JP2002049057A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】表示領域の周縁部を確実に遮光できるとともに
製造コストの低減を図ることが可能な液晶表示装置を提
供することにある。 【解決手段】対向基板と対向配置されたアレイ基板上に
は、表示領域４０の周囲に沿って第１遮光層３６が形成
されているとともに、遮光膜と表示領域との隙間に重ね
て、着色層からなる第２遮光層４４が設けられている。
第１遮光層は、アレイ基板上の信号線と同一材料により
信号線と同時に形成されている。アレイ基板の裏面側に
は、その周縁に沿って額縁状の第３遮光層３８が形成さ
れ、その少なくとも一部は第１遮光層と重なって設けら
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示装置に関
し、特に、アレイ基板側に着色層が設けられた液晶表示
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、画素電極の設けられた
アレイ基板と対向電極を有した対向基板とを所定の隙間
を置いて対向配置し、これら２枚の基板間に液晶層を挟
持して構成されている。アレイ基板および対向基板は、
シール材および封止材によって周辺領域同士が貼り合わ
され、この２枚の基板間には、基板間距離を所定の値に
保持するために粒状スペーサ、またはフォトリソグラフ
ィー法により形成された樹脂からなる柱状スペーサが配
置されている。液晶表示装置によりカラー表示する場
合、一般に、基板の一方に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青
色（Ｂ）からなる着色層が配置されている。

【０００３】着色層をアレイ基板側に形成する場合、高
い開口率を確保できるように、着色層上に画素電極を配
置し、スイッチング素子を形成する遮光性金属により画
素電極間の隙間を遮光する画素構造をとっている。更
に、この遮光性金属の割合を少なくすることにより、一
層開口率の高い製品を作る努力がなされている。

【０００４】通常、バックライトからの光漏れを防止す
るため、表示領域の外周において、対向基板側に額縁状
のブラックマトリクス（ＢＭ）が形成されている。一般
に、ＢＭ材料としてはＣｒ、ＭｏＷ等の金属薄膜や、樹
脂が使用される。

【０００５】また、近年、低コスト化を図るため、着色
層のみならず、対向基板のＢＭレス化が検討されてい
る。この場合、ＢＭをアレイ基板側に形成する必要があ
る。このようにアレイ基板側にＢＭを形成する場合、黒
の着色層でＢＭとスペーサ柱とを同時に形成する方式が
検討されているが、黒の着色層はパターン形成が難し
く、プロセス上難易度が高い。

【０００６】そこで、アレイ基板の裏面（ガラス面）に
黒遮光層を印刷等の手法によって形成する事によりＢＭ
を形成する方式や、テープにより遮光する方式、液晶セ
ルの外形に制約がなければ、ベゼル又は樹脂フレームと
の合わせ精度を考慮し、バックライトの光漏れが生じな
い領域まで遮光パターンを配置する方式が検討されてい
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示装
置において、アレイ基板の裏面に黒遮光層を形成した場
合、製造プロセス中のハンドリング等による傷および発
塵が生じ、歩留まり低下をもたらすため、黒遮光層をで
きるだけ後工程で形成し、偏光板等で黒遮光層を保護す
ることが望ましい。この場合、通常のフォトマスクを使
用した露光機によって黒遮光層をパターン形成すること
が困難となり、印刷、マーキング等の手法により形成す
る必要がある。

【０００８】しかしながら、この場合、アレイ基板表面
側のパターンとの合わせ精度が０．２mm程度必要とな
り、表示領域とアレイ基板の裏面に形成した遮光用の黒
遮光層との間に隙間が生じてしまい、光漏れ原因となっ
ていた。また、仮に合わせ精度が向上し、黒遮光層を数
十μｍ単位の誤差で形成可能となっても、アレイ基板裏
面に形成している関係上、黒遮光層はガラスの厚み分だ
けアレイパターンから離れて位置する。そのため、アレ
イ基板に対して斜め方向の光抜けを防ぐことが困難であ
った。

