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JP2003300950A - Method for producing sulfone compound of sulfoxide compound and catalyst therefor - Google Patents

Method for producing sulfone compound of sulfoxide compound and catalyst therefor

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JP2003300950A
JP2003300950A JP2002345107A JP2002345107A JP2003300950A JP 2003300950 A JP2003300950 A JP 2003300950A JP 2002345107 A JP2002345107 A JP 2002345107A JP 2002345107 A JP2002345107 A JP 2002345107A JP 2003300950 A JP2003300950 A JP 2003300950A
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JP
Japan
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group
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sulfoxide
sulfone
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Jun Oguma
潤 小熊
Koju Hagitani
弘寿 萩谷
Takashi Miyawaki
崇 宮脇
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for more industrially and advantageously producing a sulfone compound or a sulfoxide compound by reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide. <P>SOLUTION: The method for producing the sulfone compound or sulfoxide compound is carried out as follows. The sulfide compound is reacted with the hydrogen peroxide in the presence of a metal oxide catalyst prepared by reacting at least one kind selected from the group consisting of tungsten metal, molybdenum metal, a tungsten compound composed of tungsten and a group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element except oxygen and molybdenum, a molybdenum compound composed of the group IIIb element, the group IVb element, the group Vb element or the group VIb element except oxygen with the hydrogen peroxide. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスルホン化合物また
はスルホキシド化合物の製造方法とその触媒に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound and a catalyst therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】スルホン化合物またはスルホキシド化合
物は、各種化学製品およびその合成中間体等として重要
な化合物であり(例えば非特許文献1参照。)、その製
造方法として、スルフィド化合物と過酸化水素とを反応
させる方法が知られている。過酸化水素は安価で、取扱
いが容易で、しかも反応後には無害な水となる、クリー
ンで優れた酸化剤として近年注目を集めており、工業的
な観点からも、スルフィド化合物と過酸化水素を反応さ
せて、スルホン化合物またはスルホキシド化合物を製造
する方法は重要である。
2. Description of the Related Art Sulfone compounds or sulfoxide compounds are important compounds as various chemical products and synthetic intermediates thereof (see, for example, Non-Patent Document 1), and as a method for producing them, a sulfide compound and hydrogen peroxide are used. A method of reacting is known. Hydrogen peroxide has recently been attracting attention as a clean and excellent oxidizing agent that is cheap, easy to handle, and becomes harmless water after the reaction. The method of reacting to produce a sulfone compound or a sulfoxide compound is important.

【0003】スルフィド化合物と過酸化水素を反応させ
て、スルホン化合物またはスルホキシド化合物を製造す
る方法としては、例えばタングステン酸ナトリウム触媒
を用いる方法が知られている(例えば非特許文献2参
照。)。しかしながら、反応性の比較的高いスルフィド
化合物である2−フェニルメルカプトエタノールを用い
る方法であり、反応性の低いスルフィド化合物に、かか
る方法を適用しても、ほとんど反応が進行しないという
問題があった。そのため、タングステン酸ナトリウム触
媒に加え、第四級アンモニウム硫酸水素塩およびフェニ
ルホスホン酸を用いる方法(例えば非特許文献1参
照。)が開発されているが、高価なフェニルホスホン酸
を用いている点で、必ずしも工業的に十分満足し得る方
法とは言えなかった。また、セチルピリジニウム タン
グストリン酸触媒を用いる方法(例えば非特許文献3参
照。)やメチルレニウムトリオキシド触媒を用いる方法
(例えば非特許文献4参照。)が開発されているが、前
者の方法は、触媒調製が煩雑な上に、反応溶媒として、
環境面、労働安全衛生面で問題のあるクロロホルムを用
いているという点で、後者の方法は、触媒が高価である
という点で、いずれも工業的な観点からは、必ずしも十
分満足し得るものではなかった。
As a method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound by reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide, for example, a method using a sodium tungstate catalyst is known (see Non-Patent Document 2, for example). However, the method uses 2-phenylmercaptoethanol, which is a sulfide compound having a relatively high reactivity, and there is a problem that the reaction hardly progresses even if such a method is applied to a sulfide compound having a low reactivity. Therefore, a method using a quaternary ammonium hydrogensulfate and phenylphosphonic acid in addition to the sodium tungstate catalyst (see, for example, Non-Patent Document 1) has been developed, but an expensive phenylphosphonic acid is used. However, it was not always a method that was industrially satisfactory. Further, a method using a cetylpyridinium tungstophosphoric acid catalyst (for example, see Non-Patent Document 3) and a method using a methylrhenium trioxide catalyst (see, for example, Non-Patent Document 4) have been developed. In addition to complicated catalyst preparation, as a reaction solvent,
The latter method is not necessarily satisfactory from an industrial point of view, since it uses chloroform, which is problematic in terms of environment and occupational safety and health, and the catalyst is expensive. There wasn't.

【0004】[0004]

【非特許文献1】Tetrahedoron,57,2
469(2001)
[Non-Patent Document 1] Tetrahedoron, 57 , 2
469 (2001)

【非特許文献2】J.Org.Chem.,28,11
40(1963)
[Non-Patent Document 2] J. Org. Chem. , 28 , 11
40 (1963)

【非特許文献3】Chem.Lett.,1(199
4)
[Non-Patent Document 3] Chem. Lett. , 1 (199
4)

【非特許文献4】Bull.Chem.Soc.Jp
n.,69,2955(1996)
[Non-Patent Document 4] Bull. Chem. Soc. Jp
n. , 69 , 2955 (1996)

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、本発明者らは、スルフィド化合物と過酸化水素とを
反応させて、スルホン化合物またはスルホキシド化合物
をより工業的に有利に製造する方法を開発すべく鋭意検
討したところ、入手が容易なタングステン金属、モリブ
デン金属、ホウ化タングステン等のタングステン化合物
および/またはホウ化モリブデン等のモリブデン化合物
と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物が、スル
フィド化合物と過酸化水素の反応において、良好な触媒
活性を示し、該金属酸化物触媒の存在下に、スルフィド
化合物と過酸化水素とを反応させることにより、スルホ
ン化合物またはスルホキシド化合物が得られること、さ
らに過酸化水素の使用量をコントロールすることによっ
て、そのいずれか一方を選択的に製造することができる
ことを見出し、本発明に至った。
Under the circumstances, the present inventors have made a method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound industrially advantageously by reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide. As a result of extensive studies to develop a metal oxide, a metal oxide obtained by reacting readily available tungsten metal, molybdenum metal, a tungsten compound such as tungsten boride and / or a molybdenum compound such as molybdenum boride with hydrogen peroxide is found. , Showing good catalytic activity in the reaction between a sulfide compound and hydrogen peroxide, and obtaining a sulfone compound or a sulfoxide compound by reacting the sulfide compound with hydrogen peroxide in the presence of the metal oxide catalyst. By controlling the amount of hydrogen peroxide used. Found that it is possible to selectively produce, we have completed the present invention.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、タン
グステン金属、モリブデン金属、タングステンと第IIIb
族元素、第IVb族元素、第Vb族元素または酸素を除く第V
Ib族元素とからなるタングステン化合物およびモリブデ
ンと第IIIb族元素、第IVb族元素、第Vb族元素または酸
素を除く第VIb族元素とからなるモリブデン化合物から
なる群から選ばれる少なくとも一種と過酸化水素とを反
応せしめてなる金属酸化物触媒の存在下に、スルフィド
化合物と過酸化水素とを反応させることを特徴とするス
ルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方法を提
供するものである。
That is, the present invention relates to tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and IIIb.
Group V element, Group IVb element, Group Vb element or V excluding oxygen
At least one selected from the group consisting of a tungsten compound composed of an Ib group element and molybdenum and a molybdenum compound composed of a molybdenum group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element other than oxygen, and hydrogen peroxide. The present invention provides a method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound, which comprises reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide in the presence of a metal oxide catalyst obtained by reacting with.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】まず本発明に用いられる触媒につ
いて説明する。本発明には、タングステン金属、モリブ
デン金属、タングステンと第IIIb族元素、第IVb族元
素、第Vb族元素または酸素を除く第VIb族元素とからな
るタングステン化合物およびモリブデンと第IIIb族元
素、第IVb族元素、第Vb族元素または酸素を除く第VIb族
元素とからなるモリブデン化合物からなる群から選ばれ
る少なくとも一種(以下、金属化合物と略記する。)と
過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物触媒が用い
られる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The catalyst used in the present invention will be described first. The present invention includes a tungsten compound containing tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and a Group IIIb element, a Group IVb element, a Group Vb element or a Group VIb element except oxygen, and molybdenum and a Group IIIb element, IVb. A metal oxide formed by reacting at least one selected from the group consisting of molybdenum compounds consisting of Group V elements, Group Vb elements or Group VIb elements excluding oxygen (hereinafter abbreviated as metal compound) with hydrogen peroxide. Physical catalyst is used.

【0008】タングステンと第IIIb族元素とからなるタ
ングステン化合物としては、例えばホウ化タングステン
等が、タングステンと第IVb族元素とからなるタングス
テン化合物としては、例えば炭化タングステン、ケイ化
タングステン等が、タングステンと第Vb族元素とからな
るタングステン化合物としては、例えばチッ化タングス
テン、リン化タングステン等が、タングステンと酸素を
除く第VIb族元素とからなるタングステン化合物として
は、例えば硫化タングステン等がそれぞれ挙げられる。
Examples of the tungsten compound composed of tungsten and a Group IIIb element include tungsten boride and the like, and examples of the tungsten compound composed of tungsten and a Group IVb element include tungsten carbide and tungsten silicide. Examples of the tungsten compound including the group Vb element include tungsten nitride and tungsten phosphide, and examples of the tungsten compound including the tungsten and the group VIb element excluding oxygen include tungsten sulfide.

【0009】モリブデンと第IIIb族元素とからなるモリ
ブデン化合物としては、例えばホウ化モリブデン等が、
モリブデンと第IVb族元素とからなるモリブデン化合物
としては、例えば炭化モリブデン、ケイ化モリブデン等
が、モリブデンと第Vb族元素とからなるモリブデン化合
物としては、例えばチッ化モリブデン、リン化モリブデ
ン等が、モリブデンと酸素を除く第VIb族元素とからな
るモリブデン化合物としては、例えば硫化モリブデン等
がそれぞれ挙げられる。
Examples of molybdenum compounds composed of molybdenum and Group IIIb elements include molybdenum boride and the like.
Examples of molybdenum compounds containing molybdenum and Group IVb elements include molybdenum carbide and molybdenum silicide, and examples of molybdenum compounds containing molybdenum and Group Vb elements include molybdenum nitride and molybdenum phosphide. Examples of the molybdenum compound composed of a group VIb element excluding oxygen and oxygen include molybdenum sulfide and the like.

【0010】かかる金属化合物のなかでも、タングステ
ン金属、ホウ化タングステン、硫化タングステン、モリ
ブデン金属が好ましく、タングステン金属、硫化タング
ステンが特に好ましい。また、かかる金属化合物はそれ
ぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いて
もよい。
Among such metal compounds, tungsten metal, tungsten boride, tungsten sulfide and molybdenum metal are preferable, and tungsten metal and tungsten sulfide are particularly preferable. Further, such metal compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0011】かかる金属化合物と反応せしめる過酸化水
素としては、通常水溶液が用いられる。もちろん過酸化
水素の有機溶媒溶液を用いてもよいが、取扱いが容易と
いう点で、過酸化水素水を用いることが好ましい。過酸
化水素水もしくは過酸化水素の有機溶媒溶液中の過酸化
水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を
考慮すると、実用的には1〜60重量%である。過酸化
水素水を用いる場合は、通常市販のものをそのままもし
くは必要に応じて希釈、濃縮等により濃度調整を行なっ
たものを用いればよい。また過酸化水素の有機溶媒溶液
を用いる場合は、例えば過酸化水素水を有機溶媒で抽出
処理する、もしくは有機溶媒の存在下に過酸化水素水を
蒸留処理する等の手段により、調製したものを用いれば
よい。
An aqueous solution is usually used as the hydrogen peroxide reacted with the metal compound. Of course, an organic solvent solution of hydrogen peroxide may be used, but hydrogen peroxide solution is preferably used from the viewpoint of easy handling. The concentration of hydrogen peroxide in the hydrogen peroxide solution or the solution of hydrogen peroxide in the organic solvent is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volume efficiency, safety and the like. When hydrogen peroxide water is used, a commercially available product may be used as it is, or one whose concentration has been adjusted by diluting, concentrating, etc., if necessary. When an organic solvent solution of hydrogen peroxide is used, for example, a solution prepared by a method such as extracting hydrogen peroxide solution with an organic solvent or distilling hydrogen peroxide solution in the presence of an organic solvent is used. You can use it.

【0012】金属化合物と反応せしめる過酸化水素の使
用量は、金属化合物に対して、通常3モル倍以上、好ま
しくは5モル倍以上であり、その上限は特にない。
The amount of hydrogen peroxide used to react with the metal compound is usually 3 mol times or more, preferably 5 mol times or more, with respect to the metal compound, and there is no particular upper limit.

【0013】金属化合物と過酸化水素との反応は、通常
水溶液中で実施される。もちろん例えばジエチルエーテ
ル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステ
ル系溶媒、例えばメタノール、エタノール、tert−
ブタノール等のアルコール系溶媒、例えばアセトニトリ
ル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒等の有機溶媒
中または該有機溶媒と水との混合溶媒中で実施してもよ
い。
The reaction between the metal compound and hydrogen peroxide is usually carried out in an aqueous solution. Of course, for example, ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran, etc., ester solvents such as ethyl acetate, eg, methanol, ethanol, tert-
It may be carried out in an organic solvent such as an alcohol solvent such as butanol, a nitrile solvent such as acetonitrile or propionitrile, or a mixed solvent of the organic solvent and water.

