JP2004287392A - Optical film - Google Patents
Optical film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004287392A JP2004287392A JP2003362894A JP2003362894A JP2004287392A JP 2004287392 A JP2004287392 A JP 2004287392A JP 2003362894 A JP2003362894 A JP 2003362894A JP 2003362894 A JP2003362894 A JP 2003362894A JP 2004287392 A JP2004287392 A JP 2004287392A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical film
- hard coat
- coat layer
- refractive index
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は,ワードプロセッサ,コンピュータ,テレビジョン等のディスプレイ、例えばCRTディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等の表面を保護する目的で使用されるプラスチックフィルムに関し、特に、プラスチックフィルムの干渉縞防止効果を有する光学フィルムおよびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a plastic film used for protecting a surface of a display such as a word processor, a computer, and a television, for example, a CRT display, a liquid crystal display, a projection display, a plasma display, and an EL display. The present invention relates to an optical film having an effect of preventing stripes and a method for producing the same.
従来各種ディスプレイに用いられる光学フィルムは、高透明性や耐擦傷性、耐薬品性および耐候性を重視し、基材表面上に活性エネルギー線硬化型樹脂を用いたハードコート層を設けることが多かった。しかしこの活性エネルギー線硬化によって得られたハードコート層の屈折率(波長550nm)は、例えばアクリル樹脂系を例とすると1.49と低く、用いられる基材の屈折率(波長550nm)、例えばポリエチレンテレフタレートの屈折率1.65、とかけ離れた場合が多く、ハードコート層表面で反射する光と、ハードコート層と基材の界面で反射する光の干渉を起こし、反射スペクトルにおいて極大値と極小値を複数有することにより、虹色のムラ(干渉縞)を生じる。この干渉縞はディスプレイの視認性を低下させ、またディスプレイの美観を損なうものであった。従ってこの干渉縞を抑制することが重要であり、従来の干渉縞低減技術は、基材そのものおよび基材とハードコート層間の中間層に凹凸を設けることによってハードコート層と基材との界面での光の反射を散乱させる技術である(例えば、特許文献1参照。)。 Conventionally, optical films used for various displays attach importance to high transparency and scratch resistance, chemical resistance and weather resistance, and often provide a hard coat layer using an active energy ray-curable resin on a substrate surface. Was. However, the refractive index (wavelength 550 nm) of the hard coat layer obtained by this active energy ray curing is as low as 1.49 in the case of, for example, an acrylic resin, and the refractive index (wavelength 550 nm) of the base material used, for example, polyethylene. In many cases, the refractive index of terephthalate is far from 1.65, causing interference between light reflected on the surface of the hard coat layer and light reflected on the interface between the hard coat layer and the base material, and a maximum value and a minimum value in a reflection spectrum. , A plurality of iridescent non-uniformities (interference fringes) occur. The interference fringes lower the visibility of the display and impair the aesthetic appearance of the display. Therefore, it is important to suppress this interference fringe, and the conventional interference fringe reduction technology employs unevenness in the base material itself and the intermediate layer between the base material and the hard coat layer to form an interface between the hard coat layer and the base material. (See, for example, Patent Document 1).
しかし、光を散乱させるために凹凸が大きいと干渉縞は低減するが可視光線の透過率が低下するという問題が生じ、凹凸が小さすぎると光の散乱効果が弱まり干渉縞の低減効果が弱まるという問題が生じている。また、基材とハードコート層間に中間層を設けるという技術も提案されている(例えば、特許文献2参照。)。この技術では基材とハードコート層間に屈折率の異なる中間層を設けているが、これも段階的に屈折率が変化するために干渉縞は少なくなっても無くなるまでには至らないという問題が生じている。さらにこれらの技術は工程が増えることになるためコストアップにつながるという問題が生じている。また、基材とハードコート層の屈折率差を少なくすることにより干渉縞を防止する技術が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、基材の屈折率波長分散を考慮すると、ある波長における屈折率差は小さくなっても全可視光線領域での屈折率は一致しないため、干渉縞が少なくなっても無くなるまでには至らないという問題が生じている。
本発明は,前記問題を解決するために優れたハードコート性、高透明性を有し、かつ低コストで全可視光線領域における干渉縞防止効果を有する表面保護フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。さらには、高性能な反射防止機能付き光学フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention provides a method for producing a surface protective film having excellent hard coat properties and high transparency, and having an effect of preventing interference fringes in the entire visible light region at low cost in order to solve the above problems. It is the purpose. Still another object is to provide a method for producing a high-performance optical film with an antireflection function.
