JP2002226271A - Method for manufacturing porous silicon carbide compact - Google Patents
Method for manufacturing porous silicon carbide compactInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多孔質炭化珪素焼
結体の製造方法に関する。The present invention relates to a method for producing a porous silicon carbide sintered body.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、バス、トラック等の車両や建設機
械等の内燃機関から排出される排気ガス中に含まれるパ
ティキュレートが環境や人体に害を及ぼすことが問題に
なっている。この排気ガスを多孔質セラミックを通過さ
せることにより、排気ガス中のパティキュレートを捕集
して排気ガスを浄化するセラミックフィルタが種々提案
されている。2. Description of the Related Art In recent years, it has become a problem that particulates contained in exhaust gas exhausted from internal combustion engines such as vehicles such as buses and trucks and construction machines cause harm to the environment and human bodies. Various ceramic filters have been proposed which purify the exhaust gas by collecting the particulates in the exhaust gas by passing the exhaust gas through a porous ceramic.
【0003】セラミックフィルタは、通常、図1に示し
たような多孔質セラミック部材20が複数個結束されて
セラミックフィルタ10を構成している。また、この多
孔質セラミック部材20は、図2に示したように、長手
方向に多数の貫通孔21が並設され、貫通孔21同士を
隔てる隔壁23がフィルタとして機能するようになって
いる。In general, a ceramic filter is formed by bundling a plurality of porous ceramic members 20 as shown in FIG. As shown in FIG. 2, the porous ceramic member 20 has a large number of through holes 21 arranged in the longitudinal direction, and a partition 23 separating the through holes 21 functions as a filter.
【0004】即ち、多孔質セラミック部材20に形成さ
れた貫通孔21は、排気ガスの入口側又は出口側の端部
のいずれかが充填材22により封口され、一の貫通孔2
1に流入した排気ガスは、必ず貫通孔21を隔てる隔壁
23を通過した後、他の貫通孔21から流出するように
なっており、排気ガスがこの隔壁23を通過する際、パ
ティキュレートが隔壁23部分で捕捉され、排気ガスが
浄化される。[0004] That is, the through hole 21 formed in the porous ceramic member 20 is closed at one of the exhaust gas inlet and outlet ends with the filler 22, and the one through hole 2 is formed.
The exhaust gas that has flowed into the first through-hole 1 always passes through the partition wall 23 separating the through-hole 21 and then flows out of the other through-hole 21. Exhaust gas is trapped in the 23 portion and purified.
【0005】このような多孔質セラミック部材20とし
て、最近では、耐熱性、機械的強度及び捕集効率が高
く、化学的に安定しており、また、圧力損失が小さい等
の利点があることから、非酸化物セラミックの一種であ
る多孔質炭化珪素がフィルタ形成材料として用いられて
いる。Recently, such a porous ceramic member 20 has advantages such as high heat resistance, high mechanical strength and high collection efficiency, chemical stability, and low pressure loss. In addition, porous silicon carbide, which is a kind of non-oxide ceramic, is used as a material for forming a filter.
【0006】従来、このような炭化珪素からなる多孔質
セラミック部材20を製造する際には、まず、炭化珪素
粉末とバインダーと分散媒液とを混合して成形体作製用
の混合組成物を調製した後、この混合組成物の押出成形
等を行うことにより、多数の貫通孔が隔壁を隔てて長手
方向に並設された柱状の炭化珪素粉末を含む成形体を作
製し、所定の長さに切断する。Conventionally, when manufacturing such a porous ceramic member 20 made of silicon carbide, first, a silicon carbide powder, a binder and a dispersion medium are mixed to prepare a mixed composition for forming a molded body. After that, by performing extrusion molding or the like of this mixed composition, a molded body containing a columnar silicon carbide powder in which a large number of through holes are arranged side by side in a longitudinal direction with a partition wall therebetween is produced, and a predetermined length is formed. Disconnect.
【0007】次に、得られたこの成形体を乾燥し、水分
を飛散させることにより、一定の強度を有し、取り扱い
が容易な成形体の乾燥体とし、続いて、この成形体の端
部を、炭化珪素粉末を主成分とする封口剤で市松模様状
に封口する。[0007] Next, the obtained molded body is dried and water is scattered to obtain a dried body having a certain strength and easy to handle. Is sealed in a checkered pattern with a sealing agent containing silicon carbide powder as a main component.
【0008】この後、この封口剤で封口された炭化珪素
成形体を脱脂用治具に載置した後、熱風循環式の脱脂炉
に搬入し、酸素含有雰囲気下において、成形体中を40
0〜650℃に加熱し、有機バインダー成分中の溶剤を
揮発させるとともに、樹脂成分を分解、消失させる脱脂
工程を行い、さらに、炭化珪素成形体を下駄材を介して
焼成用治具に載せ代えた後、焼成炉に搬入し、不活性ガ
ス雰囲気下、2000〜2200℃に加熱することによ
り焼結させる焼成工程を経て、炭化珪素からなる多孔質
セラミック部材20が製造される。Thereafter, the silicon carbide compact sealed with the plugging agent is placed on a degreasing jig, and then is carried into a hot air circulation type degreasing furnace, where the inside of the compact is subjected to 40 g under an oxygen-containing atmosphere.
Heating to 0 to 650 ° C. to volatilize the solvent in the organic binder component, perform a degreasing process to decompose and eliminate the resin component, and further place the silicon carbide molded body on a firing jig via clogs After that, the porous ceramic member 20 made of silicon carbide is manufactured through a firing process in which the substrate is carried into a firing furnace and heated to 2000 to 2200 ° C. in an inert gas atmosphere to perform sintering.
【0009】しかしながら、このような従来の多孔質セ
ラミック部材の製造方法で製造した多孔質炭化珪素焼結
体は、その曲げ強度にバラツキが発生し、曲げ強度が低
下したり、欠けが発生する場合があった。However, the porous silicon carbide sintered body manufactured by such a conventional method for manufacturing a porous ceramic member has a problem in that the bending strength thereof varies and the bending strength is reduced or chipped. was there.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題に
鑑みてなされたものであり、製造する多孔質炭化珪素焼
結体の曲げ強度にバラツキが発生することがなく、優れ
た曲げ強度を有するとともに、欠けが発生しない多孔質
炭化珪素焼結体の製造方法を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and does not cause variation in the bending strength of a porous silicon carbide sintered body to be produced, and provides excellent bending strength. It is another object of the present invention to provide a method for producing a porous silicon carbide sintered body that has no chipping.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】第一の本発明の多孔質炭
化珪素焼結体の製造方法は、少なくとも、炭化珪素粉末
とバインダーとを含む炭化珪素成形体を作製する成形体
作製工程と、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪
素脱脂体を製造する脱脂工程と、上記炭化珪素脱脂体の
焼成を行って炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを含
む多孔質炭化珪素焼結体の製造方法であって、上記脱脂
工程において、上記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.1
5〜0.5%となる条件で加熱を行うことを特徴とす
る。Means for Solving the Problems A first method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention comprises a molded body production step of producing at least a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder. Porous silicon carbide sintering including a degreasing step of degreasing the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body, and a firing step of firing the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body The method for producing a body, wherein in the degreasing step, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.1%.
It is characterized in that heating is performed under the condition of 5 to 0.5%.
【0012】また、第二の本発明の多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法は、少なくとも、炭化珪素粉末とバインダ
ーとを含む炭化珪素成形体を作製する成形体作製工程
と、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪素脱脂体
を製造する脱脂工程と、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行
って炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを含む多孔質
炭化珪素焼結体の製造方法であって、上記焼成工程にお
いて、上記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及び/又は炭素
粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、上記炭化珪素脱
脂体の焼成を行うことを特徴とする。Further, a second method for producing a porous silicon carbide sintered body according to the present invention comprises a molded body production step of producing a silicon carbide molded body containing at least silicon carbide powder and a binder; A method for producing a porous silicon carbide sintered body, comprising: a degreasing step of degreasing a body to produce a silicon carbide degreased body; and a firing step of burning the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body. In the firing step, the silicon carbide degreased body is placed in a crucible on which carbon powder and / or carbon particles are spread, and then the silicon carbide degreased body is fired.
【0013】また、第三の本発明の多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法は、少なくとも、炭化珪素粉末とバインダ
ーとを含む炭化珪素成形体を作製する成形体作製工程
と、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪素脱脂体
を製造する脱脂工程と、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行
って炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを含む多孔質
炭化珪素焼結体の製造方法であって、上記脱脂工程にお
いて、上記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.15〜0.
5%となる条件で加熱を行うとともに、上記焼成工程に
おいて、上記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及び/又は炭
素粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、前記炭化珪素
脱脂体の焼成を行うことを特徴とする。以下、本発明を
詳細に説明する。[0013] A third method for producing a porous silicon carbide sintered body according to the present invention comprises the step of producing a silicon carbide molded body containing at least silicon carbide powder and a binder; A method for producing a porous silicon carbide sintered body, comprising: a degreasing step of degreasing a body to produce a silicon carbide degreased body; and a firing step of burning the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body. In the degreasing step, the silicon carbide degreased body has a residual carbon ratio of 0.15 to 0.5.
