JP2003043232A - 反射板とその製造方法、液晶表示装置、電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画面の左右方向（横方向）において反射光強
度の高い領域が広い特性を有する反射板の提供を目的と
する。 【解決手段】 本発明の反射板は複数の凹状反射面を有
しており、縦方向に切断した際の断面形状が、傾斜が急
峻な第１の湾曲面と、第１の湾曲面よりも面積が広くか
つ傾斜が緩やかな第２の湾曲面とを有する非対称形をな
し、横方向に切断した際の断面形状が第２の湾曲面より
も曲率が大きい湾曲面を有する対称形をなしている。こ
れにより、最大反射強度に対して一定割合の反射強度が
得られる反射角の範囲が表示領域の縦方向よりも横方向
に広いという特性を実現している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射板とその製造
方法、液晶表示装置、電子機器に関し、特に、反射光の
指向性を有する凹状反射面または凸状反射面を有する反
射板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】反射型の液晶表示装置は、バックライト
等の光源を持たないために消費電力が小さく、従来から
種々の携帯電子機器や装置の付属的な表示部等に多用さ
れている。ところが、反射型の液晶表示装置は、自然光
や照明光などの外光を利用して表示を行うため、外光の
光量が限られた場所では表示の視認性が低下する、とい
う問題があった。また、この種の液晶表示装置では、従
来から反射膜の表面に多数の凹凸を形成し、反射光を拡
散させることによってある程度の視野角で明るい表示を
得る技術が採用されてきた。ところが、反射光の限られ
た光量の中でより有効に反射光を利用し、使用者の目に
とって明るい表示を得るという観点から、断面形状が対
称形の凹凸を形成し、この凹凸で等方的に光を拡散させ
る従来の技術に代えて、例えば断面形状が非対称の凹
凸、すなわち傾斜が緩い面と傾斜が急な面を有するよう
な凹凸を形成し、光の拡散に異方性（本明細書では、以
下、指向性という）を持たせることで反射光の向きを使
用者の目の方向に合わせるという技術、いわゆる指向性
反射板の技術が提案されている。

【０００３】例えば表面に多数の凸部を形成した反射板
においては、凸部の表面が反射面となるが、凸部の断面
形状が非対称になるような設計を行うことによって、反
射面の傾斜が緩い部分の面積を傾斜が急な面の面積より
も充分に大きくすることができる。すなわち、図１８に
示すように、基板１００上の個々の凸部１０５は断面形
状が非対称であり、緩斜面の面積が急斜面の面積よりも
大きくなっている。この反射板１００を組み込んだ液晶
表示装置において、通常の使用環境では画面の上方向か
ら太陽光、照明光などの外光が入射し、使用者は画面の
略正面で見るのが普通であるから、画面の上方向からの
外光（矢印Ａ１で示した方向からの光）が反射層１０６
の緩斜面で反射し、特にパネル正面方向への反射光量が
多くなるため、使用者は明るい画像を視認することがで
きる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の指向性反射板には以下の問題点があった。上で述べ
たように、従来の指向性反射板の設計の考え方は、画面
の上方向（液晶パネルに対して斜め方向）から入射する
光を略正面方向に反射させる、つまり画面の上下方向
（縦方向）においてパネル正面方向への反射光量を増す
ことで明るい画像を得ようとするものであった。しかし
ながら、実際に液晶表示装置を組み込んだ電子機器、例
えば携帯電話などの携帯用電子機器を使用する場合を考
えると、通常の使用者の動作として、画面の上下方向に
ついては使用者が電子機器を適宜傾けるなどして画面を
見る角度を適当に調整し、表示が明るくなる角度を自然
に探している。よって、表示が明るい角度範囲はあまり
広くなくても画面の正面方向により強く反射させる指向
性があればよいことになる。それに対して、画面の左右
方向（横方向）については、あまり傾けると表示が見難
くなるという視野角の問題もあり、画面を左右に振って
表示が明るい角度を探すという動作はとらないのが普通
である。

【０００５】以上のことを考慮すると、画面の左右方向
においては、上下方向に比べて反射光の強度がある程度
高い角度範囲が広いことが要求されることになる。とこ
ろが、従来の指向性反射板の設計では、画面の上下方向
における最適な反射面の形状などは検討がなされてきた
が、上下方向とのバランスを加味した上での左右方向に
おける最適な反射面の形状については、あまり考慮され
ていないのが現状であった。

【０００６】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、画面の左右方向（横方向）におい
て反射光強度の高い角度範囲が広い特性を有する反射板
の提供を目的とする。また、上記反射板を備えたことで
明るい表示が得られる液晶表示装置の提供を目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の反射板は、最大反射強度に対して一定割
合の反射強度が得られる反射角の範囲が表示領域の縦方
向よりも横方向に広くなる特性を有する凹状反射面また
は凸状反射面が複数設けられたことを特徴とする。ま
た、この構成により、前記複数の凹状反射面または凸状
反射面により表示領域全体から得られる反射光の最大反
射強度に対して一定割合の反射強度が得られる範囲が表
示領域の縦方向よりも横方向に広いことを特徴とする。
なお、ここで言う「表示領域の縦方向または横方向」と
は、この反射板を液晶表示装置などの表示装置に組み込
んだ場合に、その表示装置の表示領域における縦方向、
横方向にそれぞれ相当する方向のことを言う。

【０００８】この構成によれば、複数の凹状反射面また
は凸状反射面のそれぞれが、最大反射強度に対して一定
割合の反射強度が得られる反射角の範囲が表示領域の縦
方向よりも横方向に広いという特性を有しているので、
反射板全体の特性としても表示領域の縦方向に比べて横
方向により広い範囲で反射光が散乱する効果を得ること
ができる。

【０００９】前記一定割合の反射強度が、最大反射強度
からの低下量として３ｄＢ以内の範囲にあることが望ま
しい。

【００１０】本発明者は、過去の様々な検討結果から、
反射光が強度分布を持つ場合に最大反射強度から３ｄＢ
低下までの強度であれば、使用者が感覚的に明るいと感
じる領域となることを見出している。したがって、前記
の「一定割合の反射強度」が最大反射強度からの低下量
として３ｄＢ以内の範囲にあるとき、使用者が実際の使
用状態で明るい範囲が横方向にも充分に広いと感じる反
射板を得ることができる。

