JP2003313213A - 光重合性不飽和化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び拡散反射板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 拡散反射下地層において、光を拡散反射し得
る凹凸面の高温下での形状維持性が優れ、かつ高温高湿
下及びフォトリソグラフィーにおける拡散反射下地層の
基板密着性に優れることで、歩留まりの良い反射型液晶
表示装置用拡散反射板の製造が可能な光重合性化合物及
びこれを用いた感光性樹脂組成物、感光性エレメント及
びこれらを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製
造方法を提供する。 【解決手段】 １分子中に少なくとも２個のエチレン性
不飽和基を有し、さらに加水分解性基含有シリル基を少
なくとも１個有する（a）シリル基含有光重合性不飽和
化合物、(b)バインダポリマー、(c)少なくとも１個のエ
チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(d)
光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組
成物、これを凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状面
上に形成した拡散反射下地層形成用感光性エレメント及
びこれらを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板の製
造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置用拡散反射板などに使用される光重合性不飽和化合
物、これを用いた感光性樹脂組成物、感光性エレメント
及び反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、ノート型パソコ
ン、電子手帳、携帯情報端末機、アミューズメント機
器、携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特
にこれらのうち、携帯用機器については、バックライト
が不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量
化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いら
れつつある。一般に反射型液晶表示装置では、光源とし
て外光の反射を利用しているが、外光をより効率良く利
用して明るい表示を得るためには、さらにあらゆる角度
からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱す
る光の強度を増加させる必要がある。これを実現するた
めの有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面が形
成された仮支持体に薄膜層が積層された転写フィルムを
使用し、転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面
を基板表面に貼り合わせ、仮支持体をはく離して基板に
薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与する
ことにより拡散反射板を形成する方法（特開2000-47199
号公報）が提案されている。

【０００３】しかしながら、従来の方法で拡散反射板を
作製する際には、特に拡散反射下地層用材料の選定が難
しく、歩留まり良く製造できないという問題点があっ
た。これは、以下の２つの理由により生じていた。１つ
は、拡散反射下地層材料の耐熱性に関わる問題である。
液晶表示装置の製造においては、ＩＴＯなどの透明電極
形成やカラーフィルター形成やオーバーコート層形成等
の工程により、拡散反射板を設けた基板が２００〜２５
０℃程度の高温中に数回暴露されることとなる。従来の
拡散反射下地層材料及び方法では、拡散反射下地層上に
スパッタ法等で金属薄膜を積層して拡散反射板を形成し
ているが、高温で暴露されることで、拡散反射下地層の
表面形状、つまり光を拡散反射し得る凹凸面形状が変形
し、所望の反射特性が得られず、これにより歩留まり良
く製造できないという不具合を引き起こしていた。さら
にもう１つは、拡散反射下地層の基板密着性に関わる問
題である。液晶表示装置の使用においては、あらゆる環
境下が予想されることから、信頼性として高温高湿時に
も拡散反射下地層の基板密着性が良いことが必要とされ
るが、従来の拡散反射下地層材料及び方法では、特に耐
湿性の問題から、高温高湿環境下で基板密着性が著しく
悪化し、液晶表示装置としての信頼性を得られないとい
う不具合があった。また、高画質で高速表示可能なＴＦ
Ｔ駆動方式の液晶表示装置に拡散反射下地層を適用する
ためには、フォトリソグラフィーによる微細なコンタク
ホールの形成が不可欠であり、フォトリソグラフィーの
露光、現像時にも拡散反射下地層の基板密着性が良いこ
とが要求されるが、従来の拡散反射下地層材料では、基
板密着性が著しく悪化し、微細なコンタクトホールを安
定して形成できないという問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、拡散
反射下地層において、光を拡散反射し得る凹凸面の高温
下での形状維持性が優れ、かつ高温高湿下及びフォトリ
ソグラフィーにおける拡散反射下地層の基板密着性に優
れることで、歩留まりの良い反射型液晶表示装置用拡散
反射板の製造が可能なシリル基含有光重合性不飽和化合
物及びこれを用いた感光性樹脂組成物を提供することに
ある。

【０００５】本発明の他の目的は、上記の効果に加え
て、さらに作業性に優れた拡散反射下地層形成用感光性
エレメントを提供することにある。

【０００６】本発明の他の目的は、上記の効果に加え
て、さらにコスト低減に寄与し得る反射型液晶表示装置
用拡散反射板の製造方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、１分子中に少
なくとも２個のエチレン性不飽和基を有し、さらに加水
分解性基含有シリル基を少なくとも１個有する（a）シ
リル基含有光重合性不飽和化合物に関する。また、本発
明は、１分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基
を有し、さらに加水分解性基含有シリル基を少なくとも
１個有する化合物であって、さらにウレタン結合を有す
る前記（a）シリル基含有光重合性不飽和化合物に関す
る。また、本発明は、（Ａ）１分子中に少なくとも１個
の水酸基及び少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有
する光重合性不飽和化合物の水酸基に対して、（Ｂ）１
分子中に１個のイソシアネート基を有し、さらに加水分
解性基含有シリル基を少なくとも１個有する有機ケイ素
化合物のイソシアネート基を反応させて得られる前記
（a）シリル基含有光重合性不飽和化合物に関する。

【０００８】また、本発明は、前記(a)シリル基含有光
重合性不飽和化合物、(b)バインダポリマー、(c)少なく
とも１個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物、(d)光重合開始剤を含有することを特徴とする
感光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、凹凸形状
面を有する仮支持体の凹凸形状面上に、前記感光性樹脂
組成物の層を有する拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ントに関する。また、本発明は、（Ｉ）基板上に、前記
拡散反射下地層形成用感光性エレメントを積層する工
程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射
する工程、（III）凹凸形状面を有する仮支持体をはく
離して除去する工程、（IV）現像により感光性樹脂組成
物層を選択的に除去してパターンを形成する工程、
（V）パターンを形成した感光性樹脂組成物層に活性光
線を照射する工程、（VI）パターンを形成した感光性樹
脂組成物層を加熱する工程により、所望の凹凸形状面を
有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層
上に反射膜を形成することを特徴とする反射型液晶表示
装置用拡散反射板の製造方法に関する。また、本発明
は、下記一般式〔１〕で表される光重合性不飽和化合物
の水酸基に対して、下記一般式〔２〕で表される有機ケ
イ素化合物のイソシアネート基を反応させて得られる前
記シリル基含有光重合性不飽和化合物に関する。

【化３】 （一般式〔１〕中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立に水素
原子又はメチル基を示し、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立
に炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキ
レンオキシド基を示し、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶が各々複数個
の場合には、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々同一でも異なって
いてもよく、ｋ、ｌ及びｍは各々独立に０〜１０の整数
である）

【化４】 （一般式〔２〕中、Ｒ⁷は炭素数１〜８のアルキレン
基、炭素数１〜８のアルキレンオキシド基を示し、Ｒ⁷
が複数個の場合には、Ｒ⁷は同一でも異なっていてもよ
く、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立に炭素数１〜８のアル
キル基を示し、ｎは１〜１０の整数である）

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の（a）シリル基含有光重合性不飽和化合物は、
１分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有
し、さらに加水分解性基含有シリル基を少なくとも１個
有する。また、本発明の（a）シリル基含有光重合性不
飽和化合物は、耐熱性を向上でき、かつ高温高湿下及び
フォトリソグラフィーにおける拡散反射下地層の基板密
着性を向上できるという観点から、さらに分子中にウレ
タン結合を有することが好ましい。

