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JP2004193582A - Equipment for sealing with resin - Google Patents

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JP2004193582A
JP2004193582A JP2003384500A JP2003384500A JP2004193582A JP 2004193582 A JP2004193582 A JP 2004193582A JP 2003384500 A JP2003384500 A JP 2003384500A JP 2003384500 A JP2003384500 A JP 2003384500A JP 2004193582 A JP2004193582 A JP 2004193582A
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide equipment for sealing with resin, which does not need special processing before sealing with resin, simplifies a die structure and die maintenance, and improves the mold quality. <P>SOLUTION: Sealing with resin is carried out by carrying a cavity plate 11 in a pressing section 5, which has a bored cavity hole 13 defining the external form and thickness of a work 2 and a package 36 and is capable of repeatedly carrying in and out, and then aligning it a molded die 6 to clamp. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ワークがモールド金型に搬入されクランプされて樹脂封止が行なわれる樹脂封止装置に関する。   The present invention relates to a resin sealing device in which a work is carried into a mold and clamped to perform resin sealing.

半導体装置製造用の樹脂封止装置の一例として、トランスファー成形により樹脂封止部(パッケージ部)が形成される樹脂封止装置が用いられている。この樹脂封止装置は、半導体チップが樹脂基板、リードフレームなどの基板上に搭載されたワーク或いは半導体用基板などのワークが、キャビティ凹部が形成されたモールド金型に搬入されてクランプされ、ポットに装填された樹脂材をプランジャによりランナゲートを通じてキャビティ凹部へ移送して樹脂封止されるようになっている。   As an example of a resin sealing device for manufacturing a semiconductor device, a resin sealing device in which a resin sealing portion (package portion) is formed by transfer molding is used. In this resin sealing device, a work in which a semiconductor chip is mounted on a substrate such as a resin substrate or a lead frame or a work such as a semiconductor substrate is carried into a mold having a cavity recess formed therein, clamped, and potted. The resin material loaded into the cavity is transferred to the cavity recess through the runner gate by the plunger and is sealed with the resin.

また、近年CSP(Chip・Size・Package又はChip・Scale・Package)タイプの半導体装置に代表されるように、半導体チップが基板の一方の面にマトリクス状に搭載されたワークが一括して樹脂封止され、樹脂封止後、ダイシング装置により、半導体チップ毎に個片になるようにダイシングされて半導体装置が製造されている。   In recent years, as represented by a CSP (Chip Size Package or Chip Scale Package) type semiconductor device, a work in which a semiconductor chip is mounted in a matrix on one surface of a substrate is collectively sealed with a resin. The semiconductor device is manufactured by dicing the semiconductor chip into individual pieces by a dicing device after sealing and resin sealing.

モールド金型は、上型及び下型を有し、半導体チップが収容されたキャビティ凹部へ封止樹脂を充填するためには基板上を封止樹脂が通過するランナゲートを設ける必要がある。また、基板面に特殊処理(例えばディゲート用金めっきの形成)が必要になり、製造コストも増大する。
また、ワークに片面モールドを行う場合、基板側面の樹脂バリが発生するおそれがあり、金型メンテナンスも必要になる。
The mold has an upper mold and a lower mold, and it is necessary to provide a runner gate through which the sealing resin passes over the substrate in order to fill the cavity with the semiconductor chip accommodated therein. In addition, special processing (for example, formation of gold plating for degate) is required on the substrate surface, which increases the manufacturing cost.
Further, when performing one-sided molding on the work, there is a possibility that resin burrs on the side surface of the substrate may occur, and die maintenance is required.

これに対して回路基板の樹脂封止範囲以外には封止樹脂を接触させないようにするため、キャビティが形成されたキャビティプレートをプリント基板に重ね合わせて樹脂封止する方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。   On the other hand, a method has been proposed in which a cavity plate having cavities is superposed on a printed circuit board and resin-sealed in order to prevent the sealing resin from being brought into contact with a portion other than the resin sealing area of the circuit board ( See, for example, Patent Document 1.

特公昭61−46049号公報JP-B-61-46049

しかしながら、特許文献1の樹脂封止方法は、プリント基板と略同じ大きさのキャビティプレートとプリント基板とを別々にモールド金型のゲージピンに通して重ねているだけである。どのようにキャビティプレートとプリント基板とをモールド金型に搬入し、成形後にモールド金型からプリント基板を取り出すのか、更には成形品から不要樹脂のゲートブレイクやキャビティプレートとプリント基板との分離などをどのように具現化するかは明らかにされていない。また、金型クランプ面にランナゲートが形成されているため、金型のクリーニングやメンテナンスを随時行う必要があり、装置の稼動効率が低下し生産効率が低下する。   However, the resin sealing method of Patent Document 1 merely overlaps a cavity plate having substantially the same size as a printed circuit board and a printed circuit board by passing them through gauge pins of a mold. How to carry the cavity plate and printed circuit board into the mold, and remove the printed circuit board from the mold after molding, as well as gate break of unnecessary resin from the molded product and separation of the cavity plate and printed circuit board. It is not clear how it will be implemented. In addition, since the runner gate is formed on the mold clamping surface, it is necessary to perform cleaning and maintenance of the mold at any time, so that the operation efficiency of the apparatus is reduced and the production efficiency is reduced.

本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、樹脂封止に先立ってワークに特殊な加工処理が不要であり、金型構造や金型メンテナンスを簡素化し、しかも、成形品質や生産効率を向上できる樹脂封止装置を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, eliminate the need for special processing on a work prior to resin sealing, simplify the mold structure and mold maintenance, and further improve molding quality and production efficiency. It is an object of the present invention to provide a resin sealing device capable of improving the performance.

本発明は上記目的を達成するため、次の構成を備える。
即ち、ワークがプレス部に搬入されモールド金型にクランプされて樹脂封止が行なわれる樹脂封止装置において、前記ワークと、樹脂封止部の外形及び厚さを規定するキャビティ孔が穿孔され繰り返し搬入/搬出可能なキャビティプレートとがプレス部に搬入され、モールド金型と位置合わせしてクランプすることにより樹脂封止されることを特徴とする。
The present invention has the following configuration to achieve the above object.
That is, in a resin sealing device in which a work is carried into a press section and clamped by a mold die to perform resin sealing, the work and a cavity hole that defines the outer shape and thickness of the resin sealing section are perforated and repeatedly formed. A carry-in / carry-out cavity plate is carried into a press section, and is resin-sealed by being positioned and clamped with a mold.

具体的には、キャビティプレートは、モールド金型のクランプ面に循環若しくは往復動する金属製のベルト状に形成されており、複数箇所にキャビティ孔が所定ピッチで穿孔されていることを特徴とする。
また、キャビティプレートは、送りローラ間に巻き回されてピッチ送りされ、樹脂封止後に型開きされた金型クランプ面よりキャビティプレートを離間させて送ることにより成形後のワークがモールド金型より取り出されることを特徴とする。
また、キャビティプレートは、プレス部への搬送方向上流側で搬送動作に伴ってクリーニングされることを特徴とする。
Specifically, the cavity plate is formed in a metal belt shape that circulates or reciprocates on the clamp surface of the mold, and cavity holes are formed at a plurality of locations at a predetermined pitch. .
In addition, the cavity plate is wound between the feed rollers and pitch-fed, and after the resin is sealed, the cavity plate is separated and fed from the mold clamping surface that is opened, so that the molded workpiece is taken out of the mold. It is characterized by being.
Further, the cavity plate is cleaned along with the transport operation on the upstream side in the transport direction to the press section.

或いは、キャビティプレートは、プレス部に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面上を周回移動する金属製のプレートであり、複数箇所にキャビティ孔が所定ピッチで穿孔されていることを特徴とする。
このキャビティプレートは、プレス部への搬送方向上流側でプレヒートされることを特徴とする。
また、キャビティプレートは、プレヒート部、プレス部、ディゲート部及びクリーニング部間を各工程間の同期を取って周回させて樹脂封止が行われることを特徴とする。
また、成形後のワークは、プレス部から搬送方向下流側のディゲート部へ搬送されて、樹脂封止部と不要樹脂部とがキャビティプレートの両側へ分離されて回収されることを特徴とする。
また、プレス部は、樹脂路を含む金型クランプ面がリリースフィルムにより覆われるトランスファー成形用のモールド金型を備え、或いは一方の金型にワーク載置部が形成され、他方の金型にキャビティプレートのキャビティ孔に連通可能なオーバーフローキャビティが形成されリリースフィルムに覆われる圧縮成形用のモールド金型を備えたことを特徴とする。
更にはモールド金型のうちワークをクランプする際に基板を受けるワーク載置部には、該基板の板厚の変動を調整する板厚調整機構が設けられていることを特徴とする。
加えて、プレス部には、キャビティ孔が穿設されたキャビティプレートに替えて、樹脂封止部の外形及び厚さを規定するキャビティ凹部が形成され、該キャビティ凹部に連通するバーチカルゲートが穿孔されたキャビティプレートが搬入されることを特徴とする。
Alternatively, the cavity plate is a metal plate that orbits on a track surface substantially parallel to the clamp surface of the molding die with respect to the press portion, and that cavity holes are formed at a plurality of locations at a predetermined pitch. Features.
This cavity plate is characterized in that it is preheated on the upstream side in the conveying direction to the press section.
Further, the cavity plate is characterized in that the preheating section, the pressing section, the degate section, and the cleaning section are rotated around in synchronization with each other to perform resin sealing.
Further, the molded workpiece is transported from the press section to the degate section on the downstream side in the transport direction, and the resin sealing section and the unnecessary resin section are separated and collected on both sides of the cavity plate.
Further, the press section includes a transfer mold in which a mold clamp surface including a resin path is covered with a release film, or a work mounting section is formed in one mold, and a cavity is formed in the other mold. An overflow cavity capable of communicating with the cavity hole of the plate is formed, and a mold for compression molding covered with a release film is provided.
Further, a work mounting portion of the mold for receiving the substrate when clamping the work is provided with a plate thickness adjusting mechanism for adjusting a change in the plate thickness of the substrate.
In addition, instead of the cavity plate in which the cavity hole is perforated, a cavity concave portion which defines the outer shape and thickness of the resin sealing portion is formed in the press portion, and a vertical gate communicating with the cavity concave portion is perforated. Characterized in that the cavity plate is transported.

本発明に係る樹脂封止装置を用いれば、ワークとキャビティプレートとがプレス部に搬入され、モールド金型と位置合わせしてクランプすることにより樹脂封止されるので、樹脂封止に先立ってワークに金めっきなどの特殊な加工処理が不要であり、生産工程を簡略化でき、金型構造や金型メンテナンスを簡素化できる。
また、キャビティプレートとして矩形状の金属プレートを使用し、枠体状の搬送アームに載置してプレス部に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面上を所定量ずつ周回移動させながら樹脂封止できるので、繰り返し使用によりプレート面のゆがみや変形などによる影響は受け難く平坦度を維持できるので、パッケージ部が薄型の製品についても高度の成形品質を維持できる。
また、比較的熱容量の少ないキャビティプレートを、プレス部への搬送方向上流側でプレヒートすることで成形時間を短縮化でき、キャビティプレートを、プレヒート部、プレス部、ディゲート部及びクリーナー部を各工程間の同期を取って周回させることにより、工程間の待ち時間が少なく生産性を向上させることができる。また、板厚やキャビティ孔のサイズが異なるキャビティプレートに変更することで成形品の品種交換にも対応することができ、大幅な装置改変を伴わずに生産できる。
また、成形後のワークの離型は、モールド金型の型開きやキャビティプレートのリフトアップ若しくはリフトダウンにより行え、成形後のワークがキャビティプレートと共にプレス部外へ取り出されるので、エジェクタピンを省略或いは減らすことにより金型構造を簡略化することができる。
また、キャビティプレートは、パッケージ部の厚みや外形寸法精度を均一に成形でき、成形後のワークに樹脂バリや基板外への封止樹脂の回り込みがなく、成形品質を向上させることができる。
また、樹脂路を含む金型クランプ面にリリースフィルムが張設されている場合には、樹脂路がリリースフィルムとキャビティプレートとの間に形成されるため、金型クランプ面を可能な限り汚さずに封止樹脂が行えるので、金型メンテナンスを簡素化することができる。
また、モールド金型のうちワークをクランプする際に基板を受けるワーク載置部に、基板の板厚の変動を調整する板厚調整機構が設けられている場合には、ワークの厚みの変動を吸収してワークが傷付いたり成形品質を損なうことがなく、樹脂封止動作の信頼性や汎用性を向上できる。
更に、キャビティ凹部に連通するバーチカルゲートが穿孔されたキャビティプレートを用いると、ワークにマトリクス状に配置された半導体チップを個別に樹脂封止することができ成形品に無駄になる樹脂部分を少なくすることができる。
When the resin sealing device according to the present invention is used, the work and the cavity plate are carried into the press section, and are sealed with the resin by being positioned and clamped with the mold. No special processing such as gold plating is required, the production process can be simplified, and the mold structure and mold maintenance can be simplified.
In addition, a rectangular metal plate is used as a cavity plate, placed on a frame-shaped transfer arm, and orbitally moved by a predetermined amount on a track surface substantially parallel to a clamp surface of a mold relative to a press portion. Since resin sealing can be performed, flatness can be maintained without being affected by distortion or deformation of the plate surface due to repeated use, and high molding quality can be maintained even for a product having a thin package portion.
In addition, the molding time can be shortened by preheating the cavity plate having a relatively small heat capacity on the upstream side in the conveying direction to the press section, and the cavity plate is moved between the preheating section, the press section, the degate section and the cleaner section between each process. In this case, it is possible to improve the productivity by reducing the waiting time between the steps. Further, by changing to a cavity plate having a different plate thickness and a different cavity hole size, it is possible to cope with a type change of a molded product, and it is possible to produce without significant equipment modification.
In addition, the mold release of the molded workpiece can be performed by opening the mold or lifting or lowering the cavity plate. Since the molded workpiece is taken out of the press section together with the cavity plate, the ejector pins are omitted or By reducing the number, the mold structure can be simplified.
In addition, the cavity plate can uniformly mold the thickness and the outer dimension accuracy of the package portion, and can prevent the resin burrs and the sealing resin from flowing out of the substrate to the molded work, thereby improving the molding quality.
Further, when the release film is stretched on the mold clamping surface including the resin path, the resin path is formed between the release film and the cavity plate, so that the mold clamping surface is not stained as much as possible. Since the sealing resin can be used, the maintenance of the mold can be simplified.
Also, when the work placement part of the mold receiving the substrate when clamping the work is provided with a plate thickness adjusting mechanism for adjusting the change in the thickness of the substrate, the work thickness fluctuation may be reduced. The reliability and versatility of the resin sealing operation can be improved without absorbing and damaging the work or impairing the molding quality.
Further, when a cavity plate having a perforated vertical gate communicating with the cavity concave portion is used, the semiconductor chips arranged in a matrix on the work can be individually resin-sealed, thereby reducing a wasteful resin portion in a molded product. be able to.

以下、本発明に係る樹脂封止装置の好適な実施の形態について添付図面と共に詳述する。
[第1実施例]
図1〜図7は樹脂封止工程の説明図、図8は樹脂封止装置の一例を示す正面図、図9は図8の樹脂封止装置の下型側の平面図、図10(a)(b)はキャビティプレートの平面図及び部分断面図、図11(a)(b)はキャビティプレートの平面図及び斜視図である。
Hereinafter, preferred embodiments of the resin sealing device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[First embodiment]
1 to 7 are explanatory views of the resin sealing process, FIG. 8 is a front view showing an example of the resin sealing device, FIG. 9 is a plan view of the lower mold side of the resin sealing device in FIG. 8, and FIG. 11 (b) is a plan view and a partial sectional view of the cavity plate, and FIGS. 11 (a) and 11 (b) are a plan view and a perspective view of the cavity plate.

