JP2003280535A - 表示装置製造方法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイス - Google Patents
表示装置製造方法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイスInfo
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Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 液滴吐出方式を用いた表示装置/デバイスの
製造において、適用する製造工程の種類に応じて柔軟に
対応できる手段の提供を課題とする。 【解決手段】 ウェハに対する液滴吐出ヘッドの相対速
度をV、液滴の吐出周期をT、ウェハに着弾して濡れ広
がった後の液滴の直径をDとした場合に、VT<Dの関
係を満たすように、相対速度V及び吐出周期T及び直径
Dを制御する構成/方法を採用した。
製造において、適用する製造工程の種類に応じて柔軟に
対応できる手段の提供を課題とする。 【解決手段】 ウェハに対する液滴吐出ヘッドの相対速
度をV、液滴の吐出周期をT、ウェハに着弾して濡れ広
がった後の液滴の直径をDとした場合に、VT<Dの関
係を満たすように、相対速度V及び吐出周期T及び直径
Dを制御する構成/方法を採用した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のノズルから
液滴を吐出して表示装置を製造する表示装置製造方法及
び表示装置製造装置と、これら表示装置製造方法及び表
示装置製造装置により製造された表示装置と、該表示装
置を備えて製造されたデバイスとに関する。特に、適用
する製造工程の種類に応じて柔軟に対応できる表示装置
製造方法及び表示装置製造装置と、これら表示装置製造
方法及び表示装置製造装置により製造された表示装置及
びデバイスとに関する。
液滴を吐出して表示装置を製造する表示装置製造方法及
び表示装置製造装置と、これら表示装置製造方法及び表
示装置製造装置により製造された表示装置と、該表示装
置を備えて製造されたデバイスとに関する。特に、適用
する製造工程の種類に応じて柔軟に対応できる表示装置
製造方法及び表示装置製造装置と、これら表示装置製造
方法及び表示装置製造装置により製造された表示装置及
びデバイスとに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
大きいカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高
まっている。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
大きいカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高
まっている。
【0003】この種のカラーフィルタの製造方法として
は、従来、染色法、顔料分散法、電着法等があり、さら
に、コストダウンに対する要求から、印刷法や液滴吐出
方式で形成する方法が提案されている。液滴吐出方式に
関しては、例えば特開昭59?75205号公報に、
R,G,Bの3色の色素を含有する液滴を基板上に液滴
吐出方式により付与し、各液滴を乾燥させて着色部を形
成する方法が提案されている。こうした液滴吐出方式で
は、R,G,Bの各画素の形成を一工程で行なうことが
できるため、大幅な製造工程の簡略化と、大幅なコスト
ダウンを図ることができる。また、この液滴吐出方式
は、カラーフィルタの各画素に対するR,G,Bの着色
の他に、有機EL素子の製造や、フォトレジストの形成
や、オーバーコートの形成や、配向膜の形成や、液晶膜
の形成や、金属配線などにも採用可能である。
は、従来、染色法、顔料分散法、電着法等があり、さら
に、コストダウンに対する要求から、印刷法や液滴吐出
方式で形成する方法が提案されている。液滴吐出方式に
関しては、例えば特開昭59?75205号公報に、
R,G,Bの3色の色素を含有する液滴を基板上に液滴
吐出方式により付与し、各液滴を乾燥させて着色部を形
成する方法が提案されている。こうした液滴吐出方式で
は、R,G,Bの各画素の形成を一工程で行なうことが
できるため、大幅な製造工程の簡略化と、大幅なコスト
ダウンを図ることができる。また、この液滴吐出方式
は、カラーフィルタの各画素に対するR,G,Bの着色
の他に、有機EL素子の製造や、フォトレジストの形成
や、オーバーコートの形成や、配向膜の形成や、液晶膜
の形成や、金属配線などにも採用可能である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように、液滴吐出
方式は、表示装置の各製造工程における幅広い範囲をカ
バーできる能力を備えているものの、その分、吐出する
液滴で何を形成するかによって吐出条件(例えば液滴の
吐出量など)が異なるため、製品歩留まりを向上させる
ためには、その製造工程に応じた最適な吐出条件の確保
が必要となる。
方式は、表示装置の各製造工程における幅広い範囲をカ
バーできる能力を備えているものの、その分、吐出する
液滴で何を形成するかによって吐出条件(例えば液滴の
吐出量など)が異なるため、製品歩留まりを向上させる
ためには、その製造工程に応じた最適な吐出条件の確保
が必要となる。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、液滴吐出方式を用いた表示装置/デバイスの製
造において、適用する製造工程の種類に応じて柔軟に対
応できる手段の提供を目的とする。
であり、液滴吐出方式を用いた表示装置/デバイスの製
造において、適用する製造工程の種類に応じて柔軟に対
応できる手段の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために以下の手段を採用した。 [1] 液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズルより
液滴を基板に向けて吐出して表示装置を製造する方法で
あり、前記基板に対する前記液滴吐出ヘッドの相対速度
をV、前記液滴の吐出周期をT、前記基板に着弾して濡
れ広がった後の前記液滴の直径をDとした場合に、VT
<Dの関係を満たすように、前記相対速度V及び前記吐
出周期T及び前記直径Dを制御することを特徴とする表
示装置製造方法。この[1]に記載の表示装置製造方法
によれば、適用する製造工程の種類により、例えば、吐
出する液滴の粘度に応じて相対速度Vを変える必要が生
じたとしても、VT<Dの関係を満たすような液滴の直
径D(すなわち吐出量)及び吐出周期Tの組み合わせを
選択するだけで、基板上に吐出された液滴が互いに離れ
ず、歩留まりを確保するための最適な吐出条件を確保す
ることができるようになる。また、吐出量(すなわち液
滴の直径D)の方を変える必要が生じた場合にも、同様
にVT<Dの関係を満たすような相対速度V及び吐出周
期Tの組み合わせを選択するだけで、基板上に吐出され
た液滴が互いに離れず、歩留まりを確保するための最適
な吐出条件を確保することができるようになる。また、
例えば液滴吐出ヘッドの性能向上により、吐出周期Tが
短くできるようになった場合にも、同様にVT<Dの関
係を満たすような相対速度V及び直径Dの組み合わせを
選択するだけで、基板上に吐出された液滴が互いに離れ
ず、歩留まりを確保するための最適な吐出条件を確保す
ることができるようになる。しかも、これらの何れの場
合においても、制御要素の1つである液滴の直径Dは、
基板に着弾して濡れ広がった後の寸法を採用しているの
で、隣り合う液滴間の重なり合い部分を確保したまま、
各液滴間の間隔を極力広げることができるようになる。
決するために以下の手段を採用した。 [1] 液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズルより
液滴を基板に向けて吐出して表示装置を製造する方法で
あり、前記基板に対する前記液滴吐出ヘッドの相対速度
をV、前記液滴の吐出周期をT、前記基板に着弾して濡
れ広がった後の前記液滴の直径をDとした場合に、VT
<Dの関係を満たすように、前記相対速度V及び前記吐
出周期T及び前記直径Dを制御することを特徴とする表
示装置製造方法。この[1]に記載の表示装置製造方法
によれば、適用する製造工程の種類により、例えば、吐
出する液滴の粘度に応じて相対速度Vを変える必要が生
じたとしても、VT<Dの関係を満たすような液滴の直
径D(すなわち吐出量)及び吐出周期Tの組み合わせを
選択するだけで、基板上に吐出された液滴が互いに離れ
ず、歩留まりを確保するための最適な吐出条件を確保す
ることができるようになる。また、吐出量(すなわち液
滴の直径D)の方を変える必要が生じた場合にも、同様
にVT<Dの関係を満たすような相対速度V及び吐出周
期Tの組み合わせを選択するだけで、基板上に吐出され
た液滴が互いに離れず、歩留まりを確保するための最適
な吐出条件を確保することができるようになる。また、
例えば液滴吐出ヘッドの性能向上により、吐出周期Tが
短くできるようになった場合にも、同様にVT<Dの関
係を満たすような相対速度V及び直径Dの組み合わせを
選択するだけで、基板上に吐出された液滴が互いに離れ
ず、歩留まりを確保するための最適な吐出条件を確保す
ることができるようになる。しかも、これらの何れの場
合においても、制御要素の1つである液滴の直径Dは、
基板に着弾して濡れ広がった後の寸法を採用しているの
で、隣り合う液滴間の重なり合い部分を確保したまま、
各液滴間の間隔を極力広げることができるようになる。
【0007】[2] 上記[1]に記載の表示装置製造
方法において、前記基板に着弾して濡れ広がった後の各
液滴間の重なり部分を、直線上に配置することを特徴と
する表示装置製造方法。この[2]に記載の表示装置製
造方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した印刷
線を形成することができるようになる。
方法において、前記基板に着弾して濡れ広がった後の各
液滴間の重なり部分を、直線上に配置することを特徴と
する表示装置製造方法。この[2]に記載の表示装置製
造方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した印刷
線を形成することができるようになる。
【0008】[3] 上記[2]に記載の表示装置製造
方法を用いて、カラーフィルタ基板を製造することを特
徴とする表示装置製造方法。この[3]に記載の表示装
置製造方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した
印刷線(R,G,Bの各着色線)を各画素内に形成する
ことができるようになる。
方法を用いて、カラーフィルタ基板を製造することを特
徴とする表示装置製造方法。この[3]に記載の表示装
置製造方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した
印刷線(R,G,Bの各着色線)を各画素内に形成する
ことができるようになる。
【0009】[4] 上記[3]に記載の表示装置製造
方法において、前記カラーフィルタ基板における、前記
液滴の吐出パターンを、その画素並びの一方向の全てが
同色をなすストライプ型、もしくは、その画素並びの一
方向で3原色の色並びが繰り返されるモザイク型、もし
くは、隣り合う列間での相対的な画素並びが互い違いと
され、3原色が三角形状の色並びに配置されるデルタ
型、のいずれかとすることを特徴とする表示装置製造方
法。この[4]に記載の表示装置製造方法によれば、い
ずれの吐出パターンにおいても、色むらの少ないカラー
フィルタ基板を提供することができる。
方法において、前記カラーフィルタ基板における、前記
液滴の吐出パターンを、その画素並びの一方向の全てが
同色をなすストライプ型、もしくは、その画素並びの一
方向で3原色の色並びが繰り返されるモザイク型、もし
くは、隣り合う列間での相対的な画素並びが互い違いと
され、3原色が三角形状の色並びに配置されるデルタ
型、のいずれかとすることを特徴とする表示装置製造方
法。この[4]に記載の表示装置製造方法によれば、い
ずれの吐出パターンにおいても、色むらの少ないカラー
フィルタ基板を提供することができる。
【0010】[5] 上記[2]に記載の表示装置製造
方法を用いて、有機EL素子を製造することを特徴とす
る表示装置製造方法。この[5]に記載の表示装置製造
方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した印刷線
(R,G,Bの各線)を各画素内に形成することができ
るようになる。
方法を用いて、有機EL素子を製造することを特徴とす
る表示装置製造方法。この[5]に記載の表示装置製造
方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した印刷線
(R,G,Bの各線)を各画素内に形成することができ
るようになる。
【0011】[6] 上記[2]に記載の表示装置製造
方法を用いて、前記表示装置の金属配線を行うことを特
徴とする表示装置製造方法。この[6]に記載の表示装
置製造方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した
金属配線を形成することができるようになるので、通電
不良の少ない液晶表示装置などを製造することができ
る。
方法を用いて、前記表示装置の金属配線を行うことを特
徴とする表示装置製造方法。この[6]に記載の表示装
置製造方法によれば、切れ目のない、直線的に連続した
金属配線を形成することができるようになるので、通電
不良の少ない液晶表示装置などを製造することができ
る。
【0012】[7] 上記[1]に記載の表示装置製造
方法において、前記基板に着弾して濡れ広がった後の各
液滴間の重なり部分を、縦列方向及び横列方向の双方に
配置して、被膜を形成することを特徴とする表示装置製
造方法。この[7]に記載の表示装置製造方法によれ
ば、平面視して抜け(液滴が吐出されていない箇所)の
ない被膜を形成することができるようになる。
方法において、前記基板に着弾して濡れ広がった後の各
液滴間の重なり部分を、縦列方向及び横列方向の双方に
配置して、被膜を形成することを特徴とする表示装置製
造方法。この[7]に記載の表示装置製造方法によれ
ば、平面視して抜け(液滴が吐出されていない箇所)の
ない被膜を形成することができるようになる。
【0013】[8] 上記[7]に記載の表示装置製造
方法を用いて、フォトレジストの形成、または、オーバ
ーコートの形成、または、配向膜の形成、または、液晶
膜の形成、を行うことを特徴とする表示装置製造方法。
この[8]に記載の表示装置製造方法によれば、平面視
して抜け(液滴が吐出されていない箇所)のない有機E
L素子の製造や、フォトレジストの形成や、オーバーコ
ートの形成や、配向膜の形成や、液晶膜の形成などの被
膜形成を行うことができるようになる。
方法を用いて、フォトレジストの形成、または、オーバ
ーコートの形成、または、配向膜の形成、または、液晶
膜の形成、を行うことを特徴とする表示装置製造方法。
この[8]に記載の表示装置製造方法によれば、平面視
して抜け(液滴が吐出されていない箇所)のない有機E
L素子の製造や、フォトレジストの形成や、オーバーコ
ートの形成や、配向膜の形成や、液晶膜の形成などの被
