JP2003286284A - ピリジン化合物の製造法 - Google Patents
ピリジン化合物の製造法Info
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- JP2003286284A JP2003286284A JP2002088577A JP2002088577A JP2003286284A JP 2003286284 A JP2003286284 A JP 2003286284A JP 2002088577 A JP2002088577 A JP 2002088577A JP 2002088577 A JP2002088577 A JP 2002088577A JP 2003286284 A JP2003286284 A JP 2003286284A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】式（３）で示される２−アルコキシピリジン化
合物の製造法を提供すること。 【解決手段】式（１） （式中、Ｒ1はハロゲン原子またはニトロ基を表し、Ｒ2
は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるピ
リドン化合物と、式（２）Ｎ2ＣＨＣＯＲ3
（２）（式中、Ｒ3は低級アルコキシ基を表す。）で示
されるジアゾ酢酸エステル化合物とを酸の存在下で反応
させることを特徴とする式（３） （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は前記と同じ意味を表
す。）で示されるピリジン化合物の製造法。
合物の製造法を提供すること。 【解決手段】式（１） （式中、Ｒ1はハロゲン原子またはニトロ基を表し、Ｒ2
は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるピ
リドン化合物と、式（２）Ｎ2ＣＨＣＯＲ3
（２）（式中、Ｒ3は低級アルコキシ基を表す。）で示
されるジアゾ酢酸エステル化合物とを酸の存在下で反応
させることを特徴とする式（３） （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は前記と同じ意味を表
す。）で示されるピリジン化合物の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はピリジン化合物の製
造法に関する。
造法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】式
（３）
（３）
【化３】
（式中、Ｒ1はハロゲン原子またはニトロ基を表し、Ｒ2
は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3は低級アル
コキシ基を表す。）で示される２−アルコキシピリジン
化合物は優れた除草活性を有する化合物（ヨーロッパ特
許公開ＥＰ１１２２２４４Ａ１参照）であり、その有利
な製造法の開発が望まれている。
は水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ3は低級アル
コキシ基を表す。）で示される２−アルコキシピリジン
化合物は優れた除草活性を有する化合物（ヨーロッパ特
許公開ＥＰ１１２２２４４Ａ１参照）であり、その有利
な製造法の開発が望まれている。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者は、式（３）で
示されるピリジン化合物の有利な製造法を開発すべく鋭
意検討した結果、後記式（１）で示されるピリドン化合
物と後記式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル化合物
とを酸の存在下で反応させることにより位置選択的にＯ
−アルキル化反応が進行し、式（３）で示される化合物
が高選択的に得られることを見出し、本発明を完成し
た。
示されるピリジン化合物の有利な製造法を開発すべく鋭
意検討した結果、後記式（１）で示されるピリドン化合
物と後記式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル化合物
とを酸の存在下で反応させることにより位置選択的にＯ
−アルキル化反応が進行し、式（３）で示される化合物
が高選択的に得られることを見出し、本発明を完成し
た。
【０００４】即ち、本発明は式（１）
【化４】
（式中、Ｒ1はハロゲン原子またはニトロ基を表し、Ｒ2
は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるピ
リドン化合物と、式（２） Ｎ2ＣＨＣＯＲ3 （２） （式中、Ｒ3は低級アルコキシ基を表す。）で示される
ジアゾ酢酸エステル化合物とを酸の存在下で反応させる
ことを特徴とする式（３）で示されるピリジン化合物の
製造法（以下、本発明製造法と記す。）を提供する。
は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるピ
リドン化合物と、式（２） Ｎ2ＣＨＣＯＲ3 （２） （式中、Ｒ3は低級アルコキシ基を表す。）で示される
ジアゾ酢酸エステル化合物とを酸の存在下で反応させる
ことを特徴とする式（３）で示されるピリジン化合物の
製造法（以下、本発明製造法と記す。）を提供する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明において、Ｒ1およびＲ2で
示されるハロゲン原子としては例えばフッ素原子、塩素
原子および臭素原子があげられ、Ｒ3で示される低級ア
ルコキシ基としては例えばＣ１−Ｃ６アルコキシ基、具
体的には例えばメトキシ基およびエトキシ基があげられ
る。
示されるハロゲン原子としては例えばフッ素原子、塩素
原子および臭素原子があげられ、Ｒ3で示される低級ア
ルコキシ基としては例えばＣ１−Ｃ６アルコキシ基、具
体的には例えばメトキシ基およびエトキシ基があげられ
る。
【０００６】本発明製造法は式（１）で示されるピリド
ン化合物と式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル化合
物とを酸の存在下で反応させることを特徴とする。該反
応は、通常溶媒中で行われる。反応に用いられる溶媒と
しては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、アセトニトリル、ブチルニトリル等のニトリル
類、メチルイソブチルケトン等のケトン類およびこれら
の混合物があげられる。該反応に用いられる酸として
は、非プロトン酸およびプロトン酸があげられ、非プロ
トン酸としては例えばボロントリフルオリドエーテレー
ト（ＢＦ3・Ｏ（Ｃ2Ｈ5）2）および四塩化スズがあげら