Heating is performed under the condition of 5%, and in the firing step, after the silicon carbide degreased body is placed in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles, the silicon carbide degreased body is fired. It is characterized by the following. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】第一〜第三の本発明の多孔質炭化
珪素焼結体の製造方法は、いずれも、各製造方法におけ
る焼成工程で、炭化珪素脱脂体の内部及び/又はその周
囲に存在する炭素の量を増加させることにより、製造す
る多孔質炭化珪素焼結体に、曲げ強度のバラツキ、及
び、欠けが発生することを防止することができる。これ
は、以下のような理由によるものと考えられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In any of the first to third methods for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention, the inside and / or the periphery of the silicon carbide degreased body is performed in the firing step in each production method. By increasing the amount of carbon present in the porous silicon carbide sintered body, it is possible to prevent variations in bending strength and chipping from occurring. This is considered to be due to the following reasons.
【0015】即ち、従来の多孔質炭化珪素焼結体の製造
方法においては、脱脂工程を経た炭化珪素脱脂体は、原
料の製造条件や脱脂条件等に起因して炭化珪素脱脂体中
に約3%程度のSiO2 を含有しているが、次の焼成工
程で、最高温度が2000℃以上と極めて高温にまで加
熱を行うため、炭化珪素脱脂体中のSiO2 は昇華し、
炭化珪素脱脂体から放出される。また、上記炭化珪素脱
脂体中には微量ながら炭素が存在し、さらに、通常、焼
成工程において使用するルツボや、炭化珪素脱脂体を載
置する下駄材を構成する物質は炭素であるため、これら
の炭素と上記SiO2 との間で下記反応式(1);That is, in the conventional method for manufacturing a porous silicon carbide sintered body, about 3% of the silicon carbide degreased body after the degreasing step is contained in the silicon carbide degreased body due to the production conditions and degreasing conditions of the raw materials. % Of SiO 2 , but in the next firing step, the maximum temperature is heated to an extremely high temperature of 2000 ° C. or more, so that the SiO 2 in the silicon carbide degreased body sublimates,
Released from silicon carbide degreased body. In addition, carbon is present in the silicon carbide degreased body in a trace amount.Moreover, since the material constituting the clogging material on which the silicon carbide degreased body is placed is usually carbon, Reaction formula (1) between the carbon of the above and the above SiO 2 ;
【0016】SiO2 +C→SiO+CO・・・(1)SiO 2 + C → SiO + CO (1)
【0017】に示す反応が進行し、SiOガスが発生す
る。そして、さらに、この発生したSiOガスと、上記
炭化珪素脱脂体中に存在する炭素及びルツボや下駄材を
構成する炭素との間で下記反応式(2);The reaction shown in FIG. 1 proceeds, and SiO gas is generated. Further, the following reaction formula (2) between the generated SiO gas and carbon present in the silicon carbide degreased body and carbon constituting the crucible and the clogging material:
【0018】SiO+2C→SiC+CO・・・(2)SiO + 2C → SiC + CO (2)
【0019】に示す反応が進行する。即ち、焼成工程の
進行に伴って、炭化珪素脱脂体中に存在する炭素及びル
ツボや下駄材を構成する炭素が、昇華したSiO2 やS
iOガスにより消費されていくこととなる。The reaction shown in FIG. That is, with the progress of the firing step, the carbon present in the silicon carbide degreased body and the carbon constituting the crucible and the clogging material are converted into sublimated SiO 2 or S
It will be consumed by iO gas.
【0020】しかしながら、上述した通り、脱脂工程を
経た炭化珪素脱脂体中に存在する炭素量は微量なもので
あり、上記反応式(1)及び(2)に示した反応により
すぐに消費され尽くしてしまう。また、ルツボや下駄材
を構成する炭素は、上記反応式(1)及び(2)に示し
た反応における良好な炭素の供給源となり得るが、上記
ルツボや下駄材の表面部分がSiC化してしまうと、最
早、上記反応式(1)及び(2)に示した反応に炭素を
供給することができなくなってしまう。However, as described above, the amount of carbon present in the silicon carbide degreased body after the degreasing step is very small and is immediately consumed by the reactions shown in the above reaction formulas (1) and (2). Would. Further, the carbon constituting the crucible or the clogging material can be a good source of carbon in the reaction shown in the above reaction formulas (1) and (2), but the surface portion of the crucible or the clogging material is converted into SiC. Then, it is no longer possible to supply carbon to the reactions shown in the reaction formulas (1) and (2).
【0021】即ち、焼結工程の進行に伴って、上記反応
式(1)及び(2)に示した反応に供給される炭素量が
減少し、対照的にSiOガスの濃度が高くなることとな
る。その結果、高濃度のSiOガスと炭化珪素脱脂体の
大部分を構成するSiCとの間に下記反応式(3);That is, with the progress of the sintering step, the amount of carbon supplied to the reaction shown in the above reaction formulas (1) and (2) decreases, while the concentration of SiO gas increases. Become. As a result, the following reaction formula (3) is produced between the high-concentration SiO gas and SiC constituting the majority of the silicon carbide degreased body:
【0022】 SiO+SiC→2Si+CO・・・(3)SiO + SiC → 2Si + CO (3)
【0023】に示す反応が進行する。即ち、焼成中の炭
化珪素脱脂体中にSiが存在することとなり、このよう
な炭化珪素脱脂体では、焼結が進行しにくくなり、炭化
珪素粒子自体は粒成長をするものの、この粒成長した炭
化珪素粒子同士の結び付き、所謂、ネッキングが余り形
成されず、製造する多孔質炭化珪素焼結体の強度にバラ
ツキが発生し、強度が低下していたと考えられる。The reaction shown in FIG. That is, Si is present in the silicon carbide degreased body during firing, and in such a silicon carbide degreased body, sintering becomes difficult to progress, and although the silicon carbide particles themselves grow, the grains grow. It is considered that the bonding between the silicon carbide particles, so-called necking, was not formed so much, the strength of the porous silicon carbide sintered body to be produced varied, and the strength was reduced.
【0024】さらに、上記反応式(2)に示した反応に
より、ルツボや下駄材の表面がSiC化してしまうと、
これらの部材が硬くなりすぎるとともに、その表面に凹
凸が形成されることとなる。このため、焼成工程中に、
炭化珪素脱脂体と下駄材とが接していた部分や、焼成中
の振動等により、炭化珪素脱脂体とSiC化したルツボ
とが接触した場合、該接触部分に欠けが発生していたと
考えられる。Further, when the surface of the crucible or the clogs is converted into SiC by the reaction shown in the above reaction formula (2),
These members become too hard, and irregularities are formed on the surface. For this reason, during the firing process,
If the silicon carbide degreased body was in contact with the clogging material, or if the silicon carbide degreased body was brought into contact with the SiC crucible due to vibration or the like during firing, it is considered that the contact portion was chipped.
【0025】第一〜第三の本発明の多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法では、上記焼成工程において、炭化珪素脱
脂体とともに存在する炭素の量を増加させることによ
り、製造する多孔質炭化珪素焼結体に曲げ強度のバラツ
キ、及び、欠けが発生することを防止する。即ち、上記
焼成工程において、増加させた炭素と発生するSiOガ
スとの間で上記反応式(2)に示した反応を促進させ、
SiOガスの濃度が高くなることを防止し、上記反応式
(3)に示した反応が進行しないようにするとともに、
ルツボや下駄材の表面のSiC化を防止するのである。In the first to third methods for producing a porous silicon carbide sintered body according to the present invention, in the firing step, the amount of carbon present together with the silicon carbide degreased body is increased to thereby produce the porous carbonized sintered body. Variations in bending strength and occurrence of chipping in the silicon sintered body are prevented. That is, in the baking step, the reaction shown in the above reaction formula (2) is promoted between the increased carbon and the generated SiO gas,
In addition to preventing the concentration of the SiO gas from increasing, the reaction shown in the above reaction formula (3) is prevented from proceeding.
This prevents the surface of the crucible or clogging material from becoming SiC.
【0026】以下、第一〜第三の本発明の多孔質炭化珪
素焼結体の製造方法について、さらに、詳しく説明す
る。なお、以下の説明では、多孔質炭化珪素焼結体の形
状を、図2に示したような、多数の貫通孔が長手方向に
並設された柱状のものとして説明するが、第一〜第三の
本発明の多孔質炭化珪素製造方法により製造する多孔質
炭化珪素焼結体の形状は、これに限定されるものではな
く、例えば、その内部に多数の連通した開孔を有する柱
状等であってもよい。Hereinafter, the first to third methods for producing the porous silicon carbide sintered body of the present invention will be described in more detail. In the following description, the shape of the porous silicon carbide sintered body will be described as a columnar shape in which a large number of through holes are arranged in the longitudinal direction as shown in FIG. The shape of the porous silicon carbide sintered body produced by the method for producing porous silicon carbide of the third aspect of the present invention is not limited to this, and may be, for example, a columnar shape having a large number of open holes therein. There may be.
