JP2003109251A - Optical recording medium, manufacturing method therefor and protective film-forming material - Google Patents
Optical recording medium, manufacturing method therefor and protective film-forming materialInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関
し、さらに詳しく述べると、基板上に形成された情報記
録層の上に保護膜を備えた光記録媒体に関する。光記録
媒体の典型例は、光ディスクである。本発明はまた、光
記録媒体の製造方法、そしてそのような方法に用いられ
る保護膜形成性樹脂材料に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more specifically to an optical recording medium having a protective film on an information recording layer formed on a substrate. A typical example of the optical recording medium is an optical disc. The present invention also relates to a method for manufacturing an optical recording medium, and a protective film-forming resin material used in such a method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、マルチメディアの進展に伴い、映
像や音声のデータでさえもディジタル信号で処理される
ようになっている。一般に、映像や音声は多くの情報量
を有しているため、それに合わせて大容量・高密度の記
録媒体を必要とする。かかる記録媒体としては、今後の
大容量化・高密度化にも対応することができるDVD
(Digital Versatile Disk)やCD(Compact Disk)の
ような光ディスクが注目されている。2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of multimedia, even video and audio data have been processed by digital signals. In general, video and audio have a large amount of information, and accordingly a large-capacity / high-density recording medium is required. As such a recording medium, a DVD capable of supporting future increase in capacity and density
Optical discs such as (Digital Versatile Disk) and CD (Compact Disk) are receiving attention.
【0003】光ディスクは、以下に図面を参照して詳細
に説明する本発明の光ディスクから容易に理解できるよ
うに、基板と、その基板の上に順次形成された情報記録
層及び保護膜とからなるのが一般的である。さらに具体
的に説明すると、例えば再生専用の光ディスクは、情報
を担持するピット又は案内溝となる凹凸を表面に有する
ディスク状の基板(例えばポリカーボネート樹脂製)の
表面に、アルミニウムなどからなる情報記録層が被着さ
れている。また、情報記録層の表面は、光ディスクを大
気中の湿気や機械的損傷などから保護するため、光透過
性の樹脂からなる保護膜で封止されている。このような
光ディスクにおいて、情報の再生は、再生ピックアップ
用の対物レンズで集光されたレーザ光を、基板の案内溝
の情報ピットに連続的に照射することによって、行うこ
とができる。The optical disk comprises a substrate and an information recording layer and a protective film formed on the substrate in order to be easily understood from the optical disk of the present invention described in detail with reference to the drawings. Is common. More specifically, for example, a read-only optical disc has an information recording layer made of aluminum or the like on the surface of a disc-shaped substrate (for example, made of polycarbonate resin) having irregularities serving as pits or guide grooves for carrying information on the surface. Is being worn. Further, the surface of the information recording layer is sealed with a protective film made of a light transmissive resin in order to protect the optical disc from moisture in the atmosphere, mechanical damage and the like. In such an optical disc, information can be reproduced by continuously irradiating the information pits of the guide groove of the substrate with the laser light condensed by the objective lens for the reproduction pickup.
【0004】ところで、記録媒体における最近の高密度
化、大容量化にともなって、保護膜の改善が必要となっ
ている。例えば、保護膜は、光の照射によって情報の再
生を行うので、再生光に対して高い透明度を有していな
ければならないことはもちろんのこと、保護膜の膜厚
は、できる限り薄く、しかも記録媒体の全面についてほ
ぼ均一であり、かつ表面が平滑であることが望ましい。
しかし、従来の保護膜は、このような課題を十分に満足
させることができていない。Incidentally, with the recent increase in density and capacity of recording media, it is necessary to improve the protective film. For example, since the protective film reproduces information by irradiating light, it is of course necessary that the protective film has a high transparency to the reproduced light, and the film thickness of the protective film is as thin as possible. It is desirable that the entire surface of the medium is substantially uniform and the surface is smooth.
However, conventional protective films have not been able to sufficiently satisfy such problems.
【0005】例えば、光ディスクの保護膜は、通常、情
報記録層の表面に紫外線硬化性樹脂をスピンコート法な
どで所定の膜厚で塗布した後、紫外線の照射によって硬
化させることによって製造されている。しかし、図1に
示すように、ポリカーボネート樹脂製の基板(説明の簡
略化のため、情報記録層は示されていない)の表面に形
成された保護膜3は、スピンコート時に基板1が回転さ
せられるため、その膜厚が、ディスクの中心側では薄
く、外側に向かうに従って厚くなり、さらに外周端では
盛り上がり部が形成される。盛り上がり部は、通常、幅
1〜2mm、高さ20〜30μmである。このような膜
厚の変動は、再生特性などに悪影響を及ぼし、また、再
生手段として磁気ヘッドを使用しているような場合に
は、ヘッドクラッシュなどを引き起こすおそれもある。
また、スピンコート法を使用した場合、この成膜法に特
徴的なことであるが、放射状の欠陥が発生しやすい。For example, a protective film for an optical disk is usually manufactured by coating a surface of an information recording layer with an ultraviolet curable resin by a spin coating method or the like to a predetermined film thickness and then curing it by irradiation with ultraviolet rays. . However, as shown in FIG. 1, the protective film 3 formed on the surface of the polycarbonate resin substrate (the information recording layer is not shown for simplification of description) causes the substrate 1 to rotate during spin coating. As a result, the film thickness is thin on the center side of the disk and increases toward the outer side, and a raised portion is formed at the outer peripheral edge. The raised portion is usually 1 to 2 mm wide and 20 to 30 μm high. Such a variation in the film thickness adversely affects the reproduction characteristics and the like, and when a magnetic head is used as the reproducing means, there is a risk of causing a head crash or the like.
When the spin coating method is used, radial defects are likely to occur, which is characteristic of this film forming method.
【0006】スピンコート法は大変に有用な成膜法であ
るので、上述のような問題点を解決するため、特開平7
−57297号公報には、盛り上がり部の形成を予め予
測して、その分だけ基板の外周端部に切り欠かれ傾斜面
を形成することが提案されている。しかし、この方法で
は、基板を切り欠く作業が煩雑で、コストがかかるばか
りでなく、その都度、最適な切り欠かれ傾斜面及びスピ
ンコート条件を設計しなければならず、一般的に有効な
解決手段ではない。[0006] The spin coating method is a very useful film forming method.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 57297 proposes that the formation of a raised portion is predicted in advance, and the inclined surface is formed by notching the outer peripheral edge portion of the substrate by that amount. However, in this method, not only the work of cutting the substrate is complicated and costly, but also the optimum notched inclined surface and spin coating conditions must be designed each time, which is a generally effective solution. Not a means.
【0007】別法として、保護膜シートの貼付がある。
この方法は、約70〜90μmの厚さをもった保護膜シ
ート(例えば、ポリカーボネートシート)から円盤状の
シートを打ち抜き、接着剤又は粘着剤シートを介して光
ディスクの情報記録層の表面に貼付するものであるが、
保護膜シートの原反が高価である、打ち抜いて使用する
ので原反の利用効率が悪い、ゴミの付着、傷つき、折れ
曲がり等が発生しやすいのでシートの取り扱いに細心の
注意が必要である、などの問題点をかかえている。ま
た、ここで使用する接着剤は通常紫外線硬化型の接着剤
であるが、この接着剤に特有の問題点として、接着剤層
の厚みにおけるバラツキの発生がある。また、粘着剤シ
ートの使用の場合には、シートの特殊性により高価であ
るという問題点のほかに、剥離ライナーの廃棄の問題な
どがある。Another method is to attach a protective film sheet.