先ず、樹脂封止装置の概略構成について図8〜図11を参照して説明する。本実施例はトランスファー成形方式を採用した樹脂封止装置について例示する。
図8及び図9において、ワーク供給部1は、半導体チップが樹脂基板上に搭載されたワーク2或いは半導体用基板などのワーク2が供給マガジン3よりローダー4側に送り出される。ローダー4に保持されたワーク2は、プレス部5へ搬入される。ローダー4は、後述するキャビティプレート11が下型面より離間した状態でキャビティプレート11と下型8の間に移動するようになっている。尚、ローダー4は、ワーク2を移送すると共に樹脂材(樹脂タブレットなど)を保持させて下型8に移送するようにしても良く、樹脂材のみをワーク2とは別途下型8へ供給するようにしても良い。
First, a schematic configuration of the resin sealing device will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, a resin sealing device employing a transfer molding method will be exemplified.
8 and 9, a work supply unit 1 sends a work 2 having a semiconductor chip mounted on a resin substrate or a work 2 such as a semiconductor substrate to a loader 4 side from a supply magazine 3. The work 2 held by the loader 4 is carried into the press unit 5. The loader 4 is configured to move between the cavity plate 11 and the lower mold 8 in a state in which a later-described cavity plate 11 is separated from the lower mold surface. The loader 4 may transfer the work 2 and hold the resin material (such as a resin tablet) to transfer it to the lower mold 8, and supply only the resin material to the lower mold 8 separately from the work 2. You may do it.

プレス部5は、モールド金型6を構成する固定型である上型7と可動型である下型8とを備えている。下型8は例えば電動モータ等を用いた型締め機構により上下動するようになっており、上型ベース7aには、上型クランプ面に長尺状のリリースフィルム9を供給するフィルム搬送機構10が設けられている。フィルム搬送機構10は供給リールから巻取りリールへ同期をとってリリースフィルム9を所定ピッチで送るようになっている。   The press unit 5 includes an upper die 7 that is a fixed die and a lower die 8 that is a movable die that constitute the mold 6. The lower die 8 is moved up and down by a clamping mechanism using, for example, an electric motor or the like, and the upper die base 7a is provided with a film transport mechanism 10 for supplying a long release film 9 to the upper die clamping surface. Is provided. The film transport mechanism 10 sends the release film 9 at a predetermined pitch in synchronization with the supply reel to the take-up reel.

リリースフィルム9は、封止樹脂に接触する部位を覆うものであり、本実施例では上型7のクランプ面に吸引されて張設される。リリースフィルム9は、モールド金型の加熱温度に耐えられる耐熱性を有するもので、上型面より容易に剥離するものであって、柔軟性、伸展性を有するフィルム材、例えば、PTFE、ETFE、PET、FEP、フッ素含浸ガラスクロス、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリジン等が好適に用いられる。上記リリースフィルム9を用いることでモールド金型の樹脂封止部のエジェクタピン及び樹脂封止後に金型面をクリーニングするクリーナー部を設ける必要がない。尚、リリースフィルム9を使用しない場合には、エジェクタピン及びクリーナー部を適宜設ければ良い。   The release film 9 covers a portion that comes into contact with the sealing resin. In this embodiment, the release film 9 is sucked and stretched on the clamp surface of the upper die 7. The release film 9 has heat resistance enough to withstand the heating temperature of the mold, and is easily peeled from the upper mold surface, and has flexibility and extensibility. For example, PTFE, ETFE, PET, FEP, fluorine impregnated glass cloth, polypropylene, polyvinylidene chloride and the like are preferably used. By using the release film 9, there is no need to provide an ejector pin for the resin sealing portion of the mold and a cleaner for cleaning the mold surface after the resin sealing. When the release film 9 is not used, an ejector pin and a cleaner may be provided as appropriate.

プレス部5の両側には、上型7及び下型8の間にキャビティプレート11を搬送するプレート搬送機構12が設けられている。キャビティプレート11は、図10(a)(b)に示すように、樹脂封止部の外形及び厚さを規定するキャビティ孔13及びポット孔14(何れも貫通孔)が穿孔されている。キャビティ孔13は、樹脂封止部(パッケージ部)の外形を規定しており、基板側に向かって外径が拡大するような傾きを持つ孔壁面に形成されている。ポット孔14は、上型クランプ面に向かって外径が拡大するような傾きを持つ孔壁面に形成されている。ワーク2は、半導体チップをキャビティ孔13に収容されるよう位置合わせしてプレス部5の下型8に搬入され、封止樹脂に接触する上型クランプ面がリリースフィルム9で覆われた上型7とでワーク2及びキャビティプレート11がクランプされて樹脂封止される。
キャビティ孔13は、図10(a)に示す短冊状(複数箇所で封止するタイプ)や図11(a)に示す長孔状(一括して封止するタイプ)の何れでも良い。図10(a)及び図11(a)は、1回のモールドエリアのキャビティ孔13のレイアウトを例示するものである。図中2点鎖線はワーク外形(基板外形)を示すものである。尚、金型カル29を省略して、ポット孔14からキャビティ孔13に連通する凹溝が形成されていても良い。
On both sides of the press section 5, a plate transport mechanism 12 for transporting the cavity plate 11 between the upper die 7 and the lower die 8 is provided. As shown in FIGS. 10A and 10B, the cavity plate 11 is provided with a cavity hole 13 and a pot hole 14 (both through holes) for defining the outer shape and thickness of the resin sealing portion. The cavity hole 13 defines the outer shape of the resin sealing portion (package portion), and is formed on the hole wall surface having an inclination such that the outer diameter increases toward the substrate side. The pot hole 14 is formed on a hole wall surface having an inclination such that the outer diameter increases toward the upper die clamping surface. The work 2 is loaded into the lower die 8 of the press unit 5 with the semiconductor chip positioned so as to be accommodated in the cavity hole 13, and the upper die in contact with the sealing resin is covered with a release film 9. 7, the work 2 and the cavity plate 11 are clamped and resin-sealed.
The cavity hole 13 may have a strip shape (a type in which sealing is performed at a plurality of locations) shown in FIG. 10A or an elongated hole shape (a type in which sealing is performed at a time) as shown in FIG. FIGS. 10A and 11A illustrate the layout of the cavity holes 13 in one molding area. In the figure, the two-dot chain line indicates the work outline (board outline). The mold cull 29 may be omitted, and a concave groove communicating from the pot hole 14 to the cavity hole 13 may be formed.

キャビティプレート11は、例えばステンレススチール、チタン、ニッケル合金などの金属製の長尺ベルト状が用いられ、樹脂封止部(パッケージ部)の厚さに応じて、板厚0.05〜1.5mm程度のものが用いられる。尚、キャビティプレート11は金属製に限らず、耐熱性、耐摩耗性、搬送に耐え得る柔軟性があれば他の部材でも良く、ポリイミド樹脂のような樹脂製のベルトであっても良い。
また、キャビティプレート11のプレート面(両面又は片面)やキャビティ孔13やポット孔14の孔壁面には、成形品との離型性を考慮して必要に応じてテフロン(登録商標)樹脂やフッソ樹脂等がコーティングされていても良い。
The cavity plate 11 is, for example, a long belt made of metal such as stainless steel, titanium, and nickel alloy, and has a thickness of 0.05 to 1.5 mm depending on the thickness of the resin sealing portion (package portion). The degree is used. The cavity plate 11 is not limited to metal, but may be another member as long as it has heat resistance, abrasion resistance, and flexibility enough to withstand conveyance, and may be a resin belt such as a polyimide resin.
Teflon (registered trademark) resin or fluorine resin may be provided on the plate surface (both surfaces or one surface) of the cavity plate 11 and the hole wall surfaces of the cavity hole 13 and the pot hole 14 in consideration of mold releasability from a molded product. A resin or the like may be coated.

本実施例では図11(b)に示すように、キャビティプレート11は、モールド金型のクランプ面を循環するよう無端ベルト状に形成されている。プレス部5に対してプレート搬送方向上流側及び下流側には送りローラであるスプロケットホイール15a、15bが支持ベース16a、16bに回転可能に各々支持されている。キャビティプレート11の両側縁部には送り孔(ピッチ孔)17が穿孔されており、この送り孔17にスプロケットホイール15a、15bの外周に突設された送り歯を嵌合させて、キャビティプレート11がピッチ送りされるようになっている。尚、無端ベルト状のキャビティプレート11に替えてプレス部5に対して往復動する帯状のキャビティプレート11を用いても良い。   In this embodiment, as shown in FIG. 11B, the cavity plate 11 is formed in an endless belt shape so as to circulate on the clamp surface of the mold. Sprocket wheels 15a and 15b, which are feed rollers, are rotatably supported by support bases 16a and 16b on the upstream and downstream sides of the press unit 5 in the plate transport direction. Feed holes (pitch holes) 17 are formed in both side edges of the cavity plate 11, and feed teeth protruding from the outer circumferences of the sprocket wheels 15 a and 15 b are fitted into the feed holes 17, and the cavity plate 11 is formed. Is pitch-fed. Note that, instead of the endless belt-shaped cavity plate 11, a band-shaped cavity plate 11 that reciprocates with respect to the press unit 5 may be used.

図8及び図9において、プレス部5のプレート搬送方向上流側及び下流側に設けられた支持ベース16a、16bは、図示しない上下動機構(例えばシリンダ駆動機構やサーボモータによる駆動機構など)により上下動するようになっている。この上下動機構により樹脂封止後に型開きされた下型クランプ面よりキャビティプレート11を離間させて送ることにより成形後のワーク2がキャビティプレート11と共にモールド金型6より取り出される。また、プレート搬送機構12は、可動型である下型8の下型ベース8aと共に上下動するようになっている。   8 and 9, the support bases 16a and 16b provided on the upstream and downstream sides of the press unit 5 in the plate transport direction are vertically moved by a vertical movement mechanism (for example, a cylinder drive mechanism or a drive mechanism using a servo motor). It works. By moving the cavity plate 11 away from the lower mold clamp surface opened after the resin is sealed by the vertical movement mechanism, the molded workpiece 2 is taken out of the mold 6 together with the cavity plate 11. The plate transport mechanism 12 moves up and down together with the lower die base 8a of the lower die 8, which is a movable die.

プレス部5の搬送方向上流側には、キャビティプレート11のクリーニングを行うクリーナー部18が設けられている。クリーナー部18は、例えばプレート面に当接して回転するクリーニングブラシ19や粘着ゴムローラ20a、クリーニングベルト20bなどを備え、更に下流側にはキャビティプレート11の上下にエアー吸引部21が設けられている。クリーニングブラシ19、粘着ゴムローラ20a及びクリーニングベルト20bを設けるのは任意であり、エアー吸引部21だけであっても良い。   A cleaner section 18 for cleaning the cavity plate 11 is provided upstream of the press section 5 in the transport direction. The cleaner section 18 includes, for example, a cleaning brush 19, an adhesive rubber roller 20a, a cleaning belt 20b, etc., which rotate in contact with the plate surface, and air suction sections 21 above and below the cavity plate 11 are provided further downstream. It is optional to provide the cleaning brush 19, the adhesive rubber roller 20a, and the cleaning belt 20b, and only the air suction unit 21 may be provided.

また、プレス部5の下流側には、キャビティプレート11と共に取り出された成形後のワーク2を不要樹脂(スクラップ)と分離するディゲート部22が設けられている。即ち、ディゲート部22では、成形後のワーク2より樹脂封止部(パッケージ部)と不要樹脂部とがキャビティプレート11の上下両側へ分離されて回収される。   A degate section 22 is provided downstream of the press section 5 to separate the molded workpiece 2 taken out together with the cavity plate 11 from unnecessary resin (scrap). That is, in the degate portion 22, the resin sealing portion (package portion) and the unnecessary resin portion are separated and collected from the work 2 after molding on the upper and lower sides of the cavity plate 11.

ディゲート部22の一例を示すと、キャビティプレート11の上方には成形品保持装置23が設けられており、キャビティプレート11の下方にはディゲートパレット24が設けられている。成形品保持装置23は、例えば突き下げロッドを突き出して成形後のワーク2のみをキャビティ孔13の下方に待機するディゲートパレット24へ回収させる。また、ポット孔14の周辺に残存するスクラップをキャビティプレート11の下方から突き上げ機構により突き上げられて離型したスクラップを成形品保持機構23により吸着して回収ボックス25へ落下させて回収する。
ディゲートパレット24に回収されたワーク2は、該ディゲートパレット24がキャビティプレート11の下方位置から該キャビティプレート11と交差しない受渡し位置まで移送されて、例えば成形品保持機構23に吸着保持されて成形品収納部26へ収納されるようになっている。尚、キャビティプレート11より離型された成形品をディゲートパレット24から成形品収納部26へ収納する機構と、キャビティプレート11より離型されたスクラップを回収ボックス25へ回収する機構は、各々専用のハンドを設けて行うことも可能である。
As an example of the degate portion 22, a molded article holding device 23 is provided above the cavity plate 11, and a degate pallet 24 is provided below the cavity plate 11. The molded article holding device 23 projects, for example, a push-down rod and collects only the molded work 2 on the degate pallet 24 waiting below the cavity hole 13. Further, the scrap remaining around the pot hole 14 is pushed up from below the cavity plate 11 by the push-up mechanism, and the scrap released from the mold is sucked by the molded article holding mechanism 23 and dropped into the collection box 25 to be collected.
The work 2 collected on the degate pallet 24 is transferred from a position below the cavity plate 11 to a delivery position where the degate pallet 24 does not intersect with the cavity plate 11, and is sucked and held by, for example, the molded article holding mechanism 23. It is designed to be stored in the molded product storage section 26. The mechanism for storing the molded product released from the cavity plate 11 from the degate pallet 24 into the molded product storage section 26 and the mechanism for collecting the scrap released from the cavity plate 11 into the collection box 25 are respectively dedicated. It is also possible to perform by setting the hand.

次に、上述した樹脂封止装置を用いた樹脂封止工程について図1〜図7を参照して具体的に説明する。
動作説明に先立って、プレス部5に設けられたトランスファー成形用のモールド金型6の構成について具体的に説明する。下型8には公知のトランスファー機構を構成するポット27、プランジャ28及び図示しない均等圧ユニットが設けられており、下型クランプ面にはワーク2がセットされるワーク載置部8bが形成されている。
また、上型7には金型カル29及び金型ランナゲート30が形成されている。樹脂路を含む上型クランプ面にはリリースフィルム9が張設されるようになっている。金型ランナゲート30は、リリースフィルム9に覆われた上型クランプ面とキャビティプレート11との間に形成されるようになっている。
Next, a resin sealing process using the above-described resin sealing device will be specifically described with reference to FIGS.
Prior to the description of the operation, the configuration of the transfer mold 6 provided in the press section 5 will be specifically described. The lower die 8 is provided with a pot 27, a plunger 28 and a uniform pressure unit (not shown) which constitute a known transfer mechanism, and a work placing portion 8b on which the work 2 is set is formed on the lower die clamping surface. I have.
Further, a mold cull 29 and a mold runner gate 30 are formed on the upper mold 7. A release film 9 is stretched on the upper clamp surface including the resin path. The mold runner gate 30 is formed between the upper mold clamping surface covered with the release film 9 and the cavity plate 11.

