JP2002273793A - Method for manufacturing polymer sheet and polymer sheet by the method - Google Patents
Method for manufacturing polymer sheet and polymer sheet by the methodInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、主として液晶表示
装置に用いられるプラスチック基板に使用可能な光学用
高分子シートに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical polymer sheet which can be mainly used for a plastic substrate used for a liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置用プラスチック基板では、
枚葉シートに蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセ
スで、ガス・水蒸気バリア層となる酸化珪素膜や酸化ア
ルミニウム膜を成膜する方法がよく用いられている。こ
れに対し、シート厚が0.3mm程度より薄い場合には
ロール・ツー・ロールで蒸着やスパッタリングで同様の
成膜を行う方法も可能であり、特に厚みが0.1mm以
下の場合にはこのロール・ツー・ロールによる方法が一
般的である。一般にロール・ツー・ロールによる方法は
枚葉シートに成膜する方法より生産性が高いが、シート
の厚さが厚くなるに従い長さに対するロール径が大きく
なるので1回に真空装置内に投入できるシート長さが短
くなり、生産性や成膜コストの点でロール・ツー・ロー
ル法の優位性を十分に発揮できなくなる。しかし、液晶
表示装置の組立工程上、シート厚は少なくとも0.1m
m以上の厚さが要求されるため、成膜コスト低下のため
には、より生産性を上げることが重要である。2. Description of the Related Art In a plastic substrate for a liquid crystal display device,
A method of forming a silicon oxide film or an aluminum oxide film serving as a gas / water vapor barrier layer on a single sheet by a vacuum film forming process such as vapor deposition or sputtering is often used. On the other hand, when the sheet thickness is less than about 0.3 mm, a method of performing similar film formation by vapor deposition or sputtering with a roll-to-roll method is also possible. A roll-to-roll method is common. In general, the roll-to-roll method has higher productivity than the method of forming a film on a single sheet, but the roll diameter increases with respect to the length as the sheet thickness increases, so that the sheet can be put into a vacuum device at one time. The sheet length becomes short, and the superiority of the roll-to-roll method cannot be sufficiently exhibited in terms of productivity and film formation cost. However, due to the assembly process of the liquid crystal display device, the sheet thickness is at least 0.1 m.
Since a thickness of m or more is required, it is important to further increase the productivity in order to reduce the film formation cost.
【0003】特開平8−234181号公報には、ガス
バリア層と接着層をフィルム上に形成し、これを基材で
あるシートに転写する方法が提案されている。前記公報
に記載の方法を利用し、転写フィルムの厚さを薄くした
場合には、ガス・水蒸気バリア層を薄い転写フィルム上
に成形できるので、ガス・水蒸気バリア層の生産性を向
上することができ、結果として、プラスチック表示素子
用基板の製造コストを下げることが可能となる。しか
し、前記公報に記載されているような転写フィルム側に
接着層を形成する場合、接着層に基材との密着性を考慮
して熱硬化樹脂または光硬化性樹脂を適用すると、その
可使用時間が限られ、例えばコスト低減のために前記公
報に示される転写フィルムを大量に在庫した場合に、接
着層の劣化による密着性の低下、ひいてはガス・水蒸気
バリア性の低下をきたすことがあった。また、薄いフィ
ルム上に形成されたガス・水蒸気バリア層の上に接着層
をコーティングするため、塗工方法によっては皺が寄
り、ガス・水蒸気バリア層を損傷させる事もあった。更
に、酸化珪素や酸化アルミニウムをガスバリア層に用い
る場合、一般に成膜後に上層にコーティングをする前に
空気中で放置することによりガスバリア性が向上するた
め1日から2週間程度の時間放置することを行うので、
コーティングまでを行った状態で在庫する場合にはこの
時間が余分に必要になるという生産性上の無駄があっ
た。Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-234181 proposes a method in which a gas barrier layer and an adhesive layer are formed on a film and transferred to a sheet as a base material. When the thickness of the transfer film is reduced using the method described in the above publication, the gas / steam barrier layer can be formed on a thin transfer film, so that the productivity of the gas / steam barrier layer can be improved. As a result, the manufacturing cost of the plastic display element substrate can be reduced. However, when the adhesive layer is formed on the transfer film side as described in the above-mentioned publication, when a thermosetting resin or a photocurable resin is applied to the adhesive layer in consideration of the adhesion to the base material, the usable For a limited time, for example, when a large number of transfer films disclosed in the above-mentioned publication are stocked for cost reduction, the adhesion may deteriorate due to the deterioration of the adhesive layer, and the gas / water vapor barrier properties may decrease. . Further, since the adhesive layer is coated on the gas / water vapor barrier layer formed on the thin film, wrinkles may be formed depending on the coating method, and the gas / water vapor barrier layer may be damaged. Further, when silicon oxide or aluminum oxide is used for the gas barrier layer, the gas barrier property is generally improved by leaving the film in the air after forming the film and before coating the upper layer. So do
In the case of stocking in a state where the coating has been performed, this time is unnecessary, and there is a waste in productivity that extra time is required.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高度なガス
・水蒸気バリア性を持つ光学用高分子シートを安価に製
造できる方法を提供するものであり、こうして得られた
光学用高分子シートを用いた液晶表示素子用基板および
液晶表示装置を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for inexpensively producing an optical polymer sheet having a high gas / water vapor barrier property. It is intended to provide a liquid crystal display element substrate and a liquid crystal display device used.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、 (1)少なくとも基材(a)とガス・水蒸気バリア層を
有する高分子シートにおいて、厚さ0.1mm以下の剥
離用基材(b)上に保護層とガス・水蒸気バリア層また
はガス・水蒸気バリア層のみを形成した転写フィルム