【００１１】また、前記最大反射強度に対して一定割合
の反射強度が得られる範囲が前記表示領域面内において
横長の楕円形の分布となっており、前記横方向に相当す
る楕円の長軸方向の径が前記縦方向に相当する楕円の短
軸方向の径の１．１〜２．５倍の範囲にあることが望ま
しい。

【００１２】その理由は、楕円の長軸方向の径が短軸方
向の径の１．１倍より小さいと、使用者が明るい表示を
得るためには左右に表示装置を傾ける必要があり、ま
た、２．５倍より大きいと、散乱光が拡散しすぎるため
に表示が暗くなってしまうからである。

【００１３】上記のような「最大反射強度に対して一定
割合の反射強度が得られる反射角の範囲が表示領域の縦
方向よりも横方向に広い」という特性を実現するための
前記凹状反射面または凸状反射面の具体的な形状として
は、前記縦方向に切断した際の断面形状が、傾斜が急峻
な第１の湾曲面と該第１の湾曲面よりも面積が広くかつ
傾斜が緩やかな第２の湾曲面とを有する非対称の形状で
あり、前記横方向に切断した際の断面形状が、前記第２
の湾曲面よりも曲率が大きい湾曲面を有する対称の形状
であればよい。

【００１４】このような断面形状とした場合、縦方向に
関しては、傾斜が急峻な第１の湾曲面とこれよりも面積
が広くかつ傾斜が緩やかな第２の湾曲面とを有する非対
称の形状となっているので、入射光は主に傾斜が緩やか
な第２の湾曲面で反射することになり、「従来の技術」
の項で説明したように、表示領域の上方向から入射する
外光を略正面方向に反射させることができる。さらに横
方向に関しては、前記第２の湾曲面よりも曲率が大きい
湾曲面を有しているので、反射光の散乱角度が広くな
り、明るい角度範囲を縦方向よりも広げることができ
る。

【００１５】また、前記凹状反射面または凸状反射面
が、前記表示領域内でランダムに配置されていることが
望ましい。

【００１６】仮に凹状反射面または凸状反射面が規則的
に配置されていると、各反射面からの反射光の干渉が生
じ、モアレが発生する恐れがあるが、ランダムに配置さ
れていればモアレの発生を防止することができる。

【００１７】さらに、大きさが異なる前記凹状反射面ま
たは凸状反射面が、前記表示領域内に複数配置されてい
ることが望ましい。

【００１８】上記と同様、凹状反射面または凸状反射面
の大きさが全く同一であるとモアレが発生する恐れがあ
るが、大きさが異なる凹状反射面または凸状反射面であ
ればモアレの発生を防止することができる。また、例え
ば凹状反射面、凸状反射面の平面形状が円形、楕円形な
どの場合、同じ大きさの複数の反射面を配置しようとす
ると反射板の面内に平坦部分ができ、この部分では入射
光が正反射するので、指向性が弱まってしまう。そこ
で、複数の凹状反射面、凸状反射面の隙間を大きさが異
なる他の反射面で埋めるようにすれば、平坦な部分が少
なくなり、正反射する反射光を減らして充分な指向性を
得ることができる。

【００１９】前記凹状反射面または凸状反射面は、樹脂
層の表面に形成した凹部または凸部の表面に反射膜を形
成したもので構成することができる。

【００２０】この構成であれば、以下に示す方法によっ
て本発明の反射板を容易に製造することができる。

【００２１】本発明の反射板の製造方法は、基板上に前
記樹脂層となる感光性樹脂を塗布する工程と、光透過領
域または遮光領域のパターン形状が異なるフォトマスク
を用いて前記感光性樹脂に対して複数回の露光を行い、
現像を行うことにより、段差を有する複数の凹部または
凸部を前記樹脂層の表面に形成する工程と、前記段差を
有する前記複数の凹部または前記凸部の表面をなだらか
な曲面に形状変化させる工程と、前記複数の凹部または
前記凸部のなだらかな表面上に反射膜を形成することに
より前記凹状反射面または凸状反射面を形成する工程、
とを有することを特徴とする。

【００２２】この構成によれば、光透過領域または遮光
領域のパターン形状が異なる複数のフォトマスクを用意
しておきさえすれば、通常のフォトリソグラフィー技術
（露光、現像工程）により段差を有する凹凸を形成する
ことができる。そして、感光性樹脂の段差をだれさせる
処理を施して凹凸の表面をなだらかな曲面に形状変化さ
せた後、反射膜を形成することによって、本発明特有の
反射特性を有する反射板を容易に製造することができ
る。また、フォトマスクのパターンを適宜設計変更する
ことによって、凹状反射面または凸状反射面の形状を制
御することができる。

【００２３】段差を有する凹凸を形成した後、凹凸の表
面をなだらかにする方法として、一つは、段差を有する
感光性樹脂を熱処理することにより凸部または凹部の表
面をなだらかな曲面に形状変化させることができる。他
の一つは、段差を有する感光性樹脂の表面を他の膜で覆
うことにより凸部または凹部の表面をなだらかな曲面に
形状変化させることができる。これらの方法は、使用す
る感光性樹脂の性質などにより適宜使い分ければよい
が、例えば感光性樹脂がリフローしやすい性質のもので
あれば、前者の方法により容易になだらかにすることが
できる。また、感光性樹脂がリフローしにくいものであ
ったり、熱処理を避けたい場合などには後者の方法を採
ればよい。

【００２４】本発明の他の反射板の製造方法は、前記凹
部または凸部の所望の形状が反転した形状のネガ型を用
い、該ネガ型の形状を転写することによって前記樹脂層
からなる複数の凹部または凸部を基板上に形成する工程
と、前記複数の凸部または前記凹部の表面上に反射膜を
形成することにより前記凹状反射面または凸状反射面を
形成する工程、とを有することを特徴とする。

