a and a drain region 607b are formed by high concentration cation implantation, respectively. A central portion where no positive ions are implanted is a channel region 607c.

また、回路素子部602には、下地保護膜606及び半導体膜607を覆う透明なゲート絶縁膜608が形成され、このゲート絶縁膜608上の半導体膜607のチャネル領域607cに対応する位置には、例えばAl、Mo、Ta、Ti、W等から構成されるゲート電極609が形成されている。このゲート電極609及びゲート絶縁膜608上には、透明な第1層間絶縁膜611aと第2層間絶縁膜611bが形成されている。また、第1、第2層間絶縁膜611a、611bを貫通して、半導体膜607のソース領域607a、ドレイン領域607bにそれぞれ連通するコンタクトホール612a,612bが形成されている。   In the circuit element portion 602, a transparent gate insulating film 608 covering the base protective film 606 and the semiconductor film 607 is formed, and a position corresponding to the channel region 607c of the semiconductor film 607 on the gate insulating film 608 is formed. For example, a gate electrode 609 made of Al, Mo, Ta, Ti, W or the like is formed. On the gate electrode 609 and the gate insulating film 608, a transparent first interlayer insulating film 611a and a second interlayer insulating film 611b are formed. Further, contact holes 612a and 612b are formed through the first and second interlayer insulating films 611a and 611b and communicating with the source region 607a and the drain region 607b of the semiconductor film 607, respectively.

そして、第2層間絶縁膜611b上には、ITO等からなる透明な画素電極613が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極613は、コンタクトホール612aを通じてソース領域607aに接続されている。
また、第1層間絶縁膜611a上には電源線614が配設されており、この電源線614は、コンタクトホール612bを通じてドレイン領域607bに接続されている。
A transparent pixel electrode 613 made of ITO or the like is patterned and formed in a predetermined shape on the second interlayer insulating film 611b, and the pixel electrode 613 is connected to the source region 607a through the contact hole 612a. .
A power line 614 is disposed on the first interlayer insulating film 611a, and the power line 614 is connected to the drain region 607b through the contact hole 612b.

このように、回路素子部602には、各画素電極613に接続された駆動用の薄膜トランジスタ615がそれぞれ形成されている。   Thus, the driving thin film transistors 615 connected to the pixel electrodes 613 are formed in the circuit element portion 602, respectively.

上記発光素子部603は、複数の画素電極613上の各々に積層された機能層617と、各画素電極613及び機能層617の間に備えられて各機能層617を区画するバンク部618とにより概略構成されている。
これら画素電極613、機能層617、及び、機能層617上に配設された陰極604によって発光素子が構成されている。なお、画素電極613は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極613の間にバンク部618が形成されている。
The light emitting element portion 603 includes a functional layer 617 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 613, and a bank portion 618 provided between each pixel electrode 613 and the functional layer 617 to partition each functional layer 617. It is roughly structured.
The pixel electrode 613, the functional layer 617, and the cathode 604 provided on the functional layer 617 constitute a light emitting element. Note that the pixel electrode 613 is formed by patterning in a substantially rectangular shape in plan view, and a bank portion 618 is formed between the pixel electrodes 613.

バンク部618は、例えばSiO、SiO、TiO等の無機材料により形成される無機物バンク層618a(第1バンク層)と、この無機物バンク層618a上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層618b(第2バンク層)とにより構成されている。このバンク部618の一部は、画素電極613の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部618の間には、画素電極613に対して上方に向けて次第に拡開した開口部619が形成されている。
The bank unit 618 is laminated on the inorganic bank layer 618a (first bank layer) 618a formed of an inorganic material such as SiO, SiO 2 , TiO 2 and the like, and is laminated on the inorganic bank layer 618a. It is composed of an organic bank layer 618b (second bank layer) having a trapezoidal cross section formed of a resist having excellent heat resistance and solvent resistance. A part of the bank unit 618 is formed on the peripheral edge of the pixel electrode 613.
An opening 619 that gradually expands upward with respect to the pixel electrode 613 is formed between the bank portions 618.

上記機能層617は、開口部619内において画素電極613上に積層状態で形成された正孔注入/輸送層617aと、この正孔注入/輸送層617a上に形成された発光層617bとにより構成されている。なお、この発光層617bに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入/輸送層617aは、画素電極613側から正孔を輸送して発光層617bに注入する機能を有する。この正孔注入/輸送層617aは、正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物(機能液)を吐出することで形成される。正孔注入/輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
The functional layer 617 includes a hole injection / transport layer 617a formed in a stacked state on the pixel electrode 613 in the opening 619, and a light emitting layer 617b formed on the hole injection / transport layer 617a. Has been. In addition, you may further form the other functional layer which has another function adjacent to this light emitting layer 617b. For example, it is possible to form an electron transport layer.
The hole injection / transport layer 617a has a function of transporting holes from the pixel electrode 613 side and injecting them into the light emitting layer 617b. The hole injection / transport layer 617a is formed by discharging a first composition (functional liquid) containing a hole injection / transport layer forming material. A known material is used as the hole injection / transport layer forming material.

発光層617bは、赤色(R)、緑色(G)、又は青色(B)の何れかに発光するもので、発光層形成材料(発光材料)を含む第2組成物(機能液)を吐出することで形成される。第2組成物の溶媒(非極性溶媒)としては、正孔注入/輸送層617aに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層617bの第2組成物に用いることにより、正孔注入/輸送層617aを再溶解させることなく発光層617bを形成することができる。   The light emitting layer 617b emits light in red (R), green (G), or blue (B), and discharges a second composition (functional liquid) containing a light emitting layer forming material (light emitting material). Is formed. As the solvent (nonpolar solvent) of the second composition, a known material that is insoluble in the hole injection / transport layer 617a is preferably used, and such a nonpolar solvent is used as the second composition of the light emitting layer 617b. By using the light emitting layer 617b, the light emitting layer 617b can be formed without re-dissolving the hole injection / transport layer 617a.