を、少なくとも光硬化性樹脂とシランカップリング剤を
含む密着層を設けた基材(a)にラミネートすることに
よって成形することを特徴とする高分子シートの製造方
法。 (2)基材(a)がポリエーテルスルホンを含む透明高
分子フィルムから成ることを特徴とした(1)記載の高
分子シートの製造方法。 (3)保護層が熱硬化樹脂または光硬化性樹脂を主成分
とする樹脂組成物である (1)または(2)の高分子シートの製造方法。 (4)剥離用基材(b)がラミネート後に、剥離するこ
とが可能であることを特 徴とする(1)〜(3)の高分子シートの製造方法。 (5)全光線透過率が80%以上である(1)〜(4)
の製造方法によって得られた光学用高分子シート。 (6)(5)記載の光学用高分子シートを用いて作製し
た表示素子用基板。 (7)(6)記載の表示素子用基板を用いて作製した表
示素子。である。That is, the present invention provides: (1) a peeling substrate (b) having a thickness of 0.1 mm or less in a polymer sheet having at least a substrate (a) and a gas / water vapor barrier layer. Laminating a transfer film, on which a protective layer and a gas / steam barrier layer or only a gas / steam barrier layer are formed, on a substrate (a) provided with an adhesion layer containing at least a photocurable resin and a silane coupling agent A method for producing a polymer sheet, comprising: (2) The method for producing a polymer sheet according to (1), wherein the substrate (a) comprises a transparent polymer film containing polyether sulfone. (3) The method for producing a polymer sheet according to (1) or (2), wherein the protective layer is a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component. (4) The method for producing a polymer sheet according to any one of (1) to (3), wherein the release substrate (b) can be released after lamination. (5) The total light transmittance is 80% or more (1) to (4).
An optical polymer sheet obtained by the production method of 1. (6) A display element substrate manufactured using the optical polymer sheet according to (5). (7) A display element manufactured using the display element substrate according to (6). It is.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の基材(a)に使用される
高分子材料としては、配向膜焼成工程において、約15
0℃加熱が行われ、また、外部回路との接続のために異
方性導電フィルムと熱圧着させるときも、150℃程度
の加熱が必要であるため、その材料に関しては、ガラス
転移温度が160℃以上であることが必要である。ガラ
ス転移温度が160℃以上の耐熱性熱可塑性樹脂として
は、芳香族ポリエーテルスルホン、熱可塑性芳香族ポリ
エーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレン
スルフィド、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、ポ
リエステル及びそのコポリマー等が挙げられるが、中で
も液晶表示素子製造上、透明性、耐熱性、加工性、耐衝
撃性のバランスの良いポリエーテルスルホンが特に好ま
しい。また、ガラス転移温度が160℃を下回らなけれ
ば、熱可塑性ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネ
イトなどの樹脂や、滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔
料、染料、無機質充填剤などを適宜ブレンドしても良
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the polymer material used for the substrate (a) of the present invention, about 15
Heating is performed at 0 ° C., and when thermocompression bonding is performed with an anisotropic conductive film for connection to an external circuit, heating at about 150 ° C. is necessary. It is necessary to be higher than or equal to ° C. Examples of the heat-resistant thermoplastic resin having a glass transition temperature of 160 ° C. or higher include aromatic polyether sulfone, thermoplastic aromatic polyether ketone, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyarylate, cyclic polyolefin, polyester, and copolymers thereof. Of these, polyether sulfone, which has a good balance of transparency, heat resistance, workability, and impact resistance, is particularly preferable in the production of liquid crystal display elements. If the glass transition temperature is not lower than 160 ° C., resins such as thermoplastic polyesters, polyamides and polycarbonates, lubricants, heat stabilizers, weather stabilizers, pigments, dyes, inorganic fillers and the like may be appropriately blended. .
【0007】本発明の密着層を構成する光硬化樹脂は、
エポキシアクリレート,ウレタンアクリレート,ポリエ
チレングリコールアクリレート,グリセロールメタクリ
レート等のアクリル樹脂や脂環式エポキシ樹脂を挙げる
ことができるが、特に限定はしない。また、これらを同
時に用いることも構わない。[0007] The photo-curable resin constituting the adhesion layer of the present invention comprises:
Acrylic resins such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyethylene glycol acrylate, and glycerol methacrylate, and alicyclic epoxy resins can be used, but are not particularly limited. These may be used at the same time.
【0008】本発明では、基材(a)あるいは剥離用基
材(b)を透過して、光線特に紫外線を照射し、前記光
硬化樹脂を硬化させなければならない。このため、基材
(a)あるいは剥離用基材(b)自体が紫外線を吸収す
る分、樹脂の硬化に必要な紫外線量が不足し、密着層形
成樹脂の硬化不足を生じる恐れがあり、その結果、密着
層と水蒸気・ガスバリア層との間の密着強度低下、それ
によるバリア性の低下という問題が生じることがある。
そこで、シランカップリング剤を添加することで密着層
と基材(a)あるいは密着層と水蒸気・ガスバリア層と
の間の密着強度の向上を図っている。シランカップリン
グ剤としては、エポキシ系、メルカプト系、アミノ系、
メタクリロキシ系等を挙げることができるが、このう
ち、エポキシ系およびメルカプト系シランカップリング
剤が特に好ましい。本発明に用いられるシランカップリ
ング剤は触媒的に有効な量で存在し、このような量は、
限定はされないが、約0.01〜5重量部、より好まし
くは約0.025〜2重量部である。In the present invention, the photocurable resin must be cured by irradiating light, particularly ultraviolet rays, through the substrate (a) or the peeling substrate (b). For this reason, the amount of ultraviolet rays necessary for curing the resin is insufficient because the base material (a) or the peeling substrate (b) itself absorbs ultraviolet rays, which may cause insufficient curing of the adhesive layer forming resin. As a result, there may be a problem that the adhesion strength between the adhesion layer and the water vapor / gas barrier layer is reduced, and the barrier property is thereby reduced.
