JP2002230980A - Semiconductor memory - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、より特定的には増幅回路の活性化を制御する回路を
有する半導体記憶装置に関するものである。The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a circuit for controlling activation of an amplifier circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体記憶装置は、データを記憶するメ
モリセル、メモリセルを選択するワード線、メモリセル
にデータを書込みまたはメモリセルからデータを読出す
ためにメモリセルに接続されるビット線、書込データを
ビット線に出力する書込回路、およびビット線のデータ
を増幅する増幅回路等で構成されている。2. Description of the Related Art A semiconductor memory device includes a memory cell for storing data, a word line for selecting a memory cell, a bit line connected to the memory cell for writing data to the memory cell or reading data from the memory cell, It is composed of a write circuit for outputting write data to a bit line, an amplifier circuit for amplifying data on the bit line, and the like.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ワード線の
選択および増幅回路の活性化のタイミングは、半導体記
憶装置の特性に大きな影響を与えるため、その設計は重
要である。By the way, the timing of selecting a word line and activating an amplifier circuit greatly affects the characteristics of a semiconductor memory device, and therefore its design is important.
【0004】上記のタイミングを自動的に発生させる手
法としては、特開平9−147574号公報や、特開平
11−203877号公報に開示されたものがある。こ
れらの手法の要点は、ある信号を遅延回路により遅延さ
せてセンスアンプの活性化信号を発生し、ビット線の動
作を模擬するダミービット線とセンスアンプの活性化信
号との位相差を検出し、当該位相差が一定値となるよう
に遅延回路の遅延時間を制御するというものである。As a method for automatically generating the above timing, there are methods disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-147574 and 11-203877. The point of these techniques is that a certain signal is delayed by a delay circuit to generate a sense amplifier activation signal, and a phase difference between a dummy bit line simulating bit line operation and a sense amplifier activation signal is detected. That is, the delay time of the delay circuit is controlled so that the phase difference becomes a constant value.
【0005】ところで、これらの手法には以下の問題点
がある。第1に、遅延時間に初期値が必要であるが、初
期値を最適値に近い値にするには、設計段階で見積りが
必要となってくる。さらに、動作の初期段階で遅延時間
を最適値に合わせ込む動作(特開平11−203877
号公報のトレーニング動作)が必要となってくる。[0005] These techniques have the following problems. First, an initial value is required for the delay time. To make the initial value close to the optimum value, an estimation is required at the design stage. Furthermore, an operation of adjusting the delay time to an optimum value at an initial stage of the operation (Japanese Patent Laid-Open No. 11-203877).
Training operation).
【0006】そこで、本発明は係る問題を解決するため
になされたものであり、その目的は、自動的に最適なタ
イミングで増幅回路を活性化させることができる半導体
記憶装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of automatically activating an amplifier circuit at an optimum timing. .
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】この発明のある局面によ
る半導体記憶装置は、行列状に配置したメモリセルを含
むメモリセルアレイと、列状に配置される固定データを
記憶した複数のダミーメモリセルを含むダミーメモリセ
ルアレイと、メモリセルとダミーメモリセルとを選択す
るワード線選択回路と、メモリセルアレイに記憶される
記憶データを読出すための第1の増幅回路と、ダミーメ
モリセルアレイに記憶されるデータを読出するための複
数の第2の増幅回路と、メモリセルと前記メモリセルと
同一行のダミーメモリセルとを同時に選択し、複数の第
2の増幅回路を順に活性化して、複数の第2の増幅回路
の少なくとも1つが選択されたダミーメモリセルのデー
タを読出した時点で、選択されたメモリセルの記憶デー
タを読出すように第1の増幅回路を活性化する制御回路
とを備える。A semiconductor memory device according to one aspect of the present invention includes a memory cell array including memory cells arranged in a matrix and a plurality of dummy memory cells storing fixed data arranged in a column. A dummy memory cell array, a word line selection circuit for selecting a memory cell and a dummy memory cell, a first amplifier circuit for reading stored data stored in the memory cell array, and data stored in the dummy memory cell array , A memory cell and a dummy memory cell in the same row as the memory cell are selected at the same time, and the plurality of second amplifier circuits are sequentially activated to form a plurality of second amplifier circuits. When at least one of the amplifier circuits reads data from the selected dummy memory cell, the data stored in the selected memory cell is read out. And a control circuit for activating the first amplifier circuit.
【0008】好ましくは、制御回路は、複数の第2の増
幅回路のうち複数個が連続して前記ダミーメモリセルの
データを読出した時点で第1の増幅回路を活性化する。Preferably, the control circuit activates the first amplifier circuit when a plurality of the second amplifier circuits read data from the dummy memory cells successively.
【0009】特に、制御回路は、複数の第2の増幅回路
を、順に、周期的に活性化させる。この発明のさらなる
局面による半導体記憶装置は、行列状に配置したメモリ
セルを含むメモリセルアレイと、メモリセルアレイの隣
合う2つの境界領域を囲むように配置される固定データ
を記憶した複数のダミーメモリセルを含むダミーメモリ
セルアレイと、メモリセルとダミーメモリセルとを選択
するワード線選択回路と、メモリセルアレイに記憶され
る記憶データを読出すための第1の増幅回路と、ダミー
メモリセルアレイに記憶されるデータを読出するための
複数の第2の増幅回路と、メモリセルとダミーメモリセ
ルとを同時に選択し、複数の第2の増幅回路を順に活性
化して、複数の第2の増幅回路の少なくとも1つが選択
されたダミーメモリセルのデータを読出した時点で、選
択されたメモリセルの記憶データを読出すように第1の
増幅回路を活性化する制御回路とを備える。In particular, the control circuit activates the plurality of second amplifier circuits sequentially and sequentially. A semiconductor memory device according to a further aspect of the present invention includes a memory cell array including memory cells arranged in a matrix, and a plurality of dummy memory cells storing fixed data arranged so as to surround two adjacent boundary regions of the memory cell array. , A word line selection circuit for selecting a memory cell and a dummy memory cell, a first amplifier circuit for reading data stored in the memory cell array, and a memory cell for storing in the dummy memory cell array A plurality of second amplifier circuits for reading data, a memory cell and a dummy memory cell are selected at the same time, and the plurality of second amplifier circuits are sequentially activated to at least one of the plurality of second amplifier circuits. When one of the memory cells reads data from the selected dummy memory cell, the first data is read from the selected memory cell. An amplifier circuit and a control circuit for activating.
【0010】好ましくは、制御回路は、複数の第2の増
幅回路のうち複数個が連続して前記ダミーメモリセルの
データを読出した時点で第1の増幅回路を活性化する。Preferably, the control circuit activates the first amplifier circuit when a plurality of the second amplifier circuits read data from the dummy memory cells successively.
【0011】特に、制御回路は、複数の第2の増幅回路
を、順に、周期的に活性化させる。In particular, the control circuit activates the plurality of second amplifier circuits sequentially and periodically.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態におけ
る半導体記憶装置の構成について、図を用いて説明す
る。図中同一または相当部分には、同一記号または同一
符号を付しその説明を繰返さない。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding portions have the same reference characters or symbols, and description thereof will not be repeated.
【0013】[第1の実施の形態]第1の実施の形態に
よる半導体記憶装置1000の構成の一例を、図1を用
いて説明する。半導体記憶装置1000は、図1に示す
ように、行列上に配置されるメモリセルM1〜M8を含
むメモリセルアレイMAと、ダミーメモリセルDM1お
よびDM2を含むダミーメモリセルカラムDMCとを含
む。半導体記憶装置1000はさらに、メモリセルM1
〜M4およびダミーメモリセルDM1を選択するワード
線WL1、メモリセルM5〜M8およびダミーメモリセ
ルDM2を選択するワード線WL2、メモリセルM1,
M5に接続されたビット線対B1,/B1、メモリセル
M2,M6に接続されたビット線対B2,/B2、メモ
リセルM3,M7に接続されたビット線対B3,/B
3、メモリセルM4,M8に接続されたビット線対B
4,/B4、およびダミーメモリセルDM1およびDM
2に接続されたダミービット線対DB,/DBを含む。[First Embodiment] An example of the configuration of a semiconductor memory device 1000 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, semiconductor memory device 1000 includes a memory cell array MA including memory cells M1 to M8 arranged in a matrix, and a dummy memory cell column DMC including dummy memory cells DM1 and DM2. The semiconductor memory device 1000 further includes a memory cell M1
To M4 and the word line WL1 for selecting the dummy memory cell DM1, the memory cells M5 to M8 and the word line WL2 for selecting the dummy memory cell DM2, and the memory cell M1,
Bit line pair B1 and / B1 connected to M5, bit line pair B2 and / B2 connected to memory cells M2 and M6, and bit line pair B3 and / B connected to memory cells M3 and M7.
3. Bit line pair B connected to memory cells M4 and M8
4, / B4, and dummy memory cells DM1 and DM
2 includes a pair of dummy bit lines DB and / DB connected to each other.
【0014】半導体記憶装置1000はさらに、ビット
線対B1,/B1、…、B4,/B4に接続されるプリ
チャージ回路1、ダミービット線対DB,/DBに接続
されるプリチャージ回路2、ビット線対B1,/B1、
…、B4,/B4に接続されるトランスファーゲート
3、ダミービット線対DB,/DBに接続されるトラン
スファーゲート4、トランスファーゲート3に接続され
るデータ線対DL,/DL、トランスファーゲート4に
接続されるデータ線対DDL,/DDLを含む。The semiconductor memory device 1000 further includes a precharge circuit 1 connected to the bit line pair B1, / B1,..., B4, / B4, a precharge circuit 2 connected to the dummy bit line pair DB, / DB, Bit line pairs B1, / B1,
, Transfer gate 3 connected to B4, / B4, transfer gate 4 connected to dummy bit line pair DB, / DB, data line pair DL, / DL connected to transfer gate 3, connected to transfer gate 4 Data line pair DDL and / DDL.
