JP2004186001A

JP2004186001A - Organic el display and substrate thereof

Info

Publication number: JP2004186001A
Application number: JP2002352054A
Authority: JP
Inventors: Masanori Fukuda; 政典福田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-12-04
Filing date: 2002-12-04
Publication date: 2004-07-02

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display or a substrate thereof provided with a means for surely preventing releasing of a barrier wall from an end part with no complication in a manufacturing process. <P>SOLUTION: A first electrode layer 3, an insulating layer 4, and a barrier wall group 5 are laminated in this order on a transparent substrate 2. The first electrode layer 3 has a plurality of band-like electrodes arranged with space. The barrier wall group 5 are arranged with space, with a plurality of band-like barrier walls crossing the first electrode layer 3, and they have a connection part whose height is equal to the barrier wall relative to the adjoining band-like barrier wall, at each end part, for connection. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アノード電極層の密着性を向上した有機ＥＬディスプレイ、特にパッシブマトリックス駆動型の有機ＥＬディスプレイ、もしくはそのための有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ素子は、原理的には、陰極（カソード）と陽極（アノード）との間に有機ＥＬ発光層をはさんだ構造を有するものであるが、有機ＥＬディスプレイとするには、陰極と陽極とを、いずれも多数の帯状部分の集合体として、互いに直交させて形成し、陰極側を走査し、走査に同期させて陽極側に表示信号を与えることにより、選択された電極どうしの交差点において発光を行なわせて、文字や複雑な画像を表示させている。
【０００３】
従って、有機ＥＬディスプレイを形成する際には、陰極を所定のストライプ状等に形成しなければならないが、このとき、これらの層を形成する区域の両側に、予め隔壁を形成しておけば、蒸着等の手法によっても、陰極層を所定のストライプ状等に形成することが可能になる。
【０００４】
具体的には、従来の有機ディスプレイ用基板１１においては、図５に示すように、透明基材２上に、透明基材２の端部側に補助電極３ｂが積層された縦長の帯状の透明電極３ａが等間隔で横方向に配列して、第１電極層（陽極）３を構成しており、透明基材２の図中の左側の透明基材２の余白部分には、透明基材２上に補助電極６ｂが積層された横長で、長さの短い透明電極６ａが等間隔で縦方向に配列して、第２電極引出線を構成している。そして、第１電極層３の各透明電極３ａ上には、絶縁層４を介して、これらとは直角に交差する、各々は図中の横方向をなす帯状の隔壁５が、縦方向に等間隔で配列している。
【０００５】
ここで、絶縁層４は、第１電極層３を構成する各透明電極３ａと、隔壁５との間を被覆するもので、隔壁５の下部を隔壁５よりも多少広く被覆し、また、隔壁と各透明電極３ａとで区画された区域が発光部分となることから、この部分を開孔部として形成されたものであり、この開孔部上に有機ＥＬ発光層（有機蛍光体層）、および第２電極層を構成する各電極を順次積層し、第１電極層、有機ＥＬ発光層、および第２電極層との接触を確保する。
【０００６】
ここで、隔壁５は第２電極層を構成する各電極をパターン状に形成する上で不可欠であるが、隔壁５自体が微細である上に、パターン化を確実に行なうために、透明基材２側が狭い幅を有し、透明基材２から離れるほど幅が広くなる、いわゆる、オーバーハング部分を有する構造であることが多い。図５においては、図５の左側の部分のものをＡ−Ａ’線上において、矢印方向に見た断面を、図５の右側に示してあり、隔壁５の断面を逆台形状に示してある。このようなオーバーハング部を有する隔壁５は、下層の透明基材２との接着面積が小さくなるため、充分な接着力を持って下層と接着させることが難しく、隔壁５を形成する際や、有機ＥＬ発光層を形成するに先立っての洗浄の際に、隔壁５の剥離が起こりやすく、この傾向は、有機ＥＬディスプレイが高精細化するほど、起きやすい。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明においては、製造工程上の煩雑さを招くことなく、隔壁の剥離を確実に防止可能な手段を講じた有機ＥＬディスプレイ用基板もしくは有機ＥＬディスプレイを提供することを課題とするものである。
【０００８】
【課題を解決する手段】
発明者の検討により、間隔をあけて形成される複数の隔壁からなる隔壁群を、各隔壁の端部において、隔壁と同等の高さの連結部で連結させることにより、上記の課題を解決することができた。
【０００９】
第１の発明は、透明基材上に第１電極層、絶縁層、および隔壁群が順に積層したものであって、前記第１電極層は、複数の帯状電極が間隔をあけて配列して構成されたものであり、前記隔壁群は、前記複数の帯状電極と交差する複数の帯状隔壁が間隔をあけて配列して構成されると共に、各帯状隔壁が端部において、隣接する帯状隔壁との間に隔壁と同等の高さの連結部を有して連結したものであり、前記絶縁層は、前記各帯状電極と前記各帯状隔壁とで区画された各画素部分を少なくとも除き、前記第１電極層を構成する各帯状電極と前記隔壁との間を被覆するものであることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１０】
第２の発明は、第１の発明において、前記連結部の幅が前記隔壁の幅よりも広いことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１１】
第３の発明は、第１または第２の発明において、前記透明基材と前記第１電極層との間に、前記各画素部分に応じたカラーフィルター層、もしくは前記各画素部分に応じた色変換層を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１２】
第４の発明は、第１または第２の発明において、前記透明基材と前記第１電極層との間に、前記透明基材側より、前記各画素部分に応じたカラーフィルター層、および前記各画素部分に応じた色変換層を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１３】
第５の発明は、第３または第４の発明において、前記透明基材が、前記各画素間に相当する位置に、ブラックマトリックスを伴なっているものであることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用基板に関するものである。
【００１４】
第６の発明は、第１〜第５いずれかの発明の有機ＥＬディスプレイ用基板の前記各画素部分に対応して、前記第１電極層側より、有機ＥＬ発光層、および第２電極層が順に積層されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイに関するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１〜図４は、本発明の実施例の有機ＥＬディスプレイ用基板を示すものであり、図５は、従来の有機ＥＬディスプレイ用基板を示すものである。なお、図１〜図５は、いずれも有機ＥＬディスプレイ用基板の一部を示していて、図４は、有機ＥＬディスプレイ用基板の断面の向かって左端の端部から始まる一部を描いたものであり、そのほかの図は、有機ＥＬディスプレイ用基板もしくは、その製作途上の半製品を平面に置いた際の、向かって左側の奥側の隅から始まる一部を描いたものである。
【００１６】
図１に示すように、本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板１は、透明基材２上に、透明基材２の端部側に補助電極３ｂが積層された縦長の帯状の透明電極３ａが等間隔で横方向に配列して、第１電極層３を構成しており、透明基材２の図中の左側の第１電極層３の無い余白部分には、透明基材２上に補助電極６ｂが積層された横長で、長さの短い透明電極６ａが等間隔で縦方向に配列し、全体としては、第１電極層と若干離れて積層され、第２電極引出線を構成している。なお、図１の有機ＥＬディスプレイ用基板１を構成する第１電極層および第２電極引出線６のみを透明基材２上に積層した様子を図２に示す。
【００１７】