Therefore, by adding a silane coupling agent, the adhesion strength between the adhesion layer and the substrate (a) or between the adhesion layer and the water vapor / gas barrier layer is improved. As silane coupling agents, epoxy-based, mercapto-based, amino-based,
Examples thereof include methacryloxy-based compounds, and among them, epoxy-based and mercapto-based silane coupling agents are particularly preferable. The silane coupling agent used in the present invention is present in a catalytically effective amount, such an amount being
Although not limited, it is about 0.01-5 parts by weight, more preferably about 0.025-2 parts by weight.
【0009】本発明の転写フィルムは、剥離用基材
(b)上に保護層とまたはガス・水蒸気バリア層のみを
形成したものである。即ち、接着層を有しないので可使
用時間が限られることが無く、この状態で保管すること
で十分にガスバリア性が発揮されるだけの放置処理を行
うこともできるものである。前記剥離用基材(b)は、
生産性や成膜コストを高めるために、できるだけ薄い方
が望ましく、その厚さは、0.1mm以下が望ましい。
ただし、厚さが0.01mm未満と著しく薄くなると、
剥離する際に切れてしまう等の取り扱いの困難さを生じ
るので0.01mm以上であることが好ましい。また、
密着層に光硬化樹脂を使用する場合には、できるだけ硬
化に必要な波長の光を通過させることが可能な材質であ
ることが望ましく、例えばポリエチレン,ポリプロピレ
ン,脂肪族ポリアミド,ポリエチレンテレフタレート,
ポリブチレンテレフタレート,ポリスルホン,ポリエー
テルスルホン,ポリカーボネート、等を挙げることがで
きる。さらに、前記剥離用基材(b)は、ラミネートし
た後に剥離することが可能であることが望ましく、隣接
するガス・水蒸気バリア層又は保護層との密着性は低い
方が好ましい。場合によっては隣接層との間に離型剤等
の離型層を形成しても良い。The transfer film of the present invention is obtained by forming only a protective layer or a gas / water vapor barrier layer on a release substrate (b). That is, since there is no adhesive layer, the usable time is not limited, and by keeping in this state, it is also possible to perform a leaving treatment for sufficiently exhibiting the gas barrier property. The peeling substrate (b) comprises:
In order to increase productivity and film formation cost, it is desirable to be as thin as possible, and the thickness is desirably 0.1 mm or less.
However, if the thickness is significantly reduced to less than 0.01 mm,
It is preferable that the thickness be 0.01 mm or more, because handling becomes difficult such as breakage during peeling. Also,
When a photo-curing resin is used for the adhesive layer, it is desirable that the material be capable of transmitting light of a wavelength necessary for curing as much as possible, such as polyethylene, polypropylene, aliphatic polyamide, polyethylene terephthalate,
Examples thereof include polybutylene terephthalate, polysulfone, polyether sulfone, and polycarbonate. Further, it is desirable that the peeling substrate (b) can be peeled off after lamination, and it is preferable that the adhesiveness with the adjacent gas / steam barrier layer or protective layer is low. In some cases, a release layer such as a release agent may be formed between adjacent layers.
【0010】本発明の保護層は、ガス・水蒸気バリア層
を保護するもので、ガス・水蒸気バリア層との密着性が
良く、ある程度の表面高度を持つ材質であることが好ま
しい。一例としては、熱硬化樹脂又は光硬化樹脂を主成
分とする樹脂組成物が好ましく、熱硬化樹脂の例として
は、オルソクレゾールノボラック型エポキシ,ビスフェ
ノールA型エポキシ,ビスフェノールF型エポキシ,ビ
スフェノールS型エポキシ,ビフェニル型エポキシ,ジ
シクロペンタジエン型エポキシ等のエポキシ樹脂や、フ
ェノール樹脂,ビスマレイミド,不飽和ポリエステル等
およびこれらにシリカ等の無機フィラーを含有させたも
のを挙げることができ、また、光硬化樹脂としては、エ
ポキシアクリレート,ウレタンアクリレート,ポリエチ
レングリコールアクリレート,グリセロールメタクリレ
ート等のアクリル樹脂や脂環式エポキシ樹脂等およびこ
れらにシリカ等の無機フィラーを含有させたものを挙げ
ることができるが、特に限定はしない。The protective layer of the present invention protects the gas / water vapor barrier layer, and is preferably a material having good adhesion to the gas / water vapor barrier layer and having a certain surface height. As an example, a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component is preferable. Examples of the thermosetting resin include orthocresol novolak epoxy, bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, and bisphenol S epoxy. , Epoxy resins such as biphenyl type epoxy and dicyclopentadiene type epoxy, phenol resins, bismaleimides, unsaturated polyesters and the like, and those containing inorganic fillers such as silica in these. Examples of the resin include acrylic resins such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyethylene glycol acrylate, and glycerol methacrylate, alicyclic epoxy resins, and the like, and those containing inorganic fillers such as silica in these. Constant are not.