膜形成を行うことができるようになる。
【0014】[9] 液滴吐出ヘッドに設けられた複数
のノズルより液滴を基板に向けて吐出して表示装置を製
造する装置であり、前記基板に対する前記液滴吐出ヘッ
ドの相対速度をV、前記液滴の吐出周期をT、前記基板
に着弾して濡れ広がった後の前記液滴の直径をDとした
場合に、VT<Dの関係を満たすように、前記相対速度
V及び前記吐出周期T及び前記直径Dを制御する制御手
段が備えられていることを特徴とする表示装置製造装
置。この[9]に記載の表示装置製造装置によれば、適
用する製造工程の種類により、例えば、吐出する液滴の
粘度に応じて相対速度Vを変える必要が生じたとして
も、その制御手段が、VT<Dの関係を満たすような液
滴の直径D(すなわち吐出量)及び吐出周期Tの組み合
わせを選択するだけで、基板上に吐出された液滴が互い
に離れず、歩留まりを確保するための最適な吐出条件を
確保することができるようになる。また、吐出量(すな
わち液滴の直径D)の方を変える必要が生じた場合に
も、その制御手段が、同様にVT<Dの関係を満たすよ
うな相対速度V及び吐出周期Tの組み合わせを選択する
だけで、基板上に吐出された液滴が互いに離れず、歩留
まりを確保するための最適な吐出条件を確保することが
できるようになる。また、例えば液滴吐出ヘッドの性能
向上により、吐出周期Tが短くできるようになった場合
にも、その制御手段が、同様にVT<Dの関係を満たす
ような相対速度V及び直径Dの組み合わせを選択するだ
けで、基板上に吐出された液滴が互いに離れず、歩留ま
りを確保するための最適な吐出条件を確保することがで
きるようになる。しかも、これらの何れの場合において
も、制御要素の1つである液滴の直径Dは、基板に着弾
して濡れ広がった後の寸法を採用しているので、隣り合
う液滴間の重なり合い部分を確保したまま、各液滴間の
間隔を極力広げることができるようになる。
のノズルより液滴を基板に向けて吐出して表示装置を製
造する装置であり、前記基板に対する前記液滴吐出ヘッ
ドの相対速度をV、前記液滴の吐出周期をT、前記基板
に着弾して濡れ広がった後の前記液滴の直径をDとした
場合に、VT<Dの関係を満たすように、前記相対速度
V及び前記吐出周期T及び前記直径Dを制御する制御手
段が備えられていることを特徴とする表示装置製造装
置。この[9]に記載の表示装置製造装置によれば、適
用する製造工程の種類により、例えば、吐出する液滴の
粘度に応じて相対速度Vを変える必要が生じたとして
も、その制御手段が、VT<Dの関係を満たすような液
滴の直径D(すなわち吐出量)及び吐出周期Tの組み合
わせを選択するだけで、基板上に吐出された液滴が互い
に離れず、歩留まりを確保するための最適な吐出条件を
確保することができるようになる。また、吐出量(すな
わち液滴の直径D)の方を変える必要が生じた場合に
も、その制御手段が、同様にVT<Dの関係を満たすよ
うな相対速度V及び吐出周期Tの組み合わせを選択する
だけで、基板上に吐出された液滴が互いに離れず、歩留
まりを確保するための最適な吐出条件を確保することが
できるようになる。また、例えば液滴吐出ヘッドの性能
向上により、吐出周期Tが短くできるようになった場合
にも、その制御手段が、同様にVT<Dの関係を満たす
ような相対速度V及び直径Dの組み合わせを選択するだ
けで、基板上に吐出された液滴が互いに離れず、歩留ま
りを確保するための最適な吐出条件を確保することがで
きるようになる。しかも、これらの何れの場合において
も、制御要素の1つである液滴の直径Dは、基板に着弾
して濡れ広がった後の寸法を採用しているので、隣り合
う液滴間の重なり合い部分を確保したまま、各液滴間の
間隔を極力広げることができるようになる。
【0015】[10] 上記[9]に記載の表示装置製
造装置において、前記制御手段が、前記基板に着弾して
濡れ広がった後の各液滴間の重なり部分を、直線上に配
置するように制御することを特徴とする表示装置製造装
置。この[10]に記載の表示装置製造装置によれば、
切れ目のない、直線的に連続した印刷線を形成すること
ができるようになる。
造装置において、前記制御手段が、前記基板に着弾して
濡れ広がった後の各液滴間の重なり部分を、直線上に配
置するように制御することを特徴とする表示装置製造装
置。この[10]に記載の表示装置製造装置によれば、
切れ目のない、直線的に連続した印刷線を形成すること
ができるようになる。
【0016】[11] 上記[10]に記載の表示装置
製造装置を用いて、カラーフィルタ基板を製造すること
を特徴とする表示装置製造装置。この[11]に記載の
表示装置製造装置によれば、切れ目のない、直線的に連
続した印刷線(R,G,Bの各線)を各画素内に形成す
ることができるようになる。
製造装置を用いて、カラーフィルタ基板を製造すること
を特徴とする表示装置製造装置。この[11]に記載の
表示装置製造装置によれば、切れ目のない、直線的に連
続した印刷線(R,G,Bの各線)を各画素内に形成す
ることができるようになる。
【0017】[12] 上記[11]に記載の表示装置
製造装置において、前記制御手段が、前記カラーフィル
タ基板における前記液滴の吐出パターンを、その画素並
びの一方向の全てが同色をなすストライプ型、もしく
は、その画素並びの一方向で3原色の色並びが繰り返さ
れるモザイク型、もしくは、隣り合う列間での相対的な
画素並びが互い違いとされ、3原色が三角形状の色並び
に配置されるデルタ型、のいずれかに制御することを特
徴とする表示装置製造装置。この[12]に記載の表示
装置製造装置によれば、いずれの吐出パターンにおいて
も、色むらの少ないカラーフィルタ基板を提供すること
ができる。
製造装置において、前記制御手段が、前記カラーフィル
タ基板における前記液滴の吐出パターンを、その画素並
びの一方向の全てが同色をなすストライプ型、もしく
は、その画素並びの一方向で3原色の色並びが繰り返さ
れるモザイク型、もしくは、隣り合う列間での相対的な
画素並びが互い違いとされ、3原色が三角形状の色並び
に配置されるデルタ型、のいずれかに制御することを特
徴とする表示装置製造装置。この[12]に記載の表示
装置製造装置によれば、いずれの吐出パターンにおいて
も、色むらの少ないカラーフィルタ基板を提供すること
ができる。
【0018】[13] 上記[10]に記載の表示装置
製造装置を用いて、有機EL素子を製造することを特徴
とする表示装置製造装置。この[13]に記載の表示装
置製造装置によれば、切れ目のない、直線的に連続した
印刷線(R,G,Bの各線)を各画素内に形成すること
ができるようになる。
製造装置を用いて、有機EL素子を製造することを特徴
とする表示装置製造装置。この[13]に記載の表示装
置製造装置によれば、切れ目のない、直線的に連続した
印刷線(R,G,Bの各線)を各画素内に形成すること
ができるようになる。
【0019】[14] 上記[10]に記載の表示装置
製造装置において、前記表示装置の金属配線を行うこと
を特徴とする表示装置製造装置。この[14]に記載の
表示装置製造装置によれば、切れ目のない、直線的に連
続した金属配線を形成することができるようになるの
で、通電不良の少ない液晶表示装置などを製造すること
ができる。
製造装置において、前記表示装置の金属配線を行うこと
を特徴とする表示装置製造装置。この[14]に記載の
表示装置製造装置によれば、切れ目のない、直線的に連
続した金属配線を形成することができるようになるの
で、通電不良の少ない液晶表示装置などを製造すること
ができる。
【0020】[15] 上記[9]に記載の表示装置製
造装置において、前記制御手段が、前記基板に着弾して
濡れ広がった後の各液滴間の重なり部分を、縦列方向及
び横列方向の双方に配置させて、被膜を形成することを
特徴とする表示装置製造装置。この[15]に記載の表
示装置製造装置によれば、平面視して抜け(液滴が吐出
されていない箇所)のない被膜を形成することができる
ようになる。
造装置において、前記制御手段が、前記基板に着弾して
濡れ広がった後の各液滴間の重なり部分を、縦列方向及
び横列方向の双方に配置させて、被膜を形成することを
特徴とする表示装置製造装置。この[15]に記載の表
示装置製造装置によれば、平面視して抜け(液滴が吐出
されていない箇所)のない被膜を形成することができる
ようになる。
【0021】[16] 上記[15]に記載の表示装置
製造装置において、フォトレジストの形成、または、オ
ーバーコートの形成、または、配向膜の形成、または、
液晶膜の形成、を行うことを特徴とする表示装置製造装
置。この[16]に記載の表示装置製造装置によれば、
平面視して抜け(液滴が吐出されていない箇所)のない
フォトレジストの形成や、オーバーコートの形成や、配
向膜の形成や、液晶膜の形成などの被膜形成を行うこと
ができるようになる。
製造装置において、フォトレジストの形成、または、オ
ーバーコートの形成、または、配向膜の形成、または、
液晶膜の形成、を行うことを特徴とする表示装置製造装
置。この[16]に記載の表示装置製造装置によれば、
平面視して抜け(液滴が吐出されていない箇所)のない
フォトレジストの形成や、オーバーコートの形成や、配
向膜の形成や、液晶膜の形成などの被膜形成を行うこと
ができるようになる。
【0022】[17] 上記[1]〜上記[8]のいず
れかに記載の表示装置製造方法、もしくは、上記[9]
〜上記[16]のいずれかに記載の表示装置製造装置を
用いて製造されたことを特徴とする表示装置。この[1
7]に記載の表示装置によれば、適用する表示装置製造
方法または表示装置製造装置が、生産効率の向上を可能
としているので、良質かつ安価な表示装置とすることが
できる。
れかに記載の表示装置製造方法、もしくは、上記[9]
〜上記[16]のいずれかに記載の表示装置製造装置を
用いて製造されたことを特徴とする表示装置。この[1
7]に記載の表示装置によれば、適用する表示装置製造
方法または表示装置製造装置が、生産効率の向上を可能
としているので、良質かつ安価な表示装置とすることが
できる。
【0023】[18] 上記[17]に記載の表示装置
を備えて製造されたことを特徴とするデバイス。この
[18]に記載のデバイスによれば、良質かつ安価な表
示装置を採用できるので、やはり、高品質かつ低コスト
なデバイスとすることができる。
を備えて製造されたことを特徴とするデバイス。この
[18]に記載のデバイスによれば、良質かつ安価な表
示装置を採用できるので、やはり、高品質かつ低コスト
なデバイスとすることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明は、複数のノズルから液滴
を吐出して表示装置を製造する表示装置製造方法及び表
示装置製造装置と、これら表示装置製造方法及び表示装
置製造装置により製造された表示装置と、該表示装置を
備えて製造されたデバイスとに関し、特に、適用する製
造工程の種類に応じて柔軟に対応できる表示装置製造方
法及び表示装置製造装置と、これら表示装置製造方法及
び表示装置製造装置により製造された表示装置及びデバ
イスとに関するものであり、その一実施形態を、図面を
参照しながら以下に説明するが、本発明がこれのみに限
定解釈されるものでないことは勿論である。なお、本発
明で言う液滴とは、従来の液滴に加え、カラーフィルタ
用組成物、有機EL素子用組成物などのように、機能を
持った液体のことを指すものとする。
を吐出して表示装置を製造する表示装置製造方法及び表
示装置製造装置と、これら表示装置製造方法及び表示装
置製造装置により製造された表示装置と、該表示装置を
備えて製造されたデバイスとに関し、特に、適用する製
造工程の種類に応じて柔軟に対応できる表示装置製造方
法及び表示装置製造装置と、これら表示装置製造方法及
び表示装置製造装置により製造された表示装置及びデバ
イスとに関するものであり、その一実施形態を、図面を
参照しながら以下に説明するが、本発明がこれのみに限
定解釈されるものでないことは勿論である。なお、本発
明で言う液滴とは、従来の液滴に加え、カラーフィルタ
用組成物、有機EL素子用組成物などのように、機能を
持った液体のことを指すものとする。
【0025】なお、以下の説明においては、まず、図1
〜図13を参照しながら、本実施形態の表示装置製造方
法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイスに関す
る全般的な説明を主に行い、次に、図14〜図19を参
照しながら、本実施形態の特徴的部分の説明を中心に行
うものとする。また、以下の説明においては、前記の表
示装置製造装置、表示装置製造方法、表示装置、及びデ
バイスのそれぞれに対応するものが、下記である場合を
例として説明を行うものとする。 ・表示装置製造装置・・・カラーフィルタ基板の製造装置 ・表示装置製造方法・・・カラーフィルタ基板の製造方法 ・表示装置・・・カラーフィルタ基板 ・デバイス・・・ノート型パーソナルコンピュータ
〜図13を参照しながら、本実施形態の表示装置製造方
法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイスに関す
る全般的な説明を主に行い、次に、図14〜図19を参
照しながら、本実施形態の特徴的部分の説明を中心に行
うものとする。また、以下の説明においては、前記の表
示装置製造装置、表示装置製造方法、表示装置、及びデ
バイスのそれぞれに対応するものが、下記である場合を
例として説明を行うものとする。 ・表示装置製造装置・・・カラーフィルタ基板の製造装置 ・表示装置製造方法・・・カラーフィルタ基板の製造方法 ・表示装置・・・カラーフィルタ基板 ・デバイス・・・ノート型パーソナルコンピュータ
【0026】(1)表示装置製造装置(カラーフィルタ
基板の製造装置) まず、図1により本実施形態の表示装置製造装置の説明
を行う。なお、図1は、同表示装置製造装置における各
構成機器の配置を示す平面図である。同図に示すよう
に、本実施形態の表示装置製造装置は、これから加工さ
れる基板(ガラス基板。以下、ウェハWfと称する)を
収容するウェハ供給部1と、該ウェハ供給部1から移載
されたウェハWfの描画方向を決めるウェハ回転部2
と、該ウェハ回転部2から移載されたウェハWfに対し
てR(赤)の液滴を着弾させる液滴吐出装置3と、該液
滴吐出装置3から移載されたウェハWfを乾燥させるベ
ーク炉4と、これら装置間でのウェハWfの移載作業を
行うロボット5a,5bと、ベーク炉4から移載された
ウェハWfを次工程に送るまでに冷却及び描画方向の決
定をなす中間搬送部6と、該中間搬送部6から移載され
たウェハWfに対してG(緑)の液滴を着弾させる液滴
吐出装置7と、該液滴吐出装置7から移載されたウェハ
Wfを乾燥させるベーク炉8と、これら装置間でのウェ
ハWfの移載作業を行うロボット9a,9bと、ベーク
炉8から移載されたウェハWfを次工程に送るまでに冷
却及び描画方向の決定をなす中間搬送部10と、該中間
搬送部10から移載されたウェハWfに対してB(青)
の液滴を着弾させる液滴吐出装置11と、該液滴吐出装
置11から移載されたウェハWfを乾燥させるベーク炉
12と、これら装置間でのウェハWfの移載作業を行う
ロボット13a,13bと、ベーク炉12から移載され
たウェハWfの収納方向を決めるウェハ回転部14と、
該ウェハ回転部14から移載されたウェハWfを収容す
るウェハ収容部15とを備えて概略構成されている。
基板の製造装置) まず、図1により本実施形態の表示装置製造装置の説明
を行う。なお、図1は、同表示装置製造装置における各