【０００９】また、テープやベゼル又は樹脂フレームを
用いて液晶表示装置の表示領域周縁を遮光する場合、更
に合わせ精度が０．７ｍｍ程度まで低下してしまい、確
実に遮光することが困難となる。

【００１０】この発明は以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、表示領域周縁部を確実に遮光できると
ともに製造コストの低減を図ることが可能な液晶表示装
置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係る液晶表示装置は、基板の一主面上に
交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、
前記交差部毎に配置されたスイッチング素子と、前記信
号線、前記走査線及び前記スイッチング素子の少なくと
も一部を覆うように配置された着色層と、上記着色層上
に重ねて配置されているとともに上記スイッチング素子
にそれぞれ接続され、それぞれ画素部を形成した複数の
画素電極と、を有した表示領域と、前記スイッチング素
子と同時に形成された前記表示領域を駆動する駆動回路
と、上記基板の主面上において上記表示領域の周囲に沿
って形成された第１遮光層と、上記着色層により上記第
１遮光膜と上記表示領域との隙間に重ねて設けられた第
２遮光層と、を備えたアレイ基板と、上記アレイ基板と
対向して配置された対向基板と、上記アレイ基板と上記
対向基板との間に設けられ、上記アレイ基板と上記対向
基板との間に所定の隙間を保持した複数の柱状スペーサ
と、上記アレイ基板と上記対向基板との間に挟持された
液晶層と、を具備したことを特徴としている。

【００１２】また、この発明に係る液晶表示装置によれ
ば、上記第１遮光層は、上記アレイ基板上に設けられた
金属配線材料と同じ材料により上記金属配線と同時に形
成されていることを特徴としている。

【００１３】更に、この発明に係る液晶表示装置によれ
ば、上記第２遮光層は、２色あるいは３色の着色層を重
ねて形成されていることを特徴としている。

【００１４】上記のように構成された液晶表示装置によ
れば、アレイ基板上において、表示領域の周辺を囲むよ
うに第１遮光層を設けることにより、アレイ基板の裏面
に形成された遮光膜あるいはベゼル等と合わせて、表示
領域の周辺部を確実に遮光することが可能となる。その
ため、対向基板に形成していた遮光膜を削除でき、製造
コストの低減を図ることができる。この際、遮光膜をア
レイ基板上の配線形成と同時に形成するとともに、遮光
膜間の隙間を着色層からなる第２遮光層によって遮光す
ることにより、製造工程数を増加させることなく良好な
確実な遮光が可能となり、製造コストの低減を図り安価
な液晶表示装置を提供することができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型液晶表
示装置について詳細に説明する。図１ないし図５に示す
ように、液晶表示装置１０は、カラーフィルタとしての
着色層が設けられたアレイ基板１２と、このアレイ基板
に所定のセルギャップを置いて対向配置された対向基板
２０と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に
液晶層７０が挟持されている。

【００１６】アレイ基板１２および対向基板２０は、液
晶表示装置の表示領域４０の外周を囲むように配置され
たシール材１９により周縁部同士が接合されている。シ
ール材１９の一部には液晶注入口３５が形成され、この
液晶注入口３５は、液晶注入後、封止材３４により封止
されている。

【００１７】対向基板２０は、ガラスからなる透明な絶
縁基板２１上にＩＴＯからなる透明電極２２、配向膜１
３を順に形成して構成されている。

【００１８】アレイ基板１２は、ガラスからなる透明な
絶縁基板１１上に複数の走査線１７、これと平行に設け
られた補助容量配線１８、および絶縁膜２３を介してこ
れらと直交する複数の信号線１４が配置され、走査線と
信号線の各交点近傍にはスイッチング素子として図示し
ないＮｃｈ型ＬＤＤ構造のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）
素子と、このスイッチング素子のソース電極と電気的に
接続された補助容量の上部電極１５と、が配置されてい
る。また、補助容量配線１８と信号線１４とで囲まれた
領域には、それぞれほぼ矩形状の画素電極３０が設けら
れ、それぞれ画素部を構成している。

