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JP2003188068A - Heat treatment apparatus for substrate - Google Patents

Heat treatment apparatus for substrate

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Publication number
JP2003188068A
JP2003188068A JP2001382424A JP2001382424A JP2003188068A JP 2003188068 A JP2003188068 A JP 2003188068A JP 2001382424 A JP2001382424 A JP 2001382424A JP 2001382424 A JP2001382424 A JP 2001382424A JP 2003188068 A JP2003188068 A JP 2003188068A
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JP
Japan
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hot plate
pin
substrate
heating surface
heat treatment
Prior art date
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Application number
JP2001382424A
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Japanese (ja)
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JP3904195B2 (en
Inventor
Makoto Fujiyoshi
誠 藤吉
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Hirata Corp
Original Assignee
Hirata Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat treatment apparatus for a substrate capable of easy replacement of a pin and easy adjusting of protrusion height of the pin from a hot plate heating surface, while a synthetic resin material is used for the pin that supports the substrate to keep a prescribed distance from the hot plate heating surface. <P>SOLUTION: Related to a heat treatment apparatus 1, a hot plate 2 is provided with multiple pins 9 which protrude from a heating surface 2a of the hot plate 2, and a substrate 4 so supported by the pins 9 as to keep a prescribed interval from the heating surface 2a of the hot plate 2 and heated by the hot plate 2. The pin 9 is made of synthetic resin material and screwed into the hot plate 2 from above the heating surface 2a of the hot plate 2. The central section of the top face of the pin 9 is a convex part 9b, with a groove 9c in which a rotary jig is inserted being formed symmetrically relative to the convex part 9b. A compression spring 10 is interposed between the pin 9 and the hot plate 2 to prevent the loosening of coupling with a screw between them. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本願の発明は、半導体ウエハや液
晶用ガラス基板等の基板を熱処理するための熱処理装置
に関し、特に加熱手段としてホットプレートが使用さ
れ、基板が該ホットプレートの加熱面と所定の間隔を置
いて支持されて、該ホットプレートにより加熱されるよ
うにされてなる基板の熱処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for liquid crystal, in particular, a hot plate is used as a heating means, and the substrate serves as a heating surface of the hot plate. The present invention relates to a heat treatment apparatus for a substrate which is supported at a predetermined interval and is heated by the hot plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の基板の熱処理装置においては、
従来、基板をホットプレートの加熱面と所定の間隔を置
いて支持する手段として、ピン(プロキシミティピンと
も呼ばれる)が用いられている。このピンの条件として
は、基板との接点ができるだけ小さく、非熱伝導性およ
び耐熱性に優れることが求められ、セラミックやルビー
などの素材を球形に成形したものなどが用いられてい
る。このようにして得られたピンは、ホットプレートの
加熱面に形成された多数の孔に、その球形の半分が加熱
面から上方に飛び出るようにして埋め込まれ、接着剤に
より固定されている。
2. Description of the Related Art In this type of substrate heat treatment apparatus,
Conventionally, pins (also called proximity pins) have been used as a means for supporting a substrate at a predetermined distance from the heating surface of a hot plate. As the condition of this pin, it is required that the contact point with the substrate is as small as possible and that it is excellent in non-thermal conductivity and heat resistance, and a material such as ceramic or ruby formed into a spherical shape is used. The pin thus obtained is embedded in a large number of holes formed on the heating surface of the hot plate so that half of its spherical shape is projected upward from the heating surface, and is fixed by an adhesive.

【0003】しかしながら、ピンの素材として、基板よ
り硬い材質の素材が使用されると、基板の裏面に傷を付
けてしまうため、好ましくない。そこで、非熱伝導性お
よび耐熱性に優れた樹脂製のピンが提案されている(特
開平8−279548号公報参照)。このピンは、ベス
ペルと呼ばれる樹脂の成形品であり、きのこ状に形成さ
れて、その頭部の断面形状が略台形もしくは略半円形状
にされ、その脚部が、ホットプレートの加熱面に形成さ
れた多数の孔に、容易には抜け出さないようにして埋め
込まれている。したがって、基板に接する部分であるピ
ン頭部が摩耗により擦り減ったり、熱劣化したときな
ど、ピンの交換は不可能でないとしても、ホットプレー
トの加熱面から上方に飛び出す高さの調整機能を有しな
い。
However, if a material harder than the substrate is used as the material of the pins, the back surface of the substrate is scratched, which is not preferable. Therefore, a resin pin having excellent non-thermal conductivity and heat resistance has been proposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-279548). This pin is a resin molded product called Vespel, and it is formed into a mushroom shape, and the cross-sectional shape of its head is roughly trapezoidal or semi-circular, and its legs are formed on the heating surface of the hot plate. It is embedded in a large number of holes formed so as not to easily come out. Therefore, even if it is not possible to replace the pin, such as when the pin head that is in contact with the board wears away due to wear or has deteriorated due to heat, there is a function to adjust the height that pops out from the heating surface of the hot plate. do not do.