【0011】本発明のガス・水蒸気バリア層は、液晶保
護のため又は基板自体の寸歩変化を防ぐためのもので、
ポリビニルアルコールやポリ(エチレンビニルアルコー
ル)のような有機材料や酸化珪素,酸化アルミニウム,
酸化錫,酸化インジウム錫等の無機材料が挙げられる
が、これらの中でもガスバリア性の湿度依存性を有しな
い無機材料の薄膜を成膜する事によって得られるものが
望ましく、成膜方法の例としては、ゾル−ゲル法,真空
蒸着,イオンプレーティング,スパッタリング,CVD
等を挙げることができるが、緻密でガスバリア性に優れ
る膜が得られやすいとこから真空蒸着,イオンプレーテ
ィング,スパッタリング,CVD等の真空成膜法が好ま
しい。The gas / water vapor barrier layer of the present invention is for protecting the liquid crystal or preventing the substrate itself from changing step by step.
Organic materials such as polyvinyl alcohol and poly (ethylene vinyl alcohol), silicon oxide, aluminum oxide,
Inorganic materials such as tin oxide and indium tin oxide may be mentioned, and among these, those obtained by forming a thin film of an inorganic material having no humidity dependence on gas barrier properties are desirable. , Sol-gel method, vacuum deposition, ion plating, sputtering, CVD
However, a vacuum deposition method such as vacuum deposition, ion plating, sputtering, and CVD is preferable because a dense film having excellent gas barrier properties is easily obtained.
【0012】本発明の転写フィルムは、基材(a)の片
面もしくは両面にラミネートすることができ、片面にラ
ミネートした場合はその裏面に、両面にラミネートした
場合は一面に、場合によってはアンダーコート層を介し
て透明導電層を形成して表示素子用基板が完成する。The transfer film of the present invention can be laminated on one side or both sides of the base material (a). If it is laminated on one side, it is on the back side, if it is laminated on both sides, it is on one side, and in some cases, it is undercoat. The display element substrate is completed by forming a transparent conductive layer through the layer.
【0013】以下実施例に基づき説明するが、本発明は
これらにより何ら制限されるものではない。Hereinafter, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0014】[0014]
【実施例】実施例1 厚さ25μmのナイロンフィルムの片面上に、紫外線硬化
性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂15重量
部、ウレタンアクリレート20重量部、光重合開始剤と
して、イルガキュアー907(チバスぺシャリティケミ
カルズ製)1重量部、酢酸ブチル64重量部の混合液を
スピンコート法により塗布し、120℃で5分間加熱して
溶媒を除去後、高圧水銀灯を用いて紫外線を350mJ
/cm2照射し、厚さ2.5μmの保護層を形成した。EXAMPLE 1 15 parts by weight of an epoxy acrylate resin as an ultraviolet-curable resin composition, 20 parts by weight of urethane acrylate, and Irgacure 907 (Cibas Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator were placed on one side of a 25 μm-thick nylon film. A mixture of 1 part by weight of Charity Chemicals) and 64 parts by weight of butyl acetate was applied by spin coating, heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, and then irradiated with 350 mJ of ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp.
/ Cm 2 to form a protective layer having a thickness of 2.5 μm.
【0015】この上に、スパッタリング法により500
Å厚のSiOxを得た。xの値はスパッタリング時の酸
素ガス流量を制御することにより1.6〜1.8とし
た。このようにしてガス・水蒸気バリア層を有する転写
フィルムを作成した。作成後、温度30℃湿度60%の
環境で1カ月保存した。On top of this, 500
SiOThick SiO x was obtained. The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Thus, a transfer film having a gas / water vapor barrier layer was prepared. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%.
【0016】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを基
材として用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシ
アクリレート樹脂25重量部、ウレタンアクリレート樹
脂10重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー9
07(チバスぺシャリティケミカルズ製)1重量部、シラ
ンカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン0.2重量部、酢酸ブチル65重量部の混合
液を乾燥後膜厚が2.5μmとなるようにスピンコート
法により塗布し、120℃で5分間加熱して溶媒を除去し
密着層を設けた。A polyether sulfone having a thickness of 200 μm was used as a base material, and 25 parts by weight of an epoxy acrylate resin, 10 parts by weight of a urethane acrylate resin as an ultraviolet-curable resin composition, and Irgacure 9 as a photopolymerization initiator.
07 (manufactured by Ciba-Charity Chemicals), 0.2 parts by weight of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, and 65 parts by weight of butyl acetate are dried to form a film having a thickness of 2.5 μm. The coating was applied by a spin coating method as described above, and heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, thereby forming an adhesion layer.
【0017】このようにして設けた密着層と前記の転写
フィルムのガスバリア層とを、温度を80℃に設定した
ラミネートロールを用いてラミネートし、転写フィルム
面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を350mJ/cm
2照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネ
ート後、ナイロンフィルムを剥離し光学用高分子シート
を得た。 このシートの全光線透過率をJISK710
5に準ずる方法で測定したところ88%であった。一般
に液晶表示素子として必要な全光線透過率は80%以上
であるとされている。The adhesive layer provided in this way and the gas barrier layer of the transfer film are laminated using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., and ultraviolet rays are irradiated from the transfer film side using a high-pressure mercury lamp at 350 mJ. / Cm
Two irradiations were performed to cure the ultraviolet curable resin composition. After lamination, the nylon film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The total light transmittance of this sheet was measured according to JIS K710.
It was 88% when measured by the method according to 5. Generally, the total light transmittance required for a liquid crystal display element is considered to be 80% or more.
