JP2002041328A - 処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法 - Google Patents
処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法Info
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Abstract
ージを回避可能な,処理装置を駆動するソフトウェアの
自己診断方法を提供すること。 【解決手段】 装置の駆動が開始されると,装置を駆動
するソフトウェアの稼動状態をリアルタイムに監視し,
異常が発生していないか診断する(S10)。S10の
診断で異常が発生していないと判断された場合は,被処
理体に対する処理はそのまま続けられ,被処理体に対す
る処理が完了したかどうかの判断に入る(S30)。処
理が完了した場合は,装置をダウン処理する(S4
0)。S10の診断で異常が発生したと判断された場合
は,異常が発生した診断項目に関するログを記録する
(S20)。その後,装置をダウン処理する(S4
0)。
Description
己診断方法に関し,特に半導体ウェハや液晶表示体用基
板等の被処理体に対してエッチングや成膜等の処理を施
す処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法に関
する。
エッチング,成膜処理,アッシング,およびスパッタリ
ングなど種々の処理があり,これらに対応した種々の半
導体処理装置が用いられている。従来のこの種の処理装
置としては,例えば,1つの装置内で複数の処理を行う
ことが可能な,いわゆるクラスタ装置化されたマルチチ
ャンバ型処理装置が広く用いられている。このタイプの
装置は,複数の真空処理室を共通の搬送室に接続し,ロ
ードロック機能を有する予備真空室を介して搬送室に接
続された搬出入室から被処理基板である半導体ウェハの
搬出入を行うものであり,半導体デバイスの高集積化,
高スループット化,被処理体の汚染防止に適している。
そして,このような種々の処理装置は,ソフトウェアを
用いて駆動されるのが一般的である。
は処理装置を駆動するソフトウェアの稼動状態を監視す
るということは行われていなかった。そのため,装置に
致命的異常が発生するまで装置は動作を続けていた。こ
の種の装置では一旦故障が発生すると,修復するために
長時間にわたって装置を停止させなければならず,スル
ープットの悪化を招く結果になる。また,装置に異常が
発生すると,製品であるウェハにダメージを与える可能
性も生じ,問題であった。
たもので,その目的とするところは,装置における異常
発生や,被処理体へのダメージを回避可能な,処理装置
を駆動するソフトウェアの自己診断方法を提供すること
にある。
に,本発明は,請求項1に記載のように,処理装置を駆
動するソフトウェアの自己診断方法であって,処理装置
を駆動するソフトウェアの稼動状態を予め設定された診
断項目に従ってリアルタイムで監視する監視工程と,前
記監視工程において前記ソフトウェアの異常を検出した
場合に,前記異常が発生した診断項目に関するログを記
録した後に,処理装置のダウン処理を実施する工程と,
を含むことを特徴とする,処理装置を駆動するソフトウ
ェアの自己診断方法を提供する。かかる構成により,ソ
フトウェアの異常を検出した時点で処置を行うことがで
きるので,装置や製品である被処理体へのダメージを回
避できる。また,ログを残すことにより,異常個所や異
常原因を知ることができ,その後の処置を適切に行うこ
とができる。
診断項目は,メモリ状況,CPU負荷状況,待ちキュー
状況,ファイルオープン数,ネットワーク通信負荷,ス
タック状況,リソース状況の少なくともいずれか1つが
含まれるよう構成することが好ましい。メモリ状況とし
ては例えば,メモリ残量をチェックしてメモリ不足の検
出を行う,CPU負荷状況としては例えば,システム全
体のCPU能力不足の検出を行う,等が考えられる。
施の形態を詳細に説明する。図1,図2はそれぞれ,マ
ルチチャンバ型処理装置の概略平面図,概略側面図であ
る。図1,図2を参照しながらこの処理装置1の全体構
成について説明する。処理装置1では,半導体ウェハW
のような被処理体を搬送する搬送アーム2を備えた真空
搬送室4の周囲に,第1〜第6ゲートバルブG1〜G6
を介して,第1および第2ロードロック室6,8と,半
導体ウェハWに各種処理を施すための第1〜第4真空処
理室10,12,14,16が配置されている。
真空搬送室4内の減圧雰囲気を維持しながら,真空搬送
室4と大気圧雰囲気の真空搬送室4外部との間で半導体
ウェハWを搬入搬出するためのものである。第1および
第2ロードロック室6,8の下部に設けられている真空
ポンプおよびガス供給系から成る圧力調整機構18によ
り,第1および第2ロードロック室6,8内の圧力を適
宜設定可能に構成されている。また,第1および第2ロ
ードロック室6,8の大気側開口部は,それぞれ第7お
よび第8ゲートバルブG7,G8により開閉自在に密閉
されている。第1〜第8ゲートバルブG1〜G8の開閉
動作は,駆動機構(未図示)により各ゲートバルブを構
成する弁体を上下動させることにより行われる。なお,
図2は,処理装置1から第1〜第4真空処理室10,1
2,14,16を取り外した状態を示している。
装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法を説明する
フローチャートである。装置の駆動が開始されると,装
置を駆動するソフトウェアの稼動状態をリアルタイムに
監視し,異常が発生していないか診断する(S10)。
診断項目としては,メモリ状況,CPU負荷状況,待ち
キュー状況,ファイルオープン数,ネットワーク通信負
荷,スタック状況,リソース状況等があげられる。
