JP2001239136A - Treating system and operating method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、スパイラル型膜モ
ジュールを備えた処理システムおよびその運転方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing system provided with a spiral membrane module and a method of operating the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、海水淡水化等における前処理、プ
ロセス液の精製、各種用水の製造、排水の回収ならびに
再利用処理等を行う際には、砂、アンスラサイト等を用
いる濾過処理、骨炭、活性炭、ゼオライト等を用いる吸
着処理、活性汚泥や生物膜濾過等を利用する生物処理、
または遠心分離、イオン交換、加圧浮上、凝集分離、沈
降分離等の分離処理が行われている。このような処理に
より、被処理水中の汚染物質、不純物質等の除去が行わ
れる。また、オゾン酸化処理、強酸性水処理、紫外線処
理、次亜塩素酸ソーダ処理等による被処理水の殺菌処理
も行われている。これら各種の処理は、単独で行われる
か、あるいは複数を組み合わせて行われている。上記の
処理により得られた処理水は、種々の用途に用いられる
か、あるいは後段の系に供給されてさらに処理される。2. Description of the Related Art Conventionally, when performing pretreatment in seawater desalination, etc., purification of process liquid, production of various types of water, collection of wastewater and reuse treatment, etc., filtration using sand, anthracite, etc. Adsorption treatment using activated carbon, zeolite, etc., biological treatment using activated sludge or biofilm filtration, etc.
Alternatively, separation processes such as centrifugation, ion exchange, pressure flotation, coagulation separation, sedimentation separation, and the like are performed. By such treatment, contaminants, impurities and the like in the water to be treated are removed. Further, sterilization treatment of the water to be treated by ozone oxidation treatment, strong acid water treatment, ultraviolet treatment, sodium hypochlorite treatment and the like is also performed. These various processes are performed alone or in combination. The treated water obtained by the above treatment is used for various uses, or supplied to a subsequent system for further treatment.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記の濾過処理、吸着
処理、生物処理、および遠心分離等の分離処理では、供
給される被処理水の水質によって、得られる処理水の水
質が変化する。このため、安定した水質の処理水を得る
ことが困難である。In the above-mentioned separation treatments such as the filtration treatment, the adsorption treatment, the biological treatment, and the centrifugal separation, the quality of the obtained treated water varies depending on the quality of the supplied treated water. For this reason, it is difficult to obtain treated water of stable water quality.
【0004】一方、上記のような濾過処理、吸着処理、
生物処理、および遠心分離等の分離処理を行う処理装置
では、装置の処理能力を維持するために定期的に洗浄を
行う必要がある。このような処理装置の洗浄時には、大
量の洗浄水を用いて逆流洗浄または正洗浄が行われる。
洗浄時に使用された大量の洗浄水は、洗浄の都度、排水
として系外へ排出される。On the other hand, the above-mentioned filtration treatment, adsorption treatment,
2. Description of the Related Art In a processing apparatus that performs biological treatment and separation processing such as centrifugation, it is necessary to periodically perform cleaning in order to maintain the processing capacity of the apparatus. When washing such a processing apparatus, backwashing or normal washing is performed using a large amount of washing water.
A large amount of washing water used during washing is discharged out of the system as wastewater each time washing is performed.
【0005】また、洗浄直後は処理装置から得られる処
理水の性状が安定しないため、性状が安定化するまで処
理水を回収せず、この間の処理水を系外へ排出しなけれ
ばならない場合がある。Further, since the properties of the treated water obtained from the treatment apparatus are not stable immediately after washing, the treated water may not be collected until the properties are stabilized, and the treated water during this time must be discharged to the outside of the system. is there.
【0006】このように、上記の濾過処理、吸着処理、
生物処理、および遠心分離等の分離処理を行う処理装置
では、洗浄により大量の排水が発生するため、この洗浄
排水の有効利用が望まれる。As described above, the above-mentioned filtration treatment, adsorption treatment,
In a processing apparatus that performs a biological treatment and a separation treatment such as a centrifugal separation, a large amount of wastewater is generated by washing. Therefore, effective use of the washed wastewater is desired.
【0007】本発明の目的は、安定した水質の処理水を
得ることが可能な処理システムおよびその運転方法を提
供することである。An object of the present invention is to provide a treatment system capable of obtaining treated water of stable water quality and a method of operating the treatment system.
【0008】本発明の他の目的は、処理装置の洗浄によ
り排出される洗浄排水を有効利用することが可能な処理
システムおよびその運転方法を提供することである。[0008] Another object of the present invention is to provide a processing system and a method of operating the same that can effectively use the cleaning wastewater discharged by cleaning the processing apparatus.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る処理システムは、所定の前処理を行う1また
は複数の前処理装置と、0.05MPaよりも高く0.
3MPa以下の背圧で逆流洗浄が可能なスパイラル型膜
エレメントが原液入口を有する圧力容器内に1または複
数本収容されてなるスパイラル型膜モジュールと、前処
理装置の処理液をスパイラル型膜モジュールの原液入口
を通して圧力容器の内部に導く供給系とが設けられたも
のである。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention A processing system according to a first aspect of the present invention includes one or a plurality of pre-processing apparatuses for performing a predetermined pre-processing, and a pre-processing apparatus having a pressure higher than 0.05 MPa.
A spiral-type membrane module in which one or more spiral-type membrane elements capable of backwashing with a back pressure of 3 MPa or less are housed in a pressure vessel having a stock solution inlet, And a supply system for guiding the solution into the pressure vessel through the undiluted solution inlet.
【0010】本発明に係る処理システムにおいては、前
処理装置より処理された前処理液が供給系を介してスパ
イラル型膜モジュールの圧力容器の内部に導入され、ス
パイラル型膜エレメントに供給される。スパイラル型膜
エレメントにおいて、この前処理液がさらに膜分離され
る。したがって、本発明に係る処理システムにおいて
は、良好な液質の処理液を得ることが可能となる。[0010] In the processing system according to the present invention, the pretreatment liquid treated by the pretreatment device is introduced into the pressure vessel of the spiral membrane module via the supply system and supplied to the spiral membrane element. In the spiral membrane element, the pretreatment liquid is further subjected to membrane separation. Therefore, in the processing system according to the present invention, it is possible to obtain a processing liquid having good liquid quality.
【0011】上記の処理システムはスパイラル型膜モジ
ュールを備えるため、処理システムに供給される液の性
状が変化した場合においても、安定した液質の処理液を
得ることが可能である。Since the above-mentioned processing system has a spiral type membrane module, it is possible to obtain a processing liquid having a stable quality even when the properties of the liquid supplied to the processing system change.
【0012】また、スパイラル型膜モジュールのスパイ
ラル型膜エレメントを0.05〜0.3MPaの高い背
圧で逆流洗浄することが可能であるため、短時間に必要
量の洗浄液を流すことができる。それにより、スパイラ
ル型膜エレメントの分離膜に堆積した汚染物質を効果的
に除去することができる。Further, since the spiral membrane element of the spiral membrane module can be backwashed with a high back pressure of 0.05 to 0.3 MPa, a required amount of washing liquid can be flowed in a short time. Thereby, the contaminants deposited on the separation membrane of the spiral membrane element can be effectively removed.
【0013】以上のことから、上記の処理システムにお
いては、高い透過流束を維持しつつ安定した運転で安定
した液質の処理液を得ることが可能となる。As described above, in the above-mentioned processing system, it is possible to obtain a processing liquid having a stable liquid quality in a stable operation while maintaining a high permeation flux.
【0014】前処理装置は、濾過処理装置、吸着処理装
置、生物処理装置、イオン交換装置、遠心分離装置、膜
分離装置、加圧浮上処理装置、凝集分離処理装置、沈降
分離処理装置、オゾン酸化装置、強酸性水処理装置、紫
外線殺菌処理装置および次亜塩素酸ソーダ殺菌処理装置
の少なくとも1つを含んでもよい。この場合、前処理装
置により汚染物質が除去されるかまたは殺菌された前処
理液が、スパイラル型膜モジュールに供給される。The pretreatment devices include a filtration treatment device, an adsorption treatment device, a biological treatment device, an ion exchange device, a centrifugal separation device, a membrane separation device, a pressure flotation treatment device, a coagulation separation treatment device, a sedimentation separation treatment device, and ozone oxidation. The apparatus may include at least one of an apparatus, a strongly acidic water treatment apparatus, an ultraviolet sterilization apparatus, and a sodium hypochlorite sterilization apparatus. In this case, a pretreatment liquid from which contaminants have been removed or sterilized by the pretreatment device is supplied to the spiral-wound membrane module.
【0015】第2の発明に係る処理システムは、所定の
処理を行う1または複数の処理装置と、0.05MPa
よりも高く0.3MPa以下の背圧で逆流洗浄が可能な
スパイラル型エレメントが原液入口を有する圧力容器内
に1または複数本収容されてなるスパイラル型膜モジュ
ールと、処理装置の洗浄時に処理装置から排出される洗
浄液をスパイラル型膜モジュールの原液入口を通して圧
力容器の内部に導く供給系とが設けられたものである。[0015] A processing system according to a second aspect of the present invention comprises:
A spiral-type membrane module in which one or a plurality of spiral-type elements capable of backwashing at a back pressure of 0.3 MPa or less and higher than 0.3 MPa are housed in a pressure vessel having an undiluted solution inlet; And a supply system for guiding the discharged cleaning liquid through the stock solution inlet of the spiral type membrane module to the inside of the pressure vessel.
【0016】本発明に係る処理システムにおいては、処
理装置の洗浄時に処理装置から排出される洗浄液が、供
給系を介して、スパイラル型膜モジュールの圧力容器の
内部に導入される。この洗浄排液は、スパイラル型膜エ
レメントに供給されて膜分離され、汚染物質が除去され
る。したがって、本発明に係る処理システムにおいて
は、処理装置の洗浄排液を再利用可能な液として回収す
ることが可能となり、排液量の低減を図ることが可能と
なる。In the processing system according to the present invention, the cleaning liquid discharged from the processing apparatus at the time of cleaning the processing apparatus is introduced into the pressure vessel of the spiral type membrane module via the supply system. This washing waste liquid is supplied to the spiral type membrane element and is subjected to membrane separation to remove contaminants. Therefore, in the processing system according to the present invention, it is possible to collect the cleaning waste liquid of the processing apparatus as a reusable liquid, and it is possible to reduce the amount of drain liquid.
【0017】上記の処理システムのスパイラル型膜モジ
ュールは、スパイラル型膜エレメントを0.05〜0.
3MPaの高い背圧で逆流洗浄することが可能である。
このため、短時間に必要量の洗浄液を流すことができ、
スパイラル型膜エレメントの分離膜に堆積した汚染物質
を効果的に除去することができる。したがって、スパイ
ラル型膜モジュールにおいては、高い透過流束を維持し
つつ、処理装置から剥離した汚染物質を多く含む洗浄排
液を安定して処理することができる。The spiral-type membrane module of the above-mentioned processing system has a spiral-type membrane element of 0.05 to 0.1.
Backwashing is possible with a high back pressure of 3 MPa.
For this reason, a required amount of cleaning liquid can be flowed in a short time,
Contaminants deposited on the separation membrane of the spiral membrane element can be effectively removed. Therefore, in the spiral-wound membrane module, it is possible to stably treat the cleaning wastewater containing a large amount of contaminants separated from the processing apparatus while maintaining a high permeation flux.
【0018】前処理装置は、濾過処理装置、吸着処理装
置、生物処理装置、膜分離装置および遠心分離装置の少
なくとも1つを含んでもよい。このような処理装置から
得られる処理液は、種々の用途に用いられるか、あるい
はさらに後段の系に供給されて処理される。The pretreatment device may include at least one of a filtration device, an adsorption device, a biological treatment device, a membrane separation device, and a centrifugal separation device. The processing liquid obtained from such a processing apparatus is used for various purposes, or is further supplied to a subsequent system for processing.
【0019】第3の発明に係る処理システムの運転方法
は、所定の前処理を行う1または複数の前処理装置を設
けるとともに、0.05MPaよりも高く0.3MPa
以下の背圧で逆流洗浄が可能なスパイラル型膜エレメン
トが原液入口を有する圧力容器内に1または複数本収容
されてなるスパイラル型膜モジュールを設け、前処理装
置の処理液をスパイラル型膜モジュールの原液入口を通
して圧力容器の内部に供給するものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided an operating method of a processing system, wherein one or a plurality of pre-processing devices for performing a predetermined pre-processing are provided and 0.3 MPa higher than 0.05 MPa.
A spiral-type membrane module in which one or more spiral-type membrane elements capable of backwashing with the following back pressure are accommodated in a pressure vessel having a stock solution inlet is provided. It is supplied to the inside of the pressure vessel through the undiluted solution inlet.
【0020】本発明に係る処理システムの運転方法にお
いては、前処理装置により処理した前処理液をスパイラ
ル型膜モジュールにおいてさらに膜分離する。したがっ
て、良好な液質の処理液を得ることが可能となる。In the method of operating the treatment system according to the present invention, the pretreatment liquid treated by the pretreatment device is further subjected to membrane separation in the spiral membrane module. Therefore, it is possible to obtain a processing liquid having good liquid quality.
【0021】この場合、処理システムにスパイラル型膜
モジュールを設けているため、処理システムに供給する
液の性状が変化した場合においても、安定した液質の処
理液を得ることが可能である。In this case, since the spiral membrane module is provided in the processing system, a stable processing liquid can be obtained even when the properties of the liquid supplied to the processing system change.