In this method, a disc-shaped sheet is punched out from a protective film sheet (for example, a polycarbonate sheet) having a thickness of about 70 to 90 μm, and the disc-shaped sheet is attached to the surface of the information recording layer of the optical disc via an adhesive or pressure-sensitive adhesive sheet. But
The original sheet of the protective film sheet is expensive, the usage efficiency of the original sheet is poor because it is used after punching, dust is attached, scratches, bending, etc. are likely to occur, so careful handling of the sheet is necessary, etc. Has the problem of. The adhesive used here is usually an ultraviolet curable adhesive, but a problem peculiar to this adhesive is that the thickness of the adhesive layer varies. Further, when the pressure sensitive adhesive sheet is used, there is a problem that the release liner is discarded in addition to the problem that the sheet is expensive due to the peculiarity of the sheet.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
したような従来の技術の問題点を克服して、薄く、膜厚
の分布にバラツキがなく、かつ表面が平滑な保護膜を備
え、よって大容量化、高密度化に対応可能な高品質の光
記録媒体を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a protective film which is thin, has no variation in film thickness distribution, and has a smooth surface by overcoming the problems of the conventional techniques as described above. Therefore, it is an object to provide a high-quality optical recording medium that can cope with a large capacity and a high density.
【0009】また、本発明の目的は、薄く、膜厚の分布
にバラツキがなく、かつ表面が平滑な保護膜を備えた高
品質の光記録媒体を簡単にかつ低コストで製造可能な方
法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a method capable of easily and inexpensively producing a high-quality optical recording medium provided with a protective film which is thin, has a uniform film thickness distribution, and has a smooth surface. To provide.
【0010】さらに、本発明の目的は、保護膜にゴミが
付着したり、傷がついたり、折れ曲がりや放射状の欠陥
が生じないような光記録媒体の製造方法を提供すること
にある。A further object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical recording medium in which dust, scratches, bending, and radial defects do not occur on the protective film.
【0011】本発明のこれらの目的やその他の目的は、
以下の詳細な説明から容易に理解できるであろう。These and other objects of the present invention are
It will be readily understood from the detailed description below.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は、その1つの面
において、基板と、該基板の上に形成された情報記録層
とを備えた光記録媒体において、前記情報記録層が、光
透過性の樹脂材料からなる保護膜をその表面に有すると
ともに、前記保護膜が、50〜200μmのほぼ均一な
厚さを有しており、かつ該保護膜の形成時にその表面に
被覆されていた表面処理媒体の表面の平滑性を再現した
表面を有していることを特徴とする光記録媒体にある。According to one aspect of the present invention, in an optical recording medium having a substrate and an information recording layer formed on the substrate, the information recording layer has a light transmitting property. Having a protective film made of an organic resin material on its surface, the protective film having a substantially uniform thickness of 50 to 200 μm, and the surface coated on the surface when the protective film was formed. An optical recording medium having a surface that reproduces the smoothness of the surface of the processing medium.
【0013】また、本発明は、そのもう1つの面におい
て、基板と、該基板の上に順次形成された情報記録層及
び保護膜とを備えた光記録媒体を製造する方法におい
て、下記の工程:前記情報記録層の表面に光透過性の保
護膜形成性樹脂材料を、得られる前記保護膜の膜厚が5
0〜200μmとなるのに十分な量で適用し、前記保護
膜形成性樹脂材料の層の表面に、前記保護膜において所
望とする平滑度に対応する平滑度を表面において有する
表面処理媒体を被覆し、前記基板と前記表面処理媒体を
積層した状態の下で前記保護膜形成性樹脂材料を硬化さ
せて前記保護膜を形成し、よって、前記表面処理媒体の
表面の平滑性を前記保護膜に転写し、必要に応じて、前
記表面処理媒体を取り除くことを含んでなることを特徴
とする光記録媒体の製造方法にある。According to another aspect of the present invention, in the method of manufacturing an optical recording medium provided with a substrate and an information recording layer and a protective film sequentially formed on the substrate, the following steps are carried out. : A light-transmitting protective film-forming resin material is formed on the surface of the information recording layer, and the thickness of the resulting protective film is 5
The surface treatment medium having a smoothness corresponding to a desired smoothness in the protective film is applied to the surface of the layer of the protective film-forming resin material, which is applied in an amount sufficient to achieve 0 to 200 μm. Then, under the condition that the substrate and the surface treatment medium are laminated, the protective film-forming resin material is cured to form the protective film, and thus the smoothness of the surface of the surface treatment medium is applied to the protective film. A method for producing an optical recording medium, which comprises transferring and, if necessary, removing the surface-treated medium.
【0014】さらに、本発明は、そのもう1つの面にお
いて、光硬化性の樹脂材料であり、隣接する媒体を透過
した光により硬化せしめられて保護膜を形成可能である
ことを特徴とする光記録媒体用保護膜形成性樹脂材料に
ある。Further, according to another aspect of the present invention, a light-curable resin material is characterized in that it can be cured by light transmitted through an adjacent medium to form a protective film. A protective film-forming resin material for a recording medium.
【0015】本発明の光記録媒体では、平行に配置され
た媒体基板と表面処理媒体の間に保護膜形成性樹脂材料
を充填して硬化させているので、製造工程を簡略化する
とともに、保護膜の薄膜化が容易に可能であり、かつ膜
厚をほぼ均一にすることができる。また、優れた平面
性、平滑性を備えた表面処理媒体を使用することによ
り、その表面の平面性、平滑性を保護膜の表面に正確に
転写することができ、また、従来のスピンコート法で発
生したような放射状の欠陥なども防止できる。さらに、
保護膜形成性樹脂材料は安価であり、商業的に容易に入
手可能であるので、製造コストを従来品に比較して格段
に低く抑えることができる。In the optical recording medium of the present invention, since the protective film-forming resin material is filled and cured between the medium substrate and the surface-treated medium which are arranged in parallel, the manufacturing process is simplified and the protective film is protected. The film can be easily thinned and the film thickness can be made substantially uniform. In addition, by using a surface treatment medium having excellent flatness and smoothness, the flatness and smoothness of the surface can be accurately transferred to the surface of the protective film. It is also possible to prevent radial defects such as those generated in Step 2. further,
Since the protective film-forming resin material is inexpensive and easily available commercially, the manufacturing cost can be remarkably reduced as compared with the conventional product.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】本発明による光記録媒体は、採用
されている情報の記録及び再生方式に応じていろいろな
形態を有することができるが、基本的に、(1)基板、
(2)基板上に形成された情報記録層、及び(3)情報
記録層の表面を被覆した保護膜、を少なくとも含むよう
に構成される。かかる光記録媒体の典型例は、CD、D
VD等に代表される光ディスクである。また、本発明の
光記録媒体の保護膜は、その優れた品質などを利用し
て、必要に応じて、光記録媒体以外の分野で利用しても
よい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The optical recording medium according to the present invention can have various forms according to the recording and reproducing system of information used. Basically, (1) a substrate,
(2) An information recording layer formed on the substrate, and (3) a protective film covering the surface of the information recording layer. Typical examples of such an optical recording medium are CD, D
It is an optical disk represented by VD and the like. Further, the protective film of the optical recording medium of the present invention may be used in fields other than the optical recording medium, if necessary, by utilizing its excellent quality and the like.
【0017】図2は、本発明の再生専用光ディスク(D
VD)の一実施形態を示した斜視図である。光ディスク
10は、1枚の透明な樹脂(例えばポリカーボネート樹
脂)からなる基板1から構成されて、その透明な基板1
の表面には情報に応じたピットパターン(図示せず)が
形成されている。光ディスク10の中央部には、円形の
中空部分(開口部)を有している。光ディスク10は、
それを光ディスク装置に搭載する場合、装置のシャフト
にこの光ディスクの開口部を嵌合する。透明基板1上に
は、アルミニウムのような金属からなる情報記録層2が
配置されており、90%前後の反射率を有している。さ
らに、情報記録層2の表面には、それを大気中の水分や
機械的ショックなどから保護するため、光透過性の樹脂
材料からなる保護膜3が設けられている。光ディスク1
0に光学ヘッド(図示せず)からのレーザ光Lを対物レ
ンズで集光して照射すると、情報記録層2からの情報ピ
ットに応じた反射により、情報の読み取り、再生を行な
うことができる。FIG. 2 shows a read-only optical disc (D
It is a perspective view showing one embodiment of (VD). The optical disk 10 is composed of a substrate 1 made of one transparent resin (for example, polycarbonate resin), and the transparent substrate 1
A pit pattern (not shown) corresponding to information is formed on the surface of the. The optical disc 10 has a circular hollow portion (opening) at the center thereof. The optical disc 10 is
When mounting it on an optical disk device, the opening of this optical disk is fitted to the shaft of the device. An information recording layer 2 made of a metal such as aluminum is disposed on the transparent substrate 1 and has a reflectance of about 90%. Further, on the surface of the information recording layer 2, a protective film 3 made of a light transmissive resin material is provided in order to protect it from moisture in the atmosphere, mechanical shock, and the like. Optical disc 1
When laser light L from an optical head (not shown) is focused on and irradiated with 0 by an objective lens, information can be read and reproduced by reflection according to information pits from the information recording layer 2.