請求項1に記載の発明は、透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が360nm〜800nmの可視光線領域における反射スペクトルが極大値を持たないことを特徴とする光学フィルムである。
The invention according to
請求項2に記載の発明は、前記透明基材の表面にハードコート層を積層してなる光学フィルムにおいて、波長が360nm〜800nmの可視光線領域における反射率と波長の関係を示した反射スペクトルの振幅(極大値―極小値の差)が,可視光線領域全域において0.5以下であることを特徴とする光学フィルムである。
The invention according to
請求項3に記載の発明は、前記透明基材と前記ハードコート層との屈折率差が4%以内の範囲であることを特徴とする光学フィルムである。
The invention according to
請求項4に記載の発明は、前記透明基材が汎用溶剤により浸食されにくい基材であり,かつハードコート層の乾燥膜厚が5〜15μmの範囲であることを特徴とする光学フィルムである。
The invention according to
請求項5に記載の発明は、前記透明基材が汎用溶剤により浸食されやすい基材であり,かつ基材を溶解または膨潤させる溶剤を用いてハードコート層を積層することを特徴とする光学フィルムである。
The optical film according to
請求項6に記載の発明は、前記ハードコート層が,微粒子を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光学フィルムである。
The invention according to
請求項7に記載の発明は、前記ハードコート層が,紫外線および電子線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光学フィルムである。
The invention according to
請求項8に記載の発明は,前記ハードコート層上に反射防止層を設けたことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光学フィルムである。
The invention according to
本発明は、優れたハードコート性、高透明性を有し、かつ低コストで全可視光線領域における干渉縞防止効果を有する光学フィルムの製造方法を提供することができる。さらには、高性能な反射防止機能付き光学フィルムの製造方法を提供することができる。 The present invention can provide a method for producing an optical film having excellent hard coat properties and high transparency, and having an effect of preventing interference fringes in the entire visible light region at low cost. Further, it is possible to provide a method for producing a high-performance optical film with an antireflection function.
以下に,本発明の実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
本発明における前記光学フィルムは、基材とハードコート層との屈折率差が4%以内と小さいために、可視光領域(波長360〜800nm)での反射率と波長の関係を示した反射スペクトルにおける振幅(極大値―極小値)が小さい。そのうえ,汎用溶剤により浸食されにくい基材を用いた場合には,膜厚を5〜15μmとすると極大値の山と極小値の谷部分が可視光線領域において増加するため、一つには、混色平均化して巨視的には無彩色となること、もう一つは、目や測定器の感度を越えてしまうために反射率が平均化されることにより、干渉縞の無い,視認性に優れたフィルムが得られる。
Since the refractive index difference between the substrate and the hard coat layer in the optical film of the present invention is as small as 4% or less, the reflection spectrum showing the relationship between the reflectance and the wavelength in the visible light region (
前述範囲外の基材とハードコート層との屈折率差4%以上の際には、反射スペクトルにおける振幅が大きいため、色のコントラストが強く混色平均化しにくく、膜厚を15μm以上にすることにより反射率が平均化されるが、最小曲げ試験によるクラックが発生しやすくなり、また、透過率が低下してしまう。 When the difference in the refractive index between the base material and the hard coat layer outside the above-mentioned range is 4% or more, the amplitude in the reflection spectrum is large, so that the color contrast is strong, it is difficult to perform color mixing averaging, and by setting the film thickness to 15 μm or more. Although the reflectance is averaged, cracks tend to occur in the minimum bending test, and the transmittance is reduced.
汎用溶剤により浸食されやすい基材を用いた場合には,基材を溶解または膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を設けることにより,基材とハードコート層の界面において基材とハードコート層との成分が混じり合い,界面近傍の屈折率を連続的に変化させることこができるため,界面における反射光がなく,干渉縞の無い,視認性に優れたフィルムが得られる。 When using a substrate that is easily eroded by a general-purpose solvent, a hard coat layer is formed using a resin containing a solvent that dissolves or swells the substrate. Since the components with the coating layer are mixed and the refractive index near the interface can be continuously changed, a film having no reflected light at the interface, no interference fringes, and excellent visibility can be obtained.
前述範囲外の基材とハードコート層との屈折率差4%以上の際には、基材をより溶解または膨潤させる必要があるために,生産性が悪くなることやハードコートとしての性能が満たされなくなるという問題が発生する。 If the difference between the refractive index of the hard coat layer and the substrate outside the above range is 4% or more, the substrate must be more dissolved or swelled, so that the productivity is deteriorated and the performance as the hard coat is reduced. The problem of not being satisfied arises.
本発明に用いる基材としては、公知の基材を用いることができる。例えば、透光性の種々の有機高分子からなるフィルムもしくはシート等からなる基材を用いることができる。ディスプレイ等の光学部材に使用する場合、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮する必要がある。 As the substrate used in the present invention, a known substrate can be used. For example, a substrate made of a film or sheet made of various organic polymers having translucency can be used. When used for an optical member such as a display, it is necessary to consider optical properties such as transparency and refractive index of light, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance, and durability.
このようなものとして、ポリオレフィン系(ポリエチレン、ポリプロピレン,ポリシクロオレフィン等)、ポリエステル系(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等)、セルロース系(トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等)、ポルアミド系(ナイロン−6、ナイロン−66等)、アクリル系(ポリメチルメタクリレート等)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール,ポリカーボネート等の有機高分子が用いられる。 Such materials include polyolefins (polyethylene, polypropylene, polycycloolefin, etc.), polyesters (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene nartalate, etc.), cellulosics (triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellophane, etc.), and polyamides Organic polymers (eg, nylon-6, nylon-66, etc.), acrylics (eg, polymethyl methacrylate), polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, and polycarbonate are used.
本発明における汎用溶剤に浸食されにくい基材としては,ポリエチレンテレフタレートフィルム(延伸された結晶化フィルム)やポリシクロオレフィンフィルム等が挙げられ,汎用溶剤に浸食されやすい基材としては,ポリメチルメタクリレートフィルム,トリアセチルセルコースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム(無延伸の非結晶化フィルム)やポリカーボネートフィルム等が挙げられる。 In the present invention, examples of the substrate which is hardly eroded by the general-purpose solvent include polyethylene terephthalate film (stretched crystallized film) and polycycloolefin film. , Triacetylcellulose film, polyethylene terephthalate film (unstretched non-crystallized film), polycarbonate film and the like.
さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、たとえば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。また、この基材は上記物質単体、もしくは複数の物質を積層もしくは混合させたものでもよい。また、基材の厚みは表面保護フィルムを用いる用途によって適宜選択することができ、25〜300μmが好ましい。しかしこれに限定するものではない。また,基材上にもうけられるハードコート層との密着性を向上させる目的で、表面処理を施すことができる。この表面処理方法としては、例えばサンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などが挙げられる。 Further, known additives such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a plasticizer, a lubricant, a coloring agent, an antioxidant, and a flame retardant are added to these organic polymers to add a function. Can also be used. Further, the base material may be a single substance of the above-mentioned substances or a laminate of a plurality of substances or a mixture thereof. The thickness of the substrate can be appropriately selected depending on the use of the surface protective film, and is preferably 25 to 300 μm. However, it is not limited to this. In addition, surface treatment can be performed for the purpose of improving adhesion to a hard coat layer formed on a substrate. As the surface treatment method, for example, surface roughening treatment by a sand blast method or a solvent treatment method, or surface oxidation treatment such as corona discharge treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, and the like. No.
本発明の光学フィルムは、前記プラスチックフィルムの上にハードコート層を有するものであって、このハードコート層は屈折率を調整する必要があるため紫外線および電子線硬化型樹脂単体、またはこの硬化物中にコロイド状金属酸化物微粒子が均質に分散されたものである。 The optical film of the present invention has a hard coat layer on the plastic film, and it is necessary to adjust the refractive index of this hard coat layer. Colloidal metal oxide fine particles are homogeneously dispersed therein.
前記ハードコート層に用いる紫外線および電子線硬化型樹脂としては基材の表面改質を目的として、光学フィルムのスチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆ひっかき試験による硬度、セロテープ剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性を要求されるスペックを満足させ、屈折率の調整を行えるように樹脂を選択して使用することが出来る。この紫外線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。 As the ultraviolet ray and electron beam curable resin used for the hard coat layer, for the purpose of surface modification of the substrate, abrasion resistance of an optical film by a steel wool rubbing test, hardness by a pencil scratch test, adhesion by a cellophane peel test, Resins can be selected and used so as to satisfy the specifications required for various properties such as cracking property by the minimum bending test and to adjust the refractive index. This ultraviolet curable resin contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and the like.
また、電子線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマーを含有するものである。 The electron beam-curable resin contains a photopolymerizable prepolymer and a photopolymerizable monomer.
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは1種用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。 Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. One of these photopolymerizable prepolymers may be used, or two or more thereof may be used in combination.
また,光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Examples thereof include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate.
また、これらの屈折率は1.5前後であるが、屈折率が高いモノマーとしては、環状基を有するものさらに/またはフッ素原子以外のハロゲン原子やS、N、P等の原子を含むものが挙げられる。環状基には芳香族基、複素環基および脂肪族環基が含まれる。例えば、ビス(4−メタクリロイルチオフェノキシ)スルフィド、ビニルフェニルスルフィド、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジエポキシアクリレートなどが挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート等を用いることが好ましい。 The refractive index of these monomers is around 1.5, but the monomers having a high refractive index include those having a cyclic group and / or those containing halogen atoms other than fluorine atoms and atoms such as S, N and P. No. The cyclic group includes an aromatic group, a heterocyclic group and an aliphatic ring group. For example, bis (4-methacryloylthiophenoxy) sulfide, vinyl phenyl sulfide, bisphenoxyethanol full orange acrylate, tetrabromobisphenol A diepoxy acrylate and the like can be mentioned. In particular, in the present invention, it is preferable to use a urethane acrylate-based prepolymer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenoxyethanol fluorene acrylate or the like as a monomer.
さらに、光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。 Further, examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.
また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ− n−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。 Further, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like can be mixed and used as a photosensitizer.
本発明の光学フィルムにおける、ハードコート層に用いられる金属酸化物微粒子は、例えば、TiO2(屈折率:2.3〜2.7)、ZrO2(屈折率:2.0)、La2O3(屈折率:2.0)、Y2O5(屈折率:1.9)、SnO2(屈折率:1.9)、Al2O3(屈折率:1.6)、SiO2(屈折率:1.5)などの金属酸化物微粒子、或いはこれら2種以上の複合金属酸化物微粒子やATO(アンチモン−錫酸化物)やITO(インジウム−錫酸化物)などの導電性金属酸化物超微粒子を挙げることができ、これらの金属酸化物超微粒子の添加量を調整することにより、基材プラスチックフィルムとハードコート層の屈折率を同等なものに調整することができる。金属酸化物微粒子のは,透明性,分散性の問題から粒径1〜100nmであることが好ましい。しかしながらこれに限定されるものではない。粒径が100nmを越えるとレイリー散乱によって光が著しく反射され,膜が白くなって透明性の低下がみられ,また1nm未満では粒子間の凝集による膜の不均一性等の問題が生じる。 The metal oxide fine particles used for the hard coat layer in the optical film of the present invention are, for example, TiO 2 (refractive index: 2.3 to 2.7), ZrO 2 (refractive index: 2.0), La 2 O. 3 (refractive index: 2.0), Y 2 O 5 (refractive index: 1.9), SnO 2 (refractive index: 1.9), Al 2 O 3 (refractive index: 1.6), SiO 2 ( Metal oxide fine particles having a refractive index of 1.5), or composite metal oxide fine particles of two or more of these, or conductive metal oxides such as ATO (antimony-tin oxide) and ITO (indium-tin oxide) Ultrafine particles can be mentioned, and the refractive index of the base plastic film and the refractive index of the hard coat layer can be adjusted to be equal by adjusting the addition amount of these metal oxide ultrafine particles. The metal oxide fine particles preferably have a particle size of 1 to 100 nm from the viewpoint of transparency and dispersibility. However, it is not limited to this. If the particle size exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, the film becomes white, and the transparency is reduced. If the particle size is less than 1 nm, problems such as non-uniformity of the film due to aggregation between particles occur.
