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JP2002148598A - Reflection type liquid crystal cell substrate and liquid crystal display device - Google Patents

Reflection type liquid crystal cell substrate and liquid crystal display device

Info

Publication number
JP2002148598A
JP2002148598A JP2000347729A JP2000347729A JP2002148598A JP 2002148598 A JP2002148598 A JP 2002148598A JP 2000347729 A JP2000347729 A JP 2000347729A JP 2000347729 A JP2000347729 A JP 2000347729A JP 2002148598 A JP2002148598 A JP 2002148598A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal cell
cell substrate
layer
reflection type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000347729A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Kitamura
喜弘 北村
Shunji Umehara
俊志 梅原
Nobuyoshi Yagi
伸圭 八木
Yoshimasa Sakata
義昌 坂田
Kiichi Shimodaira
起市 下平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2000347729A priority Critical patent/JP2002148598A/en
Publication of JP2002148598A publication Critical patent/JP2002148598A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection type liquid crystal cell substrate which is thin and light in weight and has excellent mechanical strength, gas barrier properties and heat resistance and a low yellowing degree changing ratio and to provide a liquid crystal display device using the reflection type liquid crystal cell substrate. SOLUTION: The reflection type liquid crystal cell substrate wherein a reflection layer consisting of at least a hard coat layer, a base material layer and a metal thin layer is laminated and the hard coat layer is the outermost layer characteristically has <=0.75% yellowing degree changing ratio calculated from the yellowing degree after the substrate is heated at 200 deg.C for 30 min and the yellowing degree at room temperature.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、薄型、軽量であり、機
械強度やガスバリア性に優れ、黄色度変化率が低く耐熱
性に優れた反射型液晶セル基板、および上記反射型液晶
セル基板を用いた液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflective liquid crystal cell substrate which is thin, lightweight, excellent in mechanical strength and gas barrier properties, has a low rate of change in yellowness, and is excellent in heat resistance. The present invention relates to a liquid crystal display device used.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、衛星通信や移動通信技術の発展に
伴い、小型携帯情報末端機器の需要が高まりつつある。
小型携帯情報末端機器の多くに搭載されている表示装置
には、薄型であることが求められており、液晶表示装置
が最も多用されている。また、小型携帯情報末端機器用
の表示装置には、低消費電力であること、外光下での視
認性が高いことが要求されるため、透過型液晶表示装置
よりも反射型液晶表示装置が多用されている。ガラス系
の反射型液晶セル基板は、耐衝撃性が低く非常に重いた
め、プラスチック系の反射型液晶セル基板が検討されて
いる。しかしプラスチック系の液晶セル基板はガスバリ
ア性に乏しく水分や酸素が液晶セル基板を通過してセル
内に侵入し、透明電極膜パターンが断線したり、セル内
に侵入した水分や酸素が気泡を形成するまでに成長し、
外観不良を起こしたり液晶を変質させたりすることが問
題になっていた。そこでガスバリア層として金属酸化物
等の無機ガスバリア層やポリビニルアルコール等の有機
ガスバリア層が検討されてきた。しかし無機ガスバリア
層の形成はスパッタリング法や真空蒸着法等の成膜法を
用いるため生産性が悪いという問題があった。また有機
ガスバリア層は黄変しやすく外観不良を生じさせるとい
う問題があった。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of satellite communication and mobile communication technology, demand for small portable information terminal equipment has been increasing.
Display devices mounted on many small portable information terminal devices are required to be thin, and liquid crystal display devices are most frequently used. In addition, since a display device for a small portable information terminal device is required to have low power consumption and high visibility under external light, a reflection type liquid crystal display device is more preferable than a transmission type liquid crystal display device. It is heavily used. Glass-based reflective liquid crystal cell substrates have a low impact resistance and are very heavy. Therefore, plastic-based reflective liquid crystal cell substrates are being studied. However, plastic-based liquid crystal cell substrates have poor gas barrier properties, and moisture and oxygen penetrate into the cell through the liquid crystal cell substrate, causing disconnection of the transparent electrode film pattern and moisture and oxygen entering the cell to form bubbles. Grow up to
Problems such as poor appearance and deterioration of the liquid crystal have been problems. Therefore, inorganic gas barrier layers such as metal oxides and organic gas barrier layers such as polyvinyl alcohol have been studied as gas barrier layers. However, the formation of the inorganic gas barrier layer has a problem that productivity is poor because a film forming method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method is used. Further, the organic gas barrier layer has a problem that the organic gas barrier layer is liable to yellow and causes poor appearance.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、薄型、軽量
であり、機械強度やガスバリア性に優れ、黄変しにくい
ため黄色度変化率が低く、耐熱性に優れた反射型液晶セ
ル基板および上記反射型液晶セル基板を用いた液晶表示
装置を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a reflective liquid crystal cell substrate which is thin, lightweight, excellent in mechanical strength and gas barrier properties, hardly yellowed, has a low rate of change in yellowness, and is excellent in heat resistance. It is an object to provide a liquid crystal display device using the reflective liquid crystal cell substrate.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくともハ
ードコート層、基材層、金属薄層からなる反射層が積層
され、ハードコート層が最外層である反射型液晶セル基
板において、200℃で30分加熱した後の黄色度と室
温における黄色度から算出される黄色度変化率が0.7
5以下であることを特徴とする反射型液晶セル基板を提
供するものである。本発明の反射型液晶セル基板は、酸
素透過率が0.3cc/m2・24h・atm以下であ
ることが好ましい。前記ハードコート層はウレタン系樹
脂からなることが好ましく、前期基材層はエポキシ系樹
脂からなることが好ましい。また本発明の反射型液晶セ
ル基板は200℃以上の耐熱性を有することが好まし
い。また本発明の反射型液晶セル基板に電極を形成し、
電極付き反射型液晶セル基板とすることもできる。また
本発明は電極付き反射型液晶セル基板を用いて液晶表示
装置を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a reflective liquid crystal cell substrate in which at least a hard coat layer, a base layer and a thin metal layer are laminated, and the hard coat layer is the outermost layer. The yellowness change rate calculated from the yellowness after heating at room temperature for 30 minutes and the yellowness at room temperature is 0.7.
It is intended to provide a reflection type liquid crystal cell substrate characterized by being 5 or less. The reflective liquid crystal cell substrate of the present invention preferably has an oxygen transmittance of 0.3 cc / m 2 · 24 h · atm or less. The hard coat layer is preferably made of a urethane resin, and the base material layer is preferably made of an epoxy resin. Further, the reflective liquid crystal cell substrate of the present invention preferably has a heat resistance of 200 ° C. or higher. An electrode is formed on the reflective liquid crystal cell substrate of the present invention,
A reflective liquid crystal cell substrate with electrodes can also be used. The present invention also provides a liquid crystal display device using a reflective liquid crystal cell substrate with electrodes.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明における反射型液晶セル基
板は、少なくともハードコート層、基材層、金属薄層か
らなる反射層が積層され、ハードコート層が最外層であ
る反射型液晶セル基板において、200℃で30分加熱
した後の黄色度と室温における黄色度から算出される黄
色度変化率が0.75以下であることを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The reflection type liquid crystal cell substrate according to the present invention has at least a reflection layer composed of a hard coat layer, a base material layer and a thin metal layer, and the hard coat layer is the outermost layer. Wherein the yellowness change rate calculated from the yellowness after heating at 200 ° C. for 30 minutes and the yellowness at room temperature is 0.75 or less.

