JP2002365657A - 液晶装置、投射型表示装置および電子機器 - Google Patents
液晶装置、投射型表示装置および電子機器Info
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Abstract
なく、応答速度の向上を図ることができる液晶装置を提
供する。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、互いに対向配
置された一対の基板間に誘電率異方性が正の液晶からな
る液晶層が挟持されており、素子基板2上、対向基板3
上に液晶層18に対して縦電界を印加する画素電極7、
共通電極8がそれぞれ設けられるとともに、素子基板2
上の画素電極7の上方には、画素電極7との間で液晶層
18に対して横電界を印加するための櫛歯状電極15が
絶縁膜14を介して設けられている。この横電界の作用
により、OFF時に液晶分子19が戻ろうとする動きが
アシストされ、応答速度が向上する。
Description
表示装置および電子機器に関し、特に応答速度に優れた
液晶装置に関するものである。
置において、光変調手段として用いられる液晶ライトバ
ルブにはアクティブマトリクス型液晶装置が使用されて
いる。アクティブマトリクス型液晶装置は、信号線や画
素電極、画素スイッチング用素子などが形成された素子
基板と共通電極が形成された対向基板とが、シール材を
介して一定の間隙をもって対向配置されており、この間
隙の間に液晶を挟持して構成されている。液晶装置の表
示領域には、データ線と走査線に囲まれた多数の画素電
極が形成されており、これら画素電極がマトリクス状に
配列されている。
式としては、ツイステッドネマティック(Twisted Nema
tic, 以下、TNと略記する)モードの表示方式が現
在、主流を占めている。その理由は、明るい、コントラ
ストが高い、応答速度が比較的速い、駆動電圧が低い、
階調表示が容易であるなど、TNモードの液晶装置はデ
ィスプレイとして基本的に必要とされる諸特性をバラン
ス良く具備しているからである。TNモードにおいて
は、素子基板と対向基板との間で液晶分子の長軸方向が
90°ねじれた構造を採る。
る一つの手段として、基板に対して面内方向の横電界を
発生させ、この横電界で液晶分子を基板に平行な面内で
回転させることで光スイッチング機能を持たせるインプ
レイン・スイッチング(In-Plane Switching, 以下、I
PSと略記する)技術が実用化されている。そして、近
年、IPS技術をさらに改良した形のフリンジフィール
ド・スイッチング(Fringe-Field Switching, 以下、F
FSと略記する)技術が、"High-Transmittance, Wide-
Viewing-Angle Nematic Liquid Crystal Display Contr
olled by Fringe-Field Switching", S.H.Lee et al.,
ASIA DISPLAY 98, p.371-374, "A HighQuality AM-LCD
using Fringe-Field Switching Technology", S.H.Lee
et al.,IDW'99, p.191-194 などに発表されている。
す図であって、図13(a)はIPSの概略構成、図1
3(b)はFFSの概略構成をそれぞれ示している。一
対の基板200、201間の液晶分子202が一対の電
極203,204による横電界Eで駆動される点は同様
である。ところが、セルギャップをd、電極幅をw、電
極間距離をlとすると、これらの寸法の関係が、IPS
ではl/d>1かつl/w>1であるのに対し、FFS
ではl/d<1かつl/w<1、またはl/d=0かつ
l/w=0である。すなわち、IPSではセルギャップ
や電極幅よりも電極間距離が大きいのに対し、FFSで
はセルギャップや電極幅よりも電極間距離が小さい(図
13(a)のIPSにおける電極203と電極204が
充分に接近した状態)か、もしくは電極間距離が0、言
い換えると、図13(b)に示すように一方の電極20
4(−極)の上方に絶縁層205を介して他方の電極2
03(+極)を積層した形態の電極構成を採用してい
る。この電極構成の違いによって発生する電界の方向が
若干異なり、IPSでの電界方向は電極が対向する方向
(図中y方向)であるが、FFS、特に図13(b)の
電極構造においては、電極203,204が積層されて
いるため、横方向(図中Y方向)に加えて、電極203
の縁の近傍で基板面に垂直な方向(図中Z方向)にも電
界成分を持っている。
ブマトリクス型液晶装置は、誘電率異方性が正の液晶で
平行配向、ノーマリーホワイトモードを採用した場合、
画素電極と共通電極への電圧印加によって縦電界を発生
させ、この縦電界で基板面と略垂直な方向に液晶分子を
立たせ(これを以下、ON状態という)、黒表示を行
う。そして、電圧印加を止めることによって液晶分子を
平行配向状態に戻し(これを以下、OFF状態とい
う)、白表示を行う。すなわち、OFF状態からON状
態への移行は電圧印加(外部からのエネルギー供給)に
因るが、ON状態からOFF状態への移行は液晶自身の
粘性による自然な戻りに因るものである。したがって、
OFF状態からON状態への応答速度は印加電圧を大き