【0015】プリチャージ回路1には、ビット線対ごと
にPMOSトランジスタT1およびT2が配置されてい
る。トランジスタT1およびT2は、クロック信号Tに
応じて、電源電圧を受けるノードと対応するビット線対
とを電気的に接続する。In the precharge circuit 1, PMOS transistors T1 and T2 are arranged for each bit line pair. Transistors T1 and T2 electrically connect a node receiving a power supply voltage and a corresponding bit line pair according to clock signal T.
【0016】プリチャージ回路2は、PMOSトランジ
スタT3およびT4を含む。トランジスタT3およびT
4は、クロック信号Tに応じて、電源電圧を受けるノー
ドと対応するダミービット線対とを電気的に接続する。Precharge circuit 2 includes PMOS transistors T3 and T4. Transistors T3 and T
Reference numeral 4 electrically connects a node receiving a power supply voltage and a corresponding dummy bit line pair according to a clock signal T.
【0017】トランスファーゲート3には、ビット線対
ごとにNMOSトランジスタT5およびT6が配置され
ている。ビット線対Bi,/Bi対応のトランジスタT
5およびT6は、カラム選択信号DYiに応じて、ビッ
ト線対とデータ線対DL,/DLとを電気的に接続す
る。In the transfer gate 3, NMOS transistors T5 and T6 are arranged for each bit line pair. Transistor T corresponding to bit line pair Bi, / Bi
5 and T6 electrically connect the bit line pair and the data line pair DL and / DL according to the column selection signal DYi.
【0018】トランスファーゲート4は、NMOSトラ
ンジスタT7およびT8を含む。トランジスタT7およ
びT8は、カラム選択信号DDYに応じて、ダミービッ
ト線対DB,/DBとデータ線対DDL,/DDLとを
電気的に接続する。Transfer gate 4 includes NMOS transistors T7 and T8. Transistors T7 and T8 electrically connect dummy bit line pair DB, / DB to data line pair DDL, / DDL according to column select signal DDY.
【0019】半導体記憶装置1000はさらに、カラム
選択信号DDY、データ線対DDL,/DDLの信号を
入力とし、制御信号Pを出力するタイミング制御回路
5、クロック信号T、書込信号WEおよび制御信号Pを
入力とし、ワード線制御信号WTを出力するワード線制
御回路6、Xアドレス信号Xおよびワード線制御信号W
Tを入力とし、ワード線WL1またはWL2を選択的に
活性化するロウデコード回路7、Yアドレス信号Y0お
よびY1とクロック信号Tとを入力とし、カラム選択信
号DY1〜DY4のいずれか1つを選択的に活性化する
カラムデコード回路8、クロック信号Tおよび書込信号
WEを入力とし、カラム選択信号DDYを出力するカラ
ム制御回路9、ならびにクロック信号T、書込信号WE
および制御信号Pにより、入出力端子DQの信号DQを
メモリセルに書込み、またはメモリセルからの読出デー
タを入出力端子DQに出力する読出・書込回路10を含
む。Semiconductor memory device 1000 further receives a column selection signal DDY, a signal of data line pair DDL and / DDL, and outputs a control signal P, a timing control circuit 5, a clock signal T, a write signal WE, and a control signal. P as an input, a word line control circuit 6 for outputting a word line control signal WT, an X address signal X and a word line control signal W
T is input, a row decode circuit 7 for selectively activating the word line WL1 or WL2, Y address signals Y0 and Y1 and a clock signal T are input, and any one of the column selection signals DY1 to DY4 is selected. A column control circuit 9 which receives a clock signal T and a write signal WE as inputs and outputs a column selection signal DDY, a clock signal T and a write signal WE.
Read / write circuit 10 for writing signal DQ of input / output terminal DQ to a memory cell or outputting read data from the memory cell to input / output terminal DQ according to control signal P.
【0020】次に、メモリセルM1の具体的構成につい
て、図2を用いて説明する。なお、メモリセルM2〜M
8もメモリセルM1と同じ構成を有する。メモリセルM
1は、図2に示すように、PMOSトランジスタT10
aおよびT11a、ならびにNMOSトランジスタT1
2a〜T15aを含む。Next, a specific configuration of the memory cell M1 will be described with reference to FIG. Note that the memory cells M2 to M
8 has the same configuration as the memory cell M1. Memory cell M
1 is a PMOS transistor T10 as shown in FIG.
a and T11a, and NMOS transistor T1
2a to T15a.
【0021】トランジスタT10aおよびT12aは、
電源電圧を受けるノードと接地電圧を受けるノードGN
Dとの間に直列に接続される。トランジスタT11aお
よびT13aは、電源電圧を受けるノードとノードGN
Dとの間に直列に接続される。トランジスタT10aお
よびT12aのゲートはそれぞれ、トランジスタT11
aとT13aとの接続ノードN2aと接続され、トラン
ジスタT11aおよびT13aのそれぞれのゲートは、
トランジスタT10aとT12aとの接続ノードN1a
と接続される。The transistors T10a and T12a are
Node receiving power supply voltage and node GN receiving ground voltage
D is connected in series. Transistors T11a and T13a are connected between a node receiving power supply voltage and node GN
D is connected in series. The gates of the transistors T10a and T12a are respectively connected to the transistor T11
a and T13a is connected to a connection node N2a, and the gates of the transistors T11a and T13a are
Connection node N1a between transistors T10a and T12a
Connected to
【0022】トランジスタT14aは、ノードN1aと
ビット線B1との間に接続され、ゲートはワード線WL
1と接続される。トランジスタT15aは、ノードN2
aとビット線/B1との間に接続され、ゲートは、ワー
ド線WL1と接続される。The transistor T14a is connected between the node N1a and the bit line B1, and has a gate connected to the word line WL.
1 is connected. The transistor T15a is connected to the node N2
a and the bit line / B1, and the gate is connected to the word line WL1.
【0023】次に、ダミーメモリセルDM1の具体的構
成について、図3を用いて説明する。なお、ダミーメモ
リセルDM2もダミーメモリセルDM1と同じ構成を有
する。ダミーメモリセルDM1は、図3に示すように、
PMOSトランジスタT10bおよびT11b、ならび
にNMOSトランジスタT12b〜T15bを含む。Next, a specific configuration of the dummy memory cell DM1 will be described with reference to FIG. Note that the dummy memory cell DM2 has the same configuration as the dummy memory cell DM1. The dummy memory cell DM1, as shown in FIG.
It includes PMOS transistors T10b and T11b and NMOS transistors T12b to T15b.
【0024】トランジスタT10bおよびT12bは、
電源電圧を受けるノードと接地電圧を受けるノードGN
Dとの間に直列に接続される。トランジスタT11bお
よびT13bは、電源電圧を受けるノードとノードGN
Dとの間に直列に接続される。トランジスタT10bお
よびT12bのゲートはそれぞれ、トランジスタT11
bとT13bとの接続ノードN2bと接続され、トラン
ジスタT11bおよびT13bのそれぞれのゲートは、
トランジスタT10bとT12bとの接続ノードN1b
と接続される。The transistors T10b and T12b are
Node receiving power supply voltage and node GN receiving ground voltage
D is connected in series. Transistors T11b and T13b are connected between a node receiving power supply voltage and node GN
D is connected in series. The gates of the transistors T10b and T12b are respectively connected to the transistors T11 and T12b.
b and T13b are connected to a connection node N2b, and the gates of the transistors T11b and T13b are
Connection node N1b between transistors T10b and T12b
Connected to
【0025】トランジスタT14bは、ノードN1bと
ダミービット線DBとの間に接続され、ゲートはワード
線WL1と接続される。トランジスタT15bは、ノー
ドN2bとダミービット線/DBとの間に接続され、ゲ
ートは、ワード線WL1と接続される。The transistor T14b is connected between the node N1b and the dummy bit line DB, and has a gate connected to the word line WL1. Transistor T15b is connected between node N2b and dummy bit line / DB, and has a gate connected to word line WL1.
【0026】トランジスタT10b〜T15bのサイズ
は、トランジスタT10a〜T15aと同じである。ダ
ミーメモリセルにおいては、トランジスタT11bのソ
ース・ドレイン間が接続されており、固定データが記憶
されたメモリセルと同等の状態になっている。The sizes of the transistors T10b to T15b are the same as those of the transistors T10a to T15a. In the dummy memory cell, the source and the drain of the transistor T11b are connected, and are in a state equivalent to a memory cell in which fixed data is stored.
【0027】次に、第1の実施の形態によるタイミング
制御回路5の回路構成の一例を、図4を用いて説明す
る。タイミング制御回路5は、図4に示すように、カラ
ム選択信号DDYを遅延させて信号DT1を出力する遅
延回路11a、信号DT1を遅延させて信号DT2を出
力する遅延回路11b、信号DT2を遅延させて信号D
T3を出力する遅延回路11c、データ線対DDLの信
号を増幅し、信号SOa,/SOaを出力する増幅回路
12a、データ線対DDL,/DDLの信号を増幅し、
信号SOb,/SObを出力する増幅回路12b、デー
タ線対DDL,/DDLの信号を増幅し、信号SOc,
/SOcを出力する増幅回路12c、カラム選択信号D
DYに基づきデータ線対DDL,/DDLをプリチャー
ジするプリチャージ回路13、信号SOa,SOb,お
よびSOcを入力とするAND回路114、信号/SO
a,/SOb,/SOcを入力とするAND回路11
5、およびカラム選択信号DDYとAND回路114の
出力とを入力に受けるR−Sラッチ回路16を含む。Next, an example of a circuit configuration of the timing control circuit 5 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 4, the timing control circuit 5 delays the column selection signal DDY and outputs a signal DT1, a delay circuit 11b that delays the signal DT1 and outputs a signal DT2, and delays the signal DT2. Signal D
A delay circuit 11c that outputs T3, amplifies the signal of the data line pair DDL, amplifies the signal SOa, / SOa, and amplifies the signal of the data line pair DDL, / DDL;
An amplifier circuit 12b that outputs the signals SOb and / SOb amplifies the signals of the data line pair DDL and / DDL, and outputs the signals SOc and / SOb.