【0006】本発明において反射層は最外層にある必要
ない。つまり本発明は最外層からハードコート層、基材
層、反射層の積層体もしくは最外層からハードコート
層、反射層、基材層の積層体を提供するものである。
In the present invention, the reflective layer does not need to be on the outermost layer. That is, the present invention provides a laminate of the outermost layer from the hard coat layer, the substrate layer, and the reflective layer, or a laminate of the outermost layer from the hard coat layer, the reflective layer, and the substrate layer.

【0007】本願発明においてハードコート層を形成す
る材料としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン・
ビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール
系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂が挙
げられる。
In the present invention, the material for forming the hard coat layer includes urethane resin, acrylic resin, polyester resin, polyvinyl alcohol and ethylene.
Examples thereof include a polyvinyl alcohol-based resin such as a vinyl alcohol copolymer, a vinyl chloride-based resin, and a vinylidene chloride-based resin.

【0008】また、ポリアリレート系樹脂、スルホン系
樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスル
ホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系
樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂など
も樹脂層の形成に用いることができる。これらの樹脂の
中ではウレタン系樹脂が好ましく、ウレタンアクリレー
トが特に好ましく用いられる。なお樹脂層の形成には、
適宜な樹脂の2種以上のブレンド物なども用いることが
できる。
Further, polyarylate resins, sulfone resins, amide resins, imide resins, polyethersulfone resins, polyetherimide resins, polycarbonate resins, silicone resins, fluorine resins, polyolefin resins, Styrene-based resins, vinylpyrrolidone-based resins, cellulose-based resins, acrylonitrile-based resins, and the like can also be used for forming the resin layer. Among these resins, urethane resins are preferable, and urethane acrylate is particularly preferably used. In addition, in forming the resin layer,
A blend of two or more kinds of appropriate resins can also be used.