【0004】ピンの交換やピンのホットプレート加熱面
からの飛出し高さの調整を可能にしたものとして、特開
平8−70007号公報に記載されたものがある。この
ものにおいては、ホットプレートが、加熱手段もしくは
冷却手段に接せられたメインプレートと、該メインプレ
ートの上面に載置されてピン収納用凹部を有するサブプ
レートとからなる。ピン収納用凹部は、サブプレートの
上面(加熱面)に開口するピンの直径よりも小さな開口
を有し、該開口を通してピンの頂部がサブプレートの上
面から上方に突出するようにして、ピンを収納してい
る。ピンの下部は、ピン支持部材により支持されてお
り、このピン支持部材のピン支持面位置を高低に調整す
ることにより、ピンがサブプレートの上面から上方に突
出する量を調整可能になっている。また、このピン支持
部材を取り外すことにより、ピンの交換が可能である。
Japanese Patent Laid-Open No. 8-70007 discloses a device capable of exchanging pins and adjusting the protrusion height of the pins from the hot plate heating surface. In this structure, the hot plate is composed of a main plate which is in contact with the heating means or the cooling means, and a sub plate which is placed on the upper surface of the main plate and has a pin accommodating recess. The pin accommodating recess has an opening smaller than the diameter of the pin that opens on the upper surface (heating surface) of the sub-plate, and the top of the pin projects upward from the upper surface of the sub-plate through the opening. It is stored. The lower part of the pin is supported by a pin support member, and by adjusting the position of the pin support surface of this pin support member to high or low, the amount by which the pin projects upward from the upper surface of the sub plate can be adjusted. . Also, the pins can be replaced by removing the pin support member.

【0005】しかしながら、このものにおいては、ピン
の交換やピンのホットプレート加熱面からの飛出し高さ
調整のために、ホットプレートをひっくり返して、サブ
プレートとメインプレートとを連結している固定ねじを
外し、サブプレートをメインプレートから分離するなど
の作業を要し、それらの作業がきわめて煩瑣となり、時
間を要するものとならざるを得ない。
However, in this device, the hot plate is turned over and fixed to connect the sub plate and the main plate in order to replace the pin or adjust the height of the pin protruding from the heating surface of the hot plate. Work such as removing screws and separating the sub-plate from the main plate is required, which is extremely complicated and time-consuming.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本願の発明は、従来の
基板の熱処理装置が有する前記のような問題点を解決し
て、ピンの素材として合成樹脂素材を使用しながら、ピ
ンの交換やピンのホットプレート加熱面からの飛出し高
さ調整の容易な基板の熱処理装置を提供することを課題
とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The invention of the present application solves the above-mentioned problems of the conventional heat treatment apparatus for a substrate, and uses a synthetic resin material as the material of the pin, while exchanging the pin and the pin. It is an object of the present invention to provide a substrate heat treatment apparatus in which the height of protrusion from the hot plate heating surface can be easily adjusted.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段および効果】本願の発明
は、前記のような課題を解決した基板の熱処理装置に係
り、その請求項1に記載された発明は、ホットプレート
に、該ホットプレートの加熱面から突出するようにして
多数のピンが配設され、前記ピンにより支持された基板
が、前記ホットプレートの加熱面と所定の間隔を置いて
支持されて、前記ホットプレートにより加熱されるよう
にされてなる基板の熱処理装置において、前記ピンは、
合成樹脂素材からなり、前記ホットプレートの加熱面の
上方から前記ホットプレートにねじ込まれて取り付けら
れていることを特徴とする基板の熱処理装置である。
The invention of the present application relates to a substrate heat treatment apparatus which solves the above-mentioned problems, and the invention described in claim 1 relates to a hot plate and a hot plate of the hot plate. A large number of pins are arranged so as to project from the heating surface, and the substrate supported by the pins is supported by the heating surface of the hot plate at a predetermined interval and is heated by the hot plate. In the heat treatment apparatus for a substrate, the pins are
A heat treatment apparatus for a substrate, which is made of a synthetic resin material and is mounted by being screwed onto the hot plate from above a heating surface of the hot plate.

