JP2002060463A - Photocurable resin composition and three-dimensionally shaped article - Google Patents
Photocurable resin composition and three-dimensionally shaped articleInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学的立体造形法
に使用する光硬化性樹脂組成物、およびこれを光硬化し
て得られる立体形状物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photocurable resin composition used for an optical three-dimensional molding method, and a three-dimensional product obtained by photocuring the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、光硬化性の液状樹脂組成物に選択
的に光照射して硬化樹脂層を形成する工程を繰り返すこ
とにより、当該硬化樹脂層を一体的に積層して立体形状
物を形成する光学的立体造形法が提案されている(特開
昭60−247515号公報、特開昭62−35966
号公報、特開昭62−101408号公報および特開平
5−24119号公報参照)。このような立体造形法に
使用される光硬化性樹脂組成物には、効率的な光造形を
行う観点から、粘度が低くて直ちに平滑な液面を形成す
ることができるとともに、光硬化性が優れていること、
すなわち、光照射によって迅速に硬化するものであるこ
とが要求される。また、当該光硬化性樹脂組成物には、
光硬化時の硬化収縮に起因する反りをはじめとする変形
量が小さいことが要求される。光学的立体造形法により
得られる立体形状物は、デザインを検討するためのモデ
ル、機械部品の試作品などとして用いられるため、造形
精度にも優れていること、すなわち、設計図に忠実な微
細加工が高い精度で施されていること、また、使用条件
に耐え得る十分な機械的強度、さらにこうした機械的特
性が経時的に変化せず安定していることが要求される。2. Description of the Related Art In recent years, by repeating a process of forming a cured resin layer by selectively irradiating a photocurable liquid resin composition with light, a three-dimensional object is formed by integrally laminating the cured resin layers. There has been proposed an optical three-dimensional molding method for forming (JP-A-60-247515, JP-A-62-35966).
JP, JP-A-62-101408 and JP-A-5-24119). The photocurable resin composition used in such a three-dimensional molding method has a low viscosity and can immediately form a smooth liquid surface from the viewpoint of performing efficient photolithography, and has a photocurable property. Be superior,
That is, it is required that the resin be rapidly cured by light irradiation. Further, the photocurable resin composition,
It is required that the amount of deformation including warping due to curing shrinkage during light curing be small. Since the three-dimensional objects obtained by the optical three-dimensional molding method are used as models for studying designs and prototypes of mechanical parts, etc., they have excellent molding accuracy, that is, fine processing that is faithful to the design drawing Is required to be performed with high accuracy, sufficient mechanical strength capable of withstanding use conditions, and such mechanical properties being stable without changing over time.
【0003】上記の点を踏まえて、本発明者らは、オキ
セタン化合物およびエポキシ化合物をカチオン重合性有
機化合物として含有する立体造形用の樹脂組成物につい
て提案している(特開平10−168165号公報参
照)。この樹脂組成物は光硬化性に優れ、当該樹脂組成
物によれば、寸法精度および機械的強度の高い立体形状
物を短時間で造形することができる。[0003] In view of the above points, the present inventors have proposed a resin composition for stereolithography containing an oxetane compound and an epoxy compound as a cationically polymerizable organic compound (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-168165). reference). This resin composition is excellent in photocurability, and according to the resin composition, a three-dimensional object having high dimensional accuracy and high mechanical strength can be formed in a short time.
【0004】ところで、光学的立体造形用の光硬化性樹
脂組成物は、同一の容器内に収容されて数ヶ月から数年
間にわたって使用されることがある。そして、当該樹脂
組成物が保存・使用される環境条件(温度および湿度)
は、必ずしも一定ではない。このため、光学的立体造形
用の光硬化性樹脂組成物には、保存安定性が良好で、そ
のような環境下に長期にわたり保存された後において
も、その造形特性が変化せず、所期の性能(層間密着性
および造形精度)を有する立体形状物を安定して造形で
きることが望ましい。[0004] A photocurable resin composition for optical three-dimensional modeling is sometimes housed in the same container and used for several months to several years. And the environmental conditions (temperature and humidity) under which the resin composition is stored and used.
Is not always constant. For this reason, the photocurable resin composition for optical three-dimensional modeling has good storage stability, and even after being stored in such an environment for a long period of time, its modeling characteristics do not change. It is desirable that a three-dimensional object having the performance (interlayer adhesion and modeling accuracy) can be stably formed.
【0005】しかしながら、オキセタン化合物およびエ
ポキシ化合物を含有する上記の樹脂組成物を、通常の使
用環境(例えば、温度10〜30℃,相対湿度20〜8
0%)の下に数カ月間保存すると、当該樹脂組成物が経
時的に水分を吸収(吸湿)し、その造形特性が大きく変
化してしまうという問題がある。この場合、保存前の樹
脂組成物における造形条件と同一の条件で造形しても、
所期の性能を有する立体形状物を得ることができない。[0005] However, the above resin composition containing an oxetane compound and an epoxy compound is subjected to a normal use environment (for example, a temperature of 10 to 30 ° C and a relative humidity of 20 to 8).
(0%) for several months, there is a problem that the resin composition absorbs (absorbs moisture) with time, and its molding characteristics are greatly changed. In this case, even if molding under the same conditions as the molding conditions in the resin composition before storage,
It is not possible to obtain a three-dimensional object having the expected performance.
【0006】ここに、オキセタン化合物およびエポキシ
化合物を含有する上記の樹脂組成物を標準的な使用環境
下(温度23℃、相対湿度50%)で、保存・使用した
場合に、当該樹脂組成物は、当該環境における平衡水分
量に達するまで長期間にわたって水分を吸収する。そし
て、保存前における当該樹脂組成物の水分量と、保存後
における当該樹脂組成物の水分量との差に起因して、当
該樹脂組成物の造形特性、例えば、一定の照射エネルギ
ーを受けたときの硬化深度(光照射により形成される硬
化層の厚さ)が大きく変化する。Here, when the above resin composition containing an oxetane compound and an epoxy compound is stored and used under a standard use environment (temperature 23 ° C., relative humidity 50%), the resin composition becomes Absorb water over a long period of time until the equilibrium water content in the environment is reached. Then, due to the difference between the water content of the resin composition before storage and the water content of the resin composition after storage, the molding characteristics of the resin composition, for example, when receiving a certain irradiation energy Of the cured layer (thickness of the cured layer formed by light irradiation) greatly changes.
【0007】そして、保存前における当該樹脂組成物
(低水分量の樹脂組成物)に対する最適な造形条件で長
期間にわたり造形を行うと、経時的な水分量の増加に伴
って、硬化深度が小さくなり、一定時間経過後(保存後
または保存期間中)に得られる立体形状物において、層
間密着性が低下して剥離が発生する。他方、保存後にお
ける当該樹脂組成物(高水分量の樹脂組成物)に対する
最適な造形条件で造形を行うと、初期段階における当該
樹脂組成物の硬化深度が設計値より大きくなり、積層方
向における造形精度が低下してしまう。このような不具
合は、保存・使用環境の湿度が高いほど顕著であり、こ
のため、所期の性能を有する立体形状物を安定的に造形
するための最適条件を設定することはきわめて困難であ
った。[0007] When molding is performed for a long period of time under the optimal molding conditions for the resin composition (resin composition having a low moisture content) before storage, the curing depth decreases as the moisture content increases with time. In a three-dimensional object obtained after a certain period of time (after storage or during a storage period), interlayer adhesion is reduced and peeling occurs. On the other hand, when the molding is performed under the optimal molding conditions for the resin composition (resin composition having a high water content) after storage, the curing depth of the resin composition in the initial stage becomes larger than the design value, and the molding in the laminating direction is performed. Accuracy decreases. Such inconvenience is more remarkable as the humidity of the storage / use environment is higher. Therefore, it is extremely difficult to set optimal conditions for stably forming a three-dimensional object having the expected performance. Was.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
事情に基いてなされたものである。本発明の目的は、通
常の使用環境下(温度10〜30℃,相対湿度20〜8
0%)において長期間にわたり保存・使用される場合で
あっても、造形特性(硬化深度)が実質的に変化せず、
所期の性能(層間密着性および造形精度)を有する立体
形状物を、同一の造形条件により、安定して造形するこ
とができる光硬化性樹脂組成物を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above circumstances. It is an object of the present invention to provide a device in a normal use environment (temperature: 10 to 30 ° C., relative humidity: 20 to 8).
0%), even when stored and used for a long time, the shaping characteristics (hardening depth) do not substantially change,
It is an object of the present invention to provide a photocurable resin composition that can stably form a three-dimensional object having desired performance (layer adhesion and molding accuracy) under the same molding conditions.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の光硬化性樹脂組
成物は、(A)オキセタン化合物、(B)エポキシ化合
物、(C)光酸発生剤を含有する立体造形用の光硬化性
樹脂組成物であって、調製時における水分量が0.3〜
1.5重量%であることを特徴とする。ここに、「調製
時における水分量」とは、当該樹脂組成物を調製してか
ら48時間以内に測定された水分量をいうものとする。The photocurable resin composition of the present invention comprises a photocurable resin for three-dimensional molding, comprising (A) an oxetane compound, (B) an epoxy compound, and (C) a photoacid generator. A composition having a water content of 0.3 to
It is characterized by being 1.5% by weight. Here, the “moisture content at the time of preparation” refers to the moisture content measured within 48 hours after the preparation of the resin composition.
【0010】本発明の光硬化性樹脂組成物は、(A)オ
キセタン化合物、(B)エポキシ化合物、(C)光酸発
生剤を含有する立体造形用の光硬化性樹脂組成物であっ
て、水分量が0.3〜1.5重量%となるように、水を
添加してなることを特徴とする。The photocurable resin composition of the present invention is a photocurable resin composition for three-dimensional modeling, comprising (A) an oxetane compound, (B) an epoxy compound, and (C) a photoacid generator. Water is added so that the water content is 0.3 to 1.5% by weight.
【0011】本発明の光硬化性樹脂組成物においては、
下記の形態が好ましい。 〔1〕(D)数平均粒径10〜700nmのエラストマ
ー粒子を含有すること。 〔2〕(A)オキセタン化合物を10〜80重量部、
(B)エポキシ化合物を10〜80重量部、(C)光酸
発生剤を0.1〜10重量部、(D)数平均粒径10〜
700nmのエラストマー粒子を0〜35重量部含有
し、(A)成分、(B)成分、(C)成分および(D)
成分の合計が100重量部であること。 〔3〕温度23℃、相対湿度50%における平衡水分量
に対して、0.5〜1.5倍の水分量となるように、水
を添加してなること。 〔4〕(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成
分および水の混合物を脱泡処理して得られること。In the photocurable resin composition of the present invention,
The following forms are preferred. [1] (D) Elastomer particles having a number average particle size of 10 to 700 nm are contained. [2] 10 to 80 parts by weight of (A) oxetane compound,
(B) 10 to 80 parts by weight of an epoxy compound, (C) 0.1 to 10 parts by weight of a photoacid generator, and (D) number average particle diameter of 10 to 10.
The composition contains 0 to 35 parts by weight of 700 nm elastomer particles, and comprises component (A), component (B), component (C) and component (D).
The total of the components is 100 parts by weight. [3] Water is added so that the water content is 0.5 to 1.5 times the equilibrium water content at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. [4] A mixture obtained by defoaming a mixture of component (A), component (B), component (C), component (D) and water.
【0012】本発明の立体形状物は、本発明の光硬化性
樹脂組成物を光硬化して得られることを特徴とする。The three-dimensionally shaped article of the present invention is obtained by photocuring the photocurable resin composition of the present invention.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の樹脂組成物につい
て詳細に説明する。本発明の樹脂組成物は、(A)成分
であるオキセタン化合物と、(B)成分であるエポキシ
化合物と、(C)成分である光酸発生剤と、調製時に添
加された水とが必須の成分として含有され、(D)成分
であるエラストマー粒子が含有されていてもよい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the resin composition of the present invention will be described in detail. The resin composition of the present invention includes an oxetane compound as the component (A), an epoxy compound as the component (B), a photoacid generator as the component (C), and water added at the time of preparation. It may be contained as a component, and may contain elastomer particles as the component (D).
【0014】<(A)成分>(A)成分であるオキセタ
ン化合物は、下記式(1)で表されるオキセタン環を1
つ以上有する化合物である。<Component (A)> The oxetane compound as the component (A) has one oxetane ring represented by the following formula (1).
It is a compound having one or more.
【0015】[0015]
【化1】 Embedded image
【0016】このオキセタン化合物は、カチオン重合性
光重合開始剤の存在下で光照射することにより重合反応
や架橋反応を起こす。このようなオキセタン化合物とし
ては、分子中にオキセタン環を1つ以上有する化合物で
あれば、種々のものが使用できる。以下に例示する。The oxetane compound undergoes a polymerization reaction or a crosslinking reaction when irradiated with light in the presence of a cationically polymerizable photopolymerization initiator. As such an oxetane compound, various compounds can be used as long as the compound has one or more oxetane rings in the molecule. Examples are given below.
【0017】分子中に1個のオキセタン環を有する化合
物としては、下記式(2)で示される化合物が挙げられ
る。The compound having one oxetane ring in the molecule includes a compound represented by the following formula (2).
【0018】[0018]
【化2】 Embedded image
【0019】〔式(2)において、Zは酸素原子または
硫黄原子を示す。R1 は水素原子;フッ素原子;メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1
〜6個のアルキル基;トリフルオロメチル基、パーフル
オロエチル基、パーフルオロプロピル基等の炭素原子数
1〜6個のフルオロアルキル基;フェニル基、ナフチル
基等の炭素原子数6〜18のアリール基;フリル基また
はチエニル基を示す。R 2 は、水素原子;メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜6個
のアルキル基;1−プロペニル基、2−プロペニル基、
2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロ
ペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテ
ニル基等の炭素原子数2〜6個のアルケニル基;フェニ
ル基、ナフチル基、アントニル基、フェナントリル基等
の炭素原子数6〜18のアリール基;ベンジル基、フル
オロベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチル基、
スチリル基、シンナミル基、エトキシベンジル基等の置
換または非置換の炭素原子数7〜18のアラルキル基;
フェノキシメチル基、フェノキシエチル基等のアリーロ
キシアルキルなどのその他の芳香環を有する基;エチル
カルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニ
ル基等の炭素原子数2〜6個のアルキルカルボニル基;
エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基等の炭素原子数2〜6個のアルコキシ
カルボニル基;エチルカルバモイル基、プロピルカルバ
モイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイ
ル基等の炭素原子数2〜6個のN−アルキルカルバモイ
ル基等を示す。〕[In the formula (2), Z represents an oxygen atom or
Indicates a sulfur atom. R1Is hydrogen atom; fluorine atom; methyl
Group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.
~ 6 alkyl groups; trifluoromethyl group, perful
Number of carbon atoms in oloethyl group, perfluoropropyl group, etc.
1 to 6 fluoroalkyl groups; phenyl group, naphthyl
An aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a group; a furyl group or
Represents a thienyl group. R TwoIs a hydrogen atom; methyl group, d
1 to 6 carbon atoms such as tyl, propyl, butyl, etc.
An alkyl group of 1-propenyl group, 2-propenyl group,
2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2-pro
Phenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butene
An alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms such as a phenyl group;
Group, naphthyl group, antonyl group, phenanthryl group, etc.