Circuit 12c that outputs / SOc, a column selection signal D
A precharge circuit 13 for precharging the pair of data lines DDL and / DDL based on DY, an AND circuit 114 receiving signals SOa, SOb and SOc as inputs, and a signal / SO
AND circuit 11 having inputs a, / SOb and / SOc
5, and an RS latch circuit 16 receiving at its inputs the column selection signal DDY and the output of the AND circuit 114.
【0028】プリチャージ回路13は、PMOSトラン
ジスタT16〜T18を含む。トランジスタT18は、
データ線DDLと/DDLとの間に接続される。トラン
ジスタT16は、電源電圧を受けるノードと、データ線
DDLとの間に接続され、トランジスタT17は、電源
電圧を受けるノードとデータ線/DDLとの間に接続さ
れる。トランジスタT16〜T18のそれぞれのゲート
は、カラム選択信号DDYを受ける。The precharge circuit 13 includes PMOS transistors T16 to T18. The transistor T18 is
Connected between data lines DDL and / DDL. Transistor T16 is connected between a node receiving power supply voltage and data line DDL, and transistor T17 is connected between a node receiving power supply voltage and data line / DDL. Each gate of transistors T16 to T18 receives column select signal DDY.
【0029】R−Sラッチ回路16は、NAND回路1
17および118を含む。NAND回路117から、制
御信号Pが出力される。The RS latch circuit 16 is a NAND circuit 1
17 and 118. Control signal P is output from NAND circuit 117.
【0030】遅延回路11aの回路構成の一例を、図5
を用いて説明する。なお、遅延回路11b,11cも遅
延回路11aと同様な回路構成を有する。遅延回路11
aは、図5に示すように、直列に接続されるインバータ
I1〜I4を含む。An example of the circuit configuration of the delay circuit 11a is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG. The delay circuits 11b and 11c have the same circuit configuration as the delay circuit 11a. Delay circuit 11
a includes inverters I1 to I4 connected in series as shown in FIG.
【0031】なお、遅延回路11aの構成は、図5に示
したものに限定されず、偶数段のインバータの直列回路
であれば段数は限定されない。The configuration of the delay circuit 11a is not limited to that shown in FIG. 5, and the number of stages is not limited as long as it is a series circuit of even-numbered inverters.
【0032】次に、図4に示す増幅回路12aの回路構
成の一例を、図6を用いて説明する。なお、増幅回路1
2b,12cも増幅回路12aと同様な回路構成を有す
る。増幅回路12aは、図6に示すように、トランジス
タT20〜T26を含む。トランジスタT20,T2
1,T25およびT26は、PMOSトランジスタであ
り、トランジスタT22〜T24は、NMOSトランジ
スタである。Next, an example of the circuit configuration of the amplifier circuit 12a shown in FIG. 4 will be described with reference to FIG. Note that the amplification circuit 1
2b and 12c have the same circuit configuration as the amplifier circuit 12a. As shown in FIG. 6, the amplifier circuit 12a includes transistors T20 to T26. Transistors T20, T2
1, T25 and T26 are PMOS transistors, and transistors T22 to T24 are NMOS transistors.
【0033】トランジスタT20は、電源電圧を受ける
ノードとノードN3との間に接続され、トランジスタT
22は、ノードN3とノードN5との間に接続される。
トランジスタT21は、電源電圧を受けるノードとノー
ドN4との間に接続され、トランジスタT23は、ノー
ドN4とノードN5との間に接続される。トランジスタ
T20およびT22のそれぞれのゲートは、ノードN4
と接続され、トランジスタT21およびT23のそれぞ
れのゲートは、ノードN3と接続される。Transistor T20 is connected between a node receiving the power supply voltage and node N3, and is connected to transistor T20.
22 is connected between the node N3 and the node N5.
Transistor T21 is connected between a node receiving the power supply voltage and node N4, and transistor T23 is connected between nodes N4 and N5. The gates of the transistors T20 and T22 are connected to the node N4
, And respective gates of transistors T21 and T23 are connected to node N3.
【0034】トランジスタT24は、ノードN5とノー
ドGNDとの間に接続され、ゲートにクロック信号DT
1を受ける。トランジスタT25は、データ線DDLと
ノードN3との間に接続され、ゲートにクロック信号D
T1を受ける。トランジスタT26は、データ線/DD
LとノードN4との間に接続され、ゲートにクロック信
号DT1を受ける。ノードN3は、信号SOaを伝送す
る信号線SOaと接続し、ノードN4は、信号/SOa
を伝送する信号線/SOaと接続する。The transistor T24 is connected between the node N5 and the node GND, and has a gate connected to the clock signal DT.
Receive 1 Transistor T25 is connected between data line DDL and node N3, and has a gate receiving clock signal D25.
Receive T1. The transistor T26 is connected to the data line / DD
It is connected between L and a node N4, and receives a clock signal DT1 at its gate. Node N3 is connected to signal line SOa transmitting signal SOa, and node N4 is connected to signal / SOa.
Is connected to a signal line / SOa for transmitting
【0035】増幅回路12aは、クロック信号DT1に
同期して動作し、データ線DDLと/DDLとの電位差
が小さいときに、信号線SOaを“H”にするよう設計
する。The amplifier circuit 12a operates in synchronization with the clock signal DT1, and is designed to set the signal line SOa to "H" when the potential difference between the data lines DDL and / DDL is small.
【0036】同様に、増幅回路12bは、クロック信号
DT2に同期して動作し、データ線DDLと/DDLと
の電位差が小さいときに、信号線SObを“H”にす
る。増幅回路12cは、クロック信号DT3に同期して
動作し、データ線DDLと/DDLとの電位差が小さい
ときに、信号線SOcを“H”にする次に、図1に示す
ワード線制御回路6の構成の一例を、図7を用いて説明
する。ワード線制御回路6は、図7に示すように、イン
バータI5〜I7、AND回路119および120、な
らびにトランジスタT27〜T30を含む。トランジス
タT27およびT29は、NMOSトランジスタであ
り、T28およびT30は、PMOSトランジスタであ
る。Similarly, the amplifier circuit 12b operates in synchronization with the clock signal DT2, and sets the signal line SOb to "H" when the potential difference between the data lines DDL and / DDL is small. The amplifying circuit 12c operates in synchronization with the clock signal DT3, and sets the signal line SOc to "H" when the potential difference between the data lines DDL and / DDL is small. Next, the word line control circuit 6 shown in FIG. An example of the configuration will be described with reference to FIG. Word line control circuit 6, as shown in FIG. 7, includes inverters I5 to I7, AND circuits 119 and 120, and transistors T27 to T30. Transistors T27 and T29 are NMOS transistors, and T28 and T30 are PMOS transistors.
【0037】AND回路119は、クロック信号Tと書
込信号WEとを入力に受ける。インバータI5は、書込
信号WEを反転し、インバータI6は、制御信号Pを反
転する。AND回路120は、クロック信号T、インバ
ータI5の出力およびインバータI6の出力を入力とし
て受ける。AND circuit 119 receives clock signal T and write signal WE at its inputs. Inverter I5 inverts write signal WE, and inverter I6 inverts control signal P. AND circuit 120 receives as input clock signal T, the output of inverter I5 and the output of inverter I6.
【0038】インバータI7は、書込信号WEを反転し
て、反転書込信号/WEを出力する。トランジスタT2
7およびT28、ならびにトランジスタT29およびT
30は、書込信号WEおよび反転書込信号/WEに応じ
てオン/オフする。Inverter I7 inverts write signal WE and outputs an inverted write signal / WE. Transistor T2
7 and T28, and transistors T29 and T
Reference numeral 30 turns on / off in response to the write signal WE and the inverted write signal / WE.
【0039】トランジスタT27およびT28がオンす
ると、AND回路119の出力が、ワード線制御信号W
Tとして出力され、トランジスタT29およびT30が
オンすると、AND回路120の出力がワード線制御信
号WTとして出力される。When the transistors T27 and T28 are turned on, the output of the AND circuit 119 becomes the word line control signal W
When the transistors T29 and T30 are turned on, the output of the AND circuit 120 is output as the word line control signal WT.
【0040】次に、図1に示すロウデコード回路7の構
成の一例を、図8を用いて説明する。ロウデコード回路
7は、図8に示すように、インバータI8ならびにAN
D回路121および122を含む。Next, an example of the configuration of the row decode circuit 7 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 8, row decode circuit 7 includes inverter I8 and AN
D circuits 121 and 122 are included.
【0041】インバータI8は、Xアドレス信号Xを反
転して出力する。AND回路121は、ワード線制御信
号WTとインバータI8の出力とを入力に受け、ワード
線WL1にワード線選択信号WL1を出力する。AND
回路122は、ワード線制御信号WTとXアドレス信号
Xとを入力に受け、ワード線WL2にワード線選択信号
WL2を出力する。Inverter I8 inverts and outputs X address signal X. AND circuit 121 receives as input word line control signal WT and the output of inverter I8, and outputs word line select signal WL1 to word line WL1. AND
The circuit 122 receives the word line control signal WT and the X address signal X as inputs, and outputs a word line selection signal WL2 to the word line WL2.
【0042】ワード線制御信号WTが“L”の場合に
は、ワード線WL1およびWL2はともに“L”とな
る。一方、ワード線制御信号WTが“H”の場合には、
Xアドレス信号Xに従い、ワード線WL1またはWL2
のいずれか一方が“H”となる。When word line control signal WT is at "L", word lines WL1 and WL2 are both at "L". On the other hand, when the word line control signal WT is “H”,
According to the X address signal X, the word line WL1 or WL2
Becomes "H".