【0027】まず、第一の本発明の多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法について説明する。第一の本発明の多孔質
炭化珪素焼結体の製造方法は、少なくとも、炭化珪素粉
末とバインダーとを含む炭化珪素成形体を作製する成形
体作製工程と、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化
珪素脱脂体を製造する脱脂工程と、上記炭化珪素脱脂体
の焼成を行って炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを
含む多孔質炭化珪素焼結体の製造方法であって、上記脱
脂工程において、上記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.
15〜0.5%となる条件で加熱を行うことを特徴とす
る。First, a method for producing the first porous silicon carbide sintered body of the present invention will be described. The first method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention includes, at least, a molded body production step of producing a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder, and degreasing the silicon carbide molded body. A method for producing a porous silicon carbide sintered body, comprising: a degreasing step of producing a silicon carbide degreased body, and a firing step of producing a silicon carbide sintered body by calcining the silicon carbide degreased body. In the degreasing step, the residual carbon ratio of the degreased silicon carbide body is set to 0.
It is characterized in that heating is performed under conditions of 15 to 0.5%.
【0028】第一の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法(以下、第一の本発明の製造方法ともいう)で
は、まず、炭化珪素粉末とバインダーとを含む炭化珪素
成形体を作製する成形体作製工程を行う。上記炭化珪素
粉末の粒径は特に限定されるものではないが、後で炭化
珪素成形体を焼成する際に収縮が少ないものが好まし
く、例えば、0.3〜50μm程度の平均粒径を有する
粒子100重量部と0.1〜1.0μm程度の平均粒径
を有する粒子5〜65重量部とを組み合わせたものが好
ましい。In the first method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention (hereinafter also referred to as the first production method of the present invention), first, a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder is prepared. A molded body manufacturing step to be manufactured is performed. The particle size of the silicon carbide powder is not particularly limited, but preferably has a small shrinkage when firing the silicon carbide molded body later, for example, particles having an average particle size of about 0.3 to 50 μm. A combination of 100 parts by weight and 5 to 65 parts by weight of particles having an average particle size of about 0.1 to 1.0 μm is preferable.
【0029】上記バインダーとしては、例えば、メチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ポリエチレングリコール、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。上記バ
インダーの配合量は、通常、炭化珪素粉末100重量部
に対して、1〜10重量部であることが好ましい。Examples of the binder include methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, polyethylene glycol, phenol resin and epoxy resin. Usually, the compounding amount of the binder is preferably 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicon carbide powder.
【0030】また、上記炭化珪素粉末とバインダーとと
もに、分散剤や分散媒液が添加されていてもよい。上記
分散剤としては特に限定されず、例えば、トリメチルホ
スフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホス
フェート、トリス(2−クロロエチル)ホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、クレジル・ジフェニルホスフェート等のリン酸エス
テル系化合物等を挙げることができる。また、この分散
剤は、炭化珪素粒子100重量部に対して0.1〜5重
量部添加されることが好ましい。Further, a dispersant or a dispersion medium may be added together with the silicon carbide powder and the binder. The dispersant is not particularly limited, and includes, for example, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, tris (2-chloroethyl) phosphate,
Examples thereof include phosphoric ester compounds such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, and cresyl diphenyl phosphate. Preferably, the dispersant is added in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicon carbide particles.
【0031】上記分散媒液としては特に限定されず、例
えば、ベンゼン、シクロヘキサン等の有機溶媒;メタノ
ール等のアルコール、水等を挙げることができる。上記
分散媒液は、これら、炭化珪素粉末、バインダー、分散
剤及び分散媒液の粘度が一定範囲内となるように適量配
合される。The dispersion medium is not particularly restricted but includes, for example, organic solvents such as benzene and cyclohexane; alcohols such as methanol, and water. The dispersion medium liquid is mixed in an appropriate amount so that the viscosities of the silicon carbide powder, the binder, the dispersant, and the dispersion medium liquid fall within a certain range.
【0032】これら炭化珪素粉末、バインダー、分散剤
及び分散媒液等を、アトライター等で混合した後、ニー
ダー等で充分に混練して炭化珪素成形体作製用の混合組
成物を調製する。そして、押し出し成形法等により、上
記混合組成物を押し出すことで、図2に示した従来のセ
ラミック部材20と略同形状の炭化珪素成形体を形成す
る。The silicon carbide powder, the binder, the dispersant, the dispersion medium and the like are mixed by an attritor or the like, and then sufficiently kneaded with a kneader or the like to prepare a mixed composition for producing a silicon carbide molded body. Then, by extruding the mixed composition by an extrusion molding method or the like, a silicon carbide molded body having substantially the same shape as the conventional ceramic member 20 shown in FIG. 2 is formed.
【0033】続いて、マイクロ波や熱風等を利用した乾
燥手段を用いて、上記炭化珪素成形体の内部に存在する
水分を飛散、蒸発させて、炭化珪素成形体の乾燥体とす
る。次に、この作製した炭化珪素成形体を従来の技術で
説明したようなセラミックフィルタとして使用する場
合、この炭化珪素成形体の乾燥体に形成された所定の貫
通孔の端部を炭化珪素粒子を主成分とする封口剤で封口
する。Subsequently, using a drying means utilizing microwaves, hot air or the like, water present inside the silicon carbide molded body is scattered and evaporated to obtain a dried silicon carbide molded body. Next, when the produced silicon carbide molded body is used as a ceramic filter as described in the related art, the end of a predetermined through hole formed in the dried body of the silicon carbide molded body is coated with silicon carbide particles. Seal with a sealing agent as the main component.
【0034】上記封口剤を主に構成する炭化珪素粒子
は、炭化珪素成形体を構成するものと同様のものである
ことが好ましい。後の脱脂、焼成工程において、収縮率
の差に起因するクラックの発生を防止するためである。
上記封口工程を経て、多数の貫通孔が長手方向に並設さ
れ、これら貫通孔のどちらかの一端が互い違いに封口さ
れた柱状の炭化珪素成形体を作製する。The silicon carbide particles mainly constituting the above-mentioned sealing agent are preferably the same as those constituting the silicon carbide compact. This is to prevent the occurrence of cracks due to the difference in shrinkage in the subsequent degreasing and firing steps.
Through the sealing step, a large number of through holes are juxtaposed in the longitudinal direction, and one end of one of the through holes is alternately sealed to produce a columnar silicon carbide molded body.
【0035】次に、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って
炭化珪素脱脂体を製造する脱脂工程を行う。第一の本発
明の製造方法において、上記脱脂工程は、上記炭化珪素
脱脂体の残炭率が、0.15〜0.5%となる条件で加
熱を行う。Next, a degreasing step of degreasing the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body is performed. In the first production method of the present invention, in the degreasing step, heating is performed under the condition that the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5%.
【0036】上記残炭率が0.15%未満であると、次
工程の焼成工程において、発生するSiOガスと反応す
る炭素の量が不充分となり、製造する多孔質炭化珪素焼
結体の曲げ強度にバラツキが発生する。一方、上記残炭
率が0.5%を超えると、上記炭化珪素脱脂体中に過剰
な炭素が存在することとなり、次工程の焼成工程におい
て、炭化珪素脱脂体を充分に焼結させることができず、
製造する多孔質炭化珪素焼結体の曲げ強度が低くなる。If the residual carbon ratio is less than 0.15%, the amount of carbon which reacts with the generated SiO gas in the subsequent firing step becomes insufficient, and the bending of the produced porous silicon carbide sintered body becomes insufficient. Variation in strength occurs. On the other hand, if the residual carbon ratio exceeds 0.5%, excess carbon will be present in the silicon carbide degreased body, and in the subsequent firing step, the silicon carbide degreased body will be sufficiently sintered. I ca n’t,
The bending strength of the manufactured porous silicon carbide sintered body is reduced.
【0037】上記脱脂工程の条件として、ルツボ内の酸
素濃度は6〜10%であることが望ましい。酸素濃度が
6%未満であると、製造する炭化珪素脱脂体の残炭率が
0.5%を超えることがあり、一方、酸素濃度が10%
を超えると、製造する炭化珪素脱脂体の残炭率が0.1
5%未満になることがある。As a condition of the degreasing step, the oxygen concentration in the crucible is desirably 6 to 10%. When the oxygen concentration is less than 6%, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body to be produced may exceed 0.5%, while the oxygen concentration is 10%.
Above, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body to be produced is 0.1%
May be less than 5%.