An aryl group having 6 to 18 carbon atoms; benzyl group, full
Orobenzyl group, methoxybenzyl group, phenethyl group,
Substitution of styryl group, cinnamyl group, ethoxybenzyl group, etc.
A substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms;
Arylo such as phenoxymethyl group and phenoxyethyl group
Groups having other aromatic rings such as xyalkyl; ethyl
Carbonyl group, propylcarbonyl group, butyl carbonyl
An alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an alkyl group;
Ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, buto
Alkoxy having 2 to 6 carbon atoms such as xycarbonyl group
Carbonyl group; ethylcarbamoyl group, propylcarba
Moyl group, butylcarbamoyl group, pentylcarbamoy
N-alkylcarbamoy having 2 to 6 carbon atoms such as
And the like. ]
【0020】分子中に2個のオキセタン環を有する化合
物としては、下記式(3)で示される化合物が挙げられ
る。The compound having two oxetane rings in the molecule includes a compound represented by the following formula (3).
【0021】[0021]
【化3】 Embedded image
【0022】〔式(3)において、Zは酸素原子または
硫黄原子を示し、R1 は、上記式(2)における定義と
同じである。R3 は、エチレン基、プロピレン基、ブチ
レン基等の線状或いは分枝状の、炭素原子数1〜20の
アルキレン基;ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロ
ピレンオキシ)基等の線状或いは分枝状の、炭素原子数
1〜120のポリ(アルキレンオキシ)基;プロペニレ
ン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状或
いは分枝状の不飽和炭化水素基;カルボニル基;カルボ
ニル基を含むアルキレン基;分子鎖の途中にカルボキシ
ル基を含むアルキレン基;分子鎖の途中にカルバモイル
基を含むアルキレン基を示す。また、R3は、下記の式
(4)、式(5)および式(6)で示される基から選択
される多価の基であってもよい。〕[In the formula (3), Z represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is the same as defined in the above formula (2). R 3 is a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms such as an ethylene group, a propylene group or a butylene group; a linear or branched alkylene group such as a poly (ethyleneoxy) group or a poly (propyleneoxy) group; A branched poly (alkyleneoxy) group having 1 to 120 carbon atoms; a linear or branched unsaturated hydrocarbon group such as a propenylene group, a methylpropenylene group, a butenylene group; a carbonyl group; An alkylene group containing a carboxyl group in the middle of a molecular chain; and an alkylene group containing a carbamoyl group in the middle of a molecular chain. R 3 may be a polyvalent group selected from the groups represented by the following formulas (4), (5) and (6). ]
【0023】[0023]
【化4】 Embedded image
【0024】〔式(4)において、R4 は、水素原子;
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原
子数1〜4個のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素原子数1〜4個のア
ルコキシ基;塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;ニ
トロ基;シアノ基;メルカプト基;低級アルキルカルボ
キシル基;カルボキシル基またはカルバモイル基を示
し、xは1〜4の整数である。〕[In the formula (4), R 4 is a hydrogen atom;
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group; a methoxy group, an ethoxy group,
A alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a propoxy group and a butoxy group; a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom; a nitro group; a cyano group; a mercapto group; a lower alkylcarboxyl group; a carboxyl group or a carbamoyl group; x is an integer of 1 to 4. ]
【0025】[0025]
【化5】 Embedded image
【0026】〔式(5)において、R5 は、酸素原子、
硫黄原子、メチレン基、−NH−、−SO−、−SO2
−、−C(CF3 )2 −または−C(CH3 )2 −を示
す。〕[In the formula (5), R 5 is an oxygen atom,
Sulfur atom, a methylene group, -NH -, - SO -, - SO 2
—, —C (CF 3 ) 2 — or —C (CH 3 ) 2 —. ]
【0027】[0027]
【化6】 Embedded image
【0028】〔式(6)において、R6 は、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4
個のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等の炭素原子
数6〜18のアリール基を示す。yは、0〜200の整
数である。R7 はメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等の炭素原子数1〜4個のアルキル基;フェニル
基、ナフチル基等の炭素原子数6〜18のアリール基、
または下記式(7)で示される基を示す。〕[In the formula (6), R 6 represents a methyl group,
1-4 carbon atoms such as ethyl group, propyl group and butyl group
Alkyl groups; an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group. y is an integer of 0 to 200. R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group; an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group;
Or a group represented by the following formula (7). ]
【0029】[0029]
【化7】 Embedded image
【0030】〔式(7)において、R8 は、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4
個のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等の炭素原子
数6〜18のアリール基を示す。zは、0〜100の整
数である。〕[In the formula (7), R 8 is a methyl group,
1-4 carbon atoms such as ethyl group, propyl group and butyl group
Alkyl groups; an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group. z is an integer of 0 to 100. ]
【0031】上記式(3)で表される分子中に2個のオ
キセタン環を有する化合物の具体例としては、例えば下
記式(8)および式(9)示される化合物等が挙げられ
る。Specific examples of the compound having two oxetane rings in the molecule represented by the above formula (3) include compounds represented by the following formulas (8) and (9).
【0032】[0032]
【化8】 Embedded image
【0033】[0033]
【化9】 Embedded image
【0034】また、分子中に2個のオキセタン環を有す
る上記式(3)以外の化合物の具体例として、下記式
(10)で示される化合物等が挙げられる。Specific examples of the compound other than the above formula (3) having two oxetane rings in the molecule include a compound represented by the following formula (10).
【0035】[0035]
【化10】 Embedded image
【0036】〔式(10)において、R1 は、上記式
(2)における定義と同じである。〕[In the formula (10), R 1 is the same as the definition in the above formula (2). ]
【0037】分子中に3個以上のオキセタン環を有する
化合物としては、下記式(11)で示される化合物等が
挙げられる。The compound having three or more oxetane rings in the molecule includes a compound represented by the following formula (11).
【0038】[0038]
【化11】 Embedded image
【0039】〔式(11)において、Zは酸素原子また
は硫黄原子を示し、R1 は、上記式(2)における定義
と同じである。R9 は、3〜10価の有機基を示し、例
えば下記式(12)〜(14)で示される基等の炭素原
子数1〜30の分枝状または線状のアルキレン基、下記
式(15)で示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオ
キシ)基または下記式(16)または下記式(17)で
示される線状または分枝状ポリシロキサン含有基等が挙
げられる。jは、R9 の価数に等しい3〜10の整数で
ある。〕[In the formula (11), Z represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is the same as defined in the above formula (2). R 9 represents a trivalent to divalent organic group, for example, a branched or linear alkylene group having 1 to 30 carbon atoms such as a group represented by the following formulas (12) to (14); And a branched poly (alkyleneoxy) group such as a group represented by 15) or a linear or branched polysiloxane-containing group represented by the following formula (16) or (17). j is an integer of 3 to 10 equal to the valence of R 9 . ]
【0040】[0040]
【化12】 Embedded image
【0041】〔式(12)において、R10はメチル基、
エチル基、プロピル基等の炭素原子数1〜6個のアルキ
ル基を示す。〕[In the formula (12), R 10 is a methyl group,
It represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as an ethyl group and a propyl group. ]
【0042】[0042]
【化13】 Embedded image
【0043】[0043]
【化14】 Embedded image
【0044】[0044]
【化15】 Embedded image
【0045】〔式(15)において、Lは同一または異
なる1〜10の整数である。〕[In the formula (15), L is the same or a different integer from 1 to 10. ]
【0046】[0046]
【化16】 Embedded image
【0047】[0047]
【化17】 Embedded image
【0048】分子中に3個以上のオキセタン環を有する
化合物の具体例としては、下記式(18)で示される化
合物等が挙げられる。Specific examples of the compound having three or more oxetane rings in the molecule include a compound represented by the following formula (18).
【0049】[0049]
【化18】 Embedded image
【0050】また、下記式(19)で表される化合物は
1〜10個のオキセタン環を有し得る。The compound represented by the following formula (19) may have 1 to 10 oxetane rings.
【0051】[0051]
【化19】 Embedded image
【0052】〔式(19)において、R1 は上記式
(2)における定義と同じであり、R8 は上記式(7)
における定義と同じである。R11はメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4のアル
キル基またはトリアルキルシリル基(ここで、アルキル
基は同一または異なり、炭素原子数3〜12のアルキル
基である。トリアルキルシリル基としては、例えばトリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、トリブチルシリル基等を挙げることができ
る。)を示し、rは1〜10の整数である。〕[In the formula (19), R 1 is the same as defined in the above formula (2), and R 8 is the same as the formula (7)
Is the same as the definition in R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group or a trialkylsilyl group (where the alkyl groups are the same or different, and an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms) Examples of the trialkylsilyl group include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tripropylsilyl group, and a tributylsilyl group.), And r is an integer of 1 to 10. ]
【0053】さらに、(A)成分を構成するオキセタン
化合物として、上記の例示化合物の外に、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリ
スチレン換算の数平均分子量が1,000〜5,000
程度の高分子量を有する化合物も挙げられる。このよう
な化合物として、下記の式(20)、式(21)、式
(22)で表される化合物が挙げられる。Further, as the oxetane compound constituting the component (A), in addition to the above exemplified compounds, the number average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is 1,000 to 5,000.
Compounds having a high molecular weight are also included. Examples of such a compound include compounds represented by the following formulas (20), (21), and (22).
【0054】[0054]
【化20】 (ここで、pは20〜200の整数である。)Embedded image (Here, p is an integer of 20 to 200.)
【0055】[0055]
【化21】 (ここで、qは15〜100の整数である。)Embedded image (Here, q is an integer of 15 to 100.)
【0056】[0056]
【化22】 (ここで、sは20〜200の整数である。)Embedded image (Here, s is an integer of 20 to 200.)
【0057】分子中にオキセタン環を1個有するオキセ
タン化合物の具体例としては、3−エチル−3−ヒドロ
キシメチルオキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチ
ル−3−エチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセ
タニルメトキシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−〔1
−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン、4−メトキシ−〔1−(3−エチル−3−オ
キセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、〔1−(3−
エチル−3−オキセタニルメトキシ)エチル〕フェニル
エーテル、イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イ
ソボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、2−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
シクロペンタジエン(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシク
ロペンテニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2
−テトラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ト
リブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロ
キシプロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロ
モフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル等を挙げることができる。Specific examples of the oxetane compound having one oxetane ring in the molecule include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3- (meth) allyloxymethyl-3-ethyloxetane, (3-ethyl-3 -Oxetanylmethoxy) methylbenzene, 4-fluoro- [1
-(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl]
Benzene, 4-methoxy- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3-
Ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethyl] phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3-ethyl- 3-oxetanylmethyl) ether, 2-ethylhexyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethyldiethylene glycol (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentadiene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether , Dicyclopentenyloxyethyl (3
-Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl)
Ether, tetrahydrofurfuryl (3-ethyl-3-
Oxetanylmethyl) ether, tetrabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2
-Tetrabromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tribromophenyl (3
-Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tribromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxypropyl (3 -Ethyl-3-oxetanylmethyl)
Ether, butoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentachlorophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, bornyl (3-ethyl -3-oxetanylmethyl) ether and the like.
【0058】分子中にオキセタン環を2個以上有するオ
キセタン化合物の具体例としては、3, 7−ビス(3−
オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、3, 3’−
(1, 3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オ
キシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、
1, 4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキ
シ)メチル〕ベンゼン、1, 2−ビス[(3−エチル−
3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1, 3−
ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチ
ル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニ
ルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコー
ルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプ
ロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、1, 4−ビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)ブタン、1, 6−ビス(3−エチル−3−
オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトー
ルトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリ
コールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリ
スリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
トリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキシド(E
O)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、プロピレンオキシド(P
O)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノー
ルAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフ
ェノールF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテルなどを挙げることができる。Specific examples of oxetane compounds having two or more oxetane rings in the molecule include 3,7-bis (3-
Oxetanyl) -5-oxa-nonane, 3,3'-
(1,3- (2-methylenyl) propanediylbis (oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane),
1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-
3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-
Bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-
3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenylbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethyleneglycolbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethyleneglycolbis (3-ethyl-3- Oxetanylmethyl) ether, tricyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-
3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropanetris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl)
Ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1,6-bis (3-ethyl-3-
Oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-
3-oxetanylmethyl) ether, polyethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3) -Oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol pentakis (3 -Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylolpropanetetrakis (3-ethyl-3-
Oxetanylmethyl) ether, ethylene oxide (E
O) modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, propylene oxide (P
O) Modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3) -Oxetanylmethyl) ether and EO-modified bisphenol F (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether.
【0059】これらの例示化合物は、単独で、または2
種以上を組み合わせて(A)成分を構成することができ
る。These exemplified compounds may be used alone or
The component (A) can be constituted by combining two or more kinds.
【0060】これらのうち、(A)成分として好適に使
用することのできるオキセタン化合物は、分子中のオキ
セタン環の数が1〜10、より好ましくは1〜4、特に
好ましくは2の化合物である。具体的には、下記式(2
3)で示される(3−エチル−3−オキセタニルメトキ
シ)メチルベンゼン、下記式(24)で示される1,4
−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メ
チル]ベンゼン、下記式(25)で示される1, 2−ビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)エタン、
下記式(26)で示されるトリメチロールプロパントリ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
および上記式(19)で表される化合物が挙げられる。Of these, oxetane compounds which can be suitably used as component (A) are those having 1 to 10, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2 oxetane rings in the molecule. . Specifically, the following equation (2)
(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene represented by 3), 1,4 represented by the following formula (24)
-Bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethane represented by the following formula (25),
Trimethylolpropane tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether represented by the following formula (26),
And a compound represented by the above formula (19).
【0061】[0061]
【化23】 Embedded image
【0062】[0062]
【化24】 Embedded image
【0063】[0063]
【化25】 Embedded image
【0064】[0064]
【化26】 Embedded image
【0065】本発明の樹脂組成物における(A)成分の
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、10〜
80重量部であることが好ましく、更に好ましくは20
〜60重量部とされる。(A)成分の含有割合が過小で
ある場合には、得られる樹脂組成物のカチオン重合反応
速度(硬化速度)が小さくなり造形に長時間を要した
り、解像度が低下したりする傾向がある。一方、(A)
成分の含有割合が過大である場合は、得られる樹脂組成
物の硬化物(立体形状物)の靭性が低下したり、硬化速
度が低下したりする傾向にある。The content ratio of the component (A) in the resin composition of the present invention is from 10 to 10 parts by weight when the total of the components (A), (B), (C) and (D) is 100 parts by weight.
It is preferably 80 parts by weight, more preferably 20 parts by weight.
To 60 parts by weight. When the content ratio of the component (A) is too small, the cationic polymerization reaction rate (curing rate) of the obtained resin composition becomes small, and a long time is required for modeling, and the resolution tends to be reduced. . On the other hand, (A)
When the content ratio of the components is excessive, the toughness of the cured product (three-dimensional product) of the obtained resin composition tends to decrease, and the curing speed tends to decrease.