【００１９】また、アレイ基板１２の絶縁基板１１上に
は、スイッチング素子と同時に、図示しない液晶駆動回
路が表示領域４０周辺に形成され、表示領域近傍には、
この液晶駆動回路を動作させるために必要な複数の配線
１６が設けられている。

【００２０】そして、スイッチング素子および液晶駆動
回路を覆うように保護絶縁膜２４が設けられ、更にその
上部に、それぞれＹ方向に延びたストライプ状の緑色
（Ｇ）の着色層２５Ｇ、青色（Ｂ）の着色層２５Ｂ、赤
色（Ｒ）の着色層２５Ｒが配置されている。そして、緑
色の着色層２５Ｇの両側縁が青色着色層２５Ｂや赤色着
色層２５Ｒによって覆われている。このような構成は、
各着色層を加工する際に用いる遮光マスクを適合するよ
うに作製することで達成される。

【００２１】そして、画素電極３０は、これらの着色層
２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒ上にそれぞれ配置され、着色層
および保護絶縁膜２４に形成されたコンタクトホール２
６および上部電極１５を介してそれぞれ対応するスイッ
チング素子のソース電極に接続されている。更に、画素
電極３０および着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒを覆うよ
うに、ガラス基板１１全面には配向膜１３が形成されて
いる。着色層材料には、紫外線硬化型アクリル樹脂を、
配向膜材料には、ポリイミドをそれぞれ用いている。

【００２２】また、アレイ基板１２上には、表示領域４
０の周縁を囲むように、合わせ精度が許す領域まで遮光
膜３６が形成されている。第１遮光層として機能するこ
の遮光膜３６は、他の金属配線、例えば、信号線１４と
同一の材料により信号線と同時にパターン形成されてい
る。また、遮光膜３６は、他の配線間とのショートを防
止するため、短冊状あるいは島状に形成され、仮に、一
箇所がショートしても不良とならないように考慮されて
いる。

【００２３】また、表示領域４０の最外周に設けられた
配線と各遮光膜３６と隙間、および隣合う遮光膜３６間
の隙間と対向する位置には、２色の着色層、例えば、青
の着色層２５Ｂおよび赤の着色層２５Ｒが重ねて設けら
れ、これらの隙間を遮光した第２遮光層４４を構成して
いる。

【００２４】更に、アレイ基板１２の外面、つまり、絶
縁基板１１の外面の外周部には、第３遮光層として、例
えば、印刷法により額縁状の黒色遮光膜３８が形成され
ている。この黒色遮光膜３８は、その一部が遮光膜３６
と重なっているとともに、絶縁基板１１の外周縁まで形
成されている。

【００２５】そして、アレイ基板１２および対向基板２
０は、シール材１９により周縁部同士が接着されている
とともに、これらの基板間のセルギャップは、多数の柱
状スペーサ３１によって所定の値に維持されている。

【００２６】次に、上記アクティブマトリクス型の液晶
表示装置の一層詳しい構成をその製造方法と併せて説明
する。まず、高歪点ガラス基板や石英基板などの透光性
を持った絶縁基板１１上にＣＶＤ法などによりａ−Ｓｉ
膜を５０ｎｍ程度被着する。これを４５０℃で１時間炉
アニールを行った後、ＸｅＣｌエキシマレーザを照射
し、ａ−Ｓｉ膜を多結晶化しポリシリコン膜とする。そ
の後に、ポリシリコン膜をフォトエッチング法によりパ
ターンニングして、図示しない表示領域内画素部のＴＦ
Ｔ（以下、画素ＴＦＴと称する）のチャネル層、および
図示しない液晶駆動回路領域のＴＦＴ（以下、回路ＴＦ
Ｔと称する）のチャネル層を形成し、更に、補助容量素
子の下部電極を形成する。