【００２５】この構成によれば、凹部または凸部の所望
の形状が反転した形状のネガ型を作成することによっ
て、フォトリソグラフィー技術を用いることなく、本発
明特有の反射特性を有する反射板を安価に製造すること
ができる。また、ネガ型の表面形状を適宜設計変更する
ことによって凹状反射面または凸状反射面の形状を所望
の形状に制御することができる。

【００２６】本発明の液晶表示装置は、一対の基板間に
液晶が挟持されてなる液晶表示装置であって、前記一対
の基板のうちの一方の基板の外面に、上記本発明の反射
板を備えたことを特徴とする。あるいは、前記一対の基
板のうちの一方の基板の液晶側の面に、上記本発明の反
射板を備えたことを特徴とする。

【００２７】すなわち、本発明の液晶表示装置は、上記
本発明の反射板を一方の基板の外面に取り付けた、いわ
ゆる外付けタイプのものでもよいし、一方の基板の液晶
側の面に取り付けた、いわゆる内蔵タイプのものでもよ
い。上記本発明の反射板を備えたことにより、照明環境
に依存することなく、明るい反射表示を実現することが
できる。

【００２８】また本発明は、パッシブマトリクス方式、
アクティブマトリクス方式の液晶表示装置のいずれを問
わず、適用が可能である。その中で特にアクティブマト
リクス方式に効果的な構成として、前記一方の基板上
に、表示領域を構成するマトリクス状の各画素に対応し
て薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor, 以下、Ｔ
ＦＴと略記する）、薄膜ダイオード（Thin Film Diode,
以下、ＴＦＤと略記する）等のスイッチング素子を設け
た場合、導電膜からなる反射膜を各画素毎に配置して画
素電極を兼ねるようにする。そして、反射膜からなる画
素電極とスイッチング素子の一つの端子とをコンタクト
形成領域において電気的に接続する構成とすることが望
ましい。

【００２９】この構成によれば、導電膜からなる反射膜
が画素電極を兼ねているので、アクティブマトリクス方
式の液晶表示装置としての構成を簡略化することがで
き、製造プロセスも簡略化される。

【００３０】前記反射膜として光の一部を透過する機能
を有するものを用いれば、半透過反射型の液晶表示装置
を実現することができる。光の一部を透過する機能を実
現するためには、反射膜の膜厚を最適化して入射光をあ
る割合で透過し、残りを反射するようにしたもの、いわ
ゆるハーフミラーと呼ばれる反射膜を用いてもよいし、
反射膜に開口部を設けることによって光の一部を透過さ
せても良い。

【００３１】本発明の電子機器は、上記本発明の液晶表
示装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、
画面の左右方向において明るい表示が視認できる範囲が
広い液晶表示部を備えた電子機器を提供することができ
る。

【００３２】

【発明の実施の形態】［第１の実施の形態］以下、本発
明の第１の実施の形態を図１〜図１２を参照して説明す
る。図１は本実施の形態の液晶表示装置の全体構成を示
す平面図、図２は同、液晶表示装置の表示領域を示す図
であって、図１のＢ−Ｂ’線に沿う断面図（横方向に切
断した状態を示す断面図）、図３は同、図１のＣ−Ｃ’
線に沿う断面図（縦方向に切断した状態を示す断面図）
である。本実施の形態は、パッシブマトリクス方式の半
透過反射型カラー液晶表示装置の例であり、下基板の内
面側に反射板を形成した内蔵反射板を備えた例である。
なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくす
るため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異な
らせてある。

【００３３】本実施の形態の液晶表示装置１は、図１に
示すように、平面視矩形状の下基板２（一方の基板）と
上基板３（他方の基板）とがシール材４を介して対向配
置されている。シール材４の一部は各基板２，３の一辺
（図１における上辺）側で開口して液晶注入口５となっ
ており、双方の基板２，３とシール材４とに囲まれた空
間内に液晶が封入され、液晶注入口５が封止材６によっ
て封止されている。本実施の形態では、上基板３よりも
下基板２の外形寸法の方が大きく、上基板３と下基板２
の１辺（図１における上辺）では縁が揃っているが、上
基板３の残りの３辺（図１における下辺、右辺、左辺）
からは下基板２の周縁部がはみ出すように配置されてい
る。そして、下基板２の下辺側の端部に上基板３、下基
板２双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子７が
実装されている。なお、符号８は表示領域の周囲を遮光
するための遮光層（周辺見切り）である。

【００３４】本実施の形態の場合、図１に示すように、
下基板２上に、図中縦方向に延在する複数のセグメント
電極１０がストライプ状に形成されている。一方、上基
板３上には、セグメント電極１０と直交するように図中
横方向に延在する複数のコモン電極１１がストライプ状
に形成されている。カラーフィルターのＲ、Ｇ、Ｂの各
色素層は各セグメント電極１０の方向に対応して配置
（縦ストライプ／ＲＧＢのそれぞれがストライプ状に縦
に同色で形成配置）されており、横方向に並んだＲ、
Ｇ、Ｂの３個の画素で画面上の１個のドットが構成され
ている。なお、本実施の形態における「画素」とは、セ
グメント電極１０とコモン電極１１とが平面的に見て重
なり合った各領域のことである。また、「表示領域」と
は、遮光層８の内側の多数の画素がマトリクス状に配列
された領域であって、実際に表示に寄与する領域のこと
を言う。

【００３５】図１に示すように、複数のコモン電極１１
のうち、図１の上側半分のコモン電極１１については、
引き回し配線１４がコモン電極１１の右端からシール材
４に向けて引き出され、シール材４中に混入させた異方
性導電粒子等の上下導通材を介して上基板３から下基板
２上に電気的な接続がなされ、下基板２上の周縁部に引
き回され、駆動用半導体素子７の出力端子に接続されて
いる。同様に、図１の下側半分のコモン電極１１はその
左端からシール材４に向けて引き回し配線１４が引き出
され、シール材４中に混入させた異方性導電粒子等の上
下導通材を介して下基板２上に電気的な接続がなされ、
下基板２上の周縁部に引き回され、駆動用半導体素子７
の出力端子に接続されている。一方、セグメント電極１
０については、引き回し配線１５がセグメント電極１０
の下端からシール材４に向けて引き出され、そのまま駆
動用半導体素子７の出力端子に接続されている。また、
駆動用半導体素子７に各種信号を供給するための入力用
配線１６が下基板２の下辺から駆動用半導体素子７の入
力端子に向けて設けられている。

