JP2003016608A

JP2003016608A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2003016608A
Application number: JP2001197291A
Authority: JP
Inventors: Keiichi Sato; 慶一佐藤; Tetsuya Roppongi; 哲也六本木
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2001-06-28
Filing date: 2001-06-28
Publication date: 2003-01-17

Abstract

(57)【要約】【課題】磁極部分より発生される、記録媒体の面に垂
直な方向の磁界を大きくする。【解決手段】薄膜磁気ヘッドは、第１の磁性層８およ
び第２の磁性層１４と、第１の磁性層８と第２の磁性層
１４との間に設けられたギャップ層９と、一部が第１の
磁性層８および第２の磁性層１４の間に設けられた薄膜
コイル１０とを備えている。第２の磁性層１４は、媒体
対向面ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａと、媒体対向
面ＡＢＳに露出せずに、連結部１４Ｃを介して磁極部分
層１４Ａと第１の磁性層８とを磁気的に接続するヨーク
部分層１４Ｂとを有している。ヨーク部分層１４Ｂは、
磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面に磁気的に接続
されている。ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側
の端面は、磁極部分層１４Ａから離れるに従って徐々に
媒体対向面ＡＢＳから離れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも書込み
用の誘導型電磁変換素子を有する薄膜磁気ヘッドおよび
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録再生装置における記録方式に
は、信号磁化の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）
とする長手磁気記録方式と、信号磁化の向きを記録媒体
の面に対して垂直な方向とする垂直磁気記録方式とがあ
る。垂直磁気記録方式は、長手磁気記録方式に比べて、
記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、高い線記録密
度を実現することが可能であると言われている。

【０００３】長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドは、
一般的に、記録媒体に対向する媒体対向面（エアベアリ
ング面）と、互いに磁気的に連結され、媒体対向面側に
おいてギャップ部を介して互いに対向する磁極部分を含
む第１および第２の磁性層と、少なくとも一部が第１お
よび第２の磁性層の間に、第１および第２の磁性層に対
して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備えた
構造になっている。

【０００４】一方、垂直磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッ
ドには、長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドと同様の
構造のリングヘッドと、一つの主磁極によって記録媒体
の面に対して垂直方向の磁界を印加する単磁極ヘッドと
がある。単磁極ヘッドを用いる場合には、記録媒体とし
ては一般的に、基板上に軟磁性層と磁気記録層とを積層
した２層媒体が用いられる。

【０００５】ところで、近年の高記録密度化に伴い、薄
膜磁気ヘッドではトラック幅の縮小が望まれている。そ
のため、上記単磁極ヘッドにおいても主磁極の幅の縮小
が望まれている。しかしながら、従来、主磁極の幅の縮
小を妨げる以下の２つの問題点があった。

【０００６】第１の問題点は、主磁極の幅を例えば０．
５μｍ以下とするような主磁極の高精度のパターニング
が困難なことである。すなわち、主磁極は、例えば、フ
ォトリソグラフィ技術によって形成されたレジストフレ
ームを用いて、電気めっき法（フレームめっき法）によ
って形成される。ところが、従来、主磁極は、コイルを
覆って盛り上がった絶縁層の上に形成されるため、レジ
ストフレームも凹凸の高低差の大きな絶縁層の上に形成
されることになる。この場合、レジストの膜厚を均一に
することは難しいため、レジストフレームを精度よくパ
ターニングすることが難しい。そのため、主磁極の高精
度のパターニングが困難になる。

【０００７】第２の問題点は、主磁極の幅を縮小する
と、磁束が主磁極の先端に到達する前に飽和してしま
い、媒体対向面において主磁極の先端より発生される磁
界が小さくなることである。

【０００８】従来、長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッ
ドにおいても同様な問題点があった。この問題点を解決
するために、長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドで
は、一方の磁性層を、媒体対向面に露出する磁極部分を
含み、媒体対向面における幅がトラック幅を規定する磁
極部分層と、この磁極部分層へ磁束を導くヨーク部分層
とに分けた構造が多く採用されている。この構造によれ
ば、磁極部分層の飽和磁束密度をヨーク部分層の飽和磁
束密度よりも大きくすることで磁束を効率的に磁極部分
の先端まで導くことが可能になり、且つ幅の小さな磁極
部分を形成することが可能になる。

【０００９】上述のような長手磁気記録方式用の薄膜磁
気ヘッドの例は、例えば特開２０００−５７５２２号公
報や特開２００１−６７６１４号公報に示されている。
特開２０００−５７５２２号公報に示された薄膜磁気ヘ
ッドでは、ヨーク部分層は、磁極部分層のギャップ部と
は反対側の面および幅方向の両側面で、磁極部分層に対
して磁気的に接続されている。特開２００１−６７６１
４号公報に示された薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層
は、磁極部分層のギャップ部とは反対側の面で、磁極部
分層に対して磁気的に接続されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】垂直磁気記録方式用の
ヘッドでは、記録媒体の面に対して垂直な方向の磁界を
大きくすることが重要である。しかしながら、前記の特
開２０００−５７５２２号公報や特開２００１−６７６
１４号公報に示された薄膜磁気ヘッドは、いずれも、構
造上、長手磁気記録方式用のヘッドであり、垂直磁気記
録方式には適していない。具体的に説明すると、各公報
に示された薄膜磁気ヘッドでは、いずれも、トラック方
向についてのギャップ部の長さが短いと共に、ヨーク部
分層はコイルを迂回するように配置され、必ず磁極部分
層のギャップ部とは反対側の面に対して磁気的に接続さ
れる。そのため、各公報に示された薄膜磁気ヘッドで
は、磁極部分より発生される、記録媒体の面に垂直な方
向の磁界が小さくなるという問題点がある。

【００１１】また、磁極部分層とヨーク部分層とを有す
る長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドでは、特開２０
０１−６７６１４号公報に記載されているように、磁束
を効率よくヨーク部分層から磁極部分層に伝達するため
に、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面が媒体対向面に
対して平行であることが好ましいと考えられていた。

【００１２】しかしながら、垂直磁気記録方式用のヘッ
ドにおいて、一方の磁性層が磁極部分層とヨーク部分層
とを有し、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面が媒体対
向面に対して平行となる構成にする場合には、以下のよ
うな問題点がある。