【0022】また、スパイラル型膜モジュールのスパイ
ラル型膜エレメントを0.05〜0.3MPaの高い背
圧で逆流洗浄することが可能であるため、短時間に必要
量の洗浄液を流すことができる。それにより、スパイラ
ル型膜エレメントの分離膜に堆積した汚染物質を効果的
に除去することができる。Further, since the spiral type membrane element of the spiral type membrane module can be backwashed with a high back pressure of 0.05 to 0.3 MPa, a required amount of washing liquid can be flowed in a short time. Thereby, the contaminants deposited on the separation membrane of the spiral membrane element can be effectively removed.
【0023】以上のことから、上記の処理システムの運
転方法によれば、高い透過流束を維持しつつ、安定した
運転で良好な液質の処理液を得ることが可能となる。As described above, according to the above-described method of operating the processing system, it is possible to obtain a processing liquid having good liquid quality in a stable operation while maintaining a high permeation flux.
【0024】前処理装置は、濾過処理装置、吸着処理装
置、生物処理装置、イオン交換装置、遠心分離装置、膜
分離装置、加圧浮上処理装置、凝集分離処理装置、沈降
分離処理装置、オゾン酸化装置、強酸性水処理装置、紫
外線殺菌処理装置および次亜塩素酸ソーダ殺菌処理装置
の少なくとも1つを含んでもよい。この場合、前処理装
置により汚染物質が除去されるかまたは殺菌された前処
理液が、スパイラル型膜モジュールに供給される。The pretreatment devices include a filtration treatment device, an adsorption treatment device, a biological treatment device, an ion exchange device, a centrifugal separation device, a membrane separation device, a pressure flotation treatment device, a coagulation separation treatment device, a sedimentation separation treatment device, an ozone oxidation. The apparatus may include at least one of an apparatus, a strongly acidic water treatment apparatus, an ultraviolet sterilization apparatus, and a sodium hypochlorite sterilization apparatus. In this case, a pretreatment liquid from which contaminants have been removed or sterilized by the pretreatment device is supplied to the spiral-wound membrane module.
【0025】第4の発明に係る処理システムの運転方法
は、所定の処理を行う1または複数の処理装置を設ける
とともに、0.05MPaよりも高く0.3MPa以下
の背圧で逆流洗浄が可能なスパイラル型膜エレメントが
原液入口を有する圧力容器内に1または複数本収容され
てなるスパイラル型膜モジュールを設け、処理装置の洗
浄時に処理装置から排出される洗浄液をスパイラル型膜
モジュールの原液入口を通して圧力容器の内部に供給す
るものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an operating method of a processing system, wherein one or a plurality of processing apparatuses for performing a predetermined processing are provided, and backflow cleaning can be performed with a back pressure higher than 0.05 MPa and 0.3 MPa or less. A spiral-type membrane module in which one or more spiral-type membrane elements are housed in a pressure vessel having a stock solution inlet is provided, and a cleaning liquid discharged from the processing apparatus when the processing apparatus is washed is subjected to pressure through the stock solution inlet of the spiral-type membrane module. It is supplied inside the container.
【0026】本発明に係る処理システムの運転方法にお
いては、処理装置の洗浄時に処理装置から排出される洗
浄液をスパイラル型膜モジュールにおいて膜分離する。
したがって、洗浄排液中の汚染物質をスパイラル型膜モ
ジュールにより除去し、再利用可能な液として回収する
ことが可能である。それにより、排液量を低減すること
が可能となる。In the operation method of the processing system according to the present invention, the cleaning liquid discharged from the processing apparatus when cleaning the processing apparatus is subjected to membrane separation in the spiral membrane module.
Therefore, it is possible to remove the contaminants in the washing wastewater by the spiral membrane module and collect them as a reusable liquid. This makes it possible to reduce the amount of drainage.
【0027】また、上記の処理システムのスパイラル型
膜モジュールは、スパイラル型膜エレメントを0.05
〜0.3MPaの高い背圧で逆流洗浄することが可能で
ある。このため、短時間に必要量の洗浄液を流すことが
でき、スパイラル型膜エレメントの分離膜に堆積した汚
染物質を効果的に除去することができる。したがって、
スパイラル型膜モジュールにおいては、高い透過流束を
維持しつつ、処理装置から剥離した汚染物質を多く含む
洗浄排液を安定して処理することが可能となる。Further, the spiral membrane element of the above-mentioned processing system has a spiral membrane element of 0.05%.
Backwashing is possible with a high back pressure of 0.3 MPa. Therefore, a required amount of cleaning liquid can be flowed in a short time, and contaminants deposited on the separation membrane of the spiral membrane element can be effectively removed. Therefore,
In the spiral-wound membrane module, it is possible to stably treat the cleaning wastewater containing a large amount of contaminants separated from the processing apparatus while maintaining a high permeation flux.
【0028】処理装置は、濾過処理装置、吸着処理装
置、生物処理装置、膜分離装置および遠心分離装置の少
なくとも1つを含んでもよい。このような処理装置から
得られる処理液は、種々の用途に用いられるか、あるい
はさらに後段の系に供給されて処理される。[0028] The treatment apparatus may include at least one of a filtration treatment apparatus, an adsorption treatment apparatus, a biological treatment apparatus, a membrane separation apparatus, and a centrifugal separation apparatus. The processing liquid obtained from such a processing apparatus is used for various purposes, or is further supplied to a subsequent system for processing.
【0029】[0029]
【発明の実施の形態】図1および図2は第1の発明の第
1〜第13の実施例における処理システムを示す模式図
である。1 and 2 are schematic diagrams showing a processing system according to first to thirteenth embodiments of the first invention.
【0030】図1(a)〜図2(m)に示すように、第
1〜第13の実施例の処理システム500〜512にお
いては、後述する各種の前処理装置の後段にスパイラル
型膜モジュール100が設けられている。各処理システ
ム500〜512の運転時においては、前処理装置から
得られた前処理水がスパイラル型膜モジュール100に
供給される。以下に、処理システム500〜512の詳
細について説明する。As shown in FIGS. 1A to 2M, in the processing systems 500 to 512 of the first to thirteenth embodiments, spiral type membrane modules 100 are provided. During the operation of each of the treatment systems 500 to 512, the pretreatment water obtained from the pretreatment device is supplied to the spiral membrane module 100. Hereinafter, details of the processing systems 500 to 512 will be described.
【0031】図1(a)に示すように、第1の実施例に
おける処理システム500は、前処理装置として、膜濾
過以外の濾過、例えば濾布を用いた遠心濾過や砂濾過を
行う濾過処理装置200を備える。処理システム500
においては、濾過処理装置200により原水中の汚染物
質が除去される。As shown in FIG. 1A, a processing system 500 according to the first embodiment includes, as a pretreatment device, a filtration process other than membrane filtration, for example, a centrifugal filtration using a filter cloth or a sand filtration. An apparatus 200 is provided. Processing system 500
In, the contaminants in the raw water are removed by the filtration device 200.
【0032】図1(b)に示すように、第2の実施例に
おける処理システム501は、前処理装置として、骨
炭、活性炭、ゼオライト等の吸着剤を含む吸着処理装置
201を備える。処理システム501においては、吸着
処理装置201中の吸着剤により、原水中の汚染物質が
吸着され除去される。As shown in FIG. 1 (b), the treatment system 501 in the second embodiment includes, as a pretreatment device, an adsorption treatment device 201 containing an adsorbent such as bone charcoal, activated carbon and zeolite. In the treatment system 501, the contaminants in the raw water are adsorbed and removed by the adsorbent in the adsorption treatment device 201.
【0033】図1(c)に示すように、第3の実施例に
おける処理システム502は、前処理装置として、活性
汚泥槽等の生物処理装置202を備える。処理システム
502においては、生物処理装置202中の微生物によ
り原水中の汚染物質が分解されて除去される。As shown in FIG. 1C, the treatment system 502 in the third embodiment has a biological treatment device 202 such as an activated sludge tank as a pretreatment device. In the treatment system 502, contaminants in raw water are decomposed and removed by microorganisms in the biological treatment device 202.
【0034】図1(d)に示すように、第4の実施例に
おける処理システム503は、前処理装置として、遠心
分離装置203を備える。処理システム503において
は、遠心分離装置203により原水中の汚染物質を沈降
させ、沈降した汚染物質を除去する。As shown in FIG. 1D, the processing system 503 according to the fourth embodiment includes a centrifugal separator 203 as a pretreatment device. In the processing system 503, the contaminants in the raw water are settled by the centrifugal separator 203, and the settled contaminants are removed.
【0035】図1(e)に示すように、第5の実施例に
おける処理システム504は、前処理装置として膜分離
装置204を備える。処理システム504においては、
膜分離装置204により原水中の汚染物質が除去され
る。As shown in FIG. 1E, the processing system 504 according to the fifth embodiment includes a membrane separation device 204 as a pretreatment device. In the processing system 504,
The contaminants in the raw water are removed by the membrane separation device 204.
【0036】図1(f)に示すように、第6の実施例に
おける処理システム505は、前処理装置として加圧浮
上処理装置205を備える。処理システム505では、
加圧浮上処理装置205において圧縮空気を用いて原水
のエアーバブリングを行い、原水中の汚染物質を浮上さ
せ、浮上した汚染物質を除去する。As shown in FIG. 1 (f), the processing system 505 in the sixth embodiment includes a pressure flotation processing device 205 as a preprocessing device. In the processing system 505,
Air bubbling of raw water is performed by using compressed air in the pressurized flotation apparatus 205 to float contaminants in the raw water and remove the contaminated substances that have floated.
【0037】図1(g)に示すように、第7の実施例に
おける処理システム506は、前処理装置として凝集分
離処理装置206を備える。処理システム506におい
ては、凝集分離処理装置206により原水中の汚染物質
を凝集させ、沈降した汚染物質を除去する。As shown in FIG. 1 (g), the processing system 506 in the seventh embodiment includes a coagulation / separation processing device 206 as a pre-processing device. In the treatment system 506, the contaminants in the raw water are aggregated by the aggregation and separation processing device 206, and the settled contaminants are removed.
【0038】図1(h)に示すように、第8の実施例に
おける処理システム507は、前処理装置として沈降分
離処理装置207を備える。処理システム507におい
ては、沈降分離処理装置207により原水中の汚染物質
を沈降させ、汚染物質を除去する。As shown in FIG. 1 (h), the processing system 507 in the eighth embodiment includes a settling / separation processing device 207 as a pretreatment device. In the treatment system 507, the contaminants in the raw water are settled by the sedimentation separation treatment device 207 to remove the contaminants.
【0039】図1(i)に示すように、第9の実施例に
おける処理システム508は、前処理装置として、イオ
ン交換樹脂を含むイオン交換装置208を備える。処理
システム508においては、イオン交換装置208によ
り原水がイオン交換され、原水の電気伝導度が純水レベ
ルまで上昇する。なお、イオン交換装置208では原水
中の汚染物質等の微粒子を除去することは不可能であ
る。As shown in FIG. 1 (i), the processing system 508 in the ninth embodiment includes an ion exchange device 208 containing an ion exchange resin as a pretreatment device. In the treatment system 508, the raw water is ion-exchanged by the ion exchange device 208, and the electric conductivity of the raw water increases to the pure water level. Note that the ion exchange device 208 cannot remove fine particles such as contaminants in raw water.
【0040】図2(j)に示すように、第10の実施例
における処理システム509は、前処理装置としてオゾ
ン酸化装置209を備える。処理システム509におい
ては、オゾン酸化装置209により原水を殺菌し、原水
中における雑菌の繁殖を抑制する。As shown in FIG. 2 (j), the processing system 509 in the tenth embodiment includes an ozone oxidizing device 209 as a pre-processing device. In the treatment system 509, the raw water is sterilized by the ozone oxidizing device 209, and propagation of various bacteria in the raw water is suppressed.
【0041】図2(k)に示すように、第11の実施例
における処理システム510は、前処理装置として、強
酸性イオン水を含む強酸性水処理装置210を備える。
処理システム510においては、強酸性水処理装置21
0により原水を殺菌し、原水中における雑菌の繁殖を抑
制する。なお、強酸性イオン水は、数%の食塩水を電気
分解して得られるpH2.5前後の酸性の水である。As shown in FIG. 2 (k), the treatment system 510 in the eleventh embodiment has a strong acid water treatment device 210 containing strongly acidic ionic water as a pretreatment device.
In the treatment system 510, the strong acid water treatment device 21
0 sterilizes the raw water and suppresses the growth of various bacteria in the raw water. It should be noted that the strongly acidic ionic water is acidic water having a pH of about 2.5 obtained by electrolyzing several percent of a saline solution.
【0042】図2(l)に示すように、第12の実施例
における処理システム511は、前処理装置として紫外
線(UV)殺菌処理装置211を備える。処理システム
511においては、紫外線(UV)殺菌処理装置211
により原水を殺菌し、原水中における雑菌の繁殖を抑制
する。As shown in FIG. 2 (l), the processing system 511 in the twelfth embodiment includes an ultraviolet (UV) sterilization processing device 211 as a preprocessing device. In the processing system 511, an ultraviolet (UV) sterilization processing device 211
Sterilizes the raw water and suppresses the growth of various bacteria in the raw water.
【0043】図2(m)に示すように、第13の実施例
における処理システム512は、前処理装置として次亜
塩素酸ソーダ殺菌処理装置212を備える。処理システ
ム512においては、次亜塩素酸ソーダ殺菌処理装置2
12により原水を殺菌し、原水中における雑菌の繁殖を
抑制する。なお、好ましい遊離塩素濃度は0.1ppm
〜1000ppmである。As shown in FIG. 2 (m), the processing system 512 in the thirteenth embodiment includes a sodium hypochlorite sterilizing apparatus 212 as a pre-processing apparatus. In the treatment system 512, the sodium hypochlorite sterilization treatment device 2
12 sterilizes the raw water and suppresses the propagation of various bacteria in the raw water. The preferred free chlorine concentration is 0.1 ppm
10001000 ppm.