【0014】金属化合物と過酸化水素との反応は、通常
その両者を混合、接触させることにより行われ、金属化
合物と過酸化水素との接触効率をより向上させるため、
金属酸化物調製液中で、金属化合物が十分分散するよう
攪拌しながら反応を行うことが好ましい。また金属化合
物と過酸化水素との接触効率を高め、金属酸化物調製時
の制御をより容易にするという点で、例えば粉末状の金
属化合物等粒径の小さな金属化合物を用いることが好ま
しい。
The reaction between the metal compound and hydrogen peroxide is usually carried out by mixing and contacting both of them, in order to further improve the contact efficiency between the metal compound and hydrogen peroxide,
It is preferable to carry out the reaction in the metal oxide preparation liquid while stirring so that the metal compound is sufficiently dispersed. In addition, it is preferable to use a metal compound having a small particle size, such as a powdery metal compound, from the viewpoint of increasing the contact efficiency between the metal compound and hydrogen peroxide and facilitating the control during preparation of the metal oxide.

【0015】金属酸化物調製時の調製温度は、通常−1
0〜100℃である。
The temperature for preparing the metal oxide is usually -1.
It is 0 to 100 ° C.

【0016】金属化合物と過酸化水素とを、水中、有機
溶媒中もしくは有機溶媒と水との混合溶媒中で反応させ
ることにより、金属化合物の一部または全部が溶解し
て、金属酸化物を含む均一溶液もしくは懸濁液を調製す
ることができるが、該金属酸化物を、例えば濃縮処理等
により調製液から取り出して、触媒として用いてもよい
し、該調製液をそのまま触媒として用いてもよい。
By reacting the metal compound with hydrogen peroxide in water, an organic solvent or a mixed solvent of an organic solvent and water, a part or all of the metal compound is dissolved to contain a metal oxide. Although a homogeneous solution or suspension can be prepared, the metal oxide may be taken out from the preparation liquid by, for example, concentration treatment and used as a catalyst, or the preparation liquid may be directly used as a catalyst. .

【0017】続いて、上記金属酸化物触媒の存在下に、
スルフィド化合物と過酸化水素とを反応させてスルホン
化合物またはスルホキシド化合物を製造方法する方法に
ついて説明する。
Then, in the presence of the above metal oxide catalyst,
A method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound by reacting a sulfide compound with hydrogen peroxide will be described.

【0018】本発明に用いられるスルフィド化合物とし
ては、硫黄原子に二つの置換基が結合したものであれ
ば、特に制限されない。
The sulfide compound used in the present invention is not particularly limited as long as it has two substituents bonded to a sulfur atom.

【0019】かかるスルフィド化合物としては、例えば
一般式(1) (式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なっ
て、置換されていてもよいアルキル基、置換されていて
もよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基
または置換されていてもよいアルケニル基を表わす。ま
た、R1とR2が結合して環構造の一部を形成していても
よい。)で示されるスルフィド化合物が挙げられる。
Examples of the sulfide compound include those represented by the general formula (1) (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or an optionally substituted group. It represents an alkenyl group, and R 1 and R 2 may combine to form a part of a ring structure).

【0020】前記一般式(1)で示されるスルフィド化
合物のうち、R1とR2が結合して環構造の一部を形成し
たスルフィド化合物としては、例えば一般式(2) (式中、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ同一または
相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル
基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されてい
てもよいアリール基、置換されていてもよいアリールオ
キシ基、置換されていてもよいアラルキル基、置換され
ていてもよいアラルキルオキシ基、置換されていてもよ
いアルケニル基、置換されていてもよいアリールアルケ
ニル基、置換されていてもよいアリールアルキニル基、
置換されていてもよいシリル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、置換されていてもよいアシル基、置換さ
れていてもよいアシルオキシ基、置換されていてもよい
アミド基、置換されていてもよいイミド基、カルボキシ
ル基または置換されていてもよいカルボアルコキシ基を
表わす。ここで、R3とR4、R4とR5またはR5とR6
結合して環構造の一部を形成してもよい。)で示される
スルフィド化合物が挙げられる。
Among the sulfide compounds represented by the general formula (1), examples of the sulfide compound in which R 1 and R 2 are bonded to each other to form a part of the ring structure include, for example, the general formula (2) (In the formula, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and each is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group or an optionally substituted group. Aryl group, optionally substituted aryloxy group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted aralkyloxy group, optionally substituted alkenyl group, optionally substituted arylalkenyl group An optionally substituted arylalkynyl group,
Optionally substituted silyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, optionally substituted acyl group, optionally substituted acyloxy group, optionally substituted amide group, optionally substituted Represents a good imido group, a carboxyl group or an optionally substituted carboalkoxy group. Here, R 3 and R 4 , R 4 and R 5, or R 5 and R 6 may combine to form a part of the ring structure. ).

【0021】また、前記一般式(2)で示されるスルフ
ィド化合物のうち、R3とR4およびR5とR6が結合して
環構造の一部を形成したスルフィド化合物としては、例
えば一般式(3) (式中、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およ
びR14はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置
換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい
アルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換
されていてもよいアリールオキシ基、置換されていても
よいアラルキル基、置換されていてもよいアラルキルオ
キシ基、置換されていてもよいアルケニル基、置換され
ていてもよいアリールアルケニル基、置換されていても
よいアリールアルキニル基、置換されていてもよいシリ
ル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換されて
いてもよいアシル基、置換されていてもよいアシルオキ
シ基、置換されていてもよいアミド基、置換されていて
もよいイミド基、カルボキシル基または置換されていて
もよいカルボアルコキシ基を表わす。ここで、R7
8、R8とR9、R9とR1 0、R11とR12、R12とR13
たはR13とR14が結合して環構造の一部を形成してもよ
い。)で示されるスルフィド化合物が挙げられる。
Among the sulfide compounds represented by the general formula (2), examples of the sulfide compound in which R 3 and R 4 and R 5 and R 6 are bonded to each other to form a part of the ring structure include (3) (In the formula, R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are the same or different and each is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or a substituted group. Optionally alkoxy group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aryloxy group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted aralkyloxy group, optionally substituted Alkenyl group, optionally substituted arylalkenyl group, optionally substituted arylalkynyl group, optionally substituted silyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, optionally substituted acyl group, Optionally substituted acyloxy group, optionally substituted amide group, optionally substituted imide group, carboxyl group or optionally substituted carbo group Represents an alkoxy group. Here, R 7 and R 8, R 8 and R 9, R 9 and R 1 0, R 11 and R 12, R 12 and R 13 or R 13 and R 14 are bonded ring structure May form a part of the).

【0022】置換されていてもよいアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘ
キシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチ
ルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、3,7−
ジメチルオクチル基、ラウリル基、シクロプロピル基、
2,2−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖
状または環状の炭素数1〜20のアルキル基およびこれ
らアルキル基の一つまたは二つ以上の水素原子が、例え
ばアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ
基、ハロゲン原子、アシル基、カルボアルコキシ基、カ
ルボアリールオキシ基、カルボアラルキルオキシ基、カ
ルボキシル基等の置換基で置換されたものが挙げられ
る。
The alkyl group which may be substituted includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group. Group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 3,7-
Dimethyloctyl group, lauryl group, cyclopropyl group,
A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a 2,2-dimethylcyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a menthyl group, and one or more of these alkyl groups Examples thereof include those in which a hydrogen atom is substituted with a substituent such as an alkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, a halogen atom, an acyl group, a carboalkoxy group, a carboaryloxy group, a carboaralkyloxy group, and a carboxyl group. .

【0023】アルコキシ基としては、例えばメトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキ
シ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、
n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オ
クチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノ
ニルオキシ基、n−デシルオキシ基、3,7−ジメチル
オクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、シクロプロピル
オキシ基、2,2−ジメチルシクロプロピルオキシ基、
シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メ
ンチルオキシ基等の炭素数1〜20のアルコキシ基が挙
げられる。
Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group,
n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, cyclopropyloxy Group, 2,2-dimethylcyclopropyloxy group,
Examples thereof include alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms such as cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group and menthyloxy group.

【0024】アリールオキシ基としては、例えばフェノ
キシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基
等の無置換のアリールオキシ基およびこれら無置換のア
リールオキシ基を構成する芳香環の一つまたは二つ以上
の水素原子が、前記アルキル基、前記アルコキシ基、ハ
ロゲン原子等の置換基で置換された、例えば4−メチル
フェノキシ基、4−エチルフェノキシ基、1,3,5−
トリメチルフェノキシ基、2−メトキシフェノキシ基、
ペンタフルオロフェノキシ基等の炭素数6〜60のアリ
ールオキシ基が挙げられる。
The aryloxy group is, for example, an unsubstituted aryloxy group such as a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group or a 2-naphthyloxy group, and one or two aromatic rings constituting these unsubstituted aryloxy groups. One or more hydrogen atoms are substituted with a substituent such as the alkyl group, the alkoxy group, or a halogen atom, for example, 4-methylphenoxy group, 4-ethylphenoxy group, 1,3,5-
Trimethylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group,
An aryloxy group having 6 to 60 carbon atoms such as a pentafluorophenoxy group can be mentioned.

【0025】アラルキルオキシ基としては、例えばベン
ジルオキシ基、2−フェニルエトキシ基、4−フェニル
ブトキシ基、5−フェニルペンチルオキシ基、6−フェ
ニルヘキシルオキシ基、7−フェニルヘプチルオキシ
基、8−フェニルオクチルオキシ基等の前記アルコキシ
基と無置換または置換アリール基とから構成される炭素
数7〜60のアラルキルオキシ基が挙げられる。
The aralkyloxy group includes, for example, benzyloxy group, 2-phenylethoxy group, 4-phenylbutoxy group, 5-phenylpentyloxy group, 6-phenylhexyloxy group, 7-phenylheptyloxy group, 8-phenyl. Examples thereof include an aralkyloxy group having 7 to 60 carbon atoms, which is composed of the above alkoxy group such as an octyloxy group and an unsubstituted or substituted aryl group.

【0026】ハロゲン原子としては、例えばフッ素原
子、塩素原子等が挙げられ、アシル基としては、例えば
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリ
ル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセ
チル基、ペンタフルオロベンゾイル基等の炭素数2〜2
0のアシル基が挙げられる。カルボアルコキシ基として
は、例えばカルボメトキシ基、カルボエトキシ基等のカ
ルボニル基と前記アルコキシ基とから構成される炭素数
2〜20のカルボアルコキシ基が挙げられ、カルボアリ
ールオキシ基としては、例えばカルボフェノキシ基等の
カルボニル基と前記アリールオキシ基とから構成される
炭素数7〜60のカルボアリールオキシ基が、カルボア
ラルキルオキシ基としては、例えばカルボベンジルオキ
シ基等のカルボニル基と前記アラルキルオキシ基とから
構成される炭素数8〜60のカルボアラルキルオキシ基
が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a pivaloyl group, a benzoyl group, a trifluoroacetyl group and a pentafluoro group. 2 to 2 carbon atoms such as benzoyl group
0 acyl group can be mentioned. Examples of the carboalkoxy group include a carboalkoxy group having a carbon number of 2 to 20 composed of a carbonyl group such as a carbomethoxy group and a carboethoxy group and the above alkoxy group. A carboaryloxy group having 7 to 60 carbon atoms, which is composed of a carbonyl group such as a group and the aryloxy group, and a carboaralkyloxy group includes, for example, a carbonyl group such as a carbobenzyloxy group and the above aralkyloxy group. Examples thereof include a carboaralkyloxy group having 8 to 60 carbon atoms.

【0027】かかる置換基で置換されたアルキル基の具
体例としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ト
リフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフ
ルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオ
ロオクチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
メトキシエチル基、カルボメトキシメチル基等が挙げら
れる。
Specific examples of the alkyl group substituted with such a substituent include fluoromethyl group, chloromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group. , Methoxymethyl group, ethoxymethyl group,
Examples thereof include a methoxyethyl group and a carbomethoxymethyl group.

【0028】置換されていてもよいアリール基として
は、例えばフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル
基、1−アントラセニル基、2−アントラセニル基、9
−アントラセニル基等およびこれらフェニル基等を構成
する芳香環の一つまたは二つ以上の水素原子が、前記置
換されていてもよいアルキル基、前記アリール基、後述
するアラルキル基、前記アルコキシ基、前記アリールオ
キシ基、前記アラルキルオキシ基、前記ハロゲン原子、
前記アシル基、アシルアミド基、ニトロ基、シアノ基、
カルボキシル基、前記カルボアルコキシ基等の置換基で
置換された炭素数6〜60のアリール基が挙げられる。
かかる置換基で置換されたアリール基の具体例として
は、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2
−エチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、
2,4,6−トリメチルフェニル基、2−メチル−4−
エチルフェニル基、4−デシルフェニル基、4−クロロ
フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、4−メトキシ
フェニル基、3−フェノキシフェニル基、2−ニトロフ
ェニル基、4−シアノフェニル基、3−カルボメトキシ
フェニル基等が挙げられる。
Examples of the optionally substituted aryl group include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 1-anthracenyl group, a 2-anthracenyl group and 9
One or more hydrogen atoms of the aromatic ring constituting the anthracenyl group and these phenyl groups and the like, the optionally substituted alkyl group, the aryl group, the aralkyl group described later, the alkoxy group, the An aryloxy group, the aralkyloxy group, the halogen atom,
The acyl group, acylamido group, nitro group, cyano group,
Examples thereof include an aryl group having 6 to 60 carbon atoms, which is substituted with a substituent such as a carboxyl group and the carboalkoxy group.
Specific examples of the aryl group substituted with such a substituent include 2-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2
-Ethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group,
2,4,6-trimethylphenyl group, 2-methyl-4-
Ethylphenyl group, 4-decylphenyl group, 4-chlorophenyl group, pentafluorophenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-phenoxyphenyl group, 2-nitrophenyl group, 4-cyanophenyl group, 3-carbomethoxyphenyl group Etc.