そして、発光層617bでは、正孔注入/輸送層617aから注入された正孔と、陰極604から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。   The light emitting layer 617b is configured such that the holes injected from the hole injection / transport layer 617a and the electrons injected from the cathode 604 are recombined in the light emitting layer to emit light.

陰極604は、発光素子部603の全面を覆う状態で形成されており、画素電極613と対になって機能層617に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極604の上部には図示しない封止部材が配置される。   The cathode 604 is formed so as to cover the entire surface of the light emitting element portion 603, and plays a role of flowing current to the functional layer 617 in a pair with the pixel electrode 613. Note that a sealing member (not shown) is disposed on the cathode 604.

次に、上記の表示装置600の製造工程を図18〜図18を参照して説明する。
この表示装置600は、図18に示すように、バンク部形成工程(S61)、表面処理工程(S62)、正孔注入/輸送層形成工程(S63)、発光層形成工程(S64)、及び対向電極形成工程(S65)を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
Next, the manufacturing process of said display apparatus 600 is demonstrated with reference to FIGS.
As shown in FIG. 18, the display device 600 includes a bank part forming step (S61), a surface treatment step (S62), a hole injection / transport layer forming step (S63), a light emitting layer forming step (S64), It is manufactured through an electrode formation step (S65). In addition, a manufacturing process is not restricted to what is illustrated, and when other processes are removed as needed, it may be added.

まず、バンク部形成工程(S61)では、図17に示すように、第2層間絶縁膜611b上に無機物バンク層618aを形成する。この無機物バンク層618aは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層618aの一部は画素電極613の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層618aを形成したならば、図18に示すように、無機物バンク層618a上に有機物バンク層618bを形成する。この有機物バンク層618bも無機物バンク層618aと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部618が形成される。また、これに伴い、各バンク部618間には、画素電極613に対して上方に開口した開口部619が形成される。この開口部619は、画素領域を規定する。
First, in the bank part forming step (S61), as shown in FIG. 17, an inorganic bank layer 618a is formed on the second interlayer insulating film 611b. The inorganic bank layer 618a is formed by forming an inorganic film at a formation position and then patterning the inorganic film by a photolithography technique or the like. At this time, a part of the inorganic bank layer 618 a is formed so as to overlap with the peripheral edge of the pixel electrode 613.
When the inorganic bank layer 618a is formed, an organic bank layer 618b is formed on the inorganic bank layer 618a as shown in FIG. The organic bank layer 618b is also formed by patterning using a photolithography technique or the like in the same manner as the inorganic bank layer 618a.
In this way, the bank portion 618 is formed. Accordingly, an opening 619 opening upward with respect to the pixel electrode 613 is formed between the bank portions 618. The opening 619 defines a pixel region.

表面処理工程(S62)では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層618aの第1積層部618aa及び画素電極613の電極面613aであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極613であるITOの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層618bの壁面618s及び有機物バンク層618bの上面618tに施され、例えば4フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理(撥液性に処理)される。
この表面処理工程を行うことにより、液滴吐出ヘッド10を用いて機能層617を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部619から溢れ出るのを防止することが可能となる。
In the surface treatment step (S62), a lyophilic process and a lyophobic process are performed. The regions to be subjected to the lyophilic treatment are the first stacked portion 618aa of the inorganic bank layer 618a and the electrode surface 613a of the pixel electrode 613. These regions are made lyophilic by plasma treatment using oxygen as a processing gas, for example. Is done. This plasma treatment also serves to clean the ITO that is the pixel electrode 613.
In addition, the lyophobic treatment is performed on the wall surface 618s of the organic bank layer 618b and the upper surface 618t of the organic bank layer 618b, and the surface is fluorinated (treated to be liquid repellent) by plasma treatment using, for example, tetrafluoromethane. )
By performing this surface treatment process, when forming the functional layer 617 using the droplet discharge head 10, the functional droplet can be landed more reliably on the pixel region, and has landed on the pixel region. It is possible to prevent the functional droplet from overflowing from the opening 619.

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体600Aが得られる。この表示装置基体600Aは、図1に示した描画装置1のセットテーブル25に載置され、以下の正孔注入/輸送層形成工程(S63)及び発光層形成工程(S64)が行われる。   Then, the display device base 600A is obtained through the above steps. The display device base 600A is placed on the set table 25 of the drawing apparatus 1 shown in FIG. 1, and the following hole injection / transport layer forming step (S63) and light emitting layer forming step (S64) are performed.

図17に示すように、正孔注入/輸送層形成工程(S63)では、液滴吐出ヘッド10から正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物を画素領域である各開口部619内に吐出する。その後、図18に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第1組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極(電極面613a)613上に正孔注入/輸送層617aを形成する。   As shown in FIG. 17, in the hole injection / transport layer forming step (S63), the first composition containing the hole injection / transport layer forming material is removed from the droplet discharge head 10 into each opening 619 that is a pixel region. To discharge. After that, as shown in FIG. 18, a drying process and a heat treatment are performed, the polar solvent contained in the first composition is evaporated, and a hole injection / transport layer 617a is formed on the pixel electrode (electrode surface 613a) 613.

次に発光層形成工程(S64)について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入/輸送層617aの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第2組成物の溶媒として、正孔注入/輸送層617aに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入/輸送層617aは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617a上に吐出しても、正孔注入/輸送層617aと発光層617bとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層617bを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入/輸送層617aの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理(表面改質処理)を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第2組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入/輸送層617a上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入/輸送層617aの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617aに均一に塗布することができる。
Next, the light emitting layer forming step (S64) will be described. In this light emitting layer forming step, as described above, in order to prevent re-dissolution of the hole injection / transport layer 617a, the hole injection / transport layer 617a is used as a solvent for the second composition used in forming the light emitting layer. A non-polar solvent insoluble in.
However, since the hole injection / transport layer 617a has a low affinity for the nonpolar solvent, the hole injection / transport layer 617a has a low affinity even if the second composition containing the nonpolar solvent is discharged onto the hole injection / transport layer 617a. There is a possibility that the injection / transport layer 617a and the light emitting layer 617b cannot be adhered to each other, or the light emitting layer 617b cannot be applied uniformly.
Therefore, in order to increase the surface affinity of the hole injection / transport layer 617a with respect to the nonpolar solvent and the light emitting layer forming material, it is preferable to perform a surface treatment (surface modification treatment) before forming the light emitting layer. In this surface treatment, a surface modifying material which is the same solvent as the non-polar solvent of the second composition used in the formation of the light emitting layer or a similar solvent is applied on the hole injection / transport layer 617a, and this is applied. This is done by drying.
By performing such treatment, the surface of the hole injection / transport layer 617a is easily adapted to the nonpolar solvent. In the subsequent step, the second composition containing the light emitting layer forming material is added to the hole injection / transport layer. It can be uniformly applied to 617a.

