JP2003002919A - Novel di(meth)acrylate and curable composition containing the same - Google Patents
Novel di(meth)acrylate and curable composition containing the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジ(メタ)
アクリレート、これを含有する硬化性組成物に関するも
のであり、本発明のジ(メタ)アクリレート及び硬化性組
成物は、塗料、インキ、レジスト及び成形材等の種々の
用途に使用可能であり、これら技術分野で賞用され得る
ものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel di (meta).
Acrylate, which relates to a curable composition containing the acrylate, the di (meth) acrylate and the curable composition of the present invention can be used in various applications such as paints, inks, resists and molding materials. It can be prized in the technical field.
【0002】[0002]
【従来の技術及び課題】近年、電化製品及び電子機器等
においては、電子部品を実装したプリント基板が多く使
用されているが、使用する場所及び時期等によって、プ
リント基板表面が結露することがあり、防水処理が必要
とされている。防水処理の手段の1つとして、溶剤にポ
リマーを溶解させた防水塗料が使用されているが、従来
の防水塗料は、溶剤を使用しているため、塗膜の乾燥に
は時間が必要であり、又、作業環境の問題があり、無溶
剤で硬化性の速い防水塗料が要望されている。2. Description of the Related Art In recent years, a printed circuit board on which electronic parts are mounted is often used in electric appliances and electronic devices, but the surface of the printed circuit board may be condensed depending on the place and time of use. , Waterproof treatment is required. As one of the means for waterproofing, a waterproof paint in which a polymer is dissolved in a solvent is used. However, since the conventional waterproof paint uses a solvent, it takes time to dry the coating film. In addition, there is a problem of working environment, and there is a demand for a solvent-free, quick-curing waterproof coating.
【0003】又、電子材料分野においては、樹脂材料は
通常、樹脂層を何層か重ねあわせた積層フィルムとして
使用されることが多い。したがって、各々の樹脂層を貼
合わせる粘着剤及び接着剤の開発が求められている。こ
れらの粘・接着剤においては、積層するフィルムの透明
性を損なわないよう、硬化物が透明であることはもちろ
ん、各種樹脂への密着性が良好であり、又、硬化物の寸
法変化が小さく、吸水率の低いことが重要である。In the field of electronic materials, resin materials are often used as a laminated film in which several resin layers are laminated. Therefore, development of pressure-sensitive adhesives and adhesives for laminating the respective resin layers is required. With these adhesives / adhesives, not only the cured product is transparent, but also the adhesion to various resins is good so that the transparency of the laminated film is not impaired, and the dimensional change of the cured product is small. It is important that the water absorption rate is low.
【0004】前記課題を解決するものとして、(メタ)
アクリレートを主成分とする活性エネルギー線硬化型の
組成物があるが、従来知られた(メタ)アクリレートを
組み合わせたとしても、前記課題を解決するには限界を
有するものであった。To solve the above-mentioned problems, (meta)
There is an active energy ray-curable composition containing acrylate as a main component, but even if a conventionally known (meth) acrylate is combined, there is a limit to solving the above problems.
【0005】本発明者らは、得られる硬化物が、各種樹
脂への密着性に優れ、吸水率が低い新規(メタ)アクリ
レート及びこれを含む組成物を見出すため鋭意検討を行
なったのである。The inventors of the present invention have conducted earnest studies to find a novel (meth) acrylate having a cured product obtained which is excellent in adhesion to various resins and has a low water absorption rate, and a composition containing the same.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために種々の検討を行なった結果、特定構
造のジ(メタ)アクリレートが、得られる硬化物が、各
種樹脂への密着性に優れ、又吸水率が低いことを見出し
本発明を完成するに至った。以下、本発明を詳細に説明
する。尚、本明細書においては、アクリレート又はメタ
クリレートを(メタ)アクリレートと表し、アクリル酸
又はメタクリル酸を(メタ)アクリル酸と表し、アクリ
ロイル基又はメタクリロイル基を(メタ)アクリロイル
基と表す。Means for Solving the Problems As a result of various investigations for solving the above problems, the present inventors have found that di (meth) acrylate having a specific structure can be obtained as a cured product of various resins. It has been found that the adhesiveness is excellent and the water absorption is low, and the present invention has been completed. Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, acrylate or methacrylate is referred to as (meth) acrylate, acrylic acid or methacrylic acid is referred to as (meth) acrylic acid, and acryloyl group or methacryloyl group is referred to as (meth) acryloyl group.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】1.式(1)で表されるジ(メタ)
アクリレート
本発明の新規ジ(メタ)アクリレートは、下記式(1)で
表されるテレフタル酸残基及びブチレン基を有するジ
(メタ)アクリレート〔以下新規ジ(メタ)アクリレー
トという〕である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION 1. Di (meta) represented by formula (1)
Acrylate The novel di (meth) acrylate of the present invention is a di (meth) acrylate having a terephthalic acid residue and a butylene group represented by the following formula (1) [hereinafter referred to as a novel di (meth) acrylate].