構成機器の配置を示す平面図である。同図に示すよう
に、本実施形態の表示装置製造装置は、これから加工さ
れる基板(ガラス基板。以下、ウェハWfと称する)を
収容するウェハ供給部1と、該ウェハ供給部1から移載
されたウェハWfの描画方向を決めるウェハ回転部2
と、該ウェハ回転部2から移載されたウェハWfに対し
てR(赤)の液滴を着弾させる液滴吐出装置3と、該液
滴吐出装置3から移載されたウェハWfを乾燥させるベ
ーク炉4と、これら装置間でのウェハWfの移載作業を
行うロボット5a,5bと、ベーク炉4から移載された
ウェハWfを次工程に送るまでに冷却及び描画方向の決
定をなす中間搬送部6と、該中間搬送部6から移載され
たウェハWfに対してG(緑)の液滴を着弾させる液滴
吐出装置7と、該液滴吐出装置7から移載されたウェハ
Wfを乾燥させるベーク炉8と、これら装置間でのウェ
ハWfの移載作業を行うロボット9a,9bと、ベーク
炉8から移載されたウェハWfを次工程に送るまでに冷
却及び描画方向の決定をなす中間搬送部10と、該中間
搬送部10から移載されたウェハWfに対してB(青)
の液滴を着弾させる液滴吐出装置11と、該液滴吐出装
置11から移載されたウェハWfを乾燥させるベーク炉
12と、これら装置間でのウェハWfの移載作業を行う
ロボット13a,13bと、ベーク炉12から移載され
たウェハWfの収納方向を決めるウェハ回転部14と、
該ウェハ回転部14から移載されたウェハWfを収容す
るウェハ収容部15とを備えて概略構成されている。
【0027】ウェハ供給部1は、1台あたり例えば20
枚のウェハWfを上下方向に収容するエレベータ機構を
備えた2台のマガジンローダ1a,1bを備えており、
順次、ウェハWfが供給可能となっている。ウェハ回転
部2は、ウェハWfに対し、前記液滴吐出装置3により
どの方向に描画するかの描画方向決定と、これから液滴
吐出装置3に移載する前の仮位置決めとを行うものであ
り、2台のウェハ回転台2a,2bにより、鉛直方向の
軸線回りに90度ピッチ間隔で正確にウェハWfを回転
可能に保持している。
枚のウェハWfを上下方向に収容するエレベータ機構を
備えた2台のマガジンローダ1a,1bを備えており、
順次、ウェハWfが供給可能となっている。ウェハ回転
部2は、ウェハWfに対し、前記液滴吐出装置3により
どの方向に描画するかの描画方向決定と、これから液滴
吐出装置3に移載する前の仮位置決めとを行うものであ
り、2台のウェハ回転台2a,2bにより、鉛直方向の
軸線回りに90度ピッチ間隔で正確にウェハWfを回転
可能に保持している。
【0028】液滴吐出装置3,7,11については、後
述においてその詳細を説明するため、ここでは説明を省
略するものとする。ベーク炉4は、例えば120℃以下
の加熱環境に5分間、ウェハWfを置くことにより、液
滴吐出装置3から移載されてきたウェハWfの赤色の液
滴を乾燥させるものであり、これにより、ウェハWfの
移動中に赤色の液滴が飛散するなどの不都合を防止可能
としている。
述においてその詳細を説明するため、ここでは説明を省
略するものとする。ベーク炉4は、例えば120℃以下
の加熱環境に5分間、ウェハWfを置くことにより、液
滴吐出装置3から移載されてきたウェハWfの赤色の液
滴を乾燥させるものであり、これにより、ウェハWfの
移動中に赤色の液滴が飛散するなどの不都合を防止可能
としている。
【0029】ロボット5a,5bは、基台を中心に伸展
動作ならびに回転動作等が可能なアーム(図示せず)を
備えており、該アームの先端に装備されている真空吸着
パッドでウェハWfを吸着保持することにより、各装置
間でのウェハWfの移載作業をスムーズかつ効率的に行
うことができるようになっている。
動作ならびに回転動作等が可能なアーム(図示せず)を
備えており、該アームの先端に装備されている真空吸着
パッドでウェハWfを吸着保持することにより、各装置
間でのウェハWfの移載作業をスムーズかつ効率的に行
うことができるようになっている。
【0030】中間搬送部6は、ロボット5bによりベー
ク炉4から移載されてきた加熱状態のウェハWfを次工
程に送る前に冷やす冷却器6aと、冷却後のウェハWf
に対し、前記液滴吐出装置7によりどの方向に描画する
かの描画方向決定及び、これから液滴吐出装置7に移載
する前の仮位置決めを行うウェハ回転台6bと、これら
冷却器6a及びウェハ回転台6b間に配置され、液滴吐
出装置3,7間での処理速度差を吸収するバッファ6c
とを備えて構成されている。ウェハ回転台6bは、鉛直
方向の軸線回りに90度ピッチ、もしくは180度ピッ
チでウェハWfを回転させることができるようになって
いる。
ク炉4から移載されてきた加熱状態のウェハWfを次工
程に送る前に冷やす冷却器6aと、冷却後のウェハWf
に対し、前記液滴吐出装置7によりどの方向に描画する
かの描画方向決定及び、これから液滴吐出装置7に移載
する前の仮位置決めを行うウェハ回転台6bと、これら
冷却器6a及びウェハ回転台6b間に配置され、液滴吐
出装置3,7間での処理速度差を吸収するバッファ6c
とを備えて構成されている。ウェハ回転台6bは、鉛直
方向の軸線回りに90度ピッチ、もしくは180度ピッ
チでウェハWfを回転させることができるようになって
いる。
【0031】赤色の液滴を飛ばす液滴吐出装置3と、緑
色の液滴を飛ばす液滴吐出装置7とでは、それぞれの各
液滴吐出ヘッド(液滴吐出装置3,7,11の説明にお
いて後述)の清掃作業に要する時間が異なるため、その
結果として、両液滴吐出装置3,7間で処理速度に差が
生じることとなる。前記バッファ6cは、この処理速度
差を吸収するために設けられたものであり、エレベータ
状のストック台に複数枚のウェハWfを一時的に仮置き
することができるようになっている。
色の液滴を飛ばす液滴吐出装置7とでは、それぞれの各
液滴吐出ヘッド(液滴吐出装置3,7,11の説明にお
いて後述)の清掃作業に要する時間が異なるため、その
結果として、両液滴吐出装置3,7間で処理速度に差が
生じることとなる。前記バッファ6cは、この処理速度
差を吸収するために設けられたものであり、エレベータ
状のストック台に複数枚のウェハWfを一時的に仮置き
することができるようになっている。
【0032】ベーク炉8は、前記ベーク炉4と同様の構
造を有する加熱炉であり、例えば120℃以下の加熱環
境に5分間、ウェハWfを置くことにより、液滴吐出装
置7から移載されてきたウェハWfの緑色の液滴を乾燥
させるものであり、これにより、ウェハWfの移動中に
緑色の液滴が飛散するなどの不都合を防止可能としてい
る。
造を有する加熱炉であり、例えば120℃以下の加熱環
境に5分間、ウェハWfを置くことにより、液滴吐出装
置7から移載されてきたウェハWfの緑色の液滴を乾燥
させるものであり、これにより、ウェハWfの移動中に
緑色の液滴が飛散するなどの不都合を防止可能としてい
る。
【0033】ロボット9a,9bは、前記ロボット5
a,5bと同様の構造を有しており、基台を中心として
伸展動作ならびに回転動作等が可能なアーム(図示せ
ず)を備え、該アームの先端に装備されている真空吸着
パッドでウェハWfを吸着保持することにより、各装置
間でのウェハWfの移載作業をスムーズかつ効率的に行
うことができるようになっている。
a,5bと同様の構造を有しており、基台を中心として
伸展動作ならびに回転動作等が可能なアーム(図示せ
ず)を備え、該アームの先端に装備されている真空吸着
パッドでウェハWfを吸着保持することにより、各装置
間でのウェハWfの移載作業をスムーズかつ効率的に行
うことができるようになっている。
【0034】中間搬送部10は、前記中間搬送部6と同
様の構造を有しており、ロボット9bによりベーク炉8
から移載されてきた加熱状態のウェハWfを次工程に送
る前に冷やす冷却器10aと、冷却後のウェハWfに対
し、前記液滴吐出装置11によりどの方向に描画するか
の描画方向決定及び、これから液滴吐出装置11に移載
する前の仮位置決めを行うウェハ回転台10bと、これ
ら冷却器10a及びウェハ回転台10b間に配置され、
液滴吐出装置7,11間での処理速度差を吸収するバッ
ファ10cとを備えて構成されている。ウェハ回転台1
0bは、鉛直方向の軸線回りに90度ピッチ、もしくは
180度ピッチでウェハWfを回転させることができる
ようになっている。
様の構造を有しており、ロボット9bによりベーク炉8
から移載されてきた加熱状態のウェハWfを次工程に送
る前に冷やす冷却器10aと、冷却後のウェハWfに対
し、前記液滴吐出装置11によりどの方向に描画するか
の描画方向決定及び、これから液滴吐出装置11に移載
する前の仮位置決めを行うウェハ回転台10bと、これ
ら冷却器10a及びウェハ回転台10b間に配置され、
液滴吐出装置7,11間での処理速度差を吸収するバッ
ファ10cとを備えて構成されている。ウェハ回転台1
0bは、鉛直方向の軸線回りに90度ピッチ、もしくは
180度ピッチでウェハWfを回転させることができる
ようになっている。
【0035】ウェハ回転部14は、各液滴吐出装置3,
7,11によりR,G,Bパターンが形成された後の各
ウェハWfに対し、それぞれが一定方向を向くように回
転位置決め可能となっている。すなわち、ウェハ回転部
14は、2台のウェハ回転台14a,14bを備えてお
り、鉛直方向の軸線回りに90度ピッチ間隔で正確にウ
ェハWfを回転可能に保持できるようになっている。ウ
ェハ収容部15は、ウェハ回転部14より移載されてき
た完成品のウェハWf(カラーフィルタ基板)を、1台
あたり例えば20枚づつ、上下方向に収容するエレベー
タ機構を備えた2台のマガジンアンローダ15a,15
bを有しており、順次、ウェハWfを収容可能としてい
る。
7,11によりR,G,Bパターンが形成された後の各
ウェハWfに対し、それぞれが一定方向を向くように回
転位置決め可能となっている。すなわち、ウェハ回転部
14は、2台のウェハ回転台14a,14bを備えてお
り、鉛直方向の軸線回りに90度ピッチ間隔で正確にウ
ェハWfを回転可能に保持できるようになっている。ウ
ェハ収容部15は、ウェハ回転部14より移載されてき
た完成品のウェハWf(カラーフィルタ基板)を、1台
あたり例えば20枚づつ、上下方向に収容するエレベー
タ機構を備えた2台のマガジンアンローダ15a,15
bを有しており、順次、ウェハWfを収容可能としてい
る。
【0036】(2)表示装置製造方法(カラーフィルタ
基板の製造方法)及び液晶表示装置(カラーフィルタ基
板) 以上説明の本実施形態の表示装置製造装置によるRGB
パターン形成工程を含めたカラーフィルタ基板の製造工
程の一連の流れを、図1〜図3を参照しながら以下に説
明する。なお、図2は、同表示装置製造装置によるRG
Bパターン形成工程を含めた一連のカラーフィルタ基板
製造工程を示す図であり、(a)〜(f)の順に製造さ
れる流れを示している。また、図3は、同表示装置製造
装置の各液滴吐出装置により形成されるRGBパターン
例を示す図であって、(a)はストライプ型を示す斜視
図,(b)はモザイク型を示す部分拡大図,(c)はデ
ルタ型を示す部分拡大図である。
基板の製造方法)及び液晶表示装置(カラーフィルタ基
板) 以上説明の本実施形態の表示装置製造装置によるRGB
パターン形成工程を含めたカラーフィルタ基板の製造工
程の一連の流れを、図1〜図3を参照しながら以下に説
明する。なお、図2は、同表示装置製造装置によるRG
Bパターン形成工程を含めた一連のカラーフィルタ基板
製造工程を示す図であり、(a)〜(f)の順に製造さ
れる流れを示している。また、図3は、同表示装置製造
装置の各液滴吐出装置により形成されるRGBパターン
例を示す図であって、(a)はストライプ型を示す斜視
図,(b)はモザイク型を示す部分拡大図,(c)はデ
ルタ型を示す部分拡大図である。
【0037】製造に用いられるウェハWfは、例えば長
方形型薄板形状の透明基板であり、適度の機械的強度と
共に光透過性の高い性質を兼ね備えている。このウェハ
Wfとしては、例えば、透明ガラス基板、アクリルガラ
ス、プラスチック基板、プラスチックフィルム及びこれ
らの表面処理品等が好ましく用いられる。なお、このウ
ェハWfには、RGBパターン形成工程の前工程におい
て、生産性をあげる観点から、複数のカラーフィルタ領
域が予めマトリックス状に形成されており、これらカラ
ーフィルタ領域をRGBパターン形成工程の後工程で切
断することにより、製造するデバイスに適合するカラー
フィルタ基板として用いられるようになっている。
方形型薄板形状の透明基板であり、適度の機械的強度と
共に光透過性の高い性質を兼ね備えている。このウェハ
Wfとしては、例えば、透明ガラス基板、アクリルガラ
ス、プラスチック基板、プラスチックフィルム及びこれ
らの表面処理品等が好ましく用いられる。なお、このウ
ェハWfには、RGBパターン形成工程の前工程におい
て、生産性をあげる観点から、複数のカラーフィルタ領
域が予めマトリックス状に形成されており、これらカラ
ーフィルタ領域をRGBパターン形成工程の後工程で切
断することにより、製造するデバイスに適合するカラー
フィルタ基板として用いられるようになっている。
【0038】図3に示すように、各カラーフィルタ領域
には、R(赤色)の液滴及びG(緑色)の液滴及びB
(青色)の液滴が、後述の各液滴吐出ヘッド53より所
定のパターンで形成されるようになっている。この形成
パターンとしては、図3(a)に示すストライプ型の他
に、図3(b)に示すモザイク型や、図3(c)に示す
デルタ型などがあるが、本発明ではその形成パターンに
関し、特に限定はされない。
には、R(赤色)の液滴及びG(緑色)の液滴及びB
(青色)の液滴が、後述の各液滴吐出ヘッド53より所
定のパターンで形成されるようになっている。この形成
パターンとしては、図3(a)に示すストライプ型の他
に、図3(b)に示すモザイク型や、図3(c)に示す
デルタ型などがあるが、本発明ではその形成パターンに
関し、特に限定はされない。
【0039】まず、前工程であるブラックマトリックス
形成工程では、図2(a)に示すように、透明のウェハ
Wfの一方の面(カラーフィルタ基板の基礎となる面)
に対して、光透過性のない樹脂(好ましくは黒色)を、
スピンコート等の方法により、所定の厚さ(たとえば2
μm程度)に塗布し、その後、フォトリソグラフィー法
等の方法によりマトリックス状にブラックマトリックス
b,・・・を形成していく。これらブラックマトリックス
b,・・・の格子で囲まれる最小の表示要素は、所謂フィ
ルターエレメント(符号e,・・・に示す各画素)と言わ
れ、たとえばX軸方向の巾寸法が30μm、Y軸方向の
長さ寸法が100μm程度の大きさとなる窓になる。こ
のブラックマトリックスb,・・・を形成した後は、図示
されないヒータにより熱を加えることで、ウェハWf上
の樹脂を焼成することがなされる。
形成工程では、図2(a)に示すように、透明のウェハ
Wfの一方の面(カラーフィルタ基板の基礎となる面)
に対して、光透過性のない樹脂(好ましくは黒色)を、
スピンコート等の方法により、所定の厚さ(たとえば2
μm程度)に塗布し、その後、フォトリソグラフィー法
等の方法によりマトリックス状にブラックマトリックス
b,・・・を形成していく。これらブラックマトリックス
b,・・・の格子で囲まれる最小の表示要素は、所謂フィ
ルターエレメント(符号e,・・・に示す各画素)と言わ
れ、たとえばX軸方向の巾寸法が30μm、Y軸方向の
長さ寸法が100μm程度の大きさとなる窓になる。こ
のブラックマトリックスb,・・・を形成した後は、図示