【００１３】まず、磁極部分から発生される磁界を大き
くするためには、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面
を、できるだけ媒体対向面に近づける必要がある。しか
しながら、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面が媒体対
向面に対して平行な場合には、この端面を媒体対向面に
近づけすぎると、ヨーク部分層の端面から、磁極部分層
を経由せずに、直接、記録媒体へ磁束が漏れてしまい、
この磁束によって記録媒体において情報の記録が行われ
てしまう。そのため、ヨーク部分層の媒体対向面側の端
面が媒体対向面に対して平行な場合には、この端面を媒
体対向面から適当な位置まで離す必要があり、そのた
め、磁極部分から発生される磁界をあまり大きくするこ
とができないという問題点がある。

【００１４】また、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面
が媒体対向面に対して平行な場合には、ヨーク部分層の
媒体対向面側の端面とこれに直交する面とによって、９
０°の角度を有するエッジが形成される。そのため、ヨ
ーク部分層の媒体対向面側の端面が媒体対向面に対して
平行な場合には、エッジの近傍で、磁束の漏れが生じた
り、渦電流が発生したりして、磁極部分における磁界発
生の効率が低下するという問題点がある。

【００１５】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、磁極部分より発生される、記録媒体
の面に垂直な方向の磁界を大きくすることができるよう
にした薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供するこ
とにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行
方向の前後に所定の間隔を開けて互いに対向するように
配置された磁極部分を含むと共に、媒体対向面から離れ
た位置において互いに磁気的に連結された第１および第
２の磁性層と、非磁性材料よりなり、第１の磁性層と第
２の磁性層との間に設けられたギャップ層と、少なくと
も一部が第１および第２の磁性層の間に、第１および第
２の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コ
イルとを備え、第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体
対向面に露出する磁極部分層と、媒体対向面に露出せず
に、磁極部分層と第１の磁性層とを磁気的に接続するヨ
ーク部分層とを有し、ヨーク部分層は、磁極部分層のギ
ャップ層側の面において、磁極部分層に対して磁気的に
接続され、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面は、磁極
部分層から離れるに従って徐々に媒体対向面から離れて
いるものである。

【００１７】本発明の薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性
層は磁極部分層とヨーク部分層とを有し、ヨーク部分層
は、磁極部分層のギャップ層側の面において、磁極部分
層に対して磁気的に接続されている。従って、本発明で
は、媒体対向面において磁極部分より発生される磁界の
うち、記録媒体の面に対して垂直な方向の成分を、記録
媒体の面に対して水平な方向の成分に比べて相対的に大
きくすることが可能になると共に、薄膜コイルから発生
される磁界をヨーク部分層によって効率よく吸収するこ
とが可能になる。また、本発明では、ヨーク部分層の媒
体対向面側の端面は、磁極部分層から離れるに従って徐
々に媒体対向面から離れている。従って、本発明では、
磁極部分層を経由せずに、ヨーク部分層の端面から直
接、記録媒体へ磁束が流れることを防止しながら、ヨー
ク部分層と磁極部分層との接触面を媒体対向面に近づけ
ることが可能になる。また、本発明では、第２の磁性層
のギャップ層側の面に９０°以下の角度を有するエッジ
は存在しないので、エッジの近傍における磁束の漏れや
渦電流の発生を防止して、効率よく磁界を発生させるこ
とが可能になる。

【００１８】本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、ヨーク
部分層のギャップ層とは反対側の面は平坦であってもよ
い。

【００１９】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
磁極部分層の飽和磁束密度は、ヨーク部分層の飽和磁束
密度以上であってもよい。

【００２０】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、更に、
再生素子としての磁気抵抗効果素子を備えていてもよ
い。

【００２１】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、垂直磁
気記録方式に用いられるものであってもよい。

【００２２】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、記
録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行方向の
前後に所定の間隔を開けて互いに対向するように配置さ
れた磁極部分を含むと共に、媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、非磁性材料よりなり、第１の磁性層と第２の磁
性層との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部
が第１および第２の磁性層の間に、第１および第２の磁
性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルと
を備え、第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面
に露出する磁極部分層と、媒体対向面に露出せずに、磁
極部分層と第１の磁性層とを磁気的に接続するヨーク部
分層とを有し、ヨーク部分層は、磁極部分層のギャップ
層側の面において、磁極部分層に対して磁気的に接続さ
れ、ヨーク部分層の媒体対向面側の端面は、磁極部分層
から離れるに従って徐々に媒体対向面から離れている薄
膜磁気ヘッドを製造する方法である。

【００２３】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、第
１の磁性層を形成する工程と、薄膜コイルを形成する工
程と、ギャップ層を形成する工程と、第２の磁性層を形
成する工程とを備え、第２の磁性層を形成する工程は、
ギャップ層の第２の磁性層側の面を平坦化する工程と、
ギャップ層の第２の磁性層側の面のうちの、媒体対向面
側の一部の上にマスクを形成する工程と、マスクを用い
て、ドライエッチングによって、ギャップ層の一部をエ
ッチングして、ヨーク部分層の下地の形状を決定する工
程と、下地の上にヨーク部分層を形成する工程と、ギャ
ップ層の第２の磁性層側の面のうちの、マスクが形成さ
れていた部分が露出し、且つヨーク部分層の媒体対向面
側の端面の形状が決定されるまで、ヨーク部分層を研磨
して、ヨーク部分層のギャップ層とは反対側の面を平坦
化する工程と、ギャップ層およびヨーク部分層の上に、
磁極部分層を形成する工程とを含むものである。

【００２４】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、
第２の磁性層は磁極部分層とヨーク部分層とを有し、ヨ
ーク部分層は、磁極部分層のギャップ層側の面におい
て、磁極部分層に対して磁気的に接続されるように、薄
膜磁気ヘッドが製造される。従って、本発明では、磁極
部分が第１の磁性層から適当な距離をもって離されるた
め、媒体対向面において磁極部分より発生される磁界の
うち、記録媒体の面に対して垂直な方向の成分を、記録
媒体の面に対して水平な方向の成分に比べて相対的に大
きくすることが可能になると共に、薄膜コイルから発生
される磁界をヨーク部分層によって効率よく吸収するこ
とが可能になる。また、本発明では、ヨーク部分層の媒
体対向面側の端面は、磁極部分層から離れるに従って徐
々に媒体対向面から離れるように、薄膜磁気ヘッドが製
造される。従って、本発明では、磁極部分層を経由せず
に、ヨーク部分層の端面から直接、記録媒体へ磁束が流
れることを防止しながら、ヨーク部分層と磁極部分層と
の接触面を媒体対向面に近づけることが可能になる。ま
た、本発明では、第２の磁性層のギャップ層側の面に９
０°以下の角度を有するエッジは存在しなくなるので、
エッジの近傍における磁束の漏れや渦電流の発生を防止
して、効率よく磁界を発生させることが可能になる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の一実
施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図であ
る。なお、図１は媒体対向面および基板の面に垂直な断
面を示している。また、図１において記号Ｔで示す矢印
は、記録媒体の進行方向を表している。図２は図１に示
した薄膜磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。
図３は、図１に示した薄膜磁気ヘッドにおける第２の磁
性層の形状を示す平面図である。