【００１０】本発明のこのような（a）シリル基含有光
重合性不飽和化合物は、（Ａ）１分子中に少なくとも１
個の水酸基及び少なくとも２個のエチレン性不飽和基を
有する光重合性不飽和化合物の水酸基に対して、（Ｂ）
１分子中に１個のイソシアネート基を有し、さらに加水
分解性基含有シリル基を少なくとも１個有する有機ケイ
素化合物のイソシアネート基を反応させることにより得
られる。本発明における（Ａ）１分子中に少なくとも１
個の水酸基及び少なくとも２個のエチレン性不飽和基を
有する光重合性不飽和化合物としては、１分子中に少な
くとも１個の水酸基及び少なくとも２個のエチレン性不
飽和基をそれぞれ有していれば、特に制限はなく、例え
ば、エピクロロヒドリン変性ビスフェノールＡジ（メ
タ）アクリレート、エピクロロヒドリン及びアルキレン
オキシド（炭素数２〜８のアルキレンオキシド基の数が
１〜２０）変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレー
ト、エピクロロヒドリン変性ポリアルキレングリコール
（炭素数２〜８のアルキレンオキシド基の数が１〜２
０）ジ（メタ）アクリレート、エピクロロヒドリン変性
アルキル（炭素数が２〜８）ジ（メタ）アクリレート、
ヒドロキシアルキル（炭素数が２〜８）ジ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリト−ルモノヒドロキシペン
タ（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート、グリ
セロールジ（メタ）アクリレート、ジグリセロールジ
（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）ア
クリレート、ポリグリセロールジ（メタ）アクリレー
ト、エピクロロヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）
アクリレート、エピクロロヒドリン変性1，6-ヘキサン
ジオールジ（メタ）アクリレート、炭素数２〜８のアル
キレンオキシド基の数が１〜２０であるアルキレンオキ
シド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、エピクロロヒ
ドリン変性フェノキシジ（メタ）アクリレート、ステア
リン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレー
ト、エピクロロヒドリン変性フタル酸ジ（メタ）アクリ
レート、エピクロロヒドリン変性ポリアルキレンオキシ
ド（炭素数２〜８のアルキレンオキシド基の数が１〜２
０）変性フタル酸（メタ）アクリレート、エピクロロヒ
ドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。

【００１１】また、本発明における（Ａ）成分として
は、後述する感光性樹脂組成物とした場合のフォトリソ
グラフィー工程における密着性を向上できるという観点
から、前記一般式〔１〕で表される化合物であることが
好ましい。前記一般式〔１〕中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各
々独立に水素原子又はメチル基を示す。また、前記一般
式〔１〕中、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立に炭素数１〜
８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキレンオキシド
基を示し、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶が各々複数個の場合には、
Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々同一でも異なっていてもよく、
ブロック構造でもランダム構造でもよい。また、前記一
般式〔１〕中、ｋ、ｌ及びｍは各々独立に０〜１０の整
数であるが、後述する工程により形成されたパターン状
の感光性樹脂組成物層表面に形成された凹凸形状を、高
温下で維持する特性を向上できる観点から、ｋ＝ｌ＝ｍ
＝０であるペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ートが特に好ましい。また、これらの（Ａ）１分子中に
少なくとも１個の水酸基及び少なくとも２個のエチレン
性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物は、エポキシ
エステル３００２Ａ、エポキシエステル８０ＭＦＡ（共
栄社化学株式会社製、製品名）、デナコールＤＡ-８１
１、デナコールＤＭ-８１１、デナコールＤＭ-８５１、
デナコールＤＡ-３１４、デナコールＤＡ-３２１、デナ
コールＤＡ-９１１（ナガセ化成工業株式会社製、製品
名）、ＳＲ-３９９（SARTOMER Company社製、製品
名）、ＮＫエステル７０１-Ａ、ＮＫエステル７０１、
ＮＫエステルＡ-ＴＭＭ-３（新中村化学工業株式会社
製、製品名）、アロニックスＭ-３０５、アロニックス
Ｍ-２３３（東亜合成化学工業株式会社製、製品名）、
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ-３０、カヤマーＰＭ-２（日本
化薬株式会社製、製品名）等として商業的に入手可能で
ある。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用することができる。

【００１２】本発明における（Ｂ）１分子中に１個のイ
ソシアネート基を有し、さらに加水分解性基含有シリル
基を少なくとも１個有する有機ケイ素化合物としては、
１分子中に１個のイソシアネート基及び１分子中に加水
分解性基含有シリル基を少なくとも１個それぞれ有して
いれば、特に制限はなく、例えば、前記一般式〔２〕で
表される化合物であることが好ましい。前記一般式
〔２〕中、Ｒ⁷は炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数
１〜８のアルキレンオキシド基を示し、メチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン
基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチレンオキシド
基、エチレンオキシド基、プロピレンオキシド基、イソ
プロピレンオキシド基、ブチレンオキシド基、ペンチレ
ンオキシド基、ヘキシレンオキシド基等が挙げられ、エ
チレン基、プロピレン基が好ましい。このＲ⁷が複数個
の場合には、Ｒ⁷は同一でも異なっていてもよく、ブロ
ック構造でもランダム構造でもよい。また、前記一般式
〔２〕中、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立に炭素数１〜８
のアルキル基を示し、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基等が挙げられ、メチル基又はエチル基が好ましい。ま
た、前記一般式〔２〕中、ｎは１〜１０であるが、
（Ａ）成分との反応性の観点から、ｎは１〜３であるこ
とが好ましい。