【0009】本発明において基材層を形成する樹脂とし
ては熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いることが
好ましい。熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート、
ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホ
ン、ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリエ
ーテルイミドやポリアミド等が挙げられ、熱硬化性樹脂
としてはエポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル、ポリジ
アリルフタレートやポリイソボニルメタクリレート等が
挙げられる。これらの樹脂は一種または二種以上を用い
ることができ、他成分との共重合体や混合物などとして
用いうる。
In the present invention, it is preferable to use a thermoplastic resin or a thermosetting resin as the resin forming the base layer. As the thermoplastic resin, polycarbonate,
Polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, polyester, polymethyl methacrylate, polyether imide, polyamide, and the like.Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, unsaturated polyester, polydiallyl phthalate, polyisobonyl methacrylate, and the like. Can be One or more of these resins can be used, and they can be used as a copolymer or a mixture with other components.

【0010】表面平滑性を得るために熱硬化性樹脂が好
ましく用いられ、熱硬化性樹脂の中では色相の点よりエ
ポキシ系樹脂が特に好ましく用いられる。エポキシ系樹
脂としては、例えば、ビスフェノールA型やビスフェノ
ールF型、ビスフェノールS型やそれらの水添加の如き
ビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾー
ルノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイ
ソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、
脂環式型、脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型、グ
リシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイ
プ、ジシクロ型、エステル型、エーテルエステル型、お
よびそれらの変成型などが挙げられる。これらは単独で
使用してもあるいは併用してもよい。上記各種エポキシ
系樹脂の中でも、変色防止性などの点よりビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシ
ジルイソシアヌレート型を用いることが好ましい。
A thermosetting resin is preferably used in order to obtain surface smoothness, and among the thermosetting resins, an epoxy resin is particularly preferably used from the viewpoint of hue. As the epoxy resin, for example, bisphenol A such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type and their water addition, novolak type such as phenol novolak type and cresol novolak type, triglycidyl isocyanurate type and hydantoin type Nitrogen-containing ring type,
Examples thereof include an alicyclic type, an aliphatic type, an aromatic type such as a naphthalene type, a low water absorption type such as a glycidyl ether type and a biphenyl type, a dicyclo type, an ester type, an ether ester type, and a modified form thereof. These may be used alone or in combination. Among the above various epoxy resins, it is preferable to use a bisphenol A type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or a triglycidyl isocyanurate type from the viewpoint of anti-discoloration properties.

【0011】このようなエポキシ系樹脂としては、一般
にエポキシ当量100〜1000、軟化点120℃以下
のものが、得られる樹脂シートの柔軟性や強度等の物性
などの点より好ましく用いられる。さらに塗工性やシー
ト状への展開性等に優れるエポキシ樹脂含有液を得る点
などよりは、塗工時の温度以下、特に常温において液体
状態を示す二液混合型のものが好ましく用いうる。
As such an epoxy resin, those having an epoxy equivalent of 100 to 1000 and a softening point of 120 ° C. or lower are preferably used in view of physical properties such as flexibility and strength of the obtained resin sheet. From the viewpoint of obtaining an epoxy resin-containing liquid having excellent coating properties and spreadability into a sheet, etc., a two-liquid mixed type liquid which shows a liquid state at a temperature lower than the temperature at the time of coating, particularly at room temperature, can be preferably used.

【0012】またエポキシ系樹脂は、硬化剤、硬化促進
剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防
止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、
紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合す
ることができる。
The epoxy resin includes a curing agent, a curing accelerator, and, if necessary, an antioxidant, a denaturant, a surfactant, a dye, a pigment, a discoloration inhibitor,
Various conventionally known additives such as an ultraviolet absorber can be appropriately compounded.

【0013】前記、硬化剤についても特に限定はなく、
エポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を1種または2種
以上用いることができる。ちなみにその例としては、テ
トラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘ
キサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如
き有機酸系化合物類、エチレンジアミン、プロピレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ンやそれらのアミンアダクト、メタフェニレンジアミ
ン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルス
ルホンの如きアミン系化合物類が挙げられる。
The curing agent is not particularly limited.
One or more appropriate curing agents depending on the epoxy resin can be used. Incidentally, examples thereof include tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, organic acid compounds such as hexahydrophthalic acid and methylhexahydrophthalic acid, ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine and their amine adducts, meta Examples include amine compounds such as phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone.

