Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2002100664A - 基板処理方法および装置 - Google Patents

基板処理方法および装置

Info

Publication number
JP2002100664A
JP2002100664A JP2000290020A JP2000290020A JP2002100664A JP 2002100664 A JP2002100664 A JP 2002100664A JP 2000290020 A JP2000290020 A JP 2000290020A JP 2000290020 A JP2000290020 A JP 2000290020A JP 2002100664 A JP2002100664 A JP 2002100664A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
notch
alignment
orientation flat
boat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000290020A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Osaka
晃弘 大坂
Masasue Sugawara
正季 菅原
Koichi Noto
幸一 能戸
Tatsuhisa Matsunaga
建久 松永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Kokusai Electric Inc
Original Assignee
Hitachi Kokusai Electric Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Kokusai Electric Inc filed Critical Hitachi Kokusai Electric Inc
Priority to JP2000290020A priority Critical patent/JP2002100664A/ja
Priority to US09/956,820 priority patent/US6658321B2/en
Priority to KR1020010059443A priority patent/KR100729490B1/ko
Priority to TW090123575A priority patent/TWI277142B/zh
Publication of JP2002100664A publication Critical patent/JP2002100664A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板位置合せと基板搬送との並行処理を行う
ことによって基板移載機の待ち時間を減らし、基板処理
のスループットを向上する。 【解決手段】 基板移載機1は1台で構成し、ノッチ合
せ前の複数枚のウェハWを基板収納容器から基板位置合
せ装置22へ一度に搬送し、基板位置合せ装置22から
ノッチ合せ済みの複数枚のウェハをボート21へ搬送す
る。基板位置合せ装置22を構成する上下2段のノッチ
合せ4、5は独立運転し、基板移載機1が一度に搬送す
るウェハ枚数の倍の処理枚数のウェハのノッチ合せを合
計で行うことが可能である。一のノッチ合せ部4でウェ
ハのノッチ合せを行っている最中に、基板移載機1で他
のノッチ合せ部5からノッチ合せ済みのウェハWをボー
ト21へ搬送した後、他のノッチ合せ部5へ基板収納容
器からノッチ合せ前のウェハを搬送する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は基板処理方法および
装置に係り、特に縦型拡散・CVD装置における基板位
置合せ装置を改善して基板移載機の使用効率を向上する
のに好適なものに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の縦型拡散・CVD装置では、基板
収納容器であるポッド内のウェハをボートへ供給するに
際して、ポッド内に収納されたウェハのノッチが不揃い
なため、ノッチ合せ装置にてノッチを整列させ、この整
列したウェハをボートへ供給している。すなわち、ポッ
ド内のウェハはポッドオープナによりポッドの扉が開か
れた後、1台のウェハ移載機によって、ポッド内からノ
ッチ合せ装置に移載されれる。ノッチ合せが終了したウ
ェハは、ウェハ移載機でノッチ合せ装置からボートへ移
載される。この後、ボートを反応炉内へロードし、プロ
セス処理が行われる。
【0003】例えば、ポッド内のウェハは25枚単位で
入っており、ウェハ移載機は通常5枚単位でウェハを一
度に搬送できるようになっている。このため、ノッチ合
せ装置も、5枚単位でノッチ合せを行えるようになって
おり、5枚載置のノッチ合せ装置が一台だけユニットと
して縦型拡散・CVD装置へ組込まれている。このよう
な構成であるから、ポッドオープナからボートへのウェ
ハ移載の流れは、ウェハ5枚を一度にノッチ合せ装置へ
移載し、ノッチ合せ装置で5枚同時にノッチ合せを行
い、その後5枚のノッチ合せ済みウェハをボートへ移載
する。この動作を順次繰り返して、所定のウェハ枚数、
例えば100〜150枚をボートへ移載している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
基板処理装置においては、1台の基板移載機と、その移
載能力枚数と同じ枚数の基板位置合せ処理可能な基板位
置合せ装置とを使用し、基板移載機により基板位置合せ
装置へ基板を順次移載して位置合せ処理を行っていた。
このため位置合せ処理が終わるのを待ってから、次の基
板を基板位置合せ装置に移載して位置合せを行うという
直列処理となるため、基板移載機の待ち時間が多く、基
板処理のスループットが上がらなかった。
【0005】本発明の課題は、基板位置合せ装置の処理
量を上げることによって、上述した従来技術の問題点を
解消し、基板移載機の待機時間を減らして基板処理のス
ループットを向上できるようにした基板処理方法および
装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の基板の
処理方法は、ノッチまたはオリフラ合せ前の複数枚の基
板を一度に基板収納容器から基板位置合せ装置へ搬送
し、または基板位置合せ装置からノッチまたはオリフラ
合せ済みの複数枚の基板をボートへ搬送する1台の基板
移載機と、該1台の基板移載機が一度に搬送する基板枚
数の倍以上の枚数の基板のノッチまたはオリフラ合せを
行うことが可能な基板位置合せ装置とを備え、前記基板
位置合せ装置により一度に前記基板のノッチまたはオリ
フラ合せを行う基板枚数を、前記ノッチまたはオリフラ
合せを行うことが可能な枚数よりも少ない、前記1台の
基板移載機が一度に搬送する基板枚数分に設定し、この
ように一度に前記基板のノッチまたはオリフラ合せを行
う基板枚数を設定した前記基板位置合せ装置による前記
基板のノッチまたはオリフラ合せと、前記1台の基板移
載機による前記基板収納容器から前記基板位置合せ装置
への前記ノッチまたはオリフラ合せ前の基板の搬送、ま
たは前記基板位置合せ装置から前記ボートへのノッチま
たはオリフラ合せ済みの基板の搬送とを並行して行うよ
うにした基板処理方法である。
【0007】ここで搬送とは、移載、すなわち基板を或
る場所から他の場所へ移動させて載置する動作の他に、
基板を他の場所へ移すために必要な一連の動作の1つで
ある基板載置場所からの基板取出や、基板をただ単に他
の場所へ移動させる単なる搬送や、他の場所へ移動させ
た基板をそこに載置する動作等を含む広い意味である。
また並行とは、対象となる2つの並列動作が時間的に重
なる場合も、重ならない場合も含まれる広い意味であ
り、重なる場合は部分的に重なる場合も含まれる。
【0008】請求項1の基板処理方法は、図3に示すよ
うに3つの方法が含まれる。1つ目の方法は基板収納容
器から基板位置合せ装置へのノッチまたはオリフラ合せ
前の基板の搬送と、ノッチまたはオリフラ合せ動作とを
並行して行う方法(図3(a))、2つ目の方法は基板
位置合せ装置からボートへのノッチまたはオリフラ合せ
済みの基板の搬送と、ノッチまたはオリフラ合せとを並
行して行う方法(図3(b))、3つ目の方法は基板収
納容器から基板位置合せ装置への基板の搬送、および基
板位置合せ装置からボートへのノッチまたはオリフラ合
せ済みの基板の搬送と、ノッチまたはオリフラ合せとを
並行して行う方法(図3(c))である。
【0009】基板位置合せ装置に、1台の基板移載機が
一度に搬送する基板枚数の倍以上の枚数の基板のノッチ
またはオリフラ合せを行うことを可能とするために、基
板位置合せ装置のノッチまたはオリフラ合せを行う部分
は、互いに独立して動作する複数の部分で構成し、該複
数の部分で行うノッチまたはオリフラ合せの合計数が前
記基板のノッチまたはオリフラ合せを行うことが可能な
枚数となるようにする。あるいは基板位置合せ装置のノ
ッチまたはオリフラ合せを行う部分を単に増設するだけ
で対応してもよい。後者の場合、増設部分は増設前の部
分と従属動作になり、独立動作はできない。ここで独立
動作とは複数の部分を個々に運転しても、複数の部分は
互いに干渉しないことをいい、従属動作とは干渉される
ことをいう。したがって、独立動作では、複数の部分の
うちの一の部分が運転中であっても、他の部分に対して
基板の移載ができるが、従属動作の場合はそれができな
い。
【0010】本発明のように、基板位置合せ装置で一度
にノッチまたはオリフラ合せする基板枚数を、基板位置
合せ装置により、ノッチまたはオリフラ合せを行うこと
が可能な最大枚数(基板移載機が一度に搬送する基板枚
数の倍以上の枚数)よりも少ない枚数である、1台の基
板移載機が一度に搬送する基板枚数分に設定したので、
基板のノッチまたはオリフラ合せ中に基板位置合せ装置
に空きが生じ、その空きが生じた部分に、ノッチまたは
オリフラ合せ動作と干渉しない範囲でノッチまたはオリ
フラ合せ前の基板を搬送できる。したがって基板移載機
の待ち時間が減りノッチまたはオリフラ合せ枚数の所定
時間での位置合せ枚数を増加できる。その結果、基板移
載機の使用効率が向上し、基板処理のスループットが向
上する。
【0011】請求項2に記載の基板処理方法は、ノッチ
またはオリフラ合せ前の複数枚の基板を一度に基板収納
容器から基板位置合せ装置へ移載し、または基板位置合
せ装置からノッチまたはオリフラ合せ済みの複数枚の基
板をボートへ移載する1台の基板移載機と、該1台の基
板移載機が一度に搬送する基板枚数の倍以上の枚数の基
板のノッチまたはオリフラ合せを合計で行うことが可能
で独立運転する複数の基板位置合せ装置とを備え、前記
複数の基板位置合せ装置のうちの、一の基板位置合せ装
置にて前記基板のノッチまたはオリフラ合せを行うのと