【００２７】次に、ＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面
に図示しないゲート絶縁膜となるシリコン酸化膜を１０
０ｎｍ程度被着する。続いて、このシリコン酸化膜上全
面にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又は
その積層膜あるいは合金膜を４００ｎｍ程度被着し、フ
ォトエッチング法により所定の形状にパターニングし、
走査線１７と、走査線を延在して成る画素ＴＦＴのゲー
ト電極１７ａ、補助容量配線１８、回路ＴＦＴのゲート
電極、および駆動回路領域内の各種配線を形成する。こ
の時、液晶駆動回路を駆動させるために必要となる配線
１６も同時に形成する。

【００２８】続いて、イオン注入やイオンドーピング法
により、ゲート電極１７ａをマスクとして上述したチャ
ネル層に不純物の注入を行い、図示しない画素ＴＦＴの
ソース電極およびドレイン電極、並びに図示しないＮｃ
ｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極を形
成する。不純物の注入は、例えば加速電圧８０ｋｅＶで
５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２のドーズ量で、ＰＨ３
／Ｈ２によりリンを高濃度注入した。

【００２９】次に、図示しない画素ＴＦＴ、および駆動
回路領域のＮｃｈ型の回路ＴＦＴには不純物が注入され
ないようにレジストで被覆した後、図示しないＰｃｈ型
の回路ＴＦＴのゲート電極をそれぞれマスクとして、加
速電圧８０ｋｅＶで５×１０ ^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２の
ドーズ量で、Ｂ２ＰＨ６／Ｈ２によりボロンを高濃度注
入し、Ｐｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およびドレイ
ン電極を形成する。

【００３０】その後、図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ（Ligh
t1y Doped Drain ）を形成するための不純物注入を行
い、基板をアニールすることにより不純物を活性化す
る。更に、例えばＰＥＣＶＤ法を用いて絶縁基板１１の
全面にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜２３を５００
ｎｍ程度被着する。

【００３１】続いて、フォトエッチング法により、図示
しない画素ＴＦＴのソース電極に至るコンタクトホー
ル、ドレイン電極に至るコンタクトホール、図示しない
回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極に至るコン
タクトホールをそれぞれ層間絶縁膜２３に形成する。

【００３２】次に、層間絶縁膜２３上にＴａ、Ｃｒ、Ａ
ｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは
合金膜を５００ｎｍ程度被着し、フォトエングレイビン
グ法により所定の形状にパターニングして、画素ＴＦＴ
のドレイン電極に接続された信号線１４、画素ＴＦＴの
ソース電極に接続された補助容量の上部電極１５、およ
び図示しない液晶駆動回路領域内の回路ＴＦＴの各種の
配線等を形成するこの際、図３ないし図５に示すよう
に、表示領域４０周辺に信号線１４の配線材料にて遮光
膜３６を同時に形成した。遮光膜３６は、配線間ショー
トを防ぐために、島状もしくは短冊状に形成し、一箇所
がショートしても不良とならないよう配慮して配置し
た。島状、短冊状の遮光膜間隔は最小スペースにて配置
した。

【００３３】次に、ＰＥＣＶＤ法により絶縁基板１１の
全面にＳｉＮｘからなる保護絶縁膜２４を成膜し、フォ
トエングレイビング法により、それぞれ上部電極１５に
至るコンタクトホールを形成する。

【００３４】続いて、紫外線硬化型アクリル系緑色レジ
スト液を、絶縁基板１１上にスピンナ塗布により２μｍ
程度の膜厚で塗布する。その後、約９０℃で約５分間プ
リベークし、所定のマスクパターンを用いて、１５０ｍ
Ｊ／ｃｍ^２の強度の紫外線により露光する。ここで用い
るフォトマスクパターンは、緑色着色層２５Ｇに対応す
るストライプ形状パターンと、画素電極３０と上部電極
１５とを接続するためのコンタクトホール２６として直
径１５μｍの円形パターンと、を有している。