そして次に、図17に示すように、各色のうちの何れか(図17の例では青色(B))に対応する発光層形成材料を含有する第2組成物を機能液滴として画素領域(開口部619)内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第2組成物は、正孔注入/輸送層617a上に広がって開口部619内に満たされる。なお、万一、第2組成物が画素領域から外れてバンク部618の上面618t上に着弾した場合でも、この上面618tは、上述したように撥液処理が施されているので、第2組成物が開口部619内に転がり込み易くなっている。   Then, as shown in FIG. 17, the second composition containing the light emitting layer forming material corresponding to one of the colors (blue (B) in the example of FIG. 17) is used as a functional droplet as a pixel region ( A predetermined amount is driven into the opening 619). The second composition driven into the pixel region spreads on the hole injection / transport layer 617a and fills the opening 619. Even if the second composition deviates from the pixel region and lands on the upper surface 618t of the bank portion 618, the upper composition 618t is subjected to the liquid repellent treatment as described above. Things are easy to roll into the opening 619.

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第2組成物を乾燥処理し、第2組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図18に示すように、正孔注入/輸送層617a上に発光層617bが形成される。この図の場合、青色(B)に対応する発光層617bが形成されている。   Thereafter, by performing a drying process or the like, the discharged second composition is dried, and the nonpolar solvent contained in the second composition is evaporated. As shown in FIG. 18, the hole injection / transport layer 617a A light emitting layer 617b is formed thereon. In the case of this figure, a light emitting layer 617b corresponding to blue (B) is formed.

同様に、液滴吐出ヘッド10を用い、図17に示すように、上記した青色(B)に対応する発光層617bの場合と同様の工程を順次行い、他の色(赤色(R)及び緑色(G))に対応する発光層617bを形成する。なお、発光層617bの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Similarly, as shown in FIG. 17, the droplet discharge head 10 is used to sequentially perform the same steps as in the case of the light emitting layer 617b corresponding to the blue (B) described above, and perform other colors (red (R) and green). A light emitting layer 617b corresponding to (G)) is formed. Note that the order in which the light-emitting layers 617b are formed is not limited to the illustrated order, and may be formed in any order. For example, the order of formation can be determined according to the light emitting layer forming material. Further, the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

以上のようにして、画素電極613上に機能層617、即ち、正孔注入/輸送層617a及び発光層617bが形成される。そして、対向電極形成工程(S65)に移行する。   As described above, the functional layer 617, that is, the hole injection / transport layer 617a and the light emitting layer 617b are formed on the pixel electrode 613. And it transfers to a counter electrode formation process (S65).

対向電極形成工程(S65)では、図18に示すように、発光層617b及び有機物バンク層618bの全面に陰極604(対向電極)を、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等によって形成する。この陰極604は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極604の上部には、電極としてのAl膜、Ag膜や、その酸化防止のためのSiO、SiN等の保護層が適宜設けられる。
In the counter electrode forming step (S65), as shown in FIG. 18, a cathode 604 (counter electrode) is formed on the entire surface of the light emitting layer 617b and the organic bank layer 618b by, for example, vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. In the present embodiment, the cathode 604 is configured by, for example, laminating a calcium layer and an aluminum layer.
On top of the cathode 604, an Al film, an Ag film as electrodes, and a protective layer such as SiO 2 or SiN for preventing oxidation thereof are provided as appropriate.

このようにして陰極604を形成した後、この陰極604の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置600が得られる。   After forming the cathode 604 in this way, the display device 600 is obtained by performing other processes such as a sealing process for sealing the upper part of the cathode 604 with a sealing member and a wiring process.

次に、図17は、プラズマ型表示装置(PDP装置:以下、単に表示装置700と称する)の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置700を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置700は、互いに対向して配置された第1基板701、第2基板702、及びこれらの間に形成される放電表示部703を含んで概略構成される。放電表示部703は、複数の放電室705により構成されている。これらの複数の放電室705のうち、赤色放電室705R、緑色放電室705G、青色放電室705Bの3つの放電室705が組になって1つの画素を構成するように配置されている。
Next, FIG. 17 is an exploded perspective view of a main part of a plasma display device (PDP device: hereinafter simply referred to as a display device 700). In the figure, the display device 700 is shown with a part thereof cut away.
The display device 700 is schematically configured to include a first substrate 701 and a second substrate 702 that are disposed to face each other, and a discharge display portion 703 that is formed therebetween. The discharge display unit 703 includes a plurality of discharge chambers 705. Among the plurality of discharge chambers 705, the three discharge chambers 705 of the red discharge chamber 705R, the green discharge chamber 705G, and the blue discharge chamber 705B are arranged to form one pixel.

第1基板701の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極706が形成され、このアドレス電極706と第1基板701の上面とを覆うように誘電体層707が形成されている。誘電体層707上には、各アドレス電極706の間に位置し、且つ各アドレス電極706に沿うように隔壁708が立設されている。この隔壁708は、図示するようにアドレス電極706の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極706と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁708によって仕切られた領域が放電室705となっている。
Address electrodes 706 are formed in stripes at predetermined intervals on the upper surface of the first substrate 701, and a dielectric layer 707 is formed so as to cover the address electrodes 706 and the upper surface of the first substrate 701. On the dielectric layer 707, partition walls 708 are provided so as to be positioned between the address electrodes 706 and along the address electrodes 706. The partition 708 includes one extending on both sides in the width direction of the address electrode 706 as shown, and one not shown extending in the direction orthogonal to the address electrode 706.
A region partitioned by the partition 708 is a discharge chamber 705.