【0018】なお、図示の例では、再生専用の光ディス
クについて説明されているが、本発明の光ディスクはこ
の実施形態に限定されるものではない。すなわち、本発
明の光ディスクは、情報の記録と再生が可能な光ディス
クであってもよく、また、情報記録層とその上の保護膜
が基板の両面にある光ディスクであってもよい。さら
に、本発明の光ディスクは、記録・読み取り方式が光磁
気もしくは相変化による光ディスクであってもよい。In the example shown in the figure, a read-only optical disk is described, but the optical disk of the present invention is not limited to this embodiment. That is, the optical disc of the present invention may be an optical disc capable of recording and reproducing information, or may be an optical disc in which the information recording layer and the protective films thereon are on both sides of the substrate. Further, the optical disk of the present invention may be an optical disk whose recording / reading method is magneto-optical or phase change.
【0019】本発明の光記録媒体において、情報記録層
を担持する基板は、特に限定されるものではなく、ま
た、採用されている情報の記録・再生方式に応じて、透
明でも、半透明でも、あるいは不透明でもよい。基板
は、この技術分野で一般的に行われているように、射出
成形法などの常用の成形法によってアクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂などのプラスチック材料から形成する
ことができる。場合によっては、プラスチック材料に代
えて、他の材料、例えばガラスなどを基板として使用し
てもよい。基板のサイズは、所望とする光記録媒体のサ
イズに応じて広く変更することができる。例えば、市販
のDVDのような光ディスクの場合、基板の直径は12
cmであり、厚さは0.6mmである。なお、光記録媒体
は、必要に応じて、ディスク以外の形態をとってもよ
い。In the optical recording medium of the present invention, the substrate carrying the information recording layer is not particularly limited and may be transparent or translucent depending on the information recording / reproducing system adopted. , Or opaque. The substrate can be formed of a plastic material such as an acrylic resin or a polycarbonate resin by a conventional molding method such as an injection molding method, as is generally performed in this technical field. In some cases, instead of the plastic material, another material such as glass may be used as the substrate. The size of the substrate can be widely changed depending on the desired size of the optical recording medium. For example, in the case of an optical disk such as a commercially available DVD, the diameter of the substrate is 12
cm and the thickness is 0.6 mm. The optical recording medium may take a form other than the disc, if necessary.
【0020】基板の表面のうち、情報記録層が形成され
るべき表面には、光記録媒体に記録されるべき映像、音
声等の情報信号に対応した凹凸パターン、凹凸ピットな
どが設けられる。この凹凸パターン等の形成には、マス
タスタンパを使用したり、フォトリソグラフィを使用し
たりすることができる。また、情報の記録・再生方式に
よっては、基板の表面にかかる凹凸パターン等が設けら
れていなくてもよい。Of the surface of the substrate, the surface on which the information recording layer is to be formed is provided with an uneven pattern, uneven pits and the like corresponding to information signals such as video and audio to be recorded on the optical recording medium. A master stamper or photolithography can be used to form the uneven pattern or the like. Further, depending on the information recording / reproducing method, the uneven pattern or the like on the surface of the substrate may not be provided.
【0021】基板と同様に、基板の上に形成される情報
記録層も、特に限定されるものではない。情報記録層
は、通常、反射型又は半透明型記録層の形成に適した金
属材料、セラミック材料等から薄膜で形成される。反射
型記録層の形成に適当な記録層形成材料としては、成膜
後の反射率が90%前後である材料、例えば、アルミニ
ウムなどを挙げることができる。また、半透明型記録層
の形成に適当な記録層形成材料としては、成膜後の反射
率が50%前後である材料、例えば、金、珪素系誘電体
(例えば式SiNxにより一般的に表されるシリコン窒
化物、SiC等)などを挙げることができる。これらの
記録層形成材料は、常用の薄膜形成技術、例えばスパッ
タ法、真空蒸着法などによって成膜することができる。
情報記録層の膜厚は、広い範囲で変更することができる
というものの、通常、約10〜500nmの範囲である。As with the substrate, the information recording layer formed on the substrate is not particularly limited. The information recording layer is usually formed as a thin film from a metal material, a ceramic material, or the like suitable for forming a reflective or semitransparent recording layer. As a recording layer forming material suitable for forming the reflective recording layer, a material having a reflectance of about 90% after film formation, for example, aluminum can be mentioned. Further, as a recording layer forming material suitable for forming the translucent recording layer, a material having a reflectance of about 50% after film formation, for example, gold, a silicon-based dielectric (for example, generally represented by the formula SiNx, is used). Silicon nitride, SiC, etc.). These recording layer forming materials can be formed into a film by a conventional thin film forming technique such as a sputtering method or a vacuum evaporation method.
Although the thickness of the information recording layer can be changed in a wide range, it is usually in the range of about 10 to 500 nm.
【0022】光記録媒体の最上層に設けられる保護膜
は、光硬化性の、すなわち、光の照射により硬化可能な
樹脂材料から形成される。ここで、「光」とは、可視
光、紫外線等の放射線や電子線などの各種の光を意味
し、したがって、保護膜の形成に適当な光硬化性の樹脂
材料は、例えば、紫外線(UV)硬化性の樹脂材料、電
子線(EB)硬化性の樹脂材料などである。適当な光硬
化性の樹脂材料としては、以下に列挙するものに限定さ
れるわけではないけれども、イソオクチル(メタ)アク
リレート、2−エチルヘキシルカルビトール(メタ)ア
クリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソス
テアリル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル
酸エステル、そしてウレタンアクリレート、エポキシア
クリレート、ポリエステルアクリレートなどのようなア
クリル系化合物からなる樹脂材料を挙げることができ
る。かかる光硬化性の樹脂材料には、通常、光重合開始
剤が併用される。特に適当なUV硬化性の樹脂材料は、
ウレタンアクリレートとジメチロールトリシクロデカン
アクリレートの混合物又はウレタンアクリレートと1,
6−ヘキサンジオールジアクリレートの混合物に光重合
開始剤を加えたものである。なお、かかる樹脂材料に
は、必要に応じて、この技術分野で一般的に使用されて
いる各種の添加剤を配合してもよい。適当な添加剤の例
として、例えば、増粘剤、可塑剤、分散剤、重合禁止剤
などを挙げることができる。The protective film provided on the uppermost layer of the optical recording medium is made of a photocurable resin material, that is, a resin material which is curable by irradiation of light. Here, "light" means various kinds of light such as visible light, radiation such as ultraviolet rays, and electron beams. Therefore, a photocurable resin material suitable for forming a protective film is, for example, ultraviolet rays (UV). ) A curable resin material, an electron beam (EB) curable resin material, and the like. Suitable photocurable resin materials are not limited to those listed below, but include isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and Examples of the resin material include a (meth) acrylic acid ester such as stearyl (meth) acrylate, and an acrylic compound such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate. A photopolymerization initiator is usually used in combination with such a photocurable resin material. Particularly suitable UV curable resin materials are
A mixture of urethane acrylate and dimethyloltricyclodecane acrylate or urethane acrylate and 1,
A photopolymerization initiator was added to a mixture of 6-hexanediol diacrylate. If necessary, various additives generally used in this technical field may be added to the resin material. Examples of suitable additives include thickeners, plasticizers, dispersants, polymerization inhibitors and the like.
