JP2002347187A - 転写媒体とその製造方法、並びに、磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
転写媒体とその製造方法、並びに、磁気記録媒体とその製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
形、歪みを防止し、また膜厚を高いレベルでコントロー
ルすることで磁気記録媒体(磁気カード)の読取/書込
の際のエラーを低減ことが可能な磁気記録媒体及びこの
作製に使用する転写媒体を提供する。 【解決手段】支持体11上に、該支持体に対して剥離性
を有する第一保護層兼受像層12、第二保護層兼受像層
13、接着層14が、この順に設けてある転写媒体10
において、第一保護層兼受像層が、少なくとも、融点が
90以上℃の滑剤を、重合度600〜2000の範囲に
ある塩化ビニル樹脂に対して1〜15重量%含有する組
成で形成され、第二保護層兼受像層は、樹脂に対する滑
剤成分の割合が2〜30重量%含有する組成であって、
且つ、第一保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑
剤成分の割合が多く含有する組成である転写媒体。
Description
磁気記録カードを構成するための転写媒体(転写箔)に
関し、更に詳しくはカード基材上に磁気テープを配し、
更にこれを隠蔽し、印刷層、保護層を有するオーバープ
リントカード、特に顔写真等の個別画像情報を加工する
ことが可能なオーバープリントカードを構成するための
転写箔に関する。
ードやキャッシュカードが広く利用されている。これら
は、一般的に白色の塩化ビニル樹脂をコア材として用
い、この両面もしくは片面に、所定の磁気テープをを所
定位置に貼付した透明な塩化ビニル樹脂シートを重ねて
加熱加圧プレスしたものを基材として用いたものであ
る。欧州や米国では白色のコア材に印刷を施し、後に透
明シートをプレスする構成をとっている。しかし日本国
内では、これら諸外国と同様の構成のカードの他に、透
明シートをプレス接着した後に、表面にデザイン等の絵
柄印刷を施す構成のカードも使用されている。
格の磁気テープがカード表面に付与されているためであ
る。すなわち、諸外国ではカード表面に磁気テープがな
いため、印刷はシートの内側でかまわないが、日本では
カード表面にJIS規格磁気テープを使用し、磁気情報
の記録消去を行う必要があるため、この磁気テープが基
材の最表層付近になければならず、結果として透明シー
トの外側に磁気テープを設けることになる。したがっ
て、デザイン上でこの磁気テープを隠蔽するための印刷
を透明シートの外側に施すことになるのである。この透
明シートの外側に印刷を施すカードをオーバープリント
カード(以下、OPカード)と呼ぶことにする。
白色塩化ビニルコアの両面に、あらかじめ所定位置に磁
気テープを貼付した透明塩化ビニルシートを重ね、加熱
加圧プレスしてカード基材を得る。その後、磁気テープ
を隠すための隠蔽層、デザインのための印刷層、印刷面
を保護するための保護層が設けられ、表面を平らにする
ためのプレスを再度行ってカード形状に打ち抜き、必要
に応じて設けられるホログラムの箔転写、サインパネル
転写及びエンボス工程を経て、OPカードとなる。ま
た、近年のクレジットカードの偽造・不正使用防止策の
一つとして、カードに所有者の顔写真を入れる方法が取
られている。これは、一般的に塩ビに染着しやすい昇華
(熱移行)性の染料を用い、YMCの各色に塗り分けた
昇華転写リボンをサーマルヘッド等で熱エネルギーを与
え、個々の画像情報を記録していくものである。この様
な使用をするOPカードにおいては、保護層上に別途受
像層を設け、プレス加工を行い表面を平らにして製造さ
れている。
明シートの内側にあって十分に保護されている諸外国の
カードとは異なり、日本のOPカードの耐性は非常に薄
い保護層のみによって保たれているので、保護層の役割
は非常に重要である。また、要求される磁気特性を得る
ため、隠蔽層、印刷層、保護層、場合により設けられる
受像層の厚みは必要以上に厚くすることができず、さら
に耐久性を増すことは困難になっている。この保護層を
設ける方法としてはいくつか考えられ、グラビア塗工系
の方式とスクリーン印刷系の方式、さらにオフセット印
刷系の方式がある。しかし、このうちスクリーン印刷系
は膜厚制御が困難であるので、磁気出力変動率が大きく
なるおそれがある。また、オフセット印刷系の方式で
は、主に紫外線硬化型のオフセットインキを使用する
が、これは様々なものとの密着性が悪い。さらに、耐擦
過性を向上させるために滑材成分を添加すると、ほとん
どのものが密着不可能である。したがって、後工程とな
るホログラム箔の転写や受像層の塗工が非常に困難とな
ってしまう。以上のことから、保護層を設ける方法とし
てグラビア塗工系の方式が用いられてきている。
グラビア塗工系の方式によって保護層を設ける方法には