【0038】上記脱脂工程において、上記炭化珪素成形
体の加熱温度は、400〜650℃であることが望まし
い。加熱温度が400℃未満であると、脱脂後の炭化珪
素脱脂体の残炭率が高くなりすぎ、製造する多孔質炭化
珪素焼結体の曲げ強度が低下する場合がある。一方、加
熱温度が650℃を超えると、脱脂後の炭化珪素脱脂体
の残炭率が低くなりすぎ、製造する多孔質炭化珪素焼結
体の曲げ強度にバラツキが発生する場合がある。In the degreasing step, the heating temperature of the silicon carbide molded body is desirably 400 to 650 ° C. If the heating temperature is lower than 400 ° C., the residual carbon ratio of the degreased silicon carbide body after degreasing becomes too high, and the bending strength of the porous silicon carbide sintered body to be manufactured may decrease. On the other hand, when the heating temperature exceeds 650 ° C., the residual carbon ratio of the degreased silicon carbide body after degreasing becomes too low, and the bending strength of the manufactured porous silicon carbide sintered body may vary.
【0039】また、このような条件で行う上記脱脂工程
は、通常、上記炭化珪素成形体を炭素からなる脱脂用治
具に載置した後、脱脂炉に搬入することで行う。The degreasing step carried out under such conditions is usually carried out by placing the silicon carbide compact on a degreasing jig made of carbon and then carrying it into a degreasing furnace.
【0040】次に、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行って
炭化珪素焼結体を製造する焼成工程を行う。Next, a firing step of firing the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body is performed.
【0041】上記焼成工程では、上記炭化珪素脱脂体
を、通常、炭素からなる下駄材を介してルツボ(焼成用
治具)内に載置した後、焼成炉に搬入し、窒素、アルゴ
ン等の不活性ガス雰囲気下、2000〜2200℃で上
記炭化珪素脱脂体を焼結する。In the firing step, the silicon carbide degreased body is usually placed in a crucible (firing jig) via a clogging material made of carbon, and then is carried into a firing furnace, where nitrogen, argon, etc. The silicon carbide degreased body is sintered at 2000 to 2200 ° C. in an inert gas atmosphere.
【0042】上記下駄材は、ルツボと炭化珪素脱脂体と
の間に空間を形成するために設けており、炭化珪素脱脂
体を炭素からなるルツボ内に直接載置することで、これ
らの間に炭化珪素粗大粒子が発生し、製造する多孔質炭
化珪素焼結体に欠けやピンホールが生じることを防止す
る役割を果している。このような下駄材は、上述した通
り、通常、炭素からなるものが使用されるが、その他の
材質として、例えば、炭化珪素等のセラミックを使用す
ることも可能である。しかしながら、上記下駄材は、比
較的優れた熱伝導率を有するとともに、炭化珪素脱脂体
を傷つけない程度の強度を有することが好ましいことを
勘案すると、炭素からなるものであることが望ましい。The clogging material is provided to form a space between the crucible and the silicon carbide degreased body, and the silicon carbide degreased body is directly placed in a crucible made of carbon, so that the clogging material is provided between the pieces. This serves to prevent the generation of coarse particles of silicon carbide and the occurrence of chipping or pinholes in the manufactured porous silicon carbide sintered body. As described above, such clogs are usually made of carbon, but other materials such as ceramics such as silicon carbide can also be used. However, considering that it is preferable that the clogging material has a relatively excellent thermal conductivity and a strength that does not damage the silicon carbide degreased body, the clogging material is preferably made of carbon.
【0043】なお、脱脂工程から焼成工程に至る一連の
工程では、ルツボ内に下駄材を介して炭化珪素成形体を
載置し、そのまま、脱脂工程及び焼成工程を行うことが
望ましい。脱脂工程及び焼成工程を効率的に行うことが
でき、また、載せ代え等において、炭化珪素脱脂体が傷
つくのを防止することができるからである。In a series of steps from the degreasing step to the firing step, it is desirable that the silicon carbide molded body is placed in a crucible via a clogging material and the degreasing step and the firing step are performed as they are. This is because the degreasing step and the baking step can be performed efficiently, and it is possible to prevent the silicon carbide degreased body from being damaged during replacement or the like.
【0044】第一の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法は、上記の通りであり、脱脂工程において、炭化
珪素脱脂体の残炭率が0.15〜0.5%となる条件で
加熱を行った後、焼成を行うものである。従って、焼成
工程において、SiO2 及びSiOガスが上記炭化珪素
脱脂体に存在する残炭と反応することとなり、ルツボ内
のSiOガスの濃度が高濃度になることを防止すること
ができる。その結果、炭化珪素脱脂体の大部分を構成す
るSiCと上記SiOガスとが反応して、Siが生成さ
れることは殆どなく、焼成工程において焼結が充分に進
行し、製造される多孔質炭化珪素焼結体における炭化珪
素粒子は充分にネッキングし、曲げ強度にバラツキが少
なく、良好な曲げ強度を有する多孔質炭化珪素焼結体を
製造することができる。また、上記焼成工程で、ルツボ
及び下駄材の表面がSiC化することもないので、製造
する多孔質炭化珪素焼結体に欠けが発生することもな
い。The first method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention is as described above. In the degreasing step, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5%. After heating under the conditions, baking is performed. Therefore, in the firing step, the SiO 2 and the SiO gas react with the residual carbon present in the silicon carbide degreased body, so that the concentration of the SiO gas in the crucible can be prevented from becoming high. As a result, SiC, which constitutes the majority of the silicon carbide degreased body, and the above-mentioned SiO gas rarely react with each other to generate Si, sintering proceeds sufficiently in the firing step, and The silicon carbide particles in the silicon carbide sintered body are sufficiently necked, and a variation in bending strength is small, so that a porous silicon carbide sintered body having good bending strength can be manufactured. In addition, since the surfaces of the crucible and the clogging material are not converted into SiC in the firing step, chipping does not occur in the manufactured porous silicon carbide sintered body.
【0045】また、このような第一の本発明の多孔質炭
化珪素焼結体の製造方法を用いて、上記従来の技術にお
いて説明したような、多孔質炭化珪素部材を複数個結束
してセラミックフィルタを製造すると、このセラミック
フィルタは耐久性に優れたものとなる。Further, by using such a method for producing a porous silicon carbide sintered body of the first aspect of the present invention, a plurality of porous silicon carbide members as described in the above-mentioned prior art are bound to form a ceramic. When a filter is manufactured, the ceramic filter has excellent durability.
【0046】次に、第二の本発明の多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法について説明する。第二の本発明の多孔質
炭化珪素焼結体の製造方法は、少なくとも、炭化珪素粉
末とバインダーとを含む炭化珪素成形体を作製する成形
体作製工程と、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化
珪素脱脂体を製造する脱脂工程と、上記炭化珪素脱脂体
の焼成を行って炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを
含む多孔質炭化珪素焼結体の製造方法であって、上記焼
成工程において、上記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及び
/又は炭素粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、上記
炭化珪素脱脂体の焼成を行うことを特徴とする。Next, a method for manufacturing the porous silicon carbide sintered body of the second invention will be described. The method for producing a porous silicon carbide sintered body according to the second aspect of the present invention includes, at least, a molded body production step of producing a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder, and degreasing the silicon carbide molded body. A method for producing a porous silicon carbide sintered body, comprising: a degreasing step of producing a silicon carbide degreased body, and a firing step of producing a silicon carbide sintered body by calcining the silicon carbide degreased body. In the firing step, the silicon carbide degreased body is placed in a crucible on which carbon powder and / or carbon particles are spread, and then the silicon carbide degreased body is fired.
【0047】第二の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法(以下、第二の本発明の製造方法ともいう)で
は、まず、炭化珪素粉末とバインダーとを含む炭化珪素
成形体を作製する成形体作製工程を行う。In the second method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention (hereinafter also referred to as the second production method of the present invention), first, a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder is prepared. A molded body manufacturing step to be manufactured is performed.
【0048】この第二の本発明の製造方法に係る成形体
作製工程は、上述した第一の本発明の製造方法における
成形体作製工程と同様の方法で行うことができる。従っ
て、ここでは、その説明を省略する。The step of producing a molded article according to the second production method of the present invention can be performed in the same manner as the above-mentioned step of producing a molded article in the production method of the first present invention. Therefore, the description is omitted here.