【0014】またジシアンジアミドやポリアミドの如き
アミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系
化合物類、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピルイ
ミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、フェニル
イミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシル
イミダゾールや2−フェニル−4−メチルイミダゾール
の如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例として
挙げられる。
Amide compounds such as dicyandiamide and polyamide; hydrazide compounds such as dihydrazide; methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, ethylimidazole, isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, phenylimidazole; Imidazole compounds such as undecyl imidazole, heptadecyl imidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole are also examples of the curing agent.

【0015】さらに、メチルイミダゾリン、2−エチル
−4−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソ
プロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリ
ン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、
ヘプタデシルイミダゾリンや2−フェニル−4−メチル
イミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物、その他、フ
ェノール系化合物、ユリア系化合物類やポリスルフィド
系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
Further, methylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, ethylimidazoline, isopropylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, phenylimidazoline, undecylimidazoline,
Imidazoline compounds such as heptadecyl imidazoline and 2-phenyl-4-methylimidazoline, phenol compounds, urea compounds and polysulfide compounds are also examples of the curing agent.

【0016】加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬
化剤の例として挙げられ、変色防止性などの点より、か
かる酸無水物硬化剤が好ましく用いうる。その例として
は無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタ
ル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒド
ロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水
物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物やクロレン
ディック酸無水物などが挙げられる。
In addition, acid anhydride compounds and the like are also mentioned as examples of the curing agent, and from the viewpoint of preventing discoloration, such acid anhydride curing agents can be preferably used. Examples thereof are phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, Examples include methylhexahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, dodecenylsuccinic anhydride, dichlorosuccinic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride and chlorendic anhydride.

【0017】特に、無水フタル酸、テトラヒドロフタル
酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサ
ヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、
分子量が約140〜約200の酸無水物系硬化剤が好ま
しく用いられる。
In particular, they are colorless or pale yellow, such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride.
An acid anhydride curing agent having a molecular weight of about 140 to about 200 is preferably used.

【0018】前記エポキシ系樹脂と硬化剤の配合割合
は、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポ
キシ系樹脂のエポキシ基1当量に対して酸無水物当量を
0.5〜1.5当量となるように配合することが好まし
く、さらに好ましくは0.7〜1.2当量がよい。酸無
水物が0.5当量未満では、硬化後の色相が悪くなり、
1.5当量を超えると、耐湿性が低下する傾向がみられ
る。なお他の硬化剤を単独で又は2種以上を併用して使
用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準じる。
The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is such that when an acid anhydride curing agent is used as the curing agent, the acid anhydride equivalent is 0.5 to 1 to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. It is preferable to mix so as to be 5 equivalents, more preferably 0.7 to 1.2 equivalents. If the acid anhydride is less than 0.5 equivalent, the hue after curing becomes worse,
If it exceeds 1.5 equivalents, the moisture resistance tends to decrease. When other curing agents are used alone or in combination of two or more, the amount used is in accordance with the equivalent ratio described above.

【0019】前記硬化促進剤としては、第三級アミン
類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金
属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類等が挙げられる
が、特に第三級アミン類、イミダゾール類やリン化合物
類を用いることが好ましい。これらは単独であるいは併
用して使用することができる。
Examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazoles, quaternary ammonium salts, organic metal salts, phosphorus compounds, urea compounds, and the like. In particular, tertiary amines, It is preferable to use imidazoles and phosphorus compounds. These can be used alone or in combination.

【0020】前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ系樹
脂100重量部に対して0.05〜7.0重量部である
ことが好ましく、さらに好ましくは0.2〜3.0重量
部がよい。硬化促進剤の配合量が0.05重量部未満で
は、充分な硬化促進効果が得られず、7.0重量部を超
えると硬化体が変色するおそれがある。
The amount of the curing accelerator is preferably 0.05 to 7.0 parts by weight, more preferably 0.2 to 3.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin. . If the amount of the curing accelerator is less than 0.05 parts by weight, a sufficient curing promoting effect cannot be obtained, and if it exceeds 7.0 parts by weight, the cured product may be discolored.

【0021】前記老化防止剤としては、フェノール系化
合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物やホスフィン
系化合物等の従来公知のものが挙げられる。
Examples of the antioxidant include conventionally known compounds such as phenol compounds, amine compounds, organic sulfur compounds and phosphine compounds.

【0022】前記変性剤としては、グリコール類、シリ
コーン類やアルコール類等従来公知のものが挙げられ
る。
Examples of the modifying agent include conventionally known modifying agents such as glycols, silicones and alcohols.

