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JP2005089636A - Prepreg for laminated sheet and laminated sheet - Google Patents

Prepreg for laminated sheet and laminated sheet Download PDF

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JP2005089636A
JP2005089636A JP2003326106A JP2003326106A JP2005089636A JP 2005089636 A JP2005089636 A JP 2005089636A JP 2003326106 A JP2003326106 A JP 2003326106A JP 2003326106 A JP2003326106 A JP 2003326106A JP 2005089636 A JP2005089636 A JP 2005089636A
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JP
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prepreg
carbon atoms
halogen atom
alkyl group
different
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Application number
JP2003326106A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshitoku Kondo
至徳 近藤
Mitsuru Nozaki
充 野崎
Seiji Yotsuya
誠司 四家
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a prepreg for a laminated sheet, having an excellent dielectric constant and dielectric loss tangent, and also having excellent moldability, heat resistance and the like; and to provide a metal-clad laminated sheet using the prepreg. <P>SOLUTION: The prepreg for the laminated sheet comprises a resin composition containing a vinyl compound having a specific structure as an essential component, and a base material. The metal-clad laminated sheet is obtained by using the prepreg. As a result, the prepreg for the laminated sheet and the metal-clad laminated sheet, having the low dielectric constant and the low dielectric loss tangent, and also having the good moldability, heat resistance and the like are obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、特定の構造を有するビニル化合物を使用する樹脂組成物を用いた積層板用プリプレグ、及び該プリプレグと金属箔積層板及び金属張積層板に関する。本発明から得られる金属張積層板は、低誘電率・低誘電正接であり、高周波用途に使用されるプリント配線板として有用な材料である。   The present invention relates to a prepreg for a laminate using a resin composition using a vinyl compound having a specific structure, and the prepreg, a metal foil laminate, and a metal-clad laminate. The metal-clad laminate obtained from the present invention has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and is a material useful as a printed wiring board used for high frequency applications.

近年、通信やコンピューター等の進歩に伴い高周波化が進んでおり、信号伝達速度の向上及び伝送ロスの低減化を目的として、プリント配線板に対して低誘電特性化が要求されている。この要求に対応するために、誘電特性に優れたふっ素樹脂やポリフェニレンエーテル等の熱可塑樹脂や、ポリフェニレンエ−テルにエポキシ樹脂、スチレンを主としたビニル化合物、シアネ−トエステル樹脂及びビスマレイミドトリアジン樹脂等の材料が提案されているが、誘電特性が良好な組成物は、融点や軟化点が高いことから成形に高温、高圧が必要であったり、成形性が十分でなかったり、硬化物が硬くて脆く、接着性、耐半田性に問題があり、更なる改善が望まれていた。ビニル化合物を使用する事例としては、ポリエ−テルイミドとビニル−ジビニル共重合体を使用して誘電特性の向上を図る手法(例えば特許文献1参照)が、ビニル−ジビニル共重合体を製造する際に、そのモノマ−であるスチレン・ジビニルベンゼンが揮発しやすく、組成が変化するということと、できあがったものが脆いという問題がある。また、ノボラック型芳香族炭化水素とホルムアルデヒド樹脂に中央にアルキレンエ−テル構造をもつ両末端ジビニル化合物を使用し、可撓性を持たせた組成物が提案されている(例えば特許文献2参照)が、誘電特性について不明である。
特開平5−156159号公報 特開平5−78552号公報
In recent years, with the advancement of communication and computers, the frequency has been increased, and the printed wiring board is required to have low dielectric properties for the purpose of improving the signal transmission speed and reducing the transmission loss. To meet this demand, thermoplastic resins such as fluororesins and polyphenylene ethers with excellent dielectric properties, epoxy resins on polyphenylene ether, vinyl compounds mainly composed of styrene, cyanate ester resins and bismaleimide triazine resins However, a composition with good dielectric properties has a high melting point and softening point, so that high temperature and high pressure are required for molding, moldability is insufficient, and a cured product is hard. It is brittle and has problems in adhesion and solder resistance, and further improvement has been desired. As an example of using a vinyl compound, a technique for improving dielectric properties using a polyetherimide and a vinyl-divinyl copolymer (see, for example, Patent Document 1) is a method for producing a vinyl-divinyl copolymer. The styrene divinylbenzene that is the monomer tends to volatilize and the composition changes, and the resulting product is brittle. Further, a composition in which a novolac type aromatic hydrocarbon and a formaldehyde resin are both made flexible by using a divinyl compound having an alkylene ether structure at the center has been proposed (see, for example, Patent Document 2). However, the dielectric properties are unknown.
JP-A-5-156159 Japanese Patent Laid-Open No. 5-78552

本発明の目的は、プリント配線板材料において、近年著しく高周波化している使用形態に応えるべく、要求特性の中で誘電率、誘電正接に優れ、さらに成形性、耐熱性等にも優れた積層板用プリプレグ、及びこれを用いた金属張積層板の提供である。   An object of the present invention is a laminated board that has excellent dielectric constant and dielectric loss tangent among required characteristics, as well as excellent moldability, heat resistance, etc., in order to respond to usage patterns that have been significantly increased in frequency in printed wiring board materials in recent years. Prepreg, and a metal-clad laminate using the same.