放電室705内には蛍光体709が配置されている。蛍光体709は、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室705Rの底部には赤色蛍光体709Rが、緑色放電室705Gの底部には緑色蛍光体709Gが、青色放電室705Bの底部には青色蛍光体709Bが各々配置されている。   A phosphor 709 is disposed in the discharge chamber 705. The phosphor 709 emits red (R), green (G), or blue (B) fluorescence. The red phosphor 709R is disposed at the bottom of the red discharge chamber 705R, and the green discharge chamber 705G. A green phosphor 709G and a blue phosphor 709B are arranged at the bottom and the blue discharge chamber 705B, respectively.

第2基板702の図中下側の面には、上記アドレス電極706と直交する方向に複数の表示電極711が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層712、及びMgOなどからなる保護膜713が形成されている。
第1基板701と第2基板702とは、アドレス電極706と表示電極711が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極706と表示電極711は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極706,711に通電することにより、放電表示部703において蛍光体709が励起発光し、カラー表示が可能となる。
On the lower surface of the second substrate 702 in the drawing, a plurality of display electrodes 711 are formed in stripes at predetermined intervals in a direction orthogonal to the address electrodes 706. A dielectric layer 712 and a protective film 713 made of MgO or the like are formed so as to cover them.
The first substrate 701 and the second substrate 702 are bonded so that the address electrodes 706 and the display electrodes 711 face each other in a state of being orthogonal to each other. The address electrode 706 and the display electrode 711 are connected to an AC power source (not shown).
When the electrodes 706 and 711 are energized, the phosphor 709 emits light in the discharge display portion 703, and color display is possible.

本実施形態においては、上記アドレス電極706、表示電極711、及び蛍光体709を、図1に示した描画装置1を用いて形成することができる。以下、第1基板701におけるアドレス電極706の形成工程を例示する。
この場合、第1基板701を描画装置1のセットテーブル25に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、液滴吐出ヘッド10により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
In the present embodiment, the address electrode 706, the display electrode 711, and the phosphor 709 can be formed by using the drawing apparatus 1 shown in FIG. Hereinafter, a process of forming the address electrode 706 on the first substrate 701 will be exemplified.
In this case, the following steps are performed with the first substrate 701 placed on the set table 25 of the drawing apparatus 1.
First, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the address electrode formation region as a functional droplet by the droplet discharge head 10. This liquid material is obtained by dispersing conductive fine particles such as metal in a dispersion medium as a conductive film wiring forming material. As the conductive fine particles, metal fine particles containing gold, silver, copper, palladium, nickel, or the like, a conductive polymer, or the like is used.

補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極706が形成される。   When the replenishment of the liquid material is completed for all the address electrode formation regions to be replenished, the address material 706 is formed by drying the discharged liquid material and evaporating the dispersion medium contained in the liquid material. .

ところで、上記においてはアドレス電極706の形成を例示したが、上記表示電極711及び蛍光体709についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極711の形成の場合、アドレス電極706の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体709の形成の場合には、各色(R,G,B)に対応する蛍光材料を含んだ液体材料(機能液)を液滴吐出ヘッド10から液滴として吐出し、対応する色の放電室705内に着弾させる。
By the way, although the formation of the address electrode 706 has been exemplified in the above, the display electrode 711 and the phosphor 709 can also be formed through the above steps.
In the case of forming the display electrode 711, as in the case of the address electrode 706, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the display electrode formation region as a functional droplet.
In the case of forming the phosphor 709, a liquid material (functional liquid) containing a fluorescent material corresponding to each color (R, G, B) is ejected as droplets from the droplet ejection head 10, and the corresponding color is selected. In the discharge chamber 705.

次に、図18は、電子放出装置(FED装置あるいはSED装置ともいう:以下、単に表示装置800と称する)の要部断面図である。なお、同図では表示装置800を、その一部を断面として示してある。
この表示装置800は、互いに対向して配置された第1基板801、第2基板802、及びこれらの間に形成される電界放出表示部803を含んで概略構成される。電界放出表示部803は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部805により構成されている。
Next, FIG. 18 is a cross-sectional view of an essential part of an electron emission device (also referred to as an FED device or an SED device: hereinafter simply referred to as a display device 800). In the drawing, a part of the display device 800 is shown as a cross section.
The display device 800 includes a first substrate 801, a second substrate 802, and a field emission display unit 803 formed therebetween, which are disposed to face each other. The field emission display unit 803 includes a plurality of electron emission units 805 arranged in a matrix.

第1基板801の上面には、カソード電極806を構成する第1素子電極806aおよび第2素子電極806bが相互に直交するように形成されている。また、第1素子電極806aおよび第2素子電極806bで仕切られた部分には、ギャップ808を形成した導電性膜807が形成されている。すなわち、第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび導電性膜807により複数の電子放出部805が構成されている。導電性膜807は、例えば酸化パラジウム(PdO)等で構成され、またギャップ808は、導電性膜807を成膜した後、フォーミング等で形成される。   On the upper surface of the first substrate 801, a first element electrode 806a and a second element electrode 806b constituting the cathode electrode 806 are formed so as to be orthogonal to each other. In addition, a conductive film 807 having a gap 808 is formed in a portion partitioned by the first element electrode 806a and the second element electrode 806b. That is, the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the conductive film 807 constitute a plurality of electron emission portions 805. The conductive film 807 is made of, for example, palladium oxide (PdO), and the gap 808 is formed by forming after forming the conductive film 807.

第2基板802の下面には、カソード電極806に対峙するアノード電極809が形成されている。アノード電極809の下面には、格子状のバンク部811が形成され、このバンク部811で囲まれた下向きの各開口部812に、電子放出部805に対応するように蛍光体813が配置されている。蛍光体813は、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部812には、赤色蛍光体813R、緑色蛍光体813Gおよび青色蛍光体813Bが、上記した所定のパターンで配置されている。   An anode electrode 809 that faces the cathode electrode 806 is formed on the lower surface of the second substrate 802. A lattice-shaped bank portion 811 is formed on the lower surface of the anode electrode 809, and a phosphor 813 is disposed in each downward opening 812 surrounded by the bank portion 811 so as to correspond to the electron emission portion 805. Yes. The phosphor 813 emits fluorescence of any one of red (R), green (G), and blue (B), and each opening 812 has a red phosphor 813R, a green phosphor 813G, and a blue color. The phosphors 813B are arranged in the predetermined pattern described above.