【００３６】断面構造を見ると、図２、図３に示すよう
に、ガラス、プラスチック等の透明基板、もしくは不透
明基板からなる下基板２上に、感光性レジスト（感光性
樹脂）からなる樹脂層１９が形成され、その表面に多数
の凹部２５が形成されている。凹部２５は一つの画素の
中に多数配置されている。そして、これら凹部２５の表
面に沿ってアルミニウム、銀等の光反射率の高い金属膜
からなる反射層２６が形成され、凹状反射面が構成され
ている。この反射層２６は表示領域の縦方向において反
射光の指向性があり、また、表示領域の縦方向よりも横
方向に広い反射光の散乱を有するものである。

【００３７】このような反射特性を得るために、凹部２
５の断面形状が本発明特有のものとなっている。図４は
樹脂層１９の表面に形成された凹部２５の一つを拡大視
したものである。図４の中央に示したものは凹部２５を
平面視した状態を示しており、凹部２５の形状を等高線
で示している。下側のハッチングを施した図は表示領域
の横方向に切断した状態の断面図（図２に相当する）を
示し、右側のハッチングを施した図は表示領域の縦方向
に切断した状態の断面図（図３に相当する）を示してい
る。

【００３８】図４に示す通り、凹部２５の平面形状は楕
円形であるが、表示領域の縦方向に切断した断面におい
ては、凹部２５の断面形状が非対称の形状となってお
り、傾斜が急峻で面積の狭い第１の湾曲面２５ｂと、比
較的傾斜が緩くかつ第１の湾曲面よりも面積の大きい第
２の湾曲面２５ａとを有している。一方、表示領域の縦
方向に切断した断面においては、凹部２５の断面形状が
対称の形状であり、第２の湾曲面よりも曲率が大きい湾
曲面２５ｃを有している。

【００３９】縦方向の断面においては、凹部２５の断面
形状が非対称であり、傾斜が緩く、第１の湾曲面２５ｂ
よりも充分に面積の大きい第２の湾曲面２５ａを有して
いるため、反射特性はほぼ第２の湾曲面２５ａに支配さ
れ、従来の技術の項でも説明したように、画面の上方向
からの外光（図３において矢印Ａ１で示した方向からの
光）が第２の湾曲面２５ａ側の反射層２６の表面で反射
し、特にパネル正面方向への反射光量が多くなるため、
パネルを正面から見る使用者が明るい画像を視認するこ
とができる。

【００４０】一方、横方向の断面においては、凹部２５
の断面形状が対称であり、第２の湾曲面２５ａよりも曲
率が大きい湾曲面２５ｃを有しているため、縦方向より
も横方向の方が反射光の散乱角度が広くなり、反射光の
最大強度に対して一定割合の反射強度が得られる反射角
の範囲が縦方向よりも広いという特性が得られることに
なる。

【００４１】また図２、図３に示すように、反射層２６
上にはアクリル、ポリイミド等の樹脂膜、シリコン酸化
膜等の絶縁膜等からなる平坦化膜２７が形成され、平坦
化膜２７上にインジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide,
以下、ＩＴＯと略記する）からなるセグメント電極１０
が紙面を貫通する方向にストライプ状に形成されてお
り、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリ
イミド等からなる配向膜２０が形成されている。

【００４２】一方、ガラス、プラスチック等の透明基板
からなる上基板３上に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３ｒ，
１３ｇ，１３ｂからなるカラーフィルター１３が形成さ
れ、カラーフィルター１３上には各色素層間の段差を平
坦化すると同時に各色素層の表面を保護するためのオー
バーコート膜２１が形成されている。このオーバーコー
ト膜２１はアクリル、ポリイミド等の樹脂膜でもよい
し、シリコン酸化膜等の無機膜でもよい。さらに、オー
バーコート膜２１上にＩＴＯ膜からなるコモン電極１１
が紙面に平行な方向にストライプ状に形成されており、
その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミ
ド等からなる配向膜２２が形成されている。上基板３と
下基板２との間にはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）
液晶等からなる液晶２３が挟持されている。また、例え
ば樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロム等の金属な
どからなるブラックストライプ３３が、Ｒ、Ｇ、Ｂの各
色素層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの間（境界）を区画する
ように設けられている。

【００４３】以下、本実施の形態の液晶表示装置の製造
方法、特に本発明の特徴点である反射層の形成方法を図
５〜図７を用いて説明する。図５（ａ）、（ｂ）は２回
の露光に用いるフォトマスクを示す平面図であり、図
６、図７は図５（ａ）、（ｂ）のＡ−Ａ’線に沿う方向
の工程断面図である。なお、下基板２上には反射層２６
の下方の樹脂層に多数の凹部２５が形成されるが、図６
では一つの凹部２５のみを図示する。

【００４４】まず、下基板２となるガラス基板等を用意
し、例えばスピンコーターを用いてポジ型の感光性レジ
ストＯＦＰＲ−８００（商品名、東京応化製）を下基板
２上に塗布する。塗布膜厚は３μｍ程度とする。塗布
後、９０℃の温度で１０分間仮焼成を行う。

【００４５】次に、図５（ａ）に示すような楕円形の光
透過領域３５ａを有するフォトマスク３５を用いて、図
６（ａ）に示すように、１回目の露光を行う。また、こ
のフォトマスク３５において、楕円形の光透過領域３５
ａの配置はランダムになっている。感光条件を最適化し
た１回目の露光を経ることにより、光透過領域３５ａに
おいては、感光性レジスト３９のうち、ある一定割合の
部分が感光する。