様々な問題がある。まず、強い溶媒を多量に含む保護層
の塗液を直接的に上から塗工するため、溶剤の浸透によ
って基材や印刷の歪みが生じやすい状況となる。また、
溶剤が多量に含まれる塗液を塗工するので、塗工後には
十分な乾燥が必要であるが、基材の塩化ビニルは熱変形
を起こしやすいため、高温かつ長時間の乾燥は無理であ
り、結果として溶剤が残留し、密着性低下や樹脂の可塑
化等の悪影響を及ぼす。さらには、磁気出力の変動率を
安定させるためには塗膜の膜厚を安定させる必要がある
が、枚葉のシートへの塗工では膜厚安定性にも限界があ
り、安定した塗膜は得られにくい上、膜厚の管理も容易
でないという問題がある。
加え、以下の問題を有している。顔写真付きOPカード
を製造する場合、顔写真等の画像データを入れる場所は
顧客の仕様により、まちまちである。よって、受像層を
形成する方式としては、印刷エリアの指定が容易である
スクリーン印刷法が採用されている。このスクリーン印
刷法の欠点は、上述した膜厚の制御が困難であること以
外にも、印刷版上に乗せたインキを印圧により印刷版を
通過させ押し出す方式であるため、版乾きの問題を回避
する方法として乾きにくい高沸点溶剤が使用される。す
なわち、十分な乾燥を行うことが不可能であるカードに
おいて、生乾きの印刷を行うことは、後々カード同士の
ブロッキング等様々な問題を引き起こす。
料を塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂に変更し、保護層
兼受像層とする構成も考えられている。しかしながら、
十分な耐摩擦性・印字適性のバランスが取れないだけで
なく、カード裏面のサインパネル材とのブロッキングが
生じるため、十分に満足のいく構成は得られていない。
また、カード表面の耐久性においては、滑剤を多量に添
加すれば強い強度を得ることができるのであるが、外観
上の曇りと、表面へ滑剤成分が析出し、粉ふきといった
現象を起こす。この滑剤成分の析出は、ATM等カード
リーダー内に蓄積され、内部を汚染し磁気の読みとりエ
ラーや搬送不良を引き起こす。
うと課題は、溶剤を用いることに起因するカード基材の
変形、歪みを防止し、また膜厚を高いレベルでコントロ
ールすることで磁気記録媒体(磁気カード)の読取/書
込の際のエラーを低減ことが可能であり、且つ、外観の
優れた磁気記録媒体及びこの作製に使用する転写媒体
(転写箔)を提供することである。
めに、本発明は保護層を直接グラビア法によって塗工す
るのではなく、別の支持体上に塗工した保護層を基材上
に転写する方法により、磁気記録媒体を作製することで
ある。
体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層
兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層が、少
なくともこの順に設けてある転写媒体において、該第一
の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が90℃以上の
滑剤を、重合度600〜2000の範囲にある塩化ビニ
ル樹脂に対して1〜15重量%含有する組成で形成さ
れ、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分
の割合が2〜30重量%含有する組成であって、且つ、
該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤
成分の割合が多く含有する組成であること、を特徴とす
る転写媒体である。
層の厚みが乾燥厚みで0.1μm以上であり、前記第一
の保護層兼受像層と第二の保護層兼受像層との合計厚み
が乾燥厚みで0.4μm以上あって、しかも、該接着
層、第一の保護層兼受像層、および第二の保護層兼受像
層の合計厚みが乾燥厚みで0.8〜9μmであること、
を特徴とする請求項1記載の転写媒体である。
対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保
護層兼受像層、および接着層の、少なくとも3層をこの
順に該支持体上に設ける転写媒体の製造方法において、
該第一の保護層兼受像層は、少なくとも、融点が90℃
以上の滑剤を、重合度600〜2000の範囲にある塩
化ビニル樹脂に対して1〜15重量%含有する組成で、
塗工により形成し、しかる後に、該第二の保護層兼受像
層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が2〜30重量%含
有する組成であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の
場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する
組成で、塗工により形成すること、を特徴とする転写媒
体の製造方法である。
層を備えている基材上に、請求項1又は2のいずれかに