【００２６】図１および図２に示したように、本実施の
形態に係る薄膜磁気ヘッドは、アルティック（Ａｌ₂Ｏ₃
・ＴｉＣ）等のセラミック材料よりなる基板１と、この
基板１の上に形成されたアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）等の絶縁
材料よりなる絶縁層２と、この絶縁層２の上に形成され
た磁性材料よりなる下部シールド層３と、この下部シー
ルド層３の上に、絶縁層４を介して形成された再生素子
としてのＭＲ（磁気抵抗効果）素子５と、このＭＲ素子
５の上に絶縁層４を介して形成された磁性材料よりなる
上部シールド層６とを備えている。下部シールド層３お
よび上部シールド層６の厚みは、それぞれ例えば１〜２
μｍである。

【００２７】ＭＲ素子５の一端部は、媒体対向面（エア
ベアリング面）ＡＢＳに配置されている。ＭＲ素子５に
は、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大
磁気抵抗効果）素子あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗
効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子
を用いることができる。

【００２８】薄膜磁気ヘッドは、更に、上部シールド層
６の上に形成された非磁性層７と、この非磁性層７の上
に形成された磁性材料よりなる第１の磁性層８と、この
第１の磁性層８の上において薄膜コイル１０を形成すべ
き位置に形成された絶縁層９Ａと、この絶縁層９Ａの上
に形成された薄膜コイル１０と、少なくとも薄膜コイル
１０の巻線間に充填された絶縁層９Ｂとを備えている。
絶縁層９Ａには、媒体対向面ＡＢＳから離れた位置にお
いて、コンタクトホール９ａが形成されている。

【００２９】第１の磁性層８の厚みは例えば１〜２μｍ
である。第１の磁性層８を構成する磁性材料は、例えば
鉄−ニッケル系合金すなわちパーマロイでもよいし、後
述するような高飽和磁束密度材でもよい。また、第１の
磁性層８は、２つ以上の層で構成してもよい。

【００３０】絶縁層９Ａは、アルミナ等の非導電性且つ
非磁性の材料よりなり、その厚みは例えば０．１〜１μ
ｍである。

【００３１】薄膜コイル１０は、銅等の導電性の材料よ
りなり、その巻線の厚みは例えば０．３〜２μｍであ
る。薄膜コイル１０の巻数は任意であり、巻線のピッチ
も任意である。

【００３２】絶縁層９Ｂは、形成時に流動性を有する非
導電性且つ非磁性の材料よりなる。具体的には、絶縁層
９Ｂは、例えば、フォトレジスト（感光性樹脂）のよう
な有機系の非導電性非磁性材料によって形成してもよい
し、塗布ガラスよりなるスピンオングラス（ＳＯＧ）膜
で形成してもよい。

【００３３】薄膜磁気ヘッドは、更に、コンタクトホー
ル９ａが形成された位置において第１の磁性層８の上に
形成された磁性材料よりなる連結部１４Ｃと、薄膜コイ
ル１０、絶縁層９Ａおよび絶縁層９Ｂを覆うように形成
された絶縁層９Ｃとを備えている。薄膜コイル１０は、
連結部１４Ｃの回りに巻回されている。

【００３４】連結部１４Ｃの形状は、例えば、厚みが２
〜４μｍ、奥行き（媒体対向面ＡＢＳに垂直な方向の長
さ）が２〜１０μｍ、幅が４〜２０μｍである。連結部
１４Ｃを構成する磁性材料は、例えば鉄−ニッケル系合
金でもよいし、後述するような高飽和磁束密度材でもよ
い。

【００３５】絶縁層９Ｃは、絶縁層９Ｂよりも耐食性、
剛性および絶縁性が優れた非導電性且つ非磁性の材料よ
りなる。このような材料としては、アルミナやシリコン
酸化物（ＳｉＯ₂）等の無機系の非導電性非磁性材料を
用いることができる。媒体対向面ＡＢＳにおける絶縁層
９Ａおよび絶縁層９Ｃの合計の厚みは、例えば２〜４μ
ｍである。絶縁層９Ａ，９Ｂ，９Ｃは、第１の磁性層８
と後述する第２の磁性層１４との間に設けられるギャッ
プ層９を構成する。

【００３６】薄膜磁気ヘッドは、絶縁層９Ｃの上に形成
された磁性材料よりなる第２の磁性層１４を備えてい
る。第２の磁性層１４は、媒体対向面ＡＢＳから離れた
位置において、第１の磁性層８と磁気的に連結されてい
る。本実施の形態では、薄膜コイル１０の第２の磁性層
１４側の面は、媒体対向面ＡＢＳにおけるギャップ層９
の第２の磁性層１４側の端部の位置よりも、第１の磁性
層８側に配置されている。

【００３７】第２の磁性層１４は、前述の連結部１４Ｃ
と、磁極部分を含む磁極部分層１４Ａと、ヨーク部分と
なり、連結部１４Ｃを介して磁極部分層１４Ａと第１の
磁性層８とを磁気的に接続するヨーク部分層１４Ｂとを
有している。磁極部分層１４Ａの一端部は媒体対向面Ａ
ＢＳに露出している。ヨーク部分層１４Ｂのギャップ層
９とは反対側の面は平坦になっている。ヨーク部分層１
４Ｂは、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面におい
て、磁極部分層１４Ａに対して磁気的に接続されてい
る。また、ヨーク部分層１４Ｂは媒体対向面ＡＢＳに露
出していない。ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ
側の端面は、磁極部分層１４Ａから離れるに従って徐々
に媒体対向面ＡＢＳから離れている。