【００１３】前記一般式〔２〕で表される化合物として
は、例えば、イソシアネートメチルトリメトキシシラ
ン、イソシアネートメチルジメトキシシラン、イソシア
ネートメチルモノメトキシシラン、イソシアネートメチ
ルトリエトキシシラン、イソシアネートメチルジエトキ
シシラン、イソシアネートメチルモノエトキシシラン、
イソシアネートメチルトリプロポキシシラン、イソシア
ネートメチルジプロポキシシラン、イソシアネートメチ
ルモノプロポキシシラン、イソシアネートメチルトリブ
トキシシラン、イソシアネートメチルジブトキシシラ
ン、イソシアネートメチルモノブトキシシラン、イソシ
アネートエチルトリメトキシシラン、イソシアネートエ
チルジメトキシシラン、イソシアネートエチルモノメト
キシシラン、イソシアネートエチルトリエトキシシラ
ン、イソシアネートエチルジエトキシシラン、イソシア
ネートエチルモノエトキシシラン、イソシアネートエチ
ルトリプロポキシシラン、イソシアネートエチルジプロ
ポキシシラン、イソシアネートエチルモノプロポキシシ
ラン、イソシアネートエチルトリブトキシシラン、イソ
シアネートエチルジブトキシシラン、イソシアネートエ
チルモノブトキシシラン、イソシアネートプロピルトリ
メトキシシラン、イソシアネートプロピルジメトキシシ
ラン、イソシアネートプロピルモノメトキシシラン、イ
ソシアネートプロピルトリエトキシシラン、イソシアネ
ートプロピルジエトキシシラン、イソシアネートプロピ
ルモノエトキシシラン、イソシアネートプロピルトリプ
ロポキシシラン、イソシアネートプロピルジプロポキシ
シラン、イソシアネートプロピルモノプロポキシシラ
ン、イソシアネートプロピルトリブトキシシラン、イソ
シアネートプロピルジブトキシシラン、イソシアネート
プロピルモノブトキシシラン、イソシアネートブチルト
リメトキシシラン、イソシアネートブチルジメトキシシ
ラン、イソシアネートブチルモノメトキシシラン、イソ
シアネートブチルトリエトキシシラン、イソシアネート
ブチルジエトキシシラン、イソシアネートブチルモノエ
トキシシラン、イソシアネートブチルトリプロポキシシ
ラン、イソシアネートブチルジプロポキシシラン、イソ
シアネートブチルモノプロポキシシラン、イソシアネー
トブチルトリブトキシシラン、イソシアネートブチルジ
ブトキシシラン、イソシアネートブチルモノブトキシシ
ラン、イソシアネートペンチルトリメトキシシラン、イ
ソシアネートペンチルジメトキシシラン、イソシアネー
トペンチルモノメトキシシラン、イソシアネートペンチ
ルトリエトキシシラン、イソシアネートペンチルジエト
キシシラン、イソシアネートペンチルモノエトキシシラ
ン、イソシアネートペンチルトリプロポキシシラン、イ
ソシアネートペンチルジプロポキシシラン、イソシアネ
ートペンチルモノプロポキシシラン、イソシアネートペ
ンチルトリブトキシシラン、イソシアネートペンチルジ
ブトキシシラン、イソシアネートペンチルモノブトキシ
シラン、イソシアネートヘキシルトリメトキシシラン、
イソシアネートヘキシルジメトキシシラン、イソシアネ
ートヘキシルモノメトキシシラン、イソシアネートヘキ
シルトリエトキシシラン、イソシアネートヘキシルジエ
トキシシラン、イソシアネートヘキシルモノエトキシシ
ラン、イソシアネートヘキシルトリプロポキシシラン、
イソシアネートヘキシルジプロポキシシラン、イソシア
ネートヘキシルモノプロポキシシラン、イソシアネート
ヘキシルトリブトキシシラン、イソシアネートヘキシル
ジブトキシシラン、イソシアネートヘキシルモノブトキ
シシラン、エチレンオキシド変性イソシアネートトリメ
トキシシラン、エチレンオキシド変性イソシアネートジ
メトキシシラン、エチレンオキシド変性イソシアネート
モノメトキシシラン、エチレンオキシド変性イソシアネ
ートトリエトキシシラン、エチレンオキシド変性イソシ
アネートジエトキシシラン、エチレンオキシド変性イソ
シアネートモノエトキシシラン、エチレンオキシド変性
イソシアネートトリプロポキシシラン、エチレンオキシ
ド変性イソシアネートジプロポキシシラン、エチレンオ
キシド変性イソシアネートモノプロポキシシラン、エチ
レンオキシド変性イソシアネートトリブトキシシラン、
エチレンオキシド変性イソシアネートジブトキシシラ
ン、エチレンオキシド変性イソシアネートモノブトキシ
シラン、プロピレンオキシド変性イソシアネートトリメ
トキシシラン、プロピレンオキシド変性イソシアネート
ジメトキシシラン、プロピレンオキシド変性イソシアネ
ートモノメトキシシラン、プロピレンオキシド変性イソ
シアネートトリエトキシシラン、プロピレンオキシド変
性イソシアネートジエトキシシラン、プロピレンオキシ
ド変性イソシアネートモノエトキシシラン、プロピレン
オキシド変性イソシアネートトリプロポキシシラン、プ
ロピレンオキシド変性イソシアネートジプロポキシシラ
ン、プロピレンオキシド変性イソシアネートモノプロポ
キシシラン、プロピレンオキシド変性イソシアネートト
リブトキシシラン、プロピレンオキシド変性イソシアネ
ートジブトキシシラン、プロピレンオキシド変性イソシ
アネートモノブトキシシラン等が挙げられ、これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ
る。これら化合物の内、後述する感光性樹脂組成物とし
た場合のフォトリソグラフィー工程における密着性を向
上できる観点から、イソシアネートプロピルトリメトキ
シシラン又はイソシアネートプロピルトリエトキシシラ
ンが特に好ましい。このような化合物は、Ｙ-５１８
７、Ａ-１３１０（日本ユニカー株式会社製、製品名）
として商業的に入手可能である。

【００１４】本発明の感光性樹脂組成物は、前記(a)シ
リル基含有光重合性不飽和化合物、(b)バインダポリマ
ー、(c)少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物、(d)光重合開始剤を有してな
る。

【００１５】本発明における(b)バインダポリマーとし
ては、特に制限はなく、例えば、ビニル共重合体が挙げ
られ、ビニル共重合体に用いられるビニル単量体として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、ア
クリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、ア
クリル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、
アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アク
リル酸iso−ブチル、メタアクリル酸iso−ブチル、アク
リル酸sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリ
ル酸tert−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリ
ル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メ
タクリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、
メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタク
リル酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシ
ル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アク
リル酸テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アク
リル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アク
リル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アク
リル酸エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル
酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロ
ペンチル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シ
クロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸シクロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アク
リル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フ
ェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエ
チル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキ
シジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチ
レングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリ
コール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコー
ル、アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタ
クリル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸
２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエ
チル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸
ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジ
メチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２
−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタ
クリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエ
チル、メタクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−
メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げら
れる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。

【００１６】本発明における(b)バインダポリマーとし
ては、例えば、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イ
ソシアネート基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を
有するビニル共重合体に、少なくとも１個のエチレン性
不飽和基と、オキシラン環、イソシアネート基、水酸
基、カルボキシル基等の１個の官能基を有する化合物を
付加反応させて得られる側鎖にエチレン性不飽和基を有
するラジカル重合性共重合体等を使用することもでき
る。

【００１７】前記カルボキシル基、水酸基、アミノ基、
オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重
合体の製造に用いられる必須のビニル単量体としては、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマ
ル酸、イタコン酸、ケイ皮酸、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、イソシアン酸エチルメタ
クリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、無水マレイン酸等のカルボキシル基、水酸
基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有
するビニル単量体等が挙げられる。これらは単独で又は
２種以上を組み合わせて使用される。

【００１８】側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカ
ル重合性共重合体の製造には必要に応じ、カルボキシル
基、水酸基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官
能基を有するビニル単量体以外の前記ビニル単量体を共
重合させることができ、これらは、単独で又は２種類以
上を組み合わせて使用することができる。

【００１９】側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカ
ル重合性共重合体のエチレン性不飽和基濃度は、１．０
Ｘ１０^-4〜６．０Ｘ１０^-3モル／ｇとすることが好まし
く、２．０Ｘ１０^-4〜５．０Ｘ１０^-3モル／ｇとするこ
とがより好ましく、３Ｘ１０ ^-4〜４．０Ｘ１０^-3モル／
ｇとすることが特に好ましい。このエチレン性不飽和基
濃度が１．０Ｘ１０^-4モル／ｇ未満では、十分な硬化性
が得られないために耐熱性、耐湿性等が劣り、また、拡
散反射板とした場合に、外光の利用効率向上効果が低下
する傾向があり、６．０Ｘ１０^-3モル／ｇを超えると、
側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重
合体を製造する際にゲル化を起こす傾向がある。

【００２０】本発明における(b)バインダポリマーの重
量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーで測定し、標準ポリスチレン換算した値）は、耐熱
性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解性等の点から、
１，０００〜３００，０００とすることが好ましく、
５，０００〜１５０，０００とすることがより好まし
い。

【００２１】本発明における(b)バインダポリマーは、
後述する（IV）現像により感光性樹脂組成物層を選択的
に除去してパターンを形成する工程において、公知の各
種現像液により現像可能となるように酸価を規定するこ
とができる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ水溶液を
用いて現像する場合には、酸価を５０〜２６０ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、５０ｍｇＫ
ＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向があり、２６
０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像液性（現像により
除去されずに残りパターンとなる部分が、現像液によっ
て侵されない性質）が低下する傾向がある。また、水又
はアルカリ水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるア
ルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、１６
〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸
価が、１６ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる
傾向があり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像
液性が低下する傾向がある。

【００２２】本発明における(c)少なくとも１個のエチ
レン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物として
は、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン
酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−
（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プ
ロパン、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマ
ー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレー
ト、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β'−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル−o−フタレート、β−
ヒドロキシエチル−β'−（メタ）アクリロイルオキシ
エチル−o−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β'
−（メタ）アクリロイルオキシエチル−o−フタレー
ト、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられ
る。

【００２３】上記多価アルコールにα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、
エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１
４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキ
シトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
テトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート
（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）、
テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、
プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記
α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）
アクリル酸等が拳げられる。

【００２４】上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アク
リロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、
例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシ
ジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシ
ペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニ
ル）等が挙げられる。

【００２５】上記グリシジル基含有化合物としては、例
えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メ
タ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）
フェニル等が拳げられる。

