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JP2005149890A - Sealing apparatus and sealing method, display device and electronic apparatus - Google Patents

Sealing apparatus and sealing method, display device and electronic apparatus Download PDF

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JP2005149890A
JP2005149890A JP2003385124A JP2003385124A JP2005149890A JP 2005149890 A JP2005149890 A JP 2005149890A JP 2003385124 A JP2003385124 A JP 2003385124A JP 2003385124 A JP2003385124 A JP 2003385124A JP 2005149890 A JP2005149890 A JP 2005149890A
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JP
Japan
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sealing
substrate
pressing
element substrate
sealing substrate
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JP2003385124A
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Toshiko Hosoda
登志子 細田
Shinichi Yotsuya
真一 四谷
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealing apparatus by which an element substrate and a sealing substrate can be stuck together at high precision even when twisting or unevenness in thickness exists in the substrate or when twisting or unevenness in thickness exists in the adhesive when sticking together the element substrate provided with more than one light emitting element and the sealing substrate. <P>SOLUTION: The sealing apparatus S is provided with a pressing apparatus 40 with a plurality of pressing parts 41 for pressing the sealing substrate 20 to the element substrate 1, in a state that the element substrate 1 to which a plurality of light emitting elements 3 are provided and the sealing substrate 20 are faced to each other. Each of a plurality of positions corresponding to the light elements 3 on the sealing substrate 20 is pressed by the pressing parts 41. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、素子基板と封止基板とを接着して素子を封止する封止装置及び封止方法、表示装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a sealing device and a sealing method for sealing an element by bonding an element substrate and a sealing substrate, a display device, and an electronic apparatus.

有機EL(エレクトロルミネッセンス;electroluminescence)表示装置は、発光物質を含む発光層を陽極及び陰極の電極層で挟んだ構成の発光素子(有機EL素子)を有しており、陽極側から注入された正孔と、陰極側から注入された電子とを発光能を有する発光層内で再結合し、励起状態から失括する際に発光する現象を利用している。有機EL素子は酸素や水分によって劣化するため、素子を封止缶や封止膜で封止することが行われる。下記特許文献には、有機EL素子を封止する技術の一例が開示されている。
特開平11−40347号公報 特開2001−230070号公報
An organic EL (electroluminescence) display device includes a light-emitting element (organic EL element) having a structure in which a light-emitting layer containing a light-emitting substance is sandwiched between an anode and a cathode electrode layer, and a positive electrode injected from the anode side. A phenomenon is used in which holes and electrons injected from the cathode side are recombined in a light-emitting layer having a light-emitting ability, and light is emitted when the excited state is lost. Since an organic EL element is deteriorated by oxygen or moisture, the element is sealed with a sealing can or a sealing film. The following patent document discloses an example of a technique for sealing an organic EL element.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-40347 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-230070

ところで、製造効率の向上の観点等から、大型の基板(例えばガラス基板)上に複数の素子を配置して素子基板を形成するとともにこれら素子のそれぞれを封止するように大型の封止基板を貼り合わせ、その後に各素子に応じて基板を切断することで、多数の有機EL表示装置を一括して製造する場合がある。ところが、基板の大型化に伴って基板のうねりや厚みむらの影響が大きくなり、素子基板と封止基板とを精度良く貼り合わせることができない場合が生じる。また、素子基板と封止基板との間に配置する接着剤の厚みむらによっても精度良く貼り合わせられない場合が生じる。   By the way, from the viewpoint of improving manufacturing efficiency, etc., a large sealing substrate is formed so that a plurality of elements are arranged on a large substrate (for example, a glass substrate) to form an element substrate and each of these elements is sealed. In some cases, a large number of organic EL display devices are manufactured in a lump by bonding and then cutting the substrate according to each element. However, with the increase in size of the substrate, the influence of the undulation and thickness unevenness of the substrate increases, and the element substrate and the sealing substrate may not be bonded with high accuracy. In addition, there may be a case where the bonding cannot be performed with high accuracy due to uneven thickness of the adhesive disposed between the element substrate and the sealing substrate.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、複数の素子を有する素子基板と封止基板とを貼り合わせる際、基板にうねりや厚みむらがあったり、接着剤に厚みむらがある場合においても、素子基板と封止基板とを精度良く貼り合わせることができる封止装置及び封止方法を提供することを目的とする。また、その封止装置及び封止方法によって良好に封止された素子を有する表示装置及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances. When an element substrate having a plurality of elements and a sealing substrate are bonded to each other, the substrate has waviness or uneven thickness, or the adhesive has uneven thickness. However, it is an object of the present invention to provide a sealing device and a sealing method capable of bonding an element substrate and a sealing substrate with high accuracy. It is another object of the present invention to provide a display device and an electronic device each having an element well sealed by the sealing device and the sealing method.

上記の課題を解決するため、本発明の封止装置は、複数の素子が設けられた素子基板と封止基板とを接着して前記素子を封止する封止装置において、前記素子基板と前記封止基板とを対向させた状態で該素子基板及び封止基板のうちの一方を他方に対して押圧する複数の押圧部を備えた押圧装置を有し、前記素子に応じた前記素子基板又は封止基板のいずれか一方の複数の所定位置のそれぞれを前記押圧部で押圧することを特徴とする。
本発明によれば、大型の素子基板上に複数の素子を設けて封止基板と貼り合わせる際、素子基板又は封止基板のいずれか一方の複数の所定位置のそれぞれを複数の押圧部で他方に対して押圧するようにしたので、基板にうねり等があったり、接着剤に厚みむらがあっても、前記うねりや厚みむらの影響を低減して、封止基板と素子基板とを良好に貼り合わせることができる。特に、複数の素子に応じた複数の所定位置を押圧するようにしたので、各素子を確実に封止することができる。
In order to solve the above-described problems, a sealing device of the present invention includes a sealing device that seals the element by bonding an element substrate provided with a plurality of elements and the sealing substrate. A pressing device including a plurality of pressing portions that press one of the element substrate and the sealing substrate against the other in a state where the sealing substrate faces the element substrate; Each of a plurality of predetermined positions of any one of the sealing substrates is pressed by the pressing portion.
According to the present invention, when a plurality of elements are provided on a large element substrate and bonded to a sealing substrate, each of a plurality of predetermined positions on either the element substrate or the sealing substrate is replaced with a plurality of pressing portions. Therefore, even if the substrate has waviness or uneven thickness of the adhesive, the influence of the waviness and uneven thickness is reduced, and the sealing substrate and the element substrate are improved. Can be pasted together. In particular, since a plurality of predetermined positions corresponding to a plurality of elements are pressed, each element can be reliably sealed.

本発明の封止装置において、前記押圧部は、前記素子基板及び封止基板のうち前記素子が設けられている位置に対応する複数の位置を押圧することを特徴とする。これにより、素子を基準としてその周りの素子基板と封止基板との接着領域を均一に押圧することができ、素子基板と封止基板とを良好に貼り合わせることができる。   In the sealing device of the present invention, the pressing portion presses a plurality of positions corresponding to positions where the element is provided, of the element substrate and the sealing substrate. Thereby, the adhesion area | region of the surrounding element substrate and sealing substrate can be uniformly pressed on the basis of an element, and an element substrate and a sealing substrate can be bonded together favorably.

本発明の封止装置において、前記素子基板及び前記封止基板のそれぞれは接着領域を有し、前記押圧部は、前記素子基板及び封止基板のうち前記接着領域に対応する複数の位置を押圧することを特徴とする。これにより、接着領域を直接的に押圧することができ、素子基板と封止基板とを良好に貼り合わせることができる。   In the sealing device of the present invention, each of the element substrate and the sealing substrate has an adhesive region, and the pressing portion presses a plurality of positions corresponding to the adhesive region in the element substrate and the sealing substrate. It is characterized by doing. Thereby, an adhesion area | region can be pressed directly and an element substrate and a sealing substrate can be bonded together favorably.

本発明の封止装置において、前記素子基板の上に前記封止基板を配置し、前記押圧部は前記封止基板を下に向けて押圧することを特徴とする。これにより、比較的平坦な素子基板に対して封止基板を上方から押しつけることとなり、押圧動作を円滑に行うことができる。   In the sealing device of the present invention, the sealing substrate is disposed on the element substrate, and the pressing portion presses the sealing substrate downward. As a result, the sealing substrate is pressed against the relatively flat element substrate from above, and the pressing operation can be performed smoothly.

本発明の封止装置において、前記押圧部は錘部材を含むことを特徴とする。これにより、簡易な構成で素子基板と封止基板とを貼り合わせることができる。   In the sealing device of the present invention, the pressing portion includes a weight member. Thereby, an element substrate and a sealing substrate can be bonded together with a simple configuration.

本発明の封止装置において、前記押圧装置は、前記押圧部の押圧力を可変とするアクチュエータを有することを特徴とする。これにより、各素子に応じた接着領域のそれぞれの接着状況に応じて押圧力を変えることができ、各接着領域のそれぞれにおける接着剤の厚みを個別に調整できるなど、良好な接着状態を得ることができる。   In the sealing device of the present invention, the pressing device includes an actuator that varies a pressing force of the pressing portion. As a result, the pressing force can be changed according to the bonding state of each bonding region corresponding to each element, and the thickness of the adhesive in each bonding region can be individually adjusted to obtain a good bonding state. Can do.

本発明の封止装置において、前記素子基板と前記封止基板との接着状況を計測する計測装置を有し、前記押圧装置は前記計測装置の計測結果に基づいて押圧条件を設定することを特徴とする。これにより、各素子に応じた接着領域のそれぞれにおける接着状態を所望の状態にすることができ、素子を更に良好に封止することができる。   In the sealing device of the present invention, the sealing device includes a measuring device that measures an adhesion state between the element substrate and the sealing substrate, and the pressing device sets a pressing condition based on a measurement result of the measuring device. And Thereby, the adhesion state in each of the adhesion regions corresponding to each element can be changed to a desired state, and the element can be sealed more satisfactorily.