れ、プロトン酸としては例えばトリフルオロメタンスル
ホン酸等のスルホン酸類があげられる。反応に用いられ
る試剤の量は式（１）で示されるピリドン化合物１モル
に対して式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル化合物
が０．５〜５モルの割合、収率の点から好ましくは０．
８モル以上、経済性の点から好ましくは２モル以下の割
合であり、酸が０．００１〜５モルの割合、反応速度の
点から好ましくは０．０１モル以上、経済性の点から好
ましくは１モル以下の割合である。反応温度は通常−５
０〜１５０℃の範囲、反応速度の点から好ましくは−２
０℃以上であり、反応時間は通常瞬時〜７２時間の範囲
である。該反応は例えば以下の方法により行うことがで
きる。 １）式（１）で示されるピリドン化合物、酸および溶媒
を混合し、その中に式（２）で示されるジアゾ酢酸エス
テル化合物を滴下する方法。 ２）式（１）で示されるピリドン化合物と溶媒とを混合
し、その中に酸と式（２）で示されるジアゾ酢酸エステ
ル化合物とを並行して滴下する方法。 ３）式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル溶解し、そ
の中に酸と式（１）で示されるピリドン化合物とを滴下
する方法。 反応終点は例えば反応混合物の一部をとり、液体クロマ
トグラフィー、薄層クロマトグラフィー等の分析手段で
式（１）で示される化合物の消失を確認することにより
決定することができる。反応終了後は例えば以下の方法
による後処理操作を行うことにより、式（３）で示され
るピリジン化合物を単離することができる。 １）反応混合物をそのままシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付する方法。 ２）反応混合物を水に注加し、これを有機溶媒抽出し、
得られた有機層を乾燥、濃縮し、得られた残渣を必要に
応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶等
で精製する方法。 ３）反応混合物に酸性水（例えば硫酸水）を注加してし
ばらく攪拌した後、弱塩基性水（例えば炭酸水素ナトリ
ウム水溶液）を加え、これを有機溶媒抽出し、得られた
有機層を乾燥、濃縮し、得られた残渣を必要に応じてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶等で精製す
る方法。
ン化合物と式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル化合
物とを酸の存在下で反応させることを特徴とする。該反
応は、通常溶媒中で行われる。反応に用いられる溶媒と
しては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、アセトニトリル、ブチルニトリル等のニトリル
類、メチルイソブチルケトン等のケトン類およびこれら
の混合物があげられる。該反応に用いられる酸として
は、非プロトン酸およびプロトン酸があげられ、非プロ
トン酸としては例えばボロントリフルオリドエーテレー
ト（ＢＦ3・Ｏ（Ｃ2Ｈ5）2）および四塩化スズがあげら
れ、プロトン酸としては例えばトリフルオロメタンスル
ホン酸等のスルホン酸類があげられる。反応に用いられ
る試剤の量は式（１）で示されるピリドン化合物１モル
に対して式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル化合物
が０．５〜５モルの割合、収率の点から好ましくは０．
８モル以上、経済性の点から好ましくは２モル以下の割
合であり、酸が０．００１〜５モルの割合、反応速度の
点から好ましくは０．０１モル以上、経済性の点から好
ましくは１モル以下の割合である。反応温度は通常−５
０〜１５０℃の範囲、反応速度の点から好ましくは−２
０℃以上であり、反応時間は通常瞬時〜７２時間の範囲
である。該反応は例えば以下の方法により行うことがで
きる。 １）式（１）で示されるピリドン化合物、酸および溶媒
を混合し、その中に式（２）で示されるジアゾ酢酸エス
テル化合物を滴下する方法。 ２）式（１）で示されるピリドン化合物と溶媒とを混合
し、その中に酸と式（２）で示されるジアゾ酢酸エステ
ル化合物とを並行して滴下する方法。 ３）式（２）で示されるジアゾ酢酸エステル溶解し、そ
の中に酸と式（１）で示されるピリドン化合物とを滴下
する方法。 反応終点は例えば反応混合物の一部をとり、液体クロマ
トグラフィー、薄層クロマトグラフィー等の分析手段で
式（１）で示される化合物の消失を確認することにより
決定することができる。反応終了後は例えば以下の方法
による後処理操作を行うことにより、式（３）で示され
るピリジン化合物を単離することができる。 １）反応混合物をそのままシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付する方法。 ２）反応混合物を水に注加し、これを有機溶媒抽出し、
得られた有機層を乾燥、濃縮し、得られた残渣を必要に
応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶等
で精製する方法。 ３）反応混合物に酸性水（例えば硫酸水）を注加してし
ばらく攪拌した後、弱塩基性水（例えば炭酸水素ナトリ
ウム水溶液）を加え、これを有機溶媒抽出し、得られた
有機層を乾燥、濃縮し、得られた残渣を必要に応じてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶等で精製す
る方法。
【０００７】本発明製造法に用いられる式（１）で示さ
れるピリドン化合物のうちＲ1がハロゲン原子である化
合物は、例えば下記のスキームで示すルートで製造する
ことができる。
れるピリドン化合物のうちＲ1がハロゲン原子である化
合物は、例えば下記のスキームで示すルートで製造する
ことができる。
【化５】
（式中、Ｒ1-1はハロゲン原子を表し、Ｒ2は前記と同じ
意味を表す。）
意味を表す。）
【０００８】式（４）で示される化合物→式（６）で示
される化合物 式（６）で示される化合物は式（４）で示される化合物
と式（５）で示される化合物とを塩基（例えば炭酸カリ
ウム）の存在下で反応させることにより製造することが
できる。
される化合物 式（６）で示される化合物は式（４）で示される化合物
と式（５）で示される化合物とを塩基（例えば炭酸カリ
ウム）の存在下で反応させることにより製造することが
できる。
【０００９】式（６）で示される化合物→式（７）で示
される化合物 式（７）で示される化合物は式（６）で示される化合物
を還元反応に付すことにより製造することができる。該
還元反応の方法としては、例えば水素化触媒（例え