【００２６】上記ウレタンモノマーとしては、例えば、
β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソ
ホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシア
ネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−
ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、ト
リス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコール
イソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、エ
チレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、
エチレンオキシド，プロピレンオキシド変性ウレタンジ
（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記（メタ）ア
クリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）
アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチル
エステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げら
れる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用することができる。

【００２７】本発明における(d)光重合開始剤として
は、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ'−テトラメチル
−４，４'−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ'−テトラエチル−４，４'−ジアミノベン
ゾフェノン、４−メトキシ−４'−ジメチルアミノベン
ゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１（イルガキ
ュア−３６９、チバスペシャリティーケミカルズ株式会
社製、商品名）、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等
の芳香族ケトン、２−エチルアントラキノン、フェナン
トレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、
オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラ
キノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニル
アントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、
１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノ
ン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキ
ノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジ
メチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェ
ニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイ
ン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイ
ン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導
体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量
体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９'
−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−
フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマ
リン系化合物などが挙げられる。また、２，４，５−ト
リアリールイミダゾール二量体において、２つの２，
４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は
同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサ
ントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのよう
に、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組
み合わせてもよい。また、フォトリソグラフィ工程にお
ける密着性及び感度の観点から、２，４，５−トリアリ
ールイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ
る。

【００２８】本発明における(a)シリル基含有光重合性
不飽和化合物の使用量は、（a）、（b）及び(c)成分の
総量１００重量部に対して、０．１〜８０重量部とする
ことが好ましく、１〜７０重量部とすることがより好ま
しく、５〜６５重量部とすることが特に好ましく、１０
〜６０重量部とすることが極めて好ましい。この使用量
が０．１重量部未満では、フォトリソグラフィー工程に
おける密着性向上効果を十分に発現できなくなる傾向が
あり、８０重量部を超えると、感光性樹脂組成物とした
場合の保存安定性が低下する傾向がある。

【００２９】本発明における(b)バインダポリマーの使
用量は、（a）、（b）及び(c)成分の総量１００重量部
に対して、１０〜８０重量部とすることが好ましく、２
０〜７５重量部とすることがより好ましく、２５〜７３
重量部とすることが特に好ましく、３０〜７０重量部と
することが極めて好ましい。この使用量が１０重量部未
満では、塗工性あるいはフィルム性が低下する傾向があ
り、８０重量部を超えると、光硬化性あるいは耐熱性が
低下する傾向がある。

【００３０】本発明における(c)少なくとも１個のエチ
レン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物の使用量
は、（a）、（b）及び(c)成分の総量１００重量部に対
して、１０〜８０重量部とすることが好ましく、２０〜
７５重量部とすることがより好ましく、２５〜７３重量
部とすることが特に好ましく、３０〜７０重量部とする
ことが極めて好ましい。この使用量が１０重量部未満で
は、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向があり、８
０重量部を超えると、塗膜性あるいはフィルム性が低下
する傾向がある。

【００３１】本発明における(d)光重合開始剤の使用量
は、（a）、（b）及び(c)成分の総量１００重量部に対
して、０．０５〜２０重量部とすることが好ましく、
０．１〜１５重量部とすることがより好ましく、０．１
５〜１０重量部とすることが特に好ましい。この使用量
が０．０５重量部未満では、光硬化が不十分となる傾向
があり、２０重量部を超えると、後述する感光性樹脂組
成物層の活性光線照射表面での活性光吸収が増大して、
内部の光硬化が不十分となる傾向がある。また、本発明
の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップ
リング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、
充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、
着色料、熱架橋剤、重合禁止剤等を（a）、（b）及び
(c)成分の総量１００重量部に対して各々０．０１〜２
０重量部程度含有することができる。これらは、単独で
又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００３２】本発明の拡散反射下地層形成用感光性エレ
メントは、凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状面上
に、前記感光性樹脂組成物の層を有してなる。本発明に
おける凹凸形状面を有する仮支持体としては、特に制限
はなく、公知のものを使用することができるが、基板上
に拡散反射下地層形成用感光性エレメントを貼り合わせ
る点及び拡散反射下地層形成用感光性エレメントを貼り
付け、光硬化させた後、はく離する点で特に好適である
という理由から、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエステル等を材質としたフィルムをベー
スフィルムとして用い、それをサンドブラスト処理等で
直接凹凸形状面を設けて仮支持体とすることや、前記ベ
ースフィルム上に光硬化性樹脂及びまたは熱硬化性樹脂
を積層して、像状露光や熱成形等により凹凸形状面を設
けてベースフィルムと合わせて仮支持体とすること等が
特に好ましい。また、このときの凹凸形状面について
は、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るため
に、垂直な方向に散乱する光の強度を増加させることが
できるような構造を有するものであれば、特に制限はな
い。

【００３３】本発明における感光性樹脂組成物層を前記
仮支持体の凹凸形状面に形成する方法としては、公知の
塗布方法を用いることができ、例えば、ドクターブレー
ドコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ロー
ルコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナ
ーコーティング法、インクジェットコーティング法、ス
プレーコーティング法、ディップコーティング法、グラ
ビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコ
ーティング法等が挙げられる。本発明における感光性樹
脂組成物層の厚さは、反射型液晶表示装置とした場合の
電気的特性を考慮して、０．１〜２０μｍとすることが
好ましく、０．３〜１５μｍとすることがより好まし
く、０．５〜１０μｍとすることが特に好ましい。ま
た、本発明における感光性樹脂組成物層の粘度は、後述
するロール状の感光性エレメントとした場合に、感光性
エレメントの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すこと
を１カ月以上防止する点及び感光性エレメントを切断す
る際に、感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き
起こされる露光不良や現像残り等を防止する点から、３
０℃において、１５〜１００ＭＰａ・ｓであることが好
ましく、２０〜９０ＭＰａ・ｓであることがより好まし
く、２５〜８０ＭＰａ・ｓであることが特に好ましい。
なお、粘度は、直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの感光性樹脂組
成物試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６X
１０^-2Ｎの荷重を加えて厚さの変化速度を測定し、この
変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した
値である。

【００３４】本発明の拡散反射下地層形成用感光性エレ
メントは、感光性樹脂組成物層の上に、さらにカバーフ
ィルムが積層されていてもよい。

【００３５】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィル
ムが挙げられる。

【００３６】このようにして得られる拡散反射下地層形
成用感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管し、あ
るいは使用できる。

【００３７】以下に本発明の反射型液晶表示装置用拡散
反射板製造方法の一例を説明する。〔（I）基板上に、
凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹
脂組成物の層を積層してなる拡散反射下地層形成用感光
性エレメントを積層する工程〕本発明で使用される基板
は、特に制限はなく、例えば、セラミック板、プラスチ
ック板、ガラス板等が挙げられる。この基板上には、絶
縁層、電極、TFT等が設けられていてもよい。

【００３８】本発明において、基板上に、前記拡散反射
下地層形成用感光性エレメントを積層する方法として
は、感光性樹脂組成物層にカバーフィルムが接して存在
しているときは、そのカバーフィルムを除去後、基板上
に感光性樹脂組成物層が接するように、圧着ロールで圧
着させること等により行うことができる。

【００３９】圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱
手段を備えたものであってもよく、加熱圧着する場合の
加熱温度は、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２
０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０
℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１０℃
未満では、感光性樹脂組成物層と基板との密着性が低下
する傾向があり、１８０℃を超えると、感光性樹脂組成
物層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解する傾向があ
る。

【００４０】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１X１０⁵Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５X１
０²〜５X１０⁴Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５X１
０²〜４X１０⁴Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。この
圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、感光性樹脂組成物層
と基板との密着性が低下する傾向があり、１X１０⁵Ｎ／
ｍを超えると、基板が破壊される傾向がある。