記載の接着層、第一の保護層兼受像層、および第二の保
護層兼受像層の転写媒体の少なくとも3層が、設けてあ
ることを特徴とする磁気記録媒体である。
記録層上にある非磁性層の厚みが0.8〜9μmである
ことを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体であ
る。
記録層は、目視では視認が不可能か又は困難なように、
隠蔽されてあることを特徴とする請求項4又は5のいず
れかに記載の磁気記録媒体である。
層を備えている基材上に、保護層兼受像層を転写により
形成する磁気記録媒体の製造方法であって、保護層兼受
像層の転写に用いる転写媒体として、支持体上に、該支
持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第
二の保護層兼受像層、および接着層が、少なくともこの
順に設けてあり、該第一の保護層兼受像層が、少なくと
も、融点が90℃以上の滑剤を、重合度600〜200
0の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して1〜15重量%
含有する組成で形成され、且つ、該第二の保護層兼受像
層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が2〜30重量%含
有する組成であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の
場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する
組成である転写媒体を使用すること、を特徴とする磁気
記録媒体の製造方法である。
記録層上にある非磁性層厚みが0.8〜9μmであるこ
とを特徴とする請求項7に記載の磁気記録媒体の製造方
法である。
り、カード基材及び印刷層上に直接溶剤を多量に含む塗
液を塗工する必要がなくなるので、基材や印刷の歪みを
防止することができる。また、保護層形成後の乾燥工程
が不要となり、残留溶剤による密着性低下や樹脂の可塑
化等の悪影響を防ぐことができる。さらに、別途受像層
を設ける必要がなく、保護層兼受像層の塗工がロールの
状態で加工可能になるため、膜厚管理が容易で高いレベ
ルでの管理が可能となるので、磁気特性の変動を抑制す
ることができ、工程の簡略化を図ることができる。ま
た、最終製品であるカードの外観も曇り無くかつ、高耐
性な磁気記録媒体を得ることができる。
明する。図1は本発明の転写媒体(10)の構成を示す
断面図である。転写媒体(10)は、支持体(11)上
に第一保護層兼受像層(12)、第二保護層兼受像層
(13)、接着層(14)の順に各層が形成されてい
る。
る被転写基材である磁気カード基材(20)の一実施例
を示す断面図である。磁気カード基材(20)として白
色コア材(21)の両面に透明オーバーシート材(2
2)が積層されている。この透明オーバーシート材(2
2)の表面(図の上側)にJIS磁気テープ(23A)
が埋め込まれ、裏面(図の下側)にISO磁気テープ
(23B)が埋め込まれている。このJIS磁気テープ
(23A)が埋め込まれた面側に、隠蔽層(24)、印
刷層(25)が設けられている。
0)の接着層(14)を磁気カード基材(20)に対向
させて転写する際の断面を示している。この被転写基材
である磁気カード基材(20)上に、転写媒体(10)
上の保護層兼受像層(12,13)および接着層(1
4)が転写されて構成されたのが図4に示す磁気記録媒
体(30)である。
安定しており、かつ耐熱性の高いポリエチレンテレフタ
レート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、これ
に限るものではない。その他の材料としては、ポリエチ
レンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィル
ム等が耐熱性の高いフィルムとして知られており、同様
の目的で使用することが可能である。また、他のフィル
ム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化
ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件、さらに言えば乾
燥条件が許せば使用可能である。また、転写条件等によ
り保護層兼受像層の剥離が困難である場合には、支持体
側に別途従来既知の離形層を設けても良く、剥離が軽す
ぎる場合には同様に従来既知の易接着処理を行っても良
い。また、転写層への影響が無い限りは、帯電防止処理
等の加工も何ら問題は無い。
び接着層(14)の組成について説明する。第一保護層
兼受像層(12)は、支持体(11)との密着性が軽度
のものであって、転写媒体(10)の加熱プレス転写後
には容易に剥離する材料でなければならない。さらに、
転写後は保護層としての役割と昇華転写による受像適性
