JP2002053806A - Coating film forming composition - Google Patents
Coating film forming compositionInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は被膜形成用組成物に
関し、更に詳しくは、各種基材に対する密着性、耐擦過
傷性、耐候性、撥水性、防汚染性及び指紋付着防止性に
優れ、屈折率の低い透明な硬化被膜を効率よく形成する
ことができる被膜形成用組成物及びこの組成物の硬化被
膜が形成された物品に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for forming a film, and more particularly, to a composition having excellent adhesion to various substrates, abrasion resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance and fingerprint adhesion prevention, and refraction. The present invention relates to a film-forming composition capable of efficiently forming a transparent cured film having a low ratio, and an article on which a cured film of this composition is formed.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
例えば外装用塗料による塗膜、ハードコート膜、防湿コ
ート膜、反射防止コート膜などのポリマー被膜には、基
材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚
染性、低屈折率性など、諸特性が要求される。2. Description of the Related Art In recent years,
For example, polymer coatings such as coatings for exterior coatings, hard coatings, moisture-proof coatings, and anti-reflection coatings include adhesion to substrates, scratch resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance, and low refractive index. Various characteristics such as sex are required.
【0003】最近では、建築外装用塗料などを始めとす
る各種の分野において、良好な耐候性などが発現される
ことから、フッ素原子を含有するポリマー材料が注目さ
れている。また、このようなポリマー材料において、フ
ッ素原子の含有割合を増加させることにより、材料の低
屈折率化を図ることが検討されている。[0003] Recently, in various fields such as paints for building exterior and the like, a polymer material containing a fluorine atom has attracted attention because of good weather resistance and the like. Further, in such a polymer material, studies have been made to reduce the refractive index of the material by increasing the content ratio of fluorine atoms.
【0004】しかしながら、フッ素原子を含有するポリ
マーは、その溶解度パラメータが他の有機材料と著しく
異なり、また、分子間凝集力が小さいという特性を有す
る。このため、ポリマー材料を調製する際に使用できる
溶剤の種類が限定され、また、基材表面に被膜を形成す
る場合において、基材に対する密着力や被膜の硬度が低
く、しかも、十分な透明性を確保することができないな
どの問題を有している。これらの問題を解決するため
に、下記のような技術が提案されている。 (1)特開昭61−258852号公報 フルオロオレフィンと、ビニルエーテルと、ビニルアル
コキシシランとを共重合させることにより、接着性の良
好なフッ素系重合体を得る方法。 (2)特開昭62−185740号公報 アミノ基及びカルボキシル基を有するフルオロオレフィ
ン系共重合体と、エポキシ官能性アルコキシシランと、
シラノール基含有化合物とにより、耐候性及び硬化性の
良好な組成物を得る方法。 (3)特開平4−275379号公報 ヒドロキシ基及びカルボキシ基を有するフッ素含有重合
体と、金属アルコキシドの加水分解縮合物とにより、耐
候性、耐擦過傷性及び耐酸性の良好な自動車用の上塗り
塗料を得る方法。 (4)特開昭61−40845号公報、特開昭64−1
527号公報 フッ素化アルコキシシランの加水分解物を利用して反射
防止製品を作製する方法。 (5)特開平2−19801号公報、特開平4−226
177号公報 含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーが溶剤に溶解さ
れてなる組成物を低反射加工剤として使用する方法。 (6)特開平10−147740号公報 官能基含有フッ素重合体とシラン化合物及び金属触媒に
より低屈折率被膜を作製する方法。 (7)特開2000−119634号公報 フッ素シラン化合物と多官能有機珪素化合物或いはその
加水分解物とをブレンドして防汚染性組成物として使用
する方法。[0004] However, a polymer containing a fluorine atom has characteristics that its solubility parameter is significantly different from that of other organic materials and that the intermolecular cohesion is small. For this reason, the types of solvents that can be used when preparing the polymer material are limited, and when a film is formed on the surface of the substrate, the adhesion to the substrate and the hardness of the film are low, and the transparency is sufficient. Have problems such as the inability to secure In order to solve these problems, the following techniques have been proposed. (1) JP-A-61-258852 A method of obtaining a fluorine-based polymer having good adhesiveness by copolymerizing a fluoroolefin, vinyl ether, and vinylalkoxysilane. (2) Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-185740 A fluoroolefin copolymer having an amino group and a carboxyl group, an epoxy-functional alkoxysilane,
A method for obtaining a composition having good weather resistance and curability by using a silanol group-containing compound. (3) Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 4-275379 A top coat for automobiles having good weather resistance, scratch resistance and acid resistance by using a fluorine-containing polymer having a hydroxy group and a carboxy group and a hydrolysis condensate of a metal alkoxide. How to get. (4) JP-A-61-40845, JP-A-64-1
No. 527 A method for producing an antireflection product using a hydrolyzate of a fluorinated alkoxysilane. (5) JP-A-2-19801, JP-A-4-226
No. 177, a method using a composition in which a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure is dissolved in a solvent, as a low-reflection processing agent. (6) JP-A-10-147740 A method of producing a low refractive index coating using a functional group-containing fluoropolymer, a silane compound and a metal catalyst. (7) JP-A-2000-119634 A method in which a fluorine silane compound and a polyfunctional organic silicon compound or a hydrolyzate thereof are blended and used as an antifouling composition.
【0005】上記のような各種の方法が提案されている
が、特開昭61−258852号公報、特開昭62−1
85740号公報及び特開昭64−1527号公報に開
示の方法では、形成された塗膜を長時間にわたって乾燥
処理する必要があり、生産効率の観点から問題がある。
また、特開昭61−40845号公報及び特開平4−2
75379号公報に開示の技術では、高温条件下で乾燥
処理を行うために、適用可能な基材の種類が制限される
という問題がある。特開平2−19801号公報に開示
の技術では、組成物を構成する溶剤の種類が限定され、
また、形成される被膜が十分な耐擦過傷性を有するもの
とならないという問題がある。特開平10−14774
0号公報の方法では製造工程が煩雑であり、高コストで
ある。また屈折率も今一つ下がらないという問題点があ
った。特開2000−119634号公報では、単にフ
ッ素シラン化合物と多官能有機珪素化合物或いはその加
水分解物とをブレンドしているだけなので、硬さや耐擦
過傷性、耐候性、撥水性が得られにくく、屈折率の低下
も今一つであり、また厚膜化できないなどの問題点があ
った。Although various methods as described above have been proposed, JP-A-61-258852 and JP-A-62-1
In the method disclosed in Japanese Patent Application No. 85740 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-1527, it is necessary to dry the formed coating film for a long time, which is problematic from the viewpoint of production efficiency.
Further, JP-A-61-40845 and JP-A-4-24-2
The technique disclosed in Japanese Patent No. 75379 has a problem that the type of the applicable base material is limited because the drying treatment is performed under a high temperature condition. In the technique disclosed in JP-A-2-19801, the type of solvent constituting the composition is limited,
There is also a problem that the formed film does not have sufficient abrasion resistance. JP-A-10-14774
In the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 0, the manufacturing process is complicated and the cost is high. In addition, there is a problem that the refractive index does not decrease one more time. In JP-A-2000-119634, since a fluorine silane compound and a polyfunctional organic silicon compound or a hydrolyzate thereof are merely blended, it is difficult to obtain hardness, abrasion resistance, weather resistance and water repellency, and The rate has also been reduced, and there have been problems such as the inability to increase the film thickness.
【0006】以上のように、従来においては、基材に対
する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染性、
低屈折率性及び透明性の全てについて良好な硬化被膜を
効率的に形成することができる被膜形成用組成物は知ら
れていない。As described above, conventionally, adhesion to a substrate, abrasion resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance,
There is no known film-forming composition capable of efficiently forming a cured film having good low refractive index and transparency.
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、撥水
性、防汚染性、低屈折率性及び透明性に優れた保護被膜
を形成することができる被膜形成用組成物及びこの組成
物の硬化被膜を有する物品を提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of the above circumstances, and forms a protective film having excellent adhesion to a substrate, scratch resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance, low refractive index, and transparency. It is an object of the present invention to provide a film-forming composition capable of being formed and an article having a cured film of the composition.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、被膜形成用組成物として(1)フッ化アルキル基含
有シラン化合物の部分加水分解物或いは完全加水分解物
と(2)シラン化合物とを縮合反応させることにより得
られた反応生成物を使用することが有効であることを知
見した。Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, as a film forming composition, (1) a silane compound containing a fluorinated alkyl group was used. It has been found that it is effective to use a reaction product obtained by performing a condensation reaction between a partially hydrolyzed product or a completely hydrolyzed product and (2) a silane compound.
【0009】即ち、本発明者は基材に対する密着性、耐
擦過傷性、耐候性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び
透明性の全てについて良好な硬化被膜を効率的に形成す
ることができる被膜形成用組成物について種々検討した
結果、(1)フッ化アルキル基含有シラン化合物の部分
加水分解物或いは完全加水分解物と(2)シラン化合物
とを縮合反応させることにより得られた反応生成物を使
用したところ、基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候
性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び透明性の全てに
ついて良好な硬化被膜を得ることが可能となることを見
出した。That is, the inventor of the present invention is to efficiently form a cured film excellent in all of adhesion to a substrate, scratch resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance, low refractive index and transparency. As a result of various studies on a film-forming composition capable of forming a film, a reaction obtained by a condensation reaction between (1) a partially hydrolyzed product or a completely hydrolyzed product of a fluorinated alkyl group-containing silane compound and (2) a silane compound. When the product is used, it is possible to obtain a good cured film with respect to all of the adhesion to the substrate, abrasion resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance, low refractive index and transparency. I found it.
【0010】通常異なる2種類のシラン化合物による反
応物は、共にアルコキシド体を用いて、少量の水により
加水分解縮合反応により作製するのが常である。しか
し、フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物は加
水分解速度が他のアルコキシシラン化合物よりも遅く、
単に、両者を加水分解しても、うまく共加水分解物を得
ることができず、フッ化アルキル基をシロキサン中にう
まく組み込むことができなかった。それ故、反応液が層
分離を起こしたり、溶剤に溶解しなかったり、また膜性
も悪く、屈折率も1.42以下にすることはできなかっ
た。Usually, a reaction product of two different silane compounds is usually produced by a hydrolysis-condensation reaction with a small amount of water using an alkoxide compound. However, the fluorinated alkyl group-containing alkoxysilane compound has a lower hydrolysis rate than other alkoxysilane compounds,
Simply by hydrolyzing the two, a co-hydrolyzate could not be successfully obtained, and the alkyl fluoride group could not be successfully incorporated into the siloxane. Therefore, the reaction solution caused layer separation, did not dissolve in the solvent, had poor film properties, and could not have a refractive index of 1.42 or less.
【0011】そこで、本発明者は、出発原料をフッ化ア
ルキル基含有加水分解物(シラノール体)を用いてシラ
ン化合物との縮合反応を試みたところ、フッ化アルキル
基含有シラン化合物をうまく組み込むことが可能とな
り、それにより作製した膜は良好な造膜性や低屈折率で
あることを見出し、更に詳細に検討して本発明を完成さ
せた。Therefore, the present inventor attempted a condensation reaction with a silane compound using a hydrolyzate (silanol compound) containing an alkyl fluoride group as a starting material. It was found that the film produced thereby had good film-forming properties and a low refractive index, and was studied in further detail to complete the present invention.
【0012】従って、本発明は、フッ化アルキル基含有
シラン化合物の部分加水分解物又は完全加水分解物とシ
ラン化合物とを縮合して得られる縮合物とを含有するこ
とを特徴とする被膜形成用組成物、及び、この組成物の
硬化被膜を有する物品を提供する。[0012] Accordingly, the present invention provides a film-forming method characterized by containing a partially or completely hydrolyzed product of a fluorinated alkyl group-containing silane compound and a condensate obtained by condensing the silane compound. A composition and an article having a cured coating of the composition are provided.
【0013】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の被膜形成用組成物は、(1)フッ化アルキル基
含有シラン化合物の部分加水分解物又は完全加水分解物
と(2)シラン化合物とを縮合して得られる縮合物を含
有するもので、基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候
性、撥水性、防汚染性、低屈折率性及び透明性に優れた
硬化被膜を形成することができるものである。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The film-forming composition of the present invention contains a condensate obtained by condensing (1) a partially hydrolyzed product or a completely hydrolyzed product of a fluorinated alkyl group-containing silane compound with (2) a silane compound. It can form a cured film having excellent adhesion to a substrate, abrasion resistance, weather resistance, water repellency, stain resistance, low refractive index, and transparency.
【0014】本発明の組成物を構成する成分(1)のフ
ッ化アルキル基含有シラン化合物の部分加水分解物或い
は完全加水分解物及び成分(2)のシラン化合物につい
て以下に説明する。フッ化アルキル基含有シラン化合物の部分加水分解物或
いは完全加水分解物 フッ化アルキル基含有シラン化合物の部分加水分解物或
いは完全加水分解物としては、下記一般式(1)で示さ
れるものが好適である。The partially or completely hydrolyzed product of the component (1) fluorinated alkyl group-containing silane compound and the component (2) constituting the composition of the present invention are described below. Partial hydrolyzate of fluorinated alkyl group-containing silane compound or
As the partially hydrolyzed product or the completely hydrolyzed product of the fluorinated alkyl group-containing silane compound, those represented by the following general formula (1) are preferable.
【0015】[0015]
【化3】 (式中、Rfは、Embedded image (Where Rf is
【化4】 (nは1〜20の整数、mは1以上、好ましくは1〜2
0、特に1〜10の整数)で表されるエーテル結合を1
個以上含んでいてもよいポリフルオロアルキル基を示
し、Xは−CH2−、−CH2O−、−NR2−、−CO
O−、−CONR2−、−S−、−SO3−又はSO2N
R2−(R2は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基)
の1種又は2種以上の結合基を示し、R1は炭素数1〜
4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸
基を示す。aは0〜3の整数、bは1〜3の整数、cは
0〜2の整数である。)Embedded image (N is an integer of 1 to 20, m is 1 or more, preferably 1 to 2
0, especially an integer of 1 to 10)
Include FOB indicates which may polyfluoroalkyl group, X is -CH 2 -, - CH 2 O -, - NR 2 -, - CO
O -, - CONR 2 -, - S -, - SO 3 - or SO 2 N
R 2- (R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms)
Represents one or more bonding groups, and R 1 has 1 to 1 carbon atoms.
4 represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group. a is an integer of 0 to 3, b is an integer of 1 to 3, and c is an integer of 0 to 2. )
【0016】Rfは、CnF2n+1又はCF3CF2CF2O
(CFCF3CF2O)mCFCF3−(n,mは上記の通
り)であり、CnF2n+1としては、CF3−、C2F5−、
C3F7−、C4F9−、C6F13−、C8F17−、C10F21
−、C12F25−、C14F29−、C16F33−、C18F
37−、C20F41−などが挙げられる。Rf is C n F 2n + 1 or CF 3 CF 2 CF 2 O
(CFCF 3 CF 2 O) m CFCF 3 − (n and m are as described above), and as C n F 2n + 1 , CF 3 −, C 2 F 5 −,
C 3 F 7 -, C 4 F 9 -, C 6 F 13 -, C 8 F 17 -, C 10 F 21
-, C 12 F 25 -, C 14 F 29 -, C 16 F 33 -, C 18 F
37 -, C 20 F 41 -, and the like.