【0029】置換されていてもよいアラルキル基として
は、例えば前記置換されていてもよいアリール基と前記
置換されていてもよいアルキル基とから構成されるもの
が挙げられ、例えばベンジル基、4−クロロベンジル
基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、
3−フェノキシベンジル基、2,3,5,6−テトラフ
ルオロベンジル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−
4−メチルベンジル基、2,3,5,6−テトラフルオ
ロ−4−メトキシベンジル基、2,3,5,6−テトラ
フルオロ−4−メトキシメチルベンジル基、フェニルエ
チル基、フェニルブチル基、フェニルヘキシル基等が挙
げられる。
Examples of the optionally substituted aralkyl group include those which are composed of the optionally substituted aryl group and the optionally substituted alkyl group, and include, for example, benzyl group, 4- Chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group,
3-phenoxybenzyl group, 2,3,5,6-tetrafluorobenzyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-
4-methylbenzyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-methoxybenzyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-methoxymethylbenzyl group, phenylethyl group, phenylbutyl group, phenyl Hexyl group and the like can be mentioned.

【0030】置換されていてもよいアルコキシ基として
は、例えば前記置換されていてもよいアルキル基と酸素
原子とから構成されるものが挙げられる。具体的には、
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert
−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオ
キシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ
基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシル基、n
−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、3,7−ジメ
チルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオ
ロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオ
ロブトキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフ
ルオロオクチルオキシ基、メトキシメトキシ基、2−メ
トキシエトキシ基等が挙げられる。
Examples of the optionally substituted alkoxy group include those which are composed of the aforementioned optionally substituted alkyl group and oxygen atom. In particular,
Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert
-Butoxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyl group, n
-Nonyloxy group, n-decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, perfluorobutoxy group, perfluorohexyloxy group, perfluorooctyloxy group, methoxy Examples thereof include a methoxy group and a 2-methoxyethoxy group.

【0031】置換されていてもよいアリールオキシ基と
しては、例えば前記置換されていてもよいアリール基と
酸素原子とから構成されるものが挙げられる。具体的に
は、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチ
ルオキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−メチルフェ
ノキシ基、2−エチルフェノキシ基、2,4−ジメチル
フェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、
2−メチル−4−エチルフェノキシ基、4−デシルフェ
ノキシ基、4−クロロフェノキシ基、4−メトキシフェ
ノキシ基、3−フェノキシフェノキシ基、2−ニトロフ
ェノキシ基、4−シアノフェノキシ基、3−カルボメト
キシフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基等が挙
げられる。
Examples of the optionally substituted aryloxy group include those which are composed of the optionally substituted aryl group and an oxygen atom. Specifically, phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 2-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2-ethylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,4. 6-trimethylphenoxy group,
2-methyl-4-ethylphenoxy group, 4-decylphenoxy group, 4-chlorophenoxy group, 4-methoxyphenoxy group, 3-phenoxyphenoxy group, 2-nitrophenoxy group, 4-cyanophenoxy group, 3-carbomethoxy Examples thereof include a phenoxy group and a pentafluorophenoxy group.

【0032】置換されていてもよいアラルキルオキシ基
としては、例えば前記置換されていてもよいアラルキル
基と酸素原子とから構成されるものが挙げられる。具体
的には、ベンジルオキシ基、4−クロロベンジルオキシ
基、4−メチルベンジルオキシ基、4−メトキシベンジ
ルオキシ基、3−フェノキシベンジルオキシ基、2,
3,5,6−テトラフルオロベンジルオキシ基、2,
3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジルオキ
シ基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メトキシ
ベンジルオキシ基、2,3,5,6−テトラフルオロ−
4−メトキシメチルベンジルオキシ基、フェニルエトキ
シ基、フェニルブトキシ基、フェニルヘキシルオキシ基
等が挙げられる。
The optionally substituted aralkyloxy group includes, for example, those composed of the aforementioned optionally substituted aralkyl group and an oxygen atom. Specifically, benzyloxy group, 4-chlorobenzyloxy group, 4-methylbenzyloxy group, 4-methoxybenzyloxy group, 3-phenoxybenzyloxy group, 2,
3,5,6-tetrafluorobenzyloxy group, 2,
3,5,6-Tetrafluoro-4-methylbenzyloxy group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-methoxybenzyloxy group, 2,3,5,6-tetrafluoro-
4-methoxymethylbenzyloxy group, phenylethoxy group, phenylbutoxy group, phenylhexyloxy group and the like can be mentioned.

【0033】置換されていてもよいアルケニル基として
は、例えばエテニル基、1−プロペニル基、2−プロペ
ニル基、1−メチルエテニル基、1−ブテニル基、2−
ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル−1−プロペ
ニル基、2−メチル−1−プロペニル基、1−メチル−
2−プロペニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル
基、3−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、1−デセニ
ル基、2−シクロペンテニル基、2−シクロヘキセニル
基等の炭素数2〜12のアルケニル基およびこれらアル
ケニル基の一つまたは二つ以上の水素原子が、例えばア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、
ハロゲン原子、アシル基、カルボアルコキシ基、カルボ
アリールオキシ基、カルボアラルキルオキシ基、カルボ
キシル基等の置換基で置換されたものが挙げられる。
Examples of the alkenyl group which may be substituted include ethenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-methylethenyl group, 1-butenyl group and 2-
Butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-
C2-C12 alkenyl such as 2-propenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 1-hexenyl group, 1-decenyl group, 2-cyclopentenyl group and 2-cyclohexenyl group. Group and one or more hydrogen atoms of these alkenyl groups are, for example, an alkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group,
Examples thereof include those substituted with a substituent such as a halogen atom, an acyl group, a carboalkoxy group, a carboaryloxy group, a carboaralkyloxy group and a carboxyl group.

【0034】置換されていてもよいアリールアルケニル
基としては、前記置換されていてもよいアルケニル基と
前記置換されていてもよいアリール基とから構成される
ものが挙げられる。具体的には、スチリル基等が挙げら
れる。置換されていてもよいアリールアルキニル基とし
ては、例えば炭素数2〜12のアルキニル基と前記アリ
ール基とから構成されるものが挙げられる。具体的に
は、フェニルエチニル基等が挙げられる。
Examples of the optionally substituted arylalkenyl group include those which are composed of the optionally substituted alkenyl group and the optionally substituted aryl group. Specifically, a styryl group and the like can be mentioned. Examples of the optionally substituted arylalkynyl group include those which are composed of an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms and the above aryl group. Specifically, a phenylethynyl group and the like can be mentioned.

【0035】置換されていてもよいシリル基としては、
例えば前記置換されていてもよいアルキル基、前記置換
されていてもよいアリール基および前記置換されていて
もよいアラルキル基からなる群から選ばれる1〜3個の
置換基で置換されたシリル基が挙げられ、例えばトリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、トリ(n−プロピ
ル)シリル基、トリイソプロピルシリル基、ジメチルイ
ソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、
tert−ブチルジメチルシリル基、ペンチルジメチル
シリル基、ヘキシルジメチルシリル基、トリフェニルシ
リル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリ
ル基、ジメチルフェニルシリル基、tert−ブチルジ
フェニルシリル基等が挙げられる。
As the silyl group which may be substituted,
For example, a silyl group substituted with 1 to 3 substituents selected from the group consisting of the optionally substituted alkyl group, the optionally substituted aryl group, and the optionally substituted aralkyl group is Examples thereof include trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tri (n-propyl) silyl group, triisopropylsilyl group, dimethylisopropylsilyl group, diethylisopropylsilyl group,
Examples thereof include a tert-butyldimethylsilyl group, a pentyldimethylsilyl group, a hexyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, a tribenzylsilyl group, a diphenylmethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, and a tert-butyldiphenylsilyl group.

【0036】ハロゲン原子としては、例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、置
換されていてもよいアシル基としては、例えばアセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピ
バロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、
ペンタフルオロベンゾイル基等の前記置換されていても
よいアルキル基とカルボニル基とから構成されるもの、
前記置換されていてもよいアリール基とカルボニル基と
から構成されるもの、前記置換されていてもよいアラル
キル基とカルボニル基とから構成されるもの等が挙げら
れる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the optionally substituted acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group and a pivaloyl group. Group, benzoyl group, trifluoroacetyl group,
What is composed of the optionally substituted alkyl group such as a pentafluorobenzoyl group and a carbonyl group,
Examples thereof include those composed of the above-mentioned optionally substituted aryl group and carbonyl group, those composed of the above-mentioned optionally substituted aralkyl group and carbonyl group, and the like.

【0037】置換されていてもよいアシルオキシ基とし
ては、例えば前記置換されていてもよいアシル基と酸素
原子とから構成されるものが挙げられる。具体的には、
アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ
基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ペンタフ
ルオロベンゾイルオキシ基等が挙げられる。置換されて
いてもよいアミド基としては、例えばホルムアミド基、
アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、
ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタ
フルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセト
アミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジ
ベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペ
ンタフルオロベンズアミド基等が挙げられる。
Examples of the optionally substituted acyloxy group include those which are composed of the aforementioned optionally substituted acyl group and oxygen atom. In particular,
Examples thereof include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a trifluoroacetoxy group and a pentafluorobenzoyloxy group. Examples of the optionally substituted amide group include a formamide group,
Acetamide group, propioamide group, butyroamide group,
Examples thereof include a benzamide group, a trifluoroacetamide group, a pentafluorobenzamide group, a diformamide group, a diacetamide group, a dipropioamide group, a dibutyroamide group, a dibenzamide group, a ditrifluoroacetamide group and a dipentafluorobenzamide group.

【0038】置換されていてもよいイミド基としては、
例えば以下に示す基が挙げられる(下記基中、・は結合
部位を表わす。)。
As the imide group which may be substituted,
For example, the groups shown below may be mentioned (in the following groups, · represents a binding site).

【0039】置換されていてもよいカルボアルコキシ基
としては、例えば前記置換されていてもよいアルコキシ
基とカルボニル基とから構成されるものが挙げられる。
具体的には、カルボメトキシ基、カルボエトキシ基、カ
ルボプロポキシ基、カルボヘキシルオキシ基等が挙げら
れる。
Examples of the optionally substituted carboalkoxy group include those which are composed of the aforementioned optionally substituted alkoxy group and carbonyl group.
Specific examples include a carbomethoxy group, a carboethoxy group, a carbopropoxy group, and a carbohexyloxy group.

【0040】本発明に用いられるスルフィド化合物とし
ては、例えばジメチルスルフィド、ジエチルスルフィ
ド、ジ(n−プロピル)スルフィド、ジ(n−ブチル)
スルフィド、ジ(n−アミル)スルフィド、ジ(n−ヘ
キシル)スルフィド、ジ(n−ヘプチル)スルフィド、
ジ(n−オクチル)スルフィド、ジ(n−ノニル)スル
フィド、ジ(n−デシル)スルフィド、ジ(n−ドデシ
ル)スルフィド、ジ(イソプロピル)スルフィド、ジ
(イソブチル)スルフィド、ジ(sec−ブチル)スル
フィド、ジ(tert−ブチル)スルフィド、ジ(イソ
アミル)スルフィド、メチルブチルスルフィド、ジシク
ロペンチルスルフィド、ジシクロヘキシルスルフィド、
ジシクロドデシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、
ジベンジルスルフィド、メチルフェニルスルフィド、エ
チルフェニルスルフィド、ジ(4−クロロフェニル)ス
ルフィド、ジ(3−メトキシフェニル)スルフィド、ジ
(2,4−ジクロロフェニル)スルフィド、ジ(4−ト
リフルオロメチルフェニル)スルフィド、ジ(4−ニト
ロフェニル)スルフィド、(4−フルオロフェニル)
(4−トリル)スルフィド、(3−クロロフェニル)
(4−トリル)スルフィド、(4−ニトロフェニル)
(4−クロロメチルフェニル)スルフィド、(2−ニト
ロフェニル)フェニルスルフィド、(4−クロロメチル
フェニル)フェニルスルフィド、
Examples of the sulfide compound used in the present invention include dimethyl sulfide, diethyl sulfide, di (n-propyl) sulfide, di (n-butyl).
Sulfide, di (n-amyl) sulfide, di (n-hexyl) sulfide, di (n-heptyl) sulfide,
Di (n-octyl) sulfide, di (n-nonyl) sulfide, di (n-decyl) sulfide, di (n-dodecyl) sulfide, di (isopropyl) sulfide, di (isobutyl) sulfide, di (sec-butyl) Sulfide, di (tert-butyl) sulfide, di (isoamyl) sulfide, methyl butyl sulfide, dicyclopentyl sulfide, dicyclohexyl sulfide,
Dicyclododecyl sulfide, diphenyl sulfide,
Dibenzyl sulfide, methylphenyl sulfide, ethylphenyl sulfide, di (4-chlorophenyl) sulfide, di (3-methoxyphenyl) sulfide, di (2,4-dichlorophenyl) sulfide, di (4-trifluoromethylphenyl) sulfide, Di (4-nitrophenyl) sulfide, (4-fluorophenyl)
(4-tolyl) sulfide, (3-chlorophenyl)
(4-tolyl) sulfide, (4-nitrophenyl)
(4-chloromethylphenyl) sulfide, (2-nitrophenyl) phenyl sulfide, (4-chloromethylphenyl) phenyl sulfide,