も果たさなければならない。さらには、保護層上へのホ
ログラムの転写および転写後の密着性、あるいはエンボ
ス加工時の適性も考慮される必要がある。
者らが検討を重ねた結果、保護層兼受像層(12)の組
成としては、 1)重合度が600から2000の範囲内にある塩化ビ
ニル樹脂を含有する組成であること、2)融点が90℃
以上の滑材成分を1〜20重量%含有する組成が好まし
いことがわかった。
が容易であること、サインパネル材とのブロッキング
(変形)がしずらく強靱な皮膜であること、劣化がし難
いこと、後加工(ホログラム等の転写性)のし易さ、で
ある。昇華(熱移行)性染料による染着が容易である材
料としては、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂に代表さ
れる塩ビ系材料が知られている。しかし、塩化ビニル樹
脂に他成分を共重合する理由としては溶剤への溶解性・
柔軟性を付与するためであり、取り扱いが容易になる反
面、JIS X 6301(旧規格)に代表される接着
性・粘着性の試験において、40℃、90%RH環境に
48時間、4.9KPa荷重にてブロッキング試験をし
た場合、カード裏面のサインパネル材(膜厚10μm程
度)の段差が密着跡として変形してしまう。また、塩ビ
系の材料を使用する場合、熱や光による劣化の問題が生
じる。この劣化現象はポリ塩化ビニルが空気(酸素)に
接して、熱や光(紫外線)に曝されると脱塩素を起こ
し、不安定な共役二重結合のポリエン構造を生じて変色
し始める。さらには架橋や分子切断を誘発して分解・劣
化を導き、黒変・脆化・発泡等を起こし、使用に耐えな
くなる。この劣化現象は、重合度が600未満の不安定
な材料で顕著に現れ、構造的に安定な高分子材料を使用
することが望ましい。
各種溶剤への溶解性が乏しくなり、溶液のゲル化等の問
題が発生し、加工性の問題を引き起こす。熱溶融押し出
し法等で無溶剤による薄膜均一加工が可能である場合に
は、これに限定されるものでは無い。後加工のし易さに
ついて説明すると、ホログラムの転写箔はカード基材の
最表面にある透明塩化ビニルシート上に転写され易い様
に設計されているため、塩ビ系の材料を使用するのが望
ましい。以上の理由から重合度600〜2000の範囲
内にある塩化ビニル樹脂を含有するのが好ましいことが
わかった。
気ヘッドとの擦れが問題になる。一般的に、週に3回の
割合で買い物をしてクレジットカードを使用することを
考えると、一年当たりで150回、有効期限の5年間で
は750回、磁気ヘッドと擦れることになる。しかし、
クレジットカードの利用時に通す、いわゆるCAT端末
は、通常人間の手で通すので、カードと磁気ヘッドの当
たり具合が均一でないため、さらにマージンを5倍程度
見込むと、約4000回程度のヘッドパス耐性が必要と
考えられる。この耐性を満たすため、ステアリン酸(融
点70℃前後)、ステアリン酸メチル(融点40℃前
後)、ステアリン酸エチル(融点30℃前後)、ステア
リン酸亜鉛(融点120℃前後)、ステアリン酸ブチル
(融点30℃前後)、ポリエチレンワックス(融点70
〜140℃前後)、パラフィンワックス(融点−10〜
70℃前後)、カルナバワックス(融点80℃前後)モ
ンタンワックス(融点70〜100℃前後)、マイクロ
クリスタリンワックス(融点60〜100℃前後)、セ
ラックワックス(融点60〜80℃前後)、サゾールワ
ックス(融点100℃前後)、キャンデリラワックス
(融点70℃前後)、ライスワックス(融点80℃前
後)、木蝋(融点50℃前後)、蜜榔(融点60〜70
℃)、ラノリン(融点40℃前後)、セレシン(融点5
0〜100℃前後)、ポリテトラフルオロエチレンパウ
ダー(融点320℃前後)等から選択される滑材成分を
1〜20重量%含有する組成が好ましいことがわかっ
た。
れの耐性が低すぎ、20重量%を超えて添加すると、滑
材成分が表面へ激しくブリードしてくるため、カード表
面が不均一にマット化されて曇ったた状態になり、見た
目の印象が悪くなってしまうだけでなく、ホログラムの
転写・密着性が悪くなってしまう等の加工性悪化を引き
起こす。しかし、カードの印刷が黒等の濃い色であった
場合、滑剤添加量が20重量%であっても濁った印象を
与える場合がある。下層にどのような色の印刷がきても
美しい外観を保つには、滑剤添加量を15重量%以下に
することが好ましい。
が、染着性の良い塩ビ系樹脂に上記の滑剤を15重量%
以下の含有率で添加したものを受像層として、画像の形
成性を見たところ、滑剤の種類によって昇華リボンの貼
り付きが発生した。これは、昇華転写リボンにサーマル
ヘッドから熱エネルギーを与え、染料を昇華(溶融)さ
せ移行させるものであるため、受像層の樹脂中に含まれ
る滑剤の影響によって、受像層自体が溶融しやすくな
り、リボンのバインダーとの接着性が増し、融着しやす
くなったものと考えられる。滑剤の添加量を15重量%
に固定し、滑剤の融点を変えて実験を行ったところ、融
点が90℃を超える滑剤を使用することにより、昇華リ