【0023】前記界面活性剤は、エポキシ系樹脂シート
を流延法でエポキシ樹脂を空気に触れながら成形する場
合に、シートの表面を平滑にするために添加される。界
面活性剤としてはシリコーン系、アクリル系やフッ素系
等が挙げられるが、とくにシリコーン系が好ましい。
The above-mentioned surfactant is added to smooth the surface of the epoxy resin sheet when the epoxy resin sheet is molded by the casting method while contacting the epoxy resin with air. Examples of the surfactant include a silicone type, an acrylic type, a fluorine type and the like, and a silicone type is particularly preferable.

【0024】本発明の反射層は、銀またはアルミニウム
等の金属薄層からなることが必要である。反射層はガス
バリア機能を有し、水分や酸素が液晶セル基板を透過し
てセル内に侵入することを防止する。従って本発明にお
いてはポリビニルアルコール等からなる有機ガスバリア
層や珪素酸化物等からなる無機ガスバリア層を積層させ
る必要はない。
The reflection layer of the present invention needs to be formed of a thin metal layer such as silver or aluminum. The reflective layer has a gas barrier function and prevents moisture and oxygen from penetrating the liquid crystal cell substrate and entering the cell. Therefore, in the present invention, there is no need to laminate an organic gas barrier layer made of polyvinyl alcohol or the like or an inorganic gas barrier layer made of silicon oxide or the like.

【0025】反射層の厚みは50〜1000nmである
ことが好ましく、さらに好ましくは100〜500nm
がよい。反射層の厚みが50nmより小さい場合は、耐
熱性や耐湿性等の信頼性が低下する。反射層の厚みが1
000nmを超えるとクラックが発生しやすくなりコス
ト高となる。また透過モードと反射モードのうち透過モ
ードが使用できなくなる。
The thickness of the reflective layer is preferably 50 to 1000 nm, more preferably 100 to 500 nm.
Is good. When the thickness of the reflective layer is less than 50 nm, reliability such as heat resistance and moisture resistance is reduced. The thickness of the reflective layer is 1
If it exceeds 000 nm, cracks are likely to occur and the cost increases. Further, the transmission mode between the transmission mode and the reflection mode cannot be used.

【0026】また本発明における液晶セル基板は200
℃で30分加熱した後の黄色度と室温における黄色度か
ら算出される黄色度変化率が0.75以下であることが
必要である。黄色度変化率は室温における黄色度をY
I、200℃で30分加熱した後の黄色度をYI200
すると、(式1)で計算できる。黄色度変化率が0.7
5を超える場合は、その液晶セル基板を用いて液晶表示
装置を形成した場合、白表示が黄色味を帯びる等表示品
位が低下する。
In the present invention, the liquid crystal cell substrate is 200
The yellowness change rate calculated from the yellowness after heating at 30 ° C. for 30 minutes and the yellowness at room temperature needs to be 0.75 or less. The degree of change in yellowness is defined as Y at room temperature.
I, when the yellowness after heating at 200 ° C. for 30 minutes is YI 200 , it can be calculated by (Equation 1). Yellowness change rate is 0.7
When the value exceeds 5, when a liquid crystal display device is formed using the liquid crystal cell substrate, the display quality deteriorates, such as a white display having a yellow tint.

【式1】 (Equation 1)

【0027】本発明の反射型液晶セル基板の酸素透過率
は0.3cc/m2・24h・atm以下であることが
好ましい。より好ましくは液晶セル基板の酸素透過率は
0.15cc/m2・24h・atm以下がよい。酸素
透過率が0.3cc/m2・24h・atmを超える
と、水分や酸素がセル内に侵入し、透明導電膜パターン
が断線したり、セル内に侵入した水分や酸素が気泡を形
成するまでに成長して外観不良を起こしたり液晶を変質
させる等の問題が生じる。
The oxygen transmission rate of the reflective liquid crystal cell substrate of the present invention is preferably 0.3 cc / m 2 · 24 h · atm or less. More preferably, the oxygen permeability of the liquid crystal cell substrate is 0.15 cc / m 2 · 24 h · atm or less. If the oxygen transmission rate exceeds 0.3 cc / m 2 · 24 h · atm, moisture and oxygen enter the cell, causing disconnection of the transparent conductive film pattern and moisture and oxygen entering the cell to form bubbles. By that time, problems such as poor appearance and deterioration of the liquid crystal arise.