【0044】上記の処理システム500〜512におい
ては、各装置200〜212により処理された前処理水
が、供給系300を通して後段のスパイラル型膜モジュ
ール100に供給される。In the above treatment systems 500 to 512, the pretreated water treated by each of the devices 200 to 212 is supplied to the subsequent spiral membrane module 100 through the supply system 300.
【0045】図4は図1のスパイラル型膜モジュールに
用いられるスパイラル型膜エレメントの例を示す一部切
欠き斜視図である。FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing an example of a spiral membrane element used in the spiral membrane module of FIG.
【0046】図4のスパイラル型膜エレメント1は、合
成樹脂のネットからなる透過水スペーサ3の両面に分離
膜2を重ね合わせて3辺を接着させることにより封筒状
膜(袋状膜)4を形成し、その封筒状膜4の開口部を集
水管5に取り付け、合成樹脂のネットからなる原水スペ
ーサ6とともに集水管5の外周面にスパイラル状に巻回
することにより構成される。分離膜2は、限外濾過膜で
あってもよく、あるいは精密濾過膜であってもよい。ス
パイラル型膜エレメント1の外周面は外装材で被覆され
る。In the spiral membrane element 1 shown in FIG. 4, an envelope membrane (bag-like membrane) 4 is formed by superimposing separation membranes 2 on both sides of a permeated water spacer 3 made of a synthetic resin net and bonding three sides. It is formed by attaching the opening of the envelope-shaped membrane 4 to the water collecting pipe 5 and spirally winding the outer peripheral surface of the water collecting pipe 5 together with the raw water spacer 6 made of a synthetic resin net. The separation membrane 2 may be an ultrafiltration membrane or a microfiltration membrane. The outer peripheral surface of the spiral-type membrane element 1 is covered with an exterior material.
【0047】図5〜図9に示すように、スパイラル型膜
モジュール100は、スパイラル型膜エレメント1が圧
力容器10内に収容されてなる。なお、スパイラル型膜
モジュール100の構造および運転方法の詳細について
は後述する。As shown in FIGS. 5 to 9, the spiral membrane module 100 has a spiral membrane element 1 housed in a pressure vessel 10. The details of the structure and operation method of the spiral membrane module 100 will be described later.
【0048】図4のスパイラル型膜エレメント1におい
ては、後述する構造を有する分離膜2を用いることによ
り、0.05〜0.3MPaの背圧で逆流洗浄を行うこ
とが可能となる。In the spiral-type membrane element 1 shown in FIG. 4, backflow cleaning can be performed at a back pressure of 0.05 to 0.3 MPa by using a separation membrane 2 having a structure described later.
【0049】濾過時には、原水7がスパイラル型膜エレ
メント1の一方の端面側から供給される。なお、本例に
おいては、各装置200〜212から得られた前処理水
が原水7に相当する。この原水7は、原水スペーサ6に
沿って集水管5と平行な方向に直線状に流れ、スパイラ
ル型膜エレメント1の他方の端面側から濃縮水9として
排出される。At the time of filtration, raw water 7 is supplied from one end face of the spiral membrane element 1. In this example, the pretreated water obtained from each of the devices 200 to 212 corresponds to the raw water 7. The raw water 7 flows linearly in a direction parallel to the water collecting pipe 5 along the raw water spacer 6, and is discharged as concentrated water 9 from the other end surface side of the spiral membrane element 1.
【0050】原水7が原水スペーサ6に沿って流れる過
程で、原水側と透過水側の圧力差によって原水7の一部
が分離膜2を透過し、透過水8が透過水スペーサ3に沿
って集水管5の内部に流れ込み、集水管5の端部から処
理水としてスパイラル型膜モジュール100の外部に取
り出される。図1(a)〜図2(m)に示すように、ス
パイラル型膜モジュール100から取り出された透過水
8(処理水)は、種々の用途に用いられるか、あるいは
さらに後段の系に供給されて処理される。While the raw water 7 flows along the raw water spacer 6, a part of the raw water 7 permeates the separation membrane 2 due to the pressure difference between the raw water side and the permeated water side, and the permeated water 8 flows along the permeated water spacer 3. The water flows into the water collecting pipe 5 and is taken out of the spiral membrane module 100 from the end of the water collecting pipe 5 as treated water. As shown in FIGS. 1A to 2M, the permeated water 8 (treated water) taken out of the spiral-wound membrane module 100 is used for various purposes, or is supplied to a further system. Is processed.
【0051】上記のように、処理システム500〜50
8においては、濾過処理装置200、吸着処理装置20
1、生物処理装置202、遠心分離装置203、膜分離
装置204、加圧浮上装置205、凝集分離装置20
6、沈降分離装置207およびイオン交換装置208に
より前処理された前処理水が後段のスパイラル型膜モジ
ュール100により膜分離され、さらに汚染物質が除去
される。それにより、処理システム500〜508にお
いては、良好な水質の処理水を得ることが可能となる。As described above, the processing systems 500 to 50
8, the filtration device 200 and the adsorption device 20
1. Biological treatment device 202, centrifugal separator 203, membrane separator 204, pressure flotation device 205, coagulation separator 20
6. Pretreatment water pretreated by the sedimentation separation device 207 and the ion exchange device 208 is subjected to membrane separation by the subsequent spiral type membrane module 100, and contaminants are further removed. Thereby, in the treatment systems 500 to 508, it is possible to obtain treated water having good water quality.
【0052】なお、処理システム508においては、イ
オン交換装置208のみによる処理では原水中の微粒子
を除去することはできないが、イオン交換装置205か
ら得られた前処理水をさらにスパイラル型膜モジュール
100で処理することにより、原水中の微粒子を除去す
ることが可能となる。それにより、処理水の純度をさら
に上げることが可能となる。In the treatment system 508, fine particles in the raw water cannot be removed by the treatment using only the ion exchange device 208, but the pretreated water obtained from the ion exchange device 205 is further processed by the spiral membrane module 100. By performing the treatment, the fine particles in the raw water can be removed. Thereby, the purity of the treated water can be further increased.
【0053】ここで、前処理を行う各装置200〜20
8では、供給水の性状の変化に応じて得られる処理水の
性状が変化する。これに対して、スパイラル型膜モジュ
ール100では、供給水の性状が変化した場合において
も、処理水の性状が変化しにくく安定した性状の処理水
を得ることが可能である。したがって、処理システム5
00〜508においては、各装置200〜208の処理
水をさらにスパイラル型膜モジュール100で処理する
ことにより、各装置200〜208のみにより処理を行
う場合に比べて、より安定した水質の処理水を得ること
が可能となる。Here, each of the devices 200 to 20 for performing the pre-processing
In 8, the property of the treated water obtained changes in accordance with the property of the supply water. On the other hand, in the spiral-type membrane module 100, even if the property of the supply water changes, the property of the treated water is hard to change, and it is possible to obtain the treated water having a stable property. Therefore, the processing system 5
In 00 to 508, the treated water of each of the devices 200 to 208 is further treated by the spiral membrane module 100, so that treated water of a more stable water quality can be obtained as compared to the case where the treatment is performed only by each of the devices 200 to 208. It is possible to obtain.
【0054】処理システム509〜512において、オ
ゾン酸化装置209、強酸性水処理装置210、UV殺
菌処理装置211および次亜塩素酸ソーダ殺菌処理装置
212により殺菌された前処理水は、後段のスパイラル
型膜モジュール100により膜分離されて汚染物質が除
去される。したがって、処理システム509〜512に
おいては、良好な水質の処理水を得ることが可能とな
る。In the treatment systems 509 to 512, the pretreated water sterilized by the ozone oxidizer 209, the strong acid water processor 210, the UV sterilizer 211 and the sodium hypochlorite sterilizer 212 is converted into a spiral type in the latter stage. The contaminants are removed by membrane separation by the membrane module 100. Therefore, in the treatment systems 509 to 512, it is possible to obtain treated water having good water quality.
【0055】ここで、前述のように、スパイラル型膜モ
ジュール100では供給水の性状が変化した場合におい
ても安定した性状の処理水を得ることができる。したが
って、処理システム509〜512においては、原水の
性状変化にとらわれず安定した水質の処理水を得ること
が可能となる。Here, as described above, in the spiral-type membrane module 100, even if the property of the supplied water changes, treated water with stable properties can be obtained. Therefore, in the treatment systems 509 to 512, it is possible to obtain treated water of stable water quality irrespective of changes in the properties of raw water.
【0056】上記の処理システム500〜512におい
ては、各装置200〜212により前処理された前処理
水がスパイラル型膜モジュール100に供給されるた
め、濾過時におけるスパイラル型膜エレメント1の負荷
が低減される。In the treatment systems 500 to 512 described above, the pre-treated water pretreated by the devices 200 to 212 is supplied to the spiral membrane module 100, so that the load on the spiral membrane element 1 during filtration is reduced. Is done.
【0057】さらに、スパイラル型膜モジュール100
においては、前述のように洗浄時に0.05〜0.3M
Paの高い背圧でスパイラル型膜エレメント1を逆流洗
浄することが可能であるため、短時間に必要量の洗浄水
を流すことができる。それにより、濾過時にスパイラル
型膜エレメント1の膜面に堆積した汚染物質を効果的に
除去し、性能を回復することができる。したがって、ス
パイラル型膜モジュール100においては、長期間にわ
たって透過流束の低下を生じることなく安定して濾過を
行うことが可能である。Further, the spiral membrane module 100
In the above, 0.05 to 0.3 M
Since the spiral-type membrane element 1 can be backwashed with a high back pressure of Pa, a necessary amount of washing water can be flowed in a short time. Thereby, the contaminants deposited on the membrane surface of the spiral membrane element 1 during the filtration can be effectively removed, and the performance can be recovered. Therefore, in the spiral membrane module 100, it is possible to stably perform filtration without causing a decrease in permeation flux over a long period of time.
【0058】以上のことから、上記の処理システム50
0〜512においては、安定した処理水の水質を維持し
つつ高い透過流束で安定した処理を行うことが可能とな
る。From the above, the above processing system 50
In the case of 0 to 512, it is possible to perform a stable treatment with a high permeation flux while maintaining a stable quality of the treated water.
【0059】例えば、上記の各処理システム500〜5
12を用いて排水の回収ならびに再利用を行う場合、排
水は各装置200〜212に供給されて各種の前処理を
施される。各装置から得られた前処理水は、供給系30
0を介してスパイラル型膜モジュール100に供給され
膜分離される。このようにして処理システム500〜5
12により、排水中の懸濁物質やコロイド性物質が低減
される。この場合、処理システム500〜512に供給
される排水の性状が変化しても、安定した水質の処理水
を得ることができる。処理システム500〜512から
得られた処理水は、再利用水として種々の用途で利用し
てもよく、あるいはさらに後段の系に供給して処理を行
ってもよい。For example, each of the above processing systems 500 to 5
In the case where wastewater is collected and reused using the wastewater 12, the wastewater is supplied to each of the devices 200 to 212 and subjected to various pretreatments. The pretreated water obtained from each device is supplied to the supply system 30
0 and supplied to the spiral type membrane module 100 for membrane separation. Thus, the processing systems 500 to 5
12, the suspended solids and colloidal substances in the wastewater are reduced. In this case, even if the properties of the wastewater supplied to the treatment systems 500 to 512 change, treated water with stable water quality can be obtained. The treated water obtained from the treatment systems 500 to 512 may be used for various purposes as reused water, or may be supplied to a subsequent system for treatment.
【0060】なお、上記の処理システム500〜512
においてはスパイラル型膜モジュール100の前段に前
処理装置を1つ設けているが、複数の前処理装置を設け
た処理システムであってもよい。例えば、上記の各装置
200〜212を組み合わせて前処理を行い、この前処
理水をスパイラル型膜モジュール100によりさらに処
理する処理システムであってもよい。The above processing systems 500 to 512
In the above, one pre-processing device is provided in a stage preceding the spiral membrane module 100, but a processing system having a plurality of pre-processing devices may be used. For example, a processing system may be used in which a pretreatment is performed by combining the above apparatuses 200 to 212, and the pretreatment water is further processed by the spiral membrane module 100.
【0061】図3は第2の発明の第1〜第5の実施例に
おける処理システムを示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a processing system according to the first to fifth embodiments of the second invention.
【0062】図3(a)〜(e)に示すように、第1〜
第5の実施例の処理システム700〜704は、第1の
発明の実施例の処理システム500〜512と同様、ス
パイラル型膜エレメント1(図4)を含むスパイラル型
膜モジュール100を備える。処理システム700〜7
04においては、各種の装置200〜204の洗浄時に
排出された洗浄排水をスパイラル型膜モジュール100
により処理し、再利用可能な処理水を回収する。以下
に、処理システム700〜704の詳細について説明す
る。As shown in FIGS. 3 (a) to 3 (e),
The processing systems 700 to 704 according to the fifth embodiment include the spiral membrane module 100 including the spiral membrane element 1 (FIG. 4), similarly to the processing systems 500 to 512 according to the first embodiment of the present invention. Processing system 700-7
04, the washing wastewater discharged at the time of washing the various devices 200 to 204 is supplied to the spiral membrane module 100.
And recover reusable treated water. Hereinafter, details of the processing systems 700 to 704 will be described.
【0063】図3(a)に示すように、処理システム7
00においては、濾過処理装置200により原水が処理
され、原水中の汚染物質が除去される。濾過処理装置2
00の処理水は、種々の用途に用いられるか、あるいは
濾過処理装置200の後段に設けられた系、例えば逆浸
透膜分離装置に被処理水として供給される。濾過処理装
置200の処理水が後段の系に供給される場合には、濾
過処理装置200が前処理装置に相当する。As shown in FIG. 3A, the processing system 7
At 00, the raw water is treated by the filtration treatment device 200, and contaminants in the raw water are removed. Filtration device 2
The treated water No. 00 is used for various purposes, or is supplied as a water to be treated to a system provided at the subsequent stage of the filtration treatment device 200, for example, a reverse osmosis membrane separation device. When the treated water of the filtration treatment device 200 is supplied to a subsequent system, the filtration treatment device 200 corresponds to a pretreatment device.