くするなどの手段を用いて速めることができるが、ON
状態からOFF状態への応答速度は使用する液晶材料で
決まると考えられていた。そのため、TNモードでは応
答速度が比較的速いとは言っても、液晶材料の特性で決
まるON状態からOFF状態への応答速度が遅いため
に、全体の応答速度の向上には限界があった。
速度の向上を目的として、上下の基板に横電界を発生さ
せるための電極を備えた液晶装置が、特開平9−236
819号公報、特開平11−042109号公報などに
提案されている。これらの公報に記載の液晶装置におい
ては、上基板、下基板のそれぞれに横電界を発生させる
ための一対の櫛歯状の電極を備え、しかも各基板上の電
極によって発生する横電界の方向が直交するように各電
極が配置されている。この構成によれば、液晶分子の配
向方向が基板面に垂直方向から平行な方向に変化する際
に各基板上の電極から発生する横電界が液晶分子の配向
変化を助長する。この作用により、液晶分子の状態変化
がより速くなり、高速応答が可能になる。
の場合、製造プロセスが非常に複雑になり、製造コスト
も増大するという問題があった。すなわち、横電界で液
晶を駆動して表示を行う通常のIPS方式の液晶装置で
あれば、一対の基板のうちの一方の基板にのみ横電界発
生用の櫛歯状電極を形成すれば済むが、上記公報に記載
の液晶装置においては、上基板、下基板の双方に櫛歯状
電極を形成しなければならず、さらにこの櫛歯状電極を
駆動するためのスイッチング素子が個々の基板に必要と
なる。そのため、上基板、下基板がともに素子基板とな
り、製造プロセスが双方の基板で煩雑になるとともに、
製造コストが増大してしまう。
されたものであって、製造プロセスや製造コストの増大
を招くことなく、応答速度の向上を図ることができる液
晶装置、およびこの液晶装置を用いた投射型表示装置、
電子機器を提供することを目的とする。
めに、本発明の液晶装置は、互いに対向配置された一対
の基板間に誘電率異方性が正の液晶からなる液晶層が挟
持された液晶装置であって、前記一対の基板を構成する
第1の基板、第2の基板のそれぞれに前記液晶層を挟ん
で対峙し、該液晶層に対して縦電界を印加する電極が設
けられるとともに、前記第2の基板には、前記液晶層に
対して横電界を印加する複数の電極が設けられたことを
特徴とする。
方性が正の液晶を用いた平行配向モードの液晶装置であ
り、第1の基板上、第2の基板上にそれぞれ設けられた
電極間で発生する基板面に略垂直な方向の電界(この電
界のことを本明細書では縦電界という)で液晶を駆動し
て表示を行うものである。したがって、両基板の電極へ
の電圧印加によって縦電界が発生し、その縦電界により
液晶分子の長軸方向が基板面に平行な方向から垂直な方
向に向くように配向方向が変わり、ON状態となる。
あれば電圧印加を止めるだけで液晶の粘性による自然な
戻りによって基板面に垂直な方向から平行な方向に液晶
分子の配向状態を変えていた。それに対し、本発明の液
晶装置の場合、第2の基板に液晶層に対して基板面に略
平行な方向の電界(この電界のことを本明細書では横電
界という)を印加するための複数の電極が設けられてい
るので、この横電界の印加により誘電率異方性が正の液
晶が電界方向に沿って配向する、すなわち、液晶分子の
長軸方向が基板面に平行な方向に向くように配向する。
このように、本発明によれば、液晶自身の粘性で元の配
向状態に戻ろうとする力に加えて、横電界に沿って液晶
分子が配向しようとする力を作用させることができるの
で、ON状態からOFF状態への応答速度を従来よりも
速くすることができる。
異方性が正の液晶を用いなければならないのは、誘電率
異方性が正の液晶では分極の方向が分子長軸方向であっ
て一方向に限定できるため、横電界が印加された時に分
子長軸方向が横電界の向きに揃おうとし、液晶が戻ろう
とする動きを補助できるが、誘電率異方性が負の液晶で
は分極の方向が分子短軸方向であり、一方向に限定でき
ないため、横電界が印加されても液晶分子の向きが一方
向に揃わないからである。
液晶装置と異なり、横電界発生用の電極を形成するのは
第2の基板側のみで済むので、製造工程が煩雑になった
り、製造コストが増大することがない。
第1の基板に第1の電極を設け、前記第2の基板に前記
第1の電極との間で縦電界を発生させる第2の電極を設
け、さらに前記第2の基板には前記第2の電極との間で
横電界を発生させる第3の電極を設けた構成を採ること
ができる。
電極は、第1の基板上の第1の電極との間で縦電界を発
生させる電極として機能すると同時に、第2の基板上の
第3の電極との間で横電界を発生させる電極としても機
能するので、電極構成を簡単にすることができる。
とし、前記第3の電極を前記第2の電極の上方に絶縁膜
を介して形成された線状部分を有する電極とすることも
できる。
たFFSの電極構成に類似したものである。FFSの電
極構成を採用した場合、線状(櫛歯状)電極の縁の近傍
で基板面に垂直な方向にも電界成分を持っており、IP
Sでは線状電極間に位置する液晶分子は駆動されても線
状電極の上方に位置する液晶分子はほとんど駆動されな
いが、FFSの場合、線状電極間に位置する液晶分子は
勿論のこと、線状電極の上方に位置する液晶分子も駆動
されることになる。したがって、電極をインジウム錫酸
化物(Indium Tin Oxide, 以下、ITOと略記する)等