【００３５】続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テト
ラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約
６０秒間現像し、更に水洗い後、約２０℃で１時間ほど
ポストベークすることによって、コンタクトホール２６
を有する緑色着色層２５Ｇを形成した。

【００３６】次に、青色着色層２５Ｂ、赤色着色層２５
Ｒを同様の工程にて形成する。この際、緑色着色層２５
Ｇのパターン端が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒ
によって覆われる構成とした。これは、上記のように、
各着色層を加工する際に用いる露光マスクを適合するよ
うに作製することで達成される。

【００３７】この際、島状あるいは短冊状に形成された
遮光膜３６と表示領域４０との隙間、および遮光膜間の
隙間の透過部分に、青着色層２５ｂと赤着色層２５Ｒと
を重ねて第２遮光層４４を形成し、これらの隙間を遮光
した。次に、透明な樹脂により柱状スペーサ３１を所定
の密度で形成した。

【００３８】続いて、着色層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ上
にスパッタリング法によりインジウム・すず酸化物（Ｉ
ＴＯ）を堆積し、これをパターニングすることにより、
それぞれ着色層上に位置した画素電極３０を形成する。

【００３９】その後、ポリイミドからなる配向膜材料を
絶縁基板１１全面に塗布し、配向処理を施して配向膜１
３を形成する。これにより、カラーフィルタを有するア
レイ基板１２を得ることができる。

【００４０】一方、透明絶縁基板２１上にスパッタ法に
よりＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積して対向電極２
２を形成し、続いてポリイミドからなる配向膜材料を基
板全面に塗布し、配向処理を施して配向膜１３を形成す
ることにより、対向基板２０を得る。

【００４１】このようにして形成された対向基板２０の
外周縁部に、液晶注入口３５を除いてシール材１９を塗
布する。この対向基板２０、およびカラーフィルタの設
けられたアレイ基板１２をシール材１９により貼り合わ
せることにより、空状態のセルが完成する。

【００４２】次に、カイラル材が添加されたネマティッ
ク液晶材料を、液晶注入口３５からセル内に真空注入
し、注入後、液晶注入口３５を封止材３４としての紫外
線硬化樹脂を用いて封止する。そして、セルのアレイ基
板裏面に、例えば印刷法により、所定幅の黒色遮光膜３
８を形成する。最後に、セルの両側にそれぞれ偏光板を
貼付することにより、液晶表示装置が完成する。

【００４３】以上のように構成された液晶表示装置によ
れば、アレイ基板１２上において、表示領域４０の周辺
を囲むように、合わせ精度が許す領域まで遮光膜３６を
設け、かつ、表示領域４０の最外周に設けられた配線と
各遮光膜３６と隙間、および隣合う遮光膜３６間の隙間
と対向する位置に、２色の着色層を重ねて第２遮光層４
４を設け、これらの隙間を遮光している。従って、対向
基板側にＣｒ等で遮光層を設けることなく、表示領域周
辺を確実に遮光でき、良好な表示性能を得得ることがで
きる。

【００４４】また、遮光膜３６は、アレイ基板上の他の
配線と同一材料で同時にパターン形成されていることか
ら、製造工程の増加を伴うことなく低コストで形成する
ことができる。

【００４５】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、上述した実施の形態では、信号線材料に
より信号線形成と同時に表示領域周辺に遮光膜３６を形
成したが、上部電極１５等の他の配線材料により遮光膜
を形成してよく、また、信号線材料および上部電極材料
の両方を使用して遮光膜３６を形成することも可能であ
る。

【００４６】更に、表示領域４０と遮光膜３６との隙間
および遮光膜間の隙間の透過部分を遮光する着色層は、
セルギャップに問題がなければ、３色の着色層を重ねて
配置することが望ましい。