ボンとの貼り付きが起きなくなることを見いだした。上
記の理由により、耐摩擦性及び昇華転写の受像適性を両
方満足させるには、融点が90℃以上の滑材成分を1〜
15重量%含有することが好ましい。
記の第一保護層兼受像層(12)よりも滑剤成分が多い
こととする。この理由としては、表面が磁気ヘッド等の
擦れにより徐々に削れても内部の滑剤により単層の場合
よりも二層目の滑剤を多くすることにより削れをくい止
める効果があることが筆者らの研究によって判明した。
ここで使用できる材料としては、第一の保護層兼受像層
の厚みが0.4μm未満である場合には、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニルエチ
レン酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタ
ン樹脂、スチレン共重合アクリル樹脂、塩素化ポリプロ
ピレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の昇華性染料
の染着し易い材料に、第一の保護層兼受像層の説明で列
挙した滑剤成分を混合して製造される。
昇華転写リボンと直接接触しないため、貼り付きの問題
は起こらないため滑剤の融点については特に限定されな
い。また、第一の保護層兼受像層の厚みが0.4μm以
上である場合にはそこで、染料の受容が十分であるので
従来既知の樹脂材料が使用でき特に限定されるものでは
無い。
量5万以下のアクリル系樹脂を50重量%以上含む組成
として用いることが好ましい。アクリル系樹脂として
は、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリ
エチルアクリレート等のアクリル酸及びそのエステル系
樹脂、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリエチルメタクリレート等のメタクリル酸及びそ
のエステル系樹脂、あるいはこれらにエチレン、プロピ
レン、ブタジエン、スチレン等を共重合した樹脂等が挙
げられる。アクリル系樹脂が好ましい理由は、その下層
として設けられる印刷層(25)が主に紫外線硬化型オ
フセットインキから構成されているためである。紫外線
硬化型オフセットインキは、一般にアクリル酸系樹脂の
モノマーやプレポリマーと紫外線照射によってラジカル
を発生する光開始剤、および色材から構成される。した
がって、樹脂の重合過程が樹脂製造時と塗工乾燥時に行
われるという差はあるが、その成分は比較的似通ったも
のであり、密着性は比較的良好であるからである。しか
し、単にアクリル系樹脂であれば密着するわけではな
い。一般的に、紫外線硬化型樹脂の硬化過程において
は、雰囲気中の酸素が重合反応を阻害して、表面のごく
近傍1〜10nm程度の深さまでは硬化反応が完全には
進行しないといわれている。この酸素阻害を防止するた
めに、紫外線ランプ付近に窒素ガスを充填する方法も実
際に採られているが、一般の印刷機ではそのような機能
は付いていないことが多い。したがって、ほとんどの紫
外線硬化型オフセットインキを使用した印刷物の表面は
未反応の層が存在している。したがって、この未反応層
の上に転写箔側の接着層(14)を熱で密着させようと
しても、見かけ上は密着したように見えても、未反応層
の強度が弱いため、強い力をかけると未反応層が破壊さ
れて剥がれてしまう。そのため、熱で密着させる際に
は、この未反応層を超えて下層の硬化層まで接着剤が浸
透し、十分な密着をとることが必要である。
脂のうち、平均分子量が5万以下の樹脂を使用すること
により、加熱時の粘度ができるだけ低い状態で樹脂を浸
透させることが可能である。したがって、接着層(1
4)と印刷層(25)の密着強度が十分な磁気記録媒体
(30)を得ることが可能となる。
接着層(14)の厚みについて説明する。JIS磁気テ
ープ(23A)上の厚みを制限する要因は、主にヘッド
パス耐性と磁気出力である。発明者らの実験によれば、
ヘッドパス耐性は、保護層兼受像層の組成が同じ場合に
は、厚いほど向上する。逆に、磁気出力はJIS磁気テ
ープ(23A)上の非磁性層の厚みが厚いほど低下す
る。そこで、市販されている磁気テープのうち高出力の
テープを使用して、非磁性層の厚み、すなわち、隠蔽層
(24)、印刷層(25)、接着層(14)、保護層兼
受像層(12,13)の合計厚みを変化させて実験を行
ったところ、非磁性層の合計厚みが9μm以下で磁気情
報の読み取りテストが合格となった。
2〜3μm、印刷層(25)の厚みは2〜3μmである
から、各平均値は2.5μm、合計で5μmと見積もる
ことができる。したがって、接着層(14)と保護層兼
受像層(12,13)の合計厚みの上限は4μm以下が
適当であるという結果が得られた。しかし、JIS磁気
テープ(23A)を隠蔽する方法としては、通常の銀ペ
ーストを印刷する方法以外に、AlやSn等の金属や無