の透明導電膜で形成すれば、電極の部分も表示に寄与さ
せることができ、同じ条件のIPSに比べて開口率を大
きくできるという利点が得られる。ただし、本発明にお
いては、電極の配置がFFSと似ているというだけであ
って、セルギャップ、電極幅、電極間距離などの相互の
寸法の関係は、上述のFFSとして定義される関係を必
ずしも満たす必要はない。
板に第1の電極を設け、前記第2の基板に前記第1の電
極との間で縦電界を発生させる第2の電極を設け、さら
に前記第2の基板には互いの間に横電界を発生させる第
3の電極および第4の電極を設けた構成を採ることがで
きる。
させる第2の電極とは別個に横電界を発生させる第3の
電極および第4の電極を設けた点で、前の例に比べると
電極構成が若干複雑になる。その反面、各電極の機能を
分離させることができるので、各電極に印加する電圧値
の設定の自由度が上がり、印加電圧値のパターンを変え
ることで応答速度を調節することができる。
とし、前記第3の電極および前記第4の電極をともに前
記第2の電極の上方に絶縁膜を介して形成された線状部
分を有する電極とすることもできる。その場合、前記第
3の電極および前記第4の電極を同じ層で形成すること
が望ましい。
たIPSの電極構成に類似したものである。IPSの電
極構成を採用した場合、第3の電極および前記第4の電
極は絶縁膜を介した別々の層で構成してもよいが、同一
の層で構成すれば、同一の工程で第3の電極と第4の電
極を同時に形成することができるので、その分製造プロ
セスが複雑になることがない。
前記液晶層のバルク部分を構成する液晶分子の長軸方向
が前記第3の電極または前記第4の電極の前記線状部分
の延在方向に対して略垂直な方向を向くように配向処理
がなされていることが望ましい。ここで言う「液晶層の
バルク部分」とは、各基板の表面の配向処理によって配
向状態が完全に規定された基板表面近傍の領域を除く、
液晶分子がその配向方向を自由に変え得るセル厚方向中
央部の液晶部分のことである。
の電極に電圧を印加した際に線状部分の延在方向に対し
て略垂直な方向に横電界が発生するが、初期の配向状態
が、バルク部分の液晶分子の長軸方向が前記線状部分の
延在方向に対して略垂直な方向を向くように規定されて
いるので、横電界の方向とON→OFF時に液晶分子が
戻ろうとする方向が一致し、液晶分子の戻りを円滑に補
助することができる。
F)時に白表示、電圧印加(ON)時に黒表示のノーマ
リーホワイト、電圧無印加(OFF)時に黒表示、電圧
印加(ON)時に白表示のノーマリーブラックの2種類
があるが、本発明の液晶装置においてはノーマリーホワ
イトを採用することが望ましい。
らOFF状態に切り替える際に液晶分子の戻りを補助す
るために横電界を印加するが、その際、電圧印加方法に
よっては第1の基板上の第1の電極との間に一時的に縦
電界が発生することも考えられ、電界の乱れが発生する
恐れもある。その場合、電界の乱れに起因して液晶の配
向乱れ、いわゆるディスクリネーションが発生するが、
ノーマリーブラックモードでは白表示から黒表示に切り
替わる際にディスクリネーションが発生するため、光漏
れが起こり、コントラストの低下につながることもあ
る。ところが、ノーマリーホワイトモードでは黒表示か
ら白表示に切り替わる際にディスクリネーションが発生
するため、ディスクリネーションの発生自体は好ましい
ことではないが、コントラストが低下することはない。
よって、本発明ではノーマリーホワイトを採用すること
が望ましい。
れた電極の全てをITO等の透明導電膜で形成する構成
としてもよい。この構成によれば、本発明の液晶装置を
透過型液晶装置として実現することができる。
うち、いずれか一方の基板上の電極をITO等の透明導
電膜で形成し、他方の基板上の電極の少なくとも一つを
アルミニウム、銀等の金属膜で形成する構成としてもよ
い。この構成によれば、別の反射層や外付けの反射板な
どを追加することなく、本発明の液晶装置を反射型液晶
装置として実現することができる。
基板を入射側、第2の基板を反射側とするならば、例え
ば第1の電極を透明導電膜、第2の電極、第3の電極
(第4の電極)を金属膜とすればよい。あるいは、第1
の電極を透明導電膜、第2の電極を金属膜、第3の電極
(第4の電極)を透明導電膜としてもよい。逆に第2の
基板を入射側、第1の基板を反射側とするならば、第2
の電極、第3の電極(第4の電極)を透明導電膜、第1
の電極を金属膜とすればよい。
備えた構成としてもよい。この構成によれば、加熱手段
の作用によって液晶層の温度を常温以上に上昇させるこ
とができ、それにより液晶の粘度が低下するので、ON
状態からOFF状態に切り替える際の液晶分子の戻りを
速め、応答速度を向上することができる。
光源からの光を変調する上記本発明の液晶装置からなる
光変調手段と、前記光変調手段により変調された光を投
射する投射手段とを備えたことを特徴とする。この構成
によれば、応答速度の速い表示が可能な投射型表示装置
を実現することができ、特にフィールドシーケンシャル
(時分割)駆動のカラー投射型表示装置に好適なものと
なる。
置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、応答
速度の速い表示が可能な液晶表示部を備えた電子機器を
実現することができる。
明の第1の実施の形態を図1〜図4を参照して説明す