【0008】[0008]
【化2】 [Chemical 2]
【0009】〔但し、式(1)において、R1は水素原子又
はメチル基である。〕
本発明の新規ジ(メタ)アクリレートは、ブチレン基を
有するものである。これがブチレン基と異なる、例えば
エチレン基を有するものやヘキシル基を有するものの場
合は、得られる硬化物の吸水率が低下してしまう。[In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group. ] The novel di (meth) acrylate of the present invention has a butylene group. If this is different from a butylene group, for example, one having an ethylene group or one having a hexyl group, the water absorption of the obtained cured product will be reduced.
【0010】新規ジ(メタ)アクリレートは、種々の方
法で製造することができ、n−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレートと、テレフタル酸又はテレフタル酸ク
ロライドとのエステル化によって製造する方法が好まし
い。但し、テレフタル酸は各種有機溶剤に対する溶解度
が極めて低いため、テレフタル酸クロライドを用いる方
法が好ましい。The novel di (meth) acrylate can be produced by various methods, and the method of producing it by esterification of n-hydroxybutyl (meth) acrylate with terephthalic acid or terephthalic acid chloride is preferred. However, since terephthalic acid has extremely low solubility in various organic solvents, a method using terephthalic acid chloride is preferable.
【0011】エステル化の方法としては、有機溶媒中、
ラジカル重合禁止剤の存在下に行う方法が好ましい。エ
ステル化反応においては、あらかじめn−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレートを反応容器に入れておいて、
テレフタル酸クロライドを滴下しても良いし、逆にテレ
フタル酸クロライドをあらかじめ反応容器に入れておい
て、n−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートを滴下
しても良い。n−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
トとテレフタル酸クロライドの割合は、通常、モル比で
n−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート/テレフタ
ル酸クロライド=2/1以上であることが好ましい。使
用するn−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートの割
合が少ないと、所望のジ(メタ)アクリレート以外の副
生成物が生成しやすくなり、収率が低下する。逆にn−
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートの割合が多すぎ
ると、反応液中のラジカル重合性成分の増加により、反
応中に重合反応が起こってしまうおそれがある。又、経
済的な観点からも好ましくない。したがって、テレフタ
ル酸クロライドに対して3倍以下の使用量にとどめるこ
とが好ましい。The method of esterification is as follows:
A method performed in the presence of a radical polymerization inhibitor is preferred. In the esterification reaction, n-hydroxybutyl (meth) acrylate was placed in a reaction vessel in advance,
Terephthalic acid chloride may be added dropwise, or conversely, terephthalic acid chloride may be placed in a reaction vessel in advance and n-hydroxybutyl (meth) acrylate may be added dropwise. Usually, the molar ratio of n-hydroxybutyl (meth) acrylate and terephthalic acid chloride is preferably n-hydroxybutyl (meth) acrylate / terephthalic acid chloride = 2/1 or more. When the proportion of n-hydroxybutyl (meth) acrylate used is small, by-products other than the desired di (meth) acrylate are likely to be produced and the yield is reduced. Conversely, n-
If the proportion of hydroxybutyl (meth) acrylate is too high, the radical polymerizable component in the reaction solution may increase, which may cause a polymerization reaction during the reaction. Also, it is not preferable from the economical point of view. Therefore, it is preferable to use it in an amount not more than 3 times that of terephthaloyl chloride.
【0012】エステル化反応は、有機溶媒中で行うこと
が好ましい。有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル系溶媒、
ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素系
溶媒、並びにn−ヘプタン、シクロヘキサン及びn−ヘ
キサン等の脂肪族炭化水素系溶媒等といった非反応性の
有機溶媒を、1種又は2種以上を混合して使用する。有
機溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、通
常はn−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートとテレ
フタル酸クロライドの合計重量に対して、10質量倍以
下であり、好ましくは0.5〜5質量倍以下である。The esterification reaction is preferably carried out in an organic solvent. As the organic solvent, an ether solvent such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane,
Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, and non-reactive organic solvents such as aliphatic hydrocarbon solvents such as n-heptane, cyclohexane and n-hexane are mixed singly or in combination of two or more. To use. The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is usually 10 mass times or less, and preferably 0.5 to 10 times, the total weight of n-hydroxybutyl (meth) acrylate and terephthalic acid chloride. It is 5 times or less by mass.
【0013】ラジカル重合禁止剤としては、ラジカルを
捕捉しうる化合物であれば特に制限されないが、好まし
いものとして、ハイドロキノン、メトキシハイドロキノ
ン、エトキシハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
フェノチアジン、t−ブチルカテコール及び次亜リン酸
等といった、従来より知られている通常のラジカル重合
禁止剤が使用可能である。これらのラジカル重合禁止剤
は単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良
い。通常は、反応液中に10〜10000ppmの範囲
で使用することが好ましく、100〜5000ppmが
より好ましい。The radical polymerization inhibitor is not particularly limited as long as it is a compound capable of trapping radicals, but preferred examples are hydroquinone, methoxyhydroquinone, ethoxyhydroquinone, methylhydroquinone,
Conventional conventionally known radical polymerization inhibitors such as phenothiazine, t-butylcatechol and hypophosphorous acid can be used. These radical polymerization inhibitors may be used alone or in combination of two or more. Usually, it is preferably used in the reaction solution in the range of 10 to 10,000 ppm, more preferably 100 to 5000 ppm.
