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JP2003298404A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JP2003298404A
JP2003298404A JP2002098375A JP2002098375A JP2003298404A JP 2003298404 A JP2003298404 A JP 2003298404A JP 2002098375 A JP2002098375 A JP 2002098375A JP 2002098375 A JP2002098375 A JP 2002098375A JP 2003298404 A JP2003298404 A JP 2003298404A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
internal circuit
circuit
potential
semiconductor integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002098375A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Ando
貴史 安藤
Tomoyuki Kumamaru
知之 熊丸
Keiichi Kusumoto
馨一 楠本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2002098375A priority Critical patent/JP2003298404A/en
Publication of JP2003298404A publication Critical patent/JP2003298404A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To supply an electric current required for reducing a leak electric current when not operating an internal circuit provided in a semiconductor integrated circuit device, and for operating the internal circuit. <P>SOLUTION: The semiconductor integrated circuit device is provided with a first power source means equipped with a current supply element composed of a bipolar transistor for supplying a first potential required for operating the internal circuit and a second power source means for supplying a second potential set lower than the first potential, and when operating the internal circuit, the first potential is supplied but when not operating the internal circuit, the second potential is supplied. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電源供給技術を利
用してリーク電流の低減を実現する半導体集積回路装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device which realizes reduction of leak current by utilizing power supply technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体集積回路装置の消費電流を
低減するために、例えば特開昭63−65714号公報
に示されるように、内部回路を動作させない時に、前記
内部回路に対して、前記内部回路を動作させる時に必要
な電圧よりも低い電圧を供給する技術が提案されてい
た。MOSトランジスタからなる半導体集積回路では供
給される電圧がトランジスタのしきい値よりも低い場
合、リーク電流の大きさは供給される電圧に比例する。
従って、内部回路を動作させない時に内部回路に供給さ
れる電圧を下げることによって、内部回路を動作させな
い時のリーク電流が減少し消費電流を低減させることが
できる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to reduce the current consumption of a semiconductor integrated circuit device, as shown in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-65714, when the internal circuit is not operated, the internal circuit is There has been proposed a technique for supplying a voltage lower than that required when operating the internal circuit. In a semiconductor integrated circuit composed of MOS transistors, when the supplied voltage is lower than the threshold value of the transistor, the magnitude of the leak current is proportional to the supplied voltage.
Therefore, by lowering the voltage supplied to the internal circuit when the internal circuit is not operated, the leakage current when the internal circuit is not operated can be reduced and the current consumption can be reduced.

【0003】上記従来技術において、半導体集積回路装
置全体のリーク電流がどのように変化するかを、図6に
示されるような、電源回路44と内部回路45からなる
単純化された半導体集積回路装置によって説明する。
In the above-mentioned prior art, a simplified semiconductor integrated circuit device comprising a power supply circuit 44 and an internal circuit 45 as shown in FIG. 6 shows how the leak current of the entire semiconductor integrated circuit device changes. Explained by.

【0004】内部回路45は、電源回路44に接続され
ており、電源電位Vddは電源回路44によりVdd1
またはVdd2(Vdd1>Vdd2)に降下される。
そして、内部回路45を動作させる時には出力電位Vd
d1が内部回路45に供給され、内部回路45を動作さ
せない時には出力電位Vdd2が内部回路45に供給さ
れる。
The internal circuit 45 is connected to a power supply circuit 44, and the power supply potential Vdd is Vdd1 by the power supply circuit 44.
Alternatively, the voltage is lowered to Vdd2 (Vdd1> Vdd2).
When operating the internal circuit 45, the output potential Vd
d1 is supplied to the internal circuit 45, and the output potential Vdd2 is supplied to the internal circuit 45 when the internal circuit 45 is not operated.

【0005】図7(a)に示すように、内部回路45に
供給する電源電位を動作状態の電位Vdd1(たとえば
1.5V)から、非動作状態の電位Vdd2(たとえば
0.01V)に降下させたとする。このとき、電源回路
44にかかる電圧は、V1からV1'に増加し、内部回
路45にかかる電圧はV2からV2'に減少する。
As shown in FIG. 7A, the power supply potential supplied to the internal circuit 45 is lowered from the operating potential Vdd1 (for example, 1.5 V) to the non-operating potential Vdd2 (for example, 0.01 V). Suppose At this time, the voltage applied to the power supply circuit 44 increases from V1 to V1 ′, and the voltage applied to the internal circuit 45 decreases from V2 to V2 ′.

【0006】図8(a)(b)は、電源回路および内部
回路を流れる電流と回路にかかる電圧の関係を示してい
る。曲線1は、電源回路44の電流電圧曲線を表し、曲
線2は、内部回路45の電流電圧曲線を表している。内
部回路45にかかる電圧が動作状態V2から非動作状態
のV2'に低下すると、内部回路45のリーク電流は、
I2からI2'に減少する。一方、電源回路44にかか
る電圧は、動作状態のV1から非動作状態のV1'に上
昇し、電源回路43のリーク電流は、I1からI1'に
上昇する。
8A and 8B show the relationship between the current flowing through the power supply circuit and the internal circuit and the voltage applied to the circuit. Curve 1 represents the current-voltage curve of the power supply circuit 44, and curve 2 represents the current-voltage curve of the internal circuit 45. When the voltage applied to the internal circuit 45 drops from the operating state V2 to the non-operating state V2 ′, the leakage current of the internal circuit 45 becomes
It decreases from I2 to I2 '. On the other hand, the voltage applied to the power supply circuit 44 rises from V1 in the operating state to V1 ′ in the non-operating state, and the leak current of the power supply circuit 43 rises from I1 to I1 ′.

【0007】装置全体を流れる電流は、電源回路を流れ
る電流と内部回路を流れる電流の和であるから、動作状
態ではI1+I2であり、非動作状態ではI1'+I2'と
なり、リーク電流が減少する。
Since the current flowing through the entire device is the sum of the current flowing through the power supply circuit and the current flowing through the internal circuit, it is I1 + I2 in the operating state and I1 '+ I2' in the non-operating state, and the leakage current is Decrease.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、内部回
路の非動作状態において装置全体のリーク電流を所定の
リーク電流以下にするためには内部回路のリーク電流を
低減させるだけでは十分ではなく、電源回路のリーク電
流も低減しなければならない。
However, it is not enough to reduce the leak current of the internal circuit in order to reduce the leak current of the entire device to a predetermined leak current or less in the non-operating state of the internal circuit. The leakage current must also be reduced.