【0023】上述のような保護膜形成性の樹脂材料は、
通常、基板上に形成された情報記録層の表面に塗布し、
硬化せしめられる。また、別法によれば、保護膜形成性
の樹脂材料は、情報記録層の表面とは別に、表面処理媒
体の表面にも塗布し、硬化させてもよい。このような両
面塗布法を採用することによって、例えば、保護膜の厚
みのコントロールが容易に可能になる。また、このよう
な両面塗布法の場合には、情報記録層の表面と表面処理
媒体の表面に同一の樹脂材料を塗布してもよく、あるい
は、組成、特性等を異にする樹脂材料を塗布してもよ
い。例えば、被着体に対する接着強度が異なる樹脂材料
を使用すると、表面処理媒体を媒体から剥離する作業を
改善することができる。保護膜形成性の樹脂材料は、必
要に応じてその他の塗布法あるいは薄膜形成法を使用で
きるけれども、スピンコート法によって、その樹脂材料
を情報記録層などの上に塗布するのが有利である。スピ
ンコート法は、市販のスピンコータ及び一般的な塗布条
件を使用して実施することができる。The protective film-forming resin material as described above is
Usually, it is applied on the surface of the information recording layer formed on the substrate,
It is hardened. According to another method, the resin material capable of forming a protective film may be applied and cured on the surface of the surface treatment medium in addition to the surface of the information recording layer. By adopting such a double-sided coating method, for example, the thickness of the protective film can be easily controlled. In the case of such a double-sided coating method, the same resin material may be applied to the surface of the information recording layer and the surface of the surface treatment medium, or a resin material having different composition, characteristics, etc. may be applied. You may. For example, when resin materials having different adhesive strengths to the adherend are used, the work of peeling the surface treatment medium from the medium can be improved. Other resin coating methods or thin film forming methods can be used for the protective film-forming resin material, if necessary, but it is advantageous to apply the resin material onto the information recording layer or the like by spin coating. The spin coating method can be carried out using a commercially available spin coater and general coating conditions.
【0024】ここで、保護膜形成性の樹脂材料は、通
常、1,000cps 以上の粘度を有しており、好ましく
は2,000〜100,000cps の粘度、さらに好ま
しくは5,000〜100,000cps の粘度を有して
いる。これは、本発明の光記録媒体の場合、選ばれた樹
脂材料を予め厚みが均一になるように媒体基板上及び必
要に応じて表面処理媒体上にスピンコート法などにより
塗布しておき、その後で表面処理媒体を重ね合わせる
際、樹脂材料の層の厚みが変わらないようにするため、
粘度は十分に高いことが望ましいが、他方で、樹脂材料
の塗布を所望の厚みで実用的に行える範囲でなければな
らないからである。さらに、樹脂材料の粘度が低すぎる
と、それを塗布した後であって光硬化を行う前に、その
溶液が基板周縁部で滴り落ちたりするおそれがある。実
際、樹脂材料の粘度が1,000cpsを下回ると、保護
膜の厚さの分布にムラが生じ、反対に100,000cp
s を上回ると、塗布がしにくくなる。なお、本願明細書
において参照する、保護膜形成性の樹脂材料の粘度は、
JIS K 7117−1−1999に記載の指針に従
いブルックフィールド粘度計(スピンドル#2,12rp
m )を用いて25℃で測定したものである。Here, the protective film-forming resin material usually has a viscosity of 1,000 cps or more, preferably 2,000 to 100,000 cps, and more preferably 5,000 to 100, cps. It has a viscosity of 000 cps. This is because in the case of the optical recording medium of the present invention, the selected resin material is applied beforehand on the medium substrate and, if necessary, on the surface-treated medium by a spin coating method or the like so that the thickness becomes uniform, and In order to prevent the thickness of the resin material layer from changing when stacking surface treatment media with,
It is desirable that the viscosity is sufficiently high, but on the other hand, it must be within a range in which the resin material can be applied practically at a desired thickness. Further, if the viscosity of the resin material is too low, the solution may drip at the peripheral edge of the substrate after the application and before the photo-curing. In fact, when the viscosity of the resin material is less than 1,000 cps, the thickness distribution of the protective film becomes uneven, and conversely 100,000 cps.
If it exceeds s, it becomes difficult to apply. The viscosity of the protective film-forming resin material referred to in the present specification is
A Brookfield viscometer (spindle # 2, 12rp) according to the guidelines described in JIS K 7117-1-1999.
m) at 25 ° C.
【0025】所定量の保護膜形成性の樹脂材料を情報記
録層の上に塗布した後、未硬化の樹脂材料の層を、所望
とする保護膜の膜厚に対応する等間隔で挟むようにし
て、基板の上に表面処理媒体を重ね合わせ、樹脂材料を
硬化させる。また、必要に応じて表面処理媒体の上に追
加的に保護膜形成性の樹脂材料を塗布する両面塗布法の
場合には、樹脂材料の合計量が、保護膜の形成に必要な
所定量となる。ここで樹脂材料が紫外線硬化性の樹脂材
料である場合には、紫外線の透過性に優れた薄くて表面
が平滑なガラス板(円板)を表面処理媒体として使用
し、高圧水銀ランプからの紫外線をガラス板を介して樹
脂材料に照射し、硬化させる。なお、プラスチックシー
トなどを表面処理媒体として使用してもよい。両面塗布
法は、いろいろな形態で有利に実施できる。例えば、保
護膜形成性の樹脂材料は、上記したように、情報記録層
上及び表面処理媒体上で同一の樹脂材料を使用してもよ
く、さもなければ、異なる樹脂材料を使い分けてもよ
い。また、塗布後の樹脂材料の硬化は、基板と表面処理
媒体を積層した後に行ってもよく、あるいは、情報記録
層上の樹脂材料と表面処理媒体の樹脂材料のいずれか一
方をまず硬化させ、その後に基板と表面処理媒体を積層
し、引き続いて残った樹脂材料を硬化させてもよい。さ
らに、樹脂材料の塗布の際、表面処理媒体の直径を情報
記録層を支持する基板の直径よりも大きく設定し、表面
処理媒体の全面に樹脂材料を塗布した後、情報記録層に
対応する領域のみを選択的に硬化させ、未硬化の樹脂材
料を取り除いた後に基板に積層してもよい。このような
手法を採用することによって、保護膜の膜厚分布のコン
トロールが容易になり、積層体のズレが防止でき、作業
性も向上する。After coating a predetermined amount of the resin material having a protective film forming property on the information recording layer, the layers of the uncured resin material are sandwiched at equal intervals corresponding to the desired film thickness of the protective film. The surface treatment medium is superposed on the substrate and the resin material is cured. Further, in the case of a double-sided coating method in which a protective film-forming resin material is additionally applied onto the surface treatment medium as necessary, the total amount of the resin material is the predetermined amount necessary for forming the protective film. Become. If the resin material is a UV-curable resin material, a thin glass plate (circle) with excellent UV transparency is used as the surface treatment medium, and the UV light from the high pressure mercury lamp is used. The resin material is irradiated through the glass plate and cured. A plastic sheet or the like may be used as the surface treatment medium. The double-sided coating method can be advantageously carried out in various forms. For example, as the protective film forming resin material, the same resin material may be used on the information recording layer and the surface treatment medium as described above, or different resin materials may be used separately. Further, the resin material after coating may be cured after laminating the substrate and the surface treatment medium, or alternatively, either the resin material on the information recording layer or the resin material of the surface treatment medium is cured first, After that, the substrate and the surface treatment medium may be laminated, and the remaining resin material may be subsequently cured. Further, when applying the resin material, the diameter of the surface treatment medium is set to be larger than the diameter of the substrate supporting the information recording layer, and after the resin material is applied to the entire surface of the surface treatment medium, the area corresponding to the information recording layer is formed. Alternatively, only the resin may be selectively cured to remove the uncured resin material, and then the resin material may be laminated on the substrate. By adopting such a method, it becomes easy to control the film thickness distribution of the protective film, the deviation of the laminated body can be prevented, and the workability is improved.