【００４６】次に、図５（ｂ）に示すような１回目の露
光で用いたものと異なるフォトマスク４０を用いて、図
６（ｂ）に示すように、２回目の露光を行う。ここで用
いるフォトマスク４０は、１回目の露光で用いたものよ
りも楕円形の光透過領域４０ａの面積が小さいものであ
る。したがって、２回目の露光を経ることにより、領域
によって３段階の感光状態の異なる部分が生じる。すな
わち、１回目、２回目ともに光透過領域の部分、１回目
が光透過領域で２回目が遮光領域の部分、１回目、２回
目ともに遮光領域の部分の順で感光性レジスト３９が多
い割合で感光する。

【００４７】次に、現像液ＮＭＤ−Ｗ（商品名、東京応
化製）を用いて３段階の感光状態の異なる部分を有する
感光性レジスト３９を現像する。これにより感光したレ
ジストの部分が除去され、図６（ｃ）に示すように、下
基板２上に３段の段差を有する感光性レジスト３９から
なる凹部４１が形成される。なお、ここでは２回の露光
を行った後、現像を行う例を示したが、１回の露光毎に
現像を行ってもかまわない。

【００４８】次に、図６（ｄ）に示すように、凹部４１
の表面を他の樹脂膜４５等で覆うことによって凹部４１
の表面をなだらかにする。この場合、後から表面を覆う
樹脂膜４５は、全体として平坦化されない程度の適度な
粘度を持っていることが望ましく、例えば同一種の感光
性レジストを用いてもよいし、他の樹脂材料を用いても
よい。

【００４９】次に、図６（ｅ）に示すように、なだらか
になった凹部４２の表面上にアルミニウム、銀等の光反
射率の高い金属膜を形成して反射層２６とすることによ
り、縦方向の断面形状が非対称、すなわち傾斜の緩い第
２の湾曲面２５ａを持つことで指向性を有し、横方向の
断面形状が対称で曲率の大きい湾曲面２５ｃを持つこと
で広い散乱を生じる凹状反射面が形成される。

【００５０】その後の工程は従来の製造工程と同様であ
る。すなわち、下基板２上に、アクリル、ポリイミド等
の樹脂膜、あるいはシリコン酸化膜等の絶縁膜からなる
平坦化膜２７を形成し、その上にＩＴＯ膜を成膜、パタ
ーニングすることによりセグメント電極１０を形成し、
次いで、ポリイミド膜等を成膜しラビング処理を施すこ
とで配向膜２０を形成する。

【００５１】一方、ガラス、プラスチック等の透明基板
からなる上基板３上には、カラーフィルター１３を形成
した後、アクリル、ポリイミド等の樹脂膜、もしくはシ
リコン酸化膜等の無機膜からなるオーバーコート膜２１
を形成し、下基板２側のセグメント電極１０と同様にし
てＩＴＯ膜からなるコモン電極１１を形成した後、ラビ
ング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜２２を
形成する。そして、上基板３と下基板２とをシール材４
を介して貼り合わせた後、これら基板２，３間に液晶２
３を注入する。以上の工程により、本実施の形態の液晶
表示装置１が完成する。

【００５２】本実施の形態によれば、多数の凹状反射面
のそれぞれが、最大反射強度に対して一定割合の反射強
度が得られる反射角の範囲が表示領域の縦方向よりも横
方向に広いという特性を有しているので、反射板全体の
特性としても表示領域の縦方向に比べて横方向により広
い範囲で反射光が散乱する効果を得ることができる。そ
の結果、照明環境に依存することなく、明るい反射表示
が得られる液晶表示装置を実現することができる。

【００５３】本発明者は、図４に示したような形状の凹
状反射面を多数有する反射板を実際に試作し、その反射
特性を評価した。その結果について報告する。図１１は
反射特性の評価に用いた測定系の概略構成図である。反
射板４８の斜め上方に光源４９を固定し、光源４９から
の光Ａ１が反射板４８の板面の法線方向Ｈに対して２５
°の角度で入射するようにした。そして、照度計５０を
用いて上記法線方向Ｈに対してθ＝０°〜６０°の範囲
にて反射光Ａ２の強度を測定した。測定は縦方向と横方
向で個々に行った。

【００５４】図１２は反射光の強度測定の結果を示すグ
ラフであり、横軸は反射角度θ［°］であり、縦軸は入
射光強度を１００％とした際の反射光強度［％］であ
る。縦方向（上下方向）においては、反射光の最大強度
は、θ＝１５°〜２０°程度のときに強度１０％程度の
ピークが得られ、これ以外の角度では強度が急激に低下
する傾向を示している。図１２において、この最大強度
に対して３ｄＢ低下した強度レベルを破線で示したが、
このレベルにおける反射角度の範囲は１２°〜１３°程
度であった。これに対して、横方向（左右方向）におい
ては、反射光の最大強度は、θ＝２０°近傍で強度１％
を超える程度のピークが得られ、全体的に見ると縦方向
に比べてなだらかな傾向を示している。この最大強度に
対して３ｄＢ低下した強度レベルを実線で示したが、こ
のレベルでの反射角度の範囲は２３°〜２４°程度であ
り、縦方向に比べて１．９倍程度の広い角度範囲が得ら
れた。このように、本実施の形態の凹状反射面によれ
ば、上下方向においては画面の上方向からの入射光を正
面方向に反射させるという指向性が得られ、左右方向に
おいては上下方向ほどは強度が取れなくても広い角度範
囲にわたって明るい特性を得ることができる。

【００５５】本実施の形態の場合、凹状反射面が表示領
域内でランダムに配置されているので、反射光の干渉が
生じることがなく、モアレの発生を防止することができ
る。また、図４には全ての凹状反射面が同じ大きさであ
るように示したが、この大きさを変え、さらに凹状反射
面間の隙間を小さい凹状反射面で埋めるようにすれば、
平面的に見て平坦な部分をほとんどなくすことができる
ので、反射層２６の表面で正反射する反射光を減らして
充分な指向性を得ることができる。

【００５６】なお、上記実施の形態では、凹部４１の表
面を他の樹脂膜４５等で覆うことによってなだらかな表
面を持つ凹部を形成する方法を採用したが、この方法に
代えて、図６（ｃ）に示すような段差を有する凹部４１
を形成した後、例えば図７に示すように、熱処理を行う
ことで感光性レジスト３９をリフローさせて段差をなだ
らかにした後、反射層２６を形成する方法を採用しても
よい。具体的には、１２０〜１５０℃の温度で３０分の
熱処理を行うことにより感光性レジスト３９をリフロー
させ、凹部４１の段差をだれさせて表面がなだらかな曲
面となった凹部４２とする。その後、２５０℃の温度で
本焼成を行うことにより、感光性レジスト３９を完全に
硬化させる。