図1は型開きしたモールド金型6の下型8にワーク2が搬入された状態を示す。上型7のクランプ面にはリリースフィルム9が吸着保持される。リリースフィルム9は、上型7に設けられた吸引孔31より図示しないエアー吸引機構に吸引されて上型クランプ面に張設されている。また、下型8のワーク載置部8bには、吸引孔32が形成されている。この吸引孔32より図示しないエアー吸引機構に吸引されてワーク2の基板面がワーク載置部8bに吸着保持されている。また、ポット27には、樹脂材33(樹脂タブレット、粉末樹脂、顆粒樹脂、液状樹脂、板状樹脂など)が装填されている。尚。キャビティプレート11は、予めクリーナ部18によりクリーニングされており、図示しない上下動機構により下型8より離間した状態(リフトアップした状態)で待機している。   FIG. 1 shows a state in which the work 2 is carried into the lower mold 8 of the opened mold 6. The release film 9 is held by suction on the clamp surface of the upper die 7. The release film 9 is sucked from a suction hole 31 provided in the upper die 7 by an air suction mechanism (not shown) and stretched on the clamp surface of the upper die. Further, a suction hole 32 is formed in the work placing portion 8b of the lower die 8. The substrate surface of the work 2 is suction-held by the air suction mechanism (not shown) from the suction hole 32 and is suction-held by the work mounting portion 8b. The pot 27 is loaded with a resin material 33 (a resin tablet, a powder resin, a granular resin, a liquid resin, a plate-like resin, etc.). still. The cavity plate 11 has been cleaned by the cleaner unit 18 in advance, and stands by in a state where the cavity plate 11 is separated from the lower die 8 (lifted up state) by a vertical movement mechanism (not shown).

図2において、ワーク2が下型8にセットされると、キャビティプレート11がリフトダウンし(下型クランプ面側へ移動し)、ワーク2の半導体チップがキャビティ孔13に収容され、ポット孔14がポット27の開口部に臨むように位置合わせして重ね合わせる。キャビティプレート11の移動は、前述したように上下動機構(シリンダ駆動機構、サーボモータ駆動機構など)により支持ベース16a、16bを移動させることにより行なわれる(図8参照)。   In FIG. 2, when the work 2 is set on the lower mold 8, the cavity plate 11 is lifted down (moves to the lower mold clamping surface side), the semiconductor chip of the work 2 is accommodated in the cavity hole 13, and the pot hole 14 is formed. Are positioned so as to face the opening of the pot 27 and are superposed. The movement of the cavity plate 11 is performed by moving the support bases 16a and 16b by the vertical movement mechanism (cylinder drive mechanism, servo motor drive mechanism, etc.) as described above (see FIG. 8).

次に、図3において、モールド金型6を型閉じする。図示しない型締め機構を起動させることにより下型8を上動させ、ワーク2及びキャビティプレート11が上型7との間でクランプされる。
図4において、トランスファ機構を作動させて封止樹脂34をキャビティ孔13へ注入する。即ち、加熱されたモールド金型6により溶融した封止樹脂34は、プランジャ28を上方へ移動させて金型カル29及び金型ランナゲート30を通じてキャビティ孔13へ充填される。封止樹脂34はキャビティプレート11とリリースフィルム9との間に形成される樹脂路を圧送りされるため、上型7及び下型8のクランプ面に接触することなくキャビティ孔13に注入される。そして、モールド金型6がクランプ状態で封止樹脂34の加熱硬化(キュア)が行われる。
Next, in FIG. 3, the mold 6 is closed. The lower mold 8 is moved upward by activating a mold clamping mechanism (not shown), and the workpiece 2 and the cavity plate 11 are clamped between the upper mold 7 and the work 2.
In FIG. 4, the transfer mechanism is operated to inject the sealing resin 34 into the cavity 13. That is, the sealing resin 34 melted by the heated mold 6 moves the plunger 28 upward to fill the cavity 13 through the mold cull 29 and the mold runner gate 30. Since the sealing resin 34 is fed through a resin path formed between the cavity plate 11 and the release film 9, the sealing resin 34 is injected into the cavity 13 without contacting the clamp surfaces of the upper die 7 and the lower die 8. . Then, heat curing (curing) of the sealing resin 34 is performed while the mold 6 is in the clamped state.

図5において、型締め機構を再度起動してモールド金型6を型開きする。下型8をプレート搬送機構12と共に下方へ移動させると、成形品と上型7とが離型する。即ち、上型7にはリリースフィルム9が吸着保持されたまま、下型8を下動させるので、成形品カルを含む不要樹脂部(スクラップ)35や樹脂封止部(パッケージ部)36を含む成形部分より容易に離型させることができる。尚、ワーク2はワーク載置部8bに吸着されており、キャビティプレート11は下型クランプ面にリフトダウンしたまま下型8が移動する。   In FIG. 5, the mold clamping mechanism is activated again to open the mold 6. When the lower die 8 is moved downward together with the plate transport mechanism 12, the molded product and the upper die 7 are released. That is, since the lower die 8 is moved downward while the release film 9 is being sucked and held by the upper die 7, an unnecessary resin portion (scrap) 35 including a molded product cull and a resin sealing portion (package portion) 36 are included. It can be more easily released from the molded part. The work 2 is adsorbed to the work placing portion 8b, and the lower die 8 moves while the cavity plate 11 is lifted down to the lower die clamping surface.

図6において、型開きが終了すると、ワーク2の吸引を停止し、キャビティプレート11を下型クランプ面よりリフトアップして、ワーク2や成形部分を一体に保持したまま下型8より離型する。そして、プレート搬送機構12のスプロケットホイール15a、15bを回転駆動させてキャビティプレート11を矢印方向へ所定ピッチだけ送ることにより、成形後のワーク2がモールド金型6よりディゲート部22へ取り出される。このとき、次のワーク2の樹脂封止に用いられるキャビティ孔13やポット孔14が穿孔された新たなキャビティプレート11が連続してプレス部5に搬送される。   In FIG. 6, when the mold opening is completed, the suction of the work 2 is stopped, the cavity plate 11 is lifted up from the lower mold clamp surface, and the mold is released from the lower mold 8 while holding the work 2 and the molded part integrally. . Then, by rotating the sprocket wheels 15a and 15b of the plate transport mechanism 12 to feed the cavity plate 11 by a predetermined pitch in the direction of the arrow, the formed workpiece 2 is taken out from the mold 6 to the degate section 22. At this time, a new cavity plate 11 in which cavity holes 13 and pot holes 14 used for resin sealing of the next work 2 are perforated is continuously conveyed to the press unit 5.

図7において、ディゲート部22には、キャビティプレート11の上方に成形品保持装置23が待機しており、キャビティプレート11の下方にはディゲートパレット24が移動して配置される。成形品保持装置23は、突き下げロッド37をキャビティ孔13に露出するパッケージ部36の上面に突き当ててスクラップ35からのゲートブレークとキャビティプレート11からの離型とが同時に行われてワーク2のみがディゲートパレット24に回収される。また、ポット孔14とキャビティプレート11上に残存するスクラップ35は、ディゲートパレット24の逃げ孔を挿通して突き上げロッド38により突き当てられてキャビティプレート11から離型されて、成形品保持装置23の吸着パッド39に吸着保持される。   In FIG. 7, a molded product holding device 23 is on standby above the cavity plate 11 in the degate section 22, and a degate pallet 24 is moved and arranged below the cavity plate 11. In the molded article holding device 23, the push-down rod 37 abuts against the upper surface of the package portion 36 exposed in the cavity hole 13, and the gate break from the scrap 35 and the mold release from the cavity plate 11 are simultaneously performed, so that only the work 2 is formed. Is collected on the degate pallet 24. Further, the scrap 35 remaining on the pot hole 14 and the cavity plate 11 is inserted through the relief hole of the degate pallet 24, is hit by the push-up rod 38, is released from the cavity plate 11, and is released from the cavity holding device 23. Is held by the suction pad 39.

ディゲートパレット24は、成形後のワーク2を載置したまま、キャビティプレート11と交差しない受渡し位置へ移動する。また、成形品保持装置23は、吸着パッド39に吸着保持したスクラップ35を回収ボックス25へ回収した後、受渡し位置でディゲートパレット24よりワーク2を受け渡され、ワーク2を吸着保持したまま成形品収納部26へ移送して収納する。   The degate pallet 24 moves to a delivery position that does not intersect with the cavity plate 11 with the formed work 2 placed thereon. After collecting the scrap 35 sucked and held on the suction pad 39 into the collection box 25, the molded article holding device 23 transfers the work 2 from the degate pallet 24 at the delivery position, and forms the work 2 while sucking and holding the work 2. It is transferred to the article storage section 26 and stored.

また、成形後のワーク2及びスクラップ35が離型された、キャビティプレート11は、プレート搬送機構12によりクリーナー部18へ搬送されて、クリーニングブラシ19、粘着ゴムローラ20a、エアー吸引部21により塵や樹脂かすなどが除去されて次の樹脂封止に備える。具体的には、クリーニングブラシ19でキャビティプレート11の表面を擦った後、粘着ゴムローラ20aで薄バリ等を粘着させて取り除く。そして、最後にエアー吸引部21により両面からエアー吸引されてクリーニングが完了する。   The cavity plate 11 from which the molded workpiece 2 and the scrap 35 have been released is transported to the cleaner section 18 by the plate transport mechanism 12, and the cleaning brush 19, the adhesive rubber roller 20 a, and the air suction section 21 remove dust and resin. The residue is removed to prepare for the next resin sealing. Specifically, after the surface of the cavity plate 11 is rubbed with the cleaning brush 19, a thin burr or the like is adhered and removed with the adhesive rubber roller 20a. Finally, air is suctioned from both sides by the air suction unit 21 to complete the cleaning.

粘着ゴムローラ20aはクリーニングベルト20bに接触しているため、薄バリ等がクリーニングベルト20bに移されてクリーニングされる。即ち、クリーニングベルト20bは長尺状の粘着ベルトが用いられ、供給リールから送られて粘着面がゴムローラ20aに押圧されて薄バリ等が移されたまま巻取りリールへ巻き取られるようになっている。クリーニングベルト20bは、残量が少なくなると交換を要する。このクリーニングベルト20bにより、粘着ゴムローラ20aの表面は、常に清浄状態が維持されるようになっている。上記クリーニング部18は、キャビティプレート11の上面側(外面側)をクリーニングする場合について説明したが、下面側(内面側)にもクリーニング部18を設けて両面をクリーニングするようにしても良い。   Since the adhesive rubber roller 20a is in contact with the cleaning belt 20b, thin burrs and the like are transferred to the cleaning belt 20b and cleaned. In other words, a long adhesive belt is used for the cleaning belt 20b, and the cleaning belt 20b is fed from the supply reel, the adhesive surface is pressed by the rubber roller 20a, and the thin burrs and the like are transferred to the take-up reel. I have. The cleaning belt 20b needs to be replaced when the remaining amount becomes small. The cleaning belt 20b keeps the surface of the adhesive rubber roller 20a clean at all times. Although the case where the cleaning unit 18 cleans the upper surface side (outer surface side) of the cavity plate 11 has been described, the cleaning unit 18 may also be provided on the lower surface side (inner surface side) to clean both surfaces.

尚、キャビティプレート11をクリーナー部18へ搬送すると、次に樹脂封止されたワーク2がディゲート部22へ取り出され、同時に新たなキャビティプレート11が連続してプレス部5に搬送され、同様の動作が繰り返し行なわれる。ワーク2は、半導体チップがマトリクス配置され、一括して封止された製品においては、ダイシング装置によりダイシングされて個片に分離される。   When the cavity plate 11 is transported to the cleaner section 18, the resin-sealed work 2 is then taken out to the degate section 22, and at the same time, a new cavity plate 11 is continuously transported to the press section 5, and the same operation is performed. Is repeatedly performed. In a product in which semiconductor chips are arranged in a matrix and sealed together, the work 2 is diced by a dicing device and separated into individual pieces.

上述した樹脂封止装置を用いれば、ワーク2上を封止樹脂34が通過しないため、樹脂封止に先立ってワーク2に金めっきなどの特殊な加工処理が不要であり、生産工程を簡略化できる。
また、リリースフィルム9とキャビティプレート11とを介在させた金型ランナゲート30を通じて封止樹脂34がキャビティ孔13へ充填されるので金型メンテナンスを簡素化することができる。また、成形後のワーク2の離型は、モールド金型6の型開きやキャビティプレート11のリフトアップにより行え、成形後のワーク2がキャビティプレート11と共にプレス部5外へ取り出せるので、エジェクタピンを省略して金型構造を簡略化することができる。
また、キャビティプレート11は、パッケージ部36の厚みや外形寸法精度を均一に成形でき、成形後のワーク2に樹脂バリや基板外への封止樹脂34の回り込みがなく、成形品質を向上させることができる。
If the above-described resin sealing device is used, the sealing resin 34 does not pass over the work 2, so that a special processing such as gold plating is not required for the work 2 prior to resin sealing, and the production process is simplified. it can.
Further, since the sealing resin 34 is filled in the cavity 13 through the mold runner gate 30 having the release film 9 and the cavity plate 11 interposed therebetween, the maintenance of the mold can be simplified. The mold 2 can be released from the mold by opening the mold 6 and lifting up the cavity plate 11. Since the molded work 2 can be taken out of the press section 5 together with the cavity plate 11, the ejector pins can be removed. It can be omitted to simplify the mold structure.
In addition, the cavity plate 11 can uniformly mold the thickness and the outer dimension accuracy of the package portion 36, and the molding work 2 does not have resin burrs or the sealing resin 34 sneaking out of the substrate, thereby improving molding quality. Can be.

[第2実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図12〜図16を参照して説明する。図12は、樹脂封止装置全体のレイアウトを示す平面図、図13は図12の矢印F方向から見た樹脂封止装置の正面図、図14は図12の樹脂封止装置を矢印A方向から見た断面説明図、図15は図13の矢印B方向から見た断面説明図、図16(a)(b)はキャビティプレート及び支持枠体の説明図である。尚、第1実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとし、異なる機構を中心に説明する。
図12において、キャビティプレート11は、プレス部5に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面83上を周回移動するようになっている。具体的には、トラック面83に沿って、プレヒート部84、プレス部5、ディゲート部22及びクリーナー部85が設けられており、各部の工程に対応するキャビティプレート11が4箇所に設けられている。キャビティプレート11は、プレヒート部84、プレス部5、ディゲート部22及びクリーナー部85の各部間で同期を取って周回させて樹脂封止が行われる。尚、キャビティプレート11の枚数は増減してもよく1枚のみで稼動することも可能である。
[Second embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIGS. 12 is a plan view showing a layout of the entire resin sealing device, FIG. 13 is a front view of the resin sealing device viewed from the direction of arrow F in FIG. 12, and FIG. 15 is a cross-sectional explanatory view as viewed from the direction of arrow B in FIG. 13, and FIGS. 16A and 16B are explanatory views of a cavity plate and a support frame. It is to be noted that the same members as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description will be referred to, and the description will focus on different mechanisms.
In FIG. 12, the cavity plate 11 is adapted to move around the track surface 83 substantially parallel to the clamp surface of the mold relative to the press section 5. Specifically, a preheat portion 84, a press portion 5, a degate portion 22, and a cleaner portion 85 are provided along the track surface 83, and four cavity plates 11 corresponding to the processes of each portion are provided. . The cavity plate 11 is rotated around the preheating section 84, the press section 5, the degate section 22, and the cleaner section 85 in synchronization with each other, and resin sealing is performed. The number of the cavity plates 11 may be increased or decreased, and it is possible to operate with only one.