本発明は、特定の構造を有するビニル化合物を必須成分として用い、必要に応じて、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂を配合した樹脂組成物を用いることにより、誘電特性、成形性、耐熱性に優れる積層板用プリプレグ及び金属張積層板ことを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、一般式(1)で示される特定の構造を有するビニル化合物を必須成分とする樹脂組成物と基材からなる積層板用プリプレグ及び該プリプレグと金属箔からなる金属張積層板である。



(式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基またはフェニル基である。-(O-X-O)-は構造式(2)、構造式(3)で定義される1種類の構造または2種類以上の構造からなる。R8,R9,R10,R14,R15は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R11,R12,R13は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R16,R17,R22,R23は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R18,R19,R20,R21は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。Aは、炭素数20以下の直鎖状あるいは、分岐状あるいは、環状炭化水素である。-(Y-O)-は構造式(4)で定義される1種類の構造、または構造式(4)で定義される2種類以上の構造がランダムに配列したものである。R24,R25は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R26,R27は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。Zは、炭素数1以上の有機基であり、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含むこともある。a,bは、少なくともいずれか一方が0でない、0〜30の整数を示す。c,dは、0または1の整数を示す。)
The present invention uses a vinyl compound having a specific structure as an essential component, and if necessary, by using a resin composition containing a thermosetting resin or a thermoplastic resin, the dielectric properties, moldability, and heat resistance are improved. The present inventors have found that excellent prepregs for laminates and metal-clad laminates have been completed. That is, the present invention relates to a prepreg for a laminate comprising a resin composition having a vinyl compound having a specific structure represented by the general formula (1) and a base material, and a metal-clad laminate comprising the prepreg and a metal foil. It is.



(Wherein R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group or a phenyl group.-(OXO)- Consists of one structure or two or more structures defined by structural formula (2) and structural formula (3), R8, R9, R10, R14, R15 may be the same or different and may be a halogen atom or R 11, R 12 and R 13 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. R22 and R23 may be the same or different and are a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and R18, R19, R20, and R21 may be the same or different, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, or An alkyl group having 6 or less carbon atoms or a phenyl group, and A is 20 carbon atoms. The following linear, branched or cyclic hydrocarbons:-(YO)-is one type of structure defined by structural formula (4), or two or more types defined by structural formula (4) R24 and R25 may be the same or different, and may be a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and R26 and R27 may be the same or different. , A hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, Z is an organic group having 1 or more carbon atoms, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a halogen atom. a and b each represents an integer of 0 to 30 in which at least one of them is not 0. c and d represent an integer of 0 or 1.)

本発明の積層板用プリプレグ及び金属張積層板は低誘電率、低誘電正接であり、成形性、耐熱性が良好である。したがって、高周波用電気部品の絶縁材料に好適であり、高周波信号用配線基板用材料として好適である。   The prepreg for a laminate and the metal-clad laminate of the present invention have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and have good moldability and heat resistance. Therefore, it is suitable as an insulating material for high-frequency electrical components, and is suitable as a material for high-frequency signal wiring boards.

本発明の必須成分であるビニル化合物は、一般式(1)で表されるビニル化合物であれば、特に限定されるものではない。一般式(1)において、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基またはフェニル基である。-(O-X-O)-は構造式(2)、構造式(3)で定義される1種類の構造または2種類以上の構造からなる。R8,R9,R10,R14,R15は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R11,R12,R13は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R16,R17,R22,R23は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R18,R19,R20,R21は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。Aは、炭素数20以下の直鎖状あるいは、分岐状あるいは、環状炭化水素である。-(Y-O)-は構造式(4)で定義される1種類の構造、または構造式(4)で定義される2種類以上の構造がランダムに配列したものである。R24,R25は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R26,R27は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。Zは、炭素数1以上の有機基であり、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含むこともある。a,bは、少なくともいずれか一方が0でない、0〜30の整数を示す。c,dは、0または1の整数であり、特に、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7は水素原子、R8,R9,R10,R14,R15,R16,R17,R22,R23は炭素数3以下のアルキル基、R11,R12,R13,R18,R19,R20,R21は水素原子または炭素数3以下のアルキル基、Zはメチレン基、c、dは1であるビニル化合物が好適である。   The vinyl compound which is an essential component of the present invention is not particularly limited as long as it is a vinyl compound represented by the general formula (1). In the general formula (1), R1, R2, R3, R4, R5, R6, and R7 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, or a phenyl group. -(O-X-O)-consists of one type of structure or two or more types of structures defined by structural formula (2) and structural formula (3). R8, R9, R10, R14, and R15 may be the same or different and are a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. R11, R12, and R13 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. R16, R17, R22, and R23 may be the same or different and are a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. R18, R19, R20, and R21 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. A is a linear, branched or cyclic hydrocarbon having 20 or less carbon atoms. -(Y-O)-is one type of structure defined by structural formula (4) or two or more types of structures defined by structural formula (4) arranged at random. R24 and R25 may be the same or different and are a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. R26 and R27 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. Z is an organic group having 1 or more carbon atoms, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a halogen atom. a and b each represents an integer of 0 to 30, at least one of which is not 0. c and d are integers of 0 or 1, in particular, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 are hydrogen atoms, R8, R9, R10, R14, R15, R16, R17, R22, R23 are Preferred is an alkyl group having 3 or less carbon atoms, R11, R12, R13, R18, R19, R20, or R21 is a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms, Z is a methylene group, and c and d are 1 vinyl compounds. is there.