されないヒータにより熱を加えることで、ウェハWf上
の樹脂を焼成することがなされる。
【0040】このようにしてブラックマトリックスbが
形成された後のウェハWfは、図1に示したウェハ供給
部1の各マガジンローダ1a,1bに収容され、引き続
きRGBパターン形成工程が行われる。すなわち、まず
各マガジンローダ1a,1bのうちの何れか一方に収容
されたウェハWfを、ロボット5aがそのアームにて吸
着保持した後、各ウェハ回転台2a,2bのうちのいず
れか一方に載置する。そして、各ウェハ回転台2a,2
bは、これから赤色の液滴を着弾させる前準備として、
その描画方向と位置決めとを行う。
形成された後のウェハWfは、図1に示したウェハ供給
部1の各マガジンローダ1a,1bに収容され、引き続
きRGBパターン形成工程が行われる。すなわち、まず
各マガジンローダ1a,1bのうちの何れか一方に収容
されたウェハWfを、ロボット5aがそのアームにて吸
着保持した後、各ウェハ回転台2a,2bのうちのいず
れか一方に載置する。そして、各ウェハ回転台2a,2
bは、これから赤色の液滴を着弾させる前準備として、
その描画方向と位置決めとを行う。
【0041】その後、ロボット5aは、各ウェハ回転台
2a,2b上のウェハWfを再び吸着保持し、今度は液
滴吐出装置3へと移載する。この液滴吐出装置3では、
図2(b)に示すように、所定のパターンを形成するた
めの所定位置のフィルターエレメントe,・・・内に、赤
色の液滴Rを着弾させる。この時の各液滴Rの量は、加
熱工程における液滴Rの体積減少量を考慮した充分な量
となっている。なお、この液滴吐出装置3による液滴R
の着弾の詳細については、後述で説明する。
2a,2b上のウェハWfを再び吸着保持し、今度は液
滴吐出装置3へと移載する。この液滴吐出装置3では、
図2(b)に示すように、所定のパターンを形成するた
めの所定位置のフィルターエレメントe,・・・内に、赤
色の液滴Rを着弾させる。この時の各液滴Rの量は、加
熱工程における液滴Rの体積減少量を考慮した充分な量
となっている。なお、この液滴吐出装置3による液滴R
の着弾の詳細については、後述で説明する。
【0042】このようにして所定の全てのフィルターエ
レメントe,・・・に赤色の液滴Rが充填された後のウェ
ハWfは、所定の温度(例えば70℃程度)で乾燥処理
される。この時、液滴Rの溶媒が蒸発すると、図2
(c)に示すように液滴Rの体積が減少するので、体積
減少が激しい場合には、カラーフィルタ基板として充分
な液滴膜厚が得られるまで、液滴Rの着弾作業と乾燥作
業とが繰り返される。この処理により、液滴Rの溶媒が
蒸発して、最終的に液滴Rの固形分のみが残留して膜化
する。
レメントe,・・・に赤色の液滴Rが充填された後のウェ
ハWfは、所定の温度(例えば70℃程度)で乾燥処理
される。この時、液滴Rの溶媒が蒸発すると、図2
(c)に示すように液滴Rの体積が減少するので、体積
減少が激しい場合には、カラーフィルタ基板として充分
な液滴膜厚が得られるまで、液滴Rの着弾作業と乾燥作
業とが繰り返される。この処理により、液滴Rの溶媒が
蒸発して、最終的に液滴Rの固形分のみが残留して膜化
する。
【0043】なお、この赤色パターンの形成工程におけ
る乾燥作業は、図1で示したベーク炉4によって行われ
る。そして、乾燥作業後のウェハWfは、加熱状態にあ
るため、同図に示すロボット5bにより冷却器6aへと
搬送され、冷却される。冷却後のウェハWfは、バッフ
ァ6cに一時的に保管されて時間調整がなされた後、ウ
ェハ回転台6bへと移載され、これから緑色の液滴を着
弾させる前準備として、その描画方向と位置決めとがな
される。そして、ロボット9aが、ウェハ回転台6b上
のウェハWfを吸着保持した後、今度は液滴吐出装置7
へと移載する。
る乾燥作業は、図1で示したベーク炉4によって行われ
る。そして、乾燥作業後のウェハWfは、加熱状態にあ
るため、同図に示すロボット5bにより冷却器6aへと
搬送され、冷却される。冷却後のウェハWfは、バッフ
ァ6cに一時的に保管されて時間調整がなされた後、ウ
ェハ回転台6bへと移載され、これから緑色の液滴を着
弾させる前準備として、その描画方向と位置決めとがな
される。そして、ロボット9aが、ウェハ回転台6b上
のウェハWfを吸着保持した後、今度は液滴吐出装置7
へと移載する。
【0044】この液滴吐出装置7では、図2(b)に示
すように、所定のパターンを形成するための所定位置の
フィルターエレメントe,・・・内に、緑色の液滴Gを着
弾させる。この時の各液滴Gの量は、加熱工程における
液滴Gの体積減少量を考慮した充分な量となっている。
すように、所定のパターンを形成するための所定位置の
フィルターエレメントe,・・・内に、緑色の液滴Gを着
弾させる。この時の各液滴Gの量は、加熱工程における
液滴Gの体積減少量を考慮した充分な量となっている。
【0045】このようにして所定の全てのフィルターエ
レメントe,・・・に緑色の液滴Gが充填された後のウェ
ハWfは、所定の温度(例えば70℃程度)で乾燥処理
される。この時、液滴Gの溶媒が蒸発すると、図2
(c)に示すように液滴Gの体積が減少するので、体積
減少が激しい場合には、カラーフィルタ基板として充分
な液滴膜厚が得られるまで、液滴Gの着弾作業と乾燥作
業とが繰り返される。この処理により、液滴Gの溶媒が
蒸発して、最終的に液滴Gの固形分のみが残留して膜化
する。
レメントe,・・・に緑色の液滴Gが充填された後のウェ
ハWfは、所定の温度(例えば70℃程度)で乾燥処理
される。この時、液滴Gの溶媒が蒸発すると、図2
(c)に示すように液滴Gの体積が減少するので、体積
減少が激しい場合には、カラーフィルタ基板として充分
な液滴膜厚が得られるまで、液滴Gの着弾作業と乾燥作
業とが繰り返される。この処理により、液滴Gの溶媒が
蒸発して、最終的に液滴Gの固形分のみが残留して膜化
する。
【0046】なお、この緑色パターンの形成工程におけ
る乾燥作業は、図1で示したベーク炉8によって行われ
る。そして、乾燥作業後のウェハWfは、加熱状態にあ
るため、同図に示すロボット9bにより冷却器10aへ
と搬送され、冷却される。冷却後のウェハWfは、バッ
ファ10cに一時的に保管されて時間調整がなされた
後、ウェハ回転台10bへと移載され、これから青色の
液滴を着弾させる前準備として、その描画方向と位置決
めとがなされる。そして、ロボット13aが、ウェハ回
転台10b上のウェハWfを吸着保持した後、今度は液
滴吐出装置11へと移載する。
る乾燥作業は、図1で示したベーク炉8によって行われ
る。そして、乾燥作業後のウェハWfは、加熱状態にあ
るため、同図に示すロボット9bにより冷却器10aへ
と搬送され、冷却される。冷却後のウェハWfは、バッ
ファ10cに一時的に保管されて時間調整がなされた
後、ウェハ回転台10bへと移載され、これから青色の
液滴を着弾させる前準備として、その描画方向と位置決
めとがなされる。そして、ロボット13aが、ウェハ回
転台10b上のウェハWfを吸着保持した後、今度は液
滴吐出装置11へと移載する。
【0047】この液滴吐出装置11では、図2(b)に
示すように、所定のパターンを形成するための所定位置
のフィルターエレメントe,・・・内に、青色の液滴Bを
着弾させる。この時の各液滴Bの量は、加熱工程におけ
る液滴Bの体積減少量を考慮した充分な量となってい
る。なお、この液滴吐出装置11による液滴Bの着弾の
詳細については、後述で説明する。
示すように、所定のパターンを形成するための所定位置
のフィルターエレメントe,・・・内に、青色の液滴Bを
着弾させる。この時の各液滴Bの量は、加熱工程におけ
る液滴Bの体積減少量を考慮した充分な量となってい
る。なお、この液滴吐出装置11による液滴Bの着弾の
詳細については、後述で説明する。
【0048】このようにして所定の全てのフィルターエ
レメントe,・・・に青色の液滴Bが充填された後のウェ
ハWfは、図2(c)に示すように所定の温度(例えば
70℃程度)で乾燥処理される。この時、液滴Bの溶媒
が蒸発すると、液滴Bの体積が減少するので、体積減少
が激しい場合には、カラーフィルタとして充分な液滴膜
厚が得られるまで、液滴Bの着弾作業と乾燥作業とが繰
り返される。この処理により、液滴Bの溶媒が蒸発し
て、最終的に液滴Bの固形分のみが残留して膜化する。
レメントe,・・・に青色の液滴Bが充填された後のウェ
ハWfは、図2(c)に示すように所定の温度(例えば
70℃程度)で乾燥処理される。この時、液滴Bの溶媒
が蒸発すると、液滴Bの体積が減少するので、体積減少
が激しい場合には、カラーフィルタとして充分な液滴膜
厚が得られるまで、液滴Bの着弾作業と乾燥作業とが繰
り返される。この処理により、液滴Bの溶媒が蒸発し
て、最終的に液滴Bの固形分のみが残留して膜化する。
【0049】なお、この青色パターンの形成工程におけ
る前記乾燥作業は、図1で示したベーク炉12によって
行われる。そして、乾燥作業後のウェハWfは、ロボッ
ト13bによりウェハ回転台14a,14bの何れか一
方に移載され、その後、一定方向を向くように回転位置
決めがなされる。回転位置決め後のウェハWfは、ロボ
ット13bによりマガジンアンローダ15a,15bの
何れか一方に収容される。
る前記乾燥作業は、図1で示したベーク炉12によって
行われる。そして、乾燥作業後のウェハWfは、ロボッ
ト13bによりウェハ回転台14a,14bの何れか一
方に移載され、その後、一定方向を向くように回転位置
決めがなされる。回転位置決め後のウェハWfは、ロボ
ット13bによりマガジンアンローダ15a,15bの
何れか一方に収容される。
【0050】以上により、RGBパターン形成工程が完
了する。そして引き続き、図2(d)以降に示す後工程
が行われる。すなわち、図2(d)に示す保護膜形成工
程では、液滴R,G,Bを完全に乾燥させるために、所
定の温度で所定時間加熱を行う。乾燥が終了すると、液
滴膜が形成されたウェハWfの表面保護及び表面平坦化
を目的として、保護膜cが形成される。この保護膜cの
形成には、例えばスピンコート法や、ロールコート法
や、リッピング法などの方法を採用することができる。
了する。そして引き続き、図2(d)以降に示す後工程
が行われる。すなわち、図2(d)に示す保護膜形成工
程では、液滴R,G,Bを完全に乾燥させるために、所
定の温度で所定時間加熱を行う。乾燥が終了すると、液
滴膜が形成されたウェハWfの表面保護及び表面平坦化
を目的として、保護膜cが形成される。この保護膜cの
形成には、例えばスピンコート法や、ロールコート法
や、リッピング法などの方法を採用することができる。
【0051】続く図2(e)に示す透明電極形成工程で
は、スパッタ法や真空吸着法等の処方を用いて、透明電
極tが保護膜cの全面を覆うように形成される。続く図
2(f)に示すパターニング工程では、透明電極tが、
画素電極としてパターニングされる。なお、液晶表示パ
ネルの駆動にTFT(Thin Film Transi
stor)等を用いる場合ではこのパターニングは不用
である。以上説明の各製造工程により、図2(f)に示
すカラーフィルタ基板CKが製造される。
は、スパッタ法や真空吸着法等の処方を用いて、透明電
極tが保護膜cの全面を覆うように形成される。続く図
2(f)に示すパターニング工程では、透明電極tが、
画素電極としてパターニングされる。なお、液晶表示パ
ネルの駆動にTFT(Thin Film Transi
stor)等を用いる場合ではこのパターニングは不用
である。以上説明の各製造工程により、図2(f)に示
すカラーフィルタ基板CKが製造される。
【0052】(3)デバイス(ノート型パーソナルコン
ピュータ) そして、このカラーフィルタ基板CKと対向基板(図示
せず)とを対向配置させて製造した液晶表示装置を備え
て製造されることにより、例えば図4に示すノート型パ
ソコン20(デバイス)が製造されることとなる。同図
に示すノート型パソコン20は、筐体21と、該筐体2
1内に収容された前記液晶表示装置(符号22参照)
と、入力部であるキーボード23と、図示されない表示
情報出力源、表示情報処理回路、クロック発生回路等の
様々な回路と、これら回路に電力を供給する電源回路等
からなる表示信号生成部とを備えて構成されている。液
晶表示装置22には、例えばキーボード23から入力さ
れた情報に基づいて前記表示信号生成部により生成され
た表示信号が供給され、表示画像が形成されるようにな
っている。
ピュータ) そして、このカラーフィルタ基板CKと対向基板(図示
せず)とを対向配置させて製造した液晶表示装置を備え
て製造されることにより、例えば図4に示すノート型パ
ソコン20(デバイス)が製造されることとなる。同図
に示すノート型パソコン20は、筐体21と、該筐体2
1内に収容された前記液晶表示装置(符号22参照)
と、入力部であるキーボード23と、図示されない表示
情報出力源、表示情報処理回路、クロック発生回路等の
様々な回路と、これら回路に電力を供給する電源回路等
からなる表示信号生成部とを備えて構成されている。液
晶表示装置22には、例えばキーボード23から入力さ
れた情報に基づいて前記表示信号生成部により生成され
た表示信号が供給され、表示画像が形成されるようにな
っている。
【0053】本実施形態に係るカラーフィルタ基板CK
が装備されるデバイスとしては、前記ノート型パソコン
20に限らず、携帯型電話機、電子手帳、ページャ、P
OS端末、ICカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プ
ロジェクタ、エンジニアリングワークステーション(E
WS)、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ
型またはモニタ直視型のビデオレコーダ、電子卓上計算
機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装
置、時計、ゲーム機器等、様々な電子機器が挙げられ
る。
が装備されるデバイスとしては、前記ノート型パソコン
20に限らず、携帯型電話機、電子手帳、ページャ、P
OS端末、ICカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プ
ロジェクタ、エンジニアリングワークステーション(E
WS)、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ
型またはモニタ直視型のビデオレコーダ、電子卓上計算
機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装
置、時計、ゲーム機器等、様々な電子機器が挙げられ
る。
【0054】(4)液滴吐出装置の詳細
続いて、図5〜図18を参照しながら、上記表示装置製
造装置に備えられている前記各液滴吐出装置3,7,1
1の詳細説明を行うものとする。なお、各液滴吐出装置
3,7,11は同じ構造を有しているため、液滴吐出装
置3についての説明を以下に行い、他の液滴吐出装置
7,11は同様であるとしてその説明を省略するものと
する。
造装置に備えられている前記各液滴吐出装置3,7,1
1の詳細説明を行うものとする。なお、各液滴吐出装置
3,7,11は同じ構造を有しているため、液滴吐出装
置3についての説明を以下に行い、他の液滴吐出装置
7,11は同様であるとしてその説明を省略するものと
する。
【0055】図5〜図7に示すように、本実施形態の液
滴吐出装置3は、その主要構成機器として、液滴吐出ユ