本発明の光学フィルムにおけるハードコート層においては、金属酸化物超微粒子の含有量は、屈折率調整の面から、紫外線および電子線硬化型樹脂の硬化物100重量部に対して0〜600重量部の範囲にあることが好ましい。さらに、超微粒子表面には表面処理を施してバインダーである有機物との親和性を高めることが好ましい。表面処理には、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的/化学的表面処理両方で実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物であるシランカップリング剤やチタンカップリング剤などが好ましい。カップリング剤による表面処理には、触媒として無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、炭酸など)、有機酸(例、酢酸、ポリアクリル酸、ポリグルタミン酸など)を用いることが好ましい。 In the hard coat layer of the optical film of the present invention, the content of the metal oxide ultrafine particles is 0 to 600 parts by weight based on 100 parts by weight of the cured product of the ultraviolet ray and the electron beam curable resin from the viewpoint of adjusting the refractive index. Is preferably within the range. Further, it is preferable that the surface of the ultrafine particles is subjected to a surface treatment to increase the affinity with an organic substance as a binder. The surface treatment can be classified into a physical surface treatment such as a plasma discharge treatment or a corona discharge treatment, and a chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferred to carry out only the chemical surface treatment or both the physical / chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent is preferable. For surface treatment with a coupling agent, inorganic acids (eg, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, carbonic acid, etc.) and organic acids (eg, acetic acid, polyacrylic acid, polyglutamic acid, etc.) are used as catalysts. Preferably, it is used.
また、ハードコート層の硬度は、500g荷重の鉛筆硬度で3H以上であるのが好ましく、ハードコートフィルムに必要な耐擦傷性を備えることができる。 Further, the hardness of the hard coat layer is preferably 3H or more as a pencil hardness under a load of 500 g, and the hard coat film can have necessary scratch resistance.
ハードコート層形成用のハードコート剤の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種溶媒中に紫外線および電子線硬化型樹脂と金属酸化物超微粒子と光重合開始剤等を加えて混合する。 In the adjustment of the hard coat agent for forming the hard coat layer, there is no particular limitation on the mixing order of each component, and the ultraviolet and electron beam curable resin, the metal oxide ultrafine particles, the photopolymerization initiator and the like are added in various solvents. And mix.
溶剤としては、基材を浸食するかどうかを確認した後,適宜選択することができる。溶剤はメチルエチルケトン、アセトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。また、このハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤等の公知の添加剤を配合することができる。ハードコート剤の固形分濃度については特に制限はなく、塗工性、乾燥性、経済性等の面から10〜70重量%の範囲が好ましく、特に30〜50重量%の範囲が好適である。 The solvent can be appropriately selected after confirming whether or not the base material is eroded. Solvents include ketones such as methyl ethyl ketone, acetone and methyl isobutyl ketone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, aromatic compounds such as toluene and xylene, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, methanol and ethanol. And alcohols such as isopropanol. In addition, known additives such as an antifoaming agent and a leveling agent can be added to the hard coat agent, if desired. The solid content concentration of the hard coat agent is not particularly limited, and is preferably in the range of 10 to 70% by weight, and particularly preferably in the range of 30 to 50% by weight from the viewpoints of coating properties, drying properties, economy and the like.
ハードコート剤の基材への塗工方法については特に制限はなく、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。 The method of applying the hard coat agent to the substrate is not particularly limited, and a bar coat method, a knife coat method, a roll coat method, a blade coat method, a die coat method, or the like can be used.
この塗工層の厚さは、ハードコート剤の固形分濃度および硬化後における防眩層の密度から必要なハードコート剤の塗工量を算出することにより、制御する事ができる。 The thickness of this coating layer can be controlled by calculating the required coating amount of the hard coating agent from the solid content concentration of the hard coating agent and the density of the antiglare layer after curing.
また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高いハードコート層を形成しても良い。 Further, the coating layer after drying may be cured by irradiating the coating layer with ultraviolet rays and electron beams in an atmosphere purged with nitrogen to form a hard coat layer with less oxygen damage and high surface hardness.
硬化に用いる紫外線照射装置については、特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、フュージョンランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を使用することができる。 There is no particular limitation on the ultraviolet irradiation device used for curing, and a known ultraviolet irradiation device using, for example, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fusion lamp, or the like can be used.
紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cm2程度である。電子線照射装置については特に制限はなく、加速電圧は通常50〜300kVである。 The amount of ultraviolet irradiation is usually about 100 to 800 mJ / cm 2 . There is no particular limitation on the electron beam irradiation device, and the acceleration voltage is usually 50 to 300 kV.
このようにして得られた光学フィルムは、ハードコート性、透明性および干渉縞防止性に優れ、かつ各種ディスプレイに使用した際に視認性が良好である。従って、各種ディスプレイの保護用フィルムとして使用することができる。 The optical film thus obtained is excellent in hard coat properties, transparency and interference fringe prevention properties, and has good visibility when used for various displays. Therefore, it can be used as a protective film for various displays.
