JP2002318263A - 測定針の針跡検査方法 - Google Patents
測定針の針跡検査方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パッドの表面状態に左右されることなく、パ
ッドに付けられた針跡のみを容易且つ正確に特定できる
測定針の針跡検査方法を提供すること。 【解決手段】 検査対象のパッド31について測定針の
針跡3が付けられる前後の画像データAとBとを取得
し、これら画像データAとBとを比較することにより針
跡3のみの画像データCを得て、検査対象のパッド31
に付けられた針跡3を特定する。
ッドに付けられた針跡のみを容易且つ正確に特定できる
測定針の針跡検査方法を提供すること。 【解決手段】 検査対象のパッド31について測定針の
針跡3が付けられる前後の画像データAとBとを取得
し、これら画像データAとBとを比較することにより針
跡3のみの画像データCを得て、検査対象のパッド31
に付けられた針跡3を特定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、テスターの測定針
を半導体チップのパッドに接触させて行う電気的特性の
測定の際にパッドに付けられた測定針の針跡がパッド上
で許容範囲内にあるかどうかを検査する測定針の針跡検
査方法に関する。
を半導体チップのパッドに接触させて行う電気的特性の
測定の際にパッドに付けられた測定針の針跡がパッド上
で許容範囲内にあるかどうかを検査する測定針の針跡検
査方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図3に示すように、半導体ウェーハW上
には多数(数百〜数千)の半導体チップTが形成されて
いる。図4は半導体チップTの拡大平面図を示し、半導
体チップTには、この半導体チップTの電気的特性の測
定の際に測定針が接触するパッド1が複数形成されてい
る。図5はパッド1の拡大平面図を示し、パッド1は例
えばアルミニウム材料よりなり、このパッド1の周囲に
は他の部分との絶縁を図る目的などのために保護膜2が
形成されている。
には多数(数百〜数千)の半導体チップTが形成されて
いる。図4は半導体チップTの拡大平面図を示し、半導
体チップTには、この半導体チップTの電気的特性の測
定の際に測定針が接触するパッド1が複数形成されてい
る。図5はパッド1の拡大平面図を示し、パッド1は例
えばアルミニウム材料よりなり、このパッド1の周囲に
は他の部分との絶縁を図る目的などのために保護膜2が
形成されている。
【0003】半導体チップTの電気的特性の測定は、パ
ッド1に、テスターのテストヘッドに取り付けられた測
定針を接触させることによって行う。測定針はパッド1
に接触後、パッド1上を削るようにして滑らされる。こ
れにより、両者は適度な圧接状態とされ両者間で十分な
電気的導通が確保される。この状態でテスターが所定の
電気信号を測定針及びパッド1を介して半導体チップT
に出力すると共にその半導体チップTからの戻り信号を
受け半導体チップTの電気的特性を測定する。測定が終
わると測定針はパッド1から離れるが、パッド1上には
測定針の針跡3が残る。
ッド1に、テスターのテストヘッドに取り付けられた測
定針を接触させることによって行う。測定針はパッド1
に接触後、パッド1上を削るようにして滑らされる。こ
れにより、両者は適度な圧接状態とされ両者間で十分な
電気的導通が確保される。この状態でテスターが所定の
電気信号を測定針及びパッド1を介して半導体チップT
に出力すると共にその半導体チップTからの戻り信号を
受け半導体チップTの電気的特性を測定する。測定が終
わると測定針はパッド1から離れるが、パッド1上には
測定針の針跡3が残る。
【0004】電気的特性の測定の後に続いて、その針跡
3の検査が行われる。これは、測定針がパッド1からず
れた位置で圧接してしまうと(このときの針跡3を図4
で一点鎖線で示す)、十分な電気的導通が確保されずに
不正確な測定となるばかりでなく、測定針がパッド1周
囲の保護膜2を突き破ったり、保護膜2にクラック4等