【0066】<(B)成分>(B)成分であるエポキシ
化合物とは、3員環のエチレンオキサイド構造を有する
化合物をいい、オキセタン基など4員環以上の構造を有
する化合物を含まない。エポキシ化合物の1分子中にお
けるエチレンオキサイド構造の数は、1個以上とされ、
好ましくは2〜15個、更に好ましくは2〜8個とされ
る。カチオン重合性有機化合物として、(A)成分とと
もに(B)成分を使用することにより、得られる樹脂組
成物は、(A)成分のみを含有する樹脂組成物と比較し
て光硬化反応速度が大きくなり、光硬化性が向上する。<Component (B)> The epoxy compound as the component (B) refers to a compound having a three-membered ethylene oxide structure and does not include a compound having a structure of four or more members such as an oxetane group. The number of ethylene oxide structures in one molecule of the epoxy compound is one or more,
The number is preferably 2 to 15, more preferably 2 to 8. By using the component (B) together with the component (A) as the cationically polymerizable organic compound, the obtained resin composition has a higher photocuring reaction rate than the resin composition containing only the component (A). And photocurability is improved.
【0067】(B)成分として好適なエポキシ化合物と
しては、(i)エポキシシクロヘキシル基を分子中に有
する化合物(エポキシシクロへキシル基含有化合物)、
(ii)グリシジル基を分子中に有する化合物(グリシジ
ル基含有化合物)を挙げることができる。エポキシシク
ロへキシル基含有化合物はカチオン重合性に優れてい
る。また、グリシジル基含有化合物は、重合体に柔軟性
を付与し、重合系のモビリティを増加させ、硬化性を一
層向上させることができる。Epoxy compounds suitable as component (B) include (i) compounds having an epoxycyclohexyl group in the molecule (epoxycyclohexyl group-containing compounds),
(Ii) Compounds having a glycidyl group in the molecule (glycidyl group-containing compounds). Epoxycyclohexyl group-containing compounds have excellent cationic polymerizability. Further, the glycidyl group-containing compound can impart flexibility to the polymer, increase the mobility of the polymerization system, and further improve the curability.
【0068】(i)エポキシシクロヘキシル基含有化合
物の具体例としては、3, 4−エポキシシクロヘキシル
メチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、2−(3, 4−エポキシシクロヘキシル−
5, 5−スピロ−3, 4−エポキシ)シクロヘキサン−
メタ−ジオキサン、ビス(3, 4−エポキシシクロヘキ
シルメチル)アジペート、ビス(3, 4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3, 4−
エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3',4'−エポ
キシ−6' −メチルシクロヘキサンカルボキシレート、
メチレンビス(3, 4−エポキシシクロヘキサン)、エ
チレングリコールのジ(3, 4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)エーテル、エチレンビス(3, 4−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート)、ε−カプロラクト
ン変性3, 4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,
4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリ
メチルカプロラクトン変性3, 4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性
3, 4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなどを挙げる
ことができる。(I) Specific examples of the compound containing an epoxycyclohexyl group include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate and 2- (3,4-epoxycyclohexyl-
5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-
Meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6)
-Methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-
Epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4′-epoxy-6′-methylcyclohexanecarboxylate,
Methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), 3,4-epoxycyclohexylmethyl modified with ε-caprolactone 3 ',
4′-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylcaprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4'-
Epoxy cyclohexane carboxylate and the like can be mentioned.
【0069】これらのうち、3, 4−エポキシシクロヘ
キシルメチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、ビス(3, 4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)アジペート、ε−カプロラクトン変性3, 4
−エポキシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロ
ラクトン変性3, 4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3, 4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレートが好ましく、3, 4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス(3, 4−エポキシ
シクロヘキシルメチル)アジペートが特に好ましい。Of these, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, ε-caprolactone-modified 3,4
-Epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylcaprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-
3 ′, 4′-Epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate is preferred, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-Epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate is particularly preferred.
【0070】(B)成分として好適に使用することので
きるエポキシシクロヘキシル基含有化合物の市販品とし
ては、UVR−6100、UVR−6105、UVR−
6110、UVR−6128、UVR−6200、UV
R−6216(以上、ユニオンカーバイド社製)、セロ
キサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサ
イド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2
085、エポリードGT−300、エポリードGT−3
01、エポリードGT−302、エポリードGT−40
0、エポリード401、エポリード403(以上、ダイ
セル化学工業(株)製)、KRM−2100、KRM−
2110、KRM−2199(以上、旭電化工業(株)
製)などを挙げることができる。Commercially available epoxycyclohexyl group-containing compounds which can be suitably used as component (B) include UVR-6100, UVR-6105, and UVR-6105.
6110, UVR-6128, UVR-6200, UV
R-6216 (all manufactured by Union Carbide Co.), Celloxide 2021, Celloxide 2021P, Celloxide 2081, Celloxide 2083, Celloxide 2
085, EPOLID GT-300, EPOLID GT-3
01, Eporide GT-302, Eporide GT-40
0, Eporide 401, Eporide 403 (all manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.), KRM-2100, KRM-
2110, KRM-2199 (above, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)
Manufactured).
【0071】(ii)グリシジル基含有化合物の具体例と
しては、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビス
フェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールS
ジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリ
シジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジル
エーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェ
ノールSジグリシジルエーテル、1, 4−ブタンジオー
ルジグリシジルエーテル、1, 6−ヘキサンジオールジ
グリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレン
グリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの
脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレ
ンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテ
ルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖
二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコ
ールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾ
ール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキ
サイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモ
ノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエス
テル類などを挙げることができる。(Ii) Specific examples of the glycidyl group-containing compound include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S
Diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl Ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether,
Polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; polyglycidyl of polyether polyol obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin Ethers; diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols; monoglycidyl ethers of phenol, cresol, butylphenol or polyether alcohols obtained by adding alkylene oxide thereto; Glycidyl esters of higher fatty acids and the like can be mentioned.
【0072】これらのうち、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1, 4−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル、1, 6−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好まし
い。Of these, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexane Preferred are diol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether.
【0073】(B)成分として好適に使用することので
きるグリシジル基含有化合物の市販品としては、UVR
−6216(以上、ユニオンカーバイド社製)、グリシ
ドール、AOEX24、サイクロマーA200、(以
上、ダイセル化学工業(株)製)、エピコート828、
エピコート812、エピコート1031、エピコート8
72、エピコートCT508(以上、油化シェル(株)
製)、KRM−2400、KRM−2410、KRM−
2408、KRM−2490、KRM−2720、KR
M−2750(以上、旭電化工業(株)製)などを挙げ
ることができる。Commercially available glycidyl group-containing compounds which can be suitably used as component (B) include UVR
-6216 (all manufactured by Union Carbide Co.), glycidol, AOEX24, Cyclomer A200, (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Epicoat 828,
Epicoat 812, Epicoat 1031, Epicoat 8
72, Epikote CT508 (both Yuka Shell Co., Ltd.)
KRM-2400, KRM-2410, KRM-
2408, KRM-2490, KRM-2720, KR
M-2750 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo KK) and the like.
【0074】さらに、(B)成分を構成するエポキシ化
合物として、上記の化合物の外に、GPCで測定したポ
リスチレン換算の数平均分子量1,000〜20,00
0の化合物を含有させることが好ましく、これにより、
得られる樹脂組成物の硬化物の靭性をより良好なものに
することができる。Further, as the epoxy compound constituting the component (B), in addition to the above-mentioned compounds, a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 1,000 to 20,000 as measured by GPC is used.
0 is preferably contained, whereby
It is possible to improve the toughness of the cured product of the obtained resin composition.
【0075】このような化合物として、(1) エチレン
性不飽和結合基を有する対応化合物の炭素−炭素二重結
合を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化す
る方法により得られるエポキシ変性化合物;(2) 分子
中にエポキシ基を含有するラジカル重合性モノマーを重
合して得られるエポキシ基含有重合体;(3) 水酸基等
の官能基を有する化合物をエピクロロヒドリンと反応さ
せる方法等のそれ自体公知の製造方法により得られるエ
ポキシ基含有化合物などを挙げることができる。Such a compound can be obtained by (1) epoxidizing a carbon-carbon double bond of a corresponding compound having an ethylenically unsaturated bond group with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Epoxy-modified compound; (2) Epoxy group-containing polymer obtained by polymerizing a radical polymerizable monomer having an epoxy group in the molecule; (3) Reaction of a compound having a functional group such as a hydroxyl group with epichlorohydrin Examples thereof include epoxy group-containing compounds obtained by a production method known per se such as a method.
【0076】ポリスチレン換算の数平均分子量が1,0
00〜20,000である化合物を得るためには、上記
(1)のエポキシ変性化合物の場合には、原料であるエ
チレン性不飽和結合基を有する化合物として、ポリスチ
レン換算の数平均分子量が1,000以上20,000
未満のものを使用すればよく、上記(2)のエポキシ基
含有重合体の場合には、所望の重合度のポリマーが得ら
れるように公知の方法で調整すればよい。また、上記
(3)のエポキシ基含有化合物の場合には、原料である
水酸基等の官能基を有する化合物として、ポリスチレン
換算の数平均分子量が1,000以上20,000未満
のものを使用すればよい。上記(1)のエポキシ変性化
合物の市販品としては、Poly bd R−45EP
I(出光石油化学(株)製)、R−15EPI、R−4
5EPI(以上、ナガセ化成工業(株)製)、エポリー
ドPB3600、PB4700(以上、ダイセル化学工
業(株)製)などを挙げることができる。The number average molecular weight in terms of polystyrene is 1,0
In order to obtain a compound having a number average molecular weight of 1,000 in the case of the epoxy-modified compound (1), the compound having an ethylenically unsaturated bond group as a raw material has a number average molecular weight of 1,1 in terms of polystyrene. 000 or more and 20,000
What is necessary is just to use the thing below, and in the case of the said epoxy group containing polymer of (2), what is necessary is just to adjust by a well-known method so that the polymer of a desired degree of polymerization may be obtained. In the case of the epoxy group-containing compound (3), a compound having a number average molecular weight in terms of polystyrene of 1,000 or more and less than 20,000 is used as a compound having a functional group such as a hydroxyl group as a raw material. Good. Commercial products of the epoxy-modified compound of the above (1) include Poly bd R-45EP
I (Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.), R-15EPI, R-4
5EPI (above, manufactured by Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd.), Eporide PB3600, PB4700 (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like.
【0077】上記のエポキシ化合物は、単独で、または
2種以上を組み合わせて(B)成分を構成することがで
きる。The above-mentioned epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more to constitute the component (B).
【0078】本発明の樹脂組成物における(B)成分の
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、10〜
80重量部であることが好ましく、更に好ましくは20
〜70重量部とされる。(B)成分の含有割合が過小で
ある場合には、得られる樹脂組成物の光硬化性が低下す
る。一方、(B)成分の含有割合が過大である場合は、
得られる樹脂組成物の粘度が上昇して造形時間が長くな
る傾向がある。The content of the component (B) in the resin composition of the present invention is 10 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the components (A), (B), (C) and (D).
It is preferably 80 parts by weight, more preferably 20 parts by weight.
To 70 parts by weight. When the content ratio of the component (B) is too small, the photocurability of the obtained resin composition decreases. On the other hand, when the content ratio of the component (B) is excessive,
There is a tendency that the viscosity of the obtained resin composition increases and the molding time becomes longer.
【0079】<(C)成分>(C)成分である光酸発生
剤は、光などのエネルギー線を受けることによって、
(A)成分および(B)成分のカチオン重合を開始させ
る物質を放出することができる化合物である。ここで、
光などのエネルギー線には、可視光、紫外光、赤外光、
X線、α線、β線、γ線などが含まれる。<Component (C)> The photoacid generator, which is the component (C), receives energy rays such as light,
A compound capable of releasing a substance that initiates cationic polymerization of the component (A) and the component (B). here,
Energy rays such as light include visible light, ultraviolet light, infrared light,
X-rays, α-rays, β-rays, γ-rays and the like are included.
【0080】(C)成分を構成する好適な化合物とし
て、下記式(27)で表される構造を有するオニウム塩
を挙げることができる。このオニウム塩は、光を受ける
ことによりルイス酸を放出する化合物である。As a suitable compound constituting the component (C), an onium salt having a structure represented by the following formula (27) can be given. This onium salt is a compound that emits a Lewis acid upon receiving light.
【0081】[0081]
【化27】 [R12 a R13 b R14 c R15 d Z]+m[MXn+m ]-m (27)Embedded image [R 12 a R 13 b R 14 c R 15 d Z] + m [MX n + m ] −m (27)
【0082】〔式中、カチオンはオニウムイオンであ
り、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、
I、Br、ClまたはN≡Nを示し、R12、R13、R14
およびR 15は、同一または異なる有機基を示す。a、
b、cおよびdは、それぞれ0〜3の整数であって、
(a+b+c+d)はZの価数に等しい。Mは、ハロゲ
ン化物錯体〔MXn+m 〕の中心原子を構成する金属また
はメタロイドを示し、例えばB、P、As、Sb、F
e、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、S
c、V、Cr、Mn、Coなどである。Xは例えばF、
Cl、Br等のハロゲン原子であり、mはハロゲン化物
錯体イオンの正味の電荷であり、nはMの原子価であ
る。〕Wherein the cation is an onium ion
Z is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O,
Represents I, Br, Cl or N≡N;12, R13, R14
And R FifteenRepresents the same or different organic groups. a,
b, c and d are each an integer of 0 to 3,
(A + b + c + d) is equal to the valence of Z. M is a haloge
Complex [MXn + mThe metal constituting the central atom of
Represents a metalloid, for example, B, P, As, Sb, F
e, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, S
c, V, Cr, Mn, Co and the like. X is F,
A halogen atom such as Cl or Br, and m is a halide
Is the net charge of the complex ion, and n is the valence of M
You. ]
【0083】上記式(27)において、オニウムイオン
の具体例としては、ジフェニルヨードニウム、4−メト
キシジフェニルヨードニウム、ビス(4−メチルフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(4−tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニ
ウム、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−4−チ
オフェノキシフェニルスルホニウム、ビス[4−(ジフ
ェニルスルホニオ)−フェニル]スルフィド、ビス[4
−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スル
ホニオ)- フェニル] スルフィド、η5 −2, 4−(シ
クロペンタジエニル)[1, 2, 3, 4, 5, 6−η]
−(メチルエチル)−ベンゼン] −鉄(1+)等が挙げ
られる。In the above formula (27), specific examples of the onium ion include diphenyliodonium, 4-methoxydiphenyliodonium, bis (4-methylphenyl) iodonium, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium, bis (dodecyl) Phenyl) iodonium, triphenylsulfonium, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium, bis [4- (diphenylsulfonio) -phenyl] sulfide, bis [4
- (di (4- (2-hydroxyethyl) phenyl) sulfonio) - phenyl] sulfide, η 5 -2, 4- (cyclopentadienyl) [1, 2, 3, 4, 5, 6-η]
-(Methylethyl) -benzene] -iron (1+).
【0084】上記式(27)において、アニオン[ MX
n+m ] の具体例としては、テトラフルオロボレート(B
F4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、ヘキ
サフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフルオ
ロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロロアンチモネ
ート(SbCl6 -)などが挙げられる。In the above formula (27), the anion [MX
n + m ] is tetrafluoroborate (B
F 4 − ), hexafluorophosphate (PF 6 − ), hexafluoroantimonate (SbF 6 − ), hexafluoroarsenate (AsF 6 − ), hexachloroantimonate (SbCl 6 − ), and the like.