一般式(1)で示されるビニル化合物の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、特願2002-216724、特願2002-224937、特願2003-110687に記載の方法などで製造することができる。一般式(1)で示されるビニル化合物の数平均分子量は 500〜3,000の範囲が望ましい。数平均分子量が 3,000を超えると融点の上昇に伴い、溶剤に対しての溶解性が低下や反応性が低下し、数平均分子量が 500未満であると低誘電特性が発現しにくい傾向がある。   The method for producing the vinyl compound represented by the general formula (1) is not particularly limited. For example, it is produced by the method described in Japanese Patent Application Nos. 2002-216724, 2002-224937, 2003-110687, and the like. can do. The number average molecular weight of the vinyl compound represented by the general formula (1) is preferably in the range of 500 to 3,000. When the number average molecular weight exceeds 3,000, as the melting point increases, solubility in solvents and reactivity decrease, and when the number average molecular weight is less than 500, low dielectric properties tend to be hardly exhibited.

本発明に使用される樹脂組成物に使用する熱硬化性樹脂としては、プリント配線材料に使用される熱硬化性樹脂であれば、特に限定されるものではない。熱硬化性樹脂の代表的な例としては、エポキシ樹脂、シアン酸エステル樹脂、 ビスマレイミドーシアン酸エステル樹脂、マレイミド樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和基含有ポリフェニレンエーテル樹脂などが挙げられ、1種もしくは2種以上を適宜組み合わせて使用することも可能である。好適なものとしては、エポキシ樹脂、またはシアン酸エステル樹脂が挙げられる。本発明に使用される熱硬化性樹脂には、必要に応じて、熱硬化性樹脂の硬化剤、硬化促進剤を併用することも可能である。これらは周知であり、熱硬化性樹脂の硬化剤、硬化促進剤に一般に使用されるものであれば、特に限定されるものではない。   The thermosetting resin used in the resin composition used in the present invention is not particularly limited as long as it is a thermosetting resin used in printed wiring materials. Representative examples of thermosetting resins include epoxy resins, cyanate ester resins, bismaleimide-cyanate ester resins, maleimide resins, polyimide resins, unsaturated group-containing polyphenylene ether resins, and the like. It is also possible to use a combination of more than one species as appropriate. As a suitable thing, an epoxy resin or a cyanate ester resin is mentioned. The thermosetting resin used in the present invention can be used in combination with a thermosetting resin curing agent and a curing accelerator, if necessary. These are well known and are not particularly limited as long as they are generally used as a curing agent and a curing accelerator for thermosetting resins.

本発明に好適に使用されるエポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ、ビスフェノールF型エポキシ、ビスフェノールZ型エポキシ、ビフェノール・エポキシ、テトラメチルビフェノール・エポキシ、ヘキサメチルビフェノール・エポキシ、キシレンノボラック・エポキシ、ビフェニルノボラック・エポキシ、ジシクロペンタジエンノボラック・エポキシ、フェノールノボラック・エポキシ、クレゾールノボラック・エポキシ、あるいはこれらの臭素化された難燃性エポキシ樹脂などが例示され、単独または2種類以上適宜配合して使用することも可能である。   The epoxy resin suitably used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. Specifically, bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, bisphenol Z type epoxy, biphenol epoxy, tetramethyl biphenol epoxy, hexamethylbiphenol epoxy, xylene novolac epoxy, biphenyl novolac epoxy, dicyclopentadiene novolak -Epoxy, phenol novolac-epoxy, cresol novolac-epoxy, or brominated flame-retardant epoxy resins thereof are exemplified and can be used alone or in combination of two or more kinds.

本発明に好適に使用されるシアン酸エステル樹脂としては、1分子中に2個以上のシアネート基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。具体的には、1,3-または1, 4-ジシアネートベンゼン、1,3,5-トリシアネートベンゼン、1,3-、1,4-、1,6-、1,8-、2,6-または2,7-ジシアネートナフタレン、1,3、6-トリシアネートナフタレン、4,4’-ジシアネートビフェニル、ビス(4-シアネートフェニル)メタン、2,2-ビス(4-シアネートフェニル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-シアネートフェニル)プロパン、ビス(4-シアネートフェニル)エーテル、およびノボラックとハロゲン化シアンとの反応により得られるシアネート類などが例示され、1種もしくは2種以上を適宜組み合わせて使用することも可能である。   The cyanate ester resin suitably used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having two or more cyanate groups in one molecule. Specifically, 1,3- or 1,4-dicyanate benzene, 1,3,5-tricyanate benzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2, 6- or 2,7-dicyanate naphthalene, 1,3,6-tricyanate naphthalene, 4,4'-dicyanate biphenyl, bis (4-cyanatephenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatephenyl) Examples include propane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-cyanatephenyl) propane, bis (4-cyanatephenyl) ether, and cyanates obtained by the reaction of novolac and cyanogen halide. It is also possible to use seeds or a combination of two or more kinds as appropriate.