図16(a)において、キャビティプレート11は一例として矩形状の金属プレートが用いられる。キャビティプレート11には複数箇所にポット孔14やキャビティ孔13が所定ピッチで穿孔されている。キャビティプレート11の周縁部には、モールド金型にクランプされる際の上型7と下型8とを位置合わせするための位置決め孔101が例えば4箇所に穿孔されている。位置決め孔101は、キャビティプレート11の中心に向かって形成された長孔に形成されている。キャビティプレート11には、金型と同様の鋼材、例えばステンレススチール、チタン、ニッケル合金などが用いられ、樹脂封止部(パッケージ部)の厚さに応じて、板厚0.3〜1.0mm程度のものが用いられる。尚、キャビティプレート11は金属製に限らず、耐熱性、耐摩耗性、搬送に耐え得る剛性があれば他の部材でも良く、ポリイミド樹脂のような樹脂製板材であっても良い。また、キャビティプレート11のプレート面(両面又は片面)やポット孔14やキャビティ孔13の孔壁面には、成形品との離型性を考慮して必要に応じてテフロン(登録商標)樹脂やフッソ樹脂等がコーティングされていても良い。   In FIG. 16A, a rectangular metal plate is used as the cavity plate 11 as an example. A plurality of pot holes 14 and cavity holes 13 are formed in the cavity plate 11 at a predetermined pitch. Positioning holes 101 for positioning the upper die 7 and the lower die 8 when clamped to the mold die are formed in, for example, four places in the peripheral edge of the cavity plate 11. The positioning hole 101 is formed in a long hole formed toward the center of the cavity plate 11. For the cavity plate 11, the same steel material as the mold, for example, stainless steel, titanium, a nickel alloy, or the like is used, and the plate thickness is 0.3 to 1.0 mm depending on the thickness of the resin sealing portion (package portion). The degree is used. The cavity plate 11 is not limited to metal, but may be another member as long as it has heat resistance, abrasion resistance, and rigidity enough to withstand conveyance, and may be a resin plate material such as a polyimide resin. Teflon (registered trademark) resin or fluorine resin may be provided on the plate surface (both surfaces or one surface) of the cavity plate 11 and the hole wall surfaces of the pot hole 14 and the cavity hole 13 in consideration of the releasability from a molded product. A resin or the like may be coated.

キャビティプレート11は、図16(b)に示す支持枠体86の周縁部に設けられたピンなどに嵌合させて位置決めされて支持されている。図16(c)において、キャビティプレート11及び支持枠体86は、搬送アーム88に設けられたピン、突起などに嵌合させ、位置決めして重ね合わせたまま搬送される。支持枠体86及び搬送アーム88には、キャビティプレート11の金型クランプ面に相当するステージエリアRを包含するように中空孔87が形成されている。中空孔87は、後述するようにキャビティプレート11をモールド金型がクランプする際に干渉しないように設けられている。搬送アーム88は、プレヒート部84、プレス部5、ディゲート部22及びクリーナー部85に位置したまま、トラック面83の内外へ退避することなく、中空孔87内に形成される各ステージエリアRで作業が行われるようになっている。図16(b)において、搬送アーム88は、周回するガイドブロック93に連結部102で連結して一体となって移動する。尚、搬送アーム88に重ね合わされた支持枠体86及びキャビティプレート11は、後述するリフター装置95、100によりリフトアップ可能に載置されている。   The cavity plate 11 is positioned and supported by being fitted to a pin or the like provided on a peripheral portion of the support frame 86 shown in FIG. In FIG. 16C, the cavity plate 11 and the support frame 86 are fitted to pins, protrusions, and the like provided on the transfer arm 88, and are transferred while being positioned and overlapped. Hollow holes 87 are formed in the support frame 86 and the transfer arm 88 so as to include a stage area R corresponding to the mold clamping surface of the cavity plate 11. The hollow holes 87 are provided so as not to interfere when the mold plate clamps the cavity plate 11 as described later. The transfer arm 88 works in each stage area R formed in the hollow hole 87 without retreating into and out of the track surface 83 while being positioned in the preheating section 84, the press section 5, the degate section 22, and the cleaner section 85. Is to be performed. In FIG. 16B, the transfer arm 88 is connected to the orbiting guide block 93 by the connecting portion 102 and moves integrally. The support frame 86 and the cavity plate 11 superimposed on the transfer arm 88 are mounted so as to be liftable by lifters 95 and 100 described later.

搬送アーム88の周回機構について説明する。図12において、トラック面83の中心部には、プーリ(スプロケットホイール)89、90間に無端状のベルト(チェーン)91が巻き回されている。ベルト91は、図13において周回用モータ92によりモータ側プーリ89を介して回転駆動される。ベルト91には、ガイドブロック93が4箇所で連繋している。各ガイドブロック93に搬送アーム88が各々片持ち状に支持されている。ガイドブロック93は、ベルト91に沿って配設されたガイドレール94に連繋して周回移動するようになっている。ガイドブロック93には搬送アーム88が連結部102を介して連結されている。   The revolving mechanism of the transfer arm 88 will be described. 12, an endless belt (chain) 91 is wound between pulleys (sprocket wheels) 89 and 90 at the center of the track surface 83. The belt 91 is driven to rotate by a circling motor 92 via a motor-side pulley 89 in FIG. A guide block 93 is connected to the belt 91 at four points. A transport arm 88 is supported by each guide block 93 in a cantilever manner. The guide block 93 is configured to move around in conjunction with a guide rail 94 provided along the belt 91. A transfer arm 88 is connected to the guide block 93 via a connecting portion 102.

次に、トラック面83上に配設された各部の構成について動作と共に説明する。プレヒート部84は、プレス部5の搬送方向上流側に設けられ、キャビティプレート11をプレヒートする。キャビティプレート11は、板厚が薄く熱容量が少ないことから、成形サイクルを短縮し、成形品質を維持するためにはプレス部5へ搬入される前に予め120°〜130°程度に余熱しておくことが望ましい。   Next, the configuration of each component disposed on the track surface 83 will be described together with the operation. The preheating section 84 is provided upstream of the press section 5 in the transport direction, and preheats the cavity plate 11. Since the cavity plate 11 is thin and has a small heat capacity, in order to shorten the molding cycle and maintain the molding quality, the cavity plate 11 is preheated to about 120 ° to 130 ° before being loaded into the press unit 5. It is desirable.

図13において、キャビティプレート11は、支持枠体86と共に搬送アーム88に載置されたままプレーヒート部84に搬送されると、リフター装置95のリフトアーム104に支持枠体86の両側が保持されたままリフトアップされてキャビティプレート11がプレヒート金型板84aに押し当てられる。   In FIG. 13, when the cavity plate 11 is transported to the preheating unit 84 while being placed on the transport arm 88 together with the support frame 86, both sides of the support frame 86 are held by the lift arm 104 of the lifter device 95. The cavity plate 11 is lifted up while being pressed against the preheat mold plate 84a.

図15において、リフター装置95は、例えばシリンダ駆動(エアシリンダー103)によりリフトアーム104が上下動するようになっている。リフトアーム104は、搬送アーム88の搬送方向と直交する両側位置に設けられている。リフトアーム104は、プレヒート金型84aを挿通した連結シャフト105で連結されている。リフトアーム104は例えばシャフトを通じて両側に設けられたピニオンギヤとラックとの噛み合いを通じて両側で同期を取って上下動するようになっている。これにより、キャビティプレート11が金型面と平行度を保って上下動するようになっている。プレヒート部84に搬入されたキャビティプレート11はリフトアーム104の先端に設けられたハンド106により支持枠体86の両側が保持されたままリフトアップされてキャビティプレート11がプレヒート金型84aに押し当てられる。   In FIG. 15, in a lifter device 95, a lift arm 104 moves up and down by, for example, driving a cylinder (air cylinder 103). The lift arms 104 are provided at both side positions orthogonal to the transfer direction of the transfer arm 88. The lift arm 104 is connected by a connection shaft 105 through which the preheat mold 84a is inserted. The lift arm 104 moves up and down synchronously on both sides through meshing between a pinion gear and a rack provided on both sides through a shaft, for example. Thus, the cavity plate 11 moves up and down while maintaining the parallelism with the mold surface. The cavity plate 11 carried into the preheating section 84 is lifted up by the hand 106 provided at the tip of the lift arm 104 while holding both sides of the support frame 86, and the cavity plate 11 is pressed against the preheating mold 84a. .

図13において、プレヒート部84の下方には、樹脂供給部96が設けられている。樹脂供給部96は、例えば、パーツフィーダーから整列して送り出された樹脂材33(樹脂タブレットなど)をカセットなどに収容し、該カセットがタブレット補給位置とローダーへの受渡し位置との間を上下に往復移動するようになっている。   13, a resin supply section 96 is provided below the preheating section 84. The resin supply unit 96 accommodates, for example, a resin material 33 (eg, a resin tablet) sent out of alignment from the parts feeder in a cassette or the like, and moves the cassette up and down between the tablet replenishment position and the delivery position to the loader. It is designed to reciprocate.

また、図12において、樹脂供給部96よりワーク搬送方向上流側には、基板プレヒート部97が設けられている。半導体チップが基板上に搭載されたワーク2が供給マガジン3に収容されており、プッシャー98により本実施例では2枚同時に基板プレヒート部97へ送り出される。基板プレヒート部97は、基板温度と金型温度との温度差を縮小して成形時間を短縮するために行われる。   In FIG. 12, a substrate preheating unit 97 is provided on the upstream side of the resin supply unit 96 in the work transfer direction. In the present embodiment, a work 2 on which a semiconductor chip is mounted on a substrate is accommodated in a supply magazine 3, and in the present embodiment, two works are simultaneously sent out to a substrate preheating unit 97 by a pusher 98. The substrate preheating unit 97 is provided to reduce the temperature difference between the substrate temperature and the mold temperature to shorten the molding time.

図13において、ローダー99は基板プレヒート部97とプレス部5との間を往復移動する。ローダー99は、基板プレヒート部97に移動してプレヒートされたワーク2を保持し、樹脂供給部96へ移動して樹脂材33を保持し、これらをプレス部5の下型へ搬入する。また、ローダー99によるプレス部5へのワーク搬入動作とタイミングを合わせて若しくは個別に搬送アーム88によりプレヒートされたキャビティプレート11がプレス部5の上型側へ搬入される。   In FIG. 13, the loader 99 reciprocates between the substrate preheating unit 97 and the press unit 5. The loader 99 moves to the substrate preheating unit 97 to hold the preheated work 2, moves to the resin supply unit 96 to hold the resin material 33, and carries them into the lower die of the press unit 5. Further, the cavity plate 11 preheated by the transfer arm 88 is carried into the upper mold side of the press unit 5 in synchronization with the operation of loading the work into the press unit 5 by the loader 99 or individually.

次にプレス部5の構成は、第1実施例と同様に固定型である上型7と稼動型である下型8とを備えている。また、上型7には上型クランプ面にリリースフィルム9を供給するフィルム搬送機構10が設けられている。リリースフィルム9は上型クランプ面に吸引されて張設される。また、上型7にはリフター装置100が設けられている。リフター装置100の構成は図15に示すリフタ−装置95と同様である。即ち、搬送アーム88によりプレス部5に搬入されたキャビティプレート11は、リフトアーム104の下端に設けられたハンド106に支持枠体86の両側が保持されたままリフトアップされ、キャビティプレート11がリリースフィルム9が張設された上型クランプ面に押し当てられる。   Next, as in the first embodiment, the configuration of the press section 5 includes an upper die 7 that is a fixed die and a lower die 8 that is a movable die. The upper die 7 is provided with a film transport mechanism 10 for supplying a release film 9 to the upper die clamping surface. The release film 9 is sucked and stretched on the upper mold clamping surface. The upper die 7 is provided with a lifter device 100. The configuration of the lifter device 100 is the same as that of the lifter device 95 shown in FIG. That is, the cavity plate 11 carried into the press unit 5 by the transfer arm 88 is lifted up by the hand 106 provided at the lower end of the lift arm 104 while both sides of the support frame 86 are held, and the cavity plate 11 is released. The film 9 is pressed against the stretched upper clamp surface.

また、図13において、下型8は公知の型締め機構により上下動する。型閉じする場合は、下型8が上動し、搬送アーム88及び支持枠体86の中空孔87へ進入して上型クランプ面へリフトアップされたキャビティプレート11をクランプする。このとき、ワーク2は半導体チップがキャビティ孔13に進入し、基板2aがキャビティプレート面へ押し当てられる。また、下型8のポットはキャビティプレート11のポット孔14と位置合わせしてクランプされる。   In FIG. 13, the lower mold 8 is moved up and down by a known mold clamping mechanism. When closing the mold, the lower mold 8 moves upward, enters the transfer arm 88 and the hollow hole 87 of the support frame 86, and clamps the cavity plate 11 lifted up to the upper mold clamping surface. At this time, the semiconductor chip of the work 2 enters the cavity hole 13 and the substrate 2a is pressed against the cavity plate surface. Further, the pot of the lower die 8 is clamped by being aligned with the pot hole 14 of the cavity plate 11.

また、下型8にはポット内に装填された樹脂材33を押動するプランジャを備えた公知のトランスファ機構101が設けられている。ワーク2をクランプした状態でトランスファ機構101を作動させると、プランジャが溶融した封止樹脂34をキャビティプレート11とリリースフィルム9との間に形成された樹脂路を通じてキャビティ孔13内へ圧送りして樹脂封止される。   The lower die 8 is provided with a known transfer mechanism 101 having a plunger for pushing the resin material 33 loaded in the pot. When the transfer mechanism 101 is operated with the workpiece 2 clamped, the plunger feeds the melted sealing resin 34 into the cavity 13 through a resin path formed between the cavity plate 11 and the release film 9. It is sealed with resin.

樹脂封止が終了すると、下型8が下動してキャビティプレート11より下方へ離間させた後、リフター装置100を作動させてリフトアームをリフトダウンさせると、パッケージ部(樹脂封止部)とリリースフィルム9とが分離してキャビティプレート11が搬送アーム88上に載置される。成形後のキャビティプレート11は、周回用モータ92を起動してディゲート部22へ搬送される。また、リリースフィルム9は、次の成形動作に備えて所定ピッチだけ先に送られる。尚、上型7にリリースフィルム9を使用しない場合には、公知のエジェクタピン機構が設け、型開きと同時にエジェクタピンをパッケージ部に突き当てて離型するようにしても良い。   When the resin sealing is completed, the lower mold 8 is moved downward to separate from the cavity plate 11 and then the lifter device 100 is operated to lift down the lift arm. The cavity plate 11 is placed on the transfer arm 88 by separating from the release film 9. The formed cavity plate 11 is conveyed to the degate section 22 by activating the orbiting motor 92. Further, the release film 9 is advanced by a predetermined pitch in preparation for the next molding operation. If the release film 9 is not used for the upper mold 7, a known ejector pin mechanism may be provided, and the ejector pins may be released from the mold by abutting the ejector pins against the package simultaneously with opening the mold.

図14において、搬送アーム88を周回させてディゲート部22にキャビティプレート11が搬入されると支持枠体86及び搬送アーム88の中空孔87を通じて下方からディゲートパレット24が進入して待機する。キャビティ孔13に露出するパッケージ部に突き下げロッドを突き当て、スクラップ35に突き上げロッドを突き当ててキャビティプレート11からワーク2とスクラップ35のゲートブレークが行われる。離型後のワーク2は、ディゲートパレット24に載置されたまま、一旦搬送アーム88より下方へ移動して、図12に示す成形品収納部26へ移送される。また、スクラップ35は、吸着搬送部81により吸着保持されて図示しない回収ボックスへ回収される。   In FIG. 14, when the transfer arm 88 is rotated and the cavity plate 11 is transferred into the degate section 22, the degate pallet 24 enters from below through the support frame 86 and the hollow hole 87 of the transfer arm 88 and stands by. A push-down rod is pressed against the package portion exposed in the cavity hole 13, and a push-up rod is pressed against the scrap 35, so that the work 2 and the scrap 35 are gate-breaked from the cavity plate 11. The workpiece 2 after release is once moved downward from the transfer arm 88 while being placed on the degate pallet 24, and is transferred to the molded article storage section 26 shown in FIG. Further, the scrap 35 is sucked and held by the suction conveyance unit 81 and collected in a collection box (not shown).