本発明の封止装置において、前記素子基板と前記封止基板との位置関係を計測するアライメント系を備え、前記アライメント系の計測結果に基づいて前記素子基板と前記封止基板とを位置合わせして押圧することを特徴とする。これにより、素子基板と封止基板とを所望の位置関係で貼り合わせることができる。   The sealing device of the present invention includes an alignment system that measures a positional relationship between the element substrate and the sealing substrate, and aligns the element substrate and the sealing substrate based on a measurement result of the alignment system. And pressing. Thereby, an element substrate and a sealing substrate can be bonded together by desired positional relationship.

本発明の封止装置において、前記素子基板と前記封止基板とを接着する接着剤に光を照射する光照射装置を備え、前記押圧部は、前記素子に対する前記光照射装置からの光を遮るマスクとして使われることを特徴とする。これにより、素子に対して照射される光を遮ることができ、素子の劣化を防止できる。また、押圧部をマスクとして使用することで、専用の遮光用マスクを別に設ける必要がなくなり、装置構成を簡略化でき、装置コストを低減できる。   The sealing device of the present invention includes a light irradiation device that irradiates light to an adhesive that bonds the element substrate and the sealing substrate, and the pressing portion blocks light from the light irradiation device on the element. It is used as a mask. Thereby, the light irradiated with respect to an element can be shielded, and deterioration of an element can be prevented. Further, by using the pressing portion as a mask, it is not necessary to separately provide a dedicated light shielding mask, the apparatus configuration can be simplified, and the apparatus cost can be reduced.

本発明の封止方法は、複数の素子が設けられた素子基板と封止基板とを接着して前記素子を封止する封止方法において、前記素子基板と前記封止基板とを対向させた状態で該素子基板及び封止基板のうちの一方を他方に対して押圧する押圧工程を有し、前記押圧工程は、前記素子に応じた前記素子基板又は封止基板のいずれか一方の複数の所定位置のそれぞれを押圧することを特徴とする。
本発明によれば、大型の素子基板上に複数の素子を設けて封止基板と貼り合わせる際、素子基板又は封止基板のいずれか一方の複数の所定位置のそれぞれを複数の押圧部で他方に対して押圧するようにしたので、基板にうねり等があったり、接着剤に厚みむらがあっても、前記うねりや厚みむらの影響を低減して、封止基板と素子基板とを良好に貼り合わせることができる。特に、複数の素子に応じた複数の所定位置を押圧するようにしたので、各素子を確実に封止することができる。
The sealing method of the present invention is such that the element substrate and the sealing substrate are opposed to each other in the sealing method in which the element substrate provided with a plurality of elements is bonded to the sealing substrate to seal the element. A pressing step of pressing one of the element substrate and the sealing substrate against the other in the state, and the pressing step includes a plurality of either the element substrate or the sealing substrate according to the element Each of the predetermined positions is pressed.
According to the present invention, when a plurality of elements are provided on a large element substrate and bonded to a sealing substrate, each of a plurality of predetermined positions on either the element substrate or the sealing substrate is replaced with a plurality of pressing portions. Therefore, even if the substrate has waviness or uneven thickness of the adhesive, the influence of the waviness and uneven thickness is reduced, and the sealing substrate and the element substrate are improved. Can be pasted together. In particular, since a plurality of predetermined positions corresponding to a plurality of elements are pressed, each element can be reliably sealed.

本発明の表示装置は、上記記載の封止装置で封止された素子を有することを特徴とする。また本発明の電子機器は、上記記載の表示装置を備えたことを特徴とする。本発明によれば、素子基板と封止基板とは良好に貼り合わせられているので、高い封止性を得ることができ、素子の劣化が抑制され、高寿命で高品質な表示装置及び電子機器を得ることができる。   The display device of the present invention includes an element sealed with the sealing device described above. According to another aspect of the present invention, there is provided an electronic apparatus comprising the above-described display device. According to the present invention, since the element substrate and the sealing substrate are bonded together well, high sealing performance can be obtained, deterioration of the element is suppressed, and a high-quality display device and electronic device with a long lifetime can be obtained. Equipment can be obtained.

以下、本発明の封止装置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明の封止装置の第1実施形態を示す概略構成図である。
図1において、封止装置Sは、複数の発光素子3が設けられた素子基板1を支持する支持装置30と、封止基板20を保持する保持装置50と、素子基板1と封止基板20とを対向させた状態で、素子基板1に対して封止基板20を押圧する複数の押圧部41を備えた押圧装置40とを備えている。支持装置30、押圧装置40、及び保持装置50はチャンバ装置CH内部に配置されている。
Hereinafter, the sealing device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a sealing device of the present invention.
In FIG. 1, a sealing device S includes a support device 30 that supports an element substrate 1 provided with a plurality of light emitting elements 3, a holding device 50 that holds the sealing substrate 20, and the element substrate 1 and the sealing substrate 20. And a pressing device 40 including a plurality of pressing portions 41 that press the sealing substrate 20 against the element substrate 1. The support device 30, the pressing device 40, and the holding device 50 are disposed inside the chamber device CH.

ここで、以下の説明において、水平面内における所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する方向(鉛直方向)をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれθX、θY、及びθZ方向とする。   Here, in the following description, the predetermined direction in the horizontal plane is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction (vertical direction) is Z. Axial direction. Further, the rotation (inclination) directions around the X, Y, and Z axes are the θX, θY, and θZ directions, respectively.

素子基板1を支持する支持装置30は、X軸、Y軸、及びZ軸方向に移動可能に設けられたステージ装置によって構成されている。また、支持装置30はθX、θY、及びθZ方向にも移動可能となっている。また支持装置30は、透明ガラス等の透明部材からなるホルダ部31を有している。また、ホルダ部31と素子基板1との間には、板状の遮光部材32が設けられている。遮光部材32は、透明ガラス等の透明部材の所定位置に遮光部33を設けたものである。遮光部33は、素子基板1の発光素子3に対応する位置に設けられている。   The support device 30 that supports the element substrate 1 is configured by a stage device that is movable in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions. The support device 30 is also movable in the θX, θY, and θZ directions. Moreover, the support apparatus 30 has the holder part 31 which consists of transparent members, such as transparent glass. A plate-shaped light shielding member 32 is provided between the holder portion 31 and the element substrate 1. The light shielding member 32 is provided with a light shielding portion 33 at a predetermined position of a transparent member such as transparent glass. The light shielding portion 33 is provided at a position corresponding to the light emitting element 3 of the element substrate 1.

封止基板20は、素子基板1上の複数の発光素子3に対応するように設けられた複数の封止部材2を含んでいる。封止部材2のそれぞれは、断面視下向き略コ字型に形成されており、その下端面Cに接着剤21が設けられている。そして、封止部材2の下端面Cと素子基板1の接着領域Rとが接着剤21を介して接着される。   The sealing substrate 20 includes a plurality of sealing members 2 provided so as to correspond to the plurality of light emitting elements 3 on the element substrate 1. Each of the sealing members 2 is formed in a substantially U shape facing downward in a sectional view, and an adhesive 21 is provided on the lower end surface C thereof. Then, the lower end surface C of the sealing member 2 and the adhesion region R of the element substrate 1 are bonded via the adhesive 21.

図2は、保持装置50に保持されている封止基板20を示す平面図である。
図2に示すように、本実施形態においては、封止部材2は素子基板20に3×3のマトリクス状に合計9つ設けられている。そして、素子基板1上にも封止部材2に対応するように、3×3のマトリクス状に発光素子3が設けられている。
FIG. 2 is a plan view showing the sealing substrate 20 held by the holding device 50.
As shown in FIG. 2, in the present embodiment, a total of nine sealing members 2 are provided on the element substrate 20 in a 3 × 3 matrix. The light emitting elements 3 are provided on the element substrate 1 in a 3 × 3 matrix so as to correspond to the sealing member 2.

保持装置50は、封止基板20を挟むように保持する2つの保持部材51と、封止基板20を保持した保持部材51のそれぞれを移動可能に支持する駆動機構52とを備えている。駆動機構52は、リンク機構、ガイド部、及びアクチュエータを組み合わせた構成を有し、保持部材51を移動することで、その保持部材51に保持されている封止基板20の位置(姿勢)を制御可能である。具体的には、駆動機構52の駆動によって、封止基板20は、X軸、Y軸、及びZ軸方向に移動可能であるとともに、θX、θY、及びθZ方向にも移動可能となっている。   The holding device 50 includes two holding members 51 that hold the sealing substrate 20 so as to sandwich the sealing substrate 20, and a drive mechanism 52 that movably supports each of the holding members 51 that hold the sealing substrate 20. The drive mechanism 52 has a configuration in which a link mechanism, a guide unit, and an actuator are combined, and controls the position (posture) of the sealing substrate 20 held by the holding member 51 by moving the holding member 51. Is possible. Specifically, by driving the drive mechanism 52, the sealing substrate 20 can move in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions, and also in the θX, θY, and θZ directions. .

なお本実施形態においては、保持装置50は封止基板20を挟むようにして保持する構成であるが、例えば封止基板20の上面を真空吸着保持する保持部を設け、その保持部を移動するようにしてもよいし、静電チャック方式で保持するようにしてもよい。   In the present embodiment, the holding device 50 is configured to hold the sealing substrate 20 so as to sandwich the sealing substrate 20. However, for example, a holding unit that holds the upper surface of the sealing substrate 20 by vacuum suction is provided, and the holding unit is moved. Alternatively, it may be held by an electrostatic chuck method.

封止基板20の複数の所定位置のそれぞれには、封止基板20を所定位置に対して位置合わせするためのアライメントマーク53が設けられている。本実施形態において、アライメントマーク53は十字状であり、封止基板20の四隅に設けられている。なお、図2中、アライメントマーク53の周りを囲む円は、後述するアライメント系60の検出領域61を示している。   Each of the plurality of predetermined positions of the sealing substrate 20 is provided with an alignment mark 53 for aligning the sealing substrate 20 with respect to the predetermined position. In the present embodiment, the alignment mark 53 has a cross shape and is provided at the four corners of the sealing substrate 20. In FIG. 2, a circle surrounding the alignment mark 53 indicates a detection region 61 of the alignment system 60 described later.