【0008】請求項1に記載された発明は、前記のよう
に構成されているので、次のような効果を奏することが
できる。ピンは、合成樹脂素材からなるので、基板より
軟らかく、基板を支持するとき、基板の裏面を傷付ける
ことがない。これにより、基板の生産歩留りが向上す
る。また、ピンは、ホットプレートの加熱面の上方から
ホットプレートにねじ込まれて取り付けられているの
で、ホットプレートの加熱面の上方から、そのねじ込み
を緩めたり締め付けたりすることにより、ピンの交換作
業を容易に行なうことができる。さらに、ホットプレー
トの加熱面の上方から、そのねじ込み量を調整すること
により、ピンがホットプレートの加熱面から飛び出す
(突出する)高さを容易に調整することができ、ピンの
頭部の摩耗等による飛び出し量の変動にも、個々に、随
時に、自在に対処することができる。
Since the invention described in claim 1 is configured as described above, the following effects can be obtained. Since the pins are made of a synthetic resin material, they are softer than the substrate and do not damage the back surface of the substrate when supporting the substrate. This improves the production yield of substrates. Also, since the pin is screwed onto the hot plate from above the heating surface of the hot plate, the pin can be replaced by loosening or tightening the screw from above the heating surface of the hot plate. It can be done easily. Furthermore, by adjusting the screwing amount from above the heating surface of the hot plate, it is possible to easily adjust the height at which the pin pops out (projects) from the heating surface of the hot plate, and the pin head wear It is possible to freely deal with the fluctuation of the pop-out amount due to the above, individually and at any time.

【0009】また、請求項2に記載のように請求項1に
記載の発明を構成することにより、ピンは、その頂面の
中央部が丸みのある凸部とされ、該凸部を挟んで対称の
位置に、回転治具挿入用の凹溝が形成されたものとされ
る。
Further, by constructing the invention according to claim 1 as described in claim 2, the pin has a rounded convex portion at the center of its top surface, and sandwiches the convex portion. A concave groove for inserting a rotary jig is formed at a symmetrical position.

【0010】この結果、ピンが基板を支持するとき、ピ
ンが基板と接する接点を比較的小さくすることができ、
ピンを介した熱伝導が基板の均一加熱に及ぼす影響を無
視し得る程度に小さくすることができる。また、ピンの
頂面中央部の凸部を挟んで対称の位置に回転治具挿入用
の凹溝が形成されているので、この凹溝に回転治具の一
対の爪部(引掛け部)を挿入して、該回転治具を正逆回
転させることにより、ピンを容易にねじ込み、また、引
き出すことができ、ピンの交換やピンの飛び出し量調整
をきわめて容易に行なうことができる。
As a result, when the pin supports the substrate, the contact point where the pin contacts the substrate can be made relatively small.
The effect of heat conduction through the pins on the uniform heating of the substrate can be made negligible. Further, since the concave groove for inserting the rotary jig is formed at symmetrical positions with the convex portion at the center of the top surface of the pin interposed, a pair of claw portions (hooking portions) of the rotary jig are formed in the concave groove. By inserting and rotating the rotary jig in the forward and reverse directions, the pin can be easily screwed in and pulled out, and the pin can be replaced and the protruding amount of the pin can be adjusted very easily.

【0011】さらに、請求項3に記載のように請求項1
または請求項2に記載の発明を構成することにより、ピ
ンとホットプレートとの間に、これらの間のねじ結合の
緩みを防止するための圧縮ばねが介装される。
Further, as described in claim 3, claim 1
Alternatively, the compression spring for preventing the loosened screw connection between the pin and the hot plate is interposed between the pin and the hot plate.

【0012】この結果、ピンとホットプレートとの間の
ねじ結合は、圧縮ばねの復元力により、常時緊張関係に
保たれるので、そのねじ結合が緩むことがなく、ピンの
振れやピンがホットプレートの加熱面から飛び出す(突
出する)高さの変動を抑えることができる。これによ
り、基板の均一加熱をさらに容易にすることができると
ともに、ピンが基板と擦れ合って、基板の裏面を傷付け
るような虞もさらに低減される。
As a result, the screw connection between the pin and the hot plate is always kept in a tension relationship by the restoring force of the compression spring, so that the screw connection is not loosened, and the runout of the pin and the pin become hot plate. It is possible to suppress the fluctuation of the height that jumps out (protrudes) from the heating surface of. Thereby, the uniform heating of the substrate can be further facilitated, and the possibility that the pins rub against the substrate and damage the back surface of the substrate is further reduced.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に、図1ないし図6に図示され
る本願の請求項1ないし請求項3に記載された発明の一
実施形態について説明する。図1は、本実施形態におけ
る基板の熱処理装置の平面図、図2は、図1のII−I
I線矢視断面図、図3は、ピンの正面図、図4は、同左
側面図、図5は、同平面図、図6は、図1のVI−VI
線矢視断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of the invention described in claims 1 to 3 of the present application shown in FIGS. 1 to 6 will be described. FIG. 1 is a plan view of a substrate heat treatment apparatus according to this embodiment, and FIG. 2 is a II-I of FIG.
1 is a front view of the pin, FIG. 4 is a left side view of the same, FIG. 5 is a plan view of the same, and FIG. 6 is VI-VI of FIG.
FIG.