図14において、ディゲート後のキャビティプレート11は、搬送アーム88に載置されたままクリーナー部85へ搬送される。クリーナー部85には、キャビティプレート11の上下面に接離動可能なクリーニングブラシ85a、85bが設けられている。クリーニングブラシ85a、85bはフードカバー85dに覆われており、フードカバー85dには図示しない吸引装置に接続する吸引ダクト85cが各々接続されている。このクリーナー部85を、クリーニングブラシ85a、85bにより上下プレート面をブラッシングしながら図14の矢印方向へ往復動させることで、キャビティプレート11のクリーニングが行われる。このクリーニング工程は、キャビティプレート11の成形動作を通して繰り返し行えるので、十分なクリーニングが行える。   In FIG. 14, the cavity plate 11 after degate is transported to the cleaner 85 while being placed on the transport arm 88. The cleaning portion 85 is provided with cleaning brushes 85 a and 85 b that can move toward and away from the upper and lower surfaces of the cavity plate 11. The cleaning brushes 85a and 85b are covered by a hood cover 85d, and a suction duct 85c connected to a suction device (not shown) is connected to the hood cover 85d. The cavity plate 11 is cleaned by reciprocating the cleaner portion 85 in the direction of the arrow in FIG. 14 while brushing the upper and lower plate surfaces with the cleaning brushes 85a and 85b. Since this cleaning step can be repeated through the molding operation of the cavity plate 11, sufficient cleaning can be performed.

以上のように、キャビティプレート11として金属プレートを用い、該キャビティプレート11を枠体状の搬送アーム88に載置してプレス部5に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面83上を所定量ずつ周回移動させながら樹脂封止できる。このため、繰り返し使用によりプレート面のゆがみや変形などによる影響は受け難く平坦度を維持できるので、パッケージ部が0.5mm程度の薄型の製品についても高度の成形品質を維持できる。
また、比較的熱容量の少ないキャビティプレートを、プレス部5への搬送方向上流側でプレヒートすることで成形時間を短縮化でき、キャビティプレート11を、プレヒート部84、プレス部5、ディゲート部22及びクリーナー部85を各工程間の同期を取って周回させることにより、工程間の待ち時間が少なく生産性を向上させることができる。また、板厚やキャビティ孔のサイズが異なるキャビティプレート11に変更することで成形品の品種交換にも対応することができ、大幅な装置改変を伴わずに生産できる。
また、キャビティプレート11を用いることで、金型の構造を簡素化でき、しかも金型クランプ面を封止樹脂により可能な限り汚さずに樹脂封止できるので、金型メンテナンスを簡素化できる。また、キャビティプレート11は、パッケージ部の厚みや外形寸法精度を均一に成形でき、成形後のワーク2に樹脂バリや基板外への封止樹脂の回り込みがなく、成形品質を向上させることができる。
As described above, a metal plate is used as the cavity plate 11, the cavity plate 11 is placed on the frame-shaped transfer arm 88, and the track surface 83 substantially parallel to the clamp surface of the mold is placed on the press unit 5. The resin can be sealed while moving around the upper portion by a predetermined amount. For this reason, since the flatness can be maintained without being affected by the distortion or deformation of the plate surface due to repeated use, a high molding quality can be maintained even for a thin product having a package portion of about 0.5 mm.
In addition, the molding time can be shortened by preheating the cavity plate having a relatively small heat capacity on the upstream side in the conveying direction to the press unit 5, and the cavity plate 11 can be replaced with the preheat unit 84, the press unit 5, the degate unit 22, and the cleaner. By rotating the unit 85 in synchronization with each process, the waiting time between processes can be reduced and the productivity can be improved. In addition, by changing to a cavity plate 11 having a different plate thickness or cavity hole size, it is possible to cope with a type change of a molded product, and it is possible to produce without significant equipment modification.
In addition, by using the cavity plate 11, the structure of the mold can be simplified, and the mold clamping surface can be sealed with the sealing resin as little as possible with the sealing resin, so that the mold maintenance can be simplified. In addition, the cavity plate 11 can uniformly mold the thickness and the external dimension accuracy of the package portion, and can prevent molding burrs and the sealing resin from flowing out of the substrate into the work 2 after molding, thereby improving molding quality. .

[第3実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図17乃至図19を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。本実施例は、プレス部5に圧縮成形用のモールド金型40を用いたことを特徴としている。尚、樹脂材として液状樹脂47が用いられ、上型41を可動型(若しくは固定型)とし、下型42を固定型(若しくは可動型)として説明する。また、前記実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。
図17において、上型41のクランプ面には、金型カルや金型ランナゲートは省略されており、キャビティプレート11のキャビティ孔13に連通可能なオーバーフローキャビティ43が形成されている。また、上型41には図示しないエアー吸引機構に連通する吸引孔44が形成されている。吸引孔44は、オーバーフローキャビティ43の底部にも形成されている。この吸引孔44よりエアー吸引機構に吸引されてリリースフィルム9が上型クランプ面に張設されるようになっている。
[Third embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIGS. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. The present embodiment is characterized in that a molding die 40 for compression molding is used in the press section 5. Note that the liquid resin 47 is used as the resin material, and the upper mold 41 is described as a movable mold (or a fixed mold), and the lower mold 42 is described as a fixed mold (or a movable mold). In addition, the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to.
In FIG. 17, the mold cull and the mold runner gate are omitted from the clamp surface of the upper mold 41, and an overflow cavity 43 that can communicate with the cavity hole 13 of the cavity plate 11 is formed. Further, a suction hole 44 communicating with an air suction mechanism (not shown) is formed in the upper die 41. The suction hole 44 is also formed at the bottom of the overflow cavity 43. The release film 9 is sucked by the air suction mechanism from the suction hole 44 and stretched on the clamp surface of the upper die.

また、下型42にはトランスファー機構が省略されており、下型クランプ面にはワーク2がセットされるワーク載置部42bが形成されている。また、下型42のワーク載置部42bには、吸引孔45が形成されている。この吸引孔45より図示しないエアー吸引機構に吸引されてワーク2の基板面がワーク載置部8bに吸着保持される。   Further, the transfer mechanism is omitted in the lower die 42, and a work placing portion 42b on which the work 2 is set is formed on the lower die clamp surface. Further, a suction hole 45 is formed in the work placing portion 42b of the lower die 42. The substrate surface of the work 2 is sucked and held by the work mounting portion 8b by being sucked by an air suction mechanism (not shown) from the suction hole 45.

また、キャビティプレート11には、キャビティ孔13とオーバーフローキャビティ43とを連通するオーバーフローゲート(凹溝)46が形成されている。また、ポット孔14は不要であるため省略されている。尚、オーバーフローゲート46は省略することが可能である。この場合にはキャビティ孔13とオーバーフローキャビティ43とが連通するようにキャビティプレート11が上型41と下型42とでクランプされる必要がある。また、オーバーフローゲート46は、上型41のクランプ面にオーバーフローキャビティ43とを連通して設けられていても良く、更にはキャビティ孔13の周縁部のうち例えば対向する2辺若しくは4辺に設けられていても良い。   In the cavity plate 11, an overflow gate (concave groove) 46 that connects the cavity hole 13 and the overflow cavity 43 is formed. Further, the pot hole 14 is omitted since it is unnecessary. Note that the overflow gate 46 can be omitted. In this case, the cavity plate 11 needs to be clamped by the upper mold 41 and the lower mold 42 so that the cavity hole 13 and the overflow cavity 43 communicate with each other. Further, the overflow gate 46 may be provided so as to communicate the overflow cavity 43 with the clamp surface of the upper die 41, and further provided, for example, on two or four opposing sides of the peripheral portion of the cavity hole 13. May be.

以下、樹脂封止動作について、第1、第2実施例と異なる工程を中心に図17〜図19を参照して説明する。
図17は型開きしたモールド金型40の下型42にワーク2が搬入された状態を示す。上型41のクランプ面にはリリースフィルム9が吸着保持される。リリースフィルム9は、上型41に設けられた吸引孔44より図示しないエアー吸引機構に吸引されて上型クランプ面に張設されている。また、下型42のワーク載置部42bに載置されたワーク2は、吸引孔45より図示しないエアー吸引機構に吸引されて吸着保持されている。キャビティプレート11は、予めクリーナー部18(若しくはクリーナー部85)によりクリーニングされており、図示しない上下動機構により下型42より離間した状態(リフトアップした状態)で待機している(若しくは搬送アーム88に載置されたままプレス部5へ周回移動して待機している)。
Hereinafter, the resin sealing operation will be described with reference to FIGS. 17 to 19, focusing on steps different from those of the first and second embodiments.
FIG. 17 shows a state where the work 2 is carried into the lower mold 42 of the opened mold 40. The release film 9 is held by suction on the clamp surface of the upper die 41. The release film 9 is sucked from a suction hole 44 provided in the upper die 41 by an air suction mechanism (not shown) and stretched on the clamp surface of the upper die. The work 2 placed on the work placement portion 42b of the lower die 42 is sucked from the suction hole 45 by an air suction mechanism (not shown) and is held by suction. The cavity plate 11 has been cleaned by the cleaner unit 18 (or the cleaner unit 85) in advance, and stands by (or is lifted up) from the lower mold 42 by a vertical movement mechanism (not shown) (or the transfer arm 88). While moving around to the press section 5 while being placed on the stand).

図18において、ワーク2が下型42にセットされると、キャビティプレート11がリフトダウンして下型クランプ面側へ移動し(若しくは下型42がキャビティプレート11を支持する位置まで上動し)、ワーク2の半導体チップをキャビティ孔13に収容し、オーバーフローゲート46がリリースフィルム9に覆われたオーバーフローキャビティ43に臨むように位置合わせして重ね合わせる。尚、キャビティプレート11の移動は、前述したように上下動機構(シリンダ駆動機構、サーボモータ駆動機構など)により支持ベース16a、16bを移動させることにより行なわれる(図8参照)。或いは、周回用モータ92を起動して、搬送アーム88をトラック面83に沿って移動させることにより行われる(図12参照)。   In FIG. 18, when the work 2 is set on the lower mold 42, the cavity plate 11 is lifted down and moves to the lower mold clamping surface side (or moves up to a position where the lower mold 42 supports the cavity plate 11). Then, the semiconductor chip of the work 2 is accommodated in the cavity hole 13, and is aligned and overlapped so that the overflow gate 46 faces the overflow cavity 43 covered with the release film 9. The movement of the cavity plate 11 is performed by moving the support bases 16a and 16b by the vertical movement mechanism (cylinder drive mechanism, servo motor drive mechanism, etc.) as described above (see FIG. 8). Alternatively, this is performed by activating the orbiting motor 92 and moving the transport arm 88 along the track surface 83 (see FIG. 12).

次に、図示しない樹脂供給機構(ディスペンサなど)により液状樹脂47をキャビティ孔13に供給する。液状樹脂47は、キャビティ孔13の容積に応じて予め供給量が定められていても良く、或いは半導体チップがマトリクス状に配置されたワーク2においては、欠損部分や樹脂量のばらつきを考慮して液状樹脂47を樹脂封止前に予め計量してからキャビティ孔13へ供給しても良い。また、液状樹脂47は、半導体チップ上(キャビティ孔13の中心部)を周辺部より高く塗布することにより、液状樹脂47の移動量を少なくして均一な封止が行える。   Next, the liquid resin 47 is supplied to the cavity hole 13 by a resin supply mechanism (not shown) such as a dispenser. The supply amount of the liquid resin 47 may be determined in advance in accordance with the volume of the cavity hole 13, or in the work 2 in which the semiconductor chips are arranged in a matrix, the defective portion and the variation in the resin amount are taken into consideration. The liquid resin 47 may be measured in advance before resin sealing and then supplied to the cavity 13. Further, by applying the liquid resin 47 on the semiconductor chip (at the center of the cavity hole 13) higher than the peripheral portion, the amount of movement of the liquid resin 47 can be reduced and uniform sealing can be performed.

次に、図19において、モールド金型40を型閉じする。図示しない型締め機構を起動させることにより上型41を下動させ(若しくは下型42を上動させ)、ワーク2及びキャビティプレート11が下型42(若しくは上型41)との間でクランプされる。
このとき、液状樹脂47はキャビティ孔13内で均一に加熱加圧されて充填され、キャビティ孔13より溢れた液状樹脂47やエアーは、オーバーフローゲート46を通じてオーバーフローキャビティ43に吸収される。この場合も、封止樹脂は上型41及び下型42のクランプ面に接触することなくキャビティ孔13に注入される。そして、モールド金型40がクランプ状態で液状封止47の加熱硬化(キュア)が行われる。
Next, in FIG. 19, the mold 40 is closed. By activating a mold clamping mechanism (not shown), the upper mold 41 is moved downward (or the lower mold 42 is moved upward), and the work 2 and the cavity plate 11 are clamped between the lower mold 42 (or the upper mold 41). You.
At this time, the liquid resin 47 is uniformly heated and pressurized and filled in the cavity hole 13, and the liquid resin 47 and air overflowing from the cavity hole 13 are absorbed by the overflow cavity 43 through the overflow gate 46. Also in this case, the sealing resin is injected into the cavity 13 without contacting the clamp surfaces of the upper mold 41 and the lower mold 42. Then, the liquid sealing 47 is heated and cured (cured) while the mold 40 is clamped.

尚、成形後のワーク2の離型動作や、プレス部5からディゲート部22への搬出動作は、第1、第2実施例と同様である。本実施例の場合、オーバーフローする液状樹脂47は、オーバーフローしたとしても僅かであると思料される。よって、ディゲート動作は、例えば、成形品保持装置23の突き下げロッド37をキャビティ孔13に露出するパッケージ部36の上面に突き当てるだけでゲートブレークが行なわれ、成形後のワーク2のみをディゲートパレット24に回収される。また、キャビティプレート11上に残存するスクラップ35は、成形品保持装置23のハンド(若しくは吸着搬送部81)などに保持されて回収ボックス25へ回収される。ワーク2の成形品収納部26への収納動作や、キャビティプレート11のクリーニング動作は第1、第2実施例と同様に行われる。
また、図19の2点鎖線で示すように、下型42はトランスファー成形用の金型(ポット、プランジャ付き金型)であっても良い。また、液状樹脂47に替えて顆粒状樹脂などであっても良い。リリースフィルム9を用いない場合には、エジェクタピンを設ければ良い。
The releasing operation of the workpiece 2 after molding and the unloading operation from the press section 5 to the degate section 22 are the same as those in the first and second embodiments. In the case of this embodiment, the overflow of the liquid resin 47 is considered to be slight even if it overflows. Therefore, in the degate operation, for example, a gate break is performed only by abutting the push-down rod 37 of the molded article holding device 23 against the upper surface of the package portion 36 exposed in the cavity hole 13, and only the workpiece 2 after molding is degated. Collected on the pallet 24. The scrap 35 remaining on the cavity plate 11 is collected by the collection box 25 while being held by the hand (or the suction conveyance unit 81) of the molded article holding device 23 or the like. The operation of accommodating the work 2 in the molded article accommodating portion 26 and the operation of cleaning the cavity plate 11 are performed in the same manner as in the first and second embodiments.
Further, as shown by a two-dot chain line in FIG. 19, the lower die 42 may be a transfer molding die (a pot, a die with a plunger). Further, a granular resin or the like may be used instead of the liquid resin 47. When the release film 9 is not used, an ejector pin may be provided.