本発明に使用される樹脂組成物に使用する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカ−ボネ−ト、ポリフェニレンエ−テル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ABS樹脂、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリオレフィンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the thermoplastic resin used in the resin composition used in the present invention include polycarbonate, polyphenylene ether, acrylic resin, methacrylic resin, ABS resin, polysulfone, polystyrene, and polyolefin. However, it is not limited to these.

本発明に使用される一般式(1)で示されるビニル化合物を必須成分とする樹脂組成物は、硬化速度を速くして作業性、経済性などを改善する目的で熱硬化触媒を添加することができる。熱硬化触媒としては、ビニル基の重合を開始しうるカチオンまたはラジカル活性種を、熱または光によって生成するものが使用できる。例えば、カチオン重合開始剤としては、BF4、PF6、AsF6、SbF6を対アニオンとするジアリルヨードニウム塩、トリアリルスルホニウム塩および脂肪族スルホニウム塩が挙げられ、ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチル等のベンゾイン系化合物、アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン系化合物、チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、4,4’-ジアジドカルコン、2,6-ビス(4’-アジドベンザル)シクロヘキサノン、4,4’-ジアジドベンゾフェノン等のビスアジド化合物、アゾビスイソブチロニトリル、2,2-アゾビスプロパン、ヒドラゾン等のアゾ化合物、2,5-ジメチル-2.5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2.5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-3、ジクミルパーオキサイド等の有機過酸化物等が挙げられる。これらは単独または2種類以上混合して用いることができる。   In the resin composition containing the vinyl compound represented by the general formula (1) used in the present invention as an essential component, a thermosetting catalyst is added for the purpose of improving the workability and economy by increasing the curing rate. Can do. As the thermosetting catalyst, one that generates a cation or radical active species capable of initiating polymerization of a vinyl group by heat or light can be used. For example, the cationic polymerization initiator includes diallyl iodonium salt, triallyl sulfonium salt and aliphatic sulfonium salt having BF4, PF6, AsF6, SbF6 as a counter anion, and the radical polymerization initiator includes benzoin, benzoin methyl, etc. Benzoin compounds, acetophenone, acetophenone compounds such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, thioxanthone compounds such as thioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone, 4,4′-diazidochalcone, 2,6- Bis (4'-azidobenzal) cyclohexanone, bisazide compounds such as 4,4'-diazidobenzophenone, azo compounds such as azobisisobutyronitrile, 2,2-azobispropane, hydrazone, 2,5-dimethyl-2.5 -Di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2.5-di (t-butylperoxy) hexane Down -3, organic peroxides such as dicumyl peroxide. These can be used alone or in admixture of two or more.

本発明に使用される樹脂組成物には、公知の無機或いは有機の充填剤、染料、顔料、増粘剤、滑剤、消泡剤、カップリング剤、光増感剤、紫外線吸収剤、難燃剤などの各種添加剤を所望により添加することができる。   The resin composition used in the present invention includes known inorganic or organic fillers, dyes, pigments, thickeners, lubricants, antifoaming agents, coupling agents, photosensitizers, ultraviolet absorbers, flame retardants. Various additives such as can be added as desired.

本発明において必要に応じて使用する有機溶剤としては、樹脂組成物と相溶するものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられ、単独もしくは2種以上の溶剤を適宜混合して使用することが可能である。   The organic solvent used as necessary in the present invention is not particularly limited as long as it is compatible with the resin composition. Specific examples include acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol dimethyl ether, toluene, xylene, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, and the like, or a mixture of two or more solvents is used as appropriate. It is possible.

本発明において使用される基材は、各種のプリント配線板材料に用いられている周知のものを使用することが可能である。具体的には、Eガラス,Dガラス,Sガラス、NEガラス、クォーツなどのガラス繊維からなる織布及び不織布、セラミックで代表される無機物からなる織布及び不織布、多孔質体、シートなどが例示され、目的とする用途や性能により適宜選択され、必要により、単独もしくは2種類以上を組み合わせて使用することも可能である。基材の厚みについては、特に制限はされるものではないが、通常は20〜200μm程度を使用する。 またシランカップリング剤などで表面処理したものや物理的に開繊処理を施したものは、吸湿耐熱性の面から好適に使用できる。   As the base material used in the present invention, well-known materials used for various printed wiring board materials can be used. Specific examples include woven and non-woven fabrics made of glass fibers such as E glass, D glass, S glass, NE glass, and quartz, woven and non-woven fabrics made of inorganic materials typified by ceramics, porous materials, and sheets. It is selected as appropriate according to the intended use and performance, and can be used alone or in combination of two or more if necessary. The thickness of the substrate is not particularly limited, but usually about 20 to 200 μm is used. In addition, those surface-treated with a silane coupling agent or the like and those subjected to physical opening treatment can be suitably used from the viewpoint of moisture absorption heat resistance.