【0026】光記録媒体の保護膜において、その膜厚
は、通常、約50〜200μmであり、好ましくは約6
0〜150μmである。この保護膜は、その全面にわた
ってほぼ均一な膜厚を有している。すなわち、保護膜の
膜厚が100μmであるとき、その膜厚の分布は、通
常、100±3μm程度である。The thickness of the protective film of the optical recording medium is usually about 50 to 200 μm, preferably about 6
It is 0 to 150 μm. This protective film has a substantially uniform film thickness over the entire surface. That is, when the film thickness of the protective film is 100 μm, the distribution of the film thickness is usually about 100 ± 3 μm.
【0027】また、この保護膜は、好ましいことに、優
れて良好な平面性、平滑性を有している。これは、媒体
基板と表面処理媒体の間に保護膜形成性樹脂材料をサン
ドイッチして保護膜を形成した時、樹脂材料の層に被覆
されていた表面処理媒体の表面の優れた平滑性が、その
まま保護膜の表面に転写されたからである。保護膜の平
滑性は、それを平均表面粗さRaで表した場合、通常、
0.02〜0.08μmである。The protective film preferably has excellent flatness and smoothness. This is because when the protective film-forming resin material is sandwiched between the medium substrate and the surface treatment medium to form the protective film, the excellent smoothness of the surface of the surface treatment medium covered with the layer of the resin material, This is because it was directly transferred to the surface of the protective film. When the smoothness of the protective film is expressed by the average surface roughness Ra, it is usually
It is 0.02-0.08 micrometer.
【0028】表面処理媒体は、その平滑な表面が広範な
表面エネルギーを示してもよい。硬化した保護膜形成性
樹脂材料と密着した表面処理媒体の表面エネルギーが最
大であると、後続の工程で表面処理媒体を取り除く場合
に、その表面処理媒体の表面によって硬化した樹脂材料
の表面が分離せしめられ、光記録媒体の所期の使用が否
定されるようなことがなく、また、未硬化の保護膜形成
性樹脂材料と密着した表面処理媒体の表面エネルギーが
最小であると、その表面処理媒体の意図した表面からの
濡れが否定されたり、あるいは表面処理媒体上又は表面
処理媒体との間にある保護膜形成性樹脂材料の流動が妨
げられたりすることがない。The surface-treated medium may have a smooth surface exhibiting a wide range of surface energies. When the surface energy of the surface treatment medium that is in close contact with the cured protective film forming resin material is maximum, the surface of the cured resin material is separated by the surface of the surface treatment medium when removing the surface treatment medium in the subsequent step. Therefore, the intended use of the optical recording medium is not denied, and if the surface energy of the surface treatment medium that is in close contact with the uncured protective film-forming resin material is the minimum, the surface treatment is performed. The intended wetting of the medium from the surface is not denied, or the flow of the protective film-forming resin material on or between the surface treatment medium is not hindered.
【0029】本発明の光記録媒体は、基板、情報記録層
及び保護膜を備えるけれども、必要に応じて、その他の
層を追加的に有していてもよい。適当な追加の層として
は、例えば、印刷層、無反射コート層、ハードコート
層、帯電防止層などを挙げることができる。Although the optical recording medium of the present invention comprises a substrate, an information recording layer and a protective film, it may optionally have other layers. Suitable additional layers can include, for example, printing layers, antireflective coating layers, hard coating layers, antistatic layers, and the like.
【0030】本発明による光記録媒体は、基板上に常法
に従って情報記録層を形成した後、次のような手順で保
護膜を形成することによって、有利に製造することがで
きる。
(1)保護膜形成性樹脂材料の塗布
基板上に形成した情報記録層の表面に光透過性の保護膜
形成性樹脂材料を塗布する。好ましくは、スピンコータ
などを使用して、基板を回転させながら、選ばれた樹脂
材料をノズルから滴下することによって、情報記録層の
表面に樹脂材料の薄膜を形成することができる。ここ
で、樹脂材料の塗布量は、通常、得られる保護膜の膜厚
が所望とする50〜200μmの範囲となるのに十分な
量であるのが好ましい。The optical recording medium according to the present invention can be advantageously manufactured by forming an information recording layer on a substrate by a conventional method and then forming a protective film by the following procedure. (1) Application of protective film forming resin material A light transmitting protective film forming resin material is applied to the surface of the information recording layer formed on the substrate. Preferably, a thin film of a resin material can be formed on the surface of the information recording layer by dropping a selected resin material from a nozzle while rotating the substrate using a spin coater or the like. Here, it is preferable that the amount of the resin material applied is usually sufficient to bring the desired thickness of the protective film to the desired range of 50 to 200 μm.
【0031】別法によれば、保護膜形成性樹脂材料は、
情報記録層の表面とともに、表面処理媒体の表面(情報
記録層の側の表面)にも塗布してもよい。表面処理媒体
の表面に塗布する樹脂材料は、情報記録層の表面に塗布
した樹脂材料と同一であってもよく、異なっていてもよ
い。また、この場合、樹脂材料の合計塗布量が、保護膜
において所望の膜厚を得るのに必要な量となる。
(2)表面処理媒体の押し付け
特徴的な特性を有する保護膜を得るための前処理工程と
して、保護膜形成性樹脂材料の層の表面に表面処理媒体
を押し付ける。ここで使用する表面処理媒体は、平滑度
の転写の機能を有することから、「型」と呼ぶこともで
きる。詳細は限定されないけれども、この型の表面は、
保護膜において所望とする平滑度に対応する平滑度を有
することが必要である。また、使用する樹脂材料が光硬
化性である場合には、樹脂材料の硬化を達成するため、
型自体が光透過性、例えば紫外線透過性を有することが
必要である。適当な光透過性の表面処理媒体は、ガラス
ディスク、プラスチックシートなどである。このような
表面処理媒体の表面は、保護膜の形成後に媒体基板から
剥離するのを容易にするため、シリコーン樹脂の塗布な
どで離型処理が施されていてもよい。なお、この表面処
理媒体の表面は、前記したように、保護膜形成性樹脂材
料の層が予め形成されていてもよい。According to another method, the protective film-forming resin material is
It may be applied to the surface of the surface treatment medium (the surface on the side of the information recording layer) as well as the surface of the information recording layer. The resin material applied to the surface of the surface treatment medium may be the same as or different from the resin material applied to the surface of the information recording layer. Further, in this case, the total coating amount of the resin material is the amount required to obtain the desired film thickness in the protective film. (2) Pressing of surface treatment medium As a pretreatment step for obtaining a protective film having characteristic properties, the surface treatment medium is pressed against the surface of the layer of the protective film forming resin material. The surface-treated medium used here has a function of transferring smoothness, and thus can be referred to as a “mold”. Although the details are not limited, the surface of this mold is
It is necessary for the protective film to have a smoothness corresponding to the desired smoothness. When the resin material used is photo-curable, in order to achieve curing of the resin material,
It is necessary that the mold itself be transparent to light, for example, transparent to ultraviolet light. Suitable light transmissive surface treatment media are glass disks, plastic sheets and the like. The surface of such a surface-treated medium may be subjected to a release treatment by coating with a silicone resin or the like in order to facilitate peeling from the medium substrate after forming the protective film. As described above, the surface of the surface treatment medium may be preliminarily formed with a layer of the protective film-forming resin material.