ハードコート層の上に設ける反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層を有する構成からなる。本発明においては、低屈折率層単層が好ましい。例えば、本発明の基材をポリエチレンテレフタレートフィルムとした場合にはハードコート層を有する基材全体の屈折率が高く、低屈折率層との屈折率差が大きくなり、反射防止性能が向上するためである。 The antireflection layer provided on the hard coat layer has a configuration having a low refractive index layer and a high refractive index layer. In the present invention, a single layer of a low refractive index layer is preferred. For example, when the substrate of the present invention is a polyethylene terephthalate film, the refractive index of the entire substrate having a hard coat layer is high, the refractive index difference from the low refractive index layer is large, and the antireflection performance is improved. It is.
ここで、低屈折率層は,例えば、屈折率の低い微粒子であるMgF2(屈折率;1.4)、SiO2(屈折率;1.5)等を分散した、紫外線および電子線硬化型樹脂からなるもの、あるいは、シランカップリング剤とフッ素系シランカップリング剤の混合物を触媒により加水分解したオリゴマーからなる各種ゾルとする。しかしながら,これに限定されるものではない。 Here, the low-refractive-index layer is, for example, an ultraviolet ray and an electron beam curable type in which fine particles having a low refractive index, such as MgF 2 (refractive index; 1.4) and SiO 2 (refractive index; 1.5), are dispersed. Various sols made of resin or oligomers obtained by hydrolyzing a mixture of a silane coupling agent and a fluorine-based silane coupling agent with a catalyst are used. However, it is not limited to this.
低屈折率層の形成方法としては、前述の各種塗工方法により、硬化膜厚が、0.01〜1μmになるように塗工し、乾燥処理を行った後、必要に応じて紫外線および電子線照射を行う。 The low-refractive-index layer is formed by applying the above-described various coating methods so that the cured film thickness becomes 0.01 to 1 μm, performing a drying treatment, and then, if necessary, using ultraviolet rays and electrons. Perform line irradiation.
前記低屈折率層の他の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば、前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚0.1μm程度のMgF2等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはSiOxやMgF2の蒸着膜により形成しても良い。 Other methods of forming the low refractive index layer may be any suitable means such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, and an electroplating method. It may be formed of a paint film, an ultra-thin film of about 0.1 μm of MgF 2 or the like, a metal vapor-deposited film, or a vapor-deposited film of SiO x or MgF 2 .
また、本発明の反射防止層における高屈折率層は,屈折率の高い微粒子であるTiO2(屈折率;2.3〜2.7)、Y2O3(屈折率;1.9)、La2O3(屈折率;2.0)、ZrO2(屈折率;2.1)、Al2O3(屈折率;1.6)等を分散した紫外線または電子線硬化型樹脂からなるものが挙げられるが,これに限定されるものではない。 The high refractive index layer in the antireflection layer of the present invention is made of fine particles having a high refractive index, such as TiO 2 (refractive index; 2.3 to 2.7), Y 2 O 3 (refractive index; 1.9), It is made of an ultraviolet or electron beam curable resin in which La 2 O 3 (refractive index; 2.0), ZrO 2 (refractive index; 2.1), Al 2 O 3 (refractive index; 1.6) or the like is dispersed. However, the present invention is not limited to this.
高屈折率層形成方法としては,前述の各種塗工方法により、硬化膜厚が0.01〜1μmになるように塗工し、乾燥処理を行った後、必要に応じて紫外線および電子線照射を行う。 As a method of forming the high refractive index layer, the composition is applied by the above-mentioned various application methods so that the cured film thickness becomes 0.01 to 1 μm, dried, and then irradiated with ultraviolet rays and electron beams as necessary. I do.
前記高屈折率層の他の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚0.1μm程度のTiO2等の極薄膜や金属蒸着膜により形成しても良い。 The other method of forming the high refractive index layer may be any appropriate means such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, and an electroplating method. , A very thin film of TiO 2 or the like having a thickness of about 0.1 μm, or a metal deposited film.
本発明の光学フィルムにはさらに他の層を積層してもよい。例えば、帯電防止層や防汚層などが挙げられる。 Other layers may be further laminated on the optical film of the present invention. For example, an antistatic layer and an antifouling layer can be used.
以下、本発明を具体的な実験例を元に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on specific experimental examples.