【0028】液晶セル基板から液晶セルを組み立てる工
程においては、配向膜の焼成工程やシーリング剤の焼成
工程は約150℃で行われ、ITO等の透明電極のスパ
ッタリングは約180℃で行われる。これらの工程にお
いて液晶セル基板の品質信頼性を維持するためには液晶
セル基板は200℃以上の耐熱性を有することが好まし
い。
In the step of assembling the liquid crystal cell from the liquid crystal cell substrate, the step of firing the alignment film and the step of firing the sealing agent are performed at about 150 ° C., and the sputtering of a transparent electrode such as ITO is performed at about 180 ° C. In these steps, in order to maintain the quality reliability of the liquid crystal cell substrate, the liquid crystal cell substrate preferably has heat resistance of 200 ° C. or higher.

【0029】本発明における反射型液晶セル基板に電極
を形成し、電極付きの反射型液晶セル基板を提供するこ
とができる。
The reflection type liquid crystal cell substrate of the present invention can be provided with electrodes to provide a reflection type liquid crystal cell substrate with electrodes.

【0030】前記電極としては透明電極膜が好ましく用
いられる。透明電極膜は、例えば酸化インジウム、酸化
スズ、インジウム・錫混合酸化物、金、白金、パラジウ
ム、透明導電塗料などの適宜な形成材を用いて、真空蒸
着法やスパッタリング法や塗工法等により付設ないし塗
布する方式などの従来に準じた方式にて行うことがで
き、透明導電膜を所定の電極パターン状に直接形成する
ことも可能である。また透明導電膜上に必要に応じて設
けられる液晶配列用の配向膜も従来に準じた方式にて付
加することもできる。
As the electrode, a transparent electrode film is preferably used. The transparent electrode film is provided by using a suitable forming material such as indium oxide, tin oxide, indium / tin mixed oxide, gold, platinum, palladium, or a transparent conductive paint, for example, by a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a coating method. Alternatively, the transparent conductive film can be formed by a method according to the related art such as a coating method, and the transparent conductive film can be directly formed in a predetermined electrode pattern. An alignment film for liquid crystal alignment provided on the transparent conductive film as needed can also be added by a method according to the related art.

【0031】液晶表示装置は一般に、偏光板、液晶セ
ル、反射板又はバックライト、及び必要に応じての光学
部品等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込
むことなどにより形成される。本発明においては、上記
した反射型液晶セル基板を用いる点を除いて特に限定は
なく、従来に準じて形成することができる。従って、本
発明における液晶表示装置の形成に際しては、例えば視
認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンチグレア層、
反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認
側の偏光板の間に設ける補償用位相差板などの適宜な光
学部品を前記反射型液晶セル基板に適宜に組み合わせる
ことができる。
A liquid crystal display device is generally formed by appropriately assembling components such as a polarizing plate, a liquid crystal cell, a reflector or a backlight, and optical components as necessary, and incorporating a drive circuit. In the present invention, there is no particular limitation except that the above-mentioned reflection type liquid crystal cell substrate is used, and it can be formed according to a conventional method. Therefore, when forming the liquid crystal display device of the present invention, for example, a light diffusion plate provided on the polarizing plate on the viewing side, an anti-glare layer,
Appropriate optical components such as an antireflection film, a protective layer, a protective plate, or a compensating retardation plate provided between the liquid crystal cell and the polarizing plate on the viewing side can be appropriately combined with the reflective liquid crystal cell substrate.

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例になんら限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples.

【0032】実施例1:(化1)の化学式で示される
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート100部(重量
部、以下同じ)、(化2)の化学式で示されるメチルヘ
キサヒドロフタル酸無水物125部、(化3)の化学式
で示されるテトラ−n−ブチルホスホニウムo,o−ジ
エチルホスホロジチオエート1部を攪拌混合してエポキ
シ系樹脂含有液を調製した。
Example 1: 100 parts (parts by weight, hereinafter the same) of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate represented by the chemical formula (1) and the chemical formula (2) 125 parts of methylhexahydrophthalic anhydride and 1 part of tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithioate represented by the following chemical formula were stirred and mixed to prepare a liquid containing an epoxy resin. .

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【化3】 Embedded image

【0033】まず(化4)の化学式で示されるウレタン
アクリレートの17重量%のトルエン溶液を、ステンレ
ス製エンドレスベルトに走行速度0.3m/分で流延塗
布し、風乾してトルエンを揮発させた後、UV硬化装置
を用いて硬化し、膜厚2μmのハードコート層を形成し
た。続いて、前記エポキシ系樹脂含有液をハードコート
層の上に0.3m/分で流延塗布し、加熱装置を用いて
硬化させ、膜厚400μmのエポキシ系樹脂層を形成し
た。
First, a 17 wt% toluene solution of urethane acrylate represented by the chemical formula (Chemical Formula 4) was applied to a stainless steel endless belt at a running speed of 0.3 m / min by casting and air-dried to evaporate toluene. Thereafter, the composition was cured using a UV curing apparatus to form a hard coat layer having a thickness of 2 μm. Subsequently, the epoxy-based resin-containing liquid was cast and applied on the hard coat layer at a rate of 0.3 m / min and cured using a heating device to form an epoxy-based resin layer having a thickness of 400 μm.