【0009】ここで、電源回路が内部回路と同様にMO
Sトランジスタからなる場合には、MOSトランジスタ
のしきい値を大きく設定するか、あるいはMOSトラン
ジスタゲート幅を小さくしてリーク電流を小さくするこ
とが考えられる。ただし、リーク電流と動作電流とは、
トレードオフの関係であり、リーク電流を小さくすると
いうことは、同時に動作電流も小さくすることになる。
したがって、電源回路のMOSトランジスタに流れる動
作電流が小さくなる場合、内部回路を動作させる時に、
内部回路に供給できる電流が小さくなり、内部回路の動
作速度が遅くなるという問題があった。
Here, the power supply circuit is similar to the internal circuit in MO
In the case of S-transistors, it is conceivable to set the threshold value of the MOS transistor large or to reduce the gate width of the MOS transistor to reduce the leak current. However, the leakage current and the operating current are
This is a trade-off relationship, and reducing the leak current also reduces the operating current.
Therefore, when the operating current flowing through the MOS transistor of the power supply circuit becomes small, when operating the internal circuit,
There is a problem that the current that can be supplied to the internal circuit becomes small and the operation speed of the internal circuit becomes slow.

【0010】本発明は、前記従来技術に見られた欠点を
解決し、内部回路を動作させない時のリーク電流を低減
し、かつ前記内部回路を動作させるために必要な電流を
供給することができる電源回路を備えた半導体集積回路
装置を提供しようとするものである。
The present invention solves the above-mentioned drawbacks of the prior art, reduces the leak current when the internal circuit is not operated, and can supply the current necessary for operating the internal circuit. It is intended to provide a semiconductor integrated circuit device including a power supply circuit.

【0011】また、本発明は、前記のリーク電流の課題
を解決する以外に、内部回路を動作させない時に、動作
状態において設定された内部回路の信号を保持するため
に必要な電位を供給する電源回路を備えた半導体集積回
路装置を提供しようとするものである。
In addition to solving the above-mentioned problem of leakage current, the present invention provides a power supply for supplying a potential necessary for holding a signal of the internal circuit set in an operating state when the internal circuit is not operated. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device including a circuit.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明による半導体集積
回路装置は、前記半導体集積回路装置に含まれる内部回
路が非動作状態にある時の消費電流を低減させるため
に、バイポーラトランジスタよりなる電流供給素子を含
み、前記内部回路を動作させるために必要な第1の電位
を供給する第1の電源手段と、前記第1の電位よりも低
く設定された第2の電位を供給する第2の電源手段とを
備えている。
A semiconductor integrated circuit device according to the present invention is provided with a current supply composed of a bipolar transistor in order to reduce current consumption when an internal circuit included in the semiconductor integrated circuit device is in a non-operating state. A first power supply unit including an element for supplying a first potential necessary for operating the internal circuit; and a second power supply for supplying a second potential lower than the first potential. And means.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明における実施の形態
について、図面を用いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】(第一の実施の形態)図1は、本発明の第
一の実施の形態における半導体集積回路装置の概略構成
を示すブロック図である。図1における半導体集積回路
装置は、システム基板1に、第一電源回路2と、半導体
集積回路装置3と制御信号出力回路4を備え、電源15
から電源電位Vdd(たとえば3V)が供給されてい
る。
(First Embodiment) FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention. The semiconductor integrated circuit device in FIG. 1 includes a system board 1, a first power supply circuit 2, a semiconductor integrated circuit device 3 and a control signal output circuit 4, and a power supply 15
Is supplied with the power supply potential Vdd (for example, 3 V).

【0015】電源電位Vddは第一電源回路2によって
降下され、半導体集積回路装置3と制御信号出力回路4
に電源電位Vdd3(たとえば1.5V)が供給されて
いる。半導体集積回路装置3は、第一内部回路6と第二
電源回路5で構成されており、第一内部回路6は、第一
電源回路2および第二電源回路5に接続されている。
The power supply potential Vdd is dropped by the first power supply circuit 2, and the semiconductor integrated circuit device 3 and the control signal output circuit 4 are supplied.
Is supplied with the power supply potential Vdd3 (for example, 1.5 V). The semiconductor integrated circuit device 3 includes a first internal circuit 6 and a second power supply circuit 5, and the first internal circuit 6 is connected to the first power supply circuit 2 and the second power supply circuit 5.

【0016】第一電源回路2は、バイポーラトランジス
タ7、バイポーラトランジスタ8、第一電圧制御回路1
0、第二電圧制御回路11および第一基準電位発生回路
13で構成されている。第二電源回路5は、PMOSト
ランジスタ9、第三電圧制御回路12および第二基準電
位発生回路14で構成されている。
The first power supply circuit 2 includes a bipolar transistor 7, a bipolar transistor 8 and a first voltage control circuit 1.
0, the second voltage control circuit 11 and the first reference potential generation circuit 13. The second power supply circuit 5 includes a PMOS transistor 9, a third voltage control circuit 12, and a second reference potential generation circuit 14.