第１電極層３の各透明電極３ａ上には、絶縁層４を介して、これらとは直角に交差する、各々は図中の横方向をなす帯状の隔壁５が、縦方向に等間隔で配列して隔壁群を構成している。隔壁５は、従来技術においても挙げたように、種々の形状のものであってよいが、断面形状がオーバーハング状のものであることが好ましい。
【００１８】
本発明においては、各隔壁５の間が、端部において、図中、縦方向の幅広い連結部５ａにより連結されている点が特徴である。図１では、隔壁５の左側の端部のみが連結部５ａで連結されていることしか現われてないが、右側の端部においても、各隔壁５の間が、連結部５ａで連結されていることが好ましい。また、左右両側の端部における、すべての隔壁５の間が連結部５ａにより連結されていることが最も好ましいが、これに限るものではない。例えば、１行目と２行目については、隔壁５間が左側においてのみ連結部５ａにより連結され、２行目と３行目の隔壁５間は右側においてのみ連結部５ａにより連結され、３行目と４行目の隔壁５が、再び、左側において連結部５ａにより連結されるというように、互い違いの側において、連結部５ａにより連結される方式でもよい。
【００１９】
あるいは、１行目〜５行目までの隔壁、および、６行目〜１０行目までの隔壁のいずれの隔壁間も、左右両側において連結部５ａにより連結され、ただし、５行目と６行目との間は、連結されないというように、複数の隔壁５が互いに連結部５ａにより連結されて強化された隔壁５の小グループが、小グループどうしの間は連結部により連結されずに複数配列したものであってもよい。
【００２０】
隔壁５は、有機ＥＬディスプレイ用基板の平坦さ、ひいては、有機ＥＬディスプレイの平坦さを確保する意味で、いずれもが同じ高さ（透明基板に対して垂直方向に測ったときの厚みである。）であることが好ましい。隔壁５の高さとしては、３μｍ〜２０μｍ程度である。
【００２１】
連結部５ａの幅も重要である。もともと隔壁５自体が微細なものであるので、基本的には、連結部５ａの幅も、隔壁５の幅以下では、隔壁５を強化し、隔壁５の端部の接着力を高めるには充分とは言えない。その意味で、連結部５ａの幅は隔壁５の幅よりも大きい方が、隔壁５の端部の接着力を高める効果が高く、好ましい。連結部５ａの幅は、次の段落に述べるような上限も自ずとあるが、隔壁５の幅の２倍以上であることが好ましい。
【００２２】
隔壁５の強化、および隔壁５の端部の接着力の向上の観点からは連結部５ａの幅が大きいほど好ましいものの、連結部５の高さにおいて述べたように、有機ＥＬディスプレイ用基板のフレキシビリティーを損なうからである。また、この種の基板においては、画面サイズを確保する意味で、透明基板２の余白を極力小さくするので、連結部５ａの幅を広げると、隔壁５も延長され、透明基板２の余白を狭めることにもなり、補助電極３ｂもしくは６ｂの露出部分を形成するための面積の確保が難しくなる。従って、連結部５ａの幅は、露出している部分の第２電極引出線６の長さよりも短いものであることが好ましい。一般的には、連結部５ａの幅は、幅の絶対値が２０μｍ〜２００μｍ程度である。
【００２３】
また、連結部５ａの断面形状は、種々の形状であり得るが、隔壁５と同様、断面形状がオーバーハング状のものであることが好ましい。
【００２４】
絶縁層４は、本来的には、各透明電極および陰極の端を覆うことにより、電極の端における電解集中による有機ＥＬ発光層の絶縁破壊を防止するものであるが、実際には、隔壁５の下部を隔壁５よりも多少広く被覆し、また、隔壁と各透明電極３ａとで区画された区域が発光部分となることから、この部分を開孔部として形成し、開孔部上に有機ＥＬ発光層（有機蛍光体層）、および第２電極層を構成する各電極を順次積層したときに、第１電極層、有機ＥＬ発光層、および第２電極層の各層間の接触を確保する。図１に示す絶縁層４は、隔壁５の下部（連結部５ａの下部を含む。）を隔壁５の幅よりも広く被覆し、および、第１電極層３を構成する各透明電極３ａの間を被覆している。また、第２電極引出線の長さの半分程度までも含めて連続的に被覆している。図３に、第１電極層および第２電極引出線６のみを透明基材２上に積層したもの（図２に示すものである。）の上に、開孔部４ａを有した絶縁層４を積層した状態を示す。
【００２５】
本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板１は、各隔壁５間に、有機ＥＬ発光層、および第２電極層を積層することにより、有機ＥＬ素子とすることができる。
【００２６】
図４（ａ）は、図１の左側の部分のものをＢ−Ｂ’線上において、矢印方向に見た断面を、示したもので、透明基材２の右側に幾つかの透明電極３ａが絶縁層４により互いに絶縁されて積層され、各透明電極３ａは、図１の左側の図の上方まで延長されていて、補助電極３ｂを介して電源と接続することができる。各透明電極３ａ上のそれぞれには、発光層、および第２電極層を積層することができ、第２電極層を、左側の補助電極６ｂの連結部５ａの右側まで延長して積層することにより、第２電極引出線を介して電源と接続することができる。
【００２７】
上記のように、有機ＥＬ発光層および２電極層を積層することにより構成した構成でも、有機ＥＬディスプレイを構成し得るが、フルカラー表示を行なわせる目的で、有機ディスプレイ基板には、種々の要素が付加されていてもよい。
【００２８】
図４（ｂ）に示すように、有機ＥＬストライプ用基板１’は、透明基材２と、透明電極３ａとの間に、透明基材２側よりブラックマトリックス７、カラーフィルター層８、および色変換層９等を伴なうことができる。なお、ブラックマトリックス７は省くこともできるが、設けることにより、観察側（図４で言えば、下側である。）から、画像もしくは映像を見たときに、外光の反射を抑制できるの利点がある。また、カラーフィルター層８、および色変換層９は、いずれか一方のみを、設けることもできる。
【００２９】
色変換層９は、有機ＥＬディスプレイのおけるフルカラー表示の一つの方式であるＣＣＭ方式（色変換方式）において用いられ、エネルギーの高い入射光を、それぞれ、蛍光物質により色変換して、青色光、緑色光、および赤色光の各色光を作り出すための層である。入射光が青色光である場合には、緑色光および赤色光に変換するための緑色変換層および赤色変換層の二種類の層と、青色光に関しては入射光をそのまま使用するので、ダミー層としての透明層の、合計、三種類の層からなる。
【００３０】
カラーフィルター層８は、有機ＥＬ素子からの出射光を色補正するための層であり、色変換層の緑色変換層に対応する緑色用カラーフィルター層、赤色変換層に対応する赤色用カラーフィルター層、および青色光に関する透明層に対応する青色用カラーフィルター層との三種類からなる。色補正が不要な場合には、いずれか一種類もしくは二種類以上を省くこともできる。
【００３１】
以上のように、必要に応じてブラックマトリックス７を有し、さらにカラーフィルター層８、色変換層９のいずれかもしくは両方が積層された透明基材２上には、これらの層を被覆するオーバーコート層１０を設け、各色の色変換層間の段差を緩和し、表面を平滑化させる。
【００３２】
フルカラー表示を行なわせる目的で、以上のような種々の要素が付加された有機ディスプレイ基板１’上にも、各隔壁５間に、有機ＥＬ発光層、および第２電極層を積層することにより、有機ＥＬ素子とすることができる。
【００３３】
本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板１の各部分を構成する素材、および形成方法を以降に示す。
【００３４】
透明基材２としてアルカリガラス、ソーダライムガラス、ＳｉＯ_２基板、透明なプラスチックフィルム等を用いることができる。ガラスは、フレキシブルなシート状のものも含む。透明基材２の厚みとしては、０．５ｍｍ〜３．０ｍｍ程度である。
【００３５】
第１電極層３の透明電極３ａは、透明性と導電性を有する素材で構成され、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、もしくはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の導電性のある金属の酸化物をスパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、もしくはＣＶＤ法（化学的気相成長法）等の方法により成膜し、フォトレジストを用いたエッチングにより、所定のパターンとする。
【００３６】
また、補助電極３ｂは、クロム、ニッケル、モリブデン、もしくはアルミニウム等の金属の薄膜で構成され、これらの金属をスパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、もしくはめっきにより成膜し、やはり、フォトレジストを用いたエッチングにより、所定のパターンとする。
【００３７】
上記の透明電極３ａおよび補助電極３ｂの積層順は、いずれが先でも差し支えない。また、透明電極３ａおよび補助電極３ｂの厚みは、いずれも、５０ｎｍ〜３００ｎｍ程度である。
【００３８】
絶縁層４は、絶縁性の高い有機物質もしくは無機物質の層として構成することができるが、フォトリソグラフィー法によるパターン化が容易である点で、感光性樹脂で構成することが好ましく、感光性樹脂としては、ポリイミド系、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸系、環化ゴム系、もしくはノボラック樹脂系等の樹脂を挙げることができる。これらの感光性樹脂を、適宜なコーティング方法、例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、もしくはバーコーティング法等により、コーティングして塗膜を形成し、得られた塗膜を所定のフォトマスクを介して露光し、その後、現像液を用いて現像することにより、不要部分を除去してパターン状の絶縁層４とすることができる。絶縁層４の厚みとしては、通常、０．５μｍ〜２μｍ程度である。