本発明の積層板用プリプレグの製造方法は、一般式(1)で示されるビニル化合物を必須成分とする樹脂組成物と基材を組み合わせ、プリプレグが得られるものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、上記樹脂組成物を、基材に含浸又は塗布させた後、100〜200℃の乾燥機中で、1〜30分加熱させる方法などにより、Bステージ化して、プリプレグを製造する方法などが例示される。基材に対する樹脂組成物の付着量は、プリプレグの樹脂量で30〜90重量%の範囲である。   The manufacturing method of the prepreg for laminated boards of this invention will be specifically limited if the prepreg is obtained by combining the resin composition which has the vinyl compound shown by General formula (1) as an essential component, and a base material. is not. Specifically, after impregnating or applying the above resin composition to a substrate, it is B-staged by a method of heating in a dryer at 100 to 200 ° C. for 1 to 30 minutes to produce a prepreg. Examples are methods. The adhesion amount of the resin composition to the substrate is in the range of 30 to 90% by weight in terms of the resin amount of the prepreg.

本発明の好ましい態様である金属張積層板は、前述の積層板用プリプレグを用いて積層成形したものである。具体的には前述のプリプレグを適宜、1枚ないし複数枚以上を重ね、所望によりその片面もしくは両面に、銅やアルミニウムなどの金属箔を配置した構成で、積層成形することにより製造する。使用する金属箔は、プリント配線板材料に用いられるものであれば特に限定されるものではない。   The metal-clad laminate which is a preferred embodiment of the present invention is a laminate formed by using the above-described laminate prepreg. Specifically, the above-described prepreg is suitably produced by laminating one or more of the prepregs and laminating with a structure in which a metal foil such as copper or aluminum is disposed on one or both sides as desired. The metal foil to be used is not particularly limited as long as it is used for a printed wiring board material.

金属張積層板の成形条件としては、通常のプリント配線板用積層板及び多層板の手法が適用できる。例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機などを使用し、温度:100〜300℃、圧力:0.2〜10MPa、加熱時間:0.1〜5時間の範囲が一般的である。また本発明のプリプレグと、別途作成した内層用の配線板を組み合わせ、積層成形することにより、多層板とすることも可能である。   As a molding condition of the metal-clad laminate, a general method for laminates for printed wiring boards and multilayer boards can be applied. For example, a multi-stage press, a multi-stage vacuum press, continuous molding, an autoclave molding machine, etc. are used, and temperature: 100 to 300 ° C., pressure: 0.2 to 10 MPa, heating time: 0.1 to 5 hours are common. is there. Moreover, it is also possible to make a multilayer board by combining the prepreg of the present invention and a separately prepared wiring board for an inner layer, and laminate molding.

以下に、実施例および比較例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、「部」および「%」は重量部、重量%をあらわす。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. “Parts” and “%” represent parts by weight and% by weight.

合成例1
(2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体の合成)
攪拌装置、温度計、空気導入管、じゃま板のついた12Lの縦長反応器にCuBr2 3.88g(17.4mmol)、N,N’-ジ-t-ブチルエチレンジアミン 0.75g(4.4mmol)、n-ブチルジメチルアミン 28.04g(277.6mmol)、トルエン 2,600gを仕込み、反応温度 40℃にて攪拌を行い、あらかじめ 2,300gのメタノールに溶解させた2,2’-,3,3’-,5,5’-ヘキサメチル-(1,1’-ビフェノール)-4,4’-ジオール 129.32g(0.48mol)、2,6-ジメチルフェノール 292.19g(2.40mol)、N,N’-ジ-t-ブチルエチレンジアミン 0.51g(2.9mmol)、n-ブチルジメチルアミン10.90g(108.0mmol)の混合溶液(構造式(2)で表される2価のフェノール体と構造式(3)で表される1価のフェノール体のモル比率1:5)を、窒素と空気とを混合して酸素濃度 8%に調整した混合ガスを 5.2 L/minの流速でバブリングを行いながら 230分かけて滴下し、攪拌を行った。滴下終了後、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 19.89g(52.3mmol)を溶解した水 1,500gを加え、反応を停止した。水層と有機層を分液し、有機層を 1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレーターで 50wt%に濃縮し、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体(樹脂「A」)のトルエン溶液を 833.40g得た。樹脂「A」の数平均分子量は 930、重量平均分子量は 1,460、水酸基当量が 465であった。
Synthesis example 1
(Synthesis of bifunctional phenylene ether oligomer)
CuBr 2 3.88g (17.4mmol), N, N'-di-t-butylethylenediamine 0.75g (4.4mmol), n-, in a 12L vertical reactor with stirrer, thermometer, air inlet tube and baffle plate Butyldimethylamine 28.04 g (277.6 mmol) and toluene 2,600 g were charged, stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and dissolved in 2,300 g of methanol in advance, 2,2 ′-, 3,3 ′-, 5,5 '-Hexamethyl- (1,1'-biphenol) -4,4'-diol 129.32g (0.48mol), 2,6-dimethylphenol 292.19g (2.40mol), N, N'-di-t-butylethylenediamine A mixed solution of 0.51 g (2.9 mmol) and 10.90 g (108.0 mmol) of n-butyldimethylamine (a divalent phenol compound represented by Structural Formula (2) and a monovalent phenol represented by Structural Formula (3) A mixture gas prepared by mixing nitrogen and air to adjust the oxygen concentration to 8% was added dropwise over 230 minutes while bubbling at a flow rate of 5.2 L / min. . After completion of the dropwise addition, 1,500 g of water in which 19.89 g (52.3 mmol) of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium was dissolved was added to stop the reaction. The aqueous layer and the organic layer were separated, and the organic layer was washed with a 1N hydrochloric acid aqueous solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated to 50 wt% with an evaporator to obtain 833.40 g of a toluene solution of a bifunctional phenylene ether oligomer (resin “A”). Resin “A” had a number average molecular weight of 930, a weight average molecular weight of 1,460, and a hydroxyl group equivalent of 465.