【0032】媒体基板に表面処理媒体を押し付けた後、
両者をそれぞれの表面が平行となるように重ね合わせ
る。必要に応じて、適当な冶具を使用してもよい。この
場合、両者の間隔、すなわち、サンドイッチされた樹脂
材料の薄膜の厚さは、硬化時の収縮を無視すれば、所望
とする保護膜の膜厚にほぼ同じであり、また、その薄膜
中には微細な気泡などは含まれない。さらに、余分な樹
脂材料を取り除くため、媒体基板と表面処理媒体を重ね
合わせた後に全体を回転させてもよい。
(3)保護膜の形成
保護膜形成性樹脂材料を、媒体基板と表面処理媒体の間
に挟んだままの状態で硬化させる。硬化方法や硬化条件
は、樹脂材料の種類などに応じて広く変更することがで
きる。例えば、紫外線硬化性の樹脂材料を使用している
のであるならば、表面処理媒体(ガラスディスク)を介
して紫外線を照射することによって、樹脂材料を硬化さ
せ、保護膜となすことができる。このようにして、表面
処理媒体の表面の平滑性が保護膜の表面に転写される。
ところで、保護膜形成性樹脂材料を情報記録層の表面と
ともに表面処理媒体の表面にも塗布するような場合、基
板と表面処理媒体を上述のように重ね合わせる前に、2
つの樹脂材料層のいずれか一方を予め硬化させておいて
もよい。このような場合、ここで述べる硬化工程で、他
方の未硬化の樹脂材料層を硬化させることとなる。硬化
方法や硬化条件は、任意に変更することができる。
(4)表面処理媒体の剥離除去
保護膜の形成が完了した後、平滑性の付与のために使用
した表面処理媒体を剥離し、除去する。表面が平滑な、
目的とする保護膜が得られる。剥離した表面処理媒体
は、クリーニングして再使用することができるので、経
済的である。After pressing the surface treatment medium against the medium substrate,
Both are superposed so that their surfaces are parallel. A suitable jig may be used if necessary. In this case, the distance between the two, that is, the thickness of the thin film of the sandwiched resin material is almost the same as the desired thickness of the protective film, ignoring shrinkage during curing, and Does not include fine bubbles. Further, in order to remove the excess resin material, the medium substrate and the surface treatment medium may be superposed and then rotated as a whole. (3) Formation of protective film The protective film-forming resin material is cured while being sandwiched between the medium substrate and the surface treatment medium. The curing method and curing conditions can be widely changed according to the type of resin material. For example, if an ultraviolet curable resin material is used, the resin material can be cured by irradiation with ultraviolet rays through a surface treatment medium (glass disk) to form a protective film. In this way, the smoothness of the surface of the surface treatment medium is transferred to the surface of the protective film.
By the way, in the case where the protective film-forming resin material is applied to the surface of the surface treatment medium as well as the surface of the information recording layer, before applying the substrate and the surface treatment medium as described above, 2
Either one of the two resin material layers may be cured in advance. In such a case, the other uncured resin material layer is cured in the curing step described here. The curing method and curing conditions can be arbitrarily changed. (4) Peeling and removal of surface treatment medium After the formation of the protective film is completed, the surface treatment medium used for imparting smoothness is peeled and removed. The surface is smooth,
The desired protective film is obtained. The peeled surface treatment medium can be cleaned and reused, which is economical.
【0033】[0033]
【実施例】以下、本発明をその実施例に従って説明す
る。しかし、本発明はこれらの実施例に限定されないこ
とは言うまでもない。また、下記の実施例において、
「部」は、特に断りのある場合を除いて、「重量部」を
意味する。実施例1(図3を参照)
ポリカーボネート製の透明な円形基板の上に情報記録層
をアルミニウムのスパッタリングによって膜厚50nmで
被着して光ディスク基板を形成した。次いで、図3の工
程(A)に示すように、光ディスク基板(情報記録層は
図示しない)1を回転させながら、その表面のほぼ中央
部にUV硬化性シロップ3をノズル13から滴下した。
ここで使用したシロップ3は、30部のウレタンアクリ
レート(商品名「UV6100B」、日本合成化学工業
製)、70部のジメチロールトリシクロデカンジアクリ
レート及び5部の光重合開始剤(商品名「ダロキュア
(Darocure1173TM)」、チバ・ガイギー社
製)を混合したものである。光ディスク基板1の表面
に、UV硬化性シロップ3の薄膜が形成された。The present invention will be described below with reference to its examples. However, it goes without saying that the present invention is not limited to these examples. Also, in the examples below,
"Parts" means "parts by weight" unless otherwise specified. Example 1 (see FIG. 3) An optical disk substrate was formed by depositing an information recording layer with a thickness of 50 nm on a transparent circular substrate made of polycarbonate by sputtering aluminum. Next, as shown in step (A) of FIG. 3, while the optical disk substrate (information recording layer is not shown) 1 was being rotated, the UV curable syrup 3 was dropped from the nozzle 13 to approximately the center of the surface thereof.
The syrup 3 used here was 30 parts of urethane acrylate (trade name "UV6100B", manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 70 parts of dimethylol tricyclodecane diacrylate, and 5 parts of a photopolymerization initiator (trade name "Darocur. (Darocure 1173 ™ ) ”manufactured by Ciba Geigy). A thin film of UV curable syrup 3 was formed on the surface of the optical disc substrate 1.
【0034】次いで、工程(B)に示すように、光ディ
スク基板1のシロップ3の側に、その基板と同じ形状及
びサイズの円盤状ガラス板(厚さ1mm)5を重ね合わ
せた。ガラス板5の表面には、保護膜において目的とさ
れるものと同レベルの平滑性を付与するため、予め平滑
処理を施しておいた。Next, as shown in step (B), a disk-shaped glass plate (thickness 1 mm) 5 having the same shape and size as the substrate was placed on the syrup 3 side of the optical disc substrate 1. The surface of the glass plate 5 was previously subjected to a smoothing treatment in order to impart the same level of smoothness as that intended for the protective film.
【0035】工程(C)に示すように、光ディスク基板
1とガラス板5を重ね合わせた状態を維持し、UV硬化
性シロップ3が自然と全面に広がるのを待った。As shown in step (C), the state where the optical disk substrate 1 and the glass plate 5 were superposed was maintained, and the UV curable syrup 3 was allowed to naturally spread over the entire surface.
【0036】その後、工程(D)に示すように、ガラス
板5を介してUV硬化性シロップ3に紫外線(波長20
0〜400nm)を10秒間にわたって照射し、シロップ
を完全に硬化させた。光ディスク基板からガラス板5を
手作業で取り除いたところ、ほぼ100μmの保護膜を
表面に有する光ディスクが得られた。
〔評価試験〕
保護膜の厚み:光ディスクサンプルの保護膜の厚みを、
キーエンス社製の多焦点光学センサを用いた厚さ測定装
置を使用して、指定の測定条件に基づいて非破壊、非接
触で測定した。下記の第1表に示すような測定結果が得
られた。なお、第1表において、「平均厚み(μm)」
は、2個のサンプルの保護膜の厚みの平均値であり、ま
た、「厚みのばらつき(最大値と最小値の差、μm)」
は、保護膜の厚みのばらつきを測定した際の、光ディス
ク全体についての平均値と、円周半径を異にする6種類
のトラック(Tr.1〜Tr.6)のそれぞれについて
の測定値である。
保護膜の表面の平滑性:光ディスクサンプルの保護膜の
表面の平滑性を表面粗さに関して測定した。この保護膜
の表面粗さの測定のため、大阪在のキーエンス社からモ
デルVF−7500として入手可能なレーザ共焦点顕微
鏡を使用した。この測定装置には、表面粗さを平均表面
粗さRaとしてJIS B 0601−1994に従い
算出できるソフトウェアが組み込んであった。記録され
た平均表面粗さRa(μm)が、JIS B 0601
−1994に従い測定したいくつかの測定部位の表面粗
さとなる。下記の第1表に示すような測定結果が得られ
た。
記録再生用レーザの波長域(λ=400nm)での吸収:
光ディスクサンプルの保護膜において記録再生用レーザ
の波長域(λ=400nm)での吸収があるか否かを測定
するため、実際の保護膜に代えて、膜厚100μmの上
述のUV硬化性樹脂のフィルムを模擬的に使用した。波
長400nmの光の透過率(%)を日立分光光度計350
0形(商品名)により測定したところ、下記の第1表に
示すような測定結果が得られた。実施例2(図4を参照)
ポリカーボネート製の透明な円形基板の上に情報記録層
をアルミニウムのスパッタリングによって膜厚50nmで
被着して光ディスク基板を形成した。次いで、図4の工
程(A)に示すように、光ディスク基板(情報記録層は
図示しない)1を回転させながら、その表面のほぼ中央
部にUV硬化性シロップ3をノズル13からドーナッツ
状に滴下した。ここで使用したシロップ3は、60部の
ウレタンアクリレート(商品名「UV6100B」、日
本合成化学工業製)、40部の1,6−ヘキサンジオー
ルジアクリレート及び5部の光重合開始剤(商品名「ダ
ロキュア(Darocure1173TM)」、チバ・ガ
イギー社製)を混合したものである。光ディスク基板1
の表面に、UV硬化性シロップ3のドーナッツ状の薄膜
が形成された。Then, as shown in step (D), the UV curable syrup 3 is exposed to ultraviolet rays (wavelength of 20) through the glass plate 5.