【0017】このような一般式(1)のシラン化合物と
しては、下記のものを例示することができる。 Rf(CH2)2Si(OH)3 Rf(CH2)2SiCH3(OH)2 Rf(CH2)2Si(OCH3)(OH)2 Rf(CH2)2Si(OCH2CH3)(OH)2 Rf(CH2)2Si(CH3)2(OH) Rf(CH2)2Si(OCH3)2(OH) Rf(CH2)2Si(OCH2CH3)2(OH) Rf(CH2)3Si(OH)3 Rf(CH2)3SiCH3(OH)2 Rf(CH2)3Si(OCH3)(OH)2 Rf(CH2)3Si(OCH2CH3)(OH)2 Rf(CH2)3Si(CH3)2(OH) Rf(CH2)3Si(OCH3)2(OH) Rf(CH2)3Si(OCH2CH3)2(OH) RfNH(CH2)2Si(OH)3 RfNH(CH2)2SiCH3(OH)2 RfNH(CH2)2Si(OCH3)(OH)2 RfNH(CH2)2Si(OCH2CH3)(OH)2 RfNH(CH2)2Si(CH3)2(OH) RfNH(CH2)2Si(OCH3)2(OH) RfNH(CH2)2Si(OCH2CH3)2(OH) RfNH(CH2)2NH(CH2)2Si(OH)3 RfNH(CH2)2NH(CH2)2SiCH3(OH)2 RfNH(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)
(OH)2 RfNH(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH2C
H3)(OH)2 RfNH(CH2)2NH(CH2)2Si(CH3)2(O
H) RfNH(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH3)
2(OH) RfNH(CH2)2NH(CH2)2Si(OCH2C
H3)2(OH) RfCONH(CH2)2Si(OH)3 RfCONH(CH2)2SiCH3(OH)2 RfCONH(CH2)2Si(OCH3)(OH)2 RfCONH(CH2)2Si(OCH2CH3)(OH)
2 RfCONH(CH2)2Si(CH3)2(OH) RfCONH(CH2)2Si(OCH3)2(OH) RfCONH(CH2)2Si(OCH2CH3)2(O
H)Examples of the silane compound of the general formula (1) include the following. Rf (CH 2 ) 2 Si (OH) 3 Rf (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OH) 2 Rf (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) (OH) 2 Rf (CH 2 ) 2 Si (OCH 2 CH 3 ) (OH) 2 Rf (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) 2 (OH) Rf (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 (OH) Rf (CH 2 ) 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 2 ( OH) Rf (CH 2 ) 3 Si (OH) 3 Rf (CH 2 ) 3 SiCH 3 (OH) 2 Rf (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) (OH) 2 Rf (CH 2 ) 3 Si (OCH 2 CH 3 ) (OH) 2 Rf (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 (OH) Rf (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 2 (OH) Rf (CH 2 ) 3 Si (OCH 2 CH 3 ) 2 (OH) RfNH (CH 2 ) 2 Si (OH) 3 RfNH (CH 2) 2 SiCH 3 (OH) 2 RfNH (CH 2 2 Si (OCH 3) (OH ) 2 RfNH (CH 2) 2 Si (OCH 2 CH 3) (OH) 2 RfNH (CH 2) 2 Si (CH 3) 2 (OH) RfNH (CH 2) 2 Si ( OCH 3 ) 2 (OH) RfNH (CH 2 ) 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 2 (OH) RfNH (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 2 Si (OH) 3 RfNH (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OH) 2 RfNH (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 )
(OH) 2 RfNH (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 2 Si (OCH 2 C
H 3) (OH) 2 RfNH (CH 2) 2 NH (CH 2) 2 Si (CH 3) 2 (O
H) RfNH (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 )
2 (OH) RfNH (CH 2 ) 2 NH (CH 2) 2 Si (OCH 2 C
H 3) 2 (OH) RfCONH (CH 2) 2 Si (OH) 3 RfCONH (CH 2) 2 SiCH 3 (OH) 2 RfCONH (CH 2) 2 Si (OCH 3) (OH) 2 RfCONH (CH 2) 2 Si (OCH 2 CH 3) (OH)
2 RfCONH (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) 2 (OH) RfCONH (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 (OH) RfCONH (CH 2 ) 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 2 (O
H)
【0018】好ましいものとして下記のものが挙げられ
る。 CF3(CH2)2Si(OH)3 CF3(CH2)2SiCH3(OH)2 CF3(CH2)2Si(OCH3)(OH)2 CF3(CH2)2Si(CH3)2(OH) CF3(CH2)2Si(OCH3)2(OH) C8F17(CH2)2Si(OH)3 C8F17(CH2)2SiCH3(OH)2 C8F17(CH2)2Si(OCH3)(OH)2 C8F17(CH2)2Si(CH3)2(OH) C8F17(CH2)2Si(OCH3)2(OH) C3F7(CF(CF3)CF2O)3CF(CF3)CH2
O(CH2)3Si(OH)3 C3F7(CF(CF3)CF2O)3CF(CF3)CH2
O(CH2)3SiCH3(OH)2 C3F7(CF(CF3)CF2O)3CF(CF3)CH2
O(CH2)3Si(OCH3)(OH)2 C3F7(CF(CF3)CF2O)3CF(CF3)CH2
O(CH2)3Si(OCH3)2(OH)Preferred examples include the following. CF 3 (CH 2) 2 Si (OH) 3 CF 3 (CH 2) 2 SiCH 3 (OH) 2 CF 3 (CH 2) 2 Si (OCH 3) (OH) 2 CF 3 (CH 2) 2 Si ( CH 3) 2 (OH) CF 3 (CH 2) 2 Si (OCH 3) 2 (OH) C 8 F 17 (CH 2) 2 Si (OH) 3 C 8 F 17 (CH 2) 2 SiCH 3 (OH ) 2 C 8 F 17 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) (OH) 2 C 8 F 17 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) 2 (OH) C 8 F 17 (CH 2 ) 2 Si (OCH) 3) 2 (OH) C 3 F 7 (CF (CF 3) CF 2 O) 3 CF (CF 3) CH 2
O (CH 2 ) 3 Si (OH) 3 C 3 F 7 (CF (CF 3 ) CF 2 O) 3 CF (CF 3 ) CH 2
O (CH 2 ) 3 SiCH 3 (OH) 2 C 3 F 7 (CF (CF 3 ) CF 2 O) 3 CF (CF 3 ) CH 2
O (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) (OH) 2 C 3 F 7 (CF (CF 3 ) CF 2 O) 3 CF (CF 3 ) CH 2
O (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 2 (OH)
【0019】これらの化合物はフッ化アルキル基含有ハ
ロゲノシラン化合物やフッ化アルキル基含有アルコキシ
シラン化合物に加水分解相当量の水を加え、加水分解
し、シラノール化することにより得られるものである。These compounds are obtained by adding a substantial amount of water to a fluoroalkyl group-containing halogenosilane compound or a fluoroalkyl group-containing alkoxysilane compound, hydrolyzing and silanolizing the compound.
【0020】フッ化アルキル基含有ハロゲノシラン化合
物を加水分解してシラノール化する場合、フッ化アルキ
ル基含有ハロゲノシラン化合物と加水分解水の割合はフ
ッ化アルキル基含有ハロゲノシラン化合物100重量部
に対し、好ましくは水50〜1,000重量部、特に好
ましくは300〜600重量部である。水が50重量部
より少ないと生成したシラノール体の縮合が進行してし
まい、ゲル化する場合がある。1,000重量部より多
いと、ポットイールドが少なくなる。When a silanol is formed by hydrolyzing a halogenated silane compound containing an alkyl fluoride group, the ratio of the halogenated silane compound containing the alkyl fluoride group to the hydrolysis water is based on 100 parts by weight of the halogenated silane compound containing the alkyl fluoride group. Preferably 50 to 1,000 parts by weight of water, particularly preferably 300 to 600 parts by weight. If the amount of water is less than 50 parts by weight, condensation of the generated silanol compound proceeds, and gelation may occur. If the amount is more than 1,000 parts by weight, the pot yield is reduced.
【0021】この反応を行う際は、有機溶剤を添加して
反応を行ってもよい。用いる有機溶剤の具体例として
は、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、キシレン、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等が挙げられる。In carrying out this reaction, the reaction may be carried out by adding an organic solvent. Specific examples of the organic solvent used include methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, xylene, toluene, diethyl ether, tetrahydrofuran and the like.
【0022】フッ化アルキル基含有ハロゲノシラン化合
物を加水分解反応させ、シラノール化する際、副生する
ハロゲン化水素を捕捉する従来公知の脱ハロゲン化剤を
含有させるのが好ましい。具体例としては炭酸リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムカ
リウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸マグ
ネシウムカルシウム、炭酸セリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム、酢酸銅、尿素、イオン交換樹脂などが挙
げられる。When the halogenated silane compound containing a fluorinated alkyl group is hydrolyzed and silanolized, it is preferable to include a conventionally known dehalogenating agent that captures hydrogen halide produced as a by-product. Specific examples include lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium potassium carbonate, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium calcium carbonate, cerium carbonate, sodium acetate,
Potassium acetate, copper acetate, urea, ion exchange resins and the like can be mentioned.
【0023】この加水分解反応は0〜20℃の温度範囲
で1〜10時間反応させるのが好ましい。より好ましく
0〜5℃で1〜3時間反応を行う。This hydrolysis reaction is preferably carried out in a temperature range of 0 to 20 ° C. for 1 to 10 hours. More preferably, the reaction is carried out at 0 to 5 ° C for 1 to 3 hours.
【0024】反応後、生成したフッ化アルキル基含有シ
ラノール溶液を水層と分離し、水分を乾燥させ、溶剤を
揮発させることにより得ることができる。After the reaction, the resulting silanol solution containing a fluoroalkyl group can be obtained by separating it from the aqueous layer, drying the water and evaporating the solvent.
【0025】フッ化アルキル基含有アルコキシシラン化
合物を(部分)加水分解してシラノール化する場合は、
例えば酸触媒存在下、そのシラン化合物の低級アルコー
ル溶液に水を添加して行う。低級アルコールとしては、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル等が例示される。更にそのアルコールと併用可能な溶
媒としては、アセトン、アセチルアセトンなどのケトン
類、酢酸エチル、酢酸イソブチルなどのエステル類、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ルなどのエーテル類が例示される。When the alkoxysilane compound containing a fluorinated alkyl group is (partially) hydrolyzed to form a silanol,
For example, water is added to a lower alcohol solution of the silane compound in the presence of an acid catalyst. As a lower alcohol,
Methanol, ethanol, isopropanol, butanol and the like are exemplified. Examples of the solvent that can be used in combination with the alcohol include ketones such as acetone and acetylacetone, esters such as ethyl acetate and isobutyl acetate, and ethers such as propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether and diisopropyl ether. .
【0026】加水分解水量の割合は、フッ化アルキル基
含有アルコキシシラン化合物の加水分解等量分である。
この時に加える酸触媒としては従来公知のものが使用で
きる。具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイ
ン酸などが挙げられる。The ratio of the amount of hydrolysis water is equivalent to the amount of hydrolysis of the alkoxysilane compound containing a fluorinated alkyl group.
A conventionally known acid catalyst can be used at this time. Specific examples include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, and maleic acid.
【0027】この加水分解反応は0〜60℃の温度範囲
で1〜20時間反応させるのが好ましい。より好ましく
0〜30℃で1〜10時間反応を行う。This hydrolysis reaction is preferably carried out in a temperature range of 0 to 60 ° C. for 1 to 20 hours. The reaction is more preferably performed at 0 to 30 ° C for 1 to 10 hours.
【0028】反応後、生成したフッ化アルキル基含有シ
ラノール溶液を溶液から取り出さず溶液状態のまま本発
明の縮合反応を行うのがより好ましい。シラン化合物 シラン化合物は下記一般式(2)で示されるものであ
る。 R3 dSi(OR4)4-d (2) (式中、R3は炭素数1〜10の有機基、R4は水素原子
又は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシアルキル基もしくはアシル基を示
す。dは0〜3、好ましくは0〜2の整数である。)After the reaction, it is more preferable to carry out the condensation reaction of the present invention in a solution state without taking out the produced silanol solution containing a fluoroalkyl group from the solution. Silane compound The silane compound is represented by the following general formula (2). R 3 d Si (OR 4 ) 4-d (2) (wherein, R 3 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is a hydrogen atom or an alkyl, alkenyl, or aryl group having 1 to 10 carbon atoms) , An alkoxyalkyl group or an acyl group. D is an integer of 0 to 3, preferably 0 to 2.)
【0029】ここで、R3は炭素原子数1〜10のアル
キル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン
化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、(メ
タ)アクリロオキシ基、メルカプト基、アミノ基、シア
ノ基置換アルキル基、アリール基、アルケニル基等のエ
ポキシ基、(メタ)アクリロオキシ基、メルカプト基、
アミノ基、シアノ基等を有する有機基を表す。具体的に
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、シクロヘキシル
基などのアルキル基、フェニル基、フェネチル基などの
アリール基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリ
フルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基、p−ク
ロロフェニル基などのハロゲン化アリール基、ビニル
基、アリル基、9−デセニル基、p−ビニルベンジル基
などのアルケニル基、3−グリシドキシプロピル基、β
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、9,
10−エポキシデシル基などのエポキシ基含有有機基、
γ−メタクリルオキシプロピル基、γ−アクリルオキシ
プロピル基などの(メタ)アクリルオキシ基含有有機
基、γ−メルカプトプロピル基、p−メルカプトメチル
フェニルエチル基などのメルカプト含有有機基、γ−ア
ミノプロピル基、(β−アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピル基などのアミノ基含有有機基、β−シアノエチル
基などのシアノ基含有有機基などを例示することができ
る。Here, R 3 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, a halogenated alkyl group, a halogenated aryl group, an alkenyl group, an epoxy group, a (meth) acryloxy group, a mercapto group, an amino group. , A cyano-substituted alkyl group, an aryl group, an epoxy group such as an alkenyl group, a (meth) acryloxy group, a mercapto group,
Represents an organic group having an amino group, a cyano group, or the like. Specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a hexyl group, a decyl group and a cyclohexyl group; an aryl group such as a phenyl group and a phenethyl group; a 3-chloropropyl group; Alkyl groups such as 3,3,3-trifluoropropyl group, halogenated aryl groups such as p-chlorophenyl group, alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, 9-decenyl group and p-vinylbenzyl group; Glycidoxypropyl group, β
-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 9,
An epoxy group-containing organic group such as a 10-epoxydecyl group,
(meth) acryloxy group-containing organic groups such as γ-methacryloxypropyl group and γ-acryloxypropyl group; mercapto-containing organic groups such as γ-mercaptopropyl group and p-mercaptomethylphenylethyl group; γ-aminopropyl group And an amino group-containing organic group such as (β-aminoethyl) -γ-aminopropyl group, and a cyano group-containing organic group such as β-cyanoethyl group.
【0030】R4は水素原子、炭素原子数1〜10のア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシアル
キル基又はアシル基であり、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、フェニル基、イソプロペニル基、メトキシエチ
ル基、アセチル基などが例示される。R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxyalkyl group or an acyl group, and specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl Butyl, hexyl, phenyl, isopropenyl, methoxyethyl, acetyl and the like.
【0031】これらのシラン化合物の具体例としては、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メチルトリブ
トキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニ
ルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリ
イソプロペノキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、
γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエト
キシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキ
シシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−(β−ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、β−シアノエチルトリメトキシシラン、γ−メタク
リルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリルオ
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリルオキシ
プロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシ又はト
リアシルオキシシラン類;ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ(2−メトキシ
エトキシ)シラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメ
チルジプロポキシシラン、ジメチルジイソプロペノキシ
シラン、ジメチルジブトキシシラン、ビニルメチルジメ
トキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニル
メチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジ(2−メト
キシエトキシ)シラン、ビニルメチルジイソプロペノキ
シシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニル
メチルジエトキシシラン、フェニルメチルジアセトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジエトキシシラン、N−(β−アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
β−シアノエチルメチルジメトキシシラン等のジアルコ
キシシラン又はジアシルオキシシラン類;メチルシリケ
ート、エチルシリケート、n−プロピルシリケート、n
−ブチルシリケート、sec−ブチルシリケート及びt
−ブチルシリケート等のテトラアルコキシシラン類など
を挙げることができる。Specific examples of these silane compounds include:
Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltris (2-methoxyethoxy) silane, methyltriacetoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropenoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane , Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, vinyltriisopropenoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloro Propyltrimethoxysilane,
γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycid Xypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl)
Ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltri Methoxysilane, γ-
Mercaptopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ- Trialkoxy or triacyloxysilanes such as acryloxypropyltrimethoxysilane and γ-acryloxypropyltriethoxysilane; dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, dimethyldi (2-methoxyethoxy) silane, dimethyldiacetoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldiisopropenoxysilane, dimethyldibutoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinylmethyldi Acetoxysilane, vinylmethyldi (2-methoxyethoxy) silane, vinylmethyldiisopropenoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, phenylmethyldiacetoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-gly Sidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acrylo Xypropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ
-Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane,
dialkoxysilanes or diacyloxysilanes such as β-cyanoethylmethyldimethoxysilane; methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, n
-Butyl silicate, sec-butyl silicate and t
And tetraalkoxysilanes such as -butyl silicate.
【0032】特に紫外線、電子線などで硬化させて被膜
を形成させようとする場合は、アクリロイル基又はメタ
クリロイル基を有する有機基を持つシラン化合物が好ま
しく、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アクリルオキシプロピルトリエトキシシランなどが
挙げられる。In particular, when a film is to be formed by curing with an ultraviolet ray, an electron beam or the like, a silane compound having an organic group having an acryloyl group or a methacryloyl group is preferable, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ- Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane,
γ-acryloxypropyltriethoxysilane and the like.