【0041】9H−チオキサンテン−9−オン、3−ア
セトアミド−9H−チオキサンテン−9−オン、3−カ
ルボメトキシ−9H−チオキサンテン−9−オン、フェ
ノキサチイン、1−エチルフェノキサチイン、3−(2
−トリフルオロメチルエトキシ)フェノキサチイン、
(2−ヒドロキシエチル)フェニルスルフィド、(クロ
ロメチル)フェニルスルフィド、(カルボメトキシメチ
ル)フェニルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、ベ
ンゾ[b]チオフェン、3−クロロベンゾ[b]チオフ
ェン、3,5−ジブロモベンゾ[b]チオフェン、3,
4−ジクロロベンゾ[b]チオフェン、5−メチルベン
ゾ[b]チオフェン、4,7−ジメトキシベンゾ[b]
チオフェン、3−オクチルオキシベンゾ[b]チオフェ
ン、5−オクチルオキシベンゾ[b]チオフェン、3,
5−ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェン、3,4
−ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェン、4,7−
ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェン、
9H-thioxanthen-9-one, 3-acetamido-9H-thioxanthen-9-one, 3-carbomethoxy-9H-thioxanthen-9-one, phenoxathiin, 1-ethylphenoxathiin, 3- (2
-Trifluoromethylethoxy) phenoxathine,
(2-hydroxyethyl) phenyl sulfide, (chloromethyl) phenyl sulfide, (carbomethoxymethyl) phenyl sulfide, tetrahydrothiophene, benzo [b] thiophene, 3-chlorobenzo [b] thiophene, 3,5-dibromobenzo [b] Thiophene, 3,
4-dichlorobenzo [b] thiophene, 5-methylbenzo [b] thiophene, 4,7-dimethoxybenzo [b]
Thiophene, 3-octyloxybenzo [b] thiophene, 5-octyloxybenzo [b] thiophene, 3,
5-dioctyloxybenzo [b] thiophene, 3,4
-Dioctyloxybenzo [b] thiophene, 4,7-
Dioctyloxybenzo [b] thiophene,

【0042】ジベンゾチオフェン、2,3−ジオクチル
ジベンゾチオフェン、2,8−ジオクチルジベンゾチオ
フェン、2,3−ジオクチルオキシジベンゾチオフェ
ン、2,8−ジオクチルオキシジベンゾチオフェン、
1,9−ジオクチルオキシジベンゾチオフェン、4,6
−ジオクチルオキシジベンゾチオフェン、1,2,8,
9−テトラオクチルオキシジベンゾチオフェン、1,
4,6,9−テトラオクチルオキシジベンゾチオフェ
ン、1,2,4,6,8,9−ヘキサオクチルオキシジ
ベンゾチオフェン、1,3−ジオクチルオキシジベンゾ
チオフェン、1,2,9−トリオクチルオキシジベンゾ
チオフェン、3,4−ジオクチルオキシジベンゾチオフ
ェン、1,2,3,4,6,9−ヘキサオクチルオキシ
ジベンゾチオフェン、2,3−ジクロロジベンゾチオフ
ェン、2,8−ジクロロジベンゾチオフェン、2,3−
ジフルオロジベンゾチオフェン、2,8−ジフルオロジ
ベンゾチオフェン、2,3−ジフェニルジベンゾチオフ
ェン、2,8−ジフェニルジベンゾチオフェン、2,3
−ジフェノキシジベンゾチオフェン、2,8−ジフェノ
キシジベンゾチオフェン、2,3−ジベンジルジベンゾ
チオフェン、2,8−ジベンジルジベンゾチオフェン、
2,3−ジベンジルオキシジベンゾチオフェン、2,8
−ジベンジルオキシジベンゾチオフェン、
Dibenzothiophene, 2,3-dioctyldibenzothiophene, 2,8-dioctyldibenzothiophene, 2,3-dioctyloxydibenzothiophene, 2,8-dioctyloxydibenzothiophene,
1,9-dioctyloxydibenzothiophene, 4,6
-Dioctyloxydibenzothiophene, 1,2,8,
9-tetraoctyloxydibenzothiophene, 1,
4,6,9-Tetraoctyloxydibenzothiophene, 1,2,4,6,8,9-hexaoctyloxydibenzothiophene, 1,3-dioctyloxydibenzothiophene, 1,2,9-trioctyloxydibenzothiophene , 3,4-dioctyloxydibenzothiophene, 1,2,3,4,6,9-hexaoctyloxydibenzothiophene, 2,3-dichlorodibenzothiophene, 2,8-dichlorodibenzothiophene, 2,3-
Difluorodibenzothiophene, 2,8-difluorodibenzothiophene, 2,3-diphenyldibenzothiophene, 2,8-diphenyldibenzothiophene, 2,3
-Diphenoxydibenzothiophene, 2,8-diphenoxydibenzothiophene, 2,3-dibenzyldibenzothiophene, 2,8-dibenzyldibenzothiophene,
2,3-dibenzyloxydibenzothiophene, 2,8
-Dibenzyloxydibenzothiophene,

【0043】2,3−ビス(トリメチルシリル)ジベン
ゾチオフェン、2,8−ビス(トリメチルシリル)ジベ
ンゾチオフェン、2,3−ビス(トリフェニルシリル)
ジベンゾチオフェン、2,8−ビス(トリフェニルシリ
ル)ジベンゾチオフェン、2,3−ビス(トリベンジル
シリル)ジベンゾチオフェン、2,8−ビス(トリベン
ジルシリル)ジベンゾチオフェン、2,3−ジアセチル
ジベンゾチオフェン、2,8−ジアセチルジベンゾチオ
フェン、2,3−ジアセトキシジベンゾチオフェン、
2,8−ジアセトキシジベンゾチオフェン、2,3−ビ
ス(ジアセチルアミノ)ジベンゾチオフェン、2,8−
ビス(ジアセチルアミノ)ジベンゾチオフェン、2,3
−ビス(スチリル)ジベンゾチオフェン、2,8−ビス
(スチリル)ジベンゾチオフェン、2,3−ビス(フェ
ニルエチニル)ジベンゾチオフェン、2,8−ビス(フ
ェニルエチニル)ジベンゾチオフェン、2,3−ジシア
ノジベンゾチオフェン、2,8−ジシアノジベンゾチオ
フェン、ジナフト[2,1−b:1’,2’−d]ジベ
ンゾチオフェン、ジアントロ[2,1−b:1’,2’
−d]ジベンゾチオフェン等が挙げられる。
2,3-bis (trimethylsilyl) dibenzothiophene, 2,8-bis (trimethylsilyl) dibenzothiophene, 2,3-bis (triphenylsilyl)
Dibenzothiophene, 2,8-bis (triphenylsilyl) dibenzothiophene, 2,3-bis (tribenzylsilyl) dibenzothiophene, 2,8-bis (tribenzylsilyl) dibenzothiophene, 2,3-diacetyldibenzothiophene, 2,8-diacetyldibenzothiophene, 2,3-diacetoxydibenzothiophene,
2,8-diacetoxydibenzothiophene, 2,3-bis (diacetylamino) dibenzothiophene, 2,8-
Bis (diacetylamino) dibenzothiophene, 2,3
-Bis (styryl) dibenzothiophene, 2,8-bis (styryl) dibenzothiophene, 2,3-bis (phenylethynyl) dibenzothiophene, 2,8-bis (phenylethynyl) dibenzothiophene, 2,3-dicyanodibenzothiophene , 2,8-dicyanodibenzothiophene, dinaphtho [2,1-b: 1 ', 2'-d] dibenzothiophene, dianthro [2,1-b: 1', 2 '
-D] dibenzothiophene and the like.

【0044】前記金属酸化物触媒の存在下に、スルフィ
ド化合物と過酸化水素とを反応させることにより、スル
フィド化合物の硫黄原子が酸化され、スルホン化合物ま
たはスルホキシド化合物が生成する。
By reacting the sulfide compound with hydrogen peroxide in the presence of the metal oxide catalyst, the sulfur atom of the sulfide compound is oxidized to produce a sulfone compound or a sulfoxide compound.

【0045】前記一般式(1)で示されるスルフィド化
合物を用いた場合には、一般式(4) (式中、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示されるスルホン化合物または一般式(5) (式中、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示されるスルホキシド化合物が得られる。
When the sulfide compound represented by the general formula (1) is used, the general formula (4) (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.)
Or a general formula (5) (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.)
A sulfoxide compound represented by is obtained.

【0046】また、前記一般式(2)で示されるスルフ
ィド化合物を用いた場合には、一般式(6) (式中、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ上記と同一
の意味を表わす。)で示されるスルホン化合物または一
般式(7) (式中、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ上記と同一
の意味を表わす。)で示されるスルホキシド化合物が得
られる。
When the sulfide compound represented by the general formula (2) is used, the general formula (6) (Wherein R 3 , R 4 , R 5 and R 6 have the same meanings as described above) or the general formula (7). (In the formula, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 have the same meanings as described above.) A sulfoxide compound represented by the formula is obtained.

【0047】また、前記一般式(3)で示されるスルフ
ィド化合物を用いた場合には、一般式(8) (式中、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およ
びR14はそれぞれ上記と同一の意味を表わす。)で示さ
れるスルホン化合物または一般式(9) (式中、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およ
びR14はそれぞれ上記と同一の意味を表わす。)で示さ
れるスルホキシド化合物が得られる。
When the sulfide compound represented by the general formula (3) is used, the general formula (8) (Wherein R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 have the same meanings as described above) or the general formula (9). (In the formula, R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 have the same meanings as described above.) A sulfoxide compound represented by the following formula is obtained.

【0048】スルフィド化合物と過酸化水素との反応に
おける金属酸化物の使用量は、スルフィド化合物に対し
て、通常0.0005モル倍以上であり、その上限は特
にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、スル
フィド化合物に対して、1モル倍以下である。
The amount of the metal oxide used in the reaction of the sulfide compound and hydrogen peroxide is usually 0.0005 mol times or more with respect to the sulfide compound, and there is no particular upper limit, but in view of economic aspects. Then, practically, it is 1 mol times or less with respect to the sulfide compound.

【0049】過酸化水素としては、通常過酸化水素水が
用いられる。もちろん過酸化水素/有機溶媒溶液を用い
てもよい。過酸化水素水もしくは有機溶媒溶液中の過酸
化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等
を考慮すると、実用的には1〜60重量%である。過酸
化水素水は、通常市販のものをそのままもしくは必要に
応じて希釈、濃縮等により濃度調整を行なった後用いら
れる。過酸化水素の有機溶媒溶液は、例えば過酸化水素
水を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在
下に過酸化水素水を蒸留処理する等の手段により,調製
することができる。
As the hydrogen peroxide, hydrogen peroxide solution is usually used. Of course, hydrogen peroxide / organic solvent solution may be used. The concentration of hydrogen peroxide in the hydrogen peroxide solution or the organic solvent solution is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volume efficiency, safety and the like. As the hydrogen peroxide solution, a commercially available product is usually used as it is or after adjusting the concentration by diluting, concentrating or the like as necessary. The solution of hydrogen peroxide in an organic solvent can be prepared, for example, by means of extracting hydrogen peroxide solution with an organic solvent, or distilling hydrogen peroxide solution in the presence of the organic solvent.

【0050】過酸化水素の使用量は、スルフィド化合物
に対して、通常0.8モル倍以上であり、その上限は特
に制限されないが、あまり多すぎても経済的に不利にな
りやすいため、実用的には、スルフィド化合物に対し
て、10モル倍以下である。なお、本反応においては、
過酸化水素の使用量をコントロールすることにより、ス
ルホン化合物またはスルホキシド化合物のいずれか一方
を選択的に製造することができる。例えば、過酸化水素
を、スルフィド化合物に対して、1.5モル倍以上用い
た場合には、スルホン化合物が選択的に生成し、スルフ
ィド化合物に対して、0.8モル倍以上、1.5モル倍
未満の過酸化水素を用いた場合には、スルホキシド化合
物が選択的に生成する。また、触媒として、金属酸化物
を含む調製液を用いる場合は、該調製液中の過酸化水素
量を含めて、過酸化水素の使用量を設定してもよい。
The amount of hydrogen peroxide used is usually 0.8 mole times or more the amount of the sulfide compound, and the upper limit thereof is not particularly limited. However, if it is too much, it is economically disadvantageous, so it is practical. Specifically, it is 10 mol times or less with respect to the sulfide compound. In this reaction,
By controlling the amount of hydrogen peroxide used, either the sulfone compound or the sulfoxide compound can be selectively produced. For example, when hydrogen peroxide is used in an amount of 1.5 moles or more with respect to the sulfide compound, a sulfone compound is selectively formed and 0.8 moles or more, 1.5 or more with respect to the sulfide compound. When using less than the molar amount of hydrogen peroxide, the sulfoxide compound is selectively produced. When a preparation liquid containing a metal oxide is used as the catalyst, the amount of hydrogen peroxide used may be set including the amount of hydrogen peroxide in the preparation liquid.

【0051】本反応は、通常水中、有機溶媒中または有
機溶媒と水との混合溶媒中で実施される。有機溶媒とし
ては、例えばジエチルエーテル、メチルtert−ブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、
例えば酢酸エチル等のエステル系溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール、tert−ブタノール等のアルコール
系溶媒、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等の
ニトリル系溶媒、例えばトルエン、キシレン、クロロベ
ンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばシクロヘキサ
ン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げら
れる。水または有機溶媒の使用量は特に制限されない
が、容積効率等を考慮すると、実用的には、スルフィド
化合物に対して、100重量倍以下である。
This reaction is usually carried out in water, an organic solvent or a mixed solvent of an organic solvent and water. Examples of the organic solvent include ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, and tetrahydrofuran,
For example, ester solvents such as ethyl acetate, for example, methanol, ethanol, alcohol solvents such as tert-butanol, for example, acetonitrile, nitrile solvents such as propionitrile, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, chlorobenzene, etc., Examples include aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane and n-heptane. The amount of water or organic solvent used is not particularly limited, but practically, it is 100 times or less the weight of the sulfide compound in view of volume efficiency and the like.

【0052】反応温度があまり低いと反応が進行しにく
く、また反応温度があまり高いと原料のスルフィド化合
物や生成するスルホン化合物またはスルホキシド化合物
の分解等副反応が進行する恐れがあるため、実用的な反
応温度は、−20〜100℃の範囲である。
If the reaction temperature is too low, the reaction is difficult to proceed, and if the reaction temperature is too high, side reactions such as decomposition of the raw material sulfide compound or the produced sulfone compound or sulfoxide compound may proceed, so that it is practical. The reaction temperature is in the range of -20 to 100 ° C.