【００３８】ここで、図１に示した断面において、ヨー
ク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端面とヨーク部
分層１４Ｂのギャップ層９側の面とが交わる点をａと
し、ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端面と
ヨーク部分層１４Ｂの磁極部分層１４Ａ側の面とが交わ
る点をｂとする。

【００３９】ヨーク部分層１４Ｂを構成する磁性材料と
しては、高抵抗の磁性材料を用いるのが好ましい。この
ような材料としては、例えば鉄−ニッケル系合金すなわ
ちパーマロイがある。

【００４０】磁極部分層１４Ａの飽和磁束密度は、ヨー
ク部分層１４Ｂの飽和磁束密度以上であることが好まし
い。磁極部分層１４Ａを構成する磁性材料としては、飽
和磁束密度が１．４Ｔ以上の高飽和磁束密度材を用いる
のが好ましい。高飽和磁束密度材としては、鉄および窒
素原子を含む材料、鉄、ジルコニアおよび酸素原子を含
む材料、鉄およびニッケル元素を含む材料等を用いるこ
とができる。具体的には、高飽和磁束密度材としては、
例えば、ＮｉＦｅ（Ｎｉ：４５重量％，Ｆｅ：５５重量
％）、ＦｅＮやその化合物、Ｃｏ系アモルファス合金、
Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｍ（必要に応じてＯ（酸素原子）も
含む。）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ（必要に応じてＯ（酸素原
子）も含む。）の中のうちの少なくとも１種類を用いる
ことができる。ここで、Ｍは、Ｎｉ，Ｎ，Ｃ，Ｂ，Ｓ
ｉ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｃｕ
（いずれも化学記号）の中から選択された少なくとも１
種類である。

【００４１】ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側
の端面とヨーク部分層１４Ｂのギャップ層９側の面とが
なす角度θは、９０°よりも大きい。この角度θは１２
０〜１５０°であることが好ましい。ヨーク部分層１４
Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端面と、磁極部分層１４Ａの
ギャップ層９側の面のうちの点ｂよりも媒体対向面ＡＢ
Ｓ側の部分とのなす角度は、θにほぼ等しい。従って、
この角度も、９０°よりも大きく、１２０〜１５０°で
あることが好ましい。なお、ヨーク部分層１４Ｂの媒体
対向面ＡＢＳ側の端面とヨーク部分層１４Ｂのギャップ
層９側の面とが交差する部分（点ａの近傍）は、角を形
成せずに、丸みを帯びていてもよい。

【００４２】連結部１４Ｃの上におけるヨーク部分層１
４Ｂの厚みは、１〜３μｍが好ましい。ヨーク部分層１
４Ｂの最も媒体対向面ＡＢＳに近い端部、すなわち点ｂ
と媒体対向面ＡＢＳとの距離は１μｍ以下が好ましい。

【００４３】磁極部分層１４Ａの厚みは０．１〜０．８
μｍ程度が好ましい。また、磁極部分層１４Ａの媒体対
向面ＡＢＳとは反対側の端面と媒体対向面ＡＢＳとの距
離は２〜２０μｍが好ましい。また、媒体対向面ＡＢＳ
に露出する磁極部分層１４Ａの面の形状は、記録媒体の
進行方向Ｔの後側（スライダにおける空気流入端側）に
配置される下辺が上辺よりも小さい台形、あるいは記録
媒体の進行方向Ｔの後側に頂点を有する逆三角形である
ことが好ましい。

【００４４】図３に示したように、磁極部分層１４Ａの
うちの媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、トラック幅と等し
い一定の幅を有するのが好ましい。また、磁極部分層１
４Ａのうちの媒体対向面ＡＢＳから離れた部分では、磁
束を途中で飽和させずに媒体対向面ＡＢＳ側に伝達でき
るように、幅が大きいことが好ましい。従って、磁極部
分層１４Ａの平面形状としては、例えば図３に示した形
状が好ましい。図３に示した例では、磁極部分層１４Ａ
は、媒体対向面ＡＢＳ側から順に配置された第１の部分
１４Ａａ、第２の部分１４Ａｂおよび第３の部分１４Ａ
ｃを含んでいる。第１の部分１４Ａａは、トラック幅と
等しい一定の幅を有している。第１の部分１４Ａａの幅
は０．３μｍ以下が好ましい。第３の部分１４Ａｃは、
第１の部分１４Ａａの幅よりも大きい一定の幅を有して
いる。第３の部分１４Ａｃの幅は例えば２μｍ以上であ
る。第２の部分１４Ａｂの幅は、第３の部分１４Ａｃと
の境界位置では第３の部分１４Ａｃの幅と等しく、第１
の部分１４Ａａとの境界位置では第１の部分１４Ａａの
幅と等しく、途中の部分では、媒体対向面ＡＢＳに近づ
くに従って徐々に小さくなっている。

【００４５】薄膜磁気ヘッドは、更に、アルミナ等の非
導電性且つ非磁性の材料よりなり、ヨーク部分層１４Ｂ
の周囲に配置された保護層１７Ａを備えている。ヨーク
部分層１４Ｂの上面は、保護層１７Ａの上面と共に平坦
化されている。

【００４６】薄膜磁気ヘッドは、更に、アルミナ等の非
導電性且つ非磁性の材料よりなり、ヨーク部分層１４
Ｂ、保護層１７Ａおよび磁極部分層１４Ａの上に形成さ
れた保護層１７Ｂを備えている。

【００４７】以上説明したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面ＡＢ
Ｓと再生ヘッドと記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）と
を備えている。再生ヘッドは、再生素子としてのＭＲ素
子５と、媒体対向面ＡＢＳ側の一部がＭＲ素子５を挟ん
で対向するように配置された、ＭＲ素子５をシールドす
るための下部シールド層３および上部シールド層６を備
えている。

【００４８】記録ヘッドは、媒体対向面ＡＢＳ側におい
て記録媒体の進行方向Ｔの前後に所定の間隔を開けて互
いに対向するように配置された磁極部分を含むと共に、
媒体対向面ＡＢＳから離れた位置において互いに磁気的
に連結された第１の磁性層８および第２の磁性層１４
と、非磁性材料よりなり、第１の磁性層８と第２の磁性
層１４との間に設けられたギャップ層９と、少なくとも
一部が第１の磁性層８および第２の磁性層１４の間に、
これらの磁性層８，１４に対して絶縁された状態で設け
られた薄膜コイル１０とを備えている。

