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JP2004310040A - Peripheral structure of liquid crystal panel - Google Patents

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JP2004310040A JP2003398606A JP2003398606A JP2004310040A JP 2004310040 A JP2004310040 A JP 2004310040A JP 2003398606 A JP2003398606 A JP 2003398606A JP 2003398606 A JP2003398606 A JP 2003398606A JP 2004310040 A JP2004310040 A JP 2004310040A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the conventional problem wherein liquid crystal is damaged owing to setting-incomplete sealing. <P>SOLUTION: In at least a partial seal area, an array material is replaced with a transparent material. A seal brought into contact with liquid crystal can, therefore, be completely set with ultraviolet rays without being impeded by a light blocking film nor conductive film. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶パネルの周辺構造に関する。   The present invention relates to a peripheral structure of a liquid crystal panel.

液晶は、光軸方向と分子の長軸方向とが一致すると共に流動性を有することから、僅かな力で液晶の並び方が変化する。例えば、一般的なネマティック(Nematic)液晶分子は、電場によって捩じれ易い。偏光フィルタ(polarizer)で偏光されるバックライトモジュールからの光が液晶を通過するとき、光の偏光方向は、液晶(分子)の並び方向に応じて変化する。偏光子、光、偏光方向のいずれかが異なれば、透過率は異なってくる。従って、液晶ディスプレイは、通常2枚の偏光フィルタで挟まれた液晶に電圧をかけて各ピクセルの透過率を制御することによって各ピクセルの明るさを決定する。   Since the liquid crystal has the same optical axis direction as the major axis direction of the molecule and has fluidity, the arrangement of the liquid crystal changes with a slight force. For example, general nematic liquid crystal molecules are easily twisted by an electric field. When light from a backlight module, which is polarized by a polarizing filter (polarizer), passes through a liquid crystal, the polarization direction of the light changes according to the alignment direction of the liquid crystal (molecules). If any of the polarizer, light, and polarization direction is different, the transmittance will be different. Therefore, a liquid crystal display determines the brightness of each pixel by controlling the transmittance of each pixel by applying a voltage to the liquid crystal usually sandwiched between two polarizing filters.

更に、光の三原色であるR(赤)、G(緑)、B(青)の3種類のフィルタを用いて、赤・緑・青の各ドットを形成し、その組合せで様々な色を表現するので、液晶ディスプレイではカラー画像、特に、本来の色(カラー)から成るカラー画像を表示・表現できる。   Furthermore, the three primary colors of light, R (red), G (green), and B (blue), are used to form red, green, and blue dots, and various colors are expressed by combining them. Therefore, a liquid crystal display can display and express a color image, particularly, a color image composed of original colors.

液晶は流動性を有するので、シール材によって接合される2つのガラス基板から構成されるセルの中に注入して固定される。電場を形成して、液晶分子の並び方向を制御するために、ガラス基板には、トランジスタや電極やワイヤ等が配設される。上記偏光フィルタもガラス基板上に形成される。   Since the liquid crystal has fluidity, it is injected and fixed in a cell composed of two glass substrates joined by a sealant. Transistors, electrodes, wires, and the like are provided on a glass substrate in order to form an electric field and control the direction in which liquid crystal molecules are arranged. The polarizing filter is also formed on a glass substrate.

従来の液晶注入は、真空中で液晶を注入する次のようなプロセスから成る。即ち、先ず、2枚のガラス基板がシース剤で貼り合わされてセルが形成される。セルの或る辺部分には注入口が形成される。セルは、真空チャンバに送られる。液晶に組み合わされた2枚のガラス基板の注入口を閉じ、その後大気圧に戻す。2枚のガラス基板内とチャンバ内との間の圧力差のために、液晶が注入口を通って内部に入り込む。そして、内部が満たされると、この注入口は封止される。しかるに、この液晶注入プロセスでは、液晶注入に要する時間が長いという問題がある。処理時間も、液晶パネルの大型化やセルギャップ(cell gap)の減少によって長くなり易い。液晶ディスプレイの大型化傾向にある現状では、この液晶注入プロセスは時間費用を浪費するものであって、液晶パネルの大型化のために時間費用は増大する。   Conventional liquid crystal injection involves the following process of injecting liquid crystal in a vacuum. That is, first, two glass substrates are bonded with a sheath agent to form a cell. An inlet is formed on a certain side of the cell. The cell is sent to a vacuum chamber. The inlets of the two glass substrates combined with the liquid crystal are closed, and then returned to the atmospheric pressure. Due to the pressure difference between the two glass substrates and the chamber, the liquid crystal enters through the inlet. Then, when the inside is filled, the inlet is sealed. However, this liquid crystal injection process has a problem that the time required for liquid crystal injection is long. The processing time also tends to be longer due to an increase in the size of the liquid crystal panel and a decrease in the cell gap. In the current situation where the size of the liquid crystal display tends to increase, the liquid crystal injection process wastes time cost, and the time cost increases due to the enlargement of the liquid crystal panel.