【0014】本実施形態における基板の熱処理装置は、
半導体ウエハや液晶用ガラス基板等の基板を熱処理する
ために使用される。例えば、基板にフォトレジスト膜が
塗布された状態で、この塗膜中の溶剤を飛ばすために、
基板を加熱するのに使用される。この加熱は、後の現像
工程において、現像ムラが生じないようにするために、
できるだけ均一に行なわれることが求められる。加熱手
段としては、ホットプレートが使用され、基板がホット
プレートの加熱面と所定の間隔を置いて支持されて、該
ホットプレートにより、近接した位置から専ら輻射熱伝
達を通して加熱されるようになっている。
The substrate heat treatment apparatus in this embodiment is
It is used for heat treating substrates such as semiconductor wafers and glass substrates for liquid crystals. For example, in order to remove the solvent in this coating film with the photoresist film coated on the substrate,
Used to heat the substrate. This heating is performed in order to prevent uneven development in the subsequent developing process.
It is required to be performed as uniformly as possible. A hot plate is used as the heating means, and the substrate is supported at a predetermined distance from the heating surface of the hot plate, and is heated by the hot plate from a close position exclusively through radiation heat transfer. .

【0015】本実施形態における基板の熱処理装置1に
使用されるホットプレート2は、図1に図示されるよう
に、その平面視長方形状の金属製プレートの内部に複数
のヒーター素子3が平行に埋設されており、これら複数
のヒーター素子3の発熱により高温に加熱されたプレー
トが、該プレートと所定のわずかの間隔を置いて支持さ
れた基板4を均一に輻射加熱する。ホットプレート2お
よび基板4の寸法は、縦、横いずれも1000mmを越
える大きさである。
As shown in FIG. 1, the hot plate 2 used in the substrate heat treatment apparatus 1 of this embodiment has a plurality of heater elements 3 arranged in parallel inside a rectangular metal plate in plan view. The plate, which is embedded and is heated to a high temperature by the heat generated by the plurality of heater elements 3, uniformly radiatively heats the substrate 4 supported at a predetermined small distance from the plate. The dimensions of the hot plate 2 and the substrate 4 are over 1000 mm in both length and width.

【0016】ホットプレート2には、その四辺に沿って
所定間隔置きにリフトピン8(図6参照)を挿通させる
円孔6が形成されている。また、ホットプレート2の中
央部にも、中心点を囲う4個所に同様の円孔6が形成さ
れている。これらの円孔6には、図6に図示されるよう
に、リフトピン8が上下動可能なように挿通されてい
て、基板4が図示されない搬送装置によりホットプレー
ト2上に搬送されて来ると、全てのリフトピン8が円孔
6内を同時に上昇して、該基板4を、その周辺部と中央
部において受ける。次いで、これらのリフトピン8が円
孔6内を同時に下降して、該基板4を後述する複数のピ
ン9(図2参照)上に移載する。その後、リフトピン8
は円孔6内をさらに下降して、所定位置において待機す
る。基板4が複数の支持ピン9上に移載されることによ
り、基板4は、ホットプレート2上に該ホットプレート
2の上面(加熱面)2a と所定の小さい間隔を置いて支
持されることになる。
The hot plate 2 is formed with circular holes 6 along its four sides through which the lift pins 8 (see FIG. 6) are inserted at predetermined intervals. Further, in the central portion of the hot plate 2 as well, similar circular holes 6 are formed at four locations surrounding the central point. As shown in FIG. 6, lift pins 8 are vertically movably inserted into these circular holes 6, and when the substrate 4 is transferred onto the hot plate 2 by a transfer device (not shown), All the lift pins 8 simultaneously rise in the circular hole 6 to receive the substrate 4 at its peripheral portion and central portion. Next, the lift pins 8 simultaneously descend in the circular hole 6 and transfer the substrate 4 onto a plurality of pins 9 (see FIG. 2) described later. Then lift pin 8
Moves further down in the circular hole 6 and stands by at a predetermined position. By mounting the substrate 4 on the plurality of support pins 9, the substrate 4 is supported on the hot plate 2 with a predetermined small distance from the upper surface (heating surface) 2a of the hot plate 2. Become.