【0033】更にこれらのシラン化合物は1種を単独で
又は2種以上の混合物として使用することができる。Further, these silane compounds may be used alone or as a mixture of two or more.
【0034】本発明における成分(1)と成分(2)と
の縮合反応の条件について以下に説明する。成分(1)
100重量部に対する成分(2)の割合は10〜500
重量部が好ましい。特に好ましくは30〜200重量部
である。500重量部よりも多いと、得られる被膜の屈
折率が1.42以下にならず、経済的に不利であり、1
0重量部よりも少ないと基材に対する密着性や耐擦過傷
性が悪くなる場合がある。The conditions for the condensation reaction between component (1) and component (2) in the present invention are described below. Ingredient (1)
The ratio of the component (2) to 100 parts by weight is 10 to 500.
Parts by weight are preferred. Particularly preferred is 30 to 200 parts by weight. When the amount is more than 500 parts by weight, the refractive index of the obtained film does not become 1.42 or less, which is economically disadvantageous.
If the amount is less than 0 parts by weight, adhesion to a substrate and abrasion resistance may be deteriorated.
【0035】上記成分(1)と成分(2)との脱アルコ
ールによる縮合反応を行う際、縮合反応促進剤を使用す
ることがより効果的に反応を進行させるためには好まし
い。In carrying out the condensation reaction of the above components (1) and (2) by dealcoholization, it is preferable to use a condensation reaction accelerator in order to promote the reaction more effectively.
【0036】この縮合反応促進剤としては、鉄−2−エ
チルヘキソエート、チタンナフテート、亜鉛ステアレー
ト、ジブチル錫ジアセテートなどの有機カルボン酸の金
属塩、テトラブトキシチタン、テトラ−i−プロポキシ
チタン、ジブトキシ−(ビス−2,4−ペンタンジオネ
ート)チタン、ジ−i−プロポキシ(ビス−2,4−ペ
ンタンジオネート)チタンなどの有機チタンエステル、
テトラブトキシジルコキウム、テトラ−i−プロポキシ
ジルコニウム、ジブトキシ−(ビス−2,4−ペンタン
ジオネート)ジルコニウム、ジ−i−プロポキシ(ビス
−2,4−ペンタンジオネート)ジルコニウムなどの有
機ジルコニウムエステル、アルコキシアルミニウム化合
物、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−
(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランなどのアミノアルキル置換アルコキシシラン、
ヘキシルアミン、オクチルアミン、ジブチルアミン及び
その塩、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニ
ウム塩、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムのようなフ
ッ化塩、固体酸性触媒或いは固体塩基性触媒(例えばイ
オン交換樹脂触媒など)が例示され、これらを単独で又
は混合して使用してもよい。Examples of the condensation reaction accelerator include metal salts of organic carboxylic acids such as iron-2-ethylhexoate, titanium naphthate, zinc stearate, dibutyltin diacetate, tetrabutoxytitanium, tetra-i-propoxy and the like. Organic titanium esters such as titanium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) titanium and di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) titanium;
Organic zirconium esters such as tetrabutoxy zirconium, tetra-i-propoxy zirconium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) zirconium, and di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) zirconium , An alkoxyaluminum compound, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-
Aminoalkyl-substituted alkoxysilanes such as (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane,
Hexylamine, octylamine, dibutylamine and salts thereof, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetramethylammonium hydroxide, fluoride salts such as potassium fluoride and sodium fluoride, solid acidic catalyst or solid base Examples thereof include an acidic catalyst (for example, an ion exchange resin catalyst), which may be used alone or in combination.
【0037】この触媒の添加量は成分(1)及び(2)
の合計100重量部に対し、好ましくは0.01〜10
重量部、特に好ましくは0.1〜1重量部である。この
量が0.01重量部よりも少ないと、反応完結までに時
間がかかりすぎたり、反応が進行しない場合がある。1
0重量部より多いと、コスト的に不利であり、得られる
組成物が着色してしまったり、副反応が多くなったりす
るおそれがある。The amount of the catalyst added depends on the components (1) and (2)
Is preferably from 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of
Parts by weight, particularly preferably 0.1 to 1 part by weight. If this amount is less than 0.01 parts by weight, it may take too long to complete the reaction or the reaction may not proceed. 1
If the amount is more than 0 parts by weight, it is disadvantageous in terms of cost, and the resulting composition may be colored or side reactions may be increased.
【0038】この反応を行う際は、無溶剤下でも有機溶
剤下でも行うことが可能であるが、より好ましくは有機
溶剤下で行う。用いる有機溶剤の具体例としては、ジア
セトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、n−プロ
ピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、アセチルアセトン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、キシレン、トルエン、1,3−ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン、1,4−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン、ペルフルオロ(2−ブチルテトラ
ヒドロフラン)、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロ
オクタン、(CF3)2CHOH、F(CF2)f(C
H2)gOH[f=1〜12、g=1〜5]、(CF3)2
CF(CF2)h(CH2)iOH[h=1〜10、i=1
〜5]、F(CF(CF3)CF2O)jCF(CF3)C
H2OH[j=1〜4]等が挙げられる。This reaction can be carried out without a solvent or with an organic solvent, but is more preferably carried out with an organic solvent. Specific examples of the organic solvent used include diacetone alcohol, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, and n-propyl alcohol. , Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, ethyl acetate,
Butyl acetate, xylene, toluene, 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene, perfluoro (2-butyltetrahydrofuran), perfluorohexane, perfluorooctane, (CF 3 ) 2 CHOH, F (CF 2 ) f (C
H 2 ) g OH [f = 1 to 12, g = 1 to 5], (CF 3 ) 2
CF (CF 2 ) h (CH 2 ) i OH [h = 1 to 10, i = 1
~5], F (CF (CF 3) CF 2 O) j CF (CF 3) C
H 2 OH [j = 1 to 4] and the like.
【0039】この成分(1)と(2)との縮合反応は2
0〜120℃の温度範囲で、1〜10時間反応させるこ
とにより行うことが好ましい。The condensation reaction between the components (1) and (2) is 2
The reaction is preferably performed in a temperature range of 0 to 120 ° C for 1 to 10 hours.
【0040】得られた縮合物をそのまま本発明の被膜形
成用組成物として使用してもよいし、更に縮合反応後、
引き続き単独で加水分解反応を行わせてもよいし、成分
(2)を更に添加して共加水分解したものを使用しても
よい。この場合、成分(2)の添加量は、縮合物固形分
100重量部に対し、好ましくは1.0〜300重量
部、特に好ましくは10〜100重量部である。この量
が300重量部よりも多いと組成物トータルでのフッ素
含有量が減少してしまい、その結果屈折率が上がってし
まう場合がある。The obtained condensate may be used as it is as the film-forming composition of the present invention, or after the condensation reaction,
Subsequently, the hydrolysis reaction may be performed alone, or a component hydrolyzed by further adding the component (2) may be used. In this case, the addition amount of the component (2) is preferably 1.0 to 300 parts by weight, particularly preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the condensate. If the amount is more than 300 parts by weight, the fluorine content of the total composition may decrease, and as a result, the refractive index may increase.
【0041】この時、縮合物、或いは成分(2)との混
合物に対して、好ましくはシラン化合物換算で0.1〜
6.0倍モル等量の水を加え、加水分解させる。更に好
ましくは0.5〜3.0倍モル等量である。この量が
6.0倍モル等量より多いとゲル化する場合がある。At this time, the condensate or the mixture with the component (2) is preferably 0.1 to 0.1 in terms of a silane compound.
Add 6.0 molar equivalents of water and hydrolyze. More preferably, the molar equivalent is 0.5 to 3.0 times. If this amount is more than 6.0 molar equivalents, gelation may occur.
【0042】この加水分解・縮合時の反応は20〜12
0℃の温度範囲で1〜10時間反応させるのが好まし
い。より好ましくは20〜60℃で5〜20時間反応を
行う。The reaction at the time of hydrolysis / condensation is from 20 to 12
The reaction is preferably performed in a temperature range of 0 ° C. for 1 to 10 hours. More preferably, the reaction is carried out at 20 to 60 ° C for 5 to 20 hours.
【0043】更にこの時、系内を酸性下或いはアルカリ
性下で加水分解・縮合を行わせるとよい。そのために従
来公知の酸性触媒或いは塩基性触媒の使用が可能であ
る。酸性触媒としては酸性のハロゲン化水素、カルボン
酸、スルフォン酸などが好ましい。具体例としては塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、マレイン酸などが挙げられる。
また、塩基性触媒としてはアミン系のものが好ましい。
具体例としてはアンモニア、ジメチルアミン、ジエチル
アミンなどが挙げられる。Further, at this time, hydrolysis and condensation may be carried out under acidic or alkaline conditions in the system. For that purpose, a conventionally known acidic catalyst or basic catalyst can be used. As the acidic catalyst, acidic hydrogen halide, carboxylic acid, sulfonic acid and the like are preferable. Specific examples include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, and maleic acid.
Further, the basic catalyst is preferably an amine catalyst.
Specific examples include ammonia, dimethylamine, diethylamine and the like.
【0044】本発明の被膜形成用組成物には、上記必須
構成成分以外に、(a)無機微粒子、(b)有機溶剤、
(c)紫外線吸収剤、更にレベリング剤などの任意成分
が含まれていてもよい。以下、これらの成分につき説明
する。The film-forming composition of the present invention contains, in addition to the above essential components, (a) inorganic fine particles, (b) an organic solvent,
(C) Optional components such as an ultraviolet absorber and a leveling agent may be contained. Hereinafter, these components will be described.
【0045】(a)無機微粒子:本発明の組成物に添加
される無機微粒子としては、シリカ微粒子、アルミナ微
粒子などの金属酸化物微粒子が好ましく、コロイダルシ
リカが特に好ましい。本発明の組成物に無機微粒子を含
有させることにより、形成される硬化被膜の耐擦過傷性
を更に向上させることができる。無機微粒子として好適
なコロイダルシリカは、その平均粒子径が0.001〜
0.1μmであることが好ましく、更に好ましくは0.
001〜0.05μmとされる。コロイダルシリカの平
均粒子径が0.1μmを超える場合には、調製される組
成物によって形成される硬化被膜の透明性が低下する傾
向がある。コロイダルシリカの添加量は、上記縮合物或
いはその加水分解物100重量部あたり、固形分換算で
5〜80重量部であり、好ましくは10〜50重量部で
ある。コロイダルシリカの添加量が80重量部を超える
場合には、調製される組成物によって形成される硬化被
膜の透明性が低下する傾向がある。(A) Inorganic fine particles: As the inorganic fine particles added to the composition of the present invention, metal oxide fine particles such as silica fine particles and alumina fine particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable. By including the inorganic fine particles in the composition of the present invention, the scratch resistance of the formed cured film can be further improved. Colloidal silica suitable as inorganic fine particles has an average particle diameter of 0.001 to 0.001.
It is preferably 0.1 μm, more preferably 0.1 μm.
001 to 0.05 μm. When the average particle size of the colloidal silica exceeds 0.1 μm, the transparency of the cured film formed by the prepared composition tends to decrease. The amount of colloidal silica to be added is 5 to 80 parts by weight, preferably 10 to 50 parts by weight, in terms of solid content, based on 100 parts by weight of the condensate or the hydrolyzate thereof. When the amount of the colloidal silica exceeds 80 parts by weight, the transparency of a cured film formed by the prepared composition tends to decrease.
【0046】コロイダルシリカは、通常、分散媒中に分
散された状態で使用される。ここで、分散媒としては、
水及び有機溶剤を挙げることができる。コロイダルシリ
カの分散媒として水を使用する場合には、当該分散媒の
pHが2〜10、好ましくは3〜7に調整されているこ
とが好ましい。Colloidal silica is usually used in a state of being dispersed in a dispersion medium. Here, as the dispersion medium,
Water and organic solvents can be mentioned. When water is used as the dispersion medium of colloidal silica, the pH of the dispersion medium is preferably adjusted to 2 to 10, preferably 3 to 7.
【0047】コロイダルシリカの分散媒として好適な有
機溶剤としては、メタノール、イソプロピルアルコー
ル、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコ
ールモノプロピルエーテルなどのアルコール類、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドンなどのアミド類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
γ−ブチロラクトンなどのエステル類、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサンなどのエ−テル類を挙げるこ
とができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が
好ましい。これら有機溶剤は、単独でまたは2種以上を
混合して分散媒として使用することができる。Organic solvents suitable as a dispersion medium for colloidal silica include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol and ethylene glycol monopropyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; toluene and xylene. Aromatic hydrocarbons, dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as N-methylpyrrolidone, ethyl acetate, butyl acetate,
Esters such as γ-butyrolactone and ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane can be exemplified, and among these, alcohols and ketones are preferable. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more as a dispersion medium.
【0048】このコロイダルシリカを含有させた被膜形
成用組成物には、最適の耐磨耗性が得られるように、緩
衝液及び硬化触媒を添加することが好ましい。It is preferable to add a buffer solution and a curing catalyst to the film-forming composition containing the colloidal silica so as to obtain optimum abrasion resistance.
【0049】硬化触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、メ
タンスルホン酸のような酸触媒、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、ナトリウムメチラート、カリウムメチラ
ート、アンモニア、ジメチルアミン、エチルアミン、ト
リエチルアミン、DBU、3−アミノプロピルトリメト
キシシラン、酢酸エタノールアミン、蟻酸ジメチルアニ
リン、安息香酸、テトラエチルアンモニウム塩、酢酸ナ
トリウム、プロピオン酸ナトリウム、蟻酸ナトリウム、
酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩などのアルカ
リ触媒、テトラ−i−プロポキシチタン、テトラ−n−
ブトキシチタン、テトラブトキシジルコニウム、ジブト
キシ−(ビス−2,4−ペンタンジオネート)チタン、
ジ−i−プロポキシ(ビス−2,4−ペンタンジオネー
ト)チタンテトラ−i−プロポキシジルコニウム、ジブ
トキシ−(ビス−2,4−ペンタンジオネート)ジルコ
ニウム、ジ−i−プロポキシ(ビス−2,4−ペンタン
ジオネート)ジルコニウム、アルミニウムトリイソブト
キシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニ
ウムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩
化アルミニウム、コバルトオクチレート、コバルトアセ
チルアセトナート、亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルア
セトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルア
セトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズ
ラウレート等が挙げられる。この硬化触媒の添加量はコ
ロイダルシリカを含有させた被膜形成用組成物の固形分
100重量部に対して0.02〜0.4重量部の使用が
好ましい。Examples of the curing catalyst include acid catalysts such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and methanesulfonic acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methylate, potassium methylate, ammonia, dimethylamine, ethylamine, triethylamine, DBU, 3-aminopropyltrimethoxysilane, ethanolamine acetate, dimethylaniline formate, benzoic acid, tetraethylammonium salt, sodium acetate, sodium propionate, sodium formate,
Alkaline catalysts such as benzoyltrimethylammonium acetate, tetra-i-propoxytitanium, tetra-n-
Butoxytitanium, tetrabutoxyzirconium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) titanium,
Di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) titanium tetra-i-propoxyzirconium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) zirconium, di-i-propoxy (bis-2,4) -Pentanedionate) zirconium, aluminum triisobutoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum acetylacetonate, aluminum perchlorate, aluminum chloride, cobalt octylate, cobalt acetylacetonate, zinc octylate, zinc acetylacetonate, iron acetyl Examples include acetonate, tin acetylacetonate, dibutyltin octylate, dibutyltin laurate and the like. The amount of the curing catalyst to be added is preferably 0.02 to 0.4 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the film forming composition containing colloidal silica.
【0050】また、系内のpHをシラノール基が安定に
存在し易いpH2〜7、特に好ましくはpH3〜6に制
御することが、安定性を確保する観点から好ましい。p
Hを調整するための緩衝剤となる酸・塩基性化合物の組
み合わせ、例えば、酢酸−酢酸ナトリウム、リン酸水素
二ナトリウム−クエン酸などを添加してもよい。From the viewpoint of ensuring stability, it is preferable to control the pH in the system to pH 2 to 7, particularly preferably pH 3 to 6, in which silanol groups can be stably present. p
A combination of an acid and a basic compound serving as a buffer for adjusting H, for example, acetic acid-sodium acetate, disodium hydrogen phosphate-citric acid, and the like may be added.