る。本実施の形態の液晶装置は薄膜トランジスタ(Thin
Film Transistor, 以下、TFTと略記する)をスイッ
チング素子に用いたアクティブマトリクス方式の透過型
液晶装置の例であり、図1(a)は液晶装置の全体構成
を示す斜視図、図1(b)は図1(a)における一画素
の拡大図、図2は一画素の電極構成のみを取り出して示
す斜視図、図3は同平面図、図4(a)、(b)は同液
晶装置の動作を説明するための図であって図2のA−
A’線に沿う断面図である。なお、以下の全ての図面に
おいては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚
や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
に示すように、TFTが形成された側の素子基板2(第
2の基板)と対向基板3(第1の基板)とが対向配置さ
れ、これら基板2,3間に誘電率異方性が正の液晶から
なる液晶層(図示略)が封入されている。素子基板2の
内面側には、多数のソース線4および多数のゲート線5
が互いに交差するように格子状に設けられている。各ソ
ース線4と各ゲート線5の交差点の近傍にはTFT6が
形成されており、各TFT6を介して画素電極7(第2
の電極)がそれぞれ接続されている。すなわち、マトリ
クス状に配置された各画素毎に一つのTFT6と画素電
極7が設けられている。一方、対向基板3の内面側全面
には、多数の画素がマトリクス状に配列されてなる表示
領域の全体にわたって一つの共通電極8(第1の電極)
が形成されている。
ート線5から延びるゲート電極10と、ゲート電極10
を覆う絶縁膜(図示略)と、絶縁膜上に形成された多結
晶シリコン、アモルファスシリコン等からなる半導体層
11と、半導体層11中のソース領域に電気的に接続さ
れたソース線4から延びるソース電極12と、半導体層
11中のドレイン領域に電気的に接続されたドレイン電
極13とを有している。そして、TFT6のドレイン電
極13が画素電極7に電気的に接続されている。本実施
の形態の場合、画素電極7はITO等の透明導電膜で形
成され、対向基板3側の共通電極8もITO等の透明導
電膜で形成されている。表示に寄与する縦電界を発生さ
せるための電極は、従来と同様、上記の画素電極7と共
通電極8であるが、これに加えて、図1(a)、(b)
では図示を省略するが、本発明特有の作用を生み出す横
電界を発生させるための電極が形成されている。これに
ついて次に説明する。
素電極7の上方に絶縁膜14を介して櫛歯状電極15
(第3の電極)が形成されている。櫛歯状電極15は、
略矩形状の画素電極7の上方に絶縁膜14を介してIT
O等の透明導電膜により形成されており、画素電極7の
長手方向に延在する複数本(本実施の形態では3本)の
線状部分15aを有している。また、図示は省略する
が、この櫛歯状電極15を画素電極7とは独立して個別
に駆動するためのTFT、このTFTに信号を供給する
ソース線およびゲート線が素子基板2上に形成されてい
る。そして、櫛歯状電極15を覆うように素子基板の全
面にわたって樹脂材料、無機材料等からなる配向膜16
が形成されている。また、対向基板3側にも共通電極8
を覆うように樹脂材料、無機材料等からなる配向膜17
が形成されている。
素子基板2側、対向基板3側の配向膜16,17には、
ともに櫛歯状電極15の線状部分15aの延在方向と略
直交する同方向に配向処理が施されている(図3におい
て、素子基板2上の配向膜16の配向方向を実線の矢
印、対向基板3上の配向膜17の配向方向を破線の矢印
で示す)。したがって、画素電極7−共通電極8間に電
圧を印加していない状態(OFF状態)では、液晶層1
8の液晶分子19は、セル厚方向に向かってねじれるこ
となく、その長軸方向が櫛歯状電極15の線状部分15
aの延在方向と略直交する方向に向くように平行配向し
ている。
る。まず、OFF状態から画素電極7−共通電極8間に
電圧を印加する(ON状態とする)場合、図4(a)に
示すように、共通電極8(第1の電極)にV0(例えば
V0=0V)、画素電極7(第2の電極)に+V(例え
ば+V=+5V)、櫛歯状電極15(第3の電極)にも
画素電極7と同じく+V(例えば+V=+5V)の電圧
を印加する。この時、画素電極7−共通電極8間には電
位差が生じ、基板面に略垂直な方向に縦電界Evが発生
するが、画素電極7と櫛歯状電極15は同電位であるか
ら横電界は発生しない。そこで、縦電界Evに対応し
て、櫛歯状電極15の線状部分15aの延在方向と略直
交する方向に平行配向していた液晶分子19が、その長
軸方向が縦電界Evの方向に向くように立ち上がる。
る場合、図4(b)に示すように、共通電極8(第1の
電極)と櫛歯状電極15(第3の電極)への印加電圧は
変えずに、画素電極7(第2の電極)への印加電圧のみ
を+V(例えば+V=+5V)からV0(例えばV0=0
V)に切り換える。この時、画素電極7−共通電極8間
の電位差はなくなるので、ON時に発生していた縦電界
EV が消滅する一方、画素電極7−櫛歯状電極15間に
は電位差が生じるので、横電界EL が発生する。この横
電界に対応して、ON時に基板面に略垂直な方向に垂直
配向していた液晶分子19が、その長軸方向が横電界E
vの方向に向くように平行配向状態に戻る。
場合、「ON状態からOFF状態に切り換えた際、画素