【0064】処理システム700においては、濾過処理
装置200の運転を所定時間行った後、濾過処理装置2
00の洗浄を行う。濾過処理装置200の洗浄には、大
量の洗浄水を用いて逆流洗浄または正洗浄が行われる。
濾過処理装置200の洗浄に用いられた洗浄水は、濾過
処理装置200から外部に取り出された後、供給系31
0を介してスパイラル型膜モジュール100に供給され
る。In the processing system 700, after the operation of the filtration apparatus 200 has been performed for a predetermined time, the filtration apparatus 2
00 is performed. In the cleaning of the filtration device 200, backflow cleaning or normal cleaning is performed using a large amount of cleaning water.
The washing water used for washing the filtration treatment device 200 is taken out of the filtration treatment device 200 and then supplied to the supply system 31.
0 to the spiral-type membrane module 100.
【0065】図3(b)に示すように、処理システム7
01においては、吸着処理装置201により原水が処理
され、原水中の汚染物質が吸着されて除去される。吸着
処理装置201の処理水は、種々の用途に用いられる
か、あるいは吸着処理装置201の後段に設けられた
系、例えば逆浸透膜分離装置等に被処理水として供給さ
れる。吸着処理装置201の処理水が後段の系に供給さ
れる場合には、吸着処理装置201が前処理装置に相当
する。As shown in FIG. 3B, the processing system 7
In 01, raw water is treated by the adsorption treatment apparatus 201, and contaminants in the raw water are adsorbed and removed. The treated water of the adsorption treatment device 201 is used for various purposes, or is supplied as a treatment target water to a system provided at a subsequent stage of the adsorption treatment device 201, such as a reverse osmosis membrane separation device. When the treated water of the adsorption processing device 201 is supplied to a subsequent system, the adsorption processing device 201 corresponds to a pretreatment device.
【0066】処理システム701においては、吸着処理
装置201の運転を所定時間行った後、吸着処理装置2
01の洗浄を行う。吸着処理装置201の洗浄には、大
量の洗浄水を用いて逆流洗浄または正洗浄が行われる。
吸着処理装置201の洗浄に用いられた洗浄水は、吸着
処理装置201から外部へ取り出された後、供給系31
0を介してスパイラル型膜モジュール100に供給され
る。In the processing system 701, after the operation of the adsorption processing apparatus 201 has been performed for a predetermined time,
01 is performed. In the cleaning of the adsorption treatment apparatus 201, backwashing or normal cleaning is performed using a large amount of washing water.
The cleaning water used for cleaning the adsorption treatment device 201 is taken out of the adsorption treatment device 201 to the outside, and then supplied to the supply system 31.
0 to the spiral-type membrane module 100.
【0067】図3(c)に示すように、処理システム7
02においては、生物処理装置202により原水が処理
され、原水中の汚染物質が分解されて除去される。生物
処理装置202の処理水は、種々の用途に用いられる
か、あるいは生物処理装置202の後段に設けられた
系、例えば逆浸透膜分離装置に被処理水として供給され
る。生物処理装置202の処理水が後段の系に供給され
る場合には、生物処理装置202が前処理装置に相当す
る。As shown in FIG. 3C, the processing system 7
In 02, raw water is treated by the biological treatment device 202, and pollutants in the raw water are decomposed and removed. The treated water of the biological treatment apparatus 202 is used for various purposes, or supplied as a water to be treated to a system provided downstream of the biological treatment apparatus 202, for example, a reverse osmosis membrane separation apparatus. When the treated water of the biological treatment device 202 is supplied to a subsequent system, the biological treatment device 202 corresponds to a pretreatment device.
【0068】処理システム702においては、生物処理
装置202の運転を所定時間行った後、生物処理装置2
02の洗浄を行う。生物処理装置202の洗浄には、大
量の洗浄水を用いて逆流洗浄または正洗浄が行われる。
生物処理装置202の洗浄に用いられた洗浄水は、生物
処理装置202から外部へ取り出された後、供給系31
0を介してスパイラル型膜モジュール100に供給され
る。In the treatment system 702, after the biological treatment device 202 has been operated for a predetermined time, the biological treatment device 2
02 is performed. In cleaning the biological treatment device 202, backwashing or normal cleaning is performed using a large amount of washing water.
Wash water used for washing the biological treatment device 202 is taken out of the biological treatment device 202 to the outside, and then supplied to the supply system 31.
0 to the spiral-type membrane module 100.
【0069】図3(d)に示すように、処理システム7
03においては、遠心分離装置203により原水が処理
され、原水中の汚染物質が除去される。遠心分離装置2
03の処理水は、種々の用途に用いられるか、あるいは
遠心分離装置203の後段に設けられた系、例えば逆浸
透膜分離装置に被処理水として供給される。遠心分離装
置203の処理水が後段の系に供給される場合には、遠
心分離装置203が前処理装置に相当する。As shown in FIG. 3D, the processing system 7
In 03, the raw water is treated by the centrifugal separator 203, and contaminants in the raw water are removed. Centrifuge 2
The treated water 03 is used for various purposes, or is supplied as a water to be treated to a system provided downstream of the centrifugal separator 203, for example, a reverse osmosis membrane separator. When the treated water of the centrifugal separator 203 is supplied to the subsequent system, the centrifugal separator 203 corresponds to a pretreatment device.
【0070】処理システム703においては、遠心分離
装置203の運転を所定時間を行った後、遠心分離装置
203の洗浄を行う。遠心分離装置203の洗浄には、
大量の洗浄水を用いて逆流洗浄または正洗浄が行われ
る。遠心分離装置203の洗浄に用いられた洗浄水は、
遠心分離装置203から外部へ取り出された後、供給系
310を介してスパイラル型膜モジュール100に供給
される。In the processing system 703, after the centrifuge 203 is operated for a predetermined time, the centrifuge 203 is washed. For washing the centrifuge 203,
Backwashing or forward washing is performed using a large amount of washing water. The washing water used for washing the centrifuge 203 is
After being taken out of the centrifugal separator 203, it is supplied to the spiral membrane module 100 via the supply system 310.
【0071】図3(e)に示すように、処理システム7
04においては、膜分離装置204により原水が処理さ
れ、原水中の汚染物質が除去される。膜分離装置204
の処理水は、種々の用途に用いられるか、あるいは膜分
離装置204の後段に設けられた系、例えば逆浸透膜分
離装置に被処理水として供給される。膜分離装置204
の処理水が後段の系に供給される場合には、膜分離装置
204が前処理装置に相当する。As shown in FIG. 3E, the processing system 7
In 04, the raw water is treated by the membrane separation device 204, and contaminants in the raw water are removed. Membrane separation device 204
The treated water is used for various purposes, or supplied as a water to be treated to a system provided downstream of the membrane separation device 204, for example, a reverse osmosis membrane separation device. Membrane separation device 204
When the treated water is supplied to the subsequent system, the membrane separation device 204 corresponds to a pretreatment device.
【0072】処理システム704においては、膜分離装
置204の運転を所定時間行った後、膜分離装置204
の洗浄を行う。膜分離装置204の洗浄には、大量の洗
浄水を用いて逆流洗浄または正洗浄が行われる。膜分離
装置204の洗浄に用いられた洗浄水は、膜分離装置2
04から外部へ取り出された後、供給系310を介して
スパイラル型膜モジュール100に供給される。In the processing system 704, after the operation of the membrane separation device 204 has been performed for a predetermined time,
Is washed. In cleaning the membrane separation device 204, backwashing or normal cleaning is performed using a large amount of washing water. The washing water used for washing the membrane separation device 204 is supplied to the membrane separation device 2
After being extracted from the outside to the outside, it is supplied to the spiral membrane module 100 via the supply system 310.
【0073】上記のように、処理システム700〜70
4においては、各装置200〜204の洗浄排水が供給
系310を介してスパイラル型膜モジュール100の圧
力容器10(図5〜図9)の内部に導入され、スパイラ
ル型膜エレメント1(図4)に供給される。スパイラル
型膜エレメント1においては、図4に示す方法により、
洗浄排水が透過水8と濃縮水9とに分離される。なお、
本例においては、各装置200〜204の洗浄排水が原
水7に相当する。このようにして得られたスパイラル型
膜モジュール100の透過水8は、処理水として洗浄
水、冷却水等に用いられ再利用される。一方、濃縮水9
は系外へ排出される。As described above, the processing systems 700 to 70
In 4, the washing wastewater from each of the devices 200 to 204 is introduced into the pressure vessel 10 (FIGS. 5 to 9) of the spiral membrane module 100 via the supply system 310, and the spiral membrane element 1 (FIG. 4) Supplied to In the spiral type membrane element 1, the method shown in FIG.
The washing wastewater is separated into permeated water 8 and concentrated water 9. In addition,
In this example, the cleaning wastewater of each of the devices 200 to 204 corresponds to the raw water 7. The permeated water 8 of the spiral-wound membrane module 100 thus obtained is used as a treatment water for washing water, cooling water, etc., and is reused. On the other hand, concentrated water 9
Is discharged out of the system.
【0074】以上のように、処理システム700〜70
4においては、スパイラル型膜モジュール100により
各装置200〜204の洗浄排水を処理し、汚染物質を
除去して再利用可能な処理水(透過水)を回収すること
ができる。このため、各装置200〜204の洗浄排水
を有効に再利用し、排水量の低減を図ることが可能であ
る。As described above, the processing systems 700 to 70
In No. 4, the cleaning wastewater of each of the devices 200 to 204 is treated by the spiral membrane module 100 to remove contaminants and recover reusable treated water (permeated water). For this reason, it is possible to effectively reuse the washing wastewater of each of the devices 200 to 204 and reduce the amount of wastewater.
【0075】この場合、上記の各装置200〜204か
ら排出された洗浄排水は、各装置200〜204から除
去された汚染物質を多く含んでいる。このため、洗浄排
水をスパイラル型膜モジュール100を用いて濾過する
と、スパイラル型膜モジュール100のスパイラル型膜
エレメント1(図4)の分離膜2の膜面に汚染物質が堆
積する。そこで、スパイラル型膜モジュール100を用
いて洗浄排水の濾過を所定時間行った後、スパイラル型
膜モジュール100の洗浄を行う。In this case, the cleaning wastewater discharged from each of the devices 200 to 204 contains a large amount of contaminants removed from each of the devices 200 to 204. Therefore, when the washing wastewater is filtered using the spiral membrane module 100, contaminants are deposited on the membrane surface of the separation membrane 2 of the spiral membrane element 1 (FIG. 4) of the spiral membrane module 100. Therefore, after filtering the washing wastewater for a predetermined time using the spiral membrane module 100, the spiral membrane module 100 is washed.
【0076】ここで、前述のように、スパイラル型膜モ
ジュール100の洗浄時には0.05〜0.3MPaの
高い背圧でスパイラル型膜エレメント1の逆流洗浄を行
うことが可能であるため、短時間に必要量の洗浄水を流
すことができる。それにより、濾過時にスパイラル型膜
エレメント1の膜面に堆積した汚染物質を効果的に除去
し、性能を回復することができる。したがって、スパイ
ラル型膜モジュール100においては、長期間にわたっ
て透過流束の低下を生じることなく安定して濾過を行う
ことができる。Here, as described above, the back flow cleaning of the spiral type membrane element 1 can be performed at a high back pressure of 0.05 to 0.3 MPa when cleaning the spiral type membrane module 100. The required amount of washing water. Thereby, the contaminants deposited on the membrane surface of the spiral membrane element 1 during the filtration can be effectively removed, and the performance can be recovered. Therefore, in the spiral membrane module 100, filtration can be performed stably without causing a decrease in permeation flux over a long period of time.
【0077】以上のことから、上記の処理システム70
0〜704においては、高い透過流束で安定した処理を
行い、各装置200〜204から排出される洗浄排水を
有効利用することが可能となる。From the above, the above processing system 70
In the case of 0 to 704, stable treatment is performed with a high permeation flux, and the washing wastewater discharged from each of the devices 200 to 204 can be effectively used.
【0078】なお、上記の処理システム700〜704
においては、各装置200〜204の洗浄時の逆流洗浄
または正洗浄に用いた洗浄水をスパイラル型膜モジュー
ル100により処理する場合について説明したが、各装
置200〜204から排出される洗浄排水以外の排水を
スパイラル型膜モジュール100により処理してもよ
い。The above processing systems 700 to 704
In the above, the case where the washing water used for the backflow washing or the normal washing at the time of washing of each of the devices 200 to 204 is treated by the spiral membrane module 100 has been described. The wastewater may be treated by the spiral membrane module 100.
【0079】例えば、各装置200〜204の洗浄直後
においては、各装置200〜204から得られる処理水
の性状が安定していないため、処理水の性状が安定する
までの間は得られた処理水を排水として排出する場合が
ある。このような場合、各装置200〜204から排出
される処理水をスパイラル型膜モジュール100により
処理してもよい。この場合においても、排水として排出
された処理水を有効に再利用し、排水量の低減を図るこ
とが可能となる。For example, immediately after the cleaning of each of the devices 200 to 204, the properties of the treated water obtained from each of the devices 200 to 204 are not stable. Water may be discharged as wastewater. In such a case, the treated water discharged from each of the devices 200 to 204 may be treated by the spiral membrane module 100. Also in this case, the treated water discharged as wastewater can be effectively reused, and the amount of wastewater can be reduced.