【0051】(b)有機溶剤:本発明の組成物を構成す
る有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノール、ジアセトン
アルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレンな
どの炭化水素類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキ
サン、カルビトールなどのエーテル類、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートなどのグリコール類を挙げ
ることができる。(B) Organic solvent: The organic solvent constituting the composition of the present invention includes acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone, ethyl acetate,
Esters such as butyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, diacetone alcohol, hydrocarbons such as toluene and xylene, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and carbitol, propylene glycol Glycols such as monomethyl ether and polyethylene glycol monomethyl ether acetate can be exemplified.
【0052】(c)紫外線吸収剤:本発明の被膜形成用
組成物には弊害を及ぼさない範囲で通常の紫外線吸収剤
を加えてもよい。無機酸化物ゾル、或いは主骨格がヒド
ロキシベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シア
ノアクリレート系、トリアジン系である化合物誘導体な
どの有機化合物が好ましい。更に側鎖にこれら紫外線吸
収剤を含有するビニルポリマーなどの重合体でもよい。
具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの
無機酸化物ゾルからなる無機系紫外線吸収剤、或いは、
2,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,
4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、2−
ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−
ヒドロキシ−4−n−ドデシロキシベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−n−ベンジロキシベンゾフェノン、
2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾ
フェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジエト
キシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,
4’−ジプロポキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒド
ロキシ−4,4’−ジブトキシベンゾフェノン、2,
2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−4’−プロポキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキ
シ−4’−ブトキシベンゾフェノン、2,3,4−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシ−5
−t−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、エチル−2−シア
ノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−エチルヘキ
シル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、
2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)
−4,6−ジフェニルトリアジン、4−(2−アクリロ
キシエトキシ)−2−ヒドロキシベンゾフェノンの重合
体、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシエ
チルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールの重合体等
の有機系紫外線吸収剤が例示される。なお、これらの紫
外線吸収剤は2種以上併用してもよい。(C) Ultraviolet absorber: An ordinary ultraviolet absorber may be added to the film-forming composition of the present invention within a range that does not adversely affect the composition. An inorganic oxide sol or an organic compound such as a compound derivative whose main skeleton is hydroxybenzophenone-based, benzotriazole-based, cyanoacrylate-based, or triazine-based is preferable. Further, a polymer such as a vinyl polymer containing these ultraviolet absorbers in the side chain may be used.
Specifically, titanium oxide, zinc oxide, an inorganic ultraviolet absorber composed of an inorganic oxide sol such as cerium oxide, or
2,4′-dihydroxybenzophenone, 2,2 ′,
4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 2-
Hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-
Hydroxy-4-n-dodecyloxybenzophenone, 2
-Hydroxy-4-n-benzyloxybenzophenone,
2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-diethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,
4′-dipropoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dibutoxybenzophenone, 2,
2'-dihydroxy-4-methoxy-4'-propoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-4'-butoxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 2- (2-hydroxy-5
-T-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2
-Hydroxy-5-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate, 2-ethylhexyl -2-cyano-3,3-diphenyl acrylate,
2- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl)
Polymer of -4,6-diphenyltriazine, 4- (2-acryloxyethoxy) -2-hydroxybenzophenone, polymer of 2- (2'-hydroxy-5'-methacryloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole And other organic UV absorbers. In addition, two or more of these ultraviolet absorbers may be used in combination.
【0053】本発明の組成物を基材表面にコーティング
する方法としては、ディッピング法、スピンコート法、
フローコート法、ロールコート法、スプレーコート法、
スクリーン印刷法など特に限定されるものではないが、
膜厚の制御を容易に行うことができることから、スプレ
ー法及びロールコート法が好ましい。The composition of the present invention can be coated on a substrate surface by dipping, spin coating, or the like.
Flow coating method, roll coating method, spray coating method,
Although not particularly limited, such as a screen printing method,
The spray method and the roll coating method are preferable because the film thickness can be easily controlled.
【0054】基材表面にコーティングされた本発明の組
成物による塗膜は、 (1)基材の変形温度以下の温度でキュアーし被膜を形
成する方法 (2)紫外線により硬化させ被膜を形成する方法 により形成される。The coating film of the composition of the present invention coated on the surface of the substrate is formed by (1) a method of curing at a temperature lower than the deformation temperature of the substrate to form a film, and (2) a film being cured by ultraviolet rays. Formed by the method.
【0055】(1)法:乾燥温度としては、通常0〜3
00℃、好ましくは50〜150℃とされ、乾燥時間と
しては、通常10秒〜24時間、好ましくは30秒〜1
時間とされる。なお、本発明の組成物に硬化促進剤を添
加含有させることにより、乾燥時間(硬化時間)の短縮
を図ることができる。ここに、硬化促進剤の具体例とし
ては、ジメチルアミン、酢酸エタノールアミン、蟻酸ジ
メチルアニリン、安息香酸、テトラエチルアンモニウム
塩、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、蟻酸ナ
トリウム、酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩、
テトラ−i−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシ
チタン、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウ
ムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセト
ナート、過塩素酸アルミニウム、塩化アルミニウム、コ
バルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、
亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルアセトナート、鉄アセ
チルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチ
ルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート、アミノ
プロピルトリエトキシシラン、2−アミノエチルアミノ
プロピルトリメトキシシランなどのアミノシラン類等が
挙げられる。Method (1): The drying temperature is usually from 0 to 3
00 ° C., preferably 50 to 150 ° C., and the drying time is usually 10 seconds to 24 hours, preferably 30 seconds to 1 hour.
Time. The drying time (curing time) can be reduced by adding a curing accelerator to the composition of the present invention. Here, specific examples of the curing accelerator include dimethylamine, ethanolamine acetate, dimethylaniline formate, benzoic acid, tetraethylammonium salt, sodium acetate, sodium propionate, sodium formate, benzoyltrimethylammonium acetate,
Tetra-i-propoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, aluminum triisobutoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum acetylacetonate, aluminum perchlorate, aluminum chloride, cobalt octylate, cobalt acetylacetonate,
Examples include zinc octylate, zinc acetylacetonate, iron acetylacetonate, tin acetylacetonate, dibutyltin octylate, dibutyltin laurate, aminosilanes such as aminopropyltriethoxysilane and 2-aminoethylaminopropyltrimethoxysilane.
【0056】(2)法:この方法を用いるには、本発明
の縮合物或いはその加水分解物中に(メタ)アクリロイ
ル基を含有していることが必須となる。このもの単独或
いは、硬度、基材に対する密着性、耐擦過傷性等の物性
を調整すること、又は組成物の粘度、硬化性等を調整す
ることを目的として、アクリロイル基又はメタクリロイ
ル基を有する化合物(以下、(メタ)アクリレート化合
物という)を更に添加してもよい。(メタ)アクリレー
ト化合物の具体例はエチレンオキサイド変性フェノール
の(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フ
ェノールの(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変性ノニルフェノールの(メタ)アクリレート、プロピ
レンオキサイド変性ノニルフェノールの(メタ)アクリ
レート、2−エチルヘキシルカルビトール(メタ)アク
リレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ジエ
チレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピ
レングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート等の単官能(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチ
レンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジ(メ
タ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノ
ールAのジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイ
ド変性ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート、エ
チレンオキサイド変性水添ビスフェノールAのジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテル
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレ
ンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等
の多官能(メタ)アクリレート、アロニックスM−64
00(東亞合成株式会社製ポリエステルアクリレート)
等のポリエステルアクリレート、アロニックスM−12
00(東亞合成株式会社製ウレタンアクリレート)等の
ウレタンアクリレート、環状ヒンダードアミン構造を有
する2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル
メタクリレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジニルメタクリレート等が挙げられる。Method (2): In order to use this method, it is essential that the condensate of the present invention or its hydrolyzate contains a (meth) acryloyl group. Compounds having an acryloyl group or a methacryloyl group alone or for the purpose of adjusting physical properties such as hardness, adhesion to a substrate, and scratch resistance, or adjusting the viscosity, curability, etc. of the composition ( Hereinafter, (meth) acrylate compound) may be further added. Specific examples of the (meth) acrylate compound include (meth) acrylate of ethylene oxide-modified phenol, (meth) acrylate of propylene oxide-modified phenol, (meth) acrylate of ethylene oxide-modified nonylphenol, and (meth) acrylate of propylene oxide-modified nonylphenol. -Ethylhexyl carbitol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate , Diethylene glycol mono (meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene Monofunctional (meth) acrylates such as glycol mono (meth) acrylate and tripropylene glycol mono (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate; triethylene glycol di (meth) acrylate; tetraethylene glycol di (meth) acrylate; Propylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate,
Neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified water Bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane allyl ether di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth)
Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Aronix M-64
00 (Polyester acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Polyester acrylate, Aronix M-12
Urethane acrylate such as 00 (urethane acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl methacrylate having a cyclic hindered amine structure, 1,2,2,6,6-pentamethyl-
4-piperidinyl methacrylate and the like.
【0057】また、屈折率を更に下げる目的でフルオロ
アルキル基含有単官能或いは多官能性(メタ)アクリレ
ート化合物を用いてもよい。具体的には、 CF3(CH2)2COOCH=CH2 C3F7(CH2)2COOCH=CH2 C6F13(CH2)2COOCH=CH2 C8F17(CH2)2COOCH=CH2 CF3(CH2)2COOC(CH3)=CH2 C3F7(CH2)2COO(CH3)=CH2 C6F13(CH2)2COO(CH3)=CH2 C8F17(CH2)2COO(CH3)=CH2 CH2=CHCOO(CH2)2C6F12(CH2)2COO
CH=CH2 CH2=CHCOO(CH2)2C8F16(CH2)2COO
CH=CH2などが挙げられる。For the purpose of further lowering the refractive index, a fluoroalkyl group-containing monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compound may be used. Specifically, CF 3 (CH 2) 2 COOCH = CH 2 C 3 F 7 (CH 2) 2 COOCH = CH 2 C 6 F 13 (CH 2) 2 COOCH = CH 2 C 8 F 17 (CH 2) 2 COOCH = CH 2 CF 3 (CH 2 ) 2 COOC (CH 3 ) = CH 2 C 3 F 7 (CH 2 ) 2 COO (CH 3 ) = CH 2 C 6 F 13 (CH 2 ) 2 COO (CH 3 ) = CH 2 C 8 F 17 (CH 2) 2 COO (CH 3) = CH 2 CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 C 6 F 12 (CH 2) 2 COO
CH = CH 2 CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 C 8 F 16 (CH 2) 2 COO
CH = CH 2 and the like.
【0058】その配合割合は、使用目的により異なり、
特に制限されるものではないが、本発明の縮合物或いは
その加水分解物100重量部に対する(メタ)アクリレ
ート化合物の配合割合が好ましくは5〜1,000重量
部であり、更に好ましくは10〜300重量部である。The mixing ratio varies depending on the purpose of use.
Although not particularly limited, the mixing ratio of the (meth) acrylate compound to 100 parts by weight of the condensate or hydrolyzate thereof of the present invention is preferably 5 to 1,000 parts by weight, more preferably 10 to 300 parts by weight. Parts by weight.
【0059】また、この系に光重合開始剤を添加し、光
重合を行わせるのが好ましく、光重合開始剤としてはア
リールケトン系光重合開始剤(例えば、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン
類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル
類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエ
ート類、α−アシロキシムエステル類など)、含硫黄系
光重合開始剤(例えば、スルフィド類、チオキサントン
類など)、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、
その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はア
ミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。It is preferable to add a photopolymerization initiator to this system to cause photopolymerization. Examples of the photopolymerization initiator include arylketone-based photopolymerization initiators (eg, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones). , Benzyls, benzoins, benzoin ethers, benzyldimethyl ketals, benzoyl benzoates, α-acyloxime esters, etc.), sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.), acylphosphines Oxide-based photopolymerization initiator,
There are other photopolymerization initiators. Further, the photopolymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as an amine.
【0060】具体的な光重合開始剤としては、例えば以
下のような化合物が挙げられる。4−フェノキシジクロ
ロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフ
ェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、
ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オン、1(4−イソプ
ロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパ
ン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−メ
チルプロパン−1−オン、1−{4(2−ヒドロキシエ
トキシ)フェニル}−2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
パン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェ
ニル}−2−モルホリノプロパン−1−オン、ベンジ
ル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタ
ール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイ
ル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒド
ロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、
3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、
3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、9,10−フェナントレン
キノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、2−エ
チルアントラキノン、4’,4”−ジエチルイソフタロ
フェノン、α−アシロキシムエステル、フェニルグリオ
キシル酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェ
ニルスルフィド、チオキサントン、2−クロルチオキサ
ントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチル
チオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4
−ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサ
ントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,
4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシドなどで
ある。Specific examples of the photopolymerization initiator include the following compounds. 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone,
Diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1 (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-methylpropan-1-one, 1- {4 (2-hydroxyethoxy) phenyl} -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1-} 4- (methylthio) phenyl {-2-morpholinopropan-1-one, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether,
Benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal, benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone,
3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone,
3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, dibenzosuberone, 2-ethylanthraquinone, 4 ′, 4 ″ -diethylisophthalophenone , Α-acyloxime ester, methyl phenylglyoxylate, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4
-Dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,
4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoyldiphenylphosphine oxide,
2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,
4,4-trimethylpentylphosphine oxide and the like.
【0061】光重合開始剤の添加量は本発明の縮合物或
いはその加水分解物と(メタ)アクリレート化合物の合
計100重量部に対して0.01〜20重量部、特に
0.1〜10重量部が好ましい。The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.01 to 20 parts by weight, particularly 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the condensate or the hydrolyzate thereof and the (meth) acrylate compound. Parts are preferred.
【0062】本発明の組成物によって基材表面に形成さ
れる硬化被膜の膜厚は、通常0.02〜1μmとされ、
好ましくは0.05〜0.5μmとされる。また、本発
明の組成物による硬化被膜の屈折率は、透明樹脂からな
る基材表面に形成されたときに良好な反射防止効果を発
揮させるなどの観点から1.42以下であることが好ま
しく、更に好ましくは1.40以下、特には1.35〜
1.040とされる。The thickness of the cured film formed on the substrate surface by the composition of the present invention is usually 0.02 to 1 μm,
Preferably it is 0.05 to 0.5 μm. Further, the refractive index of the cured film of the composition of the present invention is preferably 1.42 or less from the viewpoint of exhibiting a good antireflection effect when formed on the surface of a substrate made of a transparent resin, More preferably, it is 1.40 or less, especially 1.35 to
1.040.
【0063】この硬化被膜を用いて、より反射防止性を
高めるため、本発明の硬化被膜の下層にその屈折率が
1.65以上となる高屈折率層を積層させるのがより好
ましい。この層の屈折率を高めるため、より大きい屈折
率を有する物質からなる添加剤を含有させることが好ま
しい。そのような添加剤としては屈折率1.5以上の金
属酸化物ゾルからなる高屈折率超微粒子がある。この高
屈折率金属酸化物ゾルとしては、平均粒径は1〜100
nm、特に1〜50nmの高屈折率金属酸化物ゾルが好
ましい。高屈折率金属酸化物ゾルを配合する場合、その
配合量は特に限定されないが、配合する目的を十分達成
するためには、高屈折率層を形成する組成物の硬化性成
分100重量部に対して5〜500重量部が好ましい。
特に好ましくは100〜250重量部である。配合量が
500重量部より多いと硬化被膜にヘーズが発生するな
どの問題が生じ易くなる。一方、5重量部より少ないと
屈折率が高くならない場合がある。In order to further enhance the antireflection property by using this cured film, it is more preferable to laminate a high refractive index layer having a refractive index of 1.65 or more below the cured film of the present invention. In order to increase the refractive index of this layer, it is preferable to include an additive made of a substance having a higher refractive index. As such an additive, there is a high refractive index ultrafine particle made of a metal oxide sol having a refractive index of 1.5 or more. The high refractive index metal oxide sol has an average particle size of 1 to 100.
A high refractive index metal oxide sol having a thickness of 1 nm to 50 nm is particularly preferable. When blending the high refractive index metal oxide sol, the blending amount is not particularly limited, but in order to sufficiently achieve the purpose of blending, in order to achieve the blending purpose, 100 parts by weight of the curable component of the composition forming the high refractive index layer. Preferably 5 to 500 parts by weight.
Particularly preferred is 100 to 250 parts by weight. If the amount is more than 500 parts by weight, problems such as generation of haze in the cured film are likely to occur. On the other hand, if the amount is less than 5 parts by weight, the refractive index may not be increased.
【0064】高屈折率金属酸化物ゾルは、硬化層の硬化
物屈折率よりも高く、かつ屈折率1.5以上であること
が、高屈折率の硬化物層の屈折率を上げる点から好まし
い。具体的なものとしては、ZnO(n=1.90)、
TiO2(n=2.3〜2.7)、Sb2O5(n=1.