そして、このように構成した第1基板801と第2基板802とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置800では、導電性膜(ギャップ808)807を介して、陰極である第1素子電極806aまたは第2素子電極806bから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極809に形成した蛍光体813に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。   The first substrate 801 and the second substrate 802 configured as described above are bonded together with a minute gap. In this display device 800, electrons that jump out of the first element electrode 806 a or the second element electrode 806 b that are cathodes through the conductive film (gap 808) 807 are formed on the phosphor 813 formed on the anode electrode 809 that is an anode. When excited, it emits light and enables color display.

この場合も、他の実施形態と同様に、第1素子電極806a、第2素子電極806b、導電性膜807およびアノード電極809を、描画装置1を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体813R,813G,813Bを、描画装置1を用いて形成することができる。   Also in this case, similarly to the other embodiments, the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, the conductive film 807, and the anode electrode 809 can be formed using the drawing apparatus 1, and the fluorescence of each color can be formed. The bodies 813R, 813G, and 813B can be formed using the drawing apparatus 1.

第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび導電性膜807は、図17(a)に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図17(b)に示すように、予め第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび導電性膜807を作り込む部分を残して、バンク部BBを形成(フォトリソグラフィ法)する。次に、バンク部BBにより構成された溝部分に、第1素子電極806aおよび第2素子電極806bを形成(描画装置1によるインクジェット法)し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜807を形成(描画装置1によるインクジェット法)する。そして、導電性膜807を成膜後、バンク部BBを取り除き(アッシング剥離処理)、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機EL装置の場合と同様に、第1基板801および第2基板802に対する親液化処理や、バンク部811,BBに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。   The first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the conductive film 807 have the planar shape shown in FIG. 17A, and when these are formed, as shown in FIG. 17B. In addition, the bank portion BB is formed (photolithographic method), leaving portions where the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the conductive film 807 are previously formed. Next, after the first element electrode 806a and the second element electrode 806b are formed in the groove portion constituted by the bank portion BB (inkjet method using the drawing apparatus 1), the solvent is dried, and film formation is performed. A conductive film 807 is formed (an ink jet method using the drawing apparatus 1). Then, after forming the conductive film 807, the bank portion BB is removed (ashing peeling process), and the process proceeds to the above forming process. As in the case of the organic EL device described above, it is preferable to perform a lyophilic process on the first substrate 801 and the second substrate 802 and a lyophobic process on the bank portions 811 and BB.

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した描画装置1を各種の電気光学装置(デバイス)の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。   As other electro-optical devices, devices such as metal wiring formation, lens formation, resist formation, and light diffuser formation are conceivable. By using the drawing apparatus 1 described above for manufacturing various electro-optical devices (devices), various electro-optical devices can be efficiently manufactured.

本発明の実施形態に係る描画装置の平面模式図である。It is a plane schematic diagram of the drawing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of a functional droplet discharge head. 保守装置の説明図であり、移動テーブル廻りの右側面図である。It is explanatory drawing of a maintenance apparatus, and is a right view around a moving table. 不良検査ユニットの説明図であり、載置テーブルを撮像ユニットに臨ませたときの描画装置の平面模式図である。It is explanatory drawing of a defect test | inspection unit, and is a plane schematic diagram of the drawing apparatus when a mounting table faces an imaging unit. 制御装置の説明図である。It is explanatory drawing of a control apparatus. 機能液滴吐出ヘッドの吐出不良(描画不良)を検出するための一連の処理について示したフローチャートである。6 is a flowchart showing a series of processes for detecting a discharge failure (drawing failure) of a functional droplet discharge head. 描画不良の原因を特定するための一連の処理について示したフローチャートである。It is the flowchart shown about a series of processes for pinpointing the cause of a drawing defect. 描画不良の原因がヘッド保守装置の保守動作であると特定されたときに行われる一連の処理について示したフローチャートである。6 is a flowchart showing a series of processes performed when it is determined that the cause of the drawing failure is a maintenance operation of the head maintenance device. 本実施形態の保守評価画面を例示した説明図である。It is explanatory drawing which illustrated the maintenance evaluation screen of this embodiment. カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining a color filter manufacturing process. (a)〜(e)は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。(A)-(e) is a schematic cross section of the color filter shown to the manufacturing process order. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第2の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 2nd example using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第3の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 3rd example using the color filter to which this invention is applied. 有機EL装置である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing process of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an inorganic bank layer. 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an organic substance bank layer. 正孔注入/輸送層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a positive hole injection / transport layer is formed. 正孔注入/輸送層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the positive hole injection / transport layer was formed. 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a blue light emitting layer is formed. 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the blue light emitting layer was formed. 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the light emitting layer of each color was formed. 陰極の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of a cathode. プラズマ型表示装置(PDP装置)である表示装置の要部分解斜視図である。It is a principal part disassembled perspective view of the display apparatus which is a plasma type display apparatus (PDP apparatus). 電子放出装置(FED装置)である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an electron emission apparatus (FED apparatus). 表示装置の電子放出部廻りの平面図(a)およびその形成方法を示す平面図(b)である。It is the top view (a) around the electron emission part of a display apparatus, and the top view (b) which shows the formation method.