並行して、前記1台の基板移載機により、他の基板位置
合せ装置へ前記基板収納容器からノッチまたはオリフラ
合せ前の基板を移載するか、または、他の基板位置合せ
装置から該他の基板位置合せ装置によるノッチまたはオ
リフラ合せ済みの基板を前記ボートへ移載するようにし
た基板処理方法である。
【0012】この基板処理方法も、図4に示すように3
つの方法が含まれる。1つ目の方法は一の基板位置合せ
装置にて基板のノッチまたはオリフラ合せを行うのと並
行して、他の基板位置合せ装置に対してノッチまたはオ
リフラ合せ前の基板を搬送する方法であり(図4
(a))、2つ目の方法は一の基板位置合せ装置にて基
板のノッチまたはオリフラ合せを行うのと並行して、他
の基板位置合せ装置よりノッチまたはオリフラ合せ済み
の基板を取り出してボートに対して搬送する方法であり
(図4(b))、3つ目の方法は一の基板位置合せ装置
にて基板のノッチまたはオリフラ合せを行うのと並行し
て、他の基板位置合せ装置よりノッチまたはオリフラ合
せ済みの基板を取り出してボートに搬送するとともに、
他の基板位置合せ装置に対してノッチまたはオリフラ合
せ前の基板を搬送する方法である(図4(c))。
【0013】独立運転する複数の基板位置合せ装置を備
えているので、一の基板位置合せ装置によるノッチまた
はオリフラ合せの終了を待つことなく、一の基板位置合
せ装置のノッチまたはオリフラ合せ中に、ノッチまたは
オリフラ合せを行っていない待機中の他の基板位置合せ
装置へノッチまたはオリフラ合せ前の基板を搬送するこ
とができる。また、一の基板位置合せ装置のノッチまた
はオリフラ合せ中に、他の基板位置合せ装置によるノッ
チまたはオリフラ合せ済みの基板を取り出してボートに
搬送することもできる。したがって、2台の基板位置合
せ装置へ交互に基板を移載し、ノッチまたはオリフラ合
せも交互に行ない、ノッチまたはオリフラ合せを終了し
た基板を交互に取り出し、ボートへ順次移載することが
できるので、基板処理のスループットが向上する。
【0014】請求項3に記載の基板処理方法は、図4
(c)に示すように、前記1台の基板移載機にて、前記
他の基板位置合せ装置から該他の基板位置合せ装置によ
るノッチまたはオリフラ合せ済みの基板を前記ボートへ
移載後、前記他の基板位置合せ装置へ前記基板収納容器
からノッチまたはオリフラ合せ前の基板を移載するよう
にした請求項2に記載の基板処理方法である。本発明に
よれば、ノッチまたはオリフラ合せ済みの基板をボート
へ移載するという処理サイクルの最終動作の後、処理サ
イクルの最初の動作であるノッチまたはオリフラ合せ前
基板の搬送に移るようにしたので、1台しかない基板移
載機の効率的な利用が可能となり、基板処理におけるス
ループットの向上を図ることができる。
【0015】請求項4に記載の基板処理装置は、複数枚
の基板を一度に基板収納容器から基板位置合せ装置へ、
または基板位置合せ装置からボートへ移載する1台の基
板移載機と、前記1台の基板移載機で搬送された複数枚
の基板のノッチまたはオリフラ合せを独立して行う複数
の基板位置合せ装置と、前記複数の基板位置合せ装置の
うち、一の基板位置合せ装置にて前記基板のノッチまた
はオリフラ合せを行うのと並行して、他の基板位置合せ
装置へノッチまたはオリフラ合せ前の基板を移載する
か、または他の基板位置合せ装置から該他の基板位置合
せ装置にてノッチまたはオリフラ合せ済みの基板を前記
ボートへ移載するように制御する制御手段とを備えたこ
とを特徴とする基板処理装置である。本発明によれば、
上記方法を簡単な構造によって適切に実施することがで
きる。
【0016】請求項5に記載の基板処理方法は、複数枚
の基板を一度に基板収納容器から基板位置合せ装置へ、
または基板位置合せ装置からボートへ搬送する1台の基
板移載機と、該1台の基板移載機が一度に搬送する基板
枚数の倍以上の枚数の基板のノッチまたはオリフラ合せ
を合計で行うことが可能で、従属運転する複数の領域を
有する基板位置合せ装置とを備え、前記複数の領域のう
ちの一の領域にて基板のノッチまたはオリフラ合せを行
うのと並行して、他の領域に対し前記1台の基板移載機
にて前記基板収納容器からノッチまたはオリフラ合せ前
の基板の搬送を行うか、または、前記他の領域から排出
した該他の領域にてノッチまたはオリフラ合せ済みの基
板を前記ボートへ搬送するようにした基板処理方法であ
る。
【0017】この基板処理方法も、図5に示すように3
つの方法が含まれる。1つ目の方法は1つの領域にて基
板のノッチまたはオリフラ合せを行うのと並行して、他
の領域に対してノッチまたはオリフラ合せ前の基板の搬
送を行う方法であり(図5(a))、2つ目の方法は1
つの領域にて基板のノッチまたはオリフラ合せを行うの
と並行して、他の領域より排出したノッチまたはオリフ
ラ合せ済みの基板をボートに搬送する方法であり(図5
(b))、3つ目の方法は1つの領域にて基板のノッチ
またはオリフラ合せを行うのと並行して、他の領域より
排出したノッチまたはオリフラ合せ済みの基板をボート
に搬送するとともに、他の領域に対してノッチまたはオ
リフラ合せ前の基板の搬送を行う方法である(図5
(c))。
【0018】本発明によれば、基板位置合せ装置が従属
運転する複数の領域を備えるので、複数の領域を使って
交互にノッチまたはオリフラ合せを行うようにすれば、
ノッチまたはオリフラ合せ済み基板を一の領域に残した
まま、空いている他の領域へ基板収納容器から予め取り
出しておいた次のノッチまたはオリフラ合せ前の基板を
載置できる。また、一の領域または他の領域でのノッチ
またはオリフラ合せ中に、ノッチまたはオリフラ合せ動
作と干渉しない、基板位置合せ装置より取り出した基板
のボートへの載置、基板収納容器からの基板の取出しの
2つの動作を行うことができる。したがって、基板移載
機の待機時間が低減し、基板処理におけるスループット
の向上を図ることができる。
【0019】請求項6に記載の基板処理方法は、図5
(c)に示すように、前記1台の基板移載機にて前記他
の領域から排出した該他の領域にてノッチまたはオリフ
ラ合せ済みの基板を前記ボートへ搬送後、前記他の領域
に対し前記基板収納容器からノッチまたはオリフラ合せ
前の基板の搬送を行うようにした請求項5に記載の基板
処理方法である。本発明によれば、ノッチまたはオリフ
ラ合せ済みの基板をボートへ移載するという処理サイク
ルの最終動作の後、処理サイクルの最初の動作であるノ
ッチまたはオリフラ合せ前基板の搬送に移るようにした
ので、1台しかない基板移載機の効率的な利用が可能と
なり、基板処理におけるスループットの向上を図ること
ができる。
【0020】請求項7に記載の基板処理方法は、前記1
台の基板移載機による前記他の領域に対する前記基板収
納容器からのノッチまたはオリフラ合せ前の基板の搬送
とは、前記基板収納容器からノッチまたはオリフラ合せ
前の基板を取出し、該取り出した基板を前記他の領域付
近へ搬送することであり、前記一の領域における基板の
ノッチまたはオリフラ合せ後に前記基板収納容器より取
り出し前記他の領域付近に搬送した基板を、前記他の領
域に載置するようにした請求項5または請求項6に記載
の基板処理方法である。
【0021】この基板処理方法は、図6に示すように2
つの方法が含まれる。1つ目の方法は一の領域にて基板
のノッチまたはオリフラ合せを行うのと並行して、他の
領域に対してノッチまたはオリフラ合せ前の基板の搬送
を行うに際し、この基板の搬送を基板収納容器からノッ
チまたはオリフラ合せ前の基板を取り出し、他の領域付
近へ搬送するまでの動作とし、その後、他の領域にノッ
チまたはオリフラ合せ前の基板を載置するタイミング
を、1つの領域における基板のノッチまたはオリフラ合
せ後とした方法である(図6(a))。2つ目の方法
は、一つの領域にて基板のノッチまたはオリフラ合せを
行うのと並行して、他の領域より排出したノッチまたは
オリフラ合せ済みの基板をボートへ移載後、他の領域に
対してノッチまたはオリフラ合せ前の基板の搬送を行う
に際し、この基板の搬送を基板収納容器からノッチまた
はオリフラ合せ前の基板を取り出し、他の領域付近へ搬
送するまでの動作とし、その後、他の領域にノッチまた
はオリフラ合せ前の基板を載置するタイミングを、一つ
の領域における基板のノッチまたはオリフラ合せ後とし
た方法である(図6(b))。
【0022】本発明によれば、前記一の領域における基
板のノッチまたはオリフラ合せ中に、基板収納容器から
予め取り出しておいたノッチまたはオリフラ合せ前基板
の前記他の領域への載置を、前記一の領域における基板
のノッチまたはオリフラ合せ後に行うので、前記一の領
域にノッチまたはオリフラ合せ済み基板を残したまま、
前記他の領域にノッチまたはオリフラ合せ前基板の載置
を行うことができる。したがって、一の領域に存在する
ノッチまたはオリフラ合せ済み基板を払い出してから他
の領域への基板載置を行う場合と比べて、他の領域にお
ける基板のノッチまたはオリフラ合せを速やかに行うこ
とができる。その結果、基板移載機をより効率的に利用
して基板処理におけるスループットの向上を図ることが
できる。
【0023】請求項8に記載の基板処理方法は、図7に
示すように、複数枚の基板を一度に基板収納容器から基
板位置合せ装置へ、または基板位置合せ装置からボート
へ移載する1台の基板移載機と、該1台の基板移載機が
一度に搬送する基板枚数の倍以上の枚数の基板のノッチ
またはオリフラ合せを合計で行うことが可能で、従属運
転する複数の領域を有する基板位置合せ装置とを備え、
前記1台の基板移載機にて前記基板収納容器からノッチ
またはオリフラ合せ前の基板を取り出して、該取り出し
た基板を前記基板位置合せ装置の複数の領域のうちの一
の領域に載置し、該基板位置合せ装置の一の領域にて前
記基板のノッチまたはオリフラ合せを行い、前記一の領
域におけるノッチまたはオリフラ合せ中に、前記1台の
基板移載機にて前記基板収納容器から次のノッチまたは
オリフラ合せ前の基板を取り出し、前記一の領域におけ
る基板のノッチまたはオリフラ合せ終了後に、前記取り
出した次のノッチまたはオリフラ合せ前の基板を前記他
の領域に載置し、前記他の領域に載置後、前記の一の領
域におけるノッチまたはオリフラ合せ済みの基板を前記
一の領域から取り出し、前記一の領域から取り出し後、
前記他の領域にて前記基板のノッチまたはオリフラ合せ
を行い、前記他の領域におけるノッチまたはオリフラ合
せ中に、前記一の領域から取り出した基板をボートに搬
送するようにした基板処理方法である。
【0024】ここで、基板移載機により基板収納容器か
ら基板を取り出しておくタイミングは、ノッチまたはオ
リフラ合せ中である。一の領域のノッチまたはオリフラ
合せ中に、基板収納容器から次のノッチまたはオリフラ
合せ前の基板を取り出し、一の領域でのノッチまたはオ
リフラ合せ終了後に、取り出した次のノッチまたはオリ
フラ合せ前の基板を他の領域に載置し、他の領域に載置
後、一の領域でのノッチまたはオリフラ合せ済みの基板
を一の領域から取り出し、一の領域から取り出し後、他