【0017】第一電圧制御回路10には、制御信号出力
回路4および第一基準電位発生回路13が接続されてお
り、第一電圧制御回路10は制御信号出力回路4からの
制御信号を受け、バイポーラトランジスタ7のON、O
FF状態を制御するとともに、バイポーラトランジスタ
7がON状態の時には第一基準電位発生回路13が発生
する電位Vref1(ここでは、1.5V)とバイポー
ラトランジスタ7の出力電位を比較して両者が等しくな
るように前記バイポーラトランジスタ7のゲートに与え
る電圧を制御する。第二電圧制御回路11には、第一基
準電位発生回路13が接続されており、第一基準電位発
生回路13が発生する電位Vref1と前記バイポーラ
トランジスタ8の出力電位を比較して両者が等しくなる
ようにバイポーラトランジスタ8のゲートに与える電圧
を制御する。第三電圧制御回路12には、制御信号出力
回路4および第二基準電位発生回路14が接続されてお
り、第三電圧制御回路12は制御信号出力回路4からの
制御信号を受け、PMOSトランジスタ9のON、OF
F状態を制御するとともに、PMOSトランジスタ9が
ON状態の時には第二基準電位発生回路14が発生する
電位Vref2(ここでは0.01V)と前記PMOS
トランジスタ9の出力電位を比較して両者が等しくなる
ようにPMOSトランジスタ9のゲートに与える電圧を
制御する。
A control signal output circuit 4 and a first reference potential generating circuit 13 are connected to the first voltage control circuit 10, and the first voltage control circuit 10 receives a control signal from the control signal output circuit 4. ON and O of bipolar transistor 7
While controlling the FF state, the potential Vref1 (here, 1.5 V) generated by the first reference potential generating circuit 13 and the output potential of the bipolar transistor 7 are compared when the bipolar transistor 7 is in the ON state, and both are equal. Thus, the voltage applied to the gate of the bipolar transistor 7 is controlled. A first reference potential generation circuit 13 is connected to the second voltage control circuit 11, and the potential Vref1 generated by the first reference potential generation circuit 13 and the output potential of the bipolar transistor 8 are compared to make them equal. Thus, the voltage applied to the gate of the bipolar transistor 8 is controlled. The control signal output circuit 4 and the second reference potential generation circuit 14 are connected to the third voltage control circuit 12, and the third voltage control circuit 12 receives the control signal from the control signal output circuit 4 and receives the PMOS transistor 9 ON, OF
In addition to controlling the F state, the potential Vref2 (0.01 V in this case) generated by the second reference potential generating circuit 14 when the PMOS transistor 9 is in the ON state and the PMOS
The output potential of the transistor 9 is compared, and the voltage applied to the gate of the PMOS transistor 9 is controlled so that they are equal.

【0018】バイポーラトランジスタ7は、ON状態の
時に電源電位Vddを降下させた電源電位Vdd1(た
とえば1.5V)を、第一内部回路6に供給する。バイ
ポーラトランジスタ8は、常時ON状態であり、電源電
位Vddを降下させた電源電位Vdd3を第二電源回路
5および制御信号出力回路4に供給する。PMOSトラ
ンジスタ9は、ON状態の時に電源電位Vdd3を降下
させた電源電位Vdd2(たとえば0.01V)を第一
内部回路6に供給する。この電源電位Vdd2は、動作
状態で設定された第一内部回路6の信号を非動作状態に
おいて保持することができる電位である。
The bipolar transistor 7 supplies to the first internal circuit 6 the power supply potential Vdd1 (for example, 1.5 V) obtained by dropping the power supply potential Vdd when in the ON state. The bipolar transistor 8 is always in the ON state and supplies the power supply potential Vdd3 obtained by lowering the power supply potential Vdd to the second power supply circuit 5 and the control signal output circuit 4. The PMOS transistor 9 supplies to the first internal circuit 6 the power supply potential Vdd2 (for example, 0.01 V) obtained by dropping the power supply potential Vdd3 when in the ON state. The power supply potential Vdd2 is a potential capable of holding the signal of the first internal circuit 6 set in the operating state in the non-operating state.

【0019】図2に、バイポーラトランジスタ7とPM
OSトランジスタ9のON、OFF状態と、第一内部回
路6に供給される電源電位の関係を示す。制御信号出力
回路4は、第一内部回路6を動作させる時には、バイポ
ーラトランジスタ7をON状態にし、PMOSトランジ
スタ9はOFF状態にするように、第一電圧制御回路1
0および第三電圧制御回路12に制御信号を出力してい
る。このとき、第一内部回路6には、第一電源回路2か
ら電源電位Vdd1が供給される。制御信号出力回路4
からスリープ開始信号が第一電圧制御回路10および第
三電圧制御回路12に送られると、バイポーラトランジ
スタ7はOFF状態にし、PMOSトランジスタ9はO
N状態にして、第一内部回路6は動作状態から非動作状
態へと変化する。この時、第一内部回路6には、第二電
源回路5から電源電位Vdd2が供給される。その後、
第一内部回路6を動作させる時には、制御信号出力回路
4からスリープ終了信号が第一電圧制御回路10と第三
電圧制御回路12に送られ、バイポーラトランジスタ7
はON状態にし、PMOSトランジスタ9はOFF状態
にして、第一内部回路6に供給される電位は電源電位V
dd2から電源電位Vdd1へと変わり、第一内部回路
6は動作状態に戻る。
FIG. 2 shows a bipolar transistor 7 and a PM.
The relationship between the ON / OFF state of the OS transistor 9 and the power supply potential supplied to the first internal circuit 6 is shown. The control signal output circuit 4 turns on the bipolar transistor 7 and turns off the PMOS transistor 9 when the first internal circuit 6 is operated.
0 and the control signal is output to the third voltage control circuit 12. At this time, the first power supply circuit 2 supplies the power supply potential Vdd1 to the first internal circuit 6. Control signal output circuit 4
When a sleep start signal is sent from the first voltage control circuit 10 to the third voltage control circuit 12, the bipolar transistor 7 is turned off and the PMOS transistor 9 is turned off.
In the N state, the first internal circuit 6 changes from the operating state to the non-operating state. At this time, the power supply potential Vdd2 is supplied from the second power supply circuit 5 to the first internal circuit 6. afterwards,
When operating the first internal circuit 6, a sleep end signal is sent from the control signal output circuit 4 to the first voltage control circuit 10 and the third voltage control circuit 12, and the bipolar transistor 7
Is turned on, the PMOS transistor 9 is turned off, and the potential supplied to the first internal circuit 6 is the power supply potential V.
The power supply potential Vdd1 is changed from dd2, and the first internal circuit 6 returns to the operating state.