【0049】次に、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って
炭化珪素脱脂体を製造する脱脂工程を行う。上記脱脂工
程では、通常、上記炭化珪素成形体を脱脂用治具に載置
した後、脱脂炉に搬入し、酸素含有雰囲気下、400〜
650℃に加熱する。これにより、バインダー等が揮散
するとともに、分解、消失し、略炭化珪素粉末のみが残
留する。なお、この第二の本発明の製造方法における脱
脂工程の脱脂条件は特に限定されるものではなく、従来
から行われている条件で脱脂を行うことができるが、上
記した第一の本発明の脱脂方法により脱脂することが望
ましい。上記炭化珪素脱脂体中に炭素を含有させること
により、SiOガスの濃度をより低下させることができ
るからである。Next, a degreasing step of degreasing the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body is performed. In the degreasing step, usually, after placing the silicon carbide molded body on a degreasing jig, the silicon carbide molded body is carried into a degreasing furnace, and in an oxygen-containing atmosphere, at 400 to
Heat to 650 ° C. As a result, the binder and the like are volatilized, decomposed and disappear, and substantially only the silicon carbide powder remains. The degreasing conditions in the degreasing step in the production method of the second present invention are not particularly limited, and degreasing can be performed under conventionally performed conditions. It is desirable to degrease by a degreasing method. By containing carbon in the silicon carbide degreased body, the concentration of SiO gas can be further reduced.
【0050】次に、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行って
炭化珪素焼結体を製造する焼成工程を行う。第二の本発
明の製造方法において、上記焼成工程は、上記炭化珪素
脱脂体を、炭素粉末及び/又は炭素粒を敷き詰めたルツ
ボ内に載置した後、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行う。Next, a firing step of firing the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body is performed. In the second production method of the present invention, in the firing step, the silicon carbide degreased body is fired after the silicon carbide degreased body is placed in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles.
【0051】ここで、上記炭素粉末とは、平均粒径が数
100μm以下の炭素粒子のことをいい、上記炭素粒と
は、上記炭素粉末がバインダー等により多数結合し、そ
の粒径が1〜10mm程度のものをいう。このような炭
素粉末や炭素粒としては特に限定されず、例えば、カー
ボンブラック、グラファイト、すす等を挙げることがで
きる。Here, the carbon powder refers to carbon particles having an average particle size of several hundreds μm or less. It means about 10 mm. Such carbon powder and carbon particles are not particularly limited, and examples thereof include carbon black, graphite, and soot.
【0052】上記焼成工程では、まず、ルツボ内に上記
炭素粉末及び/又は炭素粒を敷き詰める。上記炭素粉末
及び/又は炭素粒を敷き詰める量は、上記炭化珪素脱脂
体に含まれるSiO2 の量に合わせて適宜調整する。具
体的には、上記炭素粉末及び/又は炭素粒のモル数が上
記SiO2 のモル数の3倍以上となるように調整するこ
とが望ましい。上述した通り、焼成工程において、炭化
珪素脱脂体に含まれるSiO2 は、炭素と反応してSi
Oガスを生成し(下記反応式(1))、この生成したS
iOガスは、さらに、炭素と反応してSiCを生成する
(下記反応式(2))。そのため、下記反応式(1)及
び(2)より、これらの反応を充分に行うために必要な
炭素のモル数は、SiO2 1モルに対して、3モルとな
るからである。In the firing step, first, the carbon powder and / or carbon particles are spread in a crucible. The amount by which the carbon powder and / or carbon particles are spread is appropriately adjusted in accordance with the amount of SiO 2 contained in the silicon carbide degreased body. Specifically, it is desirable to adjust the number of moles of the carbon powder and / or carbon particles to be three times or more the number of moles of SiO 2 . As described above, in the firing step, SiO 2 contained in the silicon carbide degreased body reacts with carbon to form Si 2
O gas is generated (reaction formula (1) below), and the generated S
The iO gas further reacts with carbon to generate SiC (reaction formula (2) below). Therefore, according to the following reaction formulas (1) and (2), the number of moles of carbon necessary for sufficiently performing these reactions is 3 moles per 1 mole of SiO 2 .
【0053】SiO2 +C→SiO+CO・・・(1)SiO 2 + C → SiO + CO (1)
【0054】SiO+2C→SiC+CO・・・(2)SiO + 2C → SiC + CO (2)
【0055】また、上記炭素粉末及び/又は炭粒に代え
て、例えば、カーボン繊維を組み合わせて布状にしたカ
ーボンフェルトや糸状のものを組み上げたものを、上記
ルツボ内に敷き詰めてもよい。同様の効果を得ることが
できるからである。In place of the carbon powder and / or carbon particles, for example, a cloth made of carbon felt or a thread formed by combining carbon fibers may be laid in the crucible. This is because a similar effect can be obtained.
【0056】このようにして炭素粉末及び/又は炭素粒
を敷き詰めたルツボ内に、下駄材を介して炭化珪素脱脂
体を載置した後、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気
下、2000〜2200℃で上記炭化珪素脱脂体の焼成
を行う。上記下駄材としては、炭素からなるものである
ことが望ましい。上記第一の本発明の製造方法で説明し
た通りである。After the silicon carbide degreased body is placed via the clogging material in the crucible on which the carbon powder and / or carbon particles are spread as described above, the crucible is placed under an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon or the like in the range of 2000 to 2200. The above-mentioned silicon carbide degreased body is fired at a temperature of ° C. The clogging material is desirably made of carbon. This is as described in the first manufacturing method of the present invention.
【0057】また、上記脱脂工程から焼成工程に至る一
連の工程では、ルツボ内に炭素粉末及び/又は炭素粒を
敷き詰めた後下駄材を介して炭化珪素成形体を載置し、
そのまま、脱脂工程及び焼成工程を行うことが望まし
い。脱脂工程及び焼成工程を効率的に行うことができ、
また、載せ代え等において、炭化珪素脱脂体が傷つくの
を防止することができるからである。In a series of steps from the degreasing step to the firing step, a carbon powder and / or carbon particles are spread in a crucible, and then a silicon carbide molded body is placed via clogs.
It is desirable to perform the degreasing step and the firing step as they are. The degreasing process and the firing process can be performed efficiently,
Further, it is also possible to prevent the silicon carbide degreased body from being damaged when it is replaced.
【0058】第二の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法は、上記の通りであり、焼成工程において、脱脂
工程を経た炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及び/又は炭素
粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、上記炭化珪素脱
脂体の焼成を行う。従って、この焼成工程において、S
iO2 及びSiOガスは上記炭素粉末及び/又は炭素粒
と反応するため、ルツボ内のSiOガスの濃度が高濃度
となることを防止することができる。その結果、炭化珪
素脱脂体の大部分を構成するSiCと上記SiOガスと
が反応して、Siが生成されることは殆どなく、焼成工
程において焼結が充分に進行し、製造する多孔質炭化珪
素焼結体における炭化珪素粒子同士はネッキングにより
結合し、曲げ強度にバラツキが少なく、良好な曲げ強度
を有する多孔質炭化珪素焼結体を製造することができ
る。また、上記焼成工程で、ルツボ及び下駄材の表面が
SiC化することもないので、製造する多孔質炭化珪素
焼結体に欠けが発生することもない。The second method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention is as described above. In the firing step, the silicon carbide degreased body that has undergone the degreasing step is spread with carbon powder and / or carbon particles. After placing in a crucible, the silicon carbide degreased body is fired. Therefore, in this firing step, S
Since iO 2 and SiO gas react with the carbon powder and / or carbon particles, the concentration of SiO gas in the crucible can be prevented from becoming high. As a result, SiC, which constitutes the majority of the silicon carbide degreased body, and the above-mentioned SiO gas rarely react with each other to generate Si, and sintering proceeds sufficiently in the firing step, and the porous carbon to be manufactured becomes The silicon carbide particles in the silicon sintered body are bonded to each other by necking, and a variation in bending strength is small, and a porous silicon carbide sintered body having good bending strength can be manufactured. In addition, since the surfaces of the crucible and the clogging material are not converted into SiC in the firing step, chipping does not occur in the manufactured porous silicon carbide sintered body.
【0059】また、このような第二の本発明の多孔質炭
化珪素焼結体の製造方法を用いて、上記従来の技術にお
いて説明したような、多孔質炭化珪素部材を複数個結束
してセラミックフィルタを製造すると、このセラミック
フィルタは耐久性に優れたものとなる。Further, by using such a method for manufacturing a porous silicon carbide sintered body according to the second aspect of the present invention, a plurality of porous silicon carbide members as described in the above-mentioned prior art are bound to form a ceramic. When a filter is manufactured, the ceramic filter has excellent durability.
【0060】次に、第三の本発明の多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法について説明する。第三の本発明の多孔質
炭化珪素焼結体の製造方法は、少なくとも、炭化珪素粉
末とバインダーとを含む炭化珪素成形体を作製する成形
体作製工程と、上記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化
珪素脱脂体を製造する脱脂工程と、上記炭化珪素脱脂体
の焼成を行って炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを
含む多孔質炭化珪素焼結体の製造方法であって、上記脱
脂工程において、上記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.