各実験例で作成した光学フィルムの性能は,下記の方法に従って評価した。
<分光反射率&フリンジ幅>
自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。このスペクトルデータから反射率の隣り合う極大値と極小値の差の絶対値をフリンジ幅とした。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
(目視評価)
20W蛍光灯から20cmの距離でハードコート表面に蛍光灯の光を入射し、干渉縞の目視評価を行った。なお、評価の際には、塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
(耐擦傷性)
#0000のスチールウールを用い、250g荷重で10往復表面を擦り、傷の有無を目視評価した。
(全光線透過率およびヘイズ値)
表面保護フィルムを写像性測定器[日本電色工業(株)製,NDH−2000]を使用して測定した。
(鉛筆硬度)
JIS K5400に準拠し、試験機法により1kg荷重で評価した。
<実験例1>
基材として厚み75μm、屈折率(550nm)1.65の汎用溶剤に浸食されにくいポリエチレンテレフタレートフィルム(全光線透過率:88.7%、ヘイズ値:0.7%)を用いて、
ペンタエリスリトールトリアクリレート 6重量部
酸化ジルコニウム超微粒子(粒径10〜15nm)4重量部
イルガキュアー184 0.2重量部
メチルエチルケトン 10重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりWET膜厚6、10、20μm(乾燥後のDRY膜厚3、5、10μm)になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により1000mJの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率(550nm)は1.61であった。この光学フィルムの性能評価結果を表1に示す。
<実験例2>
ペンタエリスリトールトリアクリレート4重量部、酸化ジルコニウム超微粒子6重量部とした以外は実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率(550nm)は1.65であった。この光学フィルムの性能評価結果を表1に示す。
<実験例3>
ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部、酸化ジルコニウム超微粒子7重量部とした以外は実施例1と同様にして光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率(550nm)は1.69であった。この光学フィルムの性能評価結果を表1に示す。
<実験例4>
基材として厚み80μm、屈折率(550nm)1.49の汎用溶剤に浸食されやすいトリアセチルセルロースフィルム(全光線透過率:94.1%、ヘイズ値:0.1%)を用い、溶剤として,基材を溶解または膨潤するメチルエチルケトン,酢酸メチルを用いて,
ペンタエリスリトールトリアクリレート 5重量部
ウレタンアクリレート 5重量部
イルガキュアー184 0.5重量部
メチルエチルケトン 5重量部
酢酸メチル 5重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりWET膜厚10μm(乾燥後のDRY膜厚5μm)になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により1000mJの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率(550nm)は1.51であった。この光学フィルムの性能評価結果を表1に示す。
<実験例5>
基材として厚み75μm、屈折率(550nm)1.65のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いて、
ペンタエリスリトールトリアクリレート 5重量部
ウレタンアクリレートプレポリマー 5重量部
イルガキュアー184 0.5重量部
メチルエチルケトン 10重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりWET膜厚6、16、24μm(乾燥後のDRY膜厚3、8、12μm)になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により1000mJの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率(550nm)は1.50であった。この光学フィルムの性能評価結果を表1に示す。
<実験例6>
基材として厚み80μm、屈折率(550nm)1.49のトリアセチルセルロースフィルムを用い、溶剤として基材を浸食しないイソプロピルアルコールを用いて,
ペンタエリスリトールトリアクリレート 7.5重量部
酸化ジルコニウム超微粒子 2.5重量部
イルガキュアー184 0.5重量部
イソプロピルアルコール 10重量部
を攪拌、混合した塗布液を、グラビアコーティング法によりWET膜厚6μm(乾燥後のDRY膜厚3μm)になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により1000mJの紫外線を照射しハードコート層を形成し、光学フィルムを作製した。ハードコート層の屈折率(550nm)は1.55であった。この光学フィルムの性能評価結果を表1に示す。
The performance of the optical film prepared in each experimental example was evaluated according to the following method.
<Spectral reflectance & fringe width>
The spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.). From the spectrum data, the absolute value of the difference between the adjacent maximum value and minimum value of the reflectance was defined as the fringe width. At the time of the measurement, the surface opposite to the application surface was matted and a black paint was applied to perform anti-reflection treatment.
(Visual evaluation)
Light of the fluorescent lamp was incident on the surface of the hard coat at a distance of 20 cm from the 20 W fluorescent lamp, and visual evaluation of interference fringes was performed. At the time of evaluation, a matte black paint was applied to the surface opposite to the application surface, and antireflection treatment was performed.
(Scratch resistance)
Using # 0000 steel wool, the surface of 10 reciprocations was rubbed with a load of 250 g, and the presence or absence of scratches was visually evaluated.
(Total light transmittance and haze value)
The surface protective film was measured using an image clarity measuring device [NDH-2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.].
(Pencil hardness)
Based on JIS K5400, it was evaluated at a load of 1 kg by a testing machine method.
<Experimental example 1>
Using a polyethylene terephthalate film (total light transmittance: 88.7%, haze value: 0.7%) that is hardly eroded by a general-purpose solvent having a thickness of 75 µm and a refractive index (550 nm) of 1.65 as a base material,
4 parts by weight of ultrafine zirconium oxide particles (particle size: 10 to 15 nm)
Irgacure 184 0.2 parts by weight
A coating solution obtained by stirring and mixing 10 parts by weight of methyl ethyl ketone is applied by a gravure coating method so as to have a WET film thickness of 6, 10, 20 μm (DRY film thickness after drying 3, 5, 10 μm), and dried. An optical film was produced by irradiating 1000 mJ of ultraviolet light to form a hard coat layer. The refractive index (550 nm) of the hard coat layer was 1.61. Table 1 shows the performance evaluation results of this optical film.
<Experimental example 2>
An optical film was produced in the same manner as in Example 1, except that 4 parts by weight of pentaerythritol triacrylate and 6 parts by weight of ultrafine zirconium oxide particles were used. The refractive index (550 nm) of the hard coat layer was 1.65. Table 1 shows the performance evaluation results of this optical film.
<Experimental example 3>
An optical film was produced in the same manner as in Example 1, except that 3 parts by weight of pentaerythritol triacrylate and 7 parts by weight of ultrafine zirconium oxide particles were used. The refractive index (550 nm) of the hard coat layer was 1.69. Table 1 shows the performance evaluation results of this optical film.