図1に戻って、支持装置30のうちホルダ部31の下方には、所定の波長を有する光を射出する光照射装置70が設けられている。本実施形態において、光照射装置70は紫外光(UV光)を射出する。光照射装置70より射出された光は、ホルダ部31、及び遮光部材32のうち遮光部33が設けられている以外の領域を透過して、素子基板1側に達する。本実施形態において、接着剤21は光硬化性接着剤(光硬化性材料)であり、光照射装置70から射出された光が照射されることにより硬化する。   Returning to FIG. 1, a light irradiation device 70 that emits light having a predetermined wavelength is provided below the holder portion 31 in the support device 30. In the present embodiment, the light irradiation device 70 emits ultraviolet light (UV light). The light emitted from the light irradiation device 70 passes through the region other than the holder portion 31 and the light shielding member 32 where the light shielding portion 33 is provided, and reaches the element substrate 1 side. In the present embodiment, the adhesive 21 is a photo-curable adhesive (photo-curable material) and is cured by being irradiated with light emitted from the light irradiation device 70.

押圧装置50を構成する複数の押圧部41はそれぞれ錘部材によって構成されている。錘部材(押圧部)41のそれぞれは、バネ部材等からなる連結部材42を介して上方に設けられた支持部43に支持されている。そして、錘部材41は、封止部材2及び発光素子3に対応するように、平面視において3×3のマトリクス状に設けられている。   The plurality of pressing portions 41 constituting the pressing device 50 are each configured by a weight member. Each weight member (pressing portion) 41 is supported by a support portion 43 provided above via a connecting member 42 made of a spring member or the like. The weight member 41 is provided in a 3 × 3 matrix shape in plan view so as to correspond to the sealing member 2 and the light emitting element 3.

また、チャンバ装置CHの上部には、素子基板1と封止基板20との位置関係を計測するアライメント系60が設けられている。アライメント系60は、CCD等の撮像素子を含んで構成されており、封止基板2に設けられている前記アライメントマーク53に応じた位置に複数(4つ)設けられている。また、素子基板1の複数の所定位置(四隅)のそれぞれにも、アライメント系60及びアライメントマーク53に応じたアライメントマーク54が設けられている。アライメント系60は、検出領域61内にアライメントマーク53、54を配置し、そのアライメントマーク53、54どうしの位置関係を計測することで、素子基板1と封止基板2との位置関係を計測する。   In addition, an alignment system 60 that measures the positional relationship between the element substrate 1 and the sealing substrate 20 is provided above the chamber device CH. The alignment system 60 is configured to include an image sensor such as a CCD, and a plurality (four) of alignment systems 60 are provided at positions corresponding to the alignment marks 53 provided on the sealing substrate 2. An alignment mark 54 corresponding to the alignment system 60 and the alignment mark 53 is also provided at each of a plurality of predetermined positions (four corners) of the element substrate 1. The alignment system 60 measures the positional relationship between the element substrate 1 and the sealing substrate 2 by arranging the alignment marks 53 and 54 in the detection region 61 and measuring the positional relationship between the alignment marks 53 and 54. .

次に、複数の発光素子3が設けられた素子基板1と封止基板20とを接着して発光素子3を封止する工程を説明する。
まず、封止装置S外部において、封止基板20の各封止部材2それぞれの下端面Cに接着剤21が塗布される。そして、不図示の搬送装置によって、封止基板20が封止装置Sのチャンバ装置CH内部に搬送される。また、封止装置Sのチャンバ装置CH内部の支持装置30には、発光素子3を設けられた素子基板1が予め支持されている。
Next, a process of sealing the light emitting element 3 by bonding the element substrate 1 provided with the plurality of light emitting elements 3 and the sealing substrate 20 will be described.
First, the adhesive 21 is applied to the lower end surface C of each sealing member 2 of the sealing substrate 20 outside the sealing device S. Then, the sealing substrate 20 is transported into the chamber device CH of the sealing device S by a transport device (not shown). Further, the element substrate 1 provided with the light emitting elements 3 is supported in advance on the support device 30 inside the chamber device CH of the sealing device S.

ここで、チャンバ装置CH内部は、所定温度及び圧力に調整されており、発光素子3の劣化を防ぐために、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスで満たされている。なお、チャンバ装置CH内部の温度は、例えば接着剤21の自重変形温度以下に設定されることが好ましい。こうすることにより、接着剤21の流動性を低くすることができ、封止基板20と素子基板1とを貼り合わせる前に、下端面Cに塗布された接着剤21が自重(重力作用)によって垂れる等の不都合を防止できる。なお、封止基板20に対する接着剤21の塗布工程も、不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。また、接着剤21は封止基板20の下端面Cに設ける構成の他に、素子基板1上の接着領域Rに接着剤21を予め塗布しておいてもよい。   Here, the inside of the chamber device CH is adjusted to a predetermined temperature and pressure, and is filled with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas in order to prevent deterioration of the light emitting element 3. Note that the temperature inside the chamber device CH is preferably set to be equal to or lower than the self-weight deformation temperature of the adhesive 21, for example. By doing so, the fluidity of the adhesive 21 can be lowered, and before the sealing substrate 20 and the element substrate 1 are bonded together, the adhesive 21 applied to the lower end surface C is caused by its own weight (gravity action). Inconvenience such as dripping can be prevented. In addition, you may perform the application | coating process of the adhesive agent 21 with respect to the sealing substrate 20 in inert gas atmosphere. In addition to the configuration in which the adhesive 21 is provided on the lower end surface C of the sealing substrate 20, the adhesive 21 may be applied in advance to the adhesive region R on the element substrate 1.

封止装置Sのチャンバ装置CH内部に搬送された封止基板20は、保持装置50の保持部材51に保持される。このとき、封止基板20は素子基板1の上に配置され、その素子基板1に対して離間した状態で保持装置50に保持される(すなわち図1に示す状態で保持される)。   The sealing substrate 20 transported into the chamber device CH of the sealing device S is held by the holding member 51 of the holding device 50. At this time, the sealing substrate 20 is disposed on the element substrate 1 and is held by the holding device 50 in a state of being separated from the element substrate 1 (that is, held in the state shown in FIG. 1).

保持装置50は、封止基板20を保持した保持部材51を、駆動機構52を使って−Z方向に移動し、支持装置30に支持されている素子基板1に対して封止基板20を接近させる。そして、素子基板1と封止基板20との離間距離が所定値に達した後、アライメント系60が、素子基板1のアライメントマーク54と封止基板20のアライメントマーク53とのそれぞれを検出することで、素子基板1と封止基板20との位置関係を計測する。そして、アライメント系60の計測結果に基づいて、封止基板20を保持する保持装置50及び素子基板1を支持する支持装置30の少なくともいずれか一方がX軸、Y軸、θZ軸方向に移動することで、素子基板1と封止基板20との位置合わせ(更に具体的には、素子基板1の接着領域Rと封止基板20の下端面Cとの位置合わせ)が行われる。   The holding device 50 moves the holding member 51 holding the sealing substrate 20 in the −Z direction using the drive mechanism 52, and brings the sealing substrate 20 closer to the element substrate 1 supported by the support device 30. Let Then, after the separation distance between the element substrate 1 and the sealing substrate 20 reaches a predetermined value, the alignment system 60 detects each of the alignment mark 54 of the element substrate 1 and the alignment mark 53 of the sealing substrate 20. Thus, the positional relationship between the element substrate 1 and the sealing substrate 20 is measured. Then, based on the measurement result of the alignment system 60, at least one of the holding device 50 that holds the sealing substrate 20 and the support device 30 that supports the element substrate 1 moves in the X-axis, Y-axis, and θZ-axis directions. Thus, alignment between the element substrate 1 and the sealing substrate 20 (more specifically, alignment between the adhesion region R of the element substrate 1 and the lower end surface C of the sealing substrate 20) is performed.

素子基板1と封止基板20との位置合わせが完了した後、その位置関係を維持した状態で、封止基板20の下端面Cと素子基板1の接着領域Rとが接着剤21を介して接触される。そして、図3に示すように、封止基板20の保持装置50による保持が解除され、封止基板20のうち、各発光素子3が設けられている位置に対応する複数の位置のそれぞれ(具体的には各封止部材2の上面略中央部のそれぞれ)が、錘部材41によって押圧される。なお、図3には保持装置50は図示されていない。錘部材41は、素子基板1の上側に配置されている封止基板20を下に向けて押圧する。これにより、素子基板1と封止基板20とを対向させた状態で素子基板1に対して封止基板20を押圧する押圧行程が行われたことになる。錘部材41の重さは、封止基板20の強度や接着剤21の物性等に応じて予め最適値に設定されており、封止基板20の下端面Cと素子基板1の接着領域Rとを位置合わせしつつ、下端面Cと接着領域Rとを当接し、素子基板1と封止基板20とを錘部材41で圧着することにより、押しつぶされた接着剤21は拡がるとともに所望の厚さとなる。   After the alignment between the element substrate 1 and the sealing substrate 20 is completed, the lower end surface C of the sealing substrate 20 and the bonding region R of the element substrate 1 are interposed via the adhesive 21 while maintaining the positional relationship. Touched. Then, as shown in FIG. 3, the holding of the sealing substrate 20 by the holding device 50 is released, and each of a plurality of positions corresponding to the position where each light emitting element 3 is provided (specifically) on the sealing substrate 20. Specifically, each of the substantially central portions of the upper surface of each sealing member 2) is pressed by the weight member 41. In FIG. 3, the holding device 50 is not shown. The weight member 41 presses the sealing substrate 20 disposed on the upper side of the element substrate 1 downward. Thereby, the pressing process of pressing the sealing substrate 20 against the element substrate 1 in a state where the element substrate 1 and the sealing substrate 20 face each other is performed. The weight of the weight member 41 is set to an optimum value in advance according to the strength of the sealing substrate 20 and the physical properties of the adhesive 21, and the lower end surface C of the sealing substrate 20 and the adhesion region R of the element substrate 1. , The lower end surface C and the adhesive region R are brought into contact with each other, and the element substrate 1 and the sealing substrate 20 are pressure-bonded by the weight member 41, so that the crushed adhesive 21 is expanded and has a desired thickness. Become.