機化合物を蒸着等の薄膜形成手段により成膜する方法も
ある。その場合には、実質的に隠蔽層の厚みはほとんど
0であるので、この場合は接着層(14)および保護層
兼受像層(12,13)の合計厚みを9μm以下に設定
すればよい。
4)の厚みを変化させると、0.1μm以上の厚みがあ
れば十分な密着性が得られることがわかった。さらに、
0.1μmの接着層(14)を用いて保護層兼受像層
(12,13)の厚みを変化させたところ、合計0.5
μmをきったところでヘッドパス耐性が4000回もた
ず、不合格という結果が得られ、保護層兼受像層(1
2,13)の厚みが0.4μm以下ではヘッドパス耐性
が不合格となり、保護層兼受像層(12,13)の厚み
が0.4μm以上必要であることが示された。しかし、
ここで昇華転写の受像適性をみたところ、それぞれ必要
な最低厚み、すなわち接着層(14)が0.1μm、剥
離保護層(12,13)が0.4μmの組み合わせでは
昇華転写リボンの貼り付きが一部発生した。これは下層
の印刷層(25)、隠蔽層(24)に含まれる顔料や無
機フィラー等の熱伝導性が悪いため、蓄熱効果により貼
り付きを起こしたためである。よって、ある程度の距離
をとることが必要となり、さらに実験を重ねた結果、保
護層兼受像層及び接着層の合計厚みは少なくとも0.8
μmが必要であることが示された。
像層に使用する樹脂組成、表2には保護層兼受像層に使
用する滑剤組成、をそれぞれ示す。
解性・耐光性・耐熱性・耐変形性について評価した結果
を示す。
通り有機溶剤、テトラハイドロフラン(THF)に塗工
可能である10%以上の濃度にて溶解性(羽根攪拌にて
1時間混ぜた後、24時間放置し状態観察)の確認を行
い、ゲル化したものを不可とした。溶解性以外の項目
は、上記作成した溶液を用い、ガラス板上に膜厚約5μ
mにて、ワイヤーバーを用いて形成し、カーボンアーク
光灯にて500時間、80℃オーブン中に30日間放置
し、それぞれ変退色のあったものを不可とした。耐変形
性は、上記作成した樹脂層上に、裏面にサインパネル材
が転写されたカードを重ね、40℃、90%RH環境に
48時間、4.9KPa荷重にて試験を行い、密着跡の
付いた物を不可とした。結果として、重合度2000を
超えるものは溶液のゲル化により取り扱いが難しく、重
合度600未満のものは耐光性・耐熱性において安定性
に欠けるため使用不可である。また、共重合物は皮膜が
柔軟となってしまうため、変形を起こしやすく使用不可
である。よって、重合度600から2000の範囲内に
ある塩化ビニル樹脂を使用することが良いと示された。
中の組成(13)及び[表2]組成〜の滑剤につい
て評価した結果を記す。
厚の白色塩化ビニルコア材(21)の両面に0.1mm
厚の透明塩化ビニルシート材(22)を重ねて、カード
裏面となる側に保磁力23.7kA/mのISO磁気テ
ープ20を仮止めし、カード表面となる側に保磁力5
1.4kA/m、残留磁束17nWb/cmのJIS磁
気テープ(23A)を仮止めし、全体を温度150℃、
圧力3MPa、時間30分の条件にて加熱加圧プレスを
行い、続いて、隠蔽層(24)として、市販のアルミペ
ーストスクリーンインキをスクリーン印刷法にて、3μ
m厚で全面に設けた。続いて、印刷層(25)として、
市販の紫外線硬化型オフセットインキのプロセス4色で
ある黄、紅、藍、墨にて絵柄を印刷し、紫外線ランプを
照射してオフセットインキを硬化させ、被転写基材(2
0)を作製した。この状態で、JIS磁気テープ(23
A)上の非磁性層の厚みは約5μmであった。
0)上に保護層兼受像層及び接着層を績層した転写媒体
(転写箔)を重ね合わせ、温度100℃、圧力2MP
a、時間15分の条件にて加熱加圧プレスを行い、評価
サンプルを得た。
ッドパス耐性は、LTS105ヘッドパス評価機(フォ
ルマントエンジニアリング社製)を使用し、4000回
の往復試験を行い、表面を目視観察した。この際、JI
S磁気テープが露出しているものを不合格とした。転写
箔密着性は、密着させたニチバン粘着テープを90度方
向に一気に剥離し、剥離が見られたものを不合格とし
た。ホログラム密着性は、150℃、300MPaにて
転写したホログラム転写箔上にニチバン粘着テープを密
着させ、90度方向に一気に剥離し、剥離が見られたも
のを不合格とした。磁気読み取りは、JSC112ジッ
タ出力分析装置(フォルマントエンジニアリング社製)
を用いて、210BPI、60mAの書き込み電流で磁
気データを書き込み、これをアンプゲイン100倍にて
読みとった際に、平均出力が6V未満であったものを不
合格とした。昇華転写による受像適性評価は、市販の昇
華転写型カードプリンタ(凸版印刷社製CP1000)
を用いて、サーマルヘッド電圧10Vにて画像を形成
し、昇華転写リボンの貼り付きがあったものを不合格と
した。結果として、滑剤の融点が90℃未満のもので
は、全体の融点が平均して下がるため、サーマルヘッド
からの印可時の熱エネルギーにより溶融しやすくなるこ