【0080】さらに、上記の処理システム700〜70
4においては、装置200〜204を1つ設けている
が、各装置200〜204を複数備え、これらの装置2
00〜204を組み合わせて処理を行う処理システムで
あってもよい。Further, the above processing systems 700 to 70
4, one device 200 to 204 is provided, but a plurality of devices 200 to 204 are provided.
A processing system that performs a process by combining 00 to 204 may be used.
【0081】続いて、上記の図1および図2の処理シス
テム500〜512ならびに図3の処理システム700
〜704に用いられるスパイラル型膜モジュール100
の運転方法について説明する。Subsequently, the processing systems 500 to 512 shown in FIGS. 1 and 2 and the processing system 700 shown in FIG.
Spiral type membrane module 100 used in
The driving method will be described.
【0082】図5は、図1〜図3の処理システムに用い
られるスパイラル型膜モジュールの運転方法の一例を示
す断面図であり、(a)は濾過時の運転方法を示し、
(b)は逆流洗浄時の運転方法を示す。FIG. 5 is a sectional view showing an example of an operation method of a spiral type membrane module used in the processing system shown in FIGS. 1 to 3, (a) shows an operation method at the time of filtration,
(B) shows an operation method at the time of backwashing.
【0083】図5に示すように、圧力容器(耐圧容器)
10は、筒形ケース11および1対の端板12a,12
bにより構成される。一方の端板12aには原水入口1
3が形成され、他方の端板12bには濃縮水出口15が
形成されている。また、他方の端板12bの中央部には
透過水出口14が設けられている。なお、圧力容器の構
造は、図5の構造に限定されず、筒形ケースに原水入口
および濃縮水出口が設けられたサイドエントリ形状の圧
力容器を用いてもよい。As shown in FIG. 5, a pressure vessel (pressure vessel)
10 is a cylindrical case 11 and a pair of end plates 12a, 12
b. One end plate 12a has raw water inlet 1
3 and a concentrated water outlet 15 is formed in the other end plate 12b. A permeated water outlet 14 is provided at the center of the other end plate 12b. The structure of the pressure vessel is not limited to the structure shown in FIG. 5, and a pressure vessel having a side entry shape in which a raw water inlet and a concentrated water outlet are provided in a cylindrical case may be used.
【0084】外周面の一端部近傍にパッキン17が取り
付けられたスパイラル型膜エレメント1を筒形ケース1
1内に装填し、筒形ケース11の両方の開口端をそれぞ
れ端板12a,12bで封止する。集水管5の一方の開
口端は端板12bの透過水出口14に嵌合され、他方の
開口端にはエンドキャップ16が装着される。圧力容器
10の内部空間は、パッキン17により第1の液室18
と第2の液室19とに分離される。このようにしてスパ
イラル型膜モジュール100が構成されている。The spiral-type membrane element 1 with the packing 17 attached near one end of the outer peripheral surface is attached to the cylindrical case 1.
1 and both open ends of the cylindrical case 11 are sealed with end plates 12a and 12b, respectively. One open end of the water collecting pipe 5 is fitted to the permeated water outlet 14 of the end plate 12b, and an end cap 16 is attached to the other open end. The inner space of the pressure vessel 10 is filled with a first liquid chamber 18 by a packing 17.
And the second liquid chamber 19. Thus, the spiral type membrane module 100 is configured.
【0085】濾過時には、図5(a)に示すように、供
給系300,310(図1〜図3)を介して原水7を原
水入口13から圧力容器10の第1の液室18に導入
し、スパイラル型膜エレメント1の一端部から内部に供
給する。なお、処理システム500〜512においては
各装置200〜212から得られた前処理水が原水7に
相当する。また、処理システム700〜704において
は、各装置200〜204から排出された洗浄排水が原
水7に相当する。At the time of filtration, as shown in FIG. 5A, the raw water 7 is introduced from the raw water inlet 13 into the first liquid chamber 18 of the pressure vessel 10 via the supply systems 300 and 310 (FIGS. 1 to 3). Then, the spiral membrane element 1 is supplied from one end to the inside. In the treatment systems 500 to 512, the pretreated water obtained from each of the devices 200 to 212 corresponds to the raw water 7. In the processing systems 700 to 704, the cleaning wastewater discharged from each of the devices 200 to 204 corresponds to the raw water 7.
【0086】スパイラル型膜エレメント1の他端部から
第2の液室19に濃縮水9が排出され、濃縮水出口15
を通して圧力容器10の外部へ取り出される。また、集
水管5の開口端から透過水8が排出され、透過水出口1
4を通して圧力容器10の外部へ取り出される。この過
程で、原水7中に含まれる懸濁物質、コロイド性物質ま
たは溶存性物質が汚染物質としてスパイラル型膜エレメ
ント1の分離膜の膜面に堆積する。The concentrated water 9 is discharged from the other end of the spiral membrane element 1 to the second liquid chamber 19, and the concentrated water outlet 15
Through the pressure vessel 10. Further, the permeated water 8 is discharged from the opening end of the water collecting pipe 5 and the permeated water outlet 1
4 to the outside of the pressure vessel 10. In this process, suspended substances, colloidal substances or dissolved substances contained in the raw water 7 are deposited as pollutants on the membrane surface of the separation membrane of the spiral membrane element 1.
【0087】スパイラル型膜モジュール100の逆流洗
浄時には、図5(b)に示すように、洗浄水21を透過
水出口14を通して集水管5の端部から導入する。洗浄
水21としては、例えば透過水を用いる。洗浄水21
は、集水管5の外周面から分離膜の内部へ導出され、濾
過時と逆方向に分離膜を透過する。この際に、分離膜の
膜面に堆積した汚染物質が分離膜から剥離する。スパイ
ラル型膜エレメント1の外周面は外装材で被覆されてい
るので、分離膜を透過した洗浄水21は原水スペーサに
沿ってスパイラル型膜エレメント1の内部を軸方向に流
れ、スパイラル型膜エレメント1の両端部から第1の液
室18および第2の液室19に排出され、原水入口13
および濃縮水出口15を通してそれぞれ外部へ取り出さ
れる。At the time of backwashing of the spiral membrane module 100, as shown in FIG. 5B, washing water 21 is introduced from the end of the water collecting pipe 5 through the permeated water outlet 14. As the washing water 21, for example, permeated water is used. Wash water 21
Is led out of the outer peripheral surface of the water collecting pipe 5 into the inside of the separation membrane, and permeates the separation membrane in a direction opposite to that at the time of filtration. At this time, contaminants deposited on the surface of the separation membrane are separated from the separation membrane. Since the outer peripheral surface of the spiral membrane element 1 is covered with the exterior material, the washing water 21 that has passed through the separation membrane flows in the axial direction inside the spiral membrane element 1 along the raw water spacer, and the spiral membrane element 1 Are discharged into the first liquid chamber 18 and the second liquid chamber 19 from both ends of the raw water inlet 13.
And through the concentrated water outlet 15 respectively.
【0088】原水入口13から取り出された洗浄水21
は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、洗
浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原水
として再利用するために例えば供給系300,310
(図1〜図3)に戻してもよい。Wash water 21 taken out from raw water inlet 13
Is discharged out of the system as wastewater. Alternatively, a part of the washing water 21 is discharged as wastewater to the outside of the system, and a part thereof is reused as raw water, for example, the supply systems 300 and 310.
(FIGS. 1 to 3).
【0089】濃縮水出口15から取り出された洗浄水2
1は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、
洗浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原
水として再利用するために例えば供給系300,310
(図1〜図3)へ戻してもよい。The washing water 2 taken out from the concentrated water outlet 15
In the case of 1, the entire amount is discharged outside the system as wastewater. Or
A part of the washing water 21 is discharged out of the system as wastewater, and a part is reused as raw water, for example, in the supply systems 300 and 310.
(FIGS. 1 to 3).
【0090】この場合、分離膜に0.05〜0.3MP
aの背圧が加わるように透過水出口14側の圧力、原水
入口13側の圧力および濃縮水出口15側の圧力を設定
する。それにより、短時間に必要量の洗浄水21を流す
ことができ、分離膜の膜面に堆積した汚染物質を効果的
に除去することが可能となる。したがって、スパイラル
型膜モジュール100においては、長期間にわたって透
過流束の低下を生じることなく安定した濾過運転を行う
ことができる。In this case, 0.05 to 0.3 MP is applied to the separation membrane.
The pressure on the permeated water outlet 14 side, the pressure on the raw water inlet 13 side, and the pressure on the concentrated water outlet 15 side are set so as to apply the back pressure a. Thus, a required amount of the washing water 21 can be flowed in a short time, and contaminants deposited on the surface of the separation membrane can be effectively removed. Therefore, in the spiral membrane module 100, a stable filtration operation can be performed without causing a decrease in the permeation flux over a long period of time.
【0091】なお、図5の例では、逆流洗浄時に、スパ
イラル型膜エレメント1の両端部から洗浄水21が排出
され、それぞれ原水入口13および濃縮水出口15から
外部に取り出されているが、洗浄水21がスパイラル型
膜エレメント1の一端部から第1の液室18に排出さ
れ、原水入口13から外部に取り出されるように透過水
出口14側の圧力および原水入口13側の圧力を設定し
てもよい。この場合、濃縮水出口15は閉じられる。あ
るいは、洗浄水21がスパイラル型膜エレメント1の他
端部から第2の液室19に排出され、濃縮水出口15か
ら外部に取り出されるように透過水出口14側の圧力お
よび濃縮水出口15側の圧力を設定してもよい。この場
合、原水入口13は閉じられる。In the example of FIG. 5, the washing water 21 is discharged from both ends of the spiral membrane element 1 at the time of backwashing, and is taken out from the raw water inlet 13 and the concentrated water outlet 15, respectively. The pressure at the permeated water outlet 14 and the pressure at the raw water inlet 13 are set so that the water 21 is discharged from one end of the spiral membrane element 1 to the first liquid chamber 18 and taken out from the raw water inlet 13 to the outside. Is also good. In this case, the concentrate outlet 15 is closed. Alternatively, the pressure on the permeated water outlet 14 side and the concentrated water outlet 15 side such that the washing water 21 is discharged from the other end of the spiral membrane element 1 to the second liquid chamber 19 and taken out from the concentrated water outlet 15 to the outside. May be set. In this case, the raw water inlet 13 is closed.
【0092】図6は、図1〜図3の処理システムに用い
られるスパイラル型膜モジュールの運転方法の他の例を
を示す断面図である。図6には逆流洗浄時の運転方法を
示す。濾過時の運転方法は図5(a)に示した運転方法
と同様である。FIG. 6 is a sectional view showing another example of the method of operating the spiral type membrane module used in the processing system shown in FIGS. FIG. 6 shows an operation method during backwashing. The operation method at the time of filtration is the same as the operation method shown in FIG.
【0093】逆流洗浄時には、図6に示すように、洗浄
水21を透過水出口14を通して集水管5の端部から導
入する。集水管5の外周面から分離膜の内部へ導出され
た洗浄水21は、分離膜を透過する。この際に、分離膜
の膜面に堆積した汚染物質が分離膜から剥離する。At the time of backwashing, as shown in FIG. 6, washing water 21 is introduced from the end of the water collecting pipe 5 through the permeated water outlet 14. The washing water 21 led out from the outer peripheral surface of the water collecting pipe 5 to the inside of the separation membrane permeates the separation membrane. At this time, contaminants deposited on the surface of the separation membrane are separated from the separation membrane.
【0094】この場合、分離膜に0.05〜0.3MP
aの背圧が加わるように透過水出口14側の圧力、原水
入口13側の圧力および濃縮水出口15側の圧力を設定
する。それにより、短時間に必要量の洗浄水21を流す
ことができ、分離膜の膜面に堆積した汚染物質を効果的
に除去することが可能となる。In this case, the separation membrane has a thickness of 0.05 to 0.3 MP.
The pressure on the permeated water outlet 14 side, the pressure on the raw water inlet 13 side, and the pressure on the concentrated water outlet 15 side are set so as to apply the back pressure a. Thus, a required amount of the washing water 21 can be flowed in a short time, and contaminants deposited on the surface of the separation membrane can be effectively removed.
【0095】同時に、原水31を原水入口13から圧力
容器10の第1の液室18に導入する。なお、処理シス
テム500〜512においては、各装置200〜212
から得られた前処理水が原水31に相当する。また、処
理システム700〜704においては、各装置200〜
204から排出された洗浄排水が原水31に相当する。
原水31はスパイラル型膜エレメント1の一端部から供
給され、スパイラル型膜エレメント1の内部を他端部へ
向かって軸方向に流れる。それにより、分離膜から剥離
した汚染物質が原水31によりスパイラル型膜エレメン
ト1の一端部から他端部へ押し流され、洗浄水21とと
もにスパイラル型膜エレメント1の他端部から第2の液
室19に排出され、濃縮水出口15を通して圧力容器1
0の外部へ取り出される。At the same time, raw water 31 is introduced from the raw water inlet 13 into the first liquid chamber 18 of the pressure vessel 10. In the processing systems 500 to 512, each of the devices 200 to 212
The pre-treated water obtained from corresponds to the raw water 31. In the processing systems 700 to 704, each of the devices 200 to
The washing wastewater discharged from 204 corresponds to the raw water 31.
The raw water 31 is supplied from one end of the spiral membrane element 1 and flows in the spiral membrane element 1 in the axial direction toward the other end. As a result, the contaminants separated from the separation membrane are washed away from one end of the spiral membrane element 1 by the raw water 31 to the other end, and together with the washing water 21, from the other end of the spiral membrane element 1 to the second liquid chamber 19. To the pressure vessel 1 through the concentrated water outlet 15
0 is taken out.
【0096】濃縮水出口15から取り出された洗浄水2
1は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、
洗浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原
水として再利用するために例えば供給系300,301
(図1〜図3)に戻してもよい。The washing water 2 taken out from the concentrated water outlet 15
In the case of 1, the entire amount is discharged outside the system as wastewater. Or
A part of the washing water 21 is discharged out of the system as wastewater, and a part of the water is reused as raw water.