素子基板1と封止基板20とを位置決めしつつ押圧するした後、錘部材41による押圧(圧着)を維持した状態で、光照射装置70が光を射出する。本実施形態において、光照射装置70からは、例えば波長360nmの紫外光(UV光)が射出される。光照射装置70から射出された光は、透明部材であるホルダ部31、及び遮光部材32のうち遮光部33以外の領域(つまり光透過領域)を通過して素子基板1側に達し、素子基板1上の接着領域Rと封止基板20の下端面Cとの間の接着剤21に照射される。一方、遮光部33は発光素子3に対応する位置に設けられているため、光は発光素子3に照射されない。したがって、発光素子3に光が及ぼす影響を防止することができる。上述したように、本実施形態における接着剤21は光硬化性材料であるため、光を照射されることにより硬化する。こうして、下端面Cと接着領域Rとの間に配置された接着剤21全体が硬化し、素子基板1と封止基板20とが接続され、素子基板1と各封止部材2とで形成される空間内部に配置された発光素子3のそれぞれが封止される。そして、各封止部材2に応じて封止基板20及び素子基板1を切断することにより、複数の有機EL表示装置を得ることができる。   After the element substrate 1 and the sealing substrate 20 are pressed while being positioned, the light irradiation device 70 emits light while maintaining the pressing (crimping) by the weight member 41. In the present embodiment, the light irradiation device 70 emits, for example, ultraviolet light (UV light) having a wavelength of 360 nm. The light emitted from the light irradiation device 70 passes through a region other than the light shielding portion 33 (that is, a light transmission region) in the light shielding member 32 and the holder portion 31 that is a transparent member, and reaches the element substrate 1 side. The adhesive 21 between the adhesive region R on 1 and the lower end surface C of the sealing substrate 20 is irradiated. On the other hand, since the light shielding portion 33 is provided at a position corresponding to the light emitting element 3, no light is irradiated to the light emitting element 3. Accordingly, the influence of light on the light emitting element 3 can be prevented. As described above, since the adhesive 21 in the present embodiment is a photocurable material, it is cured by being irradiated with light. In this way, the entire adhesive 21 disposed between the lower end surface C and the adhesive region R is cured, and the element substrate 1 and the sealing substrate 20 are connected to each other, and the element substrate 1 and each sealing member 2 are formed. Each of the light emitting elements 3 arranged in the space to be sealed is sealed. A plurality of organic EL display devices can be obtained by cutting the sealing substrate 20 and the element substrate 1 in accordance with each sealing member 2.

以上説明したように、大型の素子基板1上に複数の発光素子3を設けて封止基板20と貼り合わせる際、封止基板20の複数の封止部材2のそれぞれを複数の錘部材41で素子基板1に対して押圧するようにしたので、素子基板1や封止基板20にうねり等があったり、下端面Cと接着領域Rとの間の接着剤21に厚みむらがあっても、うねりや厚みむらの影響を低減して、封止基板20と素子基板1とを良好に貼り合わせることができる。そして、錘部材41は、封止基板20のうち発光素子3が設けられている位置に対応する複数の位置を押圧するので、発光素子3を基準としてその周りの素子基板1の接着領域Rと封止基板20の下端面Cとを均一に押圧することができ、素子基板1と封止基板20とを良好に貼り合わせて、各発光素子3を確実に封止することができる。   As described above, when the plurality of light emitting elements 3 are provided on the large element substrate 1 and bonded to the sealing substrate 20, each of the plurality of sealing members 2 of the sealing substrate 20 is replaced by the plurality of weight members 41. Since it pressed against the element substrate 1, even if the element substrate 1 or the sealing substrate 20 has undulations or the adhesive 21 between the lower end surface C and the adhesive region R has uneven thickness, The sealing substrate 20 and the element substrate 1 can be satisfactorily bonded together by reducing the influence of undulation and thickness unevenness. Since the weight member 41 presses a plurality of positions corresponding to the positions where the light emitting elements 3 are provided in the sealing substrate 20, the light emitting elements 3 and the adhesion region R of the element substrate 1 around the light emitting elements 3 are used as a reference. The lower end surface C of the sealing substrate 20 can be pressed uniformly, the element substrate 1 and the sealing substrate 20 can be bonded together, and each light emitting element 3 can be reliably sealed.

また、素子基板1の上に封止基板20を配置し、錘部材41によって封止基板20を下に向けて押圧することにより、比較的平坦な素子基板1に対して封止基板20(封止部材2)を上方から押しつけることになるので、押圧動作を円滑に行うことができる。   Further, the sealing substrate 20 is disposed on the relatively flat element substrate 1 by disposing the sealing substrate 20 on the element substrate 1 and pressing the sealing substrate 20 downward by the weight member 41. Since the stop member 2) is pressed from above, the pressing operation can be performed smoothly.

なお本実施形態においては、封止基板20を素子基板1の上に配置し、封止基板20を下に向けて押圧しているが、素子基板1を封止基板20の上に配置し、素子基板1の複数の位置に押圧部(錘部材)41を当接し、素子基板1を下に向けて押圧してもよい。   In the present embodiment, the sealing substrate 20 is disposed on the element substrate 1 and pressed toward the bottom, but the element substrate 1 is disposed on the sealing substrate 20. The pressing portions (weight members) 41 may be brought into contact with a plurality of positions of the element substrate 1 and pressed toward the element substrate 1 downward.

なお、接着剤21は、封止基板20の下端面Cに塗布してもよいし、素子基板1の接着領域Rに塗布してもよいし、下端面C及び接着領域Rの双方に塗布してもよい。   The adhesive 21 may be applied to the lower end surface C of the sealing substrate 20, may be applied to the adhesion region R of the element substrate 1, or may be applied to both the lower end surface C and the adhesion region R. May be.

なお、本実施形態においては、チャンバ装置CH内部は、接着剤21の自重変形温度以下に設定されているが、チャンバ装置CH内部を、例えば接着剤21の自重変形温度以上に設定することも可能である。こうすることにより、接着剤21の流動性が高くなるので、封止基板20と素子基板1とを貼り合わせた際に、下端面Cと接着領域Rとの間で接着剤21が拡がり易くなるので、接着動作を円滑に行うことができる。   In the present embodiment, the inside of the chamber device CH is set to be equal to or lower than the self-weight deformation temperature of the adhesive 21, but the inside of the chamber device CH can be set to be higher than the self-weight deformation temperature of the adhesive 21, for example. It is. By doing so, the fluidity of the adhesive 21 is increased, so that the adhesive 21 is easily spread between the lower end surface C and the adhesive region R when the sealing substrate 20 and the element substrate 1 are bonded together. Therefore, the bonding operation can be performed smoothly.

なお、下端面C(あるいは接着領域R)に接着剤21を塗布する際には、その矩形状(枠状)の下端面Cに連続的に塗布することもできるし、不連続に塗布することもできる。不連続に塗布した後、封止基板20と素子基板1とを圧着することで、接着剤21が拡がって不連続部が接続されるとともに、連続的に塗布した場合に比べて、接着剤21が下端面Cと接着領域Rとの間からはみ出る量を抑えることができる。   In addition, when apply | coating the adhesive agent 21 to the lower end surface C (or adhesion | attachment area | region R), it can also apply | coat continuously to the rectangular-shaped (frame shape) lower end surface C, and should apply | coat discontinuously. You can also. After the discontinuous application, the sealing substrate 20 and the element substrate 1 are pressure-bonded, so that the adhesive 21 spreads and the discontinuous portions are connected. Can be suppressed from protruding between the lower end surface C and the bonding region R.

接着剤21を塗布する塗布装置としては、接着剤21を定量的に吐出可能な液滴吐出装置(インクジェット装置)を用いることができる。液滴吐出装置は流動体を定量的に吐出可能であって、流動体を定量的に断続して吐出可能な装置である。したがって、液滴吐出装置から滴下される接着剤は流動体とされている。   As a coating device that applies the adhesive 21, a droplet discharge device (inkjet device) that can quantitatively discharge the adhesive 21 can be used. The droplet discharge device is a device that can discharge a fluid quantitatively and can discharge the fluid quantitatively intermittently. Therefore, the adhesive dropped from the droplet discharge device is a fluid.

流動体とは、液滴吐出装置の吐出ノズルから吐出可能な粘度を備えた媒体をいう。ノズル等から吐出可能な流動性(粘度)を備えていれば十分で、材料(この場合接着剤)を有機溶媒に溶解あるいは分散したものや、材料を融点以上に加熱して流動体としたものが挙げられる。また、流動体中には、前述したようにスペーサー等の固体物質が混入されていても全体として流動体であればよい。また、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。   A fluid means a medium having a viscosity that can be discharged from a discharge nozzle of a droplet discharge device. It is sufficient if it has fluidity (viscosity) that can be discharged from a nozzle, etc., and the material (in this case, adhesive) is dissolved or dispersed in an organic solvent, or the material is heated to a melting point or higher to form a fluid. Is mentioned. Further, as described above, the fluid may be a fluid as a whole even if a solid substance such as a spacer is mixed therein. In addition to the solvent, dyes, pigments and other functional materials may be added.