ば、パラジウム−炭素）の存在下、水素と反応させる方
法、および酸性水（例えば酢酸水）中で鉄粉と反応さ
せる方法があげられる。
される化合物 式（７）で示される化合物は式（６）で示される化合物
を還元反応に付すことにより製造することができる。該
還元反応の方法としては、例えば水素化触媒（例え
ば、パラジウム−炭素）の存在下、水素と反応させる方
法、および酸性水（例えば酢酸水）中で鉄粉と反応さ
せる方法があげられる。
【００１０】式（７）で示される化合物→式（８）で示
される化合物 式（８）で示される化合物は式（７）で示される化合物
をジアゾ化し、次いでハロゲン化剤と反応させることに
より製造することができる。ジアゾ化反応は式（７）で
示される化合物を必要に応じて酸の存在下でジアゾ化剤
（例えば、亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩および亜硝酸
イソアミル等の亜硝酸低級アルキルがあげられる。）と
を反応させることにより行われ、ハロゲン化剤との反応
は前記反応により得られたジアゾニウム塩とハロゲン化
剤（塩化銅、臭化銅、テトラフルオロホウ素ナトリウム
等）とを混合することにより行われる。
される化合物 式（８）で示される化合物は式（７）で示される化合物
をジアゾ化し、次いでハロゲン化剤と反応させることに
より製造することができる。ジアゾ化反応は式（７）で
示される化合物を必要に応じて酸の存在下でジアゾ化剤
（例えば、亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩および亜硝酸
イソアミル等の亜硝酸低級アルキルがあげられる。）と
を反応させることにより行われ、ハロゲン化剤との反応
は前記反応により得られたジアゾニウム塩とハロゲン化
剤（塩化銅、臭化銅、テトラフルオロホウ素ナトリウム
等）とを混合することにより行われる。
【００１１】式（８）で示される化合物→式（１）で示
される化合物 式（１）で示される化合物は式（８）で示される化合物
と三臭化ホウ素とを反応させることにより製造すること
ができる。
される化合物 式（１）で示される化合物は式（８）で示される化合物
と三臭化ホウ素とを反応させることにより製造すること
ができる。
【００１２】式（１）で示される化合物のうちＲ1がニ
トロ基である化合物は例えば式（６）で示される化合物
と三臭化ホウ素とを反応させることにより製造すること
ができる。
トロ基である化合物は例えば式（６）で示される化合物
と三臭化ホウ素とを反応させることにより製造すること
ができる。
【００１３】
【実施例】以下、製造例等により本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものでは
ない。
説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものでは
ない。
【００１４】製造例
３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロピリジン−３−イルオキシ）フェニ
ル］−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ
−ピリミジン−２，４−ジオン（下式（Ａ）で示される
化合物）
１，２−ジヒドロピリジン−３−イルオキシ）フェニ
ル］−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ
−ピリミジン−２，４−ジオン（下式（Ａ）で示される
化合物）
【化６】
とボロントリフルオリドエーテレート４２μｌとを１，
２−ジクロロエタン４０ｍｌに溶解し、ここに室温でジ
アゾ酢酸エチル（純度９０％）０．４ｍｌを２時間かけ
て滴下し、滴下終了後さらに２時間攪拌した。その後、
反応混合物をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）に付
し、｛３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−メ
チル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）
−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリミジン−１−イル）フ
ェノキシ］ピリジン−２−イルオキシ｝酢酸エチル（下
式（Ｂ）で示される化合物）
２−ジクロロエタン４０ｍｌに溶解し、ここに室温でジ
アゾ酢酸エチル（純度９０％）０．４ｍｌを２時間かけ
て滴下し、滴下終了後さらに２時間攪拌した。その後、
反応混合物をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）に付
し、｛３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（３−メ
チル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）
−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリミジン−１−イル）フ
ェノキシ］ピリジン−２−イルオキシ｝酢酸エチル（下
式（Ｂ）で示される化合物）
【化７】
１．１０ｇを得た。1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐ
ｍ）：１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５
０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.２Ｈｚ），４．１６（ｑ，２
Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
５．９Ｈｚ），４．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．９Ｈ
ｚ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２
Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．９−８．０
（ｍ，１Ｈ）
ｍ）：１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５
０（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.２Ｈｚ），４．１６（ｑ，２
Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１
５．９Ｈｚ），４．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５．９Ｈ