【0014】さらに、反応で生じる塩化水素を補足する
ため、トリメチルアミン及びトリエチルアミン等の3級
アミン類を添加することが好ましい。これら3級アミン
は1種類を使用しても2種類以上を使用しても良いが、
通常は反応に使用する有機溶剤に対する溶解性や反応温
度との兼ね合いから適切な沸点を有するものを選択して
1種類を使用する。これらアミンは反応前にあらかじめ
反応容器に入れておいてもよいし、連続的に反応容器に
滴下する方式をとってもよい。Further, in order to supplement hydrogen chloride generated in the reaction, it is preferable to add tertiary amines such as trimethylamine and triethylamine. These tertiary amines may be used alone or in combination of two or more,
Usually, one having an appropriate boiling point is selected in consideration of the solubility in the organic solvent used in the reaction and the reaction temperature, and one type is used. These amines may be put in the reaction vessel in advance before the reaction, or may be continuously dropped into the reaction vessel.
【0015】本発明において、エステル化反応は、通常
0〜150℃、好ましくは室温〜120℃の範囲で行わ
れる。反応は通常、常圧下で行われる。反応時間は、反
応条件に応じて適宜設定すれば良く、通常1〜20時間
の範囲で行われる。In the present invention, the esterification reaction is carried out usually in the range of 0 to 150 ° C, preferably room temperature to 120 ° C. The reaction is usually performed under normal pressure. The reaction time may be appropriately set according to the reaction conditions, and is usually in the range of 1 to 20 hours.
【0016】エステル化反応終了後、得られた反応混合
物に水を加えて、反応により析出した、塩化水素とアミ
ンとからなる塩を溶解させる。この反応液に、酢酸エチ
ルや塩化メチレン等といった、抽出溶媒を加えて、(メ
タ)アクリレートの抽出を行う。この操作には通常、分
液漏斗のような器具を使用し、有機層と水層とを分離
し、得られた有機層から有機溶媒を減圧留去することに
よって(メタ)アクリレートを回収することができる。After completion of the esterification reaction, water is added to the obtained reaction mixture to dissolve the salt of hydrogen chloride and amine, which is precipitated by the reaction. An extraction solvent such as ethyl acetate or methylene chloride is added to this reaction solution to extract (meth) acrylate. Usually, an instrument such as a separating funnel is used for this operation, the organic layer and the aqueous layer are separated, and the organic solvent is distilled off from the obtained organic layer under reduced pressure to recover the (meth) acrylate. You can
【0017】2.ラジカル重合性モノマー
本発明の新規ジ(メタ)アクリレートは、単独で使用す
ることも可能であるが、樹脂との密着性を向上させた
り、Tgを調整する等の目的で、新規ジ(メタ)アクリ
レート以外のラジカル重合性モノマーを併用して使用す
ることも可能である。ラジカル重合性モノマーとして
は、種々の1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物
〔以下単官能(メタ)アクリレートという〕、2個以上
の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔以下多官能
(メタ)アクリレートという〕、並びにスチレン及びジ
ビニルベンゼン等のスチレン誘導体等が挙げられ、これ
らの中から使用目的や所望物性に合わせて、任意のもの
を任意の割合で使用することができる。 2. Radical Polymerizable Monomer Although the novel di (meth) acrylate of the present invention can be used alone, the novel di (meth) acrylate is used for the purpose of improving the adhesiveness with a resin or adjusting Tg. It is also possible to use together radically polymerizable monomers other than acrylate. As the radical-polymerizable monomer, various compounds having one (meth) acryloyl group [hereinafter referred to as monofunctional (meth) acrylate], compounds having two or more (meth) acryloyl groups [hereinafter polyfunctional (meth)] Acrylate], and styrene derivatives such as styrene and divinylbenzene, and the like, and any of these can be used in any proportion depending on the purpose of use and desired physical properties.
【0018】単官能(メタ)アクリレートとしては、フ
ェノールエチレンオキサイド変性(メタ)アクリレー
ト、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性(メ
タ)アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイ
ド変性(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルカル
ビトール(メタ)アクリレート及びイソボルニルアクリ
レート等の高沸点(メタ)アクリレート等を挙げること
ができる。又、これら以外にも、メチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メ
タ)アクリレート及びブチル(メタ)アクリレート等の
低分子量で沸点の低い(メタ)アクリレートを使用する
こともできる。As the monofunctional (meth) acrylate, phenol ethylene oxide modified (meth) acrylate, paracumylphenol ethylene oxide modified (meth) acrylate, nonylphenol ethylene oxide modified (meth) acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth) acrylate. And high-boiling point (meth) acrylates such as isobornyl acrylate. In addition to these, low molecular weight and low boiling point (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate can also be used.