71)、Y2O3(n=1.87)、La2O3(n=1.
95)、ZrO2(n=2.05)、Al2O3(n=
1.63)、InとSnの混合酸化物であるITO(n
=1.95)などの金属酸化物からなる高屈折率金属酸
化物ゾルが好ましい。その他In2O3、SnO2、Ce
O2などの金属酸化物ゾルなども使用できる。これら高
屈折率金属酸化物ゾルは、分散安定性を向上させる点か
ら表面がシランカップリング剤等で修飾されたものでも
よい。The high refractive index metal oxide sol is preferably higher than the cured product refractive index of the cured layer and 1.5 or more in view of increasing the refractive index of the high refractive index cured product layer. . Specific examples include ZnO (n = 1.90),
TiO 2 (n = 2.3 to 2.7), Sb 2 O 5 (n = 1.
71), Y 2 O 3 (n = 1.87), La 2 O 3 (n = 1.
95), ZrO 2 (n = 2.05), Al 2 O 3 (n =
1.63), ITO (n which is a mixed oxide of In and Sn
= 1.95), and a high refractive index metal oxide sol made of a metal oxide is preferred. Other In 2 O 3 , SnO 2 , Ce
A metal oxide sol such as O 2 can also be used. These high refractive index metal oxide sols may be those whose surfaces are modified with a silane coupling agent or the like from the viewpoint of improving the dispersion stability.
【0065】この高屈折率硬化層を形成する硬化性樹脂
としては、従来公知の有機樹脂やシリコーン樹脂、例え
ば熱硬化性アクリル樹脂、湿気硬化性アクリル樹脂、熱
可塑性アクリル樹脂、シランやシロキサンで変性したア
クリル樹脂、ウレタン樹脂などを使用できるが、特に好
ましくは、アルコキシシリル基を含有するアクリル系及
び/又はビニル系単量体とこれら単量体との共重合可能
な他の単量体との有機共重合体を含有する組成物であ
る。このものはアルコキシシリル基の導入により基材と
の接着性、低屈折率層(上記被膜形成用組成物による硬
化被膜層)との密着性も向上されるし、アルコキシシリ
ル基同士が架橋することにより、耐熱性が向上し、耐久
性を付与できる。As the curable resin forming the high refractive index cured layer, a conventionally known organic resin or silicone resin such as a thermosetting acrylic resin, a moisture curable acrylic resin, a thermoplastic acrylic resin, or a silane or siloxane modified resin is used. Acrylic resin, urethane resin and the like can be used, and particularly preferred is an acrylic and / or vinyl monomer having an alkoxysilyl group and another monomer copolymerizable with these monomers. It is a composition containing an organic copolymer. By introducing the alkoxysilyl group, the adhesiveness with the substrate, the adhesion with the low refractive index layer (the cured film layer formed by the film-forming composition) is improved, and the alkoxysilyl groups are cross-linked. Thereby, heat resistance is improved and durability can be imparted.
【0066】この場合、このアルコキシシリル基を含有
する単量体の含有量は0.1重量%より少ないと耐熱
性、耐久性が改良されない場合があり、また50重量%
より多いと硬くなりすぎて接着性が低下する場合がある
ので、0.1〜50重量%の範囲で含有するのが好まし
い。In this case, if the content of the monomer containing an alkoxysilyl group is less than 0.1% by weight, heat resistance and durability may not be improved, and 50% by weight.
If the amount is more than 100%, it may be too hard, and the adhesiveness may be reduced.
【0067】このアルコキシシリル基を含有するアクリ
ル系単量体としては、3−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエト
キシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメト
キシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3
−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−
メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、3−メタク
リロキシメチルトリエトキシシラン、3−メタクリロキ
シメチルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシ
メチルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシメチ
ルトリメトキシシラン、3−アクリロキシメチルトリエ
トキシシラン、3−アクリロキシメチルメチルジメトキ
シシラン、3−アクリロキシメチルメチルジエトキシシ
ランなどが例示されるが、これらの中で取り扱い性、架
橋密度、反応性などから3−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキ
シシランが好ましい。The acrylic monomers containing an alkoxysilyl group include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyl. Methyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane,
3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3
-Acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-
Methacryloxymethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxymethyltriethoxysilane, 3-methacryloxymethylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxymethylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxymethyltrimethoxysilane, 3-acryloxymethyltri Ethoxysilane, 3-acryloxymethylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxymethylmethyldiethoxysilane and the like are exemplified. , 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane are preferred.
【0068】また、このアルコキシシリル基を含有する
ビニル系単量体としては、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキ
シエトキシ)シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、
ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルビス(2
−メトキシエトキシ)シラン、3−ビニロキシプロピル
トリメトキシシラン、3−ビニロキシプロピルトリエト
キシシラン、3−ビニロキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、3−ビニロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキ
シシラン、スチリルメチルジメトキシシラン、スチリル
メチルジエトキシシランなどが例示されるが、これらの
中で取り扱い性、反応性などからビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、3−ビニロキシプロ
ピルトリメトキシシランが好ましい。Examples of the vinyl monomer containing an alkoxysilyl group include vinyltrimethoxysilane and
Vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, vinylmethyldimethoxysilane,
Vinylmethyldiethoxysilane, vinylmethylbis (2
-Methoxyethoxy) silane, 3-vinyloxypropyltrimethoxysilane, 3-vinyloxypropyltriethoxysilane, 3-vinyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-vinyloxypropylmethyldiethoxysilane, styryltrimethoxysilane, styryltri Ethoxysilane, styrylmethyldimethoxysilane, styrylmethyldiethoxysilane and the like are exemplified. Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and 3-vinyloxypropyltrimethoxysilane are used from the viewpoint of handleability and reactivity. preferable.
【0069】次に、これらのアルコキシシラン(アルコ
キシシリル基を含有する単量体)と共重合可能な他の単
量体としては、メチルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、2−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキ
ルメタクリレート類、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレー
ト類、グリシジルメタクリレート、アクリルアミド、ア
クリルニトリル、酢酸ビニル、エチルビニルエーテル、
ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、スチレン、エチレングリコールジメタ
クリレート、また紫外線吸収剤であるベンゾトリアゾー
ル類にメタクリル基を含有するもの、例えば2−(2’
−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシエチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾールなど、また光安定剤である
ヒンダードアミン類にメタクリル基を含有するもの、例
えば2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル
−メタクリレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル
−4−ピペリジニル−メタクリレートなどが例示され
る。なお、アルコキシシリル基と反応し得る、例えば、
2−ヒドロキシエチルメタクリレートなどは高屈折率硬
化被膜用組成物が増粘、ゲル化などの経時変化を起こす
ので好ましくない。Next, other monomers copolymerizable with these alkoxysilanes (monomers containing an alkoxysilyl group) include alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, butyl methacrylate and 2-ethylhexyl methacrylate; Methyl acrylate, ethyl acrylate, alkyl acrylates such as butyl acrylate, glycidyl methacrylate, acrylamide, acrylonitrile, vinyl acetate, ethyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as butyl vinyl ether and hexyl vinyl ether, styrene, ethylene glycol dimethacrylate, and benzotriazoles which are ultraviolet absorbers containing a methacryl group, for example, 2- (2 '
-Hydroxy-5'-methacryloxyethylphenyl)
Hindered amines such as -2H-benzotriazole and the like, which contain a methacryl group in hindered amines, for example, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl-methacrylate, 1,2,2,6,6 -Pentamethyl-4-piperidinyl-methacrylate and the like. In addition, it can react with an alkoxysilyl group, for example,
2-Hydroxyethyl methacrylate is not preferred because the composition for a high refractive index cured coating causes a change with time such as thickening and gelling.
【0070】この有機共重合体は、上記したアルコキシ
シリル基を含有する単量体とこれと共重合し得る他の単
量体との共重合体であり、この共重合はこれら単量体を
含有する溶液にジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド等のパーオキサイド類又はアゾビスイソブ
チロニトリル等のアゾ化合物から選択されるラジカル重
合用開始剤を加え、加熱下に反応させることにより容易
に得られる。This organic copolymer is a copolymer of the above-mentioned monomer containing an alkoxysilyl group and another monomer copolymerizable therewith. A radical polymerization initiator selected from peroxides such as dicumyl peroxide and benzoyl peroxide or azo compounds such as azobisisobutyronitrile is added to the contained solution and easily obtained by reacting under heating. Can be
【0071】この有機共重合体のコーティング剤組成物
(高屈折率硬化被膜用組成物)における構成比は、10
重量%未満では熱可塑性となり耐熱性が低下する場合が
あり、また80重量%より多いと接着性が不良となる場
合があるので、好適には10〜80重量%の範囲が好ま
しい。The composition ratio of the organic copolymer in the coating composition (the composition for a high refractive index cured film) is 10%.
If it is less than 80% by weight, it may become thermoplastic and the heat resistance may be reduced. If it is more than 80% by weight, the adhesiveness may be poor.
【0072】また、この高屈折率硬化被膜用組成物の粘
度が低すぎて塗工しずらく塗膜が薄くなってしまうよう
な場合、接着性を低下させずに、可撓性を付与する成分
としてアクリル系共重合体を添加してもよい。アクリル
系共重合体としては、ポリ(メチルメタクリレート)、
ポリ(ブチルメタクリレート)、ポリ(ブチルアクリレ
ート)などのポリ(アルキルメタクリレート)、ポリ
(アルキルアクリレート)或いはこれらの共重合体が例
示される。これらのものは、接着性を低下させることな
く高屈折率硬化被膜用組成物に可撓性を付与させるもの
である。これを添加する場合、高屈折率硬化被膜用組成
物に対して30重量%より多く添加するとこの組成物の
熱硬化性が悪化する場合があるので、この添加量は30
重量%以下が望ましい。When the viscosity of the composition for a high refractive index cured coating is too low to make it difficult to apply the coating and the coating becomes thin, the flexibility is imparted without lowering the adhesiveness. An acrylic copolymer may be added as a component. Acrylic copolymers include poly (methyl methacrylate),
Examples thereof include poly (alkyl methacrylate) such as poly (butyl methacrylate) and poly (butyl acrylate), poly (alkyl acrylate), and a copolymer thereof. These are intended to impart flexibility to the high refractive index cured coating composition without deteriorating the adhesiveness. When this is added, if it is added in an amount of more than 30% by weight based on the composition for a high refractive index cured coating, the thermosetting property of the composition may be deteriorated.
% By weight or less is desirable.
【0073】更に、高屈折率硬化被膜用組成物に耐水性
の良好な接着性を付与したり、有機共重合体中のアルコ
キシシリル基と架橋させる目的で、一分子内に窒素原子
及びアルコキシシリル基を含有する化合物を添加しても
よい。更に詳しくは、このものは一分子内に窒素原子1
個以上及びアルコキシシリル基を2個以上含有するもの
がより好ましい。Further, in order to impart good water resistance to the composition for a high refractive index cured coating, or to crosslink with the alkoxysilyl group in the organic copolymer, a nitrogen atom and an alkoxysilyl group are contained in one molecule. Compounds containing groups may be added. More specifically, it has one nitrogen atom in one molecule.
Those having at least two and at least two alkoxysilyl groups are more preferred.
【0074】この成分としては、アミノ基含有アルコキ
シシラン、アミノ基含有ジ(アルコキシシラン)、アミ
ド基含有アルコキシシラン、アミノ基含有アルコキシシ
ランとエポキシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤
との反応生成物をアミド化したもの、アミノ基含有アル
コキシシランと多官能(メタ)アクリル化合物との反応
生成物、アミノ基含有アルコキシシランと(メタ)アク
リル化合物との反応生成物、アミノ基含有アルコキシシ
ランと(メタ)アクリル基含有アルコキシシランとの反
応生成物、ポリアミン化合物と(メタ)アクリル基含有
アルコキシシランとの反応生成物、アミノ基含有アルコ
キシシランと多官能イソシアネート化合物との反応生成
物をアミド化したもの、アミノ基含有アルコキシシラン
とイソシアネート基含有アルコキシシランとの反応生成
物をアミド化したもの、チオール基含有アルコキシシラ
ンとイソシアネート基含有アルコキシシランとの反応生
成物などが好適に使用されるが、より好ましくはアミノ
基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシシ
ラン及びシリル化剤との反応生成物をアミド化したもの
が望ましい。As this component, amino group-containing alkoxysilane, amino group-containing di (alkoxysilane), amide group-containing alkoxysilane, reaction product of amino group-containing alkoxysilane with epoxy group-containing alkoxysilane and silylating agent are used. Amidated, reaction product of amino group-containing alkoxysilane and polyfunctional (meth) acrylic compound, reaction product of amino group-containing alkoxysilane and (meth) acrylic compound, amino group-containing alkoxysilane and (meth) Reaction products of acrylic group-containing alkoxysilanes, reaction products of polyamine compounds and (meth) acrylic group-containing alkoxysilanes, amidated reaction products of amino group-containing alkoxysilanes and polyfunctional isocyanate compounds, amino Group-containing alkoxysilanes and isocyanates Amidation of the reaction product with the containing alkoxysilane, a reaction product of the thiol group-containing alkoxysilane and the isocyanate group-containing alkoxysilane are preferably used, and more preferably the amino group-containing alkoxysilane and the epoxy group Amidation of the reaction product with the contained alkoxysilane and the silylating agent is desirable.
【0075】これらの成分として使用されるものの具体
例を下記に例示する。アミノ基含有アルコキシシランと
しては、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−
アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、3−(トリメトキシ
シリルプロピル)アミノプロピルトリメトキシシラン、
3−(トリエトキシシリルプロピル)アミノプロピルト
リエトキシシラン、2−(トリメトキシシリルプロピ
ル)アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、2−(トリエトキシシリルプロピル)アミノエチ
ル−3−アミノプロピルトリエトキシシランなどが例示
される。Specific examples of the components used as these components are shown below. Examples of the amino group-containing alkoxysilane include 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltrimethoxysilane.
Aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3 -Aminopropyltriethoxysilane, N-
(2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3- (trimethoxysilylpropyl) aminopropyltrimethoxysilane,
3- (triethoxysilylpropyl) aminopropyltriethoxysilane, 2- (trimethoxysilylpropyl) aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 2- (triethoxysilylpropyl) aminoethyl-3-aminopropyltriethoxy Examples include silane.
【0076】アミド基含有アルコキシシランとしては、
ウレイドプロピルトリメトキシシラン、ウレイドプロピ
ルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルメチルジメト
キシシラン、ウレイドプロピルメチルジエトキシシラン
などが例示される。The amide group-containing alkoxysilane includes:
Examples thereof include ureidopropyltrimethoxysilane, ureidopropyltriethoxysilane, ureidopropylmethyldimethoxysilane, and ureidopropylmethyldiethoxysilane.
【0077】アミノ基含有アルコキシシランとエポキシ
基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応生成物
をアミド化したものは、下記の方法により製造されるも
のである。アミノ基含有アルコキシシランとしては上記
に示されたものが挙げられるが、接着性、操作性の点か
らN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシランなどが好ましい。ま
た、ここで使用されるエポキシ基含有アルコキシシラン
としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン及びβ−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジエ
トキシシランなどが例示される。これらの中で反応性、
操作性の点からγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
メチルジメトキシシランとすることが好ましい。Amidation of the reaction product of an amino group-containing alkoxysilane, an epoxy group-containing alkoxysilane and a silylating agent is produced by the following method. Examples of the amino group-containing alkoxysilane include those described above. From the viewpoint of adhesiveness and operability, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl ) -3-Aminopropylmethyldimethoxysilane and the like are preferred. Further, the epoxy group-containing alkoxysilane used here includes γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane and the like are exemplified. Reactivity in these,
From the viewpoint of operability, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane are preferred.
【0078】なお、ここで使用されるシリル化剤として
は、ヘキサメチルジシラザン、N,N’−ビス(トリメ
チルシリル)ホルムアミド、N,N’−ビス(トリメチ
ルシリル)ウレアなどが例示されるが、このものはアミ
ノ基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシ
シランとの反応により、生成するOH基を保護してOH
基とアルコキシシリル基との反応を防止し、この反応生
成物の経時変化を防止するためのものである。Examples of the silylating agent used here include hexamethyldisilazane, N, N'-bis (trimethylsilyl) formamide, N, N'-bis (trimethylsilyl) urea and the like. What protects the OH group generated by the reaction between the amino group-containing alkoxysilane and the epoxy group-containing alkoxysilane to form OH
This is for preventing the reaction between the group and the alkoxysilyl group and for preventing the reaction product from changing with time.