15〜0.5%となる条件で加熱を行うとともに、上記
焼成工程において、上記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及
び/又は炭素粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、前
記炭化珪素脱脂体の焼成を行うことを特徴とする。Next, a method for producing the third porous silicon carbide sintered body of the present invention will be described. The method for producing a porous silicon carbide sintered body according to the third aspect of the present invention includes, at least, a molded body production step of producing a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder, and degreasing the silicon carbide molded body. A method for producing a porous silicon carbide sintered body, comprising: a degreasing step of producing a silicon carbide degreased body, and a firing step of producing a silicon carbide sintered body by calcining the silicon carbide degreased body. In the degreasing step, the residual carbon ratio of the degreased silicon carbide body is set to 0.
Heating is performed under the condition of 15 to 0.5%, and in the firing step, after the silicon carbide degreased body is placed in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles, the silicon carbide degreased body is placed. Is characterized by firing.
【0061】第三の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法(以下、第三の本発明の製造方法ともいう)で
は、まず、炭化珪素粉末とバインダーとを含む炭化珪素
成形体を作製する成形体作製工程を行い、その後、上記
炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪素脱脂体を製造す
る脱脂工程を行う。ここで、この脱脂工程において、上
記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.15〜0.5%とな
る条件で加熱を行う。In the third method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention (hereinafter also referred to as the third production method of the present invention), first, a silicon carbide molded body containing silicon carbide powder and a binder is prepared. A molded body manufacturing step is performed, and thereafter, a degreasing step of performing degreasing of the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body is performed. Here, in this degreasing step, heating is performed under the condition that the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5%.
【0062】この第三の本発明の製造方法に係る成形体
作製工程、及び、脱脂工程は、上述した第一の本発明の
製造方法の脱脂工程と同様の方法で行うことができる。
従って、ここでは、その詳しい説明を省略する。The molded article preparation step and the degreasing step according to the third production method of the present invention can be carried out in the same manner as the above-described degreasing step of the first production method of the present invention.
Therefore, a detailed description thereof is omitted here.
【0063】次に、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行って
炭化珪素焼結体を製造する焼成工程を行う。ここで、こ
の焼成工程において、上記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末
及び/又は炭素粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、
上記炭化珪素脱脂体の焼成を行う。Next, a firing step of manufacturing the silicon carbide sintered body by firing the silicon carbide degreased body is performed. Here, in this firing step, after placing the degreased silicon carbide body in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles,
The degreased silicon carbide is fired.
【0064】この第三の本発明の製造方法に係る焼成工
程は、上述した第二の本発明の製造方法の焼成工程と同
様の方法で行うことができる。従って、ここでは、その
詳しい説明を省略する。The firing step according to the third manufacturing method of the present invention can be performed in the same manner as the firing step of the above-described second manufacturing method of the present invention. Therefore, a detailed description thereof is omitted here.
【0065】第三の本発明の製造方法は、上記焼成工程
において、SiO2 及びSiOガスと反応するために必
要な炭素を、炭化珪素脱脂体中の残炭及びルツボ内に敷
き詰めた炭素粉末及び/又は炭素粒により供給するもの
である。第三の本発明の製造方法では、炭化珪素脱脂体
の残炭率が0.15〜0.5%となるように炭化珪素成
形体の脱脂を行った後、ルツボ内に炭素粉末及び/又は
炭素粒を敷き詰めて炭化珪素脱脂体の焼成を行っている
ため、焼成工程において存在する炭素の量が過剰とな
り、製造する多孔質炭化珪素焼結体に炭素が残留し、焼
結が不充分となることが考えられる。しかしながら、上
記反応式(1)に示したSiO2 は、炭化珪素脱脂体に
存在するものであり、このSiO2 が焼成の進行に伴っ
て昇華して炭素と反応するものである。そのため、この
SiO2 は炭化珪素脱脂体の残炭と優先的に反応するも
のと考えられる。同様に、上記反応式(1)に示した反
応により生成したSiOガスも、炭化珪素脱脂体に存在
する残炭と優先的に上記反応式(2)に示した反応をす
るものと考えられる。従って、上記焼成工程において
は、SiO2 及びSiOガスは、共に炭化珪素脱脂体に
存在する残炭と優先的に反応することとなり、製造する
多孔質炭化珪素焼結体に炭素が残留することはなく、充
分に焼結は進行するものと考えられる。In the third production method of the present invention, in the above-mentioned calcination step, carbon necessary for reacting with SiO 2 and SiO gas is filled with residual carbon in the silicon carbide degreased body and carbon powder spread in a crucible. And / or supplied by carbon particles. In the third production method of the present invention, after the silicon carbide compact is degreased so that the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5%, carbon powder and / or Since the carbon particles are spread and the silicon carbide degreased body is fired, the amount of carbon present in the firing step becomes excessive, and carbon remains in the porous silicon carbide sintered body to be produced, and sintering is insufficient. It can be considered. However, SiO 2 shown in the above reaction formula (1) is present in the degreased silicon carbide, and this SiO 2 sublimates with the progress of firing and reacts with carbon. Therefore, it is considered that this SiO 2 reacts preferentially with the residual carbon of the degreased silicon carbide. Similarly, it is considered that the SiO gas generated by the reaction shown in the reaction formula (1) also preferentially reacts with the residual carbon present in the silicon carbide degreased body by the reaction shown in the reaction formula (2). Therefore, in the firing step, both the SiO 2 and the SiO gas react preferentially with the residual carbon present in the silicon carbide degreased body, and the carbon remains in the produced porous silicon carbide sintered body. However, it is considered that sintering proceeds sufficiently.
【0066】第三の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法は、上記の通りであり、脱脂工程において、炭化
珪素脱脂体の残炭率が0.15〜0.5%となる条件で
加熱を行い、次の焼成工程において、上記炭化珪素脱脂
体を、炭素粉末及び/又は炭素粒を敷き詰めたルツボ内
に載置した後、上記炭化珪素脱脂体の焼成を行うもので
ある。従って、上記焼成工程において、ルツボ内にはS
iO2 及びSiOガスと反応する充分な量の炭素が存在
することとなるため、上記SiO2 及びSiOガスは、
炭素と略完全に反応してSiCとなり、ルツボ内のSi
Oガスの濃度が高濃度となることがない。その結果、炭
化珪素脱脂体の大部分を構成するSiCと上記SiOガ
スとが反応して、Siが生成されることはなく、焼成工
程において焼結が充分に進行し、製造された多孔質炭化
珪素焼結体における炭化珪素粒子は充分にネッキング
し、製造する多孔質炭化珪素焼結体の曲げ強度にバラツ
キが発生することがなく、また、優れた曲げ強度を有す
るものとなる。また、上記焼成工程で、ルツボ及び下駄
材の表面がSiC化することもないので、製造する多孔
質炭化珪素焼結体に欠けが発生することもない。The third method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention is as described above. In the degreasing step, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5%. Heating is performed under the conditions, and in the next firing step, the silicon carbide degreased body is placed in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles, and then the silicon carbide degreased body is fired. Therefore, in the above firing step, S
Since there will be a sufficient amount of carbon that reacts with the iO 2 and SiO gas, the SiO 2 and SiO gas are
It reacts almost completely with carbon to form SiC, and Si in the crucible
The concentration of O gas does not become high. As a result, SiC constituting the majority of the silicon carbide degreased body and the above-mentioned SiO gas do not react with each other to generate Si, sintering proceeds sufficiently in the firing step, and the produced porous carbonized material is removed. The silicon carbide particles in the silicon sintered body are sufficiently necked, so that there is no variation in the bending strength of the manufactured porous silicon carbide sintered body, and the silicon carbide has excellent bending strength. In addition, since the surfaces of the crucible and the clogging material are not converted into SiC in the firing step, chipping does not occur in the manufactured porous silicon carbide sintered body.
【0067】また、このような第三の本発明の多孔質炭
化珪素焼結体の製造方法を用いて、上記従来の技術にお
いて説明したような、多孔質炭化珪素部材を複数個結束
してセラミックフィルタを製造すると、このセラミック
フィルタは耐久性に優れたものとなる。Further, by using such a method for manufacturing a porous silicon carbide sintered body according to the third aspect of the present invention, a plurality of porous silicon carbide members as described in the above-mentioned prior art are bound to form a ceramic. When a filter is manufactured, the ceramic filter has excellent durability.
【0068】[0068]
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0069】実施例1 平均粒径30μmのα型炭化珪素粉末70重量部、平均
粒径0.28μmのβ型炭化珪素粉末30重量部、メチ
ルセルロース5重量部、分散剤4重量部、水20重量部
を配合した後、ボールミル中にて5時間混合することに
より、均一な混合組成物を調製した。Example 1 70 parts by weight of α-type silicon carbide powder having an average particle diameter of 30 μm, 30 parts by weight of β-type silicon carbide powder having an average particle diameter of 0.28 μm, 5 parts by weight of methylcellulose, 4 parts by weight of a dispersant, and 20 parts by weight of water After mixing the parts, the mixture was mixed in a ball mill for 5 hours to prepare a uniform mixed composition.