【0019】多官能(メタ)アクリレートとしては、ビ
スフェノールFエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アク
リレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールZエチレンオキ
サイド変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エ
チレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポ
リプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の2
個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレー
ト、並びにペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性
トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオ
キサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパンプロピレンオキサイド変性トリ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド
変性トリ(メタ)アクリレート等の3個の(メタ)アクリ
ロイル基を有する(メタ)アクリレート等を挙げること
ができる。これら以外にも、4個以上の(メタ)アクリロ
イル基を有する(メタ)アクリレートも使用可能であ
る。又、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレートやエポキシ(メタ)アクリレート
等のオリゴマーも使用することができる。エポキシ(メ
タ)アクリレートとしては、グリセリンジグリシジルエ
ーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル及びトリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジル
エーテルの(メタ)アクリレート並びにビスフェノール
A型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のエポキ
シ樹脂の(メタ)アクリレート等が挙げられる。As the polyfunctional (meth) acrylate, bisphenol F ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, bisphenol Z ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate,
2 such as polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate
(Meth) acrylate having 1 (meth) acryloyl group, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (Meth) acrylate having three (meth) acryloyl groups such as (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide-modified tri (meth) acrylate, and trimethylolpropane ethylene oxide-modified tri (meth) acrylate can be exemplified. . Other than these, (meth) acrylates having 4 or more (meth) acryloyl groups can also be used. Further, oligomers such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate can also be used. Examples of the epoxy (meth) acrylate include (meth) acrylates of glycidyl ethers such as glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether and triglycidyl isocyanurate, and bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin and cresol novolac type epoxy resin. (Meth) acrylate of epoxy resin such as resin may be used.
【0020】3.光重合開始剤
本発明の新規ジ(メタ)アクリレート及び硬化性組成物
は、活性エネルギー線の照射又は加熱により硬化するも
のである。活性エネルギー線の照射により硬化させる場
合において、電子線、可視光線及び紫外線等の照射によ
り硬化するものであるが、安価な装置を使用でき、膜厚
の大きい硬化物を得ることができるため、可視光線又は
紫外線硬化型とする方が好ましい。可視光線又は紫外線
硬化性組成物とする場合、組成物に光重合開始剤を配合
する。尚、電子線硬化性組成物とする場合は、光重合開
始剤を必ずしも配合する必要はない。 3. Photopolymerization Initiator The novel di (meth) acrylate and curable composition of the present invention are cured by irradiation with active energy rays or heating. In the case of curing by irradiation with active energy rays, it is cured by irradiation with electron beams, visible rays, ultraviolet rays, etc., but it is possible to use an inexpensive device and obtain a cured product with a large film thickness. A light ray or ultraviolet ray curable type is preferable. When the composition is a visible light or ultraviolet ray curable composition, a photopolymerization initiator is added to the composition. When the composition is an electron beam curable composition, it is not always necessary to add a photopolymerization initiator.
【0021】光重合開始剤の具体例としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインプロピル
エーテル等のベンゾイン;アセトフェノン、2,2−ジ
メトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロ
ロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フ
ェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン及び
N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェ
ノン;2−メチルアントラキノン、1−クロロアントラ
キノン及び2−アミルアントラキノン等のアントラキノ
ン;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチ
ルチオキサントン、2−クロロチオキサントン及び2,
4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサント
ン;アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメ
チルケタール等のケタール;ベンゾフェノン、メチルベ
ンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、
4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラ
ーズケトン及び4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニ
ルサルファイド等のベンゾフェノン;並びに2,4,6
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ド等が挙げられる。光重合開始剤は、単独で使用して
も、2種以上を併用しても良い。光重合開始剤には、必
要に応じて光増感剤を併用することができる。光増感剤
としては、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエス
テル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエス
テル、トリエチルアミン及びトリエタノールアミン等が
挙げられる。光重合開始剤を配合する場合は、新規ジ
(メタ)アクリレート100質量部、又は新規ジ(メ
タ)アクリレート及びラジカル重合性モノマーの合計量
100質量部に対して、0.05〜12質量部が好まし
く、より好ましくは0.1〜2質量部である。Specific examples of the photopolymerization initiator include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin propyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, Acetophenones such as 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one and N, N-dimethylaminoacetophenone; Anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone and 2-amylanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,
Thioxanthones such as 4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenone, methylbenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone,
Benzophenones such as 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone and 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide; and 2,4,6
-Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like can be mentioned. The photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more kinds. A photosensitizer can be used in combination with the photopolymerization initiator, if necessary. Examples of the photosensitizer include N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, triethylamine and triethanolamine. When the photopolymerization initiator is added, 0.05 to 12 parts by mass is added to 100 parts by mass of the new di (meth) acrylate or 100 parts by mass of the total amount of the new di (meth) acrylate and the radical-polymerizable monomer. It is preferably 0.1 to 2 parts by mass.
