Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2003292154A - Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller - Google Patents

Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller

Info

Publication number
JP2003292154A
JP2003292154A JP2002103053A JP2002103053A JP2003292154A JP 2003292154 A JP2003292154 A JP 2003292154A JP 2002103053 A JP2002103053 A JP 2002103053A JP 2002103053 A JP2002103053 A JP 2002103053A JP 2003292154 A JP2003292154 A JP 2003292154A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
heat treatment
thick film
pair
printed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002103053A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Takahane
義明 高羽
Hidetaka Shimizu
英孝 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritake Co Ltd
Original Assignee
Noritake Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Noritake Co Ltd filed Critical Noritake Co Ltd
Priority to JP2002103053A priority Critical patent/JP2003292154A/en
Publication of JP2003292154A publication Critical patent/JP2003292154A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Rollers For Roller Conveyors For Transfer (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-treating apparatus for thick-film printed circuit boards and a carrier roller that can perform appropriate heat treatment on the front and rear of a substrate where a thick-film material paste is printed, and do not cause inconveniences such as the meandering of the substrate in transport. <P>SOLUTION: A pair of guide members 50 are provided on a plurality of transport rollers 32 that are arranged in parallel one another and are rotated and driven around each axis center by sharing the rotary axis center with the transport rollers 32. Therefore, the substrate 20 is supported on a rotor- shaped body section 52 in the pair of guide members 50 at the edge section for transportation without causing the rear to come into contact with the transport rollers 32. Additionally, the pair of guide members 50 are provided with an annular projection 54 for preventing the meandering of the substrate 20, so that an advance direction is corrected by the annular projection 54 when the substrate 20 nearly meanders. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば厚膜材料
ペーストが印刷されたシリコンウェハなどの基板に熱処
理を施す為の厚膜印刷基板用熱処理装置の改良に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of a heat treatment apparatus for a thick film printed substrate for heat treating a substrate such as a silicon wafer on which a thick film material paste is printed.

【0002】[0002]

【従来の技術】複数の被焼成物を支持して1方向に順次
搬送する過程で、それら複数の被焼成物に熱処理を施す
形式のトンネル式の熱処理装置の一つとして、互いに平
行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数
本の搬送ローラによって複数の被焼成物を支持して順次
搬送しつつ熱処理を施す所謂ローラハースキルン(以
下、RHKという)が知られている。そのようなRHK
においては、メッシュベルトで搬送する場合のような炉
体内部における摺動がなくそれに伴う塵埃が発生し得な
いため、被焼成物の汚染が生じ難いという利点がある。
とりわけ、搬送ローラがセラミックスから構成される場
合には、炉体内部において被焼成物が金属と接触させら
れないことから、一層汚染が抑制される。その為、被焼
成物の性質から特に炉内を清浄に保つことが望まれる熱
処理に好適に用いられている。また、メッシュベルトは
不可避的に炉体外部に露出する部分が多く、加熱・冷却
に伴う熱損失によるランニングコストの増大が顕著であ
り、さらにはメッシュベルトに用いられる材料は熱によ
る変形を起こし易い為、比較的頻繁(交換周期1〜2
年)に交換する必要がありメンテナンスコストが無視で
きないが、上記RHKによれば、そのようなメッシュベ
ルトに起因する弊害を解消できるという利点もある。
2. Description of the Related Art In the process of supporting a plurality of objects to be fired and sequentially transporting them in one direction, the plurality of objects to be fired are arranged in parallel with each other as one of the tunnel type heat treatment devices. There is known a so-called roller hearth kiln (hereinafter, referred to as RHK) in which a plurality of objects to be fired are supported by a plurality of conveyor rollers each of which is rotatably driven about its axis, and sequentially heat-treated. Such RHK
In the above, since there is no sliding inside the furnace body as in the case of carrying by a mesh belt and dust accompanying it cannot be generated, there is an advantage that the object to be fired is unlikely to be contaminated.
In particular, when the transport roller is made of ceramics, the object to be fired cannot be brought into contact with the metal inside the furnace body, so that the contamination is further suppressed. Therefore, it is preferably used for heat treatment in which it is desired to keep the inside of the furnace clean due to the properties of the material to be fired. In addition, since the mesh belt has many parts that are inevitably exposed to the outside of the furnace body, the running cost is significantly increased due to heat loss due to heating and cooling. Furthermore, the material used for the mesh belt is easily deformed by heat. Therefore, it is relatively frequent (replacement cycle 1-2)
However, according to the above RHK, there is also an advantage that the adverse effect caused by such a mesh belt can be eliminated.

【0003】ところで、たとえば太陽電池基板の作製に
おいては、シリコンウェハなどの基板の表面および裏面
にそれぞれ異なるパターンでアルミニウム・銀などの厚
膜材料ペーストが印刷された後、その厚膜材料ペースト
に含まれる有機溶媒などを燃え抜けさせ、所定の機能を
備えた材料膜を焼成する為に熱処理が施される。そのよ
うな熱処理に際して、炉内の清浄度は作製される太陽電
池基板の特性に大きな影響を与える為、本発明者は、か
かる厚膜材料ペーストが印刷された基板に熱処理を施す
為に上述のRHKを用いることを考え、鋭意研究に取り
組んできた。
By the way, in the production of a solar cell substrate, for example, after a thick film material paste such as aluminum and silver is printed in different patterns on the front surface and the back surface of a substrate such as a silicon wafer, it is included in the thick film material paste. Heat treatment is performed in order to burn out the organic solvent and the like to be burnt out and to bake the material film having a predetermined function. During such heat treatment, the cleanliness in the furnace has a great influence on the characteristics of the solar cell substrate to be produced. Therefore, the present inventor described above in order to perform heat treatment on the substrate on which such a thick film material paste is printed. Considering the use of RHK, I have been engaged in earnest research.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、厚膜印刷
基板用熱処理装置の開発を進める中で、従来のRHKを
厚膜材料ペーストが印刷された基板の熱処理に用いるに
際しての課題を新たに見出した。すなわち、(a)上記
太陽電池基板などは裏面にも厚膜材料ペーストが印刷さ
れていることがほとんどであるので、その裏面が前記搬
送ローラから離隔された状態で搬送される必要があるこ
と、および、(b)上記基板を前記搬送ローラにより搬
送するに際してその基板が蛇行する可能性があること、
の2点である。上記基板の裏面が前記搬送ローラに接触
した状態で搬送がおこなわれると、その裏面の熱処理が
好適におこなわれない。また、上述のように蛇行した基
板は炉の内壁に衝突して不良となることが考えられる。
The present inventor, while developing a heat treatment apparatus for a thick film printed substrate, has a new problem in using a conventional RHK for heat treatment of a substrate on which a thick film material paste is printed. Found in. That is, (a) in most cases, the back surface of the solar cell substrate or the like is also printed with the thick film material paste, so that the back surface needs to be transported while being separated from the transport roller. And (b) the substrate may meander when being transported by the transport roller.
There are two points. If the back surface of the substrate is transported while being in contact with the transport roller, the heat treatment of the back surface is not favorably performed. Further, it is conceivable that the meandering substrate collides with the inner wall of the furnace and becomes defective.

【0005】本発明は、以上の事情を背景として為され
たものであり、その目的とするところは、厚膜材料ペー
ストが印刷された基板の表面および裏面に好適な熱処理
を施すことができ且つ搬送に際してその基板が蛇行する
などの不具合を生じさせない厚膜印刷基板用熱処理装置
および搬送ローラを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention that suitable heat treatment can be applied to the front surface and the back surface of a substrate on which a thick film material paste is printed. It is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus for thick film printed substrates and a transport roller that do not cause a problem such as meandering of the substrate during transport.