【００３９】
隔壁群を構成する各隔壁５は、フォトリソグラフィー法が適用可能な感光性樹脂を用いて構成することができ、上記の絶縁層４を構成するものとして挙げた感光性樹脂、例えば、ポリイミド樹脂を用いることができる。絶縁層４を形成するのと同様、コーティングによる塗膜の形成、フォトマスクを介しての露光、および現像を経て、所定の形状の隔壁５を形成することができる。隔壁５の厚みは、通常、３μｍ〜２０μｍであり、断面が逆テーパー状、例えば、透明基材２側の幅が狭い逆台形状等の形状になるよう形成することが好ましい。
【００４０】
ブラックマトリックス７は、クロム、ニッケル、モリブデン、もしくはアルミニウム等の金属の薄膜、または、これら金属と酸化物の積層薄膜で構成され、これらの薄膜は、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法等により成膜し、やはり、フォトレジストを用いたエッチングにより、所定のパターンとして形成することができる。また黒色顔料を分散した感光性レジストを基板全体にコーティングしてフォトマスクを介して露光し、現像液を使用して不要部分を除去して形成することもできる。ブラックマトリックス７の厚みは、１０００〜１００００Å程度である。
【００４１】
カラーフィルター層８は、透明樹脂に染料もしくは顔料微粒子からなる着色剤を溶解もしくは分散させたものである。一例として、ポジ型もしくはネガ型の感光性樹脂（市販のフォトレジストを利用可能である。）に顔料微粒子を分散させたものを、対象となる面に塗布し、得られた塗膜を所定のフォトマスクを介して露光し、その後、現像液を用いて現像することにより、不要部分を除去してパターン状のカラーフィルター層８とすることができ、必要に応じ、これらの工程を繰り返して行なうことにより、二種類もしくは三種類のカラーフィルター層を形成することができる。
【００４２】
色変換層９は、例えば、緑色変換層および赤色変換層の二種類の層と、透明層の三種類から構成される。緑色変換層および赤色変換層は、有機蛍光体が透明なバインダ樹脂中に溶解もしくは分散したものから構成される。
【００４３】
青色の入射光を緑色に変換する有機蛍光体としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロルメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（以降、クマリン６と言う。）、もしくは３−（２’−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１、または、ソルベントイエロ−１１、もしくはソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等の一種もしくは二種以上を用いることができる。
【００４４】
また、青色の入射光を橙色〜赤色に変換する有機蛍光体としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピリジニウム−パークロレート等のピリジン系色素、ローダミンＢ、もしくはローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、または、オキサジン系等の一種もしくは二種以上を用いることができる。
【００４５】
色変換層９を構成する透明なバインダ樹脂としては、透明（可視光の透過率が５０％以上である）であり、フォトリソグラフィー法によるパターン化が容易である点で、感光性樹脂で構成することが好ましく、感光性樹脂としては、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環化ゴム系等の反応性ビニル基を有するものを挙げることができ、市販のフォトレジストの中から選択して利用可能である。
【００４６】
上記の有機蛍光体を、これらの透明なバインダ樹脂中に溶解もしくは分散させて、得られたコーティング用組成物を、適宜なコーティング方法、例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、バーコーティング法、もしくはキャスト法等により、適用して塗膜を形成し、得られた塗膜を所定のフォトマスクを介して露光し、その後、現像液を用いて現像することにより、不要部分を除去して、所定の箇所に、所定の色変換の可能な色変換層９を形成することができる。必要に応じ、これらの工程を繰り返して行なうことにより、二種類もしくは三種類の色変換層を形成することができる。色変換層９の厚みとしては、有機ＥＬ素子の発光を十分に吸収でき、蛍光を発光する機能を妨げない限り、制限はなく、通常は、１０μｍ〜５０μｍ程度である。
【００４７】
また、青色変換層に代えて設ける透明層は、上記の有機蛍光体を含有させて形成した色変換層と、同様に、ただし、有機蛍光体を含まないで調製したコーティング用組成物を用いて、他の色用の色変換層の場合と同様にして形成することができる。
【００４８】
オーバーコート層１０は、上記の透明層と同様にして、形成することができ、その厚みは、下層の凹凸をならして、表面を平坦化できる程度であればよく、通常、５μｍ〜１０μｍ程度である。
【００４９】
有機ＥＬ発光層は、原則的には有機蛍光体を含有する有機蛍光体層単独で構成し得るが、透明電極層側に正孔注入層を設ける、または／および背面電極層側に電子注入層を設ける等の種々の構造のものがあり得るが、上記のような青色光等の発光が得られる限り、これら以外の構造のものでも有り得る。
【００５０】
例えば、青色から青緑色の発光を得ることが可能な有機蛍光体としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（略称；ＤＰＶＢｉ）等のジスチリルピラジン誘導体、もしくは芳香族ジメチリディン系化合等物を例示することができる。
【００５１】
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、例えば、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（略称；ＮＰＤ）、もしくは４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称；ＭＴＤＡＴＡ）等のポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、もしくはスチリルアミン化合物等を例示することができる。
【００５２】
電子注入層を構成する電子注入材料としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）等の８−キノリノール誘導体の金属錯体を例示することができる。
【００５３】
第２電極層は、仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、もしくはそれらの混合物から構成されることが好ましく、より好ましくは、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、もしくはリチウム／アルミニウム混合物から構成される。第２電極層は、シート抵抗が数百Ω／ｃｍ以下であることが好ましく、厚みとしては、１０ｎｍ〜１μｍ程度であり、より好ましくは、５０〜２００ｎｍ程度である。
【００５４】
【実施例】
（実施例１）
大きさ；３００ｍｍ×４００ｍｍ、板厚；０．７ｍｍのソーダライムガラス基板上に、スパッタリング法により厚み；０．１５μｍのＩＴＯ薄膜を成膜し、引続き、厚み；０．２μｍのクロム薄膜を成膜した後、クロム薄膜上にフォトレジスト（東京応化工業（株）製、商品名；「ＯＦＰＲ−８００」）を厚み；０．６μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、フォトレジストの塗膜上から、補助電極パターンを形成したフォトマスクを介して露光し、露光後、現像して、レジストパターンを形成し、形成されたレジストパターンを利用してエッチングを行ない、図２中の符号３および６ｂで示すパターンのクロムの補助電極を形成した。
【００５５】
補助電極形成後、再度、フォトレジスト（東京応化工業（株）製、商品名；「ＯＦＰＲ−８００」）を厚み；０．６μｍになるよう塗布して、プリベークを行なった。プリベーク後、フォトレジストの塗膜上から、透明電極パターンを形成したフォトマスクを介して露光し、現像してレジストパターンを形成し、エッチングを行なった後、レジストパターンの剥離、洗浄、および乾燥の各工程を経て図２中の符号３ａおよび６ａで示す透明電極パターンを形成した。
【００５６】
透明電極パターンを形成した後、全面に感光性ポリイミド樹脂を厚み；１μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、感光性ポリイミド樹脂の塗膜上から、絶縁層パターンを形成したフォトマスクを介して露光し、現像した後、焼成を行なって、図３中、符号４で示す絶縁層パターンを形成した。
【００５７】
絶縁層パターンが形成された上に、全面に、感光性ポリイミド樹脂を厚み；５μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、図１中５で示す隔壁のパターン、および、図１中５ａで示す各隔壁の両端どうしの間をつなぐ連結部のパターンを形成したフォトマスクを介して露光し、逆テーパー形状が形成されるような条件で現像を行ない、連結部５ａを伴なった隔壁５のパターンを形成した。