を生じさせてしまい製品不良となってしまうため、パッ
ド1上に付けられた針跡3の位置を確認する検査が行わ
れる。
3の検査が行われる。これは、測定針がパッド1からず
れた位置で圧接してしまうと(このときの針跡3を図4
で一点鎖線で示す)、十分な電気的導通が確保されずに
不正確な測定となるばかりでなく、測定針がパッド1周
囲の保護膜2を突き破ったり、保護膜2にクラック4等
を生じさせてしまい製品不良となってしまうため、パッ
ド1上に付けられた針跡3の位置を確認する検査が行わ
れる。
【0005】この針跡検査を行うためには、パッド1上
でどれが針跡3であるかを特定する必要がある。従来、
針跡3を特定する方法の1つとして、基準パッド(測定
針による接触測定前の状態)と、検査対象パッドの測定
針による接触測定を行った後の状態とを比較する方法が
あった。
でどれが針跡3であるかを特定する必要がある。従来、
針跡3を特定する方法の1つとして、基準パッド(測定
針による接触測定前の状態)と、検査対象パッドの測定
針による接触測定を行った後の状態とを比較する方法が
あった。
【0006】これについて図6を参照して説明すると、
先ず、複数あるパッドの中から基準パッド11を1つ選
び、この基準パッド11の、測定針による接触測定前の
状態をCCDカメラで撮影し、この画像データA’をメ
モリに記憶する。基準パッド11としては、パッド表面
にシミやゴミなどがない表面状態の比較的よいものが選
ばれる。画像データとしては、濃淡が白(割り当てられ
る整数値としては0)と、黒(割り当てられる整数値と
しては0)の2値化された画像データとして処理され
る。すなわち、ある濃度値をしきい値として各画素を白
画素”0”と、黒画素”1”とに区別して表す。2値化
することにより画像データ量を少なくして、処理を簡単
にし、またメモリも節約できる。この場合は、パッド表
面に針跡やシミなどのない部分が白画素”0”の背景と
して、針跡やシミなどが黒画素”1”として表される。
先ず、複数あるパッドの中から基準パッド11を1つ選
び、この基準パッド11の、測定針による接触測定前の
状態をCCDカメラで撮影し、この画像データA’をメ
モリに記憶する。基準パッド11としては、パッド表面
にシミやゴミなどがない表面状態の比較的よいものが選
ばれる。画像データとしては、濃淡が白(割り当てられ
る整数値としては0)と、黒(割り当てられる整数値と
しては0)の2値化された画像データとして処理され
る。すなわち、ある濃度値をしきい値として各画素を白
画素”0”と、黒画素”1”とに区別して表す。2値化
することにより画像データ量を少なくして、処理を簡単
にし、またメモリも節約できる。この場合は、パッド表
面に針跡やシミなどのない部分が白画素”0”の背景と
して、針跡やシミなどが黒画素”1”として表される。
【0007】次いで、検査対象のパッド21に測定針を
接触させて電気的特性の測定を行った後、この接触測定
後のパッド21をCCDカメラで撮影し、この画像デー
タB’をメモリに記憶する。
接触させて電気的特性の測定を行った後、この接触測定
後のパッド21をCCDカメラで撮影し、この画像デー
タB’をメモリに記憶する。
【0008】次いで、基準パッド11の画像データA’
と検査対象パッド21の画像データB’とを比較してこ
れらの差を検出することで針跡3を特定する。具体的に
は、CPUがメモリから両画像データA’、B’を読み
出して、対応する各画素ごとに論理演算(EXOR演
算)を行う。すなわち、両画像データA’、B’間で対
応するある画素(m行n列目の画素)が白画素”0”と
白画素”0”どうし、あるいは黒画素”1”と黒画素”
1”どうしであった場合にはそのm行n列目の画素を白
画素”0”とし、対応する各画素が白画素”0”と黒画
素”1”というように異なっていれば、そのm行n列目
の画素を黒画素”1”として処理して画像データC’を
得る。すなわち、画像データC’は、画像データA’に
は表れていないが、画像データB’には表れているもの
を黒画素”1”として抽出した画像データである。測定
針の接触測定前後で両画像データA’とB’との違いと