【0006】[0006]

【課題を解決するための第1の手段】かかる目的を達成
する為に、本第1発明の要旨とするところは、互いに平
行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数
本の搬送ローラを備え、その複数本の搬送ローラにより
1方向に搬送される厚膜材料ペーストが印刷された基板
に熱処理を施す為の厚膜印刷基板用熱処理装置であっ
て、前記搬送ローラには、前記基板の端部を外周面にお
いて支持する為の回転体状本体部と、前記基板の蛇行を
防止する為にその回転体状本体部と一体的に設けられた
円環状突部とをそれぞれ備えた1対のガイド部材が、前
記搬送ローラと回転軸心を共有して設けられていること
を特徴とするものである。
In order to achieve such an object, the gist of the first invention is that a plurality of conveyors are arranged in parallel with each other and are rotationally driven around their respective axes. A heat treatment device for a thick film printed substrate, comprising: a roller, for performing a heat treatment on a substrate on which a thick film material paste is conveyed, which is conveyed in one direction by a plurality of conveyance rollers. A rotating body-like main body portion for supporting the end portion of the substrate on the outer peripheral surface, and an annular projecting portion integrally provided with the rotating body-like main body portion to prevent meandering of the substrate are provided. It is characterized in that a pair of guide members are provided so as to share a rotation axis with the conveying roller.

【0007】[0007]

【第1発明の効果】このようにすれば、互いに平行に配
置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数本の搬
送ローラそれぞれに、前記1対のガイド部材がその搬送
ローラと回転軸心を共有して設けられている為、前記基
板がその端部においてかかる1対のガイド部材における
回転体状本体部に支持されることによりその裏面が前記
搬送ローラに接触することなく搬送がおこなわれる。ま
た、前記1対のガイド部材は、前記基板の蛇行を防止す
る為の円環状突部をそれぞれ備えたものである為、前記
基板が蛇行しそうになった場合にその円環状突部により
進行方向が修正される。すなわち、厚膜材料ペーストが
印刷された基板の表面および裏面に好適な熱処理を施す
ことができ且つ搬送に際してその基板が蛇行するなどの
不具合を生じさせない厚膜印刷基板用熱処理装置を提供
することができる。
According to this structure, the pair of guide members are provided for each of the plurality of conveying rollers which are arranged parallel to each other and are driven to rotate about their respective axes. Since the substrate is supported by the rotating body-like main body portion of the pair of guide members at the end portions thereof, the substrate is transported without the back surface of the substrate contacting the transport roller. . Further, since the pair of guide members are respectively provided with the annular protrusions for preventing the substrate from meandering, when the substrates are about to meander, the annular protrusions cause a traveling direction. Is fixed. That is, it is possible to provide a heat treatment apparatus for a thick film printed substrate which can perform suitable heat treatment on the front surface and the back surface of the substrate on which the thick film material paste is printed and which does not cause troubles such as meandering of the substrate during transportation. it can.

【0008】[0008]

【第1発明の他の態様】ここで、好適には、前記1対の
ガイド部材における回転体状本体部は、相対向する他方
のガイド部材に向かうほど径が漸減するテーパ状外周面
をそれぞれ備えたものである。このようにすれば、前記
基板がその端部においてかかる1対のガイド部材におけ
る回転体状本体部に点接触により支持されるので、たと
えば前記基板の裏面において端部のごく付近まで厚膜材
料ペーストが印刷されていたとしても好適な熱処理を施
すことができるという利点がある。
[Other Aspects of the First Aspect of the Invention] Here, it is preferable that each of the pair of guide members has a rotating body-like main body having a tapered outer peripheral surface whose diameter gradually decreases toward the other opposing guide member. Be prepared. In this way, the substrate is supported at the end portions by point contact with the rotating body-like main body of the pair of guide members, so that, for example, the thick film material paste is formed on the back surface of the substrate up to the vicinity of the end portion. There is an advantage that a suitable heat treatment can be performed even if is printed.

【0009】[0009]

【課題を解決するための第2の手段】また、前記目的を
達成する為に、本第2発明の要旨とするところは、厚膜
材料ペーストが印刷された基板に熱処理を施す為の厚膜
印刷基板用熱処理装置において、互いに平行に配置され
てそれぞれ軸心回りに回転駆動されることにより前記基
板を1方向に搬送する為の搬送ローラであって、前記基
板の端部を外周面において支持する為の回転体状本体部
と、前記基板の蛇行を防止する為に該回転体状本体部と
一体的に設けられた円環状突部とをそれぞれ備えた1対
のガイド部材が、前記搬送ローラと回転軸心を共有して
設けられていることを特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the gist of the second invention is that a thick film for applying heat treatment to a substrate on which a thick film material paste is printed. In a heat treatment apparatus for a printed board, the transfer rollers are arranged in parallel with each other and are driven to rotate in the direction of an axis, respectively, so as to transfer the board in one direction. A pair of guide members, each of which has a rotating body for moving the substrate and an annular projection integrally formed with the rotating body for preventing the substrate from meandering. It is characterized in that it is provided so as to share the axis of rotation with the roller.

【0010】[0010]

【第2発明の効果】このようにすれば、前記厚膜印刷基
板用熱処理装置において、互いに平行に配置されてそれ
ぞれ軸心回りに回転駆動される複数本の搬送ローラそれ
ぞれに、前記1対のガイド部材がその搬送ローラと回転
軸心を共有して設けられている為、前記基板がその端部
においてかかる1対のガイド部材の回転体状本体部に支
持されることによりその裏面が前記搬送ローラに接触す
ることなく搬送がおこなわれる。また、前記1対のガイ
ド部材は、前記基板の蛇行を防止する為の円環状突部を
それぞれ備えたものである為、前記基板が蛇行しそうに
なった場合にその円環状突部により進行方向が修正され
る。すなわち、厚膜材料ペーストが印刷された基板の表
面および裏面に好適な熱処理を施すことができ且つ搬送
に際してその基板が蛇行するなどの不具合を生じさせな
い搬送ローラを提供することができる。
According to the second aspect of the invention, in the heat treatment apparatus for a thick film printed circuit board, the pair of conveying rollers arranged in parallel with each other and driven to rotate about their respective axes are provided with the pair of pairs. Since the guide member is provided so as to share the rotation axis center with the conveying roller, the back surface of the substrate is conveyed by being supported by the rotating body-like main body portion of the pair of guide members at the end portions thereof. Transport is performed without contacting the rollers. Further, since the pair of guide members are respectively provided with the annular protrusions for preventing the substrate from meandering, when the substrates are about to meander, the annular protrusions cause a traveling direction. Is fixed. That is, it is possible to provide a carrying roller which can perform suitable heat treatment on the front surface and the back surface of the substrate on which the thick film material paste is printed and which does not cause a trouble such as meandering of the substrate during carrying.

【0011】[0011]

【第2発明の他の態様】ここで、好適には、前記1対の
ガイド部材における回転体状本体部は、相対向する他方
のガイド部材に向かうほど径が漸減するテーパ状外周面
をそれぞれ備えたものである。このようにすれば、前記
基板がその端部においてかかる1対のガイド部材におけ
る回転体状本体部に点接触により支持されるので、たと
えば前記基板の裏面において端部のごく付近まで厚膜材
料ペーストが印刷されていたとしても好適な熱処理を施
すことができるという利点がある。
According to another aspect of the second aspect of the present invention, preferably, the rotating body-like main body portions of the pair of guide members each have a tapered outer peripheral surface whose diameter gradually decreases toward the other opposing guide member. Be prepared. In this way, the substrate is supported at the end portions by point contact with the rotating body-like main body of the pair of guide members, so that, for example, the thick film material paste is formed on the back surface of the substrate up to the vicinity of the end portion. There is an advantage that a suitable heat treatment can be performed even if is printed.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を図面に基づい
て詳細に説明する。なお、以下の説明に用いる図面に関
して、各部の寸法比等は必ずしも正確には描かれていな
い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. In the drawings used in the following description, the dimensional ratio of each part is not necessarily drawn accurately.