【００４９】第２の磁性層１４は、磁極部分を含み、媒
体対向面ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａと、媒体対
向面ＡＢＳに露出せずに、連結部１４Ｃを介して磁極部
分層１４Ａと第１の磁性層８とを磁気的に接続するヨー
ク部分層１４Ｂと、連結部１４Ｃとを有している。

【００５０】ヨーク部分層１４Ｂは、磁極部分層１４Ａ
のギャップ層９側の面において、磁極部分層１４Ａに対
して磁気的に接続されている。ヨーク部分層１４Ｂの媒
体対向面ＡＢＳ側の端面は、磁極部分層１４Ａから離れ
るに従って徐々に媒体対向面ＡＢＳから離れている。ま
た、ヨーク部分層１４Ｂのギャップ層９とは反対側の面
は平坦になっている。

【００５１】本実施の形態では、ヨーク部分層１４Ｂ
が、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面において、
磁極部分層１４Ａに対して磁気的に接続されている。従
って、本実施の形態によれば、媒体対向面ＡＢＳにおい
て第１の磁性層８と第２の磁性層１４との間の距離を大
きくしながら、媒体対向面ＡＢＳから離れたところでは
第２の磁性層１４と薄膜コイル１０との間の距離を小さ
くすることができる。これにより、本実施の形態によれ
ば、媒体対向面ＡＢＳにおいて磁極部分より発生される
磁界のうち、記録媒体の面に対して垂直な方向の成分
を、記録媒体の面に対して水平な方向の成分に比べて相
対的に大きくすることが可能になると共に、薄膜コイル
１０から発生される磁界を第２の磁性層１４によって効
率よく吸収することが可能になる。その結果、本実施の
形態によれば、磁極部分より発生される、記録媒体の面
に垂直な方向の磁界を大きくすることができる。

【００５２】また、本実施の形態では、ヨーク部分層１
４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端面は、磁極部分層１４Ａ
から離れるに従って徐々に媒体対向面ＡＢＳから離れて
いる。従って、本実施の形態によれば、ヨーク部分層１
４Ｂの端面から、磁極部分層１４Ａを経由せずに、直
接、記録媒体へ磁束が漏れることを防止しながら、ヨー
ク部分層１４Ｂと磁極部分層１４Ａとの接触面を媒体対
向面ＡＢＳに近づけることが可能になる。また、本実施
の形態では、第２の磁性層１４のギャップ層９側の面に
９０°以下の角度を有するエッジは存在しないので、エ
ッジの近傍における磁束の漏れや渦電流の発生を防止し
て、効率よく磁界を発生させることが可能になる。これ
らのことから、本実施の形態によれば、磁極部分より発
生される、記録媒体の面に垂直な方向の磁界をより大き
くすることができる。

【００５３】また、本実施の形態において、媒体対向面
ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａの面の形状は、記録
媒体の進行方向Ｔの後側（スライダにおける空気流入端
側）に配置される下辺が上辺よりも小さい台形、あるい
は記録媒体の進行方向Ｔの後側に頂点を有する逆三角形
であることが好ましい。これにより、薄膜磁気ヘッドを
垂直磁気記録方式に用いた場合には、スキュー角が生じ
たときの記録トラック幅の変化を抑えることができる。

【００５４】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドは、垂
直磁気記録方式に用いるのに適している。この薄膜磁気
ヘッドを垂直磁気記録方式に用いる場合、第２の磁性層
１４の磁極部分層１４Ａにおける第１の部分１４Ａａが
主磁極となり、第１の磁性層８の磁極部分が補助磁極と
なる。なお、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドを垂直
磁気記録方式に用いる場合には、記録媒体としては２層
媒体と単層媒体のいずれをも使用することが可能であ
る。

【００５５】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
では、記録媒体の面に垂直な方向の磁界は長手方向の磁
界よりも大きく、ヘッドが発生する磁気エネルギを効率
よく、記録媒体に伝達することができる。従って、この
薄膜磁気ヘッドによれば、記録媒体の熱揺らぎの影響を
受けにくくして、線記録密度を高めることができる。

【００５６】図１に示したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、第１の磁性層８を記録媒体の進行方
向Ｔの後側（薄膜磁気ヘッドを含むスライダにおける空
気流入端側）に配置し、第２の磁性層１４を記録媒体の
進行方向Ｔの前側（薄膜磁気ヘッドを含むスライダにお
ける空気流出端側）に配置するのが好ましい。しかし、
本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドを垂直磁気記録方式
に用いる場合には、第１の磁性層８と第２の磁性層１４
の配置は、上記の配置とは逆でもよい。

【００５７】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ギャップ層９は、形成時に
流動性を有する材料よりなり、少なくとも薄膜コイル１
０の巻線間に充填された第１の部分（絶縁層９Ｂ）と、
この第１の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が優れ
た材料よりなり、薄膜コイル１０および第１の部分を覆
い、第１の磁性層８および第２の磁性層１４に接する第
２の部分（絶縁層９Ａ，９Ｃ）とを有している。ギャッ
プ層９の第２の部分は、媒体対向面ＡＢＳに露出してい
る。薄膜コイル１０の巻線間に隙間なく非磁性材料を充
填することは、スパッタリング法では困難であるが、有
機系の材料のように流動性を有する非磁性材料を用いた
場合には容易である。しかし、有機系の材料は、ドライ
エッチングに対する耐性、耐食性、耐熱性、剛性等の点
で信頼性に乏しい。本実施の形態では、上述のように、
形成時に流動性を有する材料によって薄膜コイル１０の
巻線間に充填された第１の部分（絶縁層９Ｂ）を形成
し、この第１の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が
優れた材料によって、薄膜コイル１０および第１の部分
を覆い、第１の磁性層８および第２の磁性層１４に接す
る第２の部分（絶縁層９Ａ，９Ｃ）を形成するようにし
たので、薄膜コイル１０の巻線間に隙間なく非磁性材料
を充填でき、且つギャップ層９の信頼性を高めることが
できる。

【００５８】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
は、再生素子としてのＭＲ素子５を備えている。これに
より、誘導型電磁変換素子を用いて再生を行う場合に比
べて、再生性能を向上させることができる。また、ＭＲ
素子５は、シールド層３，６によってシールドされてい
るので、再生時の分解能を向上させることができる。

