JP2004207502A - 誤操作防止方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 27
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】ユーザが操作可能な操作部の近傍における人の存在を検知するセンサからの信号に基づいて該操作部の近傍に人がいることを検知し、認証がOKとなった場合は、操作範囲の広い操作レベルへ変更する(ステップS102、S103、S105)。この状態で、操作部の近傍から人がいなくなったことを認識した場合は、該操作部における操作可能範囲を最低レベルに戻す(ステップS106、S101)。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、装置に設けられた操作部における誤操作防止技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に露光装置等の半導体製造設備においては、装置に対してユーザが操作を行なうためのコンソール(装置操作部)が設けられている。この種のコンソールにおいては、ユーザレベルを設けて、ユーザによって操作可能な範囲を制限することが行われている。
【0003】
例えば、低いユーザレベルにおいては装置の運転、停止操作のみ可能であるが、高いユーザレベルにおいては装置の運転条件の変更操作も可能とすることが挙げられる。そして、このような場合、高いユーザレベルで操作を行なうためにはパスワードの入力を必要とするように構成するのが一般的である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高いユーザレベルで操作していたユーザが、操作終了後ユーザレベルを元に(低いレベルに)戻すことを忘れてしまったり、または操作途中に何らかの理由で一時的にコンソールから離れる場合がある。このような場合、次に低いユーザレベルのオペレータが操作すると、本来できない操作が可能となってしまう。すなわち、高いユーザレベルでの操作に移行する際には認証処理を設けていても、高いユーザレベルで操作した後にこれを低いユーザレベルの操作に切り換えなければ、そのまま別のユーザが高いユーザレベルで操作できることになる。この結果、例えば、誤って装置の運転条件を変更してしまい、その結果装置が誤った運転状態となってしまうという可能性がある。
【0005】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、ユーザが操作部より離れたことを検知して自動的に操作レベルを設定することを可能とし、当該操作部による誤操作を防止することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するための本発明による誤操作防止方法は、
ユーザが操作可能な操作部の近傍における人の存在を検知するセンサからの信号に基づいて該操作部の近傍から人がいなくなったことを認識する認識工程と、
前記認識工程において前記操作部の近傍から人がいなくなったことを認識した場合に、該操作部における操作可能範囲を変更する変更工程とを備える。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して本発明の好適な実施形態を説明する。
【0008】
〔第1実施形態〕
以下、本発明の誤操作防止方法、ならびにこの方法を適用した装置操作部を半導体製造設備、特に露光装置に適用した例について説明する。但し、本発明の適用がこのような特定の装置に限定されないことはいうまでもない。
【0009】
図1は第1実施形態による半導体露光装置を正面から見た概略図である。図1において100は露光装置を表す。101はウェハ用のドアであり、ドア101を介してウェハの入ったウェハカセットがセットされる。102はレチクル用のドアであり、ドア102を介してレチクルをセットする。なお、レチクルとはウェハに転写する回路パターンの入ったガラスの基盤(マスク)である。
【0010】
103はコンソールであり、ユーザが露光装置100に対して各種操作を行なうための操作部(インターフェース)を提供する。本実施形態においては、コンソール103はタッチパネルとなっており、パネル上のボタンを押す(触れる)ことにより装置を操作することが可能である。装置に対する操作としては、露光処理開始、露光処理停止、露光条件変更、および後述するユーザレベルの変更の操作が可能である。また、露光条件としては、露光レイアウト、露光量、フォーカスオフセットが含まれる。
【0011】
コンソール103によって露光条件を決定した後、ウェハ、レチクルをセットして露光処理開始ボタンを押すことにより露光処理が開始され、レチクルの回路パターンがウェハに転写される。なお、コンソールは、タッチパネルに限られるものではなく、通常の押ボタンスイッチやキーボードから構成されてもよい。
【0012】
さて、本実施形態におけるコンソールには「オペレータ」および「エンジニア」という2つのユーザレベルがあり、各々操作範囲が以下の表のように決まっている。
【0013】
【表1】
【0014】
この場合、エンジニアのユーザレベルが高く、オペレータのユーザレベルが低い。通常の装置運用形態として、エンジニアが露光条件を設定し、オペレータが露光処理を実施することを想定している。すなわち、エンジニアは適切な露光条件設定方法を知っており、オペレータはそれを知らないことを想定している。露光条件を誤ると、露光ウェハが不良ウェハとなってしまうという事故になる。よって、適切な露光条件設定方法を知らないオペレータには露光条件の変更ができないようにしている。従って、ユーザレベルがオペレータの場合は「露光処理の開始/停止」と「ユーザレベルの変更」が可能であり、ユーザレベルがエンジニアの場合は、「露光処理の開始/停止」と「ユーザレベルの変更」に加えて「露光条件の変更」が可能となっている
なお、ユーザレベルを「エンジニア」にするためにはユーザレベルの変更操作においてパスワードの入力が必要なものとする。
【0015】
また、コンソール103のタッチパネルの下には、赤外線式対人センサ104が設けられている。当該センサ104からおよそ50cm以内の距離に人が存在すると当該センサはONになり、50cm以上離れるとOFFになる。なお、センサがON/OFFする距離はセンサの感度調節によって変更可能である。