符号の説明Explanation of symbols

1 描画装置 5 制御装置
16 機能液滴吐出ヘッド 58 ノズル面
59 吐出ノズル 71 吸引ユニット
70 ヘッド保守装置 72 ワイピングユニット
73 不良検査ユニット 111 載置テーブル
113 撮像ユニット 115 CCDカメラ
128 モニタディスプレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Drawing apparatus 5 Control apparatus 16 Function droplet discharge head 58 Nozzle surface 59 Discharge nozzle 71 Suction unit 70 Head maintenance apparatus 72 Wiping unit 73 Defect inspection unit 111 Mounting table 113 Imaging unit 115 CCD camera 128 Monitor display

Claims (23)

ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、前記吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、前記ワークに前記機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、前記機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置の動作評価方法において、
保守した後の前記機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画工程と、
前記描画工程で描画した前記テストパターンを画像認識する画像認識工程と、
前記画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断工程と、
前記描画不良と判断されたときに、前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因が、前記機能液滴吐出ヘッド自身および前記保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定工程と、を備えたことを特徴とする描画装置の動作評価方法。
By driving the functional liquid droplet ejection head while moving the functional liquid droplet ejection head formed by aligning a plurality of ejection nozzles with respect to the work, the functional liquid droplets are ejected from the ejection nozzle. In the operation evaluation method of the drawing apparatus for performing the drawing operation for drawing with the functional liquid droplets on the work and the maintenance operation for maintaining the functional liquid droplet ejection head using a head maintenance unit,
A drawing step of drawing a predetermined test pattern on the functional liquid droplet ejection head after maintenance;
An image recognition step for recognizing the test pattern drawn in the drawing step;
A drawing failure determination step of determining whether a drawing failure has occurred based on the image recognition;
A failure identifying step for identifying, based on the image recognition, whether the cause of the rendering failure is caused by the functional liquid droplet ejection head itself or the maintenance operation when the rendering failure is determined; An operation evaluation method for a drawing apparatus, comprising:
前記描画不良判断工程は、前記テストパターンを構成する全機能液滴のうち、予め設定された基準条件を満たさない機能液滴が1つでも検出されると、前記描画不良と判断することを特徴とする請求項1に記載の描画装置の動作評価方法。   The drawing defect determining step determines that the drawing defect is detected when at least one functional droplet that does not satisfy a preset reference condition is detected among all the functional droplets constituting the test pattern. The operation evaluation method for a drawing apparatus according to claim 1. 前記描画不良判断工程により前記描画不良と判断されたときに、前記機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、
再度保守した後に、前記機能液滴吐出ヘッドに前記テストパターンを再描画させ、
再描画した前記テストパターンを再画像認識し、
再画像認識した前記テストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断工程をさらに備え、
前記不良特定工程は、前記再判断工程で描画した前記テストパターンが再度描画不良と判断されたときに、前記描画不良の原因を特定することを特徴とする請求項1または2に記載の描画装置の動作評価方法。
When the drawing failure determination step determines that the drawing failure, the maintenance operation is performed again on the functional liquid droplet ejection head,
After maintenance again, let the functional droplet discharge head redraw the test pattern,
Re-image recognition of the redrawn test pattern,
A re-determination step of re-determining whether or not a drawing defect has occurred in the test pattern that has been re-image recognized;
The drawing apparatus according to claim 1, wherein the defect specifying step specifies a cause of the drawing defect when the test pattern drawn in the redetermination step is determined to be a drawing defect again. Evaluation method of operation.
前記不良特定工程は、前記画像認識工程による前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因となった前記機能液滴を吐出した前記吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第1不良ノズル特定工程と、
前記再判断工程による前記再画像認識に基づいて、前記不良ノズルを特定する第2不良ノズル特定工程と、
前記第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程で特定された前記不良ノズルの発生態様を比較して、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記保守動作のいずれであるかを特定する原因特定工程と、を有することを特徴とする請求項3に記載の描画装置の動作評価方法。
The defect specifying step is a first defective nozzle specifying step of specifying, as a defective nozzle, the discharge nozzle that discharged the functional liquid droplet that caused the drawing failure based on the image recognition by the image recognition step;
A second defective nozzle specifying step for specifying the defective nozzle based on the re-image recognition by the redetermination step;
By comparing the generation modes of the defective nozzles specified in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step, whether the cause of the drawing failure is the functional liquid droplet ejection head or the maintenance operation A method for evaluating the operation of a drawing apparatus according to claim 3, further comprising: a cause identifying step for identifying
前記原因特定工程は、前記第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程で特定された前記不良ノズルの発生態様が同一である場合には、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することを特徴とする請求項4に記載の描画装置の動作評価方法。   In the cause specifying step, when the generation modes of the defective nozzles specified in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step are the same, the cause of the drawing failure is determined as the functional droplet discharge head. 5. The operation evaluation method for a drawing apparatus according to claim 4, wherein the operation is specified to be caused by itself. 前記原因特定工程は、前記第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における前記不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における前記不良ノズルの不良理由が異なるときに、前記描画不良の原因を前記保守動作に起因するものと特定することを特徴とする請求項4または5に記載の描画装置の動作評価方法。   If the cause of the defective nozzle in the first defective nozzle identifying step and the second defective nozzle identifying step are different from each other, the cause of the defective nozzle is different in the reason for the defective nozzle in the two steps. The drawing apparatus operation evaluation method according to claim 4, wherein the cause is identified as being caused by the maintenance operation. 前記原因特定工程は、前記第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における前記不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における前記不良ノズルの不良理由が一致しており、かつ前記不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれでないときに、前記描画不良の原因を前記保守動作に起因するものと特定することを特徴とする請求項4ないし6のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。   When the cause identification step is different from the generation mode of the defective nozzle in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step, the reason for the defect of the defective nozzle in both steps is the same, and 7. The drawing apparatus according to claim 4, wherein when the reason for the failure is not a deviation in the landing position of the functional liquid droplet, the cause of the drawing failure is specified as being caused by the maintenance operation. Evaluation method of operation. 前記原因特定工程は、前記第1不良ノズル特定工程および第2不良ノズル特定工程における前記不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における前記不良ノズルの不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれで一致しており、かつ前記両工程において前記ずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときに、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することを特徴とする請求項4ないし7のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。   In the cause specifying step, when the defective nozzle generation modes in the first defective nozzle specifying step and the second defective nozzle specifying step are different, the reason for the defective nozzle in both steps is the landing position of the functional liquid droplet And the cause of the drawing failure is caused by the functional liquid droplet ejection head itself when the deviation directions of all the functional liquid droplets that have produced the deviation in both steps substantially coincide. 8. The operation evaluation method for a drawing apparatus according to claim 4, wherein the operation evaluation method is specified. 前記保守動作は、前記機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引動作と、
前記吸引動作の後、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り動作と、で構成されており、
前記描画不良の原因が前記保守動作にあると判断されたときに、不良原因が前記吸引動作および/または前記拭取り動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定工程をさらに備えたことを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
The maintenance operation includes a suction operation for sucking a functional liquid from a discharge nozzle formed in the functional liquid droplet discharge head;
After the suction operation, and wiping operation to wipe off the nozzle surface of the functional liquid droplet ejection head,
And a failure maintenance operation specifying step for further specifying that the cause of the failure is the suction operation and / or the wiping operation when it is determined that the cause of the drawing failure is the maintenance operation. An operation evaluation method for a drawing apparatus according to claim 1.