【0020】ここで、本実施の形態において、バイポー
ラトランジスタ7とPMOSトランジスタ9は、第一内
部回路6を動作させない時に、バイポーラトランジスタ
7を流れるリーク電流と、PMOSトランジスタ9を流
れるリーク電流の和が前記所定のリーク電流以下になる
ように製造されている。
In this embodiment, the bipolar transistor 7 and the PMOS transistor 9 have a sum of a leak current flowing through the bipolar transistor 7 and a leak current flowing through the PMOS transistor 9 when the first internal circuit 6 is not operated. It is manufactured so as to have a predetermined leakage current or less.

【0021】本実施の形態におけるバイポーラトランジ
スタ7は、OFF状態の時のリーク電流が前記条件を満
たすと同時に、ON状態の時には第一内部回路6を所定
の動作速度で動作させるために必要な電流を供給する必
要がある。前記の2つの条件を満たすには、PMOSト
ランジスタよりも、バイポーラトランジスタの方が特性
上有利であるため、バイポーラトランジスタを用いた。
In the bipolar transistor 7 of the present embodiment, the leakage current in the OFF state satisfies the above-mentioned conditions, and at the same time in the ON state, the current required to operate the first internal circuit 6 at a predetermined operating speed. Need to supply. In order to satisfy the above two conditions, the bipolar transistor is used because the bipolar transistor is more advantageous in characteristics than the PMOS transistor.

【0022】また、本実施の形態における第二電源回路
5は、非動作状態において半導体集積回路装置3のリー
ク電流を供給する能力があれば十分であるため、第二電
源回路5を構成するPMOSトランジスタ9のゲート幅
は大きくする必要はなく、小面積化が可能である。この
第二電源回路5を半導体集積回路装置3の内部に設ける
ことの面積増は微量であるため、内部に設けて、部品点
数を削減することができる。
Further, the second power supply circuit 5 in the present embodiment is sufficient if it has the ability to supply the leak current of the semiconductor integrated circuit device 3 in the non-operating state. The gate width of the transistor 9 does not need to be large, and the area can be reduced. Since the area increase of providing the second power supply circuit 5 inside the semiconductor integrated circuit device 3 is very small, the second power supply circuit 5 can be provided inside to reduce the number of parts.

【0023】また、動作状態において設定された第一内
部回路6の信号を保持するという観点からは、第二電源
回路5を備えることにより、非動作状態において第一内
部回路6にかかる電位Vdd2を、信号を保持すること
が可能な任意の電位に設定することが可能となる。
Further, from the viewpoint of holding the signal of the first internal circuit 6 set in the operating state, by providing the second power supply circuit 5, the potential Vdd2 applied to the first internal circuit 6 in the non-operating state is set. , It is possible to set any potential capable of holding a signal.

【0024】以上のように、本実施の形態の構成によれ
ば、半導体集積回路装置の内部回路を動作させない時に
前記半導体集積回路装置全体のリーク電流を所定の値以
下に抑制し、かつ前記内部回路を動作させる時には、前
記内部回路に前記内部回路を所定の速度で動作させるの
に必要な電流を供給することができるので、消費電流が
少なく、しかも高性能な半導体集積回路装置を提供する
ことができる。
As described above, according to the structure of this embodiment, the leak current of the entire semiconductor integrated circuit device is suppressed to a predetermined value or less when the internal circuit of the semiconductor integrated circuit device is not operated, and the internal circuit of the semiconductor integrated circuit device is suppressed. (EN) When operating a circuit, a current necessary for operating the internal circuit at a predetermined speed can be supplied to the internal circuit, so that a high-performance semiconductor integrated circuit device with low current consumption is provided. You can

【0025】(第二の実施の形態)図3は、本発明の第
二の実施の形態における半導体集積回路装置の概略構成
を示すブロック図である。この実施の形態における半導
体集積回路装置は、第一の実施の形態の構成に対して、
半導体集積回路装置16、スイッチ22およびスイッチ
23を追加したものである。半導体集積回路装置16
は、半導体集積回路装置3と同様、第三電源回路17と
第二内部回路18で構成されている。
(Second Embodiment) FIG. 3 is a block diagram showing a schematic structure of a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention. The semiconductor integrated circuit device in this embodiment is different from the configuration of the first embodiment in that
A semiconductor integrated circuit device 16, a switch 22 and a switch 23 are added. Semiconductor integrated circuit device 16
Like the semiconductor integrated circuit device 3, is composed of a third power supply circuit 17 and a second internal circuit 18.

【0026】第一内部回路6を動作させる時には、スイ
ッチ22は閉じており、第一内部回路6には第一電源回
路2から電位Vdd1が供給される。また、第二内部回
路18を動作させる時には、スイッチ23は閉じてお
り、第二内部回路18には第一電源回路2から電位Vd
d1が供給される。
When the first internal circuit 6 is operated, the switch 22 is closed, and the potential Vdd1 is supplied to the first internal circuit 6 from the first power supply circuit 2. Further, when the second internal circuit 18 is operated, the switch 23 is closed, and the second internal circuit 18 receives the potential Vd from the first power supply circuit 2.
d1 is supplied.

【0027】一方、第一内部回路6を動作させない時に
は、スイッチ22は開いており、第一内部回路6には第
二電源回路5から電位Vdd2が供給される。また、第
二内部回路18を動作させない時には、スイッチ23は
開いており、第二内部回路18には第三電源回路17か
ら電位Vdd4が供給される。
On the other hand, when the first internal circuit 6 is not operated, the switch 22 is open, and the potential Vdd2 is supplied to the first internal circuit 6 from the second power supply circuit 5. Further, when the second internal circuit 18 is not operated, the switch 23 is open, and the potential Vdd4 is supplied to the second internal circuit 18 from the third power supply circuit 17.

【0028】さらに、第一内部回路6と第二内部回路1
8をともに動作させない時には、バイポーラトランジス
タ7をOFF状態にし、Vdd1の供給は停止する。
Further, the first internal circuit 6 and the second internal circuit 1
When both 8 are not operated, the bipolar transistor 7 is turned off and the supply of Vdd1 is stopped.