【0013】図1は、本発明の一実施例である厚膜印刷
基板用熱処理装置10の構成を説明する概略図である。
この図1に示すように、本実施例の厚膜印刷基板用熱処
理装置10は、厚膜材料ペーストが印刷された複数の基
板20を支持して図において矢印Sで示す1方向に順次
搬送する過程で、それら複数の基板20に熱処理を施す
形式のトンネル式の熱処理装置であり、その炉内最高温
度がたとえば200℃程度とされた長手トンネル状の乾
燥炉12と、その炉内最高温度がたとえば750℃程度
とされた長手トンネル状の焼成炉14と、間接的な水冷
によって基板20の温度を室温付近まで冷却する為の冷
却装置16と、上記乾燥炉12、焼成炉14、および冷
却装置16を支持固定する為のフレーム18とを備えて
構成されている。
FIG. 1 is a schematic view for explaining the structure of a heat treatment apparatus 10 for thick film printed circuit board which is an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the heat treatment apparatus 10 for a thick film printed substrate of the present embodiment supports a plurality of substrates 20 on which a thick film material paste is printed and sequentially conveys them in one direction indicated by an arrow S in the figure. This is a tunnel type heat treatment apparatus of the type that heat-treats the plurality of substrates 20 in the process, and the long tunnel-shaped drying furnace 12 whose maximum temperature in the furnace is, for example, about 200 ° C. and the maximum temperature in the furnace are For example, a long tunnel-shaped baking furnace 14 at about 750 ° C., a cooling device 16 for cooling the temperature of the substrate 20 to near room temperature by indirect water cooling, the drying furnace 12, the baking furnace 14, and a cooling device. A frame 18 for supporting and fixing 16 is provided.

【0014】上記乾燥炉12および焼成炉14は、たと
えば断熱性耐火物あるいはガラスウールなどの保温材で
外部を包まれたセラミックファイバボード(たとえばシ
リカ−アルミナ系の組成による太さ10μm以下のセラ
ミックス繊維を含有した断熱板状材料)などによる炉心
管(マッフル)から構成されたものであり、上記フレー
ム18により水平状態で支持されている。また、かかる
乾燥炉12および焼成炉14の内壁には、たとえばシリ
カ系のセラミックス材料がさらにコーティングされるこ
とにより、炉内の清浄度がより高められている。
The drying furnace 12 and the firing furnace 14 are ceramic fiber boards (for example, a ceramic fiber having a silica-alumina composition and a thickness of 10 .mu.m or less) whose outside is wrapped with a heat insulating material such as a heat-resistant refractory or glass wool. It is composed of a core tube (muffle) made of a heat-insulating plate-like material containing a) and is supported by the frame 18 in a horizontal state. Further, the inner walls of the drying furnace 12 and the baking furnace 14 are further coated with, for example, a silica-based ceramic material, so that the cleanliness inside the furnace is further enhanced.

【0015】前記乾燥炉12には、たとえば中間赤外線
ヒータ22が設けられており、その常用温度は約150
℃程度とされている。また、前記焼成炉14には、厚膜
材料ペーストの焼成に必要な急加熱プロファイルに対応
する為、たとえば近赤外線ヒータ(ハロゲンヒータ)2
4が設けられており、その常用温度は約670℃程度と
されている。また、前記乾燥炉12および焼成炉14に
はそれぞれ排気口26および28が設けられている。か
かる排気口26および28は、前記基板20に印刷され
る厚膜材料ペーストの特性に合わせて最も効率よく排気
がおこなわれる位置に設けられ、その排気口26および
28に備えられたエゼクタにより排気がおこなわれる。
ここで、前記基板20に印刷される厚膜材料ペーストに
含まれる低融点の有機溶剤は、上記排気口26付近にて
液化して前記基板20に滴下する可能性がある為、好適
には、そのように滴下する有機溶剤を受け止める為の図
示しない受け皿が配設されている。また、前記乾燥炉1
2および焼成炉14に空気を送り込む為の図示しない給
気管は、たとえば乾燥炉12および焼成炉14それぞれ
の炉体内に埋設されており、管内を通過する過程で予熱
された空気が炉内に供給される。
The drying furnace 12 is provided with, for example, a mid-infrared heater 22 and its normal temperature is about 150.
It is said to be about ℃. Further, in the firing furnace 14, for example, a near-infrared heater (halogen heater) 2 is provided in order to cope with a rapid heating profile required for firing the thick film material paste.
4 is provided, and its normal temperature is about 670 ° C. Further, the drying furnace 12 and the baking furnace 14 are provided with exhaust ports 26 and 28, respectively. The exhaust ports 26 and 28 are provided at positions where the exhaust is most efficiently performed according to the characteristics of the thick film material paste printed on the substrate 20, and the exhaust ports 26 and 28 are provided with the ejectors. It is carried out.
Here, since the low melting point organic solvent contained in the thick film material paste printed on the substrate 20 may be liquefied near the exhaust port 26 and dropped onto the substrate 20, preferably, A tray (not shown) for receiving the organic solvent thus dropped is provided. Also, the drying furnace 1
2 and the air supply pipe (not shown) for sending air to the firing furnace 14 are embedded in the furnace bodies of the drying furnace 12 and the firing furnace 14, respectively, and the air preheated in the process of passing through the tubes is supplied to the furnace. To be done.

【0016】前記冷却装置16は、たとえば前記フレー
ム18と同程度の幅寸法を備えた冷却ジャケット30が
上下に設けられて構成されたものであり、その冷却ジャ
ケット30の内部に図示しない冷却水配管から冷却水が
流通させられることにより、前述のように、前記基板2
0が前記冷却装置16内を通過する過程で、その温度を
間接的な水冷によって室温付近まで冷却するものであ
る。
The cooling device 16 comprises, for example, a cooling jacket 30 having a width dimension similar to that of the frame 18 provided vertically, and inside the cooling jacket 30, a cooling water pipe (not shown) is provided. As described above, the cooling water is circulated from the substrate 2 as described above.
In the process of 0 passing through the inside of the cooling device 16, the temperature is cooled to near room temperature by indirect water cooling.

【0017】本実施例の厚膜印刷基板用熱処理装置10
は、互いに平行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆
動されることにより前記基板20を図1において矢印S
で示す1方向に搬送する為の複数本の搬送ローラ32が
設けられた所謂ローラハースキルン(以下、RHKとい
う)である。かかる搬送ローラ32の材料としては、た
とえばその温度が400℃以上となることが想定される
搬送ローラ32すなわち前記焼成炉14に設けられる搬
送ローラ32についてはたとえば耐熱性セラミックス材
料とステンレス材料の複合材料が用いられ、それ以外の
搬送ローラ32についてはステンレス材料が単独で好適
に用いられる。
Heat treatment apparatus 10 for thick film printed circuit board of this embodiment
Are arranged parallel to each other and are driven to rotate about their respective axes, so that the substrate 20 is moved in the direction of arrow S in FIG.
Is a so-called roller hearth kiln (hereinafter referred to as RHK) provided with a plurality of carrying rollers 32 for carrying in one direction. As the material of the transport roller 32, for example, the transport roller 32 whose temperature is assumed to be 400 ° C. or higher, that is, the transport roller 32 provided in the firing furnace 14 is, for example, a composite material of a heat-resistant ceramic material and a stainless material. For the other transport rollers 32, a stainless material is preferably used alone.

【0018】図2は、図1におけるII-II視断面図であ
り、この図2に示すように、上記搬送ローラ32は、た
とえば前記焼成炉14においては、前記フレーム18の
幅方向両端部に固設された1対の台部材34の上部にそ
れぞれ設けられた軸受け36にその両端部を支持された
状態で、前記焼成炉14を幅方向に貫通して配設されて
いる。図3は、前記基板20が本実施例の厚膜印刷基板
用熱処理装置10内を搬送される様子を平面視した図で
あり、この図3に示すように、前記基板20は、たとえ
ば1辺125〜155mm程度の角形シリコンウェハで
あり、厚膜印刷基板用熱処理装置10内において上記複
数本の搬送ローラ32に支持されている。上記複数本の
搬送ローラ32の1端部(図2においては向かって右側
の端部)にはスプロケット38が上記搬送ローラ32と
回転軸心を共有して且つその共通の軸心まわりに相対回
転不能に設けられており、前記フレーム18に固定され
たサーボモータ40が駆動させられてそのモータスプロ
ケット42が1方向に回転されると、その回転がチェー
ン44を介して上記スプロケット38に伝達される。そ
れにより、上記複数本の搬送ローラ32がそれぞれの軸
心まわりに回転させられると、その回転に伴って前記基
板20が前記1方向に搬送されることとなる。
FIG. 2 is a sectional view taken along the line II--II in FIG. 1. As shown in FIG. 2, the conveying roller 32 is provided at both ends in the width direction of the frame 18 in the firing furnace 14, for example. The firing furnace 14 is disposed so as to penetrate through the firing furnace 14 in the width direction, with both ends thereof being supported by bearings 36 provided on the tops of a pair of fixed base members 34, respectively. FIG. 3 is a plan view showing how the substrate 20 is conveyed in the heat treatment apparatus 10 for thick film printed substrate of the present embodiment. As shown in FIG. 3, the substrate 20 has, for example, one side. The rectangular silicon wafer has a size of about 125 to 155 mm, and is supported by the plurality of transport rollers 32 in the heat treatment apparatus 10 for thick film printed boards. A sprocket 38 shares a rotation axis with the conveyance rollers 32 at one end (the end on the right side in FIG. 2) of the plurality of conveyance rollers 32 and relatively rotates about the common axis. When a servomotor 40 fixedly mounted on the frame 18 is driven to rotate the motor sprocket 42 in one direction, the rotation is transmitted to the sprocket 38 via a chain 44. . As a result, when the plurality of transport rollers 32 are rotated around their respective axes, the substrate 20 is transported in the one direction in accordance with the rotation.