上述した樹脂封止装置を用いても、樹脂封止に先立ってワーク2に金めっきなどの特殊な加工処理が不要であり、生産工程を簡略化でき、金型メンテナンスの簡略化やエジェクタピンを省略して金型構造を簡素化することができ、パッケージ部36の厚みや外形寸法精度を均一に成形でき、成形品質を向上させることができる。特に、樹脂材33の供給量が予め設定され或いは計量されて定量的に直接キャビティ孔13へ供給できるので、封止樹脂の無駄がなくなり、歩留まりが向上しスクラップ35の発生量を減らすことができる。   Even if the above-described resin sealing device is used, the work 2 does not require special processing such as gold plating prior to resin sealing, so that the production process can be simplified, mold maintenance can be simplified, and the ejector pins can be used. By omitting it, the mold structure can be simplified, the thickness and the external dimension accuracy of the package portion 36 can be uniformly formed, and the molding quality can be improved. In particular, since the supply amount of the resin material 33 is set or measured in advance and can be quantitatively supplied directly to the cavity hole 13, waste of the sealing resin is eliminated, yield is improved, and the amount of scrap 35 generated can be reduced. .

[第4実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図20及び図21を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。尚、前述した実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。本実施例は、プレス部5にトランスファ成形用のモールド金型48が用いられている。以下、上型49が固定型、下型50が可動型として説明する。
図20において、下型50にはキャビティ凹部51が形成され、ポット27やプランジャ28を備えている。また、ワーク2としては半導体チップが搭載されたリードフレームが用いられる。尚、樹脂材33としては、樹脂タブレットのほかに顆粒状樹脂や液状樹脂等が用いられる。
[Fourth embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIGS. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. It is to be noted that the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to. In the present embodiment, a molding die 48 for transfer molding is used in the press section 5. Hereinafter, description will be made on the assumption that the upper mold 49 is a fixed mold and the lower mold 50 is a movable mold.
In FIG. 20, a cavity 50 is formed in a lower mold 50 and includes a pot 27 and a plunger 28. Further, as the work 2, a lead frame on which a semiconductor chip is mounted is used. As the resin material 33, a granular resin, a liquid resin, or the like is used in addition to the resin tablet.

また、キャビティプレート11の配置構成との関係上、下型50のクランプ面にはリリースフィルム9が供給し難いため、キャビティ凹部51の底部にはエジェクタピン52及び公知のエジェクタピン駆動機構(図示せず)が設けられている。エジェクタピン52は、樹脂封止後、下型50が型開きした際に、キャビティ凹部51の底部よりパッケージ部36を突き上げて、ワーク2を下型50より離型させるようになっている。
尚、上型49には、図示しないエアー吸引機構に連通する吸引孔57が形成されている。この吸引孔57よりエアー吸引機構に吸引されてリリースフィルム9が上型クランプ面に張設されるようになっている。また、図21において、キャビティプレート11にはポット孔14からキャビティ孔13に連通する側面ゲート(凹溝)53が形成されていても良い。
Since the release film 9 is not easily supplied to the clamp surface of the lower die 50 due to the arrangement of the cavity plate 11, the ejector pins 52 and a known ejector pin driving mechanism (shown in FIG. Z) is provided. When the lower mold 50 is opened after the resin sealing, the ejector pins 52 push up the package portion 36 from the bottom of the cavity concave portion 51 to release the work 2 from the lower mold 50.
The upper die 49 has a suction hole 57 communicating with an air suction mechanism (not shown). The release film 9 is sucked by the air suction mechanism from the suction hole 57 and stretched on the clamp surface of the upper die. In FIG. 21, a side gate (concave groove) 53 communicating from the pot hole 14 to the cavity hole 13 may be formed in the cavity plate 11.

樹脂封止動作において、加熱されたモールド金型48により溶融した封止樹脂34は、プランジャ28を上方へ移動させて金型カル29及び金型ランナゲート30を通じてキャビティ孔13へ充填される。封止樹脂34はキャビティプレート11とリリースフィルム9との間に形成される樹脂路を圧送りされるため、上型7及び下型8のクランプ面に接触することなくキャビティ孔13に注入される。そして、キャビティ孔13から、リードフレームのリード間の隙間を通じてキャビティ凹部51へ充填される。モールド金型48がクランプしたまま、封止樹脂34の加熱硬化(キュア)が行われ、リードフレームの両面にパッケージ部36が形成される。尚、下型50は、次の樹脂封止が開始されるまでにクリーニングする必要がある。クリーニングは専用機やワーク搬入に先立ってローダー4などにより行っても良い。   In the resin sealing operation, the sealing resin 34 melted by the heated mold 48 moves the plunger 28 upward to fill the cavity 13 through the mold cull 29 and the mold runner gate 30. Since the sealing resin 34 is fed through a resin path formed between the cavity plate 11 and the release film 9, the sealing resin 34 is injected into the cavity 13 without contacting the clamp surfaces of the upper die 7 and the lower die 8. . Then, the cavity concave portion 51 is filled from the cavity hole 13 through the gap between the leads of the lead frame. While the mold 48 is clamped, the sealing resin 34 is cured by heating (curing), and the package portions 36 are formed on both surfaces of the lead frame. The lower mold 50 needs to be cleaned before the next resin sealing is started. Cleaning may be performed by a loader 4 or the like prior to loading of a dedicated machine or a work.

上述した樹脂封止装置を用いても、樹脂封止に先立ってワーク2に金めっきなどの特殊な加工処理が不要であり、生産工程を簡略化できる。下型50側のエジェクタピン52は省略できないが、上型49はリリースフィルム9を用いて省略できるので、金型メンテナンスの簡素化や、エジェクタピン52を減らして金型構造を簡略化することができる。
尚、上型49にリリースフィルム9を用いない場合には、下型50と同様にエジェクタピンを設ければ良い。また、モールド金型48は、両面モールドタイプのワーク2のみならず片面モールドタイプのワーク2も共用できるなどの汎用性を持たせることができる。
Even with the use of the above-described resin sealing device, the work 2 does not require special processing such as gold plating prior to resin sealing, and the production process can be simplified. Although the ejector pins 52 on the lower mold 50 side cannot be omitted, the upper mold 49 can be omitted using the release film 9, so that mold maintenance can be simplified and the mold structure can be simplified by reducing the ejector pins 52. it can.
When the release film 9 is not used for the upper die 49, an ejector pin may be provided similarly to the lower die 50. In addition, the mold 48 can have versatility such that not only the work 2 of the double-sided mold type but also the work 2 of the single-sided mold type can be shared.

[第5実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図22を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。尚、前述した実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。
本実施例は、プレス部5にトランスファ成形用のモールド金型59が用いられ、上型54が固定型、下型55が可動型である。本実施例は、下型55上にキャビティプレート11とワーク2とが上下逆にセットされる場合について説明する。
[Fifth embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIG. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. It is to be noted that the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to.
In the present embodiment, a molding die 59 for transfer molding is used in the press section 5, the upper die 54 is a fixed die, and the lower die 55 is a movable die. In this embodiment, a case where the cavity plate 11 and the work 2 are set upside down on the lower mold 55 will be described.

上型54のクランプ面には、ワーク受け部(凹部)54aが形成されている。また、上型54には図示しないエアー吸引機構に連通する吸引孔56が形成されている。この吸引孔56よりエアー吸引機構に吸引されてリリースフィルム9がワーク受け部54aを含む上型クランプ面に張設されるようになっている。   A work receiving portion (recess) 54 a is formed on the clamp surface of the upper die 54. The upper mold 54 has a suction hole 56 communicating with an air suction mechanism (not shown). The release film 9 is sucked by the air suction mechanism from the suction hole 56 and stretched on the upper die clamping surface including the work receiving portion 54a.

また、下型55にはポット27、プランジャ28を含むトランスファー機構が設けられている。下型55には金型カル29及び金型ランナゲート30が形成されている。また、キャビティプレート11の配置構成との関係上、下型55のクランプ面にリリースフィルム9を張設しない場合には、キャビティプレート11のキャビティ孔13位置や、金型カル29及び金型ランナゲート30の位置にはエジェクタピン52及び公知のエジェクタピン駆動機構(図示せず)が設けられている。エジェクタピン52は、樹脂封止後、下型55が型開きした際に、キャビティ凹部51の底部よりパッケージ部36やスクラップ35を突き上げて、下型55より離型させるようになっている。
また、図22の破線のように下型55のクランプ面にもリリースフィルム9を張設する場合には、エジェクタピン52及び公知のエジェクタピン駆動機構(図示せず)は省略することができる。
The lower die 55 is provided with a transfer mechanism including the pot 27 and the plunger 28. The lower mold 55 has a mold cull 29 and a mold runner gate 30 formed thereon. When the release film 9 is not stretched on the clamp surface of the lower mold 55 due to the arrangement of the cavity plate 11, the position of the cavity hole 13 of the cavity plate 11, the mold cull 29 and the mold runner gate are not provided. An ejector pin 52 and a known ejector pin driving mechanism (not shown) are provided at the position 30. When the lower mold 55 is opened after the resin sealing, the ejector pins 52 push up the package portion 36 and the scrap 35 from the bottom of the cavity concave portion 51 to be released from the lower mold 55.
When the release film 9 is also stretched on the clamp surface of the lower mold 55 as shown by the broken line in FIG. 22, the ejector pins 52 and a known ejector pin driving mechanism (not shown) can be omitted.

また、キャビティプレート11には、キャビティ孔13とカル孔58(何れも貫通孔)が穿孔されている。キャビティ孔13は、樹脂封止部(パッケージ部)36の外形を規定しており、基板側に向かって外径が拡大するような傾きを持つ孔壁面に形成されている。カル孔58は、上型クランプ面に向かって外径が縮小するような傾きを持つテーパー孔に形成されている。カル孔58は、スクラップ35が搬送途中にキャビティプレート11より脱落しないようにテーパー角度が調整されている。   The cavity plate 11 is provided with a cavity hole 13 and a cull hole 58 (both are through holes). The cavity hole 13 defines the outer shape of the resin sealing portion (package portion) 36, and is formed on a hole wall surface having an inclination such that the outer diameter increases toward the substrate side. The cull hole 58 is formed as a tapered hole having an inclination such that the outer diameter decreases toward the upper die clamping surface. The taper angle of the cull hole 58 is adjusted so that the scrap 35 does not drop off from the cavity plate 11 during conveyance.

本実施例は、下型55のクランプ面にキャビティプレート11をリフトダウンさせた上に、ワーク2が半導体チップ搭載面を下向きになるように搬入される。このとき、ワーク2の半導体チップがキャビティ孔13に収容されるよう位置合わせして重ね合わせ、リリースフィルム9が張設された上型54とでキャビティプレート11及びワーク2がクランプされて樹脂封止される。尚、樹脂材33として樹脂タブレットを用いる場合には、キャビティプレート11を下型55のクランプ面にリフトダウンする前にポット27に樹脂材33を装填する必要がある。   In the present embodiment, after the cavity plate 11 is lifted down on the clamp surface of the lower die 55, the work 2 is carried in such that the semiconductor chip mounting surface faces downward. At this time, the semiconductor chip of the work 2 is aligned and overlapped so as to be accommodated in the cavity hole 13, and the cavity plate 11 and the work 2 are clamped by the upper mold 54 on which the release film 9 is stretched, and the resin sealing is performed. Is done. When a resin tablet is used as the resin material 33, the pot 27 needs to be loaded with the resin material 33 before the cavity plate 11 is lifted down to the clamp surface of the lower die 55.

また、樹脂封止後、ディゲート部22へ搬送されたワーク2は、例えば、第1、第2実施例と逆の構成でゲートブレイクが行なわれる。即ち、キャビティプレート11の上方に成形品保持装置が待機し、キャビティプレート11の下方にはスクラップ回収用の回収ボックスが配置される。回収ボックス側より突き上げロッドをキャビティ孔13に露出するパッケージ部36の下面に突き当てられてキャビティプレート11から離型される。一方、成形品保持装置より突き下げロッドをカル孔58に露出するスクラップ35の上面に突き当てられてキャビティプレート11から離型される。スクラップ35はそのまま下方に落下して回収ボックスへ回収される。ワーク2は成形品保持装置の吸着パッドに吸着保持され、成形品収納部へ収納される。   Further, after the resin is sealed, the work 2 transported to the degate section 22 is subjected to a gate break, for example, in a configuration reverse to that of the first and second embodiments. That is, the molded article holding device stands by above the cavity plate 11, and a collection box for collecting scraps is arranged below the cavity plate 11. The push-up rod is abutted against the lower surface of the package portion 36 exposed from the cavity hole 13 from the collection box side, and is released from the cavity plate 11. On the other hand, the push-down rod is abutted against the upper surface of the scrap 35 exposed in the cull hole 58 from the molded product holding device, and is released from the cavity plate 11. The scrap 35 falls down as it is and is collected in the collection box. The work 2 is sucked and held by the suction pad of the molded product holding device, and stored in the molded product storage section.

上述した樹脂封止装置を用いても、樹脂封止に先立ってワーク2に金めっきなどの特殊な加工処理が不要であり、生産工程を簡略化できる。下型55側のエジェクタピン52は省略できないが、上型54はリリースフィルム9を用いて省略できるので、金型メンテナンスの簡素化や、エジェクタピン52を減らして金型構造を簡略化することができる。
尚、上型54にリリースフィルム9を用いない場合には、下型55と同様にエジェクタピンを設ければ良い。
Even with the use of the above-described resin sealing device, the work 2 does not require special processing such as gold plating prior to resin sealing, and the production process can be simplified. Although the ejector pins 52 on the lower mold 55 side cannot be omitted, the upper mold 54 can be omitted using the release film 9, so that mold maintenance can be simplified, and the mold structure can be simplified by reducing the ejector pins 52. it can.
When the release film 9 is not used for the upper mold 54, an ejector pin may be provided similarly to the lower mold 55.

[第6実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図23を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。尚、前述した実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。
本実施例は、プレス部5にトランスファ成形用のモールド金型60が用いられ、上型61が固定型、下型62が可動型である。
[Sixth embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIG. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. It is to be noted that the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to.
In the present embodiment, a molding die 60 for transfer molding is used in the press section 5, and the upper die 61 is a fixed die and the lower die 62 is a movable die.

本実施例は、モールド金型60のうちワーク2をクランプする際に基板2aを受けるワーク載置部65に、ワーク2の板厚の変動を調整する板厚調整機構が設けられていることを特徴とする。ワーク2をモールド金型60でクランプすると、基板2aの板厚のばらつきにより、板厚が厚い場合には基板2aに過度のクランプ力が加わり、傷や変形等が生じ、キャビティプレート11が金型クランプ面と接触できないため、封止樹脂が漏れるおそれがある。基板2aの板厚が薄い場合には、基板2aとキャビティプレート11との間に隙間が生じて基板2a上に封止樹脂が漏れるおそれがあった。そこで、板厚調整機構により基板2aの板厚のばらつきを吸収できるようにしたものである。   The present embodiment is based on the fact that the work placement portion 65 of the mold 60 which receives the substrate 2a when clamping the work 2 is provided with a plate thickness adjusting mechanism for adjusting the change in the plate thickness of the work 2. Features. When the work 2 is clamped by the mold 60, an excessive clamping force is applied to the substrate 2a when the plate 2 is thick due to variation in the plate thickness of the substrate 2a, thereby causing scratches, deformation, and the like. Since it cannot contact with the clamp surface, the sealing resin may leak. When the thickness of the substrate 2a is small, a gap may be formed between the substrate 2a and the cavity plate 11, and the sealing resin may leak onto the substrate 2a. Thus, the thickness adjustment mechanism can absorb variations in the thickness of the substrate 2a.