【００５８】
得られた隔壁５の断面を観察したところ、隔壁５の上部では幅；２０μｍであり、下部（底部）では、幅；１０μｍの逆テーパー形状であったが、現像中の隔壁パターンの剥離は生じなかった。なお、連結部５ａの幅は、１００μｍであった。また、次の工程に備えて、純水中で１５分間の超音波洗浄を行ったが、この超音波洗浄中にも、隔壁パターンの剥離は生じなかった。
【００５９】
超音波洗浄後、真空蒸着装置内に、隔壁パターンまで形成した基板をセットした後、正孔注入材料、有機ＥＬ発光材料、および電子注入材料の順に蒸着を行った。正孔注入材料としてはＭＴＤＡＴＡおよびＮＰＤを順次蒸着し、有機ＥＬ発光材料としてはＤＰＶＢｉ、電子注入材料としてはＡｌｑを蒸着し、さらにカソード電極として、銀とマグネシウムを同時に蒸着して有機ＥＬディスプレイとしたところ、蒸着後の隣接ライン間での短絡は無く、また引出線とカソード電極との接触も十分に得られた。
【００６０】
（実施例２）
実施例１で用いたのと同じガラス基板上に、まず、厚み；０．２μｍの酸化クロム／クロムの積層構造からなる薄膜を成膜した後、さらにフォトレジスト（東京応化工業（株）製、商品名；「ＯＦＰＲ−８００」）を厚み；０．６μｍになるよう塗布してプリベークを行なった。プリベーク後、フォトレジストの塗膜上から、ブラックマトリックスパターンを形成したフォトマスクを介して露光し、露光後、現像して、レジストパターンを形成し、形成されたレジストパターンを利用して、酸化クロム／クロム薄膜のエッチングを行ない、その後、レジストパターンの剥離、洗浄、および乾燥の各工程を経て、ブラックマトリックスを形成した。
【００６１】
ブラックマトリックスが形成された基板上に、市販の各色用感光性樹脂組成物（富士フィルムオーリン（株）製、商品名；「ＣＲ−２０００」（赤色用）、「ＣＧ−２０００」（緑色用）、および「ＣＢ−２０００」（青色用）を用い、まず、赤色用感光性樹脂組成物を用いて、スピンコーティング法により塗布して、プリベーク（温度；９０℃、時間；３分間）を行なった。プリベーク後、カラーフィルター層形成用のフォトマスクを介して露光し、露光後、現像液（富士フィルムオーリン（株）製、商品名；「ＣＤ」）を用いて現像し、その後、ポストベーク（温度；２００℃、時間；３０分間）を行なって、ブラックマトリックスの所定の位置の開孔部に対応させて、厚み；１．３μｍの赤色カラーフィルター層を形成した。続いて、緑色用、青色用の各組成物を逐次用いて、同様に行ない、いずれの場合も、厚み；１．３μｍの緑色および青色の各色カラーフィルター層を形成し、三色のカラーフィルター層とした。
【００６２】
クマリン６をアクリル系の光硬化型レジスト（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＪＮＰＣ０６」）の固形分１Ｋｇに対し、０．０３モルになるよう配合し、分散して得た緑色変換層形成用組成物を、上記のようにして、各色カラーフィルター層が形成された基板上に、スピンコーティング法により塗布して、温度；８０℃でプリベークを行なった。プリベーク後、色変換層形成用のフォトマスクを介して、３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量になるよう露光し、露光後、１％（質量基準）炭酸ナトリウム水溶液を用いて室温にて現像し、未露光部を除去後、温度；２００℃でポストベークを行なって、緑色のカラーフィルター層上に対応させて、厚み；約１０μｍの緑色変換層を形成した。
【００６３】
クマリン６、蛍光顔料Ａ、およびアクリル系の光硬化型レジスト（前段落のものと同じである。）を準備した。蛍光顔料Ａは、ベンゾグアナミン樹脂１００に対し、４％（質量基準）のローダミン６Ｇ、および４％（質量基準）のローダミンＢを含むものである。これらを、クマリン６の配合量を、蛍光顔料Ａおよびアクリル系の光硬化型レジストの固形分との合計１Ｋｇに対し、０．０３モル、蛍光顔料の配合量を３０％（質量基準）、並びに、アクリル系の光硬化型レジストの固形分の配合量を７０％（質量基準）となるように配合して、赤色変換層形成用組成物を調製した。この赤色変換層形成用組成物を用い、上記と同様にして、各色カラーフィルター層が形成された基板上に、スピンコーティング法により塗布して、温度；８０℃でプリベークを行なった。プリベーク後、色変換層形成用のフォトマスクを介して、６００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量になるよう露光し、露光後、１％（質量基準）炭酸ナトリウム水溶液を用いて室温にて現像し、未露光部を除去後、温度；２００℃でポストベークを行なって、赤色のカラーフィルター層上に対応させて、厚み；約１０μｍの赤色変換層を形成した。
【００６４】
透明層形成用組成物は、上記の緑色および赤色変換層形成用組成物で用いたのと同じアクリル系の光硬化型レジストに、熱硬化型樹脂（新日鉄化学（株）製、商品名；「Ｖ２５９ＰＡ」）を添加したものを用い、緑色および赤色変換層を形成したのと同様に、ただし、露光光の照射量；３００ｍＪ／ｃｍ^２、ポストベークの温度；１８０℃の条件で行ない、青色のカラーフィルター層上に対応させて、厚み；約１０μｍの透明層を形成した。
【００６５】
緑色および色色変換層並びに透明層が形成された基板上に、上記の透明層形成用組成物と同じ組成物を再び用い、全面にスピンコーティング法により塗布し、温度；８０℃でプリベークを行なった後、透明層を含む色変換層全体を覆うためのパターンが形成されたフォトマスクを介して、３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量になるよう露光し、露光後、１％（質量基準）炭酸ナトリウム水溶液を用いて室温にて現像し、未露光部を除去後、温度；１８０℃でポストベークを行なって、厚み；約５μｍ、表面凹凸が０．５μｍ以下の平坦化層（オーバーコート層）を形成した。
【００６６】
平坦化層の形成後、平坦化層上に、実施例１において、ソーダライムガラス基板上に行ったのと同じ各工程を行ない、透明層を含む各色変換層上に対応させて、有機ＥＬ素子を形成し、実施例１におけるのと同様、連結部を伴なった隔壁の形成も行なって、有機ＥＬディスプレイを形成した。
【００６７】
実施例２においても、隔壁の形成の際の現像中の隔壁パターンの剥離は生じなかった。また、隔壁の形成後、純水中で１５分間の超音波洗浄を行っても、隔壁パターンの剥離は生じなかった。また、得られた有機ＥＬディスプレイにおいても、蒸着後の隣接ライン間での短絡は無く、また引出線とカソード電極との接触も十分に得られ、フルカラーの表示が支障なく行なえた。
【００６８】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、隔壁の端部どうしを連結部により連結したことにより、隔壁の形成時や洗浄時における隔壁の剥離が防止された有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００６９】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、連結部の幅を隔壁の幅よりも広くすることにより、隔壁の端部からの剥離の防止がより一層確実な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７０】
第３の発明によれば、第１または第２の発明の効果に加え、有機ＥＬ素子と組合せたときに、各画素に対応して、入射光を色補正するか、もしくは色変換することが可能な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７１】
第４の発明によれば、第１または第２の発明の効果に加え、有機ＥＬ素子と組合せたときに、各画素に対応して、入射光を色変換し、色変換後、色補正することが可能な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７２】
第５の発明によれば、第１から第４いずれかの発明の効果に加え、透明基材がブラックマトリックスを伴なっているので、透明基材側から観察したときに、外光の反射防止可能な有機ＥＬディスプレイ用基板を提供することができる。
【００７３】
第６の発明によれば、第１〜第５いずれかの発明の有機ＥＬディスプレイ用基板の効果が発揮された有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイ用基板を示す図である。
【図２】透明基板に第１電極層を形成した様子を示す図である。
【図３】透明基板に第１電極層、および絶縁層を形成した様子を示す図である。
【図４】有機ＥＬディスプレイ用基板の断面構造を示す図である。
【図５】従来の有機ＥＬディスプレイ用基板を示す図である。
【符号の説明】
１有機ＥＬディスプレイ用基板
２透明基材
３第１電極層（３ａ；透明電極、３ｂ；補助電極）
４絶縁層（４ａ；絶縁層開孔部）
５隔壁（５ａ；連結部）
６第２電極引出線（６ａ；透明電極、６ｂ；補助電極）
７ブラックマトリックス
８カラーフィルター層
９色変換層
１０オーバーコート層[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an organic EL display having improved adhesion of an anode electrode layer, particularly to a passive matrix driven organic EL display, or an organic EL display substrate therefor.