とにより、昇華転写リボンとの貼り付きが発生した。よ
って滑剤の融点が90℃以上のもので良好な受像適正が
得られると示された。その他の性能においては、全く問
題が無かった。
組成(13)及び[表2]組成の滑剤に固定し、保護
層兼受像層及び接着層の膜厚について評価した結果を記
す。
果として、保護層兼受像層の厚みが0.4μm未満であ
るとヘッドパス耐性が低下すること、および保護層兼受
像層と接着層の合計厚みが4μmを超えると磁気読み取
りが不良となること、さらに接着層の厚みが0.1μm
未満では転写箔としての密着性低下すること、両層の合
計厚みが0.8μmを下回ると受像適性が低下すること
が示された。
レンテレフタレートフィルムを使用し、この上に、[表
1]中の組成(13)及び[表2]組成を添加量10
重量%にて乾燥後厚み0.5μmで第一保護層兼受像層
(12)をグラビア法にて設け、その上に[表1]中の
組成(4)及び[表2]組成を添加量20重量%にて
乾燥後厚み0.5μmで第二保護層兼受像層(13)を
同様に設け、接着層(14)を乾燥後厚み0.5μmで
設け、転写媒体(10)を得た。ここで使用した接着剤
は、三菱レイヨン(株)BR−87(平均分子量25,
000)をメチルエチルケトン/トルエン(1/1)溶
媒中に固形分20%で溶解したものを使用した。 ・カード化 カード化に関しては、前述した通りである。
剤を添加量0重量%(滑剤無し)及び10重量%(第一
保護層兼受像層と等量)にてそれぞれ作製した。その他
に関しては、実施例1と同様に作製した。
1と同じものと滑材添加量を20重量%にしたもので、
乾燥後膜厚を、それぞれ1.0μmにて設けた。第二保
護層兼受像層は設けずに、他は全て実施例1と同様に作
製した。
関し、目視による外観評価及び磁気ヘッドパス試験を4
000回、7500回、10000回実施した。目視評
価に関しては、表面に粉ふきが見られたものをNGとし
た。
2の評価結果を表6に示す。
第一保護層兼受像層よりも滑剤成分の多い第二保護層兼
受像層を設けることにより、外観が美しく高耐性な保護
層が得られるという結果が得られた。
る転写媒体を用いることにより、カード基材上に直接溶
剤を多量に含む塗液を塗工する必要がなくなるので、基
材や印刷の歪みを防止することができる。また、保護層
形成後の乾燥工程が不要となり、残留溶剤による密着性
低下や樹脂の可塑化等の悪影響を防ぐことができる。さ
らには、膜厚管理が容易で高いレベルでの管理が可能と
なるので、磁気特性の変動を抑制することができる上、
転写後の安定したヘッドパス耐性及び昇華転写による受
像適性を得ることができる。更に、第一保護層兼受像層
よりも滑剤成分の多い第二保護層兼受像層を設ける事に
より、外観が美しく高耐性な保護層を得る事ができる。
を示す断面図である。
材)の一実施例の構成を示す断面図である。
材に転写する際の一実施例を示す断面図である。
を示す断面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】支持体上に、該支持体に対して剥離性を有
する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、お
よび接着層が、少なくともこの順に設けてある転写媒体
において、 該第一の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が90℃
以上の滑剤を、重合度600〜2000の範囲にある塩
化ビニル樹脂に対して1〜15重量%含有する組成で形
成され、 該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割
合が2〜30重量%含有する組成であって、且つ、該第
一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分
の割合が多く含有する組成であること、を特徴とする転
写媒体。 - 【請求項2】前記接着層の厚みが乾燥厚みで0.1μm
以上であり、前記第一の保護層兼受像層と第二の保護層
兼受像層との合計厚みが乾燥厚みで0.4μm以上あっ
て、しかも、該接着層、第一の保護層兼受像層、および
第二の保護層兼受像層の合計厚みが乾燥厚みで0.8〜
9μmであること、を特徴とする請求項1記載の転写媒
体。 - 【請求項3】支持体に対して剥離性を有する第一の保護
層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層の、
少なくとも3層をこの順に該支持体上に設ける転写媒体
の製造方法において、 該第一の保護層兼受像層は、少なくとも、融点が90℃
以上の滑剤を、重合度600〜2000の範囲にある塩
化ビニル樹脂に対して1〜15重量%含有する組成で、
塗工により形成し、 しかる後に、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する
滑剤成分の割合が2〜30重量%含有する組成であっ