電極7−共通電極8間には電位差がなくなり、縦電界E
V が消滅する」と述べたが、櫛歯状電極15−共通電極
8間には電位差があるため、実際には若干の縦電界が発
生しており、OFF状態に切り換えた時点では横電界と
縦電界が混在した状態となる。その結果、電界の乱れが
発生し、それに起因して液晶の配向乱れ、いわゆるディ
スクリネーションが発生することが考えられる。このデ
ィスクリネーションによる表示の不具合を抑えるために
は、ノーマリーホワイトの表示モードを採用することが
望ましい。ノーマリーブラックモードでは白表示から黒
表示に切り替わる際にディスクリネーションが発生する
ことになり、光漏れが起こるため、コントラストの低下
が生じる。その点、ノーマリーホワイトモードでは黒表
示から白表示に切り替わる際にディスクリネーションが
発生することになるため、コントラストが低下すること
はないからである。
よってOFF状態では平行配向をとるように規制されて
いるため、ON状態からOFF状態に切り換えた時に縦
電界EV が消滅したただけでも平行配向状態に戻ってい
くが、従来は、液晶の粘性だけに頼った動きのためにど
うしても遅くなり、ON時に比べてOFF時の応答速度
が低下する原因となっていた。これに対して、本実施の
形態の液晶装置1の場合、素子基板2側に画素電極7と
櫛歯状電極15とを備え、ON状態からOFF状態に切
り替える際に画素電極7と櫛歯状電極15とで液晶に横
電界を印加する構成となっているため、この横電界が平
行配向状態へ液晶分子が戻ろうとする動きをアシストす
る結果、OFF時の応答速度を従来に比べて向上させる
ことができる。
答速度の向上効果を従来の液晶装置と比較した。櫛歯状
電極を持たない従来の液晶装置を作製し、応答速度を測
定した結果、ON時(印加電圧:5V)の応答速度が2
0msec、OFF時(印加電圧:0V)の応答速度が35
msecであった。これに対し、本実施の形態で説明したよ
うな櫛歯状電極を追加した液晶装置を作製して応答速度
を評価した結果、ON時の応答速度は20msecと変わら
ないが、OFF時の応答速度を25msecに改善すること
ができた。
記載の液晶装置と異なり、本実施の形態の場合、横電界
発生用の電極を形成するのは素子基板2側のみで済むの
で、上記公報に記載の液晶装置ほど製造プロセスが煩雑
になったり、製造コストが増大することがない。さら
に、画素電極7は、共通電極8との間で縦電界を発生さ
せる電極として機能すると同時に、櫛歯状電極15との
間で横電界を発生させる電極としても機能するので、電
極構成を簡単にすることができる。本実施の形態の電極
の構成はいわゆるFFSの電極構成に類似したものであ
り、櫛歯状電極15の上方に位置する液晶分子も駆動さ
れるため、電極の部分も表示に寄与させることができ、
同じ条件のIPS構造の液晶装置に比べて開口率を大き
くできるという利点も得られる。
いて、液晶層18のバルク部分を構成する液晶分子19
の長軸方向が櫛歯状電極15の線状部分15aの延在方
向に対して略垂直な方向を向くように配向処理がなされ
ているため、櫛歯状電極15の線状部分15aの延在方
向に対して略垂直な方向に横電界EL が発生した際に横
電界EL の方向とOFF時に液晶分子19が戻ろうとす
る方向が一致し、液晶分子19の戻りを円滑に補助する
ことができる。
は、OFF状態に切り換えた後、OFF状態が続く間、
横電界を印加し続けてもよいが、本発明における横電界
の印加の意味は、横電界を使って液晶分子を完全に駆動
するというよりも、液晶分子が戻ろうとする動きを横電
界がアシストするだけのものである。これだけで応答速
度の向上には充分効果がある。したがって、上述したデ
ィスクリネーションによる悪影響を極力排除することを
考えると、OFF状態に切り換えた直後の一定の時間だ
け横電界を印加し、その後は止めてもよい。
形態の場合、ON時には共通電極:V0、画素電極:+
V、櫛歯状電極:+Vとし、OFF時には共通電極:V
0、画素電極:V0、櫛歯状電極:+Vとしたが、ON時
に縦電界が発生し、OFF時に横電界が発生しさえすれ
ば、その他のいかなるパターンで電圧を印加してもよ
い。また、液晶材料の特性に合わせて横電界の大きさや
印加時間を制御することにより、応答速度を調節するこ
ともできる。
の実施の形態を図5〜図7を参照して説明する。本実施
の形態の液晶装置はTFTをスイッチング素子に用いた
アクティブマトリクス方式の反射型液晶装置の例であ
る。基本構成は図1(a)、(b)に示した第1の実施
の形態と同様であり、異なる点は横電界を発生させるた
めの電極構成のみである。よって、液晶装置の全体構成
の説明は省略し、電極構成と動作を中心に説明する。図
5は一画素の電極構成のみを取り出して示す斜視図、図
6は同平面図、図7(a)、(b)は同液晶装置の動作
を説明するための図であって図5のB−B’線に沿う断
面図である。なお、図5〜図7において、図2〜図4と
共通の構成要素については同一の符号を付す。
示すように、素子基板2の画素電極7の上方に絶縁膜1
4を介して一画素毎に第1の櫛歯状電極21(第3の電
極)、第2の櫛歯状電極22(第4の電極)が形成され
ている。これら第1、第2の櫛歯状電極21,22は、
略矩形状の画素電極7の上方に絶縁膜14を介してアル
ミニウム、銀等の光反射率の高い同一の層の金属膜によ