しては針跡3のみであるはずなので、画像データC’に
おいては黒画素”1”として表されているものを針跡3
として認識できる。
と検査対象パッド21の画像データB’とを比較してこ
れらの差を検出することで針跡3を特定する。具体的に
は、CPUがメモリから両画像データA’、B’を読み
出して、対応する各画素ごとに論理演算(EXOR演
算)を行う。すなわち、両画像データA’、B’間で対
応するある画素(m行n列目の画素)が白画素”0”と
白画素”0”どうし、あるいは黒画素”1”と黒画素”
1”どうしであった場合にはそのm行n列目の画素を白
画素”0”とし、対応する各画素が白画素”0”と黒画
素”1”というように異なっていれば、そのm行n列目
の画素を黒画素”1”として処理して画像データC’を
得る。すなわち、画像データC’は、画像データA’に
は表れていないが、画像データB’には表れているもの
を黒画素”1”として抽出した画像データである。測定
針の接触測定前後で両画像データA’とB’との違いと
しては針跡3のみであるはずなので、画像データC’に
おいては黒画素”1”として表されているものを針跡3
として認識できる。
【0009】次に、このようにして得られた画像データ
C’に、予め設定された許容範囲Lをかぶせて(合成し
て)画像データD’を得る。許容範囲Lはその輪郭を黒
画素”1”として画像データC’に合成される。そし
て、例えばオペレータが画像データD’を顕微鏡で見
て、図示のように針跡3が許容範囲L内にあれば測定針
は位置ずれを起こさず正常にパッド21に接触されたと
判断する。
C’に、予め設定された許容範囲Lをかぶせて(合成し
て)画像データD’を得る。許容範囲Lはその輪郭を黒
画素”1”として画像データC’に合成される。そし
て、例えばオペレータが画像データD’を顕微鏡で見
て、図示のように針跡3が許容範囲L内にあれば測定針
は位置ずれを起こさず正常にパッド21に接触されたと
判断する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記方法では、検査対
象パッド21と比較される基準パッド11は任意に選ば
れるものであり、よって比較される両者は同一のパッド
ではない。従って、検査対象パッド21にシミやゴミ5
a〜5c(一点鎖線で示したが実際には画像データB’
上で黒画素として表れる)があった場合には、これらも
画像データA’、B’間の差として抽出される。すなわ
ち、シミやゴミ5a〜5cまでも画像データC’で黒画
素として出てきて針跡として認識されてしまう。そし
て、シミやゴミ5a〜5cは、画像データD’におい
て、許容範囲L外にあるので、本来の針跡3は許容範囲
L内にあるにもかかわらず、結局、針跡が許容範囲L外
にある不良品と判断されてしまう。
象パッド21と比較される基準パッド11は任意に選ば
れるものであり、よって比較される両者は同一のパッド
ではない。従って、検査対象パッド21にシミやゴミ5
a〜5c(一点鎖線で示したが実際には画像データB’
上で黒画素として表れる)があった場合には、これらも
画像データA’、B’間の差として抽出される。すなわ
ち、シミやゴミ5a〜5cまでも画像データC’で黒画
素として出てきて針跡として認識されてしまう。そし
て、シミやゴミ5a〜5cは、画像データD’におい
て、許容範囲L外にあるので、本来の針跡3は許容範囲
L内にあるにもかかわらず、結局、針跡が許容範囲L外
にある不良品と判断されてしまう。
【0011】また、針跡3と、シミやゴミ5a〜5cと
の濃度値の差に基づいて画像データB’にフィルタ処理
を施し針跡3以外の対象を見え難くする方法がある。し
かし、2値(白/黒)化処理された画像データでは針跡
3に近い明暗のシミやゴミ5a〜5cはフィルタ処理を
いくら試みても針跡3と区別する事は難しく、実際には
判別できない場合が多い。このフィルタ処理を有効にす
るためには、画像データの階調数(濃度分解能)を大き
くすればよいが、この場合、画像の持つ情報量が大きく
なり処理の迅速化の妨げとなり、またメモリにおける記
憶容量も多くとってしまう。
の濃度値の差に基づいて画像データB’にフィルタ処理