【００４１】拡散反射下地層形成用感光性エレメントを
前記のように加熱すれば、基板を予熱処理することは必
要ではないが、感光性樹脂組成物層と基板との密着性を
さらに向上させる点から、基板を予熱処理することが好
ましい。この時の予熱温度は、３０〜１８０℃とするこ
とが好ましい。このようにして、本発明の拡散反射下地
層形成用感光性エレメントの感光性樹脂組成物層を基板
上に積層することができる。

【００４２】また、本発明において、拡散反射下地層と
しての感光性樹脂組成物層を基板上に積層するための他
の方法としては、（I'）基板上に、前記感光性樹脂組成
物の層を形成した後、凹凸形状面を有する仮支持体を凹
凸形状面が感光性樹脂組成物の層に接するように積層す
る工程等が挙げられる。基板上に前記感光性樹脂組成物
の層を形成する方法としては、前記拡散反射下地層形成
用感光性エレメントにおいて、凹凸形状面を有する前記
仮支持体の凹凸形状面上に、公知の塗布方法を用いて前
記感光性樹脂組成物の層を形成する場合と同様の方法
や、公知の塗布方法を用いて前記ベースフィルム上に感
光性樹脂組成物の層を形成した後、基板上に感光性樹脂
組成物層が接するように、前記圧着ロールを用いて圧着
する方法等が挙げられる。さらに、凹凸形状面を有する
仮支持体を凹凸形状面が感光性樹脂組成物の層に接する
ように積層する方法としては、基板上に、前記拡散反射
下地層形成用感光性エレメントを積層する方法と同様に
前記圧着ロールを用いて圧着する方法等が挙げられる。

【００４３】〔（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を
像的に照射する工程〕本発明において、感光性樹脂組成
物層に活性光線を像的に照射する方法としては、基板上
に積層された前記感光性樹脂組成物層にフォトマスクを
介して、公知の活性光線を照射する方法等が挙げられ
る。この時、感光性樹脂組成物層の上に前記した凹凸形
状面を有する仮支持体が存在する場合には、この仮支持
体も介して活性光線が照射されることとなる。また、本
発明における活性光線としては、公知の活性光源が使用
でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に
放射するものであれば特に制限されない。

【００４４】〔（III）凹凸形状面を有する仮支持体を
はく離して除去する工程〕本発明において、感光性樹脂
組成物層に接している凹凸形状面を有する仮支持体をは
く離して除去する方法としては、前記仮支持体に粘着テ
ープを接着したり、鉤型の治具等を用いて、物理的に前
記仮支持体を剥離する方法等が挙げられる。また、作業
性向上を目的に、静電気、吸引力などの力を利用して、
前記仮支持体を物理的に剥離する方法等も挙げられる。

【００４５】〔（IV）現像により感光性樹脂組成物層を
選択的に除去してパターンを形成する工程〕本発明にお
ける現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、
有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸
漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法によ
り現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中
でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液が好まし
いものとして挙げられる。

【００４６】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テト
ラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられ
る。現像温度及び時間は、本発明における感光性樹脂組
成物層の現像性に合わせて調整することができる。ま
た、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像
を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させること
ができる。また、現像後、光硬化後の感光性樹脂組成物
層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸
又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、
ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処
理（中和処理）することができる。さらに、酸処理（中
和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。

【００４７】〔（V）パターンを形成した感光性樹脂組
成物層に活性光線を照射する工程〕本発明において、パ
ターンを形成した感光性樹脂組成物層表面に形成された
凹凸形状を高温下で維持すること、高温高湿下で基板密
着性を向上させること、及び耐薬品性を向上させること
等を目的に、パターンを形成した感光性樹脂組成物層に
活性光線を照射する工程を行うことができる。本発明に
おいて、パターンを形成した感光性樹脂組成物層に活性
光線を照射する方法としては、基板上にパターンが形成
された感光性樹脂組成物層に公知の活性光線が有効に照
射される方法であれば特に制限されない。また、本発明
における活性光線としては、前記（II）の工程で使用で
きる公知の活性光源が挙げられ、紫外線等を有効に放射
するものであれば特に制限されない。この時の、活性光
線の照射量は、通常、１Ｘ１０²〜１Ｘ１０⁵J／m²であ
り、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光
線照射量が、１Ｘ１０²J／m²未満では、効果が不十分と
なる傾向があり、１Ｘ１０⁵J／m²を超えると、感光性樹
脂組成物層が変色する傾向がある。

【００４８】〔（VI）パターンを形成した感光性樹脂組
成物層を加熱する工程〕本発明において、パターンを形
成した感光性樹脂組成物層を加熱する方法としては、熱
風放射、赤外線照射加熱等の公知の方法が挙げられ、基
板上にパターンが形成された感光性樹脂組成物層が有効
に加熱される方法であれば特に制限されない。加熱時の
温度は、１４０〜３００℃とすることが好ましく、１５
０〜２９０℃とすることがより好ましく、１６０〜２８
０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１４
０℃未満では、効果が不十分となる傾向があり、３００
℃を超えると、感光性樹脂組成物層の構成成分が熱分解
する傾向がある。

【００４９】以上に挙げた方法により、所望の凹凸形状
面を有する拡散反射下地層を形成することができる。ま
た、本発明における反射型液晶表示装置用拡散反射板
は、前記拡散反射下地層に反射膜を形成することにより
得られる。前記拡散反射下地層に反射膜を形成する方法
としては、公知の方法が使用でき、例えば、スパッタリ
ング法、蒸着法等により、Ag、Al等の金属膜を形成する
方法等が挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物は、反
射型液晶表示装置用拡散反射板の用途に限定されるもの
ではなく、例えば、プリント配線板などの導体回路形成
用レジスト、プラズマディスプレイパネルにおける各種
部材形成用レジスト等の用途にも好適に使用することが
できる。この時、本発明の感光性樹脂組成物をポリエチ
レンテレフタレートフィルム等の支持体上に形成した感
光性エレメントとして使用することもできる。

【００５０】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれに制限されるものではない。

【００５１】製造例１ 〔バインダポリマー溶液（ｂ−１）の作製〕撹拌機、還
流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラス
コに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で
８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちなが
ら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。

【００５２】（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹
拌を続け、重量平均分子量が約３０，０００のバインダ
ポリマーの溶液（固形分４０．６重量％）（ｂ−１）を
得た。

【００５３】

【表１】

【００５４】製造例２ 〔バインダポリマー溶液（ｂ−２）の作製〕撹拌機、還
流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラス
コに、表２に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で
８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちなが
ら、表２に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。
（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続けた
後、表２に示す（３）を添加した。（３）を添加後、反
応系を１００℃に昇温し、０．５時間かけて表２に示す
（４）を滴下した。（４）の滴下後、１００℃で２０時
間撹拌を続けた後、室温（２５℃）に冷却して、重量平
均分子量が約３０，０００のフィルム性付与ポリマー溶
液（固形分３６．０重量％、エチレン性不飽和基濃度
６．３Ｘ１０^-４モル／ｇ）（ｂ−２）を得た。

【００５５】

【表２】

【００５６】実施例１ 〔シリル基含有光重合性不飽和化合物（ａ−１）の作
製〕撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計
を備えたフラスコに、表３に示す（１）を仕込み、乾燥
窒素ガス雰囲気下で、反応温度を３０℃±２℃に保ちな
がら、表３に示す（２）を２時間かけて均一に滴下し
た。

【００５７】（２）の滴下後、３０℃±２℃で２時間撹
拌を続け、さらに表３に示す（３）を滴下して、３０℃
±２℃で０．５時間撹拌し、シリル基含有光重合性不飽
和化合物（ａ−１）を得た。

【００５８】

【表３】

【００５９】〔感光性樹脂組成物溶液（V-１）の作製〕
表４に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感
光性樹脂組成物溶液（Ｖ-１）を作製した。

【表４】

【００６０】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（ｉ）の作製〕凹凸形状面を有する仮支持体としてサン
ドブラスト処理を施したポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを使用し、得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
１）を仮支持体の凹凸形状を有する面上にコンマコータ
ーを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機
で３分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物層を
形成した。得られた感光性樹脂組成物層の厚さは５μｍ
であった。次いで、得られた感光性樹脂組成物層の上
に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルム
を、カバーフィルムとして張り合わせて、拡散反射下地
層形成用感光性エレメント（ｉ）を作製した。