り形成されている。各櫛歯状電極21,22は画素電極
の長手方向に延在する複数本(本実施の形態では2本)
の線状部分21a,22aをそれぞれ有しており、コ字
状の第1の櫛歯状電極21と逆コ字状の第2の櫛歯状電
極22とが組み合わされて配置されている。また、図示
は省略するが、これら櫛歯状電極21,22の各々を画
素電極7とは独立して個別に駆動するためのTFT、こ
のTFTに信号を供給するソース線およびゲート線が素
子基板2上に形成されている。
ったため、全ての電極が透明導電膜で形成されていたの
に対し、本実施の形態の液晶装置は反射型に対応するも
のであり、各電極の構成材料は、対向基板3上の共通電
極8がITOなどの透明導電膜、素子基板2上の画素電
極7および2つの櫛歯状電極21,22がアルミニウ
ム、銀等の金属膜となっている。したがって、本実施の
形態の液晶装置は、対向基板3側が光入射側となる。
素子基板2側、対向基板3側の配向膜16,17には、
各櫛歯状電極21,22の線状部分21a,22aの延
在方向と直交する方向に対してそれぞれ45°をなす方
向に配向処理が施されており(図6において、素子基板
2上の配向膜16の配向方向を実線の矢印、対向基板3
上の配向膜17の配向方向を破線の矢印で示す)、これ
ら基板2,3間にツイステッドネマティック(Twisted
Nematic,TN)液晶が挟持されている。したがって、画
素電極7−共通電極8間に電圧を印加していない状態
(OFF状態)では、液晶層23の液晶分子24はセル
厚方向全体で90°ねじれており、バルク部分の液晶分
子24は、その長軸方向が各櫛歯状電極21,22の線
状部分21a,22aの延在方向と略直交する方向に向
くように平行配向している。
る。まず、OFF状態からON状態に切り換える場合、
図7(a)に示すように、共通電極8(第1の電極)に
V0(例えばV0=0V)、画素電極7(第2の電極)に
+V(例えば+V=+5V)、第1の櫛歯状電極21
(第3の電極)、第2の櫛歯状電極22(第4の電極)
にも画素電極7と同じく+V(例えば+V=+5V)の
電圧を印加する。この時、画素電極7−共通電極8間に
は電位差が生じ、基板面に略垂直な方向に縦電界Evが
発生するが、画素電極7、第1,第2の櫛歯状電極2
1,22は全て同電位であるから、これらの電極間に横
電界は発生しない。そこで、縦電界Evに対応して、櫛
歯状電極21,22の線状部分21a,22aの延在方
向と略直交する方向に平行配向していた液晶分子24
が、その長軸方向が縦電界Evの方向に向くように立ち
上がる。
る場合、図7(b)に示すように、共通電極8(第1の
電極)への印加電圧は変えず、画素電極7(第2の電
極)にV0(例えばV0=0V)、第1の櫛歯状電極21
(第3の電極)に+V(例えば+V=+5V)、第2の
櫛歯状電極22(第4の電極)に−V(例えば−V=−
5V)の電圧を印加する。この時、画素電極7−共通電
極8間の電位差はなくなるので、ON時に発生していた
縦電界EV が消滅する一方、第1の櫛歯状電極21−第
2の櫛歯状電極22間、第1の櫛歯状電極21−画素電
極7間、および第2の櫛歯状電極22−画素電極7間に
はそれぞれ電位差が生じるので、横電界E L が発生す
る。この横電界EL に対応して、ON時に基板面に略垂
直な方向に垂直配向していた液晶分子24が、その長軸
方向が横電界Evの方向に向くように平行配向状態に戻
る。
の形態と同様、OFF時に画素電極7−共通電極8間に
は電位差がないが、第1,第2の櫛歯状電極21,22
−共通電極8間には電位差があるため、若干の縦電界が
発生しており、ディスクリネーションが発生することが
考えられる。したがって、このディスクリネーションに
起因するコントラスト比の低下を抑えるために、本実施
の形態の場合もノーマリーホワイトの表示モードを採用
することが望ましい。
状態からOFF状態に切り替える際に第1,第2の櫛歯
状電極21,22を用いて液晶層23に横電界を印加す
る構成となっており、この横電界が平行配向状態へ液晶
が戻ろうとする動きをアシストするため、OFF時の応
答速度を従来に比べて向上させることができる、という
第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
答速度の向上効果を従来の液晶装置と比較した。櫛歯状
電極を持たない従来の液晶装置を作製し、応答速度を測
定した結果、ON時(印加電圧:5V)の応答速度が1
6msec、OFF時(印加電圧:0V)の応答速度が32
msecであった。これに対し、本実施の形態で説明したよ
うな第1,第2の櫛歯状電極を追加した液晶装置を作製
して応答速度を評価した結果、ON時の応答速度は16
msecと変わらないが、OFF時の応答速度を23msecに
まで改善することができた。
界を発生させる画素電極7とは別個に横電界を発生させ
る第1の櫛歯状電極21、第2の櫛歯状電極22を設け
た点で、第1の実施の形態に比べると電極構成や配線構
成が若干複雑になる。しかしながら、横電界を発生させ
るための2つの櫛歯状電極21,22があるために、各
電極に印加する電圧値の設定の自由度が上がり、印加電
圧値のパターンを変えることで応答速度を調節すること
ができる。上記印加電圧のパターン例を見ても、2つの
櫛歯状電極21,22間に2×V(例えば2×V=10
V)の電圧が印加され、第1の実施の形態に比べて2倍