【化4】 Embedded image

【0034】次にハードコート層、エポキシ系樹脂層の
積層体をエンドレスベルトから剥離し、窒素置換により
酸素濃度が0.5%の雰囲気下でガラス板上に180℃
×1時間放置しアフターキュアを行った。次にハードコ
ート層とエポキシ系樹脂層からなる積層体のエポキシ系
樹脂層側に真空蒸着法により厚みが1000nmのアル
ミニウムの反射層を成膜した。
Next, the laminated body of the hard coat layer and the epoxy resin layer was peeled off from the endless belt, and was replaced on a glass plate at 180 ° C. in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.5% by nitrogen replacement.
× After leaving for 1 hour, after-curing was performed. Next, an aluminum reflective layer having a thickness of 1000 nm was formed on the epoxy resin layer side of the laminate including the hard coat layer and the epoxy resin layer by a vacuum evaporation method.

【0035】[0035]

【比較例1】まずウレタンアクリレートの17重量%の
トルエン溶液を、ステンレス製エンドレスベルトに走行
速度0.3m/分で流延塗布し、風乾してトルエンを揮
発させた後、UV硬化装置を用いて硬化し、膜厚2μm
のハードコート層を形成した。続いてポリビニルアルコ
ール系樹脂の5.5重量%の水溶液をハードコート層上
に0.3m/分で流延塗布し、100℃で10分間乾燥
させ、膜厚3.7μmの有機ガスバリア層を形成した。
続いて、実施例1で調製したエポキシ系樹脂含有液を有
機ガスバリア層の上に0.3m/分で流延塗布し、加熱
装置を用いて硬化させ、膜厚400μmのエポキシ系樹
脂層を形成した。次にハードコート層、有機ガスバリア
層、エポキシ系樹脂層の積層体をエンドレスベルトから
剥離し、窒素置換により酸素濃度が0.5%の雰囲気下
でガラス板上に180℃×1時間放置しアフターキュア
を行った。次にハードコート層と有機ガスバリア層とエ
ポキシ系樹脂層からなる積層体のエポキシ系樹脂層側に
真空蒸着法により厚みが1000nmのアルミニウムの
反射層を成膜した。
Comparative Example 1 First, a 17% by weight urethane acrylate toluene solution was cast and applied to a stainless steel endless belt at a running speed of 0.3 m / min, air-dried to evaporate the toluene, and then a UV curing device was used. Cured to a film thickness of 2 μm
Was formed. Subsequently, a 5.5% by weight aqueous solution of a polyvinyl alcohol-based resin is applied on the hard coat layer by casting at a rate of 0.3 m / min and dried at 100 ° C. for 10 minutes to form an organic gas barrier layer having a thickness of 3.7 μm. did.
Subsequently, the epoxy resin-containing liquid prepared in Example 1 was applied onto the organic gas barrier layer by casting at a rate of 0.3 m / min, and cured using a heating device to form an epoxy resin layer having a thickness of 400 μm. did. Next, the laminated body of the hard coat layer, the organic gas barrier layer, and the epoxy resin layer was peeled off from the endless belt, and left on a glass plate at 180 ° C. for 1 hour in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.5% by replacing with nitrogen. Cure was done. Next, an aluminum reflective layer having a thickness of 1000 nm was formed on the epoxy resin layer side of the laminate including the hard coat layer, the organic gas barrier layer, and the epoxy resin layer by a vacuum evaporation method.

【0036】評価試験:酸素透過率(cc/m2・24
h・atm)、黄色度指数(YI値)酸素透過率はオキ
シラント法に従い、モダンコントロールズ社製、OX−
TRAN TWINを用いて測定した。測定条件は40
℃、43%RHとした。黄色度指数(YI値)は村上色
彩製、CMS−500を用いてJIS規格K−7103
に従って測定した。試料は30×50mmの平板を用い
た。
Evaluation test: oxygen permeability (cc / m 2 · 24)
h · atm), yellowness index (YI value) Oxygen permeability is OX- manufactured by Modern Controls according to the oxirant method.
Measured using TRAN TWIN. Measurement conditions are 40
° C and 43% RH. The yellowness index (YI value) is JIS K-7103 using CMS-500 manufactured by Murakami Colors.
It was measured according to. The sample used was a 30 × 50 mm flat plate.