の領域でノッチまたはオリフラ合せを行い、他の領域で
のノッチまたはオリフラ合せ中に、一の領域から取り出
した基板をボートに載置するようにしたので、基板位置
合せ装置の一の領域と他の領域とが従属運転するもので
あっても、基板移載機の待機時間が低減し、基板移載機
を効率的に利用して基板処理におけるスループットの向
上を図ることができる。
【0025】請求項9に記載の基板処理装置は、複数枚
の基板を一度に基板収納容器から基板位置合せ装置へ、
または基板位置合せ装置からボートへ搬送する1台の基
板移載機と、前記1台の基板移載機で搬送された複数枚
の基板のノッチまたはオリフラ合せを行う複数の領域を
有する基板位置合せ装置と、前記複数の領域のうちの一
の領域にて基板のノッチまたはオリフラ合せを行うのと
並行して、前記1台の基板移載機にて他の領域に対し前
記基板収納容器からノッチまたはオリフラ合せ前の基板
の搬送を行うか、または、前記他の領域から排出した該
他の領域におけるノッチまたはオリフラ合せ済みの基板
を前記ボートへ搬送するように制御する制御手段とを備
えたことを特徴とする基板処理装置である。本発明によ
れば、上記方法を簡単な構造によって適切に実施するこ
とができる。
【0026】
【発明内容の具体的説明】実施の形態の説明の前に、明
確化のため、装置の動作説明をした図8を用いて、この
発明の基板処理方法の具体例を従来例との比較において
説明する。図8において横軸は時間である。図8(A)
は2台の基板位置合せ装置を備えて基板移載機の搬送枚
数の2倍のノッチまたはオリフラ合せ能力を有する具体
例1を示す。図8(B)は移載機搬送枚数と同じ処理枚
数のノッチまたはオリフラ合せ能力しかない1台の基板
位置合せ装置を備えた従来例を示す。図8(C)は台数
は1台であるが、ノッチまたはオリフラ合せ能力が2倍
の基板位置合せ装置を備えた具体例2を示す。
【0027】図8(A)〜(C)において、(a)は上
下2台の基板位置合せ装置の状況を示し、上下2台の基
板位置合せ装置内に入る矢印は基板の載置、基板位置合
せ装置外へ出る矢印は基板の取り出しをそれぞれ意味す
る。「中」はノッチまたはオリフラ合せ中を意味する。
(b)は上段の基板位置合せ装置の動作を示し、「取
出」は基板収納容器からの基板の取出し、「上載」は上
段の基板位置合せ装置への基板載置、「上取出」は上段
の基板位置合せ装置からの基板の取出し、「ボート載」
は取り出した基板のボートへの載置をそれぞれ意味す
る。(c)は下段の基板位置合せ装置の動作を示し、
「下載」は下段の基板位置合せ装置への基板載置、「下
取出」は下段の基板位置合せ装置からの基板取出しをそ
れぞれ意味する。(d)は移載機の稼働状況を示し、ハ
ッチング部分は運転中を、非ハッチング部分は待機中を
それぞれ意味する。なお図8(B)の(bc)は、従来
の基板位置合せ装置の動作を示している。
【0028】基板移載機を使って基板を搬送するには、
基板移載機が1台しかないため、搬送手順は、次の
(1)〜(4)の動作手順とするのが最も効率的にな
る。
【0029】(1)基板位置合せ装置からのオリフラま
たはノッチ合せ済み基板の取り出し 基板位置合せ装置からオリフラまたはノッチ合せ済みの
基板を取り出さないと、次のオリフラまたはノッチ合せ
前の基板を基板位置合せ装置に載置できない。
【0030】(2)オリフラまたはノッチ合せ済み基板
のボートへの載置 基板位置合せ装置から取り出したオリフラまたはノッチ
合せ済み基板を基板移載機に搭載したままだと、基板移
載機に新たに基板を搭載できないため、次のオリフラま
たはノッチ合せ前基板の搬送ができない。これをできる
ようにするためには、基板位置合せ装置から取り出した
オリフラまたはノッチ合せ済み基板をボートへ載置する
必要がある。
【0031】(3)基板収納容器からのオリフラまたは
ノッチ合せ前基板の取り出し 基板移載機が空いたら、次のオリフラまたはノッチ合せ
前基板を準備する。
【0032】(4)取り出したオリフラまたはノッチ合
せ前基板の位置合せ装置への載置 基板収納容器からオリフラまたはノッチ合せ前基板を取
り出したら、次の搬送に備えるために、基板移載機に搭
載している取り出し基板を基板位置合せ装置に載置して
しまうのがよい。
【0033】上記動作(1)〜(4)のうち、基板位置
合せ装置がオリフラまたはノッチ合せ中のときに干渉が
起きるのは(1)、(4)であり、基板位置合せ装置と
干渉しないのは動作(2)、(3)である。
【0034】ところで、基板位置合せ装置により一度に
ノッチまたはオリフラ合せを行うことが可能な基板枚数
を、1台の基板移載機が一度に搬送する基板枚数の倍以
上の枚数となるように処理能力を上げても、基板位置合
せ装置で一度にノッチまたはオリフラ合せを行う基板枚
数を、基板位置合せ装置能力限界である前記可能枚数に
設定してしまうと、基板位置合せ装置によりノッチまた
はオリフラ合せを行った後、ノッチまたはオリフラ合せ
済みの基板を基板位置合せ装置から数回にわたって取り
出さなければ、次のノッチまたはオリフラ合せ前の基板
を基板位置合せ装置へ載置できないことになる。このた
め基板の位置合せ装置を2台用意しても並行運転ができ
なくなる。
【0035】図8(A)に示すように、1台の基板移載
機が一度に搬送する基板枚数の2倍のノッチまたはオリ
フラ合せすることができるように、2台の基板位置合せ
装置を備えた具体例1では、上段の基板位置合せ装置ま
たは下段の基板位置合せ装置がオリフラ合せ中でも、こ
れらは互いに干渉しないので、前記(1)〜(4)のい
ずれの動作を行うことができる。その結果、基板移載機
の待機時間が低減し、基板移載機を効率的に利用して基
板処理におけるスループットの向上を図ることができ
る。
【0036】図8(B)に示すように、移載機の搬送枚
数と同じ枚数の位置合せ能力しか持たない従来例では、
並行処理ではなく直列処理なので、(1)から(4)の
動作を全て経た後でなければ、ノッチまたはオリフラ合
せができない。その結果、スループットの向上が図れな
い。
【0037】図8(C)に示すように、2倍の能力を従
属的に有する基板位置合せ装置を1台用意した具体例2
では、ノッチまたはオリフラ合せ済み基板を一の段に残
置したまま、他の段にノッチまたはオリフラ合せ前基板
を載置できるので、上下段でのノッチまたはオリフラ合
せの合間で、(4)の載置動作と(1)の取り出し動作
を行い、ノッチまたはオリフラ合せ中に(2)のボート
載置動作と(3)の取り出し動作とを行うことができ
る。このため、2回目以降のノッチ合せのタイミングを
従来例よりも早めに設定できる。これに合せて基板移載
機の稼働効率も従来例よりも向上する。
【0038】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を説明
する。実施の形態では、基板の位置合せマークがノッチ
の場合について説明しているが、オリフラでもよい。さ
らに、ノッチを一括検出するウェハ枚数は5枚としてい
るが、5枚に限定されず、複数枚であれば、何枚でもよ
い。
【0039】図1に、実施形態の基板位置合せ装置を有
する縦型拡散・CVD装置の外観図を、図2に図1の平
面図をそれぞれ示す。
【0040】図1に示すように、縦型拡散・CVD装置
は略直方体のハウジング20を備える。ハウジング20
内には、ヒータ加熱してウェハWに成膜処理する反応炉
6と、多数枚のウェハWを多段に収容して処理するため
に反応炉6内に挿入されるボート21と、ボート21を
交換するボート交換装置7と、反応炉6に対してボート
21を挿入及び抜き出すためにボート21を昇降するボ
ートエレベータ11と、複数枚のウェハWをボート21
に挿入する前に一括してノッチ合せを行う基板位置合せ
装置22と、処理前の複数枚のウェハWを一括して基板
収納容器(図示せず)から基板位置合せ装置22へ移載
し、基板位置合せ装置22からノッチ合せ済みの複数枚
のウェハWをボート21へ一括して移載するための1台
の基板移載機1と、この基板移載機1を昇降する移載機
エレベータ2とが設けられる。
【0041】前記基板位置合せ装置22は、上下に段積
みされた2台のノッチ合せ部4、5から構成され、上段
のノッチ合せ部4と下段のノッチ合せ部5とで、基板移
載機1が一度に搬送するウェハ枚数の倍以上、ここでは
2倍のウェハの位置合せを合計して行うことが可能にな
っている。
【0042】図2に示すように、ボート21は、ボート
交換装置7の旋回アーム7a、7bにより円弧状に軌跡
を描いて移動され、3つの位置を取り得る。円弧の中央
は反応炉6内にボート21を挿入し、反応炉6内からボ
ート21を抜き出すボートロード/アンロード位置B、
円弧左端は基板移載機1によるボート21へのウェハ移
載位置A、反対側の円弧右端はボート退避位置Cであ
る。ボート21が載置されるボートエレベータ11の昇
降台11a上に示した円形のボート用シールキャップ1
1bは、ボート21の下部に設けられ、ボート21が反
応炉6内に挿入されたとき、反応炉6の下部開口を気密
に封止する。
【0043】また、ハウジング20の左側であって基板
移載機1の近傍にポッドオープナ13が設けられ、基板
収納容器としてのポッド17の蓋を開閉し、ポッド内に
収納されたウェハWを取り出せるようになっている。
【0044】さらに、移載機エレベータ2の昇降台2a
に取り付けられた基板移載機1は、ボートロード/アン
ロード位置Bの一側(図2では左側)に配置され、一度
に複数枚、例えば5枚のウェハWを移載できるようにな
っている。基板移載機1は、ポッドからノッチ合せ前の
ウェハWを5枚一括で取り出しハウジング20の左上コ
ーナにあるノッチ合せ部4または5に搬送して載置し、
ノッチ合せ部4、5からノッチ合せ済みのウェハWを5
枚一括で取り出して、ウェハ移載位置Aにあるボート2
1に搬送して載置する。ポッドからウェハWを取り出し
てノッチ合せ部4、5に搬送して載置する操作が移載で
ある。また、ノッチ合せ部4、5からウェハWを取り出
してボート21に搬送して載置する操作も移載である。
【0045】ここでボート交換装置7はつぎのように機
能する。予め空の2個のボート21、21をA、Cの位
置にそれぞれ置く。A位置にあるボート21に、ポッド
17より取り出し、基板位置合せ装置22によりノッチ
合せを行ったウェハWを移載してボート21を満たす。
A位置にあるノッチ合せ済みのウェハWで満ちたボート
21を旋回アーム7aによりB位置にもってきて、上昇
して反応炉6内にロードして所定の処理を行う。反応炉
6で処理している間、C位置にある空のボート21を旋
回アーム7bによりA位置にもってきて、別なノッチ合
せ前のウェハWをポッドから取り出し、基板位置合せ装
置22によりノッチ合せを行い、ボート21に移載して
ボート21を満たす。
【0046】(a)反応炉6でのボート21の処理が終
了したら、そのボート21をアンロードし、B位置に下
降した後、旋回アーム7bにより退避位置Cにもってき
てクリーンエア送出部16で冷却する。