<Experimental example 4>
A triacetylcellulose film (total light transmittance: 94.1%, haze value: 0.1%) easily eroded by a general-purpose solvent having a thickness of 80 μm and a refractive index (550 nm) of 1.49 was used as a substrate. Using methyl ethyl ketone and methyl acetate to dissolve or swell the substrate,
Irgacure 184 0.5 parts by weight
A coating solution obtained by stirring and mixing 5 parts by weight of methyl acetate is applied by a gravure coating method so as to have a WET film thickness of 10 μm (DRY film thickness after drying is 5 μm), and is dried. An optical film was produced by forming a coat layer. The refractive index (550 nm) of the hard coat layer was 1.51. Table 1 shows the performance evaluation results of this optical film.
<Experimental example 5>
Using a polyethylene terephthalate film having a thickness of 75 μm and a refractive index (550 nm) of 1.65 as a substrate,
Irgacure 184 0.5 parts by weight
A coating solution obtained by stirring and mixing 10 parts by weight of methyl ethyl ketone is applied by a gravure coating method to a WET film thickness of 6, 16, 24 μm (DRY film thickness after drying: 3, 8, 12 μm), dried, and dried with a high-pressure mercury lamp. An optical film was produced by irradiating 1000 mJ of ultraviolet light to form a hard coat layer. The refractive index (550 nm) of the hard coat layer was 1.50. Table 1 shows the performance evaluation results of this optical film.
<Experimental example 6>
Using a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm and a refractive index (550 nm) of 1.49 as a base material, and using isopropyl alcohol which does not corrode the base material as a solvent,
7.5 parts by weight of pentaerythritol triacrylate
2.5 parts by weight zirconium oxide ultrafine particles
Irgacure 184 0.5 parts by weight
A coating solution obtained by stirring and mixing 10 parts by weight of isopropyl alcohol is applied by a gravure coating method to a WET film thickness of 6 μm (DRY film thickness after drying is 3 μm), dried, and irradiated with ultraviolet rays of 1000 mJ by a high pressure mercury lamp to harden. An optical film was produced by forming a coat layer. The refractive index (550 nm) of the hard coat layer was 1.55. Table 1 shows the performance evaluation results of this optical film.
<実験例7>
実験例1と同様にしてハードコート層を積層した光学フィルムを作成した。次いで,テトラエトキシシランと、フッ化アルキルシランをモル比95:5で混合し、この溶液の0.22倍重量の溶媒(2−メトキシエタノール:イソプロピルアルコール=1:1)により希釈した。この溶液に、前記シランに対し7.5倍モルの1規定塩酸(水重量換算による)を加えて1時間の攪拌により、加水分解してゾル溶液とた。そして,ここに上記の溶媒を加えて、固形分濃度4%としたものを反射防止層の塗工液とした。光学フィルム上に、前記反射防止層の塗工液を硬化膜厚が0.1μmになるように塗工し、120℃で5分間加熱処理を行い、反射防止を単層で積層した光学フィルムを作成した。この光学フィルムを自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。ハードコート層膜厚10μmの分光反射率グラフを図6に示す。
<実験例8>
実験例7と同様にしてハードコート層を積層した光学フィルムを作成した。実施例5と同様にして反射防止を単層で積層した光学フィルムを作成した。この光学フィルムを自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。ハードコート層膜厚8μmの分光反射率グラフを図7に示す。
<Experimental example 7>
An optical film having a hard coat layer laminated thereon was produced in the same manner as in Experimental Example 1. Then, tetraethoxysilane and fluorinated alkylsilane were mixed at a molar ratio of 95: 5, and the mixture was diluted with a solvent (2-methoxyethanol: isopropyl alcohol = 1: 1) 0.22 times the weight of this solution. To this solution was added 1N hydrochloric acid (in terms of water weight) 7.5 times the mol of the silane, and the mixture was hydrolyzed by stirring for 1 hour to form a sol solution. Then, a solution having a solid content of 4% by adding the above solvent was used as a coating liquid for the antireflection layer. On the optical film, a coating liquid of the antireflection layer is applied so that the cured film thickness becomes 0.1 μm, and a heat treatment is performed at 120 ° C. for 5 minutes to form an optical film having a single layer of antireflection. Created. Using this automatic film, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.). At the time of the measurement, the surface opposite to the application surface was matted and a black paint was applied to perform anti-reflection treatment. FIG. 6 shows a spectral reflectance graph of the hard coat layer having a film thickness of 10 μm.
<Experimental example 8>
An optical film having a hard coat layer laminated thereon was produced in the same manner as in Experimental Example 7. In the same manner as in Example 5, an optical film laminated with a single layer of antireflection was prepared. Using this automatic film, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.). At the time of the measurement, the surface opposite to the application surface was matted and a black paint was applied to perform anti-reflection treatment. FIG. 7 shows a spectral reflectance graph of the hard coat layer having a thickness of 8 μm.
図6、7の比較からも明らかなように、反射防止層を積層した場合でも本発明品は光の干渉が起こっておらず、視認性に優れている。また、同じ反射防止層を形成した場合においても,光の干渉が起こっていないため、視感平均反射率は低くなり,反射防止性能が向上していることがわかる。 As is clear from the comparison between FIGS. 6 and 7, even when the antireflection layer is laminated, the product of the present invention does not cause light interference and is excellent in visibility. In addition, even when the same anti-reflection layer was formed, since no light interference occurred, the luminous average reflectance was low and the anti-reflection performance was improved.