【0070】この混合組成物を押出成形装置に充填し、
押出速度2cm/分にて、図2に示したような形状から
なる炭化珪素成形体を作製した。この炭化珪素成形体
は、その大きさが33mm×33mm×300mmで、
貫通孔の数が31個/cm2 、隔壁の厚さが0.35m
mであった。This mixture composition is charged into an extrusion molding apparatus,
A silicon carbide molded body having a shape as shown in FIG. 2 was produced at an extrusion speed of 2 cm / min. This silicon carbide molded body has a size of 33 mm × 33 mm × 300 mm,
The number of through holes is 31 / cm 2 , and the thickness of the partition wall is 0.35 m
m.
【0071】次に、上記炭化珪素成形体を、まずマイク
ロ波乾燥機を用いて100℃で3分の乾燥を行った後、
熱風乾燥機を用いて110℃で20分の乾燥を行った。
さらに、乾燥された炭化珪素成形体を切断した後、上記
貫通孔を炭化珪素からなる封止用ペーストによって封止
した。Next, after drying the silicon carbide compact at 100 ° C. for 3 minutes using a microwave dryer,
Drying was performed at 110 ° C. for 20 minutes using a hot air dryer.
Further, after cutting the dried silicon carbide molded body, the through holes were sealed with a sealing paste made of silicon carbide.
【0072】続いて、ポーラスカーボン(東海カーボン
社製 G100)からなるルツボ内に、カーボンフェル
ト(3mm×5mm×410mm、熱伝導率:0.24
W/m・K、嵩密度:0.15g/cm3 )からなる下
駄材を載置し、この上に乾燥した炭化珪素成形体を10
本載置して、上記ルツボを連続脱脂炉内に搬入し、8%
の酸素濃度を有する空気と窒素との混合ガス雰囲気下、
500℃で加熱することにより脱脂工程を行い、炭化珪
素脱脂体を製造した。このとき、製造した炭化珪素脱脂
体の残炭率は場所により異なるものであったが、平均す
ると0.33%であった。Then, a carbon felt (3 mm × 5 mm × 410 mm, thermal conductivity: 0.24) was placed in a crucible made of porous carbon (G100 manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd.).
W / m · K, bulk density: 0.15 g / cm 3 ), and a dried silicon carbide compact was placed on top of this.
Place the main crucible and carry the crucible into the continuous degreasing furnace,
Under a mixed gas atmosphere of air and nitrogen having an oxygen concentration of
The degreasing step was performed by heating at 500 ° C. to produce a silicon carbide degreased body. At this time, the residual carbon ratio of the manufactured silicon carbide degreased body varied depending on the location, but was 0.33% on average.
【0073】そして、上記炭化珪素脱脂体を上記ルツボ
に載置したまま、焼成装置に搬入し、常圧のアルゴン雰
囲気下において2200℃で約3時間の焼成を行い、多
孔質炭化珪素焼結体を製造した。Then, the silicon carbide degreased body is carried into the firing apparatus while being mounted on the crucible, and fired at 2200 ° C. for about 3 hours in an argon atmosphere at normal pressure to obtain a porous silicon carbide sintered body. Was manufactured.
【0074】実施例2 まず、実施例1と同様にして、炭化珪素成形体を作製し
た。次に、ポーラスカーボン(東海カーボン社製 G1
00)からなるルツボ内に、平均粒径25〜300μm
のカーボン粉を40g敷き詰めた後、カーボンフェルト
(3mm×5mm×410mm、熱伝導率:0.24W
/m・K、嵩密度:0.15g/cm3 )からなる下駄
材を載置し、この上に乾燥した炭化珪素成形体を10本
載置して、上記ルツボを連続脱脂炉内に搬入し、12%
の酸素濃度を有する空気と窒素との混合ガス雰囲気下、
500℃で加熱することにより脱脂工程を行い、炭化珪
素脱脂体を製造した。このとき、製造した炭化珪素脱脂
体の残炭率は場所により異なるものであったが、平均す
ると0.13%であった。Example 2 First, a silicon carbide molded body was produced in the same manner as in Example 1. Next, porous carbon (G1 made by Tokai Carbon Co., Ltd.)
00) in a crucible consisting of 25 to 300 μm
After spreading 40 g of carbon powder, carbon felt (3 mm × 5 mm × 410 mm, thermal conductivity: 0.24 W)
/ M · K, bulk density: 0.15 g / cm 3 ), and ten dried silicon carbide compacts are placed thereon, and the above crucible is carried into a continuous degreasing furnace. And 12%
Under a mixed gas atmosphere of air and nitrogen having an oxygen concentration of
The degreasing step was performed by heating at 500 ° C. to produce a silicon carbide degreased body. At this time, the residual carbon ratio of the manufactured degreased silicon carbide varied depending on the location, but was 0.13% on average.
【0075】そして、上記炭化珪素脱脂体を上記ルツボ
に載置したまま、焼成装置に搬入し、常圧のアルゴン雰
囲気下において2200℃で約3時間の焼成を行い、多
孔質炭化珪素焼結体を製造した。Then, the silicon carbide degreased body is carried into the sintering apparatus while being mounted on the crucible, and baked at 2200 ° C. for about 3 hours under a normal pressure argon atmosphere to obtain a porous silicon carbide sinter. Was manufactured.
【0076】実施例3 まず、実施例1と同様にして、炭化珪素成形体を作製し
た。次に、ポーラスカーボン(東海カーボン社製 G1
00)からなるルツボ内に、平均粒径25〜300μm
のカーボン粉を40g敷き詰めた後、カーボンフェルト
(3mm×5mm×410mm、熱伝導率:0.24W
/m・K、嵩密度:0.15g/cm3 )からなる下駄
材を載置し、この上に乾燥した炭化珪素成形体を10本
載置して、上記ルツボを連続脱脂炉内に搬入し、7%の
酸素濃度を有する空気と窒素との混合ガス雰囲気下、4
00℃で加熱することにより脱脂工程を行い、炭化珪素
脱脂体を製造した。このとき、製造した炭化珪素脱脂体
の残炭率は場所により異なるものであったが、平均する
と0.45%であった。Example 3 First, a silicon carbide molded body was manufactured in the same manner as in Example 1. Next, porous carbon (G1 made by Tokai Carbon Co., Ltd.)
00) in a crucible consisting of 25 to 300 μm
After spreading 40 g of carbon powder, carbon felt (3 mm × 5 mm × 410 mm, thermal conductivity: 0.24 W)
/ M · K, bulk density: 0.15 g / cm 3 ), and ten dried silicon carbide compacts are placed thereon, and the above crucible is carried into a continuous degreasing furnace. Under a mixed gas atmosphere of air and nitrogen having an oxygen concentration of 7%,
The degreasing step was performed by heating at 00 ° C. to produce a silicon carbide degreased body. At this time, the residual carbon ratio of the manufactured silicon carbide degreased body varied depending on the location, but was 0.45% on average.
【0077】そして、上記炭化珪素脱脂体を上記ルツボ
に載置したまま、焼成装置に搬入し、常圧のアルゴン雰
囲気下において2200℃で約3時間の焼成を行い、多
孔質炭化珪素焼結体を製造した。Then, the silicon carbide degreased body is carried into the sintering apparatus with the degreased silicon carbide placed on the crucible, and baked at 2200 ° C. for about 3 hours in a normal pressure argon atmosphere to obtain a porous silicon carbide sintered body. Was manufactured.
【0078】比較例1 実施例1の脱脂工程において、ルツボ内の酸素濃度を1
2%としたほかは、実施例1と同様にして多孔質炭化珪
素焼結体を製造した。なお、上記脱脂工程により製造し
た炭化珪素脱脂体の残炭率は場所により異なるものであ
ったが、平均すると0.13%であった。Comparative Example 1 In the degreasing step of Example 1, the oxygen concentration in the crucible was reduced to 1
A porous silicon carbide sintered body was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the content was set to 2%. In addition, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body produced by the above-mentioned degreasing process varied depending on the location, but was 0.13% on average.
【0079】評価試験 (1)曲げ強度 曲げ強度試験機を用い、実施例1〜3及び比較例1で製
造した多孔質炭化珪素焼結体の4点曲げ試験を行い、そ
れぞれの曲げ強度を求めた。その結果を下記の表1に示
した。なお、このときの試験条件としては、上治具のス
パンが119mm、下治具のスパンが227mmであ
り、上治具及び下治具は、共に多孔質炭化珪素焼結体の
中央から均等な位置に配置した。また、併せて実施例1
〜3及び比較例1に係る多孔質炭化珪素焼結体の曲げ強
度のワイブル係数を算出し、その結果を下記の表1に示
した。Evaluation Test (1) Bending Strength Using a bending strength tester, the porous silicon carbide sintered bodies manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were subjected to a four-point bending test to determine the bending strength of each. Was. The results are shown in Table 1 below. The test conditions at this time were as follows: the upper jig had a span of 119 mm, the lower jig had a span of 227 mm, and both the upper jig and the lower jig were evenly spaced from the center of the porous silicon carbide sintered body. Placed in position. In addition, Example 1
The Weibull coefficient of bending strength of the porous silicon carbide sintered bodies according to Comparative Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was calculated, and the results are shown in Table 1 below.