近時、新技術として、液晶滴下法(One-Drop Fill法)がある。これによれば、液晶注入時間を効果的に短縮できる。液晶滴下法においては、ガラス基板を張り合わせる前に液晶滴下装置で液晶滴下のスピードを制御して、下側のガラスに適当な液晶材をたらし(drop)、真空中で上側のガラスを被せて張り合わせ、次いで、シールを圧縮して紫外線硬化(curing)させることによって、セル工程が完了する。液晶注入工程で液晶滴下法を採用した場合、封止ステップが省略でき、工程数が減少すると共に、液晶注入プロセス時間を数時間以内にでき、大幅に時間コストを低減できる。液晶滴下法には、このような長所がある。   Recently, a new technology is a liquid crystal dropping method (One-Drop Fill method). According to this, the liquid crystal injection time can be effectively reduced. In the liquid crystal dropping method, an appropriate liquid crystal material is dropped on the lower glass by controlling the liquid crystal dropping speed with a liquid crystal dropping device before bonding the glass substrates, and the upper glass is covered in a vacuum. The cell process is completed by compressing the seal and ultraviolet curing. When the liquid crystal dropping method is adopted in the liquid crystal injection step, the sealing step can be omitted, the number of steps can be reduced, and the liquid crystal injection process time can be within several hours, so that the time cost can be greatly reduced. The liquid crystal dropping method has such advantages.

ところで、液晶製造プロセスでは、液晶を直接に滴下する前に、ガラス基板を組み合わせ、液晶を制限するために、高粘着性のシールをガラス基板に塗布し、ガラス基板を組み合わせた後、紫外線でシールを硬化させる。   By the way, in the liquid crystal manufacturing process, before the liquid crystal is directly dropped, a glass substrate is combined, a highly adhesive seal is applied to the glass substrate in order to restrict the liquid crystal, and after the glass substrates are combined, the glass substrate is sealed with ultraviolet light. To cure.

図3に示すように、通常の液晶パネル10は、カラーフィルタ(CF)ガラス基板100及び薄膜トランジスタ(TFT)ガラス基板120を有し、カラーフィルタガラス基板100上には、カラーフィルタ(図示せず)と遮光膜(black matrix)140とが設けられ、トランジスタガラス基板120上には、トランジスタ(図示せず)や伝導膜(metal conducting layer)200等が設けられる。遮光膜140も伝導膜200も不透明な材料である。このため、紫外線300は、カラーフィルタガラス基板100側とトランジスタガラス基板120側のいずれによっても遮断される。これにより、シール160の硬化不全という問題が起き得る。液晶220が硬化不全のシール160と接触すると、シール材内のエポキシ樹脂(epoxy resin)等の重合体(polymer)或いは単量体(monomer)が拡散して液晶220に入り込み、液晶220が汚染され、その結果、液晶220の異常制御のために液晶パネルが損傷する虞れがある。   As shown in FIG. 3, the ordinary liquid crystal panel 10 has a color filter (CF) glass substrate 100 and a thin film transistor (TFT) glass substrate 120, and a color filter (not shown) is provided on the color filter glass substrate 100. And a light shielding film (black matrix) 140. A transistor (not shown), a conductive film (metal conducting layer) 200, and the like are provided on the transistor glass substrate 120. Both the light shielding film 140 and the conductive film 200 are opaque materials. Therefore, the ultraviolet light 300 is blocked by both the color filter glass substrate 100 and the transistor glass substrate 120. This may cause a problem of insufficient curing of the seal 160. When the liquid crystal 220 contacts the poorly cured seal 160, a polymer or monomer such as an epoxy resin in the sealing material diffuses and enters the liquid crystal 220, thereby contaminating the liquid crystal 220. As a result, the liquid crystal panel may be damaged due to abnormal control of the liquid crystal 220.