【0019】前記基板20には、そのようにして本実施
例の厚膜印刷基板用熱処理装置10内を前記1方向に搬
送される過程で、たとえば、図4に示すような温度プロ
ファイルに従って熱処理が施される。前記乾燥炉12に
設けられた中間赤外線ヒータ22、前記焼成炉14に設
けられた近赤外線ヒータ24、および前記冷却装置16
に設けられた冷却ジャケット30は、前記基板20が搬
送される過程で、図4に示すような温度曲線が得られる
ようにその出力あるいは冷却水の流量が電子制御装置4
6によって制御されるものである。図4においては、熱
処理開始から1分経過後までが前記乾燥炉12に対応
し、1.5分経過後から3.2分経過後までが前記焼成
炉14に対応し、3.2分経過後から4.2分経過後ま
でが前記冷却装置16に対応する。ここで、前記基板2
0が前記乾燥炉12を通過し終わってから前記焼成炉1
4に送り込まれるまでに時間的な間隔があるのは、前記
乾燥炉12と焼成炉14との間の熱干渉を可及的に低く
抑える為に物理的に相互に離隔されているからである。
なお、かかる乾燥炉12と焼成炉14との間に常温の冷
却エアを導入することにより、さらに好適に相互間の熱
干渉を防止することができる。
The substrate 20 is heat-treated according to the temperature profile shown in FIG. 4, for example, in the process of being conveyed in the one direction in the heat treatment apparatus 10 for thick film printed substrate of the present embodiment. Is given. Mid-infrared heater 22 provided in the drying furnace 12, near-infrared heater 24 provided in the baking furnace 14, and the cooling device 16
The cooling jacket 30 provided in the electronic control unit 4 controls the output or the flow rate of the cooling water so that a temperature curve as shown in FIG.
6 is controlled. In FIG. 4, 1 minute after the start of the heat treatment corresponds to the drying furnace 12, 1.5 minutes to 3.2 minutes have elapsed correspond to the firing furnace 14, and 3.2 minutes have elapsed. The cooling device 16 corresponds to 4.2 minutes later. Here, the substrate 2
0 after passing through the drying furnace 12, the firing furnace 1
The reason why there is a time interval before being sent to the No. 4 is that they are physically separated from each other in order to keep the thermal interference between the drying furnace 12 and the baking furnace 14 as low as possible. .
By introducing cooling air at room temperature between the drying furnace 12 and the baking furnace 14, it is possible to more preferably prevent mutual thermal interference.

【0020】前記基板20は、たとえば図4に示すよう
に、前記乾燥炉12内において150℃程度まで昇温さ
れることにより、その表面および裏面に印刷された厚膜
材料ペーストに含まれる有機溶媒の大部分が燃え抜けさ
せられる。その後、前記焼成炉14内において670℃
程度まで昇温され、かかる温度にて一定時間維持される
ことにより、その厚膜材料ペーストが焼成されて所定の
機能を備えた材料膜とされる。さらにその後、前記冷却
装置16内において室温程度まで降温され、そのように
して、前記基板20に熱処理が施される。なお、前記基
板20がたとえば太陽電池基板などである場合には、た
とえば前記基板20の表面および裏面にそれぞれ異なる
パターンでアルミニウム・銀などの厚膜材料ペーストが
印刷され、その厚膜材料ペーストが印刷された基板20
に熱処理が施されるという一連の工程が繰り返されるこ
とにより、所定の機能を備えた材料膜が設けられた太陽
電池基板が作製される。
For example, as shown in FIG. 4, the substrate 20 is heated in the drying oven 12 to about 150 ° C., so that the organic solvent contained in the thick film material paste printed on the front and back surfaces of the substrate 20. Most of it is burnt out. Then, 670 ° C. in the firing furnace 14.
By raising the temperature to a certain degree and maintaining the temperature for a certain period of time, the thick film material paste is fired to form a material film having a predetermined function. After that, the temperature is lowered to about room temperature in the cooling device 16, and thus the substrate 20 is heat-treated. When the substrate 20 is, for example, a solar cell substrate, a thick film material paste such as aluminum and silver is printed on the front surface and the back surface of the substrate 20 in different patterns, and the thick film material paste is printed. Substrate 20
By repeating a series of steps in which the heat treatment is performed, the solar cell substrate provided with the material film having a predetermined function is manufactured.

【0021】前記搬送ローラ32には、たとえば図3に
示すように、前記基板20の端部を外周面において支持
する為の回転体(平面図形が同一平面上にある1つの直
線を軸として回転して生ずる立体)状本体部52と、前
記基板20の蛇行を防止する為にその回転体状本体部5
2と一体的に設けられた円環状突部54とをそれぞれ備
えた1対のガイド部材50が、その軸心に設けられた穴
部56に前記搬送ローラ32が挿入され、上記回転体状
本体部52の外周面から上記穴部56に貫通して設けら
れたネジ穴58に図示しないすりわり付き止めネジなど
が螺合されることにより前記搬送ローラ32と回転軸心
を共有して相互に固定されている。かかるガイド部材5
0の材料としては、たとえば耐熱性樹脂材料、ステンレ
ス材料、あるいは耐熱性セラミックス材料などが適して
おり、たとえばその温度が400℃以上となることが想
定されるガイド部材50すなわち前記焼成炉14に設け
られるガイド部材50についてはたとえば耐熱性セラミ
ックス材料あるいはステンレス材料などが、それ以外の
ガイド部材50については耐熱性樹脂材料などが好適に
用いられる。
For example, as shown in FIG. 3, the conveying roller 32 has a rotating body (for rotating about one straight line whose plane figure is on the same plane) for supporting the end portion of the substrate 20 on the outer peripheral surface. 3D) main body 52 and the rotor body 5 for preventing the substrate 20 from meandering.
2, a pair of guide members 50 each having an annular projection 54 integrally formed with the above-mentioned two, the transport roller 32 is inserted into a hole 56 provided at the axial center of the guide member 50, An unillustrated slotted set screw or the like is screwed into a screw hole 58 provided so as to penetrate the hole 56 from the outer peripheral surface of the portion 52 to share the rotation axis with the conveying roller 32 and mutually. It is fixed. Such guide member 5
For example, a heat-resistant resin material, a stainless steel material, a heat-resistant ceramic material, or the like is suitable as the material of No. 0, and the guide member 50, which is assumed to have a temperature of 400 ° C. or higher, is provided in the firing furnace 14. A heat-resistant ceramic material or a stainless material is preferably used for the guide member 50, and a heat-resistant resin material or the like is preferably used for the other guide members 50.