の印加電圧となるので、より大きな横電界を発生させる
ことができ、液晶分子の戻りをより強くアシストするこ
とができる。
電極21、第2の櫛歯状電極22が同一の層で形成され
ているので、同一の工程で第1の櫛歯状電極21と第2
の櫛歯状電極22を同時に形成することができ、製造プ
ロセスが複雑になることがない。また、素子基板2上の
画素電極7、第1,第2の櫛歯状電極21,22を全て
アルミニウム、銀等の金属膜で形成しているため、これ
らの電極を対向基板3側から入射された外光を反射させ
る反射層として機能させることができ、別の反射層や外
付けの反射板などを追加することなく、反射型液晶装置
を実現することができる。なお、下側に位置する画素電
極7を金属膜で形成すれば、その上の第1,第2の櫛歯
状電極21,22は透明導電膜で形成してもよい。
ていることと各基板の配向処理の方向が第1の実施の形
態と異なっているものの、液晶層23のバルク部分を構
成する液晶分子24の長軸方向が各櫛歯状電極21,2
2の線状部分21a,22aの延在方向に対して略垂直
な方向を向くようになっていることは同じである。した
がって、横電界の方向と液晶分子のON→OFF時の戻
り方向が一致し、液晶分子の戻りを円滑に補助できると
いう効果が得られる点では第1の実施の形態と同様であ
る。
晶層を加熱するためのヒータなどの加熱手段を備えた構
成としてもよい。本発明者が、任意の液晶装置において
液晶の温度と応答時間の関係を調べたものが図12であ
る。図12において、横軸は液晶の温度[℃]、縦軸は
応答時間[msec]である。OFF時→ON時の応答時間
を実線、ON時→OFF時の応答時間を破線で示す。
応答時間よりもON時→OFF時の応答時間の方が長い
ことがわかる。これはON時→OFF時の応答が液晶分
子の戻りのみに因っているためであり、上で述べた通り
である。−20℃における応答時間はともに100msec
を超えているが、温度の上昇とともに応答時間は短くな
る傾向にあり、30℃を超えるとOFF時の応答時間も
10msec以下となる。これは、ある一種の液晶材料につ
いて調べた結果であるが、液晶材料を変えても40℃以
上になれば概ね10msec以下、例えば数msecといったの
応答時間が実現できる。
応答速度をさらに改善するためにはヒータなどの加熱手
段により液晶層を加熱することが有効である。さらに、
液晶層の温度を常に一定範囲に制御するような温度制御
手段を備えることがより好ましい。後述する投射型液晶
表示装置のライトバルブに本発明の液晶装置を用いるよ
うな場合には光源からの強い光が液晶装置に照射され、
液晶層の温度が必然的に上昇してしまうので、応答時間
の改善にとっては有利である。
態の液晶装置を液晶ライトバルブとして用いた色順次単
板方式(フィールドシーケンシャルカラー方式)の投射
型液晶表示装置(液晶プロジェクタ)の一例を示す概略
構成図である。図中、符号500は光源、501,50
2は集光レンズ、503はカラーホイール、504は液
晶ライトバルブ(光変調手段)、505は投射レンズを
示す。
506とランプ506の光を反射するリフレクタ507
とから構成されている。光源500からの白色光が第1
集光レンズ501を透過した後、高速回転するカラーホ
イール503を透過することにより、赤色光、青色光、
緑色光が例えば数msecといった時分割で出射される。そ
の後、出射された各色光は第2集光レンズ502を透過
する。第2集光レンズ502を透過した光は液晶ライト
バルブ504に入射され、ここで変調された後、投射レ
ンズ505によってスクリーン(図示略)上に投射さ
れ、画像が拡大されて表示される。
対応する画像を1つの液晶ライトバルブ504で時分割
で切り換えて投射し、カラー表示を実現するものである
から、液晶ライトバルブ504には応答速度が速いこと
が要求される。そこで、上記実施の形態の液晶装置を用
いたことにより、画像品位に優れた投射型液晶表示装置
を実現することができる。また上述したように、光源5
00からの強い光が液晶ライトバルブ504に照射さ
れ、液晶層の温度が高くなるので、応答時間の改善にと
っては有効であり、時分割駆動のカラー投射型表示装置
に好適なものとなる。
置を備えた電子機器の例について説明する。図9は、携
帯電話の一例を示した斜視図である。図9において、符
号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記
の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
た斜視図である。図10において、符号1100は時計
本体を示し、符号1101は上記の液晶表示装置を用い
た液晶表示部を示している。
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図11に
おいて、符号1200は情報処理装置、符号1202は
キーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置
本体、符号1206は上記の液晶表示装置を用いた液晶
表示部を示している。
の形態の液晶装置を用いた液晶表示部を備えているの
で、応答速度の速い表示が可能な液晶表示部を備えた電
子機器を実現することができる。