【0043】次に、図1に示すカラムデコード回路8の
回路構成の一例を、図9を用いて説明する。カラムデコ
ード回路8は、図9に示すように、インバータI9およ
びI10、ならびにAND回路123〜126を含む。Next, an example of the circuit configuration of the column decode circuit 8 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 9, column decode circuit 8 includes inverters I9 and I10, and AND circuits 123 to 126.
【0044】インバータI9は、Yアドレス信号Y1を
反転して出力する。インバータI10は、Yアドレス信
号Y0を反転して出力する。AND回路123は、クロ
ック信号Tと、インバータI9およびI10のそれぞれ
の出力とを受け、カラム選択信号DY1を出力する。A
ND回路124は、クロック信号TとYアドレス信号Y
0とインバータI9の出力とを受け、カラム選択信号D
Y2を出力する。AND回路125は、クロック信号T
とインバータI10の出力とYアドレス信号Y1とを受
け、カラム選択信号DY3を出力する。AND回路12
6は、クロック信号TとYアドレス信号Y0およびY1
とを受け、カラム選択信号DY4を出力する。Inverter I9 inverts and outputs Y address signal Y1. Inverter I10 inverts and outputs Y address signal Y0. AND circuit 123 receives clock signal T and the outputs of inverters I9 and I10, and outputs column select signal DY1. A
The ND circuit 124 receives the clock signal T and the Y address signal Y
0 and the output of the inverter I9, the column selection signal D
Y2 is output. The AND circuit 125 outputs the clock signal T
And the output of the inverter I10 and the Y address signal Y1, and outputs a column selection signal DY3. AND circuit 12
6 is a clock signal T and Y address signals Y0 and Y1.
And outputs a column selection signal DY4.
【0045】クロック信号Tが“L”の場合には、カラ
ム選択信号DY1〜DY4は“L”となる。クロック信
号Tが“H”の場合は、Yアドレス信号Y0およびY1
に従い、カラム選択信号DY1〜DY4のうちのいずれ
か1つが“H”となる。When the clock signal T is "L", the column selection signals DY1 to DY4 become "L". When the clock signal T is "H", the Y address signals Y0 and Y1
, One of the column selection signals DY1 to DY4 becomes “H”.
【0046】次に、図1に示すカラム制御回路9の回路
構成の一例を、図10を用いて説明する。カラム制御回
路9は、図10に示すように、AND回路127および
インバータI11を含む。インバータI11は、書込信
号WEを反転して出力する。AND回路127は、クロ
ック信号TとインバータI11の出力とを受け、カラム
選択信号DDYを出力する。Next, an example of the circuit configuration of the column control circuit 9 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 10, the column control circuit 9 includes an AND circuit 127 and an inverter I11. Inverter I11 inverts and outputs write signal WE. AND circuit 127 receives clock signal T and the output of inverter I11, and outputs a column selection signal DDY.
【0047】次に、図1に示す読出・書込回路10の回
路構成の一例を、図11を用いて説明する。読出・書込
回路10は、図11に示すように、データ線対DL,/
DLの電位を増幅して信号DQを出力する増幅回路S
A、信号DQに基づき、データ線対DL,/DLにデー
タを出力する書込回路WD、インバータI12、AND
回路128および129、ならびにプリチャージ回路1
30を含む。Next, an example of the circuit configuration of the read / write circuit 10 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. The read / write circuit 10, as shown in FIG.
Amplifying circuit S that amplifies the potential of DL and outputs signal DQ
A, a write circuit WD that outputs data to data line pair DL, / DL based on signal DQ, inverter I12, AND
Circuits 128 and 129, and precharge circuit 1
30.
【0048】プリチャージ回路130は、PMOSトラ
ンジスタT31〜T32を含む。トランジスタT31
は、電源電圧を受けるノードとデータ線DLとの間に接
続され、トランジスタT32は、電源電圧を受けるノー
ドとデータ線/DLとの間に接続され、トランジスタT
33は、データ線DLと/DLとの間に接続される。ト
ランジスタT31〜T32のゲートは、クロック信号T
を受ける。Precharge circuit 130 includes PMOS transistors T31 to T32. Transistor T31
Is connected between the node receiving the power supply voltage and the data line DL, and the transistor T32 is connected between the node receiving the power supply voltage and the data line / DL.
33 is connected between the data lines DL and / DL. The gates of the transistors T31 to T32 are connected to the clock signal T
Receive.
【0049】インバータI12は、書込信号WEを反転
して出力する。AND回路128は、インバータI12
の出力、クロック信号Tおよび制御信号Pを受け、読出
イネーブル信号SAEを出力する。AND回路129
は、書込信号WEおよびクロック信号Tを受け、書込イ
ネーブル信号WDEを出力する。Inverter I12 inverts and outputs write signal WE. The AND circuit 128 includes an inverter I12
, The clock signal T and the control signal P, and outputs a read enable signal SAE. AND circuit 129
Receives write signal WE and clock signal T, and outputs write enable signal WDE.
【0050】増幅回路SAは、読出イネーブル信号SA
Eに応じて活性化し、書込回路WDは、書込イネーブル
信号WDEに基づき活性化する。The amplifier circuit SA has a read enable signal SA
Activated according to E, and write circuit WD is activated based on write enable signal WDE.
【0051】クロック信号Tが“L”の場合は、読出イ
ネーブル信号SAEおよび書込イネーブル信号WDEが
“L”であるので、増幅回路SAおよび書込回路WDは
動作しない。When clock signal T is at "L", read enable signal SAE and write enable signal WDE are at "L", and amplifier circuit SA and write circuit WD do not operate.
【0052】クロック信号Tが“H”、書込信号WEが
“L”、制御信号Pが“H”の場合には、読出イネーブ
ル信号SAEが“H”となり、増幅回路SAが動作す
る。クロック信号Tが“H”、書込信号WEが“H”の
場合には、書込イネーブル信号WDEが“H”となり、
書込回路WDが動作する。When the clock signal T is "H", the write signal WE is "L", and the control signal P is "H", the read enable signal SAE becomes "H" and the amplifier circuit SA operates. When the clock signal T is “H” and the write signal WE is “H”, the write enable signal WDE becomes “H”,
The write circuit WD operates.
【0053】図11に示す増幅回路SAの回路構成の一
例を、図12を用いて説明する。増幅回路SAは、図1
2に示すように、トランジスタT40〜T46およびT
50〜T53、NAND回路131および132、なら
びにインバータI13およびI14を含む。トランジス
タT40,T41,T45,T46,T50およびT5
1は、PMOSトランジスタであり、トランジスタT4
2〜T44,T52およびT53は、NMOSトランジ
スタである。An example of the circuit configuration of the amplifier SA shown in FIG. 11 will be described with reference to FIG. The amplifier circuit SA is shown in FIG.
2, as shown in FIG.
50 to T53, NAND circuits 131 and 132, and inverters I13 and I14. Transistors T40, T41, T45, T46, T50 and T5
1 is a PMOS transistor, and a transistor T4
2 to T44, T52 and T53 are NMOS transistors.
【0054】トランジスタT40は、ノードN6とノー
ドN8との間に接続される。トランジスタT41は、電
源電圧を受けるノードとノードN7との間に接続され、
トランジスタT43は、ノードN7とノードN8との間
に接続される。トランジスタT40およびT42のそれ
ぞれのゲートは、ノードN7と接続され、トランジスタ
T41およびT43のそれぞれのゲートは、ノードN6
と接続される。Transistor T40 is connected between nodes N6 and N8. Transistor T41 is connected between a node receiving power supply voltage and node N7,
Transistor T43 is connected between nodes N7 and N8. Each gate of transistors T40 and T42 is connected to node N7, and each gate of transistors T41 and T43 is connected to node N6.
Connected to
【0055】トランジスタT44は、ノードN8とノー
ドGNDとの間に接続され、ゲートに読出イネーブル信
号SAEを受ける。トランジスタT45は、データ線D
LとノードN6との間に接続され、ゲートに読出イネー
ブル信号SAEを受ける。トランジスタT46は、デー
タ線/DLとノードN7との間に接続され、ゲートに読
出イネーブル信号SAEを受ける。Transistor T44 is connected between nodes N8 and GND, and receives read enable signal SAE at its gate. The transistor T45 is connected to the data line D
Connected between L and node N6, and receives read enable signal SAE at its gate. Transistor T46 is connected between data line / DL and node N7, and receives read enable signal SAE at its gate.
【0056】NAND回路131は、ノードN6の信号
とNAND回路132の出力とを受け、NAND回路1
32は、ノードN7の信号とNAND回路131の出力
とを受ける。インバータI13は、NAND回路131
の出力を反転して信号DQを出力する。NAND circuit 131 receives the signal at node N 6 and the output of NAND circuit 132, and receives NAND circuit 1.
32 receives the signal of node N7 and the output of NAND circuit 131. The inverter I13 includes a NAND circuit 131
Is inverted to output a signal DQ.
【0057】トランジスタT50〜T53は、電源電圧
を受けるノードとノードGNDとの間に直列に接続され
る。トランジスタT50のゲートは、読出イネーブル信
号SAEを受け、トランジスタT51およびT52のゲ
ートは、信号DQを受け、トランジスタT53のゲート
は、読出イネーブル信号SAEを入力に受けるインバー
タI14の出力を受ける。トランジスタT51とT52
との接続ノードは、NAND回路131の出力ノードと
接続される。Transistors T50 to T53 are connected in series between a node receiving a power supply voltage and node GND. The gate of transistor T50 receives read enable signal SAE, the gates of transistors T51 and T52 receive signal DQ, and the gate of transistor T53 receives the output of inverter I14 which receives read enable signal SAE at its input. Transistors T51 and T52
Is connected to the output node of NAND circuit 131.