て、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に
対する滑剤成分の割合が多く含有する組成で、塗工によ
り形成すること、を特徴とする転写媒体の製造方法。 - 【請求項4】磁気記録層を備えている基材上に、請求項
1又は2のいずれかに記載の接着層、第一の保護層兼受
像層、および第二の保護層兼受像層の転写媒体の少なく
とも3層が、設けてあることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項5】前記磁気記録層上にある非磁性層の厚みが
0.8〜9μmであることを特徴とする請求項4に記載
の磁気記録媒体。 - 【請求項6】前記磁気記録層は、目視では視認が不可能
か又は困難なように、隠蔽されてあることを特徴とする
請求項4又は5のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項7】磁気記録層を備えている基材上に、保護層
兼受像層を転写により形成する磁気記録媒体の製造方法
であって、 保護層兼受像層の転写に用いる転写媒体として、 支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保
護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層
が、少なくともこの順に設けてあり、 該第一の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が90℃
以上の滑剤を、重合度600〜2000の範囲にある塩
化ビニル樹脂に対して1〜15重量%含有する組成で形
成され、且つ、 該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割
合が2〜30重量%含有する組成であって、且つ、該第
一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分
の割合が多く含有する組成である転写媒体を使用するこ
と、 を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項8】前記磁気記録層上にある非磁性層厚みが
0.8〜9μmであることを特徴とする請求項7に記載
の磁気記録媒体の製造方法。
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---|---|---|---|
JP2001157458A JP4442054B2 (ja) | 2001-05-25 | 2001-05-25 | 転写媒体とその製造方法、並びに、磁気記録媒体とその製造方法 |
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JP2002347187A true JP2002347187A (ja) | 2002-12-04 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005169771A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Toppan Printing Co Ltd | カードの偽造防止方法とカード用転写媒体及び磁気記録媒体 |
JP2013067053A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Toshiba Corp | 転写型保護層、転写型保護層の製造方法、個人認証媒体、及び個人認証媒体の製造方法 |
-
2001
- 2001-05-25 JP JP2001157458A patent/JP4442054B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005169771A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Toppan Printing Co Ltd | カードの偽造防止方法とカード用転写媒体及び磁気記録媒体 |
JP4507579B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2010-07-21 | 凸版印刷株式会社 | カード用転写媒体 |
JP2013067053A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Toshiba Corp | 転写型保護層、転写型保護層の製造方法、個人認証媒体、及び個人認証媒体の製造方法 |
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JP4442054B2 (ja) | 2010-03-31 |
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