液滴吐出装置としては、ディスペンサやインクジェット装置が挙げられる。例えば、接着剤の塗布方法としてインクジェット方式を採用することにより、安価な設備で素子基板1や封止基板20の任意の位置に任意の塗布厚さで接着剤を付着させることができる。なお、インクジェット方式としては、圧電体素子の体積変化により流動体を吐出させるピエゾジェット方式であっても、熱の印加により急激に蒸気が発生することにより流動体を吐出させる方式であってもよい。   Examples of the droplet discharge device include a dispenser and an ink jet device. For example, by adopting an ink jet method as an adhesive application method, it is possible to attach the adhesive to an arbitrary position of the element substrate 1 or the sealing substrate 20 with an arbitrary application thickness with inexpensive equipment. The ink jet method may be a piezo jet method in which a fluid is ejected by changing the volume of a piezoelectric element, or a method in which a fluid is ejected by suddenly generating steam when heat is applied. .

なお、接着剤21を組成する光硬化性接着剤としては、200〜400nmの紫外線領域に反応し、紫外線光が照射されることにより短時間(例えば1〜10秒)で硬化する紫外線(UV)硬化性接着剤が挙げられる。紫外線硬化性接着剤としては、例えば、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、エーテルアクリレートなどの各種アクリレート、各種メタクリレート等の樹脂を用いたラジカル系接着剤や、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキタセン化合物などのカチオン重合を用いたカチオン系接着剤、チオール・エン付加型樹脂系接着剤などが挙げられ、中でも、酸素による阻害が無く、光照射後も重合反応が進行するカチオン系接着剤が好ましい。カチオン系接着剤としては、カチオン重合タイプの紫外線硬化型エポキシ系接着剤が好ましい。カチオン重合タイプの紫外線硬化型エポキシ系接着剤とは、主たる光重合開始剤として紫外線光等の光照射による光分解でルイス酸触媒を放出するルイス酸塩型硬化剤を含み、光照射により発生されたルイス酸が触媒となって主成分であるエポキシ基を有するオリゴマーがカチオン重合型の反応機構により重合し、硬化するタイプの接着剤である。   In addition, as a photocurable adhesive which comprises the adhesive agent 21, it reacts to a 200-400 nm ultraviolet region, and the ultraviolet-ray (UV) which hardens | cures in a short time (for example, 1-10 seconds) by irradiating with ultraviolet light. A curable adhesive is mentioned. Examples of the ultraviolet curable adhesive include radical adhesives using resins such as various acrylates such as ester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, and ether acrylate, and various methacrylates, epoxy compounds, vinyl ether compounds, and okitacene. Examples include cationic adhesives using cationic polymerization of compounds, thiol / ene addition type resin adhesives, etc. Among them, cationic adhesives that are not inhibited by oxygen and that undergo a polymerization reaction even after light irradiation are preferable. . As the cationic adhesive, a cationic polymerization type ultraviolet curable epoxy adhesive is preferable. A cationic polymerization type UV curable epoxy adhesive contains a Lewis acid salt type curing agent that releases a Lewis acid catalyst by photolysis by light irradiation such as ultraviolet light as a main photopolymerization initiator, and is generated by light irradiation. This is an adhesive of a type in which an oligomer having an epoxy group as a main component with a Lewis acid as a catalyst is polymerized and cured by a cationic polymerization type reaction mechanism.

上記接着剤の主成分であるエポキシ化合物としては、エポキシ化オレフィン化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、ノボラックエポキシ化合物などが挙げられる。また、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウムのルイス酸塩、ジアリルヨードニウムのルイス酸塩、トリアリルスルホニウムのルイス酸塩、トリアリルセレニウムのルイス酸塩などが挙げられる。   Examples of the epoxy compound that is the main component of the adhesive include epoxidized olefin compounds, aromatic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, and novolak epoxy compounds. Examples of the photopolymerization initiator include Lewis diacid salts of aromatic diazonium, Lewis acid salts of diallyl iodonium, Lewis acid salts of triallylsulfonium, and Lewis acid salts of triallyl selenium.

本実施形態においては、アクリル系のラジカル重合系接着剤又はエポキシ系のカチオン重合系接着剤であって、粘度調整や防湿性を考慮して70wt%以下で粒径5μm以下の無機フィラー(粘土鉱物、超微粒子材料)が添加される。   In the present embodiment, an acrylic radical polymerization adhesive or an epoxy cationic polymerization adhesive is used, and an inorganic filler (clay mineral) having a particle size of 5 μm or less and 70 wt% or less in consideration of viscosity adjustment and moisture resistance. , Ultrafine particle material) is added.

また、接着剤21には、厚み制御のために、スペーサ部材80を添加することができる。0.5〜5.0wt%の範囲で粒径4〜10μmの球状又は針状スペーサ(無機酸化物系)が添加されている。この場合、接着剤21の塗布厚さは4〜10μmに設定されている。また、これらの無機系材料と接着剤成分との分散性などを良くするため、シランカップリング剤などに代表される界面活性剤を適時添加してもよい。   In addition, a spacer member 80 can be added to the adhesive 21 for thickness control. A spherical or acicular spacer (inorganic oxide type) having a particle diameter of 4 to 10 μm is added in the range of 0.5 to 5.0 wt%. In this case, the coating thickness of the adhesive 21 is set to 4 to 10 μm. Moreover, in order to improve the dispersibility of these inorganic materials and adhesive components, a surfactant represented by a silane coupling agent and the like may be added as appropriate.

本実施形態においては、図4に示す模式図のように、接着剤層の厚み制御のためのスペーサ部材80には、ガラス製マイクロビーズ等の絶縁性微粒子により構成されている。特にスペーサ部材80として球状部材を用いることにより、たとえスペーサ部材80どうしが重なる状況が生じても、滑って重なり難いので、接着剤21の厚み制御をより高精度に行うことができる。また、スペーサ部材80によって、接着剤21が下端面Cと接着領域Rとの間で押し潰されることもない。   In the present embodiment, as shown in the schematic view of FIG. 4, the spacer member 80 for controlling the thickness of the adhesive layer is made of insulating fine particles such as glass microbeads. In particular, by using a spherical member as the spacer member 80, even if a situation occurs in which the spacer members 80 overlap each other, it is difficult to slip and overlap, so that the thickness control of the adhesive 21 can be performed with higher accuracy. Further, the adhesive member 21 is not crushed between the lower end surface C and the bonding region R by the spacer member 80.

なお、押圧部(錘部材)41で封止基板20(あるいは素子基板1)を押圧する際に、押圧部41と封止基板20との間に、ゴム板等の軟性部材を介在させてもよい。こうすることにより、封止基板20に傷が付くことを防止できる。また、ゴム板等の軟性部材は、封止基板20を加圧した際に、封止基板20の形状(凹凸、うねり)に応じて変形する程度に軟らかく、封止基板20を押圧した際に、接着剤層中に含まれるスペーサ部材80の粒径まで押し潰す程度の堅さを備えたものであることが好ましい。   When pressing the sealing substrate 20 (or the element substrate 1) with the pressing portion (weight member) 41, a soft member such as a rubber plate may be interposed between the pressing portion 41 and the sealing substrate 20. Good. By doing so, it is possible to prevent the sealing substrate 20 from being damaged. In addition, the soft member such as a rubber plate is soft enough to be deformed according to the shape (unevenness, swell) of the sealing substrate 20 when the sealing substrate 20 is pressed, and when the sealing substrate 20 is pressed. The spacer member 80 is preferably provided with such a hardness that it can be crushed to the particle size of the spacer member 80 contained in the adhesive layer.

以下、本発明の別の実施形態について説明する。以下の説明において、上述した第1実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。   Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described. In the following description, the same or equivalent components as those in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified or omitted.

図5は、本発明の第2実施形態を示す図である。第2実施形態の特徴的な部分は、接着剤21を硬化するために光を照射する光照射装置70は、封止基板20の上方側(錘部材41側)に設けられており、素子基板1を支持する支持装置30には遮光部材(32)が設けられてない点にある。図5において、錘部材41は、発光素子30に応じた大きさを有し、封止基板20のうち発光素子3に対応する複数の位置を押圧して、素子基板1と封止基板20とを圧着する。そして、その圧着を維持した状態で、錘部材41の上方(封止基板20の上方)より、光が照射される。なお図5には、錘部材41に連結されるばね部材(42)は図示されていない。ここで、封止基板20としては、UV光を透過可能なガラス(好ましくは無アルカリガラス)が用いられており、光照射装置70から射出した光は、封止基板20を介して接着剤21に照射される。これにより、接着剤21は硬化する。このとき、錘部材41は、発光素子3に対する光照射装置70からの光を遮るマスクとして使われている。これにより、光が照射されたことに起因する発光素子3の劣化を防止することができる。また、錘部材(押圧部)41をマスクとして使用することで、専用の遮光用マスクを別に設ける必要がなくなり、装置構成を簡略化でき、装置コストを低減できる。   FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. A characteristic part of the second embodiment is that a light irradiation device 70 that irradiates light to cure the adhesive 21 is provided on the upper side (weight member 41 side) of the sealing substrate 20. The support device 30 for supporting 1 is not provided with a light shielding member (32). In FIG. 5, the weight member 41 has a size corresponding to the light emitting element 30, and presses a plurality of positions corresponding to the light emitting element 3 in the sealing substrate 20, so that the element substrate 1 and the sealing substrate 20 Crimp the. And in the state which maintained the crimping | compression-bonding, light is irradiated from the upper side of the weight member 41 (above the sealing substrate 20). In FIG. 5, the spring member (42) connected to the weight member 41 is not shown. Here, as the sealing substrate 20, glass capable of transmitting UV light (preferably non-alkali glass) is used, and the light emitted from the light irradiation device 70 passes through the sealing substrate 20 to form the adhesive 21. Is irradiated. As a result, the adhesive 21 is cured. At this time, the weight member 41 is used as a mask that blocks light from the light irradiation device 70 with respect to the light emitting element 3. Thereby, deterioration of the light emitting element 3 resulting from light irradiation can be prevented. Further, by using the weight member (pressing portion) 41 as a mask, it is not necessary to separately provide a dedicated light shielding mask, the apparatus configuration can be simplified, and the apparatus cost can be reduced.