[0002]
[Prior art]
The organic EL element has a structure in which an organic EL light emitting layer is interposed between a cathode (cathode) and an anode (anode) in principle. Are formed at right angles to each other as an aggregate of a large number of strips, scan the cathode side, and apply a display signal to the anode side in synchronization with the scan, so that light emission occurs at the intersection of the selected electrodes. To display characters and complicated images.
[0003]
Therefore, when forming an organic EL display, the cathode must be formed in a predetermined stripe shape or the like. At this time, if a partition is previously formed on both sides of an area where these layers are formed, The cathode layer can be formed in a predetermined stripe shape or the like also by a technique such as vapor deposition.
[0004]
Specifically, in the conventional organic display substrate 11, as shown in FIG. 5, a vertically long strip-shaped transparent material in which the auxiliary electrode 3 b is laminated on the transparent substrate 2 on the end side of the transparent substrate 2. The electrodes 3a are arranged at equal intervals in the horizontal direction to form a first electrode layer (anode) 3. A transparent base material is provided in a blank portion of the transparent base material 2 on the left side of the transparent base material 2 in the drawing. Transparent electrodes 6a, which are horizontally long and short in length and have an auxiliary electrode 6b laminated on the second electrode 2, are arranged at equal intervals in the vertical direction to form a second electrode lead line. Then, on each transparent electrode 3a of the first electrode layer 3, a strip-shaped partition wall 5, which intersects at right angles with the transparent electrode 3a via the insulating layer 4, is formed in the vertical direction. They are arranged at intervals.
[0005]
Here, the insulating layer 4 covers the space between each transparent electrode 3 a constituting the first electrode layer 3 and the partition 5, and covers a lower portion of the partition 5 slightly wider than the partition 5. Since the area defined by the transparent electrode 3a and the transparent electrode 3a is a light emitting portion, this portion is formed as an opening, and an organic EL light emitting layer (organic phosphor layer) is formed on the opening. And the respective electrodes constituting the second electrode layer are sequentially laminated to ensure contact with the first electrode layer, the organic EL light emitting layer, and the second electrode layer.
[0006]
Here, the partition 5 is indispensable for forming each electrode constituting the second electrode layer in a pattern, but the partition 5 itself is fine, and in order to surely perform patterning, a transparent base material is required. In many cases, the structure has a so-called overhang portion in which the two sides have a narrow width and the width increases as the distance from the transparent substrate 2 increases. In FIG. 5, a cross section of the left portion of FIG. 5 as viewed on the line AA ′ in the direction of the arrow is shown on the right side of FIG. . Since the partition 5 having such an overhang portion has a small bonding area with the lower transparent base material 2, it is difficult to adhere to the lower layer with a sufficient adhesive force. During the cleaning before forming the organic EL light emitting layer, the partition walls 5 are likely to peel off, and this tendency is more likely to occur as the definition of the organic EL display increases.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a substrate for an organic EL display or an organic EL display in which a means capable of reliably preventing separation of a partition wall without causing complication in a manufacturing process. is there.
[0008]
[Means to solve the problem]
According to the study of the inventor, the above-mentioned problem is solved by connecting a partition group including a plurality of partition walls formed at intervals with a connecting portion having the same height as the partition wall at an end of each partition wall. I was able to.
[0009]
According to a first aspect, a first electrode layer, an insulating layer, and a group of barrier ribs are sequentially stacked on a transparent base material, and the first electrode layer includes a plurality of strip-shaped electrodes arranged at intervals. And a plurality of strip-shaped partitions intersecting with the plurality of strip-shaped electrodes are arranged at intervals, and each strip-shaped partition is formed at an end portion with an adjacent strip-shaped partition. And a connection portion having a height equivalent to that of the partition wall, and the insulating layer is at least excluding each pixel portion partitioned by the respective band-shaped electrodes and the respective band-shaped partition walls. The present invention relates to a substrate for an organic EL display, which covers a space between each strip electrode constituting one electrode layer and the partition.
[0010]
A second invention relates to the substrate for an organic EL display according to the first invention, wherein the width of the connecting portion is wider than the width of the partition.
[0011]
In a third aspect based on the first or second aspect, a color filter layer corresponding to each pixel portion or a color corresponding to each pixel portion is provided between the transparent substrate and the first electrode layer. The present invention relates to an organic EL display substrate having a conversion layer.
[0012]
In a fourth aspect based on the first or second aspect, a color filter layer corresponding to each pixel portion is provided between the transparent substrate and the first electrode layer from the transparent substrate side, and The present invention relates to an organic EL display substrate having a color conversion layer corresponding to each pixel portion.
[0013]
In a fifth aspect based on the third or fourth aspect, the transparent substrate is provided with a black matrix at a position corresponding to between the pixels. It relates to a substrate.
[0014]
According to a sixth aspect, in the organic EL display substrate according to any one of the first to fifth aspects, an organic EL light-emitting layer and a second electrode layer are formed from the first electrode layer side in correspondence with each pixel portion. The present invention relates to an organic EL display characterized by being sequentially stacked.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
1 to 4 show an organic EL display substrate according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 shows a conventional organic EL display substrate. 1 to 5 show a part of the organic EL display substrate, and FIG. 4 shows a part starting from the left end of the cross section of the organic EL display substrate. In the other drawings, the organic EL display substrate or the semi-finished product being manufactured is placed on a flat surface, and a part starting from the far left corner toward the left is drawn.
[0016]
As shown in FIG. 1, a substrate 1 for an organic EL display according to the present invention includes, on a transparent substrate 2, a vertically long strip-shaped transparent electrode 3a in which an auxiliary electrode 3b is laminated on an end side of the transparent substrate 2. The first electrode layer 3 is configured by being arranged in the horizontal direction at intervals, and an auxiliary electrode is provided on the transparent substrate 2 in a blank portion of the transparent substrate 2 where the first electrode layer 3 is not located on the left side in the figure. Transparent electrodes 6a, which are horizontally long and short in length, are laminated at regular intervals in the vertical direction, and are laminated slightly apart from the first electrode layer as a whole to form a second electrode lead line. . FIG. 2 shows a state in which only the first electrode layer and the second electrode lead 6 constituting the organic EL display substrate 1 of FIG. 1 are laminated on the transparent base material 2.
[0017]
On each transparent electrode 3 a of the first electrode layer 3, strip-shaped partition walls 5, which intersect at right angles with each other and intersect at right angles via an insulating layer 4, are formed at equal intervals in the vertical direction. They are arranged to form a partition group. The partition 5 may have various shapes as described in the related art, but preferably has an overhanging cross-sectional shape.
[0018]
The present invention is characterized in that each partition 5 is connected at its end by a wide connecting portion 5a in the vertical direction in the figure. In FIG. 1, only the left end of the partition wall 5 is connected only by the connecting portion 5a, but also at the right end portion, the partition walls 5 are connected by the connecting portion 5a. Is preferred. Further, it is most preferable that all the partitions 5 at the left and right ends are connected by the connecting portion 5a, but the present invention is not limited to this. For example, in the first and second rows, the partition 5 is connected only by the connecting portion 5a on the left side only, and the partition 5 in the second and third rows is connected by the connecting portion 5a only on the right side, and The partition walls 5 in the fourth row and the fourth row may be connected to each other on the alternate side by the connecting section 5a, such that the partition walls 5 are connected again on the left side by the connecting section 5a.
[0019]
Alternatively, the partitions between the first row to the fifth row and the partition between the sixth row to the tenth row are connected by the connecting portions 5a on both left and right sides. The small groups of the partition walls 5 reinforced by connecting the plurality of partition walls 5 to each other by the connecting portions 5a so that they are not connected to each other are arranged in a plurality without being connected by the connecting portions between the small groups. May be done.
[0020]
The partition walls 5 have the same height (the thickness when measured in a direction perpendicular to the transparent substrate) in order to ensure the flatness of the substrate for an organic EL display, and thus the flatness of the organic EL display. ) Is preferable. The height of the partition 5 is about 3 μm to 20 μm.