【0085】また、一般式[ MXn (OH)- ] で表さ
れるアニオンを有するオニウム塩を使用することができ
る。さらに、過塩素酸イオン(ClO4 - )、トリフル
オロメタンスルフォン酸イオン(CF3 SO3 - )、フ
ルオロスルフォン酸イオン(FSO3 - )、トルエンス
ルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸ア
ニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオンなど
の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもで
きる。Further, the general formula [MX n An onium salt having an anion represented by (OH) - ] can be used. Furthermore, perchlorate ion (ClO 4 − ), trifluoromethanesulfonic acid ion (CF 3 SO 3 − ), fluorosulfonic acid ion (FSO 3 − ), toluenesulfonic acid ion, trinitrobenzenesulfonic acid anion, trinitrotoluenesulfonic acid Onium salts with other anions, such as anions, can also be used.
【0086】このようなオニウム塩のうち、(C)成分
として特に有効な光酸発生剤は、芳香族オニウム塩であ
る。例えば特開昭50−151996号公報、特開昭5
0−158680号公報などに記載の芳香族ハロニウム
塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−3
0899号公報、特開昭56−55420号公報、特開
昭55−125105号公報などに記載のVIA族芳香
族オニウム塩、特開昭50−158698号公報などに
記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428
号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭57
−192429号公報などに記載のオキソスルホキソニ
ウム塩、特開昭49−17040号公報などに記載の芳
香族ジアゾニウム塩、米国特許第4, 139, 655号
明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。ま
た、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素
化合物系開始剤なども挙げることができる。Among such onium salts, a photoacid generator particularly effective as the component (C) is an aromatic onium salt. For example, JP-A-50-151996 and JP-A-5-151996
Aromatic halonium salts described in JP-A-158680, JP-A-50-151997, JP-A-52-3
No. 0899, JP-A-56-55420, JP-A-55-125105 and the like, and VA-group aromatic onium salt as described in JP-A-50-158698 and the like. JP-A-56-8428
JP, JP-A-56-149402, JP-A-57-149402
Preferred are oxosulfoxonium salts described in JP-A-192429 and the like, aromatic diazonium salts described in JP-A-49-17040 and the like, and thiobrillium salts described in U.S. Pat. No. 4,139,655. . Further, an iron / allene complex, an aluminum complex / photolytic silicon compound-based initiator and the like can also be mentioned.
【0087】(C)成分として好適に使用することので
きる光酸発生剤の市販品としては、UVI−6950、
UVI−6970、UVI−6974、UVI−699
0(以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプトマ
ーSP−150、SP−151、SP−170、SP−
172(以上、旭電化工業(株)製)、Irgacur
e 261(以上、チバ・スペシャルティー・ケミカル
ズ(株)製)、CI−2481、CI−2624、CI
−2639、CI−2064(以上、日本曹達(株)
製)、CD−1010、CD−1011、CD−101
2(以上、サートマー社製)、DTS−102、DTS
−103、NAT−103、NDS−103、TPS−
103、MDS−103、MPI−103、BBI−1
03(以上、みどり化学(株)製)、PCI−061
T、PCI−062T、PCI−020T、PCI−0
22T(以上、日本化薬(株)製)などを挙げることが
できる。これらのうち、UVI−6970、UVI−6
974、アデカオプトマーSP−170、SP−17
2、CD−1012、MPI−103は、これらを含有
してなる樹脂組成物に高い光硬化感度を発現させること
ができることから特に好ましい。Commercially available photoacid generators that can be suitably used as component (C) include UVI-6950,
UVI-6970, UVI-6974, UVI-699
0 (all manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), Adeka Optomer SP-150, SP-151, SP-170, SP-
172 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacur
e 261 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), CI-2481, CI-2624, CI
-2639, CI-2064 (Nippon Soda Co., Ltd.)
Manufactured), CD-1010, CD-1011, CD-101
2, DTS-102, DTS
-103, NAT-103, NDS-103, TPS-
103, MDS-103, MPI-103, BBI-1
03 (all manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.), PCI-061
T, PCI-062T, PCI-020T, PCI-0
22T (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like. Among them, UVI-6970, UVI-6
974, Adeka Optomer SP-170, SP-17
2, CD-1012 and MPI-103 are particularly preferable because a resin composition containing them can exhibit high photocuring sensitivity.
【0088】上記の光酸発生剤は、単独でまたは2種以
上組み合わせて(C)成分を構成することができる。The photoacid generators described above can be used alone or in combination of two or more to form the component (C).
【0089】本発明の樹脂組成物における(C)成分の
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、0.1
〜10重量部であることが好ましく、更に好ましくは
0. 2〜6重量部、特に好ましくは0. 3〜4重量部と
される。(C)成分の含有割合が過小である場合には、
得られる樹脂組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的
強度を有する立体形状物を造形することができない。一
方、この含有割合が過大である場合には、得られる樹脂
組成物を光学的立体造形法に供する場合に、適当な光透
過性を得ることができず、硬化深度の制御が困難とな
り、得られる立体形状物の造形精度が低下する傾向があ
る。The content ratio of the component (C) in the resin composition of the present invention is 0.1% when the total of the components (A), (B), (C) and (D) is 100 parts by weight. 1
The amount is preferably from 10 to 10 parts by weight, more preferably from 0.2 to 6 parts by weight, particularly preferably from 0.3 to 4 parts by weight. When the content ratio of the component (C) is too small,
The photocurability of the obtained resin composition is reduced, and a three-dimensional article having sufficient mechanical strength cannot be formed. On the other hand, when the content ratio is excessively large, when the obtained resin composition is subjected to an optical three-dimensional molding method, it is not possible to obtain an appropriate light transmittance, and it is difficult to control the curing depth, so that There is a tendency that the modeling accuracy of the three-dimensional object to be formed is reduced.
【0090】<(D)成分>本発明の樹脂組成物には、
(D)成分として、数平均粒径が10〜700nmのエ
ラストマー粒子が含有されていてもよい。(D)成分を
含有する樹脂組成物は、これを含有しない樹脂組成物と
比較して耐衝撃性が向上し、高靱性の硬化物を与えるこ
とができる。(D)成分を構成するエラストマー粒子と
しては、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタ
ジエン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/ブタジ
エン共重合体、スチレン/イソプレン共重合体、エチレ
ン/プロピレン共重合体、エチレン/α−オレフィン系
共重合体、エチレン/α−オレフィン/ポリエン共重合
体、アクリルゴム、ブタジエン/(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体、スチレン/ブタジエンブロック共重合
体、スチレン/イソプレンブロック共重合体などからな
る粒子を挙げることができる。<Component (D)> The resin composition of the present invention comprises:
As the component (D), elastomer particles having a number average particle size of 10 to 700 nm may be contained. The resin composition containing the component (D) has improved impact resistance as compared with a resin composition not containing the component, and can provide a cured product having high toughness. As the elastomer particles constituting the component (D), for example, polybutadiene, polyisoprene, butadiene / acrylonitrile copolymer, styrene / butadiene copolymer, styrene / isoprene copolymer, ethylene / propylene copolymer, ethylene / α- Olefin copolymer, ethylene / α-olefin / polyene copolymer, acrylic rubber, butadiene / (meth) acrylate copolymer, styrene / butadiene block copolymer, styrene / isoprene block copolymer, etc. Particles may be mentioned.
【0091】エラストマー粒子を形成するエラストマー
は、架橋構造を有していてもよい。エラストマーの架橋
は、従来公知の方法により実施することができる。エラ
ストマーを架橋するために使用する架橋剤としては、例
えばジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌ
レート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルフタレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、メタ
クリル酸アリルなどを例示することができる。The elastomer forming the elastomer particles may have a crosslinked structure. Crosslinking of the elastomer can be carried out by a conventionally known method. Examples of the crosslinking agent used for crosslinking the elastomer include divinylbenzene, ethylene glycol di (meth)
Examples include acrylate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, trimethylolpropane triacrylate, allyl methacrylate and the like.
【0092】(D)成分を構成するエラストマー粒子
は、上記のエラストマーからなる粒子(コア粒子)の表
面を、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレー
ト/グリシジルメタクリレート共重合体などで被覆した
コア/シェル型の粒子であってもよい。The elastomer particles constituting the component (D) are core / shell particles obtained by coating the surface of particles (core particles) made of the above elastomer with polymethyl methacrylate, a copolymer of methyl methacrylate / glycidyl methacrylate, or the like. It may be.
【0093】(D)成分として好適に使用することので
きるエラストマー粒子としては、例えばポリブタジエ
ン、ポリイソプレン、スチレン/ブタジエン共重合体、
スチレン/イソプレン共重合体、エチレン/プロピレン
共重合体、エチレン/α−オレフィン系共重合体、エチ
レン/α−オレフィン/ポリエン共重合体、アクリルゴ
ム、ブタジエン/(メタ)アクリル酸エステル共重合
体、スチレン/ブタジエンブロック共重合体、スチレン
/イソプレンブロック共重合体などをベース成分とする
エラストマー粒子を挙げることができる。The elastomer particles which can be suitably used as the component (D) include, for example, polybutadiene, polyisoprene, styrene / butadiene copolymer,
Styrene / isoprene copolymer, ethylene / propylene copolymer, ethylene / α-olefin copolymer, ethylene / α-olefin / polyene copolymer, acrylic rubber, butadiene / (meth) acrylate copolymer, Elastomer particles having a styrene / butadiene block copolymer, a styrene / isoprene block copolymer or the like as a base component can be exemplified.
【0094】また、(D)成分として好適に使用するこ
とのできるコア/シェル型のエラストマー粒子として
は、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン/ブタ
ジエン共重合体、スチレン/イソプレン共重合体、エチ
レン/プロピレン共重合体、エチレン/α−オレフィン
系共重合体、エチレン/α−オレフィン/ポリエン共重
合体、アクリルゴム、ブタジエン/(メタ)アクリル酸
エステル共重合体、スチレン/ブタジエンブロック共重
合体、スチレン/イソプレンブロック共重合体などを部
分架橋してなるコア粒子の表面に、ポリメチルメタクリ
レートからなる被覆層(シェル)が形成されてなるエラ
ストマー粒子;前記コア粒子の表面に、メチルメタクリ
レート/グリシジルメタクリレート共重合体からなる被
覆層(シェル)が形成されてなるエラストマー粒子を例
示することができる。なお、コア/シェル型のエラスト
マー粒子において、コア粒子の半径(R)に対するシェ
ルの厚さ(t)の比(t/R)は、通常1/1000〜
2/1とされ、好ましくは1/200〜1/1である。The core / shell type elastomer particles which can be suitably used as the component (D) include polybutadiene, polyisoprene, styrene / butadiene copolymer, styrene / isoprene copolymer, ethylene / propylene copolymer. Polymer, ethylene / α-olefin copolymer, ethylene / α-olefin / polyene copolymer, acrylic rubber, butadiene / (meth) acrylate copolymer, styrene / butadiene block copolymer, styrene / isoprene Elastomer particles in which a coating layer (shell) made of polymethyl methacrylate is formed on the surface of core particles obtained by partially cross-linking a block copolymer or the like; methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer on the surface of the core particles Forming a shell layer made of Examples of the obtained elastomer particles can be given. In the core / shell type elastomer particles, the ratio (t / R) of the shell thickness (t) to the radius (R) of the core particle is usually 1/1000 to 100/100.
2/1, preferably 1/200 to 1/1.
【0095】これらのエラストマー粒子のうち、ポリブ
タジエン、ポリイソプレン、スチレン/ブタジエン共重
合体、スチレン/イソプレン共重合体、ブタジエン/
(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン/ブタ
ジエンブロック共重合体、スチレン/イソプレンブロッ
ク共重合体などの部分架橋物からなるコア粒子の表面
に、ポリメチルメタクリレートからなる被覆層(シェ
ル)が形成されてなるエラストマー粒子;当該部分架橋
物からなるコア粒子の表面に、メチルメタクリレート/
グリシジルメタクリレート共重合体からなる被覆層(シ
ェル)が形成されてなるエラストマー粒子が特に好まし
い。Among these elastomer particles, polybutadiene, polyisoprene, styrene / butadiene copolymer, styrene / isoprene copolymer, butadiene /
A coating layer (shell) composed of polymethyl methacrylate is formed on the surface of a core particle composed of a partially crosslinked product such as a (meth) acrylate copolymer, a styrene / butadiene block copolymer, and a styrene / isoprene block copolymer. Elastomer particles; methyl methacrylate /
Elastomer particles having a coating layer (shell) made of a glycidyl methacrylate copolymer are particularly preferred.
【0096】これらのエラストマー粒子は、乳化重合法
など従来公知の方法で製造することができる。エラスト
マー粒子を得るための乳化重合法としては、 単量体
成分を全量一括して仕込み重合する方法、 単量体成
分の一部を重合した後、残部を連続的にまたは断続的に
添加する方法、 単量体成分を重合の始めから連続的
に添加する方法、 シード粒子を用いる方法などを採
用することができる。These elastomer particles can be produced by a conventionally known method such as an emulsion polymerization method. Emulsion polymerization methods for obtaining elastomer particles include a method in which all of the monomer components are charged at once and a polymerization is performed, and a method in which a part of the monomer components is polymerized and the remaining portion is added continuously or intermittently. A method of continuously adding a monomer component from the beginning of polymerization, a method of using seed particles, and the like can be employed.
【0097】(D)成分を構成するエラストマー粒子の
数平均粒子径は10〜700nmとされ、好ましくは3
0〜300nmとされる。エラストマー粒子の数平均粒
径が10nm未満である場合には、得られる樹脂組成物
により造形される立体形状物が十分な耐衝撃性を有する
ものとならないことがあり、また、得られる樹脂組成物
の粘度が上昇し、立体形状物の生産効率や造形精度に影
響を及ぼすことがある。一方、エラストマー粒子の数平
均粒径が700nmを超える場合には、得られる樹脂組
成物により造形される立体形状物の表面平滑性が損なわ
れたり、造形精度が低下したりする傾向がある。The number average particle diameter of the elastomer particles constituting the component (D) is from 10 to 700 nm, preferably from 3 to 700 nm.
0 to 300 nm. When the number average particle diameter of the elastomer particles is less than 10 nm, a three-dimensional article formed by the obtained resin composition may not have sufficient impact resistance, and the obtained resin composition May increase, and may affect the production efficiency and the modeling accuracy of the three-dimensional object. On the other hand, when the number average particle diameter of the elastomer particles exceeds 700 nm, the surface smoothness of a three-dimensional object formed by the obtained resin composition tends to be impaired, or the molding accuracy tends to be reduced.
【0098】(D)成分として好適に使用することので
きるコア/シェル型のエラストマー粒子の市販品として
は、例えばレジナスボンドRKB(レジナス化成(株)
製)、テクノMBS−61、MBS−69(以上、テク
ノポリマー(株)製)などを挙げることができる。Commercially available core / shell type elastomer particles which can be suitably used as the component (D) include, for example, Reginas Bond RKB (Reginas Chemical Co., Ltd.)
And Techno MBS-61 and MBS-69 (all manufactured by Techno Polymer Co., Ltd.).
【0099】これらのエラストマー粒子は、単独でまた
は2種以上組み合わせて(D)成分を構成することがで
きる。These elastomer particles can be used alone or in combination of two or more to constitute the component (D).
【0100】本発明の樹脂組成物における(D)成分の
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、0〜3
5重量部であることが好ましく、更に好ましくは0〜3
0重量部、特に好ましくは0〜20重量部とされる。
(D)成分の含有割合が過大である場合には、最終的に
得られる立体形状物の造形精度が低下する傾向がある。The content of the component (D) in the resin composition of the present invention is from 0 to 100 parts by weight when the total of the components (A), (B), (C) and (D) is 100 parts by weight. 3
It is preferably 5 parts by weight, more preferably 0 to 3 parts by weight.