【0047】(b)冷却している間、A位置にあるノッ
チ合せ済みのウェハWで満ちたボート21を旋回アーム
7aによりB位置に移し、Bの位置から上昇して反応炉
6内にロードして、処理する。
【0048】(c)反応炉6で処理している間、C位置
で冷却されたボート21を旋回アーム7bによりA位置
にもってきて、A位置で処理済みウェハWを取り出し、
ポッドに戻す。
【0049】(d)処理済みウェハWを取り出して空に
なったボート21に新規にポッドより取り出し、基板位
置合せ装置22によりノッチ合せを行ったウェハWを移
載してボート21を満たす。
【0050】以下、(a)〜(d)の操作を繰り返す。
【0051】なお、ハウジング20内のボート交換装置
7の背後に、クリーンエア送出部15、16を両側に有
する薄型クリーンユニット8が設けられる。また、ハウ
ジング20内のノッチ合せ部4、5と斜めに対向するコ
ーナには排気用ファン9、10が設けられる。また、ボ
ートエレベータ11の上にエレベータ駆動源となる駆動
用モータ12が設けられ、移載機エレベータ2の上にも
エレベータの駆動源となる駆動用モータ3が設けられ
る。
【0052】次に前記基板位置合せ装置22について説
明する。実施の形態では、基板位置合せ装置22には、
上下のノッチ合せ部が互いに独立運転するタイプ1と、
従属運転するタイプ2との2種類がある。
【0053】図13にタイプ1の基板位置合せ装置の外
観図を示す。タイプ1は複数枚のウェハのノッチ合せを
一括して行う2台の縦型ノッチ合せ装置30A、30B
(2台のノッチ合せ部4、5に対応)から構成される。
一方のノッチ合せ装置30A(30B)にてウェハWの
ノッチ合せを行っている最中に、他方のノッチ合せ装置
30B(30A)にウェハWを移載したり、他方のノッ
チ合せ装置30B(30A)よりノッチ合せ済みウェハ
Wを取出しボートへ移載したりする機能を有する。
【0054】同一構造の2台のノッチ合せ装置30A、
30Bが上下2段に配置してあり、上下2段の各ノッチ
合せ装置30A、30Bは、個別にノッチ合せを5枚一
括して行うことが可能である。ここでは、2台のノッチ
合せ装置30A、30Bを同時に使用せず、交互に使用
する。ノッチ合せ動作は次の通りである。上段(下段で
もよい)の基板位置合せ装置30Aに5枚のウェハWを
搬送し、各ターンテーブル307上に載置する。各ター
ンテーブル307を独立に回転させ、光学センサ311
によりノッチを検出し、ノッチを所定の位置に合せる
(なお、この間に下段のノッチ合せ装置30Bに5枚の
ウェハWを移載しておく)。5枚全てのターンテーブル
307でのノッチ合せが終了したら、基板移載機1によ
りウェハWを上段のノッチ合せ装置30Aから5枚一括
で取り出してボート21に搬送する(なお、この動作は
下段のノッチ合せ装置30Bでのウェハのノッチ合せ動
作中に行う)。下段のノッチ合せ装置30Bに対しても
上段と同様の操作を行って、5枚のノッチ合せを行い、
ノッチ合せ済みウェハWをボート21に移載する。
【0055】本装置の構成及び動作の詳細は後述する
が、このタイプ1の特徴は、2台のノッチ合せ装置30
A、30Bが独立して設けられているため、一のノッチ
合せ装置30A(30B)がノッチ合せ中でも、他のノ
ッチ合せ装置30B(30A)に対してポッドからのウ
ェハ移載が可能であり、また他のノッチ合せ装置30B
(30A)からボート21への移載が可能なことであ
る。
【0056】図15にタイプ2の基板位置合せ装置の外
観図を示す。タイプ2は、複数枚のウェハのノッチ合せ
を一括して行う2つの領域40A、40B(2台のノッ
チ合せ部4、5に対応)を有する1台のノッチ合せ装置
40で構成される。一方の領域40Aにてウェハのノッ
チ合せを行うのと並行して、他方の領域40Bに対して
ウェハの搬送動作を行い、一方の領域40Aでのノッチ
合せ終了後、他方の領域40Bにウェハを移載し、一方
の領域40Aよりノッチ合せ済みのウェハを取出し、そ
の後、他方の領域40Bにてウェハのノッチ合せを行う
のと並行して、取り出したノッチ合せ済みのウェハWを
ボート21へ移載する。
【0057】ノッチ合せ装置40は、1台の装置で、基
板移載機1が一度に搬送するウェハ枚数の2倍のウェハ
Wのノッチ合せを一括して行うことが可能になってい
る。本装置40は、1個のモータ106で支持ポール1
05を廻して、それに支持されたウェハ104を回転し
ており、ノッチ合せは1枚ずつ順次行う方式である。ウ
ェハWは支持ポール105で支持して回転させ、ノッチ
合せが完了したら、すくい上げポール110ですくい上
げてノッチ合せ済みウェハWを退避させ、これを最下段
のウェハWから順に1枚ずつ行っていき、5枚のノッチ
合せを行う。支持ポール105、すくい上げポール11
0は10枚のウェハWに対応できるように構成してあ
る。使用するに当たって、ノッチ合せを行う部分を上下
2つの領域40A、40Bに分け、2つの領域40A、
40Bを同時に使用せず、交互に使用する。2つの領域
40A、40Bは、個別にノッチ合せを一枚ずつ順に行
うようになっている。まず上段(下段でもよい)の領域
40Aに基板移載機11により5枚のウェハWを搬送
し、各支持ポール105上に載置する。各支持ポール1
05を独立に回転させ、光学センサ116によりノッチ
を検出し、ノッチを所定の位置に合せる。なお、この間
に基板移載機11により下段の領域40Bに対して5枚
のウェハの搬送動作を行う。5枚全ての支持ポール10
5でのノッチ合せが終了したら、下段の領域40Bの各
支持ポール105に5枚のウェハを載置する。その後基
板移載機1によりウェハWを上段の領域40Aから5枚
一括で取り出してボート21に搬送して載置する。この
動作と並行して、下段の領域40BにてウェハWのノッ
チ合せを行う。下段の領域40Bに対しても上段領域4
0Aと同様の操作を行って、新たに5枚のノッチ合せを
行い、ノッチ合せ済みウェハWをボート21に移載す
る。
【0058】本装置の構成及び動作の詳細も後述する
が、このタイプ2の特徴は、1台のノッチ合せ装置40
で構成されているため、一の領域40Aでノッチ合せ中
は、他の領域40Bに対するウェハ移載ができないが、
タイプ1に比べ、組み立てやすさや、ティーチングの容
易さ等の点で有利である。ティーチングの容易さについ
ては、タイプ1はウェハWを1枚ずつターンテーブル3
07にて支持する構造であり、ウェハ支持状態の目視確
認が困難であるのに対し、タイプ2はウェハWを支持ポ
ール105にて支持する構造であり、ウェハ下部が開放
されているため、ウェハ支持状態の目視確認が容易であ
り、ティーチングも比較的容易に行うことができる。
【0059】なお、図20において、制御回路50は、
演算部やメモリを備えた演算処理装置から構成され、デ
ィスプレイ51およびキーボード52が接続されるとと
もに、各要素や基板移載機1との間で通信可能となって
おり、キーボード52により与えられるデータ等に基づ
き、演算等の処理を行い、基板移載機1、反応炉ヒータ
53、基板位置合せ装置22、移載機用エレベータ2、
ボートエレベータ11、ボート交換装置7、薄型クリー
ンユニット8、排気用ファン9、10、ポッドオープナ
13等の動作を制御する。
【0060】つぎに上述したタイプ1、2のそれぞれの
基板位置合せ装置を用いた場合の、ノッチ合せと並行し
て行われる基板移載機の動作タイミングを説明する。
【0061】図9にタイプ1の基板位置合せ装置を使用
する場合のノッチ合せとウェハ移載の動作を示す。図9
において、上のライン(a)は上段の位置合せ装置の稼
働状況および上段の位置合せ装置に対する基板移載機の
動作内容を、中のライン(b)は下段の位置合せ装置の
稼働状況および下段の位置合せ装置に対する基板移載機
の動作内容を、そして下のライン(c)は基板移載機の
動作タイミングのみを取り出した稼働状況をそれぞれ示
す。
【0062】図中、「上段へ移載」、「下段へ移載」と
は、それぞれ「基板移載機によりポッドからノッチ合せ
前のウェハを取出して上段のノッチ合せ装置へ搬送し、
載置するまでの動作」、「基板移載機によりポッドから
ノッチ合せ前のウェハを取出して下段のノッチ合せ装置
へ搬送し、載置するまでの動作」を意味する。また、
「ボートへ移載」は、「ノッチ合せ装置からノッチ合せ
済みのウェハを取出してボートへ搬送し、載置するまで
の動作」を意味する。これらの意味は図10〜図12に
おいても同じである。
【0063】まず、ポッドオープナ13により蓋が開け
られたポッドから、基板移載機1によって最初の5枚の
ウェハWを水平置き状態で一括して取り出し、上段のノ
ッチ合せ装置30Aへ搬送し、載置する。ここでノッチ
合せを行う。この上段でのノッチ合せ中にポッドオープ
ナ13により蓋が開けられたポッドから次のウェハ5枚
を基板移載機1により一括して取り出し、下段のノッチ
合せ装置30BへウェハWを搬送し、載置する。
【0064】この後、上段のノッチ合せ装置30Aでの
最初のノッチ合せが終了したら、下段のノッチ合せ装置
30Bにてノッチ合せを行う(なお、下段のノッチ合せ
装置30Bによるノッチ合せは、上段のノッチ合せ装置
によるノッチ合せが終了する前に行うこともできる。例
えば、下段のノッチ合せ装置30Bへのウェハ移載後、
すぐに行うこともできる。)。この下段でのノッチ合せ
中に、上段でノッチ合せの終了したノッチ合せ終了済み
のウェハWを基板移載機1でボート21へ移載する。移
載後、ポッドからノッチ合せ前のつぎのウェハ5枚を基
板移載機1により取り出し上段のノッチ合せ装置30A
に移載する。これらウェハWのボートへの移載及び上段
への移載は、下段のノッチ合せ装置30Bによるノッチ
合せ中に行う。同様にして上段、下段でのノッチ合せを
交互に行いながら、これらのノッチ合せと並行して基板
移載機1によるボート21への移載、及びノッチ合せ装
置30A、30Bへの移載を行う。
【0065】図11に示す従来の動作のように位置合せ
処理が終わるのを待って、次のウェハを移載するという
直列処理ではなく、2台のノッチ合せ装置30A、30
Bを使って位置合せ処理が終わるのを待たない並列処理
を行っているので、基板位置合せ装置の位置合せ処理能
力枚数が増加して、移載機の待機時間が減少し、基板処
理のスループットが向上する。所定時間経過時点で、ノ
ッチ合せ済みのウェハWのボート21への移載枚数が1
5枚であった従来のものに比べると、タイプ1のもので
は、25枚と70%近く基板処理のスループットをアッ
プすることができる。
【0066】図10にタイプ2の基板位置合せ装置を使
用する場合のノッチ合せとウェハ移載の動作を示す。図
10において、上のライン(a)は基板位置合せ装置の
上段の領域の稼働状況および上段の領域に対する基板移
載機の動作内容を、中のライン(b)は基板位置合せ装
置の下段の領域の稼働状況および下段の領域に対する基
板移載機の動作内容を、そして下のライン(c)は基板
移載機の動作タイミングのみを取り出した稼働状況をそ
れぞれ示す。
【0067】なお、図中、ノッチ合せ前の「基板取り出