図6は、本発明の第3実施形態を示す図である。第3実施形態の特徴的な部分は、錘部材(押圧部)41は、封止基板20のうち接着領域Rに対応する複数の位置を押圧する点にある。つまり、錘部材41は、封止基板20の下端面C及び素子基板1の接着領域Rに対応する位置を押圧する。これにより、接着剤21が配置される位置に対応する下端面C及び接着領域Rを直接的に押圧することができ、素子基板1と封止基板20とを良好に貼り合わせることができる。   FIG. 6 is a diagram showing a third embodiment of the present invention. A characteristic part of the third embodiment is that the weight member (pressing portion) 41 presses a plurality of positions corresponding to the adhesion region R in the sealing substrate 20. That is, the weight member 41 presses a position corresponding to the lower end surface C of the sealing substrate 20 and the adhesion region R of the element substrate 1. Thereby, the lower end surface C and the adhesion | attachment area | region R corresponding to the position where the adhesive agent 21 is arrange | positioned can be pressed directly, and the element substrate 1 and the sealing substrate 20 can be bonded together favorably.

図7は、本発明の第4実施形態を示す図である。第4実施形態の特徴的な部分は、押圧装置40は、押圧部41による押圧力を可変とするアクチュエータ45を有している点にある。図7において、アクチュエータ45は例えばピストン部を有するものであって、一端を支持部43に接続し、他端を押圧部41に接続している。そして、複数のアクチュエータ45は、封止基板20(素子基板1)に対する押圧力をそれぞれ個別に調整可能である。   FIG. 7 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention. A characteristic part of the fourth embodiment is that the pressing device 40 has an actuator 45 that makes the pressing force by the pressing portion 41 variable. In FIG. 7, the actuator 45 has a piston portion, for example, and has one end connected to the support portion 43 and the other end connected to the pressing portion 41. The plurality of actuators 45 can individually adjust the pressing force against the sealing substrate 20 (element substrate 1).

また、チャンバ装置CH内部には、素子基板1と封止基板20との接着状況を計測する計測装置90が設けられている。計測装置90は、押圧装置40で押圧(圧着)した際の接着剤21の厚みを光学的に計測したり、あるいは、素子基板1に対する封止基板20の位置(Z位置、及びθX、θY位置)を光学的に計測する。アクチュエータ45のそれぞれは、計測装置90の計測結果に基づいて、押圧力(押圧条件)を個別に設定し、押圧する。これにおり、複数の封止部材2のそれぞれに対応する接着剤層の厚さを所望の厚みに(均一に)することができ、良好な接着状態を得ることができる。   In addition, a measuring device 90 that measures an adhesion state between the element substrate 1 and the sealing substrate 20 is provided inside the chamber device CH. The measuring device 90 optically measures the thickness of the adhesive 21 when pressed (pressed) by the pressing device 40, or the position of the sealing substrate 20 with respect to the element substrate 1 (Z position, θX, θY position). ) Optically. Each of the actuators 45 individually sets and presses the pressing force (pressing condition) based on the measurement result of the measuring device 90. Thus, the thickness of the adhesive layer corresponding to each of the plurality of sealing members 2 can be set to a desired thickness (uniformly), and a good adhesion state can be obtained.

なお、押圧部によって、素子基板1の下面の複数の所定位置を上に向けて押し、素子基板1とその素子基板1の上に配置されている封止基板20とを圧着してもよい。   Note that the pressing portion may press a plurality of predetermined positions on the lower surface of the element substrate 1 upward to pressure-bond the element substrate 1 and the sealing substrate 20 disposed on the element substrate 1.

図8は、本発明の第5実施形態を示す図である。第5実施形態の特徴的な部分は、接着剤21は熱硬化性材料により構成されており、封止装置Sは、接着剤21を加熱する加熱装置100を備えている点にある。図8において、素子基板1は、加熱装置100を有する支持装置30に支持されている。封止基板20と素子基板1とが圧着された後、加熱装置100によって接着剤21が加熱されて硬化される。なお接着剤21としては、その硬化温度が、発光素子3を構成する材料のガラス転移点温度より低いことが好ましい。ガラス転移点温度以上の熱をかけると発光素子3が変質する可能性があるからである。また、加熱装置100により、接着剤21の硬化とともに、発光素子3をアニールできる効果もある。   FIG. 8 is a diagram showing a fifth embodiment of the present invention. The characteristic part of the fifth embodiment is that the adhesive 21 is made of a thermosetting material, and the sealing device S includes a heating device 100 that heats the adhesive 21. In FIG. 8, the element substrate 1 is supported by a support device 30 having a heating device 100. After the sealing substrate 20 and the element substrate 1 are pressure-bonded, the adhesive 21 is heated and cured by the heating device 100. The adhesive 21 preferably has a curing temperature lower than the glass transition temperature of the material constituting the light emitting element 3. This is because there is a possibility that the light-emitting element 3 is altered when heat equal to or higher than the glass transition temperature is applied. In addition, the heating device 100 has an effect of annealing the light emitting element 3 as the adhesive 21 is cured.

なお、接着剤21としては、素子基板1と封止基板20とを接着可能な接着剤であればよく、短時間で硬化可能なEB(エレクトロンビーム)硬化性材料や2液混合硬化性材料などを用いることも可能である。   The adhesive 21 may be any adhesive that can bond the element substrate 1 and the sealing substrate 20, such as an EB (electron beam) curable material or a two-component mixed curable material that can be cured in a short time. It is also possible to use.

図9は、上記封止行程を経て形成された有機EL表示装置の要部断面図である。図9において、有機EL表示装置Aは、基板(素子基板)1と、基板1上に配置された発光素子3と、基板1に貼り合わせられた封止部材2とを備えている。   FIG. 9 is a cross-sectional view of an essential part of the organic EL display device formed through the sealing process. In FIG. 9, the organic EL display device A includes a substrate (element substrate) 1, a light emitting element 3 disposed on the substrate 1, and a sealing member 2 bonded to the substrate 1.

ここで、図1に示す有機EL表示装置Aは、発光素子3からの発光を基板1側から装置外部に取り出す形態であり、基板1の形成材料としては、光を透過可能な透明あるいは半透明材料、例えば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙げられる。特に、基板1の形成材料としては、安価なソーダガラスが好適に用いられる。   Here, the organic EL display device A shown in FIG. 1 has a form in which light emitted from the light emitting element 3 is taken out from the substrate 1 side to the outside of the device. Examples of the material include transparent glass, quartz, sapphire, or transparent synthetic resin such as polyester, polyacrylate, polycarbonate, and polyetherketone. In particular, as a material for forming the substrate 1, inexpensive soda glass is preferably used.

一方、基板1と反対側から発光を取り出す形態の場合には、基板1は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミック、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。   On the other hand, in the case where light emission is extracted from the side opposite to the substrate 1, the substrate 1 may be opaque. In that case, a ceramic sheet such as alumina or a metal sheet such as stainless steel is subjected to an insulation treatment such as surface oxidation. A thing, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, etc. can be used.

発光素子3は、基板1上に形成された陽極5と、ホール輸送層6と、陽極5が正孔輸送層6と接合する表面を露出させるように形成された絶縁層7と、有機発光層8と、電子輸送層9と、陰極10とから概略構成されている。   The light emitting element 3 includes an anode 5 formed on the substrate 1, a hole transport layer 6, an insulating layer 7 formed so as to expose a surface where the anode 5 is bonded to the hole transport layer 6, and an organic light emitting layer 8, an electron transport layer 9, and a cathode 10.

陽極5の材料としては、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、マグネシウム(Mg)、ニッケル(Ni)、亜鉛−バナジウム(ZnV)、インジウム(In)、スズ(Sn)などの単体や、これらの化合物或いは混合物や、金属フィラーが含まれる導電性接着剤などで構成されるが、ここではITO(Indium Tin Oxide)を用いている。この陽極5の形成は、好ましくはスパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着法によって行われ形成するが、スピンコータ、グラビアコータ、ナイフコータなどによるWETプロセスコーティング法や、スクリーン印刷、フレキソ印刷などを用いて形成してもよい。そして、陽極5の光透過率は、80%以上に設定することが好ましい。   Examples of the material of the anode 5 include aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), magnesium (Mg), nickel (Ni), zinc-vanadium (ZnV), indium (In), and tin (Sn). It is composed of a single substance, a compound or a mixture thereof, or a conductive adhesive containing a metal filler. Here, ITO (Indium Tin Oxide) is used. The anode 5 is preferably formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition, and is formed by using a WET process coating method such as a spin coater, gravure coater, knife coater, screen printing, flexographic printing, or the like. May be. The light transmittance of the anode 5 is preferably set to 80% or more.

正孔輸送層6としては、例えば、カルバゾール重合体とTPD:トリフェニル化合物とを共蒸着して10〜1000nm(好ましくは、100〜700nm)の膜厚に形成する。ここで、正孔輸送層6の形成材料としては、特に限定されることなく公知のものが使用可能であり、例えばピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等が挙げられる。具体的には、特開昭63−70257号、同63−175860号公報、特開平2−135359号、同2−135361号、同2−209988号、同3−37992号、同3−152184号公報に記載されているもの等が例示されるが、トリフェニルジアミン誘導体が好ましく、中でも4,4’−ビス(N(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)ビフェニルが好適とされる。   As the hole transport layer 6, for example, a carbazole polymer and TPD: triphenyl compound are co-evaporated to form a film thickness of 10 to 1000 nm (preferably 100 to 700 nm). Here, the material for forming the hole transport layer 6 is not particularly limited, and known materials can be used, and examples thereof include pyrazoline derivatives, arylamine derivatives, stilbene derivatives, and triphenyldiamine derivatives. Specifically, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, JP-A-2-209998, JP-A-3-37992, and JP-A-3-152184. Examples described in the publication are exemplified, but a triphenyldiamine derivative is preferable, and 4,4′-bis (N (3-methylphenyl) -N-phenylamino) biphenyl is particularly preferable.