【0017】ホットプレート2には、また、その全域に
渡って、碁盤目状に、基板4を支持するために使用され
るピン9を植設するための多数のねじ孔7が形成されて
いる。このねじ孔7は、円孔6と異なり、ホットプレー
ト2を貫通しておらず、有底円孔として形成され、か
つ、その内周面には、雌ねじ7a が刻設されている。こ
の雌ねじ7a は、ピン9をねじ孔7にねじ込むとき、ピ
ン9の雄ねじ部(後述する雄ねじ9a )と螺合する。碁
盤目の目と目の間隔は、基板4が全てのピン9により支
持されたとき、偏平な基板4が全面に渡って必要な平滑
度を保つに十分な小さい距離にされる。
The hot plate 2 is also provided with a large number of screw holes 7 for arranging pins 9 used for supporting the substrate 4 in a grid pattern over the entire area thereof. . Unlike the circular hole 6, the screw hole 7 does not penetrate the hot plate 2, is formed as a bottomed circular hole, and has an internal thread 7a formed on the inner peripheral surface thereof. When the pin 9 is screwed into the screw hole 7, the female screw 7a is screwed with the male screw portion of the pin 9 (male screw 9a described later). The distance between the squares of the cross is made small enough to maintain the required smoothness over the entire surface of the flat substrate 4 when the substrate 4 is supported by all the pins 9.

【0018】図2には、ピン9がねじ孔7にねじ込まれ
た状態が断面図で示されている。また、図3〜図5に
は、ピン9の構造が正面図、側面図、平面図により図示
されている。これらの図から明らかなように、ピン9
は、上方の大径部と下方の小径部とを有する段付き円柱
体からなり、上方の大径部には、ねじ孔7の雌ねじ7a
と螺合し合う雄ねじ9a が刻設されている。また、その
頂面の中央部は、丸みのある凸部9b とされ、該凸部9
b を挟んで対称の位置に、ピン9をねじ孔7にねじ込む
ときに使用される回転治具(図示されず)の一対の爪部
(引掛け部)が挿入される凹溝9c が穿設されている。
この凹溝9c は、ピン9の大径部の外周面を削り落とし
て側方に開放するようにして形成されている。ピン9
は、基板4より軟らかく、非熱伝導性、耐熱性、耐摩耗
性に優れた合成樹脂素材からなり、好ましくは、ベスペ
ル素材が使用される。
FIG. 2 is a sectional view showing a state in which the pin 9 is screwed into the screw hole 7. 3 to 5, the structure of the pin 9 is shown in a front view, a side view, and a plan view. As is clear from these figures, pin 9
Is a stepped cylindrical body having an upper large diameter portion and a lower small diameter portion, and the upper large diameter portion has a female screw 7a of a screw hole 7.
A male screw 9a is engraved to be screwed with. The central portion of the top surface is a rounded convex portion 9b.
A concave groove 9c into which a pair of claws (hooking parts) of a rotating jig (not shown) used when screwing the pin 9 into the screw hole 7 is inserted is provided at a symmetrical position with b sandwiched therebetween. Has been done.
The groove 9c is formed by scraping off the outer peripheral surface of the large diameter portion of the pin 9 and opening it laterally. Pin 9
Is made of a synthetic resin material that is softer than the substrate 4 and has excellent non-thermal conductivity, heat resistance, and abrasion resistance, and a Vespel material is preferably used.

【0019】このような構造を有するピン9は、ホット
プレート2の加熱面2a の上方から該ホットプレート2
に形成されたねじ孔7にねじ込まれて、該ホットプレー
ト2に植設されて取り付けられる。ピン9のねじ孔7へ
のねじ込み量は、ピン9の頂面中央部に形成された凸部
9b の先端がホットプレート2の加熱面2a から所定の
距離dだけ突出するような量であり、これにより、基板
4は、ホットプレート2の加熱面2a と所定の間隔dを
置いてピン9により支持される。「所定の間隔d」は、
通常、0.1mm〜0.5mmのオーダーであり、これ
だけの間隔を通して、基板4は、ホットプレート2によ
る輻射加熱(プロキシミティベーク)を受ける。そし
て、その板面の全域に渡って均一に加熱される。
The pin 9 having such a structure is installed on the hot plate 2 from above the heating surface 2a.
It is screwed into the screw hole 7 formed in the, and is planted and attached to the hot plate 2. The amount of screwing the pin 9 into the screw hole 7 is such that the tip of the convex portion 9b formed at the center of the top surface of the pin 9 protrudes from the heating surface 2a of the hot plate 2 by a predetermined distance d. As a result, the substrate 4 is supported by the pins 9 at a predetermined distance d from the heating surface 2a of the hot plate 2. "Predetermined interval d" is
Usually, it is on the order of 0.1 mm to 0.5 mm, and the substrate 4 is subjected to radiant heating (proximity bake) by the hot plate 2 through such an interval. Then, the entire surface of the plate is heated uniformly.