【0058】次に、図11に示す書込回路WDの回路構
成の一例を、図13を用いて説明する。書込回路WD
は、図13に示すように、インバータI15〜I17、
およびトランジスタT55〜T62を含む。トランジス
タT55,T56,T59およびT60は、PMOSト
ランジスタであり、トランジスタT57,T58,T6
1,T62は、NMOSトランジスタである。Next, an example of the circuit configuration of the write circuit WD shown in FIG. 11 will be described with reference to FIG. Write circuit WD
Are inverters I15 to I17, as shown in FIG.
And transistors T55 to T62. The transistors T55, T56, T59 and T60 are PMOS transistors, and the transistors T57, T58, T6
1, T62 is an NMOS transistor.
【0059】トランジスタT55〜T58は、電源電圧
を受けるノードとノードGNDとの間に直列に接続され
る。トランジスタT59〜T62は、電源電圧を受ける
ノードとノードGNDとの間に直列に接続される。トラ
ンジスタT56とT57との接続ノードは、データ線D
Lと接続され、トランジスタT60とT61との接続ノ
ードは、データ線/DLと接続される。Transistors T55 to T58 are connected in series between a node receiving a power supply voltage and node GND. Transistors T59 to T62 are connected in series between a node receiving power supply voltage and node GND. The connection node between the transistors T56 and T57 is connected to the data line D
L, and a connection node between transistors T60 and T61 is connected to data line / DL.
【0060】インバータI15およびI16は、書込イ
ネーブル信号WDEを反転し、インバータI17は、信
号DQを反転する。Inverters I15 and I16 invert write enable signal WDE, and inverter I17 inverts signal DQ.
【0061】トランジスタT55およびT59のそれぞ
れのゲートは、インバータI15,I16の出力を受
け、トランジスタT56およびT57のそれぞれのゲー
トは、インバータI17の出力を受ける。The gates of transistors T55 and T59 receive the outputs of inverters I15 and I16, and the gates of transistors T56 and T57 receive the output of inverter I17.
【0062】トランジスタT60およびT61のそれぞ
れのゲートは、信号DQを受け、トランジスタT58,
T62のゲートは、書込イネーブル信号WDEを受け
る。The gates of transistors T60 and T61 receive signal DQ, and receive transistors T58 and T58, respectively.
The gate of T62 receives write enable signal WDE.
【0063】書込イネーブル信号WDEが“L”であれ
ば、トランジスタT55,T58,T59,T62はオ
フ状態にある。When the write enable signal WDE is "L", the transistors T55, T58, T59 and T62 are off.
【0064】書込イネーブル信号WDEが“H”であれ
ば、トランジスタT55,T58,T59,T62はオ
ンし、信号DQに応じてデータ線対DL,/DLの電位
が変化する。If the write enable signal WDE is "H", the transistors T55, T58, T59 and T62 are turned on, and the potential of the data line pair DL and / DL changes according to the signal DQ.
【0065】次に、第1の実施の形態における半導体記
憶装置1000の動作を、図14を用いて説明する。一
例として、メモリセルM1にデータを書込み、メモリセ
ルM1からデータを読出した場合を説明する。Next, the operation of the semiconductor memory device 1000 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. As an example, a case where data is written to memory cell M1 and data is read from memory cell M1 will be described.
【0066】クロック信号Tが“L”の場合(時刻t0
以前)、すべてのワード線およびカラム選択信号は
“L”である。したがって、いずれのメモリセルも選択
されず、データ保持状態にある。すべてのビット線は、
プリチャージ回路1により“H”に充電されており、す
べてのダミービット線もプリチャージ回路2により
“H”に充電されている。When clock signal T is at "L" (at time t0)
Previously), all word line and column select signals are "L". Therefore, none of the memory cells is selected and is in a data holding state. All bit lines are
The precharge circuit 1 is charged to “H”, and all the dummy bit lines are also charged to “H” by the precharge circuit 2.
【0067】Xアドレス信号XおよびYアドレス信号Y
0,Y1を“L”とし、クロック信号Tおよび書込信号
WEを“H”とすると、メモリセルM1への書込動作が
開始する(時刻t0)。プリチャージ回路1および2の
PMOSトランジスタがすべてオフし、すべてのビット
線およびダミービット線のプリチャージ状態が解除され
る。X address signal X and Y address signal Y
When 0 and Y1 are set to “L” and the clock signal T and the write signal WE are set to “H”, the writing operation to the memory cell M1 starts (time t0). All the PMOS transistors of the precharge circuits 1 and 2 are turned off, and the precharge state of all bit lines and dummy bit lines is released.
【0068】ワード線WL1およびカラム選択信号DY
1が“H”レベルになり、メモリセルM1が選択され
る。Word line WL1 and column select signal DY
1 becomes "H" level, and the memory cell M1 is selected.
【0069】書込動作の場合には、ワード線制御信号W
Tがクロック信号Tと同じ波形になる。書込イネーブル
信号WDEが“H”になるので、書込回路WDが動作す
る。これにより、データ入出力端子DQに与えられる信
号DQがメモリセルM1に書込まれる。In the case of a write operation, word line control signal W
T has the same waveform as the clock signal T. Since write enable signal WDE attains "H", write circuit WD operates. Thereby, signal DQ applied to data input / output terminal DQ is written to memory cell M1.
【0070】Xアドレス信号X、Yアドレス信号Y0お
よびY1ならびに書込信号WEを“L”とし、クロック
信号Tを“H”とすると、メモリセルM1からのデータ
の読出動作が開始する(時刻t1)。When X address signal X, Y address signals Y0 and Y1 and write signal WE are set to "L" and clock signal T is set to "H", the operation of reading data from memory cell M1 starts (time t1). ).
【0071】プリチャージ回路1および2のPMOSト
ランジスタがすべてオフし、すべてのビット線およびダ
ミービット線のプリチャージ状態が解除される。The PMOS transistors of precharge circuits 1 and 2 are all turned off, and the precharge states of all bit lines and dummy bit lines are released.
【0072】ワード線WL1およびカラム選択信号DY
1が“H”レベルになり、メモリセルM1が選択され
る。ワード線WL1が“H”になると、ダミーメモリセ
ルDM1も同時に選択される。Word line WL1 and column select signal DY
1 becomes "H" level, and the memory cell M1 is selected. When the word line WL1 becomes "H", the dummy memory cell DM1 is selected at the same time.
【0073】カラム制御回路9によりカラム選択信号D
DYが“H”になる。ダミーメモリセルDM1のデータ
はダミービット線対DB,/DB、データ線対DDL,
/DDLを介してタイミング制御回路5に入力される。The column control signal 9 causes the column selection signal D
DY becomes "H". The data of the dummy memory cell DM1 includes a dummy bit line pair DB, / DB, a data line pair DDL,
It is input to the timing control circuit 5 via / DDL.
【0074】“H”レベルのカラム選択信号DDYを受
けるタイミング制御回路5により、クロック信号DT
1,DT2およびDT3が生成される。クロック信号D
T1,DT2およびDT3のそれぞれは、増幅回路12
a,12b,12cに入力される。増幅回路12a,1
2b,12cは順に活性化される。The timing control circuit 5 receiving the "H" level column selection signal DDY causes the clock signal DT
1, DT2 and DT3 are generated. Clock signal D
Each of T1, DT2 and DT3 is
a, 12b, and 12c. Amplifying circuit 12a, 1
2b and 12c are activated in order.
【0075】データ線DDLと/DDLとの電位差が十
分であれば、増幅回路12a,12b,12cのそれぞ
れから“L”の信号が出力される。データ線DDLと/
DDLとの電位差が小さいときには、増幅回路12a,
12b,12cのそれぞれからは“H”が出力されてい
る。If the potential difference between data lines DDL and / DDL is sufficient, an "L" signal is output from each of amplifier circuits 12a, 12b and 12c. Data lines DDL and /
When the potential difference from the DDL is small, the amplification circuit 12a,
"H" is output from each of 12b and 12c.
【0076】増幅回路12a,12b,12cのいずれ
か1つの増幅回路が“L”を出力した時点で、“H”レ
ベルの信号がR−Sラッチ回路16に記憶され、制御信
号Pが“H”となる。図14では、クロック信号DT3
の立上がりに応じて、増幅回路12cが“L”を出力し
た場合を示している(時刻t2)。この時点で、制御信
号Pが“H”になる。すなわち、ビット線の振幅が十分
大きくなった時点で、制御信号Pが“H”になる。When any one of the amplifier circuits 12a, 12b, and 12c outputs "L", an "H" level signal is stored in the RS latch circuit 16, and the control signal P becomes "H". ". In FIG. 14, the clock signal DT3
Shows a case where the amplifier circuit 12c outputs “L” in response to the rise of the time (time t2). At this point, the control signal P becomes "H". That is, when the amplitude of the bit line becomes sufficiently large, the control signal P becomes “H”.
【0077】制御信号Pが“H”となると、読出イネー
ブル信号SAEが“H”になり、増幅回路SAが動作す
る。増幅回路SAにより、データ線対DL,/DLの信
号が増幅され、信号DQがデータ入出力端子DQに出力
される。また、ワード線WL1が“L”となり、ビット
線からメモリセルへの電流が止まる。When the control signal P becomes "H", the read enable signal SAE becomes "H" and the amplifier circuit SA operates. The signal on data line pair DL, / DL is amplified by amplifier circuit SA, and signal DQ is output to data input / output terminal DQ. Further, the word line WL1 becomes "L", and the current from the bit line to the memory cell stops.
【0078】なお、以上の説明においては、タイミング
制御回路5に含まれる増幅回路の一例として、増幅回路
12a,12b,12cを示したが、増幅回路の数は3
つに限定されず2つ以上あればいくつ配置してもよい。
また、遅延回路11aを削除してもよい。In the above description, the amplifier circuits 12a, 12b and 12c are shown as examples of the amplifier circuits included in the timing control circuit 5, but the number of amplifier circuits is three.