(0-400 nm) for 10 seconds to completely cure the syrup. When the glass plate 5 was manually removed from the optical disk substrate, an optical disk having a protective film of about 100 μm on the surface was obtained. [Evaluation test] Thickness of protective film: The thickness of the protective film of the optical disc sample is
Using a thickness measuring device using a multifocal optical sensor manufactured by Keyence Corporation, non-destructive and non-contact measurement was performed under specified measurement conditions. The measurement results shown in Table 1 below were obtained. In Table 1, "average thickness (μm)"
Is the average value of the thicknesses of the protective films of the two samples, and "variation in thickness (difference between maximum and minimum values, μm)"
Are the average values for the entire optical disc and the measured values for each of the six types of tracks (Tr. 1 to Tr. 6) having different circumferential radii when the variation in the thickness of the protective film is measured. . Surface smoothness of protective film: The surface smoothness of the protective film of the optical disk sample was measured with respect to surface roughness. A laser confocal microscope available as Model VF-7500 from KEYENCE CORPORATION in Osaka was used to measure the surface roughness of this protective film. This measuring device was incorporated with software capable of calculating the surface roughness as the average surface roughness Ra according to JIS B 0601-1994. The recorded average surface roughness Ra (μm) is based on JIS B 0601.
It becomes the surface roughness of some measurement sites measured according to -1994. The measurement results shown in Table 1 below were obtained. Absorption in the wavelength region of the recording / reproducing laser (λ = 400 nm):
In order to measure whether or not the protective film of the optical disk sample has absorption in the wavelength region (λ = 400 nm) of the recording / reproducing laser, instead of the actual protective film, the above-mentioned UV curable resin having a thickness of 100 μm was used. The film was used as a mock. Hitachi spectrophotometer 350 for transmittance (%) of light with wavelength of 400 nm
When measured with the 0 type (trade name), the measurement results shown in Table 1 below were obtained. Example 2 (see FIG. 4) An optical disk substrate was formed by depositing an information recording layer with a film thickness of 50 nm on a transparent circular substrate made of polycarbonate by sputtering aluminum. Next, as shown in step (A) of FIG. 4, while the optical disk substrate (information recording layer is not shown) 1 is rotated, the UV curable syrup 3 is dripped from the nozzle 13 in a donut shape in the substantially central portion of the surface thereof. did. The syrup 3 used here was 60 parts of urethane acrylate (trade name "UV6100B", manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 40 parts of 1,6-hexanediol diacrylate and 5 parts of a photopolymerization initiator (trade name " Darocur (Darocure 1173 ™ ) "manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.). Optical disk substrate 1
A donut-like thin film of UV curable syrup 3 was formed on the surface of the.
【0037】次いで、工程(B)に示すように、光ディ
スク基板1のシロップ3の側に、その基板と同じ形状及
びサイズの円盤状ガラス板(厚さ1mm)5を重ね合わ
せた。ガラス板5の表面には、保護膜において目的とさ
れるものと同レベルの平滑性を付与するため、予め平滑
処理を施しておいた。Next, as shown in step (B), a disk-shaped glass plate (thickness 1 mm) 5 having the same shape and size as the substrate was placed on the syrup 3 side of the optical disc substrate 1. The surface of the glass plate 5 was previously subjected to a smoothing treatment in order to impart the same level of smoothness as that intended for the protective film.
【0038】工程(C)に示すように、光ディスク基板
1とガラス板5を重ね合わせた後、矢印方向に高速で回
転させて、余分なUV硬化性シロップ3を振り切った。
所定の膜厚をもったUV硬化性シロップ3の薄膜が形成
された。As shown in step (C), after the optical disk substrate 1 and the glass plate 5 were superposed on each other, they were rotated at a high speed in the direction of the arrow to shake off the excess UV curable syrup 3.
A thin film of UV curable syrup 3 having a predetermined film thickness was formed.
【0039】その後、工程(D)に示すように、ガラス
板5を介してUV硬化性シロップ3に紫外線(波長20
0〜400nm)を10秒間にわたって照射し、シロップ
を完全に硬化させた。光ディスク基板からガラス板5を
手作業で取り除いたところ、ほぼ100μmの保護膜を
表面に有する光ディスクが得られた。
〔評価試験〕前記実施例1に記載のものと同様な手法に
従って一連の評価試験を行ったところ、下記の第1表に
記載のような測定結果が得られた。比較例1
前記実施例1に記載の手法を繰り返したが、本例では、
比較のため、光ディスク基板の表面にUV硬化性シロッ
プを膜厚100μmでスピンコートした後、紫外線(波
長200〜400nm)を10秒間にわたって照射し、シ
ロップを完全に硬化させた。本例では、したがって、ガ
ラス板を平滑性転写用型として使用しなかった。Thereafter, as shown in the step (D), the UV curable syrup 3 is exposed to ultraviolet rays (wavelength of 20) through the glass plate 5.
(0-400 nm) for 10 seconds to completely cure the syrup. When the glass plate 5 was manually removed from the optical disk substrate, an optical disk having a protective film of about 100 μm on the surface was obtained. [Evaluation Test] A series of evaluation tests were conducted according to the same method as that described in Example 1, and the measurement results as shown in Table 1 below were obtained. Comparative Example 1 The procedure described in Example 1 was repeated, but in this example,
For comparison, a UV-curable syrup was spin-coated on the surface of an optical disk substrate to a film thickness of 100 μm, and then irradiated with ultraviolet rays (wavelength 200 to 400 nm) for 10 seconds to completely cure the syrup. In this example, therefore, the glass plate was not used as a smoothness transfer mold.
【0040】前記実施例1に記載のものと同様な手法に
従って一連の評価試験を行ったところ、下記の第1表に
記載のような測定結果が得られた。比較例2
前記実施例1に記載の手法を繰り返したが、本例では、
比較のため、光ディスク基板の表面にUV硬化性シロッ
プ由来の保護膜を形成する代わりに、その基板の表面に
ポリカーボネートシート(厚さ:約70μm)を感圧接
着剤層(厚さ:約30μm)で接着して保護膜を形成し
た。When a series of evaluation tests were carried out according to the same method as that described in Example 1, the measurement results as shown in Table 1 below were obtained. Comparative Example 2 The procedure described in Example 1 was repeated, but in this example,
For comparison, instead of forming a UV-curable syrup-derived protective film on the surface of an optical disk substrate, a polycarbonate sheet (thickness: about 70 μm) is formed on the surface of the substrate with a pressure-sensitive adhesive layer (thickness: about 30 μm). To form a protective film.
【0041】前記実施例1に記載のものと同様な手法に
従って一連の評価試験を行ったところ、下記の第1表に
記載のような測定結果が得られた。When a series of evaluation tests were carried out in the same manner as in Example 1, the measurement results as shown in Table 1 below were obtained.
【0042】[0042]
【表1】 [Table 1]
【0043】上記第1表に記載の測定結果から明らかな
ように、本発明によると、従来の光ディスクに比較して
諸特性に優れた保護膜を有する光ディスクを得ることが
できる。As is apparent from the measurement results shown in Table 1 above, according to the present invention, it is possible to obtain an optical disc having a protective film which is excellent in various characteristics as compared with the conventional optical disc.