【0022】図5は、上記ガイド部材50を説明する図
であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、(b)
は正面図である。この図に示すように、上記ガイド部材
50の回転体状本体部52は、好適には、軸心方向に径
が漸減するテーパ状外周面60を備えてテーパ状に形成
されたものであり、相対向する他方のガイド部材50に
向かうほど上記回転体状本体部52の径が漸減するよう
に前記搬送ローラ32に固設される。図6は、そのよう
に前記搬送ローラ32に固設されたガイド部材50と前
記基板20とが当接している様子をその基板20の進行
方向から見た図であり、この図6に示すように、上記回
転体状本体部52が上述のようにテーパ状外周面60を
備えてテーパ状に形成されていることにより、前記基板
20がその端部の1点Pにおいてかかる1対のガイド部
材50における回転体状本体部52に点接触により支持
される。
5A and 5B are views for explaining the guide member 50, FIG. 5A is a plan view seen from the axial direction, and FIG.
Is a front view. As shown in this figure, the rotary body portion 52 of the guide member 50 is preferably formed in a tapered shape with a tapered outer peripheral surface 60 whose diameter gradually decreases in the axial direction, The rotary body main body 52 is fixed to the conveying roller 32 so that the diameter thereof gradually decreases toward the other guide member 50 facing each other. FIG. 6 is a view of the state in which the guide member 50 fixed to the transport roller 32 and the substrate 20 are in contact with each other as seen from the traveling direction of the substrate 20, as shown in FIG. In addition, since the rotating body main body 52 is formed in the tapered shape with the tapered outer peripheral surface 60 as described above, the pair of guide members that the substrate 20 is applied at one point P at the end thereof. It is supported by point-contact with the rotary body portion 52 of 50.

【0023】このように、本実施例によれば、互いに平
行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数
本の搬送ローラ32それぞれに、前記1対のガイド部材
50がその搬送ローラ32と回転軸心を共有して設けら
れている為、前記基板20がその端部においてかかる1
対のガイド部材50における回転体状本体部52に支持
されることによりその裏面が前記搬送ローラ32に接触
することなく搬送がおこなわれる。また、前記1対のガ
イド部材50は、前記基板20の蛇行を防止する為の円
環状突部54をそれぞれ備えたものである為、前記基板
20が蛇行しそうになった場合にその円環状突部54に
より進行方向が修正される。すなわち、厚膜材料ペース
トが印刷された基板20の表面および裏面に好適な熱処
理を施すことができ且つ搬送に際してその基板20が蛇
行するなどの不具合を生じさせない厚膜印刷基板用熱処
理装置10を提供することができる。
As described above, according to this embodiment, the pair of guide members 50 are provided to each of the plurality of conveying rollers 32 which are arranged in parallel with each other and are driven to rotate about their respective axes. Since it is provided so as to share the rotation axis with
Since the pair of guide members 50 are supported by the rotating body 52, the back surface of the pair of guide members 50 can be conveyed without contacting the conveying rollers 32. In addition, since the pair of guide members 50 are respectively provided with the annular protrusions 54 for preventing the substrate 20 from meandering, when the substrate 20 tends to meander, the annular protrusions 54 are formed. The traveling direction is corrected by the unit 54. That is, the heat treatment apparatus 10 for a thick film printed substrate is provided which can perform suitable heat treatment on the front surface and the back surface of the substrate 20 on which the thick film material paste is printed and which does not cause a trouble such as meandering of the substrate 20 during transportation. can do.

【0024】また、好適には、前記1対のガイド部材5
0における回転体状本体部52は、相対向する他方のガ
イド部材50に向かうほど径が漸減するテーパ状外周面
60をそれぞれ備えたものである為、前記基板20がそ
の端部Pにおいてかかる1対のガイド部材50における
回転体状本体部52に点接触により支持されるので、た
とえば前記基板20の裏面において端部のごく付近たと
えば外縁から数mmの部分まで厚膜材料ペーストが印刷
されていたとしても好適な熱処理を施すことができると
いう利点がある。
Also, preferably, the pair of guide members 5
The rotating body main body 52 at 0 is provided with the tapered outer peripheral surfaces 60 each of which has a diameter gradually decreasing toward the other guide member 50 facing each other. Since the pair of guide members 50 are supported by the rotating body-like main body portion 52 by point contact, for example, the thick film material paste is printed on the back surface of the substrate 20 in the vicinity of the end portion, for example, a portion several mm from the outer edge. However, there is an advantage that suitable heat treatment can be performed.

【0025】また、前記厚膜印刷基板用熱処理装置10
は所謂RHKであり、炉内における金属の摺動による金
属粉が発生し得ないことに加えて、セラミックファイバ
ボードにより構成された炉心管の内壁にセラミックス材
料がコーティングされることにより、炉内の清浄度がさ
らに高められ、メッシュベルトを用いた熱処理装置の清
浄度がクラス100000程度であるのに比べて、クラ
ス1000程度まで飛躍的に清浄度を高めることができ
る。また、前記搬送ローラ32はメッシュベルトと比較
して炉体外部に露出する部分が少なく、加熱・冷却に伴
う熱損失が少ない為、ランニングコストに関してメッシ
ュベルトを用いた熱処理装置の2/3程度に抑えること
ができる。さらに、前記搬送ローラ32は熱による変形
を起こし難く前記基板20の搬送による摩耗なども僅か
である為、それほど頻繁に交換する必要はなく、メンテ
ナンスコストに関してメッシュベルトを用いた熱処理装
置の1/2程度に抑えることができる。
The heat treatment apparatus 10 for the thick film printed circuit board
Is a so-called RHK. In addition to the fact that metal powder cannot be generated due to sliding of metal in the furnace, a ceramic material is coated on the inner wall of the furnace core tube made of a ceramic fiber board. The cleanliness is further enhanced, and the cleanliness of the heat treatment apparatus using the mesh belt is approximately 100,000, while the cleanliness can be dramatically increased to approximately 1,000. Further, the conveying roller 32 has a smaller exposed portion to the outside of the furnace body as compared with the mesh belt, and the heat loss due to heating / cooling is small. Therefore, the running cost is about 2/3 of that of the heat treatment apparatus using the mesh belt. Can be suppressed. Further, since the transport roller 32 is less likely to be deformed by heat and is slightly worn by the transport of the substrate 20, it does not need to be replaced so frequently, and the maintenance cost is 1/2 of that of the heat treatment apparatus using the mesh belt. It can be suppressed to a certain degree.

【0026】続いて、前述の実施例の搬送ローラ32に
設けられる他のガイド部材を例示する。なお、以下の説
明において、前述の実施例と共通する部分に関しては同
一の符号を付してその説明を省略する。
Next, another guide member provided on the transport roller 32 of the above-described embodiment will be illustrated. In the following description, the same parts as those in the above-described embodiment will be designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0027】図7は、前述の実施例の搬送ローラ32に
設けられる他のガイド部材70を説明する図であり、
(a)はその軸心方向から見た平面図、(b)は正面図
である。この図に示すように、かかるガイド部材70の
回転体状本体部72は、軸心方向に径が漸減する小径側
の第1テーパ状外周面74と、中央段76と、軸心方向
に径が漸減する大径側の第2テーパ状外周面78とを備
えて構成されたものであり、相対向する他方のガイド部
材70に向かうほど上記回転体状本体部72の径が漸減
するように前記搬送ローラ32に固設される。このよう
にすれば、たとえば大きさの異なる2種類の基板20に
熱処理を施すに際して、比較的小さな基板20の熱処理
に際してはその基板20の端部が上記第1テーパ状外周
面74にて支持されるように用いることで上記中央段7
6がかかる基板20の蛇行を防止し、比較的大きな基板
20の熱処理に際してはその基板20の端部が上記第2
テーパ状外周面78にて支持されるように用いることで
前記円環状突部54がかかる基板20の蛇行を防止す
る。すなわち、それぞれの基板20の蛇行をより好適に
防止することができるという利点がある。
FIG. 7 is a view for explaining another guide member 70 provided on the carrying roller 32 of the above-mentioned embodiment,
(A) is the top view seen from the axial center direction, (b) is a front view. As shown in this figure, the rotary body portion 72 of the guide member 70 has a first tapered outer peripheral surface 74 on the small diameter side where the diameter gradually decreases in the axial direction, a central step 76, and a diameter in the axial direction. And a second taper-shaped outer peripheral surface 78 on the large diameter side that gradually decreases, and the diameter of the rotary body-like main body portion 72 gradually decreases toward the other guide member 70 facing each other. It is fixed to the transport roller 32. By doing so, for example, when heat-treating two types of substrates 20 having different sizes, the edge of the substrate 20 is supported by the first tapered outer peripheral surface 74 when heat-treating a relatively small substrate 20. The center stage 7
6 prevents the substrate 20 from meandering, and when a relatively large substrate 20 is heat-treated, the end portion of the substrate 20 has the second
By being used so as to be supported by the tapered outer peripheral surface 78, the annular protrusion 54 prevents the substrate 20 from meandering. That is, there is an advantage that the meandering of each substrate 20 can be prevented more preferably.