[0021]
The width of the connecting portion 5a is also important. Since the partition 5 itself is originally fine, basically, if the width of the connecting portion 5a is not more than the width of the partition 5, it is sufficient to strengthen the partition 5 and increase the adhesive force at the end of the partition 5. It can not be said. In this sense, it is preferable that the width of the connecting portion 5a is larger than the width of the partition 5 because the effect of increasing the adhesive force at the end of the partition 5 is high. Although the upper limit of the width of the connecting portion 5a naturally has an upper limit as described in the next paragraph, it is preferable that the width is at least twice the width of the partition wall 5.
[0022]
From the viewpoint of strengthening the partition walls 5 and improving the adhesive strength of the end portions of the partition walls 5, the larger the width of the connecting portion 5a is, the more preferable it is. This is because the ability is impaired. Further, in this type of substrate, the margin of the transparent substrate 2 is reduced as much as possible in order to secure the screen size. Therefore, when the width of the connecting portion 5a is increased, the partition wall 5 is also extended, and the margin of the transparent substrate 2 is reduced. This also makes it difficult to secure an area for forming the exposed portion of the auxiliary electrode 3b or 6b. Therefore, it is preferable that the width of the connecting portion 5a is shorter than the length of the exposed second electrode lead wire 6. Generally, the width of the connecting portion 5a has an absolute value of about 20 μm to 200 μm.
[0023]
Further, the cross-sectional shape of the connecting portion 5a may be various shapes, but it is preferable that the cross-sectional shape is an overhang shape like the partition wall 5.
[0024]
The insulating layer 4 originally covers each transparent electrode and the end of the cathode to prevent dielectric breakdown of the organic EL light emitting layer due to electrolytic concentration at the end of the electrode. Is slightly wider than the partition 5 and the area defined by the partition and each transparent electrode 3a is a light-emitting portion. Therefore, this portion is formed as an aperture, and an organic layer is formed on the aperture. When the EL light emitting layer (organic phosphor layer) and the electrodes constituting the second electrode layer are sequentially laminated, the contact between the first electrode layer, the organic EL light emitting layer, and the second electrode layer is ensured. . The insulating layer 4 shown in FIG. 1 covers the lower part of the partition 5 (including the lower part of the connecting part 5a) wider than the width of the partition 5 and between the transparent electrodes 3a constituting the first electrode layer 3. Is covered. Further, the coating is continuously performed including about half of the length of the second electrode lead wire. In FIG. 3, an insulating layer 4 having an opening 4a is provided on a transparent substrate 2 in which only a first electrode layer and a second electrode lead 6 are laminated (shown in FIG. 2). Are stacked.
[0025]
The organic EL display substrate 1 of the present invention can be formed as an organic EL element by laminating an organic EL light emitting layer and a second electrode layer between the partition walls 5.
[0026]
FIG. 4A shows a cross section of the left part of FIG. 1 as viewed in the direction of the arrow on the line BB ′, and some transparent electrodes 3 a are provided on the right side of the transparent substrate 2. Each of the transparent electrodes 3a is extended to the upper side of the figure on the left side of FIG. 1 and can be connected to a power supply via the auxiliary electrode 3b. On each of the transparent electrodes 3a, a light emitting layer and a second electrode layer can be laminated, and by extending the second electrode layer to the right side of the connecting portion 5a of the left auxiliary electrode 6b, , Can be connected to a power supply via the second electrode lead wire.
[0027]
As described above, an organic EL display can be constituted by laminating the organic EL light emitting layer and the two electrode layers, but various elements are included in the organic display substrate for the purpose of performing full color display. It may be added.
[0028]
As shown in FIG. 4B, the organic EL stripe substrate 1 ′ has a black matrix 7, a color filter layer 8, and a color between the transparent substrate 2 and the transparent electrode 3 a from the transparent substrate 2 side. A conversion layer 9 and the like can be provided. The black matrix 7 can be omitted. However, by providing the black matrix 7, reflection of external light can be suppressed when an image or video is viewed from the observation side (the lower side in FIG. 4). There are advantages. Further, only one of the color filter layer 8 and the color conversion layer 9 can be provided.
[0029]
The color conversion layer 9 is used in a CCM method (color conversion method), which is one type of full-color display in an organic EL display, and converts incident high-energy light into blue light, It is a layer for producing each color light of green light and red light. When the incident light is blue light, two types of layers, a green conversion layer and a red conversion layer for converting into green light and red light, and the blue light use the incident light as it is, so as a dummy layer. , And three types of transparent layers.
[0030]
The color filter layer 8 is a layer for correcting the color of light emitted from the organic EL element, and includes a green color filter layer corresponding to a green color conversion layer and a red color filter layer corresponding to a red color conversion layer. , And a blue color filter layer corresponding to the transparent layer for blue light. When color correction is unnecessary, one or two or more types can be omitted.
[0031]
As described above, on the transparent substrate 2 having the black matrix 7 as necessary and further having one or both of the color filter layer 8 and the color conversion layer 9 laminated thereon, an overcoat covering these layers is provided. The coating layer 10 is provided to reduce the level difference between the color conversion layers of each color and to smooth the surface.
[0032]
For the purpose of performing full-color display, an organic EL light emitting layer and a second electrode layer are laminated between the partition walls 5 also on the organic display substrate 1 'to which the above-described various elements are added. An organic EL element can be obtained.
[0033]
The materials constituting each part of the substrate 1 for an organic EL display of the present invention and the forming method are described below.
[0034]
Alkaline glass, soda lime glass, SiO 2 as transparent substrate 2 ₂ A substrate, a transparent plastic film, or the like can be used. The glass includes a flexible sheet. The thickness of the transparent substrate 2 is about 0.5 mm to 3.0 mm.
[0035]
The transparent electrode 3a of the first electrode layer 3 is made of a material having transparency and conductivity. For example, a conductive metal oxide such as indium tin oxide (ITO) or IZO (indium zinc oxide) is used. A film is formed by a method such as a sputtering method, an evaporation method, an ion plating method, or a CVD method (chemical vapor deposition method), and a predetermined pattern is formed by etching using a photoresist.
[0036]
The auxiliary electrode 3b is formed of a thin film of a metal such as chromium, nickel, molybdenum, or aluminum, and these metals are formed by sputtering, vapor deposition, ion plating, CVD, or plating. Then, a predetermined pattern is formed by etching using a photoresist.
[0037]
The order of lamination of the transparent electrode 3a and the auxiliary electrode 3b may be any order. The thickness of each of the transparent electrode 3a and the auxiliary electrode 3b is about 50 nm to 300 nm.
[0038]
The insulating layer 4 can be formed as a layer of an organic or inorganic substance having high insulating properties, but is preferably formed of a photosensitive resin in that patterning by photolithography is easy, and Examples of the resin include polyimide, acrylic acid, methacrylic acid, polycinnamic acid, cyclized rubber, and novolak resin resins. These photosensitive resins are coated by a suitable coating method, for example, a spin coating method, a roll coating method, a bar coating method, or the like to form a coating film, and the obtained coating film is passed through a predetermined photomask. Then, by performing development using a developer, unnecessary portions can be removed to form a patterned insulating layer 4. The thickness of the insulating layer 4 is usually about 0.5 μm to 2 μm.
[0039]
Each partition 5 constituting the partition group can be formed using a photosensitive resin to which a photolithography method can be applied, and the photosensitive resin listed as a constituent of the insulating layer 4 described above, for example, a polyimide resin can be used. Can be used. As in the case of forming the insulating layer 4, the partition wall 5 having a predetermined shape can be formed through formation of a coating film by coating, exposure through a photomask, and development. The thickness of the partition wall 5 is usually 3 μm to 20 μm, and the cross section is preferably formed to have an inverse tapered shape, for example, an inverted trapezoidal shape having a narrow width on the transparent substrate 2 side.
[0040]
The black matrix 7 is composed of a thin film of a metal such as chromium, nickel, molybdenum, or aluminum, or a laminated thin film of these metals and an oxide, and these thin films are formed by a sputtering method, a vapor deposition method, an ion plating method, or the like. A film can be formed and also formed into a predetermined pattern by etching using a photoresist. Alternatively, a photosensitive resist in which a black pigment is dispersed may be coated on the entire substrate, exposed through a photomask, and an unnecessary portion may be removed using a developing solution. The thickness of the black matrix 7 is about 1000 to 10000 °.