【0080】(2)ネッキング 実施例1〜3及び比較例1で製造した多孔質炭化珪素焼
結体の表面のネッキングの状態を、走査型電子顕微鏡
(SEM)写真により評価した。その結果を下記の表1
に示した。なお、ネッキングが充分なものを○、不充分
なものを×で表示した。(2) Necking The state of necking on the surface of the porous silicon carbide sintered bodies manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was evaluated by a scanning electron microscope (SEM) photograph. The results are shown in Table 1 below.
It was shown to. In addition, those with sufficient necking were indicated by ○, and those with insufficient necking were indicated by ×.
【0081】(3)欠け 実施例1〜3及び比較例1で製造した多孔質炭化珪素焼
結体の表面を観察することにより評価した。その結果を
下記の表1に示した。なお、欠けが観察されなかったも
のを○、観察されたものを×で表示した。(3) Chipping Evaluation was made by observing the surfaces of the porous silicon carbide sintered bodies manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1. The results are shown in Table 1 below. In addition, も の indicates that no chipping was observed, and X indicates that observed.
【0082】[0082]
【表1】 [Table 1]
【0083】表1に示した結果から明らかなように、実
施例1〜3に係る多孔質炭化珪素焼結体の曲げ強度、及
び、ワイブル係数は、いずれも、比較例1に係る多孔質
炭化珪素焼結体の曲げ強度、及び、ワイブル係数よりも
優れたものであった。また、実施例1〜3に係る多孔質
炭化珪素焼結体を構成する炭化珪素粒子は、充分にネッ
キングしており、欠けが発生しているものはなかった。
一方、比較例1に係る多孔質炭化珪素焼結体を構成する
炭化珪素粒子は、粒成長しているものの、ネッキングが
不充分であり、また、一部に欠けが発生していた。As is clear from the results shown in Table 1, the bending strength and the Weibull coefficient of the porous silicon carbide sintered bodies according to Examples 1 to 3 were all the same as those of Comparative Example 1. The bending strength and the Weibull coefficient of the silicon sintered body were better. Further, the silicon carbide particles constituting the porous silicon carbide sintered bodies according to Examples 1 to 3 were sufficiently necked, and there was no chipping.
On the other hand, although the silicon carbide particles constituting the porous silicon carbide sintered body according to Comparative Example 1 grew, the necking was insufficient and some of the particles were chipped.
【0084】また、実施例1〜3及び比較例1に係る多
孔質炭化珪素焼結体を用いて、図1に示したようなセラ
ミックフィルタを製造したところ、実施例1〜3に係る
セラミックフィルタは、充分な耐久性を有するものであ
ったが、比較例1に係るセラミックフィルタは、構成す
る多孔質炭化珪素焼結体の一部に破損が発生し、耐久性
に劣るものであった。A ceramic filter as shown in FIG. 1 was manufactured using the porous silicon carbide sintered bodies according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, and the ceramic filters according to Examples 1 to 3 were manufactured. Had sufficient durability, but the ceramic filter according to Comparative Example 1 had a part of the porous silicon carbide sintered body that was broken, resulting in poor durability.
【0085】[0085]
【発明の効果】第一の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の
製造方法は、上述した通りであるので、焼結が充分に進
行し、炭化珪素粒子同士は強固にネッキングしているの
で、曲げ強度のバラツキが小さく、かつ、優れた曲げ強
度を有する多孔質炭化珪素焼結体を製造することができ
る。According to the first method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention as described above, sintering proceeds sufficiently and silicon carbide particles are necked firmly. In addition, it is possible to manufacture a porous silicon carbide sintered body having a small variation in bending strength and excellent bending strength.
【0086】第二の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法は、上述した通りであるので、焼結が充分に進行
し、炭化珪素粒子同士は強固にネッキングしているの
で、曲げ強度のバラツキが小さく、かつ、優れた曲げ強
度を有する多孔質炭化珪素焼結体を製造することができ
る。Since the second method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention is as described above, sintering has sufficiently proceeded, and the silicon carbide particles are necked firmly. It is possible to produce a porous silicon carbide sintered body having a small variation in strength and having excellent bending strength.
【0087】第三の本発明の多孔質炭化珪素焼結体の製
造方法は、上述した通りであるので、焼結が充分に進行
し、炭化珪素粒子同士は強固にネッキングしているの
で、特に曲げ強度のバラツキが小さく、かつ、優れた曲
げ強度を有する多孔質炭化珪素焼結体を製造することが
できる。Since the third method for producing a porous silicon carbide sintered body of the present invention is as described above, sintering proceeds sufficiently and silicon carbide particles are necked firmly. It is possible to manufacture a porous silicon carbide sintered body having a small variation in bending strength and having excellent bending strength.
【図1】セラミックフィルタの一例を模式的に示した斜
視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of a ceramic filter.
【図2】(a)は、図1に示したセラミックフィルタを
構成する多孔質炭化珪素部材の一例を模式的に示した斜
視図であり、(b)は、そのA−A線断面図である。2A is a perspective view schematically showing an example of a porous silicon carbide member constituting the ceramic filter shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA. is there.
10 セラミックフィルタ 20 多孔質セラミック部材 21 貫通孔 22 充填材 23 隔壁 Reference Signs List 10 ceramic filter 20 porous ceramic member 21 through hole 22 filler 23 partition
Claims (3)
とを含む炭化珪素成形体を作製する成形体作製工程と、
前記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪素脱脂体を製
造する脱脂工程と、前記炭化珪素脱脂体の焼成を行って
炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを含む多孔質炭化
珪素焼結体の製造方法であって、前記脱脂工程におい
て、前記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.15〜0.5
%となる条件で加熱を行うことを特徴とする多孔質炭化
珪素焼結体の製造方法。1. A molded body producing step of producing a silicon carbide molded body containing at least a silicon carbide powder and a binder;
Porous silicon carbide sintering including a degreasing step of degreasing the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body, and a firing step of burning the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body The method for producing a body, wherein in the degreasing step, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5.
%. A method for producing a porous silicon carbide sintered body, characterized in that heating is performed under a condition that the content of the porous silicon carbide is equal to%.
とを含む炭化珪素成形体を作製する成形体作製工程と、
前記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪素脱脂体を製
造する脱脂工程と、前記炭化珪素脱脂体の焼成を行って
炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを含む多孔質炭化
珪素焼結体の製造方法であって、前記焼成工程におい
て、前記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及び/又は炭素粒
を敷き詰めたルツボ内に載置した後、前記炭化珪素脱脂
体の焼成を行うことを特徴とする多孔質炭化珪素焼結体
の製造方法。2. A molded body producing step of producing a silicon carbide molded body containing at least a silicon carbide powder and a binder;
Porous silicon carbide sintering including a degreasing step of degreasing the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body, and a firing step of burning the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body A method for producing a body, wherein in the firing step, the silicon carbide degreased body is placed in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles, and then the silicon carbide degreased body is fired. Of producing a porous silicon carbide sintered body.
とを含む炭化珪素成形体を作製する成形体作製工程と、
前記炭化珪素成形体の脱脂を行って炭化珪素脱脂体を製
造する脱脂工程と、前記炭化珪素脱脂体の焼成を行って
炭化珪素焼結体を製造する焼成工程とを含む多孔質炭化
珪素焼結体の製造方法であって、前記脱脂工程におい
て、前記炭化珪素脱脂体の残炭率が、0.15〜0.5
%となる条件で加熱を行うとともに、前記焼成工程にお
いて、前記炭化珪素脱脂体を、炭素粉末及び/又は炭素
粒を敷き詰めたルツボ内に載置した後、前記炭化珪素脱
脂体の焼成を行うことを特徴とする多孔質炭化珪素焼結
体の製造方法。3. A molded body producing step of producing a silicon carbide molded body containing at least a silicon carbide powder and a binder;
Porous silicon carbide sintering including a degreasing step of degreasing the silicon carbide molded body to produce a silicon carbide degreased body and a firing step of firing the silicon carbide degreased body to produce a silicon carbide sintered body The method for producing a body, wherein in the degreasing step, the residual carbon ratio of the silicon carbide degreased body is 0.15 to 0.5.
% And heating the silicon carbide degreased body in the firing step, after placing the silicon carbide degreased body in a crucible laid with carbon powder and / or carbon particles, and then firing the silicon carbide degreased body. A method for producing a porous silicon carbide sintered body, characterized by comprising:
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- 2001-01-29 JP JP2001020710A patent/JP4111676B2/en not_active Expired - Lifetime
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