【0016】
以上のような構成を備えた本実施形態のコンソール103に関する誤操作防止方法を実現する制御について以下に説明する。
【0017】
図2は本実施形態の誤操作防止方法を説明するフローチャートである。対人センサ104がONからOFFになる時期を検出することにより、オペレータがコンソールから離れたことを検知する。この時ユーザレベルがエンジニア(高いユーザレベル)であったならば、ユーザレベルをオペレータ(低いユーザレベル)に変更する。
【0018】
なお、本処理は露光装置が備える不図示のCPUが不図示のメモリに格納された制御プログラムを実行することで実現される。但し、コンソール103が独立してCPUを備えているような場合は、コンソール103のCPUが以下の処理を実行するように構成することもできる。
【0019】
まずステップS101において、操作レベルを初期状態とする。本実施形態では、操作レベルを最低レベル(ユーザレベル:オペレータ)とする。そして、ステップS102に進み、対人センサ104がONするの待つ。対人センサ104がONしたならばステップS103へ進む。ステップS103では、認証処理が行われ、その認証結果がOKとなった場合に、処理をステップS105へ進める。他の場合、すなわち認証が行なわれない場合或いは認証が行なわれたがその認証に失敗した場合はステップS104へ進む。ステップS104では対人センサ104がOFFになったかどうかを判定し、対人センサがOFFとなったならばステップS101へ戻る。なお、この場合、操作レベルは低レベルのままなので、ステップS102へ戻すようにしてもよい。
【0020】
上記ステップS103とS104によって形成されるループの最中において、ユーザは低いユーザレベルでコンソール103を操作することが可能である。すなわち、認証に成功するまでは、低いユーザレベルでの操作が可能となる。
【0021】
一方、ステップS103で認証に成功した場合はステップS105へ進み、操作レベルを変更する。本実施形態ではユーザレベルがエンジニアに切り換えられ、露光条件の変更操作が可能となる。その後、対人センサ104がOFFになるのを待ち、対人センサ104がOFFになったならばステップS101へ戻り、ユーザレベルを最低のユーザレベル(オペレータ)に戻す。
【0022】
以上説明したように、本実施形態によれば、ユーザが操作可能な操作部(コンソール103)の近傍における人の存在を検知するセンサ(対人センサ104)からの信号に基づいて操作部の近傍から人がいなくなったことが認識され(S106)、操作部の近傍から人がいなくなったことを認識した場合に、該操作部における操作可能範囲が変更される(S106、S101)。すなわち、ユーザが操作部より離れたことを検知して自動的に操作レベルが設定されるので、当該操作部による誤操作が防止できる。
【0023】
なお、上記操作可能範囲の変更においては、操作可能範囲が最も狭い状態へと変更させる。このような操作範囲が最も狭い状態とは、例えば装置立ち上げ時に自動的に設定されるユーザレベルである。或いは、第2実施形態で後述するように、操作対象装置(露光装置100)に対する操作が全くできない状態としてもよい。
【0024】
また、更に、操作部に対してなされた所定操作に応じて該操作部における操作可能範囲を変更する(S103、S105)ように構成することが好ましい。この所定操作としては、認証操作が挙げられ、認証操作によって認証がとれた場合に操作部における操作可能範囲を拡大するように構成することができる。認証操作としては、パスワード等による方法、指紋等を用いた方法等、種々の方法を適用できることは明らかである。
【0025】
また、上記構成において、前記認証操作によって認証されたユーザに応じて操作可能範囲が異なるように設定可能としてもよい。例えば、ユーザレベルをA,B,Cの3段階に分けておき、ステップS101ではユーザレベルAが設定され、ステップS105では、認証されたユーザに応じてユーザレベルB、Cのいずれかが設定されるように構成できる。この場合、各ユーザがどのレベルに属するかを登録しておく必要がある。
【0026】
〔第2実施形態〕
第2実施形態では、コンソール操作の開始に当たって、まずログイン操作を行なうこととし(ログインしなければ一切の操作は不可)、このログイン操作でユーザレベルが決定するようにする。この上で、オペレータがコンソールから離れたことを検知するとコンソール操作をログアウトする。この場合、図2のステップS101で操作レベルを露光装置100への操作が禁止され、認証のみが可能な状態とすればよい。また、ステップS105における操作レベルの変更は、上述したように各ユーザに対して設定されたユーザレベルとしても良い。
【0027】
この方法には、次に操作するためにはその都度ログイン操作をしなければならないという不便さがある。しかし、より確実に誤操作を防ぐことができる。
【0028】
なお、上記実施形態以外に種々の変形が可能であり、例えば、ステップS101で操作禁止状態とし、対人センサがONしたことをトリガとして最低レベルでの操作を可能とし、更に認証を経てより高いユーザレベルでの操作を可能とするように構成してもよい。
【0029】
以上説明したように、上記各実施形態によれば、低いユーザレベルのオペレータが、本来できない操作をしてしまい、誤って装置の運転状態を変更してしまうというような事故を防ぐことができる。例えば半導体露光装置の場合には、誤って露光条件を変更した結果、不良ウェハを作ってしまうという事故を防ぐことができる。
【0030】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ユーザが操作部より離れたことを検知して自動的に操作レベルを設定することが可能となり、当該操作部による誤操作を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態による半導体露光装置の概略正面図であり、コンソール(装置操作部)、ならびに対人センサの配置例を示す図である。
【図2】本実施形態による誤操作防止方法を実現するフローチャートである。
Claims (1)