【００５７】以上、樹脂層１９の凹部２５に反射層２６
を形成した凹状反射面の例について説明したが、樹脂層
１９の表面に凸部を形成し、その上に反射層を形成した
凸状反射面としてもよい。その形成方法を図８〜図１０
を用いて説明する。図８（ａ）、（ｂ）は２回の露光に
用いるフォトマスクを示す平面図であり、図９、図１０
は図８（ａ）、（ｂ）のＡ−Ａ’線に沿う方向の工程断
面図である。なお、図８〜図１０において図５〜図７と
共通の構成要素には同じ符号を付し、詳細な説明は省略
する。

【００５８】まず、下基板２となるガラス基板等の上に
感光性レジスト３９を塗布した後、図８（ａ）に示すよ
うな楕円形の遮光領域３１ａを有するフォトマスク３１
を用いて、図９（ａ）に示すように、１回目の露光、現
像を行う。１回目の露光、現像を経ることにより楕円形
の遮光領域３１ａの周囲の部分が感光し、図９（ｂ）に
示すように、楕円形の遮光領域３１ａの部分のみの感光
性レジスト３９が基板２上に残存する。

【００５９】次に、図８（ｂ）に示す１回目の露光で用
いたものと異なるフォトマスク３２を用いて、図９
（ｃ）に示すように、２回目の露光、現像を行う。ここ
で用いるフォトマスク３２は、１回目の露光で用いたも
のよりも楕円形の遮光領域３２ａの面積が小さいもので
ある。したがって、２回目の露光、現像を経ることによ
り２回目の露光で感光した領域で膜減りが生じ、図９
（ｄ）に示すように、２段の段差を有する感光性レジス
ト３９からなる凸部３４が形成される。なお、ここでは
１回の露光毎に現像を行う例を示したが、２回の露光を
行った後、まとめて現像を行うようにしても良い。つま
り、凸状反射面を形成する場合には、凹状反射面を形成
するときに用いるものと白黒が反転したフォトマスクを
用いれば良い。

【００６０】次に、図９（ｅ）に示すように、凸部３４
の表面を他の樹脂膜４５等で覆うことによって凸部３４
の表面をなだらかにする。次に、図９（ｆ）に示すよう
に、なだらかになった凸部４２の表面上にアルミニウ
ム、銀等の光反射率の高い金属膜を形成して反射層２６
とすることにより、縦方向の断面形状が非対称、すなわ
ち傾斜の緩い第２の湾曲面を持つことで指向性を有し、
横方向の断面形状が対称で第２の湾曲面よりも曲率の大
きい湾曲面を持つことで広い散乱を生じる凸状反射面が
形成される。

【００６１】もしくは、図９（ｄ）に示す段差を有する
凸部３４を形成した後、熱処理を施して感光性レジスト
３９をリフローさせ、段差をだれさせることによって、
図１０に示すように、表面がなだらかな凸部を形成し、
その表面に反射層２６を形成するようにしてもよい。

【００６２】凸状反射面の場合も凹状反射面の場合と同
様、照明環境に依存することなく、使用者にとって明る
い反射表示が得られる液晶表示装置が実現できる。

【００６３】［第２の実施の形態］以下、本発明の第２
の実施の形態を図１３、図１４を参照して説明する。図
１３は本実施の形態の液晶表示装置の等価回路図、図１
４は同、液晶表示装置の画像表示領域の断面図である。
本実施の形態は、スイッチング素子にＴＦＴを用いたア
クティブマトリクス方式の液晶表示装置の例であり、反
射層が画素電極を兼ねる例である。

【００６４】本実施の形態の液晶表示装置においては、
図１３に示すように、画像表示領域を構成するマトリク
ス状に配置された複数の画素には、画素電極５１と当該
画素電極５１を制御するためのスイッチング素子である
ＴＦＴ５２がそれぞれ形成されており、画像信号が供給
されるデータ線５３が当該ＴＦＴ５２のソースに電気的
に接続されている。データ線５３に書き込む画像信号Ｓ
１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給される
か、あるいは相隣接する複数のデータ線３同士に対して
グループ毎に供給される。また、走査線５４がＴＦＴ５
２のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線５
４に対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイ
ミングでパルス的に線順次で印加される。画素電極５１
はＴＦＴ５２のドレインに電気的に接続されており、ス
イッチング素子であるＴＦＴ５２を一定期間だけオンす
ることにより、データ線５３から供給される画像信号Ｓ
１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。

【００６５】画素電極５１を介して液晶に書き込まれた
所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述す
る共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加
される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化す
ることにより、光を変調し、階調表示を可能にする。こ
こで、保持された画像信号がリークするのを防ぐため
に、画素電極５１と共通電極との間に形成される液晶容
量と並列に蓄積容量５５が付加されている。

【００６６】これを断面構造で見ると、図１４に示すよ
うに、ガラス基板、シリコン基板等からなる素子基板５
７（一方の基板）上にＴＦＴ５２が形成され、ＴＦＴ５
２の上方に位置するように感光性レジスト（感光性樹
脂）からなる樹脂層７０が形成され、その表面に凹部５
８が形成されている。そして、凹部５８の表面にＴＦＴ
５２のドレイン領域５２ｄと電気的に接続され、本発明
の反射層としても機能する画素電極５１が形成されてい
る。画素電極５１上には素子基板５７の全面にわたって
配向膜５９が形成されている。

【００６７】より具体的なＴＦＴの構成としては、素子
基板５７上に多結晶シリコン等からなる半導体層６０が
形成され、半導体層６０の両端にｎ型不純物が導入され
たソース領域５２ｓとドレイン領域５２ｄとが形成さ
れ、ソース領域５２ｓとドレイン領域５２ｄとの間がチ
ャネル領域５２ｃとなっている。半導体層６０はゲート
絶縁膜６１で覆われており、半導体層６０の上方にソー
ス領域５２ｓと電気的に接続されたデータ線５３、ドレ
イン領域５２ｄと電気的に接続されたドレイン電極６２
が設けられ、ゲート絶縁膜６１を介して走査線５４が設
けられている。