ニット30と、キャップユニット60と、ワイピングユ
ニット70(ヘッド清掃機構)と、重量測定ユニット9
0(図5では省略)と、ドット抜け検出ユニット100
(図5では省略)とを備えている。なお、図5は、同液
滴吐出装置の主要機器を示す概略構成図である。また、
図6は、同液滴吐出装置の一部を示す図であって、図1
の矢印Aより見た側面図である。また、図7は、同液滴
吐出装置を示す図であって、図6の矢印Bより見た平面
図である。
滴吐出装置3は、その主要構成機器として、液滴吐出ユ
ニット30と、キャップユニット60と、ワイピングユ
ニット70(ヘッド清掃機構)と、重量測定ユニット9
0(図5では省略)と、ドット抜け検出ユニット100
(図5では省略)とを備えている。なお、図5は、同液
滴吐出装置の主要機器を示す概略構成図である。また、
図6は、同液滴吐出装置の一部を示す図であって、図1
の矢印Aより見た側面図である。また、図7は、同液滴
吐出装置を示す図であって、図6の矢印Bより見た平面
図である。
【0056】(a)液滴吐出ユニット30の説明
液滴吐出ユニット30は、液滴Rを前記ウェハWfに向
けて吐出、着弾させるユニットである。図5に示すよう
に、この液滴吐出ユニット30では、まず、窒素ガス等
の不活性ガスgをエアフィルタ31に供給し、ここで不
活性ガスg中に含まれる不純物の除去を行った後、さら
にミストセパレータ32を通すことで不活性ガスg中に
含まれるミストの除去が行われる。ミスト除去後の不活
性ガスgは、液滴を圧送する系統と、洗浄液を圧送する
系統との2系統に分岐され、作業内容に応じてこれら系
統をどちらか一方に、後述の液滴・洗浄液圧送圧力切替
弁35によって切り替えることができるようになってい
る。
けて吐出、着弾させるユニットである。図5に示すよう
に、この液滴吐出ユニット30では、まず、窒素ガス等
の不活性ガスgをエアフィルタ31に供給し、ここで不
活性ガスg中に含まれる不純物の除去を行った後、さら
にミストセパレータ32を通すことで不活性ガスg中に
含まれるミストの除去が行われる。ミスト除去後の不活
性ガスgは、液滴を圧送する系統と、洗浄液を圧送する
系統との2系統に分岐され、作業内容に応じてこれら系
統をどちらか一方に、後述の液滴・洗浄液圧送圧力切替
弁35によって切り替えることができるようになってい
る。
【0057】すなわち、液滴を圧送する系統を選択した
場合には、ミストセパレータ32を経た不活性ガスg
は、液滴圧送圧力調整弁33へと供給され、ここで適切
に調圧された後、液滴側残圧排気弁34及び液滴・洗浄
液圧送圧力切替弁35及びエアーフィルタ36を通過
し、さらに、不活性ガス圧力検出センサ37で供給圧チ
ェックがなされてから、液滴圧送タンク38内へと供給
されるようになっている。
場合には、ミストセパレータ32を経た不活性ガスg
は、液滴圧送圧力調整弁33へと供給され、ここで適切
に調圧された後、液滴側残圧排気弁34及び液滴・洗浄
液圧送圧力切替弁35及びエアーフィルタ36を通過
し、さらに、不活性ガス圧力検出センサ37で供給圧チ
ェックがなされてから、液滴圧送タンク38内へと供給
されるようになっている。
【0058】一方、洗浄液を圧送する系統を選択した場
合には、ミストセパレータ32を経た不活性ガスgは、
洗浄液圧送圧力調整弁39へと供給され、ここで適切に
調圧された後、洗浄液側残圧排気弁40及び液滴・洗浄
液圧送圧力切替弁35及びエアーフィルタ71を通過
し、さらに、不活性ガス圧力検出センサ72で供給圧チ
ェックがなされてから、洗浄液圧送タンク73内へと供
給されるようになっている。この系統における流れの続
きは、後述のワイピングユニット70(ヘッド清掃機
構)の説明において述べるものとする。
合には、ミストセパレータ32を経た不活性ガスgは、
洗浄液圧送圧力調整弁39へと供給され、ここで適切に
調圧された後、洗浄液側残圧排気弁40及び液滴・洗浄
液圧送圧力切替弁35及びエアーフィルタ71を通過
し、さらに、不活性ガス圧力検出センサ72で供給圧チ
ェックがなされてから、洗浄液圧送タンク73内へと供
給されるようになっている。この系統における流れの続
きは、後述のワイピングユニット70(ヘッド清掃機
構)の説明において述べるものとする。
【0059】前記液滴圧送タンク38には、脱気液滴ボ
トル41内の液滴が、液滴圧送用ポンプ42により補充
されるようになっており、その液滴有無の確認は、液滴
有無検出荷重センサ45による荷重検出でなされるよう
になっている。したがって、液滴圧送タンク38内の液
滴残量が所定レベルを下回った場合には、液滴有無荷重
検出センサ45がこれを検知して液滴圧送用ポンプ42
を起動させ、所定レベルに至るまで液滴の補充がなされ
るようになっている。なお、符号43は、脱気液滴ボト
ル41に装備されたエアーフィルタであり、また符号4
4は、タンク排圧弁である。
トル41内の液滴が、液滴圧送用ポンプ42により補充
されるようになっており、その液滴有無の確認は、液滴
有無検出荷重センサ45による荷重検出でなされるよう
になっている。したがって、液滴圧送タンク38内の液
滴残量が所定レベルを下回った場合には、液滴有無荷重
検出センサ45がこれを検知して液滴圧送用ポンプ42
を起動させ、所定レベルに至るまで液滴の補充がなされ
るようになっている。なお、符号43は、脱気液滴ボト
ル41に装備されたエアーフィルタであり、また符号4
4は、タンク排圧弁である。
【0060】液滴圧送タンク38内に不活性ガスgが供
給された場合には、その内圧が高まるために液滴液面が
下方に押し下げられ、これにより押し出された液滴が、
液圧送圧力検出センサ46で測圧されてから液圧送ON
/OFF切替弁47を通過し、さらにサブタンク48へ
と圧送されていく。なお、符号49は、静電気を逃がす
ための流路部アース継手を示している。
給された場合には、その内圧が高まるために液滴液面が
下方に押し下げられ、これにより押し出された液滴が、
液圧送圧力検出センサ46で測圧されてから液圧送ON
/OFF切替弁47を通過し、さらにサブタンク48へ
と圧送されていく。なお、符号49は、静電気を逃がす
ための流路部アース継手を示している。
【0061】サブタンク48には、エアフィルタ50及
びサブタンク部上限検出センサ51及び液滴液面制御用
検出センサ52が備えられている。サブタンク部上限検
出センサ51は、サブタンク48内の液滴液面が所定レ
ベルを超えた場合に、該サブタンク48への液滴供給を
停止させるための検出センサである。また、液滴液面制
御用検出センサ52は、複数の液滴吐出ヘッド53(そ
の配置については、図6を参照。なお、図5では、説明
のために液滴吐出ヘッド53を単体として説明してい
る)の各ノズル面53aに対するサブタンク48内の液
滴液面の水頭値headを所定の範囲(例えば25mm±
0.5mm)内に調整するための検出センサである。
びサブタンク部上限検出センサ51及び液滴液面制御用
検出センサ52が備えられている。サブタンク部上限検
出センサ51は、サブタンク48内の液滴液面が所定レ
ベルを超えた場合に、該サブタンク48への液滴供給を
停止させるための検出センサである。また、液滴液面制
御用検出センサ52は、複数の液滴吐出ヘッド53(そ
の配置については、図6を参照。なお、図5では、説明
のために液滴吐出ヘッド53を単体として説明してい
る)の各ノズル面53aに対するサブタンク48内の液
滴液面の水頭値headを所定の範囲(例えば25mm±
0.5mm)内に調整するための検出センサである。
【0062】このサブタンク48から供給された液滴
は、ヘッド部気泡排除弁54を経てから液滴吐出ヘッド
53へと供給されるようになっている。なお、符号55
は、静電気を逃がすための流路部アース継手を示してい
る。ヘッド部気泡排除弁54は、液滴吐出ヘッド53の
上流側流路を閉じることにより、該液滴吐出ヘッド53
内の液滴を後述のキャップユニット60で吸引する際の
吸引流速を高め、液滴吐出ヘッド53内の気泡を速く排
気することができるようになっている。
は、ヘッド部気泡排除弁54を経てから液滴吐出ヘッド
53へと供給されるようになっている。なお、符号55
は、静電気を逃がすための流路部アース継手を示してい
る。ヘッド部気泡排除弁54は、液滴吐出ヘッド53の
上流側流路を閉じることにより、該液滴吐出ヘッド53
内の液滴を後述のキャップユニット60で吸引する際の
吸引流速を高め、液滴吐出ヘッド53内の気泡を速く排
気することができるようになっている。
【0063】各液滴吐出ヘッド53の詳細について、図
8〜図13を参照しながら以下に説明する。なお、図8
は、同液滴吐出装置のノズルヘッドユニットを示す平面
図である。また、図9は、同ノズルヘッドユニットを図
8の矢印Cより見た側面図である。また、図10は、同
ノズルヘッドユニットに備えられている液滴吐出ヘッド
の、液滴を飛ばす機構を説明する図であって、ピエゾ方
式の場合の説明図である。また、図11は、同液滴吐出
ヘッドの、液滴を飛ばす他の機構を説明する図であっ
て、バブル方式の場合の説明図である。また、図12
は、同液滴吐出ヘッドの一部分を示す図であって、
(a)はノズル面に対向する側から見た図,(b)は
(a)のD?D断面図である。また、図13は、同液滴
吐出ヘッドを説明する図であり、(a)はスキャン方向
を示す説明図,(b)はノズルピッチの変更を示す説明
図である。
8〜図13を参照しながら以下に説明する。なお、図8
は、同液滴吐出装置のノズルヘッドユニットを示す平面
図である。また、図9は、同ノズルヘッドユニットを図
8の矢印Cより見た側面図である。また、図10は、同
ノズルヘッドユニットに備えられている液滴吐出ヘッド
の、液滴を飛ばす機構を説明する図であって、ピエゾ方
式の場合の説明図である。また、図11は、同液滴吐出
ヘッドの、液滴を飛ばす他の機構を説明する図であっ
て、バブル方式の場合の説明図である。また、図12
は、同液滴吐出ヘッドの一部分を示す図であって、
(a)はノズル面に対向する側から見た図,(b)は
(a)のD?D断面図である。また、図13は、同液滴
吐出ヘッドを説明する図であり、(a)はスキャン方向
を示す説明図,(b)はノズルピッチの変更を示す説明
図である。
【0064】図8及び図9に示すように、本実施形態の
各液滴吐出ヘッド53は、6個づつを互いに斜めに重な
るようにして1列配置した第1ヘッド列121A及び第
2ヘッド列121Bを、ヘッド保持板122に対して固
定することで、ノズルヘッドユニット120を構成して
いる。第1ヘッド列121A及び第2ヘッド列121B
は、互いに平行をなしており、なおかつ、それぞれの軸
線c1,c2が、後述のワイピングシート75の送り方
向(図8の矢印S方向)に対して交差するように配置さ
れている。
各液滴吐出ヘッド53は、6個づつを互いに斜めに重な
るようにして1列配置した第1ヘッド列121A及び第
2ヘッド列121Bを、ヘッド保持板122に対して固
定することで、ノズルヘッドユニット120を構成して
いる。第1ヘッド列121A及び第2ヘッド列121B
は、互いに平行をなしており、なおかつ、それぞれの軸
線c1,c2が、後述のワイピングシート75の送り方
向(図8の矢印S方向)に対して交差するように配置さ
れている。
【0065】そして、これら液滴吐出ヘッド53の液滴
吐出方式としては、例えば、図10に示すピエゾ方と、
図11に示すバブル方式などがある。以下、それぞれの
場合について説明する。まず、図10に示すピエゾ方式
を採用した場合の液滴吐出ヘッド53について説明する
と、同液滴吐出ヘッド53には、前記各ノズル53cに
対してピエゾ素子53d(圧電素子)がそれぞれ設けら
れている。このピエゾ素子53dは、ノズル53cと液
滴室53eに対応して配置されており、印加電圧Vhが
印加されることで、この印加電圧Vhの大きさに応じた
変形量で矢印P方向に伸縮し、液滴室53e内を加圧し
て所定量の液滴Rを各ノズル53cから吐出させるよう
になっている。すなわち、入力された印加電圧Vh(電
圧波形)に応じた吐出量で、液滴Rが吐出される。
吐出方式としては、例えば、図10に示すピエゾ方と、
図11に示すバブル方式などがある。以下、それぞれの
場合について説明する。まず、図10に示すピエゾ方式
を採用した場合の液滴吐出ヘッド53について説明する
と、同液滴吐出ヘッド53には、前記各ノズル53cに
対してピエゾ素子53d(圧電素子)がそれぞれ設けら
れている。このピエゾ素子53dは、ノズル53cと液
滴室53eに対応して配置されており、印加電圧Vhが
印加されることで、この印加電圧Vhの大きさに応じた
変形量で矢印P方向に伸縮し、液滴室53e内を加圧し
て所定量の液滴Rを各ノズル53cから吐出させるよう
になっている。すなわち、入力された印加電圧Vh(電
圧波形)に応じた吐出量で、液滴Rが吐出される。
【0066】続いて、図11に示すバブルジェット方式
(登録商標)を採用した場合の液滴吐出ヘッド53につ
いて説明する。同液滴吐出ヘッド53には、それぞれの
ノズルに対応した熱抵抗体53xが備えられており、該
熱抵抗体53xの加熱によって液滴R内に発生させた気
泡bの圧力で、液滴Rを吐出出口側に押して液滴Rを吐
出させるようになっている。熱抵抗体53xは、駆動パ
ルス印加時間に応じて気泡bの大きさ(圧力)を増減で
きるようになっているので、駆動パルス印加時間に応じ
た吐出量で液滴Rを吐出させることができるようになっ
ている。
(登録商標)を採用した場合の液滴吐出ヘッド53につ
いて説明する。同液滴吐出ヘッド53には、それぞれの
ノズルに対応した熱抵抗体53xが備えられており、該
熱抵抗体53xの加熱によって液滴R内に発生させた気
泡bの圧力で、液滴Rを吐出出口側に押して液滴Rを吐
出させるようになっている。熱抵抗体53xは、駆動パ
ルス印加時間に応じて気泡bの大きさ(圧力)を増減で
きるようになっているので、駆動パルス印加時間に応じ
た吐出量で液滴Rを吐出させることができるようになっ
ている。
【0067】図12(a),(b)に示すように、各液
滴吐出ヘッド53のノズル面53aには、複数列(本実
施形態では2列)の溝53a1,53a2が互いに平行
に形成されており、さらに、これら溝53a1,53a
2の内部に、前記各ノズル53cが等ピッチ間隔で穿設
されている。前述のように、これら液滴吐出ヘッド53
は互いに斜めに重なった状態に配置されている。これ
は、図13(a)のようにウェハWf上を各液滴吐出ヘ
ッド53を通過させながら液滴Rの吐出を行う際に、図
13(b)のようにスキャン方向(進行方向)に対して
各液滴吐出ヘッド53を適切な角度に傾けることで、製
造するカラーフィルタ基板の画素ピッチp1に応じて見
かけのノズル間隔p2を一致させるためである。
滴吐出ヘッド53のノズル面53aには、複数列(本実
施形態では2列)の溝53a1,53a2が互いに平行
に形成されており、さらに、これら溝53a1,53a
2の内部に、前記各ノズル53cが等ピッチ間隔で穿設
されている。前述のように、これら液滴吐出ヘッド53
は互いに斜めに重なった状態に配置されている。これ
は、図13(a)のようにウェハWf上を各液滴吐出ヘ
ッド53を通過させながら液滴Rの吐出を行う際に、図
13(b)のようにスキャン方向(進行方向)に対して
各液滴吐出ヘッド53を適切な角度に傾けることで、製
造するカラーフィルタ基板の画素ピッチp1に応じて見
かけのノズル間隔p2を一致させるためである。
【0068】(b)キャップユニット60の説明
以上説明の液滴吐出ユニット30に続き、キャップユニ
ット60の説明を以下に行う。図5に示すキャップユニ