し」とは、「基板移載機によりポッドからノッチ合せ前
のウェハを取り出してノッチ合せ領域付近まで搬送する
動作」のことを意味し、ノッチ合せ後の「基板取り出
し」とは、「基板移載機によりノッチ合せ領域から、ノ
ッチ合せ済みのウェハを取り出す動作」のことを意味す
る。また「ボートへ載置」とは、「基板移載機によりノ
ッチ合せ領域より取り出したノッチ合せ済みのウェハを
ボートへ搬送し、載置する動作」のことを意味する。
【0068】まず、ポッドオープナ13により蓋が開け
られたポッドから、基板移載機1によって最初の5枚の
ウェハWを水平置き状態で一括して取り出し、上段の領
域40Aへ搬送し、載置する。ここでノッチ合せを行
う。この上段でのノッチ合せ中にポッドオープナ13に
より蓋が開けられたポッドから次のウェハ5枚を基板移
載機1により一括して取り出し下段の領域40B付近ま
で搬送し、上段の領域40AでのウェハWのノッチ合せ
が終了するまで待機する。
【0069】上段の領域40Aでの最初のノッチ合せが
終了した後、下段の領域40B付近で待機していた基板
移載機1により下段の領域40Bへノッチ合せ前のウェ
ハWを載置する。この載置後、上段の領域40Aでノッ
チ合せの終了したノッチ合せ終了済みのウェハWを基板
移載機1で上段の領域40Aから取り出す。取り出し
後、下段の領域40Bにてノッチ合せを行う。
【0070】この下段でのノッチ合せ中に、基板移載機
1により上段の領域40Aから取り出したノッチ合せ終
了済みのウェハWをボート21へ搬送して載置する。載
置後、ポッドからノッチ合せ前のつぎのウェハ5枚を基
板移載機1により一括して取り出し上段の領域40A付
近まで搬送し、下段の領域40BでのウェハWのノッチ
合せが終了するまで待機する。
【0071】下段の領域40Bでのノッチ合せが終了し
た後、上段の領域40A付近で待機していた基板移載機
1により次のノッチ合せ前のウェハWを上段の領域40
Aに載置する。この載置後、下段の領域40Bでノッチ
合せの終了したノッチ合せ終了済みのウェハWを基板移
載機1で下段の領域40Bから取り出す。
【0072】以降は同様にして上段領域40Aでのノッ
チ合せと、下段領域40Bでのノッチ合せと交互に行い
ながら、これらのノッチ合せ中に、ノッチ合せ済みウェ
ハWのボート21への搬送、載置、及びノッチ合せ前の
ウェハWのポッドからの取り出し、ノッチ合せ領域付近
までの搬送を行い、また上段領域40Aのノッチ合せと
下段領域40Bのノッチ合せとの合間、すなわちノッチ
合せを行っていない期間に、ノッチ合せ前のウェハWの
ノッチ合せ領域への載置、及びノッチ合せ後のウェハW
のノッチ合せ領域からの取り出しを行う。このようにす
ると、タイプ1のものよりは基板移載機1の稼働率は落
ちるが、図11に示す従来のものと比べると、基板移載
機の待ち時間は減るので、ノッチ合せ装置の位置合せ処
理能力枚数が増加して、基板処理のスループットが向上
する。前記所定時間経過時点で、ノッチ合せ済みのウェ
ハWのボート21への移載枚数が15枚であった従来の
ものに比べると、20枚と40%近く基板処理のスルー
プットがアップする。
【0073】なお、タイプ1の実施の形態では、一方の
ノッチ合せの終了を待ってから、他方のノッチ合せを行
うようにしたが、タイプ1のものは、上段のノッチ合せ
装置30Aと下段のノッチ合せ装置30Bは独立して動
作させることができるので、図12に示すように、一方
のノッチ合せの終了を待たずに、他方のノッチ合せを行
うように、ノッチ合せのタイミングを前倒ししてもよ
い。この実施の形態は、2台のノッチ合せ装置によるノ
ッチ合せ動作が一部で重なるので、動作が重ならない図
9のものに比して、ノッチ合せ装置に対する制御回路5
0による位置合せ制御が若干難しくなる。
【0074】次に、上述したタイプ1とタイプ2とのノ
ッチ合せ装置の構成及び動作を具体的に説明する。
【0075】タイプ1の構成及び動作(図13〜図1
4) タイプ1の基板位置合せ装置において、上段のノッチ合
せ装置30Aと下段のノッチ合せ装置30Bの構成は同
じであるから、上段の構成について説明する。これは、
5枚のウェハのノッチをウェハにほとんど接触せずに、
ウェハの枚数に応じた5個のモータを用意して、5枚一
括で検出することが可能な基板位置合せ装置である。
【0076】図13に示すように、上段のノッチ合せ装
置30Aは、5段の棚301〜305をもつ直方形の箱
体300を備え、箱体300の前面2面が開放されて開
架式となっている。5つの棚301〜305の上面に
は、回転中心を一致させたターンテーブル307がそれ
ぞれ取り付けられている。各ターンテーブル307は独
立して回転駆動できるようになっており、その駆動機構
にはタイミングベルト308とモータ309が使用され
ている。各棚301〜305の前面コーナ部がカットさ
れ、そこがウェハ104の投入・取出口となる。
【0077】各ターンテーブル307の表面の外周部に
は、ウェハの外周部を支持できるように3つの支持ピン
310が、ほぼ120°間隔に分散配置されて取り付け
られている。また、ウェハ投入口と反対側の各棚301
〜305の奥にコ字形をした光学センサ311が取り付
けられ、支持ピン310に支持された5枚のウェハの外
周部を光学センサ311のコ字形内に挿入して、各ウェ
ハのノッチをそれぞれ検出できるようになっている。
【0078】ターンテーブル307の径はこれに載置さ
れるウェハ104の径よりも若干小さく、支持ピン31
0がターンテーブル307の外周部から径方向外方に飛
出してウェハ104の外周部104bをターンテーブル
307の外周部の外側にはみ出すように支持することに
よって、ターンテーブル307と光学センサ311は干
渉しないようになっているので、ウェハ104を制約な
しに回転でき、ノッチ位置合せを容易かつ高速に行うこ
とができる。
【0079】5段積みのターンテーブル307の外周に
昇降自在に設けられた3本のすくい上げポール321が
立設されている。その立設方向はターンテーブル307
の回転軸と平行になっている。すくい上げポール321
には、長さ方向に一定ピッチでウェハの外周部を支持し
てウェハをすくい上げるすくい上げ支持ピン322が回
転中心に向かって腕状に突設されている。図13では、
すくい上げ支持ピン322はターンテーブル307に設
けた支持ピン310と重なる場合を描いてある。なお、
支持ピン310も、すくい上げ支持ピン322も、ウェ
ハをテーパ面で支持するように構成されている。
【0080】3本のすくい上げポール321は、各棚3
01〜305を貫通して、最下段の棚305の下と下板
306との間に形成される空間に設けられたベース32
3に一体的に取り付けられる。ベース323はエアシリ
ンダ324によって昇降移動するようになっている。す
くい上げポール321は、昇降するだけで回転も進退も
しない。このすくい上げポール321の上昇により、す
くい上げ支持ピン322が基板外周部に係止して基板支
持ピン310からウェハをすくい上げるようになってい
る。すくい上げられたウェハはすくい上げポール321
の下降により基板支持ピン310に戻されるようになっ
ている。
【0081】次に上述した構成をもつ5枚一括基板位置
合せ装置の動作手順を図14のフローを用いて説明す
る。
【0082】5枚一括基板移載機1でノッチ合せ装置3
0Aに5枚のウェハを投入し、各ターンテーブル307
の支持ピン310に載置する(ステップ401、40
2)。各ターンテーブル307を独立に回転させ、各光
学センサ311によりノッチを検出し(ステップ40
3)、ノッチを所定の位置に合せる(ステップ40
4)。5段全てのターンテーブル307のノッチ合せが
終了したら、基板移載機1によりウェハを基板位置合せ
装置から搬出する。
【0083】ノッチ位置に支持ピン310が重なってし
まうと、支持ピン310が光学センサ311の光路を塞
いでしまうのでノッチ位置が検出できなくなる。また、
ノッチ合せのためにターンテーブル307を回転させた
ために、支持ピン310の位置がずれて、支持ピン31
0が基板移載機1のツィーザの進入位置に来て進入の障
害になることがある。支持ピン310が光学センサ31
1の光路を塞いでしまう場合には、すくい上げポール3
21で一旦ウェハをすくい上げて退避させ、その間ター
ンテーブル307のみをずらし、ずらしたターンテーブ
ル307に再度ウェハを載置することにより、支持ピン
310との重なりを防ぐ。また、位置合せ後に支持ピン
310がツィーザの進入の障害になる場合も考慮し、同
様にノッチ合せ後、ウェハを一旦すくい上げて退避さ
せ、ターンテーブル307のみをずらし、ツィーザの進
入路を解放する。
【0084】このようにタイプ1は、ターンテーブル3
07に設けた支持ピン310でウェハの外周部を支持
し、ウェハを回転させ、ウェハのノッチを非接触で検出
し、整列させるものである。また、ターンテーブル30
7を回転させるモータ309は、ターンテーブル307
毎に設けられ、それぞれ独立して動作するので、ノッチ
位置が不揃いでもその整列のために他のウェハに拘束さ
れることなく、個別的に対応できる。したがって、回転
に制約がなく、一括整列のため、ノッチ位置検出速度が
非常に速い。
【0085】そして、タイプ1は、ターンテーブル個別
回転方式のノッチ合せ装置を2台、上下に配置し、上段
と下段のノッチ合せ装置へ、交互にウェハを供給し、ノ
ッチ合せも交互に行い、ノッチ合せを終了したウェハを
基板移載機で交互に取り出しボートへ順次移載すること
により、ノッチ合せとウェハ移載を行うものである。し
たがって、従来のように、ノッチ合せ実施中に基板移載
機を常に停止させておくことがない。また、2台のノッ
チ合せ装置を上下にに積んだから、フットプリントを小
さくできる。
【0086】タイプ2の構成及び動作(図15〜図1
9) これは1台の縦型のノッチ合せ装置から構成され、1台
のモータにて水平置き状態にあるウェハのノッチを10
枚一括で検出することが可能であるが、位置合せ検出部
を従属する上下2つの領域に分割し、2つの領域を交互
に使い分けるようにした例である。
【0087】図15はタイプ2の基板位置合せ装置の斜
視図、図16は正面図である。ノッチ合せ装置40は、
台座101と、台座101上に昇降自在に設けられたリ
ング状のベース102と、リング状ベース102よりは
上方に配置されているが同じく台座101上に回転自在
に設けられたターンテーブル103とを備えている。
【0088】複数枚のウェハ104は、ターンテーブル
103の外周に所定角度を置いて立設された複数本(図
示例では3本)の支持ポール105によって、基板外周
部104bが下側から支持されて、横置きの積層状態で
垂直方向に一定間隔で保持される。
【0089】3本の支持ポール105は、回転駆動部と
してのモータ106によって可逆回転するターンテーブ
ル103の周辺部のほぼ半円部に偏って分散配置され、
その立設方向は、ターンテーブル103の回転軸線と平
行になっている。各支持ポール105には、長さ方向に