0 parts by weight, particularly preferably 0 to 20 parts by weight.
If the content ratio of the component (D) is too large, the modeling accuracy of the finally obtained three-dimensionally shaped article tends to decrease.
【0101】<水>請求項1に係る樹脂組成物は、調製
時における水分量が0.3〜1.5重量%である点に特
徴を有し、請求項2に係る樹脂組成物は、水分量が0.
3〜1.5重量%となるように水を添加して調製されて
いる点に特徴を有するものである。本発明の樹脂組成物
を構成する水(以下、(E)成分ともいう。)として
は、立体造形を阻害する不純物が含まれていなければ特
に制限はないが、イオン交換水または蒸留水であること
が好ましい。<Water> The resin composition according to the first aspect is characterized in that the water content at the time of preparation is 0.3 to 1.5% by weight. The water content is 0.
It is characterized by being prepared by adding water so as to be 3 to 1.5% by weight. The water constituting the resin composition of the present invention (hereinafter, also referred to as component (E)) is not particularly limited as long as it does not contain impurities that inhibit three-dimensional modeling, and is ion-exchanged water or distilled water. Is preferred.
【0102】調製時における水分量が0.3〜1.5重
量%の範囲にある樹脂組成物によれば、使用の使用環境
下において長期間にわたり保存・使用されることによっ
ても、当該水分量が大きく変化することはない。この結
果、樹脂組成物の水分量に依存する造形特性(例えば、
一定量の照射エネルギーを受けたときの硬化深度)が実
質的に変化せず、従って、造形条件を変えることなく、
所期の性能を有する立体形状物を安定的に造形すること
ができる。また、調製時に水を添加することにより、後
述する脱泡処理を容易に実施することができる。According to the resin composition having a water content in the range of 0.3 to 1.5% by weight at the time of preparation, even when the resin composition is stored and used for a long period of time under the use environment, the water content can be reduced. Does not change significantly. As a result, the shaping characteristics depending on the water content of the resin composition (for example,
The curing depth when receiving a certain amount of irradiation energy) does not substantially change, and therefore, without changing the molding conditions,
A three-dimensional object having the expected performance can be stably formed. Further, by adding water at the time of preparation, a defoaming treatment described later can be easily performed.
【0103】本発明の樹脂組成物の調製時における水分
量は、通常0.3〜1.5重量%とされ、好ましくは
0.5〜1.0重量%とされる。The water content at the time of preparing the resin composition of the present invention is usually 0.3 to 1.5% by weight, preferably 0.5 to 1.0% by weight.
【0104】調製時における水分量が0.3重量%未満
であると、通常の使用環境下、特に高湿度環境下に長期
間にわたり保存・使用される場合に、平衡水分量に至る
経時的な水分量の増加に伴って硬化深度が大きく減少
し、初期段階(樹脂組成物の水分量<0.3重量%)に
おける最適条件で造形すると、硬化層間の剥離が発生
し、所期の立体形状物を造形することができない。When the water content at the time of preparation is less than 0.3% by weight, when stored and used for a long period of time in a normal use environment, especially in a high humidity environment, an equilibrium water content over time may be reached. As the moisture content increases, the curing depth greatly decreases. When the molding is performed under the optimal conditions in the initial stage (the moisture content of the resin composition <0.3% by weight), peeling between the cured layers occurs, and the intended three-dimensional shape is obtained. I can't shape things.
【0105】この場合において、樹脂組成物の保存・使
用期間中における造形の開始時に、造形装置に付属する
容器内に収容された当該樹脂組成物(水分量<平衡水分
量)に水を添加することも考えられるが、環境条件(湿
度)などを考慮して適正な添加量を決定することはきわ
めて困難であって現実的ではない。また、容器内に収容
された樹脂組成物中に水を均一に含有させることは困難
である。In this case, water is added to the resin composition (water content <equilibrium water content) accommodated in a container attached to a molding device at the start of molding during the storage and use period of the resin composition. However, it is extremely difficult and impractical to determine an appropriate addition amount in consideration of environmental conditions (humidity) and the like. Further, it is difficult to make water uniformly contained in the resin composition contained in the container.
【0106】一方、調製時における水分量が1.5重量
%を超えると、長期間にわたり保存・使用される場合
に、平衡水分量に至る経時的な水分量の減少に伴って硬
化深度が大きく増加し、初期段階(樹脂組成物の水分量
>1.5重量%)における最適条件で造形すると、積層
方向における造形精度が低下して、所期の立体形状物を
造形することができない。On the other hand, if the water content at the time of preparation exceeds 1.5% by weight, the hardening depth increases as the water content decreases over time to reach the equilibrium water content when stored and used for a long period of time. If it is increased and the molding is performed under the optimal conditions in the initial stage (water content of the resin composition> 1.5% by weight), the molding accuracy in the laminating direction is reduced, and the desired three-dimensional object cannot be formed.
【0107】また、本発明の樹脂組成物の調製時におけ
る水分量は、0.3〜1.5重量%の範囲内であって、
かつ、標準的な使用環境である温度23℃、相対湿度5
0%における平衡水分量の0.5〜1.5倍であること
が好ましく、平衡水分量と一致させることが最も好まし
い。これにより、当該平衡水分量に至る水分量の経時的
変化を小さくすることができ、造形特性に対して影響を
与えることがない。The water content at the time of preparing the resin composition of the present invention is in the range of 0.3 to 1.5% by weight,
In addition, a standard use environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 5
It is preferably 0.5 to 1.5 times the equilibrium water content at 0%, and most preferably the same as the equilibrium water content. This makes it possible to reduce the change over time of the water content that reaches the equilibrium water content, and does not affect the modeling characteristics.
【0108】<その他の成分>本発明の光硬化性樹脂組
成物には、本発明の効果が損なわれない範囲内におい
て、上記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、
(D)成分および(E)成分以外の成分を必要に応じて
含有させることができる。<Other Components> The photocurable resin composition of the present invention contains the above components (A), (B), (C), and so forth as long as the effects of the present invention are not impaired.
Components other than the component (D) and the component (E) can be contained as necessary.
【0109】本発明の光硬化性樹脂組成物には、樹脂組
成物の光硬化性、光造形により得られる立体形状物の形
状安定性(経時的変形の抑制性能)および形状安定性
(機械的特性の経時的変化の抑制性能)を発現させるた
めにポリオールを含有させることができる。使用される
ポリオールは、好ましくは1分子中に2個以上、さらに
好ましくは1分子中に2〜6個の水酸基を有するもので
ある。1分子中に有する水酸基の数が2個未満のポリオ
ールを使用すると、光硬化性の向上効果が十分ではな
く、また、得られる立体形状物の機械的特性、特に弾性
率が低下する傾向がある。一方、1分子中に6個を超え
るポリオールを含有させる場合には、得られる立体形状
物の伸びが低下する傾向が見られるとともに耐湿性に問
題を生じる傾向がある。The photocurable resin composition of the present invention has a photocurability of the resin composition, a shape stability (performance for suppressing temporal deformation) and a shape stability (mechanical stability) of a three-dimensional object obtained by stereolithography. A polyol can be contained in order to exhibit the property of suppressing the characteristic change over time. The polyol to be used preferably has two or more hydroxyl groups in one molecule, more preferably 2 to 6 hydroxyl groups in one molecule. When a polyol having less than 2 hydroxyl groups in one molecule is used, the effect of improving photocurability is not sufficient, and the mechanical properties, particularly elastic modulus, of the obtained three-dimensional object tend to decrease. . On the other hand, when more than 6 polyols are contained in one molecule, there is a tendency that elongation of the obtained three-dimensionally shaped product is reduced and there is a tendency that a problem is caused in moisture resistance.
【0110】かかるポリオールとしては、例えばポリエ
ーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、2
塩基酸とジオールとからなるポリエステルで変性するこ
とにより得られるポリエステルポリオール等を挙げるこ
とができる。Examples of such polyols include polyether polyols, polycaprolactone polyols,
Examples thereof include polyester polyols obtained by modification with a polyester comprising a basic acid and a diol.
【0111】上記ポリオールのうち、ポリエーテルポリ
オールが好ましい。例えば、トリメチロールプロパン、
グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ス
クロース、クオドロールなどの3価以上の多価アルコー
ルを、エチレンオキシド(EO)、プロピレンオキシド
(PO)、ブチレンオキシド、テトラヒドロフランなど
の環状エーテル化合物で変性することにより得られるポ
リエーテルポリオールを挙げることができる。具体的に
は、EO変性トリメチロールプロパン、PO変性トリメ
チロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロ
ールプロパン、EO変性グリセリン、PO変性グリセリ
ン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、EO変性ペン
タエリスリトール、PO変性ペンタエリスリトール、テ
トラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、EO変性
ソルビトール、PO変性ソルビトール、EO変性スクロ
ース、PO変性スクロース、EO変性スクロース、EO
変性クオドール、ポリオキシエチレンジオール、ポリオ
キシプロピレンジオール、ポリオキシテトラメチレンジ
オール、ポリオキシブチレンジオール、ポリオキシブチ
レン−オキシエチレン共重合ジオールなどを例示するこ
とができる。これらのうち、EO変性トリメチロールプ
ロパン、PO変性トリメチロールプロパン、PO変性グ
リセリン、PO変性ソルビトールが好ましい。Among the above polyols, polyether polyols are preferred. For example, trimethylolpropane,
Polyether obtained by modifying a polyhydric alcohol having a valency of 3 or more such as glycerin, pentaerythritol, sorbitol, sucrose, and quadrol with a cyclic ether compound such as ethylene oxide (EO), propylene oxide (PO), butylene oxide, and tetrahydrofuran. Polyols can be mentioned. Specifically, EO-modified trimethylolpropane, PO-modified trimethylolpropane, tetrahydrofuran-modified trimethylolpropane, EO-modified glycerin, PO-modified glycerin, tetrahydrofuran-modified glycerin, EO-modified pentaerythritol, PO-modified pentaerythritol, tetrahydrofuran-modified pentaerythritol, EO-modified sorbitol, PO-modified sorbitol, EO-modified sucrose, PO-modified sucrose, EO-modified sucrose, EO
Examples thereof include modified quadol, polyoxyethylene diol, polyoxypropylene diol, polyoxytetramethylene diol, polyoxybutylene diol, and polyoxybutylene-oxyethylene copolymer diol. Of these, EO-modified trimethylolpropane, PO-modified trimethylolpropane, PO-modified glycerin, and PO-modified sorbitol are preferred.
【0112】使用することのできるポリエーテルポリオ
ールの市販品としては、サンニックスTP−400、サ
ンニックスGP−600、サンニックスGP−100
0、サンニックスSP−750、サンニックスGP−2
50、サンニックスGP−400、サンニックスGP−
600(以上、三洋化成(株)製)、TMP−3Gly
col、PNT−4Glycol、EDA−P−4、E
DA−P−8(以上、日本乳化剤(株)製)、G−30
0、G−400、G−700、T−400、EDP−4
50、SP−600、SC−800(以上、旭電化工業
(株)製)などを挙げることができる。Commercially available polyether polyols which can be used include Sanix TP-400, Sanix GP-600, and Sanix GP-100.
0, Sanix SP-750, Sanix GP-2
50, Sannics GP-400, Sannics GP-
600 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.), TMP-3Gly
col, PNT-4Glycol, EDA-P-4, E
DA-P-8 (all manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.), G-30
0, G-400, G-700, T-400, EDP-4
50, SP-600 and SC-800 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo KK).
【0113】ポリカプロラクトンポリオールの具体例
は、カプロラクトン変性トリメチロールプロパン、カプ
ロラクトン変性グリセリン、カプロラクトン変性ペンタ
エリスリトール、カプロラクトン変性ソルビトールなど
を挙げることができる。Specific examples of the polycaprolactone polyol include caprolactone-modified trimethylolpropane, caprolactone-modified glycerin, caprolactone-modified pentaerythritol, caprolactone-modified sorbitol, and the like.
【0114】ポリカプロラクトンポリオールの市販品と
しては、TONE0301、TONE0305、TON
E0310(以上、ユニオンカーバイト社)、ポリエス
テルポリオールの市販品としては、プラクセル303、
プラクセル305、プラクセル308(以上、ダイセル
化学工業(株))などを挙げることができる。Commercially available polycaprolactone polyols include TONE0301, TONE0305, TON
E0310 (above, Union Carbide) and commercially available polyester polyols include Plaxel 303,
Praxel 305 and Praxel 308 (all from Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like.
【0115】上記のポリオールは、1種単独で、または
2種以上組み合わせて使用することができる。The above-mentioned polyols can be used alone or in combination of two or more.
【0116】使用するポリオールの分子量は、100〜
50, 000であることが好ましく、更に好ましくは1
60〜20, 000とされる。分子量が過小なポリオー
ルを使用すると、得られる樹脂組成物によっては、形状
安定性および物性安定性を有する立体形状物を得ること
が困難となることがある。一方、分子量が過大なポリオ
ールを使用すると、得られる樹脂組成物の粘度が過大と
なり、光造形により得られる立体形状物の弾性率が低下
するおそれがある。The molecular weight of the polyol used is from 100 to
It is preferably 50,000, more preferably 1
60 to 20,000. If a polyol having an excessively low molecular weight is used, it may be difficult to obtain a three-dimensional product having shape stability and physical property stability depending on the obtained resin composition. On the other hand, when a polyol having an excessively high molecular weight is used, the viscosity of the obtained resin composition becomes excessively high, and the elastic modulus of the three-dimensional object obtained by stereolithography may decrease.
【0117】本発明の樹脂組成物には、得られる造形物
の機械強度の向上や、造形時間の短縮のためにラジカル
重合性化合物であるエチレン性不飽和モノマーを併用す
ることができる。エチレン性不飽和モノマーは、エチレ
ン性不飽和結合(C=C)を分子中に有する化合物であ
り、1分子中に1個のエチレン性不飽和結合を有する単
官能モノマー、および1分子中に2個以上のエチレン性
不飽和結合を有する多官能モノマーを挙げることができ
る。In the resin composition of the present invention, an ethylenically unsaturated monomer which is a radically polymerizable compound can be used in combination to improve the mechanical strength of the obtained molded article and to shorten the molding time. The ethylenically unsaturated monomer is a compound having an ethylenically unsaturated bond (C = C) in a molecule, a monofunctional monomer having one ethylenically unsaturated bond in one molecule, and a compound having two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. Examples include polyfunctional monomers having at least two ethylenically unsaturated bonds.