なお、正孔輸送層6に代えて正孔注入層を形成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔注入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン(CuPc)や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン、トリス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム等が挙げられるが、特に銅フタロシアニン(CuPc)を用いるのが好ましい。   Note that a hole injection layer may be formed instead of the hole transport layer 6, and both the hole injection layer and the hole transport layer may be formed. In this case, as a material for forming the hole injection layer, for example, copper phthalocyanine (CuPc), polytetravinylthiophene polyphenylene vinylene, 1,1-bis- (4-N, N-ditolylaminophenyl) cyclohexane , Tris (8-hydroxyquinolinol) aluminum and the like, and copper phthalocyanine (CuPc) is particularly preferable.

別法として、正孔輸送層6は、例えば液滴吐出法(インクジェット法)により、正孔注入、輸送層材料を含む組成物インクを陽極5上に吐出した後に、乾燥処理及び熱処理を行うことで陽極5上に形成される。すなわち、上述した正孔輸送層材料あるいは正孔注入層材料を含む組成物インクを陽極5の電極面上に吐出した後に、乾燥処理及び熱処理を行うことにより、陽極5上に正孔輸送層(正孔注入層)が形成される。例えば、インクジェットヘッド(不図示)に正孔輸送層材料あるいは正孔注入層材料を含む組成物インクを充填し、インクジェットヘッドの吐出ノズルを陽極5の電極面に対向させ、インクジェットヘッドと基板1とを相対移動させながら、吐出ノズルから1滴当たりの液量が制御されたインキ滴を電極面に吐出する。次に、吐出後のインク滴を乾燥処理して組成物インクに含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、正孔輸送層(正孔注入層)が形成される。   Alternatively, the hole transport layer 6 may be subjected to a drying process and a heat treatment after ejecting a composition ink containing a hole injection and transport layer material onto the anode 5 by, for example, a droplet discharge method (inkjet method). Is formed on the anode 5. That is, after discharging the composition ink containing the hole transport layer material or the hole injection layer material described above onto the electrode surface of the anode 5, a drying treatment and a heat treatment are performed, whereby a hole transport layer ( Hole injection layer) is formed. For example, an inkjet head (not shown) is filled with a composition ink containing a hole transport layer material or a hole injection layer material, and the ejection nozzle of the inkjet head is opposed to the electrode surface of the anode 5. While the ink is relatively moved, ink droplets whose liquid amount per droplet is controlled are ejected from the ejection nozzle onto the electrode surface. Next, a hole transport layer (hole injection layer) is formed by drying the ejected ink droplets to evaporate the polar solvent contained in the composition ink.

なお、組成物インクとしては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸等との混合物を、イソプロピルアルコール等の極性溶媒に溶解させたものを用いることができる。ここで、吐出されたインク滴は、親インク処理された陽極5の電極面上に広がる。その一方で、撥インク処理された絶縁層7の上面にはインク滴がはじかれて付着しない。したがって、インク滴が所定の吐出位置からはずれて絶縁層7の上面に吐出されたとしても、該上面がインク滴で濡れることがなく、はじかれたインク滴が陽極5上に転がり込むものとされている。   In addition, as a composition ink, what melt | dissolved the mixture of polythiophene derivatives, such as polyethylene dioxythiophene, polystyrene sulfonic acid, etc. in polar solvents, such as isopropyl alcohol, can be used, for example. Here, the ejected ink droplet spreads on the electrode surface of the anode 5 that has been subjected to the affinity ink treatment. On the other hand, ink droplets are repelled and do not adhere to the upper surface of the insulating layer 7 subjected to ink repellent treatment. Therefore, even if the ink droplet is deviated from the predetermined ejection position and is ejected onto the upper surface of the insulating layer 7, the upper surface is not wetted by the ink droplet, and the repelled ink droplet is rolled onto the anode 5. Yes.

なお、この正孔輸送層6形成工程以降は、正孔輸送層6及び有機発光層8の酸化を防止すべく、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。   In addition, after this hole transport layer 6 formation process, in order to prevent the oxidation of the hole transport layer 6 and the organic light emitting layer 8, it is preferable to carry out in inert gas atmospheres, such as nitrogen atmosphere and argon atmosphere.

絶縁層7は、例えば、TEOSや酸素ガスなどを原料としてプラズマCVD法により基板全面にシリコン酸化膜または窒化膜を製膜した後、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術を用いてパターン形成することができる。   For example, the insulating layer 7 can be patterned using a photolithography technique and an etching technique after a silicon oxide film or a nitride film is formed on the entire surface of the substrate by plasma CVD using TEOS or oxygen gas as a raw material.

有機発光層8は、上記正孔輸送層6と同様に、例えばインクジェット法やマスク蒸着法により、発光層用材料を含む組成物インクを正孔輸送層6上に吐出した後に乾燥処理または熱処理を施すことで、正孔輸送層6上に形成される。有機発光層8を構成する発光材料としては、フルオレン系高分子誘導体や、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、その他ベンゼン誘導体に可溶な低分子有機EL材料、高分子有機EL材料等を用いることができる。なお、インクジェット法に適している材料としては、例えばパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体が挙げられ、マスク蒸着法に適している材料としてはペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素が挙げられる。   Similarly to the hole transport layer 6, the organic light emitting layer 8 is subjected to a drying process or a heat treatment after ejecting a composition ink containing the material for the light emitting layer onto the hole transport layer 6 by, for example, an inkjet method or a mask vapor deposition method. By applying, it is formed on the hole transport layer 6. Examples of the light emitting material constituting the organic light emitting layer 8 include fluorene polymer derivatives, (poly) paraphenylene vinylene derivatives, polyphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinyl carbazole, polythiophene derivatives, perylene dyes, coumarin dyes, and rhodamines. A low molecular organic EL material, a high molecular organic EL material or the like soluble in a dye or other benzene derivative can be used. Examples of materials suitable for the ink jet method include paraphenylene vinylene derivatives, polyphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinyl carbazole, and polythiophene derivatives. Materials suitable for mask vapor deposition include perylene dyes and coumarins. Examples thereof include dyes and rhodamine dyes.

また、電子輸送層9としては、金属と有機配位子から形成される金属錯体化合物、好ましくは、Alq3(トリス(8-キノリノレート)アルミニウム錯体)、Znq2(ビス(8-キノリノレート)亜鉛錯体)、Bebq2(ビス(8-キノリノレート)ベリリウム錯体)、Zn−BTZ(2-(o-ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾール亜鉛)、ペリレン誘導体などを10〜1000nm(好ましくは、100〜700nm)の膜厚になるように蒸着して積層する。   As the electron transport layer 9, a metal complex compound formed from a metal and an organic ligand, preferably Alq3 (tris (8-quinolinolate) aluminum complex), Znq2 (bis (8-quinolinolate) zinc complex), Bebq2 (bis (8-quinolinolate) beryllium complex), Zn-BTZ (2- (o-hydroxyphenyl) benzothiazole zinc), perylene derivative, etc., so as to have a thickness of 10 to 1000 nm (preferably 100 to 700 nm) Vapor deposition and lamination.

陰極10は、電子輸送層9へ効率的に電子注入を行える仕事関数の低い金属、好ましくは、Ca、Au、Mg、Sn、In、Ag、Li、Alなどの単体、又はこれらの合金、又は化合物で形成することができる。本実施形態では、Caを主体とする陰極、及びAlを主体とする反射層の2層構成になっている。   The cathode 10 is a metal having a low work function capable of efficiently injecting electrons into the electron transport layer 9, preferably Ca, Au, Mg, Sn, In, Ag, Li, Al or the like, or an alloy thereof, or Can be formed with compounds. In the present embodiment, a two-layer structure of a cathode mainly composed of Ca and a reflective layer mainly composed of Al is employed.

なお、図示しないが、本実施の形態の有機EL表示装置Aはアクティブマトリクス型であり、実際には複数のデータ線と複数の走査線とが格子状に配置され、これらデータ線や走査線に区画されたマトリクス状に配置された各画素毎にスイッチングトランジスタやドライビングトランジスタ等の駆動用TFTを介して上記の発光素子3が接続されている。そして、データ線や走査線を介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流れ、発光素子3が発光して透明な基板1の外面側に光が出射され、その画素が点灯する。なお、本発明は、アクティブマトリクス型に限られず、パッシブ駆動型の表示素子にも適用できることはいうまでもない。   Although not shown, the organic EL display device A according to the present embodiment is an active matrix type, and actually a plurality of data lines and a plurality of scanning lines are arranged in a grid pattern. The light emitting element 3 is connected to each pixel arranged in a partitioned matrix through a driving TFT such as a switching transistor or a driving transistor. When a drive signal is supplied via the data line or the scanning line, a current flows between the electrodes, the light emitting element 3 emits light, light is emitted to the outer surface side of the transparent substrate 1, and the pixel is lit. Needless to say, the present invention is not limited to the active matrix type and can be applied to a passive drive type display element.

外部から電極5、10を含む発光素子3に対して大気が侵入するのを遮断するための封止部材2は、本発明に係る封止装置S及び封止方法に基づいて基板1に貼り合わせられ、発光素子3を封止する。封止部材2の形成材料としては、ガラスや石英、サファイア、合成樹脂等の透明あるいは半透明材料が挙げられる。ガラスとしては、例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラスなどが挙げられる。合成樹脂としては、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙げられる。   The sealing member 2 for blocking air from entering the light emitting element 3 including the electrodes 5 and 10 from the outside is bonded to the substrate 1 based on the sealing device S and the sealing method according to the present invention. Then, the light emitting element 3 is sealed. Examples of the forming material of the sealing member 2 include transparent or translucent materials such as glass, quartz, sapphire, and synthetic resin. Examples of the glass include soda lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass. Examples of the synthetic resin include transparent synthetic resins such as polyolefin, polyester, polyacrylate, polycarbonate, and polyether ketone.