[0041]
The color filter layer 8 is formed by dissolving or dispersing a colorant composed of dye or pigment fine particles in a transparent resin. As an example, a dispersion of fine pigment particles in a positive or negative photosensitive resin (a commercially available photoresist can be used) is applied to a target surface, and the obtained coating film is applied to a predetermined surface. Exposure is performed through a photomask, and thereafter, development is performed using a developer, whereby unnecessary portions can be removed to form a patterned color filter layer 8, and these steps are repeated as necessary. Thereby, two or three types of color filter layers can be formed.
[0042]
The color conversion layer 9 includes, for example, two types of layers, a green color conversion layer and a red color conversion layer, and three types of transparent layers. The green color conversion layer and the red color conversion layer are composed of organic phosphors dissolved or dispersed in a transparent binder resin.
[0043]
Organic phosphors that convert blue incident light into green include 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolizino (9,9a, 1-gh) coumarin, Coumarin dyes such as (2'-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (hereinafter referred to as coumarin 6) or 3- (2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin, Basic Yellow 51, or Or one or more naphthalimide dyes such as Solvent Yellow-11 or Solvent Yellow 116.
[0044]
Organic phosphors that convert blue incident light into orange to red include cyanine dyes such as 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran, and 1-ethyl. Pyridine-based dyes such as -2- (4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl) -pyridinium-perchlorate, rhodamine-based dyes such as rhodamine B or rhodamine 6G, or oxazine-based dyes Alternatively, two or more kinds can be used.
[0045]
The transparent binder resin constituting the color conversion layer 9 is transparent (having a visible light transmittance of 50% or more) and is made of a photosensitive resin in that patterning by photolithography is easy. Preferably, the photosensitive resin, acrylic acid, methacrylic acid, polyvinyl cinnamate, can be mentioned those having a reactive vinyl group such as cyclized rubber, among commercially available photoresist Available to select.
[0046]
The organic phosphor is dissolved or dispersed in these transparent binder resins, and the obtained coating composition is coated by an appropriate coating method, for example, a spin coating method, a roll coating method, a bar coating method, or A coating method is applied by a casting method or the like to form a coating film, and the obtained coating film is exposed through a predetermined photomask. The color conversion layer 9 capable of performing a predetermined color conversion can be formed at the position. By repeating these steps as needed, two or three types of color conversion layers can be formed. The thickness of the color conversion layer 9 is not limited as long as it can sufficiently absorb light emitted from the organic EL element and does not hinder the function of emitting fluorescence, and is usually about 10 μm to 50 μm.
[0047]
Further, the transparent layer provided in place of the blue conversion layer is the same as the color conversion layer formed by containing the above-mentioned organic phosphor, but using a coating composition prepared without containing the organic phosphor. Can be formed in the same manner as in the case of the color conversion layer for other colors.
[0048]
The overcoat layer 10 can be formed in the same manner as the above-mentioned transparent layer, and the thickness thereof may be such that the surface of the lower layer can be flattened by smoothing out the unevenness of the lower layer. It is.
[0049]
The organic EL light emitting layer can be composed of an organic phosphor layer containing an organic phosphor in principle, but a hole injection layer is provided on the transparent electrode layer side, and / or an electron injection layer is provided on the back electrode layer side. May be provided, but other structures may be used as long as light emission such as the above blue light can be obtained.
[0050]
For example, organic phosphors capable of emitting blue to blue-green light include benzothiazole, benzimidazole, benzoxazole, metal chelated oxinoid compounds, styrylbenzene compounds, and 4,4′-bis ( Distyrylpyrazine derivatives such as 2,2-diphenylvinyl) biphenyl (abbreviation: DPVBi) or aromatic dimethylidin-based compounds can be exemplified.
[0051]
As a hole injection material constituting the hole injection layer, for example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: NPD) or 4,4 ′, 4 Examples thereof include porphyrin compounds such as "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA), aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds. .
[0052]
As an electron injection material constituting the electron injection layer, a metal complex of an 8-quinolinol derivative such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq) can be exemplified.
[0053]
The second electrode layer is preferably composed of a metal, an alloy, or a mixture thereof having a work function as small as about 4 eV or less, and more preferably, a magnesium / silver mixture, a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, or aluminum. / Aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ) Mixtures or lithium / aluminum mixtures. The second electrode layer preferably has a sheet resistance of several hundreds Ω / cm or less, and has a thickness of about 10 nm to 1 μm, more preferably about 50 to 200 nm.
[0054]
【Example】
(Example 1)
An ITO thin film having a thickness of 0.15 μm is formed by a sputtering method on a soda lime glass substrate having a size of 300 mm × 400 mm and a plate thickness of 0.7 mm, and subsequently, a chromium thin film having a thickness of 0.2 μm is formed. After that, a photoresist (trade name: OFPR-800, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied on the chromium thin film so as to have a thickness of 0.6 μm and prebaked. After pre-baking, the photoresist film is exposed through a photomask on which an auxiliary electrode pattern is formed, and after exposure, developed, a resist pattern is formed, and etching is performed using the formed resist pattern. Chromium auxiliary electrodes having the patterns indicated by reference numerals 3 and 6b in FIG. 2 were formed.
[0055]
After forming the auxiliary electrode, a photoresist (trade name: OFPR-800, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied again to a thickness of 0.6 μm and prebaked. After pre-baking, the resist film is exposed from a photoresist coating film through a photomask on which a transparent electrode pattern is formed, developed to form a resist pattern, etched, then peeled, washed, and dried. Through each step, transparent electrode patterns indicated by reference numerals 3a and 6a in FIG. 2 were formed.
[0056]
After forming the transparent electrode pattern, a photosensitive polyimide resin was applied to the entire surface so as to have a thickness of 1 μm and prebaked. After pre-baking, the photosensitive polyimide resin film was exposed to light through a photomask on which an insulating layer pattern was formed, developed, and then baked to form an insulating layer pattern indicated by reference numeral 4 in FIG. .
[0057]
After the insulating layer pattern was formed, a photosensitive polyimide resin was applied to the entire surface so as to have a thickness of 5 μm and prebaked. After pre-baking, exposure is performed through a photomask in which a pattern of the partition indicated by 5 in FIG. 1 and a pattern of a connecting portion connecting between both ends of each partition indicated by 5a in FIG. 1 are formed to form an inversely tapered shape. The development was carried out under the conditions as described below to form a pattern of the partition walls 5 with the connecting portions 5a.
[0058]
Observation of the cross section of the obtained partition wall 5 revealed that the partition wall 5 had an inversely tapered shape with a width of 20 μm at the upper part and a width of 10 μm at the lower part (bottom part). Did not. Note that the width of the connecting portion 5a was 100 μm. Further, ultrasonic cleaning was performed in pure water for 15 minutes in preparation for the next step, but no separation of the partition wall pattern occurred during the ultrasonic cleaning.
[0059]
After the ultrasonic cleaning, the substrate on which the partition wall pattern was formed was set in a vacuum evaporation apparatus, and then a hole injection material, an organic EL light emitting material, and an electron injection material were evaporated in this order. MTDATA and NPD were sequentially deposited as a hole injection material, DPVBi was deposited as an organic EL light emitting material, Alq was deposited as an electron injection material, and silver and magnesium were simultaneously deposited as a cathode electrode to form an organic EL display. However, there was no short circuit between adjacent lines after vapor deposition, and sufficient contact between the lead wire and the cathode electrode was obtained.
[0060]
(Example 2)
First, a thin film having a laminated structure of chromium oxide / chromium having a thickness of 0.2 μm was formed on the same glass substrate as used in Example 1, and then a photoresist (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) (OFPR-800) was applied to a thickness of 0.6 μm and prebaked. After pre-baking, from the photoresist coating, it is exposed through a photomask on which a black matrix pattern is formed, and after exposure, it is developed to form a resist pattern, and using the formed resist pattern, chromium oxide / The chromium thin film was etched, and then a black matrix was formed through the steps of stripping, washing, and drying the resist pattern.