ｚ），６．２９（ｓ，１Ｈ），６．９−７．０（ｍ，２
Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．９−８．０
（ｍ，１Ｈ）
【００１５】生成物を分析したところ、Ｎ−アルキル化
された生成物である｛３−［２−クロロ−４−フルオロ
−５−（３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフ
ルオロメチル）−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリミジン
−１−イル）フェノキシ］−２−オキソ−２Ｈ−ピリジ
ン−１−イル｝酢酸エチルは検出されなかった。 分析条件 高速液体クロマトグラフィー 液体クロマトグラフＬＣ−１０ＡＳ（島津製作所製） 検出器：ＵＶ−Ｖｉｓ検出器 ＳＰＤ−１０Ａ（島津製
作所製） 検出波長：２５４ｎｍ カラム：ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２（住化分
析センター製） カラム温度：室温 移動層：アセトニトリル／水＝１／１
された生成物である｛３−［２−クロロ−４−フルオロ
−５−（３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフ
ルオロメチル）−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリミジン
−１−イル）フェノキシ］−２−オキソ−２Ｈ−ピリジ
ン−１−イル｝酢酸エチルは検出されなかった。 分析条件 高速液体クロマトグラフィー 液体クロマトグラフＬＣ−１０ＡＳ（島津製作所製） 検出器：ＵＶ−Ｖｉｓ検出器 ＳＰＤ−１０Ａ（島津製
作所製） 検出波長：２５４ｎｍ カラム：ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２（住化分
析センター製） カラム温度：室温 移動層：アセトニトリル／水＝１／１
【００１６】次に、上記製造法に用いた原料化合物であ
る３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−オキソ
−１，２−ジヒドロピリジン−３−イルオキシ）フェニ
ル］−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ
−ピリミジン−２，４−ジオンの製造につき、参考製造
例として記す。
る３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（２−オキソ
−１，２−ジヒドロピリジン−３−イルオキシ）フェニ
ル］−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ
−ピリミジン−２，４−ジオンの製造につき、参考製造
例として記す。
【００１７】参考製造例
３−（２，５−ジフルオロ−４−ニトロフェニル）−１
−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピリミ
ジン−２，４−ジオン（下式（Ｃ）で示される化合物）
−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピリミ
ジン−２，４−ジオン（下式（Ｃ）で示される化合物）
【化８】
１０ｇと３−ヒドロキシ−２−メトキシピリジン５．０
ｇとをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解
し、炭酸カリウム７．８ｇを加えて室温で６時間攪拌し
た。その後、反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽
出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
濃縮して、３−［２−フルオロ−５−（２−メトキシピ
リジン−３−イルオキシ）−４−ニトロフェニル］−１
−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピリミ
ジン−２，４−ジオン（下式（Ｄ）で示される化合物）
ｇとをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解
し、炭酸カリウム７．８ｇを加えて室温で６時間攪拌し
た。その後、反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽
出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
濃縮して、３−［２−フルオロ−５−（２−メトキシピ
リジン−３−イルオキシ）−４−ニトロフェニル］−１
−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピリミ
ジン−２，４−ジオン（下式（Ｄ）で示される化合物）
【化９】
１２．８ｇを得た。1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐ
ｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.２Ｈｚ），３．９
３（ｓ，３Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．７６
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），６．９３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．４０（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９０（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．４Ｈｚ，５．０Ｈｚ）
ｍ）：３．５２（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.２Ｈｚ），３．９
３（ｓ，３Ｈ），６．３２（ｓ，１Ｈ），６．７６
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），６．９３（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．４０（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．９０（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．４Ｈｚ，５．０Ｈｚ）
【００１８】鉄粉６．３ｇを酢酸５０ｍｌよ水５０ｍｌ