シールの硬化不全という問題を解決するために、紫外線を斜めに照射する方法や、紫外線を底板で反射する方法等が提案されている。しかし、これらの方法は、硬化工程の複雑さを招き、液晶が紫外線にさらされる危険が増える。液晶が紫外線に照射されると、劣化ないし変質して、配列上に欠陥が生じ、液晶ディスプレイの画質が下がり、場合によっては、電圧保持力が低下により、スクリーンフリッカ(sreen flicker)が起きる。
米国特許第6,654,075号明細書
In order to solve the problem of insufficient curing of the seal, a method of irradiating ultraviolet rays obliquely, a method of reflecting ultraviolet rays on a bottom plate, and the like have been proposed. However, these methods add complexity to the curing process and increase the risk of exposing the liquid crystal to ultraviolet light. When the liquid crystal is irradiated with ultraviolet rays, the liquid crystal is deteriorated or deteriorated, causing defects in the alignment, deteriorating the image quality of the liquid crystal display, and in some cases, reducing the voltage holding power, thereby causing a screen flicker.
U.S. Pat.No. 6,654,075

上記従来の液晶滴下法では、遮光膜や伝導膜等の構造のために紫外線が遮断され、シールが硬化不全になる虞れがあると共に紫外線を照射された液晶が劣化する虞れがあり、その結果、画質が著しく悪化する。紫外線を斜めに照射する方法によれば、シールの硬化不全問題を一応解決できるが、多量の紫外線に照射されることになるので、液晶が大幅に劣化し易い。   In the above-described conventional liquid crystal dropping method, ultraviolet rays are blocked due to the structure of a light-shielding film or a conductive film, and there is a possibility that the seal may be insufficiently cured and the liquid crystal irradiated with ultraviolet rays may be deteriorated. As a result, the image quality is significantly deteriorated. According to the method of obliquely irradiating the ultraviolet rays, the problem of insufficient curing of the seal can be solved for the time being. However, since a large amount of ultraviolet rays is applied, the liquid crystal is easily deteriorated greatly.

そこで、本発明は、液晶に接触するシールが存在する領域にあるトランジスタガラス基板の伝導膜の材料を透明な材料に選択して、光が、不透明な伝導膜に遮断されないように、トランジスタガラス基板側からシールを照射してこれを完全に硬化させることができ、硬化不全のシールに起因する液晶汚染を回避することを1つの課題とする。   Therefore, the present invention selects a transparent material for the conductive film of the transistor glass substrate in the region where the seal in contact with the liquid crystal exists, so that light is not blocked by the opaque conductive film. One object is to irradiate the seal from the side and completely cure it, and to avoid liquid crystal contamination due to poorly cured seals.

本発明は、硬化用の光がガラス基板に垂直にシールを硬化させ、硬化用の光が液晶を照射する確率を減らして、液晶の品質を高く維持することを別の課題とする。   Another object of the present invention is to maintain the quality of the liquid crystal high by reducing the probability that the light for curing cures the seal perpendicular to the glass substrate and irradiate the liquid crystal with the light for curing.

本発明は、硬化工程を従来より簡易化して、工程条件の要求精度を緩和することを更に別の課題とする。   Still another object of the present invention is to simplify the curing process as compared with the conventional art and relax the required accuracy of the process conditions.

本発明は、液晶パネルの周辺構造を提供する。この周辺構造では、第1ガラス基板、第2ガラス基板、絶縁層及び透明伝導膜を有し、第1ガラス基板と第2ガラス基板は、シールにより、第1ガラス基板の遮光膜を有する表面と第2ガラス基板のトランジスタを有する表面とが向かいあって貼り合わされ、絶縁層はシールと接続する第2ガラス基板の表面の液晶パネルの表示部の領域に形成され、透明伝導膜は絶縁層上に形成される
また、本発明は、別の液晶パネルの周辺構造を提供する。この周辺構造では、第1ガラス基板、第2ガラス基板、絶縁層及び透明伝導膜を有し、第1ガラス基板と第2ガラス基板は、シールにより、第1ガラス基板の遮光膜を有する表面と第2ガラス基板のトランジスタを有する表面とが向かいあって貼り合わされ、絶縁層はシールと接続する第2ガラス基板の表面の最内側から液晶パネルの周囲までの領域に形成され、透明伝導膜は絶縁層上に形成される。
The present invention provides a peripheral structure of a liquid crystal panel. This peripheral structure includes a first glass substrate, a second glass substrate, an insulating layer, and a transparent conductive film. The first glass substrate and the second glass substrate are separated from a surface of the first glass substrate having a light-shielding film by a seal. The surface of the second glass substrate having the transistor is attached to the surface of the second glass substrate, and the insulating layer is formed in a region of the display portion of the liquid crystal panel on the surface of the second glass substrate connected to the seal. The present invention also provides another liquid crystal panel peripheral structure. This peripheral structure includes a first glass substrate, a second glass substrate, an insulating layer, and a transparent conductive film. The first glass substrate and the second glass substrate are separated from a surface of the first glass substrate having a light-shielding film by a seal. The surface having the transistor of the second glass substrate is attached to the surface thereof, the insulating layer is formed in a region from the innermost surface of the surface of the second glass substrate connected to the seal to the periphery of the liquid crystal panel, and the transparent conductive film is insulated. Formed on the layer.