【0053】本反応は、通常スルフィド化合物、過酸化
水素および金属酸化物触媒を混合、接触することにより
実施され、その混合順序は特に制限されない。また、例
えば金属化合物、過酸化水素およびスルフィド化合物を
混合、接触させて、金属酸化物触媒の調製操作と、スル
フィド化合物と過酸化水素との反応を同時に行ってもよ
い。
This reaction is usually carried out by mixing and contacting a sulfide compound, hydrogen peroxide and a metal oxide catalyst, and the mixing order is not particularly limited. Further, for example, a metal compound, hydrogen peroxide and a sulfide compound may be mixed and brought into contact with each other to carry out the operation of preparing the metal oxide catalyst and the reaction of the sulfide compound and hydrogen peroxide at the same time.

【0054】本反応は、相間移動触媒の存在下に実施し
てもよく、相間移動触媒としては、例えば第四級アンモ
ニウム塩、第四級ホスホニウム塩、大環状ポリエーテル
類等が挙げられ、第四級アンモニウム塩が好ましい。
This reaction may be carried out in the presence of a phase transfer catalyst, and examples of the phase transfer catalyst include quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts and macrocyclic polyethers. Quaternary ammonium salts are preferred.

【0055】第四級アンモニウム塩としては、例えばト
リオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチル
エチルアンモニウムクロリド、ジラウリルジメチルアン
モニウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムク
ロリド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、
ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリ
カプリルメチルアンモニウムクロリド、トリデシルメチ
ルアンモニウムクロリド、トリヘキシルメチルアンモニ
ウムクロリド、トリドデシルメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリ
メチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアン
モニウムクロリド、N−ラウリルピリジニウムクロリ
ド、N−セチルピリジニウムクロリド、N−ラウリルピ
コリニウムクロリド等の第四級アンモニウムクロリド
類、前記第四級アンモニウムクロリド類を構成する塩素
イオンが、臭素イオンに代わった第四級アンモニウムブ
ロミド類、前記第四級アンモニウムクロリド類を構成す
る塩素イオンが、ヨウ素イオンに代わった第四級アンモ
ニウムヨーダイド類、前記第四級アンモニウムクロリド
類を構成する塩素イオンが、亜硫酸イオンに代わった第
四級アンモニウム亜硫酸塩、前記第四級アンモニウムク
ロリド類を構成する塩素イオンが、硫酸イオンに代わっ
た第四級アンモニウム硫酸塩、前記第四級アンモニウム
クロリド類を構成する塩素イオンが、硫酸水素イオンに
代わった第四級アンモニウム硫酸水素塩等が挙げられ
る。
Examples of the quaternary ammonium salt include trioctylmethylammonium chloride, trioctylethylammonium chloride, dilauryldimethylammonium chloride, lauryltrimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride,
Lauryldimethylbenzylammonium chloride, tricaprylmethylammonium chloride, tridecylmethylammonium chloride, trihexylmethylammonium chloride, tridodecylmethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, N-laurylpyridinium chloride , N-cetylpyridinium chloride, quaternary ammonium chlorides such as N-laurylpicolinium chloride, and chlorine ions constituting the quaternary ammonium chlorides, quaternary ammonium bromides in which bromine ions are replaced, Chloride ions that make up quaternary ammonium chlorides are quaternary ammonium iodides that have replaced iodine ions, Chlorine ion constituting the quaternary ammonium chloride is a quaternary ammonium sulfite salt replacing sulfite ion, chlorine ion constituting the quaternary ammonium chloride is a quaternary ammonium sulfate replacing sulfate ion. Examples thereof include salts and quaternary ammonium hydrogensulfates in which the chlorine ions constituting the quaternary ammonium chlorides are replaced with hydrogensulfate ions.

【0056】第四級ホスホニウム塩としては、例えばテ
トラブチルホスホニウムブロミド等が、大環状ポリエー
テル類としては、例えば12−クラウン−4、18−ク
ラウン−6、ベンゾ−18−クラウン−6等が挙げられ
る。
Examples of the quaternary phosphonium salt include tetrabutylphosphonium bromide and the like, and examples of macrocyclic polyethers include 12-crown-4, 18-crown-6 and benzo-18-crown-6. To be

【0057】相間移動触媒を用いる場合のその使用量
は、スルフィド化合物に対して、通常0.0005モル
倍以上であり、その上限は特にないが、経済的な面を考
慮すると、実用的には、スルフィド化合物に対して、1
モル倍以下である。また、かかる相間移動触媒は、予め
上記した金属酸化物触媒の調製の際に用いてもよい。
The amount of the phase transfer catalyst used is usually 0.0005 mol times or more with respect to the sulfide compound, and there is no upper limit. However, in view of economical aspects, it is practically used. , For sulfide compounds, 1
It is a molar ratio or less. Further, such a phase transfer catalyst may be used when preparing the above-mentioned metal oxide catalyst in advance.

【0058】本反応は、常圧条件下で実施してもよい
し、加圧条件下で実施してもよい。また、反応の進行
は、例えばガスクロマトグラフィ、高速液体クロマトグ
ラフィ、薄層クロマトグラフィ、NMR、IR等の通常
の分析手段により確認することができる。
This reaction may be carried out under normal pressure conditions or under elevated pressure conditions. The progress of the reaction can be confirmed by ordinary analytical means such as gas chromatography, high performance liquid chromatography, thin layer chromatography, NMR and IR.

【0059】反応終了後、反応液をそのままもしくは必
要に応じて残存する過酸化水素を、例えばチオ硫酸ナト
リウム、亜硫酸水素ナトリウム等の還元剤で分解した
後、濃縮処理、晶析処理等することにより、目的とする
スルホン化合物またはスルホキシド化合物を取り出すこ
とができる。また、反応液に、必要に応じて水および/
または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られ
る有機層を濃縮処理することにより、スルホン化合物ま
たはスルホキシド化合物を取り出すこともできる。取り
出したスルホン化合物またはスルホキシド化合物は、例
えば蒸留、カラムクロマトグラフィ等の手段によりさら
に精製してもよい。
After completion of the reaction, the reaction solution is left as it is or, if necessary, residual hydrogen peroxide is decomposed with a reducing agent such as sodium thiosulfate or sodium bisulfite, and then concentrated or crystallized. The target sulfone compound or sulfoxide compound can be taken out. Further, the reaction solution may contain water and / or
Alternatively, a sulfone compound or a sulfoxide compound can be taken out by adding an organic solvent insoluble in water, subjecting it to extraction treatment, and subjecting the resulting organic layer to concentration treatment. The extracted sulfone compound or sulfoxide compound may be further purified by means of distillation, column chromatography or the like.

【0060】水に不溶の有機溶媒としては、例えばトル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系
溶媒、例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えばジエチル
エーテル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等の
エステル系溶媒等が挙げられ、その使用量は特に制限さ
れない。
Examples of the water-insoluble organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and chlorobenzene, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform, such as diethyl ether and methyl tert-butyl ether. Examples thereof include ether solvents such as tetrahydrofuran, and ester solvents such as ethyl acetate, and the amount thereof is not particularly limited.

【0061】また、目的とするスルホン化合物またはス
ルホキシド化合物を晶析処理により取り出した後の濾液
や反応液を抽出処理して得られる水層は、本反応の金属
酸化物触媒を含んでおり、そのままもしくは必要に応じ
て濃縮処理等を行った後、再度本反応に使用することが
できる。
Further, the aqueous layer obtained by extracting the filtrate or reaction solution after the desired sulfone compound or sulfoxide compound is taken out by the crystallization treatment contains the metal oxide catalyst of this reaction, and as it is. Alternatively, it can be used again in this reaction after concentration treatment and the like if necessary.

【0062】かくして得られるスルホン化合物として
は、例えばジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジ
(n−プロピル)スルホン、ジ(n−ブチル)スルホ
ン、ジ(n−アミル)スルホン、ジ(n−ヘキシル)ス
ルホン、ジ(n−ヘプチル)スルホン、ジ(n−オクチ
ル)スルホン、ジ(n−ノニル)スルホン、ジ(n−デ
シル)スルホン、ジ(n−ドデシル)スルホン、ジ(イ
ソプロピル)スルホン、ジ(イソブチル)スルホン、ジ
(sec−ブチル)スルホン、ジ(tert−ブチル)
スルホン、ジ(イソアミル)スルホン、メチルブチルス
ルホン、ジシクロペンチルスルホン、ジシクロヘキシル
スルホン、ジシクロドデシルスルホン、ジフェニルスル
ホン、ジベンジルスルホン、メチルフェニルスルホン、
エチルフェニルスルホン、ジ(4−クロロフェニル)ス
ルホン、ジ(3−メトキシフェニル)スルホン、ジ
(2,4−ジクロロフェニル)スルホン、ジ(4−トリ
フルオロメチルフェニル)スルホン、ジ(4−ニトロフ
ェニル)スルホン、(4−フルオロフェニル)(4−ト
リル)スルホン、(3−クロロフェニル)(4−トリ
ル)スルホン、(4−ニトロフェニル)(4−クロロフ
ェニル)スルホン、(2−ニトロフェニル)フェニルス
ルホン、(4−クロロメチルフェニル)フェニルスルホ
ン、
Examples of the sulfone compound thus obtained are dimethyl sulfone, diethyl sulfone, di (n-propyl) sulfone, di (n-butyl) sulfone, di (n-amyl) sulfone, di (n-hexyl) sulfone, Di (n-heptyl) sulfone, di (n-octyl) sulfone, di (n-nonyl) sulfone, di (n-decyl) sulfone, di (n-dodecyl) sulfone, di (isopropyl) sulfone, di (isobutyl) Sulfone, di (sec-butyl) sulfone, di (tert-butyl)
Sulfone, di (isoamyl) sulfone, methylbutyl sulfone, dicyclopentyl sulfone, dicyclohexyl sulfone, dicyclododecyl sulfone, diphenyl sulfone, dibenzyl sulfone, methylphenyl sulfone,
Ethylphenyl sulfone, di (4-chlorophenyl) sulfone, di (3-methoxyphenyl) sulfone, di (2,4-dichlorophenyl) sulfone, di (4-trifluoromethylphenyl) sulfone, di (4-nitrophenyl) sulfone , (4-fluorophenyl) (4-tolyl) sulfone, (3-chlorophenyl) (4-tolyl) sulfone, (4-nitrophenyl) (4-chlorophenyl) sulfone, (2-nitrophenyl) phenylsulfone, (4 -Chloromethylphenyl) phenyl sulfone,

【0063】10,10−ジオキソ−9H−チオキサン
テン−9−オン、10,10−ジオキソ−3−アセトア
ミド−9H−チオキサンテン−9−オン、10,10−
ジオキソ−3−カルボメトキシ−9H−チオキサンテン
−9−オン、フェノキサチイン−10,10−ジオキシ
ド、1−エチルフェノキサチイン−10,10−ジオキ
シド、3−(2−トリフルオロメチルエトキシ)フェノ
キサチイン−10,10−ジオキシド、(2−ヒドロキ
シエチル)フェニルスルホン、(クロロメチル)フェニ
ルスルホン、(カルボメトキシメチル)フェニルスルホ
ン、
10,10-Dioxo-9H-thioxanthen-9-one 10,10-dioxo-3-acetamido-9H-thioxanthen-9-one 10,10-
Dioxo-3-carbomethoxy-9H-thioxanthen-9-one, phenoxathiin-10,10-dioxide, 1-ethylphenoxathiin-10,10-dioxide, 3- (2-trifluoromethylethoxy) phenoxy Sachiin-10,10-dioxide, (2-hydroxyethyl) phenyl sulfone, (chloromethyl) phenyl sulfone, (carbomethoxymethyl) phenyl sulfone,

【0064】テトラメチレンスルホン、ベンゾ[b]チ
オフェンスルホン、3−クロロベンゾ[b]チオフェン
スルホン、3,5−ジブロモベンゾ[b]チオフェンス
ルホン、3,4−ジクロロベンゾ[b]チオフェンスル
ホン、5−メチルベンゾ[b]チオフェンスルホン、
4,7−ジメトキシベンゾ[b]チオフェンスルホン、
3−オクチルオキシベンゾ[b]チオフェンスルホン、
5−オクチルオキシベンゾ[b]チオフェンスルホン、
3,5−ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェンスル
ホン、3,4−ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェ
ンスルホン、4,7−ジオクチルオキシベンゾ[b]チ
オフェンスルホン、
Tetramethylene sulfone, benzo [b] thiophene sulfone, 3-chlorobenzo [b] thiophene sulfone, 3,5-dibromobenzo [b] thiophene sulfone, 3,4-dichlorobenzo [b] thiophene sulfone, 5-methylbenzo [B] thiophene sulfone,
4,7-dimethoxybenzo [b] thiophene sulfone,
3-octyloxybenzo [b] thiophene sulfone,
5-octyloxybenzo [b] thiophene sulfone,
3,5-dioctyloxybenzo [b] thiophene sulfone, 3,4-dioctyloxybenzo [b] thiophene sulfone, 4,7-dioctyloxybenzo [b] thiophene sulfone,

【0065】ジベンゾチオフェン−5,5−ジオキシ
ド、2,3−ジオクチルジベンゾチオフェンスルホン、
2,8−ジオクチルジベンゾチオフェンスルホン、2,
3−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスルホン、
2,8−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスルホ
ン、1,9−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスル
ホン、4,6−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンス
ルホン、1,2,8,9−テトラオクチルオキシジベン
ゾチオフェンスルホン、1,4,6,9−テトラオクチ
ルオキシジベンゾチオフェンスルホン、1,2,4,
6,8,9−ヘキサオクチルオキシジベンゾチオフェン
スルホン、1,3−ジオクチルオキシジベンゾチオフェ
ンスルホン、1,2,9−トリオクチルオキシジベンゾ
チオフェンスルホン、3,4−ジオクチルオキシジベン
ゾチオフェンスルホン、1,2,3,4,6,9−ヘキ
サオクチルオキシジベンゾチオフェンスルホン、2,3
−ジクロロジベンゾチオフェンスルホン、2,8−ジク
ロロジベンゾチオフェンスルホン、2,3−ジフルオロ
ジベンゾチオフェンスルホン、2,8−ジフルオロジベ
ンゾチオフェンスルホン、
Dibenzothiophene-5,5-dioxide, 2,3-dioctyldibenzothiophene sulfone,
2,8-dioctyldibenzothiophene sulfone, 2,
3-dioctyloxydibenzothiophene sulfone,
2,8-Dioctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,9-Dioctyloxydibenzothiophene sulfone, 4,6-Dioctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,2,8,9-Tetraoctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,4,6 , 9-Tetraoctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,2,4
6,8,9-Hexaoctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,3-Dioctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,2,9-Trioctyloxydibenzothiophene sulfone, 3,4-Dioctyloxydibenzothiophene sulfone, 1,2, 3,4,6,9-hexaoctyloxydibenzothiophene sulfone, 2,3
-Dichlorodibenzothiophene sulfone, 2,8-dichlorodibenzothiophene sulfone, 2,3-difluorodibenzothiophene sulfone, 2,8-difluorodibenzothiophene sulfone,