ット60は、前記各液滴吐出ヘッド53のノズル面53
aに対して真下よりそれぞれ押し当てられる複数のキャ
ップ61(その配置については、図6及び図7を参照)
により、液滴吸引ポンプ62の吸引力を利用して液滴廃
液タンク65へと液滴廃液を吸引することができるよう
になっている。なお、符号63は、各液滴吐出ヘッド5
3内の液滴を吸引する際に、各液滴吐出ヘッド53と吸
引側との圧力バランス(=大気圧)をとるための時間短
縮を目的としてキャップ61の近傍に設けられたバルブ
であり、また、符号64は、吸引異常を検出するための
液滴吸引圧検出センサである。
ット60の説明を以下に行う。図5に示すキャップユニ
ット60は、前記各液滴吐出ヘッド53のノズル面53
aに対して真下よりそれぞれ押し当てられる複数のキャ
ップ61(その配置については、図6及び図7を参照)
により、液滴吸引ポンプ62の吸引力を利用して液滴廃
液タンク65へと液滴廃液を吸引することができるよう
になっている。なお、符号63は、各液滴吐出ヘッド5
3内の液滴を吸引する際に、各液滴吐出ヘッド53と吸
引側との圧力バランス(=大気圧)をとるための時間短
縮を目的としてキャップ61の近傍に設けられたバルブ
であり、また、符号64は、吸引異常を検出するための
液滴吸引圧検出センサである。
【0069】液滴廃液タンク65には、廃液タンク上限
検出センサ66が備えられており、該液滴廃液タンク6
5内の液面高さが所定レベルを超えたと検出された場合
に、液滴廃液ポンプ67を起動して液滴廃液ボトル68
に廃液を移すことができるようになっている。そして、
このキャップユニット60によれば、各液滴吐出ヘッド
53からの液滴Rの吐出開始前にこれら液滴吐出ヘッド
53の各ノズルに負圧を加えてノズル面53aまで液滴
を充填させたり、各ノズルの目詰まりを取るために各液
滴吐出ヘッド53の各ノズルに負圧を加えて吸引した
り、または製造を行わない待機時に、各ノズル内の液滴
が乾燥することのないようにキャップ61でノズル面5
3を覆って保湿したりすることができるようになってい
る。
検出センサ66が備えられており、該液滴廃液タンク6
5内の液面高さが所定レベルを超えたと検出された場合
に、液滴廃液ポンプ67を起動して液滴廃液ボトル68
に廃液を移すことができるようになっている。そして、
このキャップユニット60によれば、各液滴吐出ヘッド
53からの液滴Rの吐出開始前にこれら液滴吐出ヘッド
53の各ノズルに負圧を加えてノズル面53aまで液滴
を充填させたり、各ノズルの目詰まりを取るために各液
滴吐出ヘッド53の各ノズルに負圧を加えて吸引した
り、または製造を行わない待機時に、各ノズル内の液滴
が乾燥することのないようにキャップ61でノズル面5
3を覆って保湿したりすることができるようになってい
る。
【0070】(c)ワイピングユニット70の説明
以上説明のキャップユニット60に続き、前記ワイピン
グユニット70(ヘッド清掃機構)を以下に説明する。
ワイピングユニット70は、定期的あるいは随時に、前
記各液滴吐出ヘッド53の各ノズル面53aを一括清掃
するものであり、図5に示すように、各ノズル面53a
を拭うワイピングシート75と、該ワイピングシート7
5を各ノズル面53aに向けて押し付けるローラ76
と、ワイピングシート75に対して洗浄液を吹き付け供
給する洗浄液供給部77と、ワイピングシート75を各
ノズル面53aに向かって巻き出して供給する巻き出し
ローラ78と、各ノズル面53aを拭った後のワイピン
グシート75を巻き取る巻き取りローラ79と、該巻き
取りローラ79を回転駆動する電動モータ153とを備
えて構成されている。なお、ワイピングシート75とし
ては、例えばポリエステル100%の織布が好適に用い
られる。また、ローラ76はゴムローラであり、その周
面に対する押圧力に対して反発する弾性を備えている。
グユニット70(ヘッド清掃機構)を以下に説明する。
ワイピングユニット70は、定期的あるいは随時に、前
記各液滴吐出ヘッド53の各ノズル面53aを一括清掃
するものであり、図5に示すように、各ノズル面53a
を拭うワイピングシート75と、該ワイピングシート7
5を各ノズル面53aに向けて押し付けるローラ76
と、ワイピングシート75に対して洗浄液を吹き付け供
給する洗浄液供給部77と、ワイピングシート75を各
ノズル面53aに向かって巻き出して供給する巻き出し
ローラ78と、各ノズル面53aを拭った後のワイピン
グシート75を巻き取る巻き取りローラ79と、該巻き
取りローラ79を回転駆動する電動モータ153とを備
えて構成されている。なお、ワイピングシート75とし
ては、例えばポリエステル100%の織布が好適に用い
られる。また、ローラ76はゴムローラであり、その周
面に対する押圧力に対して反発する弾性を備えている。
【0071】そして、このワイピングユニット70によ
れば、巻き出しローラ78から巻き出されるワイピング
シート75を各ノズル面53aに向かって供給しながら
ローラ76で押し付けていくことで、ワイピングシート
75の新しい清掃面を絶えず各ノズル面53aに対して
供給することができるようになっている。しかも、ロー
ラ76の押し付け力によりワイピングシート75を各ノ
ズル面53aに押し付ける構成であるため、各ノズル面
53aに対して清掃面を確実に当てることもできるよう
になっている。
れば、巻き出しローラ78から巻き出されるワイピング
シート75を各ノズル面53aに向かって供給しながら
ローラ76で押し付けていくことで、ワイピングシート
75の新しい清掃面を絶えず各ノズル面53aに対して
供給することができるようになっている。しかも、ロー
ラ76の押し付け力によりワイピングシート75を各ノ
ズル面53aに押し付ける構成であるため、各ノズル面
53aに対して清掃面を確実に当てることもできるよう
になっている。
【0072】(d)重量測定ユニット90の説明
以上説明のワイピングユニット70に続き、図7を参照
しながら前記重量測定ユニット90を以下に説明する。
この重量測定ユニット90は、各液滴吐出ヘッド53の
各ノズルから吐出された液滴Rの一滴あたりの重量を測
定して管理するためのものである。例えば、重量測定を
目的として各液滴吐出ヘッド53から、2000滴分の
液滴Rを受けた後、この2000滴の液滴Rの重量を2
000の数字で割ることにより、一滴の液滴Rあたりの
重量を正確に測定するようになっている。この液滴Rの
重量測定結果は、各液滴吐出ヘッド53から吐出する液
滴Rの量を最適にコントロールするのに用いられる。
しながら前記重量測定ユニット90を以下に説明する。
この重量測定ユニット90は、各液滴吐出ヘッド53の
各ノズルから吐出された液滴Rの一滴あたりの重量を測
定して管理するためのものである。例えば、重量測定を
目的として各液滴吐出ヘッド53から、2000滴分の
液滴Rを受けた後、この2000滴の液滴Rの重量を2
000の数字で割ることにより、一滴の液滴Rあたりの
重量を正確に測定するようになっている。この液滴Rの
重量測定結果は、各液滴吐出ヘッド53から吐出する液
滴Rの量を最適にコントロールするのに用いられる。
【0073】(e)ドット抜け検出ユニット100の説
明 続いて、前記ドット抜け検出ユニット100の説明を以
下に行う。図7に示すこのドット抜け検出ユニット10
0は、各ノズルユニット53の各ノズルの目詰まりを調
べるためのものであり、この上方位置に各液滴吐出ヘッ
ド53を移動させた後、ここに備えられている図示され
ないレーザ装置からのレーザ光を遮るようにして各液滴
吐出ヘッド53から捨て撃ち(唾吐き)させて検査を行
う。そして、捨て撃ちの指示をしたにもかかわらずレー
ザ光が遮られなかった場合には、ノズルが目詰まりを起
こして液滴が出ておらず、製造品にドット抜けが生じる
恐れがあるとして判断され、前記キャップユニット60
により問題となっている液滴吐出ヘッド53のノズルが
吸引・目詰まり除去されるようになっている。
明 続いて、前記ドット抜け検出ユニット100の説明を以
下に行う。図7に示すこのドット抜け検出ユニット10
0は、各ノズルユニット53の各ノズルの目詰まりを調
べるためのものであり、この上方位置に各液滴吐出ヘッ
ド53を移動させた後、ここに備えられている図示され
ないレーザ装置からのレーザ光を遮るようにして各液滴
吐出ヘッド53から捨て撃ち(唾吐き)させて検査を行
う。そして、捨て撃ちの指示をしたにもかかわらずレー
ザ光が遮られなかった場合には、ノズルが目詰まりを起
こして液滴が出ておらず、製造品にドット抜けが生じる
恐れがあるとして判断され、前記キャップユニット60
により問題となっている液滴吐出ヘッド53のノズルが
吸引・目詰まり除去されるようになっている。
【0074】以上に述べた全般的な説明に続いて、本発
明の特に特徴的な部分の詳細説明を、図14〜図19を
参照しながら以下に行う。なお、図14は、本実施形態
の表示装置製造装置/表示装置製造方法を用いて製造さ
れるカラーフィルタ基板の平面図である。また、図15
は、同表示装置製造装置/表示装置製造方法により、同
カラーフィルタ基板の各画素に対して液滴が直線的に連
続するように吐出した状態を示す図であって、図14の
E部拡大図である。また、図16は、同表示装置製造装
置/表示装置製造方法を用いずに、同カラーフィルタ基
板の各画素に対して液滴を吐出した場合を示す図であっ
て、図15に相当する部分拡大図である。また、図17
は、本実施形態の表示装置製造装置/表示装置製造方法
で用いられる液滴の直径に関する説明図であり、
(a),(b),(c)の順番で吐出されていく液滴の
状態を示している。また、図18は、同表示装置製造装
置/表示装置製造方法により、被膜を形成するように吐
出した場合を示す説明図である。
明の特に特徴的な部分の詳細説明を、図14〜図19を
参照しながら以下に行う。なお、図14は、本実施形態
の表示装置製造装置/表示装置製造方法を用いて製造さ
れるカラーフィルタ基板の平面図である。また、図15
は、同表示装置製造装置/表示装置製造方法により、同
カラーフィルタ基板の各画素に対して液滴が直線的に連
続するように吐出した状態を示す図であって、図14の
E部拡大図である。また、図16は、同表示装置製造装
置/表示装置製造方法を用いずに、同カラーフィルタ基
板の各画素に対して液滴を吐出した場合を示す図であっ
て、図15に相当する部分拡大図である。また、図17
は、本実施形態の表示装置製造装置/表示装置製造方法
で用いられる液滴の直径に関する説明図であり、
(a),(b),(c)の順番で吐出されていく液滴の
状態を示している。また、図18は、同表示装置製造装
置/表示装置製造方法により、被膜を形成するように吐
出した場合を示す説明図である。
【0075】以下の説明では、図3(a)において説明
したストライプ型の吐出パターンにより、前記カラーフ
ィルタ基板CKを製造する場合を例として説明を行うも
のとする。すなわち、前記液滴吐出装置3では、図14
に示すように、ウェハWf上の赤く着色すべき全ての画
素e,・・・に対して、前記液滴吐出ヘッド53を同図の
X方向に走査させながら液滴Rを吐出していくことで赤
の着色がなされる。そして、ベーク炉4で全ての液滴R
を乾燥させた後、液滴吐出装置7に送られたウェハWf
は、その緑色に着色すべき全ての画素に対して、前記液
滴吐出ヘッド53が同図のX方向に走査しながら液滴G
を吐出していくことで緑色の着色がなされる。そして、
ベーク炉8で全ての液滴Gを乾燥させた後、液滴吐出装
置11に送られたウェハWfは、その青色に着色すべき
全ての画素に対して、前記液滴吐出ヘッド53が同図の
X方向に走査しながら液滴Bを吐出していくことで青色
の着色がなされる。
したストライプ型の吐出パターンにより、前記カラーフ
ィルタ基板CKを製造する場合を例として説明を行うも
のとする。すなわち、前記液滴吐出装置3では、図14
に示すように、ウェハWf上の赤く着色すべき全ての画
素e,・・・に対して、前記液滴吐出ヘッド53を同図の
X方向に走査させながら液滴Rを吐出していくことで赤
の着色がなされる。そして、ベーク炉4で全ての液滴R
を乾燥させた後、液滴吐出装置7に送られたウェハWf
は、その緑色に着色すべき全ての画素に対して、前記液
滴吐出ヘッド53が同図のX方向に走査しながら液滴G
を吐出していくことで緑色の着色がなされる。そして、
ベーク炉8で全ての液滴Gを乾燥させた後、液滴吐出装
置11に送られたウェハWfは、その青色に着色すべき
全ての画素に対して、前記液滴吐出ヘッド53が同図の
X方向に走査しながら液滴Bを吐出していくことで青色
の着色がなされる。
【0076】このようなR,G,Bの着色作業により、
図3(a)で示したように、その画素並びの一方向(す
なわち、液滴吐出ヘッド53の走査方向)の全てが同色
をなすストライプ型の吐出パターンが形成される。な
お、この吐出パターンとしては、このストライプ型の他
に、図3(b)に示した、その画素並びの一方向(すな
わち、液滴吐出ヘッド53の走査方向)で3原色R,
G,Bの色並びが繰り返されるモザイク型や、または、
図3(c)に示した、隣り合う列間での相対的な画素並
びが互い違い(齟齬状)とされ、3原色R,G,Bが三
角形状の色並びに配置されるデルタ型など、その他の吐
出パターンの形成にも、本発明を適用可能であることは
もちろんである。
図3(a)で示したように、その画素並びの一方向(す
なわち、液滴吐出ヘッド53の走査方向)の全てが同色
をなすストライプ型の吐出パターンが形成される。な
お、この吐出パターンとしては、このストライプ型の他
に、図3(b)に示した、その画素並びの一方向(すな
わち、液滴吐出ヘッド53の走査方向)で3原色R,
G,Bの色並びが繰り返されるモザイク型や、または、
図3(c)に示した、隣り合う列間での相対的な画素並
びが互い違い(齟齬状)とされ、3原色R,G,Bが三
角形状の色並びに配置されるデルタ型など、その他の吐
出パターンの形成にも、本発明を適用可能であることは
もちろんである。
【0077】本発明では、各画素e,・・・内における液
滴の吐出制御が特に重要となっており、これを適切に行
うための制御回路(制御手段。図示せず)が、各液滴吐
出装置3,7,11のそれぞれに備えられている。この
制御回路により、例えば図15に示すように、画素e内
に切れ目のない均一な着色をすることができるようにな
っている。すなわち、この制御回路は、ウェハWfに対
する液滴吐出ヘッド53の相対速度をV、液滴の吐出周
期をT、ウェハに着弾した後の液滴の直径をDとした場
合に、VT<Dの関係を満たすように、前記相対速度V
及び前記吐出周期T及び前記直径Dを制御するようにな
っている。
滴の吐出制御が特に重要となっており、これを適切に行
うための制御回路(制御手段。図示せず)が、各液滴吐
出装置3,7,11のそれぞれに備えられている。この
制御回路により、例えば図15に示すように、画素e内
に切れ目のない均一な着色をすることができるようにな
っている。すなわち、この制御回路は、ウェハWfに対
する液滴吐出ヘッド53の相対速度をV、液滴の吐出周
期をT、ウェハに着弾した後の液滴の直径をDとした場
合に、VT<Dの関係を満たすように、前記相対速度V
及び前記吐出周期T及び前記直径Dを制御するようにな
っている。
【0078】本実施形態では、固定状態のウェハWfに
対してX方向に液滴吐出ヘッド53が移動しながら吐出
を行うので、液滴吐出ヘッド53の走査速度=相対速度
Vとなっている。また、前記吐出周期Tは、同一のノズ
ル53cから吐出される液滴の吐出時間間隔を示すもの
である。したがって、図15に示すように、ウェハWf