【0018】続いて、以下のような手順で液晶表示用素
子を作製した。まず、上記光学用高分子シートに透明導
電膜として、DCマグネトロン法により初期真空度3×
10 -4Paの状態から酸素/アルゴンガス4%の混合ガ
スを導入して1×10-1Paの条件下においてスパッタ
リングを行いIn/(In+Sn)の原子比が0.98で
ある酸化インジウム錫(ITO)からなる透明導電膜を
得た。測定の結果、膜厚は1600Å、比抵抗は4×1
0-4Ω−cmであった。ITOを成膜後、レジストを塗
布して現像し、エッチング液として10vol%HC
l、液温40℃中でパターンエッチングし、対角長さ3
インチ、L/S=150/50μmの表示パターンを形
成した。パターン形成後、STN用配向膜を塗布し、1
50℃2hrの焼成処理を行った後、240度ツイスト
の配向となるようラビング処理を行った。ラビング処理
後、スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、130℃
でシール硬化させてセル化し、STN用液晶組成物を注
入した。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り
合わせて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子は
ガスバリア性不足による気泡の発生がなく表示欠点は観
察されなかった。Subsequently, the liquid crystal display element is processed in the following procedure.
A child was made. First, the transparent polymer sheet was
The initial vacuum degree is 3 × by DC magnetron method
10 -FourFrom the state of Pa, a mixed gas of oxygen / argon gas 4%
1 × 10-1Sputtering under Pa conditions
When the ring is performed and the atomic ratio of In / (In + Sn) is 0.98,
A transparent conductive film made of certain indium tin oxide (ITO)
Obtained. As a result of the measurement, the film thickness was 1600 ° and the specific resistance was 4 × 1.
0-FourΩ-cm. After forming ITO, apply resist
Cloth and development, 10vol% HC as etchant
1, pattern etching at a liquid temperature of 40 ° C, diagonal length 3
Inch, L / S = 150 / 50μm display pattern
Done. After pattern formation, an alignment film for STN is applied and
After firing at 50 ° C for 2 hours, twist 240 °
A rubbing treatment was performed so as to obtain the orientation. Rubbing treatment
After that, a spacer is sprayed, a sealant is applied, and 130 ° C.
The cell is hardened by sealing and poured into the liquid crystal composition for STN.
Entered. Paste the polarizing plate at the position where the contrast is maximum
In addition, a liquid crystal display device was manufactured. This liquid crystal display element
There are no bubbles due to insufficient gas barrier properties and no display defects
I wasn't.
【0019】実施例2 実施例1と同じ方法で、厚さ25μmのナイロンフィルム
の片面上に保護層およびガス・水蒸気バリア層を設け転
写フィルムを作成した。作成後、温度30℃湿度60%
の環境で1カ月間保存した。Example 2 In the same manner as in Example 1, a protective film and a gas / water vapor barrier layer were provided on one side of a nylon film having a thickness of 25 μm to prepare a transfer film. After creation, temperature 30 ℃, humidity 60%
Was stored for one month in the environment described above.
【0020】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを基
材として用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシ
アクリレート樹脂25重量部、ウレタンアクリレート樹
脂10重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー9
07(チバスぺシャリティケミカルズ製)1重量部、シラ
ンカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン0.2重量部、酢酸ブチル65重量部の
混合液を乾燥後膜厚が2.5μmとなるようにスピンコ
ート法により塗布し、120℃で5分間加熱して溶媒を除
去し密着層を設けた。A polyether sulfone having a thickness of 200 μm was used as a base material, 25 parts by weight of an epoxy acrylate resin and 10 parts by weight of a urethane acrylate resin as an ultraviolet-curable resin composition, and Irgacure 9 as a photopolymerization initiator.
07 (manufactured by Ciba-Charity Chemicals), 0.2 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, and 65 parts by weight of butyl acetate are dried to form a film having a thickness of 2.5 μm. Was applied by a spin coating method, and heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, thereby forming an adhesion layer.
【0021】このようにして設けた密着層と前記の転写
フィルムのガスバリア層とを、温度を80℃に設定した
ラミネートロールを用いてラミネートし、転写フィルム
面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を350mJ/cm
2照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネ
ート後、ナイロンフィルムを剥離し光学用高分子シート
を得た。 このシートの全光線透過率をJISK710
5に準ずる方法で測定したところ86%であった。 続
いて実施例1と同様に液晶表示素子を作製した。この液
晶表示素子はガスバリア性不足による気泡の発生は無く
表示欠点は観察されなかった。The adhesive layer provided in this manner and the gas barrier layer of the transfer film are laminated using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., and ultraviolet rays are irradiated from the transfer film side using a high-pressure mercury lamp at 350 mJ. / Cm
Two irradiations were performed to cure the ultraviolet curable resin composition. After lamination, the nylon film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The total light transmittance of this sheet was measured according to JIS K710.
It was 86% when measured by the method according to 5. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed.
【0022】実施例3 実施例1と同じ方法で、厚さ25μmのナイロンフィルム
の片面上に保護層およびガス・水蒸気バリア層を設け転
写フィルムを作成した。作成後、温度30℃湿度60% の環境で1カ月間保存した。Example 3 In the same manner as in Example 1, a protective film and a gas / water vapor barrier layer were provided on one side of a 25 μm-thick nylon film to prepare a transfer film. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%.
【0023】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを
基材とし、紫外線硬化性樹脂組成物として、エポキシア
クリレート樹脂25重量部、ウレタンアクリレート樹脂
10重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー90
7(チバスぺシャリティケミカルズ製)1重量部、シラン
カップリング剤として、β−(3,4エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン0.5重量部、酢酸
ブチル64重量部の混合液を乾燥後膜厚が2.5μmと
なるようにスピンコート法により塗布し、120℃で5分
間加熱して溶媒を除去し密着層を設けた。A polyether sulfone having a thickness of 200 μm as a base material, 25 parts by weight of an epoxy acrylate resin, 10 parts by weight of a urethane acrylate resin as an ultraviolet curable resin composition, and Irgacure 90 as a photopolymerization initiator.