【0029】電位Vdd2および電位Vdd4は、第一
内部回路6および第二内部回路18の動作時に第一内部
回路6および第二内部回路18内に設定された信号を保
持するという観点から、第一内部回路6および第二内部
回路18を動作させない時に、第一内部回路6および第
二内部回路18に供給される電位であり、本実施の形態
の構成においては、第二電源回路5から第一内部回路6
に供給される電位Vdd2と、第三電源回路17から第
二内部回路18に供給される電位Vdd4とは異なる電
位に設定が可能である。
The potential Vdd2 and the potential Vdd4 hold the signals set in the first internal circuit 6 and the second internal circuit 18 during the operation of the first internal circuit 6 and the second internal circuit 18, respectively. The potential is supplied to the first internal circuit 6 and the second internal circuit 18 when the internal circuit 6 and the second internal circuit 18 are not operated. Internal circuit 6
The potential Vdd2 supplied to the second internal circuit 18 and the potential Vdd2 supplied to the second internal circuit 18 can be set to different potentials.

【0030】なお、本実施の形態では、内部回路を含む
半導体回路装置の数を2としたが、3以上の場合でもス
イッチを介して第一電源回路2に接続すれば、同様の効
果を得ることができる。
In the present embodiment, the number of semiconductor circuit devices including the internal circuit is set to 2. However, even when the number is 3 or more, the same effect can be obtained by connecting the first power supply circuit 2 through the switch. be able to.

【0031】以上のように、本実施の形態によれば、第
一の実施の形態と同様の効果が得られるほかに、内部回
路を含む複数の半導体集積回路装置が存在する時に、そ
れぞれの内部回路の特性に合わせて、非動作状態の電位
設定を変えられるので、より消費電流が少ない半導体集
積回路装置を提供できるという効果がある。
As described above, according to this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and when there are a plurality of semiconductor integrated circuit devices including internal circuits, the respective internal Since the potential setting in the non-operating state can be changed according to the characteristics of the circuit, there is an effect that it is possible to provide a semiconductor integrated circuit device that consumes less current.

【0032】(第三の実施の形態)図4は、本発明の第
三の実施の形態における半導体集積回路装置の概略構成
を示すブロック図である。この実施の形態の半導体集積
回路装置は、第一の実施の形態における半導体集積回路
装置の構成に対して、電圧変換回路としてPMOSトラ
ンジスタ26を追加したものである。PMOSトランジ
スタ26は、ON状態の時には、電位Vdd1(たとえ
ば1.5V)を降下させた電位Vdd5(たとえば1.
2V)を第三内部回路29に供給する。第三内部回路2
9を動作させる時には、バイポーラトランジスタ7およ
びPMOSトランジスタ26をON状態にし、PMOS
トランジスタ9をOFF状態にする。また、第三内部回
路29を動作させない時には、バイポーラトランジスタ
7およびPMOSトランジスタ26をOFF状態にし、
PMOSトランジスタ9をON状態にする。
(Third Embodiment) FIG. 4 is a block diagram showing a schematic structure of a semiconductor integrated circuit device according to a third embodiment of the present invention. The semiconductor integrated circuit device of this embodiment is obtained by adding a PMOS transistor 26 as a voltage conversion circuit to the configuration of the semiconductor integrated circuit device of the first embodiment. When the PMOS transistor 26 is in the ON state, the potential Vdd5 (for example, 1.V.
2 V) is supplied to the third internal circuit 29. Third internal circuit 2
9 is operated, the bipolar transistor 7 and the PMOS transistor 26 are turned on, and the
The transistor 9 is turned off. When the third internal circuit 29 is not operated, the bipolar transistor 7 and the PMOS transistor 26 are turned off,
The PMOS transistor 9 is turned on.

【0033】この実施の形態における構成によれば、第
一の実施の形態と同様の効果を得ることができ、さら
に、電圧変換回路としてPMOSトランジスタ26を半
導体集積回路装置24に内蔵することで、第三内部回路
29を動作させるときに第三内部回路29に供給する電
源電位Vdd5の制御性が向上するので、より高性能で
消費電流の少ない半導体集積回路装置を提供できるとい
う効果がある。
According to the structure of this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Further, by incorporating the PMOS transistor 26 in the semiconductor integrated circuit device 24 as a voltage conversion circuit, Since the controllability of the power supply potential Vdd5 supplied to the third internal circuit 29 when operating the third internal circuit 29 is improved, there is an effect that a semiconductor integrated circuit device having higher performance and less current consumption can be provided.

【0034】(第四の実施の形態)図5は、本発明の第
四の実施の形態における半導体集積回路装置の概略構成
を示すブロック図である。
(Fourth Embodiment) FIG. 5 is a block diagram showing a schematic structure of a semiconductor integrated circuit device according to a fourth embodiment of the present invention.

【0035】図5における半導体集積回路装置は、シス
テム基板1に、第一電源回路2と、半導体集積回路装置
30と制御信号出力回路4を備え、電源15から電源電
位Vdd(たとえば3V)が供給されている。
The semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 5 includes a system board 1, a first power supply circuit 2, a semiconductor integrated circuit device 30, and a control signal output circuit 4, and a power supply 15 supplies a power supply potential Vdd (for example, 3 V). Has been done.

【0036】半導体集積回路装置30の内部には3つの
内部回路が存在し、第四内部回路41は、第一電源回路
2と直接接続されており、第五内部回路42と第六内部
回路43は、第五電源回路31を介して第一電源回路2
に接続されている。
There are three internal circuits inside the semiconductor integrated circuit device 30, the fourth internal circuit 41 is directly connected to the first power supply circuit 2, and the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43. Is the first power supply circuit 2 via the fifth power supply circuit 31.
It is connected to the.