下型62には公知のトランスファー機構を構成するポット27、プランジャ28及び図示しない均等圧ユニットが設けられており、下型チェイスブロック63には板厚調整ブロック64が支持されている。板厚調整ブロック64の上面が、ワーク2がセットされるワーク載置部65の底部を形成している。また、板厚調整ブロック64には、吸引孔32が形成されている。吸引孔32は、板厚調整ブロック64と下型チェイスブロック63との隙間を通じて図示しないエアー吸引機構に吸引されてワーク2の基板2aがワーク載置部65に吸着保持されている。   The lower mold 62 is provided with a pot 27, a plunger 28, and a not-shown uniform pressure unit which constitute a known transfer mechanism, and the lower mold chase block 63 supports a plate thickness adjusting block 64. The upper surface of the plate thickness adjustment block 64 forms the bottom of the work placement section 65 on which the work 2 is set. The suction hole 32 is formed in the plate thickness adjustment block 64. The suction hole 32 is sucked by an air suction mechanism (not shown) through a gap between the plate thickness adjustment block 64 and the lower die chase block 63, and the substrate 2 a of the work 2 is suction-held on the work mounting portion 65.

また、上型61には金型カル29及び金型ランナゲート30が形成されている。樹脂路を含む上型クランプ面にはリリースフィルム9が張設されるようになっている。金型ランナゲート30は、リリースフィルム9に覆われた上型クランプ面とキャビティプレート11との間に形成されるようになっている。上記モールド金型60による樹脂封止動作は、第1、第2実施例と同様である。   The upper mold 61 is provided with a mold cull 29 and a mold runner gate 30. A release film 9 is stretched on the upper clamp surface including the resin path. The mold runner gate 30 is formed between the upper mold clamping surface covered with the release film 9 and the cavity plate 11. The resin sealing operation by the mold 60 is the same as in the first and second embodiments.

ここで、ワーク載置部65に設けられた板厚調整機構の板厚調整方式について例示列挙して説明する。第1は樹脂封止するワーク2の厚みに応じて板厚調整ブロック64を交換することが考えられる。板厚調整ブロック64を交換することでワーク2に厚みの変動を吸収することができる。第2は板厚調整ブロック64と下型チェイスブロック63との間にコイルスプリングなどの弾性体を弾装させておき、ワーク2の厚みの変動分を弾性体により吸収することが考えられる。第3は板厚調整ブロック64をサーボモータ等で上下動させてワーク2の厚みの変動を吸収することが考えられる。第4は板厚調整ブロック64自体を弾性体としてワーク2の厚みの変動を吸収することが考えられる。尚、板厚調整ブロック64を弾性体としなくても、板厚調整ブロック64をリリースフィルム9で覆うことによりワーク2の厚みの変動を吸収することが可能な場合もある。   Here, the plate thickness adjusting method of the plate thickness adjusting mechanism provided in the work mounting portion 65 will be exemplified and described. First, it is conceivable to replace the plate thickness adjusting block 64 according to the thickness of the work 2 to be resin-sealed. By exchanging the plate thickness adjustment block 64, the work 2 can absorb the fluctuation in thickness. Secondly, it is conceivable that an elastic body such as a coil spring is elastically provided between the plate thickness adjusting block 64 and the lower die chase block 63, and a variation in the thickness of the work 2 is absorbed by the elastic body. Third, it is conceivable that the thickness adjustment block 64 is moved up and down by a servomotor or the like to absorb the variation in the thickness of the work 2. Fourth, it is conceivable that the thickness adjustment block 64 itself is used as an elastic body to absorb the variation in the thickness of the work 2. Note that, even if the thickness adjustment block 64 is not made of an elastic body, the thickness variation of the work 2 can sometimes be absorbed by covering the thickness adjustment block 64 with the release film 9.

本実施例によれば、前述した第1、第2実施例と同様の効果のほかに、モールド金型60のうちワーク2をクランプする際に基板を受けるワーク載置部65に、基板2aの板厚の変動を調整する板厚調整機構が設けられているので、ワーク2の厚みの変動を吸収して、基板2aが傷付いたり成形品質を損なうことがなく樹脂封止動作の信頼性や汎用性を向上できる。
尚、本実施例では板厚調整機構を下型62側に設けた場合について説明したが、基板受け部が上型61となる場合には、板厚調整機構を上型61側に設けても良い。また、モールド金型60はトランスファー成形用の金型について説明したが、圧縮成形用の金型であっても同様に適用可能である。
According to this embodiment, in addition to the same effects as those of the above-described first and second embodiments, the workpiece mounting portion 65 of the mold 60 that receives the substrate when clamping the workpiece 2 is attached to the substrate 2a. Since the thickness adjustment mechanism for adjusting the thickness variation is provided, the variation in the thickness of the work 2 is absorbed, and the reliability of the resin sealing operation is improved without damaging the substrate 2a or impairing the molding quality. Versatility can be improved.
In this embodiment, the case where the plate thickness adjusting mechanism is provided on the lower die 62 side is described. However, when the substrate receiving portion is the upper die 61, the plate thickness adjusting mechanism may be provided on the upper die 61 side. good. Although the mold 60 has been described as a transfer mold, the present invention is similarly applicable to a compression mold.

[第7実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図24を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。尚、前述した実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。
本実施例は、プレス部5にトランスファ成形用のモールド金型70が用いられ、上型71が固定型、下型72が可動型である。
[Seventh embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIG. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. It is to be noted that the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to.
In this embodiment, a molding die 70 for transfer molding is used for the press part 5, and the upper die 71 is a fixed die and the lower die 72 is a movable die.

本実施例は、ワーク2として、BGA(Ball・Grid・Arrey)タイプの回路基板が用いられ、該ワーク2を樹脂封止するモールド金型70及びキャビティプレート11の構成について説明する。BGAタイプの基板2aは、半導体チップが開口凹部2cに搭載されて、基板2a側の配線パターンと電気的に接続され、該開口凹部2cの周囲に保護膜層より露出したパッド部に外部接続端子(はんだボール、金属バンプなど)2bが接合されている。この開口凹部2cにキャビティプレート11のキャビティ孔13を位置合わせして重ね合わせ、モールド金型70によりクランプして樹脂封止する。また、キャビティプレート11がワーク2と重ね合わされる下面部には、外部接続端子2bとの干渉を回避するための端子収容凹部73が形成されている。外部接続端子2bは、端子収容凹部73内でクランプされずに凹面部との隙間に収容されるようになっている。   In the present embodiment, a circuit board of a BGA (Ball, Grid, Array) type is used as the work 2, and the configurations of a mold 70 and a cavity plate 11 for sealing the work 2 with resin will be described. In the BGA type substrate 2a, a semiconductor chip is mounted in an opening recess 2c, is electrically connected to a wiring pattern on the substrate 2a side, and external connection terminals are provided around a pad portion exposed from a protective film layer around the opening recess 2c. (Solder balls, metal bumps, etc.) 2b are joined. The cavity hole 13 of the cavity plate 11 is positioned and overlapped with the opening concave portion 2c, clamped by a mold 70 and sealed with resin. In addition, a terminal receiving concave portion 73 for avoiding interference with the external connection terminal 2b is formed on a lower surface portion where the cavity plate 11 is overlapped with the work 2. The external connection terminals 2b are not clamped in the terminal accommodating recess 73, but are accommodated in a gap with the concave surface portion.

下型72には公知のトランスファー機構を構成するポット27、プランジャ28及び図示しない均等圧ユニットが設けられており、下型クランプ面にはワーク2がセットされるワーク載置部72bが形成されている。   The lower mold 72 is provided with a pot 27, a plunger 28 and a uniform pressure unit (not shown) which constitute a known transfer mechanism, and a work mounting portion 72b on which the work 2 is set is formed on the lower mold clamping surface. I have.

また、上型71には金型カル29及び金型ランナゲート30が形成されている。上型71のキャビティ孔13に対向するクランプ面は突面部71aに形成されている。樹脂路を含む上型クランプ面にはリリースフィルム9が張設されるようになっている。金型ランナゲート30は、リリースフィルム9に覆われた上型クランプ面とキャビティプレート11及びキャビティ孔13の内壁面との間に形成されるようになっている。上記モールド金型70による樹脂封止動作は、第1、第2実施例と同様である。尚、開口凹部2cに形成されるパッケージ部36の上面は、上型71のクランプ面に形成された突面部71aの突出高さを調整することで、基板2aより若干突出した高さに形成されていても、或いは基板2aと同一高さに形成されていても何れでも良い。また、モールド金型70はトランスファー成形用の金型について説明したが、圧縮成形用の金型であっても同様に適用可能である。   The upper mold 71 is provided with a mold cull 29 and a mold runner gate 30. The clamp surface of the upper die 71 facing the cavity hole 13 is formed in the protruding surface portion 71a. A release film 9 is stretched on the upper clamp surface including the resin path. The mold runner gate 30 is formed between the upper mold clamping surface covered with the release film 9 and the inner wall surfaces of the cavity plate 11 and the cavity hole 13. The resin sealing operation by the mold 70 is the same as in the first and second embodiments. The upper surface of the package portion 36 formed in the opening concave portion 2c is formed to have a height slightly protruding from the substrate 2a by adjusting the height of the protruding surface portion 71a formed on the clamp surface of the upper die 71. Or may be formed at the same height as the substrate 2a. Although the mold 70 has been described as a mold for transfer molding, a mold for compression molding can be similarly applied.

本実施例によれば、前述した第1、第2実施例と同様の効果のほかに、半導体チップが基板2aの開口凹部2cに搭載され、開口凹部2cの周囲に外部接続端子2bが形成されたBGAタイプのワーク2、即ちチップ搭載部と外部接続端子形成部が基板2aの同一面側に有するワーク2に対しても、外部接続端子2bを破損することなく樹脂封止が行える。   According to this embodiment, in addition to the effects similar to those of the first and second embodiments, the semiconductor chip is mounted in the opening 2c of the substrate 2a, and the external connection terminal 2b is formed around the opening 2c. Resin sealing can also be performed on the BGA type work 2, that is, the work 2 in which the chip mounting portion and the external connection terminal forming portion are on the same side of the substrate 2a, without damaging the external connection terminals 2b.

[第8実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図25を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。尚、前述した実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。
本実施例は、ワーク2の一例として、半導体チップ107が基板2aにマップ状にワイヤボンディング実装されている場合(図25左半図)と、半導体チップ107が基板2aにマップ状にフリップチップ実装されている場合(図25右半図)を例示している。モールド金型6はトランスファ成形用のモールド金型が用いられ、上型7が固定型、下型8が可動型である。尚、半導体チップ107の配置形態であるマップ状にはマトリクス状配置も含まれるものとする。
[Eighth embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIG. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. It is to be noted that the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to.
In this embodiment, as an example of the work 2, the case where the semiconductor chip 107 is wire-bonded and mounted on the substrate 2a in a map shape (FIG. 25 left half view), the case where the semiconductor chip 107 is flip-chip mounted on the substrate 2a in a map shape (The right half of FIG. 25). As the mold 6, a mold for transfer molding is used. The upper mold 7 is a fixed mold and the lower mold 8 is a movable mold. It should be noted that the map form as the arrangement form of the semiconductor chips 107 includes a matrix arrangement.

キャビティプレート11は、ワーク2の樹脂封止エリアにつき1箇所にキャビティ孔13が穿孔されており、マップ状に配置された半導体チップ107が一括して封止される。尚、フリップチップ実装されている半導体チップ107は、オーバーモールドするのに先だってアンダーフィルモールドする必要がある。この場合には、例えば固定型である上型7に可動型108を上下動可能に設け、金型クランプ状態で、可動型108を下動させてキャビティ孔13を通じて基板2aに当接させ、半導体チップ107の両側面を覆った状態でアンダーフィルモールドを行う。即ち、キャビティ内に送り込まれた樹脂は、半導体チップ107の空いている側面から端子間(例えばはんだボール間)の隙間へ進入して方向性を持って充填される。そして、アンダーフィルモールドが終了する直前若しくは終了後に可動型108を上動させて上型7へ退避させて、オーバーモールドが行われる。
このように、基板2aにマップ状に配置された半導体チップ107を一括して樹脂封止する場合、基板2aにランナ樹脂が触れずにマップ状に成形することができる。
The cavity plate 11 has a cavity hole 13 perforated at one location per resin sealing area of the work 2, and the semiconductor chips 107 arranged in a map shape are collectively sealed. Note that the semiconductor chip 107 mounted on the flip chip needs to be underfill-molded before overmolding. In this case, for example, the movable die 108 is provided in the upper die 7 which is a fixed die so as to be movable up and down, and the movable die 108 is moved downward in the mold clamping state so as to contact the substrate 2 a through the cavity hole 13. Underfill molding is performed with both sides of the chip 107 covered. That is, the resin fed into the cavity enters the gap between the terminals (for example, between the solder balls) from the free side surface of the semiconductor chip 107 and is filled with directionality. Then, immediately before or after the end of the underfill molding, the movable mold 108 is moved upward and retracted to the upper mold 7, and overmolding is performed.
As described above, when the semiconductor chips 107 arranged in a map on the substrate 2a are collectively sealed with a resin, the semiconductor chips 107 can be formed in a map without the runner resin touching the substrate 2a.

[第9実施例]
次に樹脂封止装置の他例について図26を参照して説明する。樹脂封止装置の概略構成は第1、第2実施例と同様であるので、以下異なる点を中心に説明する。尚、前述した実施例と同一部材には同一番号を付して説明を援用するものとする。
本実施例は、ワーク2の一例として、半導体チップ107が基板2aにマトリクス状にワイヤボンディング実装されている場合を例示している。モールド金型6はトランスファ成形用のモールド金型が用いられ、上型7が固定型、下型8が可動型である点は同様である。
[Ninth embodiment]
Next, another example of the resin sealing device will be described with reference to FIG. Since the schematic configuration of the resin sealing device is the same as that of the first and second embodiments, the different points will be mainly described below. It is to be noted that the same members as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is referred to.
In the present embodiment, as an example of the work 2, a case where the semiconductor chip 107 is mounted by wire bonding in a matrix on the substrate 2a is illustrated. The mold 6 is a transfer mold, and the upper mold 7 is a fixed mold and the lower mold 8 is a movable mold.

本実施例は、基板2aにマトリクス状に配置された半導体チップ107を一括して樹脂封止せずに個別に樹脂封止する場合を例示している。キャビティプレート11には、半導体チップ107に対応する部位にキャビティ孔13が穿孔されている。また、上型7には、金型ランナ109に連通して各キャビティ孔13に接続可能なサイドゲート110が形成されている(図26左半図)。ポット27に装填された樹脂材33は、プランジャ28を上動させると、ポット孔14及び金型ランナ109を通じてサイドゲート110より各キャビティ孔13に個別に充填されるようになっている。   This embodiment illustrates a case where the semiconductor chips 107 arranged in a matrix on the substrate 2a are individually resin-sealed without being collectively resin-sealed. A cavity hole 13 is formed in the cavity plate 11 at a position corresponding to the semiconductor chip 107. Further, a side gate 110 is formed in the upper mold 7 so as to communicate with the mold runner 109 and connect to each cavity hole 13 (FIG. 26, left half view). When the plunger 28 is moved upward, the resin material 33 loaded in the pot 27 is individually filled into each cavity hole 13 from the side gate 110 through the pot hole 14 and the mold runner 109.

また、キャビティプレート11には、各半導体チップ107に対向する部位にキャビティ凹部112及び該キャビティ凹部112に連通するバーチカルゲート113が各々形成されている。各バーチカルゲート113は上型7に形成された金型ランナ109に連通している(図26右半図)。ポット27に装填された樹脂材33は、プランジャ28を上動させると、ポット孔14及び金型ランナ109を通じてバーチカルゲート113より各キャビティ凹部112に充填されるようになっている。
このように、基板2aにマトリクス状に配置された半導体チップ107を個別に樹脂封止することができ、基板2aにランナ樹脂が触れずにマトリクス状に成形することができ、成形品に無駄になる樹脂部分を少なくすることができる。
In the cavity plate 11, a cavity concave portion 112 and a vertical gate 113 communicating with the cavity concave portion 112 are formed at a portion facing each semiconductor chip 107. Each vertical gate 113 communicates with a mold runner 109 formed on the upper mold 7 (FIG. 26, right half view). When the plunger 28 is moved upward, the resin material 33 loaded in the pot 27 is filled in each cavity recess 112 from the vertical gate 113 through the pot hole 14 and the mold runner 109.
In this manner, the semiconductor chips 107 arranged in a matrix on the substrate 2a can be individually resin-sealed, and the substrate 2a can be molded in a matrix without the runner resin coming into contact with the substrate 2a. Resin portion can be reduced.