7 (manufactured by Ciba-Charity Chemicals), a mixture of 0.5 parts by weight of β- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane as a silane coupling agent and 64 parts by weight of butyl acetate was dried, and the film was dried. The solution was applied by spin coating so as to have a thickness of 2.5 μm, and heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, thereby forming an adhesion layer.
【0024】このようにして設けた密着層と前記の転写
フィルムのガスバリア層とを、実施例1と同様の方法で
ラミネートし、転写フィルム面から高圧水銀灯を用いて
紫外線を350mJ/cm2照射し、紫外線硬化性樹脂
組成物を硬化した。ラミネート後、ナイロンフィルムを
剥離し光学用高分子シートを得た。このシートの全光線
透過率をJISK7105に準ずる方法で測定したとこ
ろ84%であった。続いて実施例1と同様に液晶表示素
子を作製した。この液晶表示素子はガスバリア性不足に
よる気泡の発生は無く表示欠点は観察されなかった。The adhesion layer thus provided and the gas barrier layer of the transfer film were laminated in the same manner as in Example 1, and 350 mJ / cm 2 of ultraviolet light was irradiated from the transfer film surface using a high-pressure mercury lamp. Then, the ultraviolet curable resin composition was cured. After lamination, the nylon film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The total light transmittance of this sheet was measured by a method according to JIS K7105 and found to be 84%. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed.
【0025】実施例4 実施例1と全く同じ方法で、厚さ25μmのナイロンフ
ィルムに保護層およびガス・水蒸気バリア層を設け転写
フィルムを得た。作成後、温度30℃湿度60%の環境
で1カ月間保存した。Example 4 In exactly the same manner as in Example 1, a protective film and a gas / water vapor barrier layer were provided on a 25 μm-thick nylon film to obtain a transfer film. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%.
【0026】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを
基材として、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシア
クリレート樹脂35重量部、光重合開始剤として、イル
ガキュアー907(チバスぺシャリティケミカルズ製)1
重量部、シランカップリング剤として、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン0.2重量部、酢酸ブチル6
5重量部の混合液を乾燥後膜厚が2.5μmとなるよう
にスピンコート法により塗布し、120℃で5分間加熱し
て溶媒を除去し密着層を設けた。A polyethersulfone having a thickness of 200 μm as a base material, 35 parts by weight of an epoxy acrylate resin as an ultraviolet-curable resin composition, and Irgacure 907 (manufactured by Ciba Charity Chemicals) 1 as a photopolymerization initiator.
Parts by weight, 0.2 part by weight of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, butyl acetate 6
After drying, 5 parts by weight of the mixed solution was applied by spin coating so that the film thickness became 2.5 μm, and heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, thereby forming an adhesion layer.
【0027】このようにして設けた密着層と前記の転写
フィルムのガスバリア層とを、温度を80℃に設定した
ラミネートロールを用いてラミネートし、転写フィルム
面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を350mJ/cm
2照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネ
ート後、ナイロンフィルムを剥離し、光学用高分子シー
トを得た。このシートの全光線透過率をJISK710
5に準ずる方法で測定したところ84%であった。続い
て実施例1と同様に液晶表示素子を作製した。この液晶
表示素子はガスバリア性不足による気泡の発生は無く表
示欠点は観察されなかった。The adhesive layer thus provided and the gas barrier layer of the transfer film are laminated using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., and ultraviolet rays are irradiated from the transfer film side using a high-pressure mercury lamp at 350 mJ. / Cm
Two irradiations were performed to cure the ultraviolet curable resin composition. After lamination, the nylon film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The total light transmittance of this sheet was measured according to JIS K710.
It was 84% when measured by the method according to 5. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed.
【0028】実施例5 実施例1と全く同じ方法で、厚さ38μmのポリプロピ
レンフィルムの片面上に実施例1と同様の方法で保護層
およびガス・水蒸気バリア層を設け、転写フィルムを得
た。作成後、温度30℃湿度60%の環境で1カ月間保
存した。Example 5 In the same manner as in Example 1, a protective layer and a gas / steam barrier layer were provided on one surface of a 38 μm thick polypropylene film in the same manner as in Example 1, to obtain a transfer film. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%.
【0029】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを
基材とし、紫外線硬化性樹脂組成物として、エポキシア
クリレート樹脂25重量部、ウレタンアクリレート樹脂
10重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー90
7(チバスぺシャリティケミカルズ製)1重量部、シラン
カップリング剤として、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン0.2重量部、酢酸ブチル65重量部の混合
液を乾燥後膜厚が2.5μmとなるようにスピンコート
法により塗布し、120℃で5分間加熱して溶媒を除去し
密着層を設けた。A polyether sulfone having a thickness of 200 μm was used as a base material, 25 parts by weight of an epoxy acrylate resin, 10 parts by weight of a urethane acrylate resin as an ultraviolet curable resin composition, and Irgacure 90 as a photopolymerization initiator.
7 (manufactured by Ciba Charity Chemicals), a mixture of 0.2 parts by weight of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and 65 parts by weight of butyl acetate as a silane coupling agent was dried to a film thickness of 2.5 μm. The solution was applied by a spin coating method and heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, thereby forming an adhesion layer.
【0030】このようにして設けた密着層と上述の転写
フィルムのガスバリア層とを、温度を80℃に設定した
ラミネートロールを用いてラミネートし、転写フィルム
面側から高圧水銀灯を用いて350mJ/cm2照射
し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネート
後、ポリプロピレンフィルムを剥離し、光学用高分子シ
ートを得た。このシートの全光線透過率をJISK71
05に準ずる方法で測定したところ82%であった。続
いて実施例1と同様に液晶表示素子を作製した。この液
晶表示素子はガスバリア性不足による気泡の発生は無く
表示欠点は観察されなかった。JISK7105に準ず
る方法で全光線透過率を測定したところ82%であっ
た。The adhesive layer thus provided and the gas barrier layer of the above-mentioned transfer film are laminated using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., and 350 mJ / cm from the transfer film surface side using a high-pressure mercury lamp. Two irradiations were performed to cure the ultraviolet curable resin composition. After lamination, the polypropylene film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The total light transmittance of this sheet was measured according to JIS K71.