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記実施の形態ではスイッチング素子にTFTを用
いたアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適
用したが、スイッチング素子に薄膜ダイオード(ThinFi
lm Diode,TFD)を用いたアクティブマトリクス方式
の液晶装置、パッシブマトリクス方式の液晶装置、カラ
ーフィルターを備えたカラー液晶装置などにも適用が可
能である。また、液晶装置の応用例としては、上記の投
射型液晶表示装置の他、直視型の液晶表示装置にも応用
できることは勿論である。
(上記実施の形態では櫛歯状電極とした)等の各構成要
素の形状、構成材料等の具体的な記載に関しては、上記
実施の形態の例に限ることなく、適宜変更が可能であ
る。
よれば、ON状態からOFF状態に切り換え際に第2の
基板上の電極を用いて液晶に横電界を印加する構成とな
っており、この横電界がOFF時の液晶の戻りを補助す
るように働くため、従来に比べて応答速度が速い液晶装
置を実現することができる。また、横電界発生用の電極
を形成するのは第2の基板側のみで済むので、製造プロ
セスが煩雑になったり、製造コストが増大することがな
い。
であって、図1(a)は液晶装置の全体構成を示す斜視
図、図1(b)は図1(a)における一画素の拡大図で
ある。
出して示す斜視図である。
を説明するための図であって、図2のA−A’線に沿う
断面図である。
の電極構成のみを取り出して示す斜視図である。
を説明するための図であって、図5のB−B’線に沿う
断面図である。
を示す図である。
図である。
る。
結果を示すグラフである。
S方式、(b)FFS方式)の原理を説明するための図
である。
Claims (13)
- 【請求項1】 互いに対向配置された一対の基板間に誘
電率異方性が正の液晶からなる液晶層が挟持された液晶
装置であって、 前記一対の基板を構成する第1の基板、第2の基板のそ
れぞれに前記液晶層を挟んで対峙し、該液晶層に対して
縦電界を印加する電極が設けられるとともに、前記第2
の基板には、前記液晶層に対して横電界を印加する複数
の電極が設けられたことを特徴とする液晶装置。 - 【請求項2】 前記第1の基板に第1の電極が設けら
れ、前記第2の基板に前記第1の電極との間で前記縦電
界を発生させる第2の電極が設けられ、さらに前記第2
の基板には前記第2の電極との間で前記横電界を発生さ
せる第3の電極が設けられていることを特徴とする請求
項1に記載の液晶装置。 - 【請求項3】 前記第2の電極は略矩形状の電極であ
り、前記第3の電極は前記第2の電極の上方に絶縁膜を
介して形成された線状部分を有する電極であることを特
徴とする請求項2に記載の液晶装置。 - 【請求項4】 前記第1の基板に第1の電極が設けら
れ、前記第2の基板に前記第1の電極との間で前記縦電
界を発生させる第2の電極が設けられ、さらに前記第2
の基板には互いの間に前記横電界を発生させる第3の電
極および第4の電極が設けられていることを特徴とする
請求項1に記載の液晶装置。 - 【請求項5】 前記第2の電極は略矩形状の電極であ
り、前記第3の電極および前記第4の電極はともに前記
第2の電極の上方に絶縁膜を介して形成された線状部分
を有する電極であることを特徴とする請求項4に記載の
液晶装置。 - 【請求項6】 前記第3の電極および前記第4の電極は
同一の層で形成されていることを特徴とする請求項5に
記載の液晶装置。 - 【請求項7】 前記縦電界を印加しない状態において、
前記液晶層のバルク部分を構成する液晶分子の長軸方向
が前記第3の電極または前記第4の電極の前記線状部分
の延在方向に対して略垂直な方向を向くように配向処理
がなされていることを特徴とする請求項3または5に記
載の液晶装置。 - 【請求項8】 ノーマリーホワイトの表示モードを採用
したことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項
に記載の液晶装置。 - 【請求項9】 前記電極が全て透明導電膜で形成されて
いることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項
に記載の液晶装置。 - 【請求項10】 前記一対の基板のいずれか一方の基板
上の電極が透明導電膜で形成され、他方の基板上の電極
の少なくとも一つが金属膜で形成されていることを特徴
とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の液晶装
置。 - 【請求項11】 前記液晶層を加熱する加熱手段を備え
たことを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一項
に記載の液晶装置。 - 【請求項12】 光源と、前記光源からの光を変調する
請求項1ないし11のいずれか一項に記載の液晶装置か
らなる光変調手段と、前記光変調手段により変調された
光を投射する投射手段とを備えたことを特徴とする投射
型表示装置。 - 【請求項13】 請求項1ないし11のいずれか一項に
記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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