(ビニル化合物の合成)
攪拌装置、温度計、還流管を備えた反応器に樹脂「A」のトルエン溶液 833.40g、ビニルベンジルクロライド(商品名CMS-P;セイミケミカル(株)製)160.80g、塩化メチレン 1600g、ベンジルジメチルアミン 12.95g、純水 420g、30.5wt% NaOH溶液 175.9gを仕込み、反応温度 40℃で攪拌を行った。24時間攪拌を行った後、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレーターで濃縮し、メタノール中へ滴下して固形化を行い、濾過により固体を回収、真空乾燥して樹脂「B」501.43gを得た。樹脂「B」の数平均分子量は 1165、重量平均分子量は 1630であった。
(Synthesis of vinyl compounds)
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux tube, 833.40 g of toluene solution of resin “A”, vinylbenzyl chloride (trade name CMS-P; manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.) 160.80 g, methylene chloride 1600 g, benzyldimethyl 12.95 g of amine, 420 g of pure water and 175.9 g of 30.5 wt% NaOH solution were charged, and the mixture was stirred at a reaction temperature of 40 ° C. After stirring for 24 hours, the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated with an evaporator, dropped into methanol for solidification, and the solid was collected by filtration and vacuum dried to obtain 501.43 g of Resin “B”. The number average molecular weight of Resin “B” was 1165, and the weight average molecular weight was 1630.

合成例2
(2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体の合成)
攪拌装置、温度計、空気導入管、じゃま板のついた12Lの縦長反応器にCuCl 13.1g(0.12mol)、ジ-n-ブチルアミン 707.0g(5.5mol)、メチルエチルケトン 4000gを仕込み、反応温度 40℃にて攪拌を行い、あらかじめ 8000gのメチルエチルケトンに溶解させた 4,4’-メチレンビス(2,6-ジメチルフェノール)410.2g(1.6mol)と 2,6-ジメチルフェノール 586.5g(4.8mol)を2 L/minの空気のバブリングを続けながら撹拌を行った。これに、エチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。その後、1Nの塩酸水溶液で3回洗浄を行った後、イオン交換水で洗浄を行った。得られた溶液をエバポレーターで濃縮し、さらに減圧乾燥を行い、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体(樹脂「C」)を 946.6g得た。樹脂「C」の数平均分子量は 801、重量平均分子量は 1081、水酸基当量が 455であった。
Synthesis example 2
(Synthesis of bifunctional phenylene ether oligomer)
CuL 13.1g (0.12mol), Di-n-butylamine 707.0g (5.5mol), and methyl ethyl ketone 4000g were charged into a 12L vertical reactor equipped with a stirrer, thermometer, air inlet tube and baffle, and the reaction temperature was 40 ℃. 2L of 4,4'-methylenebis (2,6-dimethylphenol) 410.2g (1.6mol) and 2,6-dimethylphenol 586.5g (4.8mol) dissolved in 8000g of methyl ethyl ketone in advance Stirring was continued while bubbling air at / min. Ethylenediaminetetraacetic acid dihydrogen disodium aqueous solution was added to this, and reaction was stopped. Then, after washing | cleaning 3 times with 1N hydrochloric acid aqueous solution, it wash | cleaned with ion-exchange water. The obtained solution was concentrated with an evaporator and further dried under reduced pressure to obtain 946.6 g of a bifunctional phenylene ether oligomer (resin “C”). Resin “C” had a number average molecular weight of 801, a weight average molecular weight of 1081, and a hydroxyl group equivalent of 455.

(ビニル化合物の合成)
攪拌装置、温度計、還流管を備えた反応器に樹脂「C」480.0g、ビニルベンジルクロライド(商品名CMS-P;セイミケミカル(株)製)260.2g、テトラヒドロフラン 2000g、炭酸カリウム 240.1g、18-クラウン-6-エーテル 60.0gを仕込み、反応温度 30℃で攪拌を行った。6時間攪拌を行った後、エバポレーターで濃縮し、トルエン 2000gで希釈、水洗を行った。有機層を濃縮しメタノール中へ滴下して固形化を行い、濾過により固体を回収、真空乾燥して樹脂「D」392.2gを得た。樹脂「D」の数平均分子量は 988、重量平均分子量は 1420であった。
(Synthesis of vinyl compounds)
In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux tube, 480.0 g of resin “C”, vinylbenzyl chloride (trade name CMS-P; manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.) 260.2 g, tetrahydrofuran 2000 g, potassium carbonate 240.1 g, 18 -60.0 g of crown-6-ether was charged and stirred at a reaction temperature of 30 ° C. After stirring for 6 hours, the mixture was concentrated with an evaporator, diluted with 2000 g of toluene, and washed with water. The organic layer was concentrated and dropped into methanol for solidification, and the solid was collected by filtration and vacuum dried to obtain 392.2 g of Resin “D”. The number average molecular weight of Resin “D” was 988, and the weight average molecular weight was 1420.