【００５９】次に、図４ないし図３３を参照して、本実
施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明
する。図４ないし図６、図７ないし図９、図１０ないし
図１２、図１３ないし図１５、図１６ないし図１８、図
１９ないし図２１、図２２ないし図２４、図２５ないし
図２７、図２８ないし図３０、図３１ないし図３３の各
組は、それぞれ、同じ工程に対応している。また、図
４、図７、図１０、図１３、図１６、図１９、図２２、
図２５、図２８および図３１は、媒体対向面および基板
の面に垂直な断面を表している。図５、図８、図１１、
図１４、図１７、図２０、図２３、図２６、図２９およ
び図３２は、図４におけるＡ−Ａ線断面に対応する断面
を表している。図６、図９、図１２、図１５、図１８、
図２１、図２４、図２７、図３０および図３３は、媒体
対向面に対応する断面を表している。

【００６０】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法では、まず、基板１の上に絶縁層２を形成する。次
に、絶縁層２の上に下部シールド層３を形成する。次
に、下部シールド層３の上に、絶縁層４の一部となる絶
縁膜を形成し、この絶縁膜の上にＭＲ素子５と、このＭ
Ｒ素子５に接続される図示しないリードとを形成する。
次に、ＭＲ素子５およびリードを、絶縁層４の他の一部
となる新たな絶縁膜で覆い、ＭＲ素子５およびリードを
絶縁層４内に埋設する。

【００６１】次に、絶縁層４の上に上部シールド層６を
形成し、その上に非磁性層７を形成する。次に、この非
磁性層７の上に、第１の磁性層８を所定の形状に形成す
る。次に、図示しないが、非磁性層７および第１の磁性
層８をアルミナ等の非磁性材料で覆い、第１の磁性層８
が露出するまで非磁性材料を研磨して、第１の磁性層８
の上面を平坦化する。なお、図４ないし図３３では、基
板１ないし非磁性層７を省略している。

【００６２】次に、図４ないし図６に示したように、第
１の磁性層８の上に、アルミナ等の非導電性且つ非磁性
の材料をスパッタして、絶縁層９Ａを形成する。次に、
周知のフォトリソグラフィ技術とドライエッチング技術
とを用いて、連結部１４Ｃを形成すべき位置において、
絶縁層９Ａにコンタクトホール９ａを形成する。次に、
周知のフォトリソグラフィ技術および成膜技術（例えば
電気めっき法）を用いて、絶縁層９Ａの上に薄膜コイル
１０を形成する。次に、周知のフォトリソグラフィ技術
を用いて、少なくとも薄膜コイル１０の巻線間に充填さ
れる絶縁層９Ｂを形成する。

【００６３】次に、周知のフォトリソグラフィ技術およ
び成膜技術（例えば電気めっき法）を用いて、コンタク
トホール９ａが形成された位置において第１の磁性層８
の上に連結部１４Ｃを形成する。連結部１４Ｃの厚み
は、例えば２〜４μｍとする。次に、スパッタ法を用い
て、薄膜コイル１０、絶縁層９Ａ、絶縁層９Ｂおよび連
結部１４Ｃを覆うように絶縁層９Ｃを形成する。この時
点における絶縁層９Ｃの厚みは、連結部１４Ｃを十分に
覆うことができる厚みであればよく、例えば６μｍとす
る。

【００６４】次に、図７ないし図９に示したように、例
えば化学機械研磨を用いて、絶縁層９Ｃおよび連結部１
４Ｃの上面を平坦化する。この時点で、第１の磁性層８
の上面から絶縁層９Ｃおよび連結部１４Ｃの上面までの
距離は、例えば２〜４μｍとする。また、媒体対向面Ａ
ＢＳにおける絶縁層９Ａおよび絶縁層９Ｃの厚みの総和
は、記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）のギャップ長と
なる。

【００６５】次に、図１０ないし図１２に示したよう
に、絶縁層９Ｃのうちの媒体対向面ＡＢＳ側の一部の上
に、ドライエッチング用のマスク４２を形成する。マス
ク４２の材料は、容易に除去でき、且つ後に行うドライ
エッチングに対する耐性に優れた材料であることが好ま
しい。そのような材料としては、例えば、銅や、鉄系合
金がある。また、マスク４２の材料として例えばニッケ
ル−鉄合金を使用すれば、フレームめっき法等によって
容易にマスク４２を形成することができる。なお、マス
ク４２は、材料としてレジストを用いて、フォトリソグ
ラフィ技術によって形成してもよい。マスク４２の媒体
対向面ＡＢＳとは反対側の側面４２ａは、絶縁層９Ｃの
上面に対して垂直であることが好ましい。また、この側
面４２ａと媒体対向面ＡＢＳとの間の距離は、１μｍ以
下であることが好ましい。

【００６６】次に、図１３ないし図１５に示したよう
に、マスク４２を用いて、イオンミリング等のドライエ
ッチングによって、絶縁層９Ｃの一部および連結部１４
Ｃの一部をエッチングして、ヨーク部分層１４Ｂの下地
の形状を決定する。ヨーク部分層１４Ｂの下地の上面
は、媒体対向面ＡＢＳ側から順に配置された第１の面
ｅ、第２の面ｆおよび第３の面ｇを含んでいる。第１の
面ｅは、第１の磁性層８の上面と平行な平面である。こ
の第１の面ｅは、絶縁層９Ｃの上面のうち、マスク４２
によって覆われた部分によって形成される。第３の面ｇ
は、第１の磁性層８の上面とほぼ平行な面であり、第１
の面ｅよりも第１の磁性層８側に配置されている。従っ
て、第１の面ｅと第３の面ｇとの間には段差が形成され
ている。第２の面ｆは、第１の面ｅと第３の面ｇとの間
に配置され、第３の面ｇに対して鈍角をなして接続され
た斜面となっている。第２の面ｆと第１の面ｅとの間に
は段差が形成されている。

【００６７】上述のような形状のヨーク部分層１４Ｂの
下地の上面は、例えば、基板に対するイオンの入射角を
１０〜８０°として基板を回転させながらイオンミリン
グを行うことで形成することができる。この場合、マス
ク４２の周辺にイオンに対して影となる部分ができるた
め、マスク４２の周辺には、斜面である第２の面ｆが形
成され、マスク４２から離れた部分には、ほぼ平面の第
３の面ｇが形成される。

【００６８】また、絶縁層９Ｃと連結部１４Ｃに対する
ドライエッチングは、第２の面ｆとなる斜面の上端と下
端との高低差が、最終的なヨーク部分層１４Ｂの厚みよ
りも大きくなるまで行う。