【0037】第五電源回路31は、電流供給素子である
PMOSトランジスタ32とPMOSトランジスタ3
4、スイッチとして機能するPMOSトランジスタ3
3、第六電圧制御回路35、第七電圧制御回路36、第
八電圧制御回路37、第五基準電位発生回路38、第六
基準電位発生回路39および第七基準電位発生回路40
により構成されており、PMOSトランジスタ32は、
ON状態の時に電源電位Vdd6(たとえば0.01
V)を出力し、PMOSトランジスタ34は、ON状態
の時に電源電位Vdd7(たとえば0.05V)を出力
するものである。スイッチとして機能するPMOSトラ
ンジスタ33は、第五内部回路42と第六内部回路43
の間に設けられている。
The fifth power supply circuit 31 includes a PMOS transistor 32 and a PMOS transistor 3 which are current supply elements.
4, PMOS transistor 3 that functions as a switch
3, sixth voltage control circuit 35, seventh voltage control circuit 36, eighth voltage control circuit 37, fifth reference potential generation circuit 38, sixth reference potential generation circuit 39 and seventh reference potential generation circuit 40
And the PMOS transistor 32 is
In the ON state, the power supply potential Vdd6 (for example, 0.01
V), and the PMOS transistor 34 outputs the power supply potential Vdd7 (for example, 0.05 V) when in the ON state. The PMOS transistor 33 that functions as a switch includes a fifth internal circuit 42 and a sixth internal circuit 43.
It is provided between.

【0038】第四内部回路41、第五内部回路42およ
び第六内部回路43を動作させる時には、バイポーラト
ランジスタ7、バイポーラトランジスタ8およびPMO
Sトランジスタ33をON状態にし、PMOSトランジ
スタ32およびPMOSトランジスタ34をOFF状態
にすることにより、バイポーラトランジスタ7によって
電源電位Vdd1が出力され、第四内部回路41、第五
内部回路42および第六内部回路43に電源電位Vdd
1が供給される。
When operating the fourth internal circuit 41, the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43, the bipolar transistor 7, bipolar transistor 8 and PMO are operated.
By turning on the S transistor 33 and turning off the PMOS transistor 32 and the PMOS transistor 34, the power supply potential Vdd1 is output by the bipolar transistor 7, and the fourth internal circuit 41, the fifth internal circuit 42, and the sixth internal circuit are output. 43 is the power supply potential Vdd
1 is supplied.

【0039】一方、第四内部回路41、第五内部回路4
2および第六内部回路43をともに動作させない時に
は、バイポーラトランジスタ8、PMOSトランジスタ
32、PMOSトランジスタ34をON状態にし、バイ
ポーラトランジスタ7およびPMOSトランジスタ33
をOFF状態にすることにより、第一電源回路2から第
四内部回路41、第五内部回路42および第六内部回路
43への出力は停止され、第五内部回路42と第六内部
回路43は電気的に独立になる。同時に第五内部回路4
2にはPMOSトランジスタ32から電源電位Vdd6
が、第六内部回路43にはPMOSトランジスタ34か
ら電源電位Vdd7が供給される。
On the other hand, the fourth internal circuit 41 and the fifth internal circuit 4
When both the second and sixth internal circuits 43 are not operated, the bipolar transistor 8, the PMOS transistor 32, and the PMOS transistor 34 are turned on, and the bipolar transistor 7 and the PMOS transistor 33 are turned on.
Is turned off, the output from the first power supply circuit 2 to the fourth internal circuit 41, the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43 is stopped, and the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43 are Be electrically independent. At the same time, the fifth internal circuit 4
2 to the power supply potential Vdd6 from the PMOS transistor 32.
However, the power supply potential Vdd7 is supplied from the PMOS transistor 34 to the sixth internal circuit 43.

【0040】この実施の形態の構成においては、内部回
路を動作させない時に、動作状態で設定された信号を保
持する必要がある内部回路と、信号を保持する必要がな
い内部回路が存在する場合、信号を保持する必要がある
第五内部回路42および第六内部回路43には、信号を
保持することが可能な所定の電位(Vdd6、Vdd
7)を供給し、信号を保持する必要のない第四内部回路
41は電位の供給を遮断することが可能である。
In the configuration of this embodiment, when there are an internal circuit that needs to hold the signal set in the operating state and an internal circuit that does not need to hold the signal when the internal circuit is not operated, The fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43, which need to hold signals, have predetermined potentials (Vdd6, Vdd) capable of holding signals.
The fourth internal circuit 41 which supplies 7) and does not need to hold the signal can cut off the supply of the potential.

【0041】また、第五内部回路42と第六内部回路4
3の間にスイッチとして機能するPMOSトランジスタ
33を設け、前記PMOSトランジスタ33をOFF状
態にして、第五内部回路42と第六内部回路43を電気
的に切り離すことにより、第五内部回路42と第六内部
回路43を動作させない時に、第五内部回路42と第六
内部回路43とで信号を保持することが可能な所定の電
位が異なる場合に、異なる所定の電源電位(Vdd6、
Vdd7)を供給することが可能である。
Further, the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 4
3 is provided with a PMOS transistor 33 functioning as a switch, the PMOS transistor 33 is turned off, and the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43 are electrically separated from each other. When the fifth internal circuit 42 and the sixth internal circuit 43 have different predetermined potentials capable of holding signals when the sixth internal circuit 43 is not operated, different predetermined power supply potentials (Vdd6,
It is possible to supply Vdd7).

【0042】以上のように、本実施の形態の構成によれ
ば、第一の実施の形態と同様の効果を得ることができ、
さらに、非半導体集積回路装置の内部に複数の内部回路
が存する場合においても、内部回路を動作させない時
に、内部回路ごとに電源の遮断、供給が設定することが
できる。また、内部回路を動作させない時に電源を供給
する必要がある場合には、内部回路ごとに異なる所定の
電源電位を設定することができるので、より消費電流の
少ない半導体集積回路装置を提供できる効果がある。
As described above, according to the configuration of this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained,
Further, even when a plurality of internal circuits exist inside the non-semiconductor integrated circuit device, it is possible to set the power supply to be cut off or supplied for each internal circuit when the internal circuits are not operated. In addition, when it is necessary to supply power when the internal circuit is not operated, a different predetermined power supply potential can be set for each internal circuit, so that it is possible to provide a semiconductor integrated circuit device with less current consumption. is there.