【0022】4.熱重合開始剤
本発明の新規ジ(メタ)アクリレート及び硬化性組成物
を加熱により硬化させる場合、熱重合開始剤を配合す
る。熱重合開始剤としては、種々の化合物を使用するこ
とができ、有機過酸化物及びアゾ系開始剤が好ましい。
有機過酸化物の具体例としては、1,1−ビス(t−ブ
チルパーオキシ)2−メチルシクロヘキサン、1,1−
ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパー
オキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパ
ーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、
1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサ
ン、2,2−ビス(4,4−ジ−ブチルパーオキシシク
ロヘキシル)プロパン、1,1−ビス(t−ブチルパー
オキシ)シクロドデカン、t−ヘキシルパーオキシイソ
プロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレ
イン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチ
ルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオ
キシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモ
ノカーボネート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキ
シルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾ
エート、2,5−ジーメチル−2,5−ジ(ベンゾイル
パーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテー
ト、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t
−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル−4,4
−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ−t−
ブチルパーオキシイソフタレート、α、α‘−ビス(t
−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミ
ルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t
−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパー
オキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、p−メン
タンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,
5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジイソ
プロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、t−ブチル
トリメチルシリルパーオキサイド、1,1,3,3−テ
トラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、t−ヘキシルハイドロパーオキサ
イド、t−ブチルハイドロパーオキサイド等が挙げられ
る。アゾ系化合物の具体例としては、1,1’−アゾビ
ス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2−(カ
ルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2−フェニルア
ゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、
アゾジ−t−オクタン、アゾジ−t−ブタン等が挙げら
れる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用
しても良い。又、有機過酸化物は還元剤と組み合わせる
ことによりレドックス反応とすることも可能であるが、
ジメチルアニリン等の含窒素化合物やナフテン酸コバル
ト等の含金属化合物は着色の原因となりうるため通常は
用いることはない。ただし、状況に応じて使用すること
も可能である。これら熱重合開始剤の使用量としては、
新規ジ(メタ)アクリレート100質量部、又は新規ジ
(メタ)アクリレート及びラジカル重合性モノマーの合
計量100質量部に対して、10質量部を超えないこと
が好ましい。熱重合開始剤を単独で用いる場合は、通常
のラジカル熱重合の常套手段にしたがって行えばよく、
場合によっては光重合開始剤と併用し、光硬化させた後
にさらに反応率を向上させる目的で熱硬化を行うことも
できる。 4. Thermal Polymerization Initiator When the novel di (meth) acrylate and curable composition of the present invention are cured by heating, a thermal polymerization initiator is added. Various compounds can be used as the thermal polymerization initiator, and organic peroxides and azo initiators are preferable.
Specific examples of the organic peroxide include 1,1-bis (t-butylperoxy) 2-methylcyclohexane and 1,1-
Bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5 -Trimethylcyclohexane,
1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4,4-di-butylperoxycyclohexyl) propane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, t- Hexyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxymaleic acid, t-butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butyl peroxylaurate,
2,5-Dimethyl-2,5-di (m-toluoyl peroxy) hexane, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy 2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, 2, 5-Dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxyacetate, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, t
-Butyl peroxybenzoate, n-butyl-4,4
-Bis (t-butylperoxy) valerate, di-t-
Butyl peroxyisophthalate, α, α′-bis (t
-Butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t
-Butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butylperoxide, p-menthane hydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,
5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, diisopropylbenzene hydroperoxide, t-butyltrimethylsilyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-hexyl Examples thereof include hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide. Specific examples of the azo compound include 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile, 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile. ,
Examples thereof include azodi-t-octane and azodi-t-butane. These may be used alone or in combination of two or more. Further, it is possible to make a redox reaction by combining an organic peroxide with a reducing agent,
Nitrogen-containing compounds such as dimethylaniline and metal-containing compounds such as cobalt naphthenate can cause coloring and are not usually used. However, it can also be used depending on the situation. As the amount of these thermal polymerization initiators used,
It is preferable not to exceed 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the new di (meth) acrylate or 100 parts by mass of the total amount of the new di (meth) acrylate and the radical-polymerizable monomer. When the thermal polymerization initiator is used alone, it may be carried out according to the conventional means of ordinary radical thermal polymerization,
In some cases, it may be used in combination with a photopolymerization initiator and, after photocuring, heat curing may be performed for the purpose of further improving the reaction rate.
【0023】5.使用方法
本発明の新規ジ(メタ)アクリレートは、光ラジカル重
合性モノマー又は熱ラジカル重合性モノマーとして、単
独で使用することもでき、又はラジカル重合性モノマー
若しくはその他成分と併用して使用することもできる。
前記成分以外にも、必要に応じて、消泡剤、レベリング
剤、無機フィラー、有機フィラー及び光安定剤等を配合
することもできる。 5. Method of Use The novel di (meth) acrylate of the present invention can be used alone as a photo-radical-polymerizable monomer or a heat-radical-polymerizable monomer, or can be used in combination with a radical-polymerizable monomer or other components. it can.
In addition to the above components, an antifoaming agent, a leveling agent, an inorganic filler, an organic filler, a light stabilizer and the like can be blended, if necessary.
【0024】本発明の新規ジ(メタ)アクリレート及び
硬化性組成物は種々の用途に使用可能であり、樹脂フィ
ルム用接着剤、塗料、インキ、レジスト及び成形材等が
挙げられる。特に、本発明の新規ジ(メタ)アクリレー
ト及び硬化性組成物は、その硬化物物性から、特に積層
フィルム用接着剤として有用である。The novel di (meth) acrylate and curable composition of the present invention can be used for various purposes, and examples thereof include adhesives for resin films, paints, inks, resists and molding materials. In particular, the novel di (meth) acrylate and curable composition of the present invention are particularly useful as an adhesive for laminated films due to the physical properties of the cured product.
【0025】[0025]
【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明を
より具体的に説明する。尚、以下において「部」とは質
量部を意味する。EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, "parts" means parts by mass.