を施し針跡3以外の対象を見え難くする方法がある。し
かし、2値(白/黒)化処理された画像データでは針跡
3に近い明暗のシミやゴミ5a〜5cはフィルタ処理を
いくら試みても針跡3と区別する事は難しく、実際には
判別できない場合が多い。このフィルタ処理を有効にす
るためには、画像データの階調数(濃度分解能)を大き
くすればよいが、この場合、画像の持つ情報量が大きく
なり処理の迅速化の妨げとなり、またメモリにおける記
憶容量も多くとってしまう。
【0012】従って、従来は、結局、検査対象パッド2
1の測定針接触後の画像データB’のみを取得して、こ
の画像データB’をオペレータが顕微鏡を使って目視で
検査していた。すなわち、針跡3を形状や大きさなどか
らシミやゴミ5a〜5c、他の表面異常などと区別して
特定しており、オペレータの経験や能力に依存してい
た。これでは、オペレータに負担がかかると共に時間も
かかってしまう。また、例えば針跡3につながるように
して形成されたシミや、針跡3と同じような形状で同じ
様な大きさのシミなどがあるとどれが針跡か特定するの
が困難である。
1の測定針接触後の画像データB’のみを取得して、こ
の画像データB’をオペレータが顕微鏡を使って目視で
検査していた。すなわち、針跡3を形状や大きさなどか
らシミやゴミ5a〜5c、他の表面異常などと区別して
特定しており、オペレータの経験や能力に依存してい
た。これでは、オペレータに負担がかかると共に時間も
かかってしまう。また、例えば針跡3につながるように
して形成されたシミや、針跡3と同じような形状で同じ
様な大きさのシミなどがあるとどれが針跡か特定するの
が困難である。
【0013】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、パッ
ドの表面状態に左右されることなく、パッドに付けられ
た針跡のみを容易且つ正確に特定できる測定針の針跡検
査方法を提供することを課題とする。
ドの表面状態に左右されることなく、パッドに付けられ
た針跡のみを容易且つ正確に特定できる測定針の針跡検
査方法を提供することを課題とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明では、検査対象の
パッドについて測定針の針跡が付けられる前後の画像デ
ータを取得し、これら画像データを比較することにより
検査対象のパッドに付けられた針跡を特定する。
パッドについて測定針の針跡が付けられる前後の画像デ
ータを取得し、これら画像データを比較することにより
検査対象のパッドに付けられた針跡を特定する。
【0015】これにより、測定針による接触測定後のパ
ッド表面にシミやゴミの付着、表面異常等があっても、
これらは接触測定前にもこの検査対象パッドに存在して
いるので、前記両画像データの差分をとることにより相
殺されて、結果として針跡のみを抽出することができ
る。
ッド表面にシミやゴミの付着、表面異常等があっても、
これらは接触測定前にもこの検査対象パッドに存在して
いるので、前記両画像データの差分をとることにより相
殺されて、結果として針跡のみを抽出することができ
る。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態による
針跡検査方法について図1、2を参照して説明する。
針跡検査方法について図1、2を参照して説明する。
【0017】先ず、検査対象パッドに対して測定針を非
接触の状態で位置決めする(図1のステップS1)。
接触の状態で位置決めする(図1のステップS1)。
【0018】次いで、ステップS2として、図2に示す
画像データAを得る。これは、測定針接触前の検査対象
パッド31を例えばCCDカメラで撮影して得られる画
像データである。画像データとしては、従来と同様、各
画素を白画素”0”と、黒画素”1”との2値化された
画像データとして処理される。この場合も、パッド表面
に針跡やシミなどのない部分が白画素”0”の背景とし
て、針跡やシミ5dなどが黒画素”1”として表され
る。そして、この画像データAはメモリに記憶される。
画像データAを得る。これは、測定針接触前の検査対象