実施例1,2
合成例1で得られた樹脂「B」,「D」をそれぞれメチルエチルケトンに溶解し、樹脂分 60%となるように調整した。 積層板用ガラス(Eガラス、坪量:110g/m2、日東紡製)を個々のワニスに浸し、樹脂を含浸させた後、160℃で3分間乾燥させて、タック性のない、170℃でのゲルタイム:120〜150秒の「プリプレグB」,「プリプレグD」を得た。次に、「プリプレグB」,「プリプレグD」を各々4枚ずつ重ね、その上下面に 12μmの電解銅箔を配置し、温度 200℃、圧力2MPaの条件で2時間プレスを行い、0.4mm厚の両面銅張積層板を各々作成した。また、両面にパターニングしたコア材(銅箔厚み 35μm)の両面に、「プリプレグB」,「プリプレグD」を各々1枚ずつ配置し、さらにその両面に 12μmの電解銅箔を配置し、温度 200℃、圧力2MPaの条件で2時間プレスを行い、4層板を各々作成した。この両面銅張積層板の特性、並びに4層板の成形性の評価結果を表―2に示した。
Examples 1 and 2
Resins “B” and “D” obtained in Synthesis Example 1 were each dissolved in methyl ethyl ketone and adjusted so that the resin content was 60%. Glass for laminates (E glass, basis weight: 110 g / m 2 , manufactured by Nittobo) is immersed in individual varnishes, impregnated with resin, dried at 160 ° C. for 3 minutes, and has no tack property, 170 ° C. Gel time: 120 to 150 seconds of “prepreg B” and “prepreg D” were obtained. Next, 4 pieces of “prepreg B” and “prepreg D” are stacked, 12μm electrolytic copper foil is placed on the upper and lower surfaces, and pressed for 2 hours under the conditions of temperature 200 ° C and pressure 2MPa. Each double-sided copper-clad laminate was prepared. In addition, “prepreg B” and “prepreg D” are arranged on both sides of the core material (copper foil thickness 35 μm) patterned on both sides, and 12 μm electrolytic copper foil is further arranged on both sides. Pressing was performed for 2 hours under the conditions of ° C. and a pressure of 2 MPa to prepare four-layer plates. The characteristics of this double-sided copper clad laminate and the evaluation results of the formability of the four-layer board are shown in Table 2.

実施例3〜6
表−1に示す配合比率で、樹脂分 60%となるように調整しワニスとし、表−1に示す基材にワニスに浸し、樹脂を含浸させた後、160℃で3分間乾燥させプリプレグを得た。このプリプレグを各々4枚ずつ重ね、その上下面に 12μmの電解銅箔を配置し、温度 200℃、圧力2MPaの条件で2時間プレスを行い、0.4mm厚の両面銅張積層板を作成した。また、両面にパターニングしたコア材(銅箔厚み35μm)の両面にプリプレグを各々1枚ずつ配置し、さらにその両面に 18μmの電解銅箔を配置し、温度 200℃、圧力2MPaの条件で2時間プレスを行い、4層板を作成した。この両面銅張積層板の特性、並びに4層板の成形性の評価結果を表―2に示した。
Examples 3-6
The blending ratio shown in Table-1 is adjusted so that the resin content is 60% to make a varnish, immersed in the varnish in the base material shown in Table-1, impregnated with the resin, and then dried at 160 ° C. for 3 minutes to prepare the prepreg. Obtained. Four prepregs were stacked, 12 μm electrolytic copper foils were placed on the upper and lower surfaces, and pressed for 2 hours under the conditions of a temperature of 200 ° C. and a pressure of 2 MPa to produce a 0.4 mm thick double-sided copper-clad laminate. Also, one prepreg is placed on each side of the core material (copper foil thickness 35μm) patterned on both sides, and further 18μm electrolytic copper foil is placed on both sides, and the temperature is 200 ℃ and the pressure is 2MPa for 2 hours. A four-layer board was produced by pressing. The characteristics of this double-sided copper clad laminate and the evaluation results of the formability of the four-layer board are shown in Table 2.