【0026】○実施例1〔新規ジアクリレートの製造〕
※テレフタル酸クロライドを逐次的に添加する方法
1Lフラスコ中に、ジオキサン250g、トリエチルア
ミン54.83g(0.5419mol)、ヒドロキシ
ブチルアクリレート142.03g(0.9851mo
l)及び重合禁止剤のQ−1301〔和光純薬(株)
製、以下同様〕0.027g(50ppm)を加えて加
熱・還流した。還流開始後、テレフタル酸クロライド1
00g(0.4926mol)を10分割し、15分間
隔で枝管から加えた。酸クロライドを添加し終わった後
に、さらに2時間還流させた。2時間後には塩化水素の
白煙は全く認められなかったため、反応を停止した。反
応液を60℃に冷却した後に、水300gを加えてアン
モニウム塩を水に完全に溶解させた後、酢酸エチル30
0gで反応物を抽出した。さらに、水層を300gの酢
酸エチルで抽出した。得られた有機層を10%硫酸25
0gで2回で洗浄し、ついで5%NaHCO 3200g
×2で洗浄した。有機層をMgSO4で乾燥後、加圧濾
過、脱溶剤し、141.17gのジアクリレートを得た
(収率68.5%)。尚、脱溶剤前にTLC(ヘキサン
/酢酸エチル=5/5)を調べたところ、Rf:0.7
0であった。得られた反応物を分析した結果、目的のア
クリレートが生成していることを確認した。分析結果を
以下に示す。○ Example 1 [Production of novel diacrylate]
* Method of sequentially adding terephthaloyl chloride
In a 1 L flask, 250 g dioxane, triethyl
Min 54.83 g (0.5419 mol), hydroxy
Butyl acrylate 142.03g (0.9851mo
l) and the polymerization inhibitor Q-1301 [Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
Manufacture, the same as below] Add 0.027 g (50 ppm)
Heated and refluxed. After starting reflux, terephthalic acid chloride 1
00g (0.4926mol) is divided into 10 parts, 15 minutes
It was added from a branch pipe at a distance. After adding acid chloride
And refluxed for another 2 hours. After 2 hours,
No white smoke was observed, so the reaction was stopped. Anti
After cooling the reaction solution to 60 ° C, add 300 g of water and add
After the monium salt is completely dissolved in water, ethyl acetate 30
The reaction was extracted with 0 g. In addition, add 300 g of vinegar to the water layer.
It was extracted with ethyl acidate. The obtained organic layer is mixed with 10% sulfuric acid 25
Wash 2 times with 0 g, then 5% NaHCO 3200 g
It was washed with × 2. The organic layer is MgSOFourAfter drying with a pressure filter
Excessive solvent removal gave 141.17 g of diacrylate.
(Yield 68.5%). Before removing the solvent, TLC (hexane
/ Ethyl acetate = 5/5), Rf: 0.7
It was 0. As a result of analyzing the obtained reaction product,
It was confirmed that crelate was generated. Analysis results
It is shown below.
【0027】・分析結果
1)融点:室温で白濁した高粘度液体
2)元素分析(%)
計算値:C:63.15;H:6.26;O:30.59
実測値:C:64.29;H:5.93;O:29.76
3)1H NMRスペクトル(270MHz、測定溶媒CDCl3)
得られたアクリレートの構造式を式(2)に示し、それぞ
れのプロトンにa〜hの番号を付けた。帰属は表1の通
りである。-Analysis result 1) Melting point: high viscosity liquid clouded at room temperature 2) Elemental analysis (%) Calculated value: C: 63.15; H: 6.26; O: 30.59 Measured value: C: 64 .29; H: 5.93; O: 29.76 3) 1 H NMR spectrum (270 MHz, measuring solvent CDCl 3 ) The structural formula of the obtained acrylate is shown in formula (2), and a to h are assigned to each proton. Numbered. The attribution is as shown in Table 1.
【0028】[0028]
【化3】 [Chemical 3]
【0029】[0029]
【表1】 [Table 1]
【0030】○実施例2〔新規ジアクリレートの製造〕
※ヒドロキシブチルアクリレート/トリエチルアミンを
滴下する方法
1Lフラスコに、ジオキサン200g、テレフタル酸ク
ロライド100g(0.4926mol)、Q−130
1;0.02g(50ppm)を加えて80℃に加熱し
た。溶液は完全均一ではなく、テレフタル酸クロライド
が分散した状態であった。次いでトリエチルアミン5
4.83g(0.5419mol)、ヒドロキシブチル
アクリレート142.03g(0.9851mol)の
混合物を3時間かけてチャージした。チャージしている
間にアンモニウム塩と塩化水素が多量に生成したが、内
温は特に上昇しなかった。チャージ終了後、バス温を上
げて2時間還流させた。2時間後には塩化水素の白煙は
全く認められなかったため、反応を停止した。60℃に
冷却した後に、水200gを加えてアンモニウム塩を完
全に溶解させた。酢酸エチル250gで反応物の抽出を
試みたが、分離しなかったため、10%H2SO4250
g×2で洗浄し、有機層を回収した。ついで5%NaH
CO3200g×2で洗浄した。有機層をMgSO4で乾
燥後、加圧濾過、脱溶剤し、178.75gのジアクリ
レートを得た(収率86.7%)。なお、脱溶剤前にT
LC(ヘキサン/酢酸エチル=5/5)を調べたとこ
ろ、Rf:0.70であり、実施例1で得られたものと
同一であった。Example 2 [Production of novel diacrylate] * Method of dropping hydroxybutyl acrylate / triethylamine into a 1 L flask, dioxane 200 g, terephthalic acid chloride 100 g (0.4926 mol), Q-130
1; 0.02 g (50 ppm) was added and heated to 80 ° C. The solution was not completely uniform, and terephthaloyl chloride was dispersed. Then triethylamine 5
A mixture of 4.83 g (0.5419 mol) and 142.03 g (0.9851 mol) of hydroxybutyl acrylate was charged over 3 hours. A large amount of ammonium salt and hydrogen chloride were produced during charging, but the internal temperature did not rise particularly. After the completion of charging, the bath temperature was raised and refluxed for 2 hours. After 2 hours, no white smoke of hydrogen chloride was observed, so the reaction was stopped. After cooling to 60 ° C., 200 g of water was added to completely dissolve the ammonium salt. An attempt was made to extract the reaction product with 250 g of ethyl acetate, but it was not separated, so 10% H 2 SO 4 250
It was washed with g × 2 and the organic layer was collected. Then 5% NaH
It was washed with 200 g of CO 3 × 2. The organic layer was dried over MgSO 4 , filtered under pressure and desolvated to obtain 178.75 g of diacrylate (yield 86.7%). Before removing the solvent,
When LC (hexane / ethyl acetate = 5/5) was examined, Rf was 0.70, which was the same as that obtained in Example 1.