【0066】2,3−ジフェニルジベンゾチオフェンス
ルホン、2,8−ジフェニルジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,3−ジフェノキシジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,8−ジフェノキシジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,3−ジベンジルジベンゾチオフェンスルホン、
2,8−ジベンジルジベンゾチオフェンスルホン、2,
3−ジベンジルオキシジベンゾチオフェンスルホン、
2,8−ジベンジルオキシジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,3−ビス(トリメチルシリル)ジベンゾチオフ
ェンスルホン、2,8−ビス(トリメチルシリル)ジベ
ンゾチオフェンスルホン、2,3−ビス(トリフェニル
シリル)ジベンゾチオフェンスルホン、2,8−ビス
(トリフェニルシリル)ジベンゾチオフェンスルホン、
2,3−ビス(トリベンジルシリル)ジベンゾチオフェ
ンスルホン、2,8−ビス(トリベンジルシリル)ジベ
ンゾチオフェンスルホン、
2,3-diphenyldibenzothiophene sulfone, 2,8-diphenyldibenzothiophene sulfone, 2,3-diphenoxydibenzothiophene sulfone, 2,8-diphenoxydibenzothiophene sulfone, 2,3-dibenzyldibenzothiophene sulfone. ,
2,8-dibenzyldibenzothiophene sulfone, 2,
3-dibenzyloxydibenzothiophene sulfone,
2,8-dibenzyloxydibenzothiophene sulfone, 2,3-bis (trimethylsilyl) dibenzothiophene sulfone, 2,8-bis (trimethylsilyl) dibenzothiophene sulfone, 2,3-bis (triphenylsilyl) dibenzothiophene sulfone, 2 , 8-bis (triphenylsilyl) dibenzothiophene sulfone,
2,3-bis (tribenzylsilyl) dibenzothiophene sulfone, 2,8-bis (tribenzylsilyl) dibenzothiophene sulfone,

【0067】2,3−ジアセチルジベンゾチオフェンス
ルホン、2,8−ジアセチルジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,3−ジアセトキシジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,8−ジアセトキシジベンゾチオフェンスルホ
ン、2,3−ビス(ジアセチルアミノ)ジベンゾチオフ
ェンスルホン、2,8−ビス(ジアセチルアミノ)ジベ
ンゾチオフェンスルホン、2,3−ビス(スチリル)ジ
ベンゾチオフェンスルホン、2,8−ビス(スチリル)
ジベンゾチオフェンスルホン、2,3−ビス(フェニル
エチニル)ジベンゾチオフェンスルホン、2,8−ビス
(フェニルエチニル)ジベンゾチオフェンスルホン、
2,3−ジシアノジベンゾチオフェンスルホン、2,8
−ジシアノジベンゾチオフェンスルホン、ジナフト
[2,1−b:1’,2’−d]ジベンゾチオフェンス
ルホン、ジアントロ[2,1−b:1’,2’−d]ジ
ベンゾチオフェンスルホン等が挙げられる。
2,3-Diacetyldibenzothiophene sulfone, 2,8-diacetyldibenzothiophene sulfone, 2,3-diacetoxydibenzothiophene sulfone, 2,8-diacetoxydibenzothiophene sulfone, 2,3-bis (diacetylamino) Dibenzothiophene sulfone, 2,8-bis (diacetylamino) dibenzothiophene sulfone, 2,3-bis (styryl) dibenzothiophene sulfone, 2,8-bis (styryl)
Dibenzothiophene sulfone, 2,3-bis (phenylethynyl) dibenzothiophene sulfone, 2,8-bis (phenylethynyl) dibenzothiophene sulfone,
2,3-dicyanodibenzothiophene sulfone, 2,8
-Dicyanodibenzothiophene sulfone, dinaphtho [2,1-b: 1 ', 2'-d] dibenzothiophene sulfone, dianthro [2,1-b: 1', 2'-d] dibenzothiophene sulfone and the like.

【0068】また、スルホキシド化合物としては、例え
ばジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジ
(n−プロピル)スルホキシド、ジ(n−ブチル)スル
ホキシド、ジ(n−アミル)スルホキシド、ジ(n−ヘ
キシル)スルホキシド、ジ(n−ヘプチル)スルホキシ
ド、ジ(n−オクチル)スルホキシド、ジ(n−ノニ
ル)スルホキシド、ジ(n−デシル)スルホキシド、ジ
(n−ドデシル)スルホキシド、ジ(イソプロピル)ス
ルホキシド、ジ(イソブチル)スルホキシド、ジ(se
c−ブチル)スルホキシド、ジ(tert−ブチル)ス
ルホキシド、ジ(イソアミル)スルホキシド、メチルブ
チルスルホキシド、ジシクロペンチルスルホキシド、ジ
シクロヘキシルスルホキシド、ジシクロドデシルスルホ
キシド、ジフェニルスルホキシド、ジベンジルスルホキ
シド、メチルフェニルスルホキシド、エチルフェニルス
ルホキシド、ジ(4−クロロフェニル)スルホキシド、
ジ(3−メトキシフェニル)スルホキシド、ジ(2,4
−ジクロロフェニル)スルホキシド、ジ(4−トリフル
オロメチルフェニル)スルホキシド、ジ(4−ニトロフ
ェニル)スルホキシド、(4−フルオロフェニル)(4
−トリル)スルホキシド、(3−クロロフェニル)(4
−トリル)スルホキシド、(4−ニトロフェニル)(4
−クロロフェニル)スルホキシド、(2−ニトロフェニ
ル)フェニルスルホン、(4−クロロメチルフェニル)
フェニルスルホキシド、
Examples of the sulfoxide compound include dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, di (n-propyl) sulfoxide, di (n-butyl) sulfoxide, di (n-amyl) sulfoxide, di (n-hexyl) sulfoxide, di (n-hexyl) sulfoxide and di (n-hexyl) sulfoxide. (N-heptyl) sulfoxide, di (n-octyl) sulfoxide, di (n-nonyl) sulfoxide, di (n-decyl) sulfoxide, di (n-dodecyl) sulfoxide, di (isopropyl) sulfoxide, di (isobutyl) sulfoxide , Di (se
c-butyl) sulfoxide, di (tert-butyl) sulfoxide, di (isoamyl) sulfoxide, methylbutylsulfoxide, dicyclopentylsulfoxide, dicyclohexylsulfoxide, dicyclododecylsulfoxide, diphenylsulfoxide, dibenzylsulfoxide, methylphenylsulfoxide, ethylphenylsulfoxide , Di (4-chlorophenyl) sulfoxide,
Di (3-methoxyphenyl) sulfoxide, di (2,4
-Dichlorophenyl) sulfoxide, di (4-trifluoromethylphenyl) sulfoxide, di (4-nitrophenyl) sulfoxide, (4-fluorophenyl) (4
-Tolyl) sulfoxide, (3-chlorophenyl) (4
-Tolyl) sulfoxide, (4-nitrophenyl) (4
-Chlorophenyl) sulfoxide, (2-nitrophenyl) phenyl sulfone, (4-chloromethylphenyl)
Phenyl sulfoxide,

【0069】10−オキソ−9H−チオキサンテン−9
−オン、10−オキソ−3−アセトアミド−9H−チオ
キサンテン−9−オン、10−オキソ−3−カルボメト
キシ−9H−チオキサンテン−9−オン、フェノキサチ
イン−10−オキシド、1−エチルフェノキサチイン−
10−オキシド、3−(2−トリフルオロメチルエトキ
シ)フェノキサチイン−10−オキシド、(2−ヒドロ
キシエチル)フェニルスルホキシド、(クロロメチル)
フェニルスルホキシド、(カルボメトキシメチル)フェ
ニルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシド、ベン
ゾ[b]チオフェンスルホキシド、3−クロロベンゾ
[b]チオフェンスルホキシド、3,5−ジブロモベン
ゾ[b]チオフェンスルホキシド、3,4−ジクロロベ
ンゾ[b]チオフェンスルホキシド、5−メチルベンゾ
[b]チオフェンスルホキシド、4,7−ジメトキシベ
ンゾ[b]チオフェンスルホキシド、3−オクチルオキ
シベンゾ[b]チオフェンスルホキシド、5−オクチル
オキシベンゾ[b]チオフェンスルホキシド、3,5−
ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェンスルホキシ
ド、3,4−ジオクチルオキシベンゾ[b]チオフェン
スルホキシド、4,7−ジオクチルオキシベンゾ[b]
チオフェンスルホキシド、
10-oxo-9H-thioxanthene-9
-One, 10-oxo-3-acetamido-9H-thioxanthen-9-one, 10-oxo-3-carbomethoxy-9H-thioxanthen-9-one, phenoxathiin-10-oxide, 1-ethylphenoxy. Sachiin-
10-oxide, 3- (2-trifluoromethylethoxy) phenoxathiin-10-oxide, (2-hydroxyethyl) phenyl sulfoxide, (chloromethyl)
Phenyl sulfoxide, (carbomethoxymethyl) phenyl sulfoxide, tetramethylene sulfoxide, benzo [b] thiophene sulfoxide, 3-chlorobenzo [b] thiophene sulfoxide, 3,5-dibromobenzo [b] thiophene sulfoxide, 3,4-dichlorobenzo [ b] thiophene sulfoxide, 5-methylbenzo [b] thiophene sulfoxide, 4,7-dimethoxybenzo [b] thiophene sulfoxide, 3-octyloxybenzo [b] thiophene sulfoxide, 5-octyloxybenzo [b] thiophene sulfoxide, 3, 5-
Dioctyloxybenzo [b] thiophene sulfoxide, 3,4-Dioctyloxybenzo [b] thiophene sulfoxide, 4,7-Dioctyloxybenzo [b]
Thiophene sulfoxide,

【0070】ジベンゾチオフェン−5−オキシド、2,
3−ジオクチルジベンゾチオフェンスルホキシド、2,
8−ジオクチルジベンゾチオフェンスルホキシド、2,
3−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスルホキシ
ド、2,8−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスル
ホキシド、1,9−ジオクチルオキシジベンゾチオフェ
ンスルホキシド、4,6−ジオクチルオキシジベンゾチ
オフェンスルホキシド、1,2,8,9−テトラオクチ
ルオキシジベンゾチオフェンスルホキシド、1,4,
6,9−テトラオクチルオキシジベンゾチオフェンスル
ホキシド、1,2,4,6,8,9−ヘキサオクチルオ
キシジベンゾチオフェンスルホキシド、1,3−ジオク
チルオキシジベンゾチオフェンスルホキシド、1,2,
9−トリオクチルオキシジベンゾチオフェンスルホキシ
ド、3,4−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスル
ホキシド、1,2,3,4,6,9−ヘキサオクチルオ
キシジベンゾチオフェンスルホキシド、
Dibenzothiophene-5-oxide, 2,
3-dioctyldibenzothiophene sulfoxide, 2,
8-dioctyldibenzothiophene sulfoxide, 2,
3-dioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 2,8-dioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 1,9-dioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 4,6-dioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 1,2,8,9-tetraoctyloxydibenzo Thiophene sulfoxide, 1,4
6,9-Tetraoctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 1,2,4,6,8,9-hexaoctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 1,3-Dioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 1,2,
9-trioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 3,4-dioctyloxydibenzothiophene sulfoxide, 1,2,3,4,6,9-hexaoctyloxydibenzothiophene sulfoxide,

【0071】2,3−ジクロロジベンゾチオフェンスル
ホキシド、2,8−ジクロロジベンゾチオフェンスルホ
キシド、2,3−ジフルオロジベンゾチオフェンスルホ
キシド、2,8−ジフルオロジベンゾチオフェンスルホ
キシド、2,3−ジフェニルジベンゾチオフェンスルホ
キシド、2,8−ジフェニルジベンゾチオフェンスルホ
キシド、2,3−ジフェノキシジベンゾチオフェンスル
ホキシド、2,8−ジフェノキシジベンゾチオフェンス
ルホキシド、2,3−ジベンジルジベンゾチオフェンス
ルホキシド、2,8−ジベンジルジベンゾチオフェンス
ルホキシド、2,3−ジベンジルオキシジベンゾチオフ
ェンスルホキシド、2,8−ジベンジルオキシジベンゾ
チオフェンスルホキシド、2,3−ビス(トリメチルシ
リル)ジベンゾチオフェンスルホキシド、2,8−ビス
(トリメチルシリル)ジベンゾチオフェンスルホキシ
ド、2,3−ビス(トリフェニルシリル)ジベンゾチオ
フェンスルホキシド、2,8−ビス(トリフェニルシリ
ル)ジベンゾチオフェンスルホキシド、2,3−ビス
(トリベンジルシリル)ジベンゾチオフェンスルホキシ
ド、2,8−ビス(トリベンジルシリル)ジベンゾチオ
フェンスルホキシド、
2,3-dichlorodibenzothiophene sulfoxide, 2,8-dichlorodibenzothiophene sulfoxide, 2,3-difluorodibenzothiophene sulfoxide, 2,8-difluorodibenzothiophene sulfoxide, 2,3-diphenyldibenzothiophene sulfoxide, 2,3. 8-diphenyldibenzothiophene sulfoxide, 2,3-diphenoxydibenzothiophene sulfoxide, 2,8-diphenoxydibenzothiophene sulfoxide, 2,3-dibenzyldibenzothiophene sulfoxide, 2,8-dibenzyldibenzothiophene sulfoxide, 2,3 -Dibenzyloxydibenzothiophene sulfoxide, 2,8-dibenzyloxydibenzothiophene sulfoxide, 2,3-bis (trimethylsilyl) dibenzothi Phensulfoxide, 2,8-bis (trimethylsilyl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,3-bis (triphenylsilyl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,8-bis (triphenylsilyl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,3-bis (tri) Benzylsilyl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,8-bis (tribenzylsilyl) dibenzothiophene sulfoxide,