【0118】1分子中に1個のエチレン性不飽和結合基
を有する単官能性モノマーとしては、例えばアクリルア
ミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、7−アミノ−
3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、イソ
ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、イソボルニル
オキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレ
ート、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジアセト
ン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンタジエン(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル
オキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニ
ル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)ア
クリルアミドテトラクロロフェニル(メタ)アクリレー
ト、2−テトラクロロフェノキシエチル(メタ)アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、テトラブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−
テトラブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、
2−トリクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−ト
リブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、ビニルカプロラクタ
ム、N−ビニルピロリドン、フェノキシエチル(メタ)
アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、
ペンタクロロフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブ
ロモフェニル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)ア
クリレート、メチルトリエチレンジグリコール(メタ)
アクリレート、および下記式(28)〜(30)で表さ
れる化合物を例示することができ、これらは1種単独で
あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。Examples of the monofunctional monomer having one ethylenically unsaturated bonding group in one molecule include acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, 7-amino-
3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, isobornyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, ethyldiethylene glycol (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dicyclopentadiene (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) ) Acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamidotetrachlorophenyl (meth) acrylate, 2-tetrac B phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetrabromophenyl (meth) acrylate, 2-
Tetrabromophenoxyethyl (meth) acrylate,
2-trichlorophenoxyethyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, 2-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-
Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, vinylcaprolactam, N-vinylpyrrolidone, phenoxyethyl (meth)
Acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate,
Pentachlorophenyl (meth) acrylate, pentabromophenyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, methyltriethylenediglycol (meth)
Acrylates and compounds represented by the following formulas (28) to (30) can be exemplified, and these can be used alone or in combination of two or more.
【0119】[0119]
【化28】 Embedded image
【0120】[0120]
【化29】 Embedded image
【0121】[0121]
【化30】 Embedded image
【0122】〔式(28)〜(30)において、R16は
水素原子またはメチル基を示し、R17は炭素原子数2〜
6、好ましくは2〜4のアルキレン基を示し、R18は水
素原子または炭素原子数1〜12、好ましくは1〜9の
アルキル基を示し、R19は炭素原子数2〜8、好ましく
は2〜5のアルキレン基を示す。eは0〜12、好まし
くは1〜8の整数であり、fは1〜8、好ましくは1〜
4の整数である。〕これらの単官能性モノマーうち、イ
ソボルニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートが
好ましいが、これら例示に限定されるものではない。[In the formulas (28) to (30), R 16 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 17 has 2 to 2 carbon atoms.
6, preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 18 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 9 carbon atoms, and R 19 has 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 carbon atoms. Represents an alkylene group of 1 to 5; e is an integer of 0 to 12, preferably 1 to 8, and f is 1 to 8, preferably 1 to 8.
4 is an integer. Of these monofunctional monomers, preferred are isobornyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate, but are not limited thereto.
【0123】これらの単官能性モノマーの市販品として
は、例えばアロニックスM−101、M−102、M−
111、M−113、M−117、M−152、TO−
1210(以上、東亞合成(株))、カヤラッドTC−
110S、R−564、R−128H(以上、日本化薬
(株))、ビスコート192、ビスコート220、ビス
コート2311HP、ビスコート2000、ビスコート
2100、ビスコート2150、ビスコート8F、ビス
コート17F(以上、大阪有機化学工業(株))などの
商品名で入手可能なものを挙げることができる。Commercial products of these monofunctional monomers include, for example, Aronix M-101, M-102, M-
111, M-113, M-117, M-152, TO-
1210 (Toagosei Co., Ltd.), Kayarad TC-
110S, R-564, R-128H (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Biscoat 192, Biscoat 220, Biscoat 2311HP, Biscoat 2000, Biscoat 2100, Biscoat 2150, Biscoat 8F, Biscoat 17F (Osaka Organic Chemical Industry) Co., Ltd.).
【0124】1分子中に2個以上のエチレン性不飽和結
合基を有する多官能性モノマーとしては、例えばエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテ
ニルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ
(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス
(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メ
タ)アクリレート、カプロラクトン変性トリス(2−ヒ
ドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテル
の両末端(メタ)アクリル酸付加物、1,4−ブタンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエ
リスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、EO変性
ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性ビ
スフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性水添
ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性水
添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性
ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、フェノール
ノボラックポリグリシジルエーテルの(メタ)アクリレ
ートなどを例示することができ、これらは1種単独であ
るいは2種以上を組み合わせて用いることができる。Examples of the polyfunctional monomer having two or more ethylenically unsaturated bonding groups in one molecule include ethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, triethylene glycol diacrylate, and the like. Tetraethylene glycol di (meth)
Acrylate, tricyclodecanediyl dimethylene di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone-modified tris (2-hydroxy Ethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth)
Acrylate, both-terminal (meth) acrylic acid adduct of bisphenol A diglycidyl ether, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, Caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropante La (meth) acrylate, EO-modified bisphenol A di (meth) acrylate, PO-modified bisphenol A di (meth) acrylate, EO-modified hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, PO-modified hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, Examples include EO-modified bisphenol F di (meth) acrylate and (meth) acrylate of phenol novolak polyglycidyl ether, and these can be used alone or in combination of two or more.
【0125】これらの多官能性モノマーうち、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO
変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ(メタ)アクリレートが好ましいが、
これら例示に限定されるものではない。Among these polyfunctional monomers, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO
Modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipenta Erythritol penta (meth) acrylate and ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate are preferred,
It is not limited to these examples.
【0126】これらの多官能性モノマーの市販品として
は、例えばSA1002(以上、三菱化学(株))、ビ
スコート195、ビスコート230、ビスコート26
0、ビスコート215、ビスコート310、ビスコート
214HP、ビスコート295、ビスコート300、ビ
スコート360、ビスコートGPT、ビスコート40
0、ビスコート700、ビスコート540、ビスコート
3000、ビスコート3700(以上、大阪有機化学工
業(株))、カヤラッドR−526、HDDA、NPG
DA、TPGDA、MANDA、R−551、R−71
2、R−604、R−684、PET−30、GPO−
303、TMPTA、THE−330、DPHA、DP
HA−2H、DPHA−2C、DPHA−2I、D−3
10、D−330、DPCA−20、DPCA−30、
DPCA−60、DPCA−120、DN−0075、
DN−2475、T−1420、T−2020、T−2
040、TPA−320、TPA−330、RP−10
40、RP−2040、R−011、R−300、R−
205(以上、日本化薬(株))、アロニックスM−2
10、M−220、M−233、M−240、M−21
5、M−305、M−309、M−310、M−31
5、M−325、M−400、M−6200、M−64
00(以上、東亞合成(株))、ライトアクリレートB
P−4EA、BP−4PA、BP−2EA、BP−2P
A、DCP−A(以上、共栄社化学(株))、ニューフ
ロンティアBPE−4、TEICA、BR−42M、G
X−8345(以上、第一工業製薬(株))、ASF−
400(以上、新日鐵化学(株))、リポキシSP−1
506、SP−1507、SP−1509、VR−7
7、SP−4010、SP−4060(以上、昭和高分
子(株))、NKエステルA−BPE−4(以上、新中
村化学工業(株))などの商品名で入手のものを挙げる
ことができる。Commercial products of these polyfunctional monomers include, for example, SA1002 (above, Mitsubishi Chemical Corporation), Biscoat 195, Biscoat 230, Biscoat 26
0, Bis coat 215, Bis coat 310, Bis coat 214HP, Bis coat 295, Bis coat 300, Bis coat 360, Bis coat GPT, Bis coat 40
0, Viscoat 700, Viscoat 540, Viscoat 3000, Viscoat 3700 (above, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Kayarad R-526, HDDA, NPG
DA, TPGDA, MANDA, R-551, R-71
2, R-604, R-684, PET-30, GPO-
303, TMPTA, THE-330, DPHA, DP
HA-2H, DPHA-2C, DPHA-2I, D-3
10, D-330, DPCA-20, DPCA-30,
DPCA-60, DPCA-120, DN-0075,
DN-2475, T-1420, T-2020, T-2
040, TPA-320, TPA-330, RP-10
40, RP-2040, R-011, R-300, R-
205 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-2
10, M-220, M-233, M-240, M-21
5, M-305, M-309, M-310, M-31
5, M-325, M-400, M-6200, M-64
00 (Toagosei Co., Ltd.), Light Acrylate B
P-4EA, BP-4PA, BP-2EA, BP-2P
A, DCP-A (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Frontier BPE-4, TEICA, BR-42M, G
X-8345 (above, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), ASF-
400 (Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Lipoxy SP-1
506, SP-1507, SP-1509, VR-7
7, SP-4010, SP-4060 (shown by Showa Polymer Co., Ltd.), NK Ester A-BPE-4 (both manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like. it can.
【0127】かかる多官能モノマーとしては、上記に例
示されたトリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メ
タ)アクリレート化合物、ペンタ(メタ)アクリレート
化合物、ヘキサ(メタ)アクリレート化合物が好まし
く、これらのうち、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ(メタ)アクリレートが特に好ましいが、これら例
示に限定されるものではない。As the polyfunctional monomer, the tri (meth) acrylate compounds, tetra (meth) acrylate compounds, penta (meth) acrylate compounds and hexa (meth) acrylate compounds exemplified above are preferable. Particularly preferred are methylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate. It is not limited to these examples.
【0128】エチレン性不飽和モノマーを樹脂組成物に
含有させる場合には、そのラジカル重合反応を開始させ
るために、通常、ラジカル性光重合開始剤が添加され
る。ラジカル性光重合開始剤は、光などのエネルギー線
を受けることにより分解し、発生するフリーラジカルに
よってエチレン性不飽和モノマーのラジカル重合反応を
開始させる化合物であり、通常のラジカル性光重合開始
剤を使用することができる。When the ethylenically unsaturated monomer is contained in the resin composition, a radical photopolymerization initiator is usually added to initiate the radical polymerization reaction. A radical photopolymerization initiator is a compound that is decomposed by receiving energy rays such as light and initiates a radical polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer by generated free radicals. Can be used.
【0129】ラジカル性光重合開始剤としては、通常の
ラジカル性光重合開始剤を使用することができる。例え
ばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、
アントラキノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、カル
バゾール、キサントン、4−クロロベンゾフェノン、
4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,1−ジメトキ
シデオキシベンゾイン、3,3’−ジメチル−4−メト
キシベンゾフェノン、チオキサントン系化合物、2−メ
チル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モル
フォリノ−プロパン−2−オン、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブ
タン−1−オン、トリフェニルアミン、2,4,6−ト
リメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
トリ−メチルベンチルフォスフィンオキサイド、ベンジ
ルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、フルオレノン、フルオレン、
ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、3−メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’−
テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン(BTTB)、およびBTTBとキサンテン、チオ
キサンテン、クマリン、ケトクマリンその他の色素増感
剤との組み合わせなどを挙げることができる。これらの
うち、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2−ベンジ
ル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェ
ニル)−ブタン−1−オンなどが特に好ましいが、これ
ら例示に限定されるものではない。As the radical photopolymerization initiator, an ordinary radical photopolymerization initiator can be used. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal,
Anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl)-
2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 4-chlorobenzophenone,
4,4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydeoxybenzoin, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthones, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino -Propan-2-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide,
Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-
Tri-methylbentylphosphine oxide, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, fluorenone, fluorene,
Benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzophenone, Michler's ketone, 3-methylacetophenone, 3,3 ', 4,4'-
Examples thereof include tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone (BTTB) and a combination of BTTB with xanthene, thioxanthene, coumarin, ketocoumarin and other dye sensitizers. Among them, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1- On and the like are particularly preferred, but are not limited to these examples.
【0130】本発明の光硬化性樹脂組成物には、本発明
の効果を損なわない範囲において、光増感剤(重合促進
剤)、反応性希釈剤などを含有させることができる。光
増感剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタ
ノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミンなど
のアミン系化合物;チオキサントン、チオキサントンの
誘導体、アントラキノン、アントラキノンの誘導体、ア
ントラセン、アントラセンの誘導体、ペリレン、ペリレ
ンの誘導体、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピル
エーテルなどからなる光増感剤などを挙げることができ
る。また、反応性希釈剤としては、(A)成分および
(B)成分と共重合可能なカチオン重合性物質であっ
て、得られる樹脂組成物の溶液粘度を低下させるものが
好ましい。The photocurable resin composition of the present invention may contain a photosensitizer (polymerization accelerator), a reactive diluent and the like as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the photosensitizer include amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, triethylamine, and diethylamine; thioxanthone, thioxanthone derivatives, anthraquinone, anthraquinone derivatives, anthracene, anthracene derivatives, perylene, perylene derivatives, benzophenone, and benzoin. Photosensitizers such as isopropyl ether can be used. The reactive diluent is preferably a cationic polymerizable substance copolymerizable with the component (A) and the component (B), which lowers the solution viscosity of the obtained resin composition.
【0131】また、本発明の光硬化性樹脂組成物には、
本発明の効果を損なわない範囲において、各種の添加剤
が含有されていてもよい。かかる添加剤としては、エポ
キシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタ
ン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテ
ル、ポリエステル、スチレン−ブタジエン−スチレンブ
ロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹
脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン
系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリ
マーないしオリゴマー;フェノチアジン、2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチルフェノール等の重合禁止剤;重
合開始助剤;老化防止剤;レベリング剤;濡れ性改良
剤;界面活性剤;可塑剤;紫外線吸収剤;シランカップ
リング剤;無機充填剤;顔料;染料などを挙げることが
できる。The photocurable resin composition of the present invention includes
Various additives may be contained as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such additives include epoxy resins, polyamides, polyamideimides, polyurethanes, polybutadienes, polychloroprenes, polyethers, polyesters, styrene-butadiene-styrene block copolymers, petroleum resins, xylene resins, ketone resins, cellulose resins, and fluorine-based resins. Polymers or oligomers such as oligomers, silicone-based oligomers and polysulfide-based oligomers; phenothiazine, 2,6-di-
polymerization inhibitors such as t-butyl-4-methylphenol; polymerization initiation aids; antioxidants; leveling agents; wetting improvers; surfactants; plasticizers; ultraviolet absorbers; silane coupling agents; Pigments and dyes.
【0132】<樹脂組成物の調製方法>本発明の光硬化
性樹脂組成物は、上記の(A)成分、(B)成分、
(C)成分および(E)成分(水)、並びに、必要に応
じて、上記の(D)成分および各種の任意成分を均一に
混合することによって調製することができる。<Method for Preparing Resin Composition> The photocurable resin composition of the present invention comprises the components (A), (B),
It can be prepared by uniformly mixing the component (C) and the component (E) (water), and if necessary, the component (D) and various optional components.
【0133】<脱泡処理>本発明の光硬化性樹脂組成物
を調製する場合において、各成分を混合後、濾過により
異物を除去し、更に脱泡処理を行うことが好ましい。脱
泡処理を行うことにより、得られる樹脂組成物の硬化物
(立体形状物)において、造形精度の低下および外観不
良の原因となる気泡の残存を防止することができる。脱
泡処理の方法としては、減圧することにより樹脂組成物
中の気泡を強制的に除去する方法、樹脂組成物を加温す
ることにより粘度を低下させ、当該樹脂組成物の表面に
集まる気泡を除去する方法など特に限定されるものでは
ない。<Defoaming Treatment> In preparing the photocurable resin composition of the present invention, it is preferable to remove foreign substances by filtration after mixing the components and to further perform defoaming treatment. By performing the defoaming treatment, it is possible to prevent the remaining of the air bubbles that cause a reduction in modeling accuracy and a poor appearance in a cured product (three-dimensional shape) of the obtained resin composition. As a method of the defoaming treatment, a method of forcibly removing air bubbles in the resin composition by reducing the pressure, a method of reducing the viscosity by heating the resin composition, and reducing the air bubbles collected on the surface of the resin composition There is no particular limitation on the method of removal.