本発明に係る解決手段を更に具体的に説明すると、次の通りになる。   The solution according to the present invention will be described more specifically as follows.

[第1実施態様]
第1ガラス基板と第2ガラス基板とがシールにより貼り合わされ、第1ガラス基板の遮光膜を有する表面が、第2ガラス基板の薄膜トランジスタを有する表面に対向する、液晶パネルにおいて、第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の内部表面は、第1絶縁層と該第1絶縁層に形成される第1透明伝導膜とを有する、液晶パネルの表示部であることを特徴とする液晶パネルの周辺構造。
[First embodiment]
In a liquid crystal panel, a first glass substrate and a second glass substrate are bonded with a seal, and a surface of the first glass substrate having a light-blocking film faces a surface of the second glass substrate having a thin film transistor. An inner surface of a surface connected to the seal is a display portion of the liquid crystal panel, having a first insulating layer and a first transparent conductive film formed on the first insulating layer. Construction.

[第2実施態様]
第1実施態様において、第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の外部表面は、第2絶縁層と該第2絶縁層に形成される第2伝導膜とを有する、液晶パネルの非表示部であり、第2伝導膜と第1透明膜とは、前記内部表面と前記外部表面に重ねて電気的に接続される。
[Second embodiment]
In the first embodiment, a non-display portion of a liquid crystal panel, wherein an outer surface of a surface of the second glass substrate connected to the seal has a second insulating layer and a second conductive film formed on the second insulating layer. And the second conductive film and the first transparent film are electrically connected so as to overlap the inner surface and the outer surface.

[第3実施態様]
第2実施態様において、第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の内側にある液晶パネルの表示部は、第3絶縁層と該第3絶縁層に形成される第3伝導膜とを有し、第3伝導膜と第1透明膜とは、前記内部表面と液晶パネルの表示部との重ね合わされる部分に電気的に接続される。
[Third embodiment]
In the second embodiment, the display portion of the liquid crystal panel inside the surface of the second glass substrate connected to the seal has a third insulating layer and a third conductive film formed on the third insulating layer. The third conductive film and the first transparent film are electrically connected to a portion where the inner surface and the display unit of the liquid crystal panel overlap.

[第4実施態様]
第1ガラス基板と第2ガラス基板とがシールにより貼り合わされ、第1ガラス基板の遮光膜を有する表面が、第2ガラス基板の薄膜トランジスタを有する表面に対向する液晶パネルにおいて、第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の最内側から液晶パネル周囲までの領域は、絶縁層と該絶縁層に形成される透明伝導膜とを有する、液晶パネルの表示部であることを特徴とする液晶パネルの周辺構造。
[Fourth embodiment]
In a liquid crystal panel in which a first glass substrate and a second glass substrate are bonded with a seal, and a surface of the first glass substrate having a light-shielding film is opposed to a surface of the second glass substrate having a thin film transistor, A region from the innermost surface of the surface connected to the seal to the periphery of the liquid crystal panel is a display portion of the liquid crystal panel, which has an insulating layer and a transparent conductive film formed on the insulating layer; Construction.

本発明によれば、光がトランジスタガラス基板側からシールを照射するので、完全なるシールの硬化を得ることができる。従って、硬化不全のシールが液晶を汚染するという従来の不都合を効果的に解消する。   According to the present invention, since light irradiates the seal from the transistor glass substrate side, complete curing of the seal can be obtained. Therefore, the conventional inconvenience of a poorly cured seal contaminating the liquid crystal is effectively eliminated.

また、硬化用の光はガラス基板に垂直にシールを照射してこれを硬化させるから、液晶が硬化用の光にさらされる虞れ(確率)を低減でき、液晶の品質を高く維持・確保できる。   In addition, since the curing light irradiates the seal vertically to the glass substrate to cure the seal, the risk (probability) of the liquid crystal being exposed to the curing light can be reduced, and the quality of the liquid crystal can be maintained and secured at a high level. .

更に、従来と比較して硬化工程を簡略化でき、工程条件の要求精度を緩和できる。   Further, the hardening process can be simplified as compared with the related art, and the required accuracy of the process conditions can be relaxed.

以下、本発明の幾つかの実施の形態を詳細に説明する。もっとも、本発明は、以下に詳細に記載する形態に加えて他の形態を含む幅広い範囲内において実施可能であり、本発明の範囲は、請求の範囲によってのみ規定され、それ以外のものに限定されるものではない、ということに留意されたい。   Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention can be embodied within a wide range including other forms in addition to the forms described in detail below, and the scope of the present invention is defined only by the claims, and is limited to other forms. Note that this is not the case.