【0072】2,3−ジアセチルジベンゾチオフェンス
ルホキシド、2,8−ジアセチルジベンゾチオフェンス
ルホキシド、2,3−ジアセトキシジベンゾチオフェン
スルホキシド、2,8−ジアセトキシジベンゾチオフェ
ンスルホキシド、2,3−ビス(ジアセチルアミノ)ジ
ベンゾチオフェンスルホキシド、2,8−ビス(ジアセ
チルアミノ)ジベンゾチオフェンスルホキシド、2,3
−ビス(スチリル)ジベンゾチオフェンスルホキシド、
2,8−ビス(スチリル)ジベンゾチオフェンスルホキ
シド、2,3−ビス(フェニルエチニル)ジベンゾチオ
フェンスルホキシド、2,8−ビス(フェニルエチニ
ル)ジベンゾチオフェンスルホキシド、2,3−ジシア
ノジベンゾチオフェンスルホキシド、2,8−ジシアノ
ジベンゾチオフェンスルホキシド、ジナフト[2,1−
b:1’,2’−d]ジベンゾチオフェンスルホキシ
ド、ジアントロ[2,1−b:1’,2’−d]ジベン
ゾチオフェンスルホキシド等が挙げられる。
2,3-Diacetyldibenzothiophene sulfoxide, 2,8-diacetyldibenzothiophene sulfoxide, 2,3-diacetoxydibenzothiophene sulfoxide, 2,8-diacetoxydibenzothiophene sulfoxide, 2,3-bis (diacetylamino) Dibenzothiophene sulfoxide, 2,8-bis (diacetylamino) dibenzothiophene sulfoxide, 2,3
-Bis (styryl) dibenzothiophene sulfoxide,
2,8-bis (styryl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,3-bis (phenylethynyl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,8-bis (phenylethynyl) dibenzothiophene sulfoxide, 2,3-dicyanodibenzothiophene sulfoxide, 2,8 -Dicyanodibenzothiophene sulfoxide, dinaphtho [2,1-
Examples include b: 1 ′, 2′-d] dibenzothiophene sulfoxide, dianthro [2,1-b: 1 ′, 2′-d] dibenzothiophene sulfoxide, and the like.

【0073】[0073]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0074】実施例1 窒素雰囲気下、水2.6mLにタングステン金属0.5
5gを加え、室温で攪拌し、30重量%過酸化水素水5
gを加え、さらに攪拌し、タングステン酸化物触媒水溶
液を調製した。該水溶液を、内温40℃に調整し、エタ
ノール1280mL、2,8−ジオクチルオキシジベン
ゾチオフェン44gを加えた。さらに30重量%過酸化
水素水25gを加え、内温45℃で5時間攪拌、反応さ
せた。その後、氷冷し、6重量%チオ硫酸ナトリウム水
溶液1300mLを加え、トルエンを加えて抽出処理し
た。得られた有機層を水で洗浄処理した後、濃縮処理
し、2,8−ジオクチルオキシジベンゾチオフェンスル
ホン47gを得た。収率:99%。
Example 1 Tungsten metal 0.5 was added to 2.6 mL of water under a nitrogen atmosphere.
Add 5 g, stir at room temperature, and add 30 wt% hydrogen peroxide solution 5
g was added and further stirred to prepare a tungsten oxide catalyst aqueous solution. The internal temperature of the aqueous solution was adjusted to 40 ° C., and 1280 mL of ethanol and 44 g of 2,8-dioctyloxydibenzothiophene were added. Further, 25 g of 30 wt% hydrogen peroxide solution was added, and the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 45 ° C. for 5 hours. Then, the mixture was cooled with ice, 1300 mL of a 6 wt% sodium thiosulfate aqueous solution was added, and toluene was added for extraction treatment. The obtained organic layer was washed with water and then concentrated to obtain 47 g of 2,8-dioctyloxydibenzothiophene sulfone. Yield: 99%.

【0075】実施例2 50mLシュレンク管を窒素置換し、室温で、タングス
テン金属8mgと硫酸水素メチルトリオクチルアンモニ
ウム20.6mgおよび30重量%過酸化水素水6.1
gを仕込み、内温27℃で30分攪拌し、タングステン
酸化物触媒水溶液を調製した。該水溶液に、ジフェニル
スルフィド4gを10分かけて滴下し、内温27℃で2
時間攪拌、保持し、反応させた。途中、生成したジフェ
ニルスルホンが固体として析出し、攪拌できなくなった
ため、酢酸エチルを5mL仕込み、反応を継続した。反
応終了後、反応液に10重量%亜硫酸水素ナトリウム水
溶液11.3gを加え、30分攪拌した後、酢酸エチル
50mLおよびn−デカン(分析用内部標準物質)を加
え、攪拌、静置後、分液処理し、得られた有機層をガス
クロマトグラフィにより分析した。 ジフェニルスルホン収率:94.5%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:5.4%(ジフェニルス
ルフィド基準)。
Example 2 A 50 mL Schlenk tube was replaced with nitrogen, and at room temperature, 8 mg of tungsten metal, 20.6 mg of methyltrioctylammonium hydrogensulfate, and 30% by weight hydrogen peroxide solution 6.1.
g, and the mixture was stirred at an internal temperature of 27 ° C. for 30 minutes to prepare a tungsten oxide catalyst aqueous solution. Diphenyl sulfide (4 g) was added dropwise to the aqueous solution over 10 minutes, and the internal temperature was adjusted to 2 ° C at 2 ° C.
The mixture was stirred, maintained, and reacted for a time. On the way, the produced diphenyl sulfone was precipitated as a solid and stirring became impossible. Therefore, 5 mL of ethyl acetate was charged and the reaction was continued. After the reaction was completed, 11.3 g of a 10 wt% sodium hydrogen sulfite aqueous solution was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 30 minutes, then 50 mL of ethyl acetate and n-decane (internal standard substance for analysis) were added, and the mixture was stirred, left standing, and then separated. Liquid treatment was performed, and the obtained organic layer was analyzed by gas chromatography. Diphenyl sulfone yield: 94.5% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 5.4% (based on diphenyl sulfide).

【0076】実施例3 50mLシュレンク管を窒素置換し、室温で、タングス
テン金属7.3mgおよび30重量%過酸化水素水5.
6gを仕込み、内温27℃で20分攪拌し、タングステ
ン酸化物触媒水溶液を調製した。該水溶液に、メチルト
リオクチルアンモニウムクロリド14.3mgを加え、
さらにジフェニルスルフィド3.7gを10分かけて滴
下し、内温27℃で2時間攪拌、保持し、反応させた。
反応終了後、酢酸エチル20mLおよび10重量%亜硫
酸水素ナトリウム水溶液10.3gを加え、30分攪拌
した後、n−デカン(分析用内部標準物質)を加え、攪
拌、静置後、分液処理し、得られた有機層をガスクロマ
トグラフィにより分析した。 ジフェニルスルホン収率:96.8%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:3.1%(ジフェニルス
ルフィド基準)。
Example 3 A 50 mL Schlenk tube was replaced with nitrogen, and at room temperature, 7.3 mg of tungsten metal and 30 wt% hydrogen peroxide solution were added.
6 g was charged and stirred at an internal temperature of 27 ° C. for 20 minutes to prepare a tungsten oxide catalyst aqueous solution. 14.3 mg of methyltrioctyl ammonium chloride was added to the aqueous solution,
Furthermore, 3.7 g of diphenyl sulfide was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and held at an internal temperature of 27 ° C. for 2 hours to cause a reaction.
After the reaction was completed, 20 mL of ethyl acetate and 10.3 g of a 10 wt% sodium hydrogen sulfite aqueous solution were added, and after stirring for 30 minutes, n-decane (internal standard substance for analysis) was added, and after stirring, leaving still, liquid separation treatment The obtained organic layer was analyzed by gas chromatography. Diphenyl sulfone yield: 96.8% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 3.1% (based on diphenyl sulfide).

【0077】実施例4 50mLシュレンク管を窒素置換し、室温で、タングス
テン金属11mgおよび30重量%過酸化水素水100
mgを仕込み、内温40℃で20分攪拌し、タングステ
ン酸化物触媒水溶液を調製した。該水溶液に、エタノー
ル3gとジフェニルスルフィド372mgを加え、さら
に30重量%過酸化水素水500mgを10分かけて滴
下し、内温40℃で2時間攪拌、保持し、反応させた。
反応終了後、酢酸エチル20mLおよびn−デカン(分
析用内部標準物質)を加え、攪拌後、得られた溶液をガ
スクロマトグラフィにより分析した。 ジフェニルスルホン収率:99.0%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:1.0%(ジフェニルス
ルフィド基準)。
Example 4 A 50 mL Schlenk tube was replaced with nitrogen, and at room temperature, 11 mg of tungsten metal and 30% by weight of hydrogen peroxide solution 100 were added.
mg, and the mixture was stirred at an internal temperature of 40 ° C. for 20 minutes to prepare a tungsten oxide catalyst aqueous solution. To the aqueous solution, 3 g of ethanol and 372 mg of diphenyl sulfide were added, and further 500 mg of 30 wt% hydrogen peroxide solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and held at an internal temperature of 40 ° C. for 2 hours to be reacted.
After completion of the reaction, 20 mL of ethyl acetate and n-decane (internal standard substance for analysis) were added, and after stirring, the obtained solution was analyzed by gas chromatography. Diphenyl sulfone yield: 99.0% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 1.0% (based on diphenyl sulfide).

【0078】実施例5 50mLシュレンク管を窒素置換し、室温で、タングス
テン金属7.8mgおよび30重量%過酸化水素水2.
6gを仕込み、内温27℃で20分攪拌し、タングステ
ン酸化物触媒水溶液を調製した。該水溶液に、メタノー
ル7gおよびジフェニルスルフィド3.9gを10分か
けて滴下し、内温27℃で2時間攪拌、保持し、反応さ
せた。反応終了後、酢酸エチル20mLおよび10重量
%亜硫酸水素ナトリウム水溶液10.3gを加え30分
攪拌した後、n−デカン(分析用内部標準物質)を加
え、攪拌、静置後、分液処理し、得られた有機層をガス
クロマトグラフィにより分析した。 ジフェニルスルホン収率:18.8%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:80.6%(ジフェニル
スルフィド基準)。
Example 5 A 50 mL Schlenk tube was replaced with nitrogen, and at room temperature, 7.8 mg of tungsten metal and 30% by weight of hydrogen peroxide solution were added.
6 g was charged and stirred at an internal temperature of 27 ° C. for 20 minutes to prepare a tungsten oxide catalyst aqueous solution. 7 g of methanol and 3.9 g of diphenyl sulfide were added dropwise to the aqueous solution over 10 minutes, and the mixture was stirred and held at an internal temperature of 27 ° C. for 2 hours to cause a reaction. After the reaction was completed, 20 mL of ethyl acetate and 10.3 g of a 10 wt% sodium hydrogen sulfite aqueous solution were added, and the mixture was stirred for 30 minutes, then n-decane (an internal standard substance for analysis) was added, and the mixture was stirred, allowed to stand, and then subjected to liquid separation treatment. The obtained organic layer was analyzed by gas chromatography. Diphenyl sulfone yield: 18.8% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 80.6% (based on diphenyl sulfide).

【0079】実施例6 50mLシュレンク管を窒素置換し、室温で、タングス
テン金属11mgおよび30重量%過酸化水素水100
mgを仕込み、内温40℃で20分攪拌し、タングステ
ン酸化物触媒水溶液を調製した。該水溶液に、メタノー
ル3gおよびベンゾ[b]チオフェン268mgを加
え、さらに30重量%過酸化水素水500mgを10分
かけて加え、内温40℃で2時間攪拌、反応させた。反
応終了後、酢酸エチル20mLおよびn−デカン(分析
用内部標準物質)を加え、攪拌、静置した後、有機層を
ガスクロマトグラフィにより分析した。 ベンゾ[b]チオフェンスルホン収率:99.5%(ベ
ンゾ[b]チオフェン基準)。 ベンゾ[b]チオフェンスルホキシド収率:0.5%
(ベンゾ[b]チオフェン基準)。
Example 6 A 50 mL Schlenk tube was replaced with nitrogen, and at room temperature, 11 mg of tungsten metal and 30% by weight of hydrogen peroxide solution 100 were added.
mg, and the mixture was stirred at an internal temperature of 40 ° C. for 20 minutes to prepare a tungsten oxide catalyst aqueous solution. To the aqueous solution, 3 g of methanol and 268 mg of benzo [b] thiophene were added, and further 500 mg of 30 wt% hydrogen peroxide solution was added over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 40 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 20 mL of ethyl acetate and n-decane (internal standard substance for analysis) were added, and the mixture was stirred and left standing, and then the organic layer was analyzed by gas chromatography. Benzo [b] thiophene sulfone yield: 99.5% (based on benzo [b] thiophene). Benzo [b] thiophene sulfoxide yield: 0.5%
(Based on benzo [b] thiophene).

【0080】実施例7 実施例4において、タングステン金属11mgに代え
て、硫化タングステン15mgを、エタノールに代えて
メタノールを用いた以外は実施例4と同様に実施した。 ジフェニルスルホン収率:99.5%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:0.5%(ジフェニルス
ルフィド基準)。
Example 7 The same procedure as in Example 4 was carried out except that 15 mg of tungsten sulfide was used in place of 11 mg of tungsten metal and methanol was used in place of ethanol. Diphenyl sulfone yield: 99.5% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 0.5% (based on diphenyl sulfide).