封止部材2は断面視下向きコ字状に形成されており、基板1上面のうち発光素子3が設けられている部分の外側の接着領域Rと、封止部材2側の接着領域である下端面Cとで貼り合わせられることによって、平板状の基板1と封止部材2との間で封止空間Kが形成される。電極5、10を含む発光素子3はこの封止空間Kに配置される。また、封止部材2のうち封止空間K側には乾燥剤11が設けられている。乾燥剤11により、封止空間Kに配置されている発光素子3の水分による劣化が抑制される。   The sealing member 2 is formed in a U-shape facing downward in cross-section, and is an adhesive region R outside the portion where the light emitting element 3 is provided on the upper surface of the substrate 1 and a lower adhesive region on the sealing member 2 side. By being bonded to the end face C, a sealing space K is formed between the flat substrate 1 and the sealing member 2. The light emitting element 3 including the electrodes 5 and 10 is disposed in the sealed space K. Further, a desiccant 11 is provided on the sealing space K side of the sealing member 2. Due to the desiccant 11, deterioration of the light emitting element 3 disposed in the sealed space K due to moisture is suppressed.

発光素子3は本発明に係る封止装置S及び封止方法に基づいて高い封止性で封止されるので、劣化を抑制される。したがって、有機EL表示装置Aは、高寿命で高品質な表示性能を発揮できる。   Since the light emitting element 3 is sealed with high sealing performance based on the sealing device S and the sealing method according to the present invention, deterioration is suppressed. Therefore, the organic EL display device A can exhibit high-quality display performance with a long lifetime.

次に、上記実施形態の有機EL表示装置Aを備えた電子機器の例について説明する。
図10(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図10(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の有機EL装置Aを用いた表示部を示している。
Next, an example of an electronic apparatus provided with the organic EL display device A of the above embodiment will be described.
FIG. 10A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 10A, reference numeral 1000 denotes a mobile phone body, and reference numeral 1001 denotes a display unit using the organic EL device A described above.

図10(b)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図10(b)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記の有機EL装置Aを用いた表示部を示している。
図10(c)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図10(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記の有機EL装置Aを用いた表示部を示している。
図10(a)〜(c)に示す電子機器は、上記実施の形態の有機EL表示装置Aを備えているので、薄型で高寿命の有機EL表示部を備えた電子機器を実現することができる。
FIG. 10B is a perspective view illustrating an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 10B, reference numeral 1100 denotes a watch body, and reference numeral 1101 denotes a display unit using the organic EL device A described above.
FIG. 10C is a perspective view showing an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 10C, reference numeral 1200 denotes an information processing apparatus, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing apparatus body, and reference numeral 1206 denotes a display unit using the organic EL device A described above.
Since the electronic devices shown in FIGS. 10A to 10C include the organic EL display device A of the above embodiment, it is possible to realize an electronic device including a thin and long-life organic EL display unit. it can.

なお、電子機器としては、前記の携帯電話などに限られることなく、種々の電子機器に適用することができる。例えば、ノート型コンピュータ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ(PC)及びエンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することができる。   Note that the electronic device is not limited to the above-described mobile phone and can be applied to various electronic devices. For example, notebook computers, liquid crystal projectors, multimedia-compatible personal computers (PCs) and engineering workstations (EWS), pagers, word processors, TVs, viewfinder type or monitor direct view type video tape recorders, electronic notebooks, electronic desks The present invention can be applied to electronic devices such as a computer, a car navigation device, a POS terminal, and a device having a touch panel.

なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上記実施形態では、発光素子3の発光が基板1を介して外面側に出射される形式の例を用いて説明したが、発光素子3の発光が基板1と逆側の陰極10側から封止部材2を介して出射される形式であっても適用可能である。この場合、封止部材2としては、光の取り出しが可能な透明あるいは半透明材料が用いられる。   For example, in the above-described embodiment, the light emission of the light emitting element 3 is described using an example of a form in which the light emission of the light emitting element 3 is emitted to the outer surface side through the substrate 1. Even if it is the form radiate | emitted through the sealing member 2, it is applicable. In this case, as the sealing member 2, a transparent or translucent material capable of extracting light is used.

本発明の封止装置の第1実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows 1st Embodiment of the sealing device of this invention. 保持装置に保持された封止基板の平面図である。It is a top view of the sealing substrate hold | maintained at the holding | maintenance apparatus. 第1実施形態に係る封止装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the sealing device which concerns on 1st Embodiment. 接着剤に含まれるスペーサ部材を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the spacer member contained in an adhesive agent. 本発明の封止装置の第2実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows 2nd Embodiment of the sealing device of this invention. 本発明の封止装置の第3実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows 3rd Embodiment of the sealing device of this invention. 本発明の封止装置の第4実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows 4th Embodiment of the sealing device of this invention. 本発明の封止装置の第5実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows 5th Embodiment of the sealing device of this invention. 本発明の表示装置の一実施形態を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows one Embodiment of the display apparatus of this invention. 有機EL表示装置を備えた電子機器の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the electronic device provided with the organic electroluminescence display.

符号の説明Explanation of symbols

1…素子基板、2…封止部材、3…発光素子、20…封止基板、21…接着剤
40…押圧装置、41…錘部材(押圧部)、45…アクチュエータ、
60…アライメント系、70…光照射装置、90…計測装置、S…封止装置、
A…有機EL表示装置、R…接着領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Element substrate, 2 ... Sealing member, 3 ... Light emitting element, 20 ... Sealing substrate, 21 ... Adhesive 40 ... Pressing device, 41 ... Weight member (pressing part), 45 ... Actuator,
60 ... Alignment system, 70 ... Light irradiation device, 90 ... Measuring device, S ... Sealing device,
A ... Organic EL display device, R ... Adhesion area

Claims (12)

複数の素子が設けられた素子基板と封止基板とを接着して前記素子を封止する封止装置において、
前記素子基板と前記封止基板とを対向させた状態で該素子基板及び封止基板のうちの一方を他方に対して押圧する複数の押圧部を備えた押圧装置を有し、
前記素子に応じた前記素子基板又は封止基板のいずれか一方の複数の所定位置のそれぞれを前記押圧部で押圧することを特徴とする封止装置。
In a sealing apparatus that seals the element by adhering an element substrate provided with a plurality of elements and a sealing substrate,
A pressing device comprising a plurality of pressing portions for pressing one of the element substrate and the sealing substrate against the other in a state where the element substrate and the sealing substrate are opposed to each other;
A sealing device, wherein each of a plurality of predetermined positions of either the element substrate or the sealing substrate corresponding to the element is pressed by the pressing portion.
前記押圧部は、前記素子基板及び封止基板のうち前記素子が設けられている位置に対応する複数の位置を押圧することを特徴とする請求項1記載の封止装置。   The sealing device according to claim 1, wherein the pressing unit presses a plurality of positions corresponding to positions where the elements are provided, of the element substrate and the sealing substrate. 前記素子基板及び前記封止基板のそれぞれは接着領域を有し、
前記押圧部は、前記素子基板及び封止基板のうち前記接着領域に対応する複数の位置を押圧することを特徴とする請求項1記載の封止装置。
Each of the element substrate and the sealing substrate has an adhesive region,
2. The sealing device according to claim 1, wherein the pressing portion presses a plurality of positions corresponding to the adhesion region among the element substrate and the sealing substrate.
前記素子基板の上に前記封止基板を配置し、前記押圧部は前記封止基板を下に向けて押圧することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の封止装置。   The sealing device according to claim 1, wherein the sealing substrate is disposed on the element substrate, and the pressing portion presses the sealing substrate downward. 前記押圧部は錘部材を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の封止装置。   The sealing device according to claim 1, wherein the pressing portion includes a weight member. 前記押圧装置は、前記押圧部の押圧力を可変とするアクチュエータを有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の封止装置。   The sealing device according to claim 1, wherein the pressing device includes an actuator that varies a pressing force of the pressing portion. 前記素子基板と前記封止基板との接着状況を計測する計測装置を有し、前記押圧装置は前記計測装置の計測結果に基づいて押圧条件を設定することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項記載の封止装置。   The measurement apparatus according to claim 1, further comprising: a measuring device that measures an adhesion state between the element substrate and the sealing substrate, wherein the pressing device sets a pressing condition based on a measurement result of the measuring device. The sealing device according to any one of claims. 前記素子基板と前記封止基板との位置関係を計測するアライメント系を備え、前記アライメント系の計測結果に基づいて前記素子基板と前記封止基板とを位置合わせして押圧することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の封止装置。   An alignment system for measuring a positional relationship between the element substrate and the sealing substrate is provided, and the element substrate and the sealing substrate are aligned and pressed based on a measurement result of the alignment system. The sealing apparatus as described in any one of Claims 1-7. 前記素子基板と前記封止基板とを接着する接着剤に光を照射する光照射装置を備え、
前記押圧部は、前記素子に対する前記光照射装置からの光を遮るマスクとして使われることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項記載の封止装置。
A light irradiation device for irradiating light to an adhesive that bonds the element substrate and the sealing substrate;
The sealing device according to claim 1, wherein the pressing portion is used as a mask that blocks light from the light irradiation device with respect to the element.
複数の素子が設けられた素子基板と封止基板とを接着して前記素子を封止する封止方法において、
前記素子基板と前記封止基板とを対向させた状態で該素子基板及び封止基板のうちの一方を他方に対して押圧する押圧工程を有し、
前記押圧工程は、前記素子に応じた前記素子基板又は封止基板のいずれか一方の複数の所定位置のそれぞれを押圧することを特徴とする封止方法。
In a sealing method for sealing an element by bonding an element substrate provided with a plurality of elements and a sealing substrate,
A pressing step of pressing one of the element substrate and the sealing substrate against the other in a state where the element substrate and the sealing substrate are opposed to each other;
The said pressing process presses each of several predetermined positions of any one of the said element substrate or sealing substrate according to the said element, The sealing method characterized by the above-mentioned.
請求項1〜請求項9のいずれか一項記載の封止装置で封止された素子を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising an element sealed by the sealing device according to claim 1. 請求項11記載の表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the display device according to claim 11.
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