The number is not limited to one, and any number of two or more may be arranged.
Further, the delay circuit 11a may be omitted.
【0079】このように、第1の実施の形態による半導
体記憶装置1000によれば、ビット線の振幅が十分に
なったことを自動的に検出し、検出結果に応じてメモリ
セルのデータを読出す増幅回路を活性化することができ
る。これにより、チップの設計が容易となる。As described above, according to the semiconductor memory device 1000 of the first embodiment, it is automatically detected that the amplitude of the bit line is sufficient, and the data of the memory cell is read according to the detection result. The output amplifying circuit can be activated. This facilitates chip design.
【0080】[第2の実施の形態]第2の実施の形態に
よる半導体記憶装置2000の構成について、図15を
用いて説明する。半導体記憶装置2000は、図15に
示すように、メモリセルアレイMAおよびダミーメモリ
セルDM11〜DM17をL字型に配置したダミーメモ
リセルアレイDMAを含む。[Second Embodiment] The configuration of a semiconductor memory device 2000 according to a second embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 15, semiconductor memory device 2000 includes a memory cell array MA and a dummy memory cell array DMA in which dummy memory cells DM11 to DM17 are arranged in an L shape.
【0081】ダミーメモリセルDM11〜DM15は、
ワード線方向に配置され、ダミーメモリセルDM15〜
DM17は、ビット線方向に配置されている。ダミーメ
モリセルDM11〜DM17のそれぞれの回路構成は、
上述したダミーメモリセルDM1と同様である。The dummy memory cells DM11 to DM15 are
The dummy memory cells DM15 to DM15 are arranged in the word line direction.
DM 17 is arranged in the bit line direction. The circuit configuration of each of the dummy memory cells DM11 to DM17 is as follows.
This is the same as the dummy memory cell DM1 described above.
【0082】ダミーメモリセルDM11〜DM15は、
ダミーワード線DWLに接続され、ダミーメモリセルD
M16,DM17はそれぞれ、ダミーワード線DWLと
異なるダミーワード線DWL0,DWL1に接続されて
いる。The dummy memory cells DM11 to DM15 are
Connected to a dummy word line DWL and a dummy memory cell D
M16 and DM17 are respectively connected to dummy word lines DWL0 and DWL1 different from the dummy word line DWL.
【0083】カラム方向に関しては、ダミーメモリセル
DM15〜DM17は、ダミービット線対DB,/DB
と接続される。ダミーメモリセルDM11〜DM14
は、いずれのビット線、ダミービット線とも接続されて
いない。In the column direction, dummy memory cells DM15 to DM17 include dummy bit line pairs DB, / DB
Connected to Dummy memory cells DM11 to DM14
Are not connected to any bit lines or dummy bit lines.
【0084】半導体記憶装置2000はさらに、ビット
線対に対して設けられるデータ線対DL,/DL、ダミ
ービット線対に対して設けられるデータ線対DDL,/
DDL、プリチャージ回路1,2、トランスファーゲー
ト3,4、ワード線制御回路6、ロウデコード回路7、
カラムデコード回路8、カラム制御回路9および読出・
書込回路10を含む。Semiconductor memory device 2000 further includes a data line pair DL, / DL provided for a bit line pair, and a data line pair DDL, / DL provided for a dummy bit line pair.
DDL, precharge circuits 1 and 2, transfer gates 3 and 4, word line control circuit 6, row decode circuit 7,
Column decode circuit 8, column control circuit 9, and read /
A write circuit 10 is included.
【0085】半導体記憶装置2000はさらに、カラム
選択信号DDYを入力とし、ダミーワード線DWLを駆
動する信号DWLを出力するダミーワード線ドライバ回
路RD、クロック信号T、データ線対DDL,/DDL
の信号を入力とし、制御信号Pを出力するタイミング制
御回路21、およびダミーワード線DWLの信号を入力
とし、制御信号DWL2を出力するカラムドライバ回路
CDを含む。Semiconductor memory device 2000 further receives a column select signal DDY as input, and outputs a signal DWL for driving dummy word line DWL, dummy word line driver circuit RD, clock signal T, data line pair DDL, / DDL.
Of the dummy word line DWL, and a column driver circuit CD that receives the signal of the dummy word line DWL and outputs the control signal DWL2.
【0086】タイミング制御回路21は、制御信号DW
L2に応じて活性化する。ワード線制御回路6および読
出・書込回路10には、タイミング制御回路21の出力
する制御信号Pが供給される。The timing control circuit 21 controls the control signal DW
Activated according to L2. A control signal P output from the timing control circuit 21 is supplied to the word line control circuit 6 and the read / write circuit 10.
【0087】次に、第2の実施の形態によるタイミング
制御回路21の回路構成の一例について、図16を用い
て説明する。タイミング制御回路21は、図16に示す
ように、制御信号DWL2からパルス信号を生成してク
ロック信号DT1を出力するパルス発生回路31、遅延
回路11bおよび11c、データ線対DDL,/DDL
の信号を増幅する増幅回路32a,32b,32c、N
OR回路34〜38、プリチャージ回路13およびR−
Sラッチ回路16を含む。Next, an example of a circuit configuration of the timing control circuit 21 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 16, the timing control circuit 21 generates a pulse signal from the control signal DWL2 and outputs a clock signal DT1, a pulse generation circuit 31, delay circuits 11b and 11c, a data line pair DDL and / DDL.
Circuits 32a, 32b, 32c, N
OR circuits 34 to 38, precharge circuit 13 and R-
An S latch circuit 16 is included.
【0088】遅延回路11bは、パルス発生回路31の
出力するクロック信号DT1を遅延させて信号DT2を
出力し、遅延回路11cは、信号DT2を遅延させて信
号DT3を出力する。The delay circuit 11b delays the clock signal DT1 output from the pulse generation circuit 31 and outputs a signal DT2, and the delay circuit 11c delays the signal DT2 and outputs a signal DT3.
【0089】増幅回路32a,32b,32cのそれぞ
れは、クロック信号DT1〜DT3に応じて動作する。Each of the amplifier circuits 32a, 32b and 32c operates according to the clock signals DT1 to DT3.
【0090】増幅回路32a,32b,32cは、クロ
ック信号DT1,DT2,DT3により、順に、周期的
に活性化する。The amplifier circuits 32a, 32b and 32c are periodically activated in sequence by the clock signals DT1, DT2 and DT3.
【0091】増幅回路32aは、データ線対DDL,/
DDLの信号を増幅し、信号SOa,/SOaを出力
し、増幅回路32bは、データ線対DDL,/DDLの
信号を増幅し、信号SOb,/SObを出力し、増幅回
路32cは、データ線対DDL,/DDLの信号を増幅
し、信号SOc,/SOcを出力する。The amplifying circuit 32a includes a data line pair DDL, /
Amplifies the signal of DDL, outputs signals SOa and / SOa, amplifies circuit 32b, amplifies the signal of data line pair DDL and / DDL, outputs signals SOb and / SOb, and amplifies circuit 32c. Amplify the signals of DDL and / DDL and output signals SOc and / SOc.
【0092】NOR回路34は、信号SOaと信号SO
bとを受け、NOR回路35は、信号SObと信号SO
cとを受ける。NOR回路37は、信号/SOaと信号
/SObとを受け、NOR回路38は、信号/SObと
信号/SOcとを受ける。NOR回路36は、NOR回
路34の出力とNOR回路35の出力とを受ける。The NOR circuit 34 outputs the signal SOa and the signal SO
b, the NOR circuit 35 outputs the signal SOb and the signal SO
Receive c. NOR circuit 37 receives signal / SOa and signal / SOb, and NOR circuit 38 receives signal / SOb and signal / SOc. NOR circuit 36 receives an output of NOR circuit 34 and an output of NOR circuit 35.
【0093】R−Sラッチ回路16は、制御信号DWL
2とNOR回路36の出力とを入力に受ける。NOR回
路34または35のいずれかが“H”を出力すると、
“H”がR−Sラッチ回路16に記憶され、制御信号P
が“H”になる。The RS latch circuit 16 controls the control signal DWL
2 and the output of the NOR circuit 36 are received at the input. When either the NOR circuit 34 or 35 outputs “H”,
"H" is stored in the RS latch circuit 16, and the control signal P
Becomes “H”.
【0094】図16に示すパルス発生回路31の構成の
一例を、図17を用いて説明する。パルス発生回路31
は、図17に示すように、インバータI20〜I21,
I30、インバータが偶数段(図では、6段)接続され
る遅延回路41、インバータが偶数段(図では、2段)
接続される遅延回路42、およびNAND回路140お
よび141を含む。An example of the configuration of the pulse generation circuit 31 shown in FIG. 16 will be described with reference to FIG. Pulse generating circuit 31
Are inverters I20 to I21, as shown in FIG.
I30, a delay circuit 41 to which an inverter is connected to an even-numbered stage (six stages in the figure), and an even-numbered stage (two stages to the inverter)
The delay circuit 42 includes NAND circuits 140 and 141 connected thereto.
【0095】遅延回路41は、一例として、直列に接続
されるインバータI22〜I27で構成される。遅延回
路42は、一例として、直列に接続されるインバータI
28,I29で構成される。The delay circuit 41 includes, for example, inverters I22 to I27 connected in series. The delay circuit 42 includes, for example, an inverter I connected in series.
28 and I29.
【0096】インバータI20は、遅延回路41の出力
信号を反転する。NAND回路140は、制御信号DW
L2とインバータI20の出力とを受ける。インバータ
I21は、NAND回路140の出力を反転する。遅延
回路41は、インバータI21の出力信号を遅延する。Inverter I20 inverts the output signal of delay circuit 41. The NAND circuit 140 controls the control signal DW
L2 and the output of inverter I20. Inverter I21 inverts the output of NAND circuit 140. Delay circuit 41 delays the output signal of inverter I21.