1 透明基材
2 樹脂
3 ハードコート層
4 金属酸化物微粒子
5 反射防止層
6 光学フィルム
DESCRIPTION OF
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003362894A JP2004287392A (en) | 2003-03-03 | 2003-10-23 | Optical film |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003055299 | 2003-03-03 | ||
JP2003362894A JP2004287392A (en) | 2003-03-03 | 2003-10-23 | Optical film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004287392A true JP2004287392A (en) | 2004-10-14 |
Family
ID=33301971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003362894A Pending JP2004287392A (en) | 2003-03-03 | 2003-10-23 | Optical film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004287392A (en) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006051781A (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-23 | Toppan Printing Co Ltd | Hard coat film and display device equipped with the film |
JP2006159415A (en) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Toppan Printing Co Ltd | Hard coat film and its manufacturing method |
JP2006189752A (en) * | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Bridgestone Corp | Antireflection film having antistatic filler, and filter for display having the antireflection film |
JP2007147797A (en) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Nippon Zeon Co Ltd | Antireflection film and optical product |
JP2007147798A (en) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Nippon Zeon Co Ltd | Antireflection film and optical product |
JP2008133379A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Osaka Gas Co Ltd | Zirconium oxide-containing resin composition and molded form thereof |
JP2008257219A (en) * | 2007-03-09 | 2008-10-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for producing optical laminate, optical laminate, polarizing plate and image display device |
JP2009265658A (en) * | 2008-04-03 | 2009-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film and method for manufacturing method thereof |
JP2010092003A (en) * | 2008-09-11 | 2010-04-22 | Toppan Printing Co Ltd | Antireflection film |
JP2010107542A (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | Hard coat film and antireflection film using the same |
JP2010128423A (en) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Seiko Epson Corp | Optical article and manufacturing method thereof |
JP2011175040A (en) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Hard coat film |
JP2015069015A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 日東電工株式会社 | Optical laminate |
JP2016014889A (en) * | 2010-04-15 | 2016-01-28 | 日東電工株式会社 | Hard coat film, polarizing plate, and image display device |
WO2023096419A1 (en) * | 2021-11-29 | 2023-06-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | Electronic device |
-
2003
- 2003-10-23 JP JP2003362894A patent/JP2004287392A/en active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006051781A (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-23 | Toppan Printing Co Ltd | Hard coat film and display device equipped with the film |
JP2006159415A (en) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Toppan Printing Co Ltd | Hard coat film and its manufacturing method |
JP2006189752A (en) * | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Bridgestone Corp | Antireflection film having antistatic filler, and filter for display having the antireflection film |
JP2007147797A (en) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Nippon Zeon Co Ltd | Antireflection film and optical product |
JP2007147798A (en) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Nippon Zeon Co Ltd | Antireflection film and optical product |
JP2008133379A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Osaka Gas Co Ltd | Zirconium oxide-containing resin composition and molded form thereof |
JP2008257219A (en) * | 2007-03-09 | 2008-10-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for producing optical laminate, optical laminate, polarizing plate and image display device |
JP2009265658A (en) * | 2008-04-03 | 2009-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film and method for manufacturing method thereof |
JP2010092003A (en) * | 2008-09-11 | 2010-04-22 | Toppan Printing Co Ltd | Antireflection film |
JP2010107542A (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | Hard coat film and antireflection film using the same |
JP2010128423A (en) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Seiko Epson Corp | Optical article and manufacturing method thereof |
JP2011175040A (en) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Hard coat film |
JP2016014889A (en) * | 2010-04-15 | 2016-01-28 | 日東電工株式会社 | Hard coat film, polarizing plate, and image display device |
JP2015069015A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 日東電工株式会社 | Optical laminate |
WO2023096419A1 (en) * | 2021-11-29 | 2023-06-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | Electronic device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100867338B1 (en) | Coating composition, coating film thereof, antireflection coating, antireflection film, image display, and intermediate product | |
TWI429942B (en) | Hard-coated antiglare film, and polarizing plate and image display including the same | |
KR101870473B1 (en) | Anti-reflective film, anti-reflective film production method, polarization plate and image display device | |
KR102402877B1 (en) | optical laminate | |
JP5055695B2 (en) | Anti-reflection laminate | |
JP5372417B2 (en) | Antireflection film | |
JP2013174888A (en) | Anti-glare film composition and anti-glare film prepared using the same | |
JP4742579B2 (en) | Anti-reflection laminate | |
US20080305282A1 (en) | Antireflection film and display front plate using the same | |
JP2004287392A (en) | Optical film | |
JP4712236B2 (en) | Antireflection film, antireflection film, image display device, and manufacturing method thereof | |
TWI391713B (en) | Optical sheet | |
KR101192387B1 (en) | Optical laminate | |
WO2016152691A1 (en) | Antireflection film, display device in which said antireflection film is used, and method for selecting antireflection film | |
JP2007334134A (en) | Antireflection film | |
JP2009265651A (en) | Optical film, polarizing plate, and image display apparatus | |
JP2002167576A (en) | Composition for high-refractive electroconductive material, transparent electroconductive material and reflection-reducing material | |
JP4710269B2 (en) | Antireflection laminated film and display medium using the same | |
TWI383894B (en) | Optical laminate | |
JP2010002820A (en) | Antireflection film | |
JP2006178276A (en) | Antireflection layered film | |
JP2007070455A (en) | Antistatic and glare-proof hard coating agent and film using the same | |
JP2010215685A (en) | Low refractive index coating agent and antireflection film | |
JP6393970B2 (en) | HARD COAT COMPOSITION, HARD COAT FILM, AND ANTI-REFLECTION FILM | |
JP2010032893A (en) | Antireflection film and front filter for display using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090428 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090629 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091225 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100302 |