異なる要素の部品等は寸法通りに描かれていない。本発明の記載を明確にして理解を容易にするために、本発明に直接関係しない部分の図示を省略し、関連する部品等は寸法的に誇張している場合がある。     Parts and the like of different elements are not drawn to scale. In order to clarify the description of the present invention and to facilitate understanding, illustration of parts not directly related to the present invention is omitted, and related parts and the like may be exaggerated in dimension.

上述したように、従来は、液晶滴下法によって液晶パネルを硬化するとき、不透明な構造(例えば、遮光膜や伝導膜等)によって紫外線や他の硬化光が遮断され、シールが硬化不全になり易い。液晶は、硬化不全なシールと接触すると、汚染されて劣化する。本発明によれば、少なくとも液晶と接触するシールを完全に硬化させ得るから、斯かる従来の液晶劣化という不都合を回避できる。   As described above, conventionally, when a liquid crystal panel is cured by a liquid crystal dropping method, ultraviolet light or other curing light is blocked by an opaque structure (for example, a light-shielding film or a conductive film), and the seal tends to be insufficiently cured. . Liquid crystals are contaminated and degraded when in contact with a poorly cured seal. According to the present invention, at least the seal in contact with the liquid crystal can be completely cured, so that the disadvantage of the conventional liquid crystal deterioration can be avoided.

そのためには、液晶と接触するシール(即ち、表示部側の内側シール)の下にある伝導膜は、透明にされる必要があり、透明にすれば硬化光に照射されるので完全に硬化させることができる。   To this end, the conductive film under the seal that contacts the liquid crystal (that is, the inner seal on the display unit side) needs to be made transparent, and if it is made transparent, it will be irradiated with curing light, so that it will be completely cured. be able to.

このように、内側部のシールの下にある伝導膜の材料を透明な材料で形成することにより、(液晶と接触する)シールを完全に硬化でき、液晶の汚染・劣化という不都合を回避できる。   In this way, by forming the material of the conductive film below the seal on the inner side with a transparent material, the seal (which comes into contact with the liquid crystal) can be completely cured, and the inconvenience of contamination and deterioration of the liquid crystal can be avoided.

図1は、本発明の好適な一実施の形態を示す。液晶パネル10は、カラーフィルタ(CF)ガラス基板100及び薄膜トランジスタ(TFT)ガラス基板(以下、トランジスタガラス基板)120を有する。カラーフィルタガラス基板100上には、カラーフィルタ及び遮光膜(black matrix)140がある。遮光膜140は、不透明な材料から成る。カラーフィルタガラス基板100とトランジスタガラス基板120とは、シール160で結合される。トランジスタガラス基板120は、絶縁層180及び伝導膜200、202、204、206、208を有する。   FIG. 1 shows a preferred embodiment of the present invention. The liquid crystal panel 10 has a color filter (CF) glass substrate 100 and a thin film transistor (TFT) glass substrate (hereinafter, transistor glass substrate) 120. A color filter and a black matrix 140 are provided on the color filter glass substrate 100. The light shielding film 140 is made of an opaque material. The color filter glass substrate 100 and the transistor glass substrate 120 are joined with a seal 160. The transistor glass substrate 120 includes an insulating layer 180 and conductive films 200, 202, 204, 206, and 208.

伝導膜200、208の材料は、好ましくは、アルミニウム(Al)層、アルミニウム(以下、アルミ)層を含む多重層、或いはアルミ合金である。他の伝導膜202、204、206の材料は、透明な導電材料であり、好ましくは、錫酸化物(Indium Tin Oxide)である。シール160の内側部を完全に硬化させるために、伝導膜206の最内側の位置がシール160よりディスプレイ領域(即ち、図1に示す液晶220の領域)に近い。   The material of the conductive films 200 and 208 is preferably an aluminum (Al) layer, a multilayer including an aluminum (hereinafter, aluminum) layer, or an aluminum alloy. The material of the other conductive films 202, 204, and 206 is a transparent conductive material, preferably, tin oxide (Indium Tin Oxide). In order to completely cure the inside of the seal 160, the innermost position of the conductive film 206 is closer to the display area (that is, the area of the liquid crystal 220 shown in FIG. 1) than the seal 160.