It was 82% when measured by the method according to No. 05. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed. The total light transmittance measured by a method according to JIS K7105 was 82%.
【0031】実施例6 厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面上に実施例1と同様の方法で、保護層およびガス・
水蒸気バリア層を設け、転写フィルムを得た。作成後、
温度30℃湿度60%の環境で1カ月間保存した。Example 6 A protective layer and a gas layer were formed on one surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1.
A water vapor barrier layer was provided to obtain a transfer film. After creation,
It was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%.
【0032】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを
基材とし、紫外線硬化性樹脂組成物として、エポキシア
クリレート樹脂25重量部、ウレタンアクリレート樹脂
10重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー90
7(チバスぺシャリティケミカルズ製)1重量部、シラン
カップリング剤として、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン0.2重量部、酢酸ブチル65重量部の混合
液を乾燥後膜厚が2.5μmとなるようにスピンコート
法により塗布し、120℃で5分間加熱して溶媒を除去し
密着層を設けた。A polyether sulfone having a thickness of 200 μm was used as a base material, 25 parts by weight of an epoxy acrylate resin, 10 parts by weight of a urethane acrylate resin as an ultraviolet curable resin composition, and Irgacure 90 as a photopolymerization initiator.
7 (manufactured by Ciba Charity Chemicals), a mixture of 0.2 parts by weight of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and 65 parts by weight of butyl acetate as a silane coupling agent was dried to a film thickness of 2.5 μm. The solution was applied by a spin coating method and heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, thereby forming an adhesion layer.
【0033】このようにして設けた密着層と前記の転写
フィルムのガスバリア層とを、実施例1と同様の方法で
ラミネートし、転写フィルム面から高圧水銀灯を用いて
紫外線を350mJ/cm2照射し、紫外線硬化性樹脂
組成物を硬化した。ラミネート後、ポリエチレンテレフ
タレートフィルムを剥離し光学用高分子シートを得た。
このシートの全光線透過率をJISK7105に準ずる
方法で測定したところ80%であった。続いて実施例1
と同様に液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子は
ガスバリア性不足による気泡の発生は無く表示欠点は観
察されなかった。JISK7105に準ずる方法で全光
線透過率を測定したところ80%であった。The adhesion layer thus provided and the gas barrier layer of the transfer film were laminated in the same manner as in Example 1, and 350 mJ / cm 2 of ultraviolet light was irradiated from the transfer film surface using a high-pressure mercury lamp. Then, the ultraviolet curable resin composition was cured. After lamination, the polyethylene terephthalate film was peeled off to obtain an optical polymer sheet.
The total light transmittance of this sheet was measured by a method according to JIS K7105 and found to be 80%. Then, Example 1
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed. The total light transmittance measured by a method according to JIS K7105 was 80%.
【0034】比較例 厚さ30μmの延伸ポリエステルフィルムの片面上に、
紫外線硬化性樹脂組成物として融点70℃のエポキシア
クリレートプレポリマー100重量部、酢酸ブチル30
0重量部,プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート100重量部,ベンゾインエチルエーテル2重
量部を50℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたもの
を乾燥後膜厚2μmとなるようにスピンコート法で塗布
し、100℃で5分間加熱して溶媒を除去した。続いて
塗布面側から高圧水銀灯を用いて紫外線を500mJ/
cm2照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。Comparative Example On one side of a stretched polyester film having a thickness of 30 μm,
100 parts by weight of an epoxy acrylate prepolymer having a melting point of 70 ° C. as a UV-curable resin composition, and butyl acetate 30
0 parts by weight, 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether were stirred at 50 ° C. and dissolved to form a uniform solution, and after drying, applied by spin coating to a thickness of 2 μm. Then, the mixture was heated at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. Subsequently, ultraviolet rays were applied from the application side using a high-pressure mercury lamp at 500 mJ /
cm 2 was irradiated to cure the ultraviolet curable resin composition.
【0035】この上に、スパッタリング法により500
Å厚のSiOxを得た。xの値はスパッタリング時の酸
素ガス流量を制御することにより1.6〜1.8とし
た。On top of this, 500
SiOThick SiO x was obtained. The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering.
【0036】続いてSiOx上にエポキシアクリレート
樹脂25重量部、ウレタンアクリレート樹脂10重量
部、光重合開始剤として、イルガキュアー907(チバ
スぺシャリティケミカルズ製1重量部、酢酸ブチル65
重量部の混合液を乾燥後膜厚1μmとなるようにスピン
コート法で塗布し80℃で3分間加熱して溶媒を除去し
た。このようにしてガスバリア層と接着層を有する転写
フィルムを作成した。作成後、温度30℃湿度60%の
環境で1カ月間保存した。Subsequently, 25 parts by weight of an epoxy acrylate resin, 10 parts by weight of a urethane acrylate resin, and Irgacure 907 (1 part by weight, manufactured by Ciba Charity Chemicals, 65 parts by weight of butyl acetate) were used as a photopolymerization initiator on SiO x.
A part by weight of the mixed solution was dried and applied by spin coating so as to have a film thickness of 1 μm, and heated at 80 ° C. for 3 minutes to remove the solvent. Thus, a transfer film having a gas barrier layer and an adhesive layer was prepared. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%.