パッド31を例えばCCDカメラで撮影して得られる画
像データである。画像データとしては、従来と同様、各
画素を白画素”0”と、黒画素”1”との2値化された
画像データとして処理される。この場合も、パッド表面
に針跡やシミなどのない部分が白画素”0”の背景とし
て、針跡やシミ5dなどが黒画素”1”として表され
る。そして、この画像データAはメモリに記憶される。
【0019】次いで、検査対象のパッド31に測定針を
接触させて電気的特性の測定を行い(ステップS3)、
この接触測定後のパッド31をCCDカメラで撮影し、
この画像データBをメモリに記憶する(ステップS
4)。
接触させて電気的特性の測定を行い(ステップS3)、
この接触測定後のパッド31をCCDカメラで撮影し、
この画像データBをメモリに記憶する(ステップS
4)。
【0020】次いで、ステップS5として、画像処理手
段としてのCPUがメモリから両画像データA、Bを読
み出して、対応する各画素ごとに論理演算(EXOR演
算)を行う。すなわち、両画像データA、B間で対応す
るある画素(m行n列目の画素)が白画素”0”と白画
素”0”どうし、あるいは黒画素”1”と黒画素”1”
どうしであった場合にはそのm行n列目の画素を白画
素”0”とし、対応する各画素が白画素”0”と黒画
素”1”というように異なっていれば、そのm行n列目
の画素を黒画素”1”として処理して画像データCを得
る。このようにして得られた画像データCはメモリに記
憶される。
段としてのCPUがメモリから両画像データA、Bを読
み出して、対応する各画素ごとに論理演算(EXOR演
算)を行う。すなわち、両画像データA、B間で対応す
るある画素(m行n列目の画素)が白画素”0”と白画
素”0”どうし、あるいは黒画素”1”と黒画素”1”
どうしであった場合にはそのm行n列目の画素を白画
素”0”とし、対応する各画素が白画素”0”と黒画
素”1”というように異なっていれば、そのm行n列目
の画素を黒画素”1”として処理して画像データCを得
る。このようにして得られた画像データCはメモリに記
憶される。
【0021】以上のような処理により、画像データCに
は、両画像データA、B間の差が表れる。すなわち、シ
ミ5dは測定針接触前後で両画像データA、B双方に表
れているので、上述した処理により画像データC上では
白画素”0”の背景として表され、結局、画像データA
には表れていないが画像データBには表れている針跡3
のみが黒画素”1”として画像データC上に抽出され
る。これにより、検査対象パッド31の表面状態に左右
されることなく、パッド31に付けられた針跡3を正確
且つ迅速に特定できる。
は、両画像データA、B間の差が表れる。すなわち、シ
ミ5dは測定針接触前後で両画像データA、B双方に表
れているので、上述した処理により画像データC上では
白画素”0”の背景として表され、結局、画像データA
には表れていないが画像データBには表れている針跡3
のみが黒画素”1”として画像データC上に抽出され
る。これにより、検査対象パッド31の表面状態に左右
されることなく、パッド31に付けられた針跡3を正確
且つ迅速に特定できる。
【0022】次に、ステップS6として、CPUがメモ
リから画像データCを読み出して、この画像データC
に、予め設定された許容範囲Lをかぶせて(合成して)
画像データDを得る。許容範囲Lはその輪郭を黒画素”
1”として画像データCに合成される。そして、例えば
オペレータが画像データDを顕微鏡で見て、図示のよう
に針跡3が許容範囲L内にあれば測定針は位置ずれを起
こさず正常にパッド31に接触されたと判断する。ある
いは、許容範囲L外に位置する画素が黒画素”1”のデ
ータを有しているかどうかをCPUにて判断してもよ
い。このようにすれば、全検査工程(ステップS1〜S
6)にわたって、人手を介しない自動化が実現できる。
リから画像データCを読み出して、この画像データC
に、予め設定された許容範囲Lをかぶせて(合成して)
画像データDを得る。許容範囲Lはその輪郭を黒画素”
1”として画像データCに合成される。そして、例えば
オペレータが画像データDを顕微鏡で見て、図示のよう