(FIGS. 1 to 3).
【0097】このように、逆流洗浄時に濾過時の原水7
の供給方向と同方向に原水31を流すことによりスパイ
ラル型膜エレメント1内で分離膜から剥離した汚染物質
を系外に速やかに排出することができる。それにより、
分離膜から剥離した汚染物質が再び分離膜に付着するこ
とが防止される。したがって、長期間にわたって透過流
束の低下を生じることなく安定した濾過運転を行うこと
ができる。As described above, the raw water 7 at the time of filtration during the backwashing is used.
By flowing the raw water 31 in the same direction as the supply direction, contaminants separated from the separation membrane in the spiral membrane element 1 can be quickly discharged out of the system. Thereby,
Contaminants separated from the separation membrane are prevented from attaching to the separation membrane again. Therefore, a stable filtration operation can be performed over a long period of time without causing a decrease in the permeation flux.
【0098】図7は、図1〜図3の処理システムに用い
られるスパイラル型膜モジュールの運転方法のさらに他
の例を示す断面図である。図7には逆流洗浄時の運転方
法を示す。濾過時の運転方法は図5(a)に示した運転
方法と同様である。FIG. 7 is a sectional view showing still another example of the operation method of the spiral membrane module used in the processing system shown in FIGS. FIG. 7 shows an operation method during backwashing. The operation method at the time of filtration is the same as the operation method shown in FIG.
【0099】逆流洗浄時には、図7に示すように、洗浄
水21を透過水出口14を通して集水管5の端部から導
入する。集水管5の外周面から分離膜の内部へ導出され
た洗浄水21は、分離膜を透過する。この際に、分離膜
の膜面に堆積した汚染物質が分離膜から剥離する。At the time of backwashing, as shown in FIG. 7, washing water 21 is introduced from the end of the water collecting pipe 5 through the permeated water outlet 14. The washing water 21 led out from the outer peripheral surface of the water collecting pipe 5 to the inside of the separation membrane permeates the separation membrane. At this time, contaminants deposited on the surface of the separation membrane are separated from the separation membrane.
【0100】この場合、分離膜に0.05〜0.3MP
aの背圧が加わるように透過水出口14側の圧力、原水
入口13側の圧力および濃縮水出口15側の圧力を設定
する。それにより、短時間に必要量の洗浄水21を流す
ことができ、分離膜の膜面に堆積した汚染物質を効果的
に除去することが可能となる。In this case, the separation membrane has a thickness of 0.05 to 0.3 MP.
The pressure on the permeated water outlet 14 side, the pressure on the raw water inlet 13 side, and the pressure on the concentrated water outlet 15 side are set so as to apply the back pressure a. Thus, a required amount of the washing water 21 can be flowed in a short time, and contaminants deposited on the surface of the separation membrane can be effectively removed.
【0101】同時に、原水41を濃縮水出口15から圧
力容器10の第2の液室19に導入する。なお、処理シ
ステム500〜512においては、各装置200〜21
2から得られた前処理水が原水41に相当する。また、
処理システム700〜704においては、各装置200
〜204から排出された洗浄排水が原水41に相当す
る。原水41はスパイラル型膜エレメント1の他端部か
ら供給され、スパイラル型膜エレメント1の内部を一端
部へ向かって軸方向に流れる。それにより、分離膜から
剥離した汚染物質が原水41によりスパイラル型膜エレ
メント1の他端部から一端部へ押し流され、洗浄水21
とともにスパイラル型膜エレメント1の一端部から第1
の液室18に排出され、原水入口13から圧力容器10
の外部へ取り出される。At the same time, the raw water 41 is introduced from the concentrated water outlet 15 into the second liquid chamber 19 of the pressure vessel 10. In the processing systems 500 to 512, each of the devices 200 to 21
The pre-treated water obtained from 2 corresponds to the raw water 41. Also,
In the processing systems 700 to 704, each device 200
The washing wastewater discharged from to 204 corresponds to the raw water 41. Raw water 41 is supplied from the other end of the spiral membrane element 1 and flows in the spiral membrane element 1 in the axial direction toward the one end. As a result, the contaminants separated from the separation membrane are flushed from the other end of the spiral membrane element 1 to the one end by the raw water 41, and the washing water 21 is removed.
And from the one end of the spiral membrane element 1
Of the pressure vessel 10 through the raw water inlet 13.
Taken out of the
【0102】原水入口13から取り出された洗浄水21
は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、洗
浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原水
として再利用するために例えば供給系300,310
(図1〜図3)に戻してもよい。Wash water 21 taken out from raw water inlet 13
Is discharged out of the system as wastewater. Alternatively, a part of the washing water 21 is discharged as wastewater to the outside of the system, and a part thereof is reused as raw water, for example, the supply systems 300 and 310.
(FIGS. 1 to 3).
【0103】このように、逆流洗浄時に濾過時の原水7
の供給方向と逆方向に原水41を流すことによりスパイ
ラル型膜エレメント1の第1の液室18に近い側に堆積
した汚染物質を容易に除去して排出することが可能とな
る。それにより、分離膜から剥離した汚染物質が再び分
離膜に付着することが防止される。したがって、長期間
にわたって透過流束の低下を生じることなく安定した濾
過運転を行うことができる。As described above, the raw water 7 at the time of filtration during backwashing is used.
By flowing the raw water 41 in the direction opposite to the supply direction, the contaminants deposited on the side of the spiral membrane element 1 near the first liquid chamber 18 can be easily removed and discharged. Thus, the contaminants separated from the separation membrane are prevented from attaching to the separation membrane again. Therefore, a stable filtration operation can be performed over a long period of time without causing a decrease in the permeation flux.
【0104】なお、図6の運転方法および図7の運転方
法を順に行ってもよい。それにより、スパイラル型膜エ
レメント1の全体に分布した汚染物質を均一に除去して
排出することができる。The operation method shown in FIG. 6 and the operation method shown in FIG. 7 may be performed in order. Thereby, the contaminants distributed throughout the spiral membrane element 1 can be uniformly removed and discharged.
【0105】図8は、図1〜図3の処理システムに用い
られるスパイラル型膜モジュールの運転方法のさらに他
の例を示す断面図であり、(a)は逆流洗浄時の運転方
法を示し、(b)は逆流洗浄後の運転方法を示す。濾過
時の運転方法は図5(a)に示した運転方法と同様であ
る。FIG. 8 is a cross-sectional view showing still another example of the operation method of the spiral type membrane module used in the processing system of FIGS. 1 to 3, and FIG. (B) shows an operation method after backwashing. The operation method at the time of filtration is the same as the operation method shown in FIG.
【0106】スパイラル型膜モジュール100の逆流洗
浄時には、図8(a)に示すように、洗浄水21を透過
水出口14を通して集水管5の端部から導入する。集水
管5の外周面から分離膜の内部へ導出された洗浄水21
は、分離膜を透過する。この際に、分離膜の膜面に堆積
した汚染物質が分離膜から剥離する。At the time of backwashing the spiral membrane module 100, as shown in FIG. 8A, washing water 21 is introduced from the end of the water collecting pipe 5 through the permeated water outlet 14. Wash water 21 led out from the outer peripheral surface of the water collecting pipe 5 to the inside of the separation membrane
Permeates through the separation membrane. At this time, contaminants deposited on the surface of the separation membrane are separated from the separation membrane.
【0107】この場合、分離膜に0.05〜0.3MP
aの背圧が加わるように透過水出口14側の圧力、原水
入口13側の圧力および濃縮水出口15側の圧力を設定
する。それにより、短時間に必要量の洗浄水21を流す
ことができ、分離膜の膜面に堆積した汚染物質を効果的
に除去することが可能となる。洗浄水21はスパイラル
型膜エレメント1の他端部から第2の液室19に排出さ
れ、原水入口13および濃縮水出口15を通して圧力容
器10の外部へ取り出される。In this case, the separation membrane has a thickness of 0.05 to 0.3 MP.
The pressure on the permeated water outlet 14 side, the pressure on the raw water inlet 13 side, and the pressure on the concentrated water outlet 15 side are set so as to apply the back pressure a. Thus, a required amount of the washing water 21 can be flowed in a short time, and contaminants deposited on the surface of the separation membrane can be effectively removed. The washing water 21 is discharged from the other end of the spiral membrane element 1 to the second liquid chamber 19, and is taken out of the pressure vessel 10 through the raw water inlet 13 and the concentrated water outlet 15.
【0108】濃縮水出口15から取り出された洗浄水2
1は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、
洗浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原
水として再利用するために例えば供給系300,310
(図1〜図3)に戻してもよい。Washing water 2 taken out from the concentrated water outlet 15
In the case of 1, the entire amount is discharged outside the system as wastewater. Or
A part of the washing water 21 is discharged out of the system as wastewater, and a part is reused as raw water, for example, in the supply systems 300 and 310.
(FIGS. 1 to 3).
【0109】逆流洗浄後に、図8(b)に示すように、
原水51を原水入口13から圧力容器10の第1の液室
18に導入する。なお、処理システム500〜512に
おいては、各装置200〜212から得られた前処理水
が原水51に相当する。また、処理システム700〜7
04においては、各装置200〜204から排出された
洗浄排水が原水51に相当する。原水51はスパイラル
型膜エレメント1の一端部から供給され、スパイラル型
膜エレメント1の内部を他端部へ向かって軸方向に流れ
る。それにより、分離膜から剥離した汚染物質が原水5
1によりスパイラル型膜エレメント1の一端部から他端
部へ押し流され、スパイラル型膜エレメント1の内部に
残存する洗浄水とともにスパイラル型膜エレメント1の
他端部から第2の液室19に排出され、濃縮水出口15
を通して圧力容器10の外部へ取り出される。After the backwashing, as shown in FIG.
Raw water 51 is introduced from the raw water inlet 13 into the first liquid chamber 18 of the pressure vessel 10. In the treatment systems 500 to 512, the pretreated water obtained from each of the devices 200 to 212 corresponds to the raw water 51. Also, the processing systems 700 to 7
In 04, the cleaning wastewater discharged from each of the devices 200 to 204 corresponds to the raw water 51. The raw water 51 is supplied from one end of the spiral membrane element 1 and flows in the spiral membrane element 1 in the axial direction toward the other end. As a result, the contaminants separated from the separation membrane are removed from the raw water 5
The water is flushed from one end of the spiral-type membrane element 1 to the other end thereof, and is discharged from the other end of the spiral-type membrane element 1 to the second liquid chamber 19 together with the cleaning water remaining inside the spiral-type membrane element 1. , Concentrated water outlet 15
Through the pressure vessel 10.
【0110】濃縮水出口15から取り出された原水51
は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、原
水51の一部を排水として系外へ排出し、一部は原水と
して再利用するために例えば供給系300,310(図
1〜図3)に戻してもよい。Raw water 51 extracted from the concentrated water outlet 15
Is discharged out of the system as wastewater. Alternatively, a part of the raw water 51 may be discharged out of the system as wastewater, and a part may be returned to, for example, the supply systems 300 and 310 (FIGS. 1 to 3) for reuse as raw water.
【0111】このように、逆流洗浄後に濾過時の原水7
の供給方向と同方向に原水51を流すことによりスパイ
ラル型膜エレメント1内で分離膜から剥離した汚染物質
を系外に速やかに排出することができる。それにより、
分離膜から剥離した汚染物質が再び分離膜に付着するこ
とが防止される。したがって、長期間にわたって透過流
束の低下を生じることなく安定した濾過運転を行うこと
ができる。As described above, the raw water 7 at the time of filtration after backwashing was used.
By flowing the raw water 51 in the same direction as the supply direction, the contaminants separated from the separation membrane in the spiral membrane element 1 can be quickly discharged out of the system. Thereby,
Contaminants separated from the separation membrane are prevented from attaching to the separation membrane again. Therefore, a stable filtration operation can be performed over a long period of time without causing a decrease in the permeation flux.
【0112】なお、逆流洗浄時に洗浄水21をスパイラ
ル型膜エレメント1の一端部から第1の液室18に排出
し、原水入口13を通して圧力容器10の外部へ取り出
してもよく、あるいは、逆流洗浄時に洗浄水21をスパ
イラル型膜エレメントの一端部および他端部から第1の
液室18および第2の液室19に排出し、それぞれ原水
入口13および濃縮水出口15を通して圧力容器10の
外部へ取り出してもよい。During the backwashing, the washing water 21 may be discharged from one end of the spiral membrane element 1 to the first liquid chamber 18 and taken out of the pressure vessel 10 through the raw water inlet 13, or the backwashing may be performed. Occasionally, the washing water 21 is discharged from one end and the other end of the spiral membrane element to the first liquid chamber 18 and the second liquid chamber 19, and then to the outside of the pressure vessel 10 through the raw water inlet 13 and the concentrated water outlet 15, respectively. You may take it out.
【0113】図9は、図1〜図3の処理システムに用い
られるスパイラル型膜モジュールの運転方法のさらに他
の例を示す断面図であり、(a)は逆流洗浄時の運転方
法を示し、(b)は逆流洗浄後の運転方法を示す。濾過
時の運転方法は図5(a)に示した運転方法と同様であ
る。FIG. 9 is a cross-sectional view showing still another example of the operation method of the spiral membrane module used in the processing system shown in FIGS. 1 to 3, and FIG. 9A shows the operation method during backwashing. (B) shows an operation method after backwashing. The operation method at the time of filtration is the same as the operation method shown in FIG.