尚、図27において、キャビティプレート11を用いて樹脂封止を行う場合、1回のモールドエリアには、同一製品を樹脂封止する場合に限らず、異なる製品を樹脂封止するようにしても良い。すなわち、ワーク2としては、マップ状に配置された半導体チップ一括成形する製品と個別に成形する製品とが混在していても樹脂封止できる。この場合、キャビティ孔のパターンを変更したり、金型ランナゲートの形状を変更するだけで樹脂封止することができる。   In FIG. 27, when resin sealing is performed using the cavity plate 11, not only the same product but also different products may be sealed in one molding area. good. In other words, the work 2 can be resin-sealed even if there are a mixture of products that are formed in a map and are formed individually and are formed separately. In this case, resin sealing can be performed only by changing the pattern of the cavity hole or changing the shape of the mold runner gate.

以上、本発明の好適な実施例について種々述べてきたが、樹脂封止装置は上述した各実施例に限定されるのではなく、キャビティプレート11は、金属プレートが好適であるがこれに限定されるものではなく、耐熱性、耐摩耗性、柔軟性を有し樹脂付着し難いものであれば、材質は任意である。また、リリースフィルム9は、モールド金型の一方の金型面を覆うようにしたが、可能であれば上下のクランプ面を覆うようにしても良い。
また、ワークWは半導体チップが搭載された基板2aにパッケージ部36が形成される場合について説明したが、図28に示すように、ワークWとして半導体用基板114のみを用いて、チップ搭載エリア115の周囲を囲むようにリング状の樹脂封止部116が形成されるようにしても良い等、発明の本旨を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
As described above, various preferred embodiments of the present invention have been described. However, the resin sealing device is not limited to each of the above-described embodiments, and the cavity plate 11 is preferably a metal plate, but is not limited thereto. Any material can be used as long as it has heat resistance, abrasion resistance, flexibility, and does not easily adhere to the resin. Although the release film 9 covers one mold surface of the mold, it may cover the upper and lower clamp surfaces if possible.
Further, the case where the package portion 36 is formed on the substrate 2a on which the semiconductor chip is mounted has been described for the work W. However, as shown in FIG. Of course, many modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, such as a case in which the ring-shaped resin sealing portion 116 is formed so as to surround the periphery of.

第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る樹脂封止装置の正面図である。It is a front view of the resin sealing device concerning a 1st Example. 図8の樹脂封止装置の下型側の平面図である。FIG. 9 is a plan view of the lower mold side of the resin sealing device of FIG. 8. キャビティプレートの平面図及び部分断面図である。It is the top view and partial sectional drawing of a cavity plate. キャビティプレートの平面図及び斜視図である。It is the top view and perspective view of a cavity plate. 第2実施例に係る樹脂封止装置全体のレイアウトを示す平面図である。It is a top view showing the layout of the whole resin encapsulation device concerning a 2nd example. 図12の樹脂封止装置を矢印F方向から見た正面図である。It is the front view which looked at the resin sealing device of FIG. 12 from the arrow F direction. 図12の樹脂封止装置を矢印A方向から見た説明図である。It is explanatory drawing which looked at the resin sealing device of FIG. 12 from the arrow A direction. 図13の樹脂封止装置を矢印B方向から見た説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram of the resin sealing device of FIG. 13 as viewed from the direction of arrow B. キャビティプレート、支持枠体及び搬送アームの説明図である。It is explanatory drawing of a cavity plate, a support frame, and a conveyance arm. 第3実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 3rd Example. 第3実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 3rd Example. 第3実施例に係る樹脂封止工程の説明図である。It is explanatory drawing of the resin sealing process which concerns on 3rd Example. 第4実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 4th Example. 第4実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 4th Example. 第5実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 5th Example. 第6実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 6th Example. 第7実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 7th Example. 第8実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 8th Example. 第9実施例に係る樹脂封止装置のモールド金型の説明図である。It is explanatory drawing of the mold of the resin sealing device concerning 9th Example. キャビティプレートの他例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other example of a cavity plate. ワークの他例を示す断面説明図である。It is sectional explanatory drawing which shows the other example of a workpiece | work.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 ワーク供給部
2 ワーク
2a 基板
2b 外部接続端子
2c 開口凹部
3 供給マガジン
4、99 ローダー
5 プレス部
6、40、48、59、60、70 モールド金型
7、41、49、54、61、71 上型
8、42、50、55、62、72 下型
8b、42b、65、72b ワーク載置部
9 リリースフィルム
10 フィルム搬送機構
11 キャビティプレート
12 プレート搬送機構
13 キャビティ孔
14 ポット孔
15a、15b スプロケットホイール
16a、16b 支持ベース
17 送り孔
18、85 クリーナー部
19、85a、85b クリーニングブラシ
20a 粘着ゴムローラ
20b クリーニングベルト
21 エアー吸引部
22 ディゲート部
23 成形品保持装置
24 ディゲートパレット
25 回収ボックス
26 成形品収納部
27 ポット
28 プランジャ
29 金型カル
30 金型ランナゲート
31、32、44、45、56、57 吸引孔
33 樹脂材
34 封止樹脂
35 スクラップ
36 パッケージ部
37 突き下げロッド
38 突き上げロッド
39 吸着パッド
43 オーバーフローキャビティ
46 オーバーフローゲート
47 液状樹脂
51、112 キャビティ凹部
52 エジェクタピン
53 側面ゲート
58 カル孔
63 下型チェイスブロック
64 板厚調整ブロック
73 端子収容凹部
81 吸着搬送部
83 トラック面
84 プレヒート部
84a 熱板
85c 吸引ダクト
85d フードカバー
86 支持枠体
87 中空孔
88 搬送アーム
89、90 プーリ
91 ベルト
92 周回用モータ
93 ガイドブロック
94 ガイドレール
95、100 リフター装置
96 樹脂供給部
97 基板プレヒート部
98 プッシャー
101 位置決め孔
102 連結部
103 エアシリンダー
104 リフトアーム
105 連結シャフト
106 ハンド
107 半導体チップ
108 可動型
109 金型ランナ
110 サイドゲート
113 バーチカルゲート
114 半導体用基板
115 チップ搭載エリア
116 樹脂封止部
REFERENCE SIGNS LIST 1 work supply unit 2 work 2 a substrate 2 b external connection terminal 2 c opening concave portion 3 supply magazine 4, 99 loader 5 press unit 6, 40, 48, 59, 60, 70 mold 7, 41, 49, 54, 61, 71 Upper die 8, 42, 50, 55, 62, 72 Lower die 8b, 42b, 65, 72b Work placement part 9 Release film 10 Film transport mechanism 11 Cavity plate 12 Plate transport mechanism 13 Cavity hole 14 Pot hole 15a, 15b Sprocket Wheel 16a, 16b Support base 17 Feed hole 18, 85 Cleaner part 19, 85a, 85b Cleaning brush 20a Adhesive rubber roller 20b Cleaning belt 21 Air suction part 22 Degate part 23 Mold holding device 24 Digate pallet 25 Collection box 26 Shaped article storage part 27 Pot 28 Plunger 29 Mold cull 30 Mold runner gate 31, 32, 44, 45, 56, 57 Suction hole 33 Resin material 34 Sealing resin 35 Scrap 36 Package part 37 Push-down rod 38 Push-up rod 39 Suction pad 43 Overflow cavity 46 Overflow gate 47 Liquid resin 51, 112 Cavity recess 52 Ejector pin 53 Side gate 58 Cull hole 63 Lower die chase block 64 Plate thickness adjustment block 73 Terminal accommodation recess 81 Suction conveyance unit 83 Track surface 84 Preheating unit 84a Hot plate 85c Suction duct 85d Food cover 86 Support frame 87 Hollow hole 88 Transfer arm 89, 90 Pulley 91 Belt 92 Circular motor 93 Guide block 94 Guide rail 95, 100 Riff Device 96 Resin supply section 97 Substrate preheating section 98 Pusher 101 Positioning hole 102 Connecting section 103 Air cylinder 104 Lift arm 105 Connecting shaft 106 Hand 107 Semiconductor chip 108 Movable type 109 Mold runner 110 Side gate 113 Vertical gate 114 Semiconductor substrate 115 Chip mounting area 116 Resin sealing

Claims (16)

ワークがプレス部に搬入されモールド金型にクランプされて樹脂封止が行なわれる樹脂封止装置において、
前記ワークと、樹脂封止部の外形及び厚さを規定するキャビティ孔が穿孔され繰り返し搬入/搬出可能なキャビティプレートとがプレス部に搬入され、モールド金型と位置合わせしてクランプすることにより樹脂封止されることを特徴とする樹脂封止装置。
In a resin sealing device in which a work is carried into a press section and clamped by a mold die to perform resin sealing,
The work and the cavity plate that defines the outer shape and thickness of the resin sealing portion are punched, and the cavity plate that can be repeatedly loaded / unloaded are loaded into the press portion, and are aligned with the mold and clamped by resin. A resin sealing device characterized by being sealed.
前記キャビティプレートは、前記モールド金型のクランプ面に循環若しくは往復動する金属製のベルト状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The resin sealing device according to claim 1, wherein the cavity plate is formed in a metal belt shape circulating or reciprocating on a clamp surface of the mold. 前記キャビティプレートは、送りローラ間に巻き回されてピッチ送りされ、樹脂封止後に型開きされた金型クランプ面よりキャビティプレートを離間させて送ることにより成形後のワークがモールド金型より取り出されることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The cavity plate is wound between feed rollers and pitch-fed, and the molded workpiece is removed from the mold by feeding the cavity plate away from the mold clamp surface opened after the resin sealing. The resin sealing device according to claim 1, wherein: 前記キャビティプレートは、プレス部への搬送方向上流側で搬送動作に伴ってクリーニングされることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The resin sealing device according to claim 1, wherein the cavity plate is cleaned along with a transport operation on an upstream side in a transport direction to the press unit. 前記キャビティプレートは、プレス部に対してモールド金型のクランプ面と略平行なトラック面上を周回移動する金属製のプレートであることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   2. The resin sealing device according to claim 1, wherein the cavity plate is a metal plate that orbits on a track surface substantially parallel to a clamp surface of a mold die with respect to a press unit. 前記キャビティプレートは、プレス部への搬送方向上流側でプレヒートされることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The resin sealing device according to claim 1, wherein the cavity plate is preheated on an upstream side in a conveying direction to a press unit. 前記キャビティプレートは、プレヒート部、プレス部、ディゲート部及びクリーナー部間を各工程間の同期を取って周回させて樹脂封止が行われることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   2. The resin sealing device according to claim 1, wherein the cavity plate is wrapped around a preheat portion, a press portion, a degate portion, and a cleaner portion in synchronization with each process to perform resin sealing. 成形後のワークは、プレス部から搬送方向下流側のディゲート部へ搬送されて、樹脂封止部と不要樹脂部とがキャビティプレートの両側へ分離されて回収されることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   2. The molded workpiece is transported from the press section to the degate section on the downstream side in the transport direction, and the resin sealing section and the unnecessary resin section are separated and collected on both sides of the cavity plate. The resin sealing device as described in the above. 前記プレス部は、一方の金型にポット、プランジャ及びワーク載置部が形成され、他方の金型に金型カル及び金型ランナゲートが形成され、樹脂路を含む金型クランプ面がリリースフィルムにより覆われるトランスファー成形用のモールド金型を備えたことを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   In the press section, a pot, a plunger and a work mounting section are formed in one mold, a mold cull and a mold runner gate are formed in the other mold, and a mold clamping surface including a resin path has a release film. 2. The resin sealing apparatus according to claim 1, further comprising a transfer mold covered by the mold. 前記プレス部は、樹脂路を含む金型クランプ面がリリースフィルムにより覆われるトランスファー成形用のモールド金型を備え、金型ランナゲートは、リリースフィルムに覆われた金型クランプ面とキャビティプレートとの間に形成されることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The press unit includes a mold for transfer molding in which a mold clamping surface including a resin path is covered with a release film, and a mold runner gate is provided between the mold clamping surface covered with the release film and the cavity plate. The resin sealing device according to claim 1, wherein the resin sealing device is formed therebetween. 前記プレス部は、樹脂路を含む金型クランプ面がリリースフィルムにより覆われるトランスファー成形用のモールド金型を備え、前記キャビティプレートに設けられたキャビティ孔の端面には凹溝が形成されていることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The press unit includes a mold for transfer molding in which a mold clamping surface including a resin path is covered with a release film, and a concave groove is formed on an end surface of a cavity hole provided in the cavity plate. The resin sealing device according to claim 1, wherein: 前記プレス部は、一方の金型にワーク載置部が形成され、他方の金型にキャビティプレートのキャビティ孔に連通可能なオーバーフローキャビティが形成されリリースフィルムに覆われる圧縮成形用のモールド金型を備えたことを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The press section is a compression mold mold in which a work mounting section is formed in one mold, and an overflow cavity that can communicate with the cavity hole of the cavity plate is formed in the other mold and covered with a release film. The resin sealing device according to claim 1, further comprising: 前記プレス部は、一方の金型にワーク載置部が形成され、他方の金型にキャビティプレートのキャビティ孔に連通可能なオーバーフローキャビティが形成されリリースフィルムに覆われる圧縮成形用のモールド金型を備え、キャビティプレートのキャビティ孔に供給された封止樹脂が、リリースフィルムに覆われたオーバーフローキャビティへ吸収されて圧縮成形されることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The press section is a compression mold mold in which a work mounting section is formed in one mold, and an overflow cavity that can communicate with the cavity hole of the cavity plate is formed in the other mold and covered with a release film. 2. The resin sealing device according to claim 1, wherein the sealing resin supplied to the cavity hole of the cavity plate is absorbed into the overflow cavity covered with the release film and compression molded. 前記プレス部は、一方の金型にワーク載置部が形成され、他方の金型にキャビティプレートのキャビティ孔に連通可能なオーバーフローキャビティが形成されリリースフィルムに覆われる圧縮成形用のモールド金型を備え、前記キャビティプレートにはキャビティ孔からオーバーフローキャビティに連通する凹溝が形成されていることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   The press section is a compression mold mold in which a work mounting section is formed in one mold, and an overflow cavity that can communicate with the cavity hole of the cavity plate is formed in the other mold and covered with a release film. 2. The resin sealing device according to claim 1, wherein a concave groove communicating with the overflow cavity from the cavity hole is formed in the cavity plate. 前記モールド金型のうちワークをクランプする際に基板を受けるワーク載置部には、該基板の板厚の変動を調整する板厚調整機構が設けられていることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   2. The work placement portion of the mold die that receives a substrate when clamping the work, the work placement portion is provided with a thickness adjustment mechanism that adjusts a variation in the thickness of the substrate. 3. Resin sealing device. 前記プレス部には、キャビティ孔が穿設されたキャビティプレートに替えて、樹脂封止部の外形及び厚さを規定するキャビティ凹部が形成され、該キャビティ凹部に連通するバーチカルゲートが穿孔されたキャビティプレートが搬入されることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止装置。   In the press section, a cavity recess is formed in place of a cavity plate having a cavity hole, which defines the outer shape and thickness of the resin sealing section, and a vertical gate communicating with the cavity recess is formed in the cavity. The resin sealing device according to claim 1, wherein the plate is carried in.
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