【0020】以上の説明から明らかなとおり、ピン9
は、段付き円柱体からなるねじピンとして構成される。
ピン9の長さは、ピン9の先端がねじ孔7の底部7b に
達するまでねじ込まれたとき、その頂面中央部の凸部9
b の先端がホットプレート2の加熱面2a から、丁度、
前記した「所定の距離d」だけ突出するような寸法に設
定されるのがよい。
As is clear from the above description, the pin 9
Is configured as a screw pin consisting of a stepped cylinder.
The length of the pin 9 is such that when the tip of the pin 9 is screwed in until it reaches the bottom 7b of the screw hole 7, the protrusion 9 at the center of the top surface thereof is
The tip of b is exactly from the heating surface 2a of the hot plate 2,
It is preferable to set the dimensions such that the above-mentioned “predetermined distance d” is projected.

【0021】ピン9がホットプレート2のねじ孔7にね
じ込まれたとき、これらの間のねじ結合が緩まないよう
に、ピン9とねじ孔7との間に圧縮ばね10が介装されて
いる。この圧縮ばね10は、実際には、ピン9の小径部に
外装されて、これにより案内されつつ、ねじ孔7の底部
7b とピン9の大径部・小径部間の段部9d との間に縮
設されている。ピン9とねじ孔7との間のねじ結合の緩
みを防止する手段は、これに限らず、その外にも種々考
えられるが、圧縮ばね10の使用は、簡便に実施すること
ができて、好ましい。
A compression spring 10 is interposed between the pin 9 and the screw hole 7 so that when the pin 9 is screwed into the screw hole 7 of the hot plate 2, the screw connection between them is not loosened. . The compression spring 10 is actually mounted on the small diameter portion of the pin 9 and guided by the space between the bottom portion 7b of the screw hole 7 and the step portion 9d between the large diameter portion and the small diameter portion of the pin 9. Has been reduced to. The means for preventing the loosening of the screw connection between the pin 9 and the screw hole 7 is not limited to this, and various other means are conceivable. However, the use of the compression spring 10 can be carried out easily. preferable.

【0022】ホットプレート2の加熱面2a 上には、ま
た、その4つの角部の各々に、基板4の水平方向の位置
決めと位置ずれ防止を兼ねた突出片5が一対設けられて
いる。さらに、その4つの角部のうちの対角線上にある
いずれの2つの角部の各々にも、透過型センサ11の発光
部11a と受光部11b とがそれぞれ設置されている。これ
らの透過型センサ11は、基板4がホットプレート2上に
存在することを確認する。
On the heating surface 2a of the hot plate 2, a pair of projecting pieces 5 are provided at each of the four corners thereof for positioning the substrate 4 in the horizontal direction and preventing displacement. Further, the light emitting portion 11a and the light receiving portion 11b of the transmissive sensor 11 are installed at each of two diagonal corners of the four corners. These transmissive sensors 11 confirm that the substrate 4 is on the hot plate 2.

【0023】本実施形態は、前記のように構成されてい
るので、次のような効果を奏することができる。ピン9
は、合成樹脂素材からなるので、基板4より軟らかく、
基板4を支持するとき、基板4の裏面を傷付けることが
ない。これにより、基板4の生産歩留りが向上する。ま
た、ピン9は、ホットプレート2の加熱面2a の上方か
らホットプレート2にねじ込まれて取り付けられている
ので、ホットプレート2の加熱面2a の上方から、その
ねじ込みを緩めたり締め付けたりすることにより、ピン
4の交換作業を容易に行なうことができる。さらに、ホ
ットプレート2の加熱面2a の上方から、そのねじ込み
量を調整することにより、ピン9がホットプレート2の
加熱面2a から飛び出す(突出する)高さを容易に調整
することができ、ピン9の頭部の摩耗等による飛び出し
量の変動にも、個々に、随時に、自在に対処することが
できる。
Since this embodiment is constructed as described above, the following effects can be obtained. Pin 9
Is made of synthetic resin material, so it is softer than the substrate 4,
When supporting the substrate 4, the back surface of the substrate 4 is not damaged. This improves the production yield of the substrates 4. Further, since the pin 9 is attached to the hot plate 2 by screwing it from above the heating surface 2a of the hot plate 2, by loosening or tightening the screw from above the heating surface 2a of the hot plate 2. The replacement work of the pins 4 can be easily performed. Furthermore, by adjusting the screwing amount from above the heating surface 2a of the hot plate 2, it is possible to easily adjust the height at which the pin 9 projects (projects) from the heating surface 2a of the hot plate 2, It is possible to freely deal with the fluctuation of the pop-out amount due to wear of the head of 9 and the like, individually and at any time.