【００６９】次に、図１６ないし図１８に示したよう
に、マスク４２を除去する。例えば、マスク４２が前述
のような金属からなる場合には、連結部１４Ｃをレジス
トよりなるカバーで覆った後、ウェットエッチングを行
えば、マスク４２を容易に除去することができる。マス
ク４２がレジストよりなる場合には、レジスト用の剥離
液を用いれば、マスク４２を容易に除去することができ
る。

【００７０】次に、図１９ないし図２１に示したよう
に、周知のフレームめっき法によって、絶縁層９Ｃおよ
び連結部１４Ｃの上にヨーク部分層１４Ｂを形成する。
この時点では、ヨーク部分層１４Ｂは、媒体対向面ＡＢ
Ｓの近傍における絶縁層９Ｃの上にも形成されてもよ
い。また、この時点におけるヨーク部分層１４Ｂの厚み
は、ヨーク部分層１４Ｂの上面のうち最も低い部分が、
絶縁層９Ｃの上面における第１の面ｅよりも高くなるよ
うな厚みにする。

【００７１】次に、図２２および図２４に示したよう
に、ヨーク部分層１４Ｂを覆うように保護層１７Ａを形
成する。保護層１７Ａの厚みは、保護層１７Ａの上面の
うち最も低い部分が、絶縁層９Ｃの上面における第１の
面ｅよりも高くなるような厚みにする。

【００７２】次に、図２５ないし図２７に示したよう
に、例えば化学機械研磨を用いて、絶縁層９Ｃの上面の
うち、マスク４２が形成されていた部分が露出するま
で、保護層１７Ａ、ヨーク部分層１４Ｂおよび絶縁層９
Ｃの上面を研磨して、これらを平坦化する。この研磨
は、研磨面が第２の面ｆの上端と一致するまで行うとよ
い。これにより、第２の磁性層１４の厚みが決定される
と共に、ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端
面の形状が決定される。

【００７３】次に、図２８ないし図３０に示したよう
に、フレームめっき法やスパッタリング法によって、ヨ
ーク部分層１４Ｂおよび絶縁層９Ｃの上に、磁極部分層
１４Ａを形成する。スパッタリング法によって磁極部分
層１４Ａを形成する場合には、図２５ないし図２７に示
した研磨面の全面に、磁極部分層１４Ａを構成する材料
よりなる被エッチング層と非磁性層とを順に積層し、更
にその上に、磁極部分層１４Ａの形状に対応した形状の
マスクを形成し、このマスクを用いて、ドライエッチン
グによって、非磁性層および被エッチング層をエッチン
グして、磁極部分層１４Ａを形成してもよい。この方法
によれば、被エッチング層の上面を非磁性層で保護した
状態で磁極部分層１４Ａの外形を決定でき、磁極部分層
１４Ａのギャップ層９とは反対側の端部の平坦性を維持
することができる。

【００７４】次に、図３１ないし図３３に示したよう
に、積層面の全体を覆うように保護層１７Ｂを形成す
る。次に、保護層１７Ｂの上に配線や端子等を形成し、
スライダ単位で基板を切断し、媒体対向面ＡＢＳの研
磨、浮上用レールの作製等を行って、薄膜磁気ヘッドが
完成する。

【００７５】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法によれば、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドと同
様の作用、効果の他に、以下のような作用、効果が得ら
れる。

【００７６】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法では、マスク４２を用いて、ドライエッチングによ
って、絶縁層９Ｃの一部および連結部１４Ｃの一部をエ
ッチングして、ヨーク部分層１４Ｂの下地の形状を決定
する。このとき、ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢ
Ｓ側の端面に対応する斜面である第２の面ｆを形成す
る。その後、下地の上にヨーク部分層１４Ｂを形成す
る。このような方法によってヨーク部分層１４Ｂを形成
することにより、磁極部分層１４Ａとの接続面の媒体対
向面ＡＢＳ側の端部の位置精度が±０．１μｍ以下と良
く、且つ、媒体対向面ＡＢＳ側の端面が、磁極部分層１
４Ａから離れるに従って徐々に媒体対向面ＡＢＳから離
れる形状をなすヨーク部分層１４Ｂを、容易に形成する
ことが可能になる。

【００７７】本実施の形態における上記方法とは逆に、
ヨーク部分層１４Ｂを形成した後に絶縁層９Ｃを形成す
る場合には、ヨーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側
の端面を上記の形状にすることは難しい。それは、ヨー
ク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端面を上記の形
状、すなわちアンダーカットの入った形状に形成した後
に、その端面の下側に絶縁層９Ｃの材料を埋め込むこと
が難しいからである。

【００７８】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の変更が可能である。例えば、本発明の薄膜磁
気ヘッドは、第２の磁性層を先に形成し、この第２の磁
性層の上にギャップ層と連結部を形成し、これらの上に
第１の磁性層を形成して製造してもよい。

【００７９】また、本発明は、基体側に書き込み用の誘
導型電磁変換素子を形成し、その上に、読み取り用のＭ
Ｒ素子を形成した構造の薄膜磁気ヘッドにも適用するこ
とができる。

【００８０】また、本発明は、誘導型電磁変換素子のみ
を備えた記録専用の薄膜磁気ヘッドや、誘導型電磁変換
素子によって記録と再生を行う薄膜磁気ヘッドにも適用
することができる。

【００８１】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし５
のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドまたは請求項６記載
の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、第２の磁性層は磁極
部分層とヨーク部分層とを有し、ヨーク部分層は、磁極
部分層のギャップ層側の面において、磁極部分層に対し
て磁気的に接続される。従って、本発明によれば、媒体
対向面において磁極部分より発生される磁界のうち、記
録媒体の面に対して垂直な方向の成分を、記録媒体の面
に対して水平な方向の成分に比べて相対的に大きくする
ことが可能になると共に、薄膜コイルから発生される磁
界をヨーク部分層によって効率よく吸収することが可能
になる。また、本発明では、ヨーク部分層の媒体対向面
側の端面は、磁極部分層から離れるに従って徐々に媒体
対向面から離れている。従って、本発明によれば、磁極
部分層を経由せずに、ヨーク部分層の端面から直接、記
録媒体へ磁束が流れることを防止しながら、ヨーク部分
層と磁極部分層との接触面を媒体対向面に近づけること
が可能になる。また、本発明によれば、第２の磁性層の
ギャップ層側の面に９０°以下の角度を有するエッジは
存在しないので、エッジの近傍における磁束の漏れや渦
電流の発生を防止して、効率よく磁界を発生させること
が可能になる。これらのことから、本発明によれば、薄
膜磁気ヘッドにおいて、磁極部分より発生される、記録
媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくすることができる
という効果を奏する。