伝導膜206に隣接する伝導膜204の形成位置は、好ましくは、図1に示すようにシール160が占有する領域の最内側の伝導膜の位置である。従って、液晶が硬化光(特に、紫外線)に照射される可能性を低減でき、液晶の品質を維持できる。   The formation position of the conductive film 204 adjacent to the conductive film 206 is preferably the position of the innermost conductive film in the area occupied by the seal 160 as shown in FIG. Therefore, the possibility that the liquid crystal is irradiated with curing light (particularly, ultraviolet light) can be reduced, and the quality of the liquid crystal can be maintained.

液晶パネルの伝導率や他の事項の考慮に従い、伝導膜204の最外側(即ち、ガラス基板の縁に接近する位置)は、図1に示すようなシールが存在する範囲及びシールの外側のうちのいずれかを選択できる。   In consideration of the conductivity of the liquid crystal panel and other considerations, the outermost portion of the conductive film 204 (that is, the position close to the edge of the glass substrate) is located in the area where the seal exists as shown in FIG. Can be selected.

図1に示す伝導膜200の総てを透明な伝導膜204に変えることもできる(即ち、伝導膜204の最内側からガラス基板の縁までの伝導膜は、総て透明であり、絶縁層180上に形成される)。   All of the conductive films 200 shown in FIG. 1 can be changed to transparent conductive films 204 (ie, the conductive films from the innermost side of the conductive film 204 to the edge of the glass substrate are all transparent and the insulating layer 180). Formed above).

シールに覆われる以外の領域に水蒸気等による酸化或いは腐食のような幾つかの問題が起きる場合、透明な伝導膜202,204がシールに覆われる領域に限り形成することが可能であるし、或いは、シールに覆われる領域以外の透明な伝導膜202、204が水蒸気等に抵抗できるように保護層(バリア層)を形成可能である。従って、トランジスタガラス基板120側からの硬化光320が不透明な構造層に遮断されないように照射され、シールの内側部は、完全に硬化され、液晶が硬化不全のシールに汚染されるのを回避できる。   When some problems such as oxidation or corrosion due to water vapor or the like occur in an area other than the area covered by the seal, the transparent conductive films 202 and 204 can be formed only in the area covered by the seal, or A protective layer (barrier layer) can be formed so that the transparent conductive films 202 and 204 other than the area covered by the seal can resist water vapor and the like. Accordingly, the curing light 320 from the transistor glass substrate 120 side is irradiated so as not to be blocked by the opaque structure layer, and the inside of the seal is completely cured, so that the liquid crystal can be prevented from being contaminated by the poorly cured seal. .

処理中に、伝導膜200、208は、同一マスクを介してトランジスタガラス基板上に同時形成され、次いで、フォトリソグラフィによって絶縁層180が伝導膜を覆うように形成され、絶縁層180には、穴240、242が形成される。その後、伝導膜202、204、206は、別々に穴240、242を介して伝導膜200、208と電気的に接続するように、別のマスク(フォトリソグラフィ)によって同時形成される。   During processing, conductive films 200 and 208 are simultaneously formed on the transistor glass substrate through the same mask, and then an insulating layer 180 is formed by photolithography to cover the conductive film, and a hole is formed in insulating layer 180. 240, 242 are formed. Thereafter, the conductive films 202, 204, 206 are simultaneously formed by another mask (photolithography) so as to be electrically connected to the conductive films 200, 208 via the holes 240, 242 separately.

伝導膜は、碁盤(格子)のように配列される。図1には、シールを塗る方向(smearing direction)に平行な伝導膜が示され、図2には、シールを塗る方向に垂直な伝導膜が示される。表示部の伝導膜208の最外側は、液晶220の範囲以内の必要があり、好ましくは、図2に示すように液晶220とシール160との接続面までである。   The conductive films are arranged like a grid (grid). FIG. 1 shows a conductive film parallel to the smearing direction, and FIG. 2 shows a conductive film perpendicular to the direction of applying the seal. The outermost part of the conductive film 208 of the display part needs to be within the range of the liquid crystal 220, and preferably up to the connection surface between the liquid crystal 220 and the seal 160 as shown in FIG.

伝導膜200の最内側は、(図2に示すように)シール160の範囲内であるか、或いは、シールの外側である。絶縁層180上に形成される伝導膜202は、穴240、242を個別に介して伝導膜200、208に繋がる。   The innermost side of the conductive membrane 200 is either within the seal 160 (as shown in FIG. 2) or outside the seal. The conductive film 202 formed on the insulating layer 180 is connected to the conductive films 200 and 208 via the holes 240 and 242 individually.

尚、図2に示すように伝導膜200は、透明な伝導膜202で置き換えることができ、これによれば、液晶220とシールとの接続する位置からガラス基板の縁までの伝導膜がすべで透明であり、是絶縁層180上に形成される。   As shown in FIG. 2, the conductive film 200 can be replaced by a transparent conductive film 202. According to this, the conductive film from the position where the liquid crystal 220 is connected to the seal to the edge of the glass substrate is entirely formed. It is transparent and is formed on the insulating layer 180.