[0061]
On a substrate on which a black matrix is formed, a commercially available photosensitive resin composition for each color (manufactured by Fuji Film Orin Co., Ltd .; trade names; "CR-2000" (for red), "CG-2000" (for green)) , And "CB-2000" (for blue), first, using a photosensitive resin composition for red, applying by a spin coating method, and pre-baking (temperature: 90 ° C, time: 3 minutes). After pre-baking, exposure is performed through a photomask for forming a color filter layer, and after exposure, development is performed using a developer (trade name: “CD”, manufactured by Fuji Film Ohlin Co., Ltd.), and then post-baking ( (Temperature: 200 ° C., time: 30 minutes) to form a 1.3 μm thick red color filter layer corresponding to the opening at a predetermined position in the black matrix. Color, by sequentially using each composition for blue, similarly performed, in any case, thickness; forming a green and blue each color filter layer of 1.3 .mu.m, and a three-color color filter layer.
[0062]
Coumarin 6 was blended in an amount of 0.03 mol with respect to 1 kg of solid content of an acrylic photocurable resist (trade name: "JNPC06" manufactured by JSR Corporation) and dispersed to form a green conversion layer. The composition for application was applied on the substrate on which the color filter layers of each color were formed as described above by a spin coating method, and prebaked at a temperature of 80 ° C. After pre-baking, 300 mJ / cm through a photomask for forming a color conversion layer. ² , And developed with a 1% (mass basis) aqueous sodium carbonate solution at room temperature. After removing the unexposed portions, post-baking was performed at a temperature of 200 ° C. to obtain a green color. A green color conversion layer having a thickness of about 10 μm was formed corresponding to the color filter layer.
[0063]
Coumarin 6, fluorescent pigment A, and an acrylic photocurable resist (same as in the preceding paragraph) were prepared. The fluorescent pigment A contains 4% (by mass) of rhodamine 6G and 4% (by mass) of rhodamine B with respect to 100 of the benzoguanamine resin. The amount of the coumarin 6 was 0.03 mol with respect to 1 Kg in total of the solid content of the fluorescent pigment A and the acrylic photocurable resist, the amount of the fluorescent pigment was 30% (by mass), and The composition of the red conversion layer was prepared by mixing the solid content of the acrylic photocurable resist so as to be 70% (by mass). Using this composition for forming a red color conversion layer, it was applied to the substrate on which each color filter layer was formed by a spin coating method in the same manner as described above, and prebaked at a temperature of 80 ° C. After pre-baking, through a photomask for forming a color conversion layer, 600 mJ / cm ² After exposure, developed with a 1% (mass basis) aqueous sodium carbonate solution at room temperature, and unexposed portions were removed, and post-baked at a temperature of 200 ° C. to obtain a red A red color conversion layer having a thickness of about 10 μm was formed corresponding to the color filter layer.
[0064]
The composition for forming a transparent layer is obtained by adding a thermosetting resin (trade name, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) to the same acrylic photocurable resist as used in the composition for forming green and red conversion layers. V259PA "), in the same manner as in forming the green and red conversion layers, except that the exposure light dose was 300 mJ / cm. ² And a post-baking temperature of 180 ° C. to form a transparent layer having a thickness of about 10 μm on the blue color filter layer.
[0065]
On the substrate on which the green and color conversion layers and the transparent layer were formed, the same composition as the above-mentioned composition for forming a transparent layer was again applied to the entire surface by spin coating, and prebaked at a temperature of 80 ° C. Thereafter, through a photomask on which a pattern for covering the entire color conversion layer including the transparent layer is formed, 300 mJ / cm. ² After exposure, developed with a 1% (mass basis) aqueous solution of sodium carbonate at room temperature, and after removing unexposed portions, post-baked at a temperature of 180 ° C. to obtain a thickness; A flattening layer (overcoat layer) having a thickness of about 5 μm and a surface roughness of 0.5 μm or less was formed.
[0066]
After the formation of the flattening layer, the same processes as those performed on the soda-lime glass substrate in Example 1 were performed on the flattening layer, and the organic EL element was formed on each color conversion layer including the transparent layer. And an organic EL display was formed by forming a partition wall with a connecting portion in the same manner as in Example 1.
[0067]
Also in Example 2, peeling of the partition pattern during development during formation of the partition did not occur. In addition, after the partition walls were formed, even if ultrasonic cleaning was performed in pure water for 15 minutes, the partition wall pattern did not peel off. Also, in the obtained organic EL display, there was no short circuit between adjacent lines after vapor deposition, and the contact between the lead wire and the cathode electrode was sufficiently obtained, so that full-color display could be performed without any trouble.
[0068]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide an organic EL display substrate in which the end portions of the partition walls are connected to each other by the connecting portions, thereby preventing separation of the partition walls during formation of the partition and during cleaning.
[0069]
According to the invention of claim 2, in addition to the effect of the invention of claim 1, by making the width of the connecting portion larger than the width of the partition, the organic EL can be more reliably prevented from peeling off from the end of the partition. A display substrate can be provided.
[0070]
According to the third aspect, in addition to the effects of the first or second aspect, when combined with an organic EL element, color correction or color conversion of incident light can be performed for each pixel. A possible substrate for an organic EL display can be provided.
[0071]
According to the fourth aspect, in addition to the effects of the first or second aspect, when combined with the organic EL element, the incident light is color-converted corresponding to each pixel, and color-corrected after the color conversion. It is possible to provide a substrate for an organic EL display capable of performing the above.
[0072]
According to the fifth aspect, in addition to the effect of any one of the first to fourth aspects, since the transparent substrate has a black matrix, it prevents reflection of external light when observed from the transparent substrate side. A possible substrate for an organic EL display can be provided.
[0073]
According to the sixth invention, it is possible to provide an organic EL display in which the effect of the substrate for an organic EL display according to any one of the first to fifth inventions is exhibited.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view showing a substrate for an organic EL display of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a state in which a first electrode layer is formed on a transparent substrate.
FIG. 3 is a diagram showing a state where a first electrode layer and an insulating layer are formed on a transparent substrate.
FIG. 4 is a diagram showing a cross-sectional structure of an organic EL display substrate.
FIG. 5 is a view showing a conventional substrate for an organic EL display.
[Explanation of symbols]
1 Substrate for organic EL display
2 Transparent substrate
3 First electrode layer (3a; transparent electrode, 3b; auxiliary electrode)
4 Insulation layer (4a; insulation layer opening)
5 Partition wall (5a; connecting part)
6 Second electrode lead wire (6a; transparent electrode, 6b; auxiliary electrode)
7 Black Matrix
8 Color filter layer
9 Color conversion layer
10 Overcoat layer

Claims

A first electrode layer, an insulating layer, and a group of barrier ribs are sequentially stacked on a transparent base material, and the first electrode layer is configured by arranging a plurality of strip-shaped electrodes at intervals. The partition group is configured by arranging a plurality of strip partitions intersecting with the plurality of strip electrodes at intervals, and each strip partition is at the end thereof equivalent to a partition between adjacent strip partitions. The insulating layer constitutes the first electrode layer except for at least each pixel portion partitioned by each of the band-shaped electrodes and each of the band-shaped partition walls. A substrate for an organic EL display, which covers between each strip-shaped electrode and the partition.

2. The substrate for an organic EL display according to claim 1, wherein the width of the connecting portion is wider than the width of the partition.

2. A color filter layer corresponding to each pixel portion or a color conversion layer corresponding to each pixel portion, between the transparent substrate and the first electrode layer. 2. The substrate for an organic EL display according to 2.

Between the transparent base material and the first electrode layer, from the transparent base material side, a color filter layer corresponding to each pixel portion, and a color conversion layer corresponding to each pixel portion, The substrate for an organic EL display according to claim 1 or 2, wherein

5. The substrate for an organic EL display according to claim 3, wherein the transparent substrate has a black matrix at a position corresponding to between the pixels.

An organic EL light emitting layer and a second electrode layer are sequentially stacked from the first electrode layer side in correspondence with each pixel portion of the organic EL display substrate according to any one of claims 1 to 5. An organic EL display characterized by the following.