【００４７】

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、アレイ基板上において、表示領域の周辺を囲むよう
に第１遮光層を設けることにより、アレイ基板の裏面に
形成された遮光膜あるいはベゼル等と合わせて、表示領
域の周辺部を確実に遮光することが可能となる。そのた
め、対向基板に形成していた遮光膜を削除でき、製造コ
ストの低減を図ることができる。この際、遮光膜をアレ
イ基板上の配線形成と同時に形成するとともに、遮光膜
間の隙間を着色層からなる第２遮光層によって遮光する
ことにより、製造工程数を増加させることなく良好な確
実な遮光が可能となり、製造コストの低減を図り安価な
液晶表示装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態に係るアクティブマトリ
クス型の液晶表示装置を示す斜視図。

【図２】上記液晶表示装置の平面図。

【図３】上記液晶表示装置のアレイ基板の一部を拡大し
て示す平面図。

【図４】図２および図３の線Ａ−Ａに沿った断面図。

【図５】図２および図３の線Ｂ−Ｂに沿った断面図。

【符号の説明】

１１…アレイ側ガラス基板 １３…配向膜 １４…信号線 １６…液晶駆動回路用配線 １７…走査線 １８…補助容量配線 ２１…対向側ガラス基板 ２２…対向電極 ２３…層間絶縁膜 ２４…保護絶縁膜 ２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ…着色層 ２６…コンタクト ３０…画素電極 ３１…スペーサ柱 ３６…遮光膜 ４０…表示画素領域 ４４…第２遮光層 ７０…液晶層

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 LA09 MA07Y NA24 QA05 QA12 QA14 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA34Y FB04 FB08 FC12 GA13 LA12 LA15 2H092 GA59 JA24 JA35 JA39 JA40 JB24 JB27 JB51 JB69 KA07 KA10 KA12 MA27 MA30 MA41 NA01 NA27 PA03 PA08 PA09 5C094 AA16 AA43 AA44 AA45 BA03 BA43 CA19 EA04 EA07 EC03 ED02 ED03 ED15

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板の一主面上に交差して配置された複数
   の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に配置され
   たスイッチング素子と、前記信号線、前記走査線及び前
   記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うように配置
   された着色層と、上記着色層上に重ねて配置されている
   とともに上記スイッチング素子にそれぞれ接続され、そ
   れぞれ画素部を形成した複数の画素電極と、を有した表
   示領域と、前記スイッチング素子と同時に形成された前
   記表示領域を駆動する駆動回路と、上記基板の主面上に
   おいて上記表示領域の周囲に沿って形成された第１遮光
   層と、上記着色層により上記第１遮光膜と上記表示領域
   との隙間に重ねて設けられた第２遮光層と、を備えたア
   レイ基板と、 上記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、 上記アレイ基板と上記対向基板との間に設けられ、上記
   アレイ基板と上記対向基板との間に所定の隙間を保持し
   た複数の柱状スペーサと、 上記アレイ基板と上記対向基板との間に挟持された液晶
   層と、を具備したことを特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】上記第１遮光層は、上記アレイ基板上に設
   けられた金属配線材料と同じ材料により上記金属配線と
   同時に形成されていることを特徴とする請求項１に記載
   の液晶表示装置。
3. 【請求項３】上記第１遮光層は、１層あるいは２層の金
   属層により形成されていることを特徴とする請求項２に
   記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】上記第２遮光層は、２色の着色層を重ねて
   形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のい
   ずれか１項に記載の液晶表示装置。
5. 【請求項５】上記２色の着色層は赤および青の着色層で
   あることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 【請求項６】上記第１遮光層は、上記表示領域の周囲に
   沿って短冊状に形成され、上記第２遮光層は、上記第１
   遮光層と表示領域との隙間、および第１遮光層間の隙間
   と重なって設けられていることを特徴とする請求項１な
   いし５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 【請求項７】上記アレイ基板は、他方の主面上において
   アレイ基板の周縁に沿って形成されているとともに少な
   くとも一部が上記第１遮光層に重なって設けられた枠状
   の第３遮光層を備えていることを特徴とする請求項１な
   いし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。