【0037】前記の結果を表1に示した。The results are shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0038】実施例1の液晶セル基板を用いて液晶表示
装置を作成したところ、耐候信頼性は良好で表示品位も
優れていた。比較例1の液晶セル基板を用いて液晶表示
装置を作成したところ、耐候信頼性は問題なかったが、
白表示が黄色味を帯びていた。
When a liquid crystal display device was prepared using the liquid crystal cell substrate of Example 1, the weather resistance was excellent and the display quality was excellent. When a liquid crystal display device was prepared using the liquid crystal cell substrate of Comparative Example 1, there was no problem with weather resistance.
The white display was yellowish.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明の反射型液晶セル基板は樹脂系で
あるため薄型、軽量であり、機械強度にも優れている。
また反射層はガスバリア機能を有するので有機ガスバリ
ア層を積層させる必要はない。そのため本発明の反射型
液晶セル基板は黄色度変化率が小さく、耐熱性に優れて
いるという特徴を有する。
As described above, the reflection type liquid crystal cell substrate of the present invention is thin, light, and excellent in mechanical strength because it is made of resin.
Since the reflection layer has a gas barrier function, there is no need to stack an organic gas barrier layer. Therefore, the reflective liquid crystal cell substrate of the present invention has a feature that the rate of change in yellowness is small and the heat resistance is excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の樹脂シートの1例FIG. 1 shows an example of the resin sheet of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ハードコート層 2:基材層 3:反射層 1: Hard coat layer 2: Base layer 3: Reflective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂田 義昌 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 下平 起市 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 2H090 HA04 HB07X JA06 JA07 JB03 JB06 JC07 JD01 JD17 LA01 LA20 2H091 FA14Z FB08 GA02 GA07 GA16 LA04 LA11 LA20 2K009 AA15 BB23 CC35  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Yoshimasa Sakata 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation (72) Inventor Kiichi Shimohira 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka No. Nitto Denko F-term (reference) 2H090 HA04 HB07X JA06 JA07 JB03 JB06 JC07 JD01 JD17 LA01 LA20 2H091 FA14Z FB08 GA02 GA07 GA16 LA04 LA11 LA20 2K009 AA15 BB23 CC35

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくともハードコート層、基材層、金属
薄層からなる反射層が積層され、ハードコート層が最外
層である反射型液晶セル基板において、200℃で30
分加熱した後の黄色度と室温における黄色度から算出さ
れる黄色度変化率が0.75以下であることを特徴とす
る反射型液晶セル基板。
1. A reflective liquid crystal cell substrate in which at least a reflective layer comprising a hard coat layer, a base material layer and a thin metal layer is laminated, and the hard coat layer is the outermost layer, the reflective liquid crystal cell substrate has a temperature
A reflection type liquid crystal cell substrate, wherein a yellowness change rate calculated from yellowness after minute heating and yellowness at room temperature is 0.75 or less.
【請求項2】酸素透過率が0.3cc/m2・24h・
atm以下であることを特徴とする請求項1に記載の反
射型液晶セル基板。
2. An oxygen permeability of 0.3 cc / m 2 · 24 h ·
2. The reflection type liquid crystal cell substrate according to claim 1, wherein the reflection type liquid crystal cell substrate is at most atm.
【請求項3】前記ハードコート層がウレタン系樹脂から
なることを特徴とする請求項1〜2に記載の反射型液晶
セル基板。
3. The reflective liquid crystal cell substrate according to claim 1, wherein said hard coat layer is made of a urethane resin.
【請求項4】前記基材層がエポキシ系樹脂からなること
を特徴とする請求項1〜3に記載の反射型液晶セル基
板。
4. The reflective liquid crystal cell substrate according to claim 1, wherein said base layer is made of an epoxy resin.
【請求項5】200℃以上の耐熱性を有することを特徴
とする請求項1〜4に記載の反射型液晶セル基板。
5. The reflective liquid crystal cell substrate according to claim 1, which has a heat resistance of 200 ° C. or higher.
【請求項6】請求項1〜5の反射型液晶セル基板に電極
を設けたことを特徴とする反射型液晶セル基板。
6. A reflection type liquid crystal cell substrate, wherein electrodes are provided on the reflection type liquid crystal cell substrate according to claim 1.
【請求項7】請求項6の反射型液晶セル基板を用いた液
晶表示装置。
7. A liquid crystal display device using the reflection type liquid crystal cell substrate according to claim 6.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150153593A1 (en) * 2013-12-03 2015-06-04 Samsung Display Co., Ltd. Substrate inspection apparatus including liquid crystal modulator and manufacturing method of the liquid crystal modulator

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