【0024】また、ピン9は、その頂面の中央部が丸み
のある凸部9b とされ、該凸部9bを挟んで対称の位置
に、回転治具挿入用の凹溝9c が穿設されているので、
ピン9が基板4を支持するとき、ピン9が基板4と接す
る接点を比較的小さくすることができ、ピン9を介した
熱伝導が基板4の均一加熱に及ぼす影響を無視し得る程
度に小さくすることができる。また、凹溝9c に回転治
具の一対の爪部(引掛け部)を挿入して、該回転治具を
正逆回転させることにより、ピン9を容易にねじ込み、
また、引き出すことができ、ピン9の交換やピン9の飛
び出し量調整をきわめて容易に行なうことができる。
Further, the pin 9 has a rounded convex portion 9b at the center of its top surface, and a concave groove 9c for inserting a rotary jig is bored at a symmetrical position with the convex portion 9b sandwiched therebetween. Because
When the pin 9 supports the substrate 4, the contact point where the pin 9 contacts the substrate 4 can be made relatively small, and the effect of heat conduction via the pin 9 on the uniform heating of the substrate 4 is negligible. can do. Also, by inserting a pair of claw portions (hooking portions) of the rotary jig into the groove 9c and rotating the rotary jig in the forward and reverse directions, the pin 9 can be easily screwed in.
Further, the pin 9 can be pulled out, and the replacement of the pin 9 and the adjustment of the protruding amount of the pin 9 can be performed very easily.

【0025】さらに、ピン9とホットプレート2との間
に、これらの間のねじ結合の緩みを防止するための圧縮
ばね10が介装されているので、ピン9とホットプレート
2との間のねじ結合は、圧縮ばね10の復元力により常時
緊張関係に保たれ、そのねじ結合が緩むことがなく、ピ
ン9の振れやピン9がホットプレート2の加熱面から飛
び出す(突出する)高さの変動を抑えることができる。
これにより、基板4の均一加熱をさらに容易にすること
ができるとともに、ピン9が基板4と擦れ合って、基板
4の裏面を傷付けるような虞もさらに低減される。
Further, since the compression spring 10 for preventing loosening of the screw connection between the pin 9 and the hot plate 2 is interposed, the compression spring 10 between the pin 9 and the hot plate 2 is interposed. The screw connection is always kept in a tension relationship by the restoring force of the compression spring 10. The screw connection does not loosen, and the pin 9 swings or the height of the pin 9 protruding (protruding) from the heating surface of the hot plate 2 is increased. Fluctuations can be suppressed.
Thereby, the uniform heating of the substrate 4 can be further facilitated, and the possibility that the pins 9 rub against the substrate 4 and damage the back surface of the substrate 4 is further reduced.

【0026】なお、本実施形態においては、ピン9の頂
面中央部の凸部9b を挟んで対称の位置に、回転治具挿
入用の凹溝9c が穿設されることとされたが、これに限
定されず、回転治具の一対の爪部(引掛け部)の形状に
応じて各種形状の凹溝が形成されることができる。例え
ば、円孔状の溝、角孔状の溝が同位置に穿設されてもよ
い。その他、本願の発明の要旨を逸脱しない範囲におい
て、種々の変形が可能である。
In this embodiment, the concave groove 9c for inserting the rotary jig is provided at symmetrical positions with the convex portion 9b at the center of the top surface of the pin 9 interposed therebetween. The present invention is not limited to this, and the concave grooves of various shapes can be formed according to the shapes of the pair of claw portions (hooking portions) of the rotating jig. For example, a circular hole-shaped groove and a square hole-shaped groove may be formed at the same position. Besides, various modifications can be made without departing from the scope of the invention of the present application.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本願の請求項1ないし請求項3に記載された発
明の一実施形態における基板の熱処理装置の平面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view of a heat treatment apparatus for a substrate according to an embodiment of the invention described in claims 1 to 3 of the present application.

【図2】図1のII−II線矢視断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG.

【図3】ピンの正面図である。FIG. 3 is a front view of a pin.

【図4】同左側面図である。FIG. 4 is a left side view of the same.

【図5】同平面図である。FIG. 5 is a plan view of the same.