【0097】遅延回路42は、遅延回路41の出力信号
を遅延する。NAND回路141は、遅延回路41の出
力信号と遅延回路42の出力とを入力に受ける。インバ
ータI30は、NAND回路141の出力を反転して、
クロック信号DT1を出力する。The delay circuit 42 delays the output signal of the delay circuit 41. NAND circuit 141 receives at its inputs the output signal of delay circuit 41 and the output of delay circuit 42. The inverter I30 inverts the output of the NAND circuit 141,
The clock signal DT1 is output.
【0098】次に、図16に示す増幅回路32aの回路
構成の一例を、図18を用いて説明する。なお、増幅回
路32bおよび32cも、増幅回路32aと同様の構成
を有する。増幅回路32aは、図18に示すように、ト
ランジスタT70〜T78、インバータI31〜I3
7、ならびにNOR回路142および143を含む。Next, an example of a circuit configuration of the amplifier circuit 32a shown in FIG. 16 will be described with reference to FIG. Note that the amplifier circuits 32b and 32c have the same configuration as the amplifier circuit 32a. As shown in FIG. 18, the amplifier circuit 32a includes transistors T70 to T78 and inverters I31 to I3.
7 and NOR circuits 142 and 143.
【0099】トランジスタT70,T71,T75,T
76,T78は、PMOSトランジスタであり、トラン
ジスタT72〜T74は、NMOSトランジスタであ
る。インバータI36の出力を信号S1、インバータI
37の出力を信号S2と記す。Transistors T70, T71, T75, T
76 and T78 are PMOS transistors, and transistors T72 to T74 are NMOS transistors. The output of inverter I36 is applied to signal S1 and inverter I
The output of 37 is denoted as signal S2.
【0100】トランジスタT70は、電源電圧を受ける
ノードとノードN10との間に接続され、トランジスタ
T72は、ノードN10とN12との間に接続される。
トランジスタT71は電源電圧を受けるノードとノード
N11との間に接続され、トランジスタT73は、ノー
ドN11とノードN12との間に接続される。Transistor T70 is connected between the node receiving the power supply voltage and node N10, and transistor T72 is connected between nodes N10 and N12.
Transistor T71 is connected between a node receiving a power supply voltage and node N11, and transistor T73 is connected between nodes N11 and N12.
【0101】トランジスタT70およびT72のそれぞ
れのゲートは、ノードN11に接続され、トランジスタ
T71およびT73のそれぞれのゲートは、ノードN1
0と接続される。Each gate of transistors T70 and T72 is connected to node N11, and each gate of transistors T71 and T73 is connected to node N1.
Connected to 0.
【0102】トランジスタT74は、ノードN12とノ
ードGNDとの間に接続され、ゲートにクロック信号D
T1を受ける。トランジスタT75は、トランジスタT
70のゲートとトランジスタT71のゲートとの間に接
続され、ゲートに信号S2を受ける。The transistor T74 is connected between the node N12 and the node GND, and has a gate connected to the clock signal D.
Receive T1. The transistor T75 is a transistor T75.
The transistor S71 is connected between the gate of the transistor 70 and the gate of the transistor T71, and receives the signal S2 at the gate.
【0103】トランジスタT76は、データ線DDLと
ノードN10との間に接続され、ゲートに信号S1を受
ける。トランジスタT78は、データ線/DDLとノー
ドN11との間に接続され、ゲートに信号S1を受け
る。Transistor T76 is connected between data line DDL and node N10, and receives signal S1 at its gate. Transistor T78 is connected between data line / DDL and node N11, and receives signal S1 at its gate.
【0104】インバータI33〜I35は直列に接続さ
れ、NOR回路142は、クロック信号DT1とインバ
ータI35の出力とを入力に受ける。インバータI31
およびI32は直列に接続され、クロック信号DT1を
遅延する。NOR回路143は、インバータI32の出
力およびNOR回路142の出力を入力に受ける。イン
バータI37は、NOR回路142の出力を反転して信
号S2を出力する。インバータI36は、NOR回路1
43の出力を反転して信号S1を出力する。Inverters I33 to I35 are connected in series, and NOR circuit 142 receives as input clock signal DT1 and the output of inverter I35. Inverter I31
And I32 are connected in series to delay clock signal DT1. NOR circuit 143 receives at its inputs the output of inverter I32 and the output of NOR circuit 142. Inverter I37 inverts the output of NOR circuit 142 and outputs signal S2. The inverter I36 is connected to the NOR circuit 1
The signal S1 is output by inverting the output of 43.
【0105】ノードN10より信号SOaが出力され、
ノードN11より信号/SOaが出力される。Signal SOa is output from node N10,
Signal / SOa is output from node N11.
【0106】次に、第2の実施の形態による半導体記憶
装置2000の動作を、図19を用いて説明する。書込
動作については、第1の実施の形態で説明した動作によ
り特定のメモリセルにデータが書込まれる。Next, the operation of the semiconductor memory device 2000 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. In the write operation, data is written to a specific memory cell by the operation described in the first embodiment.
【0107】読出動作について説明する。Xアドレス信
号X、Yアドレス信号Y0およびY1、ならびに書込信
号WEを“L”とし、クロック信号Tを“H”とする
と、メモリセルM1への読出動作が開始される(時刻t
1)。プリチャージ回路1および2のPMOSトランジ
スタがすべてオフし、すべてのビット線およびダミービ
ット線のプリチャージ状態が解除される。The read operation will be described. When the X address signal X, the Y address signals Y0 and Y1, and the write signal WE are set to "L" and the clock signal T is set to "H", a read operation to the memory cell M1 is started (time t).
1). All the PMOS transistors of the precharge circuits 1 and 2 are turned off, and the precharge state of all bit lines and dummy bit lines is released.
【0108】ワード線WL1およびカラム選択信号DY
1が“H”レベルになり、メモリセルM1が選択され
る。Word line WL1 and column select signal DY
1 becomes "H" level, and the memory cell M1 is selected.
【0109】カラム制御回路9によりカラム選択信号D
DYが“H”になる。ダミーワード線ドライバ回路RD
により、ダミーワード線DWLが“H”になり、ダミー
メモリセルDM15が選択される。カラムドライバ回路
CDから、“H”レベルの制御信号DWL2が出力され
る。The column control signal 9 causes the column selection signal D
DY becomes "H". Dummy word line driver circuit RD
As a result, the dummy word line DWL becomes "H", and the dummy memory cell DM15 is selected. An “H” level control signal DWL2 is output from the column driver circuit CD.
【0110】ダミーメモリセルDM15のデータはダミ
ービット線対DB,/DBおよびデータ線対DDL,/
DDLを介してタイミング制御回路21に入力される。The data of the dummy memory cell DM15 includes a dummy bit line pair DB, / DB and a data line pair DDL, /
It is input to the timing control circuit 21 via the DDL.
【0111】“H”レベルの制御信号DWL2を受ける
パルス発生回路31において、クロック信号DT1が生
成される。パルス発生回路31は、クロック信号Tが
“H”である期間に、周期的にパルスを発生する。遅延
回路11b,11cにより、クロック信号DT2,DT
3が生成される。Clock signal DT1 is generated in pulse generation circuit 31 receiving control signal DWL2 at "H" level. The pulse generation circuit 31 periodically generates a pulse during a period when the clock signal T is “H”. The clock signals DT2 and DT are provided by the delay circuits 11b and 11c.
3 is generated.
【0112】クロック信号DT1,DT2,DT3のそ
れぞれは、増幅回路32a,32b,32cに入力され
る。増幅回路32a,32b,32cのそれぞれは、繰
返し活性化する。Each of clock signals DT1, DT2, DT3 is input to amplifier circuits 32a, 32b, 32c. Each of the amplifier circuits 32a, 32b, 32c is repeatedly activated.
【0113】データ線DDLと/DDLとの電位差が十
分にあれば増幅回路32a,32b,32cのそれぞれ
からは“L”が出力され、それ以外の場合には“H”が
出力される。When the potential difference between data lines DDL and / DDL is sufficient, "L" is output from each of amplifier circuits 32a, 32b and 32c, and otherwise "H" is output.
【0114】連続した2つの増幅回路32a,32b,
32cが“L”を出力した時点で、“H”データがR−
Sラッチ回路16に記憶され、制御信号Pが“H”にな
る。Two successive amplifier circuits 32a, 32b,
32c outputs "L", the "H" data is
The control signal P is stored in the S latch circuit 16 and becomes "H".
【0115】制御信号Pが“H”になると、読出イネー
ブル信号SAEが“H”になり、増幅回路SAがデータ
線対DL,/DLの信号を増幅する。これにより、デー
タ入出力端子DQに、信号DQが出力される。また、ワ
ード線WL1が“L”になりビット線からメモリセルへ
の電流が止まる。When control signal P attains "H", read enable signal SAE attains "H", and amplifier SA amplifies the signal on data line pair DL, / DL. As a result, the signal DQ is output to the data input / output terminal DQ. Further, the word line WL1 becomes "L", and the current from the bit line to the memory cell stops.
【0116】以上のように、第2の実施の形態による半
導体記憶装置2000によれば、ビット線の振幅が十分
になった時点で自動的に増幅回路を動作させることがで
きる。これにより、チップの設計が容易となる。また、
増幅回路を繰返し使用するので、少数の増幅回路を配置
すればよく、レイアウト面積を小さくすることができ
る。As described above, according to the semiconductor memory device 2000 of the second embodiment, the amplifier circuit can be automatically operated when the bit line has a sufficient amplitude. This facilitates chip design. Also,
Since the amplifier circuit is used repeatedly, only a small number of amplifier circuits need to be arranged, and the layout area can be reduced.