【0031】○実施例3及び4(紫外線硬化性組成物の
製造)
表2に示す各成分を常法に従い攪拌・混合し、80℃に
保った乾燥機中に組成物を15分間放置することによ
り、光重合開始剤を溶解させて紫外線硬化性組成物を製
造した。バーコーターを用いて、組成物をポリメチルメ
タクリレート(PMMA)板又はガラス平板上に厚さ5
0μmで、塗布し、コンベアスピード5m/分、出力1
60W/cmの高圧水銀ランプで0.8J/cm2の条
件で紫外線照射を、10回行なった。得られた硬化物
を、以下の方法に従い、評価した。それらの結果を表2
に示す。Examples 3 and 4 (Production of UV-curable composition) Each component shown in Table 2 was stirred and mixed according to a conventional method, and the composition was left for 15 minutes in a dryer kept at 80 ° C. Thus, the photopolymerization initiator was dissolved to produce an ultraviolet curable composition. Using a bar coater, apply the composition to a thickness of 5 on a polymethylmethacrylate (PMMA) plate or a glass plate.
Coating at 0 μm, conveyor speed 5 m / min, output 1
Ultraviolet irradiation was performed 10 times with a 60 W / cm high pressure mercury lamp under the condition of 0.8 J / cm 2 . The obtained cured product was evaluated according to the following method. The results are shown in Table 2.
Shown in.
【0032】・評価
1)碁盤目試験
基材として、ポリメチルメタクリレート板(以下PMM
A板という)を用い、PMMA板上に得られた硬化物を
冷却した後にJIS K 5400に準じて碁盤目試験
を行った。カッターガイドにはすきま1mmのものを使
用し、1mm×1mmの桝目数100個で評価した。評
価結果は碁盤目試験の評価点数表にしたがって点数で評
価した。Evaluation 1) As a cross-cut test base material, a polymethylmethacrylate plate (hereinafter referred to as PMM)
(Hereinafter referred to as A plate), the cured product obtained on the PMMA plate was cooled, and then a cross-cut test was conducted according to JIS K5400. A cutter guide having a clearance of 1 mm was used, and evaluation was performed with 100 meshes of 1 mm × 1 mm. The evaluation results were evaluated by points according to the evaluation score table of the cross cut test.
【0033】2)吸水率
ガラス板上で光硬化させて得られた樹脂シートを5cm
×5cmに切り出し、これを試験片とした。この試験片
を窒素中、210℃で1時間加熱し、硬化物を完全に乾
燥させた後に、デシケーター中で放冷し、試験片を秤量
した(W1)。ついで試験片を80℃の蒸留水に20時
間浸漬し、取り出した後に試験片表面の水を軽く拭き取
り秤量し(W2)、次式より吸水率を算出した。2) Water absorption rate 5 cm of a resin sheet obtained by photo-curing on a glass plate.
It was cut into 5 cm and used as a test piece. The test piece was heated in nitrogen at 210 ° C. for 1 hour to completely dry the cured product, and then allowed to cool in a desiccator, and the test piece was weighed (W1). Then, the test piece was immersed in distilled water at 80 ° C. for 20 hours, taken out, and then water on the surface of the test piece was wiped off and weighed (W2), and the water absorption rate was calculated from the following formula.
【0034】[0034]
【式1】 吸水率(%)=100×(W2−W1)/W1[Formula 1] Water absorption rate (%) = 100 × (W2-W1) / W1
【0035】○実施例5及び6(熱硬化性組成物の製
造)
表2に示す各成分を室温で攪拌・混合した後に、80℃
に保った乾燥機中で、得られた組成物に含まれる気泡を
15分かけて取り除き、熱硬化性組成物を製造した。得
られた組成物をバーコーターを用いて、PMMA板上又
はガラス板上に厚さ50μmで塗布し、次いで150℃
の乾燥機中で3時間熱硬化を行った。得られた硬化物
を、実施例3〜4と同様の方法で評価した。それらの結
果を表2に示す。○ Examples 5 and 6 (Production of thermosetting composition) After stirring and mixing the components shown in Table 2 at room temperature, 80 ° C
Bubbles contained in the obtained composition were removed over 15 minutes in a dryer maintained at 0.degree. C. to produce a thermosetting composition. The obtained composition was applied on a PMMA plate or a glass plate with a thickness of 50 μm using a bar coater, and then at 150 ° C.