【００６１】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ｉ）のポリ
エチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス
基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネー
タ（日立化成工業株式会社製、商品名ＨＬＭ−１５００
型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度０．
５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４Ｘ１０⁵Ｐａ
（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍＸ横１０ｃｍの基板使用、
この時の線圧は９．８Ｘ１０³Ｎ／ｍ）の条件でラミネ
ートして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び仮
支持体が積層された基板を作製した。次いで、直径５μ
ｍの活性光線不透過部分を有するフォトマスクを用い、
縮小投影露光機（キヤノン株式会社製、ＦＰＡ-３００
０i）を使用して、露光量６Ｘ１０^２Ｊ／ｍ^２で、活性
光線を像的に照射した。

【００６２】次いで、仮支持体を引き剥がして除去した
後、０．５重量％の界面活性剤を含有した０．５重量％
水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、２５
℃で５０秒間スプレー現像して、感光性樹脂組成物層を
選択的に除去してホールパターンを形成した。得られた
ホールパターンを観察したところ、光硬化した感光性樹
脂組成物層が基板から剥がれることなく、直径５μｍの
ホールパターンが良好に形成されていた。

【００６３】現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材株式会社製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｘ１０
^４Ｊ／ｍ^２の紫外線照射を行った。次いで２５０℃の熱
風対流式乾燥機で３０分間加熱し、拡散反射下地層が形
成された基板を得た。得られた拡散反射下地層の表面を
観察したところ、サンドブラスト加工された凹凸を転写
した形状とほぼ同様の凹凸形状が維持されていた。前記
工程で得られた拡散反射下地層形成基板を、温度６０
℃、湿度９０％に保った恒温槽へ２４時間投入した後、
クロスカット試験（JIS-K５４００、１ｍｍ角碁盤目
法）を行ったところ、拡散反射下地層のはがれが一切な
く、良好な基板密着性であった。

【００６４】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞２５０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間加熱した前記
の拡散反射下地層形成基板に、Al膜（反射膜として）を
スパッタリング法により０．２μｍ積層して、反射型液
晶表示装置用拡散反射板を作製した。得られた反射型液
晶表示装置用拡散反射板は、拡散反射特性に優れた凹凸
形状面を維持しており、設計どおりの拡散反射特性が得
られた。また、拡散反射下地層とAl膜との界面を観察し
たところ、拡散反射下地層表面からのAl膜のはく離は全
く発生しておらず、良好な拡散反射板としての形態を保
持していた。

【００６５】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞前記の拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ｉ）
を前記と同様の方法でガラス基板にラミネートし、感光
性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製し
た後、ライン／スペースが５μｍ／５μｍのラインパタ
ーンフォトマスクを用い、縮小投影露光機（キヤノン株
式会社製、ＦＰＡ-３０００i）を使用して、露光量６Ｘ
１０^２Ｊ／ｍ^２で、活性光線を像的に照射した。次い
で、仮支持体を引き剥がして除去した後、０．５重量％
の界面活性剤を含有した０．５重量％水酸化テトラメチ
ルアンモニウム水溶液を用いて、２５℃で５０秒間スプ
レー現像して、感光性樹脂組成物層を選択的に除去して
ラインパターンを形成した。得られたラインパターンを
観察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板
から剥がれることなく、ライン／スペースが５μｍ／５
μｍのラインパターンが形成されており、良好な基板密
着性であった。

【００６６】実施例２ 〔シリル基含有光重合性不飽和化合物（ａ−２）の作
製〕撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計
を備えたフラスコに、表５に示す（１）を仕込み、乾燥
窒素ガス雰囲気下で、反応温度を３０℃±２℃に保ちな
がら、表５に示す（２）を２時間かけて均一に滴下し
た。

【００６７】（２）の滴下後、３０℃±２℃で２時間撹
拌を続け、さらに表５に示す（３）を滴下して、３０℃
±２℃で０．５時間撹拌し、５０mol％シリル基含有光
重合性不飽和化合物（ａ−２）を得た。

【００６８】

【表５】

【００６９】〔感光性樹脂組成物溶液（V-２）の作製〕
表６に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感
光性樹脂組成物溶液（Ｖ-２）を作製した。

【表６】

【００７０】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（ii）の作製〕実施例１の拡散反射下地層形成用感光性
エレメントの作製において、感光性樹脂組成物溶液（V
−１）をここで得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
２）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（ii）を得た。

【００７１】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例
１の拡散反射下地層形成基板の製造において、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（ｉ）を、ここで得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ii）に代え
た以外は、実施例１と同様に行い、ガラス基板上に、感
光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製
した後、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホール
パターンを形成した。得られたホールパターンを観察し
たところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から剥
がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好に
形成されていた。次いで、実施例１と同様の方法によ
り、拡散反射下地層が形成された基板を得た。得られた
拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラス
ト加工された凹凸を転写した形状とほぼ同様の凹凸形状
が維持されていた。また、実施例１と同様の方法で、得
られた拡散反射下地層形成基板のクロスカット試験を行
なったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良
好な基板密着性であった。

【００７２】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持してお
り、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散
反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射
下地層表面からのAl膜のはく離は全く発生しておらず、
良好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００７３】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞実施例１の感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価に
おいて、拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ｉ）
を、ここで得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ント（ii）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、ラ
インパターンを形成した。得られたラインパターンを観
察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板か
ら剥がれることなく、ライン／スペースが５μｍ／５μ
ｍのラインパターンが形成されており、良好な基板密着
性であった。

【００７４】実施例３ 〔シリル基含有光重合性不飽和化合物（ａ−３）の作
製〕撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計
を備えたフラスコに、表７に示す（１）を仕込み、乾燥
窒素ガス雰囲気下で、反応温度を３０℃±２℃に保ちな
がら、表７に示す（２）を２時間かけて均一に滴下し
た。

【００７５】（２）の滴下後、３０℃±２℃で２時間撹
拌を続け、さらに表７に示す（３）を滴下して、３０℃
±２℃で０．５時間撹拌し、シリル基含有光重合性不飽
和化合物（ａ−３）を得た。

【００７６】

【表７】

【００７７】〔感光性樹脂組成物溶液（V-３）の作製〕
表８に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感
光性樹脂組成物溶液（V-３）を作製した。

【表８】

【００７８】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（iii）の作製〕実施例１の拡散反射下地層形成用感光
性エレメントの作製において、感光性樹脂組成物溶液
（V−１）をここで得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
３）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（iii）を得た。

【００７９】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例
１の拡散反射下地層形成基板の製造において、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（ｉ）を、ここで得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（iii）に代
えた以外は、実施例１と同様に行い、ガラス基板上に、
感光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作
製した後、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホー
ルパターンを形成した。得られたホールパターンを観察
したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から
剥がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好
に形成されていた。次いで、実施例１と同様の方法によ
り、拡散反射下地層が形成された基板を得た。得られた
拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラス
ト加工された凹凸を転写した形状とほぼ同様の凹凸形状
が維持されていた。また、実施例１と同様の方法で、得
られた拡散反射下地層形成基板のクロスカット試験を行
なったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良
好な基板密着性であった。

【００８０】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持してお
り、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散
反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射
下地層表面からのAl膜のはく離は全く発生しておらず、
良好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００８１】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞実施例１の感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価に
おいて、拡散反射下地層形成用感光性エレメント（i）
を、ここで得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ント（iii）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、
ラインパターンを形成した。得られたラインパターンを
観察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板
から剥がれることなく、ライン／スペースが５μｍ／５
μｍのラインパターンが形成されており、良好な基板密
着性であった。