【0028】また、図8は、前述の実施例の搬送ローラ
32に設けられるさらに別のガイド部材80を説明する
図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。この図に示すように、かかるガ
イド部材80の回転体状本体部82は、所定の径を備え
て円筒状に形成された小径側の第1円筒状外周面84
と、中央段86と、所定の径を備えて円筒状に形成され
た大径側の第2円筒状外周面88とを備えて構成された
ものであり、上記小径側が相対向するように前記搬送ロ
ーラ32に固設される。すなわち、本発明のガイド部材
は必ずしも軸心方向に径が漸減するテーパ状外周面が設
けられている必要はなく、このような構成によっても、
たとえば大きさの異なる2種類の基板20に熱処理を施
すに際して、比較的小さな基板20の熱処理に際しては
その基板20の端部が上記第1円筒状外周面84にて支
持されるように用いることで上記中央段86がかかる基
板20の蛇行を防止し、比較的大きな基板20の熱処理
に際してはその基板20の端部が上記第2円筒状外周面
88にて支持されるように用いることで前記円環状突部
54がかかる基板20の蛇行を防止することができる。
そのような場合、前記基板20とガイド部材80とは線
接触することになるが、上記第1円筒状外周面84およ
び第2円筒状外周面88の軸心方向の長さ寸法、および
相対向するガイド部材80の相互間隔を適宜設定するこ
とにより、厚膜材料ペーストが印刷された基板20の表
面および裏面に好適な熱処理を施すことができるのであ
る。
FIG. 8 is a view for explaining yet another guide member 80 provided on the conveying roller 32 of the above-described embodiment, (a) is a plan view seen from the axial direction thereof,
(B) is a front view. As shown in this figure, the rotating body main body portion 82 of the guide member 80 has a first cylindrical outer peripheral surface 84 on the small diameter side formed in a cylindrical shape having a predetermined diameter.
And a central step 86 and a large-diameter second cylindrical outer peripheral surface 88 that is formed in a cylindrical shape and has a predetermined diameter. It is fixed to the transport roller 32. That is, the guide member of the present invention does not necessarily need to be provided with a tapered outer peripheral surface whose diameter gradually decreases in the axial direction, and even with such a configuration,
For example, when heat-treating two types of substrates 20 having different sizes, when heat-treating a relatively small substrate 20, the end of the substrate 20 is used so as to be supported by the first cylindrical outer peripheral surface 84. The central step 86 prevents the meandering of the substrate 20, and when the substrate 20 having a relatively large size is heat-treated, the end portion of the substrate 20 is used so as to be supported by the second cylindrical outer peripheral surface 88. The meandering of the substrate 20 caused by the annular protrusion 54 can be prevented.
In such a case, the substrate 20 and the guide member 80 come into line contact with each other, but the lengths in the axial direction of the first cylindrical outer peripheral surface 84 and the second cylindrical outer peripheral surface 88, and the facing each other. By appropriately setting the mutual spacing of the guide members 80 to be heated, it is possible to perform suitable heat treatment on the front surface and the back surface of the substrate 20 on which the thick film material paste is printed.

【0029】また、図9は、前述の実施例の搬送ローラ
32に設けられるさらに別のガイド部材90を説明する
図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。この図に示すように、かかるガ
イド部材90の回転体状本体部92は、前記円環状突部
54から軸心方向に指数関数的に径が漸減するテーパ状
外周面94を備えてテーパ状に構成されたものであり、
相対向する他方のガイド部材90に向かうほど上記回転
体状本体部92の径が漸減するように前記搬送ローラ3
2に固設される。このようにすれば、前述の実施例で説
明した前記ガイド部材50と同様に、前記基板20が蛇
行しそうになった場合に前記円環状突部54により進行
方向が修正されることに加え、前記基板20がその端部
Pにおいて前記搬送ローラ32に設けられた1対のガイ
ド部材90における回転体状本体部92に点接触により
支持されるので、たとえば前記基板20の裏面において
端部のごく付近たとえば外縁から数mmの部分まで厚膜
材料ペーストが印刷されていたとしても好適な熱処理を
施すことができる。
FIG. 9 is a view for explaining yet another guide member 90 provided on the carrying roller 32 of the above-mentioned embodiment, (a) is a plan view seen from the axial direction thereof,
(B) is a front view. As shown in this figure, the rotary body portion 92 of the guide member 90 is provided with a tapered outer peripheral surface 94 whose diameter decreases exponentially from the annular projection 54 in the axial direction. Is configured,
The conveying roller 3 is configured such that the diameter of the rotating body-like main body portion 92 gradually decreases toward the other guide member 90 facing each other.
It is fixed to 2. With this configuration, in the same manner as the guide member 50 described in the above-described embodiment, the traveling direction is corrected by the annular protrusion 54 when the substrate 20 is about to meander, and Since the substrate 20 is supported at the end portion P by point contact with the rotating body-like main body portion 92 of the pair of guide members 90 provided on the transport roller 32, for example, on the back surface of the substrate 20 in the vicinity of the end portion. For example, even if the thick film material paste is printed from the outer edge to a portion of several mm, a suitable heat treatment can be performed.

【0030】以上、本発明の好適な実施例を図面に基づ
いて詳細に説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、さらに別の態様においても実施される。
The preferred embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this and can be carried out in another mode.

【0031】たとえば、前述の実施例においては、図4
に示すような温度プロファイルに従って前記基板20に
熱処理が施されていたが、これはあくまで一実施例に過
ぎず、被焼成物である基板の態様に応じて最適な温度プ
ロファイルが適宜設定されて用いられるものである。
For example, in the embodiment described above, FIG.
Although the substrate 20 was heat-treated according to the temperature profile as shown in FIG. 5, this is only one example, and an optimal temperature profile is appropriately set and used according to the mode of the substrate to be fired. Is what is done.

【0032】また、前述の実施例においては、前記乾燥
炉12、焼成炉14、および冷却装置16を備えた厚膜
印刷基板用熱処理装置10について説明したが、本発明
は、たとえば前記乾燥炉12と焼成炉14のみを備えた
熱処理装置、あるいは前記焼成炉14のみを備えた焼成
装置などに用いられても構わない。すなわち、前記搬送
ローラ32が用いられる所謂RHKであれば熱処理の形
態は問わない。
Further, in the above-mentioned embodiment, the heat treatment apparatus 10 for a thick film printed substrate provided with the drying furnace 12, the baking furnace 14 and the cooling device 16 has been described. It may be used in a heat treatment apparatus including only the baking furnace 14 or a baking apparatus including only the baking furnace 14. That is, the form of heat treatment does not matter as long as it is so-called RHK in which the transport roller 32 is used.

【0033】また、前記乾燥炉12および焼成炉14に
は、中間赤外線ヒータ22および近赤外線ヒータ24が
それぞれ設けられていたが、本発明に用いられる加熱機
器は赤外線ヒータには限られず、たとえばSiCヒータ
あるいはシーズヒータが設けられたものであってもよ
い。さらには、熱風加熱によるものであっても構わな
い。
Although the drying furnace 12 and the baking furnace 14 are provided with the intermediate infrared heater 22 and the near infrared heater 24, respectively, the heating device used in the present invention is not limited to the infrared heater, and for example, SiC. A heater or a sheath heater may be provided. Further, heating by hot air may be used.