【００６８】素子基板５７上には感光性レジストからな
る樹脂層７０の表面に多数の凹部５８が形成されてお
り、これら凹部５８の表面を覆うようにアルミニウム、
銀等の光反射率の高い金属膜が形成され、この金属膜が
反射層を兼ねた画素電極５１として機能する。この画素
電極５１は反射光の指向性を有するものであって、凹部
５８の平面形状は楕円形状となっており、楕円形の長軸
方向に切断した凹部５８の断面形状は非対称形であり、
各凹部５８が傾斜が緩く面積の広い第２の湾曲面５８ａ
と傾斜が急峻で面積の狭い第１の湾曲面５８ｂを有して
いる。一方、楕円形の短軸方向に切断した凹部５８の断
面形状は対称形であり、第２の湾曲面５８ａよりも曲率
が大きい湾曲面（図示せず）を有している。

【００６９】感光性レジストからなる樹脂層７０の凹部
５８は、第１の実施の形態で説明した図６に示す手順に
よって形成されるが、本実施の形態の場合は、表面をな
だらかにする目的で２度目に塗布される樹脂層７０ｂに
対して、フォトリソグラフィー工程によって画素電極５
１とドレイン電極６２とを電気的に接続するためのコン
タクトホール７１が形成され、ドレイン電極６２の表面
が露出した後で反射層となる金属膜が形成されることで
画素電極５１とドレイン電極６２とが電気的に接続され
る。

【００７０】一方、対向基板６３上には、ＴＦＴ５２の
形成領域を遮光するための遮光膜６４が形成され、全面
にわたってＩＴＯ等の透明導電膜からなる共通電極６
５、配向膜６６が順次形成されている。そして、素子基
板５７と対向基板６３との間にツイステッドネマティッ
ク（Twisted Nematic）液晶等の液晶６７が挟持されて
いる。

【００７１】本実施の形態の構成によれば、金属膜から
なる反射層が画素電極５１を兼ねているので、アクティ
ブマトリクス方式の液晶表示装置としての構成を簡略化
することができ、製造プロセスも簡略化することができ
る。

【００７２】本実施の形態ではスイッチング素子として
ＴＦＴを用いたアクティブマトリクス方式の例を挙げた
が、本実施の形態の特徴点をＴＦＤを用いたアクティブ
マトリクス方式の液晶表示装置に適用しても良い。その
場合も、ＴＦＤの一方側の端子に反射膜を兼ねた画素電
極を接続するものとすれば、装置構成を簡略化すること
ができ、製造プロセスも簡略化できる、という上記と同
様の効果を得ることができる。

【００７３】また、上記第１、第２の実施の形態におい
ては、樹脂層の凹凸をフォトリソグラフィー技術を用い
て形成する方法を示したが、形成する凹凸形状が反転し
た形状のネガ型を用いた転写技術を用いてもよい。具体
的には、（ａ）ロールに目的とする形状のネガ型を形成
しておき、ロール転写法により基材表面の樹脂層に凹凸
形状を付与する方法、（ｂ）目的とする形状のネガ型を
形成した凹版に、紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂
をその凹部内に充填するように塗布した後、その凹版上
に透明基材を被覆した状態で紫外線または電子線を照射
し、その樹脂を透明基材に接着させた状態で硬化させて
凹版から剥離する方法、（ｃ）目的とする形状のネガ型
を流延ベルトに形成しておき、キャスティングに目的と
する形状を付与する方法、などを用いることができる。

【００７４】これらの製造方法によれば、フォトリソグ
ラフィー工程が不要となるので、目的とする特性を有す
る反射板を安価に製造することができる。

【００７５】［電子機器］上記実施の形態の液晶表示装
置を備えた電子機器の例について説明する。図１５は、
携帯電話の一例を示した斜視図である。図１５におい
て、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１
は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示してい
る。

【００７６】図１６は、腕時計型電子機器の一例を示し
た斜視図である。図１６において、符号１１００は時計
本体を示し、符号１１０１は上記の液晶表示装置を用い
た液晶表示部を示している。

【００７７】図１７は、ワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１７に
おいて、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２は
キーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置
本体、符号１２０６は上記の液晶表示装置を用いた液晶
表示部を示している。

【００７８】図１５〜図１７に示す電子機器は、上記実
施の形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えてい
るので、照明環境に左右されることなく、反射モードで
の明るさを備えた表示部を有する電子機器を実現するこ
とができる。

【００７９】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記実施の形態では液晶表示装置に内蔵した反射板
の例を挙げて説明したが、単体の反射板を形成するもの
としても勿論かまわない。その他、上記実施の形態で挙
げた製造条件、各部の寸法などの具体的な記載もほんの
一例に過ぎず、適宜変更が可能である。

【００８０】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、画面の左右方向（横方向）において反射光強度
の高い角度範囲が広い特性を有する反射板が得られ、こ
の反射板を備えたことで照明環境に依存することなく、
明るい反射モードの表示が得られる液晶表示装置を実現
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の
全体構成を示す平面図である。

【図２】 同、液晶表示装置の表示領域を示す図であっ
て、図１のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。