【００８２】また、請求項４記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、再生素子としての磁気抵抗効果素子を備えたの
で、誘導型電磁変換素子を用いて再生を行う場合に比べ
て、再生性能を向上させることができるという効果を奏
する。

【００８３】また、請求項５記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、この薄膜磁気ヘッドが垂直磁気記録方式に用いら
れるようにしたので、記録媒体の熱揺らぎの影響を受け
にくくして、線記録密度を高めることができるという効
果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの
構成を示す断面図である。

【図２】図１に示した薄膜磁気ヘッドの媒体対向面を示
す正面図である。

【図３】図１に示した薄膜磁気ヘッドにおける第２の磁
性層の形状を示す平面図である。

【図４】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの
製造方法における一工程を示す断面図である。

【図５】図４のＡ−Ａ線断面を表す断面図である。

【図６】図４に示した状態における媒体対向面に対応す
る断面を表す断面図である。

【図７】図４に続く工程を示す断面図である。

【図８】図７に示した状態における図４のＡ−Ａ線断面
に対応する断面を表す断面図である。

【図９】図７に示した状態における媒体対向面に対応す
る断面を表す断面図である。

【図１０】図７に続く工程を示す断面図である。

【図１１】図１０に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図１２】図１０に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図１３】図１０に続く工程を示す断面図である。

【図１４】図１３に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図１５】図１３に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図１６】図１３に続く工程を示す断面図である。

【図１７】図１６に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図１８】図１６に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図１９】図１６に続く工程を示す断面図である。

【図２０】図１９に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図２１】図１９に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図２２】図１９に続く工程を示す断面図である。

【図２３】図２２に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図２４】図２２に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図２５】図２２に続く工程を示す断面図である。

【図２６】図２５に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図２７】図２５に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図２８】図２５に続く工程を示す断面図である。

【図２９】図２８に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図３０】図２８に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【図３１】図２８に続く工程を示す断面図である。

【図３２】図３１に示した状態における図４のＡ−Ａ線
断面に対応する断面を表す断面図である。

【図３３】図３１に示した状態における媒体対向面に対
応する断面を表す断面図である。

【符号の説明】

３…下部シールド層、４…絶縁層、５…ＭＲ素子、６…
上部シールド層、７…非磁性層、８…第１の磁性層、９
…ギャップ層、９Ａ，９Ｂ，９Ｃ…絶縁層、１０…薄膜
コイル、１４…第２の磁性層、１４Ａ…磁極部分層、１
４Ｂ…ヨーク部分層、１４Ｃ…連結部、１７Ａ，１７Ｂ
…保護層。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行方向の前後に所定の間隔を開けて互いに
対向するように配置された磁極部分を含むと共に、前記
媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結
された第１および第２の磁性層と、非磁性材料よりなり、前記第１の磁性層と第２の磁性層
との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部が前記第１および第２の磁性層の間に、
前記第１および第２の磁性層に対して絶縁された状態で
設けられた薄膜コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドであっ
て、前記第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面に露
出する磁極部分層と、媒体対向面に露出せずに、前記磁
極部分層と前記第１の磁性層とを磁気的に接続するヨー
ク部分層とを有し、前記ヨーク部分層は、前記磁極部分層の前記ギャップ層
側の面において、前記磁極部分層に対して磁気的に接続
され、前記ヨーク部分層の媒体対向面側の端面は、前記磁極部
分層から離れるに従って徐々に媒体対向面から離れてい
ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】前記ヨーク部分層のギャップ層とは反対
側の面は平坦であることを特徴とする請求項１記載の薄
膜磁気ヘッド。
【請求項３】前記磁極部分層の飽和磁束密度は、前記
ヨーク部分層の飽和磁束密度以上であることを特徴とす
る請求項１または２記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項４】更に、再生素子としての磁気抵抗効果素
子を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれ
かに記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項５】垂直磁気記録方式に用いられることを特
徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜磁気
ヘッド。
【請求項６】記録媒体に対向する媒体対向面と、記録
媒体の進行方向の前後に所定の間隔を開けて互いに対向
するように配置された磁極部分を含むと共に、前記媒体
対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結され
た第１および第２の磁性層と、非磁性材料よりなり、前
記第１の磁性層と第２の磁性層との間に設けられたギャ
ップ層と、少なくとも一部が前記第１および第２の磁性
層の間に、前記第１および第２の磁性層に対して絶縁さ
れた状態で設けられた薄膜コイルとを備え、前記第２の
磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面に露出する磁極
部分層と、媒体対向面に露出せずに、前記磁極部分層と
前記第１の磁性層とを磁気的に接続するヨーク部分層と
を有し、前記ヨーク部分層は、前記磁極部分層の前記ギ
ャップ層側の面において、前記磁極部分層に対して磁気
的に接続され、前記ヨーク部分層の媒体対向面側の端面
は、前記磁極部分層から離れるに従って徐々に媒体対向
面から離れている薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記第１の磁性層を形成する工程と、前記薄膜コイルを形成する工程と、前記ギャップ層を形成する工程と、前記第２の磁性層を形成する工程とを備え、前記第２の磁性層を形成する工程は、前記ギャップ層の第２の磁性層側の面を平坦化する工程
と、前記ギャップ層の第２の磁性層側の面のうちの、媒体対
向面側の一部の上にマスクを形成する工程と、前記マスクを用いて、ドライエッチングによって、前記
ギャップ層の一部をエッチングして、前記ヨーク部分層
の下地の形状を決定する工程と、前記下地の上に前記ヨーク部分層を形成する工程と、前記ギャップ層の第２の磁性層側の面のうちの、前記マ
スクが形成されていた部分が露出し、且つ前記ヨーク部
分層の媒体対向面側の端面の形状が決定されるまで、前
記ヨーク部分層を研磨して、前記ヨーク部分層のギャッ
プ層とは反対側の面を平坦化する工程と、前記ギャップ層および前記ヨーク部分層の上に、前記磁
極部分層を形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜
磁気ヘッドの製造方法。