【００８２】実施例４ 〔シリル基含有光重合性不飽和化合物（ａ−４）の作
製〕撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計
を備えたフラスコに、表９に示す（１）を仕込み、乾燥
窒素ガス雰囲気下で、反応温度を３０℃±２℃に保ちな
がら、表９に示す（２）を２時間かけて均一に滴下し
た。

【００８３】（２）の滴下後、３０℃±２℃で２時間撹
拌を続け、さらに表９に示す（３）を滴下して、３０℃
±２℃で０．５時間撹拌し、シリル基含有光重合性不飽
和化合物（ａ−４）を得た。

【００８４】

【表９】

【００８５】〔感光性樹脂組成物溶液（V-４）の作製〕
表１０に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、
感光性樹脂組成物溶液（V-４）を作製した。

【表１０】

【００８６】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（iv）の作製〕実施例１の拡散反射下地層形成用感光性
エレメントの作製において、感光性樹脂組成物溶液（V
−１）をここで得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
４）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（iv）を得た。

【００８７】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例
１の拡散反射下地層形成基板の製造において、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（i）を、ここで得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（iv）に代え
た以外は、実施例１と同様に行い、ガラス基板上に、感
光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製
した後、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホール
パターンを形成した。得られたホールパターンを観察し
たところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から剥
がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好に
形成されていた。次いで、実施例１と同様の方法によ
り、拡散反射下地層が形成された基板を得た。得られた
拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラス
ト加工された凹凸を転写した形状とほぼ同様の凹凸形状
が維持されていた。また、実施例１と同様の方法で、得
られた拡散反射下地層形成基板のクロスカット試験を行
なったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良
好な基板密着性であった。

【００８８】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持してお
り、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散
反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射
下地層表面からのAl膜のはく離は全く発生しておらず、
良好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００８９】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞実施例１の感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価に
おいて、拡散反射下地層形成用感光性エレメント（i）
を、ここで得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ント（iv）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、ラ
インパターンを形成した。得られたラインパターンを観
察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板か
ら剥がれることなく、ライン／スペースが５μｍ／５μ
ｍのラインパターンが形成されており、良好な基板密着
性であった。

【００９０】実施例５ 〔感光性樹脂組成物溶液（V-５）の作製〕表１１に示す
材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光性樹脂組
成物溶液（Ｖ-５）を作製した。

【表１１】

【００９１】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（v）の作製〕実施例１の拡散反射下地層形成用感光性
エレメントの作製において、感光性樹脂組成物溶液（V
−１）をここで得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
５）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（v）を得た。

【００９２】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例
１の拡散反射下地層形成基板の製造において、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（i）を、ここで得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（v）に代え
た以外は、実施例１と同様に行い、ガラス基板上に、感
光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製
した後、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホール
パターンを形成した。得られたホールパターンを観察し
たところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から剥
がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好に
形成されていた。次いで、実施例１と同様の方法によ
り、拡散反射下地層が形成された基板を得た。得られた
拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラス
ト加工された凹凸を転写した形状とほぼ同様の凹凸形状
が維持されていた。また、実施例１と同様の方法で、得
られた拡散反射下地層形成基板のクロスカット試験を行
なったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良
好な基板密着性であった。

【００９３】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持してお
り、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散
反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射
下地層表面からのAl膜のはく離は全く発生しておらず、
良好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００９４】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞実施例１の感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価に
おいて、拡散反射下地層形成用感光性エレメント（i）
を、ここで得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ント（v）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、ラ
インパターンを形成した。得られたラインパターンを観
察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板か
ら剥がれることなく、ライン／スペースが５μｍ／５μ
ｍのラインパターンが形成されており、良好な基板密着
性であった。

【００９５】実施例６ 〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例１における感
光性樹脂組成物溶液（V−１）を厚さ１ｍｍのガラス基
板上に、コンマコーターを用いて均一に塗布し、１００
℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、
感光性樹脂組成物層を形成した。得られた感光性樹脂組
成物層の厚さは５μｍであった。次いで、凹凸形状面を
有する仮支持体としてサンドブラスト処理を施したポリ
エチレンテレフタレートフィルムを使用し、基板上に形
成された感光性樹脂組成物層に仮支持体の凹凸形状の面
が接するようにラミネータ（日立化成工業株式会社製、
商品名ＨＬＭ−１５００型）を用いて、ロール温度１２
０℃、基板送り速度０．５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ
圧力）４Ｘ１０⁵Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍＸ横
１０ｃｍの基板を使用、この時の線圧は９．８Ｘ１０³
Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感
光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製
した。次いで、直径５μｍの活性光線不透過部分を有す
るフォトマスクを用い、縮小投影露光機（キヤノン株式
会社製、ＦＰＡ-３０００i）を使用して、露光量６Ｘ１
０^２Ｊ／ｍ^２で、活性光線を像的に照射した。

【００９６】次いで、仮支持体を引き剥がして除去した
後、０．５重量％の界面活性剤を含有した０．５重量％
水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、２５
℃で５０秒間スプレー現像して、感光性樹脂組成物層を
選択的に除去してホールパターンを形成した。得られた
ホールパターンを観察したところ、光硬化した感光性樹
脂組成物層が基板から剥がれることなく、直径５μｍの
ホールパターンが良好に形成されていた。

【００９７】現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材株式会社製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｘ１０
^４Ｊ／ｍ^２の紫外線照射を行った。次いで２５０℃の熱
風対流式乾燥機で３０分間加熱し、拡散反射下地層が形
成された基板を得た。得られた拡散反射下地層の表面を
観察したところ、サンドブラスト加工された凹凸を転写
した形状とほぼ同様の凹凸形状が維持されていた。前記
工程で得られた拡散反射下地層形成基板を、実施例１と
同様の方法で、クロスカット試験を行なったところ、拡
散反射下地層のはがれが一切なく、良好な基板密着性で
あった。

【００９８】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板は、拡散反射特性に優れた凹凸形状面を維持してお
り、設計どおりの拡散反射特性が得られた。また、拡散
反射下地層とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射
下地層表面からのAl膜のはく離は全く発生しておらず、
良好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００９９】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞前記と同様の方法で感光性樹脂組成物溶液（V−１）
をガラス基板上に、厚さ５μｍの感光性樹脂組成物層を
形成した後、感光性樹脂組成物層上に凹凸形状面を有す
る仮支持体をラミネートして、ガラス基板上に、感光性
樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製し
た。次いで、実施例１における感光性樹脂組成物層の現
像時密着性評価と同様の方法により、ライン／スペース
が５μｍ／５μｍのラインパターンを形成した。得られ
たラインパターンを観察したところ、光硬化した感光性
樹脂組成物層が基板から剥がれることなく、ライン／ス
ペースが５μｍ／５μｍのラインパターンが形成されて
おり、良好な基板密着性であった。

【０１００】比較例１ 〔感光性樹脂組成物溶液（V-６）の作製〕表１２に示す
材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光性樹脂組
成物溶液（V-６）を作製した。

【表１２】

【０１０１】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（vi）の製造〕実施例１の拡散反射下地層形成用感光性
エレメントの作製において、感光性樹脂組成物溶液（V
−１）をここで得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
６）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（vi）を得た。

【０１０２】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例
１の拡散反射下地層形成基板の製造において、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（i）を、ここで得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（vi）に代え
た以外は、実施例１と同様に行い、ガラス基板上に、感
光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作製
した後、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホール
パターンを形成した。得られたホールパターンを観察し
たところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から剥
がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好に
形成されていた。次いで、実施例１と同様の方法によ
り、拡散反射下地層が形成された基板を得た。得られた
拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラス
ト加工された凹凸が転写された形状は、若干変形して平
坦化していた。また、実施例１と同様の方法で、得られ
た拡散反射下地層形成基板のクロスカット試験を行なっ
たが、拡散反射下地層のはがれが一部発生し、基板密着
性が若干劣るものであった。

【０１０３】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板の拡散反射下地層とAl膜との界面を観察したとこ
ろ、拡散反射下地層表面からのAl膜のはく離は発生して
いなかったが、拡散反射板表面が若干平坦化しており、
拡散反射特性が低下していた。