の混合物に懸濁し、ここに８０℃で３−［２−フルオロ
−５−（２−メトキシピリジン−３−イルオキシ）−４
−ニトロフェニル］−１−メチル−６−（トリフルオロ
メチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン１２．８
ｇを酢酸エチル６０ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴
下終了後、同温で１５分間攪拌した後、反応混合物を室
温まで冷却した。その後、反応混合物を水に注加し、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、濃縮して３−
［４−アミノ−２−フルオロ−５−（２−メトキシピリ
ジン−３−イルオキシ）フェニル］−１−メチル−６−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−
ジオン（下式（Ｅ）で示される化合物）
の混合物に懸濁し、ここに８０℃で３−［２−フルオロ
−５−（２−メトキシピリジン−３−イルオキシ）−４
−ニトロフェニル］−１−メチル−６−（トリフルオロ
メチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン１２．８
ｇを酢酸エチル６０ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴
下終了後、同温で１５分間攪拌した後、反応混合物を室
温まで冷却した。その後、反応混合物を水に注加し、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、濃縮して３−
［４−アミノ−２−フルオロ−５−（２−メトキシピリ
ジン−３−イルオキシ）フェニル］−１−メチル−６−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−
ジオン（下式（Ｅ）で示される化合物）
【化１０】
１２．１ｇを得た。1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／３００ＭＨｚ）δ（ｐｐ
ｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.０Ｈｚ），４．０
０（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｂｒ，１Ｈ），６．３０
（ｓ，１Ｈ），６．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈ
ｚ），６．６３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．８
２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．
１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ），
７．９０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，５．０Ｈｚ）
ｍ）：３．５１（ｑ，３Ｈ，Ｊ＝１.０Ｈｚ），４．０
０（ｓ，３Ｈ），４．２０（ｂｒ，１Ｈ），６．３０
（ｓ，１Ｈ），６．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈ
ｚ），６．６３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．８
２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，７．８Ｈｚ），７．
１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ），
７．９０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，５．０Ｈｚ）
【００１９】３−［４−アミノ−２−フルオロ−５−
（２−メトキシピリジン−３−イルオキシ）フェニル］
−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピ
リミジン−２，４−ジオン１２ｇ、塩化第一銅２．８ｇ
および塩化第二銅５．７ｇをアセトニトリル１００ｍｌ
に加え、ここに室温で亜硝酸イソアミル４．６ｇを滴下
し、滴下終了後、２時間攪拌し、さらに２日間放置し
た。その後反応混合物にアンモニア水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シルカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝２／１）に付し、３−［４−クロロ
−２−フルオロ−５−（２−メトキシピリジン−３−イ
ルオキシ）フェニル］−１−メチル−６−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン（下式
（Ｆ）で示される化合物）
（２−メトキシピリジン−３−イルオキシ）フェニル］
−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピ
リミジン−２，４−ジオン１２ｇ、塩化第一銅２．８ｇ
および塩化第二銅５．７ｇをアセトニトリル１００ｍｌ
に加え、ここに室温で亜硝酸イソアミル４．６ｇを滴下
し、滴下終了後、２時間攪拌し、さらに２日間放置し
た。その後反応混合物にアンモニア水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シルカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝２／１）に付し、３−［４−クロロ
−２−フルオロ−５−（２−メトキシピリジン−３−イ
ルオキシ）フェニル］−１−メチル−６−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン（下式
（Ｆ）で示される化合物）
【化１１】
８．６ｇを得た。
融点：１７９．５℃
【００２０】３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−
（２−メトキシピリジン−３−イルオキシ）フェニル］
−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピ
リミジン−２，４−ジオン０．５ｇをクロロホルム１０
ｍｌに溶解し、ここに三臭化ホウ素０．５ｇを加え、室
温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を濃縮した。