【0043】なお、前記説明した第一、第二、第三およ
び第四の実施の形態では、第一電圧制御回路10、第二
電圧制御回路11および第一基準電位発生回路13は、
半導体集積回路装置3、半導体集積回路装置16、半導
体集積回路装置24または半導体集積回路装置30の外
部に設けた第一電源回路2の内部に設け、また制御信号
出力回路4を半導体集積回路装置3、半導体集積回路装
置16、半導体集積回路装置24または半導体集積回路
装置30の外部に設けるとしたが、これらの第一電圧制
御回路10、第二電圧制御回路11、第一基準電位発生
回路13および制御信号出力回路4を半導体集積回路装
置3、半導体集積回路装置16、半導体集積回路装置2
4または半導体集積回路装置30の内部に設けてもよ
い。このように構成することで、前記実施の形態と比較
して、チップ面積の削減および部品点数削減によるコス
ト削減という利点も生じる。
In the first, second, third and fourth embodiments described above, the first voltage control circuit 10, the second voltage control circuit 11 and the first reference potential generating circuit 13 are:
The semiconductor integrated circuit device 3, the semiconductor integrated circuit device 16, the semiconductor integrated circuit device 24, or the semiconductor integrated circuit device 30 is provided inside the first power supply circuit 2, and the control signal output circuit 4 is provided. The semiconductor integrated circuit device 16, the semiconductor integrated circuit device 24, or the semiconductor integrated circuit device 30 is provided outside the semiconductor integrated circuit device 16. However, these first voltage control circuit 10, second voltage control circuit 11, first reference potential generation circuit 13, and The control signal output circuit 4 is used as the semiconductor integrated circuit device 3, the semiconductor integrated circuit device 16, and the semiconductor integrated circuit device 2.
4 or inside the semiconductor integrated circuit device 30. With such a configuration, there is an advantage of cost reduction due to the reduction of the chip area and the number of parts as compared with the above-mentioned embodiment.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明において開示される発明のうち代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。電源回路にバイポーラトランジスタ
を備えることにより、内部回路の非動作状態において、
リーク電流を所定の値まで低減することができ、かつ、
前記内部回路を所定の動作速度で動作させるのに必要な
電流を供給できるという効果がある。また、内部回路を
動作させない時においても、信号を保持することが可能
な電位を供給することにより、信号を保持できるという
効果を得る。
The effects obtained by the typical one of the inventions disclosed in the present invention will be briefly described as follows.
It is as follows. By providing a bipolar transistor in the power supply circuit, in the non-operating state of the internal circuit,
Leakage current can be reduced to a predetermined value, and
There is an effect that a current required to operate the internal circuit at a predetermined operating speed can be supplied. Further, by supplying a potential capable of holding a signal even when the internal circuit is not operated, an effect that the signal can be held is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を説明するための半導体集積回路装置の
構成を示す要部ブロック図
FIG. 1 is a block diagram of a main part showing a configuration of a semiconductor integrated circuit device for explaining the present invention.

【図2】本発明を説明するための動作状態および非動作
状態における電源電圧の変化を示す図
FIG. 2 is a diagram showing changes in a power supply voltage in an operating state and a non-operating state for explaining the present invention.

【図3】本発明に係る半導体集積回路装置の一実施の形
態を示す要部ブロック図
FIG. 3 is a principal block diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図4】本発明に係る半導体集積回路装置の他の一実施
の形態を示す要部ブロック図
FIG. 4 is a principal block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図5】本発明に係る半導体集積回路装置の他の一実施
の形態を示す要部ブロック図
FIG. 5 is a principal block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図6】従来技術の構成を示すブロック図FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a conventional technique.

【図7】従来技術を説明するための電源電圧の状態とリ
ーク電流の関係を示す図
FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a state of a power supply voltage and a leak current for explaining a conventional technique.

【図8】従来技術を説明するためのリーク電流の電圧依
存性を示す図
FIG. 8 is a diagram showing a voltage dependence of a leak current for explaining a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 システム基板 2 第一電源回路 3、16、24、30 半導体集積回路装置 4 制御信号出力回路 5 第二電源回路 6 第一内部回路 7、8 バイポーラトランジスタ 9、19、26、32、33、34 PMOSトランジ
スタ 10 第一電圧制御回路 11 第二電圧制御回路 12 第三電圧制御回路 13 第一基準電位発生回路 14 第二基準電位発生回路 15 電源 17 第三電源回路 18 第二内部回路 20 第四電圧制御回路 21 第三基準電位発生回路 22、23 スイッチ 25 第四電源回路 27 第五電圧制御回路 28 第四基準電位発生回路 29 第三内部回路 31 第五電源回路 35 第六電圧制御回路 36 第七電圧制御回路 37 第八電圧制御回路 38 第五基準電位発生回路 39 第六基準電位発生回路 40 第七基準電位発生回路 41 第四内部回路 42 第五内部回路 43 第六内部回路 44 電源回路 45 内部回路
1 System Board 2 First Power Supply Circuit 3, 16, 24, 30 Semiconductor Integrated Circuit Device 4 Control Signal Output Circuit 5 Second Power Supply Circuit 6 First Internal Circuit 7, 8 Bipolar Transistor 9, 19, 26, 32, 33, 34 PMOS transistor 10 First voltage control circuit 11 Second voltage control circuit 12 Third voltage control circuit 13 First reference potential generation circuit 14 Second reference potential generation circuit 15 Power supply 17 Third power supply circuit 18 Second internal circuit 20 Fourth voltage Control circuit 21 Third reference potential generation circuit 22, 23 Switch 25 Fourth power supply circuit 27 Fifth voltage control circuit 28 Fourth reference potential generation circuit 29 Third internal circuit 31 Fifth power supply circuit 35 Sixth voltage control circuit 36 Seventh Voltage control circuit 37 Eighth voltage control circuit 38 Fifth reference potential generation circuit 39 Sixth reference potential generation circuit 40 Seventh reference potential generation circuit 41 Fourth internal circuit 42 Fifth internal circuit 43 Sixth internal circuit 44 Power supply circuit 45 Internal circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 楠本 馨一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5J056 AA00 BB49 CC04 DD02 DD13 EE02 EE03 EE15 FF07 GG09 KK01 KK03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Keiichi Kusumoto             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. F term (reference) 5J056 AA00 BB49 CC04 DD02 DD13                       EE02 EE03 EE15 FF07 GG09                       KK01 KK03