比較例1,2
表−1に示す配合比率で、樹脂分60%となるように調整しワニスとした。基材をワニスに浸し、樹脂を含浸させた後、160℃で3分間乾燥させプリプレグを得た。このプリプレグを4枚重ね、12μmの電解銅箔を両面に配置し、温度 200℃、圧力2MPaの条件で2時間プレスを行い、0.4mm厚の両面銅張積層板を作成した。また、両面にパターニングしたコア材(銅箔厚み35μm)の両面にプリプレグを各々1枚ずつ配置し、さらにその両面に 18μmの電解銅箔を配置し、温度 200℃、圧力2MPaの条件で2時間プレスを行い、4層板を作成した。この両面銅張積層板の特性、並びに4層板の成形性の評価結果を表―2に示した。
(使用原料)
BT2110:ビスマレイミドトリアジンプレポリマ−(三菱ガス化学製)
FR53:臭素化ポリカ−ボネ−ト(三菱ガス化学製)
エピクロン153:ビスフェノ−ルA型臭素化エポキシ樹脂(大日本インキ製)
PPE:ポリフェニレンエ−テル(三菱ガス化学製)
E:Eガラスクロス(坪量:110 g/m2、日東紡製)
NE:NEガラスクロス(坪量:110 g/m2、日東紡製)
D:Dガラスクロス(坪量:110 g/m2、有沢製作所製)
銅箔:3EC-III (三井金属鉱業製)
(測定条件)
誘電率・誘電正接:空洞共振摂動法により測定。(測定周波数 1GHz)
耐熱性:試験片を沸騰水に1時間浸漬後、260℃の半田浴に30秒浸漬し外観を目視で判定。(○:膨れなし △:小さな膨れあり ×:大きな膨れあり)
成形性:4層板の内層パターンの埋め込み性を目視で判定。(○:ボイドなし △:小さなボイドあり ×:大きなボイドあり)
Comparative Examples 1 and 2
The blending ratio shown in Table 1 was adjusted so that the resin content would be 60% to obtain a varnish. The substrate was immersed in a varnish, impregnated with resin, and then dried at 160 ° C. for 3 minutes to obtain a prepreg. Four prepregs were stacked, 12 μm electrolytic copper foil was placed on both sides, and pressed for 2 hours under the conditions of a temperature of 200 ° C. and a pressure of 2 MPa to prepare a 0.4 mm thick double-sided copper-clad laminate. Also, one prepreg is placed on each side of the core material (copper foil thickness 35μm) patterned on both sides, and 18μm electrolytic copper foil is placed on both sides, and the temperature is 200 ℃ and the pressure is 2MPa for 2 hours. A four-layer board was produced by pressing. The characteristics of this double-sided copper-clad laminate and the evaluation results of the formability of the four-layer board are shown in Table 2.
(Raw material)
BT2110: Bismaleimide triazine prepolymer (Mitsubishi Gas Chemical)
FR53: Brominated polycarbonate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical)
Epicron 153: Bisphenol A type brominated epoxy resin (Dainippon Ink)
PPE: Polyphenylene ether (Mitsubishi Gas Chemical)
E: E glass cloth (basis weight: 110 g / m 2 , manufactured by Nittobo)
NE: NE glass cloth (basis weight: 110 g / m 2 , manufactured by Nittobo)
D: D glass cloth (basis weight: 110 g / m 2 , manufactured by Arisawa Seisakusho)
Copper foil: 3EC-III (Mitsui Metal Mining)
(Measurement condition)
Dielectric constant / dielectric loss tangent: Measured by cavity resonance perturbation method. (Measurement frequency 1GHz)
Heat resistance: The test piece is immersed in boiling water for 1 hour, then immersed in a solder bath at 260 ° C for 30 seconds, and the appearance is visually determined. (○: No bulging △: Small bulge ×: Large bulge)
Formability: The embedding property of the inner layer pattern of the four-layer board is visually determined. (○: No void △: Small void ×: Large void)

Claims (3)

一般式(1)で示されるビニル化合物を必須成分とする樹脂組成物と基材からなる積層板用プリプレグ。



(式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基またはフェニル基である。-(O-X-O)-は構造式(2)、構造式(3)で定義される1種類の構造または2種類以上の構造からなる。R8,R9,R10,R14,R15は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R11,R12,R13は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R16,R17,R22,R23は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R18,R19,R20,R21は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。Aは、炭素数20以下の直鎖状あるいは、分岐状あるいは、環状炭化水素である。-(Y-O)-は構造式(4)で定義される1種類の構造、または構造式(4)で定義される2種類以上の構造がランダムに配列したものである。R24,R25は、同一または異なってもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。R26,R27は、同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基またはフェニル基である。Zは、炭素数1以上の有機基であり、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子を含むこともある。a,bは、少なくともいずれか一方が0でない、0〜30の整数を示す。c,dは、0または1の整数を示す。)
A prepreg for a laminate comprising a resin composition containing a vinyl compound represented by the general formula (1) as an essential component and a substrate.



(Wherein R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group or a phenyl group.-(OXO)- Consists of one structure or two or more structures defined by structural formula (2) and structural formula (3), R8, R9, R10, R14, R15 may be the same or different and may be a halogen atom or R 11, R 12 and R 13 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. R22 and R23 may be the same or different and are a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and R18, R19, R20, and R21 may be the same or different, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, or An alkyl group having 6 or less carbon atoms or a phenyl group, and A is 20 carbon atoms. The following linear, branched or cyclic hydrocarbons:-(YO)-is one type of structure defined by structural formula (4), or two or more types defined by structural formula (4) R24 and R25 may be the same or different, and may be a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and R26 and R27 may be the same or different. , A hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, Z is an organic group having 1 or more carbon atoms, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a halogen atom. a and b each represents an integer of 0 to 30 in which at least one of them is not 0. c and d represent an integer of 0 or 1.)
上記樹脂組成物が熱硬化性樹脂、及び/又は熱可塑性樹脂である請求項1記載の積層板用プリプレグ。 The prepreg for a laminated board according to claim 1, wherein the resin composition is a thermosetting resin and / or a thermoplastic resin. 請求項1又は2に記載の積層板用プリプレグと金属箔からなる金属張積層板。 A metal-clad laminate comprising the laminate prepreg according to claim 1 or 2 and a metal foil.
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