濃縮残渣を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣
をシルカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢
酸エチル）に付し、３−［４−クロロ−２−フルオロ−
５−（２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−イ
ルオキシ）フェニル］−１−メチル−６−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン０．３
１ｇを得た。 融点：１８０．８℃
（２−メトキシピリジン−３−イルオキシ）フェニル］
−１−メチル−６−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピ
リミジン−２，４−ジオン０．５ｇをクロロホルム１０
ｍｌに溶解し、ここに三臭化ホウ素０．５ｇを加え、室
温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を濃縮した。
濃縮残渣を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣
をシルカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢
酸エチル）に付し、３−［４−クロロ−２−フルオロ−
５−（２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−イ
ルオキシ）フェニル］−１−メチル−６−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−ピリミジン−２，４−ジオン０．３
１ｇを得た。 融点：１８０．８℃
【００２１】
【発明の効果】本発明製造法により式（１）で示される
ピリドン化合物から式（３）で示されるシピリジン化合
物を選択的に製造することができる。
ピリドン化合物から式（３）で示されるシピリジン化合
物を選択的に製造することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1はハロゲン原子またはニトロ基を表し、Ｒ2
は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるピ
リドン化合物と、式（２） Ｎ2ＣＨＣＯＲ3 （２） （式中、Ｒ3は低級アルコキシ基を表す。）で示される
ジアゾ酢酸エステル化合物とを酸の存在下で反応させる
ことを特徴とする式（３） 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は前記と同じ意味を表
す。）で示されるピリジン化合物の製造法。 - 【請求項２】酸が非プロトン酸であることを特徴とする
請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】酸がボロントリフルオリドエーテレートで
あることを特徴とする請求項１記載の製造法。
Priority Applications (21)
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|---|---|---|---|
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| MXPA04001041A MXPA04001041A (es) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | Procedimiento para producir compuestos de piridina. |
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| CA002456093A CA2456093C (en) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | Process for producing pyridine compound |
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| PL367963A PL209873B1 (pl) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | Sposób wytwarzania związku pirydynowego |
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| RU2004106028/04A RU2272035C2 (ru) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | Способ получения производного пиридина и промежуточное вещество |
| AT02746150T ATE442363T1 (de) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | Verfahren zur herstellung von pyridinverbindungen |
| BRPI0211652-9A BR0211652B1 (pt) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | compostos de piridona e processo para produÇço de composto de piridina. |
| DE60233664T DE60233664D1 (de) | 2001-08-02 | 2002-07-31 | Verfahren zur herstellung von pyridinverbindungen |
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| IL159931A IL159931A (en) | 2001-08-02 | 2004-01-19 | Process for producing pyridine compound and pyridone intermediates thereof |
| ZA2004/00844A ZA200400844B (en) | 2001-08-02 | 2004-02-02 | Process for producing pyridine compound |