【0134】<樹脂組成物の粘度>本発明の光硬化性樹
脂組成物の粘度(25℃)は50〜2, 000mPa・
sであることが好ましく、更に好ましくは70〜1,5
00mPa・sとされる。<Viscosity of Resin Composition> The viscosity (25 ° C.) of the photocurable resin composition of the present invention is 50 to 2,000 mPa · s.
s, more preferably 70 to 1.5.
00 mPa · s.
【0135】<光学的立体造形法>本発明の光硬化性樹
脂組成物は、光学的立体造形法における光硬化性の液状
樹脂組成物として好適に使用される。すなわち、本発明
の樹脂組成物に対して、可視光、紫外光、赤外光などの
光を選択的に照射して硬化樹脂層を形成する工程を繰り
返すことにより、硬化樹脂層が一体的に積層されてな
る、所望の形状の立体形状物を製造することができる。<Optical three-dimensional molding method> The photocurable resin composition of the present invention is suitably used as a photocurable liquid resin composition in an optical three-dimensional molding method. That is, the resin composition of the present invention, visible light, ultraviolet light, by repeating the process of selectively irradiating light such as infrared light to form a cured resin layer, the cured resin layer integrally A three-dimensional object having a desired shape can be manufactured by being laminated.
【0136】本発明の光硬化性樹脂組成物に光を選択的
に照射する手段としては、特に制限されるものではな
く、種々の手段を採用することができる。例えば、
レーザ光、あるいはレンズやミラー等を用いて得られた
収束光を走査させながら組成物に照射する手段、 所
定のパターンの光透過部を有するマスクを用い、このマ
スクを介して非収束光を組成物に照射する手段、 多
数の光ファイバーが束ねられてなる導光部材を用い、こ
の導光部材における所定のパターンに対応する光ファイ
バーを介して光を組成物に照射する手段等を採用するこ
とができる。また、マスクを用いる手段においては、マ
スクとして、液晶表示装置と同様の原理により、指定の
パターンに従って、光透過領域と光不透過領域とよりな
るマスク像を電気光学的に形成するものを用いることも
できる。以上において、目的とする立体形状物が微細な
部分形状を有するものである場合または高い寸法精度が
要求されるものである場合には、組成物に選択的に光を
照射する手段として、スポット径の小さいレーザ光を走
査する手段を採用することが好ましい。The means for selectively irradiating light to the photocurable resin composition of the present invention is not particularly limited, and various means can be employed. For example,
Means for irradiating the composition while scanning laser light or convergent light obtained using a lens, a mirror, or the like; using a mask having a light transmitting portion of a predetermined pattern, forming non-convergent light through this mask Means for irradiating an object, means for using a light guide member formed by bundling a large number of optical fibers, and means for irradiating light to the composition through optical fibers corresponding to a predetermined pattern in the light guide member, and the like can be adopted. . In the means using a mask, a mask that electro-optically forms a mask image including a light-transmitting region and a light-impermeable region according to a specified pattern according to the same principle as that of the liquid crystal display device is used. Can also. In the above, when the target three-dimensional object has a fine partial shape or when high dimensional accuracy is required, the spot diameter is used as a means for selectively irradiating the composition with light. It is preferable to employ means for scanning with a laser beam having a small value.
【0137】なお、容器内に収容されている樹脂組成物
における光の照射面(例えば収束光の走査平面)は、当
該樹脂組成物の液面、透光性容器の器壁との接触面の何
れであってもよい。樹脂組成物の液面または器壁との接
触面を光の照射面とする場合には、容器の外部から直接
または器壁を介して光を照射することができる。The light irradiation surface (for example, the scanning plane of the convergent light) of the resin composition contained in the container is the liquid surface of the resin composition and the contact surface of the transparent container with the container wall. Any one may be used. When the liquid surface of the resin composition or the contact surface with the container wall is used as the light irradiation surface, the light can be irradiated directly from the outside of the container or through the container wall.
【0138】前記の光学的立体造形法においては、通
常、樹脂組成物の特定部分を硬化させた後、光の照射位
置(照射面)を、既硬化部分から未硬化部分に連続的に
または段階的に移動させることにより、硬化部分を積層
させて所望の立体形状とする。ここで、照射位置の移動
は種々の方法によって行うことができ、例えば光源、樹
脂組成物の収容容器、樹脂組成物の既硬化部分の何れか
を移動させたり当該容器に樹脂組成物を追加供給するな
どの方法を挙げることができる。In the above-mentioned optical three-dimensional molding method, usually, after a specific portion of the resin composition is cured, a light irradiation position (irradiation surface) is continuously or stepwise changed from a cured portion to an uncured portion. By moving the hardened parts, the hardened portions are laminated to form a desired three-dimensional shape. Here, the irradiation position can be moved by various methods, for example, by moving any one of a light source, a container for storing the resin composition, and a cured portion of the resin composition, or additionally supplying the resin composition to the container. And the like.
【0139】光学的立体造形法の代表的な一例を説明す
ると、収容容器内において昇降自在に設けられた支持ス
テージを樹脂組成物の液面から微小量降下(沈降)させ
ることにより、当該支持ステージ上に樹脂組成物を供給
してその薄層(1)を形成する。次いで、この薄層
(1)に対して選択的に光を照射することにより、固体
状の硬化樹脂層(1)を形成する。次いで、この硬化樹
脂層(1)上に樹脂組成物を供給してその薄層(2)を
形成し、この薄層(2)に対して選択的に光照射するこ
とにより、前記硬化樹脂層(1)上にこれと連続して一
体的に積層するよう新しい硬化樹脂層(2)を形成す
る。そして、光照射されるパターンを変化させながら或
いは変化させずに、この工程を所定回数繰り返すことに
より、複数の硬化樹脂層(n)が一体的に積層されてな
る立体形状物が造形される。[0139] A typical example of the optical three-dimensional molding method will be described. A supporting stage provided so as to be able to move up and down in a container is lowered (settled) by a very small amount from the liquid surface of the resin composition. The thin layer (1) is formed by supplying the resin composition thereon. Next, the thin layer (1) is selectively irradiated with light to form a solid cured resin layer (1). Next, a resin composition is supplied on the cured resin layer (1) to form a thin layer (2), and the thin layer (2) is selectively irradiated with light, whereby the cured resin layer is formed. (1) A new cured resin layer (2) is formed thereon so as to be continuously and integrally laminated thereon. This process is repeated a predetermined number of times while changing or not changing the pattern to be irradiated with light, whereby a three-dimensional object formed by integrally laminating a plurality of cured resin layers (n) is formed.
【0140】このようにして得られる立体形状物を収容
容器から取り出し、その表面に残存する樹脂組成物を除
去した後、必要に応じて洗浄する。ここで、洗浄剤とし
ては、イソプロピルアルコール、エチルアルコールなど
のアルコール類に代表されるアルコール系有機溶剤;ア
セトン、酢酸エチル、メチルエチルケトンなどに代表さ
れるケトン系有機溶剤;テルペン類に代表される脂肪族
系有機溶剤;低粘度の熱硬化性樹脂および光硬化性樹脂
を挙げることができる。The thus obtained three-dimensionally shaped object is taken out of the container, and after removing the resin composition remaining on the surface thereof, washing is performed if necessary. Here, as the cleaning agent, alcohol-based organic solvents represented by alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol; ketone-based organic solvents represented by acetone, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone; aliphatics represented by terpenes System organic solvent; low-viscosity thermosetting resin and photocurable resin.
【0141】なお、表面平滑性の良好な立体形状物を製
造する場合には、前記熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂
を使用して洗浄することが好ましく、この場合には、洗
浄に使用した硬化性樹脂の種類に応じて、熱照射または
光照射によるポストキュアーを行う必要がある。なお、
ポストキュアーは、表面の樹脂を硬化させるだけでな
く、立体形状物の内部に残存することのある未反応の樹
脂組成物をも硬化させることができるので、有機溶剤に
より洗浄した場合にもポストキュアーを行うことが好ま
しい。In the case of producing a three-dimensional object having good surface smoothness, it is preferable to wash using the above-mentioned thermosetting resin or photo-setting resin. Depending on the type of the curable resin, post-curing by heat irradiation or light irradiation needs to be performed. In addition,
The post cure not only cures the resin on the surface but also cures the unreacted resin composition that may remain inside the three-dimensional object. Is preferably performed.
【0142】さらに、立体形状物の表面強度および耐熱
性を向上させるためには、洗浄処理を施した後に、熱硬
化性または光硬化性のハードコート材を使用することが
好ましい。かかるハードコート材としては、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などからなる有機コ
ート材、あるいは無機ハードコートを使用することがで
きる。これらのハードコート材は、1種単独でまたは2
種以上組み合わせて使用することができる。Further, in order to improve the surface strength and heat resistance of the three-dimensional object, it is preferable to use a thermosetting or photocurable hard coat material after performing a cleaning treatment. As such a hard coat material, an organic coat material made of an acrylic resin, an epoxy resin, a silicone resin, or the like, or an inorganic hard coat can be used. These hard coat materials can be used alone or in combination.
It can be used in combination of more than one species.
【0143】[0143]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下
において、「%」および「部」は、特にことわらない限
り「重量%」および「重量部」を意味する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In the following, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight” unless otherwise specified.
【0144】〔実施例1〕攪拌翼を備えた容量10リッ
トルのセパラブルフラスコ中に、下記表1に示す処方に
従って、(A)成分として1,4−ビス[(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン300
0g(30部)、(B)成分として、3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート4000g(40部)、1, 6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル1000g
(10部)、エポキシ変性ポリブタジエン「エポリード
PB3600」(ダイセル化学工業(株)製)1000
g(10部)、(C)成分としてトリアリルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート「UVI−6974」
(ユニオンカーバイド社製)100g(1部)、(D)
成分として、部分架橋スチレン/ブタジエン共重合体か
らなるコア粒子の表面に、メチルメタクリレート/グリ
シジルメタクリレート共重合体からなる被覆層(シェ
ル)が形成されてなるコア/シェル型のエラストマー粒
子「レジナスボンドRKB」(レジナス化成(株)製,
数平均粒径200nm)900g(9部)を仕込み、こ
の系を60℃で3時間攪拌した。この系を25℃まで放
冷した後、(E)成分として、蒸留水60g(0.6
部)を添加し、25℃で2時間攪拌した。このようにし
て得られた混合物を濾過処理した後、減圧による脱泡処
理を行うことにより、本発明の光硬化性樹脂組成物を調
製した。Example 1 According to the formulation shown in Table 1 below, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) was added as a component (A) in a separable flask having a capacity of 10 liters equipped with a stirring blade. Methoxy) methyl] benzene 300
0 g (30 parts), as component (B), 4000 g (40 parts) of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 1.6
-Hexanediol diglycidyl ether 1000 g
(10 parts), epoxy-modified polybutadiene “Eporide PB3600” (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 1000
g (10 parts), triallylsulfonium hexafluoroantimonate “UVI-6974” as the component (C)
100 g (1 part) (manufactured by Union Carbide), (D)
Core / shell type elastomer particles “Regina's Bond RKB” in which a coating layer (shell) made of a methyl methacrylate / glycidyl methacrylate copolymer is formed on the surface of a core particle made of a partially crosslinked styrene / butadiene copolymer as a component. (Reginasu Kasei Co., Ltd.
900 g (9 parts) of a number average particle size (200 nm) was charged, and the system was stirred at 60 ° C. for 3 hours. After allowing this system to cool to 25 ° C., 60 g (0.6 g) of distilled water was used as the component (E).
And the mixture was stirred at 25 ° C. for 2 hours. After the thus obtained mixture was subjected to a filtration treatment, the mixture was subjected to a defoaming treatment under reduced pressure to prepare a photocurable resin composition of the present invention.
【0145】このようにして得られた光硬化性樹脂組成
物について、調製直後における水分量をカールフィッシ
ャー法により測定したところ、0.68%(温度23
℃、相対湿度50%における平衡水分量に対して1.0
倍に相当)であった。なお、カールフィッシャー法によ
る水分量の測定は、カールフィッシャー式微量水分測定
装置「AQ−7」(平沼産業(株)製)により、電解液
として「アクアライトRS」(同社製)を用い、対極液
として「アクアライトCN」(同社製) を用いて行っ
た。The water content of the photocurable resin composition thus obtained immediately after preparation was measured by the Karl Fischer method to find that it was 0.68% (temperature: 23
1.0% relative to the equilibrium water content at 50 ° C and 50% relative humidity.
). The measurement of the water content by the Karl Fischer method was carried out using a Karl Fischer-type trace moisture analyzer "AQ-7" (manufactured by Hiranuma Sangyo Co., Ltd.), using "Aqualight RS" (manufactured by the company) as an electrolyte. The test was performed using "Aqualight CN" (manufactured by the company) as the liquid.
【0146】〔実施例2〕下記表1に示す処方に従っ
て、(A)成分の仕込量を5000g(50部)に変更
し、(B)成分である3, 4−エポキシシクロヘキシル
メチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレートの仕込量を2900g(29部)に変更し、
(D)成分を仕込まなかったこと以外は実施例1と同様
にして本発明の光硬化性樹脂組成物を調製した。得られ
た光硬化性樹脂組成物について、調製直後の水分量をカ
ールフィッシャー法により測定したところ、0.69%
であった。Example 2 According to the recipe shown in Table 1 below, the amount of component (A) charged was changed to 5000 g (50 parts), and component (B) 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, The charge of 4′-epoxycyclohexanecarboxylate was changed to 2900 g (29 parts),
A photocurable resin composition of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that the component (D) was not charged. When the water content of the obtained photocurable resin composition immediately after preparation was measured by the Karl Fischer method, it was found to be 0.69%
Met.
【0147】〔比較例1〕下記表1に示す処方に従っ
て、(C)成分の仕込量を200g(2部)に変更し、
(D)成分の仕込量を800g(8部)に変更し、蒸留
水を添加しなかったこと以外は実施例1と同様にして比
較用の光硬化性樹脂組成物を調製した。得られた光硬化
性樹脂組成物について、調製直後の水分量をカールフィ
ッシャー法により測定したところ、0.08%(温度2
3℃、相対湿度50%における平衡水分量に対して0.
1倍に相当)であった。Comparative Example 1 According to the recipe shown in Table 1 below, the amount of the component (C) charged was changed to 200 g (2 parts).
A comparative photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge amount of the component (D) was changed to 800 g (8 parts) and distilled water was not added. The water content of the resulting photocurable resin composition immediately after preparation was measured by the Karl Fischer method to find that it was 0.08% (temperature 2
0.1 at equilibrium water content at 3 ° C and 50% relative humidity.
(Corresponding to 1 time).
【0148】〔比較例2〕下記表1に示す処方に従っ
て、蒸留水の添加量を300g(3部)に変更したこと
以外は実施例1と同様にして比較用の光硬化性樹脂組成
物を調製した。得られた光硬化性樹脂組成物について、
調製直後の水分量をカールフィッシャー法により測定し
たところ、3.01%(温度23℃、相対湿度50%に
おける平衡水分量に対して4.6倍に相当)であった。Comparative Example 2 A photocurable resin composition for comparison was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of distilled water was changed to 300 g (3 parts) in accordance with the formulation shown in Table 1 below. Prepared. About the obtained photocurable resin composition,
The water content immediately after the preparation was measured by the Karl Fischer method and found to be 3.01% (corresponding to 4.6 times the equilibrium water content at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%).