に針跡3が許容範囲L内にあれば測定針は位置ずれを起
こさず正常にパッド31に接触されたと判断する。ある
いは、許容範囲L外に位置する画素が黒画素”1”のデ
ータを有しているかどうかをCPUにて判断してもよ
い。このようにすれば、全検査工程(ステップS1〜S
6)にわたって、人手を介しない自動化が実現できる。
【0023】また、画像データAの取得〜測定針による
接触測定〜接触測定後の画像データBの取得に至る工程
を1パッドについて断続的に行うのでなく、あるパッド
で測定針の接触測定を行っている間に、次に接触測定を
行うべきパッドの測定針接触前の画像データを取得して
おくようにすれば、複数のパッドについての検査を連続
的に行うことができ検査時間の短縮化が図れる。
接触測定〜接触測定後の画像データBの取得に至る工程
を1パッドについて断続的に行うのでなく、あるパッド
で測定針の接触測定を行っている間に、次に接触測定を
行うべきパッドの測定針接触前の画像データを取得して
おくようにすれば、複数のパッドについての検査を連続
的に行うことができ検査時間の短縮化が図れる。
【0024】更に、画像データA、Bは1パッドずつ撮
影するのではなく、高解像度のCCDカメラを用いて、
1チップに形成された複数のパッドを同時にまとめて、
あるいは1ウェーハに形成された複数のパッドを同時に
まとめて撮影すれば、更なる検査工程の短縮化が図れ
る。更には、より処理能力の高いCPUを用いて、両画
像データA、B間の比較や、この比較によって得られる
針跡3のリミット判定の処理を複数のパッドについて同
時に行えば、更なる時間の短縮化が図れる。
影するのではなく、高解像度のCCDカメラを用いて、
1チップに形成された複数のパッドを同時にまとめて、
あるいは1ウェーハに形成された複数のパッドを同時に
まとめて撮影すれば、更なる検査工程の短縮化が図れ
る。更には、より処理能力の高いCPUを用いて、両画
像データA、B間の比較や、この比較によって得られる
針跡3のリミット判定の処理を複数のパッドについて同
時に行えば、更なる時間の短縮化が図れる。
【0025】また、上記2値化処理において、白画素を
整数値”1”に、黒画素を整数値”0”に割り当てても
よい。あるいは、2階調より大きな階調数の画像データ
として処理してもよい。この場合、ステップS5におけ
る画像データAとBとの比較は、対応する各画素の濃度
値(整数値)を単に画像データA、B間で引き算すれ
ば、画像データAとBとで同じ濃度値の部分は0とな
り、異なる部分、すなわち針跡3のみが、ある整数値と
して抽出できる。
整数値”1”に、黒画素を整数値”0”に割り当てても
よい。あるいは、2階調より大きな階調数の画像データ
として処理してもよい。この場合、ステップS5におけ
る画像データAとBとの比較は、対応する各画素の濃度
値(整数値)を単に画像データA、B間で引き算すれ
ば、画像データAとBとで同じ濃度値の部分は0とな
り、異なる部分、すなわち針跡3のみが、ある整数値と
して抽出できる。
【0026】また、画像データAとBとの比較をCPU
で行うのではなく、オペレータの目視による比較で針跡
を特定してもよい。この場合でも、従来のように画像デ
ータB’(図6)を目視して、形状や大きさなどからシ
ミやゴミと区別して針跡3を特定するよりも、図2から
明らかなように、目視であっても画像データAとBとを
比較すれば容易且つ確実に針跡3の特定を行える。
で行うのではなく、オペレータの目視による比較で針跡
を特定してもよい。この場合でも、従来のように画像デ
ータB’(図6)を目視して、形状や大きさなどからシ
ミやゴミと区別して針跡3を特定するよりも、図2から
明らかなように、目視であっても画像データAとBとを
比較すれば容易且つ確実に針跡3の特定を行える。
【0027】
【発明の効果】本発明の請求項1によれば、針跡を誤認
することなく且つ容易に特定でき、正確な針跡検査を行
える。
することなく且つ容易に特定でき、正確な針跡検査を行
える。
【0028】本発明の請求項2によれば、針跡の特定作
業を自動化でき、オペレータの負担を軽減できる。