シールに覆われる以外の領域に水蒸気等による酸化・腐食のような幾つかの問題が起きる場合、透明な伝導膜202がシールに覆われる領域に限り形成することが可能であるし、或いは、シールに覆われる領域以外の透明な伝導膜202が水蒸気等に抵抗できるように保護層(バリア層)を形成可能である。従って、トランジスタガラス基板120側からの硬化光320が不透明な構造層に遮断されないように照射され、シール160の内側部は、完全に硬化され、液晶220が硬化不全のシールに汚染されるのを回避できる。   When some problems such as oxidation and corrosion due to water vapor or the like occur in an area other than the area covered by the seal, the transparent conductive film 202 can be formed only in the area covered by the seal. A protective layer (barrier layer) can be formed so that the transparent conductive film 202 other than the region covered by the transparent conductive film 202 can resist water vapor or the like. Therefore, the curing light 320 from the transistor glass substrate 120 side is irradiated so as not to be blocked by the opaque structure layer, and the inner part of the seal 160 is completely cured, so that the liquid crystal 220 is contaminated by the poorly cured seal. Can be avoided.

従来構造、例えば、図3に示すような液晶パネルの周辺構造と比較して、本発明の主要な差異は、トランジスタガラス基板の伝導膜の構造にある。本発明の本質は、液晶と接触するシールを完全に硬化させ、液晶の汚染を回避することにある。それ故に、伝導膜の材料としては、シール塗布領域の最内側(即ち、表示部側)から、透明な導電材料に置き換えられ、この透明な導電材料の終点は、シール塗布範囲内、シール塗布範囲の外側及びガラス基板の縁のうちのいずれか1つになる。   A major difference of the present invention as compared with the conventional structure, for example, the peripheral structure of the liquid crystal panel as shown in FIG. 3 lies in the structure of the conductive film of the transistor glass substrate. The essence of the invention is to completely cure the seal in contact with the liquid crystal and avoid contamination of the liquid crystal. Therefore, as the material of the conductive film, a transparent conductive material is replaced from the innermost side (that is, the display portion side) of the seal application region, and the end point of the transparent conductive material is within the seal application range, the seal application range. And the edge of the glass substrate.

透明な伝導膜は、液晶パネルのプロセス又はデザインに基づいて、液晶パネルの他の構造と同じフォトリソグラフィで形成され、例えば、図1に示すように伝導膜202、204、206がピクセル電極と同時に形成される。   The transparent conductive film is formed by the same photolithography as the other structure of the liquid crystal panel based on the process or design of the liquid crystal panel. For example, as shown in FIG. 1, the conductive films 202, 204, and 206 are simultaneously formed with the pixel electrodes. It is formed.

以上の好適な実施形態は、本発明を説明するための例であって、本発明を限定するものではない。本発明は、他の液晶パネル構造、例えば、カラーフィルタをトランジスタガラス基板に形成するようなCOA構造にも適用可能である。   The preferred embodiments described above are examples for describing the present invention, and do not limit the present invention. The present invention is also applicable to other liquid crystal panel structures, for example, a COA structure in which a color filter is formed on a transistor glass substrate.

上述したように、従来の紫外線を斜めに照射する方法や紫外線を底板で反射する方法によると、硬化工程が複雑化すると共に、紫外線にさらされる液晶領域が増大するという不都合が起きる。これに対して、本発明の液晶パネルの周辺構造においては、液晶に接触されるシールが存在する領域にあるトランジスタガラス基板の伝導膜の材料が透明な材料に置き換えられて、不透明な伝導膜に遮断されないようになるので、光はトランジスタガラス基板側からシールを照射して完全に硬化でき、硬化不全のシールに液晶が汚染されるという不都合を避けることができる。硬化用の光がガラス基板に垂直に入射してシールを硬化させ、硬化用の光が液晶を照射する可能性が減少するので、液晶を高品質に維持することが可能である。また、硬化用の光がガラス基板に垂直に入射してシールを硬化させるから、従来と比較して硬化工程における条件の要求精度を緩和できる。   As described above, the conventional method of obliquely irradiating ultraviolet rays and the method of reflecting ultraviolet rays on the bottom plate complicate the curing process and disadvantageously increase the liquid crystal region exposed to ultraviolet rays. On the other hand, in the peripheral structure of the liquid crystal panel of the present invention, the material of the conductive film of the transistor glass substrate in the region where the seal contacting the liquid crystal exists is replaced by a transparent material, and the opaque conductive film is formed. Since the light is not blocked, the light can be completely cured by irradiating the seal from the transistor glass substrate side, and the inconvenience of contaminating the liquid crystal with the poorly cured seal can be avoided. Since the light for curing is perpendicularly incident on the glass substrate to cure the seal and the possibility that the light for curing irradiates the liquid crystal is reduced, the liquid crystal can be maintained at high quality. Further, since the curing light is perpendicularly incident on the glass substrate and cures the seal, the required accuracy of the conditions in the curing step can be eased as compared with the related art.