【0044】[0044]
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、薄く、膜厚の分布にバラツキがなく、かつ表面が平
滑な保護膜を備え、よって大容量化、高密度化に対応可
能な高品質の光記録媒体を提供することができる。ま
た、本発明によれば、このような高品質の光記録媒体を
簡単にかつ低コストで製造することができる。さらに、
本発明によれば、光記録媒体の製造時、保護膜にゴミが
付着したり、傷がついたり、折れ曲がりや放射状の欠陥
が生じたといった問題の発生を防止できる。As described above, according to the present invention, the protective film which is thin, has no variation in film thickness distribution, and has a smooth surface is provided, and thus it is possible to cope with a large capacity and a high density. It is possible to provide a high quality optical recording medium. Further, according to the present invention, such a high quality optical recording medium can be easily manufactured at low cost. further,
According to the present invention, it is possible to prevent problems such as dust, scratches, bending, and radial defects on the protective film during manufacturing of the optical recording medium.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】従来の光ディスクの製造方法における保護膜形
成時の問題点を示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a problem at the time of forming a protective film in a conventional optical disc manufacturing method.
【図2】本発明による光ディスクの一例とその使用を模
式的に示した断面図図である。FIG. 2 is a sectional view schematically showing an example of an optical disc according to the present invention and its use.
【図3】本発明による光ディスクの1つの好ましい製造
方法を順を追って示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view sequentially showing one preferable method of manufacturing an optical disc according to the present invention.
【図4】本発明による光ディスクのもう1つの好ましい
製造方法を順を追って示した断面図である。4A to 4C are cross-sectional views sequentially showing another preferable method of manufacturing an optical disc according to the present invention.
1…光ディスク基板 2…情報記録層 3…保護膜 5…表面処理媒体 10…光ディスク 13…ノズル 1 ... Optical disc substrate 2 ... Information recording layer 3 ... Protective film 5 ... Surface treatment medium 10 ... Optical disc 13 ... Nozzle
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高森 克也 神奈川県相模原市南橋本3−8−8 住友 スリーエム株式会社内 Fターム(参考) 5D029 LB07 LB20 LC11 5D121 AA04 EE22 EE23 GG02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Katsuya Takamori Sumitomo 3-8-8 Minami-Hashimoto, Sagamihara City, Kanagawa Prefecture Within 3M Co., Ltd. F-term (reference) 5D029 LB07 LB20 LC11 5D121 AA04 EE22 EE23 GG02
Claims (12)
録層とを備えた光記録媒体において、 前記情報記録層が、光透過性の樹脂材料からなる保護膜
をその表面に有するとともに、 前記保護膜が、50〜200μmのほぼ均一な厚さを有
しており、かつ該保護膜の形成時にその表面に被覆され
ていた表面処理媒体の表面の平滑性を再現した表面を有
していることを特徴とする光記録媒体。1. An optical recording medium comprising a substrate and an information recording layer formed on the substrate, wherein the information recording layer has a protective film made of a light transmissive resin material on its surface. The protective film has a substantially uniform thickness of 50 to 200 μm, and has a surface that reproduces the smoothness of the surface of the surface treatment medium that was coated on the surface when the protective film was formed. An optical recording medium characterized by the following.
保護膜形成性樹脂材料を塗布し、前記表面処理媒体の被
覆後に硬化させることによって形成されたものであるこ
とを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。2. The protective film is formed by applying a protective film-forming resin material on the surface of the information recording layer, and curing the resin after coating the surface treatment medium. Item 2. The optical recording medium according to item 1.
樹脂材料であり、前記表面処理媒体を透過した光により
硬化せしめられて前記保護膜を形成していることを特徴
とする請求項2に記載の光記録媒体。3. The protective film-forming resin material is a photocurable resin material, and is cured by light transmitted through the surface treatment medium to form the protective film. 2. The optical recording medium according to 2.
℃で1,000〜100,000cps であることを特徴
とする請求項2又は3に記載の光記録媒体。4. The viscosity of the protective film-forming resin material is 25.
The optical recording medium according to claim 2 or 3, wherein the optical recording medium has a temperature of 1,000 to 100,000 cps.
脂材料をその液体からスピンコート法によって適用した
ものであることを特徴とする請求項2〜4のいずれか1
項に記載の光記録媒体。5. A protective film-forming resin material is applied to the surface of the information recording layer from the liquid by a spin coating method, according to any one of claims 2 to 4.
An optical recording medium according to item.
報記録層及び保護膜とを備えた光記録媒体を製造する方
法において、下記の工程:前記情報記録層の表面に光透
過性の保護膜形成性樹脂材料を、得られる前記保護膜の
膜厚が50〜200μmとなるのに十分な量で塗布し、 前記保護膜形成性樹脂材料の層の表面に、前記保護膜に
おいて所望とする平滑度に対応する平滑度を表面におい
て有する表面処理媒体を被覆し、 前記基板と前記表面処理媒体を積層した状態の下で前記
保護膜形成性樹脂材料を硬化させて前記保護膜を形成
し、よって、前記表面処理媒体の表面の平滑性を前記保
護膜に転写し、 必要に応じて、前記表面処理媒体を取り除くことを含ん
でなることを特徴とする光記録媒体の製造方法。6. A method of manufacturing an optical recording medium comprising a substrate, and an information recording layer and a protective film sequentially formed on the substrate, the method comprising the steps of: transmitting light to the surface of the information recording layer. Of the protective film-forming resin material is applied in an amount sufficient to obtain a film thickness of the protective film of 50 to 200 μm, and the protective film-forming resin material is applied to the surface of the layer of the protective film-forming resin material in the desired protective film. The surface treatment medium having a smoothness corresponding to the surface smoothness is covered, and the protective film-forming resin material is cured under the state where the substrate and the surface treatment medium are laminated to form the protective film. Therefore, the method for producing an optical recording medium, which comprises transferring the smoothness of the surface of the surface-treated medium to the protective film and removing the surface-treated medium as necessary.
は異なる保護膜形成性樹脂材料を前記表面処理媒体の平
滑な表面にもさらに適用して、前記保護膜形成性樹脂材
料の2つの層の合計した厚さが前記保護膜の厚さとなる
ようにすることを特徴とする請求項6に記載の光記録媒
体の製造方法。7. The protective film-forming resin material, which is the same as or different from the protective film-forming resin material, is further applied to a smooth surface of the surface treatment medium to form two layers of the protective film-forming resin material. 7. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 6, wherein the total thickness is the thickness of the protective film.
前、前記保護膜形成性樹脂材料の2つの層のいずれか一
方を予め硬化させることを特徴とする請求項7に記載の
光記録媒体の製造方法。8. The optical recording medium according to claim 7, wherein either one of the two layers of the protective film-forming resin material is pre-cured before laminating the substrate and the surface treatment medium. Manufacturing method.
性の樹脂材料を使用し、前記表面処理媒体を透過した光
により該樹脂材料を硬化せしめて前記保護膜を形成する
ことを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の
光記録媒体の製造方法。9. A protective film is formed by using a photo-curable resin material as the protective film-forming resin material, and curing the resin material by light transmitted through the surface treatment medium. The method for manufacturing the optical recording medium according to claim 6.
前記表面処理媒体の表面に保護膜形成性樹脂材料をスピ
ンコート法によって塗布することを特徴とする請求項6
〜9のいずれか1項に記載の光記録媒体の製造方法。10. The information recording layer and, if necessary,
7. The protective film-forming resin material is applied to the surface of the surface treatment medium by a spin coating method.
10. The method for manufacturing an optical recording medium according to any one of items 9 to 10.
媒体を透過した光により硬化せしめられて保護膜を形成
可能であることを特徴とする光記録媒体用保護膜形成性
樹脂材料。11. A protective film-forming resin material for an optical recording medium, which is a photocurable resin material and can be cured by light transmitted through an adjacent medium to form a protective film.
000cps であることを特徴とする請求項11に記載の
光記録媒体用保護膜形成性樹脂材料。12. A viscosity of 1,000 to 100 at 25 ° C.,
The protective film forming resin material for an optical recording medium according to claim 11, wherein the resin material is 000 cps.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2002
- 2002-06-04 JP JP2002163347A patent/JP2003109251A/en active Pending
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