【0034】また、前述の実施例において、前記基板2
0は図1の矢印Sで示す1方向に搬送されるのみであっ
たが、たとえば前記焼成炉14内において、一旦矢印S
で示す方向と反対の方向に搬送され、再び矢印Sで示す
1方向に搬送されるものであっても構わない。このよう
にすれば、前記焼成炉14における焼成時間を長くでき
る、あるいは前記焼成炉14の炉長が短くて済むなどと
いった利点がある。
Further, in the above-mentioned embodiment, the substrate 2
0 was conveyed only in one direction indicated by arrow S in FIG. 1, but once in the firing furnace 14, for example, arrow S
It may be conveyed in a direction opposite to the direction indicated by and is conveyed again in one direction indicated by arrow S. This has the advantage that the firing time in the firing furnace 14 can be lengthened or the furnace length of the firing furnace 14 can be shortened.

【0035】また、前記基板20は、太陽電池基板であ
ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、厚膜
材料ペーストが印刷されたあらゆる基板の熱処理に適用
される。たとえば、民生用・産業用電子機器に多用され
ている部品である混成集積回路(hybrid IC)
のベースになる厚膜集積回路(thick filmI
C)は、アルミナなどの絶縁基板上に導体・誘電体・抵
抗体などの厚膜材料ペーストがスクリーン印刷などによ
り回路構成され、予備乾燥・焼成・抵抗値トリミングな
どの工程を経て作製されるが、本発明の厚膜印刷基板用
熱処理装置は、そのような予備乾燥・焼成といった熱処
理にも好適に用いられるものである。
Although the substrate 20 is a solar cell substrate, the present invention is not limited to this, and is applicable to heat treatment of any substrate printed with a thick film material paste. For example, a hybrid integrated circuit (hybrid IC), which is a component often used in consumer and industrial electronic devices.
Thick film integrated circuit (thick filmI)
In C), a thick film material paste such as a conductor, a dielectric, and a resistor is formed into a circuit by screen printing on an insulating substrate such as alumina, and is manufactured through steps such as preliminary drying, firing, and resistance value trimming. The heat treatment apparatus for a thick film printed board of the present invention is also suitably used for such heat treatments such as preliminary drying and firing.

【0036】また、前述の実施例においては、前記搬送
ローラ32と前記ガイド部材50などとは別個に形成さ
れて相互に固設されて用いられるものであったが、たと
えば同一の耐熱性セラミックス材料から一体に成形・焼
成されることにより、前記ガイド部材50などに対応す
る回転体状突起が設けられた搬送ローラとして形成され
たものであっても構わない。
Further, in the above-mentioned embodiment, the conveying roller 32, the guide member 50 and the like are formed separately and fixed to each other. However, for example, the same heat resistant ceramic material is used. It may be formed as a conveying roller provided with a rotary-body-shaped protrusion corresponding to the guide member 50 or the like by integrally molding and firing.

【0037】また、前述の実施例においては、図2に示
すように、炉体の幅方向に単数の前記基板20が搬送さ
れていたが、たとえば炉体の幅方向に3列の基板20が
搬送されるようにそれぞれの搬送ローラ32に3対のガ
イド部材50などが設けられたものであっても構わな
い。このようにすれば、前記搬送ローラ32に複数対の
前記ガイド部材50などが設けられることにより前記基
板20の並列搬送が可能とされ、処理効率がより高めら
れるという利点がある。
Further, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 2, a single substrate 20 is conveyed in the width direction of the furnace body, but, for example, three rows of the substrates 20 are conveyed in the width direction of the furnace body. Each of the transport rollers 32 may be provided with three pairs of guide members 50 so as to be transported. With this configuration, the plurality of pairs of the guide members 50 and the like are provided on the transport roller 32, so that the substrates 20 can be transported in parallel and the processing efficiency is further enhanced.

【0038】その他一々例示はしないが、本発明はその
趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更が加えら
れて用いられるものである。
Although not illustrated one by one, the present invention is used with various modifications within a range not departing from its gist.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である厚膜印刷基板用熱処理
装置の構成を説明する概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the configuration of a heat treatment apparatus for a thick film printed board that is an embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるII-II視断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.

【図3】厚膜材料ペーストが印刷された基板が本実施例
の厚膜印刷基板用熱処理装置内を搬送される様子を平面
視した図である。
FIG. 3 is a plan view showing a state where a substrate on which a thick film material paste is printed is conveyed in a heat treatment apparatus for a thick film printed substrate of the present embodiment.

【図4】本実施例の厚膜印刷基板用熱処理装置の作動に
より得られる基板の温度プロファイルを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a temperature profile of a substrate obtained by operating the heat treatment apparatus for a thick film printed substrate of the present embodiment.

【図5】搬送ローラに設けられるガイド部材を説明する
図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。
5A and 5B are views for explaining a guide member provided on the conveying roller, FIG. 5A is a plan view seen from the axial center direction,
(B) is a front view.

【図6】搬送ローラに固設されたガイド部材と基板とが
当接している様子をその基板の進行方向から見た図であ
る。
FIG. 6 is a view of a state in which a guide member fixed to a conveying roller and a substrate are in contact with each other, as viewed from the traveling direction of the substrate.

【図7】搬送ローラに設けられる他のガイド部材を説明
する図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating another guide member provided on the transport roller, FIG. 7A is a plan view seen from the axial center direction thereof,
(B) is a front view.

【図8】搬送ローラに設けられるさらに別のガイド部材
を説明する図であり、(a)はその軸心方向から見た平
面図、(b)は正面図である。
8A and 8B are views for explaining still another guide member provided on the conveying roller, FIG. 8A is a plan view seen from the axial center direction, and FIG. 8B is a front view.

【図9】搬送ローラに設けられるさらに別のガイド部材
を説明する図であり、(a)はその軸心方向から見た平
面図、(b)は正面図である。
9A and 9B are views for explaining still another guide member provided on the conveying roller, FIG. 9A is a plan view seen from the axial center direction, and FIG. 9B is a front view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:厚膜印刷基板用熱処理装置 20:基板 32:搬送ローラ 50、70、80、90:ガイド部材 52、72、82、92:回転体状本体部 54:円環状突部 60、94:テーパ状外周面 74:第1テーパ状外周面(テーパ状外周面) 78:第2テーパ状外周面(テーパ状外周面) 84:第1円筒状外周面(外周面) 88:第2円筒状外周面(外周面) 10: Heat treatment device for thick film printed circuit board 20: substrate 32: Conveyor roller 50, 70, 80, 90: guide member 52, 72, 82, 92: Rotating body 54: annular protrusion 60, 94: tapered outer peripheral surface 74: First tapered outer peripheral surface (tapered outer peripheral surface) 78: Second tapered outer peripheral surface (tapered outer peripheral surface) 84: First cylindrical outer peripheral surface (outer peripheral surface) 88: Second cylindrical outer peripheral surface (outer peripheral surface)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 英孝 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 Fターム(参考) 3F033 BA03 BA06 BB02 BC03 GA06 GB08 GC01 GC08 GD03 GD07 GE02 5F031 CA02 FA01 GA53 5F051 BA14 CB24 CB30 GA04 GA20   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hidetaka Shimizu             Noritake Shincho 3-chome 1-36, Nishi-ku, Nagoya-shi, Aichi             Noritake Co., Ltd. Limited             Within F term (reference) 3F033 BA03 BA06 BB02 BC03 GA06                       GB08 GC01 GC08 GD03 GD07                       GE02                 5F031 CA02 FA01 GA53                 5F051 BA14 CB24 CB30 GA04 GA20