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内部回路と、 バイポーラトランジスタよりなる電流供給素子を含み、
前記内部回路を動作させるために必要な第1の電位を供
給する第1の電源手段と、 前記第1の電位よりも低く設定された第2の電位を供給
する第2の電源手段とを備えていることを特徴とする半
導体集積回路装置。
1. An internal circuit, comprising a current supply element composed of a bipolar transistor,
A first power supply means for supplying a first potential necessary for operating the internal circuit; and a second power supply means for supplying a second potential set lower than the first potential. And a semiconductor integrated circuit device.
【請求項2】 前記第1、2の電源手段が供給する電位
を制御する電圧制御回路と、 前記内部回路を動作させる時には、前記第1の電源手段
から前記内部回路に前記第1の電位を供給し、前記第2
の電源からの出力は停止させ、前記内部回路を動作させ
ない時には、前記内部回路に前記第2の電源手段から第
2の電位を供給し、前記第1の電源からの出力は停止さ
せるように機能する制御回路を備えていることを特徴と
する請求項1に記載の半導体集積回路装置。
2. A voltage control circuit for controlling a potential supplied by the first and second power supply means, and a first voltage from the first power supply means to the internal circuit when operating the internal circuit. Supply the second
The output from the power supply is stopped, and when the internal circuit is not operated, a second potential is supplied from the second power supply means to the internal circuit, and the output from the first power supply is stopped. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising a control circuit that operates.
【請求項3】 第1および第2の内部回路と、 バイポーラトランジスタよりなる電流供給素子を含み、
前記第1および第2の内部回路を動作させるために必要
な第1の電位を供給する第1の電源手段と、 前記第1の内部回路に前記第1の電位よりも低く設定さ
れた第2の電位を出力する第2の電源手段と、 前記第2の内部回路に前記第1の電位よりも低く設定さ
れた第3の電位を出力する第3の電源手段と、 前記第1の電源手段と前記第1の内部回路との間に存
し、前記第1の電源手段と前記第1の内部回路を電気的
に接続し、または切り離す第1のスイッチ手段と、 前記第1の電源手段と前記第2の内部回路との間に存
し、前記第1の電源手段と前記第2の内部回路を電気的
に接続し、または切り離す第2のスイッチ手段とを備え
ていることを特徴とする半導体集積回路装置。
3. A first and a second internal circuit, and a current supply element composed of a bipolar transistor,
First power supply means for supplying a first potential necessary for operating the first and second internal circuits; and a second power supply means set to the first internal circuit to be lower than the first potential. Second power supply means for outputting the third potential, a third power supply means for outputting a third potential lower than the first potential to the second internal circuit, and the first power supply means. And a first internal circuit, which electrically connects or disconnects the first power supply means and the first internal circuit, and a first power supply means. It is characterized by comprising a second switch means existing between the second internal circuit and electrically connecting or disconnecting the first power supply means and the second internal circuit. Semiconductor integrated circuit device.
【請求項4】 前記第1の内部回路を動作させる時に
は、前記第1のスイッチ手段を閉じて、前記第1の電源
手段から前記第1の内部回路に前記第1の電位を供給
し、前記第2の電源の出力は停止させるように制御し、 前記第2の内部回路を動作させる時には、前記第2のス
イッチ手段を閉じて、前記第1の電源手段から前記第2
の内部回路に前記第1の電位を供給し、前記第3の電源
の出力は停止させるように制御し、 前記第1の内部回路を動作させない時には、前記第1の
スイッチ手段を開いて、前記第1の電源手段と前記第1
の内部回路とが電気的に独立になるようにし、前記第1
の内部回路には前記第2の電源手段から第2の電位を供
給するように制御し、 前記第2の内部回路を動作させない時には、前記第2の
スイッチ手段を開いて、前記第1の電源手段と前記第2
の内部回路とが電気的に独立になるようにし、前記第2
の内部回路には前記第3の電源手段から第3の電位を供
給するように制御し、 さらに前記第1の内部回路と前記第2の内部回路をとも
に動作させない時には、前記第1の電源手段からの出力
を停止するように制御する制御回路を備えていることを
特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路装置。
4. When operating the first internal circuit, the first switch means is closed to supply the first potential from the first power supply means to the first internal circuit, The output of the second power supply is controlled so as to be stopped, and when the second internal circuit is operated, the second switch means is closed so that the first power supply means outputs the second power.
Is controlled to stop the output of the third power supply by supplying the first electric potential to the internal circuit of the third power supply, and when the first internal circuit is not operated, the first switch means is opened to First power supply means and the first
Of the first circuit so that it is electrically independent from the internal circuit of
Is controlled so as to supply a second potential from the second power supply means to the internal circuit, and when the second internal circuit is not operated, the second switch means is opened to open the first power supply. Means and said second
Of the second circuit so that it is electrically independent of the internal circuit of
Is controlled so as to supply a third potential from the third power supply means, and when the first internal circuit and the second internal circuit are not operated together, the first power supply means 4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 3, further comprising a control circuit for controlling so as to stop the output from the device.
【請求項5】 内部回路と、 バイポーラトランジスタからなる電流供給素子を含み、
第1の電位を供給する第1の電源手段と、 前記第1の電位を前記内部回路を動作させるために必要
な第2の電位に変換し、前記内部回路に供給するための
電圧変換手段と、 前記内部回路に前記第2の電位よりも低く設定された第
3の電位を供給する第2の電源手段とを備えていること
を特徴とする半導体集積回路装置。
5. An internal circuit and a current supply element comprising a bipolar transistor,
First power supply means for supplying a first potential, and voltage conversion means for converting the first potential into a second potential required for operating the internal circuit and supplying the second potential to the internal circuit. A semiconductor integrated circuit device, comprising: a second power supply unit that supplies a third potential lower than the second potential to the internal circuit.
【請求項6】 前記電圧変換手段はMOSトランジスタ
よりなることを特徴とする請求項5に記載の半導体集積
回路装置。
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the voltage converting means is a MOS transistor.
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