に対し,変化率,変化パターン,閾値等を事前に設定し
ておき,稼動時の実際の変化率,変化パターン,値等と
比較する方法が考えられる。設定値と実際の値を比較す
ることにより,制御不能状態に向っていることや制御不
能状態となる直前であること等が検知できる。これら変
化率,変化パターン,閾値などは,任意に変更可能なパ
ラメータとする。
断された場合は,被処理体に対する処理はそのまま続け
られ,被処理体に対する処理が完了したかどうかの判断
に入る(S30)。処理が完了した場合は,装置をダウ
ン処理する(S40)。S10の診断で異常が発生した
と判断された場合は,異常が発生した診断項目に関する
ログを記録する(S20)。その後,装置をダウン処理
する(S40)。
したと診断された時には,異常が発生したと判断され
る。この場合,プラズマ生成の高周波電力が掛かりっぱ
なしになるなど,製品と同時に装置も故障に導いてしま
う状況が発生することが考えられる。よって,このよう
な状況を検知した場合,CPU間を結ぶ物理的な信号線
及び割り込み信号などを用いて情報を伝達し,その割り
込み処理の中で停止させるべき動作,すなわち,高周波
電力をOFFにする,という処理をとるようにする。
進行中であると診断された時にも,異常が発生したと判
断される。この場合,処理中の製品に対して通常の処理
停止が可能な時間が残されているか,内部通信手段が使
用できる状況にあれば,内部通信及び内部割り込みを用
いて情報を伝達し,その割り込み処理の中で停止させる
べき動作,すなわち,プロセス停止処理等を行う,とい
う処理をとるようにする。
化率が突然増加したと診断された時にも,異常が発生し
たと判断される。この場合,今後処理される製品に対し
て事前に処理禁止が可能な時間が残されていれば,内部
通信を用いて情報を伝達し,受信先のTASK(処理ル
ーチン)にその情報を解釈させ,停止動作,例えば,次
ウェーハ搬入禁止,あるいは次ロット投入禁止等を行
う,という処理をとるようにする。
を駆動するソフトウェアの稼動状態をリアルタイムに監
視し,異常発生時にはログを記録した後,装置をダウン
処理する。これにより,ソフトウェアの稼動状態の異常
のために,装置に異常が発生するのを防ぐことができ
る。よって,製品であるウェハにダメージを与えること
もない。また,ログを残すことにより,異常発生時の状
態を知ることができ,異常の原因究明に役立つ。
かる好適な実施形態について説明したが,本発明はかか
る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であ
れば,特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内
において,各種の変更例または修正例に想到し得ること
は明らかであり,それらについても当然に本発明の技術
的範囲に属するものと了解される。
れば,装置に異常が発生するのを防ぐことができ,製品
となる被処理体へのダメージを回避できる。よって,処
理される被処理体の歩留まりの向上,および所定のスル
ープットの維持に貢献できる。
るソフトウェアの自己診断方法を説明するフローチャー
トである。
Claims (2)
- 【請求項1】 処理装置を駆動するソフトウェアの自己
診断方法であって,処理装置を駆動するソフトウェアの
稼動状態を予め設定された診断項目に従ってリアルタイ
ムで監視する監視工程と,前記監視工程において前記ソ
フトウェアの異常を検出した場合に,前記異常が発生し
た診断項目に関するログを記録した後に,処理装置のダ
ウン処理を実施する工程と,を含むことを特徴とする,
処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法。 - 【請求項2】 前記診断項目は,メモリ状況,CPU負
荷状況,待ちキュー状況,ファイルオープン数,ネット
ワーク通信負荷,スタック状況,リソース状況の少なく
ともいずれか1つが含まれることを特徴とする,請求項
1に記載の処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断
方法。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000222615A JP2002041328A (ja) | 2000-07-24 | 2000-07-24 | 処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000222615A JP2002041328A (ja) | 2000-07-24 | 2000-07-24 | 処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002041328A true JP2002041328A (ja) | 2002-02-08 |
Family
ID=18716835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000222615A Pending JP2002041328A (ja) | 2000-07-07 | 2000-07-24 | 処理装置を駆動するソフトウェアの自己診断方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002041328A (ja) |
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- 2000-07-24 JP JP2000222615A patent/JP2002041328A/ja active Pending
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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