以上、特定の実施の形態について説明したが、本願請求項によって規定される範囲から逸脱することなく、本願発明に従って当業者が様々な改変・変更を加えることができる。   The specific embodiments have been described above, but those skilled in the art can make various modifications and changes in accordance with the present invention without departing from the scope defined by the claims of the present application.

本発明の一実施の形態を示す図である。It is a figure showing one embodiment of the present invention. 本発明の別の実施の形態を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing another embodiment of the present invention. 従来の液晶パネルの周辺構造を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a peripheral structure of a conventional liquid crystal panel.

符号の説明Explanation of reference numerals

10…液晶パネル
100…カラーフィルタガラス基板
120…トランジスタガラス基板
140…遮光膜
160…シール
180…絶縁層
200、202、204、206、208…伝導膜
220…液晶
240、242…穴
300、320…紫外線
Reference Signs List 10: liquid crystal panel 100: color filter glass substrate 120: transistor glass substrate 140: light shielding film 160: seal 180: insulating layer 200, 202, 204, 206, 208: conductive film 220: liquid crystal 240, 242: holes 300, 320 UV light

Claims (4)

第1ガラス基板と第2ガラス基板とがシールにより貼り合わされ、第1ガラス基板の遮光膜を有する表面が、第2ガラス基板の薄膜トランジスタを有する表面に対向する、液晶パネルにおいて、
第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の内部表面は、第1絶縁層と該第1絶縁層に形成される第1透明伝導膜とを有する、液晶パネルの表示部であることを特徴とする液晶パネルの周辺構造。
In a liquid crystal panel, a first glass substrate and a second glass substrate are attached to each other with a seal, and a surface of the first glass substrate having a light-blocking film faces a surface of the second glass substrate having a thin film transistor.
An inner surface of a surface of the second glass substrate connected to the seal is a display portion of a liquid crystal panel having a first insulating layer and a first transparent conductive film formed on the first insulating layer. Structure around the LCD panel.
第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の外部表面は、第2絶縁層と該第2絶縁層に形成される第2伝導膜とを有する、液晶パネルの非表示部であり、
第2伝導膜と第1透明膜とは、前記内部表面と前記外部表面に重ねて電気的に接続されることを特徴とする請求項1記載の構造。
An outer surface of a surface of the second glass substrate connected to the seal is a non-display portion of a liquid crystal panel having a second insulating layer and a second conductive film formed on the second insulating layer;
2. The structure according to claim 1, wherein the second conductive film and the first transparent film are electrically connected so as to overlap the inner surface and the outer surface.
第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の内側にある液晶パネルの表示部は、第3絶縁層と該第3絶縁層に形成される第3伝導膜とを有し、
第3伝導膜と第1透明膜とは、前記内部表面と液晶パネルの表示部との重ね合わされる部分に電気的に接続されることを特徴とする請求項2記載の構造。
The display portion of the liquid crystal panel inside the surface of the second glass substrate connected to the seal has a third insulating layer and a third conductive film formed on the third insulating layer.
3. The structure according to claim 2, wherein the third conductive film and the first transparent film are electrically connected to a portion where the inner surface and the display unit of the liquid crystal panel overlap.
第1ガラス基板と第2ガラス基板とがシールにより貼り合わされ、第1ガラス基板の遮光膜を有する表面が、第2ガラス基板の薄膜トランジスタを有する表面に対向する液晶パネルにおいて、
第2ガラス基板の前記シールと接続する表面の最内側から液晶パネル周囲までの領域は、絶縁層と該絶縁層に形成される透明伝導膜とを有する、液晶パネルの表示部であることを特徴とする液晶パネルの周辺構造。
In a liquid crystal panel in which a first glass substrate and a second glass substrate are bonded with a seal, and a surface of the first glass substrate having a light-shielding film faces a surface of the second glass substrate having a thin film transistor,
A region from the innermost surface of the surface of the second glass substrate connected to the seal to the periphery of the liquid crystal panel is a display portion of the liquid crystal panel having an insulating layer and a transparent conductive film formed on the insulating layer. The peripheral structure of the liquid crystal panel.
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