【0149】<樹脂組成物の評価>実施例1〜2および
比較例1〜2により得られた樹脂組成物の各々につい
て、一定の環境下に放置した前後における硬化深度を測
定した。また、放置した前後の樹脂組成物により造形さ
れた立体形状物について、層間密着性および積層方向に
おける造形精度を評価した。測定方法および評価方法を
以下に示す。<Evaluation of Resin Composition> The curing depth of each of the resin compositions obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 was measured before and after the resin compositions were allowed to stand in a certain environment. In addition, for the three-dimensional object formed by the resin composition before and after standing, the interlayer adhesion and the modeling accuracy in the laminating direction were evaluated. The measuring method and the evaluation method are shown below.
【0150】なお、樹脂組成物の放置条件としては、実
施例1および比較例1に係る樹脂組成物にあっては、温
度23℃、相対湿度50%、放置時間60日間とし、実
施例2および比較例2に係る樹脂組成物にあっては、温
度23℃、相対湿度20%、放置時間60日間とした。
また、樹脂組成物の収容容器として、光造形装置「ソリ
ッドクリエーターSCS−1000HD」(ソニー
(株)製)に付属する幅32cm、奥行き43cm、深
さ6.5cmの開口容器を用いた。また、樹脂組成物の
放置は、当該樹脂組成物を調製した日から開始した。The resin compositions according to Example 1 and Comparative Example 1 were left at a temperature of 23 ° C., a relative humidity of 50%, and a standing time of 60 days. In the resin composition according to Comparative Example 2, the temperature was 23 ° C., the relative humidity was 20%, and the standing time was 60 days.
In addition, as a container for storing the resin composition, an open container having a width of 32 cm, a depth of 43 cm, and a depth of 6.5 cm, which is attached to an optical shaping apparatus “Solid Creator SCS-1000HD” (manufactured by Sony Corporation) was used. The leaving of the resin composition was started from the day when the resin composition was prepared.
【0151】(1)硬化深度の測定方法:照射用光源と
してHe−Cdレーザー(波長325nm)を搭載し、
開口容器(幅32cm×奥行き43cm×深さ6.5c
m)を備えた光造形装置「ソリッドクリエーターSCS
−1000HD」(ソニー(株)製)を使用し、前記開
口容器に収容した樹脂組成物の液面(照射面)における
レーザースポット径を100μm、レーザーパワーを1
0mWとし、下記表1に示す走査速度(実施例1〜2お
よび比較例1では200mm/s,比較例2では160
mm/s)で前記液面にレーザー光を照射して楔型の断
面形状を有する硬化層を形成し、当該硬化層の厚さ(硬
化深度)を測定した。(1) Method of measuring curing depth: A He-Cd laser (wavelength: 325 nm) was mounted as a light source for irradiation.
Open container (32cm wide x 43cm deep x 6.5c deep)
m) equipped with a stereolithography machine "Solid Creator SCS"
-1000HD "(manufactured by Sony Corporation), and the laser spot diameter on the liquid surface (irradiation surface) of the resin composition contained in the open container was 100 µm, and the laser power was 1
0 mW, and the scanning speed shown in Table 1 below (200 mm / s in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, 160 mm in Comparative Example 2)
(mm / s), the liquid surface was irradiated with a laser beam to form a cured layer having a wedge-shaped cross section, and the thickness (cured depth) of the cured layer was measured.
【0152】(2)立体形状物の層間密着性の評価方
法:光造形装置「ソリッドクリエーターSCS−100
0HD」(ソニー(株)製)を使用し、レーザースポッ
ト径を100μm、レーザーパワーを10mWとし、下
記表1に示す走査速度で、樹脂組成物に対し選択的にレ
ーザー光を照射して厚さ100μmの硬化樹脂層を形成
する工程を繰り返すことにより、図1に示すような立体
形状物を造形した。次いで、得られた立体形状物を光造
形装置から取り出し、外表面に付着している樹脂組成物
を拭き取り、さらに、テルペン系溶剤によって余分な樹
脂組成物を洗浄除去した。この立体形状物の側面(積層
断面)を観察し、層間剥離が全く認められない場合を
「○」、側面の全域または一部において層間剥離が認め
られた場合を「×」とした。(2) Evaluation method of interlayer adhesion of three-dimensional object: Stereolithography apparatus “Solid Creator SCS-100”
0HD "(manufactured by Sony Corporation) with a laser spot diameter of 100 μm, laser power of 10 mW, and a laser beam selectively irradiated to the resin composition at a scanning speed shown in Table 1 below to obtain a thickness. By repeating the process of forming a 100 μm cured resin layer, a three-dimensional object as shown in FIG. 1 was formed. Next, the obtained three-dimensionally shaped object was taken out of the optical shaping apparatus, the resin composition adhering to the outer surface was wiped off, and the excess resin composition was washed and removed with a terpene-based solvent. The side surface (laminated cross section) of this three-dimensional object was observed, and the case where no delamination was observed was evaluated as “○”, and the case where delamination was observed in all or part of the side surface was evaluated as “x”.
【0153】(3)立体形状物の造形精度の評価方法:
上記(2)により造形した立体形状物のオーバーハング
部(図1中、A,B)の下側に、硬化されるべきでない
余剰成長部分(設計データにない硬化部分)が存在する
か否かを観察し、余剰成長部分が存在せず、オーバーハ
ング部の下面が平滑性を有する場合を「○」、余剰成長
部分が存在し、オーバーハング部の下面の平滑性が損な
われている場合を「×」とした。(3) Method for evaluating the modeling accuracy of a three-dimensional object:
Whether or not there is a surplus growth portion (a hardened portion not in the design data) that should not be hardened under the overhang portion (A, B in FIG. 1) of the three-dimensional object formed by the above (2). Observe that there is no excess growth part, the case where the lower surface of the overhang part has smoothness is `` ○ '', the case where the excess growth part exists and the smoothness of the lower surface of the overhang part is impaired. “×” was assigned.
【0154】なお、上記の測定および評価は、樹脂組成
物を放置した環境と同じ条件(温度23℃,相対湿度5
0%)で行った。以上の結果を、放置した前後(0日/
60日)における樹脂組成物の水分量とともに、下記表
1に示す。The above measurement and evaluation were carried out under the same conditions as the environment in which the resin composition was left (temperature: 23 ° C., relative humidity: 5).
0%). The above results were compared before and after standing (0 days /
The results are shown in Table 1 below together with the water content of the resin composition at (60 days).
【0155】[0155]
【表1】 [Table 1]
【0156】表1に示す結果から明らかなように、実施
例1〜2に係る樹脂組成物は、放置前後の間で水分量の
差が小さく、硬化深度に変化は認められなかった。ま
た、実施例1〜2に係る樹脂組成物によれば、放置前後
の樹脂組成物について同一の照射条件(走査速度)で造
形を行なっても、層間密着性および造形精度に優れた立
体形状物を造形することができた。As is clear from the results shown in Table 1, the resin compositions according to Examples 1 and 2 showed a small difference in water content between before and after standing, and no change was observed in the curing depth. Further, according to the resin compositions according to Examples 1 and 2, even when the resin composition before and after standing was formed under the same irradiation conditions (scanning speed), a three-dimensional object excellent in interlayer adhesion and modeling accuracy was obtained. Could be shaped.
【0157】これに対して、調製時における水分量が
0.08重量%と過小である比較例1に係る樹脂組成物
は、放置前後の間で水分量の差(増加量)が大きく、硬
化深度が150μmから125μmへと大きく減少し
た。この結果、放置後における比較例1に係る樹脂組成
物により造形された立体形状物は、層間密着性に劣るも
のであった。On the other hand, in the resin composition according to Comparative Example 1 in which the water content at the time of preparation was as small as 0.08% by weight, the difference (increase) in water content between before and after standing was large, and The depth decreased greatly from 150 μm to 125 μm. As a result, the three-dimensional article formed with the resin composition according to Comparative Example 1 after standing was poor in interlayer adhesion.
【0158】また、調製時における水分量が3.01重
量%と過大である比較例2に係る樹脂組成物も、放置前
後の間で水分量の差(減少量)が大きく、硬化深度が1
50μmから220μmへと大きく増加した。この結
果、放置後における比較例2に係る樹脂組成物により造
形された立体形状物は、積層方向における造形精度に劣
るものであった。比較例1および比較例2に係る樹脂組
成物を使用して、層間密着性および造形精度に優れた立
体形状物を造形しようとすれば、放置期間中において造
形を行う毎に、照射条件を変更しなければならないが、
このような操作はきわめて煩雑で現実的ではないといえ
る。Also, the resin composition according to Comparative Example 2, which had an excessively large water content of 3.01% by weight at the time of preparation, had a large difference in water content between before and after standing (decrease amount) and a curing depth of 1%.
It increased greatly from 50 μm to 220 μm. As a result, the three-dimensional object formed with the resin composition according to Comparative Example 2 after standing was inferior in modeling accuracy in the laminating direction. When it is attempted to form a three-dimensional object having excellent interlayer adhesion and molding accuracy using the resin compositions according to Comparative Example 1 and Comparative Example 2, the irradiation conditions are changed each time molding is performed during the standing period. Have to do,
Such an operation can be said to be extremely complicated and impractical.
【0159】[0159]
【発明の効果】本発明の樹脂組成物によれば、通常の使
用環境下(温度10〜30℃,相対湿度20〜80%)
において長期間にわたり保存・使用される場合であって
も、造形特性(硬化深度)が実質的に変化せず、所期の
性能(層間密着性および造形精度)を有する立体形状物
を、同一の造形条件により、安定して造形することがで
きる。According to the resin composition of the present invention, it can be used under normal use environment (temperature: 10 to 30 ° C., relative humidity: 20 to 80%).
Even when stored and used over a long period of time, the three-dimensional object having the expected performance (interlayer adhesion and molding accuracy) without substantially changing the molding characteristics (depth of cure) Depending on the molding conditions, the molding can be performed stably.
【図1】層間密着性および造形精度を評価するための立
体形状物の形状および寸法を示す説明図であり、(1)
は平面図、(2)は側面図である。FIG. 1 is an explanatory view showing the shape and dimensions of a three-dimensional object for evaluating interlayer adhesion and modeling accuracy, (1)
Is a plan view, and (2) is a side view.
A,B オーバーハング部 A, B Overhang part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 71/02 C08L 71/02 101/00 101/00 (72)発明者 山村 哲也 東京都中央区築地2丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 宇加地 孝志 東京都中央区築地2丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Fターム(参考) 4F213 AA44 WA25 WA86 WA87 WB01 WL02 WL12 WL24 WL25 WL92 WL95 4J002 AC02Y AC03Y AC06Y AC07Y AC08Y BB15Y BG03Y BG04Y BG05Y BN06Y BN12Y BN14Y BP01Y CD01W CD02W CD04W CD05W CD08W CD11W CD12W CD17W CD19W CH05X CP05X EA067 EB117 EL056 EV237 EV297 FD140 FD157 4J036 AA01 AB01 AB02 AB07 AB10 AB18 AD05 AD08 AD21 AG04 AJ09 DB30 FA11 FB12 FB16 GA06 GA22 GA24 GA25 HA02──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08L 71/02 C08L 71/02 101/00 101/00 (72) Inventor Tetsuya Yamamura Tsukiji 2, Chuo-ku, Tokyo No. 11-24, JSR Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Ukaji 2-11-24, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo F-term in JSR Co., Ltd. 4F213 AA44 WA25 WA86 WA87 WB01 WL02 WL12 WL24 WL25 WL92 WL95 4J002 AC02Y AC03Y AC06Y AC07Y AC08Y BB15Y BG03Y BG04Y BG05Y BN06Y BN12Y BN14Y BP01Y CD01W CD02W CD04W CD05W CD08W CD11W CD12W CD17W CD19W CH05X CP05X EA067 AEB EB117 AB EB117 EL056 EV 237 GA22 GA24 GA25 HA02
Claims (7)
シ化合物、(C)光酸発生剤を含有する立体造形用の光
硬化性樹脂組成物であって、 調製時における水分量が0.3〜1.5重量%であるこ
とを特徴とする光硬化性樹脂組成物。1. A three-dimensionally shaped photocurable resin composition containing (A) an oxetane compound, (B) an epoxy compound, and (C) a photoacid generator, wherein the water content at the time of preparation is 0.3. 0.1 to 1.5% by weight.
シ化合物、(C)光酸発生剤を含有する立体造形用の光
硬化性樹脂組成物であって、 水分量が0.3〜1.5重量%となるように、水を添加
してなることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。2. A photocurable resin composition for three-dimensional modeling, comprising (A) an oxetane compound, (B) an epoxy compound, and (C) a photoacid generator, wherein the water content is 0.3 to 1. A photocurable resin composition, wherein water is added so as to be 5% by weight.
ラストマー粒子を含有することを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載の光硬化性樹脂組成物。3. The photocurable resin composition according to claim 1, comprising (D) elastomer particles having a number average particle diameter of 10 to 700 nm.
量部、(B)エポキシ化合物を10〜80重量部、
(C)光酸発生剤を0.1〜10重量部、(D)数平均
粒径10〜700nmのエラストマー粒子を0〜35重
量部含有し、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計が100重量部であることを特徴と
する請求項1乃至請求項3の何れかに記載の光硬化性樹
脂組成物。4. An oxetane compound of 10 to 80 parts by weight, (B) an epoxy compound of 10 to 80 parts by weight,
(C) 0.1 to 10 parts by weight of a photoacid generator, (D) 0 to 35 parts by weight of elastomer particles having a number average particle diameter of 10 to 700 nm, component (A), component (B), The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the total of component (D) and component (D) is 100 parts by weight.
衡水分量に対して、0.5〜1.5倍の水分量となるよ
うに、水を添加してなることを特徴とする請求項2乃至
請求項4の何れかに記載の光硬化性樹脂組成物。5. The method according to claim 1, wherein water is added so that the amount of water is 0.5 to 1.5 times the equilibrium water amount at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. The photocurable resin composition according to claim 2.
(D)成分および水の混合物を脱泡処理して得られるこ
とを特徴とする請求項3乃至請求項5の何れかに記載の
光硬化性樹脂組成物。6. A component (A), a component (B), a component (C),
The photocurable resin composition according to any one of claims 3 to 5, which is obtained by defoaming a mixture of the component (D) and water.
光硬化性樹脂組成物を光硬化して得られることを特徴と
する立体形状物。7. A three-dimensional object obtained by photo-curing the photo-curable resin composition according to any one of claims 1 to 6.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000247709A JP2002060463A (en) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | Photocurable resin composition and three-dimensionally shaped article |
PCT/NL2001/000436 WO2001095030A2 (en) | 2000-06-09 | 2001-06-07 | Resin composition and three-dimensional object |
AU74662/01A AU7466201A (en) | 2000-06-09 | 2001-06-07 | Resin composition and three-dimensional object |
EP01941302A EP1299770A2 (en) | 2000-06-09 | 2001-06-07 | Resin composition and three-dimensional object |
US10/157,034 US6685869B2 (en) | 2000-06-09 | 2002-05-30 | Resin composition and three-dimensional object |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000247709A JP2002060463A (en) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | Photocurable resin composition and three-dimensionally shaped article |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002060463A true JP2002060463A (en) | 2002-02-26 |
Family
ID=18737746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000247709A Pending JP2002060463A (en) | 2000-06-09 | 2000-08-17 | Photocurable resin composition and three-dimensionally shaped article |
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A621 | Written request for application examination |
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