【0114】逆流洗浄時には、図9(a)に示すよう
に、洗浄水21を透過水出口14を通して集水管5の端
部から導入する。集水管5の外周面から分離膜の内部へ
導出された洗浄水21は分離膜を透過する。この際に、
分離膜の膜面に堆積した汚染物質が分離膜から剥離す
る。At the time of backwashing, as shown in FIG. 9A, washing water 21 is introduced from the end of the water collecting pipe 5 through the permeated water outlet 14. The washing water 21 led from the outer peripheral surface of the water collecting pipe 5 to the inside of the separation membrane permeates the separation membrane. At this time,
Contaminants deposited on the surface of the separation membrane are separated from the separation membrane.
【0115】この場合、分離膜に0.05〜0.3MP
aの背圧が加わるように透過水出口14側の圧力、原水
入口13側の圧力および濃縮水出口15側の圧力を設定
する。それにより、短時間に必要量の洗浄水21を流す
ことができ、分離膜の膜面に堆積した汚染物質を効果的
に除去することが可能となる。洗浄水21はスパイラル
型膜エレメント1の一端部および他端部から第1の液室
18および第2の液室19に排出され、それぞれ原水入
口13および濃縮水出口15を通して圧力容器10の外
部へ取り出される。In this case, the separation membrane has a thickness of 0.05 to 0.3 MP.
The pressure on the permeated water outlet 14 side, the pressure on the raw water inlet 13 side, and the pressure on the concentrated water outlet 15 side are set so as to apply the back pressure a. Thus, a required amount of the washing water 21 can be flowed in a short time, and contaminants deposited on the surface of the separation membrane can be effectively removed. The washing water 21 is discharged from the one end and the other end of the spiral membrane element 1 to the first liquid chamber 18 and the second liquid chamber 19, and goes out of the pressure vessel 10 through the raw water inlet 13 and the concentrated water outlet 15, respectively. Taken out.
【0116】原水入口13から取り出された洗浄水21
は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、洗
浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原水
として再利用するために例えば供給系300,310
(図1〜図3)に戻してもよい。The washing water 21 taken out from the raw water inlet 13
Is discharged out of the system as wastewater. Alternatively, a part of the washing water 21 is discharged as wastewater to the outside of the system, and a part thereof is reused as raw water, for example, the supply systems 300 and 310.
(FIGS. 1 to 3).
【0117】濃縮水出口15から取り出された洗浄水2
1は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、
洗浄水21の一部を排水として系外へ排出し、一部は原
水として再利用するために例えば供給系300,310
(図1〜図3)に戻してもよい。Wash water 2 taken out from the concentrated water outlet 15
In the case of 1, the entire amount is discharged outside the system as wastewater. Or
A part of the washing water 21 is discharged out of the system as wastewater, and a part is reused as raw water, for example, in the supply systems 300 and 310.
(FIGS. 1 to 3).
【0118】逆流洗浄後に、図9(b)に示すように、
原水61を濃縮水出口15から圧力容器10の第2の液
室19に導入する。なお、処理システム500〜512
においては、各装置200〜212から得られた前処理
水が原水61に相当する。また、処理システム700〜
704においては、各装置200〜204から排出され
た洗浄排水が原水61に相当する。原水61はスパイラ
ル型膜エレメント1の他端部から供給され、スパイラル
型膜エレメント1の内部を一端部へ向かって軸方向に流
れる。それにより、分離膜から剥離した汚染物質が原水
61によりスパイラル型膜エレメント1の他端部から一
端部へ押し流され、スパイラル型膜エレメント1の内部
に残存する洗浄水とともにスパイラル型膜エレメント1
の一端部から第2の液室19に排出され、原水入口13
を通して圧力容器10の外部へ取り出される。After the backwashing, as shown in FIG.
Raw water 61 is introduced from the concentrated water outlet 15 into the second liquid chamber 19 of the pressure vessel 10. Note that the processing systems 500 to 512
In, the pretreated water obtained from each of the devices 200 to 212 corresponds to the raw water 61. Also, the processing system 700 to
In 704, the cleaning wastewater discharged from each of the devices 200 to 204 corresponds to the raw water 61. The raw water 61 is supplied from the other end of the spiral membrane element 1 and flows in the spiral membrane element 1 in the axial direction toward the one end. As a result, the contaminants separated from the separation membrane are washed away from the other end of the spiral membrane element 1 by the raw water 61 to one end, and together with the washing water remaining inside the spiral membrane element 1, the spiral membrane element 1 is removed.
Is discharged into the second liquid chamber 19 from one end of the raw water inlet 13.
Through the pressure vessel 10.
【0119】原水入口13から取り出された原水61
は、全量が排水として系外へ排出される。もしくは、原
水61の一部を排水として系外へ排出し、一部は原水と
して再利用するために例えば供給系300,310(図
1〜図3)に戻してもよい。Raw water 61 extracted from the raw water inlet 13
Is discharged out of the system as wastewater. Alternatively, a part of the raw water 61 may be discharged as wastewater to the outside of the system, and a part of the raw water 61 may be returned to, for example, the supply systems 300 and 310 (FIGS. 1 to 3) for reuse as raw water.
【0120】このように、逆流洗浄後に濾過時の原水7
の供給方向と逆方向に原水61を流すことによりスパイ
ラル型膜エレメント1の第1の液室18に近い側に堆積
した汚染物質を容易に除去して排出することが可能とな
る。それにより、分離膜から剥離した汚染物質が再び分
離膜に付着することが防止される。したがって、長期間
にわたって透過流束の低下を生じることなく安定した濾
過運転を行うことができる。As described above, the raw water 7 at the time of filtration after the backwashing was used.
By flowing the raw water 61 in the direction opposite to the supply direction, the contaminants deposited on the side of the spiral membrane element 1 near the first liquid chamber 18 can be easily removed and discharged. Thus, the contaminants separated from the separation membrane are prevented from attaching to the separation membrane again. Therefore, a stable filtration operation can be performed over a long period of time without causing a decrease in the permeation flux.
【0121】なお、逆流洗浄時に洗浄水21をスパイラ
ル型膜エレメント1の一端部から第1の液室18へ排出
し、原水入口13を通して圧力容器10の外部へ取り出
してもよく、あるいは逆流洗浄時に洗浄水21をスパイ
ラル型膜エレメント1の他端部から第2の液室19へ排
出し、濃縮水出口15を通して圧力容器10の外部へ取
り出してもよい。The washing water 21 may be discharged from one end of the spiral membrane element 1 to the first liquid chamber 18 at the time of backwashing, and may be taken out of the pressure vessel 10 through the raw water inlet 13 or may be washed at the time of backwashing. The washing water 21 may be discharged from the other end of the spiral membrane element 1 to the second liquid chamber 19 and taken out of the pressure vessel 10 through the concentrated water outlet 15.
【0122】図8(a)または図9(a)の逆流洗浄後
に、図8(b)の運転方法および図9(b)の運転方法
を順に行ってもよい。それにより、スパイラル型膜エレ
メント1の全体に分布した汚染物質を均一に除去して排
出することができる。After the backwashing shown in FIG. 8A or 9A, the operation method shown in FIG. 8B and the operation method shown in FIG. 9B may be performed in order. Thereby, the contaminants distributed throughout the spiral membrane element 1 can be uniformly removed and discharged.
【0123】なお、図5〜図9においては、スパイラル
型膜モジュール100が1本のスパイラル型膜エレメン
ト1を備える場合について説明したが、複数本のスパイ
ラル型膜エレメント1を備えたスパイラル型膜モジュー
ルを処理システム500〜512,700〜704に用
いてもよい。複数のスパイラル型膜エレメント1が圧力
容器内に収容されてなるスパイラル型膜モジュールにお
いては、図5〜図9において説明した方法と同様の方法
により運転が行われる。Although FIGS. 5 to 9 show the case where the spiral membrane module 100 includes one spiral membrane element 1, the spiral membrane module including a plurality of spiral membrane elements 1 is described. May be used for the processing systems 500 to 512 and 700 to 704. In a spiral membrane module in which a plurality of spiral membrane elements 1 are housed in a pressure vessel, operation is performed by a method similar to the method described with reference to FIGS.
【0124】次に、スパイラル型膜モジュール100が
備えるスパイラル型膜エレメント1の分離膜2について
説明する。Next, the separation membrane 2 of the spiral membrane element 1 provided in the spiral membrane module 100 will be described.
【0125】図10は図4のスパイラル型膜エレメント
に用いられる分離膜の断面図である。分離膜2は、多孔
性補強シート(多孔性シート材)2aの表面に実質的な
分離機能を有する透過性膜体2bが密着一体化されて形
成されている。FIG. 10 is a sectional view of a separation membrane used in the spiral membrane element of FIG. The separation membrane 2 is formed by tightly integrating a permeable membrane 2b having a substantial separation function on the surface of a porous reinforcing sheet (porous sheet material) 2a.
【0126】透過性膜体2bは、1種類のポリスルホン
系樹脂、あるいは2種類以上のポリスルホン系樹脂の混
合物、さらにはポリスルホン系樹脂とポリイミド、フッ
素含有ポリイミド樹脂等のポリマーとの共重合体、もし
くは混合物から形成される。The permeable membrane 2b may be made of one kind of polysulfone-based resin or a mixture of two or more kinds of polysulfone-based resins, or a copolymer of a polysulfone-based resin with a polymer such as polyimide or fluorine-containing polyimide resin, or Formed from a mixture.
【0127】多孔性補強シート2aは、ポリエステル、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド等を素材と
する織布、不織布、メッシュ状ネット、発泡焼結シート
等から形成されており、製膜性およびコストの面から不
織布が好ましい。[0127] The porous reinforcing sheet 2a is made of polyester,
It is formed of a woven fabric, a nonwoven fabric, a mesh net, a foamed sintered sheet, or the like made of polypropylene, polyethylene, polyamide, or the like, and a nonwoven fabric is preferable from the viewpoint of film forming properties and cost.
【0128】多孔性補強シート2aおよび透過性膜体2
bは、透過性膜体2bを構成する樹脂成分の一部が多孔
性補強シート2aの孔の内部に充填された投錨状態で接
合されている。The porous reinforcing sheet 2a and the permeable membrane 2
b is an anchored state in which a part of the resin component constituting the permeable membrane 2b is filled in the inside of the hole of the porous reinforcing sheet 2a.
【0129】多孔性補強シート2aに裏打ちされた分離
膜2の背圧強度は、0.2MPaを超え、0.4〜0.
5MPa程度に向上した。なお、背圧強度の規定方法に
ついては後述する。The back pressure strength of the separation membrane 2 lined with the porous reinforcing sheet 2a exceeds 0.2 MPa, and is 0.4 to 0.1 MPa.
It improved to about 5 MPa. The method of defining the back pressure strength will be described later.
【0130】多孔性補強シート2aとして不織布を用い
て背圧強度を0.2MPa以上得るためには、不織布の
厚みが0.08〜0.15mmであり、かつ密度が0.
5〜0.8g/cm3 であることが好ましい。厚みが
0.08mmより薄い場合または密度が0.5g/cm
3 より小さい場合には、補強シートとしての強度が得ら
れず、分離膜2の背圧強度を0.2MPa以上確保する
ことが困難である。一方、厚みが0.15mmより厚く
あるいは密度が0.8g/cm3 より大きい場合には、
多孔性補強シート2aの濾過抵抗が大きくなったり、不
織布(多孔性補強シート2a)への投錨効果が小さくな
って透過性膜体2bと不織布との界面で剥離が起こりや
すくなる。In order to obtain a back pressure strength of 0.2 MPa or more using a nonwoven fabric as the porous reinforcing sheet 2a, the thickness of the nonwoven fabric is 0.08 to 0.15 mm and the density is 0.
It is preferably from 5 to 0.8 g / cm 3 . When the thickness is less than 0.08 mm or when the density is 0.5 g / cm
If it is smaller than 3 , the strength as a reinforcing sheet cannot be obtained, and it is difficult to secure the back pressure strength of the separation membrane 2 of 0.2 MPa or more. On the other hand, when the thickness is greater than 0.15 mm or the density is greater than 0.8 g / cm 3 ,
The filtration resistance of the porous reinforcing sheet 2a is increased, and the anchoring effect on the nonwoven fabric (porous reinforcing sheet 2a) is reduced, so that peeling easily occurs at the interface between the permeable membrane 2b and the nonwoven fabric.
【0131】次に、上記の分離膜2の製造方法について
説明する。まず、ポリスルホンに溶媒、非溶媒および膨
潤剤を加えて加熱溶解し、均一な製膜溶液を調製する。
ここで、ポリスルホン系樹脂は、下記の構造式(化1)
に示すように、分子構造内に少なくとも1つの(−SO
2 −)部位を有するものであれば特に限定されない。Next, a method for manufacturing the separation membrane 2 will be described. First, a solvent, a non-solvent, and a swelling agent are added to polysulfone and dissolved by heating to prepare a uniform film forming solution.
Here, the polysulfone-based resin has the following structural formula (Formula 1)
As shown in the figure, at least one (-SO
There is no particular limitation as long as it has a 2- ) site.
【0132】[0132]
【化1】 Embedded image
【0133】ただし、Rは2価の芳香族、脂環族もしく
は脂肪族炭化水素基、またはこれらの炭化水素基が2価
の有機結合基で結合された2価の有機基を示す。Here, R represents a divalent aromatic, alicyclic or aliphatic hydrocarbon group, or a divalent organic group in which these hydrocarbon groups are bonded by a divalent organic bonding group.
【0134】好ましくは、下記の構造式(化2)〜(化
4)で示されるポリスルホンが用いられる。Preferably, polysulfones represented by the following structural formulas (Formula 2) to (Formula 4) are used.