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに平行に配置されてそれぞれ軸心回
りに回転駆動される複数本の搬送ローラを備え、該複数
本の搬送ローラにより1方向に搬送される厚膜材料ペー
ストが印刷された基板に熱処理を施す為の厚膜印刷基板
用熱処理装置であって、 前記搬送ローラには、前記基板の端部を外周面において
支持する為の回転体状本体部と、前記基板の蛇行を防止
する為に該回転体状本体部と一体的に設けられた円環状
突部とをそれぞれ備えた1対のガイド部材が、前記搬送
ローラと回転軸心を共有して設けられていることを特徴
とする厚膜印刷基板用熱処理装置。
1. A substrate on which a thick film material paste is printed, which is provided with a plurality of conveying rollers which are arranged in parallel with each other and are driven to rotate about their respective axes, and which is conveyed in one direction by the plurality of conveying rollers. A heat treatment device for a thick film printed substrate for performing heat treatment on a substrate, wherein the transport roller prevents a meandering of the substrate and a rotor body for supporting an end portion of the substrate on an outer peripheral surface. For this purpose, a pair of guide members, each of which has an annular projection integrally formed with the rotating body, are provided so as to share a rotation axis with the conveying roller. Heat treatment device for thick film printed circuit board.
【請求項2】 前記1対のガイド部材における回転体状
本体部は、相対向する他方のガイド部材に向かうほど径
が漸減するテーパ状外周面をそれぞれ備えたものである
請求項1の厚膜印刷基板用熱処理装置。
2. The thick film according to claim 1, wherein each of the rotating body-like main body portions of the pair of guide members is provided with a tapered outer peripheral surface whose diameter gradually decreases toward the other opposing guide member. Heat treatment equipment for printed circuit boards.
【請求項3】 厚膜材料ペーストが印刷された基板に熱
処理を施す為の厚膜印刷基板用熱処理装置において、互
いに平行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動され
ることにより前記基板を1方向に搬送する為の搬送ロー
ラであって、 前記基板の端部を外周面において支持する為の回転体状
本体部と、前記基板の蛇行を防止する為に該回転体状本
体部と一体的に設けられた円環状突部とをそれぞれ備え
た1対のガイド部材が、前記搬送ローラと回転軸心を共
有して設けられていることを特徴とする搬送ローラ。
3. A heat treatment apparatus for a thick film printed substrate for performing a heat treatment on a substrate on which a thick film material paste is printed, wherein the substrates are arranged in parallel with each other and are driven to rotate about their respective axial centers. A transport roller for transporting the substrate in the direction, the rotor body for supporting the end portion of the substrate on the outer peripheral surface, and the rotor body for preventing the substrate from meandering. A pair of guide members, each of which has an annular projection provided in the pair, is provided so as to share a rotation axis with the transport roller.
【請求項4】 前記1対のガイド部材における回転体状
本体部は、相対向する他方のガイド部材に向かうほど径
が漸減するテーパ状外周面をそれぞれ備えたものである
請求項3の搬送ローラ。
4. The transport roller according to claim 3, wherein the rotating body-like main body portions of the pair of guide members each have a tapered outer peripheral surface whose diameter gradually decreases toward the other opposing guide member. .
JP2002103053A 2002-04-04 2002-04-04 Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller Pending JP2003292154A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002103053A JP2003292154A (en) 2002-04-04 2002-04-04 Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002103053A JP2003292154A (en) 2002-04-04 2002-04-04 Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003292154A true JP2003292154A (en) 2003-10-15

Family

ID=29242506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002103053A Pending JP2003292154A (en) 2002-04-04 2002-04-04 Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003292154A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007215615A (en) * 2006-02-14 2007-08-30 Newgin Corp Game machine transport device
JP2007223683A (en) * 2006-02-21 2007-09-06 Asyst Shinko Inc Carrying device
WO2010040720A1 (en) * 2008-10-06 2010-04-15 Würth Solar Gmbh & Co. Kg Transport device and substrate coating system
ITRM20090172A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-16 Luis Maria Antonello "TRAFFIC DEVICE FOR PHOTOVOLTAIC CELLS OR THEIR SUBSTRATES DURING THE MANUFACTURE OF PHOTOVOLTAIC CELLS"
JP2011258813A (en) * 2010-06-10 2011-12-22 Shin Etsu Chem Co Ltd Firing furnace for electrode calcination of solar cell element, manufacturing method of solar cell element, and solar cell element
CN102393139A (en) * 2011-11-16 2012-03-28 杨桂玲 Roller way type solar battery silicon wafer sintering furnace
JP2013189286A (en) * 2012-03-14 2013-09-26 Ito Tekkosho:Kk Roller conveying device, and short-shaft roller
KR20140015391A (en) * 2011-02-21 2014-02-06 씨티에프 솔라 게엠베하 Method and device for coating substrates
CN103743231A (en) * 2013-11-25 2014-04-23 安徽赛耐尔机械制造有限公司 Roller-bed-type drying and sintering integrated furnace for solar battery silicon wafers

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007215615A (en) * 2006-02-14 2007-08-30 Newgin Corp Game machine transport device
JP2007223683A (en) * 2006-02-21 2007-09-06 Asyst Shinko Inc Carrying device
WO2010040720A1 (en) * 2008-10-06 2010-04-15 Würth Solar Gmbh & Co. Kg Transport device and substrate coating system
CN102439738A (en) * 2009-04-15 2012-05-02 微型半导体有限责任公司 Device for driving photovoltaic cells or their substrates during the process for manufacture of the photovoltaic cells
ITRM20090172A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-16 Luis Maria Antonello "TRAFFIC DEVICE FOR PHOTOVOLTAIC CELLS OR THEIR SUBSTRATES DURING THE MANUFACTURE OF PHOTOVOLTAIC CELLS"
WO2010119470A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-21 Luis Maria Antonello Device for driving photovoltaic cells or their substrates during the process for manufacture of the photovoltaic cells
CN103026480A (en) * 2010-06-10 2013-04-03 信越化学工业株式会社 Firing furnace for firing electrode of solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element
JP2011258813A (en) * 2010-06-10 2011-12-22 Shin Etsu Chem Co Ltd Firing furnace for electrode calcination of solar cell element, manufacturing method of solar cell element, and solar cell element
EP2581933A4 (en) * 2010-06-10 2015-11-25 Shinetsu Chemical Co Firing furnace for firing electrode of solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element
US11616163B2 (en) 2010-06-10 2023-03-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Firing furnace for firing electrode of solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element
KR20140015391A (en) * 2011-02-21 2014-02-06 씨티에프 솔라 게엠베하 Method and device for coating substrates
JP2014506960A (en) * 2011-02-21 2014-03-20 ツェーテーエフ・ゾラール・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング Method and apparatus for substrate coating
KR101945003B1 (en) * 2011-02-21 2019-02-01 씨티에프 솔라 게엠베하 Method and device for coating substrates
CN102393139A (en) * 2011-11-16 2012-03-28 杨桂玲 Roller way type solar battery silicon wafer sintering furnace
JP2013189286A (en) * 2012-03-14 2013-09-26 Ito Tekkosho:Kk Roller conveying device, and short-shaft roller
CN103743231A (en) * 2013-11-25 2014-04-23 安徽赛耐尔机械制造有限公司 Roller-bed-type drying and sintering integrated furnace for solar battery silicon wafers

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003292154A (en) Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller
JP2011075132A (en) Continuous baking furnace for solar battery
JP2012009527A (en) Heat processing apparatus and heat processing method
JP4936567B2 (en) Heat treatment equipment
JP3683166B2 (en) Substrate heat treatment method and continuous heat treatment furnace used therefor
JP2008226981A (en) Reflow device
JP5226037B2 (en) Heat treatment apparatus and heat treatment method
JP3445733B2 (en) Heat treatment equipment
JP3662893B2 (en) Heat treatment equipment
KR101546320B1 (en) apparatus for firing substrates
JP2007212029A (en) Heat treatment device
KR200318436Y1 (en) Roller Hearth kiln for forming paste film in PDP
JP2003090685A (en) Heat treatment furnace for functional film material formed on substrate
JP2002206863A (en) Continuously heat treating furnace
JP2003077398A (en) Manufacturing method of plasma display panel and furnace equipment for same
JP2001012862A (en) Apparatus and method for heat treatment of object
JP3607443B2 (en) Substrate baking apparatus including film forming material
JPS6352307B2 (en)
JP4252819B2 (en) Reflow preheat drying method and apparatus
JP2006105520A (en) Heat treatment apparatus
JPH1067541A (en) Burning of base plate containing film-forming raw material and apparatus therefor
JP2004293877A (en) Heat-treat furnace
JPH03218093A (en) Reflow soldering device
JP2003083684A (en) Conveyor mechanism for to-be-heated objects
JP2007035774A (en) Reflow soldering equipment and reflow soldering method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20031210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060725

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061205