一定ピッチでウェハ104の外周部104bを下側から
支持する基板支持部としての支持ピン107がターンテ
ーブル103の径方向内方側に向かって腕状に突設され
ている。したがって、ウェハ104は支持ポール105
によって横置き状態に支持されたままターンテーブル1
03によって回転するようになっている。なお、ターン
テーブル103は台座101に支持台108を介して取
り付けられており、ターンテーブル103を回転するモ
ータ106は、支持台108の中に設けられている。
【0090】タイプ2の基板支持機構は、上記ターンテ
ーブル103と、支持ポール105と、支持ピン107
と、一台のモータ106とから主に構成される。
【0091】また、複数枚のウェハ104は、ノッチ位
置合せを終了したウェハ104から順に1枚ずつ、昇降
(矢印a方向)自在に設けられた3本のすくい上げポー
ル110によって、その上昇により基板支持ピン107
からすくい上げられるようになっている。またすくい上
げられたウェハ104はすくい上げポール110の下降
により基板支持ピン107に戻されるようになってい
る。この際、すくい上げポール110は昇降するだけ
で、すくい上げポール110を支持しているベース10
2は回転しないので、ウェハ104の周方向の角度位置
は、固定されたままで動かない。
【0092】すくい上げポール110には、長さ方向に
一定ピッチでウェハ104の外周部104bを支持して
ウェハ104をすくい上げる基板係止部としてのすくい
上げ支持ピン111が回転中心に向かって腕状に突設さ
れている。このすくい上げ支持ピン111は、図に示す
ように、ウェハ104の枚数に対応して複数個(ここで
は10個)等間隔に設けられる。3本のすくい上げポー
ル110は、台座101に取り付けられたモータ112
とスライド機構113とによって昇降移動するベース1
02の周辺部に略120°間隔に分散配置されて、その
立設方向はターンテーブル103の回転軸心と平行にな
っている。
【0093】昇降移動は台座101とベース102間に
設けたガイド114によって滑らかに行われるようにな
っている。またすくい上げポール110は、起立状態で
径方向(矢印b方向)に進退自在に設けられ、ウェハ1
04を回転するときは支持ポール105と干渉しないよ
うに後退して退避し、すくい上げ時は前進してすくい上
げ支持ピン111が基板外周部104bに達するように
なっている。そのために各すくい上げポール110は、
ベース102に固定した、対応するエアシリンダ115
に取り付けられている。
【0094】タイプ2の基板退避機構は、上記ベース1
02と、すくい上げポール110と、すくい上げ支持ピ
ン111と、エアシリンダ115と、モータ112から
主に構成される。
【0095】さらに、ノッチ位置合せ装置40には、基
板支持ピン107に支持した5枚のウェハ104のノッ
チ104aを検出する光学センサ116を有するセンサ
ポール117が立設されている。センサポール117
は、すくい上げポール110と同様に、径方向(矢印c
方向)に一定ストローク進退自在に設けられ、ウェハ1
04のノッチ104aを検出するときは、前進して光学
センサ116が基板外周部104bに非接触で近づき、
検出しないときは支持ポール105と干渉しないように
後退して退避するようになっている。
【0096】ここで支持ポール105、すくい上げポー
ル110、センサポール117の動的関係は、支持ポー
ル105は回転自在であるけれども(すくい上げポール
110が後退して支持ポール105と干渉しない限りに
おいて)、進退や昇降はしないのに対し、すくい上げポ
ール110は回転しないけれども、進退および昇降はす
る。そしてセンサポール117は進退のみが許されるよ
うになっている。
【0097】また相互の位置関係は、支持ポール105
とすくい上げポール110は同心円状に配列され、支持
ポール105の方はウェハ外周の円周上に略90°、9
0°180°間隔で配置されるのに対し、すくい上げポ
ール110の方は、支持ポール105より一回り外側の
円周上に略120°の等間隔で配置されるようになって
いる。図面斜め手前の180°開いた2本の支持ポール
105間がウェハ104の投入・取出口となり、黒塗り
矢印が進入方向であり、その逆がウェハ104の取出方
向になる。センサポール117は、ターンテーブル10
3の回転軸を挟んで前記ウェハ104の投入・取出口の
ちょうど反対側に配置される。センサポール117を反
対側に設けたのは、投入・取出の邪魔にならないように
するためである。5枚のウェハ104は水平置き状態で
基板移載機1(図1、図2)によってノッチ位置合せ装
置40に載置され、又はノッチ位置合せ装置40から取
り出される。
【0098】図17は、すくい上げポール110とウェ
ハ104との関係を示している。ベース102に固定し
たエアシリンダ115を動作させて、すくい上げポール
110をウェハ104側(径方向内方側)へ進めた状態
を示す。モータ112によりスライド機構113を介し
てベース102を上昇することによりすくい上げポール
110は上昇するから、すくい上げ支持ピン111でウ
ェハ104を垂直方向にすくい上げることができる。
【0099】ノッチを検出するためには、5枚のウェハ
104をノッチ合せ装置に投入し、基板支持ピン107
に載置後、まず、支持ポール105を180°回転させ
て、ウェハ104のノッチ検出領域(180°開いた2
本の支持ポール105間)をセンサポール117近傍に
近づける。その後、台座101に固定された支持台12
1上に取り付けたエアシリンダ122を動作させて、退
避位置にあるセンサポール117(図18(a))を矢
印の方向へ移動させ、光学センサ116をウェハ104
の外周部104bに送り込む(図18(b))。この状
態で、ウェハ104を一定角度だけ回転させると、ウェ
ハ104の外周部104bは、発光素子116aと受光
素子116bの間隙123を通過するから、ノッチの有
無を検知することができる。ノッチがどの角度位置にあ
るかは、モータ106の位置検出用エンコーダからの角
度信号で検知できるようになっている。各ウェハ104
のノッチ角度位置は図示しない記憶装置に記憶される。
ノッチ角度位置を検知後、すくい上げ動作前に、センサ
ポール117は後退して退避させる(図18(a))。
センサが挿入されている状態では、ウェハをすくい上げ
る際、センサとウェハが干渉するので、これを回避する
ためである。
【0100】つぎに上述した構成のノッチ合せ装置の動
作について図19を用いて説明する。図19は5枚のウ
ェハを一括してノッチ合せする場合に、ノッチ合せの終
了したウェハ(ハッチングしたウェハ)104を1枚ず
つ順次すくい上げていく説明図である。
【0101】図19(a)は5枚のウェハ104の中の
一番下のウェハ104(ハッチングで示す)のノッチを
合せた後、すくい上げポール110をウェハの径方向内
方へ進入させ、すくい上げ支持ピン111を各ウェハ1
04の外周部104bの下方に滑り込ませた状態を示
す。さらに図19(b)に示すように、スライド機構1
13によりすくい上げ支持ピン111を上昇させて、ノ
ッチ合せを終えた1枚目のウェハ104をすくい上げ
て、支持ポール105の基板支持ピン107から離す。
【0102】次に、下から1枚目のウェハ104をすく
い上げた状態で、支持ポール105を回転させ、下から
2枚目のウェハ104のノッチ104aを検出角度位置
データに基づいて合せる。2枚目のノッチ合せを終わっ
たら、図19(c)に示すようにすくい上げ支持ピン1
11により2枚目のウェハ104をすくい上げる。同様
に3枚目、4枚目、5枚目というようにノッチ合せとす
くい上げを順次繰り返す。図19(d)は最後のウェハ
104をすくい上げポール110のすくい上げ支持ピン
111ですくい上げた状態を示す。このようにして全て
のウェハ104を基板支持ピン107からすくい上げ支
持ピン111へ移載する。以上の動作を終了した時点
で、全てのウェハ104のノッチ104aが揃う。
【0103】上述した一連の動作終了後は、3本の支持
ポール105はノッチ合せ動作を繰り返したため、所定
の位置から外れている(ノッチ検出前の位置にはな
い)。よって、ここでターンテーブル103を回転して
支持ポール105を所定の位置状態に戻す。次に、すく
い上げポール110を下降させて、5枚のウェハ104
全てをすくい上げ支持ピン111から支持ポール105
の基板支持ピン107へ戻す。戻した後、すくい上げポ
ール110をウェハ104の外側へ退避させる。この状
態で、支持ポール105を180°回転させると、支持
ポール105は元の原点位置に戻る。ここで基板移載機
で5枚のウェハ104を一括してノッチ合せ装置40か
ら取り出す。
【0104】このようにタイプ2は、支持ポールとすく
い上げポールから構成して、ウェハ載置枚数10枚、す
くい上げ枚数10枚可能な構造とする。本装置において
も、タイプ1の場合と同様に最初のウェハ5枚を支持ポ
ールの上段の領域40Aへ載せて、ノッチ合せを行う。
この上部のノッチ合せが終了した後に、移載機により予
め取り出しておいた次のウェハ5枚を支持ポールの下段
の領域40Bへ移載し、ノッチ合せを行う。なお、上段
の領域40Aでのノッチ合せ終了ずみのウェハ5枚は、
下段の領域40Bでのノッチ合せを行う前に基板移載機
で取り出して、ボートへ移載する。タイプ2のノッチ合
せ装置の場合には、上段ないし下段のウェハのノッチ合
せを行っている間に、どちらか一方のノッチ合せ終了ず
みのウェハをボートへ移載する、もしくは、どちらか一
方の領域に対する搬送動作を行うものである。したがっ
て、ウェハの移載時間が短縮される。また、タイプ2の
ものは、構造的には、基板位置合せ装置の駆動機構がモ
ータの1個で済むので駆動機構を簡単にすることがで
き、装置コストを低減できる。
【0105】なお、上述した本実施例では、ノッチ合せ
装置の上段から下段へ動作を実行しているが、下段から
上段へ進めてもよい。また、基板位置合せ装置は上下2
段としたが、横並びでもよい。また、位置合せ装置を3
台以上使用しても、位置合せ領域を3段以上としてもよ
い。
【0106】また、実施の形態ではノッチ合せ装置の処
理枚数と移載機の移載枚数とを同数としたが、異なって
いてもよい。
【0107】参考までに、実際の移載時間、ノッチ合せ
時間を例示すると、ノッチ合せ装置へのウェハ移載時間
は6秒程度、ノッチ合せ装置からボートへのウェハ移載
時間は6秒程度、5枚のウェハのノッチ合せ時間はタイ
プ1では約19秒、タイプ2では35秒である。
【0108】また、図13、図15の基板位置合せ装置
は複数台設置しても、本発明は適用できる。基板移載機
を1台だけしか持たないことを前提とする本発明は、特
に、ウェハ処理中に、次に処理するウェハのノッチ合せ
やボートへの移載ができないシングルボートの場合に効
果が大きい。これに対し、ダブルボートの場合は、ウェ
ハ処理中に、次に処理するウェハのノッチ合せやボート
への移載ができるので、本発明は有効でないないように