前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンにドット抜けが生じている場合には、前記吸引動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項9に記載の描画装置の動作評価方法。   The drawing apparatus operation evaluation method according to claim 9, wherein the defect maintenance operation specifying step specifies the suction operation as the cause of the defect when a dot dropout occurs in the test pattern. 前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンを構成する前記機能液滴の着弾径に過小なものが含まれている場合には、前記吸引動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項9または10に記載の描画装置の動作評価方法。   The defect maintenance operation specifying step is characterized in that the suction operation is specified as the cause of the defect when an impact diameter of the functional liquid droplet constituting the test pattern is too small. Item 15. The method for evaluating the operation of the drawing apparatus according to Item 9 or 10. 前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンに前記機能液滴の着弾位置のずれが生じている場合には、前記拭き取り動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項9ないし11のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。   The defect maintenance operation specifying step specifies the wiping operation as the cause of the defect when the landing position of the functional liquid droplet is shifted in the test pattern. The operation | movement evaluation method of the drawing apparatus in any one. 前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンを構成する前記機能液滴の着弾径に過大なものが含まれている場合には、前記拭き取り動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項9ないし12のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。   The defect maintenance operation specifying step specifies the wiping operation as the cause of the defect when the landing diameter of the functional liquid droplet constituting the test pattern includes an excessive one. Item 13. The method for evaluating the operation of the drawing apparatus according to any one of Items 9 to 12. 前記不良保守動作特定工程で特定された前記保守動作の動作条件を変更する動作条件変更工程をさらに備えたことを特徴とする請求項9ないし13のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。   The drawing apparatus operation evaluation method according to claim 9, further comprising an operation condition changing step of changing an operation condition of the maintenance operation specified in the defective maintenance operation specifying step. ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、前記吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、前記ワークに前記機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、前記機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置において、
保守した後の前記機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画手段と、
描画した前記テストパターンを画像認識する画像認識手段と、
前記画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断手段と、
前記描画不良と判断されたときに、前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因が、前記機能液滴吐出ヘッド自身および前記保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定手段と、を備えたことを特徴とする描画装置。
By driving the functional liquid droplet ejection head while moving the functional liquid droplet ejection head formed by aligning a plurality of ejection nozzles with respect to the work, the functional liquid droplets are ejected from the ejection nozzle. In a drawing apparatus that performs a drawing operation for drawing with the functional liquid droplets on the work and a maintenance operation for maintaining the functional liquid droplet ejection head using a head maintenance unit,
Drawing means for drawing a predetermined test pattern on the functional liquid droplet ejection head after maintenance;
An image recognition means for recognizing the drawn test pattern;
A drawing failure determination means for determining whether a drawing failure has occurred based on the image recognition;
A failure specifying means for specifying, based on the image recognition, whether the cause of the drawing failure is caused by the functional liquid droplet ejection head itself or the maintenance operation when the drawing failure is determined; A drawing apparatus comprising:
前記描画不良と判断されたときに、前記機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、再度保守した後に、前記機能液滴吐出ヘッドに前記テストパターンを再描画させ、再描画した前記テストパターンを再画像認識し、再画像認識した前記テストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断手段をさらに備え、
前記不良特定手段は、前記再判断手段により描画した前記テストパターンが再度描画不良と判断されたときに、前記描画不良の原因を特定することを特徴とする請求項15に記載の描画装置。
When it is determined that the drawing is defective, the maintenance operation is performed again on the functional liquid droplet ejection head, and after the maintenance is performed again, the test pattern is redrawn on the functional liquid droplet ejection head. Re-recognizing, further comprising a re-determination means for re-determining whether or not a drawing defect has occurred in the test pattern that has been re-image recognized,
16. The drawing apparatus according to claim 15, wherein the defect specifying unit specifies a cause of the drawing defect when the test pattern drawn by the re-determination unit is determined to be a drawing defect again.
前記不良特定手段は、前記画像認識手段による前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因となった前記機能液滴を吐出した前記吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第1不良ノズル特定手段と、
前記再判断手段による前記再画像認識に基づいて、前記不良ノズルを特定する第2不良ノズル特定手段と、
前記第1不良ノズル特定手段および第2不良ノズル特定手段で特定された前記不良ノズルの発生態様を比較して、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記保守動作のいずれであるかを特定する原因特定手段と、を有することを特徴とする請求項16に記載の描画装置。
The defect identifying means, based on the image recognition by the image recognition means, a first defective nozzle identifying means for identifying the ejection nozzle that ejected the functional liquid droplet that caused the rendering defect as a defective nozzle;
Second defective nozzle specifying means for specifying the defective nozzle based on the re-image recognition by the redetermining means;
By comparing the generation modes of the defective nozzles specified by the first defective nozzle specifying unit and the second defective nozzle specifying unit, whether the cause of the drawing failure is the functional liquid droplet ejection head or the maintenance operation The drawing apparatus according to claim 16, further comprising cause identifying means for identifying
前記ヘッド保守装置は、前記機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引手段と、
前記吸引動作の後、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り手段と、で構成されており、
前記描画不良の原因が前記保守動作にあると判断されたときに、不良原因が前記吸引手段および/または前記拭取り手段の前記保守動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定手段をさらに備えたことを特徴とする請求項15ないし17のいずれかに記載の描画装置。
The head maintenance device includes a suction unit that sucks a functional liquid from a discharge nozzle formed in the functional liquid droplet discharge head;
Wiping means for wiping off the nozzle surface of the functional liquid droplet ejection head after the suction operation, and
When it is determined that the cause of the drawing failure is the maintenance operation, the maintenance device further includes failure maintenance operation specifying means for further specifying that the failure cause is the maintenance operation of the suction unit and / or the wiping unit. The drawing apparatus according to claim 15, wherein the drawing apparatus is provided.
前記不良保守動作特定手段で特定された前記ヘッド保守手段の保守動作条件を変更する動作条件変更手段をさらに備えたことを特徴とする請求項18に記載の描画装置。   19. The drawing apparatus according to claim 18, further comprising an operation condition changing unit that changes a maintenance operation condition of the head maintenance unit specified by the defective maintenance operation specifying unit. 特定した前記描画不良の原因を表示する不良原因表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項15ないし19のいずれかに記載の描画装置。   20. The drawing apparatus according to claim 15, further comprising defect cause display means for displaying the cause of the specified drawing defect. 請求項1ないし14のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法または請求項15ないし20のいずれかに記載の描画装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。   A method for evaluating the operation of the drawing apparatus according to any one of claims 1 to 14 or the drawing apparatus according to any one of claims 15 to 20, wherein a film-forming unit made of functional droplets is formed on the workpiece. A method for manufacturing an electro-optical device. 請求項1ないし14のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法または請求項15ないし20のいずれかに記載の描画装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。   Use of the drawing apparatus operation evaluation method according to any one of claims 1 to 14 or the drawing apparatus according to any one of claims 15 to 20 to form a film-forming portion using functional droplets on the workpiece. Electro-optical device characterized. 請求項21に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項22に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device manufactured by the method for manufacturing the electro-optical device according to claim 21 or the electro-optical device according to claim 22.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006315367A (en) * 2005-05-16 2006-11-24 Master Mind Co Ltd Inkjet printer
JP2007178959A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Dainippon Printing Co Ltd Method of manufacturing color filter
JP2008160105A (en) * 2006-12-20 2008-07-10 Palo Alto Research Center Inc Printing method of smooth microscale profile
JP2009182169A (en) * 2008-01-31 2009-08-13 Hitachi Displays Ltd Pattern missing repairing method for electronic circuit, and device therefor
JP2010214869A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Seiko Epson Corp Fluid ejecting apparatus and method for controlling the same
US7916928B2 (en) 2006-12-29 2011-03-29 Industrial Technology Research Institute Real-time dispenser fault detection and classificaition method
JP2012081372A (en) * 2010-10-06 2012-04-26 Toray Eng Co Ltd Coating method and coating apparatus
JP2012173504A (en) * 2011-02-21 2012-09-10 Toray Eng Co Ltd Coating method and coating apparatus
JP2018039227A (en) * 2016-09-09 2018-03-15 ブラザー工業株式会社 Inkjet printer
KR20190112813A (en) * 2017-06-13 2019-10-07 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. Wiper system and non-transitory computer-readable storage media
JP2020518837A (en) * 2017-05-05 2020-06-25 ブライトン テクノロジーズ エルエルシー Method and device for measuring microvolume of liquid
JP2021049651A (en) * 2019-09-20 2021-04-01 芝浦メカトロニクス株式会社 Solution applicator and tablet printing device
JP2021049483A (en) * 2019-09-24 2021-04-01 東芝テック株式会社 Chemical dropping device