【0037】厚さ200μmのポリエーテルスルホンを
基材として用い、前記の転写フィルムの接着面と温度を
120℃に設定したラミネートロールを用いてラミネー
トした。ラミネート後、転写フィルム面から高圧水銀灯
を用いて紫外線を350mJ/cm2照射し、紫外線硬
化性樹脂組成物を硬化した。その後、延伸ポリプロピレ
ンフィルムを剥離したところ、十分な接着性が得られず
ガスバリア層を基材側に部分的にしか転写することがで
きなかった。このシートの全光線透過率をJISK71
05に準ずる方法で測定したところ77%であった。続
いて実施例1と同様に液晶表示素子を作製した。この液
晶表示素子はガスバリア性不足による気泡の発生が有り
表示欠点は観察された。Using a 200 μm-thick polyether sulfone as a base material, lamination was performed using a laminating roll whose temperature was set to 120 ° C. with the bonding surface of the transfer film. After lamination, ultraviolet rays were irradiated from the transfer film surface using a high-pressure mercury lamp at 350 mJ / cm 2 to cure the ultraviolet curable resin composition. Thereafter, when the stretched polypropylene film was peeled off, sufficient adhesiveness was not obtained, and the gas barrier layer could only be partially transferred to the substrate side. The total light transmittance of this sheet was measured according to JIS K71.
It was 77% when measured by the method according to 05. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and display defects were observed.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明は、ガス・水蒸気バリア性の良好
なプラスチック表示素子用基板に最適な光学用高分子シ
ートを安価に生産性良く製造できるものであり、この方
法により製造されたプラスチック表示素子用基板を用い
た表示素子は、ガラス基板を用いた表示素子に劣らない
良好な表示性能を示した。本発明は、ガラス基板に比べ
て軽く割れにくい特徴を持つプラスチック表示素子用基
板のコストダウンに極めて有効である。According to the present invention, an optical polymer sheet optimal for a substrate for a plastic display element having good gas / water vapor barrier properties can be produced at low cost and with good productivity, and the plastic display produced by this method can be produced. The display element using the element substrate showed good display performance not inferior to the display element using the glass substrate. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is extremely effective for reducing the cost of a substrate for a plastic display element, which is lighter and harder to break than a glass substrate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B29K 81:00 B29K 81:00 B29L 9:00 B29L 9:00 Fターム(参考) 2H090 JB03 JD11 JD12 4F100 AA20 AH06C AK01C AK25 AK55A AR00B AR00C AR00D AT00A BA04 BA07 BA10A BA10D EC01 EH66 EJ54 GB41 JB13D JB14C JB14D JD02B JD04B JK20D JL11C JN01A 4F211 AA34 AD05 AD08 AD10 AG03 AH73 TA03 TC04 TD11 TH02 TH21 TN09 TN42 TN46 TQ03 4J040 DF051 DF052 EB061 EC061 EC071 EC361 ED111 EF181 GA05 GA29 HA136 HA306 HD30 HD35 HD36 HD37 KA16 KA42 LA07 MA10 NA06 NA07 PA30 PA32 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) // B29K 81:00 B29K 81:00 B29L 9:00 B29L 9:00 F Term (Reference) 2H090 JB03 JD11 JD12 4F100 AA20 AH06C AK01C AK25 AK55A AR00B AR00C AR00D AT00A BA04 BA07 BA10A BA10D EC01 EH66 EJ54 GB41 JB13D JB14C JB14D JD02B JD04B JK20D JL11C JN01A 4F211 AA34 AD05 AD08 AD10 AG03 AH73 TA03 TC04 TD11 TH02 TH21 TN09 TN42 TN46 TQ03 4J040 DF051 DF052 EB061 EC061 EC071 EC361 ED111 EF181 GA05 GA29 HA136 HA306 HD30 HD35 HD36 HD37 KA16 KA42 LA07 MA10 NA06 NA07 PA30 PA32
Claims (7)
リア層を有する高分子シートにおいて、厚さ0.1mm
以下の剥離用基材(b)上に保護層とガス・水蒸気バリ
ア層またはガス・水蒸気バリア層のみを形成した転写フ
ィルムを、少なくとも光硬化性樹脂とシランカップリン
グ剤を含む密着層を設けた基材(a)にラミネートする
ことによって成形することを特徴とする高分子シートの
製造方法。1. A polymer sheet having at least a substrate (a) and a gas / water vapor barrier layer, having a thickness of 0.1 mm
A transfer film in which a protective layer and a gas / steam barrier layer or only a gas / steam barrier layer were formed on the following peeling substrate (b) was provided with an adhesion layer containing at least a photocurable resin and a silane coupling agent. A method for producing a polymer sheet, which is formed by laminating a base material (a).
む透明高分子フィルムから成ることを特徴とした請求項
1記載の高分子シートの製造方法。2. The method for producing a polymer sheet according to claim 1, wherein the substrate (a) comprises a transparent polymer film containing polyether sulfone.
を主成分とする樹脂組成物である請求項1または2記載
の高分子シートの製造方法。3. The method for producing a polymer sheet according to claim 1, wherein the protective layer is a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component.
離することが可能であることを特徴とする請求項1〜3
のいずれか1項に記載の高分子シートの製造方法。4. The peelable substrate (b) can be peeled after lamination.
The method for producing a polymer sheet according to any one of the above items.
1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって得られ
た光学用高分子シート。5. An optical polymer sheet obtained by the production method according to claim 1, which has a total light transmittance of 80% or more.
いて作製した表示素子用基板。6. A display element substrate manufactured using the optical polymer sheet according to claim 5.
作製した表示素子。7. A display element manufactured using the display element substrate according to claim 6.
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