【0135】[0135]
【化2】 Embedded image
【0136】[0136]
【化3】 Embedded image
【0137】[0137]
【化4】 Embedded image
【0138】また、ポリスルホンの溶媒としては、N−
メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等を用いるこ
とが好ましい。さらに、非溶媒としては、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、グリセリン等の脂肪族多
価アルコール、メタノール、エタノール、イソプロピル
アルコール等の低級脂肪族アルコール、メチルエチルケ
トン等の低級脂肪族ケトンなどを用いることが好まし
い。As the solvent for polysulfone, N-
It is preferable to use methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and the like. Further, as the non-solvent, aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, and glycerin, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, and isopropyl alcohol, and lower aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone are used. Is preferred.
【0139】溶媒と非溶媒の混合溶媒中の非溶媒の含有
量は、得られる混合溶媒が均一である限り特に制限され
ないが、通常5〜50重量%、好ましくは20〜45重
量%である。The content of the non-solvent in the mixed solvent of the solvent and the non-solvent is not particularly limited as long as the obtained mixed solvent is uniform, but is usually 5 to 50% by weight, preferably 20 to 45% by weight.
【0140】多孔質構造の形成を促進し、または制御す
るために用いられる膨潤剤としては、塩化リチウム、塩
化ナトリウム、硝酸リチウム等の金属塩、ポリエチレン
グリコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリアクリル酸等の水溶性高分子またはその金属
塩、ホルムアミド等が用いられる。混合溶媒中の膨潤剤
の含有量は、製膜溶液が均一である限り特に制限されな
いが、通常1〜50重量%である。Examples of the swelling agent used to promote or control the formation of the porous structure include metal salts such as lithium chloride, sodium chloride and lithium nitrate, polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and the like. Or a metal salt thereof, formamide or the like. The content of the swelling agent in the mixed solvent is not particularly limited as long as the film forming solution is uniform, but is usually 1 to 50% by weight.
【0141】製膜溶液中のポリスルホンの濃度は、通常
10〜30重量%が好ましい。30重量%を超えるとき
は、得られる多孔質分離膜の透水性が実用性に乏しくな
り、10重量%より少ないときは、得られる多孔質分離
膜の機械的強度が乏しくなり、充分な背圧強度を得るこ
とができない。The concentration of the polysulfone in the membrane forming solution is usually preferably from 10 to 30% by weight. When it exceeds 30% by weight, the water permeability of the obtained porous separation membrane becomes poor in practicality. When it is less than 10% by weight, the mechanical strength of the obtained porous separation membrane becomes poor and sufficient back pressure is obtained. Can't get strength.
【0142】次に、上記の製膜溶液を不織布支持体上に
製膜する。すなわち、連続製膜装置を使用し、不織布等
の支持体シートを順次送り出し、その表面に製膜溶液を
塗布する。塗布方法としてはナイフコータやロールコー
タ等のギャップコータを用いて製膜溶液を不織布支持体
上に塗布する。例えば、ロールコータを使用する場合
は、2本のロールの間に製膜溶液を溜め、不織布支持体
上に製膜溶液を塗布すると同時に不織布の内部に充分含
浸させ、その後低湿度雰囲気を通過させ、雰囲気中の微
量水分を不織布上に塗布した液膜表面に吸収させ、液膜
の表面層にミクロ相分離を起こさせる。その後、凝固水
槽に浸漬し、液膜全体を相分離および凝固させ、さらに
水洗槽で溶媒を洗浄除去する。これにより、分離膜2が
形成される。Next, the above-mentioned film forming solution is formed on a nonwoven fabric support. That is, using a continuous film forming apparatus, a support sheet such as a non-woven fabric is sequentially sent out, and a film forming solution is applied to the surface thereof. As a coating method, a film forming solution is coated on a nonwoven fabric support using a gap coater such as a knife coater or a roll coater. For example, when a roll coater is used, a film-forming solution is stored between two rolls, the film-forming solution is applied on a nonwoven fabric support, and at the same time, the inside of the nonwoven fabric is sufficiently impregnated. In addition, a slight amount of water in the atmosphere is absorbed by the surface of the liquid film applied on the nonwoven fabric, and microphase separation is caused on the surface layer of the liquid film. Thereafter, the liquid film is immersed in a coagulation water bath to phase-separate and coagulate the entire liquid film, and the solvent is washed and removed in a water washing bath. Thereby, the separation film 2 is formed.
【0143】このように、上記の分離膜2は背圧強度が
高いため、図4のスパイラル型膜エレメント1に用いた
場合に0.05〜0.3MPaの背圧で逆流洗浄を行っ
ても分離膜2の破損が生じることが防止される。As described above, since the separation membrane 2 has a high back pressure strength, even when the back flow cleaning is performed at a back pressure of 0.05 to 0.3 MPa when the separation membrane 2 is used for the spiral membrane element 1 of FIG. The occurrence of breakage of the separation membrane 2 is prevented.
【図1】第1の発明の第1〜第9の実施例における処理
システムを示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a processing system according to first to ninth embodiments of the first invention.
【図2】第1の発明の第10〜第13の実施例における
処理システムを示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a processing system according to tenth to thirteenth embodiments of the first invention.
【図3】第2の発明の第1〜第5の実施例における処理
システムを示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a processing system according to first to fifth embodiments of the second invention.
【図4】図1〜図3のスパイラル型膜モジュールに用い
られるスパイラル型膜エレメントの例を示す一部切欠斜
視図である。FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing an example of a spiral membrane element used in the spiral membrane module of FIGS. 1 to 3;
【図5】図1〜図3の処理システムに用いられるスパイ
ラル型膜モジュールの運転方法の一例を示す断面図であ
る。FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of an operation method of a spiral membrane module used in the processing system of FIGS.
【図6】図1〜図3の処理システムに用いられるスパイ
ラル型膜モジュールの運転方法の他の例を示す断面図で
ある。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another example of an operation method of the spiral membrane module used in the processing systems of FIGS.
【図7】図1〜図3の処理システムに用いられるスパイ
ラル型膜モジュールの運転方法のさらに他の例を示す断
面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing still another example of an operation method of the spiral membrane module used in the processing systems of FIGS.
【図8】図1〜図3の処理システムに用いられるスパイ
ラル型膜モジュールの運転方法のさらに他の例を示す断
面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing still another example of a method of operating a spiral type membrane module used in the processing systems of FIGS.
【図9】図1〜図3の処理システムに用いられるスパイ
ラル型膜モジュールの運転方法のさらに他の例を示す断
面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing still another example of the operation method of the spiral membrane module used in the processing systems of FIGS.
【図10】図4のスパイラル型膜エレメントに用いられ
る分離膜の断面図である。FIG. 10 is a sectional view of a separation membrane used for the spiral-wound membrane element of FIG.
1 スパイラル型膜エレメント 2 分離膜 3 透過水スペーサ 4 封筒状膜 5 集水管 6 原水スペーサ 7 原水 8 透過水 9 濃縮水 10 圧力容器 13 原水入口 14 透過水出口 15 濃縮水出口 21 洗浄水 31,41,51,61 原水 100 スパイラル型膜モジュール 300,310 供給系 500〜512,700〜704 処理システム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Spiral type membrane element 2 Separation membrane 3 Permeated water spacer 4 Envelope membrane 5 Water collecting pipe 6 Raw water spacer 7 Raw water 8 Permeated water 9 Concentrated water 10 Pressure vessel 13 Raw water inlet 14 Permeated water outlet 15 Concentrated water outlet 21 Wash water 31, 41 , 51,61 Raw water 100 Spiral membrane module 300,310 Supply system 500-512,700-704 Treatment system
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D006 GA06 GA07 HA61 JA03B JA03C KA02 KA03 KA63 KB04 KB11 KB12 KB13 KB14 KB20 KB21 KB30 KC03 KC13 KD09 KD12 KD19 KD21 KD24 KE06R MA03 MB16 MC58 MC62 NA05 NA10 NA13 PA01 PB02 PB03 PB08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4D006 GA06 GA07 HA61 JA03B JA03C KA02 KA03 KA63 KB04 KB11 KB12 KB13 KB14 KB20 KB21 KB30 KC03 KC13 KD09 KD12 KD19 KD21 KD24 KE06R MA03 MB16 MC58 MC62 NA05 NA10 NA13 PA01 P08 P08
Claims (8)
理装置と、0.05MPaよりも高く0.3MPa以下
の背圧で逆流洗浄が可能なスパイラル型膜エレメントが
原液入口を有する圧力容器内に1または複数本収容され
てなるスパイラル型膜モジュールと、前記前処理装置の
処理液を前記スパイラル型膜モジュールの前記原液入口
を通して前記圧力容器の内部に導く供給系とが設けられ
たことを特徴とする処理システム。A pressure vessel having one or more pretreatment devices for performing a predetermined pretreatment and a spiral type membrane element capable of backwashing with a back pressure higher than 0.05 MPa and 0.3 MPa or less having a stock solution inlet. One or more spiral-type membrane modules housed therein, and a supply system for introducing the treatment liquid of the pretreatment device into the pressure vessel through the stock solution inlet of the spiral-type membrane module. Characteristic processing system.
処理装置、生物処理装置、イオン交換装置、遠心分離装
置、膜分離装置、加圧浮上処理装置、凝集分離処理装
置、沈降分離処理装置、オゾン酸化装置、強酸性水処理
装置、紫外線殺菌処理装置および次亜塩素酸ソーダ殺菌
処理装置の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求
項1記載の処理システム。2. The pretreatment device includes a filtration treatment device, an adsorption treatment device, a biological treatment device, an ion exchange device, a centrifugal separation device, a membrane separation device, a pressure flotation treatment device, a coagulation separation treatment device, and a sedimentation separation treatment device. 2. The treatment system according to claim 1, further comprising at least one of an ozone oxidizer, a strongly acidic water treatment device, an ultraviolet sterilization treatment device, and a sodium hypochlorite sterilization treatment device.
置と、0.05MPaよりも高く0.3MPa以下の背
圧で逆流洗浄が可能なスパイラル型エレメントが原液入
口を有する圧力容器内に1または複数本収容されてなる
スパイラル型膜モジュールと、前記処理装置の洗浄時に
前記処理装置から排出される洗浄液を前記スパイラル型
膜モジュールの前記原液入口を通して前記圧力容器の内
部に導く供給系とが設けられたことを特徴とする処理シ
ステム。3. A pressure vessel having a stock solution inlet and one or more processing devices for performing a predetermined process and a spiral type element capable of backwashing with a back pressure higher than 0.05 MPa and lower than 0.3 MPa are provided. Alternatively, a spiral membrane module containing a plurality of spiral membrane modules, and a supply system for guiding a cleaning liquid discharged from the processing apparatus during cleaning of the processing apparatus to the inside of the pressure vessel through the undiluted liquid inlet of the spiral membrane module are provided. A processing system characterized by being performed.
処理装置、生物処理装置、膜分離装置および遠心分離装
置の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項3記
載の処理システム。4. The processing system according to claim 3, wherein the pretreatment device includes at least one of a filtration device, an adsorption device, a biological treatment device, a membrane separation device, and a centrifugal separation device.
理装置を設けるとともに、0.05MPaよりも高く
0.3MPa以下の背圧で逆流洗浄が可能なスパイラル
型膜エレメントが原液入口を有する圧力容器内に1また
は複数本収容されてなるスパイラル型膜モジュールを設
け、前記前処理装置の処理液を前記スパイラル型膜モジ
ュールの前記原液入口を通して前記圧力容器の内部に供
給することを特徴とする処理システムの運転方法。5. A spiral membrane element having one or more pretreatment devices for performing a predetermined pretreatment and capable of backwashing with a back pressure higher than 0.05 MPa and 0.3 MPa or less has a stock solution inlet. One or more spiral-type membrane modules housed in a pressure vessel are provided, and the processing liquid of the pretreatment device is supplied to the inside of the pressure vessel through the raw solution inlet of the spiral-type membrane module. How to operate the processing system.
処理装置、生物処理装置、イオン交換装置、遠心分離装
置、膜分離装置、加圧浮上処理装置、凝集分離処理装
置、沈降分離処理装置、オゾン酸化装置、強酸性水処理
装置、紫外線殺菌処理装置および次亜塩素酸ソーダ殺菌
処理装置の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求
項5記載の処理システムの運転方法。6. The pretreatment device includes a filtration treatment device, an adsorption treatment device, a biological treatment device, an ion exchange device, a centrifugal separation device, a membrane separation device, a pressure flotation treatment device, a coagulation separation treatment device, and a sedimentation separation treatment device. The method for operating a treatment system according to claim 5, further comprising at least one of an ozone oxidizer, a strongly acidic water treatment device, an ultraviolet sterilization treatment device, and a sodium hypochlorite sterilization treatment device.
置を設けるとともに、0.05MPaよりも高く0.3
MPa以下の背圧で逆流洗浄が可能なスパイラル型膜エ
レメントが原液入口を有する圧力容器内に1または複数
本収容されてなるスパイラル型膜モジュールを設け、前
記処理装置の洗浄時に前記処理装置から排出される洗浄
液を前記スパイラル型膜モジュールの前記原液入口を通
して前記圧力容器の内部に供給することを特徴とする処
理システムの運転方法。7. One or a plurality of processing devices for performing a predetermined process are provided, and 0.3 MPa or more higher than 0.05 MPa.
A spiral-type membrane module in which one or more spiral-type membrane elements capable of backwashing with a back pressure of not more than MPa are housed in a pressure vessel having a stock solution inlet is provided, and is discharged from the processing apparatus when the processing apparatus is washed. The method of operating a processing system, wherein the cleaning liquid to be supplied is supplied to the inside of the pressure vessel through the undiluted solution inlet of the spiral membrane module.
理装置、生物処理装置、膜分離装置および遠心分離装置
の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項7記載
の処理システムの運転方法。8. The method according to claim 7, wherein the processing apparatus includes at least one of a filtration processing apparatus, an adsorption processing apparatus, a biological processing apparatus, a membrane separation apparatus, and a centrifugal separation apparatus. .
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