【0081】実施例8 実施例4において、タングステン金属11mgに代え
て、ホウ化タングステン12mgを、エタノールに代え
てメタノールを用いた以外は実施例4と同様に実施し
た。 ジフェニルスルホン収率:69.0%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:31.0%(ジフェニル
スルフィド基準)。
Example 8 Example 8 was repeated except that 12 mg of tungsten boride was used in place of 11 mg of tungsten metal and methanol was used in place of ethanol. Diphenyl sulfone yield: 69.0% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 31.0% (based on diphenyl sulfide).

【0082】実施例9 実施例4において、タングステン金属11mgに代え
て、モリブデン金属6mgを、エタノールに代えてメタ
ノールを用いた以外は実施例4と同様に実施した。 ジフェニルスルホン収率:89.0%(ジフェニルスル
フィド基準)。 ジフェニルスルホキシド収率:11.0%(ジフェニル
スルフィド基準)。
Example 9 The procedure of Example 4 was repeated, except that 6 mg of molybdenum metal was used in place of 11 mg of tungsten metal and methanol was used in place of ethanol. Diphenyl sulfone yield: 89.0% (based on diphenyl sulfide). Diphenyl sulfoxide yield: 11.0% (based on diphenyl sulfide).

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明によれば、入手が容易なタングス
テン金属、モリブデン金属、ホウ化タングステン等のタ
ングステン化合物、ホウ化モリブデン等のモリブデン化
合物の存在下に、スルフィド化合物と安価な過酸化水素
を反応させることにより、スルホン化合物またはスルホ
キシド化合物を容易に得ることができ、また過酸化水素
の使用量をコントロールすることにより、スルホン化合
物またはスルホキシド化合物のいずれか一方を選択的に
得ることができるため、工業的に有利である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a sulfide compound and inexpensive hydrogen peroxide are added in the presence of a readily available tungsten metal, molybdenum metal, a tungsten compound such as tungsten boride, or a molybdenum compound such as molybdenum boride. By reacting, a sulfone compound or a sulfoxide compound can be easily obtained, and by controlling the amount of hydrogen peroxide used, either a sulfone compound or a sulfoxide compound can be selectively obtained, Industrially advantageous.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 333/76 C07D 333/76 (72)発明者 宮脇 崇 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 Fターム(参考) 4G069 AA02 AA08 BB04B BC15A BC20A BC24A BC59B BC60B BD03B BD08B CB79 FB41 4H006 AA02 AC61 BA09 BA11 BA13 BA14 BA15 BA30 BA31 BA65 BC31 BE32 TA01 TA02 4H039 CA80 CC60 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C07D 333/76 C07D 333/76 (72) Inventor Takashi Miyawaki 3-1, Kasugadaka, Konohana-ku, Osaka-shi, Osaka No. 98 Sumitomo Chemical Co., Ltd. F term (reference) 4G069 AA02 AA08 BB04B BC15A BC20A BC24A BC59B BC60B BD03B BD08B CB79 FB41 4H006 AA02 AC61 BA09 BA11 BA13 BA14 BA15 BA30 BA31 BA65 BC31 BE32 TA01 TA02 4H039 CA80 CC60

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】タングステン金属、モリブデン金属、タン
グステンと第IIIb族元素、第IVb族元素、第Vb族元素ま
たは酸素を除く第VIb族元素とからなるタングステン化
合物およびモリブデンと第IIIb族元素、第IVb族元素、
第Vb族元素または酸素を除く第VIb族元素とからなるモ
リブデン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種
と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物触媒の存
在下に、スルフィド化合物と過酸化水素とを反応させる
ことを特徴とするスルホン化合物またはスルホキシド化
合物の製造方法。
1. A tungsten compound comprising tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and a group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element except oxygen, and molybdenum and a group IIIb element, IVb. Group elements,
In the presence of a metal oxide catalyst formed by reacting at least one selected from the group consisting of molybdenum compounds consisting of Group Vb elements or Group VIb elements excluding oxygen with hydrogen peroxide, sulfide compounds and hydrogen peroxide A method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound, which comprises reacting with
【請求項2】スルフィド化合物が、一般式(1) (式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なっ
て、置換されていてもよいアルキル基、置換されていて
もよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基
または置換されていてもよいアルケニル基を表わす。ま
た、R1とR2が結合して環構造の一部を形成していても
よい。)で示されるスルフィド化合物である請求項1に
記載のスルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造
方法。
2. A sulfide compound is represented by the general formula (1): (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or an optionally substituted group. Which represents an alkenyl group, and R 1 and R 2 may combine with each other to form a part of a ring structure.), Wherein the sulfone compound or the sulfoxide compound is produced. Method.
【請求項3】スルフィド化合物が、一般式(2) (式中、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ同一または
相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル
基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されてい
てもよいアリール基、置換されていてもよいアリールオ
キシ基、置換されていてもよいアラルキル基、置換され
ていてもよいアラルキルオキシ基、置換されていてもよ
いアルケニル基、置換されていてもよいアリールアルケ
ニル基、置換されていてもよいアリールアルキニル基、
置換されていてもよいシリル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、置換されていてもよいアシル基、置換さ
れていてもよいアシルオキシ基、置換されていてもよい
アミド基、置換されていてもよいイミド基、カルボキシ
ル基または置換されていてもよいカルボアルコキシ基を
表わす。ここで、R3とR4、R4とR5またはR5とR6
結合して環構造の一部を形成してもよい。)で示される
スルフィド化合物である請求項2に記載のスルホン化合
物またはスルホキシド化合物の製造方法。
3. A sulfide compound is represented by the general formula (2): (In the formula, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and each is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkoxy group or an optionally substituted group. Aryl group, optionally substituted aryloxy group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted aralkyloxy group, optionally substituted alkenyl group, optionally substituted arylalkenyl group An optionally substituted arylalkynyl group,
Optionally substituted silyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, optionally substituted acyl group, optionally substituted acyloxy group, optionally substituted amide group, optionally substituted Represents a good imido group, a carboxyl group or an optionally substituted carboalkoxy group. Here, R 3 and R 4 , R 4 and R 5, or R 5 and R 6 may combine to form a part of the ring structure. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 2, which is a sulfide compound represented by the formula (4).
【請求項4】スルフィド化合物が、一般式(3) (式中、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およ
びR14はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置
換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい
アルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換
されていてもよいアリールオキシ基、置換されていても
よいアラルキル基、置換されていてもよいアラルキルオ
キシ基、置換されていてもよいアルケニル基、置換され
ていてもよいアリールアルケニル基、置換されていても
よいアリールアルキニル基、置換されていてもよいシリ
ル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換されて
いてもよいアシル基、置換されていてもよいアシルオキ
シ基、置換されていてもよいアミド基、置換されていて
もよいイミド基、カルボキシル基または置換されていて
もよいカルボアルコキシ基を表わす。ここで、R7
8、R8とR9、R9とR1 0、R11とR12、R12とR13
たはR13とR14が結合して環構造の一部を形成してもよ
い。)で示されるスルフィド化合物である請求項3に記
載のスルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方
法。
4. The sulfide compound has the general formula (3): (In the formula, R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are the same or different and each is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or a substituted group. Optionally alkoxy group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aryloxy group, optionally substituted aralkyl group, optionally substituted aralkyloxy group, optionally substituted Alkenyl group, optionally substituted arylalkenyl group, optionally substituted arylalkynyl group, optionally substituted silyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, optionally substituted acyl group, Optionally substituted acyloxy group, optionally substituted amide group, optionally substituted imide group, carboxyl group or optionally substituted carbo group Represents an alkoxy group. Here, R 7 and R 8, R 8 and R 9, R 9 and R 1 0, R 11 and R 12, R 12 and R 13 or R 13 and R 14 are bonded ring structure May be formed as a part of the sulfide compound.) The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 3, which is a sulfide compound.
【請求項5】第IIIb族元素が、ホウ素である請求項1に
記載のスルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造
方法。
5. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 1, wherein the Group IIIb element is boron.
【請求項6】第IVb族元素が、炭素である請求項1に記
載のスルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方
法。
6. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 1, wherein the Group IVb element is carbon.
【請求項7】第Vb族元素が、チッ素またはリンである請
求項1に記載のスルホン化合物またはスルホキシド化合
物の製造方法。
7. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 1, wherein the Vb group element is nitrogen or phosphorus.
【請求項8】酸素を除く第VIb族元素が、硫黄である請
求項1に記載のスルホン化合物またはスルホキシド化合
物の製造方法。
8. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 1, wherein the Group VIb element other than oxygen is sulfur.
【請求項9】過酸化水素水を用いる請求項1に記載のス
ルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方法。
9. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 1, wherein hydrogen peroxide water is used.
【請求項10】相関移動触媒の存在下に反応を実施する
請求項1に記載のスルホン化合物またはスルホキシド化
合物の製造方法。
10. The method for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound according to claim 1, wherein the reaction is carried out in the presence of a phase transfer catalyst.
【請求項11】タングステン金属、モリブデン金属、タ
ングステンと第IIIb族元素、第IVb族元素、第Vb族元素
または酸素を除く第VIb族元素とからなるタングステン
化合物およびモリブデンと第IIIb族元素、第IVb族元
素、第Vb族元素または酸素を除く第VIb族元素とからな
るモリブデン化合物からなる群から選ばれる少なくとも
一種と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物触媒
の存在下に、スルフィド化合物と過酸化水素とを反応さ
せて、スルホン化合物を製造する方法であって、スルフ
ィド化合物に対して、1.5モル倍以上の過酸化水素を
用いることを特徴とするスルホン化合物の製造方法。
11. A tungsten compound containing tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and a group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element except oxygen, and molybdenum and a group IIIb element, IVb. A sulfide compound in the presence of a metal oxide catalyst formed by reacting hydrogen peroxide with at least one selected from the group consisting of molybdenum compounds consisting of Group V elements, Group Vb elements or Group VIb elements excluding oxygen. A method for producing a sulfone compound by reacting with hydrogen peroxide, comprising using 1.5 mole times or more of hydrogen peroxide with respect to a sulfide compound.
【請求項12】タングステン金属、モリブデン金属、タ
ングステンと第IIIb族元素、第IVb族元素、第Vb族元素
または酸素を除く第VIb族元素とからなるタングステン
化合物およびモリブデンと第IIIb族元素、第IVb族元
素、第Vb族元素または酸素を除く第VIb族元素とからな
るモリブデン化合物からなる群から選ばれる少なくとも
一種と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物触媒
の存在下に、スルフィド化合物と過酸化水素とを反応さ
せて、スルホキシド化合物を製造する方法であって、ス
ルフィド化合物に対して、0.8モル倍以上、1.5モ
ル倍未満の過酸化水素を用いることを特徴とするスルホ
キシド化合物の製造方法。
12. A tungsten compound comprising tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and a group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element except oxygen, and molybdenum and a group IIIb element, IVb. A sulfide compound in the presence of a metal oxide catalyst formed by reacting hydrogen peroxide with at least one selected from the group consisting of molybdenum compounds consisting of Group V elements, Group Vb elements or Group VIb elements excluding oxygen. A method for producing a sulfoxide compound by reacting with hydrogen peroxide, characterized in that hydrogen peroxide is used in an amount of 0.8 mole times or more and less than 1.5 mole times that of the sulfide compound. Method for producing compound.
【請求項13】タングステン金属、モリブデン金属、タ
ングステンと第IIIb族元素、第IVb族元素、第Vb族元素
または酸素を除く第VIb族元素とからなるタングステン
化合物およびモリブデンと第IIIb族元素、第IVb族元
素、第Vb族元素または酸素を除く第VIb族元素とからな
るモリブデン化合物からなる群から選ばれる少なくとも
一種と過酸化水素とを反応せしめてなる、スルフィド化
合物と過酸化水素とを反応させてスルホン化合物または
スルホキシド化合物を製造するための金属酸化物触媒。
13. A tungsten compound containing tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and a group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element except oxygen, and molybdenum and a group IIIb element, IVb. A hydrogen peroxide is reacted with at least one selected from the group consisting of molybdenum compounds consisting of Group V elements, Group Vb elements or Group VIb elements excluding oxygen, by reacting sulfide compounds with hydrogen peroxide. A metal oxide catalyst for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound.
【請求項14】タングステン金属、モリブデン金属、タ
ングステンと第IIIb族元素、第IVb族元素、第Vb族元素
または酸素を除く第VIb族元素とからなるタングステン
化合物およびモリブデンと第IIIb族元素、第IVb族元
素、第Vb族元素または酸素を除く第VIb族元素とからな
るモリブデン化合物からなる群から選ばれる少なくとも
一種と過酸化水素水とを反応せしめてなる、スルフィド
化合物と過酸化水素とを反応させてスルホン化合物また
はスルホキシド化合物を製造するための金属酸化物触媒
水溶液。
14. A tungsten compound containing tungsten metal, molybdenum metal, tungsten and a group IIIb element, a group IVb element, a group Vb element or a group VIb element except oxygen, and molybdenum and a group IIIb element, IVb. A sulfide compound and hydrogen peroxide are reacted by reacting at least one selected from the group consisting of molybdenum compounds consisting of Group V elements, Group Vb elements or Group VIb elements excluding oxygen with aqueous hydrogen peroxide. An aqueous metal oxide catalyst solution for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound.
【請求項15】請求項14に記載の金属酸化物触媒水溶
液と有機溶媒とからなる、スルフィド化合物と過酸化水
素とを反応させてスルホン化合物またはスルホキシド化
合物を製造するための金属酸化物触媒溶液。
15. A metal oxide catalyst solution for producing a sulfone compound or a sulfoxide compound by reacting a sulfide compound and hydrogen peroxide, which comprises the aqueous solution of the metal oxide catalyst according to claim 14 and an organic solvent.
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