- ユーザが操作可能な操作部の近傍における人の存在を検知するセンサからの信号に基づいて該操作部の近傍から人がいなくなったことを認識する認識工程と、
前記認識工程において前記操作部の近傍から人がいなくなったことを認識した場合に、該操作部における操作可能範囲を変更する変更工程とを備えることを特徴とする誤操作防止方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002375093A JP2004207502A (ja) | 2002-12-25 | 2002-12-25 | 誤操作防止方法 |
US10/736,612 US20040128005A1 (en) | 2002-12-25 | 2003-12-17 | Apparatus including user interface and method regarding user interface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002375093A JP2004207502A (ja) | 2002-12-25 | 2002-12-25 | 誤操作防止方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004207502A true JP2004207502A (ja) | 2004-07-22 |
JP2004207502A5 JP2004207502A5 (ja) | 2006-01-26 |
Family
ID=32652693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002375093A Pending JP2004207502A (ja) | 2002-12-25 | 2002-12-25 | 誤操作防止方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040128005A1 (ja) |
JP (1) | JP2004207502A (ja) |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2622573B2 (ja) * | 1988-01-27 | 1997-06-18 | キヤノン株式会社 | マーク検知装置及び方法 |
JP2657505B2 (ja) * | 1988-01-27 | 1997-09-24 | キヤノン株式会社 | マーク位置検出装置およびマーク配置方法 |
US5629981A (en) * | 1994-07-29 | 1997-05-13 | Texas Instruments Incorporated | Information management and security system |
JP3890136B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2007-03-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置 |
US5903225A (en) * | 1997-05-16 | 1999-05-11 | Harris Corporation | Access control system including fingerprint sensor enrollment and associated methods |
US6160903A (en) * | 1998-04-24 | 2000-12-12 | Dew Engineering And Development Limited | Method of providing secure user access |
JP4323588B2 (ja) * | 1998-07-21 | 2009-09-02 | キヤノン株式会社 | 編集方法、デバイス製造方法およびコンピュータ |
US7137008B1 (en) * | 2000-07-25 | 2006-11-14 | Laurence Hamid | Flexible method of user authentication |
JP3939504B2 (ja) * | 2001-04-17 | 2007-07-04 | カシオ計算機株式会社 | 半導体装置並びにその製造方法および実装構造 |
CA2443678A1 (en) * | 2001-05-25 | 2002-12-05 | Hill-Rom Services, Inc. | A waste segregation compliance system |
US20030034877A1 (en) * | 2001-08-14 | 2003-02-20 | Miller Brett E. | Proximity detection for access control |
US20030128099A1 (en) * | 2001-09-26 | 2003-07-10 | Cockerham John M. | System and method for securing a defined perimeter using multi-layered biometric electronic processing |
US7322043B2 (en) * | 2002-06-20 | 2008-01-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Allowing an electronic device accessing a service to be authenticated |
-
2002
- 2002-12-25 JP JP2002375093A patent/JP2004207502A/ja active Pending
-
2003
- 2003-12-17 US US10/736,612 patent/US20040128005A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040128005A1 (en) | 2004-07-01 |
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