【0079】このアミノ基含有アルコキシシランとエポ
キシ基含有アルコキシシラン及びシリル化剤との反応
は、アミノ基含有アルコキシシランとシリル化剤との混
合物にエポキシ基含有アルコキシシランを滴下し、加熱
反応させればよく、アミノ基含有アルコキシシランとエ
ポキシ基含有アルコキシシランとを反応させ、この反応
生成物にシリル化剤を添加して反応させるようにしても
よい。The reaction of the amino group-containing alkoxysilane with the epoxy group-containing alkoxysilane and the silylating agent is carried out by dropping the epoxy group-containing alkoxysilane into a mixture of the amino group-containing alkoxysilane and the silylating agent, followed by a heating reaction. The amino group-containing alkoxysilane and the epoxy group-containing alkoxysilane may be reacted, and the reaction product may be reacted by adding a silylating agent.
【0080】なお、この反応におけるアミノ基含有アル
コキシシランとエポキシ基含有アルコキシシランの配合
比は、エポキシ基/アミノ基(=N−H)のモル比が
0.3未満では1分子中の架橋に関与するアルコキシ基
の数が少なすぎて硬化性が弱くなるし、分子全体の広が
りがなくなり、面接着性が弱くなって接着性が劣るおそ
れがあり、これが1.2以上を超えると、後述するアミ
ド化においてアミド化し得る=N−H基が殆どなくなっ
て耐水接着性が悪くなるおそれがあるので、0.3〜
1.2の範囲とするのが好ましい。In this reaction, the mixing ratio of the amino group-containing alkoxysilane and the epoxy group-containing alkoxysilane is such that if the molar ratio of epoxy group / amino group (= NH) is less than 0.3, crosslinking in one molecule may occur. If the number of participating alkoxy groups is too small, the curability is weakened, the entire molecule is not spread, the surface adhesiveness may be weakened and the adhesiveness may be poor, and if it exceeds 1.2 or more, it will be described later. It can be amidated in amidation = N—H groups are almost eliminated, and there is a possibility that water-resistant adhesiveness may be deteriorated.
It is preferable to set the range of 1.2.
【0081】更に、この成分はこの反応生成物をアミド
化したものとされるが、このアミド化は酢酸クロリド、
酢酸ブロミド、プロピオン酸クロリド、無水酢酸、酢酸
イソプロペニル、ベンゾイルクロリドなどで例示される
カルボン酸の酸ハロゲン化物、酸無水物、酸イソプロペ
ニルエステル化合物と反応させればよい。Further, this component is considered to be amidated from the reaction product, and the amidation is performed by acetic chloride,
The reaction may be carried out with an acid halide, acid anhydride, or acid isopropenyl ester compound of a carboxylic acid exemplified by bromide acetate, propionyl chloride, acetic anhydride, isopropenyl acetate, benzoyl chloride, and the like.
【0082】なお、高屈折率硬化被膜用組成物における
この成分の添加量は上記に示した有機共重合体100重
量部に対して0.5〜20重量部含有するのが好まし
い。20重量部を超えて添加すると架橋密度が高くなり
すぎて、得られる被膜の硬度が高くなって逆に接着性が
不良となる場合がある。The amount of this component in the high refractive index cured coating composition is preferably 0.5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the above-mentioned organic copolymer. If it is added in excess of 20 parts by weight, the crosslink density becomes too high, and the hardness of the resulting coating increases, which may result in poor adhesion.
【0083】上記高屈折率硬化被膜用組成物には、弊害
を及ぼさない範囲で通常の紫外線吸収剤を加えてもよ
い。この場合、上記の有機共重合体と相溶性良好な有機
系紫外線吸収剤が好ましい。特に、主骨格がヒドロキシ
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアク
リレート系、トリアジン系である化合物誘導体が好まし
い。更に側鎖にこれら紫外線吸収剤を含有するビニルポ
リマーなどの重合体でもよい。具体的には、2,4’−
ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’、4,4’−テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸、2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−n−ドデシロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−n−ベンジロキシベンゾフェノン、2,2’−ジ
ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、
2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジエトキシベンゾ
フェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジプロ
ポシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,
4’−ジブトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロ
キシ−4−メトキシ−4’−プロポキシベンゾフェノ
ン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−4’−ブ
トキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシ−5−t−メチル
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ
−5−t−オキチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、エチル−2−シアノ−3,3
−ジフェニルアクリレート、2−エチルヘキシル−2−
シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−(2−
ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−
ジフェニルトリアジン、4−(2−アクリロキシエトキ
シ)−2−ヒドロキシベンゾフェノンの重合体、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシエチルフェ
ニル)−2H−ベンゾトリアゾールの重合体等が例示さ
れる。なお、これらの有機系紫外線吸収剤は2種以上併
用してもよい。An ordinary ultraviolet absorber may be added to the composition for a high refractive index cured coating as long as it does not adversely affect the composition. In this case, an organic ultraviolet absorber having good compatibility with the above organic copolymer is preferable. In particular, a compound derivative whose main skeleton is a hydroxybenzophenone-based, benzotriazole-based, cyanoacrylate-based, or triazine-based is preferable. Further, a polymer such as a vinyl polymer containing these ultraviolet absorbers in the side chain may be used. Specifically, 2,4'-
Dihydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-
Methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 2-hydroxy-
4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-
4-n-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-benzyloxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone,
2,2′-dihydroxy-4,4′-diethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dipropoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,
4'-dibutoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-4'-propoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-4'-butoxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone 2- (2-hydroxy-5-t-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-t-oxytylphenyl) benzotriazole, 2
-(2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3
-Diphenyl acrylate, 2-ethylhexyl-2-
Cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2- (2-
(Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -4,6-
Diphenyltriazine, polymer of 4- (2-acryloxyethoxy) -2-hydroxybenzophenone, 2-
A polymer of (2′-hydroxy-5′-methacryloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole is exemplified. In addition, two or more of these organic ultraviolet absorbers may be used in combination.
【0084】上記高屈折率硬化被膜用組成物は溶剤によ
り希釈されて使用してもよい。この溶剤としては、ジア
セトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、イソブチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、n−プロ
ピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、アセチルアセトン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、キシレン、トルエン等が挙げられる。高屈
折率硬化被膜用組成物は通常、上記溶剤で希釈され、上
記有機共重合体の5〜10重量%の溶液として使用され
る。The composition for a high refractive index cured film may be used after being diluted with a solvent. Examples of the solvent include diacetone alcohol, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, n-propyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone , Methyl isobutyl ketone, acetylacetone, ethyl acetate,
Examples thereof include butyl acetate, xylene, and toluene. The composition for a high refractive index cured coating is usually diluted with the above-mentioned solvent and used as a 5 to 10% by weight solution of the above-mentioned organic copolymer.
【0085】必要に応じ、従来のコーティング剤に用い
られる公知の添加剤、例えばレベリング剤などを配合し
ても差し支えない。更に、塗膜の平滑化を図るため、フ
ッ素系或いはシリコーン系の界面活性剤を添加してもよ
い。また、この塗膜の硬化を促進させるために架橋硬化
触媒を添加してもよい。If necessary, known additives used in conventional coating agents, such as a leveling agent, may be added. Further, a fluorine-based or silicone-based surfactant may be added to smooth the coating film. Further, a cross-linking curing catalyst may be added to accelerate the curing of the coating film.
【0086】この高屈折率硬化被膜用組成物に金属酸化
物ゾルを添加した溶液を予め清浄化したプラスチックフ
ィルム等の基材の表面に塗布し、上記希釈溶剤を室温或
いは加熱下で蒸発させて厚さ0.01〜1μm、好まし
くは0.05〜0.5μmの塗膜を形成させるようにす
ればよい。A solution obtained by adding a metal oxide sol to the composition for a high refractive index cured coating film is applied to the surface of a substrate such as a previously cleaned plastic film, and the above-mentioned diluting solvent is evaporated at room temperature or under heating. What is necessary is just to form a coating film having a thickness of 0.01 to 1 μm, preferably 0.05 to 0.5 μm.
【0087】この高屈折率硬化被膜層を形成するために
この組成物を塗工する手段も特に制限されず、公知又は
周知の方法を採用できる。例えば、ディップ法、フロー
コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート
法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフ
コート法等の方法を採用できる。Means for applying this composition to form this high refractive index cured coating layer is not particularly limited, and a known or well-known method can be employed. For example, methods such as a dip method, a flow coating method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a blade coating method, and an air knife coating method can be employed.
【0088】本発明の被膜形成用組成物或いはこれと上
記高屈折率硬化被膜用組成物とにより被覆される基材と
しては、プラスチック、ガラス、セラミックスなどから
なる透明基材を挙げることができ、特に、ポリカーボネ
ート、ポリ(メタ)アクリレート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリアリレート、ポリウレタン、ポリスルホン、ポ
リエーテル、ポリエーテルケトン、トリメチルペンテ
ン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、
(メタ)アクリロニトリル、トリアセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロー
ス等などの透明樹脂からなる基材が好ましい。透明基材
の屈折率は1.40以上であることが好ましい。なお、
この明細書において、「屈折率」の値は、ナトリウムD
線を光源とし、アッベ屈折率計によって測定される値
(測定温度20℃)をいうものとする。Examples of the film-forming composition of the present invention or a substrate coated with the above-mentioned composition for a high refractive index cured film include transparent substrates made of plastic, glass, ceramics and the like. In particular, polycarbonate, poly (meth) acrylate, polyethersulfone, polyarylate, polyurethane, polysulfone, polyether, polyetherketone, trimethylpentene, polyolefin, polyethylene terephthalate,
(Meth) acrylonitrile, triacetyl cellulose,
A substrate made of a transparent resin such as diacetyl cellulose and acetate butyrate cellulose is preferred. The transparent substrate preferably has a refractive index of 1.40 or more. In addition,
In this specification, the value of the “refractive index” refers to sodium D
Using a line as a light source, it refers to a value measured by an Abbe refractometer (measuring temperature: 20 ° C.).
【0089】[0089]
【実施例】以下、合成例、及び実施例と比較例を示し、
本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に
制限されるものではない。なお、下記の例において%は
重量%、部は重量部、本明細書中における平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(以下、G
PCという)によるポリスチレン換算の数平均分子量を
示す。EXAMPLES The following shows synthesis examples, examples and comparative examples,
The present invention will be specifically described, but the present invention is not limited to the following examples. In the following examples,% is% by weight, part is part by weight, and the average molecular weight in the present specification is expressed by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as G
PC) and the number average molecular weight in terms of polystyrene.
【0090】<反応縮合物の合成> [合成例1]撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
0.5リットルフラスコに、イオン交換水230g、3
5%塩酸0.2gを仕込み、撹拌しているところに、C
8F1 7(CH2)2SiCH3(OH)2で示されるヘプタ
デカフロロオクチルエチルメチルジヒドロキシシラン3
0g(0.056モル)、γ−アクリルオキシプロピル
トリメトキシシラン12g(0.056モル)、メチル
イソブチルケトン168g及びジブトキシ−(ビス−
2,4−ペンタジオネート)チタン0.42g(0.0
01モル)を仕込み、80℃まで加熱により内温を上昇
させ、そのまま2時間反応させたところ、薄黄色透明溶
液を得た。このものの固形分濃度は18.0%であっ
た。また、このもののGPCによる分子量は約2,00
0であった。<Synthesis of Reaction Condensate> [Synthesis Example 1] 230 g of ion-exchanged water was placed in a 0.5-liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer.
0.2 g of 5% hydrochloric acid was charged and the mixture was stirred.
8 F 1 7 (CH 2) 2 SiCH 3 (OH) heptadecafluorooctyl ethyl methyl dihydroxysilane 3 represented by 2
0 g (0.056 mol), 12 g (0.056 mol) of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, 168 g of methyl isobutyl ketone and dibutoxy- (bis-
0.42 g (2,4-pentadionate) titanium (0.0
01 mol), the internal temperature was increased by heating to 80 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 2 hours to obtain a pale yellow transparent solution. This had a solid content of 18.0%. Its molecular weight by GPC is about 2,000.
It was 0.
【0091】[合成例2]撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた0.5リットルフラスコに、イオン交換水
230g、35%塩酸0.2gを仕込み、撹拌している
ところに、C8F1 7(CH2)2SiCH3(OH)2で示
されるヘプタデカフロロオクチルエチルメチルジヒドロ
キシシラン30g(0.056モル)、γ−アクリルオ
キシプロピルトリメトキシシラン36g(0.168モ
ル)、メチルイソブチルケトン215g及びジブトキシ
−(ビス−2,4−ペンタジオネート)チタン0.42
g(0.001モル)を仕込み、80℃まで加熱により
内温を上昇させ、そのまま2時間反応させたところ、薄
黄色透明溶液を得た。このものの固形分濃度は17.0
%であった。また、このもののGPCによる分子量は約
2,500であった。[0091] [Synthesis Example 2] a stirrer, 0.5 liter flask equipped with a condenser and a thermometer was charged with ion-exchanged water 230 g, 35% hydrochloric acid 0.2 g, were added. While stirring, C 8 F 1 30 g (0.056 mol) of heptadecafluorooctylethylmethyldihydroxysilane represented by 7 (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OH) 2 , 36 g (0.168 mol) of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, methyl isobutyl ketone 215 g and dibutoxy- (bis-2,4-pentadionate) titanium 0.42
g (0.001 mol), the internal temperature was increased by heating to 80 ° C., and the mixture was allowed to react for 2 hours to obtain a pale yellow transparent solution. Its solids concentration is 17.0.
%Met. The molecular weight of this product by GPC was about 2,500.
【0092】[合成例3]撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた0.5リットルフラスコに、イオン交換水
230g、35%塩酸0.2gを仕込み、撹拌している
ところに、C8F1 7(CH2)2SiCH3(OH)2で示
されるヘプタデカフロロオクチルエチルメチルジヒドロ
キシシラン30g(0.056モル)、γ−アクリルオ
キシプロピルトリメトキシシラン12g(0.056モ
ル)、テトラエトキシシラン11.7g(0.056モ
ル)、メチルイソブチルケトン215g及びジブトキシ
−(ビス−2,4−ペンタジオネート)チタン0.42
g(0.001モル)を仕込み、80℃まで加熱により
内温を上昇させ、そのまま2時間反応させたところ、薄
黄色透明溶液を得た。このものの固形分濃度は18.0
%であった。また、このもののGPCによる分子量は約
2,600であった。[Synthesis Example 3] In a 0.5 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, 230 g of ion-exchanged water and 0.2 g of 35% hydrochloric acid were charged, and C 8 F 1 was stirred. 30 g (0.056 mol) of heptadecafluorooctylethylmethyldihydroxysilane represented by 7 (CH 2 ) 2 SiCH 3 (OH) 2 , 12 g (0.056 mol) of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane 11.7 g (0.056 mol), 215 g of methyl isobutyl ketone and 0.42 of dibutoxy- (bis-2,4-pentadionate) titanium
g (0.001 mol), the internal temperature was increased by heating to 80 ° C., and the mixture was allowed to react for 2 hours to obtain a pale yellow transparent solution. Its solids concentration is 18.0.
%Met. Further, the molecular weight of this product by GPC was about 2,600.
【0093】[合成例4]ジブトキシ−(ビス−2,4
−ペンタジオネート)チタン0.42g(0.001モ
ル)を塩化ベンジルトリエチルアンモニウム0.42g
に変更し、後は合成例1と同様に仕込み、反応を行った
ところ、透明溶液を得た。このものの固形分濃度は1
8.0%であった。また、このもののGPCによる分子
量は約2,200であった。Synthesis Example 4 Dibutoxy- (bis-2,4
-Pentadionate) titanium 0.42 g (0.001 mol) was added to benzyltriethylammonium chloride 0.42 g
After that, the mixture was charged and reacted in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a transparent solution. Its solids concentration is 1
It was 8.0%. Further, the molecular weight of this product by GPC was about 2,200.
【0094】[合成例5]撹拌機、コンデンサー及び温
度計を備えた0.5リットルフラスコに、C8F1 7(C
H2)2SiCH3(OH)2で示されるヘプタデカフロロ
オクチルエチルメチルジヒドロキシシラン30g(0.