業を自動化でき、オペレータの負担を軽減できる。
【0029】本発明の請求項3または請求項4によれ
ば、針跡検査に要する時間の短縮化が図れる。
ば、針跡検査に要する時間の短縮化が図れる。
【図1】本発明の実施の形態による針跡検査方法の手順
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
【図2】本発明の実施の形態による針跡検査方法の概念
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図3】半導体ウェーハの平面図である。
【図4】半導体チップの拡大平面図である。
【図5】パッドの拡大平面図である。
【図6】従来の針跡検査方法の概念を示す模式図であ
る。
る。
2……保護膜、3……針跡、31……パッド、L……許
容範囲、T……半導体チップ、W……半導体ウェーハ。
容範囲、T……半導体チップ、W……半導体ウェーハ。
フロントページの続き Fターム(参考) 2G003 AA07 AF02 AF03 AG03 AG12 AG13 AH05 AH07 2G011 AC02 AC14 AE03 2G051 AA51 AB02 CA03 CA04 EA08 EA11 EA14 EB01 EB02 ED07 4M106 AA01 AA20 BA10 CA38 DB04 DB21 DJ18 DJ20 DJ21
Claims (4)
- 【請求項1】 半導体チップに形成されたパッドに付け
られた測定針の針跡を検査する測定針の針跡検査方法に
おいて、 検査対象のパッドについて前記針跡が付けられる前後の
画像データを取得し、これら画像データを比較すること
により前記検査対象のパッドに付けられた前記針跡を特
定することを特徴とする測定針の針跡検査方法。 - 【請求項2】 前記針跡が付けられる前後の画像データ
間の差を画像処理手段により検出し、この検出結果に基
づいて前記パッドに前記針跡のみが表れた画像データを
得ることを特徴とする請求項1に記載の測定針の針跡検
査方法。 - 【請求項3】 前記検査対象のパッドに前記測定針が接
触して測定を行っているときに、次の検査対象のパッド
の前記測定針の接触前の画像データを取得しておくこと
を特徴とする請求項1に記載の測定針の針跡検査方法。 - 【請求項4】 前記針跡が付けられる前後の画像データ
のうち少なくとも一方の画像データを、複数のパッドに
ついて同時に取得することを特徴とする請求項1に記載
の測定針の針跡検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001124014A JP2002318263A (ja) | 2001-04-23 | 2001-04-23 | 測定針の針跡検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001124014A JP2002318263A (ja) | 2001-04-23 | 2001-04-23 | 測定針の針跡検査方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002318263A true JP2002318263A (ja) | 2002-10-31 |
Family
ID=18973475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001124014A Pending JP2002318263A (ja) | 2001-04-23 | 2001-04-23 | 測定針の針跡検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2002318263A (ja) |
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- 2001-04-23 JP JP2001124014A patent/JP2002318263A/ja active Pending
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