上の画素e内に吐出される各液滴中心間の間隔は、V×
Tで表されることとなる。
対してX方向に液滴吐出ヘッド53が移動しながら吐出
を行うので、液滴吐出ヘッド53の走査速度=相対速度
Vとなっている。また、前記吐出周期Tは、同一のノズ
ル53cから吐出される液滴の吐出時間間隔を示すもの
である。したがって、図15に示すように、ウェハWf
上の画素e内に吐出される各液滴中心間の間隔は、V×
Tで表されることとなる。
【0079】一方、前記直径Dとしては、ウェハWfに
着弾して濡れ広がった後の寸法が使用される。この直径
Dの定義ついて、図17を参照して詳説すると、図17
(a)のように、液滴吐出ヘッド53より吐出された時
点における液滴iの直径をd0とした場合、図17
(b)に示すように、ウェハWfに着弾した直後にウェ
ハWfからの壁圧を受けて拡径し、直径d0よりもやや
大きい直径d1となる。さらに時間が進むにつれて液滴
iは拡径を続け、最終的に図17(c)の状態で拡径が
停止する。この様にして濡れ広がりが止まった時の直径
Dが、前記制御手段による制御で用いられる。なお、実
際の使用に際しては、前記直径Dを各吐出毎に測定する
のではなく、生産工程前に予め直径Dを測定しておき、
この時に得られた直径Dを前記制御手段に与えて使用す
る方が、生産効率向上の観点より好ましいと言える。
着弾して濡れ広がった後の寸法が使用される。この直径
Dの定義ついて、図17を参照して詳説すると、図17
(a)のように、液滴吐出ヘッド53より吐出された時
点における液滴iの直径をd0とした場合、図17
(b)に示すように、ウェハWfに着弾した直後にウェ
ハWfからの壁圧を受けて拡径し、直径d0よりもやや
大きい直径d1となる。さらに時間が進むにつれて液滴
iは拡径を続け、最終的に図17(c)の状態で拡径が
停止する。この様にして濡れ広がりが止まった時の直径
Dが、前記制御手段による制御で用いられる。なお、実
際の使用に際しては、前記直径Dを各吐出毎に測定する
のではなく、生産工程前に予め直径Dを測定しておき、
この時に得られた直径Dを前記制御手段に与えて使用す
る方が、生産効率向上の観点より好ましいと言える。
【0080】そして、この直径Dと、前記VTとの大小
関係がVT<Dを満たすように、前記制御手段が相対速
度V及び吐出周期T及び直径Dを制御することにより、
図15で示したように、ウェハWfに着弾して濡れ広が
った後の各液滴間の重なり部分r,・・・を、直線上に配
置することができるようになっている。すなわち、これ
ら重なり部分r,・・・は、R,G,Bの各列において、
同図の破線矢印に示す液滴吐出ヘッド53の走査方向
(すなわち各ノズル53cの移動方向)がなす直線上に
全て配置されるようになっている。これにより、各画素
e,・・・内に、切れ目のない、直線的に連続した印刷線
を形成することができるようになる。
関係がVT<Dを満たすように、前記制御手段が相対速
度V及び吐出周期T及び直径Dを制御することにより、
図15で示したように、ウェハWfに着弾して濡れ広が
った後の各液滴間の重なり部分r,・・・を、直線上に配
置することができるようになっている。すなわち、これ
ら重なり部分r,・・・は、R,G,Bの各列において、
同図の破線矢印に示す液滴吐出ヘッド53の走査方向
(すなわち各ノズル53cの移動方向)がなす直線上に
全て配置されるようになっている。これにより、各画素
e,・・・内に、切れ目のない、直線的に連続した印刷線
を形成することができるようになる。
【0081】なお、各画素e,・・・間には、図2で説明
した前記ブラックマトリックスbが配されており、この
部分では遮光されるので、例えば液滴吐出ヘッド53の
走査方向において、隣り合う画素e,・・・間を跨ぐよう
にして液滴が吐出されたとしても、カラーフィルタ基板
として問題を生じることはない。したがって、前記走査
方向において、同色の液滴が切れ目なく連続するように
吐出しても良いし、もしくは、各画素e,・・・間のブラ
ックマトリックス上には液滴を吐出せず、各画素e,・・
・内にのみ切れ目なく吐出するようにしても良い。本発
明では、図16に示すような液滴間の切れ目g,・・・が
各画素e,・・・内に生じないようにすることを目的とし
ており、このような切れ目g,・・・は、前記VT(すな
わち、隣り合う液滴中心間の間隔寸法)が前記直径Dよ
りも大きくなってしまった場合(VT>D)に生じるこ
ととなる。このような場合には、切れ目g,・・・が色む
らを起こしてカラーフィルタ基板としての品質を落とし
てしまい、問題を生じることになる。しかしながら、本
発明では、前記制御回路がVT<Dの吐出条件を確保す
るので、このような品質上の問題を生じることがないよ
うになっている。
した前記ブラックマトリックスbが配されており、この
部分では遮光されるので、例えば液滴吐出ヘッド53の
走査方向において、隣り合う画素e,・・・間を跨ぐよう
にして液滴が吐出されたとしても、カラーフィルタ基板
として問題を生じることはない。したがって、前記走査
方向において、同色の液滴が切れ目なく連続するように
吐出しても良いし、もしくは、各画素e,・・・間のブラ
ックマトリックス上には液滴を吐出せず、各画素e,・・
・内にのみ切れ目なく吐出するようにしても良い。本発
明では、図16に示すような液滴間の切れ目g,・・・が
各画素e,・・・内に生じないようにすることを目的とし
ており、このような切れ目g,・・・は、前記VT(すな
わち、隣り合う液滴中心間の間隔寸法)が前記直径Dよ
りも大きくなってしまった場合(VT>D)に生じるこ
ととなる。このような場合には、切れ目g,・・・が色む
らを起こしてカラーフィルタ基板としての品質を落とし
てしまい、問題を生じることになる。しかしながら、本
発明では、前記制御回路がVT<Dの吐出条件を確保す
るので、このような品質上の問題を生じることがないよ
うになっている。
【0082】前記制御手段によるVT<Dの吐出条件の
決定に際しては、R,G,Bのいずれの液滴を吐出する
のかといった、適用する製造工程の種類に応じて最適な
組み合わせが決定されるようになっている。すなわち、
R,G,Bの各液滴では粘度が異なるため、例えば、そ
の粘度に応じて相対速度Vを変える必要が生じたとして
も、その制御手段が、VT<Dの関係を満たすような液
滴の直径D(すなわち吐出量)及び吐出周期Tの組み合
わせを選択するだけで、ウェハWf上に吐出された液滴
が互いに離れず、歩留まりを確保するための最適な吐出
条件を確保することができるようになる。
決定に際しては、R,G,Bのいずれの液滴を吐出する
のかといった、適用する製造工程の種類に応じて最適な
組み合わせが決定されるようになっている。すなわち、
R,G,Bの各液滴では粘度が異なるため、例えば、そ
の粘度に応じて相対速度Vを変える必要が生じたとして
も、その制御手段が、VT<Dの関係を満たすような液
滴の直径D(すなわち吐出量)及び吐出周期Tの組み合
わせを選択するだけで、ウェハWf上に吐出された液滴
が互いに離れず、歩留まりを確保するための最適な吐出
条件を確保することができるようになる。
【0083】また、吐出量(すなわち液滴の直径D)の
方を変える必要が生じた場合にも、前記制御手段が、同
様にVT<Dの関係を満たすような相対速度V及び吐出
周期Tの組み合わせを選択するだけで、ウェハWf上に
吐出された液滴が互いに離れず、歩留まりを確保するた
めの最適な吐出条件を確保することができるようにな
る。さらには、例えば液滴吐出ヘッドの性能向上によ
り、吐出周期Tが短くできるようになった場合にも、前
記制御手段が、同様にVT<Dの関係を満たすような相
対速度V及び直径Dの組み合わせを選択するだけで、基
板上に吐出された液滴が互いに離れず、歩留まりを確保
するための最適な吐出条件を確保することができるよう
になる。
方を変える必要が生じた場合にも、前記制御手段が、同
様にVT<Dの関係を満たすような相対速度V及び吐出
周期Tの組み合わせを選択するだけで、ウェハWf上に
吐出された液滴が互いに離れず、歩留まりを確保するた
めの最適な吐出条件を確保することができるようにな
る。さらには、例えば液滴吐出ヘッドの性能向上によ
り、吐出周期Tが短くできるようになった場合にも、前
記制御手段が、同様にVT<Dの関係を満たすような相
対速度V及び直径Dの組み合わせを選択するだけで、基
板上に吐出された液滴が互いに離れず、歩留まりを確保
するための最適な吐出条件を確保することができるよう
になる。
【0084】なお、上記実施形態では、カラーフィルタ
基板におけるR,G,Bの着色工程に本発明を適用する
場合を例に説明してきたが、切れ目のない印刷線を形成
できることから、表示装置の金属配線作業にも適用可能
である。この場合、切れ目のない、直線的に連続した金
属配線(図示せず)を形成することができるようになる
ので、通電不良の少ない表示装置を製造することができ
る。この場合においても、使用する液滴(金属配線材
料)の粘度に応じてVT<Dの吐出条件を満たすよう
に、前記相対速度V及び前記吐出周期T及び前記直径D
の組み合わせを制御することで、切れ目のない金属配線
を形成することが可能となる。
基板におけるR,G,Bの着色工程に本発明を適用する
場合を例に説明してきたが、切れ目のない印刷線を形成
できることから、表示装置の金属配線作業にも適用可能
である。この場合、切れ目のない、直線的に連続した金
属配線(図示せず)を形成することができるようになる
ので、通電不良の少ない表示装置を製造することができ
る。この場合においても、使用する液滴(金属配線材
料)の粘度に応じてVT<Dの吐出条件を満たすよう
に、前記相対速度V及び前記吐出周期T及び前記直径D
の組み合わせを制御することで、切れ目のない金属配線
を形成することが可能となる。
【0085】また、上記実施形態では、切れ目のない印
刷線を形成することで、カラーフィルタ基板における
R,G,Bの着色工程を行う場合を例に説明してきた
が、この他に、フォトレジストの形成や、オーバーコー
トの形成や、配向膜の形成や、液晶膜の形成などの被膜
形成に対して、本発明を適用することも可能である。こ
の被膜形成について説明すると、例えば図18に示すよ
うに、前記制御手段により上述した印刷線形成と同様に
VT<Dの吐出制御を行うとともに、前記各ノズル53
c間の見かけのピッチ間隔を狭めることで、ウェハ(基
板)の印刷面に着弾して濡れ広がった後の各液滴i間の
各重なり部分r,・・・を、縦列方向(X方向)及び横列
方向(Y方向)の双方に配置させ、印刷面を隙間無く覆
うことができ、被膜形成が可能となる。
刷線を形成することで、カラーフィルタ基板における
R,G,Bの着色工程を行う場合を例に説明してきた
が、この他に、フォトレジストの形成や、オーバーコー
トの形成や、配向膜の形成や、液晶膜の形成などの被膜
形成に対して、本発明を適用することも可能である。こ
の被膜形成について説明すると、例えば図18に示すよ
うに、前記制御手段により上述した印刷線形成と同様に
VT<Dの吐出制御を行うとともに、前記各ノズル53
c間の見かけのピッチ間隔を狭めることで、ウェハ(基
板)の印刷面に着弾して濡れ広がった後の各液滴i間の
各重なり部分r,・・・を、縦列方向(X方向)及び横列
方向(Y方向)の双方に配置させ、印刷面を隙間無く覆
うことができ、被膜形成が可能となる。
【0086】すなわち、同図のX方向の重なり部分r
x,・・・については、前記制御手段によるVT<Dの吐
出制御で各液滴iが吐出され、このX方向で隙間のない
印刷線が形成される。一方、この時に形成される各印刷
線間のピッチ寸法p3,・・・は、前記制御手段が、図1
3(b)において説明したように、液滴吐出ヘッド53
をスキャン方向(進行方向)に対して適切な角度に傾け
て前記見かけのノズル間隔p2を一致させることで調整
できる。これにより、図18のY方向の重なり部分r
y,・・・を形成することができるので、各印刷線同士を
重なり合わせて、X方向及びY方向の双方において隙間
のない印刷面(被膜)を形成させることが可能となる。
x,・・・については、前記制御手段によるVT<Dの吐
出制御で各液滴iが吐出され、このX方向で隙間のない
印刷線が形成される。一方、この時に形成される各印刷
線間のピッチ寸法p3,・・・は、前記制御手段が、図1
3(b)において説明したように、液滴吐出ヘッド53
をスキャン方向(進行方向)に対して適切な角度に傾け
て前記見かけのノズル間隔p2を一致させることで調整
できる。これにより、図18のY方向の重なり部分r
y,・・・を形成することができるので、各印刷線同士を
重なり合わせて、X方向及びY方向の双方において隙間
のない印刷面(被膜)を形成させることが可能となる。
【0087】なお、同図の例では、隣り合う印刷線間で
同位置に各液滴i,・・・を吐出する場合を図示している
が、これに限らず、例えば図19のように、隣り合う印
刷線間で各液滴i,・・・が互い違い(齟齬状)となるよ
うに吐出パターンを形成しても良い。この場合には、隙
間のない平面を確保しながらも、各液滴i間の重なり部
分rの面積を小さくすることができ、同じ液滴吐出量で
あっても、より広い面積を印刷することができるように
なる。したがって、液滴吐出量を抑えることができ、被
膜形成の製造工程に要するコストを削減することが可能
となる。
同位置に各液滴i,・・・を吐出する場合を図示している
が、これに限らず、例えば図19のように、隣り合う印
刷線間で各液滴i,・・・が互い違い(齟齬状)となるよ
うに吐出パターンを形成しても良い。この場合には、隙
間のない平面を確保しながらも、各液滴i間の重なり部
分rの面積を小さくすることができ、同じ液滴吐出量で
あっても、より広い面積を印刷することができるように
なる。したがって、液滴吐出量を抑えることができ、被
膜形成の製造工程に要するコストを削減することが可能
となる。
【0088】以上説明の本実施形態の表示装置製造方
法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイスの効果
について、以下に纏める。本実施形態の表示装置製造装
置/表示装置製造方法は、前記制御手段により、ウェハ
Wfに対する液滴吐出ヘッド53の相対速度をV、液滴
iの吐出周期をT、ウェハWfに着弾して濡れ広がった
後の液滴iの直径をDとした場合に、VT<Dの関係を
満たすように、相対速度V及び吐出周期T及び直径Dを
制御する構成/方法を採用した。これによれば、適用す
る製造工程の種類によって、相対速度V及び吐出周期T
及び直径Dのいずれかの要素が変更になっても、前記制
御手段が他の要素を調整してVT<Dを満たすようにす
ることで、ウェハWf上に吐出された各液滴iが互いに
離れたりせず、歩留まりを確保するための最適な吐出条
件を確保することができるようになる。したがって、適
用する製造工程の種類に応じて幅広く柔軟に対応するこ
とができるので、生産効率の向上が可能となる。しか
も、制御要素の1つである液滴iの直径Dは、ウェハW
fに着弾して濡れ広がった後の寸法を採用しているの
で、隣り合う液滴i間の重なり合い部分r,・・・を確保
したまま、各液滴i間の間隔を極力広げることができる
ようになっている。これにより、使用する液滴量の低減
ならびに、相対速度Vの高速化による生産速度の向上が
得られるようになるので、生産コストを更に下げて、安
価なカラーフィルタ基板等の表示装置を提供することが
可能となる。
法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイスの効果