056モル)、メチルトリメトキシシラン19.6g
(0.056モル)、テトラエトキシシラン11.7g
(0.056モル)、メチルイソブチルケトン245g
及びジブトキシ−(ビス−2,4−ペンタジオネート)
チタン0.42g(0.001モル)を仕込み、80℃
まで加熱により内温を上昇させ、そのまま2時間反応さ
せたところ、薄黄色透明溶液を得た。このものの固形分
濃度は17.0%であった。また、このもののGPCに
よる分子量は約2,300であった。[0094] [Synthesis Example 5] a stirrer, 0.5 liter flask equipped with a condenser and thermometer, C 8 F 1 7 (C
30 g of heptadecafluorooctylethylmethyldihydroxysilane represented by H 2 ) 2 SiCH 3 (OH) 2 (0.
056 mol), 19.6 g of methyltrimethoxysilane
(0.056 mol), 11.7 g of tetraethoxysilane
(0.056 mol), 245 g of methyl isobutyl ketone
And dibutoxy- (bis-2,4-pentadionate)
0.42 g (0.001 mol) of titanium is charged, and the temperature is 80 ° C.
When the internal temperature was raised by heating until the reaction was continued for 2 hours, a pale yellow transparent solution was obtained. This had a solid content of 17.0%. Further, the molecular weight of this product by GPC was about 2,300.
【0095】[合成例6]合成例1で合成した縮合物溶
液100gに0.25Nの酢酸水溶液を1.4g添加
し、室温で3時間撹拌し、加水分解反応を行い、薄黄色
透明溶液を得た。このもののGPCによる分子量は約
5,000であった。[Synthesis Example 6] To 100 g of the condensate solution synthesized in Synthesis Example 1, 1.4 g of an aqueous solution of 0.25N acetic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to carry out a hydrolysis reaction to give a pale yellow transparent solution. Obtained. Its molecular weight by GPC was about 5,000.
【0096】[合成例7]合成例5で合成した縮合物溶
液100gにテトラエトキシシラン7.6g(0.03
6モル)及び0.25Nの酢酸水溶液を2.1g添加
し、室温で3時間撹拌し、加水分解反応を行い、薄黄色
透明溶液を得た。このもののGPCによる分子量は約
5,200であった。[Synthesis Example 7] To 100 g of the condensate solution synthesized in Synthesis Example 5, 7.6 g (0.03 g) of tetraethoxysilane was added.
6 mol) and 2.1 g of a 0.25N acetic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to carry out a hydrolysis reaction to obtain a pale yellow transparent solution. Its molecular weight by GPC was about 5,200.
【0097】[合成例8]合成例1で合成した縮合物溶
液100gにテトラエトキシシラン7.6g(0.03
6モル)及び0.25Nの酢酸水溶液を2.1g添加
し、室温で3時間撹拌し、加水分解反応を行い、薄黄色
透明溶液を得た。このもののGPCによる分子量は約
5,500であった。[Synthesis Example 8] To 100 g of the condensate solution synthesized in Synthesis Example 1, 7.6 g (0.03 g) of tetraethoxysilane was added.
6 mol) and 2.1 g of a 0.25N acetic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to carry out a hydrolysis reaction to obtain a pale yellow transparent solution. Its molecular weight by GPC was about 5,500.
【0098】[合成例9](比較例) 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた0.5リット
ルフラスコに、C8F1 7(CH2)2SiCH3(OC
H3)2で示されるヘプタデカフロロオクチルエチルメチ
ルジメトキシシラン32g(0.056モル)、γ−ア
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン12g(0.
056モル)、メチルイソブチルケトン176g及び
0.25Nの酢酸水溶液3.0gを仕込み、80℃まで
加熱により内温を上昇させ、そのまま2時間反応させた
ところ、微濁溶液を得た。このものの固形分濃度は1
7.0%であった。また、GPCをみると未反応の両原
料が観測された。[0098] [Synthesis Example 9] (Comparative Example) stirrer, 0.5 liter flask equipped with a condenser and thermometer, C 8 F 1 7 (CH 2) 2 SiCH 3 (OC
Heptadecafluorooctylethylmethyldimethoxysilane 32 g (0.056 mol) represented by H 3 ) 2 and γ-acryloxypropyltrimethoxysilane 12 g (0.
056 mol), 176 g of methyl isobutyl ketone and 3.0 g of a 0.25 N acetic acid aqueous solution were charged, the internal temperature was raised to 80 ° C. by heating, and the mixture was reacted as it was for 2 hours to obtain a finely turbid solution. Its solids concentration is 1
7.0%. When GPC was observed, both unreacted raw materials were observed.
【0099】[合成例10](比較例) 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた0.5リット
ルフラスコに、C8F1 7(CH2)2Si(OCH3)3で
示されるヘプタデカフロロオクチルエチルメチルトリメ
トキシシラン32g(0.056モル)、γ−アクリル
オキシプロピルトリメトキシシラン12g(0.056
モル)、メチルイソブチルケトン176g及び0.25
Nの酢酸水溶液3.0gを仕込み、80℃まで加熱によ
り内温を上昇させ、そのまま2時間反応させたところ、
微濁溶液を得た。このものの固形分濃度は16.5%で
あった。また、GPCをみると未反応の両原料が観測さ
れた。[0099] [Synthesis Example 10] (comparative example) stirrer, indicated A 0.5-liter flask equipped with a condenser and thermometer, with C 8 F 1 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3) 3 -heptadec 32 g (0.056 mol) of fluorooctylethylmethyltrimethoxysilane, 12 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (0.056 mol)
Mol), 176 g of methyl isobutyl ketone and 0.25
When 3.0 g of an aqueous acetic acid solution of N was charged, the internal temperature was increased by heating to 80 ° C., and the mixture was reacted for 2 hours.
A turbid solution was obtained. This had a solid content of 16.5%. When GPC was observed, both unreacted raw materials were observed.
【0100】[合成例11](比較例) 撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた0.5リット
ルフラスコに、C8F1 7(CH2)2Si(OCH3)3で
示されるヘプタデカフロロオクチルエチルトリメトキシ
シラン32g(0.056モル)、メチルトリメトキシ
シラン19.6g(0.056モル)、テトラエトキシ
シラン11.7g(0.056モル)、メチルイソブチ
ルケトン176g及び0.25Nの酢酸水溶液4.5g
を仕込み、80℃まで加熱により内温を上昇させ、その
まま2時間反応させたところ、微濁溶液を得た。このも
のの固形分濃度は17.0%であった。また、GPCを
みると未反応の原料が観測された。[0100] [Synthesis Example 11] (comparative example) stirrer, indicated A 0.5-liter flask equipped with a condenser and thermometer, with C 8 F 1 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3) 3 -heptadec 32 g (0.056 mol) of fluorooctylethyltrimethoxysilane, 19.6 g (0.056 mol) of methyltrimethoxysilane, 11.7 g (0.056 mol) of tetraethoxysilane, 176 g of methyl isobutyl ketone and 0.25N 4.5 g of acetic acid aqueous solution
Was charged, and the internal temperature was raised to 80 ° C. by heating, and the mixture was reacted for 2 hours to obtain a slightly turbid solution. This had a solid content of 17.0%. When GPC was observed, unreacted raw materials were observed.
【0101】<アルコキシシリル基含有の有機共重合体
の合成> [合成例12]撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た0.5リットルフラスコにγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン20g、メチルメタクリレート6
0g、エチルアクリレート5g、酢酸ビニル5g、グリ
シジルメタクリレート10g、エチレングリコールジメ
タクリレート0.2g及び重合開始剤としてアゾビスイ
ソブチロニトリル0.5g並びに溶剤としてジアセトン
アルコール20g、エチレングリコールモノメチルエー
テル80gを仕込み、窒素気流下にて80〜90℃で5
時間撹拌した。得られたアルコキシシリル基を含有する
有機共重合体溶液の粘度は43,600cst、またそ
の共重合体中のアルコキシル基含有量は20%であっ
た。<Synthesis of Organic Copolymer Containing Alkoxysilyl Group> [Synthesis Example 12] 20 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and methyl methacrylate 6 were placed in a 0.5 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer.
0 g, 5 g of ethyl acrylate, 5 g of vinyl acetate, 10 g of glycidyl methacrylate, 0.2 g of ethylene glycol dimethacrylate, 0.5 g of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, 20 g of diacetone alcohol as a solvent, and 80 g of ethylene glycol monomethyl ether were charged. At 80-90 ° C under nitrogen stream
Stirred for hours. The viscosity of the obtained organic copolymer solution containing an alkoxysilyl group was 43,600 cst, and the alkoxyl group content in the copolymer was 20%.
【0102】[合成例13]合成例12のγ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン20gを10gに、
メチルメタクリレート60gを70gに代えた以外は合
成例12と同様に合成してアルコキシシリル基を含有す
る有機共重合体溶液を作製した。得られたアルコキシシ
リル基を含有する有機共重合体溶液の粘度は40,60
0cst、またその共重合体中のアルコキシル基含有量
は10%であった。Synthesis Example 13 20 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane of Synthesis Example 12 was added to 10 g.
An organic copolymer solution containing an alkoxysilyl group was prepared in the same manner as in Synthesis Example 12 except that 60 g of methyl methacrylate was replaced with 70 g. The viscosity of the obtained organic copolymer solution containing an alkoxysilyl group is 40,60.
0 cst, and the content of alkoxyl group in the copolymer was 10%.
【0103】[合成例14]合成例12のγ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン20gをビニルトリ
メトキシシラン20gに代えた以外は合成例12と同様
に合成してアルコキシシリル基を含有する有機共重合体
溶液を作製した。得られたアルコキシシリル基を含有す
る有機共重合体溶液の粘度は39,700cst、また
その共重合体中のアルコキシル基含有量は20%であっ
た。[Synthesis Example 14] An organic copolymer containing an alkoxysilyl group was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 12 except that 20 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane in Synthesis Example 12 was replaced with 20 g of vinyltrimethoxysilane. A coalescence solution was prepared. The viscosity of the obtained organic copolymer solution containing an alkoxysilyl group was 39,700 cst, and the content of the alkoxyl group in the copolymer was 20%.
【0104】<分子内に窒素原子とアルコキシシリル基
を含有する化合物の合成> [合成例15]撹拌機、コンデンサー及び温度計を備え
た2.0リットルフラスコにN−2−(アミノエチル)
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン222gとシ
リル化剤としてのヘキサメチルジシラザン242gを仕
込んで窒素気流下に120℃に加熱し、ここにγ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン496gを滴
下して反応させ、120℃で5時間加熱撹拌したのち、
低沸点分を減圧下100℃で除去したところ、粘度1,
387cst、屈折率1.4618、比重1.048の
粘稠な化合物862gが得られた。<Synthesis of Compound Containing Nitrogen Atom and Alkoxysilyl Group in Molecule> [Synthesis Example 15] N-2- (aminoethyl) was placed in a 2.0-liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer.
222 g of -3-aminopropyltrimethoxysilane and 242 g of hexamethyldisilazane as a silylating agent were charged and heated to 120 ° C. under a nitrogen stream, and 496 g of γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane was added dropwise thereto. After reacting and stirring for 5 hours at 120 ° C,
When the low boiling point components were removed at 100 ° C. under reduced pressure, a viscosity of 1,
862 g of a viscous compound having 387 cst, a refractive index of 1.4618, and a specific gravity of 1.048 was obtained.
【0105】次いで、この反応生成物862gとトルエ
ン862gを撹拌機、コンデンサー及び温度計を備えた
2.0リットルフラスコに仕込み、窒素気流下に室温で
ここに無水酢酸141gを滴下して反応させ、110℃
で2時間加熱撹拌させたのち、50℃でメタノール14
1gを滴下し、50℃で1時間加熱撹拌し、次いで減圧
下に100℃で低沸分を除去し、高粘稠な化合物を得
た。この化合物の赤外吸収スペクトル測定を行ったとこ
ろ、3,000cm-1以上の領域にOH基或いはNH基
に起因する吸収は認められず、1,650cm-1にアミ
ド基に起因する強い吸収が認められた。Next, 862 g of this reaction product and 862 g of toluene were charged into a 2.0 liter flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, and 141 g of acetic anhydride was added dropwise thereto at room temperature under a nitrogen stream to cause a reaction. 110 ° C
And stirred at 50 ° C for 2 hours.
1 g was added dropwise, and the mixture was stirred with heating at 50 ° C. for 1 hour, and then the low-boiling components were removed at 100 ° C. under reduced pressure to obtain a highly viscous compound. When an infrared absorption spectrum of this compound was measured, no absorption due to an OH group or NH group was observed in a region of 3,000 cm −1 or more, and a strong absorption due to an amide group was observed at 1,650 cm −1. Admitted.
【0106】次に、実施例と比較例を示す。なお、実施
例及び比較例に用いた本発明の縮合物及びその加水分解
物、有機共重合体等の略号は以下の通りである。 <縮合物及びその加水分解物> FS−1:合成例1の反応生成物 FS−2:合成例2の反応生成物 FS−3:合成例3の反応生成物 FS−4:合成例4の反応生成物 FS−5:合成例5の反応生成物 FS−6:合成例6の反応生成物 FS−7:合成例7の反応生成物 FS−8:合成例8の反応生成物 FS−9:合成例9の反応生成物 FS−10:合成例10の反応生成物 FS−11:合成例11の反応生成物 <アルコキシシリル基含有の有機共重合体> Pol−1:合成例12の反応生成物 Pol−2:合成例13の反応生成物 Pol−3:合成例14の反応生成物 <分子内に窒素原子とアルコキシシリル基を含有する化
合物> NSi−1:ウレイドプロピルトリエトキシラン NSi−2:合成例15の反応生成物Next, examples and comparative examples will be described. The abbreviations of the condensate, the hydrolyzate thereof, the organic copolymer, and the like of the present invention used in Examples and Comparative Examples are as follows. <Condensate and Hydrolyzate> FS-1: Reaction Product of Synthesis Example 1 FS-2: Reaction Product of Synthesis Example 2 FS-3: Reaction Product of Synthesis Example 3 FS-4: Synthesis Product of Synthesis Example 4 Reaction Product FS-5: Reaction Product of Synthesis Example 5 FS-6: Reaction Product of Synthesis Example 6 FS-7: Reaction Product of Synthesis Example 7 FS-8: Reaction Product of Synthesis Example 8 FS-9 : Reaction product of Synthesis Example 9 FS-10: Reaction product of Synthesis Example 10 FS-11: Reaction product of Synthesis Example 11 <Alkoxysilyl group-containing organic copolymer> Pol-1: Reaction of Synthesis Example 12 Product Pol-2: Reaction product of Synthesis Example 13 Pol-3: Reaction product of Synthesis Example 14 <Compound containing a nitrogen atom and an alkoxysilyl group in the molecule> NSi-1: Ureidopropyltriethoxysilane NSi- 2: Reaction product of Synthesis Example 15
【0107】また、実施例中の各種物性の測定及び評価
は以下の方法で行った。 (1)鉛筆硬度 JIS K5400に準じて測定した。 (2)耐候性試験 被膜が形成された基材の各々について、フェードメータ
[スガ試験機(株)製]による耐候性促進試験を行い、
1,000時間後における光沢の保持率(%)を測定し
た。評価は、光沢保持率が90%以上である場合を
「○」、89〜60%である場合を「△」、59%以下
である場合を「×」とした。 (3)耐擦傷性試験 ASTM1044に準拠し、テーバー磨耗試験機にて磨
耗輪CS−10Fを装着し、荷重500g下で1,00
0回転後の曇価を測定した。テーバー磨耗性(%)は
(試験後の曇価)−(試験前の曇価)で示した。 (4)硬化被膜の密着性 JIS K5400に準拠し、サンプルをカミソリの刃
で1mm間隔の縦横11本ずつ切り目を入れて100個
の碁盤目をつくり、市販セロテープ(登録商標)をよく
密着させた後、90度手前方向に急激にはがした時、被
膜が剥離せずに残存したます目数(X)をX/100で
表示した。 (5)透明性 被膜の全面が均一な透明性を有している場合を「○」、
透明性が損なわれた部分が認められる場合を「×」とし
た。 (6)屈折率 膜厚30〜50μmのフィルムを作製し、このフィルム
についてアッベ屈折率計により測定した(測定温度20
℃)。 (7)反射率 分光光度計にて測定された硬化被膜基材表面の視感平均
反射率。 (8)撥水性 接触角測定装置を用いて、被膜上に水滴を落とし、水の
接触角を測定した。 (9)耐汚染性 被膜上に赤マジックインキ(登録商標)で直線を引き、
乾いた布で拭き取り、その状況により耐汚染性を評価し
た。 ◎:線を引き、拭き取りを10回以上繰り返しても軽く
擦っただけで拭き取れる。 ○:線を引き、拭き取りを繰り返しても拭き取れるが、
かすかに跡が残る。 △:強く擦らないと拭き取れず、繰り返すと拭き取れな
くなる。 ×:全く拭き取れない。The measurement and evaluation of various physical properties in the examples were performed by the following methods. (1) Pencil hardness Measured according to JIS K5400. (2) Weather resistance test For each of the base materials on which the coatings were formed, a weather resistance acceleration test was performed using a fade meter [manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.]