みえる。確かにダブルボートの場合、2バッチ目以降は
そう言えるかもしれない。しかし、1バッチ目において
十分に移載時間を短縮できるというメリットがある。な
お、基板移載機を2台設けることにより1台の場合の問
題を解決できるが、その場合、コストアップ、装置幅
(フットプリント)の増大等というデメリットがあり、
現実的ではない。
【0109】
【発明の効果】本発明によれば、ノッチまたはオリフラ
合せと基板の搬送とを並行して行うようにしたので、基
板移載機の待機時間が減って稼働効率が上がり、基板処
理のスループットを向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態によるノッチ合せ装置を有する縦型
拡散・CVD装置の外観図である。
【図2】実施の形態によるノッチ合せ装置を有する縦型
拡散・CVD装置の平面図である。
【図3】発明方法の説明図である。
【図4】発明方法の説明図である。
【図5】発明方法の説明図である。
【図6】発明方法の説明図である。
【図7】発明方法の説明図である。
【図8】発明内容の具体的説明図である。
【図9】図15に示したタイプ1のノッチ合せ装置を使
用した場合の動作を示す説明図。
【図10】図17に示したタイプ2のノッチ合せ装置を
使用した場合の動作を示す説明図。
【図11】従来のノッチ合せ装置を使用した場合の動作
を示す説明図。
【図12】タイプ1のノッチ合せ装置を使用した場合の
変形動作例を示す説明図。
【図13】実施の形態によるノッチ合せ装置(タイプ
1)の外観図である。
【図14】タイプ1の5枚一括基板位置合せ装置の動作
手順を示すフローチャートである。
【図15】実施の形態によるノッチ合せ装置(タイプ
2)の外観図である。
【図16】タイプ2の基板位置合せ装置の正面図であ
る。
【図17】タイプ2のすくい上げポールとウェハとの関
係を示す説明図である。
【図18】タイプ2のノッチを検出するためのセンサポ
ールとウェハの関係を示す説明図である。
【図19】タイプ2のすくい上げポールの動作説明図で
ある。
【図20】実施の形態の制御系の構成図である。
【符号の説明】
1 基板移載機 4 上段ノッチ合せ部 5 下段ノッチ合せ部 21 ボート 22 ノッチ合せ装置
フロントページの続き (72)発明者 能戸 幸一 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 松永 建久 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA08 FA01 FA09 FA11 FA12 GA03 GA49 HA32 HA42 HA59 JA02 JA05 JA15 JA35 KA14 LA13 LA15 MA02 MA13 MA28 PA03 5F045 BB08 DP19 DQ05 EB02 EM10 EN04 EN06

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ノッチまたはオリフラ合せ前の複数枚の基
    板を一度に基板収納容器から基板位置合せ装置へ搬送
    し、または基板位置合せ装置からノッチまたはオリフラ
    合せ済みの複数枚の基板をボートへ搬送する1台の基板
    移載機と、該1台の基板移載機が一度に搬送する基板枚
    数の倍以上の枚数の基板のノッチまたはオリフラ合せを
    行うことが可能な基板位置合せ装置とを備え、 前記基板位置合せ装置により一度に前記基板のノッチま
    たはオリフラ合せを行う基板枚数を、前記1台の基板移
    載機が一度に搬送する基板枚数分に設定し、 このように一度に前記基板のノッチまたはオリフラ合せ
    を行う基板枚数を設定した前記基板位置合せ装置による
    前記基板のノッチまたはオリフラ合せと、 前記1台の基板移載機による前記基板収納容器から前記
    基板位置合せ装置への前記ノッチまたはオリフラ合せ前
    の基板の搬送、または前記基板位置合せ装置から前記ボ
    ートへのノッチまたはオリフラ合せ済みの基板の搬送と
    を並行して行うようにした基板処理方法。
  2. 【請求項2】ノッチまたはオリフラ合せ前の複数枚の基
    板を一度に基板収納容器から基板位置合せ装置へ移載
    し、または基板位置合せ装置からノッチまたはオリフラ
    合せ済みの複数枚の基板をボートへ移載する1台の基板
    移載機と、該1台の基板移載機が一度に移載する基板枚
    数の倍以上の枚数の基板のノッチまたはオリフラ合せを
    合計で行うことが可能で、独立運転する複数の基板位置
    合せ装置とを備え、 前記複数の基板位置合せ装置のうちの、一の基板位置合
    せ装置にて前記基板のノッチまたはオリフラ合せを行う
    のと並行して、 前記1台の基板移載機により他の基板位置合せ装置へ前
    記基板収納容器からノッチまたはオリフラ合せ前の基板
    を移載するか、または、他の基板位置合せ装置から該他
    の基板位置合せ装置によるノッチまたはオリフラ合せ済
    みの基板を前記ボートへ移載するようにした基板処理方
    法。
  3. 【請求項3】前記1台の基板移載機にて、前記他の基板
    位置合せ装置から該他の基板位置合せ装置によるノッチ
    またはオリフラ合せ済みの基板を前記ボートへ移載後、
    前記他の基板位置合せ装置へ前記基板収納容器からノッ
    チまたはオリフラ合せ前の基板を移載するようにした請
    求項2に記載の基板処理方法。
  4. 【請求項4】複数枚の基板を一度に基板収納容器から基
    板位置合せ装置へ、または基板位置合せ装置からボート
    へ移載する1台の基板移載機と、 前記1台の基板移載機で移載された複数枚の基板のノッ
    チまたはオリフラ合せを独立して行う複数の基板位置合
    せ装置と、 前記複数の基板位置合せ装置のうち、一の基板位置合せ
    装置にて前記基板のノッチまたはオリフラ合せを行うの
    と並行して、他の基板位置合せ装置へノッチまたはオリ
    フラ合せ前の基板を移載するか、または他の基板位置合
    せ装置から該他の基板位置合せ装置にてノッチまたはオ
    リフラ合せ済みの基板を前記ボートへ移載するように制
    御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装
    置。
  5. 【請求項5】複数枚の基板を一度に基板収納容器から基
    板位置合せ装置へ、または基板位置合せ装置からボート
    へ搬送する1台の基板移載機と、 該1台の基板移載機が一度に搬送する基板枚数の倍以上
    の枚数の基板のノッチまたはオリフラ合せを合計で行う
    ことが可能で、従属運転する複数の領域を有する基板位
    置合せ装置とを備え、 前記複数の領域のうちの一の領域にて基板のノッチまた
    はオリフラ合せを行うのと並行して、 他の領域に対し前記1台の基板移載機にて前記基板収納
    容器からノッチまたはオリフラ合せ前の基板の搬送を行
    うか、または、前記他の領域から排出した該他の領域に
    てノッチまたはオリフラ合せ済みの基板を前記ボートへ
    搬送するようにした基板処理方法。
  6. 【請求項6】前記1台の基板移載機にて前記他の領域か
    ら排出した該他の領域にてノッチまたはオリフラ合せ済
    みの基板を前記ボートへ搬送後、 前記他の領域に対し前記基板収納容器からノッチまたは
    オリフラ合せ前の基板の搬送を行うようにした請求項5
    に記載の基板処理方法。
  7. 【請求項7】前記1台の基板移載機による前記他の領域
    に対する前記基板収納容器からのノッチまたはオリフラ
    合せ前の基板の搬送とは、前記基板収納容器からノッチ
    またはオリフラ合せ前の基板を取出し、該取り出した基
    板を前記他の領域付近へ搬送することであり、 前記一の領域における基板のノッチまたはオリフラ合せ
    後に前記基板収納容器より取り出し前記他の領域付近に
    搬送した基板を、前記他の領域に載置するようにした請
    求項5または請求項6に記載の基板処理方法。
  8. 【請求項8】複数枚の基板を一度に基板収納容器から基
    板位置合せ装置へ、または基板位置合せ装置からボート
    へ移載する1台の基板移載機と、 該1台の基板移載機が一度に搬送する基板枚数の倍以上
    の枚数の基板のノッチまたはオリフラ合せを合計で行う
    ことが可能で、従属運転する複数の領域を有する基板位
    置合せ装置とを備え、 前記1台の基板移載機にて前記基板収納容器からノッチ
    またはオリフラ合せ前の基板を取り出して、該取り出し
    た基板を前記基板位置合せ装置の複数の領域のうちの一
    の領域に載置し、 該基板位置合せ装置の一の領域にて前記基板のノッチま
    たはオリフラ合せを行い、 前記一の領域におけるノッチまたはオリフラ合せ中に、
    前記1台の基板移載機にて前記基板収納容器から次のノ
    ッチまたはオリフラ合せ前の基板を取り出し、 前記一の領域における基板のノッチまたはオリフラ合せ
    終了後に、前記取り出した次のノッチまたはオリフラ合
    せ前の基板を前記他の領域に載置し、 前記他の領域に載置後、前記の一の領域におけるノッチ
    またはオリフラ合せ済みの基板を前記一の領域から取り
    出し、 前記一の領域から取り出し後、前記他の領域にて前記基
    板のノッチまたはオリフラ合せを行い、 前記他の領域におけるノッチまたはオリフラ合せ中に、
    前記一の領域から取り出した基板をボートに搬送するよ
    うにした基板処理方法。
  9. 【請求項9】複数枚の基板を一度に基板収納容器から基
    板位置合せ装置へ、または基板位置合せ装置からボート
    へ搬送する1台の基板移載機と、 前記1台の基板移載機で搬送された複数枚の基板のノッ
    チまたはオリフラ合せを行う複数の領域を有する基板位
    置合せ装置と、 前記複数の領域のうちの一の領域にて基板のノッチまた
    はオリフラ合せを行うのと並行して、前記1台の基板移
    載機にて他の領域に対し前記基板収納容器からノッチま
    たはオリフラ合せ前の基板の搬送を行うか、または、前
    記他の領域から排出した該他の領域におけるノッチまた
    はオリフラ合せ済みの基板を前記ボートへ搬送するよう
    に制御する制御手段を備えたことを特徴とする基板処理
    装置。
JP2000290020A 2000-09-25 2000-09-25 基板処理方法および装置 Pending JP2002100664A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000290020A JP2002100664A (ja) 2000-09-25 2000-09-25 基板処理方法および装置