【図３】 同、図１のＣ−Ｃ’線に沿う断面図である。

【図４】 同、液晶表示装置の凹状反射面を構成する一
つの凹部の平面形状および断面形状を示す図である。

【図５】 同、凹状反射面の形成時に用いるフォトマス
クのパターン形状を示す平面図であって、（ａ）１回目
の露光、（ｂ）２回目の露光に用いるものである。

【図６】 同、凹状反射面の形成方法を順を追って示す
工程断面図である。

【図７】 同、形成方法の一工程の他の例を示す断面図
である。

【図８】 凸状反射面の形成時に用いるフォトマスクの
パターン形状を示す平面図であり、（ａ）１回目の露
光、（ｂ）２回目の露光に用いるものである。

【図９】 同、凸状反射面の形成方法を順を追って示す
工程断面図である。

【図１０】 同、形成方法の一工程の他の例を示す断面
図である。

【図１１】 本発明者が本発明の反射板の特性評価に用
いた測定系の概略構成図である。

【図１２】 同、特性評価結果を示す図であって、反射
角度と反射光の強度の関係を示すグラフである。

【図１３】 本発明の第２の実施形態の液晶表示装置の
等価回路図である。

【図１４】 同、液晶表示装置の表示領域を示す断面図
である。

【図１５】 本発明の電子機器の一例を示す図である。

【図１６】 本発明の電子機器の他の例を示す図であ
る。

【図１７】 本発明の電子機器のさらに他の例を示す図
である。

【図１８】 従来の指向性を有する反射板を示す断面図
である。

【符号の説明】

１ 液晶表示装置 ２ 下基板（一方の基板） ３ 上基板（他方の基板） １９ 樹脂層 ２３ 液晶 ２５，４１ 凹部 ２６ 反射層 ３１，３２，３５，４０ フォトマスク ３９ 感光性レジスト（感光性樹脂） ５２ ＴＦＴ（スイッチング素子）

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 最大反射強度に対して一定割合の反射強
   度が得られる反射角の範囲が表示領域の縦方向よりも横
   方向に広くなる特性を有する凹状反射面または凸状反射
   面が複数設けられたことを特徴とする反射板。
2. 【請求項２】 前記複数の凹状反射面または凸状反射面
   により表示領域全体から得られる反射光の最大反射強度
   に対して一定割合の反射強度が得られる範囲が表示領域
   の縦方向よりも横方向に広いことを特徴とする請求項１
   に記載の反射板。
3. 【請求項３】 前記一定割合の反射強度が、最大反射強
   度からの低下量として３ｄＢ以内の範囲にあることを特
   徴とする請求項１または２に記載の反射板。
4. 【請求項４】 前記最大反射強度に対して一定割合の反
   射強度が得られる範囲が前記表示領域面内において楕円
   形の分布となっており、前記横方向に相当する楕円の長
   軸方向の径が前記縦方向に相当する楕円の短軸方向の径
   の１．１〜２．５倍の範囲にあることを特徴とする請求
   項１ないし３のいずれか一項に記載の反射板。
5. 【請求項５】 前記凹状反射面または凸状反射面は、前
   記縦方向に切断した際の断面形状が、傾斜が急峻な第１
   の湾曲面と該第１の湾曲面よりも面積が広くかつ傾斜が
   緩やかな第２の湾曲面とを有する非対称の形状であり、
   前記横方向に切断した際の断面形状が、前記第２の湾曲
   面よりも曲率が大きい湾曲面を有する対称の形状である
   ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記
   載の反射板。
6. 【請求項６】 前記凹状反射面または凸状反射面が前記
   表示領域内でランダムに配置されていることを特徴とす
   る請求項１ないし５のいずれか一項に記載の反射板。
7. 【請求項７】 大きさが異なる前記凹状反射面または凸
   状反射面が前記表示領域内に複数配置されていることを
   特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の反
   射板。
8. 【請求項８】 前記凹状反射面または凸状反射面は、樹
   脂層の表面に形成された凹部または凸部の表面に反射膜
   が形成されたものであることを特徴とする請求項１ない
   し７のいずれか一項に記載の反射板。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の反射板の製造方法であ
   って、 基板上に前記樹脂層となる感光性樹脂を塗布する工程
   と、 光透過領域もしくは遮光領域のパターン形状が異なるフ
   ォトマスクを用いて前記感光性樹脂に対して複数回の露
   光を行い、現像を行うことにより、段差を有する複数の
   凹部または凸部を前記樹脂層の表面に形成する工程と、 前記段差を有する前記複数の凹部または前記凸部の表面
   をなだらかな曲面に形状変化させる工程と、 前記複数の凹部または前記凸部のなだらかな表面上に反
   射膜を形成することにより前記凹状反射面または凸状反
   射面を形成する工程、とを有することを特徴とする反射
   板の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記段差を有する感光性樹脂を熱処理
    することにより前記凹部または前記凸部の表面をなだら
    かな曲面に形状変化させることを特徴とする請求項９に
    記載の反射板の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記段差を有する感光性樹脂の表面を
    他の膜で覆うことにより前記凹部または前記凸部の表面
    をなだらかな曲面に形状変化させることを特徴とする請
    求項９に記載の反射板の製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項８に記載の反射板の製造方法で
    あって、 前記凹部または凸部の所望の形状が反転した形状のネガ
    型を用い、該ネガ型の形状を転写することによって前記
    樹脂層からなる複数の凹部または凸部を基板上に形成す
    る工程と、 前記複数の凸部または前記凹部の表面上に反射膜を形成
    することにより前記凹状反射面または凸状反射面を形成
    する工程、とを有することを特徴とする反射板の製造方
    法。
13. 【請求項１３】 一対の基板間に液晶が挟持されてなる
    液晶表示装置であって、 前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板の外面に、
    請求項１ないし８のいずれか一項に記載の反射板を備え
    たことを特徴とする液晶表示装置。
14. 【請求項１４】 一対の基板間に液晶が挟持されてなる
    液晶表示装置であって、 前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板の液晶側の
    面に、請求項１ないし８のいずれか一項に記載の反射板
    を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
15. 【請求項１５】 前記一方の基板上に、表示領域を構成
    するマトリクス状に配置された各画素に対応してスイッ
    チング素子が設けられるとともに、導電膜からなる前記
    反射膜が各画素に対応して設けられて画素電極を兼ね、 前記反射膜からなる画素電極と前記スイッチング素子の
    一つの端子とがコンタクト形成領域において電気的に接
    続されていることを特徴とする請求項１４に記載の液晶
    表示装置。
16. 【請求項１６】 前記反射膜が光の一部を透過する機能
    を有することを特徴とする請求項１３ないし１５のいず
    れか一項に記載の液晶表示装置。
17. 【請求項１７】 請求項１３ないし１６のいずれか一項
    に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機
    器。