| US11/382,354 US7223862B2 (en) | 2001-08-02 | 2006-05-09 | Pyridone compounds useful for producing pyridine compounds |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003286284A true JP2003286284A (ja) | 2003-10-10 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018012573A1 (ja) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | 住友化学株式会社 | ウラシル化合物結晶の製造方法 |
| KR20190026746A (ko) | 2016-07-15 | 2019-03-13 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 우라실 화합물 결정의 제조 방법 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6341466A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-22 | チバ ― ガイギー アクチエンゲゼルシャフト | ３−アリ−ルウラシル誘導体およびそれらを含有する雑草防除組成物 |
| WO1998041093A1 (en) * | 1997-03-14 | 1998-09-24 | Isk Americas Incorporated | Diaryl ethers and processes for their preparation and herbicidal and desiccant compositions containing them |
| EP1122244A1 (en) * | 2000-02-04 | 2001-08-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Uracil compounds and their use |
| WO2001077084A1 (de) * | 2000-04-05 | 2001-10-18 | Bayer Cropscience Ag | Substituierte phenyluracile |
| JP2003048886A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピリジン化合物およびそれを有効成分とする除草剤 |
| JP2003048885A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピリジン化合物の製造法およびその製造中間体 |
| JP2003286285A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピリドン化合物の製造法およびその中間体 |
-
2002
- 2002-03-27 JP JP2002088577A patent/JP4214707B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6341466A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-22 | チバ ― ガイギー アクチエンゲゼルシャフト | ３−アリ−ルウラシル誘導体およびそれらを含有する雑草防除組成物 |
| WO1998041093A1 (en) * | 1997-03-14 | 1998-09-24 | Isk Americas Incorporated | Diaryl ethers and processes for their preparation and herbicidal and desiccant compositions containing them |
| EP1122244A1 (en) * | 2000-02-04 | 2001-08-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Uracil compounds and their use |
| WO2001077084A1 (de) * | 2000-04-05 | 2001-10-18 | Bayer Cropscience Ag | Substituierte phenyluracile |
| JP2003048886A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピリジン化合物およびそれを有効成分とする除草剤 |
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| JP2003286285A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピリドン化合物の製造法およびその中間体 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| M. P. CAVA: "Pyridine Derivatives. II. Some Halogen Substituted 2-Pyridoxyacetic Acids", J. ORG. CHEM., vol. ２３／１１, JPN6008040107, 1958, pages 1614 - 1616, ISSN: 0001155326 * |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018012573A1 (ja) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | 住友化学株式会社 | ウラシル化合物結晶の製造方法 |
| KR20190026746A (ko) | 2016-07-15 | 2019-03-13 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 우라실 화합물 결정의 제조 방법 |
| US10752608B2 (en) | 2016-07-15 | 2020-08-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing crystal of uracil compound |
| US11091461B2 (en) | 2016-07-15 | 2021-08-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing crystal of uracil compound |
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