US09/956,820 US6658321B2 (en) 2000-09-25 2001-09-21 Substrate processing method and apparatus
KR1020010059443A KR100729490B1 (ko) 2000-09-25 2001-09-25 기판 처리 방법 및 장치
TW090123575A TWI277142B (en) 2000-09-25 2001-09-25 Substrate processing method and apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000290020A JP2002100664A (ja) 2000-09-25 2000-09-25 基板処理方法および装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002100664A true JP2002100664A (ja) 2002-04-05

Family

ID=18773312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000290020A Pending JP2002100664A (ja) 2000-09-25 2000-09-25 基板処理方法および装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6658321B2 (ja)
JP (1) JP2002100664A (ja)
KR (1) KR100729490B1 (ja)
TW (1) TWI277142B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014123679A (ja) * 2012-12-21 2014-07-03 Kawasaki Heavy Ind Ltd 基板角度合わせ装置、基板角度合わせ方法及び基板搬送方法
WO2015093035A1 (ja) * 2013-12-16 2015-06-25 川崎重工業株式会社 基板位置合わせ装置及び基板位置合わせ装置の制御方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6244121B1 (en) * 1998-03-06 2001-06-12 Applied Materials, Inc. Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system
JP4255091B2 (ja) * 1999-04-07 2009-04-15 株式会社日立国際電気 半導体製造方法
US7233841B2 (en) * 2002-04-19 2007-06-19 Applied Materials, Inc. Vision system
US7085622B2 (en) * 2002-04-19 2006-08-01 Applied Material, Inc. Vision system
KR100491161B1 (ko) * 2002-11-26 2005-05-24 주식회사 테라세미콘 반도체 제조장치
US7720558B2 (en) * 2004-09-04 2010-05-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for mapping carrier contents
JP4842227B2 (ja) * 2006-09-13 2011-12-21 東京エレクトロン株式会社 半導体製造装置における地震被害拡散低減システム
US8666551B2 (en) * 2008-12-22 2014-03-04 Asm Japan K.K. Semiconductor-processing apparatus equipped with robot diagnostic module
US8275478B2 (en) * 2009-03-13 2012-09-25 Globalfoundries Inc. Method and apparatus for routing wafer pods to allow parallel processing
JP6190645B2 (ja) * 2013-07-09 2017-08-30 東京エレクトロン株式会社 基板搬送方法
WO2015145480A1 (ja) * 2014-03-25 2015-10-01 川崎重工業株式会社 基板角度合わせ装置、基板角度合わせ方法及び基板搬送方法
JP6862163B2 (ja) * 2016-12-09 2021-04-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US11721566B2 (en) * 2021-07-13 2023-08-08 Applied Materials, Inc. Sensor assembly and methods of vapor monitoring in process chambers

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4775281A (en) * 1986-12-02 1988-10-04 Teradyne, Inc. Apparatus and method for loading and unloading wafers
JPH06140492A (ja) 1992-10-28 1994-05-20 Fujitsu Ltd クラスタ装置
JPH06334026A (ja) 1993-05-27 1994-12-02 Nissin High Voltage Co Ltd オリエンテーションフラット合わせ機内蔵型ウエハ収納装置
JPH09260467A (ja) * 1996-03-18 1997-10-03 Kokusai Electric Co Ltd ウェーハ姿勢整合装置
JPH09293772A (ja) * 1996-04-24 1997-11-11 Tokyo Electron Ltd ウエハの位置合わせ装置
US5980195A (en) * 1996-04-24 1999-11-09 Tokyo Electron, Ltd. Positioning apparatus for substrates to be processed
JP3624590B2 (ja) * 1996-11-22 2005-03-02 宮崎沖電気株式会社 ウェハー処理装置
JP3208562B2 (ja) * 1997-07-15 2001-09-17 東京エレクトロン株式会社 位置決め装置及び位置決め方法
JPH11145092A (ja) * 1997-11-11 1999-05-28 Sony Corp ウェットキャリアレス洗浄装置
US20010052392A1 (en) 1998-02-25 2001-12-20 Masahiko Nakamura Multichamber substrate processing apparatus
JP3664897B2 (ja) * 1998-11-18 2005-06-29 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置
JP4255091B2 (ja) * 1999-04-07 2009-04-15 株式会社日立国際電気 半導体製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014123679A (ja) * 2012-12-21 2014-07-03 Kawasaki Heavy Ind Ltd 基板角度合わせ装置、基板角度合わせ方法及び基板搬送方法
WO2015093035A1 (ja) * 2013-12-16 2015-06-25 川崎重工業株式会社 基板位置合わせ装置及び基板位置合わせ装置の制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20020038164A1 (en) 2002-03-28
KR100729490B1 (ko) 2007-06-15
US6658321B2 (en) 2003-12-02
KR20020024568A (ko) 2002-03-30
TWI277142B (en) 2007-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002100664A (ja) 基板処理方法および装置
WO2016073330A1 (en) Wafer aligner
JP2013222949A (ja) 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP2015122502A (ja) 基板処理モジュール、これを含む基板処理装置及び基板搬送方法
JP3825232B2 (ja) ウエハ搬送システム及びその搬送方法
TWI842835B (zh) 自動批次生產薄膜沉積系統及使用該系統之自動批次生產薄膜沉積方法
JP2000135475A (ja) 基板処理装置
JP2002237512A (ja) ウエハー枚葉搬送用コンベヤの移載装置
JP2009083984A (ja) ワーク供給装置およびその供給方法
US8021094B2 (en) Work handling mechanism and work inspection system
JPH10189685A (ja) 基板処理装置
JP4097358B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3310259B2 (ja) 半導体製造装置及び半導体製造装置に於けるウェーハ移載方法及び半導体素子の製造方法
JP4495825B2 (ja) 半導体製造装置及び半導体製造方法
TWI830346B (zh) 基板處理裝置、半導體裝置之製造方法及程式
JP2001053128A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2952566B2 (ja) ワーク洗浄装置
JPH1150252A (ja) 真空処理装置
JP3200927U (ja) 基板搬送装置
JP3040991B2 (ja) 半導体製造装置
CN117153748A (zh) 不依赖于任务传递的晶圆传输方法
JP4076009B2 (ja) 基板処理装置、基板の搬送方法、および基板の処理方法
JP2003191144A (ja) ワーク反転装置
JPH10313035A (ja) 基板処理装置
JP3449707B2 (ja) 半導体製造装置及び半導体製造装置に於けるウェーハ移載方法及び半導体素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080702

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081028