Heat curing was carried out for 3 hours in the dryer. The obtained cured product was evaluated in the same manner as in Examples 3-4. The results are shown in Table 2.
【0036】[0036]
【表2】 [Table 2]
【0037】尚、表2における略号は、以下の意味を示
す。
1)実施例1で得られたジアクリレート
2)M−203:東亞合成(株)製アロニックスM−2
03、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
3)HCPK:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン
4)BDMK:ベンジルジメチルケタール
5)PD:日本油脂(株)製パーブチルD:ジターシャ
リブチルパーオキサイドThe abbreviations in Table 2 have the following meanings. 1) Diacrylate obtained in Example 1 2) M-203: Aronix M-2 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
03, tricyclodecane dimethanol diacrylate 3) HCPK: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 4) BDMC: benzyl dimethyl ketal 5) PD: Perbutyl D produced by NOF CORPORATION D: Ditertiarybutyl peroxide
【0038】[0038]
【表3】 [Table 3]
【0039】尚、表2における略号は、以下以外は表1
と同様の意味を示す。
1)HETDA:下記式(3)で表されるジアクリレー
ト。The abbreviations in Table 2 are the same as those in Table 1
Has the same meaning as. 1) HETDA: a diacrylate represented by the following formula (3).
【0040】[0040]
【化4】 [Chemical 4]
【0041】2)M−208:東亞合成(株)製アロニ
ックスM−208、ビスフェノールFエチレンオキサイ
ド4モル変性ジアクリレート
3)M−245:東亞合成(株)製アロニックスM−2
45、ポリエチレングリコールジアクリレート(エチレ
ンオキサイド単位9モル)2) M-208: Aronix M-208 manufactured by Toagosei Co., Ltd., bisphenol F ethylene oxide 4 mol modified diacrylate 3) M-245: Aronix M-2 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
45, polyethylene glycol diacrylate (ethylene oxide unit 9 mol)
【0042】実施例の結果から、本発明のジアクリレー
ト及び硬化性組成物によれば、得られる硬化物は樹脂に
対する密着性に優れており、吸水率も低い。From the results of the examples, according to the diacrylate and the curable composition of the present invention, the obtained cured product has excellent adhesion to the resin and low water absorption.
【0043】[0043]
【発明の効果】本発明の新規ジ(メタ)アクリレート
は、活性エネルギー線硬化用又は熱硬化用の(メタ)ア
クリレートとして使用でき、得られる硬化物は、密着性
及び低吸水率に優れる。従って、本発明の新規ジ(メ
タ)アクリレート又は硬化性組成物は、密着性及び低吸
水率を要求される、電化製品の電子回路を構成するプリ
ント基板の防水処理用の防水塗料といった塗料分野をは
じめ、インキ、レジスト及び透明アクリル板等の成形品
といった種々の分野に極めて有用である。INDUSTRIAL APPLICABILITY The novel di (meth) acrylate of the present invention can be used as a (meth) acrylate for active energy ray curing or heat curing, and the resulting cured product is excellent in adhesion and low water absorption. Therefore, the novel di (meth) acrylate or curable composition of the present invention can be applied to a paint field such as a waterproof paint for waterproof treatment of a printed circuit board that constitutes an electronic circuit of an electric appliance, which requires adhesiveness and low water absorption. First, it is extremely useful in various fields such as inks, resists, and molded products such as transparent acrylic plates.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA01 AB46 BJ50 4J100 AL03Q AL04Q AL08Q AL63Q AL66P AL66Q BA03Q BA08Q BA20P BA21Q BA39Q BA43Q BC43P CA01 CA04 JA01 JA03 JA07 JA38 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 4H006 AA01 AB46 BJ50 4J100 AL03Q AL04Q AL08Q AL63Q AL66P AL66Q BA03Q BA08Q BA20P BA21Q BA39Q BA43Q BC43P CA01 CA04 JA01 JA03 JA07 JA38
Claims (5)
ート。 【化1】 〔但し、式(1)において、R1は水素原子又はメチル基で
ある。〕1. A di (meth) acrylate represented by the following formula (1). [Chemical 1] [However, in the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group. ]
び必要に応じてこれ以外のラジカル重合性モノマーを含
有してなる硬化性組成物。2. A curable composition comprising the di (meth) acrylate according to claim 1 and a radical-polymerizable monomer other than this, if necessary.
クリレートである請求項2に記載の硬化性組成物。3. The curable composition according to claim 2, wherein the radically polymerizable monomer is (meth) acrylate.
2又は請求項3に記載の硬化性組成物。4. The curable composition according to claim 2, further comprising a photopolymerization initiator.
2〜請求項4のいずれかに記載の硬化性組成物。5. The curable composition according to claim 2, further comprising a thermal polymerization initiator.
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