【0117】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
【0118】[0118]
【発明の効果】以上のように、本発明の半導体記憶装置
によれば、ダミーメモリセルのデータの読出しに応じ
て、ビット線の振幅が十分になった時点で自動的に増幅
回路を動作させることができる。これにより、チップの
設計が容易となる。As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, the amplifier circuit is automatically operated when the amplitude of the bit line becomes sufficient in accordance with the data reading of the dummy memory cell. be able to. This facilitates chip design.
【0119】また、ダミーメモリセルのデータを読出す
ために使用する複数の増幅回路は、繰返し使用するの
で、少数の増幅回路を配置すればよく、レイアウト面積
を小さくすることができる。Further, since a plurality of amplifier circuits used for reading data from the dummy memory cells are used repeatedly, only a small number of amplifier circuits need to be arranged, and the layout area can be reduced.
【図1】 第1の実施の形態による半導体記憶装置10
00の構成の一例を示す図である。FIG. 1 is a semiconductor memory device 10 according to a first embodiment;
It is a figure showing an example of composition of 00.
【図2】 第1の実施の形態によるメモリセルの回路構
成の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a memory cell according to the first embodiment;
【図3】 第1の実施の形態によるダミーメモリセルの
回路構成の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a dummy memory cell according to the first embodiment;
【図4】 第1の実施の形態によるタイミング制御回路
5の回路構成の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a timing control circuit 5 according to the first embodiment.
【図5】 図4に示す遅延回路の回路構成の一例を示す
図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the delay circuit illustrated in FIG. 4;
【図6】 図4に示す増幅回路の回路構成の一例を示す
図である。6 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the amplifier circuit illustrated in FIG.
【図7】 第1の実施の形態によるワード線制御回路6
の回路構成の一例を示す図である。FIG. 7 is a word line control circuit 6 according to the first embodiment;
FIG. 3 is a diagram showing an example of the circuit configuration of FIG.
【図8】 第1の実施の形態によるロウデコード回路7
の回路構成の一例を示す図である。FIG. 8 is a row decode circuit 7 according to the first embodiment;
FIG. 3 is a diagram showing an example of the circuit configuration of FIG.
【図9】 第1の実施の形態によるカラムデコード回路
8の回路構成の一例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a column decode circuit 8 according to the first embodiment.
【図10】 第1の実施の形態によるカラム制御回路9
の回路構成の一例を示す図である。FIG. 10 shows a column control circuit 9 according to the first embodiment.
FIG. 3 is a diagram showing an example of the circuit configuration of FIG.
【図11】 第1の実施の形態による読出・書込回路1
0の回路構成の一例を示す図である。FIG. 11 is a read / write circuit 1 according to the first embodiment;
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of 0.
【図12】 図11に示す増幅回路SAの回路構成の一
例を示す図である。12 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the amplifier circuit SA illustrated in FIG.
【図13】 図11に示す書込回路WDの回路構成の一
例を示す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a write circuit WD illustrated in FIG. 11;
【図14】 第1の実施の形態による半導体記憶装置1
000の動作について説明するためのタイミングチャー
トである。FIG. 14 is a semiconductor memory device 1 according to a first embodiment.
000 is a timing chart for describing the operation of FIG.
【図15】 第2の実施の形態による半導体記憶装置2
000の回路構成の一例を示す図である。FIG. 15 shows a semiconductor memory device 2 according to a second embodiment.
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of 000.
【図16】 第2の実施の形態によるタイミング制御回
路21の回路構成の一例を示す図である。FIG. 16 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of a timing control circuit 21 according to the second embodiment.
【図17】 図16に示すパルス発生回路31の回路構
成の一例を示す図である。17 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the pulse generation circuit 31 illustrated in FIG.
【図18】 図16に示す増幅回路の回路構成の一例を
示す図である。18 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the amplifier circuit illustrated in FIG.
【図19】 第2の実施の形態による半導体記憶装置2
000の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。FIG. 19 shows a semiconductor memory device 2 according to a second embodiment.
000 is a timing chart for explaining the operation of FIG.
1,2,13,130 プリチャージ回路、3,4 ト
ランスファーゲート、5,21 タイミング制御回路、
6 ワード線制御回路、7 ロウデコード回路、8 カ
ラムデコード回路、9 カラム制御回路、10 読出・
書込回路、11a,11b,11c 遅延回路、12a
〜12c,32a〜32c 増幅回路、16 R−Sラ
ッチ回路、31 パルス発生回路、SA 増幅回路、W
D 書込回路、DMA ダミーメモリセルアレイ、RD
ダミーワード線ドライバ回路、CD カラムドライバ
回路、31 パルス発生回路、B1〜B4,/B1〜/
B4 ビット線、DB,/DB ダミービット線、D
L,/DL データ線、DDL,/DDL ダミーデー
タ線、M1〜M8 メモリセル、MA メモリセルアレ
イ、DM1〜DM18 ダミーメモリセル、DMA ダ
ミーメモリセルアレイ、DMC ダミーメモリセルカラ
ム、DWL ダミーワード線、1000,2000 半
導体記憶装置。1,2,13,130 precharge circuit, 3,4 transfer gate, 5,21 timing control circuit,
6 word line control circuit, 7 row decode circuit, 8 column decode circuit, 9 column control circuit, 10 read /
Write circuit, 11a, 11b, 11c Delay circuit, 12a
To 12c, 32a to 32c amplifying circuit, 16 RS latch circuit, 31 pulse generating circuit, SA amplifying circuit, W
D write circuit, DMA dummy memory cell array, RD
Dummy word line driver circuit, CD column driver circuit, 31 pulse generation circuit, B1 to B4, / B1 to /
B4 bit line, DB, / DB dummy bit line, D
L, / DL data line, DDL, / DDL dummy data line, M1 to M8 memory cell, MA memory cell array, DM1 to DM18 dummy memory cell, DMA dummy memory cell array, DMC dummy memory cell column, DWL dummy word line, 1000, 2000 Semiconductor storage device.
Claims (6)
リセルアレイと、 列状に配置される固定データを記憶した複数のダミーメ
モリセルを含むダミーメモリセルアレイと、 メモリセルとダミーメモリセルとを選択するワード線選
択回路と、 前記メモリセルアレイに記憶される記憶データを読出す
ための第1の増幅回路と、 前記ダミーメモリセルアレイに記憶されるデータを読出
するための複数の第2の増幅回路と、 メモリセルと前記メモリセルと同一行のダミーメモリセ
ルとを同時に選択し、前記複数の第2の増幅回路を順に
活性化して、前記複数の第2の増幅回路の少なくとも1
つが前記選択されたダミーメモリセルのデータを読出し
た時点で、前記選択されたメモリセルの記憶データを読
出すように前記第1の増幅回路を活性化する制御回路と
を備える、半導体記憶装置。1. A memory cell array including memory cells arranged in a matrix, a dummy memory cell array including a plurality of dummy memory cells storing fixed data arranged in a column, and a memory cell and a dummy memory cell are selected. A word line selection circuit, a first amplifier circuit for reading data stored in the memory cell array, and a plurality of second amplifier circuits for reading data stored in the dummy memory cell array. Simultaneously selecting a memory cell and a dummy memory cell in the same row as the memory cell, sequentially activating the plurality of second amplifier circuits, and selecting at least one of the plurality of second amplifier circuits.
A control circuit for activating the first amplifier circuit so as to read the storage data of the selected memory cell at the time when the data of the selected dummy memory cell is read.
ダミーメモリセルのデータを読出した時点で前記第1の
増幅回路を活性化する、請求項1に記載の半導体記憶装
置。2. The control circuit activates the first amplifier circuit when a plurality of the second amplifier circuits successively read data from the dummy memory cell. 2. The semiconductor memory device according to 1.
せる、請求項1または2に記載の半導体記憶装置。3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the control circuit activates the plurality of second amplifier circuits sequentially and periodically.
リセルアレイと、 前記メモリセルアレイの隣合う2つの境界領域を囲むよ
うに配置される固定データを記憶した複数のダミーメモ
リセルを含むダミーメモリセルアレイと、 メモリセルとダミーメモリセルとを選択するワード線選
択回路と、 前記メモリセルアレイに記憶される記憶データを読出す
ための第1の増幅回路と、 列方向に配置されるダミーメモリセルに記憶されるデー
タを読出するための複数の第2の増幅回路と、 メモリセルとダミーメモリセルとを同時に選択し、前記
複数の第2の増幅回路を順に活性化して、前記複数の第
2の増幅回路の少なくとも1つが前記選択されたダミー
メモリセルのデータを読出した時点で、前記選択された
メモリセルの記憶データを読出すように前記第1の増幅
回路を活性化する制御回路とを備える、半導体記憶装
置。4. A dummy memory cell array including a memory cell array including memory cells arranged in a matrix and a plurality of dummy memory cells storing fixed data arranged so as to surround two adjacent boundary regions of the memory cell array. A word line selection circuit for selecting a memory cell and a dummy memory cell; a first amplifier circuit for reading storage data stored in the memory cell array; A plurality of second amplifying circuits for reading data to be read, a memory cell and a dummy memory cell are simultaneously selected, and the plurality of second amplifying circuits are activated in order to form the plurality of second amplifying circuits. When at least one of the circuits reads the data of the selected dummy memory cell, the storage data of the selected memory cell is read. And a control circuit for activating said first amplifier circuit, a semiconductor memory device.
ダミーメモリセルのデータを読出した時点で前記第1の
増幅回路を活性化する、請求項4に記載の半導体記憶装
置。5. The control circuit activates the first amplifier circuit when a plurality of the second amplifier circuits successively read data from the dummy memory cell. 5. The semiconductor memory device according to item 4.
せる、請求項4または5に記載の半導体記憶装置。6. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein said control circuit activates said plurality of second amplifier circuits sequentially and periodically.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004077443A1 (en) * | 2003-02-27 | 2004-09-10 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory |
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2001
- 2001-01-31 JP JP2001023198A patent/JP2002230980A/en not_active Withdrawn
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