について、以下に纏める。本実施形態の表示装置製造装
置/表示装置製造方法は、前記制御手段により、ウェハ
Wfに対する液滴吐出ヘッド53の相対速度をV、液滴
iの吐出周期をT、ウェハWfに着弾して濡れ広がった
後の液滴iの直径をDとした場合に、VT<Dの関係を
満たすように、相対速度V及び吐出周期T及び直径Dを
制御する構成/方法を採用した。これによれば、適用す
る製造工程の種類によって、相対速度V及び吐出周期T
及び直径Dのいずれかの要素が変更になっても、前記制
御手段が他の要素を調整してVT<Dを満たすようにす
ることで、ウェハWf上に吐出された各液滴iが互いに
離れたりせず、歩留まりを確保するための最適な吐出条
件を確保することができるようになる。したがって、適
用する製造工程の種類に応じて幅広く柔軟に対応するこ
とができるので、生産効率の向上が可能となる。しか
も、制御要素の1つである液滴iの直径Dは、ウェハW
fに着弾して濡れ広がった後の寸法を採用しているの
で、隣り合う液滴i間の重なり合い部分r,・・・を確保
したまま、各液滴i間の間隔を極力広げることができる
ようになっている。これにより、使用する液滴量の低減
ならびに、相対速度Vの高速化による生産速度の向上が
得られるようになるので、生産コストを更に下げて、安
価なカラーフィルタ基板等の表示装置を提供することが
可能となる。
【0089】また、本実施形態の表示装置製造装置/表
示装置製造方法は、前記制御手段が、ウェハWfに着弾
して濡れ広がった後の各液滴i間の重なり部分r,・・・
を、直線上に配置するように制御する構成/方法を採用
した。これによれば、切れ目のない、直線的に連続した
印刷線(例えばR,G,Bの着色線や、金属配線など)
を形成することができるようになるので、色むらの少な
いカラーフィルタ基板や、通電不良の少ない液晶表示装
置などを製造することが可能となる。また、本実施形態
の表示装置製造装置/表示装置製造方法により直線状に
液滴を吐出して表示装置を製造する他の例として、有機
EL素子の製造に適用することもできる。この場合も、
切れ目のない、直線的に連続した印刷線(R,G,Bの
各線)を各画素内に形成することが可能となる。
示装置製造方法は、前記制御手段が、ウェハWfに着弾
して濡れ広がった後の各液滴i間の重なり部分r,・・・
を、直線上に配置するように制御する構成/方法を採用
した。これによれば、切れ目のない、直線的に連続した
印刷線(例えばR,G,Bの着色線や、金属配線など)
を形成することができるようになるので、色むらの少な
いカラーフィルタ基板や、通電不良の少ない液晶表示装
置などを製造することが可能となる。また、本実施形態
の表示装置製造装置/表示装置製造方法により直線状に
液滴を吐出して表示装置を製造する他の例として、有機
EL素子の製造に適用することもできる。この場合も、
切れ目のない、直線的に連続した印刷線(R,G,Bの
各線)を各画素内に形成することが可能となる。
【0090】また、本実施形態の表示装置製造装置/表
示装置製造方法は、前記制御手段が、ウェハWfに着弾
して濡れ広がった後の各液滴i間の重なり部分rを、縦
列方向及び横列方向の双方に配置して、被膜を形成する
構成/方法も可能である。この場合、平面視して抜け
(液滴iが吐出されていない箇所)のない被膜を形成す
ることができるようになるので、例えばフォトレジスト
の形成や、オーバーコートの形成や、配向膜の形成や、
液晶膜の形成などの被膜形成を行うことが可能となる。
示装置製造方法は、前記制御手段が、ウェハWfに着弾
して濡れ広がった後の各液滴i間の重なり部分rを、縦
列方向及び横列方向の双方に配置して、被膜を形成する
構成/方法も可能である。この場合、平面視して抜け
(液滴iが吐出されていない箇所)のない被膜を形成す
ることができるようになるので、例えばフォトレジスト
の形成や、オーバーコートの形成や、配向膜の形成や、
液晶膜の形成などの被膜形成を行うことが可能となる。
【0091】また、本実施形態の表示装置製造装置/表
示装置製造方法を用いて製造されるカラーフィルタ基板
CKは、その製造に適用する表示装置製造方法または表
示装置製造装置が生産効率の向上を可能としているの
で、良質かつ安価なカラーフィルタ基板CKとすること
が可能となる。また、このカラーフィルタ基板CKを備
えて前記ノート型コンピュータ20を製造した場合に
は、このノート型コンピュータ20は、良質かつ安価な
カラーフィルタ基板CKを採用できるので、やはり、高
品質かつ低コストとすることが可能となる。
示装置製造方法を用いて製造されるカラーフィルタ基板
CKは、その製造に適用する表示装置製造方法または表
示装置製造装置が生産効率の向上を可能としているの
で、良質かつ安価なカラーフィルタ基板CKとすること
が可能となる。また、このカラーフィルタ基板CKを備
えて前記ノート型コンピュータ20を製造した場合に
は、このノート型コンピュータ20は、良質かつ安価な
カラーフィルタ基板CKを採用できるので、やはり、高
品質かつ低コストとすることが可能となる。
【図1】 本発明の液滴吐出装置を備えた表示装置製造
装置の一実施形態を示す図であって、同表示装置製造装
置における各構成機器の配置を示す平面図である。
装置の一実施形態を示す図であって、同表示装置製造装
置における各構成機器の配置を示す平面図である。
【図2】 同表示装置製造装置によるRGBパターン形
成工程を含めた一連のカラーフィルタ基板製造工程を示
す図であり、(a)〜(f)の順に製造される流れを示
す。
成工程を含めた一連のカラーフィルタ基板製造工程を示
す図であり、(a)〜(f)の順に製造される流れを示
す。
【図3】 同表示装置製造装置の各液滴吐出装置により
形成されるRGBパターン例を示す図であって、(a)
はストライプ型を示す斜視図,(b)はモザイク型を示
す部分拡大図,(c)はデルタ型を示す部分拡大図であ
る。
形成されるRGBパターン例を示す図であって、(a)
はストライプ型を示す斜視図,(b)はモザイク型を示
す部分拡大図,(c)はデルタ型を示す部分拡大図であ
る。
【図4】 同表示装置製造装置により製造された液晶表
示装置を備えて製造されたデバイスの一例であるノート
型コンピュータを示す斜視図である。
示装置を備えて製造されたデバイスの一例であるノート
型コンピュータを示す斜視図である。
【図5】 同表示装置製造装置の液滴吐出装置の主要機
器を示す概略構成図である。
器を示す概略構成図である。
【図6】 同液滴吐出装置の一部を示す図であって、図
1の矢印Aより見た側面図である。
1の矢印Aより見た側面図である。
【図7】 同液滴吐出装置を示す図であって、図6の矢
印Bより見た平面図である。
印Bより見た平面図である。
【図8】 同液滴吐出装置のノズルヘッドユニットを示
す平面図である。
す平面図である。
【図9】 同ノズルヘッドユニットを図8の矢印Cより
見た側面図である。
見た側面図である。
【図10】 同ノズルヘッドユニットに備えられている
液滴吐出ヘッドの、液滴を飛ばす機構を説明する図であ
って、ピエゾ方式の場合の説明図である。
液滴吐出ヘッドの、液滴を飛ばす機構を説明する図であ
って、ピエゾ方式の場合の説明図である。
【図11】 同液滴吐出ヘッドの液滴を飛ばす他の機構
を説明する図であって、バブル方式の場合の説明図であ
る。
を説明する図であって、バブル方式の場合の説明図であ
る。
【図12】 同液滴吐出ヘッドの一部分を示す図であっ
て、(a)はノズル面に対向する側から見た図,(b)
は(a)のD−D断面図である。
て、(a)はノズル面に対向する側から見た図,(b)
は(a)のD−D断面図である。
【図13】 同液滴吐出ヘッドを説明する図であり、
(a)はスキャン方向を示す説明図,(b)はノズルピ
ッチの変更を示す説明図である。
(a)はスキャン方向を示す説明図,(b)はノズルピ
ッチの変更を示す説明図である。
【図14】 本実施形態の表示装置製造装置/表示装置
製造方法を用いて製造されるカラーフィルタ基板の平面
図である。
製造方法を用いて製造されるカラーフィルタ基板の平面
図である。
【図15】 同表示装置製造装置/表示装置製造方法に
より、同カラーフィルタ基板の各画素に対して液滴が直
線的に連続するように吐出した状態を示す図であって、
図14のE部拡大図である。
より、同カラーフィルタ基板の各画素に対して液滴が直
線的に連続するように吐出した状態を示す図であって、
図14のE部拡大図である。
【図16】 同表示装置製造装置/表示装置製造方法を
用いずに、同カラーフィルタ基板の各画素に対して液滴
を吐出した場合を示す図であって、図15に相当する部
分拡大図である。
用いずに、同カラーフィルタ基板の各画素に対して液滴
を吐出した場合を示す図であって、図15に相当する部
分拡大図である。
【図17】 本実施形態の表示装置製造装置/表示装置
製造方法で用いられる液滴の直径に関する説明図であ
り、(a),(b),(c)の順番で吐出されていく液
滴の状態を示している。
製造方法で用いられる液滴の直径に関する説明図であ
り、(a),(b),(c)の順番で吐出されていく液
滴の状態を示している。
【図18】 同表示装置製造装置/表示装置製造方法に
より、被膜を形成するように吐出した場合を示す説明図
である。
より、被膜を形成するように吐出した場合を示す説明図
である。
【図19】 同表示装置製造装置/表示装置製造方法に
より、被膜を形成するように吐出する他の場合を示す説
明図である。
より、被膜を形成するように吐出する他の場合を示す説
明図である。
3,7,11・・・液滴吐出装置
20・・・ノート型コンピュータ(デバイス)
53・・・液滴吐出ヘッド
53c・・・ノズル
CK・・・カラーフィルタ基板
i,R,G,B・・・液滴
r,rx,ry・・・重なり部分
Wf・・・ウェハ(基板)
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
G09F 9/30 365 G09F 9/30 365Z 5G435
H05B 33/10 H05B 33/10
33/14 33/14 A
Fターム(参考) 2H048 BA02 BA11 BA55 BA64 BB02
BB07 BB41 BB42
2H088 FA08 FA18 FA30 HA03 HA04
HA12 MA20
2H091 FA02Y FA35Y FC12 FC29
GA01 LA12 LA15 LA18
3K007 AB18 DB03 FA01
5C094 AA43 BA27 CA24 ED03 GB10
5G435 AA17 BB05 CC12 GG12 KK05
KK07 KK10
Claims (18)
- 【請求項1】 液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズ
ルより液滴を基板に向けて吐出して表示装置を製造する
方法であり、 前記基板に対する前記液滴吐出ヘッドの相対速度をV、
前記液滴の吐出周期をT、前記基板に着弾して濡れ広が
った後の前記液滴の直径をDとした場合に、 VT<D の関係を満たすように、前記相対速度V及び前記吐出周
期T及び前記直径Dを制御することを特徴とする表示装
置製造方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の表示装置製造方法にお
いて、 前記基板に着弾して濡れ広がった後の各液滴間の重なり
部分を、直線上に配置することを特徴とする表示装置製
造方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載の表示装置製造方法を用
いて、カラーフィルタ基板を製造することを特徴とする
表示装置製造方法。 - 【請求項4】 請求項3に記載の表示装置製造方法にお
いて、 前記カラーフィルタ基板における、前記液滴の吐出パタ
ーンを、その画素並びの一方向の全てが同色をなすスト
ライプ型、もしくは、その画素並びの一方向で3原色の
色並びが繰り返されるモザイク型、もしくは、隣り合う
列間での相対的な画素並びが互い違いとされ、3原色が
三角形状の色並びに配置されるデルタ型、のいずれかと
することを特徴とする表示装置製造方法。 - 【請求項5】 請求項2に記載の表示装置製造方法を用
いて、有機EL素子を製造することを特徴とする表示装
置製造方法。 - 【請求項6】 請求項2に記載の表示装置製造方法を用
いて、前記表示装置の金属配線を行うことを特徴とする
表示装置製造方法。 - 【請求項7】 請求項1に記載の表示装置製造方法にお
いて、 前記基板に着弾して濡れ広がった後の各液滴間の重なり
部分を、縦列方向及び横列方向の双方に配置して、被膜
を形成することを特徴とする表示装置製造方法。 - 【請求項8】 請求項7に記載の表示装置製造方法を用
いて、 フォトレジストの形成、または、オーバーコートの形
成、または、配向膜の形成、または、液晶膜の形成、を
行うことを特徴とする表示装置製造方法。 - 【請求項9】 液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズ
ルより液滴を基板に向けて吐出して表示装置を製造する
装置であり、 前記基板に対する前記液滴吐出ヘッドの相対速度をV、
前記液滴の吐出周期をT、前記基板に着弾して濡れ広が
った後の前記液滴の直径をDとした場合に、 VT<D の関係を満たすように、前記相対速度V及び前記吐出周
期T及び前記直径Dを制御する制御手段が備えられてい
ることを特徴とする表示装置製造装置。 - 【請求項10】 請求項9に記載の表示装置製造装置に
おいて、前記制御手段は、前記基板に着弾して濡れ広が
った後の各液滴間の重なり部分を、直線上に配置するよ
うに制御することを特徴とする表示装置製造装置。 - 【請求項11】 請求項10に記載の表示装置製造装置
を用いて、カラーフィルタ基板を製造することを特徴と
する表示装置製造装置。 - 【請求項12】 請求項11に記載の表示装置製造装置
において、 前記制御手段は、前記カラーフィルタ基板における前記
液滴の吐出パターンを、その画素並びの一方向の全てが
同色をなすストライプ型、もしくは、その画素並びの一
方向で3原色の色並びが繰り返されるモザイク型、もし
くは、隣り合う列間での相対的な画素並びが互い違いと
され、3原色が三角形状の色並びに配置されるデルタ
型、のいずれかに制御することを特徴とする表示装置製
造装置。 - 【請求項13】 請求項10に記載の表示装置製造装置
を用いて、有機EL素子を製造することを特徴とする表
示装置製造装置。 - 【請求項14】 請求項10に記載の表示装置製造装置
において、 前記表示装置の金属配線を行うことを特徴とする表示装
置製造装置。 - 【請求項15】 請求項9に記載の表示装置製造装置に
おいて、 前記制御手段は、前記基板に着弾して濡れ広がった後の
各液滴間の重なり部分を、縦列方向及び横列方向の双方
に配置させて、被膜を形成することを特徴とする表示装
置製造装置。 - 【請求項16】 請求項15に記載の表示装置製造装置
において、 フォトレジストの形成、または、オーバーコートの形
成、または、配向膜の形成、または、液晶膜の形成、を
行うことを特徴とする表示装置製造装置。 - 【請求項17】 請求項1〜請求項8のいずれかに記載
の表示装置製造方法、もしくは、請求項9〜請求項16
のいずれかに記載の表示装置製造装置を用いて製造され
たことを特徴とする表示装置。 - 【請求項18】 請求項17に記載の表示装置を備えて
製造されたことを特徴とするデバイス。
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