The gloss retention (%) after 1,000 hours was measured. The evaluation was “「 ”when the gloss retention was 90% or more,“ △ ”when it was 89 to 60%, and“ X ”when it was 59% or less. (3) Scratch resistance test Abrasion wheels CS-10F were mounted on a Taber abrasion tester in accordance with ASTM 1044, and the test was performed under a load of 500 g for 1,000 hours.
The haze value after 0 rotation was measured. Taber abrasion (%) was represented by (haze after test)-(haze before test). (4) Adhesion of the cured film According to JIS K5400, the sample was cut in 11 vertical and horizontal directions at 1 mm intervals with a razor blade to make 100 grids, and a commercial cellotape (registered trademark) was adhered well. Thereafter, when the film was suddenly peeled 90 degrees toward the front, the number of squares (X) remaining without peeling off the coating was indicated by X / 100. (5) Transparency "○" indicates that the entire surface of the coating has uniform transparency.
The case where a part where transparency was impaired was recognized was evaluated as "x". (6) Refractive index A film having a film thickness of 30 to 50 μm was prepared, and this film was measured with an Abbe refractometer (measurement temperature: 20).
° C). (7) Reflectance Average luminous reflectance of the surface of the cured film substrate measured by a spectrophotometer. (8) Water repellency Using a contact angle measuring device, a water drop was dropped on the film, and the contact angle of water was measured. (9) Stain resistance A straight line was drawn on the film with red magic ink (registered trademark),
It was wiped off with a dry cloth, and the stain resistance was evaluated according to the situation. :: Even if a line is drawn and wiping is repeated 10 times or more, it can be wiped off by gently rubbing. ○: Can be wiped out by drawing a line and repeating wiping,
A faint trace remains. Δ: Wipe off if not strongly rubbed; X: It cannot be wiped off at all.
【0108】[実施例、比較例] (1)被膜形成用組成物の調製 合成例1〜11で作成した縮合物、メチルエチルケトン
分散コロイダルシリカ(固形分30%)、多官能アクリ
レート:トリメチロールプロパントリアクリレート、フ
ッ化アルキル基含有アクリレート:C8F17(CH2)2
COOCH=CH2、光重合開始剤:2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、硬化触
媒:蟻酸ナトリウムなどを混合し、固形分が15%にな
るようにジアセトンアルコールにて調整して、組成物a
〜lを表1に示したように調製した。[Examples and Comparative Examples] (1) Preparation of Film Forming Composition Condensates prepared in Synthesis Examples 1 to 11, methyl ethyl ketone dispersed colloidal silica (solid content: 30%), polyfunctional acrylate: trimethylolpropanetri Acrylate, fluorinated alkyl group-containing acrylate: C 8 F 17 (CH 2 ) 2
COOCH = CH 2 , photopolymerization initiator: 2-hydroxy-
2-Methyl-1-phenylpropan-1-one, curing catalyst: sodium formate and the like were mixed, and the mixture was adjusted with diacetone alcohol so that the solid content became 15%.
~ L were prepared as shown in Table 1.
【0109】(2)高屈折率硬化被膜用組成物の調製 合成例12〜15で作成した組成物、平均分子量15万
のポリメチルメタクリレート、高屈折率金属酸化物ゾ
ル:屈折率2.70のTiO2のメチルエチルケトンゾ
ル(平均粒径50nm)などを混合し、有機共重合体の
固形分が10%になるようにジアセトンアルコールにて
調整して、組成物A〜Eを表1に示したように調製し
た。(2) Preparation of Composition for High-Refractive-Index Cured Coating Compositions prepared in Synthesis Examples 12 to 15, polymethyl methacrylate having an average molecular weight of 150,000, and a metal oxide sol having a high refractive index having a refractive index of 2.70 Methyl ethyl ketone sol (average particle diameter: 50 nm) of TiO 2 was mixed and adjusted with diacetone alcohol so that the solid content of the organic copolymer became 10%. Compositions A to E are shown in Table 1. Was prepared as follows.
【0110】(3)表面被覆形成物の作製 (2)の高屈折率硬化被膜用組成物を塗布する場合は、
表面を清浄化した透明樹脂板(或いはフィルム)に硬化
塗膜として1〜3μmになるようにフローコーティング
法にて塗布し、約120℃にて約30分硬化させる。そ
の上に(1)の被膜形成用組成物を塗布する場合は、硬
化塗膜として0.1〜0.5μmになるようにバーコー
タコーティング法にて塗布する。(3) Preparation of Surface Coating Formed Product When the composition for a high refractive index cured film of (2) is applied,
It is applied to a transparent resin plate (or film) having a cleaned surface by a flow coating method so as to have a thickness of 1 to 3 μm as a cured coating film, and is cured at about 120 ° C. for about 30 minutes. When the film-forming composition (1) is applied thereon, it is applied by a bar coater coating method so as to have a cured film thickness of 0.1 to 0.5 μm.
【0111】その後、紫外線で硬化させる場合は高圧水
銀灯を用いて200mJ/cm2を3回繰り返して硬化
させる。また、熱硬化をさせる場合は、80℃の熱風循
環オーブン中で5分間保持し硬化させる。或いは(2)
の高屈折率硬化被膜用組成物を塗布しない場合は、表面
を清浄化した透明樹脂板(或いはフィルム)に硬化塗膜
として硬化塗膜として0.1〜0.5μmになるように
バーコータコーティング法にて塗布する。その後、紫外
線で硬化させる場合は高圧水銀灯を用いて200mJ/
cm2を3回繰り返して硬化させる。また、熱硬化をさ
せる場合は、80℃の熱風循環オーブン中で5分間保持
し硬化させる。Thereafter, in the case of curing with ultraviolet rays, curing is performed by repeating 200 mJ / cm 2 three times using a high-pressure mercury lamp. In the case of heat curing, the film is held and cured in a hot air circulating oven at 80 ° C. for 5 minutes. Or (2)
When the high refractive index cured coating composition is not applied, a bar coater coating is applied as a cured coating on a transparent resin plate (or film) having a cleaned surface so as to have a cured coating thickness of 0.1 to 0.5 μm. Apply by method. Thereafter, when curing with ultraviolet light, 200 mJ /
cm 2 to 3 times repeatedly cured. In the case of heat curing, the film is held and cured in a hot air circulating oven at 80 ° C. for 5 minutes.
【0112】使用した透明樹脂板は0.5mmのPC樹
脂、フィルムは50μmのPETフィルムを用いて行っ
た。このようにして得られた塗膜の物性評価結果を表4
に示した。The transparent resin plate used was a 0.5 mm PC resin, and the film was a 50 μm PET film. Table 4 shows the evaluation results of the physical properties of the coating films thus obtained.
It was shown to.
【0113】[0113]
【表1】 [Table 1]
【0114】[0114]
【表2】 [Table 2]
【0115】[0115]
【表3】 [Table 3]
【0116】[0116]
【表4】 [Table 4]
【0117】[0117]
【発明の効果】本発明の組成物によれば、ガラス、セラ
ミックス、金属及びプラスチックなど各種基材に対する
密着性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射
防止性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を、効
率的に形成することができる。本発明の組成物は、耐候
性を必要とする外装用塗料、ハードコート材、防湿コー
ト材、反射防止コート材として好適に用いることがで
き、ガラス、プラスチックなどの透明な基材を被覆して
光学部品を構成するコート材として特に有用である。According to the composition of the present invention, it has excellent adhesion to various substrates such as glass, ceramics, metals and plastics, excellent abrasion resistance, weather resistance, stain resistance, water repellency, antireflection performance and refraction. A transparent cured film having a low rate can be efficiently formed. The composition of the present invention can be suitably used as an exterior coating material that requires weather resistance, a hard coat material, a moisture-proof coat material, and an anti-reflective coat material, and covers a transparent substrate such as glass and plastic. It is particularly useful as a coating material constituting an optical component.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08G 77/24 C08G 77/24 77/26 77/26 77/28 77/28 C09D 5/16 C09D 5/16 143/04 143/04 183/02 183/02 183/04 183/04 (72)発明者 浅井 光雄 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 佐藤 和治 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 Fターム(参考) 4F100 AA17C AB00 AD00 AG00 AH03C AH05B AK01 AK02C AK17B AK17J AK25C AK52B AK52J AK52K AL06B AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C GB07 JB06 JL06 JM01C JN06B JN18B JN18C 4J027 AB01 AC03 AC04 AC06 AF03 AF05 AF06 AG01 BA07 BA08 BA13 BA19 BA26 CB10 CC05 CD08 4J035 AA01 BA01 BA11 CA051 CA061 CA131 CA141 CA161 CA181 CA26N CA261 EB02 LA03 LB01 LB07 4J038 CG141 CG142 CH031 CH032 DG321 DG322 DL021 DL022 DL031 DL032 DL051 DL052 DL071 DL072 DL081 DL082 DL091 DL092 DL111 DL112 DL121 DL122 FA061 FA062 FA131 FA132 FA141 FA142 FA151 FA152 FA171 FA172 FA261 FA262 FA271 FA272 FA281 FA282 GA01 GA12 GA16 HA166 HA216 HA446 KA03 KA04 KA06 KA08 KA12 MA09 NA03 NA05 NA07 NA11 NA12 NA19 PA17 PA18 PA19 PB05 PB08 PC03 PC08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08G 77/24 C08G 77/24 77/26 77/26 77/28 77/28 C09D 5/16 C09D 5 / 16 143/04 143/04 183/02 183/02 183/04 183/04 (72) Inventor: Mitsuo Asai 1-chome, Hitomi, Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma Prefecture 10 72) Inventor Kazuharu Sato 1-10 Hitomi, Matsuida-cho, Usui-gun, Gunma Prefecture F-term (reference) 4F100 AA17C AB00 AD00 AG00 AH03C AH05B AK01 AK02C AK17B AK17J AK25C AK52B AK52J AL06B AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C GB07 JB06 JL06 JM01C JN06B JN18B JN18C 4J027 AB01 AC03 AC04 AC06 AF03 AF05 AF06 AG01 BA07 BA08 BA13 BA19 BA26 CB10 CC05 CD08 4J035 A A01 BA01 BA11 CA051 CA061 CA131 CA141 CA161 CA181 CA26N CA261 EB02 LA03 LB01 LB07 4J038 CG141 CG142 CH031 CH032 DG321 DG322 DL021 DL022 DL031 DL032 DL051 DL052 FA071 DL081 FA0812 FA271 FA272 FA281 FA282 GA01 GA12 GA16 HA166 HA216 HA446 KA03 KA04 KA06 KA08 KA12 MA09 NA03 NA05 NA07 NA11 NA12 NA19 PA17 PA18 PA19 PB05 PB08 PC03 PC08
Claims (12)
分加水分解物又は完全加水分解物とシラン化合物とを縮
合して得られる縮合物とを含有することを特徴とする被
膜形成用組成物。1. A film-forming composition comprising a partially hydrolyzed product or a completely hydrolyzed product of a fluorinated alkyl group-containing silane compound and a condensate obtained by condensing the silane compound.
分加水分解物又は完全加水分解物が下記一般式(1)で
示されるものであり、シラン化合物が下記一般式(2)
で示されるものである請求項1記載の被膜形成用組成
物。 【化1】 (式中、Rfは、 【化2】 (nは1〜20の整数、mは1以上の整数)で表される
エーテル結合を1個以上含んでいてもよいポリフルオロ
アルキル基を示し、Xは−CH2−、−CH2O−、−N
R2−、−COO−、−CONR2−、−S−、−SO3
−又はSO2NR2−(R2は水素原子又は炭素数1〜8
のアルキル基)の1種又は2種以上の結合基を示し、R
1は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコ
キシ基又は水酸基を示す。aは0〜3の整数、bは1〜
3の整数、cは0〜2の整数である。) R3 dSi(OR4)4-d (2) (式中、R3は炭素数1〜10の有機基、R4は水素原子
又は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシアルキル基もしくはアシル基を示
す。dは0〜3の整数である。)2. A partially hydrolyzed product or a completely hydrolyzed product of a fluorinated alkyl group-containing silane compound is represented by the following general formula (1), and the silane compound is represented by the following general formula (2)
The composition for forming a film according to claim 1, which is represented by: Embedded image (Wherein, Rf is (N is an integer from 1 to 20, m is an integer of 1 or more) indicates at least one which may contain polyfluoroalkyl group an ether bond represented, X is -CH 2 -, - CH 2 O- , -N
R 2- , -COO-, -CONR 2- , -S-, -SO 3
— Or SO 2 NR 2 — (R 2 is a hydrogen atom or a C 1-8
One or more types of linking groups)
1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group. a is an integer of 0 to 3, b is 1 to
An integer of 3 and c is an integer of 0 to 2. R 3 d Si (OR 4 ) 4-d (2) (wherein, R 3 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group, alkenyl group, or aryl group having 1 to 10 carbon atoms) A d, an alkoxyalkyl group or an acyl group, and d is an integer of 0 to 3.)
も1つがアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する
有機基であることを特徴とする請求項2記載の被膜形成
用組成物。3. The composition according to claim 2, wherein at least one of R 3 represented by the general formula (2) is an organic group having an acryloyl group or a methacryloyl group.
されるシラン化合物とを共加水分解させたものを含有す
ることを特徴とする請求項2又は3記載の被膜形成用組
成物。4. The composition for forming a film according to claim 2, wherein the composition comprises a product obtained by co-hydrolyzing the obtained condensate and a silane compound represented by the general formula (2). .
のを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれ
か1項記載の被膜形成用組成物。5. The film-forming composition according to claim 1, further comprising a product obtained by further hydrolyzing the obtained condensate.
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の
被膜形成用組成物。6. The coating composition according to claim 1, wherein the cured coating has a refractive index of 1.42 or less.
膜形成用組成物の硬化被膜を有することを特徴とする防
汚染性及び撥水性に優れた保護被膜を有する物品。7. An article having a protective film excellent in stain resistance and water repellency, comprising a cured film of the composition for forming a film according to any one of claims 1 to 6.
膜形成用組成物の硬化被膜を有することを特徴とする反
射防止性に優れた反射防止用物品。8. An antireflection article having excellent antireflection properties, comprising a cured film of the composition for forming a film according to any one of claims 1 to 6.
と、請求項1乃至6のいずれか1項記載の被膜形成用組
成物の硬化被膜とが表面に積層されたことを特徴とする
請求項8記載の反射防止性に優れた反射防止用物品。9. A high-refractive-index layer having a refractive index of 1.65 or more, and a cured film of the composition for forming a film according to claim 1 laminated on the surface. An antireflection article excellent in antireflection properties according to claim 8.
することを特徴とする請求項9記載の反射防止性に優れ
た反射防止用物品。10. The antireflection article having excellent antireflection properties according to claim 9, wherein the high refractive index layer contains a metal oxide sol.
含有するアクリル系及び/又はビニル系単量体と共重合
可能な他の単量体との有機共重合体を含有し、この共重
合体中のアルコキシシリル基を含有するアクリル系及び
/又はビニル系単量体の比率が0.1〜50重量%であ
ることを特徴とする請求項9又は10記載の反射防止性
に優れた反射防止用物品。11. The high refractive index layer contains an organic copolymer of an acrylic and / or vinyl monomer containing an alkoxysilyl group and another monomer copolymerizable with the acrylic and / or vinyl monomer. 11. The reflection having excellent antireflection properties according to claim 9 or 10, wherein the ratio of the acrylic and / or vinyl monomer containing an alkoxysilyl group in the combination is 0.1 to 50% by weight. Articles for prevention.
子及びアルコキシシリル基を有する化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項11記載の反射防止用物品。12. The antireflection article according to claim 11, wherein the high refractive index layer further contains a compound having a nitrogen atom and an alkoxysilyl group in one molecule.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000237502A JP4126522B2 (en) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | Method for producing condensate and hydrolyzate for film-forming composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000237502A JP4126522B2 (en) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | Method for producing condensate and hydrolyzate for film-forming composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002053806A true JP2002053806A (en) | 2002-02-19 |
JP4126522B2 JP4126522B2 (en) | 2008-07-30 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000237502A Expired - Fee Related JP4126522B2 (en) | 2000-08-04 | 2000-08-04 | Method for producing condensate and hydrolyzate for film-forming composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4126522B2 (en) |
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