【０１０４】＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価
＞実施例１の感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価に
おいて、拡散反射下地層形成用感光性エレメント（i）
を、ここで得られた拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ント（vi）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、ラ
インパターンを形成した。得られたラインパターンを観
察したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板か
ら剥がれることなく、ライン／スペースが５μｍ／５μ
ｍのラインパターンは、ガラス基板から剥離しており、
基板密着性は劣るものであった。

【０１０５】比較例２ 〔感光性樹脂組成物溶液（V-７）の作製〕表１３に示す
材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光性樹脂組
成物溶液（V-７）を作製した。

【表１３】

【０１０６】〔拡散反射下地層形成用感光性エレメント
（vii）の製造〕実施例１の拡散反射下地層形成用感光
性エレメントの作製において、感光性樹脂組成物溶液
（V−１）をここで得られた感光性樹脂組成物溶液（V−
７）に代えた以外は、実施例１と同様に行い、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（vii）を得た。

【０１０７】〔拡散反射下地層形成基板の製造〕実施例
１の拡散反射下地層形成基板の製造において、拡散反射
下地層形成用感光性エレメント（i）を、ここで得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（vii）に代
えた以外は、実施例１と同様に行い、ガラス基板上に、
感光性樹脂組成物層及び仮支持体が積層された基板を作
製した後、感光性樹脂組成物層を選択的に除去してホー
ルパターンを形成した。得られたホールパターンを観察
したところ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から
剥がれることなく、直径５μｍのホールパターンが良好
に形成されていた。次いで、実施例１と同様の方法によ
り、拡散反射下地層が形成された基板を得た。得られた
拡散反射下地層の表面を観察したところ、サンドブラス
ト加工された凹凸が転写された形状とほぼ同様の凹凸形
状が維持されていた。また、実施例１と同様の方法で、
得られた拡散反射下地層形成基板のクロスカット試験を
行なったが、拡散反射下地層のはがれが一部発生し、基
板密着性が若干劣るものであった。

【０１０８】＜反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造
＞得られた拡散反射下地層形成基板に、実施例１と同様
にして、Al膜を積層して、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を作製した。得られた反射型液晶表示装置用拡散反
射板の拡散反射下地層とAl膜との界面を観察したとこ
ろ、拡散反射下地層表面からのAl膜のはく離は発生して
おらず、良好な拡散反射板としての形態を保持してい
た。 ＜感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価＞実施例１の
感光性樹脂組成物層の現像時密着性評価において、拡散
反射下地層形成用感光性エレメント（i）を、ここで得
られた拡散反射下地層形成用感光性エレメント（vii）
に代えた以外は、実施例１と同様に行い、ラインパター
ンを形成した。得られたラインパターンを観察したとこ
ろ、光硬化した感光性樹脂組成物層が基板から剥がれる
ことなく、ライン／スペースが５μｍ／５μｍのライン
パターンは、ガラス基板から剥離しており、基板密着性
は劣るものであった。

【０１０９】

【発明の効果】請求項１〜３及び７記載のシリル基含有
光重合性不飽和化合物及び請求項４記載の感光性樹脂組
成物は、拡散反射下地層において、光を拡散反射し得る
凹凸面の高温下での形状維持性が優れ、かつ高温高湿下
及びフォトリソグラフィーにおける拡散反射下地層の基
板密着性に優れることで、反射型液晶表示装置用拡散反
射板を歩留まり良く製造できるものである。請求項５記
載の拡散反射下地層形成用感光性エレメントは、前記の
効果に加えて、さらに優れた作業性で拡散反射板及び反
射型液晶表示装置を製造できるものである。請求項６記
載の反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法は、前
記の効果に加えて、拡散反射板及び反射型液晶表示装置
の製造において、さらに低コスト化に寄与し得るもので
ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｃ ４Ｊ０１１ 5/08 5/08 Ａ ４Ｊ０２６ Ｃ ４Ｊ１００ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ ５１３ ５１３ 7/075 ５０１ 7/075 ５０１ 7/09 7/09 Ｆターム(参考） 2H025 AB11 AB14 AC01 AD01 BC13 BC42 BC50 BC66 BC83 DA20 2H042 BA04 BA15 BA20 DA02 DA11 DB00 DC02 DC08 DE00 2H091 FA14Z FB02 LA30 4H006 AA01 AB46 AB92 4H049 VN01 VQ44 VR21 VR43 VU20 VU29 4J011 AA05 AC04 BA04 CC04 CC10 PA65 PA66 PA68 PA69 PA74 PA76 PB38 PB39 QA14 QA25 QA43 SA05 SA22 SA25 SA26 SA32 SA34 SA54 SA62 SA63 SA78 UA01 VA01 WA01 4J026 AA17 AA25 AA38 AA43 AA44 AA45 AA49 AA50 AA61 AA68 AC23 AC24 BA28 BA39 BA43 BB01 BB02 DB06 DB36 FA05 GA06 4J100 AL66P BA38P BA77P CA01 CA03 JA38

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 １分子中に少なくとも２個のエチレン性
   不飽和基を有し、さらに加水分解性基含有シリル基を少
   なくとも１個有する（a）シリル基含有光重合性不飽和
   化合物。
2. 【請求項２】 １分子中に少なくとも２個のエチレン性
   不飽和基を有し、さらに加水分解性基含有シリル基を少
   なくとも１個有する化合物であって、さらにウレタン結
   合を有する請求項１に記載の（a）シリル基含有光重合
   性不飽和化合物。
3. 【請求項３】 （Ａ）１分子中に少なくとも１個の水酸
   基及び少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光
   重合性不飽和化合物の水酸基に対して、（Ｂ）１分子中
   に１個のイソシアネート基を有し、さらに加水分解性基
   含有シリル基を少なくとも１個有する有機ケイ素化合物
   のイソシアネート基を反応させて得られる請求項１に記
   載の（a）シリル基含有光重合性不飽和化合物。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載の(a)シリル基含有光重合性不飽和化合物、(b)バイン
   ダポリマー、(c)少なくとも１個のエチレン性不飽和基
   を有する光重合性不飽和化合物、(d)光重合開始剤を含
   有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状
   面上に、請求項４に記載の感光性樹脂組成物の層を有す
   る拡散反射下地層形成用感光性エレメント。
6. 【請求項６】 （Ｉ）基板上に、請求項５に記載の拡散
   反射下地層形成用感光性エレメントを積層する工程、
   （II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する
   工程、（III）凹凸形状面を有する仮支持体をはく離し
   て除去する工程、（IV）現像により感光性樹脂組成物層
   を選択的に除去してパターンを形成する工程、（V）パ
   ターンを形成した感光性樹脂組成物層に活性光線を照射
   する工程、（VI）パターンを形成した感光性樹脂組成物
   層を加熱する工程により、所望の凹凸形状面を有する拡
   散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射
   膜を形成することを特徴とする反射型液晶表示装置用拡
   散反射板の製造方法。
7. 【請求項７】 (Ａ)成分が、下記一般式〔１〕で表され
   る光重合性不飽和化合物、（Ｂ）成分が、下記一般式
   〔２〕で表される有機ケイ素化合物である請求項３に記
   載の（a）シリル基含有光重合性不飽和化合物。 【化１】 （一般式〔１〕中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立に水素
   原子又はメチル基を示し、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立
   に炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキ
   レンオキシド基を示し、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶が各々複数個
   の場合には、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々同一でも異なって
   いてもよく、ｋ、ｌ及びｍは各々独立に０〜１０の整数
   である） 【化２】 （一般式〔２〕中、Ｒ⁷は炭素数１〜８のアルキレン
   基、炭素数１〜８のアルキレンオキシド基を示し、Ｒ⁷
   が複数個の場合には、Ｒ⁷は同一でも異なっていてもよ
   く、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立に炭素数１〜８のアル
   キル基を示し、ｎは１〜１０の整数である）