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006315367A (en) * 2005-05-16 2006-11-24 Master Mind Co Ltd Inkjet printer
JP2007178959A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Dainippon Printing Co Ltd Method of manufacturing color filter
JP2008160105A (en) * 2006-12-20 2008-07-10 Palo Alto Research Center Inc Printing method of smooth microscale profile
US7916928B2 (en) 2006-12-29 2011-03-29 Industrial Technology Research Institute Real-time dispenser fault detection and classificaition method
JP2009182169A (en) * 2008-01-31 2009-08-13 Hitachi Displays Ltd Pattern missing repairing method for electronic circuit, and device therefor
JP2010214869A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Seiko Epson Corp Fluid ejecting apparatus and method for controlling the same
JP2012081372A (en) * 2010-10-06 2012-04-26 Toray Eng Co Ltd Coating method and coating apparatus
JP2012173504A (en) * 2011-02-21 2012-09-10 Toray Eng Co Ltd Coating method and coating apparatus
JP2018039227A (en) * 2016-09-09 2018-03-15 ブラザー工業株式会社 Inkjet printer
JP2020518837A (en) * 2017-05-05 2020-06-25 ブライトン テクノロジーズ エルエルシー Method and device for measuring microvolume of liquid
JP2022050675A (en) * 2017-05-05 2022-03-30 ブライトン テクノロジーズ エルエルシー Method and system for calibrating liquid dispenser
CN110431018A (en) * 2017-06-13 2019-11-08 惠普发展公司,有限责任合伙企业 Wiper blade position
JP2020510556A (en) * 2017-06-13 2020-04-09 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. Wiper blade position
US10926543B2 (en) 2017-06-13 2021-02-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Wiper blade positions
KR102279862B1 (en) * 2017-06-13 2021-07-21 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. Wiper systems and non-transitory computer-readable storage media
KR20190112813A (en) * 2017-06-13 2019-10-07 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. Wiper system and non-transitory computer-readable storage media
JP2021049651A (en) * 2019-09-20 2021-04-01 芝浦メカトロニクス株式会社 Solution applicator and tablet printing device
JP7194659B2 (en) 2019-09-20 2022-12-22 芝浦メカトロニクス株式会社 Solution coating device and tablet printing device
JP2021049483A (en) * 2019-09-24 2021-04-01 東芝テック株式会社 Chemical dropping device
JP7433821B2 (en) 2019-09-24 2024-02-20 東芝テック株式会社 Chemical liquid dropping device

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