【図6】図1のVI−VI線矢視断面図である。6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…熱処理装置、2…ホットプレート、2a …ホットプ
レート上面(加熱面)、3…ヒーター素子、4…基板、
5…突出片、6…円孔、7…ねじ孔、7a …雌ねじ、7
b …底部、8…リフトピン、9…(支持)ピン、9a …
雄ねじ、9b …凸部、9c …凹溝、9d …段部、10…圧
縮ばね、11…透過型センサ、11a …発光部、11b…受光
部。
1 ... Heat treatment apparatus, 2 ... Hot plate, 2a ... Hot plate upper surface (heating surface), 3 ... Heater element, 4 ... Substrate,
5 ... Projecting piece, 6 ... Circular hole, 7 ... Screw hole, 7a ... Female screw, 7
b ... bottom part, 8 ... lift pin, 9 ... (support) pin, 9a ...
Male screw, 9b ... convex portion, 9c ... concave groove, 9d ... step portion, 10 ... compression spring, 11 ... transmissive sensor, 11a ... light emitting portion, 11b ... light receiving portion.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ホットプレートに、該ホットプレートの
加熱面から突出するようにして多数のピンが配設され、
前記ピンにより支持された基板が、前記ホットプレート
の加熱面と所定の間隔を置いて支持されて、前記ホット
プレートにより加熱されるようにされてなる基板の熱処
理装置において、 前記ピンは、合成樹脂素材からなり、前記ホットプレー
トの加熱面の上方から前記ホットプレートにねじ込まれ
て取り付けられていることを特徴とする基板の熱処理装
置。
1. A plurality of pins are arranged on a hot plate so as to project from a heating surface of the hot plate,
In the substrate heat treatment apparatus, wherein the substrate supported by the pins is supported at a predetermined distance from the heating surface of the hot plate and is heated by the hot plate, the pins are made of synthetic resin. A heat treatment apparatus for a substrate, which is made of a material and is screwed and attached to the hot plate from above a heating surface of the hot plate.
【請求項2】 前記ピンは、その頂面の中央部が丸みの
ある凸部とされ、前記凸部を挟んで対称の位置に、回転
治具挿入用の凹溝が形成されたことを特徴とする請求項
1に記載の基板の熱処理装置。
2. The pin has a rounded convex portion at the center of its top surface, and concave grooves for inserting a rotary jig are formed at symmetrical positions with the convex portion sandwiched therebetween. The heat treatment apparatus for a substrate according to claim 1.
【請求項3】 前記ピンと前記ホットプレートとの間
に、これらの間のねじ結合の緩みを防止するための圧縮
ばねが介装されたことを特徴とする請求項1または請求
項2に記載の基板の熱処理装置。
3. The compression spring according to claim 1 or 2, wherein a compression spring is interposed between the pin and the hot plate to prevent loosening of a screw connection therebetween. Substrate heat treatment equipment.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006074003A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Lg Phillips Lcd Co Ltd Soft-bake equipment provided with substrate supporting pin, and baking method using the equipment
US7050147B2 (en) * 2004-07-08 2006-05-23 Asml Netherlands B.V. Method of adjusting a height of protrusions on a support surface of a support table, a lithographic projection apparatus, and a support table for supporting an article in a lithographic apparatus
JP2007226128A (en) * 2006-02-27 2007-09-06 Toppan Printing Co Ltd Hot plate for manufacturing color filter, and method for manufacturing the color filter
CN106298624A (en) * 2015-06-29 2017-01-04 沈阳拓荆科技有限公司 A kind of wafer support mechanism being conveniently replaceable
JP2018011028A (en) * 2016-07-15 2018-01-18 株式会社村田製作所 Dielectric thin film and method for manufacturing thin film capacitor
CN113818003A (en) * 2020-06-19 2021-12-21 拓荆科技股份有限公司 Film preparation method and equipment
KR20230094042A (en) * 2021-12-20 2023-06-27 주식회사 한화 Substrate Supporting Apparatus

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7050147B2 (en) * 2004-07-08 2006-05-23 Asml Netherlands B.V. Method of adjusting a height of protrusions on a support surface of a support table, a lithographic projection apparatus, and a support table for supporting an article in a lithographic apparatus
JP2006074003A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Lg Phillips Lcd Co Ltd Soft-bake equipment provided with substrate supporting pin, and baking method using the equipment
US8148665B2 (en) 2004-08-31 2012-04-03 Lg Display Co., Ltd. Apparatus and method for soft baking photoresist on substrate
JP2007226128A (en) * 2006-02-27 2007-09-06 Toppan Printing Co Ltd Hot plate for manufacturing color filter, and method for manufacturing the color filter
CN106298624A (en) * 2015-06-29 2017-01-04 沈阳拓荆科技有限公司 A kind of wafer support mechanism being conveniently replaceable
JP2018011028A (en) * 2016-07-15 2018-01-18 株式会社村田製作所 Dielectric thin film and method for manufacturing thin film capacitor
CN113818003A (en) * 2020-06-19 2021-12-21 拓荆科技股份有限公司 Film preparation method and equipment
KR20230094042A (en) * 2021-12-20 2023-06-27 주식회사 한화 Substrate Supporting Apparatus
KR102693000B1 (en) * 2021-12-20 2024-08-08 한화모멘텀 주식회사 Substrate Supporting Apparatus

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